JP2023503554A - 複数のレーザビームを組み合わせるための装置及びその方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本願は、2019年11月29日出願の「APPARATUS FOR AND METHODS OF COMBINING MULTIPLE LASER BEAMS」という名称の米国出願第62/941,971号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
1.レーザ放射の第1のビーム及びレーザ放射の第2のビームを受け取るように配置され、第1のビーム及び第2のビームを共通方向に伝播するように適合された、ビームコンバイナを備える、ガス放電レーザシステムであって、
ビームコンバイナは、反射表面と、反射表面と鋭角を形成する傾斜縁部とを有するミラーを備え、ミラーは、レーザ放射の第1のビームが反射表面から共通の方向に反射するように、及び、レーザ放射の第2のビームが鋭角に直接隣接した共通の方向に伝播するように配置される、
ガス放電レーザシステム。
2.レーザ放射の第1のビームを発生させるように適合された第1のレーザチャンバモジュールと、レーザ放射の第2のビームを発生させるように適合された第2のレーザチャンバモジュールとを更に備える、条項1に記載のガス放電レーザシステム。
3.第2のビームがアパーチャを通過するように配置された、アパーチャを更に備え、アパーチャは、レーザ放射の第2のビームが鋭角に衝突しないように、レーザ放射の第2のビームの寸法範囲を制限する、条項1に記載のガス放電レーザシステム。
4.アパーチャの幅は調整可能である、条項3に記載のガス放電レーザ。
5.ビームコンバイナは、第1のビーム及び第2のビームを互いに平行に伝播させるように適合される、条項1に記載のガス放電レーザシステム。
6.レーザ放射の第1のビームは第1の波長を有し、レーザ放射の第2のビームは、第1の波長とは異なる第2の波長を有する、条項1に記載のガス放電レーザシステム。
7.レーザ放射の第1のビームは1回目に発射するようにトリガされ、レーザ放射のビームは2回目に発射するようにトリガされ、1回目と2回目との間の差はΔtである、条項1に記載のガス放電レーザシステム。
8.Δtは実質的にゼロに等しい、条項7に記載のガス放電レーザシステム。
9.Δtは、レーザ放射の第1第2が、レーザ放射の第1のビームが発射を停止した直後にトリガされるように選択される、条項7に記載のガス放電レーザシステム。
10.レーザ放射の第1のビームを発生させるように適合された第1のレーザチャンバモジュールと、
レーザ放射の第2のビームを発生させるように適合された第2のレーザチャンバモジュールと、
第1のビーム及び第2のビームを受け取るように配置され、第1のビーム及び第2のビームを共通方向に伝播するように適合された、ビームコンバイナであって、ビームコンバイナは、反射性コーティングを有する第1の部分及び反射性コーティングを有さない第2の部分を有する面を有する光学要素を備え、光学要素は、レーザ放射の第1のビームが反射表面から共通の方向に反射し、レーザ放射の第2のビームが、光学要素と光学要素の面の第2の部分とを共通の方向に通過するように配置される、ビームコンバイナと、
を備える、ガス放電レーザシステム。
11.レーザ放射の第1のビームは第1の波長を有し、レーザ放射の第2のビームは、第1の波長とは異なる第2の波長を有する、条項10に記載のガス放電レーザシステム。
12.レーザ放射の第1のビームは1回目に発射するようにパルス発射及びトリガされ、レーザ放射のビームは2回目に発射するようにパルス発射及びトリガされ、1回目と2回目との間の差はΔtである、条項10に記載のガス放電レーザシステム。
13.Δtは実質的にゼロに等しい、条項12に記載のガス放電レーザシステム。
14.Δtは、レーザ放射の第1第2が、レーザ放射の第1のビームが発射を停止した直後にトリガされるように選択される、条項12に記載のガス放電レーザシステム。
15.レーザ放射の第1のビームを発生させるように適合された第1のレーザチャンバモジュールと、
レーザ放射の第2のビームを発生させるように適合された第2のレーザチャンバモジュールと、
第1のビーム及び第2のビームを受け取るように配置され、第1のビーム及び第2のビームを共通方向に伝播するように適合された、ビームコンバイナであって、ビームコンバイナは、ミラーとミラーに機械的に結合されたアクチュエータとを備える、ビームコンバイナと、
を備える、ガス放電レーザシステムであって、
レーザ放射の第1のビームは、初期に第1の方向に進行して第1のロケーションにおいてミラーに当たり、レーザ放射の第2のビームは、初期に第1の方向に対して第2の方向にある角度で進行して第1のロケーションにおいてミラーに当たり、
アクチュエータは、レーザ放射の第1のビームが第3の方向に伝播する第1の位置と、レーザ放射の第2のビームが第3の方向に伝播する第2の位置との間で、ミラーを回転させるように配置される、
ガス放電レーザシステム。
16.第1の方向は、アクチュエータがミラーを角度θ/2だけ回転させるように適用された場合に、第2の方向に対して角度θである、条項15に記載のガス放電レーザシステム。
17.第1のレーザチャンバモジュールは、レーザ放射の第1のパルスビームを発生させるように適合され、第2のレーザチャンバモジュールは、レーザ放射の第1のパルスビームのパルス間でレーザ放射の第2のパルスビームを発生させるように適合され、アクチュエータは、レーザ放射の第1のパルスビームのパルス中の第1の位置にミラーを配置するように、及び、レーザ放射の第2のパルスビームのパルス中の第2の位置にミラーを配置するように、適合される、条項15に記載のガス放電レーザシステム。
18.リソグラフィ装置内で第1のパルスレーザビームと第2のパルスレーザビームとを組み合わせる方法であって、
ミラーに当たる第1のパルスレーザビームのパルスがパルスの使用を可能にする方向に反射される、第1の状態にミラーを配置するステップと、
レーザ放射の第1のビームの1つ以上のパルスを発生させるステップと、
ミラーに当たる第2のパルスレーザビームのパルスがパルスの使用を可能にする方向に反射される第2の状態にミラーを配置するステップと、レーザ放射の第2のビームの1つ以上のパルスを発生させるステップとを含む、
方法。
19.第1のパルスレーザビームのパルスがパルスの使用を可能にする方向に伝播する第1の状態にミラーを配置するステップは、第1の回転位置にミラーを配置するステップを含み、第2のパルスレーザビームのパルスがパルスの使用を可能にする方向に伝播する第2の状態にミラーを配置するステップは、第2の回転位置にミラーを配置するステップを含む、条項18に記載の方法。
20.第1のパルスレーザビーム及び第2のパルスレーザビームは、互いに角度θでミラーに当たり、第1の回転位置及び第2の回転位置は、互いに角度θである、条項18に記載の方法。
21.第1のビーム及び第2のビームを受け取るように配置され、第1のビーム及び第2のビームに第1のビームを共通方向に伝播させるように適合された、ビームコンバイナであって、ビームコンバイナは、反射表面と、反射表面と鋭角を形成する傾斜縁部とを有するミラーを備え、ミラーは、レーザ放射の第1のビームが反射表面から共通の方向に反射するように、及び、レーザ放射の第2のビームが鋭角に直接隣接した共通の方向に伝播するように配置される、ビームコンバイナ。
22.第1のビームは第1のレーザチャンバモジュールによって発生され、第2のビームは第2のレーザチャンバモジュールによって発生される、条項21に記載のビームコンバイナ。
Claims (22)
- レーザ放射の第1のビーム及びレーザ放射の第2のビームを受け取るように配置され、前記第1のビーム及び前記第2のビームを共通方向に伝播するように適合された、ビームコンバイナを備える、ガス放電レーザシステムであって、
前記ビームコンバイナは、反射表面と、前記反射表面と鋭角を形成する傾斜縁部とを有するミラーを備え、前記ミラーは、前記レーザ放射の第1のビームが前記反射表面から前記共通の方向に反射するように、及び、前記レーザ放射の第2のビームが前記鋭角に直接隣接した前記共通の方向に伝播するように配置される、
ガス放電レーザシステム。 - 前記レーザ放射の第1のビームを発生させるように適合された第1のレーザチャンバモジュールと、前記レーザ放射の第2のビームを発生させるように適合された第2のレーザチャンバモジュールとを更に備える、請求項1に記載のガス放電レーザシステム。
- 前記第2のビームがアパーチャを通過するように配置された、アパーチャを更に備え、前記アパーチャは、前記レーザ放射の第2のビームが前記鋭角に衝突しないように、前記レーザ放射の第2のビームの寸法範囲を制限する、請求項1に記載のガス放電レーザシステム。
- 前記アパーチャの幅は調整可能である、請求項3に記載のガス放電レーザ。
- 前記ビームコンバイナは、前記第1のビーム及び前記第2のビームを互いに平行に伝播させるように適合される、請求項1に記載のガス放電レーザシステム。
- 前記レーザ放射の第1のビームは第1の波長を有し、前記レーザ放射の第2のビームは、前記第1の波長とは異なる第2の波長を有する、請求項1に記載のガス放電レーザシステム。
- 前記レーザ放射の第1のビームは1回目に発射するようにトリガされ、前記レーザ放射のビームは2回目に発射するようにトリガされ、前記1回目と前記2回目との間の差はΔtである、請求項1に記載のガス放電レーザシステム。
- Δtは実質的にゼロに等しい、請求項7に記載のガス放電レーザシステム。
- Δtは、前記レーザ放射の第1第2が、前記レーザ放射の第1のビームが発射を停止した直後にトリガされるように選択される、請求項7に記載のガス放電レーザシステム。
- レーザ放射の第1のビームを発生させるように適合された第1のレーザチャンバモジュールと、
レーザ放射の第2のビームを発生させるように適合された第2のレーザチャンバモジュールと、
前記第1のビーム及び前記第2のビームを受け取るように配置され、前記第1のビーム及び前記第2のビームを共通方向に伝播するように適合された、ビームコンバイナであって、前記ビームコンバイナは、反射性コーティングを有する第1の部分及び反射性コーティングを有さない第2の部分を有する面を有する光学要素を備え、前記光学要素は、前記レーザ放射の第1のビームが前記反射表面から前記共通の方向に反射し、前記レーザ放射の第2のビームが、前記光学要素と前記光学要素の面の前記第2の部分とを前記共通の方向に通過するように配置される、ビームコンバイナと、
を備える、ガス放電レーザシステム。 - 前記レーザ放射の第1のビームは第1の波長を有し、前記レーザ放射の第2のビームは、前記第1の波長とは異なる第2の波長を有する、請求項10に記載のガス放電レーザシステム。
- 前記レーザ放射の第1のビームは1回目に発射するようにパルス発射及びトリガされ、前記レーザ放射のビームは2回目に発射するようにパルス発射及びトリガされ、前記1回目と前記2回目との間の差はΔtである、請求項10に記載のガス放電レーザシステム。
- Δtは実質的にゼロに等しい、請求項12に記載のガス放電レーザシステム。
- Δtは、前記レーザ放射の第1第2が、前記レーザ放射の第1のビームが発射を停止した直後にトリガされるように選択される、請求項12に記載のガス放電レーザシステム。
- レーザ放射の第1のビームを発生させるように適合された第1のレーザチャンバモジュールと、
レーザ放射の第2のビームを発生させるように適合された第2のレーザチャンバモジュールと、
前記第1のビーム及び前記第2のビームを受け取るように配置され、前記第1のビーム及び前記第2のビームを共通方向に伝播するように適合された、ビームコンバイナであって、前記ビームコンバイナは、ミラーと前記ミラーに機械的に結合されたアクチュエータとを備える、ビームコンバイナと、
を備える、ガス放電レーザシステムであって、
前記レーザ放射の第1のビームは、初期に第1の方向に進行して第1のロケーションにおいて前記ミラーに当たり、前記レーザ放射の第2のビームは、初期に前記第1の方向に対して第2の方向にある角度で進行して前記第1のロケーションにおいて前記ミラーに当たり、
前記アクチュエータは、前記レーザ放射の第1のビームが第3の方向に伝播する第1の位置と、前記レーザ放射の第2のビームが前記第3の方向に伝播する第2の位置との間で、前記ミラーを回転させるように配置される、
ガス放電レーザシステム。 - 前記第1の方向は、前記アクチュエータが前記ミラーを角度θ/2だけ回転させるように適用された場合に、前記第2の方向に対して角度θである、請求項15に記載のガス放電レーザシステム。
- 前記第1のレーザチャンバモジュールは、レーザ放射の第1のパルスビームを発生させるように適合され、前記第2のレーザチャンバモジュールは、前記レーザ放射の第1のパルスビームのパルス間でレーザ放射の第2のパルスビームを発生させるように適合され、前記アクチュエータは、前記レーザ放射の第1のパルスビームのパルス中の前記第1の位置に前記ミラーを配置するように、及び、前記レーザ放射の第2のパルスビームのパルス中の前記第2の位置に前記ミラーを配置するように、適合される、請求項15に記載のガス放電レーザシステム。
- リソグラフィ装置内で第1のパルスレーザビームと第2のパルスレーザビームとを組み合わせる方法であって、
ミラーに当たる前記第1のパルスレーザビームのパルスが前記パルスの使用を可能にする方向に反射される、第1の状態に前記ミラーを配置するステップと、
レーザ放射の第1のビームの1つ以上のパルスを発生させるステップと、
前記ミラーに当たる前記第2のパルスレーザビームのパルスがパルスの使用を可能にする方向に反射される第2の状態に前記ミラーを配置するステップと、レーザ放射の第2のビームの1つ以上のパルスを発生させるステップとを含む、
方法。 - 前記第1のパルスレーザビームのパルスが前記パルスの使用を可能にする方向に伝播する第1の状態に前記ミラーを配置する前記ステップは、第1の回転位置に前記ミラーを配置するステップを含み、前記第2のパルスレーザビームのパルスが前記パルスの使用を可能にする方向に伝播する第2の状態に前記ミラーを配置する前記ステップは、第2の回転位置に前記ミラーを配置するステップを含む、請求項18に記載の方法。
- 前記第1のパルスレーザビーム及び前記第2のパルスレーザビームは、互いに角度θでミラーに当たり、前記第1の回転位置及び前記第2の回転位置は、互いに角度θである、請求項18に記載の方法。
- 第1のビーム及び第2のビームを受け取るように配置され、前記第1のビーム及び前記第2のビームに前記第1のビームを共通方向に伝播させるように適合された、ビームコンバイナであって、前記ビームコンバイナは、反射表面と、前記反射表面と鋭角を形成する傾斜縁部とを有するミラーを備え、前記ミラーは、レーザ放射の第1のビームが前記反射表面から前記共通の方向に反射するように、及び、レーザ放射の第2のビームが前記鋭角に直接隣接した前記共通の方向に伝播するように配置される、ビームコンバイナ。
- 前記第1のビームは第1のレーザチャンバモジュールによって発生され、前記第2のビームは第2のレーザチャンバモジュールによって発生される、請求項21に記載のビームコンバイナ。
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