JP2023177349A - 表面を清掃するための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (51)
- 表面を清掃するための方法であって、
被清掃面の周囲に液体体積が生成され、少なくとも一つのノズルと加熱デバイスとを備える少なくとも一つの組立体を用いて、湿り蒸気または飽和蒸気によって構成される蒸気泡および/または過熱蒸気によって構成される泡が生成され、前記少なくとも一つのノズルによって前記被清掃面に当てられる、方法。 - 液体もパルス状に噴出されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記蒸気泡の正面の前記液体が、同一のノズルまたは少なくとも一つの他のノズルから噴出されることを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- 清掃液の加熱が、前記少なくとも一つのノズルの上流でまたは前記少なくとも一つのノズル内で、所定の脈動周波数でパルス状に行われることを特徴とする、請求項1~3の何れか一項に記載の方法。
- 複数のノズルを備える組立体が使用されることを特徴とする、請求項1~4の何れか一項に記載の方法。
- 熱入力を使用してノズル内で蒸気泡を生成し、ノズル組立体内の噴出方向の前記蒸気泡の正面の液体体積が膨張によって噴出され、この噴出された体積により、前記被清掃面の方向に所定の強度および速さの圧力噴射または圧力パルスが生成されることを特徴とする、請求項1~5の何れか一項に記載の方法。
- 流体力学にしたがって、圧力サージの後端で負圧が生じ、その結果、前記蒸気泡がこのより低圧の領域によって同伴され、前記蒸気泡の背後では、所定の圧力を有する被気化液が加熱器の領域に送り込まれ、該領域から先の前記ノズルの噴出開口へ送られることを特徴とする、請求項1~6の何れか一項に記載の方法。
- 被気化液は、周期的なパルス状に前記ノズルへ供給されることを特徴とする、請求項1~7の何れか一項に記載の方法。
- 表面が平らでないとき、または該表面からの距離に応じて、次の測定値、すなわち、前記ノズルから噴出された液体のパルス強度、前記ノズルから噴出された前記液体の量、前記蒸気泡のサイズ、前記蒸気泡の速さ、および前記蒸気泡の蒸気の蒸気温度のうちの一つまたは複数が調整されるように前記ノズルが操作されることを特徴とする、請求項1~8の何れか一項に記載の方法。
- 距離が大きくなるほど、次のパラメータ、すなわち、パルス強度、パルス持続時間、パルス周波数、液体供給量、泡サイズ、および蒸気温度のうちの一つまたは複数が増加されることを特徴とする、請求項1~9の何れか一項に記載の方法。
- 液滴によって引っ張られる前記蒸気泡の侵入深さを増加するためにパルス強度が経時的に変更されることを特徴とする、請求項1~10の何れか一項に記載の方法。
- 前記少なくとも一つのノズルが、定位置を中心にX方向(表面縦軸)および/またはY方向(表面横軸)および/またはZ方向(前記表面に向かう)に揺動することを特徴とする、請求項1~11の何れか一項に記載の方法。
- 前記少なくとも一つのノズルが前記表面に沿って案内されることを特徴とする、請求項1~12の何れか一項に記載の方法。
- 複数のノズルがノズル組立体に組み込まれ、該ノズルが、少なくとも前記表面の一つの方向(XまたはY)にわたって位置決めされるように配置され、個別のノズルのノズル噴流衝突面の重なりが重なる、またはノズル組立体を揺動させる場合、重なることを特徴とする、請求項1~13の何れか一項に記載の方法。
- 前記組立体の単位面積当たり異なるノズル密度が、歯の高さにわたって用いられ、前記組立体が前記被清掃面からより遠くに離間する領域に、より多くのノズルが使用されることを特徴とする、請求項1~14の何れか一項に記載の方法。
- 複数のノズル(1)が各シャトルデバイスに組み込まれ、該シャトルデバイスは、少なくとも立体的な表面の領域を逆U字形に包含することを特徴とする、請求項1~15の何れか一項に記載の方法。
- シャトルデバイスが、移動デバイスによって前記歯の上方で移動されることを特徴とする、請求項1~16の何れか一項に記載の方法。
- 一つのシャトルデバイスにつき10個から100個のノズルが使用されることを特徴とする、請求項1~17の何れか一項に記載の方法。
- 異なる直径および/または異なる流動長を有するノズルが使用されることを特徴とする、請求項1~18の何れか一項に記載の方法。
- トロイダルリング状の蒸気泡が生成されることを特徴とする、請求項1~19の何れか一項に記載の方法。
- 脈動が40Hzと400Hzの間のパルス周波数で生成されることを特徴とする、請求項1~20の何れか一項に記載の方法。
- 被清掃面からの距離が、0.5mmと5mmの間、かつ歯間隙では最大で7mmとなるように設定されることを特徴とする、請求項1~21の何れか一項に記載の方法。
- 前記ノズル内の加熱器の正面の清掃液の絶対入口圧力が、0.1MPaから2MPa、好ましくは0.12MPaから0.6MPaに設定されることを特徴とする、請求項1~22の何れか一項に記載の方法。
- 清掃液が0.1体積%から5体積%の粒子を含有することを特徴とする、請求項1~23の何れか一項に記載の方法。
- 粒子として鉱物粒子またはセルロース系粒子が使用されることを特徴とする、請求項1~24の何れか一項に記載の方法。
- 粒子サイズが20μmから120μmの粒子が使用されることを特徴とする、請求項1~25の何れか一項に記載の方法。
- 体積内の液体の量を一定に保つために、前記液体の一部が前記体積から吸い出され、該一部が、前記少なくとも一つのノズルを介して供給される液体の量に本質的に対応することを特徴とする、請求項1~26の何れか一項に記載の方法。
- 閉じた体積内の粒子密度が、前記閉じた体積に含有される液体に対して、30体積パーセント未満、特に20体積パーセント未満、とりわけ15体積パーセント未満であることを特徴とする、請求項1~27の何れか一項に記載の方法。
- 前記デバイス内で運搬される最初の清掃液中の粒子密度が、10体積パーセント未満、特に5体積パーセント未満であり、いずれの場合も前記清掃液の体積に対するものとすることを特徴とする、請求項1~28の何れか一項に記載の方法。
- デンタルプラークなどのバイオフィルムの清掃を達成するために、前記蒸気泡が崩壊するのに必要な時間が、0.01msから0.5msの範囲内、特に0.050msと0.25msの間に設定されることを特徴とする、請求項1~29の何れか一項に記載の方法。
- トロイダルリングを発生させるのに必要な脈動において、前記脈動の駆動周波数が、1Hzと50kHzの間、特に1Hzと30kHzの間、とりわけ1Hzから1kHzであり、回転楕円体状の蒸気泡を生成するときは、脈動周波数が、好ましくは1Hzと1kHzの間、特に30Hzと300Hzの間、好ましくは>50Hzであることを特徴とする、請求項1~30の何れか一項に記載の方法。
- パルス長が0.03ミリ秒から1秒であり、蒸気泡を発生させるときは、前記パルス長が0.3msから1秒、好ましくは0.3msから500ms、より好ましくは0.3msから100ms、さらにより好ましくは0.3msから20ms、特に0.3msから5msであり、蒸気泡のトロイダルリングを発生させるときは、前記パルス長がより短く、特に0.03msから3ms、特に0.07msから0.7ms、好ましくは0.1msから0.4msであることを特徴とする、請求項1~31の何れか一項に記載の方法。
- 表面を清掃するための、特に請求項1~32の何れか一項に記載の方法を行うための清掃デバイスにおいて、
該デバイス(1)が、清掃液を供給するための貯液槽(3)を有し、被清掃面(6)の方を向いた前記貯液槽(3)の少なくとも一つの壁(4)に少なくとも一つの貫通開口(5)が設けられ、該貫通開口(5)が加熱デバイスを有する、または前記貫通開口(5)に隣接した前記貯液槽(3)内に位置決めされた加熱デバイス(17)が設けられ、該加熱デバイスが、前記貫通開口内または前記貫通開口(5)の上流の前記貯液槽(3)内の前記清掃液を気化するように実施されることを特徴とする、清掃デバイス。 - 前記少なくとも一つの貫通開口(5)がノズルとして実施されることを特徴とする、請求項33に記載の清掃デバイス。
- 150μmから600μmの蒸気泡サイズが生じるように前記貫通開口(5)の直径が150μmから400μmであることを特徴とする、請求項33または34に記載の清掃デバイス。
- 被清掃面(6)の方を向いた前記デバイス(1)が少なくとも一つの封止要素(7)を有し、該封止要素(7)が前記デバイス(1)から前記被清掃面(6)まで延在し、前記被清掃面(6)に封止的に当接するように実施され、前記少なくとも一つの封止要素(7)が、前記デバイス(1)と前記被清掃面(6)との間に閉じた体積(8)を形成するように実施されることを特徴とする、請求項33~35の何れか一項に記載の清掃デバイス。
- 前記少なくとも一つの封止要素(7)がゴム弾性として実施されることを特徴とする、請求項33~36の何れか一項に記載の清掃デバイス。
- 蒸気泡(10)が前記貯液槽に戻ることが防止されるように前記貯液槽(3)内の液体を所定の圧力に保つ手段が設けられることを特徴とする、請求項33~37の何れか一項に記載の清掃デバイス。
- 前記閉じた体積(8)の脱気を保証するためおよび/または前記閉じた体積(8)の過充填を回避するために、充填中に前記閉じた体積から液体を吸い出すこと、または前記閉じた体積(8)から空気泡を吸い出すことを可能にする手段が設けられることを特徴とする、請求項33~38の何れか一項に記載の清掃デバイス。
- 前記デバイス(1)が断面U字形として実施され、前記貯液槽(3)が、立体的で突出した被清掃面(6)を包含することができるようにベース体(3a)と該ベース体(3a)から突出した二つのウイング(3b,3c)とを用いて断面U字形として実施されることを特徴とする、請求項33~39の何れか一項に記載の清掃デバイス。
- ベース体(3a)およびウイング(3b,3c)がそれぞれ少なくとも一つの貫通開口(5)を有し、前記少なくとも一つの封止要素(7)が前記被清掃面(6)まで延在することを特徴とする、請求項33~40の何れか一項に記載の清掃デバイス。
- 前記貫通開口が、液体シース流を生成するシースノズル(5a)によって同軸的に包囲された、または液体がパルス状にまたは非パルス状に流れ込む共通のノズル副室につながったコアノズル(5b)を備えて実施されることを特徴とする、請求項33~41の何れか一項に記載の清掃デバイス。
- 加熱によって前記コアノズル(5b)内で生成される蒸気泡(10)を同伴し、前記蒸気泡(10)を前記被清掃面(6)まで運搬するのに適した液体シース流が生成される、あるいは液体流が前記コアノズル(5b)内で生成され、前記蒸気泡(10)が前記シースノズル(5a)内で生成されることを特徴とする、請求項33~42の何れか一項に記載の清掃デバイス。
- 加熱構造(17)が、前記貯液槽(3)内で出口開口(5)から離間しかつ前記囲まれた体積(8)の反対側に位置するように設けられ、前記加熱構造(17)が、好ましくは薄膜技術を用いて製造され、例えばガラス基板と白金電極などの金属電極とを備える平らな加熱要素(17)であることを特徴とする、請求項33~43の何れか一項に記載の清掃デバイス。
- 加熱要素(17)が、蒸気泡(10)が形成されるように前記加熱要素(17)の正面を流れる清掃液を急速加熱するように実施され、前記蒸気泡(10)の膨張により、前記貫通開口(5)内にある液体の部分が前記被清掃面(6)の方向に加速されて前記閉じた体積(8)に入り、前記蒸気泡(10)が、前記加熱要素(17)によって加熱されたときに、前記加熱要素(17)から分離するまで拡大し、前記被清掃面(6)に向かう方向に液滴(11)とともに移動することを特徴とする、請求項33~44の何れか一項に記載の清掃デバイス。
- トロイダルリングを生成するための前記貫通開口(5)は、前記蒸気泡の正面に噴出される液柱の長さの該液柱の直径に対する比が最大で10、好ましくは最大で4であることを特徴とする、請求項33~45の何れか一項に記載の清掃デバイス。
- 加熱要素(17)がパルス状マイクロキャビティ気化器要素であることを特徴とする、請求項33~46の何れか一項に記載の清掃デバイス。
- 口腔、特に歯、歯間隙、および歯肉を清掃するための、請求項1~47の何れか一項に記載の方法および/またはデバイスの使用。
- 前記少なくとも一つのノズルが、定位置を中心にX方向(歯縦軸)および/またはY方向(歯横軸)および/またはZ方向(前記歯に向かう)に揺動する、請求項1および9に記載の方法の使用。
- 前記少なくとも一つのノズルが歯に沿って案内される、請求項1~10の何れか一項に記載の方法の使用。
- 前記複数のノズルが、少なくとも、一つの歯および隣接する歯肉の高さにわたって延在するように位置決めされる、請求項1~11の何れか一項に記載の方法の使用。
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