JP2023154554A - Laminate and image display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は積層体に関し、さらには積層体を含む画像表示装置にも関する。 The present invention relates to a laminate, and further relates to an image display device including the laminate.
特許文献1には、フレキシブルディスプレイ用ウィンドウに用いるフレキシブルガラス基板として薄型ガラスにハードコート層を設けたガラス基板積層体が提案されている。 Patent Document 1 proposes a glass substrate laminate in which a hard coat layer is provided on thin glass as a flexible glass substrate for use in a flexible display window.
超薄型ガラスを有する前面板は、光学部材との貼合の際に、および画像表示装置に組み込んだ後、画像表示装置を屈曲した際にクラックが生じ易い場合がある。 A front plate having ultra-thin glass is likely to crack when bonded to an optical member and when the image display device is bent after being incorporated into the image display device.
本発明の目的は、超薄型ガラスを有する前面板と粘着剤層と偏光フィルムとを含む積層体であって、取り扱い性が改善され、及び屈曲性が向上した積層体を提供することである。 An object of the present invention is to provide a laminate including a front plate having ultra-thin glass, an adhesive layer, and a polarizing film, which has improved handling properties and flexibility. .
本発明は、以下の積層体および画像表示装置を提供する。
[1] 前面板と粘着剤層と偏光フィルムとをこの順に含み、
前記前面板は、超薄型ガラスとハードコート層とを含み、
前記粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率は0.2MPa以下であり、
前記偏光フィルムは、重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層から構成される、積層体。
[2] 超薄型ガラスの厚みは50μm以下である、[1]に記載の積層体。
[3] 前記ハードコート層の厚みは10μm以上である、[1]に記載の積層体。
[4] 前記ハードコート層の厚みは10μm以上である、[2]に記載の積層体。
[5] 前記粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率は0.01MPa以上である、[1]~[4]に記載の積層体。
[6] 前記粘着剤層の厚みは30μm以下である、[1]~[4]のいずれかに記載の積層体。
[7] 前記粘着剤層の厚みは30μm以下である、[5]に記載の積層体。
[8] [1]~[4]のいずれかに記載の積層体を含む、画像表示装置。
[9] [5]に記載の積層体を含む、画像表示装置。
[10] [6]に記載の積層体を含む、画像表示装置。
[11] [7]に記載の積層体を含む、画像表示装置。
The present invention provides the following laminate and image display device.
[1] Includes a front plate, an adhesive layer, and a polarizing film in this order,
The front plate includes ultra-thin glass and a hard coat layer,
The storage modulus of the adhesive layer at a temperature of 25° C. is 0.2 MPa or less,
The polarizing film is a laminate comprising a cured liquid crystal layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound.
[2] The laminate according to [1], wherein the ultra-thin glass has a thickness of 50 μm or less.
[3] The laminate according to [1], wherein the hard coat layer has a thickness of 10 μm or more.
[4] The laminate according to [2], wherein the hard coat layer has a thickness of 10 μm or more.
[5] The laminate according to [1] to [4], wherein the adhesive layer has a storage modulus of 0.01 MPa or more at a temperature of 25°C.
[6] The laminate according to any one of [1] to [4], wherein the adhesive layer has a thickness of 30 μm or less.
[7] The laminate according to [5], wherein the adhesive layer has a thickness of 30 μm or less.
[8] An image display device comprising the laminate according to any one of [1] to [4].
[9] An image display device comprising the laminate according to [5].
[10] An image display device comprising the laminate according to [6].
[11] An image display device comprising the laminate according to [7].
本発明はさらに、以下の積層体および画像表示装置を提供する。
[a] 前面板と粘着剤層と偏光フィルムとをこの順に含み、
前記前面板は、超薄型ガラスとハードコート層とを含み、
前記粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率は0.2MPa以下であり、
前記偏光フィルムは、重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層から構成される、積層体。
[b] 超薄型ガラスの厚みは50μm以下である、[a]に記載の積層体。
[c] 前記ハードコート層の厚みは10μm以上である、[a]または[b]に記載の積層体。
[d] 前記粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率は0.01MPa以上である、[a]~[c]のいずれかに記載の積層体。
[e] 前記粘着剤層の厚みは30μm以下である、[a]~[d]のいずれかに記載の積層体。
[f] [a]~[e]のいずれかに記載の積層体を含む、画像表示装置。
The present invention further provides the following laminate and image display device.
[a] Includes a front plate, an adhesive layer, and a polarizing film in this order,
The front plate includes ultra-thin glass and a hard coat layer,
The storage modulus of the adhesive layer at a temperature of 25° C. is 0.2 MPa or less,
The polarizing film is a laminate comprising a cured liquid crystal layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound.
[b] The laminate according to [a], wherein the ultra-thin glass has a thickness of 50 μm or less.
[c] The laminate according to [a] or [b], wherein the hard coat layer has a thickness of 10 μm or more.
[d] The laminate according to any one of [a] to [c], wherein the adhesive layer has a storage modulus of 0.01 MPa or more at a temperature of 25°C.
[e] The laminate according to any one of [a] to [d], wherein the adhesive layer has a thickness of 30 μm or less.
[f] An image display device comprising the laminate according to any one of [a] to [e].
本発明によれば、超薄型ガラスを有する前面板と粘着剤層と偏光フィルムとを含む積層体であって、取り扱い性が改善され、及び屈曲性が向上した積層体を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a laminate including a front plate having ultra-thin glass, an adhesive layer, and a polarizing film, which has improved handling properties and flexibility. .
以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の全ての図面においては、各構成要素を理解し易くするために縮尺を適宜調整して示しており、図面に示される各構成要素の縮尺と実際の構成要素の縮尺とは必ずしも一致しない。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments. In all the drawings below, each component is shown adjusted to an appropriate scale to make it easier to understand, and the scale of each component shown in the drawings does not necessarily match the actual scale of the component.
<積層体>
本発明の一態様にかかる積層体は、前面板と粘着剤層と偏光フィルムとをこの順に含み、前面板は、超薄型ガラスとハードコート層とを含み、粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率は0.2MPa以下であり、偏光フィルムは、重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層から構成される積層体である。
<Laminated body>
A laminate according to one embodiment of the present invention includes a front plate, an adhesive layer, and a polarizing film in this order, and the front plate includes ultra-thin glass and a hard coat layer, and the adhesive layer has a temperature of 25°C. The storage modulus is 0.2 MPa or less, and the polarizing film is a laminate composed of a cured liquid crystal layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound.
図1に本発明の一態様に係る積層体の概略断面図を示す。図1に示す積層体100は、前面板10と、粘着剤層11と、偏光板12とがこの順に積層されている。粘着剤層11は、前面板10および偏光板12に接して配置されていてよい。前面板10は、超薄型ガラス14とハードコート層13とを含む。偏光板12は、視認側(前面板10側)から順に基材フィルム15、配向膜16、偏光フィルム17、保護層18が積層されている。積層体100は、上述の層に加えて、例えば位相差板、貼合層、有機ELパネル、タッチセンサ等のその他の層をさらに含むことができる。
FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of a laminate according to one embodiment of the present invention. In the
積層体100は、屈曲軸に対して前面板10側を内側または外側にして、好ましくは屈曲軸に対して前面板10側を内側にして屈曲することが可能である。屈曲することが可能であるとは、積層体にクラックを生じさせることなく屈曲させ得ることを意味する。屈曲には、曲げ部分に曲面が形成される折り曲げの形態が含まれる。折り曲げの形態において、折り曲げた内面の屈曲半径は特に限定されない。また、屈曲には、内面の屈折角が0°より大きく180°未満である屈折の形態、および内面の屈曲半径がゼロに近似、または内面の屈折角が0°である折り畳みの形態が含まれる。本発明の積層体は、屈曲することが可能であることからフレキシブルディスプレイに好適である。
The
積層体100は、後述する屈曲性の評価において繰返しの屈曲を行った場合、クラックが生じにくい屈曲半径が例えば4mm以下であってよく、好ましくは2mm以下、より好ましくは1.5mm以下である。積層体100は、後述する屈曲性の評価において屈曲半径が1.5mmで繰返しの屈曲を行った場合、最初にクラックが生じる屈曲回数が好ましくは20万回以上であり、より好ましくは30万回以上であり、さらに好ましくは40万回以上であり、特に好ましくは50万回以上である。
When the
積層体100の厚みは、積層体に求められる機能および積層体の用途等に応じて異なるため特に限定されないが、例えば30μm以上4000μm以下であり、好ましくは2000μm以下であり、より好ましくは1000μm以下である。本明細書において、積層体および各層の厚みは、後述する実施例において説明する厚み測定方法に従って測定することができる。
The thickness of the
積層体100の平面視形状は、例えば方形形状であってよく、好ましくは長辺と短辺とを有する方形形状であり、より好ましくは長方形である。積層体100の面方向の形状が長方形である場合、長辺の長さは、例えば10mm以上1400mm以下であってよく、好ましくは600mm以下である。短辺の長さは、例えば5mm以上800mm以下であり、好ましくは500mm以下であり、より好ましくは300mm以下である。積層体を構成する各層は、角部がR加工されたり、端部が切り欠き加工されたり、穴あき加工されたりしていてもよい。
The planar shape of the
(前面板)
前面板10は、画像表示装置の視認側の最表面を構成し、画像表示装置の前面(画面)を保護する機能を有することができる。前面板10は、ウィンドウフィルムと呼ばれるものであることができる。前面板10は、超薄型ガラス14とハードコート層13とを含む。ハードコート層は、超薄型ガラスの片側にのみ配置されていてもよいし、超薄型ガラスの両側に配置されていてもよい。本明細書において、厚みが50μm以下であるガラスを超薄型ガラスという。
(Front plate)
The
前面板10の厚みは、例えば30μm以上200μm以下であってよく、好ましくは100μm以下であり、より好ましくは50μm以下である。
The thickness of the
超薄型ガラス14は、例えば厚みが50μm以下であることができる。厚みが50μm以下である超薄型ガラスを用いることにより、積層体が薄型化されると共に、積層体の屈曲性および透光性を向上させ易くなる傾向にある。超薄型ガラス14の厚みは、好ましくは45μm以下であり、より好ましくは40μm以下であり、さらに好ましくは35μm以下であり、特に好ましくは30μm以下である。超薄型ガラス14の厚みは、通常10μm以上であり、積層体の耐衝撃性を向上させる観点から好ましくは15μm以上である。
The
超薄型ガラス14は、強度および透光性に優れる化学強化ガラスを用いることが好ましい。化学強化ガラスを用いることで、可撓性(フレキシビリティ)を保ちながらも、積層体の耐衝撃性を向上させることができる。化学強化ガラスは、ガラスの化学的イオン交換処理により得ることができる。化学的イオン交換処理により、ガラス表面のナトリウムイオンやリチウムイオンをイオン半径のより大きなカリウムイオンに部分的に置換することで、ガラス表面の強度を向上させることができる。薄い圧縮応力層の形成により、表面強度が向上する。化学強化ガラスに使用されるガラスとしては、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス、鉛ガラス、アルカリバリウムガラス、およびアルミノボロシリケートガラス等が挙げられる。
As the
化学的イオン交換処理は、上記ガラスを融点以上に加熱したイオン置換溶液に浸漬またはペースト状のイオン置換溶液をガラスに直接塗布することで行うことができる。イオン置換溶液としては、硝酸カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、リン酸カリウム、硫酸カリウム及び水酸化カリウムベースのもの等が挙げられる。中でも、硝酸カリウム(330℃)は、ガラスの融点(通常500℃以上600℃以下)よりも融点が低く、取り扱いが容易であることから好適である。 The chemical ion exchange treatment can be performed by immersing the glass in an ion replacement solution heated above its melting point or by directly applying a paste-like ion replacement solution to the glass. Ion displacement solutions include those based on potassium nitrate, potassium carbonate, potassium bicarbonate, potassium phosphate, potassium sulfate, and potassium hydroxide. Among these, potassium nitrate (330°C) is preferred because it has a melting point lower than the melting point of glass (usually 500°C or more and 600°C or less) and is easy to handle.
化学的イオン交換処理の前にエッチング処理を行い、ガラスの薄膜化を行ってもよい。エッチング処理は、化学処理溶液としてフッ酸またはこれとフッ化アンモニウム水溶液及び有機酸、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等とを混合したものを用いて行うこともできる。これらを使用して、噴射、ディッピング等によりエッチングを行うことができる。エッチング処理は、エッチングガスとしてフッ素を含んだ不活性ガス、例えば、CF4、C3F8、C2F6、XeF2等を少なくとも1種含むHeガスまたはArガスを用いて行ってもよい。具体的には、HeガスまたはArガスで希釈したフッ素を含む不活性ガスを大気圧下でプラズマ化し、フッ化炭素からフッ素を遊離させることでエッチングを行うことができる。 Etching treatment may be performed before the chemical ion exchange treatment to thin the glass. The etching process can also be performed using hydrofluoric acid or a mixture of hydrofluoric acid, an aqueous ammonium fluoride solution, and an organic acid such as formic acid, acetic acid, propionic acid, etc. as a chemical treatment solution. Using these, etching can be performed by spraying, dipping, etc. The etching process may be performed using an inert gas containing fluorine as an etching gas, such as He gas or Ar gas containing at least one of CF 4 , C 3 F 8 , C 2 F 6 , XeF 2 , etc. . Specifically, etching can be performed by turning an inert gas containing fluorine diluted with He gas or Ar gas into plasma under atmospheric pressure to liberate fluorine from carbon fluoride.
前面板10は、超薄型ガラス14の少なくとも一方の面にハードコート層13を有する。ハードコート層13を設けることにより、積層体100の取り扱い性が向上し易くなる傾向にある。また、ハードコート層13を設けることにより、硬度および耐スクラッチ性を向上させることができる。前面板10が配置される画像表示装置がタッチパネル方式の画像表示装置である場合には、前面板の表面がタッチ面となるため、ハードコート層12を有する前面板10は好適である。
The
ハードコート層13は、超薄型ガラス14の一方の面形成されてもよいし、両方の面に形成されていてもよい。超薄型ガラス14の両方の面に形成される場合、積層体100の取り扱い性が向上し易くなる傾向にある。ハードコート層13は、超薄型ガラス14の一方の面形成される場合、積層体100が画像表示装置に貼合されたときに視認側となる面に形成されることが好ましい。
The
ハードコート層13は、例えば、紫外線硬化型樹脂の硬化層であることができる。紫外線硬化型樹脂としては、例えば(メタ)アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。ハードコート層13は、硬度を向上させるために、添加剤を含んでいてもよい。添加剤は限定されることはなく、無機系微粒子、有機系微粒子、またはこれらの混合物が挙げられる。
The
ハードコート層13は、単層構造を有していてもよく、2層以上からなる多層構造を有していてもよい。ハードコート層13が多層構造を有する場合、積層体の取り扱い性が向上し易くなる傾向にある。ハードコート層13が多層構造を有する場合、各層の厚みおよび各層を構成する材料はそれぞれ互いに異なっていてもよいし、同一であってもよい。多層構造は2層または3層から構成されてよく、好ましくは2層から構成される。
The
ハードコート層13の厚みは、例えば10μm以上であってよく、好ましくは15μm以上であり、より好ましくは20μm以上であり、例えば50μm以下または40μm以下または30μm以下であってよい。
The thickness of the
ハードコート層13が多層構造であったり超薄型ガラスの両側に配置されたりする場合、全ハードコート層の厚みの合計は、例えば10μm以上であってよく、好ましくは15μm以上であり、より好ましくは20μm以上であり、例えば50μm以下または40μm以下または30μm以下であってよい。
When the
ハードコート層13の視認側には、耐摩耗性を向上させたり、皮脂などによる汚染を防止したりするために、耐摩耗層が形成されていることも好ましい。前面板10は、耐摩耗層を有することができ、耐摩耗層は、前面板10の視認側表面を構成する層であることができる。耐摩耗層はフッ素化合物由来の構造を含むことができる。フッ素化合物としてはケイ素原子を有し、ケイ素原子にアルコキシ基やハロゲンのような加水分解性の基を有する化合物が好ましい。加水分解性基が脱水縮合反応することにより塗膜を形成することができ、また基材表面の活性水素と反応することにより耐摩耗層の密着性を向上させることができる。さらにフッ素化合物は、パーフルオロアルキル基やパーフルオロポリエーテル構造を有すると撥水性を付与することができるので好ましい。特に好ましいのはパーフルオロポリエーテル構造と炭素数4以上の長鎖のアルキル基とを有する含フッ素ポリオルガノシロキサン化合物である。フッ素化合物としては2種類以上の化合物を用いることも好ましい。さらに含むことが好ましいフッ素化合物としては、炭素数2以上のアルキレン基、及びパーフルオロアルキレン基を含む含フッ素オルガノシロキサン化合物である。
It is also preferable that a wear-resistant layer is formed on the visible side of the
耐摩耗層の厚さは、例えば1nm以上20nm以下であってよい。また、耐摩耗層は撥水性を有しており、水接触角が例えば110~125°程度である。滑落法で測定した接触角ヒステリシス及び滑落角は、それぞれ3~20°程度、2~55°程度である。更に、耐摩耗層は、本発明の効果を阻害しない範囲で、シラノール縮合触媒、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、防カビ剤、抗菌剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤等、各種の添加剤を含有していてもよい。 The thickness of the wear-resistant layer may be, for example, 1 nm or more and 20 nm or less. Further, the wear-resistant layer has water repellency, and has a water contact angle of, for example, about 110 to 125 degrees. The contact angle hysteresis and sliding angle measured by the sliding method are about 3 to 20° and about 2 to 55°, respectively. Furthermore, the wear-resistant layer may contain a silanol condensation catalyst, an antioxidant, a rust preventive agent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a fungicide, an antibacterial agent, a biofouling inhibitor, and a disinfectant, within a range that does not impede the effects of the present invention. It may contain various additives such as odorants, pigments, flame retardants, and antistatic agents.
耐摩耗層とハードコート層との間にはプライマー層を設けてもよい。プライマー剤として、例えば紫外線硬化型、熱硬化型、湿気硬化型、あるいは2液硬化型のエポキシ系化合物等のプライマー剤がある。また、プライマー剤として、ポリアミック酸を用いてもよく、シランカップリング剤を用いることも好ましい。プライマー層の厚さは、例えば0.001~2μmである。 A primer layer may be provided between the wear-resistant layer and the hard coat layer. As the primer agent, there are, for example, an ultraviolet curing type, a thermosetting type, a moisture curing type, or a two-component curing type epoxy compound primer agent. Moreover, polyamic acid may be used as a primer agent, and it is also preferable to use a silane coupling agent. The thickness of the primer layer is, for example, 0.001 to 2 μm.
耐摩耗層とハードコート層とを含む前面板を得る方法としては、ハードコート層の上に、必要に応じてプライマー剤を塗布、乾燥、硬化させてプライマー層を形成させた後、フッ素化合物を含む組成物(耐摩耗層コーティング用組成物)を塗布、乾燥することで形成できる。塗布する方法としては、例えばディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビアコート法などが挙げられる。また、プライマー剤、または、耐摩耗層コーティング用組成物を塗布する前に、塗布面をプラズマ処理、コロナ処理、または紫外線処理等の親水化処理を施すことも好ましい。 A method for obtaining a front plate including an abrasion resistant layer and a hard coat layer is to apply a primer agent as necessary on the hard coat layer, dry and harden it to form a primer layer, and then apply a fluorine compound. It can be formed by applying and drying a composition (a wear-resistant layer coating composition) containing the above-mentioned material. Examples of the coating method include dip coating, roll coating, bar coating, spin coating, spray coating, die coating, and gravure coating. Furthermore, before applying the primer agent or the wear-resistant layer coating composition, it is also preferable to subject the coated surface to a hydrophilic treatment such as plasma treatment, corona treatment, or ultraviolet treatment.
前面板10は、耐衝撃性を高めるための樹脂フィルムを備えることができる。樹脂フィルムとしては、光を透過可能な樹脂フィルムであれば限定されない。例えば、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、エチレン-酢酸ビニル共重合体、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリ(メタ)アクリル、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアミドイミド等の高分子で形成されたフィルムが挙げられる。これらの高分子は、単独でまたは2種以上混合して用いることができる。積層体をフレキシブルディスプレイに用いる場合には、優れた可撓性を有し、高い強度及び高い透明性を有するように構成可能な、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の高分子で形成された樹脂フィルムが好適に用いられる。なお、本明細書において「(メタ)アクリル」とは、アクリルまたはメタクリルのいずれでもよいことを意味する。(メタ)アクリレート等の「(メタ)」も同様の意味である。樹脂フィルムの厚みは、例えば10μm以上500μm以下であり、好ましくは20μm以上100μm以下である。
The
(粘着剤層)
粘着剤層11は、前面板10と偏光板12との間に介在して、これらを接合する層であることができる。粘着剤層は、例えば粘着剤から構成される層またはこの層に対して何らかの処理を施してなる層であってよい。粘着剤とは、感圧式接着剤とも呼ばれるものである。本明細書において「接着剤」とは、粘着剤(感圧式接着剤)以外の接着剤をいい、粘着剤とは明確に区別される。粘着剤層は、1層であってもよく、2層以上からなるものであってもよいが、好ましくは1層である。
(Adhesive layer)
The
粘着剤層11の温度25℃における貯蔵弾性率は0.2MPa以下であり、好ましくは0.1MPa以下、より好ましくは0.05MPa以下である。粘着剤層11の温度25℃における貯蔵弾性率は、後述の実施例の欄において説明する測定方法に従って測定される。粘着剤層11の温度25℃における貯蔵弾性率は0.2MPa以下であることにより、積層体100の屈曲性が向上し易くなる傾向にある。
The storage elastic modulus of the
粘着剤層11は、後述する粘着剤組成物から形成される。粘着剤層11の温度25℃における貯蔵弾性率は、例えば粘着剤組成物に含まれる(メタ)アクリル系ポリマーを構成するモノマーの種類を選択したり、(メタ)アクリル系ポリマーの分子量を調節したり、架橋剤の添加量により、架橋密度を調整したり、粘着剤層の厚みを調節したりする方法、およびこれらの組み合わせの方法等により調節することができる。市販の粘着剤の中から所望の貯蔵弾性率を有するものを選択して用いることもできる。
The
粘着剤層11は、(メタ)アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系のような樹脂を主成分とする粘着剤組成物で構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる(メタ)アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよい。
The
粘着剤組成物に用いられる(メタ)アクリル系樹脂(ベースポリマー)としては、例えば、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシルのような(メタ)アクリル酸エステルの1種または2種以上をモノマーとする重合体または共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。 Examples of the (meth)acrylic resin (base polymer) used in the adhesive composition include butyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, and 2-(meth)acrylate. Polymers or copolymers containing one or more types of (meth)acrylic esters such as ethylhexyl as monomers are preferably used. It is preferable to copolymerize a polar monomer with the base polymer. Examples of the polar monomer include (meth)acrylic acid, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, (meth)acrylamide, N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, and glycidyl ( Examples include monomers having carboxyl groups, hydroxyl groups, amide groups, amino groups, epoxy groups, etc., such as meth)acrylates.
粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、2価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの;ポリアミン化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するもの;ポリエポキシ化合物やポリオールであって、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するもの;ポリイソシアネート化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するものが例示される。中でも、ポリイソシアネート化合物が好ましい。 The pressure-sensitive adhesive composition may contain only the above base polymer, but usually further contains a crosslinking agent. Examples of crosslinking agents include metal ions with a valence of two or more that form carboxylic acid metal salts with carboxyl groups; polyamine compounds that form amide bonds with carboxyl groups; polyamine compounds that form amide bonds with carboxyl groups; Examples include epoxy compounds and polyols that form ester bonds with carboxyl groups; polyisocyanate compounds that form amide bonds with carboxyl groups. Among these, polyisocyanate compounds are preferred.
活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有しており、活性エネルギー線照射前においても粘着性を有してフィルム等の被着体に密着させることができ、活性エネルギー線の照射によって硬化して密着力の調整ができる性質を有する粘着剤組成物である。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線硬化型であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、ベースポリマー、架橋剤に加えて、活性エネルギー線重合性化合物をさらに含有する。さらに必要に応じて、光重合開始剤や光増感剤等を含有させることもある。 An active energy ray-curable adhesive composition has the property of being cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams, and remains sticky and forms a film even before irradiation with active energy rays. It is an adhesive composition that can be closely adhered to adherends such as adhesives, etc., and has the property that it can be cured by irradiation with active energy rays to adjust the adhesive strength. The active energy ray-curable adhesive composition is preferably an ultraviolet ray-curable adhesive composition. The active energy ray curable adhesive composition further contains an active energy ray polymerizable compound in addition to the base polymer and the crosslinking agent. Furthermore, if necessary, a photopolymerization initiator, a photosensitizer, etc. may be included.
粘着剤組成物は、光散乱性を付与するための微粒子、ビーズ(樹脂ビーズ、ガラスビーズ等)、ガラス繊維、ベースポリマー以外の樹脂、粘着性付与剤、充填剤(金属粉やその他の無機粉末等)、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、着色剤、消泡剤、腐食防止剤、帯電防止剤、光重合開始剤等の添加剤を含むことができる。 The adhesive composition contains fine particles, beads (resin beads, glass beads, etc.), glass fibers, resins other than the base polymer, tackifiers, fillers (metal powders and other inorganic powders) to impart light scattering properties. etc.), antioxidants, ultraviolet absorbers, dyes, pigments, colorants, antifoaming agents, corrosion inhibitors, antistatic agents, photopolymerization initiators, and other additives.
粘着剤層11は、上記粘着剤組成物の有機溶剤希釈液を基材上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物を用いた場合は、形成された粘着剤層に、活性エネルギー線を照射することにより所望の硬化度を有する硬化物とすることができる。
The
粘着剤層11の厚みは、例えば1μm以上100μm以下であることが好ましく、50μm以下であることがより好ましく、30μm以下であることが更に好ましく、10μm以上以上であってもよい。
The thickness of the
[偏光フィルム]
偏光フィルム17は、重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層から構成される。偏光フィルム17が重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層から構成されることにより、積層体100の屈曲性が向上し易くなる傾向にある。重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層は、液晶性を有する重合性の二色性色素を含む組成物または重合性液晶化合物と二色性色素とを含む組成物を基材フィルムに塗布し硬化させて得られる層からなる偏光層であってよい。二色性色素として、具体的には、ヨウ素や二色性有機染料が用いられる。二色性有機染料としては、例えばアゾ系色素等が挙げられる。アゾ系色素には、例えばC.I.DIRECT RED 39等のジスアゾ化合物からなる二色性直接染料、トリスアゾ、テトラキスアゾ等の化合物からなる二色性直接染料が包含される。
[Polarizing film]
The
基材フィルムは一方の面に配向膜が設けられていてもよい。偏光フィルム17は、屈曲性向上の観点から好ましくは、重合性液晶化合物と1つまたは複数のアゾ系色素とを含む組成物の硬化物と、配向膜とを含む層である。配向膜の厚みは、例えば5nm以上1μm以下であってよい。
The base film may be provided with an alignment film on one side. From the viewpoint of improving flexibility, the
偏光フィルム17は、重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層が積層体に組込まれたものであれば、基材フィルムと共に積層体に組込まれてもよい。基材フィルムの材料および厚みは、後述の熱可塑性樹脂フィルムの材料および厚みと同様であってよい。基材フィルムは、少なくとも一方の面に後述する保護層としてハードコート層(HC層)が形成されてもよい。
The
重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層の厚みは、通常10μm以下であり、好ましくは8μm以下であり、より好ましくは5μm以下である。 The thickness of the liquid crystal cured layer containing the cured product of the polymerizable liquid crystal compound is usually 10 μm or less, preferably 8 μm or less, and more preferably 5 μm or less.
[保護層]
保護層は、偏光フィルム17の片側または両側に配置され、偏光フィルム17の表面を保護する機能を有することができる。本明細書において、保護層が積層された偏光フィルムを偏光板ということがある。
[Protective layer]
The protective layer can be placed on one or both sides of the
保護層は、有機物層または無機物層であることができる。有機物層または無機物層は、コーティングにより形成される層であることができる。有機物層は、保護層形成用組成物、例えば(メタ)アクリル系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ポリイミド系樹脂組成物等の硬化樹脂層であることができる。保護層形成用組成物は、活性エネルギー線硬化型であってもよいし、熱硬化型であってもよい。無機物層は、例えばシリコン酸化物等から形成することができる。保護層が有機物層である場合、保護層はハードコート層(HC層)やオーバーコート(OC)層と呼ばれるものであってもよい。保護層は、上述の基材フィルム上に直接的に形成されてよく、偏光フィルム上に直接的に形成されてもよい。上述の基材フィルム上に保護層が形成されてから、偏光フィルムが形成され得る。 The protective layer can be an organic layer or an inorganic layer. The organic layer or the inorganic layer can be a layer formed by coating. The organic layer may be a cured resin layer made of a composition for forming a protective layer, such as a (meth)acrylic resin composition, an epoxy resin composition, or a polyimide resin composition. The composition for forming a protective layer may be of an active energy ray curable type or a thermosetting type. The inorganic layer can be formed from, for example, silicon oxide. When the protective layer is an organic layer, the protective layer may be called a hard coat layer (HC layer) or an overcoat (OC) layer. The protective layer may be formed directly on the above-mentioned base film, or may be formed directly on the polarizing film. After a protective layer is formed on the above-mentioned base film, a polarizing film can be formed.
保護層が有機物層である場合、例えば活性エネルギー線硬化型の保護層形成用組成物を基材フィルム上に塗布し、活性エネルギーを照射して硬化させることにより保護層を作製することができる。基材フィルムは、上述の基材フィルムの説明が適用される。保護層は、基材フィルムが剥離して除去された状態で積層体に組込まれることができる。保護層形成用組成物を塗布する方法としては、例えばスピンコート法等が挙げられる。保護層が無機物層である場合、例えばスパッタリング法、蒸着法等によって保護層を形成することができる。保護層が有機物層または無機物層である場合、保護層の厚みは、例えば0.1μm以上10μm以下であってよく、好ましくは5μm以下である。 When the protective layer is an organic layer, the protective layer can be prepared, for example, by applying an active energy ray-curable composition for forming a protective layer onto a base film and curing it by irradiating active energy. The above description of the base film applies to the base film. The protective layer can be incorporated into the laminate with the base film peeled and removed. Examples of the method for applying the composition for forming a protective layer include a spin coating method. When the protective layer is an inorganic layer, the protective layer can be formed by, for example, a sputtering method, a vapor deposition method, or the like. When the protective layer is an organic layer or an inorganic layer, the thickness of the protective layer may be, for example, 0.1 μm or more and 10 μm or less, and preferably 5 μm or less.
保護層としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性等に優れる熱可塑性樹脂フィルムを用いることもできる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂;ポリエーテルスルホン樹脂;ポリスルホン樹脂;ポリカーボネート樹脂;ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド樹脂;ポリイミド樹脂;ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン樹脂;シクロ系およびノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン樹脂(ノルボルネン系樹脂ともいう);(メタ)アクリル樹脂;ポリアリレート樹脂;ポリスチレン樹脂;ポリビニルアルコール樹脂、並びにこれらの混合物を挙げることができる。偏光フィルム17の両面に保護層が積層されている場合、二つの保護層は同種であってもよいし、異種であってもよい。熱可塑性樹脂フィルムの厚みは、薄型化の観点から、通常300μm以下であり、好ましくは200μm以下であり、より好ましくは100μm以下であり、さらに好ましくは50μm以下であり、なおさらに好ましくは30μm以下であり、また、通常1μm以上であり、例えば5μm以上または20μm以上であってよい。
As the protective layer, for example, a thermoplastic resin film having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier properties, isotropy, stretchability, etc. can also be used. Specific examples of such thermoplastic resins include cellulose resins such as triacetylcellulose; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyethersulfone resins; polysulfone resins; polycarbonate resins; polyamides such as nylon and aromatic polyamides. Resin; Polyimide resin; Polyolefin resin such as polyethylene, polypropylene, and ethylene-propylene copolymer; Cyclic polyolefin resin having cyclo- and norbornene structures (also referred to as norbornene-based resin); (meth)acrylic resin; Polyarylate resin; Polystyrene resin ; Polyvinyl alcohol resins and mixtures thereof can be mentioned. When protective layers are laminated on both sides of the
保護層が熱可塑性樹脂フィルムである場合、熱可塑性樹脂フィルムは後述の貼合層を介して偏光フィルム17に積層することができる。熱可塑性樹脂フィルムを偏光フィルム17に貼合する貼合層としては、好ましくは接着剤層である。あるいは、上述保護層の上に偏光層が形成され得る。積層体100は、偏光フィルム17の粘着剤層11とは反対側に熱可塑性樹脂フィルムおよび硬化樹脂層からなる群から選択される少なくとも1つの保護層を備えることが好ましい。
When the protective layer is a thermoplastic resin film, the thermoplastic resin film can be laminated to the
[その他の層]
(位相差板)
積層体100は偏光板12の粘着剤層11とは反対側に後述の貼合層を介して位相差板を有していてよい。位相差板は、重合性液晶化合物の硬化層を含むことができる。重合性液晶化合物の硬化層は、重合性液晶化合物を含む位相差層形成用組成物を基材フィルムに塗布し硬化させることによって形成することができる。塗布方法としては、例えばコート法、印刷法等が挙げられる。コート法としては、バーコート法、ナイフコート法、ブレードコート法、ダイコート法、ダイレクトグラビアコート法、リバースグラビアコート法、ロールコート法、CAPコート法、スピンコート法、スプレーコート法、スクリーンコート法、スリットコート法、ディップコート法等が挙げられる。印刷法としては、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法等が挙げられる。
[Other layers]
(Retardation plate)
The laminate 100 may have a retardation plate on the opposite side of the
重合性液晶化合物の硬化層は位相差層であることができる。位相差層は、1層または2層以上から構成されることができる。位相差層は、λ/4板、λ/2板等のポジティブAプレート、およびポジティブCプレートであってよい。位相差板が重合性液晶化合物の硬化層を1層のみ含む場合、位相差層は、好ましくはλ/4板である。位相差板が重合性液晶化合物の硬化層を2層含む場合、位相差層は、第1液晶硬化位相差層と第2液晶硬化位相差層とからなる位相差層積層体であることができる。第1液晶硬化位相差層と第2液晶硬化位相差層とは、後述する貼合層を介して積層されていてよく、好ましくは接着剤層を介して積層される。第1液晶硬化位相差層および第2液晶硬化位相差層の組合わせとしては、好ましくは第1液晶硬化位相差層がλ/4板であり、および第2液晶硬化位相差層がλ/2板である組合せ、および第1液晶硬化位相差層がλ/4板であり、および第2液晶硬化位相差層がポジティブCプレートである組合せである。本明細書では、位相差層が積層された偏光板を円偏光板ということがある。 The cured layer of the polymerizable liquid crystal compound can be a retardation layer. The retardation layer can be composed of one layer or two or more layers. The retardation layer may be a positive A plate such as a λ/4 plate or a λ/2 plate, and a positive C plate. When the retardation plate includes only one cured layer of a polymerizable liquid crystal compound, the retardation layer is preferably a λ/4 plate. When the retardation plate includes two cured layers of polymerizable liquid crystal compounds, the retardation layer can be a retardation layer laminate including a first liquid crystal cured retardation layer and a second liquid crystal cured retardation layer. . The first liquid crystal cured retardation layer and the second liquid crystal cured retardation layer may be laminated via a bonding layer, which will be described later, and preferably are laminated via an adhesive layer. As for the combination of the first liquid crystal cured retardation layer and the second liquid crystal cured retardation layer, preferably the first liquid crystal cured retardation layer is a λ/4 plate, and the second liquid crystal cured retardation layer is a λ/2 plate. A combination in which the first liquid crystal cured retardation layer is a λ/4 plate and a second liquid crystal cured retardation layer is a positive C plate. In this specification, a polarizing plate on which a retardation layer is laminated may be referred to as a circularly polarizing plate.
重合性液晶化合物の硬化層の厚みは、例えば0.1μm以上10μm以下であり、好ましくは8μm以下であり、より好ましくは6μm以下である。 The thickness of the cured layer of the polymerizable liquid crystal compound is, for example, 0.1 μm or more and 10 μm or less, preferably 8 μm or less, and more preferably 6 μm or less.
基材フィルムと重合性液晶化合物の硬化層との間に配向層が形成されていてもよい。基材フィルムの材料および厚みは、上述した熱可塑性樹脂フィルムの材料および厚みと同様であってよい。重合性液晶化合物を硬化してなる位相差層は、配向層および基材フィルムのいずれか一方または両方と共に積層体100に組み込まれてもよい。配向層の厚みは、例えば5nm以上1μm以下であってよい。 An alignment layer may be formed between the base film and the cured layer of the polymerizable liquid crystal compound. The material and thickness of the base film may be the same as those of the thermoplastic resin film described above. A retardation layer formed by curing a polymerizable liquid crystal compound may be incorporated into the laminate 100 together with either or both of the alignment layer and the base film. The thickness of the alignment layer may be, for example, 5 nm or more and 1 μm or less.
(貼合層)
貼合層は、粘着剤または接着剤から構成される層である。貼合層は、例えば偏光フィルムと位相差板とを貼合する層、積層体と有機ELパネルやタッチセンサパネルとを貼合する層、偏光フィルムと保護層とを接合する層、第1液晶硬化位相差層と第2液晶硬化位相差層とを接合する層等であることができる。貼合層を構成する粘着剤は、上述の粘着剤層を構成する粘着剤組成物について例示したものと同じ剤であってもよいし、他の粘着剤、例えば(メタ)アクリル系粘着剤、スチレン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、エポキシ系共重合体粘着剤等であってもよい。積層体100は、貼合層を1つ備えてもよいし、2以上備えてもよい。積層体100が貼合層を複数備える場合、複数の貼合層は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
(Lamination layer)
The bonding layer is a layer composed of a pressure-sensitive adhesive or an adhesive. The bonding layer includes, for example, a layer for bonding a polarizing film and a retardation plate, a layer for bonding a laminate and an organic EL panel or a touch sensor panel, a layer for bonding a polarizing film and a protective layer, and a layer for bonding a polarizing film and a protective layer. It can be a layer that joins the cured retardation layer and the second liquid crystal cured retardation layer. The adhesive constituting the bonding layer may be the same as that exemplified for the adhesive composition constituting the above-mentioned adhesive layer, or may be another adhesive such as a (meth)acrylic adhesive, It may be a styrene adhesive, a silicone adhesive, a rubber adhesive, a urethane adhesive, a polyester adhesive, an epoxy copolymer adhesive, or the like. The laminate 100 may include one bonding layer, or may include two or more bonding layers. When the laminate 100 includes a plurality of bonding layers, the plurality of bonding layers may be the same or different.
貼合層を構成する接着剤としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤等のうち1または2種以上を組み合せて形成することができる。水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を挙げることができる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物および光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂および光反応性架橋剤を含むもの等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含むものを挙げることができる。 The adhesive constituting the bonding layer can be formed by, for example, one or a combination of two or more of water-based adhesives, active energy ray-curable adhesives, pressure-sensitive adhesives, and the like. Examples of water-based adhesives include polyvinyl alcohol resin aqueous solutions, water-based two-component urethane emulsion adhesives, and the like. Active energy ray-curable adhesives are adhesives that are cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, such as those containing a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, those containing a photoreactive resin, Examples include those containing a binder resin and a photoreactive crosslinking agent. Examples of the polymerizable compound include photopolymerizable monomers such as photocurable epoxy monomers, photocurable acrylic monomers, and photocurable urethane monomers, and oligomers derived from these monomers. Examples of the photopolymerization initiator include those containing substances that generate active species such as neutral radicals, anion radicals, and cation radicals upon irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays.
貼合層として粘着剤層を使用する場合、1μm以上であることが好ましく、5μm以上であってもよく、通常200μm以下であり、例えば150μm以下または100μm以下であってよい。貼合層として接着剤層を使用する場合、貼合層の厚みは、0.1μm以上であることが好ましく、0.5μm以上であってもよく、10μm以下であることが好ましく、5μm以下であってもよい。 When using an adhesive layer as a bonding layer, the thickness is preferably 1 μm or more, may be 5 μm or more, and is usually 200 μm or less, for example, 150 μm or less or 100 μm or less. When using an adhesive layer as a bonding layer, the thickness of the bonding layer is preferably 0.1 μm or more, may be 0.5 μm or more, preferably 10 μm or less, and 5 μm or less. There may be.
(有機ELパネル)
有機ELパネルは、公知の有機ELパネルを用いることができる。積層体100は、偏光板12の粘着剤層11とは反対側に有機ELパネルを備えることができる。積層体100が粘着剤層11の偏光板12とは反対側に位相差板を有する場合、有機ELパネルは、位相差板の偏光板12とは反対側に有機ELパネルを配置することができる。
(Organic EL panel)
A known organic EL panel can be used as the organic EL panel. The laminate 100 can include an organic EL panel on the opposite side of the
(タッチセンサパネル)
タッチセンサパネルは、タッチされた位置を検出可能なセンサであれば、検出方式は限定されることはなく、抵抗膜方式、静電容量方式、光センサ方式、超音波方式、電磁誘導結合方式、表面弾性波方式等のタッチセンサパネルが例示される。その中でも、低コスト、早い反応速度、薄膜化の面で、静電容量方式のタッチセンサパネルが好適に用いられる。タッチセンサパネルは、透明導電層とこれを支持する基材フィルムとの間に、接着層、分離層、保護層等を備えてもよい。接着層としては、接着剤層、粘着剤層が挙げられる。透明導電層を支持する基材フィルムとして、一方の表面に透明導電層が蒸着形成されている基材フィルム、接着層を介して透明導電層が転写された基材フィルム等が挙げられる。
(touch sensor panel)
The detection method of the touch sensor panel is not limited as long as it is a sensor that can detect the touched position, and includes resistive film method, capacitance method, optical sensor method, ultrasonic method, electromagnetic inductive coupling method, A surface acoustic wave type touch sensor panel is exemplified. Among these, a capacitive touch sensor panel is preferably used in terms of low cost, fast reaction speed, and thin film. The touch sensor panel may include an adhesive layer, a separation layer, a protective layer, etc. between the transparent conductive layer and the base film that supports it. Examples of the adhesive layer include an adhesive layer and a pressure-sensitive adhesive layer. Examples of the base film that supports the transparent conductive layer include a base film on which a transparent conductive layer is deposited on one surface, a base film on which a transparent conductive layer is transferred via an adhesive layer, and the like.
静電容量方式のタッチセンサパネルの一例は、基材フィルムと、基材フィルムの表面に設けられた位置検出用の透明導電層と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。静電容量方式のタッチセンサパネルを有する積層体を設けた画像表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、タッチされた点で人体の静電容量を介して透明導電層が接地される。タッチ位置検知回路が、透明導電層の接地を検知し、タッチされた位置が検出される。互いに離間した複数の透明導電層を有することにより、より詳細な位置の検出が可能となる。 An example of a capacitive touch sensor panel includes a base film, a transparent conductive layer for position detection provided on the surface of the base film, and a touch position detection circuit. In an image display device equipped with a laminate having a capacitive touch sensor panel, when the surface of the front panel is touched, the transparent conductive layer is grounded at the touched point via the capacitance of the human body. Ru. A touch position detection circuit detects grounding of the transparent conductive layer, and the touched position is detected. By having a plurality of transparent conductive layers spaced apart from each other, more detailed position detection becomes possible.
透明導電層は、ITO等の金属酸化物からなる透明導電層であってもよく、アルミニウムや銅、銀、金、またはこれらの合金等の金属からなる金属層であってもよい。透明電極層は、スパッタリング法、印刷法、蒸着法等の塗布法により形成される。透明電極層の上に感光性レジストを形成し、その後、フォトリソグラフィによって電極パターン層が形成される。感光性レジストはネガティブタイプ感光性レジストまたはポジティブタイプ感光性レジストが使用され、パターニング後には感光性レジストは残存していてもよいし、除去されていてもよい。スパッタリング法により製膜する場合には、電極パターン形状をもつマスクを配置して、スパッタリングを行い、電極パターン層を形成することもできる。 The transparent conductive layer may be a transparent conductive layer made of a metal oxide such as ITO, or may be a metal layer made of a metal such as aluminum, copper, silver, gold, or an alloy thereof. The transparent electrode layer is formed by a coating method such as a sputtering method, a printing method, or a vapor deposition method. A photosensitive resist is formed on the transparent electrode layer, and then an electrode pattern layer is formed by photolithography. A negative type photosensitive resist or a positive type photosensitive resist is used as the photosensitive resist, and the photosensitive resist may remain after patterning or may be removed. When forming a film by a sputtering method, an electrode pattern layer can also be formed by arranging a mask having an electrode pattern shape and performing sputtering.
分離層は、ガラス等の基板上に形成されて、分離層上に形成された透明導電層を分離層とともに、基板から分離するための層であることができる。分離層は、無機物層または有機物層であることが好ましい。無機物層を形成する材料としては、例えばシリコン酸化物が挙げられる。有機物層を形成する材料としては、例えば(メタ)アクリル系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ポリイミド系樹脂組成物等を用いることができる。分離層は、公知のコート法で塗布し、熱硬化もしくはUV硬化またはこれらの組合わせの方法により硬化させて形成することができる。 The separation layer can be a layer formed on a substrate such as glass to separate a transparent conductive layer formed on the separation layer from the substrate together with the separation layer. The separation layer is preferably an inorganic layer or an organic layer. Examples of the material for forming the inorganic layer include silicon oxide. As the material for forming the organic layer, for example, a (meth)acrylic resin composition, an epoxy resin composition, a polyimide resin composition, etc. can be used. The separation layer can be formed by coating by a known coating method and curing by heat curing, UV curing, or a combination thereof.
保護層は、透明導電層に接して導電層を保護するために設けることができる。保護層は有機絶縁膜および無機絶縁膜のうちの少なくとも一つを含み、これらの膜は、スピンコート法、スパッタリング法、蒸着法等の塗布法によって形成することができる。 The protective layer can be provided in contact with the transparent conductive layer to protect the conductive layer. The protective layer includes at least one of an organic insulating film and an inorganic insulating film, and these films can be formed by a coating method such as a spin coating method, a sputtering method, or a vapor deposition method.
絶縁層は、例えばシリコン酸化物等の無機絶縁物質、アクリル系樹脂等の透明有機物質から形成することができる。絶縁層は、公知のコート法で塗布した後、熱硬化、UV硬化、熱乾燥、真空乾燥等によって形成することができる。 The insulating layer can be formed of, for example, an inorganic insulating material such as silicon oxide, or a transparent organic material such as acrylic resin. The insulating layer can be formed by coating using a known coating method, followed by heat curing, UV curing, heat drying, vacuum drying, or the like.
タッチセンサパネルの基材フィルムとしては、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンナフタレート、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスチレン、ポリノルボルネンなどの樹脂フィルムが挙げられる。所望のタフネスを有する基材フィルムを構成しやすい観点から、ポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。 Base films for touch sensor panels include triacetylcellulose, polyethylene terephthalate, cycloolefin polymer, polyethylene naphthalate, polyolefin, polycycloolefin, polycarbonate, polyethersulfone, polyarylate, polyimide, polyamide, polystyrene, polynorbornene, etc. Examples include resin films. Polyethylene terephthalate is preferably used from the viewpoint of easy construction of a base film having desired toughness.
タッチセンサパネルの基材フィルムは、優れた耐屈曲性を有する積層体を構成しやすい観点から、厚みが50μm以下であることが好ましく、30μm以下であることがさらに好ましい。タッチセンサパネルの基材フィルムの厚みは、例えば5μm以上であってよい。 The base film of the touch sensor panel preferably has a thickness of 50 μm or less, more preferably 30 μm or less, from the viewpoint of easily forming a laminate having excellent bending resistance. The thickness of the base film of the touch sensor panel may be, for example, 5 μm or more.
タッチセンサパネルは、例えば以下のようにして製造することができる。第1の方法では、まず基板へ接着層を介して基材フィルムを積層する。基材フィルム上に、フォトリソグラフィによりパターン化された透明導電層を形成する。熱を加えることにより、基板と基材フィルムとを分離して、透明導電層と基材フィルムとからなるタッチセンサパネルが得られる。基板は、平坦性を維持し、耐熱性を有する基板であれば特に限定されないが、好ましくはガラス基板である。 A touch sensor panel can be manufactured, for example, as follows. In the first method, first, a base film is laminated onto a substrate via an adhesive layer. A transparent conductive layer patterned by photolithography is formed on the base film. By applying heat, the substrate and the base film are separated, and a touch sensor panel consisting of the transparent conductive layer and the base film is obtained. The substrate is not particularly limited as long as it maintains flatness and has heat resistance, but is preferably a glass substrate.
第2の方法では、まず基板上に分離層を形成する材料を塗布し、分離層を形成する。必要に応じて、分離層上に保護層を塗布によって形成する。パッドパターン層が形成される部分には保護層が形成されないように保護層を形成してもよい。分離層(または保護層)上に、フォトリソグラフィによりパターン化された透明導電層を形成する。透明導電層上に、電極パターン層を埋めるように絶縁層を形成する。絶縁層の上に剥離可能な粘着剤によって保護フィルムを積層し、絶縁層から分離層までを転写して、基板を分離する。剥離可能な保護フィルムを剥離することで、絶縁層/透明導電層/(保護層)/分離層をこの順に有するタッチセンサパネルが得られる。 In the second method, a material for forming a separation layer is first applied onto a substrate to form a separation layer. If necessary, a protective layer is formed on the separation layer by coating. A protective layer may be formed so that the protective layer is not formed in the portion where the pad pattern layer is formed. A transparent conductive layer patterned by photolithography is formed on the separation layer (or protective layer). An insulating layer is formed on the transparent conductive layer so as to fill the electrode pattern layer. A protective film is laminated on the insulating layer using a peelable adhesive, and the layers from the insulating layer to the separation layer are transferred to separate the substrates. By peeling off the peelable protective film, a touch sensor panel having an insulating layer/transparent conductive layer/(protective layer)/separation layer in this order is obtained.
基材フィルムを含むとき、タッチセンサパネルの厚みは、例えば5μm以上2000μm以下であってよく、5μm以上100μm以下であってもよい。 When including the base film, the thickness of the touch sensor panel may be, for example, 5 μm or more and 2000 μm or less, or 5 μm or more and 100 μm or less.
基材フィルムを含まないとき、タッチセンサパネルの厚みは、例えば0.5μm以上10μm以下であり、好ましくは5μm以下である。 When the base film is not included, the thickness of the touch sensor panel is, for example, 0.5 μm or more and 10 μm or less, and preferably 5 μm or less.
積層体100がタッチセンサパネルを備える場合、タッチセンサパネルは例えば位相差板と有機ELパネルとの間、または前面板10と偏光板12との間等に配置することができる。
When the laminate 100 includes a touch sensor panel, the touch sensor panel can be arranged, for example, between the retardation plate and the organic EL panel, or between the
[積層体の層構成]
図2に示す積層体200は、視認側から前面板21、粘着剤層22、偏光板23、貼合層24、位相差板25がこの順に積層されている。前面板21は、視認側から第1ハードコート層26、第2ハードコート層27、超薄型ガラス28がこの順に積層されている。偏光フィルム23は、視認側から基材フィルム29、配向膜30、偏光フィルム31、保護層32がこの順に積層されている。位相差板25は、視認側から第1液晶硬化位相差層33と第2液晶硬化位相差層34とがこの順に積層されている。
[Layer configuration of laminate]
In the laminate 200 shown in FIG. 2, a
図3は、積層体300の層構成を示す。図3において各層についての説明は、図2において同一の符号が付された層の説明が適用される。積層体300は、上述の積層体200とは第1ハードコート層26、超薄型ガラス28および第2ハードコート層27がこの順に積層されている以外は同様の層構成を有している。
FIG. 3 shows the layer structure of the laminate 300. The description of each layer in FIG. 3 applies to the layer labeled with the same reference numeral in FIG. 2. The laminate 300 has the same layer structure as the laminate 200 described above, except that the first
[積層体の用途]
積層体100は、例えば画像表示装置等に用いることができる。画像表示装置は特に限定されず、例えば有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置、無機エレクトロルミネッセンス(無機EL)表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等が挙げられる。画像表示装置はタッチパネル機能を有していてよい。画像表示装置は好ましくはフレキシブルディスプレイであることができる。積層体100は、粘着剤層11に対し前面板10側が視認側となるように画像表示装置に配置されてよく、好ましくは前面板11が画像表示装置の最外面を構成するように配置される。
[Applications of laminate]
The laminate 100 can be used, for example, in an image display device. The image display device is not particularly limited, and includes, for example, an organic electroluminescent (organic EL) display device, an inorganic electroluminescent (inorganic EL) display device, a liquid crystal display device, an electroluminescent display device, and the like. The image display device may have a touch panel function. The image display device may preferably be a flexible display. The laminate 100 may be arranged in the image display device so that the
[積層体の製造方法]
積層体は、粘着剤層、あるいはさらに接着剤層を介して積層体を構成する層同士を貼合する工程を含む方法によって製造することができる。粘着剤層や接着剤層を介して層同士を貼合する場合には、密着性を高めるために、貼合面の一方または両方に対して、例えばコロナ処理等の表面活性化処理を施すことが好ましい。
[Method for manufacturing laminate]
The laminate can be manufactured by a method including a step of laminating the layers constituting the laminate through an adhesive layer or an additional adhesive layer. When laminating layers through an adhesive layer or an adhesive layer, surface activation treatment such as corona treatment should be applied to one or both of the laminating surfaces in order to increase adhesion. is preferred.
偏光フィルムを構成する重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層は、基材上に配向膜を介して形成することが可能である。重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層は、二色性色素および重合性液晶化合物を含む液晶硬化層形成用組成物を塗布し、硬化させることで形成することができる。液晶硬化層形成用組成物は、上述の二色性色素および重合性液晶化合物に加え、好ましくは重合開始剤、レベリング剤、溶剤をさらに含み、光増感剤、重合禁止剤、レベリング剤等をさらに含み得る。 A cured liquid crystal layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound constituting a polarizing film can be formed on a substrate via an alignment film. A liquid crystal cured layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound can be formed by applying and curing a composition for forming a liquid crystal cured layer containing a dichroic dye and a polymerizable liquid crystal compound. In addition to the above-mentioned dichroic dye and polymerizable liquid crystal compound, the composition for forming a liquid crystal cured layer preferably further contains a polymerization initiator, a leveling agent, a solvent, and a photosensitizer, a polymerization inhibitor, a leveling agent, etc. It may further include.
位相差板に含まれる位相差層は、基材および存在する場合には配向膜上に、重合性液晶化合物を含む位相差層形成用組成物を塗布し、重合性液晶化合物を重合することで製造することができる。位相差層形成用組成物は、溶剤、重合開始剤をさらに含み、光増感剤、重合禁止剤、レベリング剤等をさらに含み得る。基材および配向膜は位相差板に組み込まれてもよいし、あるいは位相差板から剥離されて積層体の構成要素とはならなくてもよい。 The retardation layer included in the retardation plate is formed by applying a retardation layer forming composition containing a polymerizable liquid crystal compound onto a base material and an alignment film if present, and polymerizing the polymerizable liquid crystal compound. can be manufactured. The composition for forming a retardation layer further contains a solvent, a polymerization initiator, and may further contain a photosensitizer, a polymerization inhibitor, a leveling agent, and the like. The base material and the alignment film may be incorporated into the retardation plate, or may be separated from the retardation plate and not become constituent elements of the laminate.
液晶硬化層形成用組成物および位相差層形成用組成物の塗布、乾燥および重合性液晶化合物の重合は、従来公知の塗布方法、乾燥方法および重合方法により行うことができる。 Coating and drying of the liquid crystal cured layer forming composition and retardation layer forming composition and polymerization of the polymerizable liquid crystal compound can be performed by conventionally known coating methods, drying methods, and polymerization methods.
例えば液晶硬化層形成用組成物および位相差層形成用組成物の塗布方法としては、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、およびダイコーティング法等を採用することができる。 For example, as a method for applying the composition for forming a liquid crystal cured layer and the composition for forming a retardation layer, a wire bar coating method, an extrusion coating method, a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, a die coating method, etc. may be employed. I can do it.
重合性液晶化合物の重合方法は、重合性液晶化合物の重合性基の種類に応じて選択すればよい。重合性基が光重合性基であれば光重合法により重合することができる。重合基が熱重合性基であれば熱重合法により重合することができる。本実施形態の製造方法においては、光重合法が好ましい。光重合法は、必ずしも透明基材を高温に加熱する必要がないため、耐熱性の低い透明基材を使用することができる。光重合法は、重合性液晶化合物を含む液晶硬化層形成用組成物または位相差層形成用組成物からなる膜に可視光、または紫外光を照射することにより行う。取り扱いやすい点で、紫外光が好ましい。 The method for polymerizing the polymerizable liquid crystal compound may be selected depending on the type of polymerizable group of the polymerizable liquid crystal compound. If the polymerizable group is a photopolymerizable group, it can be polymerized by a photopolymerization method. If the polymerizable group is a thermally polymerizable group, it can be polymerized by a thermal polymerization method. In the manufacturing method of this embodiment, a photopolymerization method is preferred. Since the photopolymerization method does not necessarily require heating the transparent substrate to a high temperature, a transparent substrate with low heat resistance can be used. The photopolymerization method is carried out by irradiating visible light or ultraviolet light onto a film made of a composition for forming a liquid crystal cured layer or a composition for forming a retardation layer containing a polymerizable liquid crystal compound. Ultraviolet light is preferred because it is easy to handle.
粘着剤層は粘着剤シートとして準備することができる。粘着剤シートは、例えばトルエンや酢酸エチル等の有機溶剤に粘着剤組成物を溶解または分散させて粘着剤液を調製し、これを離型処理が施された剥離フィルム上に粘着剤からなる層をシート状に形成しておき、その粘着剤層上にさらに別の剥離フィルムを貼合する方式等により作製することができる。一方の剥離フィルムを剥離した粘着シートを一方の層に貼合し、次いで他方の剥離フィルムを剥離し、他方の層を貼合する方法により各層を貼合することができる。 The adhesive layer can be prepared as an adhesive sheet. Adhesive sheets are made by dissolving or dispersing an adhesive composition in an organic solvent such as toluene or ethyl acetate to prepare an adhesive liquid, and applying this to a release film that has been subjected to a release process as a layer made of the adhesive. It can be produced by, for example, forming a sheet into a sheet and then laminating another release film on the pressure-sensitive adhesive layer. Each layer can be bonded by a method in which a pressure-sensitive adhesive sheet with one release film peeled off is bonded to one layer, then the other release film is peeled off, and the other layer is bonded.
粘着剤液を剥離フィルム上に塗工する方法としては、ダイコーター、カンマコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ロッドコーター、ワイヤーバーコーター、ドクターブレードコーター、エアドクターコーターなどを用いた通常のコーティング技術を採用すればよい。 Conventional coating techniques such as die coater, comma coater, reverse roll coater, gravure coater, rod coater, wire bar coater, doctor blade coater, air doctor coater, etc. can be used to apply the adhesive liquid onto the release film. should be adopted.
剥離フィルムは、プラスチックフィルムと剥離層とから構成されることが好ましい。プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、およびポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステルフィルムや、ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィンフィルムが挙げられる。また、剥離層は、例えば剥離層形成用組成物から形成することができる。剥離層形成用組成物を構成する主な成分(樹脂)としては、特に限定されるもではないが、シリコーン樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、および長鎖アルキル樹脂等が挙げられる。 The release film is preferably composed of a plastic film and a release layer. Examples of the plastic film include polyester films such as polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, and polyethylene naphthalate film, and polyolefin films such as polypropylene film. Further, the release layer can be formed from, for example, a composition for forming a release layer. The main components (resins) constituting the composition for forming a release layer include, but are not particularly limited to, silicone resins, alkyd resins, acrylic resins, long-chain alkyl resins, and the like.
接着剤層の厚みは、それぞれ粘着剤液の塗工条件によって調節をすることができる。粘着剤層の厚みを薄くするためには塗工厚みを小さくすることが効果的である。 The thickness of each adhesive layer can be adjusted depending on the coating conditions of the adhesive liquid. In order to reduce the thickness of the adhesive layer, it is effective to reduce the coating thickness.
<画像表示装置>
本発明の別の一態様にかかる画像表示装置は、上記の積層体を含む。表示装置は特に限定されず、例えば有機EL表示装置、無機EL表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等の画像表示装置が挙げられる。画像表示装置はタッチパネル機能を有していてもよい。積層体は、屈曲または折り曲げ等が可能な可撓性を有するフレキシブルディスプレイに好適である。
<Image display device>
An image display device according to another aspect of the present invention includes the above-described laminate. The display device is not particularly limited, and examples thereof include image display devices such as organic EL display devices, inorganic EL display devices, liquid crystal display devices, and electroluminescent display devices. The image display device may have a touch panel function. The laminate is suitable for a flexible display that is flexible and can be bent or folded.
画像表示装置において、積層体は、前面板を外側(表示素子側とは反対側、すなわち視認側)に向けて画像表示装置が有する表示素子の視認側に配置される。 In the image display device, the laminate is placed on the viewing side of the display element included in the image display device, with the front plate facing outward (the side opposite to the display element side, that is, the viewing side).
画像表示装置は、スマートフォン、タブレット等のモバイル機器、テレビ、デジタルフォトフレーム、電子看板、測定器や計器類、事務用機器、医療機器、電算機器等として用いることができる。画像表示装置は、前面板表面に映り込む反射像の歪曲が抑制されているため、画面の視認性に優れている。 Image display devices can be used as mobile devices such as smartphones and tablets, televisions, digital photo frames, electronic signboards, measuring instruments and instruments, office equipment, medical equipment, computer equipment, and the like. The image display device has excellent screen visibility because the distortion of the reflected image reflected on the front plate surface is suppressed.
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「%」及び「部」は、特記のない限り、質量%及び質量部である。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. "%" and "parts" in the examples are mass % and parts by mass unless otherwise specified.
[厚みの測定]
超薄型ガラス、粘着剤層および樹脂フィルムの厚みは、接触式膜厚測定装置(株式会社ニコン製「MS-5C」)を用いて測定した。偏光子層および配向膜については、レーザー顕微鏡(オリンパス株式会社製「OLS4100」)を用いて測定した。
[Measurement of thickness]
The thicknesses of the ultra-thin glass, adhesive layer, and resin film were measured using a contact film thickness measuring device ("MS-5C" manufactured by Nikon Corporation). The polarizer layer and alignment film were measured using a laser microscope ("OLS4100" manufactured by Olympus Corporation).
[温度25℃における貯蔵弾性率の測定]
粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率は、粘弾性測定装置(Anton Paar社製「MCR-301」(商品名))を使用して測定した。粘着剤層を幅20mm×長さ20mmに裁断し、厚さが150μmとなるように複数枚積層し、積層された粘着剤層をガラス板に接合した。粘着剤層と測定チップとが接着した状態において、-20℃から100℃の温度領域で、周波数1.0Hz、変形量1%、昇温速度5℃/分の条件下で測定を行い、25℃における貯蔵弾性率値を測定した。
[Measurement of storage modulus at a temperature of 25°C]
The storage modulus of the adhesive layer at a temperature of 25° C. was measured using a viscoelasticity measuring device (“MCR-301” (trade name) manufactured by Anton Paar). The adhesive layer was cut to a width of 20 mm x length of 20 mm, a plurality of sheets were laminated to a thickness of 150 μm, and the laminated adhesive layer was bonded to a glass plate. With the adhesive layer and the measurement chip adhered, measurements were performed in the temperature range from -20°C to 100°C under the conditions of a frequency of 1.0Hz, a deformation amount of 1%, and a temperature increase rate of 5°C/min. Storage modulus values at °C were measured.
[取り扱い性の評価]
粘着剤層付積層体から剥離フィルムを剥離して粘着剤層を露出させた後、積層体の偏光フィルムに対して位相差板側を基材(PAIフィルム)に露出させた粘着剤層を介して貼合した。その後、積層体を目視観察してクラックの発生の有無を確認した。各実施例および比較例につき10個のサンプルについて評価を行った。判定基準は以下の通りである。
◎:0~2個のサンプルにクラックが発生した。
○:3~4個のサンプルにクラックが発生した。
×:5~10個のサンプルにクラックが発生した。
[Evaluation of ease of handling]
After peeling off the release film from the laminate with an adhesive layer to expose the adhesive layer, apply the adhesive layer to the polarizing film of the laminate with the retardation plate side exposed to the base material (PAI film). It was pasted together. Thereafter, the laminate was visually observed to confirm the presence or absence of cracks. Ten samples were evaluated for each example and comparative example. The judgment criteria are as follows.
◎: Cracks occurred in 0 to 2 samples.
○: Cracks occurred in 3 to 4 samples.
×: Cracks occurred in 5 to 10 samples.
[屈曲性の評価]
粘着剤層付積層体から、剥離フィルムを剥離して粘着剤層を露出させた。次いで粘着剤層付積層体の位相差板の偏光板とは反対側を、粘着剤層を介して基材(PAIフィルム)に貼合した。屈曲評価設備(ユアサシステム製、面状体無負荷U字伸縮試験:DLDMLH-FS)を用いた。図4は、本評価試験の方法を模式的に示す図である。図4に示すように、個別に移動可能な二つの載置台401,402を、間隙Cが3.0mm(屈曲半径1.5mm)となるように配置し、間隙Cの中心に幅方向の中心が位置するように積層体400を固定して配置した(図4(a))。このとき、前面板が上方となるように積層体400を配置した。そして、二つの載置台401,402を位置P1および位置P2を回転軸の中心として上方に90度回転させて、載置台の間隙Cに対応する積層体400の領域に曲げの力を付加した(図4(b))。その後、二つの載置台401,402を元の位置に戻した(図4(a))。以上の一連の操作を完了して、曲げの力の付加回数を1回とカウントした。これを、室温において繰返し行った後、積層体400の載置台401,402の間隙Cに対応する領域におけるクラックの発生の有無を確認した。載置台401,402の移動速度、曲げの力の付加のペースは、いずれの積層体に対する評価試験においても同一の条件とした。各積層体を屈曲した後の積層体についてそれぞれクラックが発生する屈曲回数をカウントした判定基準は以下の通りである。
○:屈曲回数が20万回でもクラックが発生せず。
×:屈曲回数が20万回未満でクラックが発生。
[Flexibility evaluation]
The release film was peeled off from the adhesive layer-attached laminate to expose the adhesive layer. Next, the side of the retardation plate of the adhesive layer-attached laminate opposite to the polarizing plate was bonded to a base material (PAI film) via the adhesive layer. A bending evaluation equipment (manufactured by Yuasa System, planar no-load U-shaped stretch test: DLDMLH-FS) was used. FIG. 4 is a diagram schematically showing the method of this evaluation test. As shown in FIG. 4, two individually movable mounting tables 401 and 402 are arranged with a gap C of 3.0 mm (bending radius 1.5 mm), and the widthwise center is placed at the center of the gap C. The
○: No cracks were generated even after 200,000 bends.
×: Cracks occur when the number of bends is less than 200,000 times.
(ハードコート層形成用組成物1の調製)
18官能のアクリル基を有するデンドリマーアクリレート(Miramer SP1106、Miwon Speciality Chemical製)2.0質量部、6官能のアクリル基を有するウレタンアクリレート(Miramer PU-620D、Miwon Speciality Chemical社製)10.0質量部、3官能のアクリル基を有するアクリレートモノマー(M340、Miwon Speciality Chemical製)8質量部、光重合開始剤(イルガキュア(登録商標)184、BASF製)2質量部、及びレベリング剤(BYK-UV3530、ビックケミー・ジャパン株式会社製)0.1質量部を、メチルエチルケトン(MEK)70質量部に溶解させて攪拌混合し、ハードコート層形成用組成物1を得た。
(Preparation of hard coat layer forming composition 1)
2.0 parts by mass of dendrimer acrylate having an 18-functional acrylic group (Miramer SP1106, manufactured by Miwon Specialty Chemical), urethane acrylate having a 6-functional acrylic group (Miramer PU-620D, manufactured by Miwon Specialty Chemical) 10.0 parts by mass , 8 parts by mass of an acrylate monomer having a trifunctional acrylic group (M340, manufactured by Miwon Specialty Chemical), 2 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by BASF), and a leveling agent (BYK-UV3530, BYK Chemie) 0.1 part by mass (manufactured by Japan Co., Ltd.) was dissolved in 70 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK) and mixed with stirring to obtain Composition 1 for Forming a Hard Coat Layer.
(ハードコート層形成用組成物2の調製)
多官能アクリレート(Miramer M340、Miwon Specialty Chemical製)30質量部と、ナノシリカゾルのプロピレングリコールモノメチルエーテル分散体(12nm、固形分40%)50質量部と、エチルアセテート17質量部と、光重合開始剤(Irgacure-184、Ciba Corporation製)2.7質量部と、フッ素系添加剤(KY1203、信越化学工業株式会社製)0.3質量部とを攪拌混合し、ハードコート層形成用組成物2を得た。
(Preparation of hard coat layer forming composition 2)
30 parts by mass of polyfunctional acrylate (Miramer M340, manufactured by Miwon Specialty Chemical), 50 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether dispersion of nanosilica sol (12 nm, solid content 40%), 17 parts by mass of ethyl acetate, and a photopolymerization initiator. 2.7 parts by mass of Irgacure-184 (manufactured by Ciba Corporation) and 0.3 parts by mass of a fluorine additive (KY1203, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) were stirred and mixed to form Hard Coat Layer Forming Composition 2. Obtained.
(前面板Aの作製)
ハードコート層形成用組成物2を超薄型ガラス1(厚み50μm)(UTG1)の一方の面に塗工し、得られた塗膜を温度80℃で5分間乾燥し、UV照射装置(SPOTCURE SP-7、ウシオ電機株式会社製)を用いて、露光量500mJ/cm2(365nm基準)のUV光を照射してハードコート層2(HC層2)を形成した。硬化後の厚みが10μmになるように塗工した。HC層2(厚み10μm)/UTG1(厚み50μm)の層構成を有する前面板Aを得た。
(Preparation of front plate A)
Hard coat layer forming composition 2 was applied to one side of ultra-thin glass 1 (thickness: 50 μm) (UTG1), the resulting coating film was dried at a temperature of 80°C for 5 minutes, and then exposed to UV irradiation equipment (SPOTCURE). A hard coat layer 2 (HC layer 2) was formed by irradiating UV light with an exposure amount of 500 mJ/cm 2 (365 nm standard) using a UV light source (SP-7, manufactured by Ushio Inc.). The coating was applied so that the thickness after curing was 10 μm. A front plate A having a layer structure of HC layer 2 (
(前面板Bの作製)
前面板Aの作製においてUTG1を超薄型ガラス2(厚み30μm)(UTG2)に変えたこと以外は前面板Aの作製と同様にしてHC層2(厚み10μm)/UTG2(厚み30μm)の層構成を有する前面板Bを得た。
(Preparation of front plate B)
A layer of HC layer 2 (
(前面板Cの作製)
ハードコート層形成用組成物1をUTG1の一方の面に塗工し、得られた塗膜を温度80℃で5分間乾燥し、UV照射装置(SPOTCURE SP-7、ウシオ電機株式会社製)を用いて、露光量500mJ/cm2(365nm基準)のUV光を照射してハードコート層1(HC層1)を形成した。硬化後の厚みが10μmになるように塗工した。次いで同様にして、HC層1上にハードコート層形成用組成物2を用いて硬化後の厚みが10μmになるようにHC層2を形成した。以上のようにして、HC層2(厚み10μm)/HC層1(厚み10μm)/UTG1(厚み50μm)の層構成を有する前面板Cを得た。
(Preparation of front plate C)
Hard coat layer forming composition 1 was applied to one side of UTG1, the resulting coating film was dried at a temperature of 80°C for 5 minutes, and a UV irradiation device (SPOTCURE SP-7, manufactured by Ushio Inc.) was applied. A hard coat layer 1 (HC layer 1) was formed by irradiating UV light with an exposure amount of 500 mJ/cm 2 (based on 365 nm). The coating was applied so that the thickness after curing was 10 μm. Then, in the same manner, the HC layer 2 was formed on the HC layer 1 using the composition 2 for forming a hard coat layer so that the thickness after curing was 10 μm. In the manner described above, a front plate C having a layer structure of HC layer 2 (
(前面板Dの作製)
前面板Cの作製においてUTG1をUTG2に変えたこと以外は前面板Aの作製と同様にして、HC層2(厚み10μm)/HC層1(厚み10μm)/UTG2(厚み30μm)の層構成を有する前面板Dを得た。
(Preparation of front plate D)
In the production of front plate C, the layer structure of HC layer 2 (
(前面板Eの作製)
ハードコート層形成用組成物1をUTG2の一方の面に塗工し、得られた塗膜を温度80℃で5分間乾燥し、UV照射装置(SPOTCURE SP-7、ウシオ電機株式会社製)を用いて、露光量500mJ/cm2(365nm基準)のUV光を照射してHC層1を形成した。硬化後の厚みが10μmになるように塗工した。次いで同様にして、UTG2の他方の面に、ハードコート層形成用組成物2を用いて硬化後の厚みが10μmになるようにHC層2を形成した。以上のようにして、HC層2(厚み10μm)/UTG2(厚み30μm)/HC層1(厚み10μm)の層構成を有する前面板Eを得た。
(Preparation of front plate E)
Hard coat layer forming composition 1 was applied to one side of UTG2, the resulting coating film was dried at a temperature of 80°C for 5 minutes, and a UV irradiation device (SPOTCURE SP-7, manufactured by Ushio Inc.) was applied. The HC layer 1 was formed by irradiating UV light with an exposure amount of 500 mJ/cm 2 (based on 365 nm). The coating was applied so that the thickness after curing was 10 μm. Then, in the same manner, the HC layer 2 was formed on the other side of the UTG 2 using the composition 2 for forming a hard coat layer so that the thickness after curing would be 10 μm. In the manner described above, a front plate E having the layer structure of HC layer 2 (thickness: 10 μm)/UTG2 (thickness: 30 μm)/HC layer 1 (thickness: 10 μm) was obtained.
(粘着シートの作製)
下記の表1に示す各成分の割合にて粘着剤層A、B、Cをそれぞれ形成する粘着剤組成物A、B、Cを調製した。この粘着剤組成物A、B、Cをそれぞれ離型処理された剥離フィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み38μm)の離型処理面に、アプリケータを利用して乾燥後の厚みが25μmになるように塗布した。塗布層を100℃で1分間乾燥して、粘着剤層A、B、Cを備えるフィルムを得た。その後、粘着剤層A、B、C上に、離型処理された別の剥離フィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み38μm)を貼合した。その後、温度23℃、相対湿度50%RHの条件で7日間養生させ、粘着シートA、B、Cを得た。さらに、同様の手順により、粘着剤組成物Cを用いて、厚み5μmの粘着剤層Dを備える粘着シートDを作製した。
(Preparation of adhesive sheet)
Adhesive compositions A, B, and C were prepared to form adhesive layers A, B, and C, respectively, using the proportions of each component shown in Table 1 below. Using an applicator, apply these adhesive compositions A, B, and C onto the release-treated surface of a release film (polyethylene terephthalate film, thickness 38 μm) so that the thickness after drying becomes 25 μm. Coated. The coating layer was dried at 100° C. for 1 minute to obtain a film including adhesive layers A, B, and C. Thereafter, another release film (polyethylene terephthalate film, thickness 38 μm) that had been subjected to release treatment was laminated on the adhesive layers A, B, and C. Thereafter, the adhesive sheets A, B, and C were obtained by curing for 7 days at a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50% RH. Furthermore, a pressure-sensitive adhesive sheet D having a pressure-sensitive adhesive layer D having a thickness of 5 μm was produced using the pressure-sensitive adhesive composition C according to the same procedure.
表1中の単量体の欄における記号は以下の意味を表す。
BA:アクリル酸ブチル
MMA:アクリル酸メチル
EHA:アクリル酸2-エチルヘキシル
AA:アクリル酸
The symbols in the monomer column in Table 1 have the following meanings.
BA: Butyl acrylate MMA: Methyl acrylate EHA: 2-ethylhexyl acrylate AA: Acrylic acid
表1中の架橋剤及びシランカップリング剤は以下のものを用いた。
架橋剤:コロネートL(東ソー株式会社製)
シランカップリング剤:KBM-403(信越化学工業株式会社製)
The following crosslinking agents and silane coupling agents in Table 1 were used.
Crosslinking agent: Coronate L (manufactured by Tosoh Corporation)
Silane coupling agent: KBM-403 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
[偏光板Aの作製]
(基材フィルム)
基材フィルムとして、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(コニカミノルタ株式会社製、厚み25μm)を準備した。
[Preparation of polarizing plate A]
(Base film)
A triacetyl cellulose (TAC) film (manufactured by Konica Minolta, Inc.,
(配向膜形成用組成物)
ポリマー1は、以下の構造単位からなる光反応性基を有するポリマーである。
GPC測定より、得られたポリマー1の分子量は数平均分子量28200、Mw/Mn1.82を示し、モノマー含有量は0.5%であった。
ポリマー1を濃度5質量%で、シクロペンタノンに溶解した溶液を配向膜形成用組成物として用いた。
(Composition for forming alignment film)
Polymer 1 is a polymer having a photoreactive group consisting of the following structural units.
From GPC measurement, the molecular weight of the obtained polymer 1 was 28,200, Mw/Mn was 1.82, and the monomer content was 0.5%.
A solution in which Polymer 1 was dissolved in cyclopentanone at a concentration of 5% by mass was used as a composition for forming an alignment film.
(重合性液晶化合物)
重合性液晶化合物は、式(1-6)で表される重合性液晶化合物[以下、化合物(1-6)ともいう]と式(1-7)で表される重合性液晶化合物[以下、化合物(1-7)ともいう]とを用いた。
The polymerizable liquid crystal compound includes a polymerizable liquid crystal compound represented by formula (1-6) [hereinafter also referred to as compound (1-6)] and a polymerizable liquid crystal compound represented by formula (1-7) [hereinafter referred to as compound (1-6)]. Also referred to as compound (1-7)] was used.
化合物(1-6)および化合物(1-7)は、Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas、115、321-328(1996)記載の方法により合成した。 Compound (1-6) and compound (1-7) were prepared by Lub et al. Recl. Trav. Chim. It was synthesized by the method described in Pays-Bas, 115, 321-328 (1996).
(二色性色素)
二色性色素には、下記式(2-1a)、(2-1b)、(2-3a)で示される特開2013-101328号公報の実施例に記載のアゾ色素を用いた。
As the dichroic dye, azo dyes described in Examples of JP-A No. 2013-101328, which are represented by the following formulas (2-1a), (2-1b), and (2-3a), were used.
(液晶硬化層形成用組成物)
液晶硬化層形成用組成物は、化合物(1-6)75質量部、化合物(1-7)25質量部、二色性染料としての上記式(2-1a)、(2-1b)、(2-3a)で示されるアゾ色素各2.5質量部、重合開始剤としての2-ジメチルアミノ-2-ベンジル-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン(Irgacure369、BASFジャパン社製)6質量部、およびレベリング剤としてのポリアクリレート化合物(BYK-361N、BYK-Chemie社製)1.2質量部を、溶剤のトルエン400質量部に混合し、得られた混合物を80℃で1時間攪拌することにより調製した。
(Composition for forming a liquid crystal cured layer)
The composition for forming a liquid crystal cured layer contains 75 parts by mass of compound (1-6), 25 parts by mass of compound (1-7), and the above formulas (2-1a), (2-1b), ( 2.5 parts by mass of each azo dye represented by 2-3a), 2-dimethylamino-2-benzyl-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one (Irgacure 369, manufactured by BASF Japan) as a polymerization initiator ) and 1.2 parts by mass of a polyacrylate compound (BYK-361N, manufactured by BYK-Chemie) as a leveling agent were mixed with 400 parts by mass of toluene as a solvent, and the resulting mixture was heated at 80°C to 1.2 parts by mass. Prepared by stirring for hours.
(保護層(OC層)用組成物)
保護層用組成物は、水100質量部に対して、ポリビニルアルコール樹脂粉末(株式会社クラレ製、平均重合度18000、商品名:KL-318)3質量部と、ポリアミドエポキシ樹脂(架橋剤、住化ケムテックス株式会社製、商品名:SR650(30))1.5質量部とを混合して調製した。
(Composition for protective layer (OC layer))
The composition for the protective layer contains 100 parts by mass of water, 3 parts by mass of polyvinyl alcohol resin powder (manufactured by Kuraray Co., Ltd., average degree of polymerization 18,000, trade name: KL-318) and polyamide epoxy resin (crosslinking agent, It was prepared by mixing 1.5 parts by mass of SR650 (30) manufactured by Kachemtex Corporation.
(偏光フィルムの作製)
基材フィルムにコロナ処理を施した。コロナ処理の条件は、出力0.3kW、処理速度3m/分とした。その後、基材フィルム上に、配向膜形成用組成物をバーコート法により塗布し、80℃の乾燥オーブン中で1分間加熱乾燥した。得られた乾燥被膜に偏光UV照射処理を施して配向膜を形成した。偏光UV処理は、UV照射装置(SPOT CURE SP-7;ウシオ電機株式会社製)から照射される光を、ワイヤーグリッド(UIS-27132##、ウシオ電機株式会社製)を透過させて、波長365nmで測定した積算光量が100mJ/cm2である条件で行った。配向膜の厚みは100nmであった。
(Preparation of polarizing film)
The base film was subjected to corona treatment. The conditions for the corona treatment were an output of 0.3 kW and a treatment speed of 3 m/min. Thereafter, the composition for forming an alignment film was applied onto the base film by a bar coating method, and dried by heating in a drying oven at 80° C. for 1 minute. The obtained dried film was subjected to polarized UV irradiation treatment to form an alignment film. Polarized UV treatment is performed by transmitting light emitted from a UV irradiation device (SPOT CURE SP-7; manufactured by Ushio Inc.) through a wire grid (UIS-27132##, manufactured by Ushio Inc.) at a wavelength of 365 nm. The measurement was carried out under the condition that the cumulative light amount measured in 1 was 100 mJ/cm 2 . The thickness of the alignment film was 100 nm.
形成した配向膜上に、液晶硬化層形成用組成物をバーコート法により塗布し、120℃の乾燥オーブンにて1分間加熱乾燥した後、室温まで冷却した。上記UV照射装置を用いて、積算光量1200mJ/cm2(365nm基準)で紫外線を、乾燥被膜に照射することにより、液晶硬化層(偏光フィルム)を形成した。得られた液晶硬化層の厚みをレーザー顕微鏡(オリンパス株式会社社製 OLS3000)により測定したところ、1.8μmであった。このようにして、基材フィルム/配向膜/液晶硬化層の層構成を有する積層フィルムAを得た。 A composition for forming a liquid crystal cured layer was applied onto the formed alignment film by a bar coating method, dried by heating in a drying oven at 120° C. for 1 minute, and then cooled to room temperature. A liquid crystal cured layer (polarizing film) was formed by irradiating the dry film with ultraviolet rays at a cumulative light amount of 1200 mJ/cm 2 (365 nm standard) using the above UV irradiation device. The thickness of the obtained liquid crystal cured layer was measured using a laser microscope (OLS3000 manufactured by Olympus Corporation) and was found to be 1.8 μm. In this way, a laminated film A having a layer structure of base film/alignment film/cured liquid crystal layer was obtained.
形成した液晶硬化層上に、保護層(OC層)用組成物をバーコート法により塗布し、乾燥後の厚みが1.0μmとなるように塗工し、温度80℃で3分間乾燥した。このようにして、基材フィルム/配向膜/液晶硬化層/保護層(OC層)からなる偏光板Aを得た。 On the formed liquid crystal cured layer, a composition for a protective layer (OC layer) was applied by a bar coating method so that the thickness after drying was 1.0 μm, and dried at a temperature of 80° C. for 3 minutes. In this way, a polarizing plate A consisting of a base film/alignment film/cured liquid crystal layer/protective layer (OC layer) was obtained.
[偏光板Bの作製]
(保護層)
保護層として、シクロオレフィンポリマー(COP)フィルム(ZF-14、日本ゼオン株式会社製、厚み23μm)を準備した。
[Preparation of polarizing plate B]
(protective layer)
As a protective layer, a cycloolefin polymer (COP) film (ZF-14, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.,
(偏光フィルム)
厚み30μmの長尺のポリビニルアルコール(PVA)原反フィルム〔株式会社クラレ製の商品名「クラレポバールフィルムVF-PE#3000」、平均重合度2400、ケン化度99.9モル%以上〕をロールから巻き出しながら連続的に搬送し、20℃の純水からなる膨潤浴に滞留時間31秒で浸漬させた(膨潤工程)。その後、膨潤浴から引き出したフィルムを、ヨウ化カリウム/水が、2/100(重量比)であるヨウ素を含む30℃の染色浴に滞留時間122秒で浸漬させた(染色工程)。次いで、染色浴から引き出したフィルムを、ヨウ化カリウム/ホウ酸/水が12/4.1/100(重量比)である56℃の架橋浴に滞留時間70秒で浸漬させ、続いて、ヨウ化カリウム/ホウ酸/水が9/2.9/100(重量比)である40℃の架橋浴に滞留時間13秒で浸漬させた(架橋工程)。染色工程及び架橋工程において、浴中でのロール間延伸により縦一軸延伸を行った。原反フィルムを基準とする総延伸倍率は5.4倍とした。次に、架橋浴から引き出したフィルムを5℃の純水からなる洗浄浴に滞留時間3秒で浸漬させた後(洗浄工程)、引き続き、湿度調節が可能な第1加熱炉に導入することにより滞留時間190秒で高温高湿処理を行って(高温高湿処理工程)、厚み12.1μmの偏光フィルム(PVA)を得た。
(polarizing film)
A long polyvinyl alcohol (PVA) raw film with a thickness of 30 μm [trade name “Kuraray Poval Film VF-PE #3000” manufactured by Kuraray Co., Ltd., average degree of polymerization 2400, degree of saponification 99.9 mol% or more] was rolled. The sample was continuously conveyed while being unwound from the plate, and immersed in a swelling bath consisting of pure water at 20°C for a residence time of 31 seconds (swelling step). Thereafter, the film pulled out from the swelling bath was immersed in a 30° C. dyeing bath containing iodine with a potassium iodide/water ratio of 2/100 (weight ratio) for a residence time of 122 seconds (dying step). Next, the film pulled out from the dyeing bath was immersed in a crosslinking bath at 56°C containing potassium iodide/boric acid/water at a ratio of 12/4.1/100 (weight ratio) for a residence time of 70 seconds, and then The sample was immersed in a 40° C. crosslinking bath containing potassium chloride/boric acid/water at a ratio of 9/2.9/100 (weight ratio) for a residence time of 13 seconds (crosslinking step). In the dyeing process and the crosslinking process, longitudinal uniaxial stretching was performed by stretching between rolls in a bath. The total stretching ratio based on the original film was 5.4 times. Next, the film pulled out from the crosslinking bath is immersed in a cleaning bath made of pure water at 5° C. for a residence time of 3 seconds (cleaning step), and then subsequently introduced into a first heating furnace where humidity can be adjusted. A high-temperature, high-humidity treatment was performed with a residence time of 190 seconds (high-temperature, high-humidity treatment step) to obtain a polarizing film (PVA) with a thickness of 12.1 μm.
(接着剤組成物)
水:100重量部、ポリビニルアルコール樹脂粉末(株式会社クラレ製、平均重合度18000、商品名:KL-318):3重量部、ポリアミドエポキシ樹脂(架橋剤、住化ケムテックス株式会社製、商品名:SR650(30)):1.5重量部を混合し、接着剤組成物を得た。
(Adhesive composition)
Water: 100 parts by weight, polyvinyl alcohol resin powder (manufactured by Kuraray Co., Ltd., average degree of polymerization 18,000, product name: KL-318): 3 parts by weight, polyamide epoxy resin (crosslinking agent, manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd., product name: SR650 (30): 1.5 parts by weight were mixed to obtain an adhesive composition.
偏光フィルムと保護層に、コロナ処理を施した。コロナ処理の条件は、出力0.3kW、処理速度3m/分とした。その後、接着剤組成物を介してこれらを貼合して、60℃で2分間乾燥することで、保護層/偏光子層からなる偏光板Bを得た。 Corona treatment was applied to the polarizing film and protective layer. The conditions for the corona treatment were an output of 0.3 kW and a treatment speed of 3 m/min. Thereafter, these were bonded together via an adhesive composition and dried at 60° C. for 2 minutes to obtain a polarizing plate B consisting of a protective layer/polarizer layer.
[位相差板の作製]
(第1液晶硬化位相差層)
第1液晶硬化位相差層として、ネマチック液晶化合物が硬化した層、配向層および透明基材からなるλ/4の位相差を与える層を準備した。なお、ネマチック液晶化合物が硬化した層と、配向層との合計の厚みは2μmであった。ネマチック液晶化合物が硬化した層は、基材フィルム(透明基材)上に形成した配向層上にネマチック液晶化合物を含有する位相差層形成用組成物を塗工し、硬化させることにより形成した。
[Fabrication of retardation plate]
(First liquid crystal hardened retardation layer)
As the first liquid crystal cured retardation layer, a layer providing a λ/4 retardation consisting of a layer in which a nematic liquid crystal compound was cured, an alignment layer, and a transparent base material was prepared. Note that the total thickness of the layer in which the nematic liquid crystal compound was cured and the alignment layer was 2 μm. The layer in which the nematic liquid crystal compound was cured was formed by applying a composition for forming a retardation layer containing the nematic liquid crystal compound onto the alignment layer formed on the base film (transparent base material) and curing the composition.
(第2液晶硬化位相差層)
厚み38μmのポリエチレンテレフタレート基材を基材フィルム(透明基材)として用い、その片面に垂直配向層用組成物を膜厚3μmになるようにコーティングし、20mJ/cm2の偏光紫外線を照射して配向層を作製した。なお、その垂直配向層用組成物としては、2-フェノキシエチルアクリレートと、テトラヒドロフルフリルアクリレートと、ジペンタエリスリトールトリアクリレートと、ビス(2-ビニルオキシエチル)エーテルとを1:1:4:5の割合で混合し、重合開始剤としてLUCIRIN(登録商標)TPOを4%の割合で添加した混合物を用いた。
(Second liquid crystal hardened retardation layer)
A polyethylene terephthalate base material with a thickness of 38 μm was used as a base film (transparent base material), one side of which was coated with a composition for a vertical alignment layer to a thickness of 3 μm, and irradiated with polarized ultraviolet rays of 20 mJ/cm 2 . An alignment layer was prepared. The composition for the vertical alignment layer includes 2-phenoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, dipentaerythritol triacrylate, and bis(2-vinyloxyethyl) ether in a ratio of 1:1:4:5. A mixture was used in which LUCIRIN (registered trademark) TPO was added as a polymerization initiator at a ratio of 4%.
次いで、形成した配向層上に、光重合性ネマチック液晶(メルク社製、RMM28B)を含有する位相差層形成用組成物を、ダイコーティングにより配向層上に塗工した。ここで、液晶組成物中、溶媒として、メチルエチルケトン(MEK)と、メチルイソブチルケトン(MIBK)と、沸点が155℃であるシクロヘキサノン(CHN)とを、質量比(MEK:MIBK:CHN)で35:30:35の割合で混合させた混合溶媒を用いた。そして、固形分が1~1.5gとなるように調製した位相差層形成用組成物を、塗工量が4~5g(wet)となるように配向層上に塗工した。 Next, a composition for forming a retardation layer containing a photopolymerizable nematic liquid crystal (manufactured by Merck & Co., Ltd., RMM28B) was applied onto the formed alignment layer by die coating. Here, in the liquid crystal composition, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), and cyclohexanone (CHN) having a boiling point of 155° C. are used as solvents in a mass ratio (MEK:MIBK:CHN) of 35: A mixed solvent mixed at a ratio of 30:35 was used. Then, a retardation layer forming composition prepared to have a solid content of 1 to 1.5 g was coated on the alignment layer in a coating amount of 4 to 5 g (wet).
配向層上に位相差層形成用組成物を塗工した後、乾燥温度を75℃とし、乾燥時間を120秒間として乾燥処理を施した。その後、紫外線(UV)照射により液晶化合物を重合させて、光重合性ネマチック液晶化合物が硬化した層、配向層、透明基材からなるポジティブC層を得た。光重合性ネマチック液晶化合物が硬化した層と、配向層との合計の厚みは4μmであった。 After coating the composition for forming a retardation layer on the alignment layer, a drying treatment was performed at a drying temperature of 75° C. and a drying time of 120 seconds. Thereafter, the liquid crystal compound was polymerized by ultraviolet (UV) irradiation to obtain a positive C layer consisting of a layer in which the photopolymerizable nematic liquid crystal compound was cured, an alignment layer, and a transparent base material. The total thickness of the layer in which the photopolymerizable nematic liquid crystal compound was cured and the alignment layer was 4 μm.
(位相差板の作製)
第1液晶硬化位相差層と第2液晶硬化位相差層とを、紫外線硬化型接着剤により、それぞれの液晶硬化位相差層面(透明基材とは反対側の面)が貼合面となるように貼り合わせた。次いで、紫外線を照射して紫外線硬化型接着剤を硬化させた。紫外線硬化型接着剤が硬化した後の厚みは2μmであった。このようにして、基材フィルム/配向層/第1液晶硬化位相差層(2μm)/接着剤層(厚み2μm)/第2液晶硬化位相差層(厚み4μm)/配向層/基材フィルムの層構成を有する位相差板を作製した。
(Preparation of retardation plate)
The first liquid crystal cured retardation layer and the second liquid crystal cured retardation layer are bonded using an ultraviolet curable adhesive so that the surface of each liquid crystal cured retardation layer (the surface opposite to the transparent base material) becomes the bonding surface. pasted on. Next, the ultraviolet curable adhesive was cured by irradiation with ultraviolet rays. The thickness of the ultraviolet curable adhesive after curing was 2 μm. In this way, the base film/alignment layer/first liquid crystal cured retardation layer (2 μm)/adhesive layer (thickness 2 μm)/second liquid crystal cured retardation layer (thickness 4 μm)/alignment layer/base film A retardation plate having a layered structure was manufactured.
<実施例1>
粘着シートDから一方の剥離フィルムを剥離して露出させた粘着剤層Dを、偏光板Aの保護層側に貼合し、積層体A1を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。
<Example 1>
The adhesive layer D, which was exposed by peeling one release film from the adhesive sheet D, was bonded to the protective layer side of the polarizing plate A to obtain a laminate A1. Both surfaces to be bonded were previously subjected to double-sided corona treatment (output: 0.3 kW, speed: 3 m/min).
位相差板の第1液晶硬化位相差層側の基材フィルムを剥離し、積層体A1から他方の剥離フィルムを剥離して、粘着剤層Dを露出させた。更に、積層体A1の粘着剤層Dと、位相差板の第1液晶硬化位相差層とを貼合し、積層体A2を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The base film on the first liquid crystal cured retardation layer side of the retardation plate was peeled off, and the other release film was peeled off from the laminate A1 to expose the adhesive layer D. Furthermore, the adhesive layer D of the laminate A1 and the first liquid crystal cured retardation layer of the retardation plate were bonded together to obtain a laminate A2. Both surfaces to be bonded were previously subjected to double-sided corona treatment (output: 0.3 kW, speed: 3 m/min).
粘着シートAから一方の剥離フィルムを剥離して粘着剤層Aを露出させた。次いで、露出させた粘着剤層Aを積層体A2から第2液晶硬化位相差層の形成に用いた基材フィルムを剥離した面に貼合し、積層体A3を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 One release film was peeled off from adhesive sheet A to expose adhesive layer A. Next, the exposed adhesive layer A was bonded to the surface of the laminate A2 from which the base film used for forming the second liquid crystal cured retardation layer was peeled off, to obtain a laminate A3. Both surfaces to be bonded were previously subjected to double-sided corona treatment (output: 0.3 kW, speed: 3 m/min).
別の粘着シートA(粘着シートA’という)から一方の剥離フィルムを剥離して粘着剤層A(粘着剤層A’という)を露出させた。次いで、露出させた粘着剤層A’を前面板のUTG側に貼合し、積層体A4を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 One release film was peeled off from another adhesive sheet A (referred to as adhesive sheet A') to expose adhesive layer A (referred to as adhesive layer A'). Next, the exposed adhesive layer A' was bonded to the UTG side of the front plate to obtain a laminate A4. Both surfaces to be bonded were previously subjected to double-sided corona treatment (output: 0.3 kW, speed: 3 m/min).
積層体A4から他方の剥離フィルムを剥離して粘着剤層A’を露出させた。次いで積層体A4の粘着剤層A’を積層体A3の偏光板Aの基材フィルム側に貼合し、粘着剤層付積層体を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。結果を表2に示す。 The other release film was peeled off from the laminate A4 to expose the adhesive layer A'. Next, the adhesive layer A' of the laminate A4 was bonded to the base film side of the polarizing plate A of the laminate A3 to obtain a laminate with an adhesive layer. Both surfaces to be bonded were previously subjected to double-sided corona treatment (output: 0.3 kW, speed: 3 m/min). The results are shown in Table 2.
<実施例2~6および比較例1~4>
前面板および偏光フィルム、ならびに前面板および偏光フィルムを接合する粘着剤層として表1に示す種類の前面板、偏光フィルムおよび粘着剤層を用いたこと以外は実施例1と同様にして粘着剤層付積層体を得た。なお実施例5では、前面板のHC層1側に粘着剤層Aを貼合した。また比較例1および比較例2ではそれぞれ前面板としてハードコート層を形成せずにUTG1およびUTG2を用いた。さらに比較例5では偏光フィルムBに粘着剤層を直接貼合した。結果を表2に示す。
<Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 4>
The adhesive layer was prepared in the same manner as in Example 1, except that the front plate, polarizing film, and adhesive layer of the types shown in Table 1 were used as the front plate, the polarizing film, and the adhesive layer for bonding the front plate and the polarizing film. A laminate was obtained. In Example 5, the adhesive layer A was bonded to the HC layer 1 side of the front plate. Further, in Comparative Example 1 and Comparative Example 2, UTG1 and UTG2 were used as the front plate without forming a hard coat layer, respectively. Furthermore, in Comparative Example 5, an adhesive layer was directly bonded to polarizing film B. The results are shown in Table 2.
100,200,300,400 積層体、10,21 前面板、11,22 粘着剤層、12,23 偏光板、13 ハードコート層、14,28 超薄型ガラス、24 貼合層、25 位相差板、26 第1ハードコート層、27 第2ハードコート層、15,29 基材フィルム、16,30 配向膜、17,31 偏光フィルム(液晶硬化層)、18,32 保護層、33 第1液晶硬化位相差層、34 第2液晶硬化位相差層、401,402 載置台。 100, 200, 300, 400 laminate, 10, 21 front plate, 11, 22 adhesive layer, 12, 23 polarizing plate, 13 hard coat layer, 14, 28 ultra-thin glass, 24 laminating layer, 25 retardation plate, 26 first hard coat layer, 27 second hard coat layer, 15, 29 base film, 16, 30 alignment film, 17, 31 polarizing film (liquid crystal hardening layer), 18, 32 protective layer, 33 first liquid crystal Cured retardation layer, 34 Second liquid crystal cured retardation layer, 401, 402 Mounting table.
Claims (11)
前記前面板は、超薄型ガラスとハードコート層とを含み、
前記粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率は0.2MPa以下であり、
前記偏光フィルムは、重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層から構成される、積層体。 It includes a front plate, an adhesive layer, and a polarizing film in this order,
The front plate includes ultra-thin glass and a hard coat layer,
The storage modulus of the adhesive layer at a temperature of 25° C. is 0.2 MPa or less,
The polarizing film is a laminate comprising a cured liquid crystal layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound.
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