JP2023158654A - 偏光板及びこれを含む画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【解決手段】本発明は、基材、偏光子、コーティング型位相差層、及び粘着剤層が順次積層されてなる偏光板であって、下記の［数学式１］を満たす偏光板、及びこれを含む画像表示装置を提供する。［数学式１］・・・６１０≦Ａ／Ｂ≦７３０前記式中、Ａは、偏光板に１０ｍＮの荷重を２０秒間印加したときの、ナノインデンターを利用して測定した弾性復元率（％）であり、Ｂは、偏光板にチップの直径が１ｍｍで重さが５ｇのペン（ｐｅｎ）を５０ｍｍの高さから落下したときの、衝撃試験機を利用して測定した衝撃吸収量（ｇｆ・ｓ）である。【効果】本発明に係る偏光板は、薄膜でありながら耐衝撃性に優れて外部衝撃によっても偏光板のクラックの発生が抑制できると共に切断加工性も良好である。【選択図】図１

Description

本発明は、偏光板及びこれを含む画像表示装置に係り、より詳しくは、薄膜ながらも耐衝撃性に優れて外部衝撃によっても偏光板のクラックの発生が抑制できると共に切断加工性も良好な偏光板及びこれを含む画像表示装置に関する。

有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）パネルは、電極の露出によって太陽光、照明などのような外光を反射させ得るが、その反射された外光によって視認性やコントラスト比が低下して表示品質が劣化することがある。

そこで、大韓民国特許公開第２００９-０１２２１３８号に開示されているように、電源オフの状態で表面の外光反射を遮断しブラック視感をもつために、線偏光子とλ／４位相差層とを組み合わせた円偏光板を反射防止用偏光板としてＯＬＥＤパネルの視認側に貼り付けて使用することができる。

一方、近年、画像表示装置の薄型化についての関心が高まっており、それに伴い、関連部品、例えば、偏光板の薄型化が要求されている。偏光板の薄型化方法としては、例えば、偏光子自体や偏光子の保護フィルムを薄くする方法、偏光子とＯＬＥＤパネルとの間に配設される保護フィルムを無くす方法、位相差層に液晶化合物を使用する方法などが挙げられる。しかし、これらの場合、外部衝撃によって偏光板にクラックが発生しやすい問題点があった。

さらに、偏光板は、製造や適用の際に必要に応じて切断が容易となるように切断加工性が良好である必要がある。

本発明の一目的は、薄膜ながらも耐衝撃性に優れて外部衝撃によっても偏光板のクラックの発生が抑制できると共に切断加工性も良好な偏光板を提供することである。

本発明の他の目的は、前記偏光板を含む画像表示装置を提供することである。

一方で、本発明は、基材、偏光子、コーティング型位相差層、及び粘着剤層が順次積層されてなる偏光板であって、下記の数学式１を満たす偏光板を提供する。
［数学式１］
６１０≦Ａ／Ｂ≦７３０
前記式中、
Ａは、偏光板に１０ｍＮの荷重を２０秒間印加したときの、ナノインデンターを利用して測定した弾性復元率（％）であり、
Ｂは、偏光板にチップの直径が１ｍｍで重さが５ｇのペン（ｐｅｎ）を５０ｍｍの高さから落下したときの、衝撃試験機を利用して測定した衝撃吸収量（ｇｆ・ｓ）である。

本発明の一実施形態において、前記基材は、アクリル系基材であり、厚さが１５～２５μｍであってよい。

本発明の一実施形態において、前記基材のマルテンス硬さは、１０ｍＮの荷重を印加してナノインデンターを利用して測定したとき、１６０～２５０ＭＰａであってよい。

本発明の一実施形態において、前記コーティング型位相差層は、λ／４位相差層を含んでよい。

本発明の一実施形態において、前記コーティング型位相差層は、λ／４位相差層であるか、視認側からλ／２位相差層とλ／４位相差層とが順次積層されてなる位相差層であるか、又は視認側からλ／４位相差層と正のＣプレート層とが順次積層されてなるものであってよい。

本発明の一実施形態において、前記粘着剤層は、熱硬化型アクリル系粘着剤組成物から形成され、厚さが２０～１００μｍであってよい。

本発明の一実施形態において、前記粘着剤層の貯蔵弾性率（Ｇ’）は、２５℃で０．０７０ＭＰａ以下であってよい。

本発明の一実施形態において、前記偏光板のマルテンス硬さは、１０ｍＮの荷重を印加してナノインデンターを利用して測定したとき、３０～３７ＭＰａであってよい。

本発明の一実施形態に係る偏光板は、フレキシブル用であってよい。

他の一方で、本発明は、前記偏光板を含む画像表示装置を提供する。

本発明に係る偏光板は、薄膜ながらも耐衝撃性に優れて外部衝撃によっても偏光板のクラックの発生が抑制できると共に切断加工性も良好である。

本発明の一実施形態に係る偏光板の概略的な断面図である。 本発明の一実施形態に係る画像表示装置の概略的な断面図である。

以下、本発明をより詳しく説明する。

本発明は、基材、偏光子、コーティング型位相差層、及び粘着剤層が順次積層されてなる偏光板であって、下記の数学式１を満たす偏光板に関する。
［数学式１］
６１０≦Ａ／Ｂ≦７３０
前記式中、
Ａは、偏光板に１０ｍＮの荷重を２０秒間印加したときの、ナノインデンターを利用して測定した弾性復元率（％）であり、
Ｂは、偏光板にチップの直径が１ｍｍで重さが５ｇのペン（ｐｅｎ）を５０ｍｍの高さから落下したときの、衝撃試験機を利用して測定した衝撃吸収量（ｇｆ・ｓ）である。
ナノインデンター（ｎａｎｏ ｉｎｄｅｎｔｅｒ）は、素材の表面に一定の荷重を印加し除荷する過程において得られる押し込み荷重－変位曲線（ｌｏａｄ－ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ ｃｕｒｖｅ）を解析して硬度、弾性復元率などの機械的特性を測定する機器である。

前記弾性復元率（％）は、１０ｍＮの荷重を２０秒間印加してナノインデンターで測定した値（ｎＩＴ、Ｅｌａｓｔｉｃ ｗｏｒｋ ｒａｔｉｏ）である。

前記衝撃吸収量（ｇｆ・ｓ）は、衝撃試験機を利用して測定した値であって、衝撃時に下部に伝わる力（ｇｆ）と接触時間（ｓ）とを掛け合わせた値である。

本発明において、Ａ／Ｂ値が６１０未満であると、外部衝撃による損傷に脆弱になることがあり、またＡ／Ｂ値が７３０を超えると、切断加工が難しくなることがある。

図１は、本発明の一実施形態に係る偏光板の構造断面図である。

図１を参照すると、本発明の一実施形態に係る偏光板１００は、順次積層された基材１１０、偏光子１２０、コーティング型位相差層１３０、及び粘着剤層１４０を含む。このとき、前記基材１１０が視認側に位置する。

本発明の一実施形態において、前記基材１１０は、偏光子１２０、コーティング型位相差層１３０、及び粘着剤層１４０の支持層の役割をする層である。
本発明の一実施形態において、前記基材は、上述したＡ／Ｂ値を満たすためにアクリル系基材を使用することが好ましい。

前記アクリル系基材は、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリエチル（メタ）アクリレートなどのアクリル系樹脂で形成されてよい。

本発明の一実施形態において、前記基材の厚さは、１５～２５μｍであってよい。前記基材の厚さが１５μｍ未満であると、耐衝撃性が低下することがあり、また２５μｍを超えると、耐屈曲性が悪くなることがある。

前記基材のマルテンス硬さは、１０ｍＮの荷重を印加してナノインデンターを利用して測定したとき、１６０～２５０ＭＰａであってよい。前記基材のマルテンス硬さが１６０ＭＰａ未満であると、耐衝撃性が低下することがあり、また２５０ＭＰａを超えると、耐屈曲性が悪くなることがある。

本発明の一実施形態において、前記偏光子１２０は、親水性高分子フィルムをヨウ素又は二色性染料で染色し配向させて製造され、親水性高分子フィルムとしては、ポリビニルアルコール系フィルム、部分的にケン化されたポリビニルアルコール系フィルムなどが使用される。

ポリビニルアルコール系フィルムは、重合度が通常５００～１０,０００であり、好ましくは１,０００～６,０００であり、より好ましくは１,４００～４,０００であるものが使用されてよく、ケン化されたポリビニルアルコール系フィルムの場合、ケン化度は、溶解性の側面から、好ましくは９５．０モル％以上であるもの、より好ましくは９９．０モル％以上であるもの、さらに好ましくは９９．９モル％以上のものが使用されてよい。

親水性高分子フィルムとしては、ポリビニルアルコール系フィルムの他にも、ヨウ素又は二色性染料にて染色され得るフィルムであればその種類が特に制限されるものではない。例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、エチレン－酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン－ビニルアルコール共重合体フィルム、セルロースフィルム、及びこれらの部分的にケン化されたフィルムなどのような親水性高分子フィルムと、脱水処理されたポリビニルアルコール系フィルム、及び脱塩酸処理されたポリ塩化ビニルなどのようなポリエン配向フィルムが使用されてよい。

前記偏光子１２０の厚さは、特に制限されないが、例えば、２～４０μｍの範囲であり、好ましくは２～３０μｍの範囲であり、より好ましくは５～１０μｍの範囲である。前記偏光子１２０の厚さが前記範囲であると、偏光板の薄膜化が可能であり且つ乾燥／調湿環境下における偏光子の収縮／膨張による収縮力を低減することができてカール（ｃｕｒｌ）発生の最小化が可能になる。

前記偏光子１２０は、接着剤層（図示せず）を介して基材１１０と貼り合わされてよい。

前記基材１１０の偏光子と貼り合わされる面には、易貼り合わせ処理を施してよい。易貼り合わせ処理としては、プライマー処理、プラズマ処理、コロナ処理などのドライ処理、アルカリ処理（せっけん化処理）などの化学処理、容易な接着剤層を形成するコーティング処理などが挙げられる。

前記接着剤としては、任意の適切な接着剤が使用されてよく、透明性、熱安定性、低複屈折性などに優れた材料が好ましい。具体的な例は、水系接着剤、熱可塑性接着剤、ホットメルト（ｈｏｔ－ｍｅｌｔ）接着剤、ゴム系接着剤、熱硬化性接着剤、モノマー反応型接着剤、無機接着剤、及び天然接着剤を含む。好適な例は、優れた光学的透明性、耐候性、及び耐熱性の観点から、脂肪族イソシアネートを主成分として含有するモノマー反応型接着剤「Ｔａｋｅｎａｔｅ ６３１」（商品名、三井武田ケミカル社製）；及びアセトアセチル基を有する変性ポリビニルアルコールを主成分として含有する水系接着剤「ＧＯＨＳＥＦＩＭＥＲ Ｚシリーズ」（商品名、日本合成化学工業株式会社製）を含む。

接着剤層の厚さは、接着剤の役割をする樹脂の種類、接着強度、接着剤が利用される環境などに応じて適宜決められてもよい。接着剤層は、好ましくは０．０１μｍ～５０μｍ、より好ましくは０．０５μｍ～２０μｍ、さらに好ましくは０．１μｍ～１０μｍの厚さを有する。

貼合方法は、当該分野における通常の方法を用いてよく、例えば、流延法、メイヤーバーコーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法などを用いて偏光子又は基材の貼合面に接着剤組成物を塗布した後にこれらを貼り合わせる方法が挙げられる。流延法は、偏光子又は基材を略垂直方向、水平方向又はこの両方向の間の斜め方向に移動させながら貼合面に接着剤組成物を流下して塗布する方法である。接着剤組成物を塗布した後に偏光子又は基材をニップロールなどで挟んで貼り合わせる。

貼合後は乾燥処理が行われてよい。前記貼合後の乾燥処理は、例えば、熱風を吹き付けることで行われてよい。

乾燥後は、常温又はそれより若干高い温度、例えば、２０～５０℃の温度で１２～６００時間程度養生させることが好ましい。

本発明の一実施形態において、偏光子１２０とコーティング型位相差層１３０とは粘着剤層（図示せず）によって貼り合わされてよい。

前記偏光子１２０とコーティング型位相差層１３０との間の粘着剤層は、耐衝撃性及び切断加工性の面から、好ましくは、熱硬化型アクリル系粘着剤組成物から形成されてよい。

前記偏光子１２０とコーティング型位相差層１３０との間の粘着剤層は、厚さが２～１０μｍであってよい。前記偏光子１２０とコーティング型位相差層１３０との間の粘着剤層の厚さが２μｍ未満であると、粘着力が低下することがあり、また１０μｍを超えると、耐屈曲性が低下することがある。

本発明の一実施形態において、前記コーティング型位相差層１３０は、λ／４位相差層を含んでよい。

λ／４位相差層は、入射された線偏光を楕円偏光又は円偏光に変換させ、逆に入射された楕円偏光又は円偏光を線偏光に変換させることができる。これにより、λ／４位相差層をＯＬＥＤパネルに適用して外光の反射を防止することができるため、電源オフの状態でブラック視感を具現することができる。

前記λ／４位相差層は、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値Ｒｅが１２０ｎｍ～１７０ｎｍであってよい。

前記λ／４位相差層は、厚さ方向位相差値Ｒｔｈが－１５０ｎｍ～１５０ｎｍ、好ましくは－１００ｎｍ～１００ｎｍであってよい。

前記λ／４位相差層の厚さは、０．５～１０μｍ、好ましくは０．５～５μｍであってよい。前記λ／４位相差層の厚さが前記範囲であるとき、反射防止性能の改善と共に薄型化が可能である。

前記位相差層１３０は、単層構造であるか又は２つ以上の層が積層された多層構造を有してよい。前記位相差層が単層構造である場合、前記位相差層は、λ／４位相差層からなるものであってよい。前記位相差層が多層構造を有する場合、前記位相差層は、λ／４位相差層を必須として含み、λ／２位相差層と正のＣプレート層の一方以上を更に含んでよい。このとき、各層は、粘着剤層（図示せず）を介して貼り合わされていてよい。

前記粘着剤層は、耐衝撃性及び切断加工性の面から、好ましくは、ＵＶ硬化型エポキシ系接着剤又はＵＶ硬化型アクリル系粘着剤組成物から形成されてよい。

前記粘着剤層は、厚さが２～１０μｍであってよい。前記粘着剤層の厚さが２μｍ未満であると、粘着力が低下することがあり、また１０μｍを超えると、耐屈曲性が低下することがある。

前記λ／２位相差層と正のＣプレート層は、反射色相のブラック視感を改善するために使用されてよい。

例えば、前記コーティング型位相差層は、視認側からλ／２位相差層とλ／４位相差層とが順次積層された構造を有するか、又は視認側からλ／４位相差層と正のＣプレート層とが順次積層された構造を有してよい。

前記λ／２位相差層は、入射光の電界振動方向（偏光面）にπ（＝λ／２）の位相差を付与するものであって、反射色相のブラック視感を改善するために使用されてよい。

前記λ／２位相差層は、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値Ｒｅが２１０ｎｍ～３００ｎｍ、好ましくは２２０ｎｍ～２９０ｎｍであってよい。

前記λ／２位相差層は、厚さ方向の位相差値Ｒｔｈが－１５０ｎｍ～１５０ｎｍ、好ましくは－１００ｎｍ～１００ｎｍであってよい。

前記λ／２位相差層の厚さは、０．５～１０μｍ、好ましくは０．５～５μｍであってよい。前記λ／２位相差層の厚さが前記範囲であるとき、反射防止性能の改善と共に薄型化が可能である。

前記正のＣプレート層は、理想的には屈折率比Ｎｚが負の無限大である場合であるが、実質的に－６以下の場合を含む。それにより、前記正のＣプレート層は、厚さ方向位相差値Ｒｔｈが－１９０～－１０ｎｍであってよい。厚さ方向位相差値が－１９０ｎｍ未満又は－１０ｎｍを超えると、反射色感の改善効果が僅かなものになることがある。また、正面位相差値Ｒｏは、理想的には０ｎｍでなければならないが、実質的に０ｎｍと見なされる範囲まで本発明に含まれる。例えば、正面位相差値Ｒｏは－１～１ｎｍであってよい。

前記正のＣプレート層の厚さは、０．５～２０μｍ、好ましくは０．５～５μｍであってよい。前記正のＣプレート層の厚さが前記範囲であるとき、反射防止性能の改善と共に薄型化が可能である。

前記λ／４位相差層、λ／２位相差層、及び正のＣプレート層は、それぞれ逆波長、正波長又はフラット波長分散性のものであってよい。

前記逆波長分散性は、波長４５０ｎｍ～６５０ｎｍにおいて波長が増加するほど面内位相差が増加することを意味する。

前記正波長分散性は、波長４５０ｎｍ～６５０ｎｍにおいて波長が増加するほど面内位相差が減少することを意味する。

前記フラット波長分散性は、波長４５０ｎｍ～６５０ｎｍにおいて波長が増加するほど面内位相差が実質的に増加又は減少しないことを意味する。

前記コーティング型位相差層１３０の厚さは、０．５～４０μｍであってよく、好ましくは１．５～１５μｍであってよく、より好ましくは１．５～１０μｍであってよい。前記厚さの和が０．５μｍ未満であると、位相差値を十分に発現させることができないか外部衝撃によるクラック発生の恐れがあり、一方、４０μｍを超えると、偏光板全体の薄膜化が制限されることがある。

前記コーティング型位相差層１３０は液晶化合物を含む。

例えば、前記液晶化合物は、光学異方性を有し、光や熱による反応性を有する液晶化合物であってよい。

前記液晶化合物の種類は、特に制限されないが、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物）とに分類することができる。さらに、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。本発明では、いずれの液晶化合物を利用してもよい。２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、又は棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を利用してもよい。

特に、前記液晶化合物は、光学特性の温度変化及び／又は湿度変化を小さくできるという点から、重合性基を有する液晶化合物（棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物）を利用して形成することがより好ましい。液晶化合物は、２種類以上の混合物であってもよく、その場合、少なくとも１種類が２以上の重合性基を有していることが好ましい。

すなわち、前記コーティング型位相差層１３０は、重合性基を有する棒状液晶化合物又は重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。

棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物に含まれる重合性基の種類は、特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基又は環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、及びアリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。前記（メタ）アクリロイル基とは、メタクリロイル基及びアクリロイル基の両方を含む概念である。

前記コーティング型位相差層１３０は、前記液晶化合物を含む位相差層形成用組成物から形成されてよい。

前記位相差層形成用組成物は、上述した液晶化合物以外の成分が含まれていてもよい。

例えば、組成物には重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤及び光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤としては、α－カルボニル化合物、アシロインエーテル、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、及びトリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンの組み合わせなどが挙げられる。

重合開始剤の使用量は、組成物の全固形分に対して、０．０１～２０重量％であることが好ましく、０．５～５重量％であることがより好ましい。

また、組成物には、塗工膜の均一性及び膜の強度の面から、重合性モノマーが含まれてよい。

重合性モノマーとしては、ラジカル重合性又はカチオン重合性の化合物が挙げられ、好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーが挙げられる。また、重合性モノマーとしては、前記重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。

重合性モノマーの使用量は、液晶化合物の全重量に対して、１～５０重量％であることが好ましく、２～３０重量％であることがより好ましい。

さらに、前記組成物には、塗工膜の均一性及び膜の強度の面から、界面活性剤が含まれてよい。

界面活性剤としては、公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。

また、前記組成物には、溶媒が含まれてよく、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒としては、例えば、アミド（例、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン）が挙げられる。それらの中でも、アルキルハライド及びケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

前記コーティング型位相差層１３０は、前記位相差層形成用組成物を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）又は加熱処理）を施すことで形成されてよい。

前記組成物の塗布は、公知の方法、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押出コーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、及びダイコーティング法により施してよい。

本発明の一実施形態において、前記コーティング型位相差層１３０の視認側とは反対側の面に位置した粘着剤層１４０は、偏光板１００をＯＬＥＤパネル１０に貼り付ける役割をする。または、前記粘着剤層１４０は、偏光板１００をタッチパネル（図示せず）に貼り付ける役割をしてもよい。

前記粘着剤層１４０は、熱硬化型アクリル系粘着剤組成物から形成されてよい。

前記熱硬化型アクリル系粘着剤組成物は、架橋可能な官能基を有する（メタ）アクリル共重合体及び架橋剤を含んでよい。

前記架橋可能な官能基を有する（メタ）アクリル共重合体は、粘着剤組成物の粘性に対する弾性のバランスを調節する役割をする成分であって、炭素数１～１４のアルキル基を有する（メタ）アクリルモノマー及び架橋可能な官能基を有するモノマーの共重合体であってよい。ここで、（メタ）アクリルは、アクリル及び／又はメタクリルを意味する。
前記炭素数１～１４のアルキル基を有する（メタ）アクリルモノマーの具体的な例としては、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、２－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ｎ－トリデシル（メタ）アクリレート、ｎ－テトラデシル（メタ）アクリレートなどが挙げられ、これらの中でもｎ-ブチルアクリレートが上述したＡ／Ｂ値の調節の面から好ましい。これらは、単独で又は２種以上混合して使用してよい。

前記炭素数１～１４のアルキル基を有する（メタ）アクリルモノマーは、モノマー全体１００重量％に対して、８０～９９重量％の量で含まれることが好ましい。含量が８０重量％未満であると、粘着力が不十分になることがあり、また９９重量％を超えると、凝集力が低下することがある。

前記架橋可能な官能基を有するモノマーは、化学結合によって粘着剤組成物の凝集力又は粘着強度を補強して耐久性や切断性を付与するための成分であって、例えば、カルボキシ基を有するモノマー、ヒドロキシ基を有するモノマー、アミド基を有するモノマー、３級アミン基を有するモノマーなどであってよく、これらの中でもカルボキシ基を有するモノマー及びヒドロキシ基を有するモノマーの混合物が上述したＡ／Ｂ値の調節の面から好ましい。これらは、単独で又は２種以上組み合わせて使用してよい。

前記カルボキシ基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、２－カルボキシエチルアクリレートなどの１価の酸；マレイン酸、イタコン酸、フマル酸などの２価の酸、及びこれらのモノアルキルエステル；３－（メタ）アクリロイルプロピオン酸；アルキル基の炭素数が２～３である２－ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの無水コハク酸開環付加体；アルキレン基の炭素数が２～４であるヒドロキシアルキレングリコール（メタ）アクリレートの無水コハク酸開環付加体；アルキル基の炭素数が２～３である２－ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのカプロラクトン付加体に無水コハク酸を開環付加させた化合物などが挙げられ、これらの中でも（メタ）アクリル酸が上述したＡ／Ｂ値の調節の面から好ましい。

前記ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６－ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、アルキレン基の炭素数が２～４であるヒドロキシアルキレングリコール（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、５－ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６－ヒドロキシヘキシルビニルエーテル、７－ヒドロキシヘプチルビニルエーテル、８－ヒドロキシオクチルビニルエーテル、９－ヒドロキシノニルビニルエーテル、１０－ヒドロキシデシルビニルエーテルなどが挙げられ、これらの中でも２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートが上述したＡ／Ｂ値の調節の面から好ましい。

前記アミド基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピルアクリルアミド、Ｎ－３級ブチルアクリルアミドなどが挙げられる。

前記３級アミン基を有するモノマーとしては、Ｎ，Ｎ－（ジメチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ－（ジエチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ－（ジメチルアミノ）プロピル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

前記架橋可能な官能基を有するモノマーは、モノマー全体１００重量％に対して、０．０５～１５重量％の量で含まれてよい。前記架橋可能な官能基を有するモノマーの含量が０．０５重量％未満であると、粘着剤の凝集力が小さくなって剥離力が増加することがあり、また１５重量％を超えると、高いゲル分率によって粘着力が低下し耐久性が低下することがある。

前記架橋可能な官能基を有する（メタ）アクリル共重合体は、前記モノマーに加え、他の重合性モノマーを粘着力、耐久性及び密着力などの物性を損なわない範囲、例えば、モノマーの総量に対して１０重量％以下の量で更に含んでよい。

前記（メタ）アクリル共重合体の製造方法は特に限定されず、当該分野において通常用いられる塊状重合、溶液重合、乳化重合、又は懸濁重合などの方法を用いてよく、溶液重合が好ましい。また、重合の際に、通常使用される溶媒、重合開始剤、分子量の制御のための連鎖移動剤などを使用してよい。

前記（メタ）アクリル共重合体は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ｇｅｌ ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ、ＧＰＣ）によって測定された重量平均分子量（ポリスチレン換算、Ｍｗ）が、通常５万～２００万であり、好ましくは３０万～１３０万である。重量平均分子量が５万未満であると、共重合体間の凝集力が不足して粘着耐久性に不具合を生じさせることがあり、また２００万を超えると、塗工の際に工程性を確保するために多量の希釈溶媒を必要とすることがある。

前記架橋剤は、密着性及び耐久性を向上させることができ、且つ高温での信頼性及び粘着剤の形状を保持させることができる成分である。具体的に、前記架橋剤としては、イソシアネート系、エポキシ系、過酸化物系、金属キレート系、オキサゾリン系などが使用されてよく、１種又は２種以上を混合して使用してよい。これらの中でイソシアネート系が上述したＡ／Ｂ値の調節の面から好ましい。

具体的に、前記架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、２,４－ジフェニルメタンジイソシアネート、４,４－ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートなどのジイソシアネート化合物；トリメチロールプロパンなどの多価のアルコール系化合物１モルにジイソシアネート化合物３モルを反応させた付加体、ジイソシアネート化合物３モルを自己縮合させたイソシアヌレート体、ジイソシアネート化合物３モルのうちの２モルから得られるジイソシアネートウレアに残りの１モルのジイソシアネートが縮合したビウレット体、トリフェニルメタントリイソシアネート、メチレンビストリイソシアネートなどの３個の官能基を含む多官能イソシアネート化合物などを使用してよく、３個の官能基を含む多官能イソシアネート化合物、特にジイソシアネート化合物３モルを自己縮合させたイソシアヌレート体が上述したＡ／Ｂ値の調節の面から好ましい。これらは単独で又は２種以上を混合して使用してよい。

前記架橋剤は、前記架橋可能な官能基を有する（メタ）アクリル共重合体１００重量部に対して０．１～０．５重量部、好ましくは０．３～０．５重量部の量で含まれてよい。前記架橋剤の含量が０．１重量部未満であると、粘着力又は凝集力が低下することがあり、また０．５重量部を超えると、粘着剤の貯蔵弾性率の増加で上述したＡ／Ｂ値の範囲を外れることがある。

前記熱硬化型アクリル系粘着剤組成物は、前記のような成分に加え、用途に応じて求められる粘着力、凝集力、粘性、弾性率、ガラス転移温度などを調節するために、可塑剤、シランカップリング剤、粘着性付与樹脂、酸化防止剤、腐食防止剤、レベリング剤、表面滑剤、染料、顔料、消泡剤、充填剤、光安定剤などの添加剤を更に含んでよい。

前記粘着剤層は、１枚の基材フィルム上に上述した熱硬化型アクリル系粘着剤組成物を塗工する方法で形成してよい。塗工方法は、当該分野において公知の方法であれば特に限定されず、例えば、バーコーター、エアナイフ、グラビア、リバースロール、キスロール、スプレー、ブレード、ダイコーター、キャスティング、スピンコーティングなどの方法を用いてよい。具体的に、粘着剤層は、１枚の基材フィルム上に熱硬化型アクリル系粘着剤組成物を塗布し、３０～１５０℃で１秒～２時間、好ましくは５秒～１時間乾燥し硬化させて形成してよい。

前記基材フィルムは、ポリオレフィン系フィルム、ポリエステル系フィルム、アクリル系フィルム、スチレン系フィルム、アミド系フィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリカーボネートフィルムなどが挙げられ、これらは、シリコン系、フッ素系、シリカ粉末などによって適宜離型処理されたものであってよい。

前記粘着剤層１４０は、厚さが２０～１００μｍであってよい。前記粘着剤層１４０の厚さが２０μｍ未満であると、耐衝撃性が低下することがあり、また１００μｍを超えると、切断加工が困難になることがある。

前記粘着剤層１４０の貯蔵弾性率（Ｇ’）は、２５℃で０．０７０ＭＰａ以下であってよい。前記粘着剤層１４０の２５℃での貯蔵弾性率（Ｇ’）が０．０７０ＭＰａを超えると、耐衝撃性や耐屈曲性が悪くなることがある。

本発明の一実施形態において、前記偏光板のマルテンス硬さは、１０ｍＮの荷重を印加してナノインデンターを利用して測定したとき、３０～３７ＭＰａ、好ましくは３５～３７ＭＰａであってよい。前記偏光板のマルテンス硬さが３０ＭＰａ未満であると、耐衝撃性が低下することがあり、また３７ＭＰａを超えると、耐屈曲性が悪くなることがある。

本発明に係る偏光板は、前記基材１１０及び粘着剤層１４０の種類及び厚さを制御して前記の数学式１を満たすことで、偏光板を薄型化しながらも耐衝撃性を向上させることができるのみならず切断加工性も良好になる。

特に、本発明の一実施形態に係る偏光板は、フレキシブルディスプレイに有利に適用されてよく、反射防止用として使用されてよい。

本発明の一実施形態に係る偏光板は、前記基材１１０の視認側の面に剥離可能な保護フィルム（図示せず）が積層されてよい。

前記剥離可能な保護フィルムは、基材フィルム、及び前記基材フィルムの一方の面に形成された粘着剤層を含む。

前記保護フィルムの基材フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム；又はポリプロピレンやポリエチレンなどのポリオレフィンフィルムなどが挙げられる。前記粘着剤層の材料としては、前記で例示した粘着剤を使用してよい。

前記保護フィルムの厚さは、１０～１５０μｍ、好ましくは２５～１３０μｍであってよい。前記保護フィルムの厚さが１０μｍ未満であると、保護フィルムの剥離が容易にならないことがあり、また１５０μｍを超えると、保護層を備えた偏光子との密着性が低下することがある。

また、本発明の一実施形態に係る偏光板は、前記粘着剤層１４０の視認側とは反対側の面に剥離フィルムが更に積層されてよい。

前記剥離フィルムは、偏光板をＯＬＥＤパネル又はタッチパネルに貼り付ける際に除去される。

前記剥離フィルムの基材としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム；又はポリプロピレンやポリエチレンなどのポリオレフィンフィルムなどが挙げられる。

前記剥離フィルムの基材は、粘着剤層１４０と接する表面が離型処理されてよい。前記離型処理は、シリコン系離型剤、フッ素系離型剤、長鎖アルキルグラフトポリマー系離型剤などの離型剤やプラズマ処理によって表面処理する方法などを用いてよい。

前記剥離フィルムの厚さは、１０～１５０μｍ、好ましくは２５～１３０μｍであってよい。前記剥離フィルムの厚さが１０μｍ未満であると、剥離フィルムの剥離が容易にならないことがあり、また１５０μｍを超えると、前記粘着剤層１４０との密着性が低下することがある。

本発明の一実施形態に係る偏光板の全体厚さは、２００μｍ以下、例えば、２０～１５０μｍ、好ましくは２５～１００μｍ、より好ましくは３０～９０μｍであってよい。このとき、偏光板の全体厚さは、剥離可能な保護フィルムと剥離フィルムの厚さを除いた厚さである。

本発明の一実施形態は、前記偏光板１００を含む画像表示装置に関する。

図２を参照すると、本発明の一実施形態に係る画像表示装置は、前記偏光板１００；及び前記偏光板１００の視認側とは反対側の面に積層されたＯＬＥＤパネル１０を含む。

また、本発明の一実施形態に係る画像表示装置は、図２に示すように、前記偏光板１００の視認側の面に透明接着剤層２０を介して貼り付けられているカバーウィンドウ３０を含んでよい。

前記透明接着剤層２０は、例えば、光学透明粘着剤（ｏｐｔｉｃａｌｌｙ ｃｌｅａｒ ａｄｈｅｓｉｖｅ、ＯＣＡ）、光学透明レジン（ｏｐｔｉｃａｌｌｙ ｃｌｅａｒ ｒｅｓｉｎ、ＯＣＲ）などのような粘接着剤を含んでよい。

前記カバーウィンドウ３０は、外部衝撃に対する耐久性と、ユーザが視認し得る透明性をもつ材質であってよい。例えば、前記カバーウィンドウ３０は、ガラス又は柔軟性をもつ高分子フィルムであってよい。前記ガラスは、フレキシブル特性が具現されたガラス素材を含んでもよい。例えば、前記柔軟性をもつ高分子フィルムは、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ、ＰＩ）、ポリアミドイミド（ｐｏｌｙａｍｉｄｅｉｍｉｄｅ）、ポリエーテルスルホン（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｐｈｏｎｅ、ＰＥＳ）、ポリアクリレート（ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ、ＰＡＲ）、ポリエーテルイミド（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ、ＰＥＩ）、ポリエチレンナフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｎａｐｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、ポリフェニレンスルフィド（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅ ｓｕｌｆｉｄｅ、ＰＰＳ）、ポリアリレート（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）、ポリカーボネート（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ、ＰＣ）、セルローストリアセテート（ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ ｔｒｉａｃｅｔａｔｅ、ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ ａｃｅｔａｔｅ ｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ、ＣＡＰ）などを含んでよい。前記柔軟性をもつ高分子フィルムは、少なくとも一方の面上にハードコーティング層が形成されたものであってよい。前記ハードコーティング層は、当該技術分野において周知のハードコーティング組成物を用いて形成されてよい。

本発明の一実施形態に係る画像表示装置は、有機ＥＬ表示装置であってよく、通常のフラットパネルディスプレイ、フレキシブルディスプレイ又は折り畳み式ディスプレイの形態であってよい。

以下、実施例及び実験例によって本発明をより具体的に説明することにする。なお、これらの実施例及び実験例は、単に本発明を説明するためのものに過ぎず、本発明の範囲がこれらに限定されるものではないことは当業者にとって自明である。

製造例１：偏光子の製造
平均重合度約２,４００、加水分解度９９．９モル％以上の厚さ３０μｍのポリビニルアルコール樹脂フィルム（Ｋｕｒａｒａｙ社製）を蒸留水に浸漬させて膨潤させてから、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水を重量比１０／５／１００で混合した水溶液に５３℃で１分間浸漬しながら約５倍に一軸延伸した。しかる後、１５℃の純水で１．５秒間洗浄してから、５０℃で５分間乾燥させて、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向された厚さ８μｍの偏光子を製造した。

合成例１：アクリル系共重合体の合成
４ネックジャケット（４－ｎｅｃｋ ｊａｃｋｅｔ）反応器（１Ｌ）に攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロート、及び窒素ガス導入管を装着し、反応器に窒素ガスを投入して置換させてから、エチルアセテート１２０重量部、ｎ－ブチルアクリレート（ｎ－ＢＡ）９８．１重量部、アクリル酸（ＡＡ）０．５重量部、２－ヒドロキシエチルアクリレート（２－ＨＥＡ）１．４重量部を投入し、反応器の外部温度を５０℃に昇温した。次いで、反応器にエチルアセテート１０重量部に２,２’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．１重量部を完全に溶解した溶液を滴下した。ジャケットの外部温度を５０℃に保ちながら更に５時間反応させてから、エチルアセテート９０重量部を１時間に亘って滴下ロートを利用してゆっくり滴下した。次いで、ジャケットの外部温度を５０℃に保ちながら更に５時間反応させて、重量平均分子量が約１,０００,０００であるアクリル系共重合体を収得した。

製造例２：熱硬化型アクリル系粘着シート（Ａ－１）の製造
前記合成例１で製造されたアクリル系共重合体１００重量部、架橋剤として３官能イソシアネート化合物（トリグリシジルイソシアヌレート、Ｉ０４２８、ＴＣＩ社製）０．５重量部、シランカップリング剤として３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ－４０３）０．１５重量部をエチルアセテート溶媒に溶解させて、固形分の含量が４０重量％である粘着剤組成物を製造した。

製造された粘着剤組成物を、アプリケーターを利用して離型剤がコートされたＰＥＴフィルム上に乾燥後の厚さが５０μｍになるように塗布し、１００℃オーブンの強制循環式熱風乾燥機で２０分間乾燥して、粘着シートを製造した。

製造例３：熱硬化型アクリル系粘着シート（Ａ－２）の製造
前記合成例１で製造されたアクリル系共重合体１００重量部、架橋剤として３官能イソシアネート化合物（トリグリシジルイソシアヌレート、Ｉ０４２８、ＴＣＩ社製）０．６重量部、シランカップリング剤として３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ－４０３）０．１５重量部をエチルアセテート溶媒に溶解させて、固形分の含量が４０重量％である粘着剤組成物を製造した。

製造された粘着剤組成物を、アプリケーターを利用して離型剤がコートされたＰＥＴフィルム上に乾燥後の厚さが５０μｍになるように塗布し、１００℃オーブンの強制循環式熱風乾燥機で２０分間乾燥して、粘着シートを製造した。

製造例４：熱硬化型アクリル系粘着シート（Ａ－３）の製造
前記合成例１で製造されたアクリル系共重合体１００重量部、架橋剤として３官能イソシアネート化合物（トリグリシジルイソシアヌレート、Ｉ０４２８、ＴＣＩ社製）０．４重量部、シランカップリング剤として３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ－４０３）０．１５重量部をエチルアセテート溶媒に溶解させて、固形分の含量が４０重量％である粘着剤組成物を製造した。

製造された粘着剤組成物を、アプリケーターを利用して離型剤がコートされたＰＥＴフィルム上に乾燥後の厚さが５０μｍになるように塗布し、１００℃オーブンの強制循環式熱風乾燥機で２０分間乾燥して、粘着シートを製造した。

製造例５：熱硬化型アクリル系粘着シート（Ａ－４）の製造
前記合成例１で製造されたアクリル系共重合体１００重量部、架橋剤として３官能イソシアネート化合物（トリグリシジルイソシアヌレート、Ｉ０４２８、ＴＣＩ社製）０．４重量部、シランカップリング剤として３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ－４０３）０．１５重量部をエチルアセテート溶媒に溶解させて、固形分の含量が４０重量％である粘着剤組成物を製造した。

製造された粘着剤組成物を、アプリケーターを利用して離型剤がコートされたＰＥＴフィルム上に乾燥後の厚さが２５μｍになるように塗布し、１００℃オーブンの強制循環式熱風乾燥機で１０分間乾燥して、粘着シートを製造した。

実施例１：偏光板の製作
下記方法に従い図１の実施形態と同じ構造で偏光板を製作した。
製造例１で製造した偏光子の視認側の面に、水系接着剤を利用して基材として厚さ２０μｍのアクリルフィルムを貼り合わせた。このとき、前記水系接着剤としては、熱硬化性水系ＰＶＡ接着剤を使用した。前記水系接着剤は６０℃オーブンで５分間乾燥して硬化させた。次いで、前記基材を備えた偏光子に、第１位相差層として厚さ２．０μｍのλ／２位相差層（ディスコティック液晶層）を厚さ５μｍの熱硬化型アクリル系粘着剤（Ｌｉｎｔｅｃ社製）を使用して貼り合わせ、第２位相差層として厚さ１．０μｍのλ／４位相差層（ネマチック液晶層）を厚さ２μｍのＵＶ硬化型エポキシ系接着剤（ダイキン社製、ＵＶ－１１００）を使用して貼り合わせた。前記λ／４位相差層の視認側とは反対側の面に粘着剤層１４０を貼り合わせた。このとき、前記粘着剤層１４０は、前記製造例２の熱硬化型アクリル系粘着シート（Ａ－１）をλ／４位相差層の視認側とは反対側の面に貼り合わせてからＰＥＴフィルムを剥離して形成した。

実施例２：偏光板の製作
下記方法に従い図１の実施形態と同じ構造で偏光板を製作した。

製造例１で製造した偏光子の視認側の面に、水系接着剤を利用して基材として厚さ１８μｍのアクリルフィルムを貼り合わせた。このとき、前記水系接着剤としては、熱硬化性水系ＰＶＡ接着剤を使用した。前記水系接着剤は６０℃オーブンで５分間乾燥して硬化させた。次いで、前記基材を備えた偏光子に、第１位相差層として厚さ２．０μｍのλ／２位相差層（ディスコティック液晶層）を厚さ５μｍの熱硬化型アクリル系粘着剤（Ｌｉｎｔｅｃ社製）を使用して貼り合わせ、第２位相差層として厚さ１．０μｍのλ／４位相差層（ネマチック液晶層）を厚さ２μｍのＵＶ硬化型エポキシ系接着剤（ダイキン社製、ＵＶ－１１００）を使用して貼り合わせた。前記λ／４位相差層の視認側とは反対側の面に粘着剤層１４０を貼り合わせた。このとき、前記粘着剤層１４０は、前記製造例２の熱硬化型アクリル系粘着シート（Ａ－１）をλ／４位相差層の視認側とは反対側の面に貼り合わせてからＰＥＴフィルムを剥離して形成した。

実施例３：偏光板の製作
下記方法に従い図１の実施形態と同じ構造で偏光板を製作した。

製造例１で製造した偏光子の視認側の面に、水系接着剤を利用して基材として厚さ２０μｍのアクリルフィルムを貼り合わせた。このとき、前記水系接着剤としては、熱硬化性水系ＰＶＡ接着剤を使用した。前記水系接着剤は６０℃オーブンで５分間乾燥して硬化させた。次いで、前記基材を備えた偏光子に、第１位相差層として厚さ２．０μｍのλ／２位相差層（ディスコティック液晶層）を厚さ５μｍの熱硬化型アクリル系粘着剤（Ｌｉｎｔｅｃ社製）を使用して貼り合わせ、第２位相差層として厚さ１．０μｍのλ／４位相差層（ネマチック液晶層）を厚さ２μｍのＵＶ硬化型エポキシ系接着剤（ダイキン社製、ＵＶ－１１００）を使用して貼り合わせた。前記λ／４位相差層の視認側とは反対側の面に粘着剤層１４０を貼り合わせた。このとき、前記粘着剤層１４０は、前記製造例５の熱硬化型アクリル系粘着シート（Ａ－４）をλ／４位相差層の視認側とは反対側の面に貼り合わせてからＰＥＴフィルムを剥離して形成した。

比較例１：偏光板の製作
下記方法に従い図１の実施形態と同じ構造で偏光板を製作した。

製造例１で製造した偏光子の視認側の面に、水系接着剤を利用して基材として厚さ２０μｍのアクリルフィルムを貼り合わせた。このとき、前記水系接着剤としては、熱硬化性水系ＰＶＡ接着剤を使用した。前記水系接着剤は６０℃オーブンで５分間乾燥して硬化させた。次いで、前記基材を備えた偏光子に、第１位相差層として厚さ２．０μｍのλ／２位相差層（ディスコティック液晶層）を厚さ５μｍの熱硬化型アクリル系粘着剤（Ｌｉｎｔｅｃ社製）を使用して貼り合わせ、第２位相差層として厚さ１．０μｍのλ／４位相差層（ネマチック液晶層）を厚さ２μｍのＵＶ硬化型エポキシ系接着剤（ダイキン社製、ＵＶ－１１００）を使用して貼り合わせた。前記λ／４位相差層の視認側とは反対側の面に粘着剤層１４０を貼り合わせた。このとき、前記粘着剤層１４０は、前記製造例４の熱硬化型アクリル系粘着シート（Ａ－３）をλ／４位相差層の視認側とは反対側の面に貼り合わせてからＰＥＴフィルムを剥離して形成した。

比較例２：偏光板の製作
下記方法に従い図１の実施形態と同じ構造で偏光板を製作した。

製造例１で製造した偏光子の視認側の面に、水系接着剤を利用して基材として厚さ２０μｍのアクリルフィルムを貼り合わせた。このとき、前記水系接着剤としては、熱硬化性水系ＰＶＡ接着剤を使用した。前記水系接着剤は６０℃オーブンで５分間乾燥して硬化させた。次いで、前記基材を備えた偏光子に、第１位相差層として厚さ２．０μｍのλ／２位相差層（ディスコティック液晶層）を厚さ５μｍの熱硬化型アクリル系粘着剤（Ｌｉｎｔｅｃ社製）を使用して貼り合わせ、第２位相差層として厚さ１．０μｍのλ／４位相差層（ネマチック液晶層）を厚さ２μｍのＵＶ硬化型エポキシ系接着剤（ダイキン社製、ＵＶ－１１００）を使用して貼り合わせた。前記λ／４位相差層の視認側とは反対側の面に粘着剤層１４０を貼り合わせた。このとき、前記粘着剤層１４０は、前記製造例３の熱硬化型アクリル系粘着シート（Ａ－２）をλ／４位相差層の視認側とは反対側の面に貼り合わせてからＰＥＴフィルムを剥離して形成した。

比較例３：偏光板の製作
下記方法に従い図１の実施形態と同じ構造で偏光板を製作した。

製造例１で製造した偏光子の視認側の面に、水系接着剤を利用して基材として厚さ１８μｍのシクロオレフィンポリマーフィルムを貼り合わせた。このとき、前記水系接着剤としては、熱硬化性水系ＰＶＡ接着剤を使用した。前記水系接着剤は６０℃オーブンで５分間乾燥して硬化させた。次いで、前記基材を備えた偏光子に、第１位相差層として厚さ２．０μｍのλ／２位相差層（ディスコティック液晶層）を厚さ５μｍの熱硬化型アクリル系粘着剤（Ｌｉｎｔｅｃ社製）を使用して貼り合わせ、第２位相差層として厚さ１．０μｍのλ／４位相差層（ネマチック液晶層）を厚さ２μｍのＵＶ硬化型エポキシ系接着剤（ダイキン社製、ＵＶ－１１００）を使用して貼り合わせた。前記λ／４位相差層の視認側とは反対側の面に粘着剤層１４０を貼り合わせた。このとき、前記粘着剤層１４０は、前記製造例２の熱硬化型アクリル系粘着シート（Ａ－１）をλ／４位相差層の視認側とは反対側の面に貼り合わせてからＰＥＴフィルムを剥離して形成した。

比較例４：偏光板の製作
下記方法に従い図１の実施形態と同じ構造で偏光板を製作した。

製造例１で製造した偏光子の視認側の面に、水系接着剤を利用して基材として厚さ１８μｍのシクロオレフィンポリマーフィルムを貼り合わせた。このとき、前記水系接着剤としては、熱硬化性水系ＰＶＡ接着剤を使用した。前記水系接着剤は６０℃オーブンで５分間乾燥して硬化させた。次いで、前記基材を備えた偏光子に、第１位相差層として厚さ２．０μｍのλ／２位相差層（ディスコティック液晶層）を厚さ５μｍの熱硬化型アクリル系粘着剤（Ｌｉｎｔｅｃ社製）を使用して貼り合わせ、第２位相差層として厚さ１．０μｍのλ／４位相差層（ネマチック液晶層）を厚さ２μｍのＵＶ硬化型エポキシ系接着剤（ダイキン社製、ＵＶ－１１００）を使用して貼り合わせた。前記λ／４位相差層の視認側とは反対側の面に粘着剤層１４０を貼り合わせた。このとき、前記粘着剤層１４０は、前記製造例３の熱硬化型アクリル系粘着シート（Ａ－２）をλ／４位相差層の視認側とは反対側の面に貼り合わせてからＰＥＴフィルムを剥離して形成した。

実験例：
前記実施例及び比較例で製造された偏光板の物性を、下記の方法にて測定し、その結果を下記表１～表３に表した。

（１）弾性復元率
前記実施例及び比較例で製造された偏光板の弾性復元率（％）を測定し、その結果を下記表１及び表２に表した。

具体的に、偏光板の基材面に三角錐状チップ（ｖｉｃｋｅｒｓ ｔｉｐ）形態のインデンター（ｉｎｄｅｎｔｅｒ）で１０ｍＮの荷重を２０秒間印加したときの弾性復元率（％）を、ナノインデンターを利用して測定した。

（２）衝撃吸収量
前記実施例及び比較例で製造された偏光板の衝撃吸収量（ｇｆ・ｓ）を測定し、その結果を下記表１及び表２に表した。

具体的に、偏光板の基材面にチップの直径が１ｍｍで重さが５ｇのペン（ｐｅｎ）を５０ｍｍの高さから落下し、衝撃試験機（ＰＰ Ｔｅｓｔｅｒ、ＳｕｒＴＡ ｓｙｓｔｅｍ社製）でその衝撃吸収量（ｇｆ・ｓ）を測定した。

前記弾性復元率（％）の値をＡとし、衝撃吸収量（ｇｆ・ｓ）の値をＢとしてＡ／Ｂ値を求め、下記表１及び表２に表した。

（３）マルテンス硬さ（ＨＭ）
前記実施例及び比較例で製造された偏光板と、このときに使用された基材のマルテンス硬さ（ＭＰａ）をナノインデンターを利用して測定し、その結果を下記表１及び表２に表した。

具体的に、偏光板の基材面、又は偏光板の製造前の基材の表面に三角錐状チップ（ｖｉｃｋｅｒｓ ｔｉｐ）形態のインデンター（ｉｎｄｅｎｔｅｒ）で１０ｍＮの荷重を２０秒間印加したときのマルテンス硬さ（ＭＰａ）をナノインデンターを利用して測定した。

（４）貯蔵弾性率（Ｇ’）
前記実施例及び比較例で使用された粘着剤層１４０の貯蔵弾性率（Ｇ’）を下記の方法にて測定し、その結果を下記表３に表した。

具体的に、λ／４位相差層の視認側とは反対側の面に形成された粘着剤層に使用された熱硬化型アクリル系粘着剤を８００μｍの厚さのフィルム状に製作した後、レオメータ（Ｒｈｅｏｍｅｔｅｒ、ＭＣＲ－３０１、Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ社製）にてＰＰ０８（直径８ｍｍ）を使用して－２５℃～８５℃（５℃／ｍｉｎ）の条件で周波数１Ｈｚ、ｓｔｒａｉｎ １％であるときの貯蔵弾性率（ｓｔｏｒａｇｅ ｍｏｄｕｌｕｓ、Ｇ’）を測定した。

（５）耐衝撃性
前記実施例及び比較例で製造された偏光板の耐衝撃性を評価し、その結果を下記表１及び表２に表した。

具体的に、偏光板の基材面にチップの直径が１ｍｍで重さが５ｇのペン（ｐｅｎ）を５０ｍｍの高さから落下したときに発生したクラック（ｃｒａｃｋ）の深さ（μｍ）と大きさ（μｍ）を３Ｄ顕微鏡を使用して測定し、視認性を異物検査装置で観察した。

＜評価基準＞
○：偏光板のクラックが視認される
×：偏光板のクラックが視認されない
（６）耐屈曲性
前記実施例及び比較例で製造された偏光板の耐屈曲性を評価し、その結果を下記表１及び表２に表した。

具体的に、２０ｍｍ×５０ｍｍのサンプルを使用し、折り畳みチャンバシステム（Ｆｏｌｄｉｎｇ Ｃｈａｍｂｅｒ ｓｙｓｔｅｍ、ＵＴＦ－０７０ＡＣ、コボテクト社製）にて８５℃の耐熱雰囲気下、１．５Ｒ Ｉｎ－ｆｏｌｄｉｎｇ条件で評価し、屈曲部のクラックや変色などの外観欠陥を確認した。

（７）切断加工性
前記実施例及び比較例で製造された偏光板の切断加工性を下記のように評価し、その結果を下記表１及び表２に表した。
具体的に、偏光板をカッティング機（ＴＭＣ－６００、ＴＯＫＯ社製）を使用して切断し、下記の評価基準に従い切断加工性を評価した。

＜評価基準＞
ＯＫ：カッティング機で切断時、サンプルがナイフに付着しない
ＮＧ：カッティング機で切断時、サンプルがナイフに付着する

前記表１及び表２から、本発明の一実施形態に係る、Ａ／Ｂ値が６１０～７３０である実施例の偏光板は、位相差層に液晶化合物を使用して薄膜構造を有しながらも耐衝撃性に優れて外部衝撃によっても偏光板のクラックの発生が抑制できると共に切断加工性も良好であるのに対し、Ａ／Ｂ値が前記範囲を外れる比較例の偏光板は、耐衝撃性と切断加工性のうちの一つ以上が不良であることを確認することができる。

以上、本発明の特定の部分について詳しく記述したが、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者であれば、このような具体的な記述は単に好適な具現例であるに過ぎず、これらによって本発明の範囲が制限されるものではないことは明らかである。本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者であれば、前記内容を基に本発明の範疇内で種々の応用および変形を行うことが可能であろう。

したがって、本発明の実質的な範囲は、特許請求の範囲とその等価物によって定義されると言えよう。

１０ ＯＬＥＤパネル
２０ 透明接着剤層
３０ カバーウィンドウ
１００ 偏光板
１１０ 基材
１２０ 偏光子
１３０ コーティング型位相差層
１４０ 粘着剤層

Claims (10)

1. 基材、偏光子、コーティング型位相差層、及び粘着剤層が順次積層されてなる偏光板であって、下記の数学式１を満たす偏光板。
   ［数学式１］
   ６１０≦Ａ／Ｂ≦７３０
   前記式中、
   Ａは、偏光板に１０ｍＮの荷重を２０秒間印加したときの、ナノインデンターを利用して測定した弾性復元率（％）であり、
   Ｂは、偏光板にチップの直径が１ｍｍで重さが５ｇのペン（ｐｅｎ）を５０ｍｍの高さから落下したときの、衝撃試験機を利用して測定した衝撃吸収量（ｇｆ・ｓ）である。
2. 前記基材は、アクリル系基材であり、厚さが１５～２５μｍである、請求項１に記載の偏光板。
3. 前記基材のマルテンス硬さは、１０ｍＮの荷重を印加してナノインデンターを利用して測定したとき、１６０～２５０ＭＰａである、請求項１に記載の偏光板。
4. 前記コーティング型位相差層は、λ／４位相差層を含む、請求項１に記載の偏光板。
5. 前記コーティング型位相差層は、λ／４位相差層であるか、視認側からλ／２位相差層とλ／４位相差層とが順次積層されてなる位相差層であるか、又は視認側からλ／４位相差層と正のＣプレート層とが順次積層されてなる、請求項４に記載の偏光板。
6. 前記粘着剤層は、熱硬化型アクリル系粘着剤組成物から形成され、厚さが２０～１００μｍである、請求項１に記載の偏光板。
7. 前記粘着剤層の貯蔵弾性率（Ｇ’）は、２５℃で０．０７０ＭＰａ以下である、請求項１に記載の偏光板。
8. 前記偏光板のマルテンス硬さは、１０ｍＮの荷重を印加してナノインデンターを利用して測定したとき、３０～３７ＭＰａである、請求項１に記載の偏光板。
9. フレキシブル用である、請求項１に記載の偏光板。
10. 請求項１～９のいずれか一項に記載の偏光板を含む画像表示装置。