JP2023503435A - Ｅｕｖレチクル・ストッカ及びその操作方法 - Google Patents

Abstract

ＥＵＶレチクル・ストッカのための締付けデバイス（２００、５００）、貯蔵システム（３００、６００）及び操作方法（４００、４１０）が提供される。ＥＵＶレチクルを貯蔵するために必要な空間が著しく低減され、その一方で、貯蔵されるＥＵＶレチクルのための高品質貯蔵環境を保証する。本発明の更なる態様は、ＥＵＶレチクルを貯蔵するためのストッカ（７００）を提供する。

Description

本発明は、ＥＵＶレチクルのためのストッカ及び前記レチクル・ストッカの操作方法に関する。

フォトリソグラフィ・プロセスは、集積回路（ＩＣ）並びに他の半導体関連デバイス及び／又は構造の製造における重要なステップのうちの一つとして広く使用されている。しかしながらこのようなプロセスによって製造される特徴の寸法が小さくなると、小形ＩＣ又は他のデバイス及び／若しくは構造を製造するためのフォトリソグラフィの重要性が増す。

フォトリソグラフィでは、光、感光性層及び後続するエッチング・ステップを使用して、形状パターンがフォトマスク（一般にはレチクルと呼ばれる）から基板、例えば半導体ウェーハの上に転写される。基板上の所望の特徴サイズに応じてレチクルの特徴サイズを適合させなければならず、また、パターン転写のために使用される光の波長をレイリー規準を考慮して適合させなければならない。

達成可能な最小特徴サイズを小さくするために、極紫外線（ＥＵＶ）放射の使用が提案されている。ＥＵＶ放射は、５～２０ｎｍの範囲内、例えば５～１０ｎｍの範囲内の波長を有する電磁放射である。

レチクルのあらゆる汚染はフォトリソグラフィ・プロセスの画像化性能を低下させることがあり、また、より深刻な事例では、レチクルの交換が必要となる場合がある。レチクルは一般には高価であり、したがってレチクルを交換しなければならない頻度の低減は有利である。更に、レチクルの交換は時間の掛かるプロセスであり、レチクルを交換している間、フォトリソグラフィ・プロセスをサポートしなければならず、したがってフォトリソグラフィ・プロセスの効率が低下することがあり、これは望ましくない。

ＥＵＶ用途の場合、１０ｎｍ未満の粒径の粒子汚染、並びに例えば揮発性有機化合物の吸着による化学汚染が関連し得る。

したがってこのようなＥＵＶ用途のために使用されるレチクルは、一般には貯蔵ストッカの中で貯蔵され、リソグラフィ露光機器と関連して、必要なときに回収される。通常、レチクルは、いわゆるＥＵＶ外部ポッド（ＥＯＰ）及びＥＵＶ内部ポッド（ＥＩＰ）を備えた二重シェル容器（二重ポッド）の中に含まれている。

このような二重ポッドは、例えばＵＳ２０１９／０２１４２８７Ａ１により詳細に記載されている。

粒子汚染の許容可能なレベルは極端に低いため、容器に対するレチクルの摩擦（これは摩耗をもたらし、したがって粒子を生成する）、並びに容器構成要素同士の摩擦を回避しなければならない。したがって一般的なＥＩＰは、中で移動する可能性がほとんどないように一つのレチクルを収納するように設計されている。また、ＥＩＰは、レチクルをＥＩＰの内側に固定するための追加のレチクル固定手段を備えている。汚染を防止するために、ＥＩＰは、レチクルに保護ガス又は真空を加えることができるように設計されている。そのために、一般には、保護ガスをＥＯＰからそれぞれのＥＩＰに含まれているレチクルの周囲に入れるために、フィルタ材料を備えたオリフィスが提供されている。

ＥＯＰは、ＥＩＰのレチクル固定手段を保持位置へバイアスさせるように適合された駆動手段を備えており、それによりＥＯＰがＥＩＰに取り付けられると、レチクルをＥＩＰの内側に固定する。ＥＯＰは、摩擦誘導摩耗を防止するために、一般には二片のＥＩＰを互いに対して固定するように同じく機能している。

ＥＩＰ構成要素は、それらが外側から固定されていない限り、互いに対して移動可能であることを理解されたい。このような移動によって生じる摩擦誘導摩耗を回避するために、ＥＯＰは、従来、このような固定機能性をＥＩＰに提供すると同時に、例えば貯蔵位置と、操作のためにレチクルを必要とするプロセス・ツールとの間の輸送中に必要な周囲の大気に対する保護も提供している。

ＥＯＰはどちらかと言えば嵩張り、ＥＵＶレチクルを貯蔵するストッカのための高い空間要件即ち「フットプリント」をもたらしている。更に、ＥＯＰは、同じく摩耗しやすく、また、揮発性有機化合物のガスを放出しやすい高分子材料でできている。

本発明は、独立請求項による特徴を有する方法、デバイス及びシステムを提供することによってこれらの問題を解決するべく試行している。有利な実施形態及び追加特徴は従属請求項で提供されており、また、以下の説明の中で考察される。

本発明により、レチクルを貯蔵するために必要な空間を小さくすることができ、その一方で、従来のシステムによって提供される汚染保護及び損傷保護のレベルと少なくとも同じレベルの汚染保護及び損傷保護を保証することができる。ガスを放出するＥＯＰによる貯蔵中の化学汚染が防止され、また、二重ポッドの中でのレチクルの貯蔵に対する機械的損傷保護が改善される。例えばＥＯＰは地震の際に容易に損傷し得るが、本発明によるデバイスは、以下の説明から理解されるように、このような困難な条件の下であっても、そう簡単には壊れない。

このような改良型貯蔵概念を開発する際に考慮すべき側面としては、レチクルがフォトリソグラフィ・プロセス機器に提供される方法を変えることは非常に望ましくなく、これは、一般には半導体製造設備の最も複雑で、最も費用が掛かる部分であることが挙げられる。

したがってフォトリソグラフィ・プロセス機器は、一般には二重ポッドを受け取るように適合されているため、従来の二重ポッドをフォトリソグラフィ・プロセス機器に提供するための手段は、改良型レチクル・ストッカを備えることが有利である。

本発明の一態様では、ＥＵＶ内部ポッド（ＥＩＰ）のための締付けデバイスが提供され、ＥＩＰは二つ以上の構成要素を備え、また、ＥＵＶレチクルを含むか、或いはＥＵＶレチクルを含むように適合され、且つ、構成され、締付けデバイスは、ＥＩＰの二つ以上の構成要素及びレチクルを互いに対して固定するように構成され、また、ＥＩＰをごく部分的に覆うように構成される。例えばＥＩＰの外部表面の９０％、８０％、７５％、５０％、２５％、２０％又は１０％未満までのごく一部のみが本発明による締付けデバイスによって覆われる。したがって締付けデバイスは、例えば締付けデバイスの周囲の大気をＥＩＰと接触させることができ、したがって例えば保護ガスのための高度に複雑な供給手段の必要性を除去する。

締付けデバイスは、たとえレチクルを保持しない場合であっても、ＥＩＰの構成要素をまとめて締め付けるために同じく使用することができることに留意されたい。この場合、ＥＩＰの構成要素のみが互いに対して固定される。

有利には、締付けデバイスはＥＩＰの保持手段に作用するように更に構成され、保持手段は、ＥＩＰ内のレチクルを固定するためにＥＩＰの外側から作用されると、レチクルを中に固定するように構成される。したがってＥＩＰ内のレチクルの固定は、ＥＩＰに設けられた保持手段に作用する締付けデバイスを介して実施される。これは、レトロフィットの必要なく、既存のシステムをそのまま使用することができ、したがって費用の掛かる投資を回避することができるという利点を提供する。

有利には、締付け要素は主として金属材料でできており、金属材料は、総デバイス体積及び／又は質量に関して少なくとも７５％、８０％、９０％、９５％又は９９％を含むことが好ましい。これは、上で言及した、高分子材料のガス放出による化学汚染の問題を軽減する。したがってパージング・ガスの必要な量及び必要なレチクル交換の頻度を低減することができる。同様の利点を有する他の可能な材料は、例えばポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）又はシクロオレフィン（共）重合体（ＣＯＣ／ＣＯＰ）である。これらの材料の結束特徴は、とりわけガス放出特性が低いことである。

有利な実施形態では、締付けデバイスは、上部締付け要素及び下部締付け要素を備えた二つの締付け要素を備え、これらは、それらの間にＥＩＰを収納しつつ互いに取り付け可能に構成される。詳細には、このような締付けデバイスをＥＩＰの周りに組み立てるために必要な動きは、ＥＩＰの主表面に向かって実質的に垂直であり、また、ＥＩＰに対して横方向の動きは実質的に不要である。これは、組立てプロセスを容易にし、また、摩擦誘導粒子生成（摩耗）の危険を小さくする。

有利には、上部締付け要素は、ＥＩＰの保持手段に作用して、その中にレチクルを固定するように構成される。したがって上部締付け要素は、従来、ＥＯＰが果たしている固定機能を、化学汚染及び空間フットプリントに関する欠点を有することなく置換することができ、又は模倣することができる。

他の実施形態では、締付けデバイスは、一つの締付け要素及び一つ、二つ又はそれ以上の固着手段を備え、これらの固着手段は閉位置に向かってバイアスされ、また、開位置へ移動するように構成され、締付けデバイスは、固着手段が開位置に位置するとＥＩＰに取り付けることができ、また、固着手段が閉位置に位置し、及び／又は閉位置にもたらされると、ＥＩＰ構成要素及びレチクルを互いに対して固定するように構成される。言い換えると、締付けデバイスは、固着手段を備えた単一の締付け要素、即ち一片の締付け要素として提供される。固着手段は、締付けデバイスがＥＩＰに取り付けられるとＥＩＰの下側に作用し、また、締付け要素の上側に作用する。他の点ではこの単一の締付け要素は、上で説明した上部締付け要素と同じ機能性を提供する。この一片実施形態は、同じ機能性を提供するのに一片しか必要としないため、取扱いの点で有利である。この一片は、ＥＩＰの上側からＥＩＰに取り付けられる。したがって上で説明した二片実施形態と比較すると、締付けデバイスをＥＩＰに取り付けるために必要な取扱いステップがより少ない。

有利には、締付けデバイスは、締付けデバイスがＥＩＰに取り付けられると保持手段に作用するように構成されたアクチュエータを備える。

有利には、締付けデバイスは、締付けデバイスを取り付けることができるＥＩＰの包囲体積の１３０％、１２０％、１１０％、１０５％未満、更には１００％未満の包囲体積を有する。

詳細には締付けデバイスは、ＥＩＰの包囲体積の１３０％、１２０％、１１０％又は１０５％未満の包囲体積を有し、したがってＥＩＰ及びＥＯＰを備える二重ポッド内の貯蔵と比較すると、レチクルを貯蔵する空間フットプリントが実質的に小さい。これにより、上で言及したパージング・ガスの必要な量が同じく少なくなり得る。包囲体積は、例えばそれぞれの対象を完全に包含する最小可能立方形の体積を表すものとして理解され得る。

いくつかの実施形態による締付けデバイスは、ＲＦＩＤデバイス或いはバー・コード、ＱＲコード又は他の形態の１Ｄ若しくは２Ｄコードなどの視覚検出可能コードなどの情報伝達要素を備えることができる。これは、レチクルに関する情報を対応する締付けデバイスと関連付けることができるという利点を提供する。したがって例えばレチクルと関連付けられた締付けデバイスを識別するだけで、貯蔵されているレチクルを識別することが可能になり得る。

更に、このような情報を追跡目的で使用して、例えば所与の締付けデバイスを使用して実施された貯蔵操作の数を数えることができる。浄化若しくは交換手順又は機能性試験のための適切な時期を決定するためにはこれは有用である。

いくつかの実施形態では、貯蔵中及び取扱い中における、貯蔵大気中の湿度、温度、圧力、加速度又は特定の化学種の濃度などの特定の状態を監視するためのセンサが締付けデバイスに含まれる。これは、レチクルが経験した影響要因についての知識をそれらの貯蔵履歴全体を通して得ることができるという利点を提供し、したがって本発明が使用される製造設備の総合生産性を改善することができる。

このような情報は、締付けデバイスに設けられたメモリ及び／若しくはプロセッサの中、又は本発明による貯蔵システムを取り扱う機械若しくはツールの構成要素の中に記憶し、処理することができる。

別の態様では、本発明は、上で説明した締付けデバイスと、ＥＩＰとを備えた貯蔵システムを提供する。ＥＩＰは二つ以上の構成要素を備え、ＥＵＶレチクルを収納するように構成され、また、保持手段を備え、保持手段は、保持手段がＥＩＰの外側から作用されると、ＥＩＰ内に含まれているレチクルを固定するように構成される。締付けデバイスは、ＥＩＰの二つ以上の構成要素を互いに対して固定するためにＥＩＰに取り付けられ、保持手段に作用し、したがってＥＩＰ内のレチクルを固定する。したがって摩耗を実質的に回避することができ、また、関連するサイズ範囲の粒子によるレチクルの汚染を最小化することができる。

一般には、保持手段は、ＥＩＰ構成要素のうちの一つに侵入する一つ又は複数のピストンの形態で提供される。これらのピストンの各々は、後退した位置に弾性的にバイアスされ、また、ＥＩＰの外側から作用されると、レチクルに垂直方向の力を加えるように適合される。それと同時に、保持手段は、ＥＩＰ内に貯蔵されているレチクルをＥＩＰの外側からの汚染物質による汚染から保護するために侵入すると、ＥＩＰ構成要素と封止係合する。

好ましい実施形態では、貯蔵システムは、ＥＩＰの包囲体積と比較して、１３０％、１２０％、１１０％又は１０５％未満の包囲体積を有する。したがってＥＩＰ及びＥＯＰを備えた二重ポッドの形態の従来の貯蔵システムに対して、レチクルを貯蔵するために必要な空間が著しく低減される。

本発明の別の態様は、ＥＵＶレチクル・ストッカを操作する方法を提供し、方法は、レチクルをレチクル・ストッカの中に貯蔵するステップと、レチクルをレチクル・ストッカから回収するステップとを含み、貯蔵するステップは、レチクルを含んだ本発明による貯蔵システムをＥＵＶレチクル・ストッカ内の貯蔵位置へ移動させるステップを含み、回収するステップは、レチクルを含んだ本発明による貯蔵システムをその貯蔵位置から除去するステップを含む。これは、従来の貯蔵方法と比較すると、レチクルを貯蔵するために必要な空間を小さくする。

詳細には、貯蔵するステップは、貯蔵位置へ移動させるステップの前に、ＥＵＶ外部ポッド（ＥＯＰ）及びＥＵＶレチクルを含んだＥＩＰを備えた二重ポッドをストッカの外側から受け取るステップであって、ＥＩＰがＥＯＰ内に完全に含まれる、ステップと、ＥＯＰを開けるステップと、貯蔵システムを提供するために、ＥＩＰ構成要素を互いに対して固定し、且つ、レチクルをＥＩＰに対して固定するためにＥＩＰに設けられた保持手段に作用するために、締付けデバイスをＥＩＰに取り付けるステップとを更に含む。このような実施形態では、貯蔵システムは改良型ストッカ自体によって提供され、ストッカの外部で実施される何らかのプロセス・ステップを実質的に変更することなく、既存の製造プロセスと関連してストッカを直接利用することができる。

好ましい実施形態では、二重ポッドを受け取るステップは、エアーロックを備えた入口ターミナルの外側に面している側で二重ポッドを受け入れるステップと、エアーロックの第１のシャッタを開けるステップと、二重ポッドをエアーロックの中へ移動させるステップと、第１のシャッタを閉じるステップと、エアーロックの内部体積の汚染を除去するステップと、エアーロックの第２のシャッタを開けるステップと、二重ポッドを第２のシャッタを通って入口ターミナルの内側に面している側へ移動させるステップと、第２のシャッタを閉じるステップとを含む。言い換えると、二重ポッドは、エアーロックを通って、入口ターミナルの外側に面している側から内側に面している側へ通過し、二重ポッドがエアーロックの内側に存在している間、エアーロックの内部体積の汚染を除去することを含む。これは、ストッカの汚染を回避するという利点を提供する。

ＥＯＰを開けるステップは、ＥＯＰをアンロックするステップと、ＥＯＰをＥＩＰの周りから除去するステップと、ＥＯＰをＥＯＰバッファ・ストックの中に貯蔵するステップとを含むことができる。ＥＯＰバッファ・ストックは、ＥＯＰの外側からＥＩＰへの相互汚染を防止するために、上で説明した貯蔵システムのための貯蔵位置から分離されることが好ましい。したがって厳格な清浄度要件を満足することができ、その一方でレチクルを貯蔵するために必要な空間が小さくなる。

貯蔵システムをその貯蔵位置から除去するステップの後のレチクルを回収するステップは、締付けデバイスをＥＩＰから切り離すステップと、ＥＩＰ構成要素及びＥＩＰ内に含まれているレチクルを互いに対して固定するためにＥＩＰの周りにＥＯＰを組み立てるステップと、二重ポッドを形成するステップと、ストッカ大気の汚染を防止するために、好ましくはエアーロックを通過させることによって二重ポッドをストッカの外側に引き渡すステップとを更に含むことが好ましい。これは、設備の製造プロセスを使用して標準の二重ポッドを使用することができ、したがって本発明に関連して提供される改善された貯蔵状態を従来のプロセス機器が利用することができるという利点を提供する。

この組立てのために使用されるＥＯＰは、上で言及したＥＯＰバッファ・ストックから回収され得ることが好ましい。これは、レチクルを貯蔵する毎にＥＯＰを必要とせず、その一方で、製造プロセスのために必要なすべてのレチクルの時宜を得た供給を保証するという利点を提供する。言い換えると、貯蔵されるレチクルの数は、提供されるＥＯＰの数を著しく超過し得る。言い換えると、任意の所与の時間の間、ＥＯＰを必要とするのは、その時間にストッカの外部で必要なレチクルのみである。

摩耗及び対応する粒子生成を防止するためには、レチクルがＥＩＰに対して固定されていないときに何らかのステップが一度に実施されている間、レチクル及び／又はＥＩＰ構成要素が互いに対して移動しないことが保証されることが好ましい。

締付けデバイスが上で説明した情報伝達要素を備えている場合、方法は、有利には、締付けデバイスによって伝達される情報が読み取られ、書き込まれ、削除され、又は変更される一つ若しくは複数のステップを含むことができる。このようなステップでは、製造設備の改善された総合性能を提供するために、取り扱われた締付けデバイスと関連付けられたレチクルの識別に関する情報、レチクルが経験した貯蔵状態又は他の情報を使用して、レチクル・ストッカ若しくは他のツール、機械又はデバイスを制御することができる。

方法は、レチクルが経験した貯蔵状態の履歴を監視するために、任意選択で締付けデバイスに設けられた一つ又は複数のセンサによって提供される情報を読み取り、受け取り、さもなければ収集するステップを更に含むことができる。これは、品質に関する不良がある可能性がより高いレチクルを例えば半導体製品の製造に使用する前に検査し、それによりそれらの完全性を保証することができるという利点を提供する。したがって欠陥のある製品の産出が最小化される。

本発明の更なる態様では、少なくとも一つのＥＵＶレチクルを貯蔵するためのストッカが提供され、少なくとも一つのレチクルの各々は、一つのそれぞれのＥＵＶ内部ポッド（ＥＩＰ）の中に貯蔵されるか、或いはそのように適合され、また、そのように構成され、ＥＩＰは、締付けデバイスによって互いに対して固定される二つ以上のＥＩＰ構成要素を備え、ＥＩＰは保持手段を備え、保持手段は、ＥＩＰの外側から作用されると、ＥＩＰの内側に貯蔵されているレチクルをＥＩＰに対して固定するように構成され、締付けデバイスは保持手段に作用して、ＥＩＰ内に貯蔵されているレチクルを固定し、ストッカは、エアーロック及びアセンブラを備えた装荷ポート（本開示の言語では入口ターミナルとも呼ばれる）と、それぞれ一つの締付けデバイスによって固定され、また、それぞれ一つのレチクルを含んだＥＩＰを貯蔵するように構成された貯蔵ユニットと、締め付けられた、レチクルを含んだＥＩＰをストッカ内の貯蔵位置へ、また、貯蔵位置から移動させるように構成されたハンドラとを備え、エアーロックは、ＥＵＶ外部ポッド（ＥＯＰ）及びレチクルを含んだＥＩＰを備えた二重ポッドをストッカの外側から受け取るように構成され、ＥＯＰは保持手段に作用し、また、アセンブラは、ＥＩＰ構成要素及びレチクルを互いに対して移動させることなくＥＯＰを開けるように構成され、アセンブラは、ＥＩＰ構成要素及びレチクルを互いに対して移動させることなく前記締付けデバイスを前記ＥＩＰに取り付け、また、締付けデバイスを前記ＥＩＰから除去するように構成され、また、アセンブラは、締め付けられていないＥＩＰの周りにＥＯＰを組み立てるように構成される。

有利には、ストッカは、取扱い手段を使用して、多数のＥＯＰを制御された大気中で貯蔵するように構成されたＥＯＰバッファ・ストックを更に備え、取扱い手段は、ＥＯＰをＥＯＰバッファ・ストックの中に置き、また、ＥＯＰをＥＯＰバッファ・ストックから回収するように構成される。

言い換えると、ストッカは、上で説明した方法を実現し、したがって上で説明した方法の利点と同じ利点を利用するように適合される。

次に、本発明の利点及び更なる態様について、添付の図面を参照してより詳細に考察する。

ＥＩＰの二つの異なる実施形態であって、これらの実施形態に関連して本発明を実現することができる実施形態を示す図である。 本発明による締付けデバイスの有利な実施形態の斜視図を概略的に示す図である。 本発明による二片締付けデバイスの二つの有利な実施形態のための上部締付け要素の上面図である。 本発明による貯蔵システムの好ましい実施形態の斜視図を概略的に示す図である。 本発明によるＥＵＶレチクル・ストッカのための操作方法の好ましい実施形態を表すフロー・チャートである。 本発明によるＥＵＶレチクル・ストッカのための操作方法の好ましい実施形態を表すフロー・チャートである。 本発明による締付けデバイスの別の有利な実施形態を概略的に示す図である。 本発明による締付けデバイスの別の有利な実施形態を概略的に示す図である。 本発明による一片締付けデバイスを備えた貯蔵システムの好ましい実施形態を斜視図及び平面図で示す略図である。 本発明によるレチクル・ストッカの有利な実施形態を概略的に示す図である。

包括して１００で示される、従来のＥＩＰの二つの実施形態Ａ、Ｂが図１に示されている。個々のＥＩＰ１００は、上部構成要素１１０及び下部構成要素１２０を備えている。上部構成要素１１０は、一つ又は複数のオリフィス１１２、保持手段１１４及び圧力点１１６を備えている。

保持手段１１４は、弾性要素によって後退位置にバイアスされ、また、微粒汚染物質がＥＩＰの内側に入るのを防止するために弾性封止手段によって封止方式で上部構成要素１１０に接続された四つのピストンの形態で提供されている。

オリフィス１１２は、微粒汚染物質がＥＩＰの内側に入るのを同じく防止し、その一方で窒素などのパージング及び／又は保護ガスのためのアクセスを提供するフィルタ材料を備えている。

圧力点１１６は、二つの構成要素１１０、１２０を互いに対して固定するために提供されており、また、保持手段は、ＥＩＰの外側から作用されると、レチクルをＥＩＰの内側に固定するために提供されている。

下部構成要素１２０も上部構成要素１１０の圧力点１１６と同様の圧力点を備えることができる。

ＥＩＰ１００の実施形態Ａでは、圧力点１１６は保持手段１１４から空間的に分離されており、一方、実施形態Ｂでは、保持手段１１４は圧力点１１６と同じ領域に提供され、圧力点１１６を通って展開している。

図２及び図２Ａには、ＥＩＰ１００の実施形態Ａ、Ｂと関連して使用することができる締付けデバイス２００が概略的に示されている。

締付けデバイス２００は、シート金属でできた二つの要素２１０、２２０を備えており、そのうちの一方は、場所の点でＥＩＰの一つ又は複数のオリフィス１１２に実質的に対応するオリフィス２１２を特徴とする上部締付け要素２１０であり、ＥＩＰ１００の上に篏合するように形成されている。ＥＩＰ１００の表面の、場所の点でオリフィス２１２に対応する部分は、本開示の言語では「覆われていない」と呼ばれ、一方、とりわけＥＩＰ１００の表面の、締付けデバイスの材料表面と接触している部分、即ち締付けデバイスの材料表面の真向かい又は真下の部分は「覆われている」と見なされる。したがって本発明によれば、締付けデバイス２００はＥＩＰ１００をごく部分的に覆うように構成される。オリフィス２１２は、とりわけ上部締付け要素２１０の表面積の１０％、２０％、２５％、５０％、７５％、８０％又は９０％を超える面積を占めることができる。更に、下部締付け要素２２０にも同様のオリフィスを提供することができる（図には示されていない）。更に、上部締付け要素２１０又は下部締付け要素２２０のいずれとも対応しないＥＩＰ１００の横向きに面している表面も同じく「覆われていない」と見なされる。

下部締付け要素を形成している第２の要素２２０は本質的に平らであり、そのサイズ及び形状並びに輪郭は上部締付け要素２１０に対応している。

上部締付け要素２１０及び下部締付け要素２２０は互いに取り付けることができ、また、それらが互いに取り付けられると、それらの間にＥＩＰ１００を収納し、且つ、固定するように構成されている。そのために、上部締付け要素及び下部締付け要素はいずれも押付け手段２１６を備えており、押付け手段２１６は、ＥＩＰ１００の上部構成要素及び下部構成要素１１０、１２０のそれぞれの圧力点１１６に押し付けて、ＥＩＰ構成要素１１０、１２０を互いに対して固定するように構成されている。

更に、ＥＩＰ１００の実施形態Ａの場合、アクチュエータ２１４は上部締付け要素２１０に設けられており、アクチュエータ２１４は、締付けデバイス２００がＥＩＰ１００に取り付けられると、ＥＩＰ１００の実施形態Ａの上部構成要素１１０の保持手段１１４に作用するように構成されている。

ＥＩＰ１００の実施形態Ｂと共に使用するために適合された締付けデバイス２００では、押付け手段２１６はアクチュエータ２１４の機能を同時に果たす。したがって個々の押付け手段２１６はアクチュエータ２１４を同じく構成する。

示されているいずれの実施形態の場合も、ＥＩＰ１００の保持手段１１４に作用することにより、締付けデバイス２００は、ＥＩＰ１００内に含まれているレチクルをＥＩＰ１００に対して固定する。

押付け手段２１６及びアクチュエータ２１４は、舌の形の切欠きの形態で提供されており、それぞれ圧力点１１６及び保持手段１１４に所定の力を加えるように構成することができる。有利には、押付け手段２１６は、圧力点１１６の各々に所定の力を加えるように構成されている。ＥＩＰ１００の実施形態Ａと共に使用するための締付けデバイスでは、圧力点に加えられるこの力は、アクチュエータ２１４が保持手段１１４に加える所定の力とは異なっていてもよい。したがって保持手段１１４及び圧力点１１６に加えられる力は、それぞれの部品を互いに対して固定するために必要な要求力に適合させることができる。一般には、ＥＩＰ内のレチクルを固定するために必要な力は、上部構成要素１１０を下部構成要素１２０に対して固定するために必要な力より小さい。したがってアクチュエータ２１４を形成している舌の形の切欠きは、押付け手段２１６を形成している切欠きより長くすることができ、及び／又は細くすることができる。

ＥＩＰ１００の実施形態Ｂと共に使用することができるように適合された締付けデバイスでは、例えば舌の形の追加切欠き（図には示されていない）を押付け手段２１６内に提供することにより、それぞれ圧力点１１６及び保持手段１１４に異なる力を加えることが同じく可能であり、したがって圧力点１１６に加えられる力と比較して、より小さい力を保持手段１１４に加えることができる。言い換えると、ＥＩＰ１００の実施形態Ｂにおける圧力点１１６及び保持手段１１４は近接してはいるが、互いに間隔を隔てた押付け手段２１６及びアクチュエータ２１４を提供することが依然として可能である。

上部締付け要素２１０は、締付けデバイス２００を提供するために、上部締付け要素２１０を下部締付け要素２２０に固定して取り付けるように構成される固着手段２０２を備えている。図２及び図２Ａに示されている例では、固着手段２０２はラッチの形態で提供されているが、他の形態の固着手段も同じく可能である。

図３には、ＥＩＰ１００と、上部締付け要素２１０及び下部締付け要素２２０を有する二片締付けデバイス２００とを備えた貯蔵システム３００が、組み立てられた状態で示されている。下部締付け要素２２０はＥＩＰ１００によって覆われているため、図３では下部締付け要素２２０を見ることはできない。

図５Ａ及び図５Ｂには、締付けデバイス５００の更なる有利な実施形態が斜視図及び平面図で概略的に示されている。

図２及び図２Ａに示されている締付けデバイス２００とは対照的に、締付けデバイス５００は、少なくとも二つの固着手段５０２を有する締付け要素を一つしか備えていない。更に、一つ又は複数の押付け手段５１６が提供されており、これらは、ＥＩＰ１００の上部構成要素１１０のそれぞれの圧力点１１６に押し付けて、ＥＩＰ構成要素１１０、１２０を互いに対して固定するように構成されている。固着手段５０２は、締付けデバイス５００がＥＩＰ１００に取り付けられると、締付け要素５００の上側及びＥＩＰ１００の下部構成要素１２０の下側に押し付けるように構成されている。締付けデバイス２００と同様、締付けデバイス５００では、アクチュエータ５１４は、ＥＩＰ１００内のレチクルを固定するために提供されている。ＥＩＰ１００内のレチクルの固定は、締付けデバイス５００がＥＩＰ１００に取り付けられる際の、アクチュエータ５１４とＥＩＰ１００の保持手段１１４との間の相互作用によって実施される。

図５Ａ及び図５Ｂに示されている締付けデバイス５００は、ＥＩＰ１００の実施形態Ａと共に使用することができるように適合されていることに留意されたい。しかしながら同様の一片締付けデバイス５００をＥＩＰ１００の実施形態Ｂに提供することも可能であることを理解されたい。

図５Ａには、閉位置における固着手段５０２が示されている。この特定の実施形態では、固着手段５０２は、取扱い要素及び固定要素を有し、本質的に板バネの形態で、締付けデバイス５００の二つの側に提供されている。ＥＩＰ１００に取り付けられると、固着手段５０２の固定要素は、上で説明した、締付け要素の上側及びＥＩＰ１００の下部構成要素１２０の下側に押し付ける機能を果たす。

図５Ｂには、開位置における固着手段５０２が示されている。この位置では固着手段５０２は、締付けデバイス５００の二つの互いに反対側の固定要素５０２の間の空間が、ＥＩＰ１００がそれらの間を移動するだけの十分な大きさになる方法で締付け要素から間隔を隔てる。したがって固着手段５０２が開位置に位置すると、締付けデバイス５００をＥＩＰ１００に取り付けることができる。

板バネの形態の固着手段５０２は閉位置に対してバイアスされ、したがって固着手段５０２をＥＩＰ１００に取り付けるためには、それらを開位置にもたらすために横方向の力を固着手段５０２に加えなければならない。

締付けデバイス５００の締付け要素は、本質的にシート金属でできていることが好ましく、一方、固着手段５０２は、金属、プラスチック又は任意の他の適切な単一の材料若しくは材料の組合せの板バネの形態で提供することができる。

アクチュエータ５１４及び押付け手段５１６は、本質的に図２の実施形態に関連して上で説明したように、舌の形の切欠きの形態で提供されることが好ましい。

締付けデバイス５００をＥＩＰ１００に取り付ける場合、固着手段５０２が開位置へ強制される。これは、固着手段の取扱い要素を締付けデバイス５００に対して実質的に横方向に引っ張ることによって達成することができる。次に、固着手段５０２が開位置に保持された締付けデバイス５００がＥＩＰの上に置かれ、また、予荷重力を使用してＥＩＰに対して下向きに押し付けられる。それにより締付けデバイス５００の押付け手段５１６及びアクチュエータ５１４がそれぞれＥＩＰ１００の押付け点１１６及び保持手段１１４と接触する。したがって予荷重力が加えられると、締付けデバイス５００とＥＩＰ１００の相互作用により、直ちにＥＩＰ構成要素１１０、１２０及びＥＩＰ１００内に含まれているレチクルが互いに対して固定される。

予荷重力は、締付けデバイス５００がその主延長平面に対して垂直の方向にＥＩＰ１００に向かって、固着手段５０２がＥＩＰ１００の何らかの部分と接触することなく固着手段５０２を閉位置へ解放することができる範囲まで移動するように選択される。したがって予荷重力が加えられている限り、固着手段５０２が閉位置へ移動することによって摩擦が誘導されることはない。したがって事実上、粒子生成が防止される。

締付けデバイス５００に予荷重力が加えられている限り、固着手段５０２は、ＥＩＰ１００から、また、締付けデバイス５００の上側から垂直の方向に間隔を隔てた状態を維持する。

固着手段５０２が閉位置に到達すると、加えられた予荷重力が解放され、したがって締付けデバイス５００は、固着手段５０２が締付けデバイスの上側及びＥＩＰ１００の下部構成要素１２０の下側に押し付けることによってＥＩＰ１００に対する締付けデバイス５００のそれ以上の変位を制限するまで、ＥＩＰ１００から遠ざかる方向に移動する。

予荷重力が締付けデバイス５００の上側から除去された後でも、アクチュエータ５１４及び押付け手段５１６は、垂直方向の固定力を依然としてそれぞれ保持手段１１４及び押付け点１１６に加える。これらの固定力は予荷重力より幾分か小さい。しかしながらアクチュエータ５１６及び保持手段５１４は、それぞれ、それらの各々によってもたらされる固定力がＥＩＰ１００内のレチクル、及びＥＩＰ１００の構成要素１１０、１２０を互いに対して固定するのに十分であるように設計されている。例えば一つの締付け要素５００の押付け手段５１６は、１Ｎから１００Ｎの範囲、好ましく５Ｎから５０Ｎの範囲、例えば約２０Ｎ±５Ｎ、例えば１７Ｎの垂直方向の固定力を押付け点１１６に集合的にもたらし、或いは個々の個別の押付け点１１６にもたらす。この集合固定力は、単一の押付け手段５１６全体にわたって均等に分散されることが好ましい。示されている例では、四つの押付け手段５１６が締付けデバイス５００に設けられているため、集合固定力の四分の一が押付け点１１６の各々に加えられる。

上で考察したように、保持手段１１４を介してレチクルに加えられる固定力は、押付け点１１６を介してＥＩＰ構成要素１１０、１２０に加えられる固定力より小さいことが好ましい。例えば保持手段１１４に集合的に加えられる、或いは個々の個別の保持手段１１４に加えられる固定力は、１Ｎから１００Ｎの範囲、好ましくは５Ｎから５０Ｎの範囲から選択することができ、また、例えば約２０Ｎ±５Ｎ、例えば１７Ｎに及び得る。この力は、押付け手段５１６を参照して説明した方法と同様の方法で、提供されるアクチュエータ５１４のすべてにわたって均等に分散されることが好ましい。

上で言及したように、この一片締付けデバイス５００は、ＥＩＰ１００の実施形態Ａとの使用に限定されない。本開示によれば、異なる構成、例えば一片締付けデバイス５００をＥＩＰ１００の実施形態Ｂと共に同じく使用することができる構成が同じく提供される。ＥＩＰ１００の実施形態Ｂと共に使用することができる締付けデバイス５００のこれらの実施形態は、本質的に、上で説明したＥＩＰ１００の実施形態Ｂと共に使用することができる締付けデバイス２００に対応しているが、説明した一片締付けデバイス５００の形態と同様の一片締付けデバイスの形態で提供される。

二片締付けデバイス２００と比較すると、一片締付けデバイス５００は、ＥＩＰ１００の下部構成要素１２０の実質的に全体を覆わない状態で残すため、ＥＩＰ１００の表面を覆う部分が少ないことを理解されたい。したがって締付けデバイス２００のオリフィス２１２のサイズと同じサイズのオリフィスを有する締付けデバイス５００は、ＥＩＰ１００を覆う部分が実質的に少ない。例えばＥＩＰ１００に取り付けられると、締付けデバイス５００は、ＥＩＰ１００の少なくとも５０％、６０％、７０％、８０％又は９０％を覆わない状態で残す。いくつかの実施形態では、締付けデバイス５００（又は２００）は、ＥＩＰ１００の少なくともオリフィス１１２を覆わない状態で残し、したがって締付けデバイス５００（又は２００）を取り囲んでいる大気からオリフィス１１２に向かう流体アクセスが実質的に妨げられない。

図６は、上で説明したＥＩＰ１００及び締付けデバイス５００を個々に備える貯蔵システム６００の略図である。締付けデバイス５００の固着手段５０２は閉位置に位置しており、また、押付け手段５１６は押付け点１１６に作用して、ＥＩＰ構成要素１１０、１２０を互いに対して固定している。アクチュエータ５１４は保持手段１１４に作用して、ＥＩＰ１００内のレチクルを固定している。

二片締付けデバイス２００の場合と同様、ＥＩＰ１００の実施形態Ｂと共に使用することができるように適合された一片締付けデバイス５００も、アクチュエータ５１４として同時に機能する押付け手段５１６を特徴としている。締付けデバイス２００と同様、押付け手段５１６とは別に、例えば押付け手段５１６内の舌の形の切欠きの形態、又は押付け手段５１６とは反対方向に展開している切欠きの形態で、締付けデバイス５００のアクチュエータ５１４を同じく提供することができる。これらの修正は図には示されていないが、押付け点１１６に加えられる力をＥＩＰ１００の保持手段１１４に作用する力とは別に調整することができるという利点を提供する。

図３及び図６から推論され得るように、締付けデバイス２００、５００は小さいサイズの締付けデバイスである。したがって貯蔵システム３００、６００は、本質的にＥＩＰ１００自体の体積と同じ体積を占有する。

図４Ａには、レチクルを貯蔵するためのレチクル・ストッカ７００の好ましい操作方法が流れ図で示されており、一括して参照番号４００で参照されている。対応するレチクル・ストッカは図７に概略的に示されている。

以下、この方法について、図２及び図２Ａに関連して考察した締付けデバイス２００に関して説明する。しかしながら対応するステップは、締付けデバイス５００を使用して、上で説明した貯蔵システム６００を得る場合に実施されることを理解されたい。

ステップ４０１で、ＥＵＶ外部ポッド（ＥＯＰ）１５０及びＥＯＰ１５０内に含まれたＥＩＰ１００を備えた二重ポッドがストッカ７００の外側から受け取られる。二重ポッドは、エアーロック７１０を備えた入口ターミナルの外側に面している側で受け入れられ、エアーロック７１０を通って、入口ターミナルの内側に面している側へ通される。エアーロック７１０を通過している間、エアーロック７１０の内部体積の汚染が除去され、それにより二重ポッドを受け取ることによってレチクル・ストッカ７００の内側の大気が悪影響を受けていないことを保証する。

エアーロック７１０の汚染除去は、エアーロック７１０を排気し、エアーロック７１０をガス、とりわけ不活性ガスなどの流体を使用してフラッシュし、及び／又はエアーロック７１０を流体、とりわけ不活性ガスを使用してパージすることを含むことができる。

ステップ４０２で二重ポッドが開けられる。二重ポッドを開けることは、この例ではＥＯＰ１５０をアンロックし、ＥＩＰ１００を取り囲んでいるその位置からＥＯＰ１５０を除去し、また、再び必要になるまでＥＯＰ１５０を貯蔵することができるＥＯＰバッファ・ストック７５０へＥＯＰ１５０を移動させることを含む。ＥＯＰ１５０がＥＩＰ１００から除去されると、圧力点１１６及び保持手段１１４はもはや作用されない。したがってその時点でＥＩＰ構成要素１１０、１２０、及びその中に含まれているレチクルは、もはや互いに対して固定されない。

ステップ４０３で締付けデバイス２００がＥＩＰ１００に取り付けられる。それにより図３に示されているような貯蔵システム３００が提供される。締付けデバイス２００を取り付けることは、とりわけ、ＥＩＰ１００を下部締付け要素２２０の上に置き、次に上部締付け要素２１０でＥＩＰ１００を覆い、また、下部締付け要素及び上部締付け要素を互いに取り付けることによって実施される。ＥＩＰ１００を下部締付け要素２２０の上に置き、また、上部締付け要素２１０でＥＩＰ１００を覆うことは、本質的に垂直方向の力のみがＥＩＰ１００に加えられ、また、ねじり力及び横方向の力が回避される方法で実施されることが好ましい。締付けデバイス２００がＥＩＰ１００に取り付けられると、二重ポッドを開ける前にＥＯＰ１５０によって実施された固定機能が締付けデバイス２００によって事実上回復され、或いは模倣される。

一片締付けデバイス５００が使用される場合、締付けデバイスを取り付けるステップ４０３は若干異なる方法で実施される。このような場合、締付けデバイス５００の固着手段５０２は、図５Ｂに示されているように開位置へ強制される。次に締付けデバイス５００がＥＩＰ１００の上に移動され、定義済み予荷重力を使用して、締付けデバイス５００の主延長平面に対して直角の方向（「垂直方向」）にＥＩＰ１００に向かって押し付けられる。次に固着手段５０２が閉位置に解放され、締付けデバイス５００から予荷重力が解放される。それにより、上で説明した貯蔵システム６００が形成される。

ステップ４０４で、貯蔵システム３００、６００がレチクル・ストッカ内の貯蔵位置へ移動される。

ステップのすべて、とりわけステップ４０２及び４０３は、上で説明したように摩擦誘導粒子生成を防止するために、ＥＩＰ１００と共に含まれているレチクルがＥＩＰ１００に対して移動しない方法で実施される。

図４Ｂには、レチクルを回収するためのレチクル・ストッカの好ましい操作方法が流れ図で示されており、一括して参照番号４１０で参照されている。

ステップ４１１で、貯蔵システム３００がその貯蔵位置から除去される。

ステップ４１２で、貯蔵システム３００を分解するために締付けデバイス２００がＥＩＰ１００から除去される。そのために、上部締付け要素及び下部締付け要素２１０、２２０が互いに切り離され、上部締付け要素２１０がＥＩＰ１００から持ち上げられ、それにより圧力点１１６及び保持手段１１４を解放する。その時点でもはやＥＩＰ１００内のレチクルの固定は有効ではない。

貯蔵システム６００が分解される場合、この場合もステップ４１２は若干修正された方法で実施され、締付けデバイス５００は、最初に、固着手段５０２がもはやＥＩＰ１００又は締付けデバイス５００の上側と接触しないよう、締付けデバイス５００に予荷重力を加えることによってＥＩＰ１００から除去される。次に固着手段５０２が開位置へ強制され、予荷重力が解放される。次に締付けデバイス５００がＥＩＰ１００から持ち上げられ、それにより圧力点１１６及び保持手段１１４を解放する。

一片締付けデバイス５００が使用されている場合、ステップ４０３及び４１２は、ＥＩＰ１００を全く移動させることなく実施することができる。これは、それぞれ、締付けデバイス５００をＥＩＰ１００に取り付ける際にＥＩＰ１００をＥＯＰ１５０の下部構成要素の上に残すか、又は締付けデバイス５００を切り離す前にＥＩＰ１００をＥＯＰ１５０の下部構成要素の上に置くことによって達成することができる。これは、事実上、それぞれＥＩＰ構成要素１１０、１２０及びレチクルの相対移動を防止するため、とりわけ有利である。

ステップ４１３で、ＥＯＰ１５０がＥＯＰバッファ・ストック７５０から回収され、また、二重ポッドを提供するためにＥＩＰ１００の周りに組み立てられる。二重ポッドが完全に組み立てられると、貯蔵時間の間、締付けデバイス２００によって実施された固定機能がＥＯＰによって提供される。

ステップ４１４で、ステップ４１３で形成された二重ポッドがストッカ７００の外側に引き渡される。これは、二重ポッドを上で言及したエアーロック７１０を通って、入口ターミナルの外側に面している側へ通過させることを含むことができる。エアーロック７１０は、汚染物質が入口ターミナルに入るのを防止するために、二重ポッドが通過している間、パージ又はフラッシュすることができる。

図７に示されているように、レチクル・ストッカ７００は、既に言及したエアーロック７１０、上で説明した方法４００、４１０のステップ４０２、４０３、４１２及び４１３を実施するように構成されるアセンブラ７２０、多数のＥＯＰ１５０を貯蔵することができるＥＯＰバッファ・ストック７５０、及び貯蔵システム３００、６００を多数の貯蔵位置７４２で貯蔵することができる貯蔵ユニット７４０を備えている。貯蔵システム３００、６００をそれらのそれぞれの貯蔵位置７４２へ、また、それらのそれぞれの貯蔵位置７４２から移動させるためのハンドラ７３０が、ストッカ７００に設けられている。

貯蔵位置７４２の数は、ＥＯＰバッファ・ストック７５０の中に貯蔵することができるＥＯＰ１５０の数を実質的に超過し得ることに留意されたい。上で説明したように、ＥＯＰ１５０を必要とするのは、ストッカ７００の外部で必要なレチクルのみである。したがって（少数の）ＥＯＰ１５０がＥＯＰバッファ・ストック７５０の中に貯蔵され、したがってレチクルを必要とするときに二重ポッドを組み立てることができる。しかしながら一般にはすべてのレチクルが同時に要求されることは全くないため、貯蔵ユニット７４０内に貯蔵されているレチクル毎にＥＯＰ１５０を貯蔵する必要はない。

図２、図２Ａ及び図５Ａでは、締付けデバイス２００、５００は、追加で、ＲＦＩＤデバイスなどの識別デバイス及び一つ又は複数のセンサを備えたロギング要素２１８、５１８（概略的に示されている）を備えている。ＲＦＩＤデバイス２１８、５１８は、識別番号を備えた情報伝達要素であり、したがってＲＦＩＤデバイス２１８、５１８を読み取ることによって個々の締付けデバイス２００、５００を他の締付けデバイス２００、５００から区別することができる。

ロギング要素２１８、５１８の中に含まれている一つ又は複数のセンサは、例えば締付けデバイス２００、５００に作用する温度、締付けデバイス２００、５００を取り囲んでいる大気の組成、圧力及び／又は加速度を検出又は測定するように構成されている。この例におけるロギング要素２１８、５１８は、一つ若しくは複数のセンサの読値を記憶し、及び／又はこれらの読値を更なる処理のために利用可能にするように更に構成されている。

締付けデバイス２００、５００が例えばＲＦＩＤデバイス２１８、５１８を備えている場合、方法４００は、特定の締付けデバイス２００、５００と組み合わせて貯蔵されているレチクルと、使用されている締付けデバイス２００、５００のＲＦＩＤデバイス２１８、５１８に設けられた識別番号との関連性を提供するステップを含むことができる。この関連性は、例えばレチクル・ストッカの中央メモリに記憶することができ、及び／又は製造設備の中央計算デバイス内に記憶することができる。これは、その貯蔵のために使用されている締付けデバイス２００、５００によってレチクルを識別することができ、したがって依然としてそれぞれのＥＩＰ１００内に安全に含まれている間に識別することができるという利点を提供する。

方法は、一つ又は複数のセンサからデータを収集するステップ、及び例えば更なるアクション、例えば回収したレチクルの検査が必要であるかどうかを評価するためにこのデータを使用するステップを更に含むことができる。

有利には、方法４１０は、次に、締付けデバイス２００、５００と関連付けられたレチクルを回収するために、締付けデバイス２００、５００のこのＲＦＩＤデバイス２１８、５１８を使用する。それにより検証機構を実現することができる。例えばストッカ７００内の所与のレチクルの貯蔵位置７４２を使用して、ストッカ７００から回収すべきレチクルを識別することが可能である。その貯蔵位置７４２からレチクルを回収する場合、締付けデバイス２００、５００のＲＦＩＤデバイス２１８、５１８を読み取ることができ、また、正しいレチクルが回収されたことを検証するために、締付けデバイス２００、５００の識別番号と、貯蔵されているレチクルとの関連性をチェックすることができる。特定の貯蔵場所に貯蔵されているレチクルと、締付けデバイス２００、５００と関連付けられたレチクルの識別が異なる場合、識別手順がトリガされ、警報信号を生成することができ、したがってその識別が検証される前に製造がレチクルを使用することはない。これは、レチクル識別の総合信頼性がより高くなるという利点を提供する。

レチクルと、それぞれの締付けデバイス２００、５００とのこの関連性の別の利点は、レチクルがそれらのそれぞれの貯蔵位置から無作為に除去されても、それらを依然として識別することができることである。これは、例えば地震又は同様の制御不可能な状況の間に生じ得る。このような状況では、従来の方法及びシステムであれば、レチクルは識別のためにそれらのそれぞれのＥＩＰから除去されたかもしれず、或いは従来の貯蔵システムは、更には破壊されたかもしれない。したがってここで開示された発明は、ＥＵＶレチクルのための、追跡可能性が改善されたより安全な貯蔵環境を提供する。

Claims (17)

1. ＥＵＶ内部ポッド（ＥＩＰ）のための締付けデバイスであって、前記ＥＩＰ（１００）が二つ以上の構成要素を備え、また、ＥＵＶレチクルを含み、前記締付けデバイス（２００、５００）が、
   前記ＥＩＰ（１００）の前記二つ以上の構成要素（１１０、１２０）及び前記レチクルを互いに対して固定するように構成され、また、
   前記ＥＩＰ（１００）をごく部分的に覆うように構成される、
   締付けデバイス。
2. 前記ＥＩＰ（１００）の保持手段（１１４）に作用するように更に構成され、前記保持手段（１１４）が、前記ＥＩＰ（１００）内の前記レチクルを固定するために前記ＥＩＰ（１００）の外側から作用されると、前記レチクルを中に固定するように構成される、請求項１に記載の締付けデバイス（２００、５００）。
3. その質量及び／又は体積に関して少なくとも７５％、８０％、９０％、９５％又は９９％の金属材料を含む、請求項１又は２に記載の締付けデバイス（２００、５００）。
4. 上部締付け要素（２１０）及び下部締付け要素（２２０）を備え、前記上部締付け要素（２１０）及び前記下部締付け要素（２２０）がそれらの間に前記二つ以上のＥＩＰ構成要素（１１０、１２０）を収納しつつ互いに取り付け可能に構成される、請求項１、２又は３に記載の締付けデバイス（２００）。
5. 一つ、二つ又はそれ以上の固着手段（５０２）を有する一つの締付け要素を備え、前記固着手段（５０２）が閉位置に向かってバイアスされ、また、開位置へ移動するように構成され、前記締付けデバイス（５００）が、前記固着手段が前記開位置に位置するとＥＩＰ（１００）に取り付けることができ、また、前記固着手段（５０２）が前記閉位置に位置すると、前記ＥＩＰ構成要素（１１０、１２０）及び前記レチクルを互いに対して固定するように構成される、請求項１、２又は３に記載の締付けデバイス（５００）。
6. 一つの締付け要素（２１０）が、前記締付けデバイス（２００、５００）が前記ＥＩＰ（１００）に取り付けられると前記保持手段（１１４）に作用するように構成されたアクチュエータ（２１４、５１４）を備える、請求項４又は５に記載の締付けデバイス（２００、５００）。
7. 前記締付けデバイス（２００、５００）を取り付けることができるＥＩＰ（１００）の包囲体積の１３０％、１２０％、１１０％、１０５％未満又は１００％未満の包囲体積を有する、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の締付けデバイス（２００、５００）。
8. 前記締付けデバイス（２００、５００）を識別するように構成された情報伝達要素、
   温度センサ、
   圧力センサ、
   前記締付けデバイス（２００、５００）を取り囲んでいる大気中の一つ若しくは複数の化学物質の濃度を検出若しくは測定するように構成された濃度センサ、及び／又は
   加速度センサ
   を含む一つ又は複数の構成要素を備えるロギング要素（２１８、５１８）を更に備え、
   前記ロギング要素が、前記ロギング要素（２１８、５１８）の前記一つ若しくは複数の構成要素を使用して生成された情報を記憶及び／又は利用可能にするように構成される、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の締付けデバイス（２００、５００）。
9. 請求項１乃至８のいずれか一項に記載の締付けデバイス（２００、５００）及びＥＵＶ内部ポッド（ＥＩＰ）（１００）を備えた貯蔵システム（３００、６００）であって、前記ＥＩＰ（１００）が、
   ＥＵＶレチクルを収納するように構成され、また、
   二つ以上の構成要素（１１０、１２０）と、保持手段（１１４）であって、前記保持手段（１１４）が前記ＥＩＰ（１００）の外側から作用されると、前記レチクルを固定するように構成された保持手段（１１４）とを備え、
   前記締付けデバイス（２００、５００）は、前記二つ以上の構成要素（１１０、１２０）を互いに対して固定し、前記保持手段（１１４）に作用するために前記ＥＩＰ（１００）に取り付けることができる、貯蔵システム（３００、６００）。
10. 前記ＥＩＰ（１００）の包囲体積の１３０％、１２０％、１１０％又は１０５％未満の包囲体積を有する、請求項９に記載の貯蔵システム（３００、６００）。
11. ＥＵＶレチクル・ストッカ（７００）を操作する方法であって、ＥＵＶレチクルを前記レチクル・ストッカの中に貯蔵するステップ（４００）と、レチクルを前記レチクル・ストッカ（７００）から回収するステップ（４１０）とを含み、
    前記貯蔵するステップ（４００）が、レチクルを含んだ請求項９又は１０に記載の貯蔵システム（３００、６００）を前記ＥＵＶレチクル・ストッカ（７００）内の貯蔵位置（７４２）へ移動させるステップ（４０４）を含み、
    前記回収するステップ（４１０）が、レチクルを含んだ請求項９又は１０に記載の貯蔵システム（３００、６００）をその貯蔵位置（７４２）から除去するステップ（４１１）を含む、
    方法。
12. 前記貯蔵するステップ（４００）が、貯蔵位置（７４２）へ移動させる前記ステップ（４０４）の前に、
    ＥＵＶ外部ポッド（ＥＯＰ）（１５０）及びＥＵＶレチクルを含んだＥＩＰ（１００）を備えた二重ポッドを前記ストッカ（７００）の外側から受け取るステップ（４０１）であって、前記ＥＩＰ（１００）が前記ＥＯＰ（１５０）内に完全に含まれる、ステップ（４０１）と、
    前記ＥＯＰを開けるステップ（４０２）と、
    前記貯蔵システム（３００、６００）を提供するために、ＥＩＰ構成要素（１１０、１２０）を互いに対して固定し、且つ、前記レチクルを前記ＥＩＰ（１００）に対して固定するために前記ＥＩＰ（１００）の中に含まれている保持手段（１１４）に作用するために、締付けデバイス（２００、５００）を前記ＥＩＰ（１００）に取り付けるステップ（４０３）と
    を更に含む、請求項１１に記載の方法。
13. 二重ポッドを受け取るステップ（４０１）が、
    エアーロック（７１０）を備えた入口ターミナルの外側に面している側で前記二重ポッドを受け入れるステップと、
    前記エアーロック（７１０）の第１のシャッタを開けるステップと、
    前記二重ポッドを前記エアーロック（７１０）の中へ移動させるステップと、
    前記第１のシャッタを閉じるステップと、
    前記エアーロック（７１０）の内部体積の汚染を除去するステップと、
    前記エアーロック（７１０）の第２のシャッタを開けるステップと、
    前記二重ポッドを前記第２のシャッタを通って前記入口ターミナルの内側に面している側へ移動させるステップと、
    前記第２のシャッタを閉じるステップと
    を含む、請求項１１又は１２に記載の方法。
14. 前記ＥＯＰ（１５０）を開けるステップ（４０２）が、
    前記ＥＯＰ（１５０）をアンロックするステップと、
    前記ＥＯＰ（１５０）を前記ＥＩＰ（１００）の周りから除去するステップと、
    前記ＥＯＰ（１５０）をＥＯＰバッファ・ストック（７５０）の中に貯蔵するステップと
    を含む、請求項１１乃至１３のいずれか一項に記載の方法。
15. 前記貯蔵位置（７４２）から前記除去するステップ（４１１）の後の前記回収するステップ（４１０）が、
    前記締付けデバイス（２００、５００）を前記ＥＩＰ（１００）から切り離すステップ（４１２）と、
    前記ＥＩＰ構成要素（１１０、１２０）及び前記ＥＩＰ（１００）内に含まれている前記レチクルを互いに対して固定するために前記ＥＩＰ（１００）の周りにＥＯＰ（１５０）を組み立てるステップ（４１３）と、二重ポッドを形成するステップと、
    前記二重ポッドを前記ストッカ（７００）の外側に引き渡すステップ（４１４）と
    を更に含む、請求項１１乃至１４のいずれか一項に記載の方法。
16. 少なくとも一つのＥＵＶレチクルを貯蔵するためのストッカ（７００）であって、前記少なくとも一つのレチクルの各々が一つのそれぞれのＥＵＶ内部ポッド（ＥＩＰ）（１００）の中に貯蔵され、前記ＥＩＰ（１００）が、締付けデバイス（２００、５００）によって互いに対して固定される二つ以上のＥＩＰ構成要素（１１０、１２０）を備え、前記ＥＩＰ（１００）が保持手段（１１４）を備え、前記保持手段（１１４）が、前記ＥＩＰ（１００）の外側から作用されると、前記ＥＩＰ（１００）の内側に貯蔵されている前記レチクルを前記ＥＩＰ（１００）に対して固定するように構成され、前記締付けデバイス（２００、５００）が前記保持手段（１１４）に作用して、前記ＥＩＰ（１００）内に貯蔵されている前記レチクルを固定し、前記ストッカ（７００）が、
    エアーロック（７１０）及びアセンブラ（７２０）を備えた装荷ポートと、
    それぞれ一つの締付けデバイス（２００、５００）によって固定され、また、それぞれ一つのレチクルを含んだＥＩＰ（１００）をそれぞれの貯蔵位置（７４２）に貯蔵するように構成された貯蔵ユニット（７４０）と、
    締め付けられた、前記レチクルを含んだ前記ＥＩＰ（１００）を前記ストッカ（７００）の前記貯蔵ユニット（７４０）内のそれぞれの貯蔵位置（７４２）へ、また、それぞれの貯蔵位置（７４２）から移動させるように構成されたハンドラ（７３０）と
    を備え、
    前記エアーロック（７１０）が、ＥＵＶ外部ポッド（ＥＯＰ）（１５０）及びレチクルを含んだＥＩＰ（１００）を備えた二重ポッドを前記ストッカ（７００）の外側から受け取るように構成され、前記ＥＯＰ（１５０）が前記保持手段（１１４）に作用し、また、
    前記アセンブラ（７２０）が、ＥＩＰ構成要素（１１０、１２０）及び前記レチクルを互いに対して移動させることなく前記ＥＯＰ（１５０）を開けるように構成され、前記アセンブラ（７２０）が、前記ＥＩＰ構成要素（１１０、１２０）及び前記レチクルを互いに対して移動させることなく前記締付けデバイス（２００、５００）を前記ＥＩＰ（１００）に取り付け、また、前記締付けデバイス（２００、５００）を前記ＥＩＰ（１００）から除去するように構成され、また、前記アセンブラ（７２０）が、締め付けられていない前記ＥＩＰ（１００）の周りにＥＯＰ（１５０）を組み立てるように構成される、
    ストッカ（７００）。
17. 取扱い手段を使用して、多数のＥＯＰ（１５０）を制御された大気中で貯蔵するように構成されたＥＯＰバッファ・ストック（７５０）を更に備え、前記取扱い手段が、ＥＯＰ（１５０）を前記ＥＯＰバッファ・ストック（７５０）の中に置き、また、ＥＯＰ（１５０）を前記ＥＯＰバッファ・ストック（７５０）から回収するように構成される、請求項１６に記載のストッカ（７００）。

Images