JP2023156881A - Wiring board, module, laminate for image display device and image display device - Google Patents

Wiring board, module, laminate for image display device and image display device Download PDF

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JP2023156881A JP2022066513A JP2022066513A JP2023156881A JP 2023156881 A JP2023156881 A JP 2023156881A JP 2022066513 A JP2022066513 A JP 2022066513A JP 2022066513 A JP2022066513 A JP 2022066513A JP 2023156881 A JP2023156881 A JP 2023156881A
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Abstract

To provide a wiring board, a module, a laminate for an image display device, and an image display device in which the wiring board can be disposed precisely within the image display device.SOLUTION: In an image display device 60, a wiring board 10 has: a substrate 11 including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface; and a mesh wiring layer 20 disposed on the first surface of the substrate. The substrate has transparency, and a plurality of alignment marks M2 are formed on the first surface of the substrate at positions different from the mesh wiring layer, using the same material as that of wiring.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示の実施の形態は、配線基板、モジュール、画像表示装置用積層体及び画像表示装置に関する。 Embodiments of the present disclosure relate to a wiring board, a module, a laminate for an image display device, and an image display device.

現在、スマートフォン、タブレット等の携帯端末機器の高機能、小型化、薄型化及び軽量化が進んでいる。これら携帯端末機器は、複数の通信帯域を使用するため、通信帯域に応じた複数のアンテナが必要とされる。例えば、携帯端末機器には、電話用アンテナ、WiFi(Wireless Fidelity)用アンテナ、3G(Generation)用アンテナ、4G(Generation)用アンテナ、LTE(Long Term Evolution)用アンテナ、Bluetooth(登録商標)用アンテナ、NFC(Near Field Communication)用アンテナ等の複数のアンテナが搭載されている。しかしながら、携帯端末機器の小型化に伴い、アンテナの搭載スペースは限られており、アンテナ設計の自由度は狭まっている。また、限られたスペース内にアンテナを内蔵していることから、電波感度が必ずしも満足できるものではない。 Currently, mobile terminal devices such as smartphones and tablets are becoming more sophisticated, smaller, thinner, and lighter. Since these mobile terminal devices use multiple communication bands, multiple antennas are required depending on the communication bands. For example, mobile terminal devices include telephone antennas, WiFi (Wireless Fidelity) antennas, 3G (Generation) antennas, 4G (Generation) antennas, LTE (Long Term Evolution) antennas, and Bluetooth (registered trademark) antennas. , multiple antennas such as NFC (Near Field Communication) antennas are installed. However, as mobile terminal devices become smaller, the mounting space for antennas is limited, and the degree of freedom in antenna design is narrowed. Furthermore, since the antenna is built into a limited space, the radio wave sensitivity is not necessarily satisfactory.

このため、携帯端末機器の表示領域に搭載できるフィルムアンテナが開発されている。このフィルムアンテナは、透明基材上にアンテナパターンが形成された透明アンテナにおいて、アンテナパターンが、不透明な導電体層の形成部としての導体部と、非形成部としての多数の開口部とによるメッシュ状の導電体メッシュ層によって形成されている。 For this reason, film antennas that can be mounted in the display area of mobile terminal devices have been developed. This film antenna is a transparent antenna in which an antenna pattern is formed on a transparent base material. It is formed by a conductive mesh layer.

特開2011-66610号公報JP2011-66610A

本実施の形態は、画像表示装置内に配線基板を精度よく配置することが可能な、配線基板、モジュール、画像表示装置用積層体及び画像表示装置を提供することを目的とする。 The present embodiment aims to provide a wiring board, a module, a laminate for an image display device, and an image display device, which allow the wiring board to be placed within the image display device with high precision.

本実施の形態の第1の態様は、第1面と前記第1面の反対側に位置する第2面とを含む基板と、前記基板の前記第1面上に配置されたメッシュ配線層とを備え、前記基板は、透明性を有し、前記基板の前記第1面上のうち、前記メッシュ配線層とは異なる位置に、アライメントマークが形成されている、配線基板である。 A first aspect of the present embodiment includes a substrate including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and a mesh wiring layer disposed on the first surface of the substrate. The substrate is a transparent wiring board, and an alignment mark is formed on the first surface of the substrate at a position different from that of the mesh wiring layer.

本実施の形態の第2の態様は、上述した第1の態様による配線基板において、前記アライメントマークは、複数形成されていても良い。 In a second aspect of the present embodiment, in the wiring board according to the first aspect described above, a plurality of alignment marks may be formed.

本実施の形態の第3の態様は、上述した第1の態様又は上述した第2の態様による配線基板において、前記メッシュ配線層は、複数の配線を有していても良く、前記アライメントマークは、前記配線の材料と同一の材料によって形成されていても良い。 A third aspect of the present embodiment is that in the wiring board according to the above-described first aspect or the above-described second aspect, the mesh wiring layer may have a plurality of wirings, and the alignment mark is , the wiring may be made of the same material as the wiring.

本実施の形態の第4の態様は、上述した第3の態様による配線基板において、前記アライメントマークの高さは、前記配線の高さと同一であっても良い。 In a fourth aspect of the present embodiment, in the wiring board according to the third aspect described above, the height of the alignment mark may be the same as the height of the wiring.

本実施の形態の第5の態様は、上述した第1の態様から上述した第4の態様のそれぞれによる配線基板において、前記アライメントマークは、前記メッシュ配線層から3mm以上離れた位置に形成されていても良い。 A fifth aspect of the present embodiment is that in the wiring board according to each of the first aspect to the fourth aspect described above, the alignment mark is formed at a position 3 mm or more away from the mesh wiring layer. It's okay.

本実施の形態の第6の態様は、上述した第1の態様から上述した第5の態様のそれぞれによる配線基板において、前記配線基板は、ミリ波送受信機能を有していても良く、前記メッシュ配線層は、アレイアンテナとして機能しても良い。 A sixth aspect of the present embodiment is the wiring board according to each of the first aspect to the fifth aspect described above, wherein the wiring board may have a millimeter wave transmission/reception function, and the mesh The wiring layer may function as an array antenna.

本実施の形態の第7の態様は、上述した第1の態様から上述した第6の態様のそれぞれによる配線基板において、前記メッシュ配線層の周囲に、前記メッシュ配線層から電気的に独立したダミー配線層が設けられていても良い。 A seventh aspect of the present embodiment is that in the wiring board according to each of the first aspect to the sixth aspect described above, a dummy electrically independent from the mesh wiring layer is provided around the mesh wiring layer. A wiring layer may be provided.

本実施の形態の第8の態様は、上述した第7の態様による配線基板において、複数の前記ダミー配線層が設けられていても良く、前記メッシュ配線層及び前記ダミー配線層の開口率は、前記メッシュ配線層から、前記メッシュ配線層に遠い前記ダミー配線層に向けて段階的に大きくなっていても良い。 An eighth aspect of the present embodiment is that in the wiring board according to the seventh aspect described above, a plurality of the dummy wiring layers may be provided, and the aperture ratio of the mesh wiring layer and the dummy wiring layer is The size may increase stepwise from the mesh wiring layer toward the dummy wiring layer that is far from the mesh wiring layer.

本実施の形態の第9の態様は、上述した第1の態様から上述した第8の態様のそれぞれによる配線基板と、前記配線基板に電気的に接続された給電線とを備えた、モジュールである。 A ninth aspect of the present embodiment is a module including a wiring board according to each of the first to eighth aspects described above, and a power supply line electrically connected to the wiring board. be.

本実施の形態の第10の態様は、上述した第9の態様によるモジュールと、前記基板の前記第1面側に位置する第1接着層と、前記基板の前記第2面側に位置する第2接着層とを備え、前記第1接着層と前記第2接着層との間の一部領域に、前記基板の一部領域が配置されている、画像表示装置用積層体である。 A tenth aspect of the present embodiment includes the module according to the ninth aspect described above, a first adhesive layer located on the first surface side of the substrate, and a first adhesive layer located on the second surface side of the substrate. 2 adhesive layers, and a partial area of the substrate is disposed in a partial area between the first adhesive layer and the second adhesive layer.

本実施の形態の第11の態様は、上述した第10の態様による画像表示装置用積層体と、前記画像表示装置用積層体に積層された表示装置とを備え、前記表示装置は、アライメントマークを有し、前記配線基板の前記アライメントマークと、前記表示装置の前記アライメントマークとが、互いに位置合わせされている、画像表示装置である。 An eleventh aspect of the present embodiment includes the laminate for an image display device according to the tenth aspect described above, and a display device laminated on the laminate for an image display device, and the display device has an alignment mark. In the image display device, the alignment mark of the wiring board and the alignment mark of the display device are aligned with each other.

本開示の実施の形態によると、画像表示装置内に配線基板を精度よく配置することができる。 According to the embodiments of the present disclosure, it is possible to accurately arrange a wiring board within an image display device.

図1は、一実施の形態による画像表示装置を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an image display device according to an embodiment. 図2は、一実施の形態による画像表示装置を示す断面図(図1のII-II線断面図)である。FIG. 2 is a cross-sectional view (cross-sectional view taken along line II-II in FIG. 1) showing an image display device according to one embodiment. 図3は、一実施の形態による配線基板を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a wiring board according to one embodiment. 図4は、一実施の形態による配線基板のメッシュ配線層を示す拡大平面図である。FIG. 4 is an enlarged plan view showing a mesh wiring layer of a wiring board according to one embodiment. 図5は、一実施の形態による配線基板を示す断面図(図4のV-V線断面図)である。FIG. 5 is a cross-sectional view (cross-sectional view taken along the line VV in FIG. 4) showing a wiring board according to one embodiment. 図6は、一実施の形態による配線基板を示す断面図(図4のVI-VI線断面図)である。FIG. 6 is a cross-sectional view (cross-sectional view taken along line VI-VI in FIG. 4) showing a wiring board according to one embodiment. 図7は、一実施の形態によるモジュールを示す断面図(図2に対応する断面図)である。FIG. 7 is a cross-sectional view (corresponding to FIG. 2) showing a module according to one embodiment. 図8(a)-(f)は、一実施の形態による配線基板の製造方法を示す断面図である。FIGS. 8(a) to 8(f) are cross-sectional views showing a method of manufacturing a wiring board according to an embodiment. 図9(a)-(c)は、一実施の形態によるモジュールの製造方法を示す断面図である。FIGS. 9(a) to 9(c) are cross-sectional views showing a method of manufacturing a module according to one embodiment. 図10(a)-(c)は、一実施の形態による画像表示装置用積層体の製造方法を示す断面図である。FIGS. 10(a) to 10(c) are cross-sectional views showing a method of manufacturing a laminate for an image display device according to an embodiment. 図11は、一実施の形態による画像表示装置の製造方法を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing a method of manufacturing an image display device according to an embodiment. 図12は、第1変形例による配線基板を示す平面図である。FIG. 12 is a plan view showing a wiring board according to a first modification. 図13は、第1変形例による配線基板を示す拡大平面図である。FIG. 13 is an enlarged plan view showing the wiring board according to the first modification. 図14は、第2変形例による配線基板を示す平面図である。FIG. 14 is a plan view showing a wiring board according to a second modification. 図15は、第2変形例による配線基板を示す拡大平面図である。FIG. 15 is an enlarged plan view showing a wiring board according to a second modification. 図16は、第3変形例による配線基板を示す平面図である。FIG. 16 is a plan view showing a wiring board according to a third modification.

まず、図1乃至図11により、一実施の形態について説明する。図1乃至図11は本実施の形態を示す図である。 First, one embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 11. 1 to 11 are diagrams showing this embodiment.

以下に示す各図は、模式的に示した図である。そのため、各部の大きさ、形状は理解を容易にするために、適宜誇張している。また、技術思想を逸脱しない範囲において適宜変更して実施できる。なお、以下に示す各図において、同一部分には同一の符号を付しており、一部詳細な説明を省略する場合がある。また、本明細書中に記載する各部材の寸法等の数値及び材料名は、実施の形態としての一例であり、これに限定されず、適宜選択して使用できる。本明細書において、形状や幾何学的条件を特定する用語、例えば平行や直交、垂直等の用語については、厳密に意味するところに加え、実質的に同じ状態も含めて解釈することとする。 Each figure shown below is a schematic view. Therefore, the size and shape of each part are appropriately exaggerated to facilitate understanding. In addition, the present invention can be modified and implemented as appropriate without departing from the technical concept. In each figure shown below, the same parts are given the same reference numerals, and some detailed explanations may be omitted. Further, the numerical values such as dimensions and material names of each member described in this specification are examples as an embodiment, and the present invention is not limited thereto, and can be appropriately selected and used. In this specification, terms that specify shapes and geometrical conditions, such as terms such as parallel, orthogonal, and perpendicular, are interpreted not only in their strict meanings but also to include substantially the same state.

以下の実施の形態において、「X方向」とは、画像表示装置の一辺に対して平行な方向である。「Y方向」とは、X方向に垂直かつ画像表示装置の他の一辺に対して平行な方向である。「Z方向」とは、X方向及びY方向の両方に垂直かつ画像表示装置の厚み方向に平行な方向である。「表面」とは、Z方向プラス側の面であって、画像表示装置の発光面側であり、観察者側を向く面をいう。「裏面」とは、Z方向マイナス側の面であって、画像表示装置の発光面及び観察者側を向く面と反対側の面をいう。なお、本実施の形態において、メッシュ配線層20が、電波送受信機能(すなわち、アンテナとしての機能)を有するメッシュ配線層である場合を例にとって説明するが、メッシュ配線層20は電波送受信機能を有していなくても良い。 In the following embodiments, the "X direction" is a direction parallel to one side of the image display device. The "Y direction" is a direction perpendicular to the X direction and parallel to the other side of the image display device. The "Z direction" is a direction perpendicular to both the X direction and the Y direction and parallel to the thickness direction of the image display device. "Surface" refers to the surface on the positive side in the Z direction, the light emitting surface side of the image display device, and the surface facing the viewer. The "back surface" refers to the surface on the negative side in the Z direction, and the surface opposite to the light emitting surface of the image display device and the surface facing the viewer. In this embodiment, a case will be explained in which the mesh wiring layer 20 is a mesh wiring layer having a radio wave transmission/reception function (that is, a function as an antenna); however, the mesh wiring layer 20 has a radio wave transmission/reception function. You don't have to.

図1及び図2を参照して、本実施の形態による画像表示装置の構成について説明する。 The configuration of the image display device according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

図1及び図2に示すように、本実施の形態による画像表示装置60は、画像表示装置用積層体70と、画像表示装置用積層体70に積層された表示装置61と、を備えている。このうち画像表示装置用積層体70は、第1透明接着層(第1接着層)95と、第2透明接着層(第2接着層)96と、モジュール80Aと、を備えている。画像表示装置用積層体70のモジュール80Aは、配線基板10と、配線基板10に電気的に接続された給電線85とを備えている。 As shown in FIGS. 1 and 2, the image display device 60 according to the present embodiment includes an image display device laminate 70 and a display device 61 stacked on the image display device laminate 70. . Among these, the laminate 70 for an image display device includes a first transparent adhesive layer (first adhesive layer) 95, a second transparent adhesive layer (second adhesive layer) 96, and a module 80A. The module 80A of the image display device laminate 70 includes a wiring board 10 and a power supply line 85 electrically connected to the wiring board 10.

モジュール80Aの配線基板10は、基板11と、メッシュ配線層20と、給電部40とを有する。図2に示すように、基板11は、第1面11aと第1面11aの反対側に位置する第2面11bとを含む。メッシュ配線層20は、基板11の第1面11a上に配置されている。また、メッシュ配線層20には、給電部40が電気的に接続されている。さらに、表示装置61に対してZ方向マイナス側には、通信モジュール63が配置されている。画像表示装置用積層体70と、表示装置61と、通信モジュール63とは、筐体62内に収容されている。 The wiring board 10 of the module 80A includes a substrate 11, a mesh wiring layer 20, and a power feeding section 40. As shown in FIG. 2, the substrate 11 includes a first surface 11a and a second surface 11b located on the opposite side of the first surface 11a. The mesh wiring layer 20 is arranged on the first surface 11a of the substrate 11. Furthermore, a power supply unit 40 is electrically connected to the mesh wiring layer 20 . Furthermore, a communication module 63 is arranged on the negative side of the display device 61 in the Z direction. The image display device laminate 70, the display device 61, and the communication module 63 are housed in a housing 62.

図1及び図2に示す画像表示装置60において、通信モジュール63を介して、所定の周波数の電波を送受信でき、通信を行うことができる。通信モジュール63は、ミリ波用アンテナ、電話用アンテナ、WiFi用アンテナ、3G用アンテナ、4G用アンテナ、5G用アンテナ、LTE用アンテナ、Bluetooth(登録商標)用アンテナ、NFC用アンテナ等のいずれかを含んでいても良い。このような画像表示装置60としては、例えばスマートフォン、タブレット等の携帯端末機器を挙げることができる。 In the image display device 60 shown in FIGS. 1 and 2, radio waves of a predetermined frequency can be transmitted and received via the communication module 63, and communication can be performed. The communication module 63 includes any one of a millimeter wave antenna, a telephone antenna, a WiFi antenna, a 3G antenna, a 4G antenna, a 5G antenna, an LTE antenna, a Bluetooth (registered trademark) antenna, an NFC antenna, etc. It may be included. Examples of such an image display device 60 include mobile terminal devices such as a smartphone and a tablet.

図2に示すように、画像表示装置60は、発光面64を有している。画像表示装置60は、表示装置61に対して発光面64側(すなわち、Z方向プラス側)に位置する配線基板10と、表示装置61に対して発光面64の反対側(すなわち、Z方向マイナス側)に位置する通信モジュール63と、を備えている。 As shown in FIG. 2, the image display device 60 has a light emitting surface 64. The image display device 60 includes a wiring board 10 located on the light emitting surface 64 side (i.e., the positive side in the Z direction) with respect to the display device 61, and a wiring board 10 located on the opposite side of the light emitting surface 64 with respect to the display device 61 (i.e., the negative side in the Z direction). A communication module 63 located on the side).

表示装置61は、例えば有機EL(Electro Luminescence)表示装置からなる。表示装置61は、例えば図示しない金属層、支持基材、樹脂基材、薄膜トランジスタ(TFT)、及び有機EL層を含んでいても良い。表示装置61上には、図示しないタッチセンサが配置されていても良い。なお、表示装置61は、有機EL表示装置に限られるものではない。例えば、表示装置61は、それ自体が発光する機能を持つ他の表示装置であっても良く、マイクロLED素子を含むマイクロLED表示装置であっても良い。また、表示装置61は、液晶を含む液晶表示装置であっても良い。 The display device 61 is, for example, an organic EL (Electro Luminescence) display device. The display device 61 may include, for example, a metal layer, a support base material, a resin base material, a thin film transistor (TFT), and an organic EL layer (not shown). A touch sensor (not shown) may be arranged on the display device 61. Note that the display device 61 is not limited to an organic EL display device. For example, the display device 61 may be another display device that itself has a function of emitting light, or may be a micro LED display device including micro LED elements. Further, the display device 61 may be a liquid crystal display device including liquid crystal.

この表示装置61は、アライメントマークM1を有している。図1に示すように、アライメントマークM1は、表示装置61のうち、平面視において筐体62に重なる位置に設けられている。これにより、画像表示装置60において、アライメントマークM1が観察者から視認されないようにできる。 This display device 61 has an alignment mark M1. As shown in FIG. 1, the alignment mark M1 is provided in the display device 61 at a position overlapping the housing 62 in plan view. Thereby, in the image display device 60, the alignment mark M1 can be made invisible to the viewer.

このアライメントマークM1は、後述するように、配線基板10(画像表示装置用積層体70、モジュール80A)に表示装置61を積層する工程において、配線基板10の位置決めを行う目印とされるマークである。このため、本実施の形態による画像表示装置60においては、配線基板10の後述するアライメントマークM2と、表示装置61のアライメントマークM1とが、互いに位置合わせされている。 This alignment mark M1 is a mark used as a mark for positioning the wiring board 10 in the process of stacking the display device 61 on the wiring board 10 (image display device laminate 70, module 80A), as will be described later. . Therefore, in the image display device 60 according to the present embodiment, an alignment mark M2 (described later) on the wiring board 10 and an alignment mark M1 on the display device 61 are aligned with each other.

このアライメントマークM1は、複数形成されている。これにより、表示装置61に対する配線基板10のX方向及びY方向における位置決めを容易に行うことができる。図示された例においては、表示装置61には、2つのアライメントマークM1が形成されている。各々のアライメントマークM1の形状は、それぞれ平面視で十字形である。この場合、アライメントマークM1は、X方向に延びる部分と、Y方向に延びる部分とを含んでいる。これにより、表示装置61に対する配線基板10のX方向及びY方向における位置決めを更に容易に行うことができる。なお、アライメントマークM1の個数及び形状は、配線基板10の後述するアライメントマークM2の個数及び形状と等しくなっていることが好ましい。 A plurality of alignment marks M1 are formed. Thereby, the positioning of the wiring board 10 with respect to the display device 61 in the X direction and the Y direction can be easily performed. In the illustrated example, two alignment marks M1 are formed on the display device 61. The shape of each alignment mark M1 is a cross in plan view. In this case, the alignment mark M1 includes a portion extending in the X direction and a portion extending in the Y direction. Thereby, positioning of the wiring board 10 with respect to the display device 61 in the X direction and the Y direction can be performed more easily. Note that the number and shape of the alignment marks M1 are preferably equal to the number and shape of alignment marks M2, which will be described later, on the wiring board 10.

また、表示装置61上には、第2透明接着層96を介して配線基板10が配置されている。配線基板10上には、第1透明接着層95を介してカバーガラス75が配置されている。なお、第1透明接着層95とカバーガラス75との間には、図示しない加飾フィルム及び偏光板が配置されていても良い。 Further, the wiring board 10 is arranged on the display device 61 with a second transparent adhesive layer 96 interposed therebetween. A cover glass 75 is placed on the wiring board 10 with a first transparent adhesive layer 95 in between. Note that a decorative film and a polarizing plate (not shown) may be placed between the first transparent adhesive layer 95 and the cover glass 75.

第1透明接着層95は、配線基板10をカバーガラス75に直接的又は間接的に接着する接着層である。この第1透明接着層95は、基板11の第1面11a側に位置している。第1透明接着層95は、光学透明性を有しており、OCA(Optical Clear Adhesive)層であっても良い。OCA層は、例えば以下のようにして作製された層である。まず、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の離型フィルム上に、重合性化合物を含む液状の硬化性接着層用組成物を塗布する。次に、これを例えば紫外線(UV)等を用いて硬化することにより、OCAシートを得る。このOCAシートを対象物に貼合した後、離型フィルムを剥離除去することにより、上記OCA層を得る。第1透明接着層95の材料は、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂又はウレタン系樹脂等であっても良い。とりわけ、第1透明接着層95は、アクリル系樹脂を含んでいても良い。この場合、第2透明接着層96が、アクリル系樹脂を含んでいることが好ましい。これにより、第1透明接着層95と第2透明接着層96との屈折率の差を実質的になくし、第1透明接着層95と第2透明接着層96との界面B3での可視光の反射をより確実に抑えることができる。 The first transparent adhesive layer 95 is an adhesive layer that adheres the wiring board 10 to the cover glass 75 directly or indirectly. This first transparent adhesive layer 95 is located on the first surface 11a side of the substrate 11. The first transparent adhesive layer 95 has optical transparency and may be an OCA (Optical Clear Adhesive) layer. The OCA layer is a layer produced, for example, as follows. First, a liquid curable adhesive layer composition containing a polymerizable compound is applied onto a release film such as polyethylene terephthalate (PET). Next, an OCA sheet is obtained by curing this using, for example, ultraviolet (UV) light. After bonding this OCA sheet to an object, the release film is peeled off and removed to obtain the OCA layer. The material of the first transparent adhesive layer 95 may be acrylic resin, silicone resin, urethane resin, or the like. In particular, the first transparent adhesive layer 95 may contain acrylic resin. In this case, it is preferable that the second transparent adhesive layer 96 contains acrylic resin. This substantially eliminates the difference in refractive index between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96, and reduces visible light at the interface B3 between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96. Reflections can be suppressed more reliably.

第1透明接着層95は、可視光線の透過率が85%以上であっても良く、90%以上であることが好ましい。なお、第1透明接着層95の可視光線の透過率の上限は特にないが、例えば100%以下であっても良い。第1透明接着層95の可視光線の透過率を上記範囲とすることにより、画像表示装置用積層体70の透明性を高め、画像表示装置60の表示装置61を視認しやすくできる。なお、可視光線とは、波長が400nm以上700nm以下の光線のことをいう。また、可視光線の透過率が85%以上であるとは、測定する部材(例えば第1透明接着層95)に対して吸光度の測定を行った際、400nm以上700nm以下の全波長領域で、その透過率が85%以上となることをいう。吸光度の測定は、公知の分光光度計(例えば、日本分光株式会社製の分光器:V-670)を用いて行うことができる。 The first transparent adhesive layer 95 may have a visible light transmittance of 85% or more, preferably 90% or more. Note that there is no particular upper limit to the visible light transmittance of the first transparent adhesive layer 95, but it may be, for example, 100% or less. By setting the visible light transmittance of the first transparent adhesive layer 95 within the above range, the transparency of the image display device laminate 70 can be increased, and the display device 61 of the image display device 60 can be easily recognized. Note that visible light refers to light having a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less. In addition, visible light transmittance of 85% or more means that when measuring the absorbance of the member to be measured (for example, the first transparent adhesive layer 95), it This means that the transmittance is 85% or more. The absorbance can be measured using a known spectrophotometer (eg, spectrometer V-670 manufactured by JASCO Corporation).

配線基板10は、上述したように、表示装置61に対して発光面64側に配置されている。この場合、配線基板10は、第1透明接着層95と第2透明接着層96との間に位置する。より具体的には、第1透明接着層95と第2透明接着層96との間の一部領域に、配線基板10の基板11の一部領域が配置されている。この場合、第1透明接着層95、第2透明接着層96、表示装置61及びカバーガラス75は、それぞれ配線基板10の基板11よりも広い面積を有する。このように、配線基板10の基板11を、平面視で画像表示装置60の全面ではなく一部領域に配置することにより、画像表示装置60の全体としての厚みを薄くできる。 As described above, the wiring board 10 is arranged on the light emitting surface 64 side with respect to the display device 61. In this case, the wiring board 10 is located between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96. More specifically, a partial area of the substrate 11 of the wiring board 10 is arranged in a partial area between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96. In this case, the first transparent adhesive layer 95, the second transparent adhesive layer 96, the display device 61, and the cover glass 75 each have a larger area than the substrate 11 of the wiring board 10. In this way, by arranging the substrate 11 of the wiring board 10 not over the entire surface of the image display device 60 in plan view but in a partial area, the overall thickness of the image display device 60 can be reduced.

配線基板10は、上述したように、透明性を有する基板11と、基板11の第1面11a上に配置されたメッシュ配線層20とを有する。メッシュ配線層20には、給電部40が電気的に接続されている。給電部40は、給電線85を介して、通信モジュール63に電気的に接続されている。また、配線基板10の一部は、第1透明接着層95と第2透明接着層96との間に配置されることなく、第1透明接着層95と第2透明接着層96との間から外方(すなわち、Y方向マイナス側)に突出する。具体的には、配線基板10のうち、給電部40が設けられている領域が外方に突出する。これにより、給電部40と通信モジュール63との電気的な接続を容易に行うことができる。一方、配線基板10のうち、メッシュ配線層20が設けられている領域は、第1透明接着層95と第2透明接着層96との間に位置する。なお、配線基板10の詳細については後述する。 As described above, the wiring board 10 includes the transparent substrate 11 and the mesh wiring layer 20 disposed on the first surface 11a of the substrate 11. A power supply unit 40 is electrically connected to the mesh wiring layer 20 . The power supply section 40 is electrically connected to the communication module 63 via a power supply line 85. Further, a part of the wiring board 10 is not placed between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96, but is placed between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96. It protrudes outward (that is, to the negative side in the Y direction). Specifically, a region of the wiring board 10 where the power feeding section 40 is provided protrudes outward. Thereby, electrical connection between the power supply unit 40 and the communication module 63 can be easily established. On the other hand, the region of the wiring board 10 where the mesh wiring layer 20 is provided is located between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96. Note that details of the wiring board 10 will be described later.

第2透明接着層96は、表示装置61を配線基板10に直接的又は間接的に接着する接着層である。この第2透明接着層96は、基板11の第2面11b側に位置している。第2透明接着層96は、第1透明接着層95と同様に、光学透明性を有しており、OCA(Optical Clear Adhesive)層であっても良い。第2透明接着層96の材料は、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂又はウレタン系樹脂等であっても良い。とりわけ、第2透明接着層96は、アクリル系樹脂を含んでいても良い。これにより、第1透明接着層95と第2透明接着層96との屈折率の差を実質的になくし、第1透明接着層95と第2透明接着層96との界面B3での可視光の反射をより確実に抑えることができる。 The second transparent adhesive layer 96 is an adhesive layer that adheres the display device 61 to the wiring board 10 directly or indirectly. This second transparent adhesive layer 96 is located on the second surface 11b side of the substrate 11. The second transparent adhesive layer 96 has optical transparency like the first transparent adhesive layer 95, and may be an OCA (Optical Clear Adhesive) layer. The material of the second transparent adhesive layer 96 may be acrylic resin, silicone resin, urethane resin, or the like. In particular, the second transparent adhesive layer 96 may contain acrylic resin. This substantially eliminates the difference in refractive index between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96, and reduces visible light at the interface B3 between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96. Reflections can be suppressed more reliably.

第2透明接着層96は、可視光線(すなわち、波長400nm以上700nm以下の光線)の透過率が85%以上であっても良く、90%以上であることが好ましい。なお、第2透明接着層96の可視光線の透過率の上限は特にないが、例えば100%以下であっても良い。第2透明接着層96の可視光線の透過率を上記範囲とすることにより、画像表示装置用積層体70の透明性を高め、画像表示装置60の表示装置61を視認しやすくできる。 The second transparent adhesive layer 96 may have a transmittance of visible light (that is, light having a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less) of 85% or more, and preferably 90% or more. Note that there is no particular upper limit to the visible light transmittance of the second transparent adhesive layer 96, but it may be, for example, 100% or less. By setting the visible light transmittance of the second transparent adhesive layer 96 within the above range, the transparency of the image display device laminate 70 can be increased, and the display device 61 of the image display device 60 can be easily recognized.

このような画像表示装置用積層体70において、基板11の屈折率と、第1透明接着層95の屈折率との差は、0.1以下であり、0.05以下となることが好ましい。また、第2透明接着層96の屈折率と、基板11の屈折率との差は、0.1以下であり、0.05以下となることが好ましい。さらに、第1透明接着層95の屈折率と、第2透明接着層96の屈折率との差は、0.1以下であることが好ましく、0.05以下であることがより好ましい。ここで、屈折率とは絶対屈折率をいい、JIS K-7142のA法に基づいて求めることができる。例えば、第1透明接着層95の材料と第2透明接着層96の材料とがアクリル系樹脂(屈折率1.49)である場合、基板11の屈折率を1.39以上1.59以下とする。このような材料としては、例えばフッ素樹脂、シリコーン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂、セルロース系樹脂等を挙げることができる。 In such a laminate 70 for an image display device, the difference between the refractive index of the substrate 11 and the refractive index of the first transparent adhesive layer 95 is 0.1 or less, preferably 0.05 or less. Further, the difference between the refractive index of the second transparent adhesive layer 96 and the refractive index of the substrate 11 is 0.1 or less, preferably 0.05 or less. Further, the difference between the refractive index of the first transparent adhesive layer 95 and the refractive index of the second transparent adhesive layer 96 is preferably 0.1 or less, more preferably 0.05 or less. Here, the refractive index refers to an absolute refractive index, and can be determined based on method A of JIS K-7142. For example, when the material of the first transparent adhesive layer 95 and the material of the second transparent adhesive layer 96 are acrylic resin (refractive index 1.49), the refractive index of the substrate 11 is set to 1.39 or more and 1.59 or less. do. Examples of such materials include fluororesins, silicone resins, polyolefin resins, polyester resins, acrylic resins, polycarbonate resins, polyimide resins, cellulose resins, and the like.

このように、基板11の屈折率と、第1透明接着層95の屈折率との差を0.1以下に抑えることにより、基板11と第1透明接着層95との界面B1での可視光の反射を抑え、基板11を観察者の肉眼で視認しにくくできる。また、第2透明接着層96の屈折率と、基板11の屈折率との差を0.1以下に抑えることにより、第2透明接着層96と基板11との界面B2での可視光の反射を抑え、基板11を観察者の肉眼で視認しにくくできる。さらに、第1透明接着層95の屈折率と、第2透明接着層96の屈折率との差を0.1以下に抑えることにより、第1透明接着層95と第2透明接着層96との界面B3での可視光の反射を抑え、第1透明接着層95と第2透明接着層96とを観察者の肉眼で視認しにくくできる。 In this way, by suppressing the difference between the refractive index of the substrate 11 and the refractive index of the first transparent adhesive layer 95 to 0.1 or less, visible light at the interface B1 between the substrate 11 and the first transparent adhesive layer 95 is reduced. It is possible to suppress the reflection of the substrate 11 and make it difficult for the observer to visually recognize the substrate 11 with the naked eye. Furthermore, by suppressing the difference between the refractive index of the second transparent adhesive layer 96 and the refractive index of the substrate 11 to 0.1 or less, visible light is reflected at the interface B2 between the second transparent adhesive layer 96 and the substrate 11. This makes it difficult for the observer to visually recognize the substrate 11 with the naked eye. Furthermore, by suppressing the difference between the refractive index of the first transparent adhesive layer 95 and the refractive index of the second transparent adhesive layer 96 to 0.1 or less, the difference between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96 is reduced. By suppressing the reflection of visible light at the interface B3, it is possible to make the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96 difficult to visually recognize with the naked eye of an observer.

とりわけ、第1透明接着層95の材料と第2透明接着層96の材料とが、互いに同一の材料であることが好ましい。これにより、第1透明接着層95と第2透明接着層96との屈折率の差をより小さくし、第1透明接着層95と第2透明接着層96との界面B3での可視光の反射を抑えることができる。 In particular, it is preferable that the material of the first transparent adhesive layer 95 and the material of the second transparent adhesive layer 96 are the same material. Thereby, the difference in refractive index between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96 is made smaller, and visible light is reflected at the interface B3 between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96. can be suppressed.

図2において、第1透明接着層95の厚みTと第2透明接着層96の厚みTとのうち少なくとも一方の厚みは、基板11の厚みTの1.5倍以上であっても良く、2倍以上であることが好ましく、2.5倍以上であることが更に好ましい。このように、基板11の厚みTに対して第1透明接着層95の厚みT又は第2透明接着層96の厚みTを十分に厚くすることにより、基板11と重なる領域で第1透明接着層95又は第2透明接着層96が厚み方向に変形し、基板11の厚みを吸収する。これにより、基板11の周縁において第1透明接着層95又は第2透明接着層96に段差が生じることを抑えることができ、基板11の存在を観察者が認識しにくくできる。 In FIG. 2, at least one of the thickness T 3 of the first transparent adhesive layer 95 and the thickness T 4 of the second transparent adhesive layer 96 may be 1.5 times or more the thickness T 1 of the substrate 11. It is preferably 2 times or more, and more preferably 2.5 times or more. In this way, by making the thickness T 3 of the first transparent adhesive layer 95 or the thickness T 4 of the second transparent adhesive layer 96 sufficiently thick with respect to the thickness T 1 of the substrate 11, the first The transparent adhesive layer 95 or the second transparent adhesive layer 96 deforms in the thickness direction and absorbs the thickness of the substrate 11. Thereby, it is possible to suppress the occurrence of a step in the first transparent adhesive layer 95 or the second transparent adhesive layer 96 at the periphery of the substrate 11, making it difficult for an observer to recognize the presence of the substrate 11.

第1透明接着層95の厚みT及び第2透明接着層96の厚みTのうち少なくとも一方の厚みは、基板11の厚みTの10倍以下であることが好ましく、5倍以下であることが更に好ましい。これにより、第1透明接着層95の厚みT又は第2透明接着層96の厚みTが厚くなりすぎることがなく、画像表示装置60の全体としての厚みを薄くできる。 The thickness of at least one of the thickness T 3 of the first transparent adhesive layer 95 and the thickness T 4 of the second transparent adhesive layer 96 is preferably 10 times or less, and preferably 5 times or less, the thickness T 1 of the substrate 11. More preferably. Thereby, the thickness T 3 of the first transparent adhesive layer 95 or the thickness T 4 of the second transparent adhesive layer 96 does not become too thick, and the overall thickness of the image display device 60 can be reduced.

図2において、第1透明接着層95の厚みTと第2透明接着層96の厚みTとが、互いに同一であっても良い。この場合、第1透明接着層95の厚みT及び第2透明接着層96の厚みTは、それぞれ基板11の厚みTの1.5倍以上であっても良く、2.0倍以上であることが好ましい。すなわち、第1透明接着層95の厚みT及び第2透明接着層96の厚みTの合計(すなわち、T+T)は、基板11の厚みTの3倍以上となる。このように、基板11の厚みTに対して、第1透明接着層95及び第2透明接着層96の厚みT、Tの合計を十分に厚くすることにより、基板11と重なる領域で、第1透明接着層95及び第2透明接着層96が厚み方向に変形(収縮)する。これにより、第1透明接着層95及び第2透明接着層96が、基板11の厚みを吸収する。このため、基板11の周縁において、第1透明接着層95又は第2透明接着層96に段差が生じることを抑えることができ、基板11の存在を観察者が認識しにくくできる。 In FIG. 2, the thickness T 3 of the first transparent adhesive layer 95 and the thickness T 4 of the second transparent adhesive layer 96 may be the same. In this case, the thickness T 3 of the first transparent adhesive layer 95 and the thickness T 4 of the second transparent adhesive layer 96 may be 1.5 times or more, and 2.0 times or more, the thickness T 1 of the substrate 11, respectively. It is preferable that That is, the sum of the thickness T 3 of the first transparent adhesive layer 95 and the thickness T 4 of the second transparent adhesive layer 96 (ie, T 3 +T 4 ) is three times or more the thickness T 1 of the substrate 11. In this way, by making the sum of the thicknesses T 3 and T 4 of the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96 sufficiently thick with respect to the thickness T 1 of the substrate 11, the area overlapping with the substrate 11 can be , the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96 deform (shrink) in the thickness direction. As a result, the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96 absorb the thickness of the substrate 11. Therefore, it is possible to suppress the formation of a step in the first transparent adhesive layer 95 or the second transparent adhesive layer 96 at the periphery of the substrate 11, making it difficult for an observer to recognize the presence of the substrate 11.

第1透明接着層95の厚みTと第2透明接着層96の厚みTとが互いに同一である場合、第1透明接着層95の厚みT及び第2透明接着層96の厚みTは、それぞれ基板11の厚みTの5倍以下であっても良く、3倍以下であることが好ましい。これにより、第1透明接着層95及び第2透明接着層96の両方の厚みT、Tが厚くなりすぎることがなく、画像表示装置60の全体としての厚みを薄くできる。 When the thickness T 3 of the first transparent adhesive layer 95 and the thickness T 4 of the second transparent adhesive layer 96 are the same, the thickness T 3 of the first transparent adhesive layer 95 and the thickness T 4 of the second transparent adhesive layer 96 are the same. may be 5 times or less, and preferably 3 times or less, respectively, than the thickness T1 of the substrate 11 . Thereby, the thicknesses T 3 and T 4 of both the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96 do not become too thick, and the overall thickness of the image display device 60 can be reduced.

具体的には、基板11の厚みTは、例えば2μm以上であっても良く、10μm以上であっても良く、15μm以上であることが好ましい。基板11の厚みTを2μm以上とすることにより、配線基板10の強度を保持し、メッシュ配線層20の後述する第1方向配線21及び第2方向配線22が変形しにくいようにできる。また、基板11の厚みTは、例えば200μm以下であっても良く、50μm以下であっても良く、25μm以下であることが好ましい。基板11の厚みTを200μm以下とすることにより、基板11の周縁において第1透明接着層95及び第2透明接着層96に段差が生じることを抑え、基板11の存在を観察者が認識しにくくできる。また、基板11の厚みTを50μm以下とすることにより、基板11の周縁において第1透明接着層95及び第2透明接着層96に段差が生じることを更に抑え、基板11の存在を観察者がより認識しにくくできる。 Specifically, the thickness T 1 of the substrate 11 may be, for example, 2 μm or more, 10 μm or more, and preferably 15 μm or more. By setting the thickness T 1 of the substrate 11 to 2 μm or more, the strength of the wiring board 10 can be maintained, and the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22, which will be described later, of the mesh wiring layer 20 can be made difficult to deform. Further, the thickness T 1 of the substrate 11 may be, for example, 200 μm or less, 50 μm or less, and preferably 25 μm or less. By setting the thickness T 1 of the substrate 11 to 200 μm or less, the formation of a step between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96 at the periphery of the substrate 11 can be suppressed, and the presence of the substrate 11 can be prevented from being recognized by the observer. It can be made difficult. Furthermore, by setting the thickness T 1 of the substrate 11 to 50 μm or less, the formation of a step between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96 at the periphery of the substrate 11 can be further suppressed, and the presence of the substrate 11 can be made clear to the observer. can be made more difficult to recognize.

第1透明接着層95の厚みTは、例えば15μm以上であっても良く、20μm以上であることが好ましい。第1透明接着層95の厚みTは、例えば500μm以下であっても良く、300μm以下であることが好ましく、250μm以下であることが更に好ましい。第2透明接着層96の厚みTは、例えば15μm以上であっても良く、20μm以上であることが好ましい。第2透明接着層96の厚みTは、例えば500μm以下であっても良く、300μm以下であることが好ましく、250μm以下であることが更に好ましい。 The thickness T 3 of the first transparent adhesive layer 95 may be, for example, 15 μm or more, and preferably 20 μm or more. The thickness T 3 of the first transparent adhesive layer 95 may be, for example, 500 μm or less, preferably 300 μm or less, and more preferably 250 μm or less. The thickness T 4 of the second transparent adhesive layer 96 may be, for example, 15 μm or more, and preferably 20 μm or more. The thickness T 4 of the second transparent adhesive layer 96 may be, for example, 500 μm or less, preferably 300 μm or less, and more preferably 250 μm or less.

再度図2を参照すると、カバーガラス75は、第1透明接着層95上に直接的又は間接的に配置されている。このカバーガラス75は、光を透過するガラス製の部材である。カバーガラス75は、板状であり、カバーガラス75の形状は、平面視で矩形であっても良い。カバーガラス75の厚みは、例えば200μm以上1000μm以下であっても良く、300μm以上700μm以下であることが好ましい。カバーガラス75の長手方向(すなわち、Y方向)の長さは、例えば20mm以上500mm以下、望ましくは100mm以上200mm以下であっても良い。カバーガラス75の短手方向(すなわち、X方向)の長さは、20mm以上500mm以下、望ましくは50mm以上100mm以下であっても良い。 Referring again to FIG. 2, the cover glass 75 is disposed directly or indirectly on the first transparent adhesive layer 95. This cover glass 75 is a glass member that transmits light. The cover glass 75 has a plate shape, and the shape of the cover glass 75 may be rectangular in plan view. The thickness of the cover glass 75 may be, for example, 200 μm or more and 1000 μm or less, and preferably 300 μm or more and 700 μm or less. The length of the cover glass 75 in the longitudinal direction (that is, the Y direction) may be, for example, 20 mm or more and 500 mm or less, preferably 100 mm or more and 200 mm or less. The length of the cover glass 75 in the lateral direction (that is, the X direction) may be 20 mm or more and 500 mm or less, preferably 50 mm or more and 100 mm or less.

図1に示すように、画像表示装置60の形状は、平面視で、全体として略長方形であり、その長手方向がY方向に平行であり、その短手方向がX方向に平行となっている。画像表示装置60の長手方向(すなわち、Y方向)の長さLは、例えば20mm以上500mm以下、望ましくは100mm以上200mm以下の範囲で選択できる。画像表示装置60の短手方向(すなわち、X方向)の長さLは、例えば20mm以上500mm以下、望ましくは50mm以上100mm以下の範囲で選択できる。なお、画像表示装置60の平面形状は、その角部がそれぞれ丸みを帯びた長方形であっても良い。 As shown in FIG. 1, the shape of the image display device 60 is generally rectangular in plan view, with its longitudinal direction parallel to the Y direction, and its transversal direction parallel to the X direction. . The length L4 of the image display device 60 in the longitudinal direction (that is, the Y direction) can be selected, for example, from 20 mm to 500 mm, preferably from 100 mm to 200 mm. The length L5 of the image display device 60 in the lateral direction (that is, the X direction) can be selected, for example, from 20 mm to 500 mm, preferably from 50 mm to 100 mm. Note that the planar shape of the image display device 60 may be a rectangle with rounded corners.

次に、図3乃至図6を参照して、配線基板の構成について説明する。図3乃至図6は、本実施の形態による配線基板を示す図である。 Next, the configuration of the wiring board will be described with reference to FIGS. 3 to 6. 3 to 6 are diagrams showing the wiring board according to this embodiment.

図3に示すように、本実施の形態による配線基板10は、上述した画像表示装置60(図1及び図2参照)に用いられる基板である。配線基板10は、表示装置61よりも発光面64側であって、第1透明接着層95と第2透明接着層96との間に配置され得る。このような配線基板10は、上述したように、透明性を有する基板11と、基板11上に配置されたメッシュ配線層20とを有する。また、メッシュ配線層20には、給電部40が電気的に接続されている。 As shown in FIG. 3, the wiring board 10 according to this embodiment is a board used in the above-described image display device 60 (see FIGS. 1 and 2). The wiring board 10 may be placed closer to the light emitting surface 64 than the display device 61 and between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96. As described above, such a wiring board 10 includes a transparent substrate 11 and a mesh wiring layer 20 disposed on the substrate 11. Furthermore, a power supply unit 40 is electrically connected to the mesh wiring layer 20 .

基板11の形状は、平面視で略長方形であり、基板11は、透明性を有するとともに略平板状であり、その厚みは全体として略均一となっている。第1方向(すなわち、Y方向)における基板11の長さLは、例えば3mm以上300mm以下の範囲で選択できる。第2方向(すなわち、X方向)における基板11の長さL(図1参照)は、例えば3mm以上300mm以下の範囲で選択できる。なお、基板11の平面形状は、その角部がそれぞれ丸みを帯びた長方形であっても良い。 The shape of the substrate 11 is approximately rectangular in plan view, and the substrate 11 is transparent, approximately flat, and has an approximately uniform thickness as a whole. The length L1 of the substrate 11 in the first direction (that is, the Y direction) can be selected within a range of, for example, 3 mm or more and 300 mm or less. The length L 2 (see FIG. 1 ) of the substrate 11 in the second direction (that is, the X direction) can be selected, for example, in a range of 3 mm or more and 300 mm or less. Note that the planar shape of the substrate 11 may be a rectangle with rounded corners.

基板11の材料は、可視光線領域での透明性と電気絶縁性とを有する材料であれば良い。基板11の材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、セルロース系樹脂、又はフッ素樹脂材料等の有機絶縁性材料が用いられることが好ましい。ポリエステル系樹脂は、ポリエチレンテレフタレート等であっても良い。アクリル系樹脂は、ポリメチルメタクリレート等であっても良い。ポリオレフィン系樹脂は、シクロオレフィン重合体等であっても良い。セルロース系樹脂は、トリアセチルセルロース等であっても良い。フッ素樹脂材料は、PTFE又はPFA等であっても良い。例えば、基板11の材料としては、シクロオレフィンポリマー(例えば日本ゼオン社製ZF-16)、又はポリノルボルネンポリマー(住友ベークライト社製)等の有機絶縁性材料が用いられても良い。また、基板11の材料としては、用途に応じてガラス、又はセラミックス等が適宜選択されても良い。なお、基板11は、単一の層によって構成された例を図示したが、これに限定されず、複数の基材又は層が積層された構造であっても良い。また、基板11はフィルム状の部材であっても良く、板状の部材であっても良い。 The material of the substrate 11 may be any material as long as it has transparency in the visible light region and electrical insulation. As the material for the substrate 11, it is preferable to use, for example, an organic insulating material such as polyester resin, acrylic resin, polycarbonate resin, polyimide resin, polyolefin resin, cellulose resin, or fluororesin material. The polyester resin may be polyethylene terephthalate or the like. The acrylic resin may be polymethyl methacrylate or the like. The polyolefin resin may be a cycloolefin polymer or the like. The cellulose resin may be triacetyl cellulose or the like. The fluororesin material may be PTFE, PFA, or the like. For example, as the material for the substrate 11, an organic insulating material such as a cycloolefin polymer (for example, ZF-16 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) or a polynorbornene polymer (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) may be used. Further, as the material of the substrate 11, glass, ceramics, or the like may be appropriately selected depending on the purpose. Although the substrate 11 is illustrated as being composed of a single layer, it is not limited thereto, and may have a structure in which a plurality of base materials or layers are laminated. Further, the substrate 11 may be a film-like member or a plate-like member.

基板11の誘電正接は、0.002以下であっても良く、0.001以下であることが好ましい。なお、基板11の誘電正接の下限は特に限定されないが、0超としても良い。基板11の誘電正接が上記範囲であることにより、とりわけメッシュ配線層20が送受信する電磁波(例えばミリ波)が高周波である場合に、電磁波の送受信に伴う利得の損失(すなわち、感度の低下)を小さくできる。 The dielectric loss tangent of the substrate 11 may be 0.002 or less, and preferably 0.001 or less. Note that the lower limit of the dielectric loss tangent of the substrate 11 is not particularly limited, but may be greater than 0. By setting the dielectric loss tangent of the substrate 11 within the above range, especially when the electromagnetic waves (for example, millimeter waves) transmitted and received by the mesh wiring layer 20 are high-frequency, loss of gain (i.e., decrease in sensitivity) accompanying transmission and reception of electromagnetic waves can be avoided. Can be made smaller.

基板11の比誘電率は、特に制限はないが、2以上10以下であることが好ましい。基板11の比誘電率が2以上であることにより、基板11の材料の選択肢を多くできる。また、基板11の比誘電率が10以下であることにより、電磁波の送受信に伴う利得の損失を小さくできる。すなわち、基板11の比誘電率が大きくなった場合、基板11の厚みが電磁波の伝搬に与える影響が、大きくなる。また、電磁波の伝搬に悪影響がある場合、基板11の誘電正接が大きくなり、電磁波の送受信に伴う利得の損失が大きくなり得る。これに対して、基板11の比誘電率が10以下であることにより、基板11の厚みが電磁波の伝搬に与える影響を小さくできる。このため、電磁波の送受信に伴う利得の損失を小さくできる。とりわけメッシュ配線層20が送受信する電磁波(例えばミリ波)が高周波である場合に、電磁波の送受信に伴う利得の損失を小さくできる。 The dielectric constant of the substrate 11 is not particularly limited, but is preferably 2 or more and 10 or less. Since the dielectric constant of the substrate 11 is 2 or more, there are many choices for the material of the substrate 11. Further, since the dielectric constant of the substrate 11 is 10 or less, gain loss accompanying transmission and reception of electromagnetic waves can be reduced. That is, when the dielectric constant of the substrate 11 increases, the influence of the thickness of the substrate 11 on the propagation of electromagnetic waves increases. Further, if there is an adverse effect on the propagation of electromagnetic waves, the dielectric loss tangent of the substrate 11 may increase, and gain loss accompanying transmission and reception of electromagnetic waves may increase. On the other hand, since the dielectric constant of the substrate 11 is 10 or less, the influence of the thickness of the substrate 11 on the propagation of electromagnetic waves can be reduced. Therefore, gain loss associated with transmission and reception of electromagnetic waves can be reduced. Particularly when the electromagnetic waves (for example, millimeter waves) transmitted and received by the mesh wiring layer 20 are high-frequency waves, the gain loss accompanying the transmission and reception of electromagnetic waves can be reduced.

基板11の誘電正接及び比誘電率は、IEC 62562に準拠して測定できる。具体的には、まず、メッシュ配線層20が形成されてない部分の基板11を切り出して試験片を準備する。又は、メッシュ配線層20が形成された基板11を切り出し、エッチング等によりメッシュ配線層20を除去しても良い。試験片の寸法は、幅10mm以上20mm以下、長さ50mm以上100mm以下とする。次に、IEC 62562に準拠し、誘電正接又は比誘電率を測定する。基板11の誘電正接及び比誘電率は、ASTM D150に準拠して測定されても良い。 The dielectric loss tangent and dielectric constant of the substrate 11 can be measured in accordance with IEC 62562. Specifically, first, a test piece is prepared by cutting out a portion of the substrate 11 where the mesh wiring layer 20 is not formed. Alternatively, the substrate 11 on which the mesh wiring layer 20 is formed may be cut out, and the mesh wiring layer 20 may be removed by etching or the like. The dimensions of the test piece shall be a width of 10 mm or more and 20 mm or less, and a length of 50 mm or more and 100 mm or less. Next, the dielectric loss tangent or dielectric constant is measured in accordance with IEC 62562. The dielectric loss tangent and dielectric constant of the substrate 11 may be measured in accordance with ASTM D150.

本実施の形態では、基板11は、透明性を有している。本明細書中、「透明性を有する」とは、可視光線(すなわち、波長400nm以上700nm以下の光線)の透過率が85%以上であることを意味する。基板11は、可視光線の透過率が85%以上であっても良く、90%以上であることが好ましい。なお、基板11の可視光線の透過率の上限は特にないが、例えば100%以下であっても良い。基板11の可視光線の透過率を上記範囲とすることにより、配線基板10の透明性を高め、画像表示装置60の表示装置61を視認しやすくできる。 In this embodiment, the substrate 11 has transparency. As used herein, "having transparency" means that the transmittance of visible light (that is, light having a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less) is 85% or more. The substrate 11 may have a visible light transmittance of 85% or more, preferably 90% or more. Note that there is no particular upper limit to the visible light transmittance of the substrate 11, but it may be, for example, 100% or less. By setting the visible light transmittance of the substrate 11 within the above range, the transparency of the wiring board 10 can be increased and the display device 61 of the image display device 60 can be easily recognized.

本実施の形態において、メッシュ配線層20は、アンテナとしての機能をもつアンテナパターンからなっている。このメッシュ配線層20は、アレイアンテナとして機能する。このように、メッシュ配線層20が、アレイアンテナとして機能する場合、直進性の高いミリ波を送受信するミリ波用アンテナ性能を高めることができる。なお、アレイアンテナとは、複数のアンテナ素子(放射素子)を規則的に配置したアンテナであって、素子の励振の振幅及び位相を独立して制御できるアンテナをいう。 In this embodiment, the mesh wiring layer 20 consists of an antenna pattern that functions as an antenna. This mesh wiring layer 20 functions as an array antenna. In this manner, when the mesh wiring layer 20 functions as an array antenna, the performance of the millimeter wave antenna for transmitting and receiving highly straight millimeter waves can be improved. Note that an array antenna is an antenna in which a plurality of antenna elements (radiating elements) are regularly arranged, and the amplitude and phase of excitation of the elements can be independently controlled.

メッシュ配線層20は、基板11上に3つ形成されている(図1参照)。また、図3に示すように、メッシュ配線層20は、基板11の全面に存在するのではなく、基板11上の一部領域のみに存在していても良い。各々のメッシュ配線層20は、互いに同一形状を有していても良い。この場合、各々のメッシュ配線層20は、その長さ(すなわち、Y方向の長さ)Lの誤差及び幅(X方向の長さ)Wの誤差が、それぞれ10%内であることが好ましい。これにより、ミリ波用アンテナ性能を効果的に高めることができる。 Three mesh wiring layers 20 are formed on the substrate 11 (see FIG. 1). Furthermore, as shown in FIG. 3, the mesh wiring layer 20 may not exist over the entire surface of the substrate 11, but may exist only in a partial area on the substrate 11. Each mesh wiring layer 20 may have the same shape. In this case, each mesh wiring layer 20 has an error in its length (that is, length in the Y direction) La and width (length in the X direction) W a within 10%. preferable. Thereby, the performance of the millimeter wave antenna can be effectively improved.

このメッシュ配線層20は、所定の周波数帯に対応している。すなわち、メッシュ配線層20は、その長さ(Y方向の長さ)Lが特定の周波数帯に対応した長さとなっている。なお、対応する周波数帯が低周波であるほどメッシュ配線層20の長さLが長くなる。メッシュ配線層20は、ミリ波用アンテナの他、電話用アンテナ、WiFi用アンテナ、3G用アンテナ、4G用アンテナ、5G用アンテナ、LTE用アンテナ、Bluetooth(登録商標)用アンテナ、NFC用アンテナ等のいずれかに対応していても良い。なお、複数のメッシュ配線層20の長さが互いに異なり、それぞれ異なる周波数帯に対応しても良い。あるいは、配線基板10が電波送受信機能を有していない場合、各メッシュ配線層20は、例えばホバリング機能、指紋認証、ヒーター、ノイズカット(シールド)等の機能を果たしても良い。なお、ホバリング機能とは、使用者がディスプレイに直接触れなくても操作可能となる機能をいう。 This mesh wiring layer 20 corresponds to a predetermined frequency band. That is, the length (length in the Y direction) La of the mesh wiring layer 20 corresponds to a specific frequency band. Note that the lower the corresponding frequency band is, the longer the length La of the mesh wiring layer 20 becomes. In addition to millimeter wave antennas, the mesh wiring layer 20 can also be used for telephone antennas, WiFi antennas, 3G antennas, 4G antennas, 5G antennas, LTE antennas, Bluetooth (registered trademark) antennas, NFC antennas, etc. It may correspond to either one. Note that the plurality of mesh wiring layers 20 may have different lengths and correspond to different frequency bands. Alternatively, if the wiring board 10 does not have a radio wave transmission/reception function, each mesh wiring layer 20 may perform functions such as a hovering function, fingerprint authentication, a heater, and a noise cut (shield). Note that the hovering function is a function that allows the user to operate the display without directly touching it.

メッシュ配線層20は、給電部40側の基端側部分20aと、基端側部分20aに接続された先端側部分20bとを有する。基端側部分20aは、給電部40に接続されている。基端側部分20aの形状と先端側部分20bの形状とは、それぞれ平面視で略長方形である。この場合、先端側部分20bの長さ(すなわち、Y方向距離)は基端側部分20aの長さ(すなわち、Y方向距離)よりも長く、先端側部分20bの幅(すなわち、X方向距離)は基端側部分20aの幅(すなわち、X方向距離)よりも広い。 The mesh wiring layer 20 has a base end portion 20a on the power feeding unit 40 side, and a distal end portion 20b connected to the base end portion 20a. The base end portion 20a is connected to the power feeding section 40. The shape of the proximal end portion 20a and the shape of the distal end portion 20b are each substantially rectangular in plan view. In this case, the length of the distal end portion 20b (i.e., the distance in the Y direction) is longer than the length of the proximal end portion 20a (i.e., the distance in the Y direction), and the width of the distal end portion 20b (i.e., the distance in the X direction) is wider than the width of the proximal portion 20a (ie, the distance in the X direction).

メッシュ配線層20は、その長手方向がY方向に平行であり、その短手方向がX方向に平行となっている。メッシュ配線層20の長手方向(すなわち、Y方向)の長さLは、例えば3mm以上100mm以下の範囲で選択できる。メッシュ配線層20の先端側部分20bの短手方向(すなわち、X方向)の幅Wは、例えば1mm以上10mm以下の範囲で選択できる。とりわけ、メッシュ配線層20は、ミリ波用アンテナであっても良い。メッシュ配線層20がミリ波用アンテナである場合、メッシュ配線層20の長さLは、1mm以上、より好ましくは1.5mm以上の範囲で選択できる。メッシュ配線層20がミリ波用アンテナである場合、メッシュ配線層20の長さLは、10mm以下、より好ましくは5mm以下の範囲で選択できる。 The mesh wiring layer 20 has its longitudinal direction parallel to the Y direction, and its transversal direction parallel to the X direction. The length La of the mesh wiring layer 20 in the longitudinal direction (that is, the Y direction) can be selected within a range of, for example, 3 mm or more and 100 mm or less. The width Wa of the tip side portion 20b of the mesh wiring layer 20 in the transverse direction (that is, the X direction) can be selected, for example, in the range of 1 mm or more and 10 mm or less. In particular, the mesh wiring layer 20 may be a millimeter wave antenna. When the mesh wiring layer 20 is a millimeter wave antenna, the length La of the mesh wiring layer 20 can be selected in the range of 1 mm or more, more preferably 1.5 mm or more. When the mesh wiring layer 20 is a millimeter wave antenna, the length La of the mesh wiring layer 20 can be selected within a range of 10 mm or less, more preferably 5 mm or less.

メッシュ配線層20は、それぞれ金属線が格子状又は網目状に配置されたパターン形状を有している。このパターン形状は、X方向及びY方向に繰り返し配置されている。すなわちメッシュ配線層20は、第1方向(例えば、Y方向)に延びる部分(すなわち、第1方向配線21)と、第2方向(例えば、X方向)に延びる部分(すなわち、第2方向配線22)とから構成されるパターン形状を有している。 Each mesh wiring layer 20 has a pattern shape in which metal wires are arranged in a grid or mesh pattern. This pattern shape is repeatedly arranged in the X direction and the Y direction. That is, the mesh wiring layer 20 includes a portion extending in the first direction (for example, the Y direction) (i.e., the first direction wiring 21) and a portion extending in the second direction (for example, the X direction) (i.e., the second direction wiring 22). ).

図4に示すように、メッシュ配線層20は、複数の配線を有している。具体的には、メッシュ配線層20は、アンテナとしての機能をもつ複数の第1方向配線(配線)21と、複数の第1方向配線21を連結する複数の第2方向配線(配線)22とを有している。複数の第1方向配線21と複数の第2方向配線22とは、全体として一体となって、格子状又は網目状の形状を形成している。各第1方向配線21は、メッシュ配線層20の長手方向(すなわち、Y方向)に直線状に延びている。各第2方向配線22は、メッシュ配線層20の幅方向(すなわち、X方向)に直線状に延びている。第1方向配線21は、所定の周波数帯に対応する長さL(図3参照)を有することにより、主としてアンテナとしての機能を発揮する。ここで、長さLは、上述したメッシュ配線層20の長さである。一方、第2方向配線22は、これらの第1方向配線21同士を連結することにより、第1方向配線21が断線したり、第1方向配線21と給電部40とが電気的に接続しなくなったりする不具合を抑える役割を果たす。 As shown in FIG. 4, the mesh wiring layer 20 has a plurality of wirings. Specifically, the mesh wiring layer 20 includes a plurality of first direction wirings (wirings) 21 that function as antennas, and a plurality of second direction wirings (wirings) 22 that connect the plurality of first direction wirings 21. have. The plurality of first direction wirings 21 and the plurality of second direction wirings 22 are integrated as a whole to form a lattice-like or mesh-like shape. Each first direction wiring 21 extends linearly in the longitudinal direction of the mesh wiring layer 20 (ie, the Y direction). Each second direction wiring 22 extends linearly in the width direction of the mesh wiring layer 20 (ie, the X direction). The first direction wiring 21 mainly functions as an antenna by having a length L a (see FIG. 3) corresponding to a predetermined frequency band. Here, the length L a is the length of the mesh wiring layer 20 described above. On the other hand, the second direction wiring 22 connects these first direction wirings 21 to each other, so that the first direction wiring 21 is disconnected or the first direction wiring 21 and the power feeding part 40 are not electrically connected. It plays a role in suppressing problems that may occur.

メッシュ配線層20においては、互いに隣接する第1方向配線21と、互いに隣接する第2方向配線22とに取り囲まれることにより、複数の開口部23が形成されている。また、第1方向配線21と第2方向配線22とは互いに等間隔に配置されている。すなわち複数の第1方向配線21は、互いに等間隔に配置され、そのピッチPは、例えば0.01mm以上1mm以下の範囲とすることができる。また、複数の第2方向配線22は、互いに等間隔に配置され、そのピッチPは、例えば0.01mm以上1mm以下の範囲とすることができる。このように、複数の第1方向配線21と複数の第2方向配線22とがそれぞれ等間隔に配置されていることにより、メッシュ配線層20内で開口部23の大きさにばらつきがなくなり、メッシュ配線層20を肉眼で視認しにくくできる。また、第1方向配線21のピッチPは、第2方向配線22のピッチPと等しい。このため、各開口部23は、それぞれ平面視略正方形状となっており、各開口部23からは、透明性を有する基板11が露出している。このため、各開口部23の面積を広くすることにより、配線基板10全体としての透明性を高めることができる。なお、各開口部23の一辺の長さLは、例えば0.01mm以上1mm以下の範囲とすることができる。なお、各第1方向配線21と各第2方向配線22とは、互いに直交しているが、これに限らず、互いに鋭角又は鈍角に交差していても良い。また、開口部23の形状は、全面で同一形状同一サイズとするのが好ましいが、場所によって変えるなど全面で均一としなくても良い。 In the mesh wiring layer 20, a plurality of openings 23 are formed by being surrounded by first direction wirings 21 adjacent to each other and second direction wirings 22 adjacent to each other. Further, the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22 are arranged at equal intervals from each other. That is, the plurality of first direction wirings 21 are arranged at regular intervals, and the pitch P1 thereof can be, for example, in a range of 0.01 mm or more and 1 mm or less. Further, the plurality of second direction wirings 22 are arranged at regular intervals, and the pitch P2 thereof can be, for example, in a range of 0.01 mm or more and 1 mm or less. As described above, since the plurality of first direction wirings 21 and the plurality of second direction wirings 22 are arranged at equal intervals, there is no variation in the size of the openings 23 within the mesh wiring layer 20, and the mesh The wiring layer 20 can be made difficult to see with the naked eye. Furthermore, the pitch P 1 of the first direction wiring 21 is equal to the pitch P 2 of the second direction wiring 22 . Therefore, each opening 23 has a substantially square shape in plan view, and the transparent substrate 11 is exposed from each opening 23. Therefore, by increasing the area of each opening 23, the transparency of the wiring board 10 as a whole can be improved. Note that the length L3 of one side of each opening 23 can be in the range of, for example, 0.01 mm or more and 1 mm or less. Note that, although each first direction wiring 21 and each second direction wiring 22 are orthogonal to each other, the present invention is not limited thereto, and they may intersect each other at an acute angle or an obtuse angle. Further, the shape of the opening 23 is preferably the same shape and size over the entire surface, but it may not be uniform over the entire surface, such as changing depending on the location.

図5に示すように、各第1方向配線21は、その長手方向に垂直な断面(すなわち、X方向断面)が略長方形又は略正方形となる形状を有している。この場合、第1方向配線21の断面形状は、第1方向配線21の長手方向(すなわち、Y方向)に沿って略均一となっている。図6に示すように、各第2方向配線22は、その長手方向に垂直な断面(すなわち、Y方向断面)が略長方形又は略正方形となる形状を有しており、上述した第1方向配線21の断面(すなわち、X方向断面)形状と略同一の形状を有している。この場合、第2方向配線22の断面形状は、第2方向配線22の長手方向(すなわち、X方向)に沿って略均一となっている。第1方向配線21の断面形状と第2方向配線22の断面形状とは、必ずしも略長方形又は略正方形でなくても良い。例えば、第1方向配線21の断面形状と第2方向配線22の断面形状とが、表面側(すなわち、Z方向プラス側)が裏面側(すなわち、Z方向マイナス側)よりも狭い略台形、あるいは、幅方向両側に位置する側面が湾曲した形状であっても良い。 As shown in FIG. 5, each first direction wiring 21 has a shape in which a cross section perpendicular to the longitudinal direction (that is, a cross section in the X direction) is approximately rectangular or approximately square. In this case, the cross-sectional shape of the first direction wiring 21 is substantially uniform along the longitudinal direction of the first direction wiring 21 (ie, the Y direction). As shown in FIG. 6, each second direction wiring 22 has a shape in which a cross section perpendicular to the longitudinal direction (i.e., Y direction cross section) is approximately rectangular or approximately square, and the first direction wiring described above It has substantially the same shape as the cross-sectional shape of 21 (that is, the cross-sectional shape in the X direction). In this case, the cross-sectional shape of the second direction wiring 22 is substantially uniform along the longitudinal direction (ie, the X direction) of the second direction wiring 22. The cross-sectional shape of the first direction wiring 21 and the cross-sectional shape of the second direction wiring 22 do not necessarily have to be approximately rectangular or approximately square. For example, the cross-sectional shape of the first direction wiring 21 and the cross-sectional shape of the second direction wiring 22 are approximately trapezoidal in which the front side (i.e., the positive side in the Z direction) is narrower than the back side (i.e., the negative side in the Z direction), or , the side surfaces located on both sides in the width direction may be curved.

本実施の形態において、第1方向配線21の線幅W(図5参照)及び第2方向配線22の線幅W(図6参照)は、特に限定されず、用途に応じて適宜選択できる。ここで、第1方向配線21の線幅Wは、その長手方向に垂直な断面における幅(すなわち、X方向の長さ)であり、第2方向配線22の線幅Wは、その長手方向に垂直な断面における幅(すなわち、Y方向の長さ)である。例えば、第1方向配線21の線幅Wは0.1μm以上5.0μm以下の範囲で選択でき、0.2μm以上2.0μm以下とすることが好ましい。また、第2方向配線22の線幅Wは、0.1μm以上5.0μm以下の範囲で選択でき、0.2μm以上2.0μm以下とすることが好ましい。 In this embodiment, the line width W 1 (see FIG. 5) of the first direction wiring 21 and the line width W 2 (see FIG. 6) of the second direction wiring 22 are not particularly limited, and are appropriately selected depending on the application. can. Here, the line width W 1 of the first direction wiring 21 is the width in a cross section perpendicular to its longitudinal direction (that is, the length in the X direction), and the line width W 2 of the second direction wiring 22 is the width in the cross section perpendicular to its longitudinal direction. It is the width in a cross section perpendicular to the direction (that is, the length in the Y direction). For example, the line width W 1 of the first direction wiring 21 can be selected in the range of 0.1 μm or more and 5.0 μm or less, and preferably 0.2 μm or more and 2.0 μm or less. Further, the line width W 2 of the second direction wiring 22 can be selected in the range of 0.1 μm or more and 5.0 μm or less, and preferably 0.2 μm or more and 2.0 μm or less.

第1方向配線21の高さH(図5参照)及び第2方向配線22の高さH(図6参照)は特に限定されず、用途に応じて適宜選択できる。ここで、第1方向配線21の高さH及び第2方向配線22の高さHは、それぞれZ方向の長さである。第1方向配線21の高さH及び第2方向配線22の高さHは、それぞれ例えば0.1μm以上5.0μm以下の範囲で選択でき、0.2μm以上2.0μm以下とすることが好ましい。 The height H 1 (see FIG. 5) of the first direction wiring 21 and the height H 2 (see FIG. 6) of the second direction wiring 22 are not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the application. Here, the height H 1 of the first direction wiring 21 and the height H 2 of the second direction wiring 22 are each a length in the Z direction. The height H 1 of the first direction wiring 21 and the height H 2 of the second direction wiring 22 can be selected, for example, in the range of 0.1 μm or more and 5.0 μm or less, and should be 0.2 μm or more and 2.0 μm or less. is preferred.

第1方向配線21及び第2方向配線22の材料は、導電性を有する金属材料であれば良い。本実施の形態において第1方向配線21及び第2方向配線22の材料は銅であるが、これに限定されない。第1方向配線21及び第2方向配線22の材料は、例えば、金、銀、銅、白金、錫、アルミニウム、鉄若しくはニッケルなどの金属材料、又はこれらの金属を含む合金を用いることができる。また、第1方向配線21及び第2方向配線22は、電解めっき法によって形成されためっき層であっても良い。 The first direction wiring 21 and the second direction wiring 22 may be made of any metal material as long as it has conductivity. In this embodiment, the material of the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22 is copper, but is not limited thereto. As the material of the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22, for example, a metal material such as gold, silver, copper, platinum, tin, aluminum, iron, or nickel, or an alloy containing these metals can be used. Moreover, the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22 may be plated layers formed by electrolytic plating.

メッシュ配線層20の全体の開口率Atは、例えば87%以上100%未満の範囲であっても良い。メッシュ配線層20の全体の開口率Atをこの範囲とすることにより、配線基板10の導電性と透明性を確保できる。メッシュ配線層20の全体の開口率Atは、95%以上100%未満であることが好ましい。これにより、配線基板10の導電性を確保しつつ、配線基板10の透明性を高くできる。なお、開口率とは、所定の領域(例えばメッシュ配線層20の全域)の単位面積に占める、開口領域の面積の割合(%)をいう。開口領域とは、第1方向配線21、第2方向配線22等の金属部分が存在せず、基板11が露出する領域をいう。 The overall aperture ratio At of the mesh wiring layer 20 may be in a range of, for example, 87% or more and less than 100%. By setting the overall aperture ratio At of the mesh wiring layer 20 within this range, the conductivity and transparency of the wiring board 10 can be ensured. The overall aperture ratio At of the mesh wiring layer 20 is preferably 95% or more and less than 100%. Thereby, the transparency of the wiring board 10 can be increased while ensuring the conductivity of the wiring board 10. Note that the aperture ratio refers to the ratio (%) of the area of the open area to the unit area of a predetermined area (for example, the entire area of the mesh wiring layer 20). The open area refers to an area where metal parts such as the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22 are not present and the substrate 11 is exposed.

ところで、配線基板10に対して耐屈曲性試験を行った場合、メッシュ配線層20の抵抗値の増大量が20%以下となっても良く、10%以下となっても良い。耐屈曲性試験とは、円筒形マンドレル屈曲試験器を用いて、配線基板10を直径1mmの円筒の周囲に沿って180°曲げた後伸ばす作業を100回行う試験をいう。 By the way, when a bending resistance test is performed on the wiring board 10, the amount of increase in the resistance value of the mesh wiring layer 20 may be 20% or less, or may be 10% or less. The bending resistance test is a test in which the wiring board 10 is bent 180° along the circumference of a cylinder with a diameter of 1 mm and then stretched 100 times using a cylindrical mandrel bending tester.

具体的には、以下のように試験を行う。まず、メッシュ配線層20の長手方向両端間の電気抵抗値を測定する。このときの抵抗値をR0(Ω)とする。次に、配線基板10を円筒形マンドレル屈曲試験器の円筒に巻きつけ、配線基板10の長手方向両端が180°反対方向を向くようにする。その後、配線基板10を円筒から取り除き、平坦に伸ばす。この作業を100回繰り返す。その後、メッシュ配線層20の長手方向両端間の電気抵抗値を再度測定する。このときの抵抗値をR(Ω)とする。このとき((R-R)/R)×100(%)によって求めた値を抵抗値の増大量とする。この抵抗値の増大量が20%以下となることにより、配線基板10を湾曲又は屈曲して用いる場合に、配線基板10の耐久性を向上できる。 Specifically, the test is conducted as follows. First, the electrical resistance value between both longitudinal ends of the mesh wiring layer 20 is measured. The resistance value at this time is R0 (Ω). Next, the wiring board 10 is wound around the cylinder of a cylindrical mandrel bending tester so that both longitudinal ends of the wiring board 10 face 180 degrees in opposite directions. Thereafter, the wiring board 10 is removed from the cylinder and stretched flat. Repeat this task 100 times. After that, the electrical resistance value between both longitudinal ends of the mesh wiring layer 20 is measured again. The resistance value at this time is R 1 (Ω). At this time, the value obtained by ((R 1 -R 0 )/R 0 )×100(%) is defined as the amount of increase in the resistance value. When the amount of increase in the resistance value is 20% or less, the durability of the wiring board 10 can be improved when the wiring board 10 is used in a curved or bent manner.

なお、図示しないが、基板11上であって、メッシュ配線層20を覆うように保護層が形成されていても良い。保護層は、メッシュ配線層20を保護するものであり、基板11のうち少なくともメッシュ配線層20を覆うように形成される。保護層の材料としては、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチル(メタ)アクリレート等のアクリル樹脂とそれらの変性樹脂と共重合体、ポリエステル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニル樹脂とそれらの共重合体、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリアミド、塩素化ポリオレフィン等の無色透明の絶縁性樹脂を用いることができる。 Although not shown, a protective layer may be formed on the substrate 11 so as to cover the mesh wiring layer 20. The protective layer protects the mesh wiring layer 20 and is formed to cover at least the mesh wiring layer 20 of the substrate 11 . Materials for the protective layer include acrylic resins such as polymethyl (meth)acrylate and polyethyl (meth)acrylate, modified resins and copolymers thereof, polyvinyl resins such as polyester, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polyvinyl acetal, and polyvinyl butyral. Colorless and transparent insulating resins such as and copolymers thereof, polyurethane, epoxy resin, polyamide, and chlorinated polyolefin can be used.

再度図3を参照すると、メッシュ配線層20に、給電部40が電気的に接続されている。この給電部40は、略長方形の導電性の薄板状部材からなる。給電部40の長手方向はX方向に平行であり、給電部40の短手方向はY方向に平行である。また、給電部40は、基板11のY方向マイナス側端部に配置されている。給電部40の材料は、例えば、金、銀、銅、白金、錫、アルミニウム、鉄若しくはニッケルなどの金属材料、又はこれらの金属を含む合金を用いることができる。この給電部40は、配線基板10が画像表示装置60(図1及び図2参照)に組み込まれた際、図示しない給電線を介して画像表示装置60の通信モジュール63と電気的に接続される。なお、給電部40は、基板11の第1面11aに設けられているが、これに限らず、給電部40の一部又は全部が基板11の周縁よりも外側に位置していても良い。また、給電部40を柔軟に形成することにより、給電部40が画像表示装置60の側面や裏面に回り込むように構成されていても良い。この場合、給電部40が、画像表示装置60の側面や裏面側で通信モジュール63と電気的に接続できても良い。 Referring to FIG. 3 again, a power supply section 40 is electrically connected to the mesh wiring layer 20. This power supply section 40 is made of a substantially rectangular conductive thin plate member. The longitudinal direction of the power feeding section 40 is parallel to the X direction, and the lateral direction of the power feeding section 40 is parallel to the Y direction. Further, the power feeding section 40 is arranged at the negative end of the substrate 11 in the Y direction. As the material of the power supply unit 40, for example, metal materials such as gold, silver, copper, platinum, tin, aluminum, iron, or nickel, or alloys containing these metals can be used. This power supply unit 40 is electrically connected to the communication module 63 of the image display device 60 via a power supply line (not shown) when the wiring board 10 is incorporated into the image display device 60 (see FIGS. 1 and 2). . Note that although the power feeding section 40 is provided on the first surface 11a of the substrate 11, the present invention is not limited thereto, and part or all of the power feeding section 40 may be located outside the periphery of the substrate 11. Further, by forming the power supply unit 40 flexibly, the power supply unit 40 may be configured to wrap around the side or back surface of the image display device 60. In this case, the power supply unit 40 may be electrically connected to the communication module 63 on the side or back side of the image display device 60.

給電部40には、Y方向プラス側において、複数の第1方向配線21が電気的に接続されている。この場合、給電部40は、メッシュ配線層20と一体に形成されている。給電部40の厚みT(Z方向の長さ、図6参照)は、第1方向配線21の高さH(図5参照)及び第2方向配線22の高さH(図6参照)と同一とすることができ、例えば0.1μm以上5.0μm以下の範囲で選択することができる。 A plurality of first direction wirings 21 are electrically connected to the power feeding unit 40 on the positive side in the Y direction. In this case, the power feeding section 40 is formed integrally with the mesh wiring layer 20. The thickness T 5 (length in the Z direction, see FIG. 6) of the power feeding section 40 is determined by the height H 1 of the first direction wiring 21 (see FIG. 5) and the height H 2 of the second direction wiring 22 (see FIG. 6). ), and can be selected within the range of 0.1 μm or more and 5.0 μm or less, for example.

ここで、再度図1を参照すると、基板11にアライメントマークM2が形成されている。このアライメントマークM2は、配線基板10(画像表示装置用積層体70、モジュール80A)に表示装置61を積層する工程において、配線基板10の位置決めを行う目印とされるマークである。このため、上述したように、本実施の形態による画像表示装置60においては、配線基板10のアライメントマークM2と、表示装置61のアライメントマークM1とが、互いに位置合わせされている。 Here, referring again to FIG. 1, alignment marks M2 are formed on the substrate 11. This alignment mark M2 is a mark used as a mark for positioning the wiring board 10 in the process of laminating the display device 61 on the wiring board 10 (image display device laminate 70, module 80A). Therefore, as described above, in the image display device 60 according to the present embodiment, the alignment mark M2 of the wiring board 10 and the alignment mark M1 of the display device 61 are aligned with each other.

アライメントマークM2は、基板11の第1面11a上のうち、メッシュ配線層20とは異なる位置に形成されている。この場合、図1に示すように、アライメントマークM2は、基板11の第1面11aのうち、平面視において筐体62に重なる位置に設けられている。これにより、画像表示装置60において、アライメントマークM2が観察者から視認されないようにできる。 The alignment mark M2 is formed on the first surface 11a of the substrate 11 at a different position from the mesh wiring layer 20. In this case, as shown in FIG. 1, the alignment mark M2 is provided on the first surface 11a of the substrate 11 at a position overlapping the housing 62 in plan view. Thereby, in the image display device 60, the alignment mark M2 can be made invisible to the viewer.

このアライメントマークM2は、複数形成されていることが好ましい。これにより、表示装置61に対する配線基板10のX方向及びY方向における位置決めを容易に行うことができる。図示された例においては、基板11の第1面11a上には、2つのアライメントマークM2が形成されている。各々のアライメントマークM2のX方向位置及びY方向位置は、互いに異なっている。また、各々のアライメントマークM2の形状は、それぞれ平面視で十字形である。この場合、アライメントマークM2は、X方向に延びる部分と、Y方向に延びる部分とを含んでいる。これにより、表示装置61に対する配線基板10のX方向及びY方向における位置決めを更に容易に行うことができる。 It is preferable that a plurality of alignment marks M2 are formed. Thereby, the positioning of the wiring board 10 with respect to the display device 61 in the X direction and the Y direction can be easily performed. In the illustrated example, two alignment marks M2 are formed on the first surface 11a of the substrate 11. The X-direction position and Y-direction position of each alignment mark M2 are different from each other. Further, each alignment mark M2 has a cross shape in plan view. In this case, the alignment mark M2 includes a portion extending in the X direction and a portion extending in the Y direction. Thereby, positioning of the wiring board 10 with respect to the display device 61 in the X direction and the Y direction can be performed more easily.

アライメントマークM2は、第1方向配線21及び第2方向配線22の材料と同一の材料によって形成されていることが好ましい。この場合、後述するように、アライメントマークM2が、第1方向配線21及び第2方向配線22と同時に形成され得る。具体的には、アライメントマークM2が、第1方向配線21及び第2方向配線22を形成する金属箔51の一部によって形成され得る。これにより、配線基板10の製造工程を容易にできる。 It is preferable that the alignment mark M2 is made of the same material as the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22. In this case, the alignment mark M2 may be formed simultaneously with the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22, as described later. Specifically, the alignment mark M2 may be formed by a part of the metal foil 51 forming the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22. This facilitates the manufacturing process of the wiring board 10.

アライメントマークM2の高さH(図5参照)が、第1方向配線21の高さH及び第2方向配線22の高さHと同一であることが好ましい。この場合においても、アライメントマークM2が、第1方向配線21及び第2方向配線22を形成する金属箔51の一部によって形成され得る。これにより、配線基板10の製造工程を容易にできる。 It is preferable that the height H 3 (see FIG. 5) of the alignment mark M2 is the same as the height H 1 of the first direction wiring 21 and the height H 2 of the second direction wiring 22. Also in this case, the alignment mark M2 may be formed by a part of the metal foil 51 forming the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22. This facilitates the manufacturing process of the wiring board 10.

アライメントマークM2は、メッシュ配線層20から3mm以上離れた位置に形成されている。この場合、アライメントマークM2と、メッシュ配線層20の先端側部分20b(図3参照)との間の距離が3mm以上であることが好ましい。これにより、アライメントマークM2がメッシュ配線層20における電波の送受信に影響を与えてしまうことを効果的に抑制できる。このため、アンテナ性能が低下してしまうことを抑制できる。 The alignment mark M2 is formed at a position 3 mm or more away from the mesh wiring layer 20. In this case, it is preferable that the distance between the alignment mark M2 and the tip side portion 20b (see FIG. 3) of the mesh wiring layer 20 is 3 mm or more. Thereby, it is possible to effectively suppress the alignment mark M2 from affecting the transmission and reception of radio waves in the mesh wiring layer 20. Therefore, it is possible to suppress the antenna performance from deteriorating.

[モジュールの構成]
次に、図7を参照して、モジュールの構成について説明する。図7は、本実施の形態によるモジュールを示す図である。
[Module configuration]
Next, the configuration of the module will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a diagram showing a module according to this embodiment.

図7に示すように、モジュール80Aは、上述した配線基板10と、異方性導電フィルム85cを介して、給電部40に電気的に接続された給電線85とを備えている。上述したように、モジュール80Aが表示装置61を有する画像表示装置60に組み込まれた際、配線基板10の給電部40は、給電線85を介して、画像表示装置60の通信モジュール63に電気的に接続される。 As shown in FIG. 7, the module 80A includes the above-described wiring board 10 and a power supply line 85 electrically connected to the power supply section 40 via an anisotropic conductive film 85c. As described above, when the module 80A is incorporated into the image display device 60 having the display device 61, the power supply unit 40 of the wiring board 10 electrically connects the communication module 63 of the image display device 60 via the power supply line 85. connected to.

給電線85の形状は、平面視で略長方形である。この場合、図1に示すように、給電線85の幅(すなわち、X方向距離)は、給電部40の幅(X方向距離)と略同一であっても良い。また、給電線85の面積は、給電部40の面積と略同一であっても良い。これにより、給電線85の電気抵抗と、給電部40の電気抵抗とを互いに近づけることができる。このため、給電線85と給電部40との間において、インピーダンス整合を容易にとることができ、給電線85と給電部40との間の電気的な接続性の低下を抑制できる。 The shape of the power supply line 85 is approximately rectangular in plan view. In this case, as shown in FIG. 1, the width of the power supply line 85 (that is, the distance in the X direction) may be approximately the same as the width (distance in the X direction) of the power supply section 40. Furthermore, the area of the power feed line 85 may be approximately the same as the area of the power feed section 40. Thereby, the electrical resistance of the power supply line 85 and the electrical resistance of the power supply unit 40 can be brought closer to each other. Therefore, impedance matching can be easily achieved between the power supply line 85 and the power supply unit 40, and deterioration in electrical connectivity between the power supply line 85 and the power supply unit 40 can be suppressed.

再度図7を参照すると、給電線85は、異方性導電フィルム(ACF)85cを介して、配線基板10に圧着されている。異方性導電フィルム85cは、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂材料と、導電粒子85dとを含んでいる。異方性導電フィルム85cは、給電部40の一部の領域を覆っている。これにより、給電部40の腐食等を抑制できる。 Referring again to FIG. 7, the power supply line 85 is crimped to the wiring board 10 via an anisotropic conductive film (ACF) 85c. The anisotropic conductive film 85c includes a resin material such as acrylic resin or epoxy resin, and conductive particles 85d. The anisotropic conductive film 85c covers a part of the power supply section 40. Thereby, corrosion of the power feeding section 40 and the like can be suppressed.

異方性導電フィルム85cは、給電部40に対向するように配置されている。そして、導電粒子85dの一部が、給電部40に接触している。これにより、給電線85が給電部40に電気的に接続されている。なお、異方性導電フィルム85cの一部は、給電線85を配線基板10に圧着する際に、給電線85の周囲に溶出していてもよい。また、導電粒子85dの粒径は、例えば、7μm程度であってもよい。 The anisotropic conductive film 85c is arranged to face the power feeding section 40. A portion of the conductive particles 85d is in contact with the power supply unit 40. Thereby, the power supply line 85 is electrically connected to the power supply section 40 . Note that a part of the anisotropic conductive film 85c may be eluted around the power supply line 85 when the power supply line 85 is crimped onto the wiring board 10. Further, the particle size of the conductive particles 85d may be, for example, about 7 μm.

給電線85は、例えば、フレキシブルプリント基板であってもよい。給電線85は、基材85aと、基材85aに積層された金属配線部85bとを有している。このうち、基材85aは、例えばポリイミド等の樹脂材料や液晶ポリマーを含んでいてもよい。また、金属配線部85bは、例えば、銅を含んでいてもよい。この金属配線部85bは、導電粒子85dを介して、給電部40と電気的に接続されている。 The power supply line 85 may be, for example, a flexible printed circuit board. The power supply line 85 includes a base material 85a and a metal wiring portion 85b laminated on the base material 85a. Among these, the base material 85a may include, for example, a resin material such as polyimide or a liquid crystal polymer. Moreover, the metal wiring portion 85b may contain copper, for example. This metal wiring section 85b is electrically connected to the power supply section 40 via conductive particles 85d.

次に、図8(a)-(f)、図9(a)-(c)、図10(a)-(c)及び図11を参照して、本実施の形態による配線基板10の製造方法、モジュール80Aの製造方法、画像表示装置用積層体70の製造方法及び画像表示装置60の製造方法について説明する。図8(a)-(f)は、本実施の形態による配線基板10の製造方法を示す断面図である。図9(a)-(c)は、本実施の形態によるモジュール80Aの製造方法を示す断面図である。図10(a)-(c)は、本実施の形態による画像表示装置用積層体70の製造方法を示す断面図である。図11は、本実施の形態による画像表示装置60の製造方法を示す平面図である。 Next, with reference to FIGS. 8(a)-(f), FIGS. 9(a)-(c), FIGS. 10(a)-(c), and FIG. 11, manufacturing of wiring board 10 according to the present embodiment will be described. A method for manufacturing the module 80A, a method for manufacturing the laminate 70 for an image display device, and a method for manufacturing the image display device 60 will be described. FIGS. 8(a) to 8(f) are cross-sectional views showing a method of manufacturing wiring board 10 according to this embodiment. FIGS. 9(a) to 9(c) are cross-sectional views showing a method of manufacturing module 80A according to this embodiment. FIGS. 10(a) to 10(c) are cross-sectional views showing a method of manufacturing a laminate 70 for an image display device according to this embodiment. FIG. 11 is a plan view showing a method of manufacturing the image display device 60 according to this embodiment.

まず、図8(a)-(f)を参照して、本実施の形態による配線基板の製造方法について説明する。 First, a method for manufacturing a wiring board according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 8(a) to 8(f).

まず、図8(a)に示すように、第1面11aと第1面11aの反対側に位置する第2面11bとを含む基板11を準備する。基板11は、透明性を有する。 First, as shown in FIG. 8A, a substrate 11 including a first surface 11a and a second surface 11b located on the opposite side of the first surface 11a is prepared. The substrate 11 has transparency.

次に、基板11の第1面11a上に、メッシュ配線層20と、メッシュ配線層20に電気的に接続された給電部40とを形成する。 Next, on the first surface 11a of the substrate 11, a mesh wiring layer 20 and a power supply section 40 electrically connected to the mesh wiring layer 20 are formed.

この際、まず、図8(b)に示すように、基板11の第1面11aの略全域に金属箔51を積層する。本実施の形態において金属箔51の厚さは、0.1μm以上5.0μm以下であっても良い。本実施の形態において金属箔51は、銅を含んでいても良い。 At this time, first, as shown in FIG. 8(b), a metal foil 51 is laminated over substantially the entire first surface 11a of the substrate 11. In this embodiment, the thickness of metal foil 51 may be 0.1 μm or more and 5.0 μm or less. In this embodiment, metal foil 51 may contain copper.

次に、図8(c)に示すように、金属箔51の表面の略全域に光硬化性絶縁レジスト52を供給する。この光硬化性絶縁レジスト52としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ系樹脂等の有機樹脂が挙げられる。 Next, as shown in FIG. 8(c), a photocurable insulating resist 52 is applied to substantially the entire surface of the metal foil 51. Examples of the photocurable insulating resist 52 include organic resins such as acrylic resin and epoxy resin.

続いて、図8(d)に示すように、絶縁層54をフォトリソグラフィ法により形成する。この場合、フォトリソグラフィ法により光硬化性絶縁レジスト52をパターニングし、絶縁層54(レジストパターン)を形成する。この際、第1方向配線21及び第2方向配線22に対応する金属箔51が露出するように、絶縁層54を形成する。 Subsequently, as shown in FIG. 8(d), an insulating layer 54 is formed by photolithography. In this case, the photocurable insulating resist 52 is patterned by photolithography to form an insulating layer 54 (resist pattern). At this time, the insulating layer 54 is formed so that the metal foil 51 corresponding to the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22 is exposed.

次に、図8(e)に示すように、基板11の第1面11a上の、絶縁層54に覆われていない部分に位置する金属箔51を除去する。この際、塩化第二鉄、塩化第二銅、硫酸・塩酸等の強酸、過硫酸塩、過酸化水素若しくはこれらの水溶液、又はこれらの組合せ等を用いたウェット処理を行うことによって、基板11の第1面11aが露出するように金属箔51をエッチングする。 Next, as shown in FIG. 8E, the metal foil 51 located on the first surface 11a of the substrate 11 in a portion not covered with the insulating layer 54 is removed. At this time, the substrate 11 is treated by wet treatment using ferric chloride, cupric chloride, strong acids such as sulfuric acid and hydrochloric acid, persulfates, hydrogen peroxide, aqueous solutions thereof, or a combination thereof. The metal foil 51 is etched so that the first surface 11a is exposed.

続いて、図8(f)に示すように、絶縁層54を除去する。この場合、過マンガン酸塩溶液やN-メチル-2-ピロリドン、酸又はアルカリ溶液等を用いたウェット処理や、酸素プラズマを用いたドライ処理を行うことによって、金属箔51上の絶縁層54を除去する。 Subsequently, as shown in FIG. 8(f), the insulating layer 54 is removed. In this case, the insulating layer 54 on the metal foil 51 can be removed by wet treatment using a permanganate solution, N-methyl-2-pyrrolidone, acid or alkaline solution, or dry treatment using oxygen plasma. Remove.

このようにして、基板11と、基板11の第1面11a上に設けられたメッシュ配線層20が得られる。この場合、メッシュ配線層20は、第1方向配線21及び第2方向配線22を含む。このとき、金属箔の一部によって、メッシュ配線層20とは異なる位置に、アライメントマークM2が形成されても良い。また、金属箔の一部によって、給電部40が形成されても良い。あるいは、平板状の給電部40を別途準備し、この給電部40をメッシュ配線層20に電気的に接続しても良い。 In this way, the substrate 11 and the mesh wiring layer 20 provided on the first surface 11a of the substrate 11 are obtained. In this case, the mesh wiring layer 20 includes a first direction wiring 21 and a second direction wiring 22. At this time, the alignment mark M2 may be formed at a position different from the mesh wiring layer 20 by a part of the metal foil. Further, the power feeding section 40 may be formed by a part of the metal foil. Alternatively, a flat power supply section 40 may be prepared separately and this power supply section 40 may be electrically connected to the mesh wiring layer 20.

このようにして、基板11と、基板11の第1面11a上に配置されたメッシュ配線層20と、メッシュ配線層20に電気的に接続された給電部40とを備え、基板11の第1面11a上にアライメントマークM2が形成された配線基板10が得られる。 In this way, the substrate 11, the mesh wiring layer 20 disposed on the first surface 11a of the substrate 11, and the power supply section 40 electrically connected to the mesh wiring layer 20 are provided. A wiring board 10 having alignment marks M2 formed on the surface 11a is obtained.

次に、図9(a)-(c)を参照して、本実施の形態によるモジュールの製造方法について説明する。 Next, a method for manufacturing a module according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 9(a) to 9(c).

まず、図9(a)に示すように、配線基板10を準備する。この際、例えば、図8(a)-(f)に示す方法により、配線基板10を作製する。 First, as shown in FIG. 9(a), a wiring board 10 is prepared. At this time, the wiring board 10 is manufactured, for example, by the method shown in FIGS. 8(a) to 8(f).

次に、導電粒子85dを含む異方性導電フィルム85cを介して、給電線85を給電部40に電気的に接続する。この際、まず、図9(b)に示すように、配線基板10上に異方性導電フィルム85cを配置する。このとき、異方性導電フィルム85cは、給電部40に対向するように配置される。 Next, the power supply line 85 is electrically connected to the power supply section 40 via the anisotropic conductive film 85c containing the conductive particles 85d. At this time, first, as shown in FIG. 9(b), an anisotropic conductive film 85c is placed on the wiring board 10. At this time, the anisotropic conductive film 85c is arranged to face the power feeding section 40.

次いで、図9(c)に示すように、給電線85を配線基板10に圧着させる。このとき、給電線85に対して圧力および熱を加えることにより、給電線85を配線基板10に圧着させる。そして、導電粒子85dの一部が、給電部40に接触する。このようにして、給電線85が給電部40に電気的に接続される。なお、給電線85を配線基板10に圧着させる際、異方性導電フィルム85cの一部が、給電線85の周囲に溶出する。 Next, as shown in FIG. 9(c), the power supply line 85 is crimped onto the wiring board 10. At this time, by applying pressure and heat to the power supply line 85, the power supply line 85 is crimped onto the wiring board 10. Then, a portion of the conductive particles 85d comes into contact with the power feeding section 40. In this way, the power supply line 85 is electrically connected to the power supply section 40. Note that when the power supply line 85 is crimped onto the wiring board 10, a part of the anisotropic conductive film 85c is eluted around the power supply line 85.

このようにして、配線基板10と、導電粒子85dを含む異方性導電フィルム85cを介して、給電部40に電気的に接続された給電線85と、を備えるモジュール80Aが得られる。 In this way, a module 80A is obtained that includes the wiring board 10 and the power supply line 85 electrically connected to the power supply unit 40 via the anisotropic conductive film 85c containing the conductive particles 85d.

次に、図10(a)-(c)を参照して、本実施の形態による画像表示装置用積層体70の製造方法について説明する。 Next, a method for manufacturing the laminate 70 for an image display device according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 10(a) to 10(c).

次に、第1透明接着層95と、モジュール80Aの配線基板10と、第2透明接着層96とを互いに積層する。この際、まず、図10(a)に示すように、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)の離型フィルム91と、離型フィルム91上に積層されたOCA層92(第1透明接着層95又は第2透明接着層96)とを含むOCAシート90を準備する。このとき、OCA層92は、重合性化合物を含む液状の硬化性接着層用組成物を離型フィルム91上に塗布し、これを例えば紫外線(UV)等を用いて硬化した層であってもよい。この硬化性接着層用組成物には、極性基含有モノマーが含まれている。 Next, the first transparent adhesive layer 95, the wiring board 10 of the module 80A, and the second transparent adhesive layer 96 are laminated on each other. At this time, first, as shown in FIG. 10(a), for example, a release film 91 made of polyethylene terephthalate (PET) and an OCA layer 92 (first transparent adhesive layer 95 or An OCA sheet 90 containing a transparent adhesive layer 96) is prepared. At this time, the OCA layer 92 may be a layer obtained by coating a liquid curable adhesive layer composition containing a polymerizable compound on the release film 91 and curing it using, for example, ultraviolet rays (UV). good. This curable adhesive layer composition contains a polar group-containing monomer.

次に、図10(b)に示すように、OCAシート90のOCA層92を配線基板10に貼合する。これにより、OCA層92によって配線基板10を挟み込む。 Next, as shown in FIG. 10(b), the OCA layer 92 of the OCA sheet 90 is bonded to the wiring board 10. As a result, the wiring board 10 is sandwiched between the OCA layers 92.

その後、図10(c)に示すように、配線基板10に貼合されたOCAシート90のOCA層92から離型フィルム91を剥離除去することにより、互いに積層された第1透明接着層95(OCA層92)、配線基板10及び第2透明接着層96(OCA層92)が得られる。 Thereafter, as shown in FIG. 10C, by peeling and removing the release film 91 from the OCA layer 92 of the OCA sheet 90 bonded to the wiring board 10, the first transparent adhesive layer 95 ( OCA layer 92), wiring board 10, and second transparent adhesive layer 96 (OCA layer 92) are obtained.

このようにして、第1透明接着層95と、第2透明接着層96と、配線基板10を備えるモジュール80Aと、を備える画像表示装置用積層体70が得られる。 In this way, a laminate 70 for an image display device including the first transparent adhesive layer 95, the second transparent adhesive layer 96, and the module 80A including the wiring board 10 is obtained.

次に、画像表示装置用積層体70に表示装置61を積層する。この際、図11に示すように、表示装置61のアライメントマークM1と、配線基板10のアライメントマークM2とによって、表示装置61に対する配線基板10(画像表示装置用積層体70、モジュール80A)の位置決めが行われる。このため、表示装置61に対して所望の位置に、配線基板10が設けられる。 Next, the display device 61 is laminated on the image display device laminate 70. At this time, as shown in FIG. 11, the positioning of the wiring board 10 (image display device laminate 70, module 80A) with respect to the display device 61 is performed by the alignment mark M1 of the display device 61 and the alignment mark M2 of the wiring board 10. will be held. Therefore, the wiring board 10 is provided at a desired position with respect to the display device 61.

このようにして、画像表示装置用積層体70と、画像表示装置用積層体70に積層された表示装置61と、を備える画像表示装置60が得られる(図1参照)。 In this way, an image display device 60 including the image display device laminate 70 and the display device 61 stacked on the image display device laminate 70 is obtained (see FIG. 1).

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。 Next, the operation of this embodiment having such a configuration will be described.

図1及び図2に示すように、配線基板10は、表示装置61を有する画像表示装置60に組み込まれる。このとき配線基板10は、表示装置61上に配置される。配線基板10のメッシュ配線層20は、給電部40を介して画像表示装置60の通信モジュール63に電気的に接続される。このようにして、メッシュ配線層20を介して、所定の周波数の電波を送受信でき、画像表示装置60を用いて通信を行うことができる。 As shown in FIGS. 1 and 2, the wiring board 10 is incorporated into an image display device 60 having a display device 61. At this time, the wiring board 10 is placed on the display device 61. The mesh wiring layer 20 of the wiring board 10 is electrically connected to the communication module 63 of the image display device 60 via the power supply section 40 . In this way, radio waves of a predetermined frequency can be transmitted and received via the mesh wiring layer 20, and communication can be performed using the image display device 60.

本実施の形態によれば、配線基板10の基板11の第1面11a上のうち、メッシュ配線層20とは異なる位置に、アライメントマークM2が形成されている。これにより、表示装置61に対する配線基板10の位置決めを行うことができ、表示装置61に対して所望の位置に、配線基板10を設けることができる。 According to this embodiment, the alignment mark M2 is formed on the first surface 11a of the substrate 11 of the wiring board 10 at a position different from the mesh wiring layer 20. Thereby, the wiring board 10 can be positioned with respect to the display device 61, and the wiring board 10 can be provided at a desired position with respect to the display device 61.

上述したように、本実施の形態では、第1透明接着層95と第2透明接着層96との間の一部領域に、配線基板10の基板11の一部領域が配置されている。すなわち、第1透明接着層95、第2透明接着層96、表示装置61及びカバーガラス75が、それぞれ配線基板10の基板11よりも広い面積を有する。言い換えれば、表示装置61等のサイズと、配線基板10のサイズとが互いに異なっている。このため、配線基板10(画像表示装置用積層体70、モジュール80A)に表示装置61を積層する工程において、表示装置61に対する配線基板10の位置決めが困難になる可能性がある。この結果、表示装置61に対する配線基板10の位置が、所望の位置からずれてしまう可能性がある。 As described above, in this embodiment, a partial area of the substrate 11 of the wiring board 10 is arranged in a partial area between the first transparent adhesive layer 95 and the second transparent adhesive layer 96. That is, the first transparent adhesive layer 95, the second transparent adhesive layer 96, the display device 61, and the cover glass 75 each have a larger area than the substrate 11 of the wiring board 10. In other words, the size of the display device 61 and the like and the size of the wiring board 10 are different from each other. Therefore, in the process of stacking the display device 61 on the wiring board 10 (image display device laminate 70, module 80A), it may become difficult to position the wiring board 10 with respect to the display device 61. As a result, the position of the wiring board 10 with respect to the display device 61 may shift from a desired position.

これに対して本実施の形態では、基板11に、配線基板10の位置決めを行う目印とされるアライメントマークM2が形成されている。このため、表示装置61に対する配線基板10の位置決めを行うことができ、表示装置61に対して所望の位置に、配線基板10を設けることができる。 In contrast, in this embodiment, an alignment mark M2 is formed on the substrate 11, which serves as a mark for positioning the wiring board 10. Therefore, the wiring board 10 can be positioned with respect to the display device 61, and the wiring board 10 can be provided at a desired position with respect to the display device 61.

また、アライメントマークM2がメッシュ配線層20とは異なる位置に形成されていることにより、画像表示装置60において、アライメントマークM2が観察者から視認されないようになり得る。このため、表示装置61の視認性が妨げられることを抑制できる。 Furthermore, since the alignment mark M2 is formed at a different position from the mesh wiring layer 20, the alignment mark M2 may not be visible to the viewer in the image display device 60. Therefore, it is possible to prevent the visibility of the display device 61 from being obstructed.

また、本実施の形態によれば、アライメントマークM2が、複数形成されている。これにより、表示装置61に対する配線基板10のX方向及びY方向における位置決めを容易に行うことができる。 Further, according to this embodiment, a plurality of alignment marks M2 are formed. Thereby, the positioning of the wiring board 10 with respect to the display device 61 in the X direction and the Y direction can be easily performed.

また、本実施の形態によれば、メッシュ配線層20が、複数の第1方向配線21及び第2方向配線22を有し、アライメントマークM2が、第1方向配線21及び第2方向配線22の材料と同一の材料によって形成されている。この場合、アライメントマークM2が、第1方向配線21及び第2方向配線22と同時に形成され得るため、配線基板10の製造工程を容易にできる。 Further, according to the present embodiment, the mesh wiring layer 20 has a plurality of first direction wirings 21 and second direction wirings 22, and the alignment mark M2 is arranged between the first direction wirings 21 and the second direction wirings 22. It is made of the same material as the material. In this case, since the alignment mark M2 can be formed simultaneously with the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22, the manufacturing process of the wiring board 10 can be facilitated.

また、本実施の形態によれば、アライメントマークM2の高さHが、第1方向配線21の高さH及び第2方向配線22の高さHと同一である。この場合においても、アライメントマークM2が、第1方向配線21及び第2方向配線22と同時に形成され得るため、配線基板10の製造工程を容易にできる。 Further, according to the present embodiment, the height H3 of the alignment mark M2 is the same as the height H1 of the first direction wiring 21 and the height H2 of the second direction wiring 22. Also in this case, since the alignment mark M2 can be formed simultaneously with the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22, the manufacturing process of the wiring board 10 can be facilitated.

さらに、本実施の形態によれば、配線基板10が、基板11と、基板11上に配置されたメッシュ配線層20とを備えている。また、基板11が、透明性を有する。さらに、メッシュ配線層20が、不透明な導電体層の形成部としての導体部と、多数の開口部23とによるメッシュ状のパターンとを有している。このため、配線基板10の透明性が確保されている。これにより、配線基板10が表示装置61上に配置されたとき、メッシュ配線層20の開口部23から表示装置61を視認でき、表示装置61の視認性が妨げられることがない。 Furthermore, according to the present embodiment, wiring board 10 includes substrate 11 and mesh wiring layer 20 disposed on substrate 11. Further, the substrate 11 has transparency. Further, the mesh wiring layer 20 has a conductor portion as a forming portion of an opaque conductor layer and a mesh pattern formed of a large number of openings 23. Therefore, the transparency of the wiring board 10 is ensured. Thereby, when the wiring board 10 is placed on the display device 61, the display device 61 can be viewed through the opening 23 of the mesh wiring layer 20, and the visibility of the display device 61 is not hindered.

次に、配線基板の変形例について説明する。 Next, a modification of the wiring board will be described.

図12及び図13は、配線基板の第1変形例を示している。図12及び図13に示す変形例は、メッシュ配線層20の周囲にダミー配線層30が設けられている点が異なるものであり、他の構成は上述した図1乃至図11に示す形態と略同一である。図12及び図13において、図1乃至図11に示す形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。 12 and 13 show a first modification of the wiring board. The modified example shown in FIGS. 12 and 13 differs in that a dummy wiring layer 30 is provided around the mesh wiring layer 20, and the other configurations are similar to those shown in FIGS. 1 to 11 described above. are the same. In FIGS. 12 and 13, the same parts as those in the form shown in FIGS. 1 to 11 are given the same reference numerals, and detailed explanations will be omitted.

図12に示す配線基板10において、メッシュ配線層20の周囲に沿ってダミー配線層30が設けられている。このダミー配線層30は、メッシュ配線層20とは異なり、実質的にアンテナとしての機能を果たすことはない。 In the wiring board 10 shown in FIG. 12, a dummy wiring layer 30 is provided along the periphery of the mesh wiring layer 20. This dummy wiring layer 30, unlike the mesh wiring layer 20, does not substantially function as an antenna.

図13に示すように、ダミー配線層30は、所定の単位パターン形状をもつダミー配線30aの繰り返しから構成されている。すなわち、ダミー配線層30は、複数の同一形状のダミー配線30aを含んでおり、各ダミー配線30aは、それぞれメッシュ配線層20(すなわち、第1方向配線21及び第2方向配線22)から電気的に独立している。また、複数のダミー配線30aは、ダミー配線層30内の全域にわたって規則的に配置されている。複数のダミー配線30aは、互いに平面方向に離間するとともに、基板11上に突出して配置されている。すなわち各ダミー配線30aは、メッシュ配線層20、給電部40及び他のダミー配線30aから電気的に独立している。各ダミー配線30aの形状は、それぞれ平面視で略L字形である。 As shown in FIG. 13, the dummy wiring layer 30 is composed of repeated dummy wirings 30a having a predetermined unit pattern shape. That is, the dummy wiring layer 30 includes a plurality of dummy wirings 30a having the same shape, and each dummy wiring 30a is electrically connected to the mesh wiring layer 20 (i.e., the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22). is independent. Further, the plurality of dummy wirings 30a are regularly arranged throughout the dummy wiring layer 30. The plurality of dummy wirings 30a are spaced apart from each other in the plane direction and are arranged to protrude above the substrate 11. That is, each dummy wiring 30a is electrically independent from the mesh wiring layer 20, the power supply section 40, and other dummy wiring 30a. The shape of each dummy wiring 30a is approximately L-shaped when viewed from above.

この場合、ダミー配線30aは、上述したメッシュ配線層20の単位パターン形状(図4参照)の一部が欠落した形状をもつ。これにより、メッシュ配線層20とダミー配線層30との相違を目視で認識しにくくでき、基板11上に配置されたメッシュ配線層20を見えにくくできる。 In this case, the dummy wiring 30a has a shape in which a part of the unit pattern shape (see FIG. 4) of the mesh wiring layer 20 described above is missing. This makes it difficult to visually recognize the difference between the mesh wiring layer 20 and the dummy wiring layer 30, and makes it difficult to see the mesh wiring layer 20 disposed on the substrate 11.

図13に示すように、ダミー配線30aは、第1方向配線21又は第2方向配線22に平行に延びている。具体的には、ダミー配線30aは、第1方向配線21と平行に延びる第1部分31aと、第2方向配線22と平行に延びる第2部分32aとを含んでいる。第1部分31aは、第1方向配線21の一部が欠落した形状をもつ。また、第2部分32aは、第2方向配線22の一部が欠落した形状をもつ。なお、第1部分31a及び第2部分32aのその他の構成は、第1方向配線21及び第2方向配線22の構成と同様であるため、ここでは詳細な説明は省略する。このように、ダミー配線30aが、第1方向配線21又は第2方向配線22に平行に延びていることにより、基板11上に配置されたメッシュ配線層20をさらに見えにくくできる。ダミー配線層30の開口率は、メッシュ配線層20の開口率と同一であっても良く、異なっていても良いが、メッシュ配線層20の開口率に近いことが好ましい。 As shown in FIG. 13, the dummy wiring 30a extends parallel to the first direction wiring 21 or the second direction wiring 22. Specifically, the dummy wiring 30a includes a first portion 31a extending parallel to the first direction wiring 21 and a second portion 32a extending parallel to the second direction wiring 22. The first portion 31a has a shape in which a portion of the first direction wiring 21 is missing. Further, the second portion 32a has a shape in which a part of the second direction wiring 22 is missing. Note that the other configurations of the first portion 31a and the second portion 32a are similar to the configurations of the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22, so detailed description thereof will be omitted here. In this way, by extending the dummy wiring 30a in parallel to the first direction wiring 21 or the second direction wiring 22, the mesh wiring layer 20 disposed on the substrate 11 can be made more difficult to see. The aperture ratio of the dummy wiring layer 30 may be the same as or different from the aperture ratio of the mesh wiring layer 20, but it is preferably close to the aperture ratio of the mesh wiring layer 20.

このように、メッシュ配線層20の周囲に、メッシュ配線層20から電気的に独立したダミー配線層30が設けられていることにより、メッシュ配線層20の外縁を不明瞭にできる。これにより、画像表示装置60の表面上でメッシュ配線層20を見えにくくでき、画像表示装置60の使用者がメッシュ配線層20を肉眼で認識しにくくできる。 In this way, by providing the dummy wiring layer 30 that is electrically independent from the mesh wiring layer 20 around the mesh wiring layer 20, the outer edge of the mesh wiring layer 20 can be made unclear. This makes it difficult to see the mesh wiring layer 20 on the surface of the image display device 60, and makes it difficult for the user of the image display device 60 to recognize the mesh wiring layer 20 with the naked eye.

図14及び図15は、配線基板の第2変形例を示している。図14及び図15に示す変形例は、メッシュ配線層20の周囲に互いに開口率が異なる複数のダミー配線層30A、30Bが設けられている点が異なるものであり、他の構成は上述した図1乃至図13に示す形態と略同一である。図14及び図15において、図1乃至図13に示す形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。 14 and 15 show a second modification of the wiring board. The modified examples shown in FIGS. 14 and 15 differ in that a plurality of dummy wiring layers 30A and 30B having different aperture ratios are provided around the mesh wiring layer 20, and the other configurations are the same as those shown in the above-mentioned diagrams. This is substantially the same as the forms shown in FIGS. 1 to 13. In FIGS. 14 and 15, the same parts as those in the form shown in FIGS. 1 to 13 are given the same reference numerals, and detailed explanations will be omitted.

図14に示す配線基板10において、メッシュ配線層20の周囲に沿って互いに開口率が異なる複数(この場合は2つ)のダミー配線層30A、30B(すなわち、第1ダミー配線層30A及び第2ダミー配線層30B)が設けられている。具体的には、メッシュ配線層20の周囲に沿って第1ダミー配線層30Aが配置され、第1ダミー配線層30Aの周囲に沿って第2ダミー配線層30Bが配置されている。このダミー配線層30A、30Bは、メッシュ配線層20とは異なり、実質的にアンテナとしての機能を果たすことはない。 In the wiring board 10 shown in FIG. 14, a plurality of (two in this case) dummy wiring layers 30A and 30B (i.e., a first dummy wiring layer 30A and a second A dummy wiring layer 30B) is provided. Specifically, a first dummy wiring layer 30A is arranged along the periphery of the mesh wiring layer 20, and a second dummy wiring layer 30B is arranged along the periphery of the first dummy wiring layer 30A. The dummy wiring layers 30A and 30B, unlike the mesh wiring layer 20, do not substantially function as an antenna.

図15に示すように、第1ダミー配線層30Aは、所定の単位パターン形状をもつダミー配線30a1の繰り返しから構成されている。また、第2ダミー配線層30Bは、所定の単位パターン形状をもつダミー配線30a2の繰り返しから構成されている。すなわち、ダミー配線層30A、30Bは、それぞれ複数の同一形状のダミー配線30a1、30a2を含んでおり、各ダミー配線30a1、30a2は、それぞれメッシュ配線層20から電気的に独立している。また、ダミー配線30a1、30a2は、それぞれダミー配線層30A、30B内の全域にわたって規則的に配置されている。各ダミー配線30a1、30a2は、それぞれ互いに平面方向に離間するとともに、基板11上に突出して配置されている。各ダミー配線30a1、30a2は、それぞれメッシュ配線層20、給電部40及び他のダミー配線30a1、30a2から電気的に独立している。各ダミー配線30a1、30a2の形状は、それぞれ平面視で略L字形である。 As shown in FIG. 15, the first dummy wiring layer 30A is composed of repeated dummy wirings 30a1 having a predetermined unit pattern shape. Further, the second dummy wiring layer 30B is composed of repeating dummy wirings 30a2 having a predetermined unit pattern shape. That is, each of the dummy wiring layers 30A and 30B includes a plurality of dummy wirings 30a1 and 30a2 having the same shape, and each dummy wiring 30a1 and 30a2 is electrically independent from the mesh wiring layer 20, respectively. Furthermore, the dummy wirings 30a1 and 30a2 are regularly arranged throughout the dummy wiring layers 30A and 30B, respectively. The dummy wirings 30a1 and 30a2 are spaced apart from each other in the plane direction, and are arranged so as to protrude above the substrate 11. Each dummy wiring 30a1, 30a2 is electrically independent from the mesh wiring layer 20, the power supply section 40, and other dummy wirings 30a1, 30a2, respectively. The shape of each dummy wiring 30a1 and 30a2 is approximately L-shaped when viewed from above.

この場合、ダミー配線30a1、30a2は、上述したメッシュ配線層20の単位パターン形状(図4参照)の一部が欠落した形状をもつ。これにより、メッシュ配線層20と第1ダミー配線層30Aとの相違、及び、第1ダミー配線層30Aと第2ダミー配線層30Bとの相違を目視で認識しにくくでき、基板11上に配置されたメッシュ配線層20を見えにくくできる。図15に示すように、ダミー配線30a1、30a2は、第1方向配線21又は第2方向配線22に平行に延びている。具体的には、ダミー配線30a1は、第1方向配線21と平行に延びる第1部分31a1と、第2方向配線22と平行に延びる第2部分32a1とを含んでいる。ダミー配線30a2は、第1方向配線21と平行に延びる第1部分31a2と、第2方向配線22と平行に延びる第2部分32a2とを含んでいる。 In this case, the dummy wirings 30a1 and 30a2 have a shape in which a part of the unit pattern shape (see FIG. 4) of the mesh wiring layer 20 described above is missing. This makes it difficult to visually recognize the difference between the mesh wiring layer 20 and the first dummy wiring layer 30A, and the difference between the first dummy wiring layer 30A and the second dummy wiring layer 30B. The mesh wiring layer 20 can be made less visible. As shown in FIG. 15, the dummy wirings 30a1 and 30a2 extend parallel to the first direction wiring 21 or the second direction wiring 22. Specifically, the dummy wiring 30a1 includes a first portion 31a1 extending parallel to the first direction wiring 21 and a second portion 32a1 extending parallel to the second direction wiring 22. The dummy wiring 30a2 includes a first portion 31a2 extending parallel to the first direction wiring 21 and a second portion 32a2 extending parallel to the second direction wiring 22.

なお、第1ダミー配線層30Aの各ダミー配線30a1の面積は、第2ダミー配線層30Bの各ダミー配線30a2の面積よりも大きい。この場合、各ダミー配線30a1の線幅は各ダミー配線30a2の線幅と同一であるが、これに限らず、各ダミー配線30a1の線幅は各ダミー配線30a2の線幅よりも太くても良い。なお、ダミー配線30a1、30a2のその他の構成は、第1変形例におけるダミー配線30aの構成と同様であるため、ここでは詳細な説明は省略する。 Note that the area of each dummy wiring 30a1 of the first dummy wiring layer 30A is larger than the area of each dummy wiring 30a2 of the second dummy wiring layer 30B. In this case, the line width of each dummy interconnect 30a1 is the same as the line width of each dummy interconnect 30a2, but the line width of each dummy interconnect 30a1 may be thicker than the line width of each dummy interconnect 30a2. . Note that the other configurations of the dummy wirings 30a1 and 30a2 are the same as the configuration of the dummy wiring 30a in the first modification, so detailed explanations will be omitted here.

本変形例では、メッシュ配線層20及び複数のダミー配線層30A、30Bの開口率は、メッシュ配線層20から、メッシュ配線層20に遠いダミー配線層30A、30Bに向けて段階的に大きくなっていることが好ましい。言い換えれば、各ダミー配線層の開口率は、メッシュ配線層20に近いものから遠いものに向けて、徐々に大きくなることが好ましい。この場合、第1ダミー配線層30Aの開口率は、メッシュ配線層20の開口率よりも大きいことが好ましい。第2ダミー配線層30Bの開口率は、第1ダミー配線層30Aの開口率よりも大きいことが好ましい。これにより、メッシュ配線層20及びダミー配線層30A、30Bの外縁をさらに不明瞭にできる。このため、画像表示装置60の表面上でメッシュ配線層20をさらに見えにくくできる。 In this modification, the aperture ratio of the mesh wiring layer 20 and the plurality of dummy wiring layers 30A and 30B increases stepwise from the mesh wiring layer 20 toward the dummy wiring layers 30A and 30B that are far from the mesh wiring layer 20. Preferably. In other words, it is preferable that the aperture ratio of each dummy wiring layer gradually increases from those closer to the mesh wiring layer 20 to those farther from the mesh wiring layer 20. In this case, the aperture ratio of the first dummy wiring layer 30A is preferably larger than the aperture ratio of the mesh wiring layer 20. It is preferable that the aperture ratio of the second dummy wiring layer 30B is larger than that of the first dummy wiring layer 30A. Thereby, the outer edges of the mesh wiring layer 20 and the dummy wiring layers 30A and 30B can be further obscured. Therefore, the mesh wiring layer 20 can be made even less visible on the surface of the image display device 60.

このように、メッシュ配線層20から電気的に独立したダミー配線層30A、30Bが配置されていることにより、メッシュ配線層20の外縁をより不明瞭にできる。これにより、画像表示装置60の表面上でメッシュ配線層20を見えにくくでき、画像表示装置60の使用者がメッシュ配線層20を肉眼で認識しにくくできる。なお、メッシュ配線層20の周囲に、互いに開口率が異なる3つ以上のダミー配線層が設けられていても良い。 By arranging the dummy wiring layers 30A and 30B that are electrically independent from the mesh wiring layer 20 in this manner, the outer edge of the mesh wiring layer 20 can be made more unclear. This makes it difficult to see the mesh wiring layer 20 on the surface of the image display device 60, and makes it difficult for the user of the image display device 60 to recognize the mesh wiring layer 20 with the naked eye. Note that three or more dummy wiring layers having mutually different aperture ratios may be provided around the mesh wiring layer 20.

図16は、配線基板の第3変形例を示している。図16に示す変形例は、メッシュ配線層20の平面形状が異なるものであり、他の構成は上述した図1乃至図15に示す形態と略同一である。図16において、図1乃至図15に示す形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。 FIG. 16 shows a third modification of the wiring board. The modification shown in FIG. 16 differs in the planar shape of the mesh wiring layer 20, and the other configurations are substantially the same as those shown in FIGS. 1 to 15 described above. In FIG. 16, the same parts as those in the form shown in FIGS. 1 to 15 are given the same reference numerals, and detailed explanations will be omitted.

図16は、第3変形例によるメッシュ配線層20を示す拡大平面図である。図16において、第1方向配線21と第2方向配線22とは、斜め(すなわち、非直角)に交わっており、各開口部23の形状は、平面視で菱形である。第1方向配線21及び第2方向配線22は、それぞれX方向及びY方向のいずれにも平行でないが、第1方向配線21及び第2方向配線22のうちのいずれか一方がX方向又はY方向に平行であっても良い。 FIG. 16 is an enlarged plan view showing a mesh wiring layer 20 according to a third modification. In FIG. 16, the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22 intersect obliquely (that is, at a non-perpendicular angle), and the shape of each opening 23 is rhombic in plan view. The first direction wiring 21 and the second direction wiring 22 are not parallel to either the X direction or the Y direction, but one of the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22 is parallel to the X direction or the Y direction. It may be parallel to .

上記実施の形態及び各変形例に開示されている複数の構成要素を必要に応じて適宜組合せることも可能である。あるいは、上記実施の形態及び各変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除しても良い。 It is also possible to appropriately combine the plurality of components disclosed in the above embodiment and each modification as necessary. Alternatively, some components may be deleted from all the components shown in the above embodiment and each modification.

Claims (11)

配線基板であって、
第1面と前記第1面の反対側に位置する第2面とを含む基板と、
前記基板の前記第1面上に配置されたメッシュ配線層とを備え、
前記基板は、透明性を有し、
前記基板の前記第1面上のうち、前記メッシュ配線層とは異なる位置に、アライメントマークが形成されている、配線基板。
A wiring board,
a substrate including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface;
a mesh wiring layer disposed on the first surface of the substrate,
The substrate has transparency,
A wiring board, wherein an alignment mark is formed on the first surface of the board at a position different from that of the mesh wiring layer.
前記アライメントマークは、複数形成されている、請求項1に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 1, wherein a plurality of said alignment marks are formed. 前記メッシュ配線層は、複数の配線を有し、前記アライメントマークは、前記配線の材料と同一の材料によって形成されている、請求項1に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 1, wherein the mesh wiring layer has a plurality of wirings, and the alignment mark is made of the same material as the wiring. 前記アライメントマークの高さは、前記配線の高さと同一である、請求項3に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 3, wherein the height of the alignment mark is the same as the height of the wiring. 前記アライメントマークは、前記メッシュ配線層から3mm以上離れた位置に形成されている、請求項1に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 1, wherein the alignment mark is formed at a position 3 mm or more away from the mesh wiring layer. 前記配線基板は、ミリ波送受信機能を有し、前記メッシュ配線層は、アレイアンテナとして機能する、請求項1に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 1, wherein the wiring board has a millimeter wave transmission/reception function, and the mesh wiring layer functions as an array antenna. 前記メッシュ配線層の周囲に、前記メッシュ配線層から電気的に独立したダミー配線層が設けられている、請求項1に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 1, further comprising a dummy wiring layer electrically independent from the mesh wiring layer provided around the mesh wiring layer. 複数の前記ダミー配線層が設けられ、前記メッシュ配線層及び前記ダミー配線層の開口率は、前記メッシュ配線層から、前記メッシュ配線層に遠い前記ダミー配線層に向けて段階的に大きくなっている、請求項7に記載の配線基板。 A plurality of the dummy wiring layers are provided, and the aperture ratio of the mesh wiring layer and the dummy wiring layer increases stepwise from the mesh wiring layer toward the dummy wiring layer that is far from the mesh wiring layer. , The wiring board according to claim 7. 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の配線基板と、
前記配線基板に電気的に接続された給電線とを備えた、モジュール。
The wiring board according to any one of claims 1 to 8,
A module comprising: a power supply line electrically connected to the wiring board.
請求項9に記載のモジュールと、
前記基板の前記第1面側に位置する第1接着層と、
前記基板の前記第2面側に位置する第2接着層とを備え、
前記第1接着層と前記第2接着層との間の一部領域に、前記基板の一部領域が配置されている、画像表示装置用積層体。
A module according to claim 9,
a first adhesive layer located on the first surface side of the substrate;
a second adhesive layer located on the second surface side of the substrate,
A laminate for an image display device, wherein a partial area of the substrate is disposed in a partial area between the first adhesive layer and the second adhesive layer.
請求項10に記載の画像表示装置用積層体と、
前記画像表示装置用積層体に積層された表示装置とを備え、
前記表示装置は、アライメントマークを有し、
前記配線基板の前記アライメントマークと、前記表示装置の前記アライメントマークとが、互いに位置合わせされている、画像表示装置。
The laminate for an image display device according to claim 10,
a display device laminated on the image display device laminate;
The display device has an alignment mark,
An image display device, wherein the alignment mark of the wiring board and the alignment mark of the display device are aligned with each other.
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