JP2023145395A - Active energy ray-curable composition with reduced bacterial adhesion, coating agent composition, and laminate - Google Patents

Active energy ray-curable composition with reduced bacterial adhesion, coating agent composition, and laminate Download PDF

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JP2023145395A
JP2023145395A JP2023049097A JP2023049097A JP2023145395A JP 2023145395 A JP2023145395 A JP 2023145395A JP 2023049097 A JP2023049097 A JP 2023049097A JP 2023049097 A JP2023049097 A JP 2023049097A JP 2023145395 A JP2023145395 A JP 2023145395A
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meth
acrylate
active energy
energy ray
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Inventor
剛司 加藤
Goji Kato
祐子 宮崎
Yuko Miyazaki
篤志 辻本
Atsushi Tsujimoto
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Mitsubishi Chemical Corp
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Mitsubishi Chemical Corp
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Abstract

To provide an active energy ray-curable composition with reduced bacterial adhesion and a coating agent composition, which can yield a cured coating with excellent resistance to bacterial adhesion; a laminate with excellent resistance to bacterial adhesion; and an article with excellent resistance to bacterial adhesion.SOLUTION: An active energy ray-curable composition with reduced bacterial adhesion includes methacryl methacrylate (A) with 2 or more repetitions of polyoxyalkylene structure. In ATP measurement, the Relative Light Unit (ELU) of Escherichia coli is 1,000 or less, and the ELU of Staphylococcus aureus is 50,000 or less.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物、コーティング剤組成物、積層
体に関する。
The present invention relates to an active energy ray-curable composition with low bacterial adhesion, a coating composition, and a laminate.

一般に、プラスチック製品、例えば、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、
ポリエチレンテレフタレート、塩化ビニル樹脂、ABS樹脂、酢酸セルロース、ポリプロ
ピレン等は、軽量性、易加工性、耐衝撃性などに優れているので種々の用途に使用されて
いる。しかしながら、これらプラスチック製品は、表面硬度が低いため、傷がつき易く、
外観を著しく損なうという欠点があり、用途によってはプラスチック基材を保護するため
にハードコート層で被覆される。
Generally plastic products, e.g. polycarbonate, polymethyl methacrylate,
Polyethylene terephthalate, vinyl chloride resin, ABS resin, cellulose acetate, polypropylene, etc. are used for various purposes because they are lightweight, easy to process, and have excellent impact resistance. However, these plastic products are easily scratched due to their low surface hardness.
It has the disadvantage that it significantly impairs the appearance, and depending on the application, it is coated with a hard coat layer to protect the plastic substrate.

一方、近年、各種工業製品において清潔性が求められている。不特定多数の人間が触れ
たり近づいたりする工業製品においては、清潔性の要望が特に強い。これら工業製品には
、汗、垢、食品かす等の微生物の栄養源が付着しやすく、爆発的に菌が増殖することがあ
る。例えば、医療現場、食品工場、衣料製造工場、学校、駅、銀行、コンビニエンススト
ア、各種公共施設等における工業製品から日用品に至るまで、清潔性に優れた物品が求め
られている。
そこで、活性エネルギー線硬化型樹脂と抗菌剤、防かび剤を配合した組成物によって、
抗菌性、防かび性を有する硬化塗膜を物品の表面に設けることが提案されている(特許文
献1)。
On the other hand, in recent years, cleanliness has been required for various industrial products. There is a particularly strong demand for cleanliness in industrial products that are touched or approached by an unspecified number of people. Nutrient sources for microorganisms such as sweat, grime, and food scraps tend to adhere to these industrial products, which can lead to explosive growth of bacteria. For example, there is a demand for products with excellent cleanliness, ranging from industrial products to daily necessities in medical facilities, food factories, clothing manufacturing factories, schools, stations, banks, convenience stores, various public facilities, and the like.
Therefore, by using a composition containing an active energy ray-curable resin, an antibacterial agent, and a fungicide,
It has been proposed to provide a cured coating film having antibacterial and antifungal properties on the surface of an article (Patent Document 1).

特開2011-57855号公報Japanese Patent Application Publication No. 2011-57855

一般に抗菌性、防かび性を有する物品においては、表面に付着した菌等が一応死滅はす
るが、抗菌作用等により生じた微生物等の死骸、残骸等は物品の表面にそのまま残留する
。そのため、時間の経過とともにその死骸等に積み重なるように微生物等が新たに付着し
、バイオフィルムと呼ばれる微生物、菌の塊が形成される。
このように形成されたバイオフィルムは物品等の表面から除去されにくく、清潔性を損
なう。そのため、従来の抗菌剤、抗かび剤を用いた硬化塗膜においては、物品の表面から
微生物等の塊を除去しやすくし、微生物等が残存しにくくすること(細菌低付着性)につ
いて特許文献1では現在において要求される性能を満たせず、向上の余地がある。
In general, in articles having antibacterial and antifungal properties, bacteria adhering to the surface are killed, but dead bodies and debris of microorganisms generated by the antibacterial action remain on the surface of the article. Therefore, with the passage of time, new microorganisms and the like accumulate on the dead bodies, forming a mass of microorganisms and bacteria called a biofilm.
Biofilms formed in this way are difficult to remove from the surfaces of articles, etc., impairing cleanliness. Therefore, in the case of cured coating films using conventional antibacterial agents and antifungal agents, patent documents describe how to make it easier to remove lumps of microorganisms from the surface of the article and make it difficult for microorganisms to remain (low bacterial adhesion). 1 cannot meet the performance currently required, and there is room for improvement.

本発明は、細菌低付着性に優れる硬化塗膜が得られる細菌低付着性活性エネルギー線硬
化型組成物及びコーティング剤組成物;細菌低付着性に優れる積層体;細菌低付着性に優
れる物品を提供する。
The present invention provides a low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition and a coating agent composition capable of producing a cured coating film with an excellent low-bacterial adhesion; a laminate with an excellent low-bacterial adhesion; and an article with an excellent low-bacterial adhesion. provide.

本発明は下記の態様を有する。
[1]ポリオキシアルキレン構造の繰り返し数が2以上である(メタ)アクリル(メタ)
アクリレート(A)を含有し、ATP測定時に、大腸菌の発光量が1000以下であり、か
つ黄色ブドウ球菌の発光量が50000以下であることを特徴とする、細菌低付着性活性
エネルギー線硬化型組成物。
[2]前記ポリオキシアルキレン構造がポリオキシメチレン、ポリオキシエチレン、ポリ
オキシプロピレン、ポリオキシテトラメチレンからなる群から選ばれる少なくとも1種以
上である、[1]に記載の細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物。
[3]前記(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)以外に(メタ)アクリル酸エス
テル化合物(B)をさらに含有する、[1]または[2]に記載の細菌低付着性活性エネ
ルギー線硬化型組成物。
[4]光重合開始剤(C)をさらに含有する、[1]~[3]のいずれか一項に記載の細
菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物。
[5][1]~[4]のいずれか一項に記載の細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成
物の硬化塗膜。
[6]基材の少なくとも一方の面に、[5]に記載の硬化塗膜を有する積層体。
The present invention has the following aspects.
[1] (Meth)acrylic (meth) with a repeating number of polyoxyalkylene structure of 2 or more
A low-bacteria-adherent active energy ray-curable composition containing acrylate (A) and characterized in that the luminescence amount of Escherichia coli is 1000 or less and the luminescence amount of Staphylococcus aureus is 50000 or less when measuring ATP. thing.
[2] The low bacterial adhesion active energy according to [1], wherein the polyoxyalkylene structure is at least one selected from the group consisting of polyoxymethylene, polyoxyethylene, polyoxypropylene, and polyoxytetramethylene. Line curable composition.
[3] The low bacterial adhesion active energy ray curing according to [1] or [2], further containing a (meth)acrylic acid ester compound (B) in addition to the (meth)acrylate (A). mold composition.
[4] The low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition according to any one of [1] to [3], which further contains a photopolymerization initiator (C).
[5] A cured coating film of the low bacterial adhesion active energy ray-curable composition according to any one of [1] to [4].
[6] A laminate having the cured coating film according to [5] on at least one surface of a base material.

本発明の細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物及びコーティング剤組成物によれ
ば、細菌低付着性に優れる硬化塗膜が得られる。
本発明の積層体は、細菌低付着性に優れる。
本発明の物品は、細菌低付着性に優れる。
According to the active energy ray-curable composition and coating agent composition with low bacterial adhesion of the present invention, a cured coating film with excellent low bacterial adhesion can be obtained.
The laminate of the present invention has excellent low bacterial adhesion.
The article of the present invention has excellent low bacterial adhesion.

本明細書における下記の用語の意味は、以下の通りである。
(メタ)アクリルは、アクリル及びメタクリルの総称を意味する。
(メタ)アクリレートは、メタクリレート及びアクリレートの総称を意味する。
(メタ)アクリロイル基は、メタクリロイル基及びアクリロイル基の総称を意味する。
数値範囲を示す「~」は、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むこ
とを意味する。
The meanings of the following terms in this specification are as follows.
(Meth)acrylic means a generic term for acrylic and methacrylic.
(Meth)acrylate means a general term for methacrylate and acrylate.
(Meth)acryloyl group means a general term for methacryloyl group and acryloyl group.
"~" indicating a numerical range means that the numerical values written before and after it are included as lower and upper limits.

[細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物]
本発明の細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物(以下、「本細菌低付着性活性エ
ネルギー線硬化型組成物」と記す。)は、特定の(メタ)アクリル(メタ)アクリレート
(A)を含有する。
本細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物は、特定の(メタ)アクリル(メタ)ア
クリレート(A)以外の(メタ)アクリル酸エステル(B)、光重合開始剤(C)をさら
に含有できる。
また、本細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物は、本発明の効果が得られる範囲
内であれば、(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)、(メタ)アクリル酸エステ
ル(B)及び光重合開始剤(C)以外の他の成分をさらに含有してもよい。
[Active energy ray-curable composition with low bacterial adhesion]
The low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition of the present invention (hereinafter referred to as "the present low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition") comprises a specific (meth)acrylic (meth)acrylate (A). Contains.
The present low bacterial adhesion active energy ray-curable composition can further contain a (meth)acrylic acid ester (B) other than the specific (meth)acrylate (meth)acrylate (A) and a photopolymerization initiator (C). .
In addition, the present low bacterial adhesion active energy ray-curable composition may contain (meth)acrylic (meth)acrylate (A), (meth)acrylic acid ester (B), as long as the effects of the present invention can be obtained. and may further contain other components than the photopolymerization initiator (C).

なお、細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物とは、ATP測定キット(Kikk
oman ルシパックA3 Surface)を用いて、発光量(Relative L
ight Unit;RLU)により付着菌体量を測定するATP測定時に、大腸菌の発
光量が1000以下であり、かつ黄色ブドウ球菌の発光量が50000以下である、細菌
低付着性活性エネルギー線硬化型組成物を指す。
The low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition refers to the ATP measurement kit (Kikk
The luminescence amount (Relative L
A low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition in which the luminescence amount of Escherichia coli is 1000 or less and the luminescence amount of Staphylococcus aureus is 50000 or less during ATP measurement to measure the amount of attached bacteria by light unit (RLU). point to something

<(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)>
(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)は、(メタ)アクリル酸乃至(メタ)アク
リル酸エステルをモノマーに含むラジカル重合体の側鎖に(メタ)アクリロイル基とポリ
オキシアルキレン構造を含有することを特徴とするものである。
<(Meth)acrylic (meth)acrylate (A)>
(Meth)acrylic (meth)acrylate (A) contains a (meth)acryloyl group and a polyoxyalkylene structure in the side chain of a radical polymer containing (meth)acrylic acid or (meth)acrylic acid ester as a monomer. It is characterized by:

(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)に含まれるポリオキシアルキレン構造と
しては、ポリオキシメチレン、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシ
ブチレンや、これらのブロック共重合及びランダム共重合の少なくとも1種の構造を有す
る。
The polyoxyalkylene structure contained in (meth)acrylate (A) includes polyoxymethylene, polyoxyethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, and at least one of block copolymerization and random copolymerization thereof. It has a seed structure.

ポリオキシアルキレン構造の繰り返し数は、2~10,0000が好ましく、3~5,
000がより好ましく、4~1,000がさらに好ましい。ポリオキシアルキレン構造の
繰り返し数が下限値以下であると、細菌低付着性が発現しにくく、上限値以上であると、
塗膜の硬度が低下する場合がある。
The repeating number of the polyoxyalkylene structure is preferably 2 to 10,0000, 3 to 5,
000 is more preferable, and 4 to 1,000 is even more preferable. When the number of repeats of the polyoxyalkylene structure is below the lower limit, it is difficult to exhibit low bacterial adhesion, and when it is above the upper limit,
The hardness of the coating may decrease.

(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)1g当たりの(メタ)アクリロイル基濃
度は、前記硬化膜の耐擦傷性の観点から、0.1mmol/g以上であることが好ましく
、0.3mmol/g以上であることがより好ましく、1.0mmol/g以上であるこ
とがさらに好ましい。
The (meth)acryloyl group concentration per 1 g of (meth)acrylate (A) is preferably 0.1 mmol/g or more, and 0.3 mmol/g from the viewpoint of the scratch resistance of the cured film. It is more preferably at least 1.0 mmol/g, and even more preferably at least 1.0 mmol/g.

(メタ)アクリロイル当量は、IRやNMR等の通常の分析装置を利用する(メタ)ア
クリロイル基の定量の結果を用いて求めてもよい。また、(メタ)アクリロイル当量は、
(メタ)アクリロイル基の原料が実質的に全て(メタ)アクリロイル基の導入に消費され
る場合には、その原料化合物の使用量から算出してもよい。
The (meth)acryloyl equivalent may be determined using the results of quantitative determination of the (meth)acryloyl group using a conventional analytical device such as IR or NMR. In addition, the (meth)acryloyl equivalent is
When substantially all of the raw material for the (meth)acryloyl group is consumed for introducing the (meth)acryloyl group, it may be calculated from the amount of the raw material compound used.

(メタ)アクリル重合体の側鎖アクリロイル基を有する(メタ)アクリル(メタ)アク
リレートは、一般的には、エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルをモノマーに
含むラジカル重合体に(メタ)アクリル酸を付加する方法(方法1)、カルボキシル基を
有する(メタ)アクリル酸等をモノマーに含むラジカル重合体にエポキシ基を有する(メ
タ)アクリル酸エステルを付加する方法(方法2)、イソシアネート基を有する(メタ)
アクリル酸エステルをモノマーに含むラジカル重合体に水酸基を有する(メタ)アクリル
酸エステルを付加する方法(方法3)、水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルをモ
ノマーに含むラジカル重合体にイソシアネート基を有する(メタ)アクリル酸エステルを
付加する方法(方法4)などによって得ることができる。
(Meth)acrylic (meth)acrylate having an acryloyl group in the side chain of a (meth)acrylic polymer is generally a radical polymer containing a (meth)acrylic acid ester having an epoxy group as a monomer. A method of adding an acid (method 1), a method of adding a (meth)acrylic acid ester having an epoxy group to a radical polymer containing (meth)acrylic acid etc. as a monomer having a carboxyl group (method 2), a method of adding an isocyanate group. have (meta)
A method of adding a (meth)acrylic ester having a hydroxyl group to a radical polymer containing an acrylic ester as a monomer (Method 3), a radical polymer containing a (meth)acrylic ester having a hydroxyl group as a monomer having an isocyanate group It can be obtained by a method of adding (meth)acrylic acid ester (Method 4).

エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、グリシジ
ル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、3,
4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中で
もグリシジル(メタ)アクリレートが好ましい。エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸
エステルモノマーは1種のみを用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the (meth)acrylic acid ester monomer having an epoxy group include glycidyl (meth)acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth)acrylate, 3,
Examples include 4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate. Among these, glycidyl (meth)acrylate is preferred. The (meth)acrylic acid ester monomer having an epoxy group may be used alone or in combination of two or more.

カルボキシル基を有するモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、カルボキシ
エチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、(メタ)アクリル酸が好
ましい。なお、カルボキシル基を有する(メタ)アクリレートモノマーは1種のみを用い
ても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the monomer having a carboxyl group include (meth)acrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, and the like. Among these, (meth)acrylic acid is preferred. Note that the (meth)acrylate monomer having a carboxyl group may be used alone or in combination of two or more.

イソシアネート基を有する(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、2
-イソシアナトエチル(メタ)アクリレート、1,1-(ビス(メタ)アクリロイルオキ
シメチル)エチルイソシアネート、2-(2-(メタ)アクリロイルオキシエチルオキシ)
エチルイソシアネート等が挙げれる。これらの中でも、2-イソシアナトエチル(メタ)
アクリレート、2-(2-(メタ)アクリロイルオキシエチルオキシ)エチルイソシアネー
トが好ましい。イソシアネート基を有する(メタ)アクリル酸エステルモノマーは1種の
みを用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
As the (meth)acrylic acid ester monomer having an isocyanate group, for example, 2
-Isocyanatoethyl (meth)acrylate, 1,1-(bis(meth)acryloyloxymethyl)ethyl isocyanate, 2-(2-(meth)acryloyloxyethyloxy)
Examples include ethyl isocyanate. Among these, 2-isocyanatoethyl (meth)
Acrylate, 2-(2-(meth)acryloyloxyethyloxy)ethyl isocyanate is preferred. The (meth)acrylic acid ester monomer having an isocyanate group may be used alone or in combination of two or more.

水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、2-ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ
ブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロ
キシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイルオキシ
エチル-2-ヒドロキシエチルフタレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アク
リレートなどの(メタ)アクリレート類;N-(2-ヒドロキシエチル)(メタ)アクリ
ルアミド等の(メタ)アクリルアミド類などが挙げられる。これらの中でも、2-ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-
ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートが好ましい。水酸基を有する(メタ)アクリル酸
エステルモノマーは1種のみを用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of (meth)acrylic acid ester monomers having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, -Hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, 2-(meth)acryloyloxyethyl-2-hydroxyethyl phthalate, glycerin di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate and (meth)acrylamides such as N-(2-hydroxyethyl)(meth)acrylamide. Among these, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-
Hydroxybutyl (meth)acrylate is preferred. The (meth)acrylic acid ester monomer having a hydroxyl group may be used alone or in combination of two or more.

(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)の側鎖にポリオキシアルキレン構造を導
入するには、1分子中に(メタ)アクリロイル基とポリオキシアルキレン構造を有するモ
ノマーを共重合するか、上記モノマーを含む1分子中にポリオキシアルキレン構造を有す
る化合物の反応性官能基と(メタ)アクリル重合体の側鎖の官能基と反応させることによ
って得ることができる。
In order to introduce a polyoxyalkylene structure into the side chain of (meth)acrylic (meth)acrylate (A), one can copolymerize a monomer having a (meth)acryloyl group and a polyoxyalkylene structure in one molecule, or It can be obtained by reacting the reactive functional group of a compound containing a polyoxyalkylene structure in one molecule with the functional group of the side chain of a (meth)acrylic polymer.

共重合に用いる1分子中に(メタ)アクリロイル基とポリオキシアルキレン構造を有す
るモノマーとしては、例えば、ポリメチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチ
レングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート
、ポリテトラメチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリメチレングリコー
ル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メト
キシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリ
コール(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは1種のみを用いても2種以上を組
み合わせて用いてもよい。
Examples of monomers having a (meth)acryloyl group and a polyoxyalkylene structure in one molecule used for copolymerization include polymethylene glycol (meth)acrylate, polyethylene glycol (meth)acrylate, polypropylene glycol (meth)acrylate, and polytetra Examples include methylene glycol (meth)acrylate, methoxypolymethylene glycol (meth)acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth)acrylate, methoxypolytetramethylene glycol (meth)acrylate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

(メタ)アクリル重合体の側鎖の官能基との反応に用いる1分子中にポリオキシアルキ
レン構造を有する化合物の反応性官能基としては、例えば、ポリメチレングリコール(メ
タ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリ
コール(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコール(メタ)アクリレート、α
-ヒドロキシ-ω-メトキシポリメチレングリコール、α-ヒドロキシ-ω-メトキシポ
リエチレングリコール、α-ヒドロキシ-ω-メトキシプロピレングリコール、α-ヒド
ロキシ-ω-メトキシポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。これらは1種のみ
を用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of reactive functional groups of compounds having a polyoxyalkylene structure in one molecule used for reaction with functional groups of side chains of (meth)acrylic polymers include polymethylene glycol (meth)acrylate, polyethylene glycol (meth)acrylate, and polyethylene glycol (meth)acrylate. ) acrylate, polypropylene glycol (meth)acrylate, polytetramethylene glycol (meth)acrylate, α
-hydroxy-ω-methoxypolymethylene glycol, α-hydroxy-ω-methoxypolyethylene glycol, α-hydroxy-ω-methoxypropylene glycol, α-hydroxy-ω-methoxypolytetramethylene glycol, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)のモノマーには、(メタ)アクリル酸及び
(メタ)アクリル酸エステルが挙げられるが、ラジカル重合可能なそれ以外のモノマーを
含んでいてもよい。前記(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルは、(メタ
)アクリル(メタ)アクリレートの合成時における重合溶媒への溶解性の観点から、前記
ラジカル重合体のモノマー中において、30モル%以上であることが好ましく、50モル
%以上であることがより好ましく、80モル%以上であることがさらに好ましい。
Monomers of (meth)acrylic (meth)acrylate (A) include (meth)acrylic acid and (meth)acrylic acid ester, but may also contain other radically polymerizable monomers. The (meth)acrylic acid and (meth)acrylic ester are contained in an amount of 30 mol% or more in the monomer of the radical polymer from the viewpoint of solubility in the polymerization solvent during the synthesis of (meth)acrylic (meth)acrylate. It is preferably 50 mol% or more, more preferably 80 mol% or more.

(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)のその他のモノマーとしては、例えば、
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アク
リレート、iso-プロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、
iso-ブチル(メタ)アクリレート、sec-ブチル(メタ)アクリレート、n-ヘキ
シル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(
メタ)アクリレート、n-デシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート
、n-トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(
メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アク
リレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アク
リレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレ
ート、シアノエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート;N-メチル(メタ
)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N-エチル(メタ)アク
リルアミド、N,N-エチルメチル(メタ)アクリルアミド、N-メトキシ(メタ)アク
リルアミド、N,N-ジメトキシ(メタ)アクリルアミド、N-エトキシ(メタ)アクリ
ルアミド、N,N-ジエトキシ(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルア
ミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアミノメチル(メタ)
アクリルアミド、N-(2-ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリルアミド、N,N-
メチレンビス(メタ)アクリルアミド、及びN,N-エチレンビス(メタ)アクリルアミ
ド等の(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。これらは1種のみを用いても2種以上を
組み合わせて用いてもよい。その他のモノマーとしては、炭素数1~12のアルキル基を
有するアルキル(メタ)アクリレートが好ましい。
Other monomers of (meth)acrylic (meth)acrylate (A) include, for example,
Methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, iso-propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate,
iso-butyl (meth)acrylate, sec-butyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (
meth)acrylate, n-decyl(meth)acrylate, lauryl(meth)acrylate, n-tridecyl(meth)acrylate, stearyl(meth)acrylate, benzyl(
meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, ethoxyethyl (meth)acrylate, ethyl carbitol (meth)acrylate, butoxyethyl (meth)acrylate, cyanoethyl (meth)acrylate (Meth)acrylates such as acrylate; N-methyl (meth)acrylamide, N,N-dimethyl (meth)acrylamide, N-ethyl (meth)acrylamide, N,N-ethylmethyl (meth)acrylamide, N-methoxy (meth)acrylamide; ) acrylamide, N,N-dimethoxy(meth)acrylamide, N-ethoxy(meth)acrylamide, N,N-diethoxy(meth)acrylamide, diacetone(meth)acrylamide, N-methylol(meth)acrylamide, N,N-dimethyl Aminomethyl (meth)
Acrylamide, N-(2-dimethylamino)ethyl(meth)acrylamide, N,N-
Examples include (meth)acrylamides such as methylenebis(meth)acrylamide and N,N-ethylenebis(meth)acrylamide. These may be used alone or in combination of two or more. As other monomers, alkyl (meth)acrylates having an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms are preferred.

本発明に用いる(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)を得るための共重合反応
は、通常、ラジカル反応であり、具体的には、有機溶媒中でラジカル重合開始剤の存在下
で行うことができる。この反応の反応時間は通常、1~50時間であり、好ましくは3~
12時間である。ここで用いることのできる有機溶媒、ラジカル重合開始剤は次の通りで
ある。
The copolymerization reaction for obtaining (meth)acrylate (A) used in the present invention is usually a radical reaction, and specifically, it is carried out in an organic solvent in the presence of a radical polymerization initiator. I can do it. The reaction time for this reaction is usually 1 to 50 hours, preferably 3 to 50 hours.
It is 12 hours. The organic solvent and radical polymerization initiator that can be used here are as follows.

有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブ
チルケトン(MIBK)等のケトン系溶媒;エチレングリコールジメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2-エトキシエチルアセタート等の
エステル系溶媒;トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、エタノール、メタノール、イソプロ
ピルアルコール(IPA)、ノルマルブタノール、イソブタノール等のアルコール系溶媒
等が挙げられる。これらの有機溶媒は1種のみを用いても2種以上を組み合わせて用いて
もよい。
Examples of organic solvents include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), and methyl isobutyl ketone (MIBK); ether solvents such as ethylene glycol dimethyl ether and propylene glycol monomethyl ether; ethyl acetate, butyl acetate, and propylene glycol monomethyl ether. Examples include ester solvents such as acetate and 2-ethoxyethyl acetate; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene; and alcohol solvents such as ethanol, methanol, isopropyl alcohol (IPA), n-butanol, and isobutanol. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

ラジカル重合開始剤としては、例えば一般にラジカル重合に用いられる公知の開始剤を
用いることができ、ベンゾイルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキシド等の有機過
酸化物;2,2’-アゾビスブチロニトリル、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバ
レロニトリル)、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル
)等のアゾ化合物が挙げられる。これらのラジカル重合開始剤は1種のみを用いても2種
以上を組み合わせて用いてもよい。
As the radical polymerization initiator, for example, known initiators generally used for radical polymerization can be used, including organic peroxides such as benzoyl peroxide and di-t-butyl peroxide; Examples include azo compounds such as lonitrile, 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), and 2,2'-azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile). These radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)を得る前述の方法1乃至方法2で用いる
反応は、エポキシ基とカルボキシル基の付加反応である。この反応において、反応温度は
好ましくは50~110℃であり、より好ましくは55~100℃である。また、反応時
間は好ましくは3~50時間であり、より好ましくは4~30時間である。
The reaction used in the above-mentioned methods 1 and 2 to obtain (meth)acrylate (meth)acrylate (A) is an addition reaction between an epoxy group and a carboxyl group. In this reaction, the reaction temperature is preferably 50 to 110°C, more preferably 55 to 100°C. Further, the reaction time is preferably 3 to 50 hours, more preferably 4 to 30 hours.

方法1乃至方法2の付加反応を促進させるため、触媒を用いて反応させることができる
。触媒としては、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエチレンジアミン、N,N
-ジメチルベンジルアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、トリフェニルホ
スフィン、トリパラトリルホスフィン等が挙げられる。触媒の使用量は原料の合計量に対
して0.01~2重量%であることが好ましく、0.05~1重量%であることがより好
ましい。なお、この反応においては(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)の製造
における反応に用いた有機溶媒をそのまま用いて反応させてもよいし、適宜有機溶媒を追
加して反応させてもよい。この反応に用いることのできる有機溶媒は先に挙げたものと同
様である。
In order to accelerate the addition reactions in Methods 1 and 2, a catalyst can be used. As a catalyst, triethylamine, tributylamine, triethylenediamine, N,N
-dimethylbenzylamine, benzyltrimethylammonium chloride, triphenylphosphine, triparatolylphosphine and the like. The amount of catalyst used is preferably 0.01 to 2% by weight, more preferably 0.05 to 1% by weight based on the total amount of raw materials. In addition, in this reaction, the organic solvent used in the reaction in the production of (meth)acrylic (meth)acrylate (A) may be used as is, or an organic solvent may be added as appropriate. Organic solvents that can be used in this reaction are the same as those listed above.

(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)を得る前述の方法3乃至方法4で用いる
反応は、イソシアネート基と水酸基の付加反応(ウレタン反応)である。この反応におい
て、反応温度は好ましくは40~80℃であり、より好ましくは45~75℃である。ま
た、反応時間は好ましくは2~30時間であり、より好ましくは3~20時間である。
The reaction used in the above-mentioned methods 3 and 4 to obtain (meth)acrylate (meth)acrylate (A) is an addition reaction (urethane reaction) between an isocyanate group and a hydroxyl group. In this reaction, the reaction temperature is preferably 40 to 80°C, more preferably 45 to 75°C. Further, the reaction time is preferably 2 to 30 hours, more preferably 3 to 20 hours.

方法3乃至方法4の付加反応を促進する目的で、触媒を用いることができる。触媒とし
ては、例えば、ジブチル錫ジラウレート、トリメチル錫ヒドロキシド、テトラ-n-ブチ
ル錫等の有機金属化合物、オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、ナフテン酸コバルト、塩化第
1錫、塩化第2錫等の金属塩、トリエチルアミン、ベンジルジエチルアミン、1,4-ジ
アザビシクロ[2,2,2]オクタン、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセ
ン、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,3-ブタンジアミン、N-エチルモルホリ
ン等のアミン系触媒;硝酸ビスマス、臭化ビスマス、ヨウ化ビスマス、硫化ビスマス等の
他、ジブチルビスマスジラウレート、ジオクチルビスマスジラウレート等の有機ビスマス
化合物、2-エチルヘキサン酸ビスマス塩、ナフテン酸ビスマス塩、イソデカン酸ビスマ
ス塩、ネオデカン酸ビスマス塩、ラウリル酸ビスマス塩、マレイン酸ビスマス塩、ステア
リン酸ビスマス塩、オレイン酸ビスマス塩、リノール酸ビスマス塩、酢酸ビスマス塩、ビ
スマスリビスネオデカノエート、ジサリチル酸ビスマス塩、ジ没食子酸ビスマス塩等の有
機酸ビスマス塩等のビスマス系触媒等が挙げられる。
これらの中でも、ジブチル錫ジラウレート、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]ウ
ンデセンが好ましい。
A catalyst can be used for the purpose of promoting the addition reaction in Methods 3 and 4. Examples of the catalyst include organometallic compounds such as dibutyltin dilaurate, trimethyltin hydroxide, and tetra-n-butyltin, zinc octylate, tin octylate, cobalt naphthenate, tin chloride, and tin chloride. Metal salts, triethylamine, benzyldiethylamine, 1,4-diazabicyclo[2,2,2]octane, 1,8-diazabicyclo[5,4,0]undecene, N,N,N',N'-tetramethyl-1 , 3-butanediamine, N-ethylmorpholine, etc.; in addition to bismuth nitrate, bismuth bromide, bismuth iodide, bismuth sulfide, etc., organic bismuth compounds such as dibutyl bismuth dilaurate, dioctyl bismuth dilaurate, 2-ethylhexane Bismuth acid salt, bismuth naphthenate, bismuth isodecanoate, bismuth neodecanoate, bismuth laurate, bismuth maleate, bismuth stearate, bismuth oleate, bismuth linoleate, bismuth acetate, bismuth libis Examples include bismuth-based catalysts such as organic acid bismuth salts such as neodecanoate, bismuth disalicylate, and bismuth digallate.
Among these, dibutyltin dilaurate and 1,8-diazabicyclo[5,4,0]undecene are preferred.

(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)の重量平均分子量は、通常、5,000
~1,000,000以下であり、好ましくは7,000~500,000以下、より好
ましくは10,000~200,000以下である。重量平均分子量が前記上限値以上で
あると、粘度が高くなり塗工適性が低下する傾向にあるため、実用的に好ましくない。一
方、重量平均分子量が前記下限値未満であると、塗膜の造膜性が低下するので実用的に好
ましくない。
The weight average molecular weight of (meth)acrylic (meth)acrylate (A) is usually 5,000
-1,000,000 or less, preferably 7,000 - 500,000 or less, more preferably 10,000 - 200,000 or less. If the weight average molecular weight is more than the above upper limit, the viscosity tends to increase and the coating suitability tends to decrease, which is not practically preferable. On the other hand, if the weight average molecular weight is less than the above-mentioned lower limit, the film forming properties of the coating film will be lowered, which is practically undesirable.

数平均分子量、重量平均分子量は、標準ポリスチレン分子量換算による数平均分子量、
重量平均分子量であり、高速液体クロマトグラフ(Waters社製、「ACQUITY
APCシステム」)に、カラム:ACQUITY APC XT 450×1本、ACQ
UITYAPC XT 200×1本、ACQUITY APC XT 45×2本の4
本直列を用いることにより測定される。
Number average molecular weight and weight average molecular weight are number average molecular weight based on standard polystyrene molecular weight conversion.
Weight average molecular weight, high performance liquid chromatograph (Waters, “ACQUITY
APC system"), column: ACQUITY APC XT 450 x 1, ACQ
UITY APC XT 200 x 1, ACQUITY APC XT 45 x 2 4
It is measured by using this series.

本発明の細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物の構成成分における(メタ)アク
リル(メタ)アクリレート(A)の含有量は、本細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組
成物の全構成成分100重量部に対して5重量部以上であることが好ましく、10重量部
以上であることがより好ましく、20重量部以上であることがよりさらに好ましく、30
重量部以上であることが特に好ましい。(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)の
含有量が下限値以上であれば細菌低付着性が向上する。
The content of (meth)acrylate (A) in the constituent components of the low-bacteria-adhesion active energy ray-curable composition of the present invention is the total content of the present low-bacteria-adhesion active energy ray-curable composition. It is preferably 5 parts by weight or more, more preferably 10 parts by weight or more, even more preferably 20 parts by weight or more, and even more preferably 30 parts by weight per 100 parts by weight.
It is particularly preferable that the amount is at least 1 part by weight. If the content of (meth)acrylic (meth)acrylate (A) is at least the lower limit value, low bacterial adhesion will be improved.

<(メタ)アクリル酸エステル化合物(B)>
本発明の(メタ)アクリル(メタ)アクリレートには、必要に応じて、他の(メタ)ア
クリル酸エステル化合物(B)を加えることができる。他の(メタ)アクリル酸エステル
化合物としては、(メタ)アクリル酸エステルモノマー、(メタ)アクリル酸エステルオ
リゴマー、(A)以外の(メタ)アクリル(メタ)アクリレートが挙げられる。
(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリロイル基の数
に応じて、単官能モノマー、2官能モノマー、3官能以上のモノマーが挙げられる。(メ
タ)アクリル酸エステルオリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ
(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクレートが挙げられる。
(メタ)アクリル酸エステルモノマー乃至オリゴマーは1種を単独で用いてもよく、2
種以上を併用してもよい。
<(meth)acrylic acid ester compound (B)>
Other (meth)acrylic acid ester compounds (B) can be added to the (meth)acrylic (meth)acrylate of the present invention, if necessary. Other (meth)acrylic ester compounds include (meth)acrylic ester monomers, (meth)acrylic ester oligomers, and (meth)acrylic (meth)acrylates other than (A).
Examples of the (meth)acrylic acid ester monomer include monofunctional monomers, bifunctional monomers, and trifunctional or higher functional monomers depending on the number of (meth)acryloyl groups. Examples of the (meth)acrylic acid ester oligomer include urethane (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, and polyester (meth)acrylate.
One type of (meth)acrylic acid ester monomer or oligomer may be used alone, or two types of (meth)acrylic acid ester monomer or oligomer may be used alone.
You may use more than one species in combination.

単官能モノマーとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アク
リレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ
)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ
)アクリレート、2-フェノキシ-2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-
ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキ
シプロピル(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、グリシジル(
メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレ
ート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、
ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル
(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート
、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アク
リレート、ドデシル(メタ)アクリレート、n-ステアリル(メタ)アクリレート、ベン
ジル(メタ)アクリレート、フェノールエチレンオキサイド変性(n=2)(メタ)アク
リレート、ノニルフェノールプロピレンオキサイド変性(n=2.5)(メタ)アクリレ
ート、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、2-(メタ)アク
リロイルオキシ-2-ヒドロキシプロピルフタレート等のフタル酸誘導体のハーフ(メタ
)アクリレート、フルフリル(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレート
、ベンジル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ
)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、2-ヒドロキシエチルアクリルアミド、N
-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-ビニルピロリドン、2-ビニルピリジン、ポ
リオキシエチレン第2級アルキルエーテルアクリレートが挙げられる。
単官能モノマーは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of monofunctional monomers include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, phenoxyethyl ( meth)acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-
Hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, glycerin mono(meth)acrylate, glycidyl (
meth)acrylate, lauryl(meth)acrylate, cyclohexyl(meth)acrylate, isobornyl(meth)acrylate, tricyclodecanyl(meth)acrylate,
Dicyclopentenyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate Acrylate, dodecyl (meth)acrylate, n-stearyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenol ethylene oxide modified (n=2) (meth)acrylate, nonylphenol propylene oxide modified (n=2.5) (meth) Acrylate, half (meth)acrylate of phthalic acid derivatives such as 2-(meth)acryloyloxyethyl acid phosphate, 2-(meth)acryloyloxy-2-hydroxypropyl phthalate, furfuryl (meth)acrylate, carbitol (meth)acrylate , benzyl (meth)acrylate, butoxyethyl (meth)acrylate, allyl (meth)acrylate, acryloylmorpholine, 2-hydroxyethyl acrylamide, N
-Methylol (meth)acrylamide, N-vinylpyrrolidone, 2-vinylpyridine, and polyoxyethylene secondary alkyl ether acrylate.
One type of monofunctional monomer may be used alone, or two or more types may be used in combination.

2官能モノマーとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールA型
ジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジ(メタ)アク
リレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリ
シジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ
(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)アクリレート、ヒドロ
キシピバリン酸変性ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エ
チレンオキサイド変性ジアクリレート等が挙げられる。
2官能モノマーは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the bifunctional monomer include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, and dipropylene. Glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, butylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, ethylene oxide modified bisphenol A type di(meth)acrylate, propylene oxide modified bisphenol A type Di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di(meth)acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di( Examples include meth)acrylate, phthalic acid diglycidyl ester di(meth)acrylate, hydroxypivalic acid-modified neopentyl glycol di(meth)acrylate, and isocyanuric acid ethylene oxide-modified diacrylate.
One type of bifunctional monomer may be used alone, or two or more types may be used in combination.

3官能以上のモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アクリロイルオキシエトキシ
トリメチロールプロパン、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート
、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、カプロラクトン変性ジペン
タエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリト
ールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ(メタ
)アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート
、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エチレ
ンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキサ
イド変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート
等が挙げられる。
3官能以上のモノマーは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of trifunctional or higher functional monomers include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate. ) acrylate, tri(meth)acryloyloxyethoxytrimethylolpropane, glycerin polyglycidyl ether poly(meth)acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified triacrylate, caprolactone modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate, caprolactone modified dipentaerythritol hexa( meth)acrylate, caprolactone-modified pentaerythritol tri(meth)acrylate, caprolactone-modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ethylene oxide-modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate, ethylene oxide-modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, ethylene oxide Examples include modified pentaerythritol tri(meth)acrylate, ethylene oxide modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate, and ethoxylated glycerin triacrylate.
One type of trifunctional or higher functional monomer may be used alone, or two or more types may be used in combination.

また、(メタ)アクリル酸エステルモノマーとして、他にも、アクリル酸のミカエル付
加物、2-アクリロイルオキシエチルジカルボン酸モノエステルも挙げられる。
アクリル酸のミカエル付加物としては、アクリル酸ダイマー、メタクリル酸ダイマー、
アクリル酸トリマー、メタクリル酸トリマー、アクリル酸テトラマー、メタクリル酸テト
ラマー等が挙げられる。
2-アクリロイルオキシエチルジカルボン酸モノエステルとしては、例えば、2-アク
リロイルオキシエチルコハク酸モノエステル、2-メタクリロイルオキシエチルコハク酸
モノエステル、2-アクリロイルオキシエチルフタル酸モノエステル、2-メタクリロイ
ルオキシエチルフタル酸モノエステル、2-アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタ
ル酸モノエステル、2-メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸モノエステル
等が挙げられる。さらに、その他オリゴエステルアクリレートも挙げられる。
In addition, other (meth)acrylic acid ester monomers include Michael adducts of acrylic acid and 2-acryloyloxyethyldicarboxylic acid monoesters.
Michael adducts of acrylic acid include acrylic acid dimer, methacrylic acid dimer,
Examples include acrylic acid trimer, methacrylic acid trimer, acrylic acid tetramer, and methacrylic acid tetramer.
Examples of the 2-acryloyloxyethyldicarboxylic acid monoester include 2-acryloyloxyethylsuccinic acid monoester, 2-methacryloyloxyethylsuccinic acid monoester, 2-acryloyloxyethyl phthalic acid monoester, and 2-methacryloyloxyethyl phthalate. Examples include acid monoester, 2-acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid monoester, and 2-methacryloyloxyethylhexahydrophthalic acid monoester. Furthermore, other oligoester acrylates may also be mentioned.

これら(メタ)アクリル酸エステル化合物(B)において、オキシアルキレン構造をさ
らに有する化合物を使用すると、細菌低付着性能のさらなる向上を期待できる。
When a compound further having an oxyalkylene structure is used among these (meth)acrylic acid ester compounds (B), further improvement in the bacterial adhesion performance can be expected.

本発明の細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物の構成成分における(メタ)アク
リル酸エステル化合物(B)の含有量は、本細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物
の全構成成分100重量部に対して0~95重量部であることが好ましく、0~90重量
部であることがより好ましく、0~80重量部であることがよりさらに好ましく、0~7
0重量部であることが特に好ましい。(メタ)アクリル酸エステル化合物(B)の含有量
が上限値以上であると細菌低付着性が低下する場合がある。
The content of the (meth)acrylic acid ester compound (B) in the constituent components of the low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition of the present invention is 100% of the total component of the present low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition. It is preferably 0 to 95 parts by weight, more preferably 0 to 90 parts by weight, even more preferably 0 to 80 parts by weight, and even more preferably 0 to 7 parts by weight.
Particularly preferred is 0 parts by weight. If the content of the (meth)acrylic acid ester compound (B) is more than the upper limit, the low bacterial adhesion may be reduced.

<光重合開始剤(C)>
紫外線照射により塗膜を得る場合、本細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物は光
重合開始剤(C)を含有することが好ましい。ただし、電子線照射を行う場合、本細菌低
付着性活性エネルギー線硬化型組成物は、光重合開始剤(C)なしでも硬化し得る。
光重合開始剤(C)としては、光の作用によりラジカルを発生するものであれば特に限
定されない。例えば、4-フェノキシジクロロアセトフェノン、4-t-ブチル-ジクロ
ロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェ
ニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピレンフェニル)-2-ヒドロキシ-2-
メチルプロパン-1-オン、1-(4-ドデシルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチ
ルプロパン-1-オン、4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル(2-ヒドロキシ-
2-プロピル)ケトン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1
-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルホリノプロパン-1-オン、ベンゾイン、
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、ベン
ゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシ
ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、3,3’-ジ
メチル-4-メトキシベンゾフェノン、チオキサンソン、2-クロルチオキサンソン、2
-メチルチオキサンソン、2,4-ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソ
ン、カンファーキノン、ジベンゾスベロン、2-エチルアンスラキノン、4’,4’’-
ジエチルイソフタロフェノン、3,3’,4,4’-テトラ(t-ブチルパーオキシカル
ボニル)ベンゾフェノン、α-アシロキシムエステル、アシルホスフィンオキサイド、メ
チルフェニルグリオキシレート、ベンジル、9,10-フェナンスレンキノン、4-(2
-ヒドロキシエトキシ)フェニル-(2-ヒドロキシ-2-プロピル)ケトン等が挙げら
れる。
これらの中でもベンジルジメチルケタール、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、ベンゾインイソプロピルエーテル、4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル(
2-ヒドロキシ-2-プロピル)ケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプ
ロパン-1-オンが好適に用いられる。
光重合開始剤(C)は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Photopolymerization initiator (C)>
When a coating film is obtained by irradiation with ultraviolet rays, the present low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition preferably contains a photopolymerization initiator (C). However, when electron beam irradiation is performed, the present low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition can be cured even without the photopolymerization initiator (C).
The photopolymerization initiator (C) is not particularly limited as long as it generates radicals by the action of light. For example, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-(4-isopropylenephenyl)-2- Hydroxy-2-
Methylpropan-1-one, 1-(4-dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl(2-hydroxy-
2-propyl)ketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1
-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, benzoin,
Benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl dimethyl ketal, benzophenone, benzoylbenzoic acid, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2
-Methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, camphorquinone, dibenzosuberone, 2-ethylanthraquinone, 4',4''-
Diethylisophthalophenone, 3,3',4,4'-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, α-acyloxime ester, acylphosphine oxide, methylphenylglyoxylate, benzyl, 9,10-phenanth Lenquinone, 4-(2
-hydroxyethoxy)phenyl-(2-hydroxy-2-propyl)ketone and the like.
Among these, benzyl dimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, benzoin isopropyl ether, 4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl (
2-hydroxy-2-propyl)ketone and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one are preferably used.
One type of photopolymerization initiator (C) may be used alone, or two or more types may be used in combination.

さらに、光重合開始剤(C)の助剤を併用してもよい。光重合開始剤(C)の助剤とし
て、例えば、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4,4’-ジメチル
アミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、4,4’-ジエチルアミノベンゾフェノン、
2-ジメチルアミノエチル安息香酸、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチル
アミノ安息香酸(n-ブトキシ)エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4-
ジメチルアミノ安息香酸2-エチルヘキシル、2,4-ジエチルチオキサンソン、2,4
-ジイソプロピルチオキサンソン等が挙げられる。
光重合開始剤(C)の助剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Furthermore, an auxiliary agent for the photopolymerization initiator (C) may be used in combination. Examples of auxiliary agents for the photopolymerization initiator (C) include triethanolamine, triisopropanolamine, 4,4'-dimethylaminobenzophenone (Michler's ketone), 4,4'-diethylaminobenzophenone,
2-dimethylaminoethylbenzoic acid, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, (n-butoxy)ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-
2-ethylhexyl dimethylaminobenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4
-Diisopropylthioxanthone and the like.
One type of auxiliary agent for the photopolymerization initiator (C) may be used alone, or two or more types may be used in combination.

本発明の細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物の構成成分における光重合開始剤
(C)の含有量は、本細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物の全構成成分100重
量部に対して0~15重量部であることが好ましく、0~10重量部であることがより好
ましく、0~5重量部であることがよりさらに好ましい。光重合開始剤(C)の含有量が
下限値以下であれば紫外線硬化において硬化性が不足し、上限値以上であれば塗膜が脆く
なる可能性がある。
The content of the photopolymerization initiator (C) in the constituent components of the low-bacteria-adhering active energy ray-curable composition of the present invention is based on 100 parts by weight of the total components of the present low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition. It is preferably 0 to 15 parts by weight, more preferably 0 to 10 parts by weight, even more preferably 0 to 5 parts by weight. If the content of the photopolymerization initiator (C) is below the lower limit, curability in ultraviolet curing will be insufficient, and if it is above the upper limit, the coating film may become brittle.

<他の成分>
他の成分としては、抗菌剤、防かび剤、抗ウイルス剤、抗アレルゲン剤、熱可塑性樹脂
、重合禁止剤、紫外線吸収剤、熱重合開始剤、連鎖移動剤、架橋剤、ブルーイング剤、増
粘剤、染顔料、油、可塑剤、ワックス類、乾燥剤、分散剤、湿潤剤、乳化剤、ゲル化剤、
安定剤、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー性付与剤、酸化防止剤、難燃剤、帯電防
止剤、充填剤、補強剤、艶消し剤、各種フィラー等が挙げられる。
他の成分は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Other ingredients>
Other ingredients include antibacterial agents, fungicides, antivirals, antiallergens, thermoplastic resins, polymerization inhibitors, ultraviolet absorbers, thermal polymerization initiators, chain transfer agents, crosslinking agents, bluing agents, and enhancers. Stickers, dyes and pigments, oils, plasticizers, waxes, desiccants, dispersants, wetting agents, emulsifiers, gelling agents,
Stabilizers, antifoaming agents, leveling agents, thixotropic agents, antioxidants, flame retardants, antistatic agents, fillers, reinforcing agents, matting agents, various fillers and the like can be mentioned.
One type of other components may be used alone, or two or more types may be used in combination.

有機化合物の抗菌剤としては、例えば、3-(トリメトキシシリル)プロピルジメチル
オクタデシルアンモニウムクロリド、テトラデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリ
ド、1-ヘキサデシルピリジニウムクロリド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロ
ミド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、N-ポリオキシエチレン-N,N
,N-トリメチルアンモニウムクロリド、セチルトリメチルアンモニウムクロリド、オク
タデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ジデシルジメチルアンモニウムクロリド、ベ
ンザルコニウムクロリド、ベヘニルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンゼトニウムク
ロリド、4,4’-(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1-デシルピリジニ
ウムブロミド)、N,N’-ヘキサメチレンビス(4-カルバモイル-1-デシルピリジ
ニウム塩)、4,4’-(p-フタルアミド)ビス(1-オクチルピリジニウムブロミド
)、3,3’-(m-フタルアミド)ビス(1-オクチルピリジニウムアイオダイド)等
の4級アンモニウム塩系化合物;5-クロロ-2-(2,4-ジクロロフェノキシ)フェ
ノール等の一価フェノール系化合物;2-(3,5-ジメチルピラゾリル)-4-ヒドロ
キシ-6-フェニルピリジン等のピリジン系化合物;2-(ヒドロキシメチルアミノ)エ
タノール、2-(ヒドロキシメチルアミノ)-2-メチルプロパノール等のアルコール系
化合物;テトラデシルトリメチルホスホニウムクロリド、ジデシルジメチルホスホニウム
クロリド等のホスホニウム塩系化合物;グルコン酸クロロヘキシジン系化合物等が挙げら
れる。
Examples of antibacterial agents of organic compounds include 3-(trimethoxysilyl)propyldimethyloctadecyl ammonium chloride, tetradecyldimethylbenzylammonium chloride, 1-hexadecylpyridinium chloride, hexadecyltrimethylammonium bromide, hexadecyltrimethylammonium chloride, N -Polyoxyethylene-N,N
, N-trimethylammonium chloride, cetyltrimethylammonium chloride, octadecyltrimethylammonium chloride, didecyldimethylammonium chloride, benzalkonium chloride, behenyltrimethylammonium chloride, benzethonium chloride, 4,4'-(tetramethylene dicarbonyldiamino)bis( 1-decylpyridinium bromide), N,N'-hexamethylenebis(4-carbamoyl-1-decylpyridinium salt), 4,4'-(p-phthalamide)bis(1-octylpyridinium bromide), 3,3' - Quaternary ammonium salt compounds such as (m-phthalamide) bis(1-octylpyridinium iodide); Monohydric phenol compounds such as 5-chloro-2-(2,4-dichlorophenoxy)phenol; 2-( Pyridine compounds such as 3,5-dimethylpyrazolyl)-4-hydroxy-6-phenylpyridine; Alcohol compounds such as 2-(hydroxymethylamino)ethanol and 2-(hydroxymethylamino)-2-methylpropanol; Tetra Examples include phosphonium salt compounds such as decyltrimethylphosphonium chloride and didecyldimethylphosphonium chloride; chlorohexidine gluconate compounds, and the like.

抗菌剤が対象とする菌としては、例えば、Staphylococcus aureu
sをはじめとするStaphylococcus属(メチシリン耐性黄色ブドウ球菌を含
む)、Streptococcus pyogenesをはじめとするStreptoc
occus属、Enterococcus属、Peptostreptococcus属
、Bacillus subtilisをはじめとするBacillus属、Clost
ridium tetaniをはじめとするClostridium属、Mycobac
terium tuberculosisをはじめとするMycobacterium属
、Actinomyces属、Nocardia属、Streptomyces属、Ps
eudomonas aeruginosaをはじめとするPseudomonas属、
Escherichia coli(病原大腸菌を含む)をはじめとするEscheri
chia属、Salmonella typhiをはじめとするSalmonella属
、Vibrio choleraeをはじめとするVibrio属、Shigellad
ysenteriaeをはじめとするShigella属、Enterobacterc
loacaeをはじめとするEnterobacter属、Klebsiellapne
umoniaeをはじめとするKlebsiella属、Serratiamarces
censをはじめとするSerratia属、Haemophilus influen
zaeをはじめとするHaemophilus属、Alcaligenes faeca
lisをはじめとするAlcaligenes属、Legionella pneumo
philaをはじめとするLeionella属、Campylobacterjeju
niをはじめとするCampylobacter属、Bacteroidesfragi
lisをはじめとするBacteroides属、Neisseria gonorrh
oeaeをはじめとするNeisseria属、Treponema pallidum
をはじめとするTreponema属の細菌等が挙げられる。
Examples of bacteria targeted by antibacterial agents include Staphylococcus aureu.
Staphylococcus spp. (including methicillin-resistant Staphylococcus aureus), Streptococcus spp. including Streptococcus pyogenes
Bacillus genus, including Bacillus occus, Enterococcus, Peptostreptococcus, Bacillus subtilis, Clost
Clostridium spp. including R. tetani, Mycobac.
Mycobacterium spp. including terium tuberculosis, Actinomyces spp., Nocardia spp., Streptomyces spp., Ps.
Pseudomonas genus, including Eudomonas aeruginosa,
Escherichia coli including Escherichia coli (including pathogenic Escherichia coli)
Chia genus, Salmonella genus including Salmonella typhi, Vibrio genus including Vibrio cholerae, Shigellad.
Shigella genus including Ysenteriae, Enterobacterc
Enterobacter spp., including Loacae, Klebsiellapne
Klebsiella genus including Umoniae, Serratiamarces
Serratia genus including Cens, Haemophilus influenzae
Haemophilus spp., including Alcaligenes faeca
Alcaligenes including lis, Legionella pneumo
Leonella genus including phila, Campylobacter jeju
Campylobacter genus including Ni, Bacteroidesfragi
Bacteroides genus including lis, Neisseria gonorrh
Neisseria spp. including oeae, Treponema pallidum
Examples include bacteria of the genus Treponema, including .

抗菌剤の中には防かび性も併せて発揮する化合物があり、防かび剤の中には抗菌性を併
せて発揮する化合物もある。本明細書では、便宜上、両者を分けて記載しているが、厳密
に区分することが困難な場合がある。また、抗菌性、防かび性は、結果的に防臭性、防腐
性をも発現することが多い。抗菌剤、防かび剤は、日保ち向上剤、保存料と称されること
もある。
Some antibacterial agents also exhibit antifungal properties, and some antifungal agents also exhibit antibacterial properties. In this specification, the two are described separately for convenience, but it may be difficult to strictly distinguish them. Furthermore, antibacterial and antifungal properties often result in deodorizing and antiseptic properties as well. Antibacterial agents and fungicides are sometimes called storage improvers and preservatives.

抗ウイルス剤としては、例えば、チオスルファト銀塩、ヒドロキシチロソール、グルタ
ラール、ヘキサクロロフェン、クロロヘキシジン等が挙げられる。
抗ウイルス剤が対象とするウイルスは、通常、エイズウイルス、麻疹ウイルス、単純ヘ
ルペスウイルス、インフルエンザウイルス等の有膜ウイルス;ポリオウイルス等の無膜ウ
イルス等が挙げられる。
Examples of antiviral agents include thiosulfate silver salt, hydroxytyrosol, glutaral, hexachlorophene, and chlorohexidine.
Viruses targeted by antiviral agents usually include membraned viruses such as AIDS virus, measles virus, herpes simplex virus, and influenza virus; and membraneless viruses such as poliovirus.

抗アレルゲン剤としては、例えば、ポリフェノール、ポリクレゾール、ポリメトキシフ
ェノール等のポリフェノール系化合物;ポリビニルフェノール系化合物;ポリビスフェノ
ールA系化合物;リグノフェノール系化合物;タンニン酸;ポリチロシン等が挙げられる

抗アレルゲン剤が対象とするアレルゲンは、アトピー性皮膚炎、気管支ぜんそく、アレ
ルギー性鼻炎等のアレルギー疾患の原因となるものが挙げられる。例えば、ダニアレルゲ
ン、スギ花粉アレルゲン、これらのアレルゲンから発生するアレルゲン物質が挙げられる
Examples of the anti-allergen agent include polyphenol compounds such as polyphenol, polycresol, and polymethoxyphenol; polyvinylphenol compounds; polybisphenol A compounds; lignophenol compounds; tannic acid; polytyrosine, and the like.
Allergens targeted by anti-allergen agents include those that cause allergic diseases such as atopic dermatitis, bronchial asthma, and allergic rhinitis. Examples include mite allergen, cedar pollen allergen, and allergen substances generated from these allergens.

<用途>
本活細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物は、かかる細菌低付着性活性エネルギ
ー線硬化型組成物を含有するコーティング剤組成物として利用することができる。また、
かかるコーティング剤組成物は、活性エネルギー線の照射により硬化して硬化塗膜となる
<Application>
The active energy ray-curable composition with low bacterial adhesion can be used as a coating composition containing the active energy ray-curable composition with low bacterial adhesion. Also,
Such a coating composition is cured by irradiation with active energy rays to form a cured coating film.

<有機溶媒>
本発明のコーティング剤組成物を調整する際には、有機溶媒を含むことが好ましい。有
機溶媒としては、特に限定されるものではなく、硬化性組成物に含まれる成分の種類等を
考慮して適宜選択することができる。用いることができる有機溶媒の具体例としては、例
えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒;メチルエチルケトン(MEK)、アセトン
、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;ジエチル
エーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル(PGM)、アニソール、フェネトール等のエーテル系溶媒;酢酸エチル、酢
酸ブチル、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジアセテート等のエステル系溶媒;ジ
メチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等のアミド系溶媒;
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒;メタノ
ール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒
;ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。
<Organic solvent>
When preparing the coating agent composition of the present invention, it is preferable to include an organic solvent. The organic solvent is not particularly limited, and can be appropriately selected in consideration of the types of components contained in the curable composition. Specific examples of organic solvents that can be used include aromatic solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as methyl ethyl ketone (MEK), acetone, methyl isobutyl ketone (MIBK), and cyclohexanone; diethyl ether and isopropyl ether. , tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether (PGM), anisole, phenethole, etc.; ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, ethylene glycol dimethyl ether; Ester solvents such as acetate; amide solvents such as dimethylformamide, diethylformamide, N-methylpyrrolidone;
Examples include cellosolve solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve; alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, and butanol; and halogen solvents such as dichloromethane and chloroform.

[積層体の製造方法]
本発明のコーティング剤組成物は、所望の基材に塗布することができる。本発明のコー
ティング剤を塗工する対象である基材としては、例えば、ポリオレフィン系樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、アクリロニトリルブタジエン
スチレン共重合体(ABS)、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂等やそれらの成
型品(フィルム、シート、カップ、等)等のプラスチック基材、それらの複合基材、また
はガラス繊維や無機物を混合した前記材料の複合基材等、金属(アルミニウム、銅、鉄、
SUS、亜鉛、マグネシウム、これらの合金等であり、金属蒸着膜等の金属膜を含む)や
、ガラス等が挙げられる。これらの基材上には必要に応じてプライマー層を設けても良い
[Method for manufacturing laminate]
The coating composition of the present invention can be applied to any desired substrate. Examples of substrates to which the coating agent of the present invention is applied include polyolefin resins, polyester resins, polycarbonate resins, acrylic resins, acrylonitrile butadiene styrene copolymer (ABS), polystyrene resins, and polyurethane resins. Plastic base materials such as resins and their molded products (films, sheets, cups, etc.), composite base materials thereof, composite base materials of the above materials mixed with glass fiber and inorganic materials, metals (aluminum, copper, etc.) ,iron,
SUS, zinc, magnesium, alloys thereof, etc. (including metal films such as metal vapor deposited films), glass, etc. A primer layer may be provided on these base materials if necessary.

本発明のコーティング剤組成物を塗布する方法としては、例えば、スプレー、シャワー
、ディッピング、ロール、スピン、スクリーン印刷、インクジェット印刷等のようなウェ
ットコーティング法が挙げられ、通常は常温の条件下で基材に塗工することができる。
Examples of methods for applying the coating composition of the present invention include wet coating methods such as spraying, showering, dipping, rolling, spinning, screen printing, and inkjet printing. Can be applied to materials.

また、本発明のコーティング剤は、上記有機溶剤を用いて、固形分濃度が、通常3~6
0重量%、好ましくは5~40重量%になるように希釈して、塗工することが好ましい。
In addition, the coating agent of the present invention can be prepared by using the above-mentioned organic solvent and having a solid content concentration of usually 3 to 6.
It is preferable to dilute it to 0% by weight, preferably 5 to 40% by weight, and then apply.

上記有機溶剤による希釈を行なった際の乾燥条件としては、基材の耐熱温度、希釈有機
溶剤の種類、塗膜の厚み等に応じて、乾燥温度や乾燥時間を任意に調整することができる
が、通常40~120℃、好ましくは50~100℃で、乾燥時間は通常10秒~20分
、好ましくは30秒~10分である。
The drying conditions when diluting with the organic solvent mentioned above can be adjusted arbitrarily depending on the heat resistance temperature of the base material, the type of diluting organic solvent, the thickness of the coating film, etc. The temperature is usually 40 to 120°C, preferably 50 to 100°C, and the drying time is usually 10 seconds to 20 minutes, preferably 30 seconds to 10 minutes.

本発明のコーティング剤組成物を硬化させる際に用いることができる活性エネルギー線
としては、例えば、遠紫外線、紫外線、近紫外線、赤外線等の光線、X線、γ線等の電磁
波の他、電子線、プロトン線、中性子線等が挙げられる。硬化速度、照射装置の入手のし
易さ、価格等の点から紫外線照射が有利である。
紫外線照射における光源としては、例えば、ケミカルランプ、キセノンランプ、低圧水
銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。照射エネルギーとし
ては特に限定されないが、通常50~3,000mJ/cm2程度照射すればよく、好ま
しくは100~1,000mJ/cm2である。紫外線照射後は、硬化の完全進行のため
に必要に応じて加熱を行ってもよい。
Active energy rays that can be used to cure the coating composition of the present invention include, for example, far ultraviolet rays, ultraviolet rays, near ultraviolet rays, infrared rays, electromagnetic waves such as X-rays, γ-rays, and electron beams. , proton beams, neutron beams, etc. Ultraviolet irradiation is advantageous in terms of curing speed, availability of irradiation equipment, cost, etc.
Examples of light sources for ultraviolet irradiation include chemical lamps, xenon lamps, low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, and metal halide lamps. The irradiation energy is not particularly limited, but it is usually sufficient to irradiate at about 50 to 3,000 mJ/cm2, preferably 100 to 1,000 mJ/cm2. After irradiation with ultraviolet rays, heating may be performed as necessary to ensure complete curing.

電子線照射で硬化させる場合は、種々の電子線照射装置を使用することができる。電子
線の照射量(Mrad)は、通常、0.5~20Mradであり、硬化性、硬化物の可撓
性、基材の損傷防止等の観点から好ましくは1~15Mradの範囲である。電子線照射
後は、硬化の完全進行のために必要に応じて加熱を行ってもよい。
When curing by electron beam irradiation, various electron beam irradiation devices can be used. The irradiation dose (Mrad) of the electron beam is usually 0.5 to 20 Mrad, and preferably 1 to 15 Mrad from the viewpoint of curability, flexibility of the cured product, and prevention of damage to the base material. After electron beam irradiation, heating may be performed as necessary to ensure complete curing.

本発明のコーティング剤組成物の硬化後の硬化層の厚みは、得られる積層体の細菌低付
着性、鉛筆硬度、耐擦傷性の観点からは厚い方が好ましく、耐クラック性や軽量化の観点
からは薄い方が好ましい。硬化後の硬化層の厚みは、好ましくは0.5μm以上であり、
より好ましくは1μm以上であり、更に好ましくは2μm以上であり、特に好ましくは3
μm以上であり、一方、好ましくは150μm以下であり、より好ましくは100μm以
下であり、更に好ましくは75μm以下である。
The thickness of the cured layer after curing of the coating composition of the present invention is preferably thicker from the viewpoint of low bacterial adhesion, pencil hardness, and scratch resistance of the resulting laminate, and from the viewpoint of crack resistance and weight reduction. It is preferable that it be thinner. The thickness of the cured layer after curing is preferably 0.5 μm or more,
More preferably 1 μm or more, still more preferably 2 μm or more, particularly preferably 3 μm or more.
On the other hand, it is preferably 150 μm or less, more preferably 100 μm or less, and still more preferably 75 μm or less.

本発明のコーティング剤組成物は、医療現場、食品工場、衣料製造工場、学校、駅、銀
行、コンビニエンスストア、各種公共施設等における工業製品から日用品に至るまで人が
触れる可能性がある物品の表面保護層として好適に用いられる。表面保護層は、本細菌低
付着性活性エネルギー線硬化型組成物を硬化した硬化物である硬化塗膜として物品の表面
に設けることができる。
The coating composition of the present invention can be applied to the surfaces of articles that may be touched by humans, from industrial products to daily necessities in medical settings, food factories, clothing manufacturing factories, schools, stations, banks, convenience stores, various public facilities, etc. It is suitably used as a protective layer. The surface protective layer can be provided on the surface of the article as a cured coating film, which is a cured product obtained by curing the present low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition.

以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、その要旨を超え
ない限り、以下の実施例に限定されるものではない。また、以下の記載において、「部」
、「%」とあるのは、断りのない限りそれぞれ「質量部」、「質量%」を意味する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples unless it exceeds the gist thereof. In addition, in the following description, "department"
, "%" means "parts by mass" and "% by mass", respectively, unless otherwise specified.

〔製造例〕
((メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A-1)の製造)
撹拌機、還流冷却管及び温度計を取り付けた反応器に、メトキシポリエチレングリコー
ルメタクリレート(日油社製「ブレンマーPME400」)を40部、メチルメタクリレ
ート(MMA)40部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート(2-HEMA)20部、
酢酸エチル144部を仕込み、撹拌開始後に系内を窒素置換し、55℃に昇温した。ここ
へ、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(富士フィルム和光純薬工
業社製「V-65」)0.8部、酢酸エチル7.3部を添加した後、系内を65℃まで昇
温し、3時間撹拌した後、さらに、V-65を0.4部、酢酸エチル7部添加して65℃
で3時間撹拌した。系内を78℃まで昇温し、2時間撹拌した後、p-メトキシフェノー
ル0.52重量部、酢酸エチル8部を加えた。系内を7%酸素/93%窒素の混合ガスで
置換し、さらに系内を40℃に冷却後、ジブチル錫ジラウレート0.01部、2-イソシ
アナトエチルアクリレート(昭和電工製「カレンズAOI」)を21.3部、酢酸エチル
を19部を加えた後、系内を50℃に昇温した。50℃で6時間撹拌後、イソシアネート
基の消失を確認し、側鎖に(メタ)アクリロイル基およびポリオキシアルキレン構造を有
する化合物(A-1)の溶液を得た。反応液の組成はA-1/酢酸エチル=40/60(
重量比)であった。また、A-1のアクリロイル基濃度は、1.23mmol/gであっ
た。
[Manufacturing example]
(Production of (meth)acrylic (meth)acrylate (A-1))
In a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a thermometer, 40 parts of methoxypolyethylene glycol methacrylate ("Blenmar PME400" manufactured by NOF Corporation), 40 parts of methyl methacrylate (MMA), and 2-hydroxyethyl methacrylate (2- HEMA) 20 copies,
After charging 144 parts of ethyl acetate and starting stirring, the system was purged with nitrogen and the temperature was raised to 55°C. After adding 0.8 parts of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) (Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd. "V-65") and 7.3 parts of ethyl acetate, the system After raising the temperature to 65°C and stirring for 3 hours, 0.4 part of V-65 and 7 parts of ethyl acetate were added and the mixture was heated to 65°C.
The mixture was stirred for 3 hours. After raising the temperature of the system to 78°C and stirring for 2 hours, 0.52 parts by weight of p-methoxyphenol and 8 parts of ethyl acetate were added. After replacing the inside of the system with a mixed gas of 7% oxygen/93% nitrogen and further cooling the inside of the system to 40°C, 0.01 part of dibutyltin dilaurate and 2-isocyanatoethyl acrylate (“Karens AOI” manufactured by Showa Denko) were added. After adding 21.3 parts of ethyl acetate and 19 parts of ethyl acetate, the temperature inside the system was raised to 50°C. After stirring at 50° C. for 6 hours, disappearance of the isocyanate group was confirmed, and a solution of compound (A-1) having a (meth)acryloyl group and a polyoxyalkylene structure in the side chain was obtained. The composition of the reaction solution was A-1/ethyl acetate = 40/60 (
weight ratio). Further, the acryloyl group concentration of A-1 was 1.23 mmol/g.

((メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A-2)の製造)
撹拌機、還流冷却管及び温度計を取り付けた反応器に、メトキシポリエチレングリコー
ルメタクリレート(日油社製「ブレンマーPME400」)を60部、MMA20部、2
-HEMA20部、酢酸エチル144部を仕込み、撹拌開始後に系内を窒素置換し、55
℃に昇温した。ここへ、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(富士
フィルム和光純薬工業社製「V-65」)0.8部、酢酸エチル7.3部を添加した後、
系内を65℃まで昇温し、3時間撹拌した後、さらに、V-65を0.4部、酢酸エチル
7部添加して65℃で3時間撹拌した。系内を78℃まで昇温し、2時間撹拌した後、p
-メトキシフェノール0.52重量部、酢酸エチル8部を加えた。系内を7%酸素/93
%窒素の混合ガスで置換し、さらに系内を40℃に冷却後、ジブチル錫ジラウレート0.
01部、2-イソシアナトエチルアクリレート(昭和電工製「カレンズAOI」)を21
.3部、酢酸エチルを19部を加えた後、系内を50℃に昇温した。50℃で6時間撹拌
後、イソシアネート基の消失を確認し、側鎖に(メタ)アクリロイル基およびポリオキシ
アルキレン構造を有する化合物(A-1)の溶液を得た。反応液の組成はA-2/酢酸エ
チル=40/60(重量比)であった。また、A-2のアクリロイル基濃度は、1.22
mmol/gであった。
(Production of (meth)acrylic (meth)acrylate (A-2))
In a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a thermometer, 60 parts of methoxypolyethylene glycol methacrylate ("Blenmar PME400" manufactured by NOF Corporation), 20 parts of MMA, 2
- Charge 20 parts of HEMA and 144 parts of ethyl acetate, and after starting stirring, replace the system with nitrogen.
The temperature was raised to ℃. After adding 0.8 parts of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) (Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd. "V-65") and 7.3 parts of ethyl acetate,
After raising the temperature of the system to 65°C and stirring for 3 hours, 0.4 parts of V-65 and 7 parts of ethyl acetate were further added, and the mixture was stirred at 65°C for 3 hours. After raising the temperature of the system to 78°C and stirring for 2 hours, p
- 0.52 parts by weight of methoxyphenol and 8 parts of ethyl acetate were added. 7% oxygen in the system/93
After purging the system with a mixed gas of 0% nitrogen and further cooling the system to 40°C, dibutyltin dilaurate was added.
01 parts, 2-isocyanatoethyl acrylate (“Karens AOI” manufactured by Showa Denko) 21 parts
.. After adding 3 parts of ethyl acetate and 19 parts of ethyl acetate, the temperature inside the system was raised to 50°C. After stirring at 50° C. for 6 hours, disappearance of the isocyanate group was confirmed, and a solution of compound (A-1) having a (meth)acryloyl group and a polyoxyalkylene structure in the side chain was obtained. The composition of the reaction solution was A-2/ethyl acetate = 40/60 (weight ratio). In addition, the acryloyl group concentration of A-2 is 1.22
It was mmol/g.

((メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A-3)の製造)
(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A-1)で、メトキシポリエチレングリコー
ルメタクリレート(日油社製「ブレンマーPME400」)をメトキシポリエチレングリ
コールメタクリレート(日油社製「ブレンマーPME1000」)に変更した以外は、同
様の方法で合成を実施し、側鎖に(メタ)アクリロイル基およびポリオキシアルキレン構
造を有する化合物(A-3)の溶液を得た。反応液の組成はA-3/酢酸エチル=40/
60(重量比)であった。また、A-3のアクリロイル基濃度は、1.22mmol/g
であった。
(Production of (meth)acrylic (meth)acrylate (A-3))
(Meth)acrylic (meth)acrylate (A-1) except that methoxypolyethylene glycol methacrylate ("Blenmar PME400" manufactured by NOF Corporation) was changed to methoxypolyethylene glycol methacrylate ("Blenmar PME1000" manufactured by NOF Corporation), Synthesis was carried out in a similar manner to obtain a solution of compound (A-3) having a (meth)acryloyl group and a polyoxyalkylene structure in the side chain. The composition of the reaction solution is A-3/ethyl acetate = 40/
60 (weight ratio). In addition, the acryloyl group concentration of A-3 is 1.22 mmol/g
Met.

((メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A-4)の製造)
撹拌機、還流冷却管及び温度計を取り付けた反応器に、ポリプロピレングリコールメタ
クリレート(日油社製「ブレンマーPP1000」)を40部、メチルメタクリレート(
MMA)40部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート(2-HEMA)20部、酢酸エ
チル144部を仕込み、撹拌開始後に系内を窒素置換し、55℃に昇温した。ここへ、2
,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(富士フィルム和光純薬工業社製
「V-65」)0.8部、酢酸エチル7.3部を添加した後、系内を65℃まで昇温し、
3時間撹拌した後、さらに、V-65を0.4部、酢酸エチル7部添加して65℃で3時
間撹拌した。系内を78℃まで昇温し、2時間撹拌した後、p-メトキシフェノール0.
52重量部、酢酸エチル8部を加えた。系内を7%酸素/93%窒素の混合ガスで置換し
、さらに系内を40℃に冷却後、ジブチル錫ジラウレート0.01部、2-イソシアナト
エチルアクリレート(昭和電工製「カレンズAOI」)を26.3部、酢酸エチルを26
部を加えた後、系内を50℃に昇温した。50℃で6時間撹拌後、イソシアネート基の消
失を確認し、側鎖に(メタ)アクリロイル基およびポリオキシアルキレン構造を有する化
合物(A-4)の溶液を得た。反応液の組成はA-4/酢酸エチル=40/60(重量比
)であった。また、A-4のアクリロイル基濃度は、1.45mmol/gであった。
(Production of (meth)acrylic (meth)acrylate (A-4))
In a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a thermometer, 40 parts of polypropylene glycol methacrylate ("Blemmer PP1000" manufactured by NOF Corporation) and methyl methacrylate (
MMA), 20 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate (2-HEMA), and 144 parts of ethyl acetate were charged, and after starting stirring, the system was purged with nitrogen and the temperature was raised to 55°C. here, 2
, 0.8 parts of 2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) (Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd. "V-65") and 7.3 parts of ethyl acetate, the system was heated to 65°C. The temperature is raised to
After stirring for 3 hours, 0.4 part of V-65 and 7 parts of ethyl acetate were further added, and the mixture was stirred at 65°C for 3 hours. After raising the temperature of the system to 78°C and stirring for 2 hours, 0.0% of p-methoxyphenol was added.
52 parts by weight and 8 parts of ethyl acetate were added. After replacing the inside of the system with a mixed gas of 7% oxygen/93% nitrogen and further cooling the inside of the system to 40°C, 0.01 part of dibutyltin dilaurate and 2-isocyanatoethyl acrylate (“Karens AOI” manufactured by Showa Denko) were added. 26.3 parts of ethyl acetate, 26 parts of ethyl acetate
After adding 50% of the mixture, the temperature inside the system was raised to 50°C. After stirring at 50° C. for 6 hours, disappearance of the isocyanate group was confirmed, and a solution of compound (A-4) having a (meth)acryloyl group and a polyoxyalkylene structure in the side chain was obtained. The composition of the reaction solution was A-4/ethyl acetate = 40/60 (weight ratio). Further, the acryloyl group concentration of A-4 was 1.45 mmol/g.

((メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A-5)の製造)
撹拌機、還流冷却管及び温度計を取り付けた反応器に、ポリプロピレングリコールメタ
クリレート(日油社製「ブレンマーPP1000」)を40部、MMA60部、酢酸エチ
ル144部を仕込み、撹拌開始後に系内を窒素置換し、55℃に昇温した。ここへ、2,
2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(富士フィルム和光純薬工業社製「
V-65」)0.8部、酢酸エチル7.3部を添加した後、系内を65℃まで昇温し、3
時間撹拌した後、さらに、V-65を0.4部、酢酸エチル7部添加して65℃で3時間
撹拌した。系内を78℃まで昇温し、2時間撹拌した後、p-メトキシフェノール0.5
2重量部、酢酸エチル10部を加えた。系内を7%酸素/93%窒素の混合ガスで置換し
、さらに系内を40℃に冷却後、ジブチル錫ジラウレート0.01部、2-イソシアナト
エチルアクリレート(昭和電工製「カレンズAOI」)を5.0部、酢酸エチルを26部
を加えた後、系内を50℃に昇温した。50℃で6時間撹拌後、イソシアネート基の消失
を確認し、側鎖に(メタ)アクリロイル基およびポリオキシアルキレン構造を有する化合
物(A-5)の溶液を得た。反応液の組成はA-5/酢酸エチル=40/60(重量比)
であった。A-5のアクリロイル基濃度は、0.33mmol/gであった。
(Production of (meth)acrylic (meth)acrylate (A-5))
A reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a thermometer was charged with 40 parts of polypropylene glycol methacrylate ("Blenmar PP1000" manufactured by NOF Corporation), 60 parts of MMA, and 144 parts of ethyl acetate, and after the stirring started, the system was purged with nitrogen. The mixture was replaced and the temperature was raised to 55°C. Here, 2,
2'-Azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
After adding 0.8 parts of ethyl acetate and 7.3 parts of ethyl acetate, the temperature of the system was raised to 65°C, and
After stirring for an hour, 0.4 part of V-65 and 7 parts of ethyl acetate were further added, and the mixture was stirred at 65°C for 3 hours. After raising the temperature of the system to 78°C and stirring for 2 hours, 0.5 p-methoxyphenol was added.
2 parts by weight and 10 parts of ethyl acetate were added. After replacing the inside of the system with a mixed gas of 7% oxygen/93% nitrogen and further cooling the inside of the system to 40°C, 0.01 part of dibutyltin dilaurate and 2-isocyanatoethyl acrylate (“Karens AOI” manufactured by Showa Denko) were added. After adding 5.0 parts of ethyl acetate and 26 parts of ethyl acetate, the temperature inside the system was raised to 50°C. After stirring at 50° C. for 6 hours, disappearance of the isocyanate group was confirmed, and a solution of compound (A-5) having a (meth)acryloyl group and a polyoxyalkylene structure in the side chain was obtained. The composition of the reaction solution is A-5/ethyl acetate = 40/60 (weight ratio)
Met. The acryloyl group concentration of A-5 was 0.33 mmol/g.

〔比較製造例〕
((メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A’-1)の製造)
撹拌機、還流冷却管及び温度計を取り付けた反応器に、MMA60部、2-HEMA4
0部、酢酸エチル144部を仕込み、撹拌開始後に系内を窒素置換し、55℃に昇温した
。ここへ、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(富士フィルム和光
純薬工業社製「V-65」)0.8部、酢酸エチル7.3部を添加した後、系内を65℃
まで昇温し、3時間撹拌した後、さらに、V-65を0.4部、酢酸エチル4部添加して
65℃で3時間撹拌した。系内を78℃まで昇温し、2時間撹拌した後、p-メトキシフ
ェノール0.52重量部、酢酸エチル4部を加えた。系内を7%酸素/93%窒素の混合
ガスで置換し、さらに系内を40℃に冷却後、ジブチル錫ジラウレート0.01部、2-
イソシアナトエチルアクリレート(昭和電工製「カレンズAOI」)を42.6部、酢酸
エチルを57部を加えた後、系内を50℃に昇温した。50℃で6時間撹拌後、イソシア
ネート基の消失を確認し、側鎖にポリオキシアルキレン構造を有さず、(メタ)アクリロ
イル基を有する化合物(A’-1)の溶液を得た。反応液の組成はB-5/酢酸エチル=
40/60(重量比)であった。A’-1のアクリロイル基濃度は、2.09mmol/
gであった。
[Comparative manufacturing example]
(Production of (meth)acrylic (meth)acrylate (A'-1))
60 parts of MMA, 2-HEMA4 were added to a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a thermometer.
After starting stirring, the system was purged with nitrogen and the temperature was raised to 55°C. After adding 0.8 parts of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) (Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd. "V-65") and 7.3 parts of ethyl acetate, the system 65℃ inside
After stirring for 3 hours, 0.4 part of V-65 and 4 parts of ethyl acetate were added, and the mixture was stirred at 65°C for 3 hours. After raising the temperature of the system to 78°C and stirring for 2 hours, 0.52 parts by weight of p-methoxyphenol and 4 parts of ethyl acetate were added. After replacing the inside of the system with a mixed gas of 7% oxygen/93% nitrogen and further cooling the inside of the system to 40°C, 0.01 part of dibutyltin dilaurate, 2-
After adding 42.6 parts of isocyanatoethyl acrylate ("Karens AOI" manufactured by Showa Denko) and 57 parts of ethyl acetate, the temperature inside the system was raised to 50°C. After stirring at 50° C. for 6 hours, disappearance of the isocyanate group was confirmed, and a solution of compound (A'-1) having no polyoxyalkylene structure in the side chain and having a (meth)acryloyl group was obtained. The composition of the reaction solution is B-5/ethyl acetate=
The weight ratio was 40/60. The acryloyl group concentration of A'-1 is 2.09 mmol/
It was g.

((メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A’-2)の製造)
グリシジルメタクリレート(GMA)98重量部、MMA1重量部、エチルアクリレー
ト(EA)1重量部、メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製「KBM8
03」)1.9重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)157.3
重量部を仕込み、撹拌開始後に系内を窒素置換し、55℃に昇温した。ここへ、2,2’
-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製「V-65」)1重
量部を添加した後、系内を65℃まで昇温し、3時間撹拌した後、さらに、V-65を0
.5重量部添加して65℃で3時間撹拌した。系内を100℃まで昇温し、30分間撹拌
した後、p-メトキシフェノール(和光純薬工業社製)0.45重量部、PGM138.
1重量部を加え、再度系内を100℃まで昇温した。次に、トリパラトリルホスフィン(
北興化学工業製)3.1重量部を添加した後、アクリル酸50.7重量部を加え、110
℃まで昇温し6時間撹拌し、側鎖にポリオキシアルキレン構造を有さず、(メタ)アクリ
ロイル基を有する化合物A’-2の溶液を得た。反応液の組成はA’-2/PGM=30
/70(重量比)であった。A’-2のアクリロイル基濃度は、4.41mmol/gで
あった。
(Production of (meth)acrylic (meth)acrylate (A'-2))
98 parts by weight of glycidyl methacrylate (GMA), 1 part by weight of MMA, 1 part by weight of ethyl acrylate (EA), mercaptopropyltrimethoxysilane (KBM8 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
03'') 1.9 parts by weight, propylene glycol monomethyl ether (PGM) 157.3
Parts by weight were charged, and after starting stirring, the system was purged with nitrogen and the temperature was raised to 55°C. Here, 2,2'
- After adding 1 part by weight of azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) ("V-65" manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), the temperature in the system was raised to 65 ° C., and after stirring for 3 hours, V-65 to 0
.. 5 parts by weight were added and stirred at 65°C for 3 hours. After raising the temperature of the system to 100°C and stirring for 30 minutes, 0.45 parts by weight of p-methoxyphenol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and PGM138.
1 part by weight was added, and the temperature inside the system was again raised to 100°C. Next, triparatolylphosphine (
After adding 3.1 parts by weight (manufactured by Hokuko Chemical Industries), 50.7 parts by weight of acrylic acid was added, and 110 parts by weight was added.
The temperature was raised to .degree. C. and stirred for 6 hours to obtain a solution of compound A'-2 having no polyoxyalkylene structure in the side chain and having a (meth)acryloyl group. The composition of the reaction solution is A'-2/PGM=30
/70 (weight ratio). The acryloyl group concentration of A'-2 was 4.41 mmol/g.

((メタ)アクリル重合体(a-2)の製造)
撹拌機、還流冷却管及び温度計を取り付けた反応器に、メトキシポリエチレングリコー
ルメタクリレート(日油社製「ブレンマーPME400」)を60部、MMA20部、2
-HEMA20部、酢酸エチル144部を仕込み、撹拌開始後に系内を窒素置換し、55
℃に昇温した。ここへ、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(富士
フィルム和光純薬工業社製「V-65」)0.8部、酢酸エチル7.3部を添加した後、
系内を65℃まで昇温し、3時間撹拌した後、さらに、V-65を0.4部、酢酸エチル
7部添加して65℃で3時間撹拌した。系内を78℃まで昇温し、2時間撹拌した後、冷
却し、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有さず、ポリオキシアルキレン構造を有する化合
物(a-2)の溶液を得た。反応液の組成はa-2/酢酸エチル=40/60(重量比)
であった。a-2のアクリロイル基濃度は、0mmol/gであった。
(Production of (meth)acrylic polymer (a-2))
In a reactor equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a thermometer, 60 parts of methoxypolyethylene glycol methacrylate ("Blenmar PME400" manufactured by NOF Corporation), 20 parts of MMA, 2
- Charge 20 parts of HEMA and 144 parts of ethyl acetate, and after starting stirring, replace the system with nitrogen.
The temperature was raised to ℃. After adding 0.8 parts of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) (Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd. "V-65") and 7.3 parts of ethyl acetate,
After raising the temperature of the system to 65°C and stirring for 3 hours, 0.4 parts of V-65 and 7 parts of ethyl acetate were further added, and the mixture was stirred at 65°C for 3 hours. The temperature of the system was raised to 78° C., stirred for 2 hours, and then cooled to obtain a solution of compound (a-2) having no (meth)acryloyl group in the side chain and having a polyoxyalkylene structure. The composition of the reaction solution is a-2/ethyl acetate = 40/60 (weight ratio)
Met. The acryloyl group concentration of a-2 was 0 mmol/g.

((メタ)アクリル重合体(a-3)の製造)
(メタ)アクリル重合体(a-2)で、メトキシポリエチレングリコールメタクリレー
ト(日油社製「ブレンマーPME400」)をメトキシポリエチレングリコールメタクリ
レート(日油社製「ブレンマーPME1000」)に変更した以外は、同様の方法で合成
を実施し、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有さず、ポリオキシアルキレン構造を有する
化合物(a-3)の溶液を得た。反応液の組成はa-3/酢酸エチル=40/60(重量
比)であった。a-3のアクリロイル基濃度は、0mmol/gであった。
(Production of (meth)acrylic polymer (a-3))
(Meth)acrylic polymer (a-2) was the same except that methoxypolyethylene glycol methacrylate ("Blenmar PME400" manufactured by NOF Corporation) was changed to methoxypolyethylene glycol methacrylate ("Blenmar PME1000" manufactured by NOF Corporation). A solution of compound (a-3) having no (meth)acryloyl group in the side chain and having a polyoxyalkylene structure was obtained. The composition of the reaction solution was a-3/ethyl acetate = 40/60 (weight ratio). The acryloyl group concentration of a-3 was 0 mmol/g.

(ウレタン(メタ)アクリレート系組成物(B-1)の製造)
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた4つ口フラスコに、
イソホロンジイソシアネート6.6質量部と水酸基価50mgKOH/gのジペンタエリ
スリトールペンタエリスリトールとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物
94質量部、重合禁止剤として2,6-ジ-tert-ブチルクレゾール0.6質量部、
反応触媒としてジブチルスズジラウレート0.05質量部を仕込み、60℃で反応させ、
残存イソシアネート基が0.3%となった時点で反応を終了し、アクリロイル基濃度9.
3mmol/gのウレタンアクリレート系組成物(B-1)を得た。
得られたウレタン(メタ)アクリレート系組成物(B-1)の質量平均分子量は1,6
00、60℃での粘度は1,500mPa・sであった。
(Production of urethane (meth)acrylate composition (B-1))
In a four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, water-cooled condenser, and nitrogen gas inlet,
6.6 parts by mass of isophorone diisocyanate, 94 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol and dipentaerythritol hexaacrylate with a hydroxyl value of 50 mgKOH/g, and 0.6 parts by mass of 2,6-di-tert-butylcresol as a polymerization inhibitor. ,
0.05 parts by mass of dibutyltin dilaurate was added as a reaction catalyst, and the reaction was carried out at 60°C.
The reaction was terminated when the remaining isocyanate groups reached 0.3%, and the acryloyl group concentration was 9.
A 3 mmol/g urethane acrylate composition (B-1) was obtained.
The mass average molecular weight of the obtained urethane (meth)acrylate composition (B-1) was 1.6.
The viscosity at 0.00 and 60° C. was 1,500 mPa·s.

(ウレタン(メタ)アクリレート系組成物(B-2)の製造)
温度計、撹拌機及び水冷コンデンサーを備えた4つ口フラスコに、イソホロンジイソシ
アネート99.3質量部と2,6-ジ-tert-ブチルクレゾール1.5質量部、ジブ
チルスズジラウリレート0.1質量部を仕込み、60℃以下でジペンタエリスリトールペ
ンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(水酸基価51
.0mgKOH/g)590.0質量部を60℃で2時間反応させた。
反応開始後、残存イソシアネート基が2.2%となった時点でさらにポリエチレングリ
コール(数平均分子量993.1、エチレンオキサイド付加モル数22、水酸基価113
mgKOH/g)310.7質量部を55℃にて滴下し、60℃で4時間反応させて、残
存イソシアネート基が0.1%となった時点で反応を終了し、アクリロイル基濃度5.9
mmol/gのウレタン(メタ)アクリレートを含有する樹脂組成物(B-2)を得た。
得られたウレタン(メタ)アクリレート系組成物(B-2)の重量平均分子量は3,7
00、60℃での粘度は1,100mPa・sであった。
(Production of urethane (meth)acrylate composition (B-2))
In a four-neck flask equipped with a thermometer, stirrer, and water-cooled condenser, 99.3 parts by mass of isophorone diisocyanate, 1.5 parts by mass of 2,6-di-tert-butylcresol, and 0.1 part by mass of dibutyltin dilaurylate. A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (hydroxyl value 51
.. 0mgKOH/g) was reacted at 60°C for 2 hours.
After the start of the reaction, when the remaining isocyanate groups reached 2.2%, polyethylene glycol (number average molecular weight 993.1, number of moles of ethylene oxide added 22, hydroxyl value 113) was added.
310.7 parts by mass of mgKOH/g) was added dropwise at 55°C and reacted at 60°C for 4 hours. The reaction was terminated when the remaining isocyanate group reached 0.1%, and the acryloyl group concentration was 5.9.
A resin composition (B-2) containing mmol/g of urethane (meth)acrylate was obtained.
The weight average molecular weight of the obtained urethane (meth)acrylate composition (B-2) was 3.7.
The viscosity at 0.00 and 60° C. was 1,100 mPa·s.

<原料>
B-1およびB-2以外の(メタ)アクリル酸エステル(B)として、以下の原料を用
意した。
B-3:エトキシ化ジペンタエリスリトールポリアクリレート、製品名:NKエステル
A-DPH-12E(新中村化学工業社製)
B-4:アクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、製品名:BY
K-UV3500(BYK社製)
B-5:(メタ)アクリロイルオキシ基で表面修飾された一次粒子径10nm~15n
mのシリカ粒子、固形分46質量%のMEK分散液、製品名:MEK-AC-2140Z
(日産化学社製)
光重合開始剤(C-1)として、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシル)-フェニル
]-2-ヒドロキシ-メチルプロパノン (IGM Resins社製、「Omnira
d-2959」)、光重合開始剤(C-2)として、2-メチル-1-[4-(メチルチ
オ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン (IGM Resins社製、「
Omnirad-907」)、光重合開始剤(C-3)として、2,4,6-トリメチル
ベンゾイル-ジフェニルフォスフィンオキシド(IGM Resins社製、「Omni
rad-TPO」)を用意した。
<Raw materials>
The following raw materials were prepared as (meth)acrylic esters (B) other than B-1 and B-2.
B-3: Ethoxylated dipentaerythritol polyacrylate, product name: NK ester A-DPH-12E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
B-4: Polyether-modified polydimethylsiloxane with acrylic group, product name: BY
K-UV3500 (manufactured by BYK)
B-5: Primary particle diameter 10 nm to 15 nm surface modified with (meth)acryloyloxy group
m silica particles, MEK dispersion with a solid content of 46% by mass, product name: MEK-AC-2140Z
(Manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.)
As the photopolymerization initiator (C-1), 1-[4-(2-hydroxyethoxyl)-phenyl]-2-hydroxy-methylpropanone (manufactured by IGM Resins, “Omnira
d-2959''), 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one (manufactured by IGM Resins, ``
Omnirad-907"), 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide (manufactured by IGM Resins, "Omnirad-907"), and 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide (manufactured by IGM Resins, "Omnirad-907") as a photopolymerization initiator (C-3).
rad-TPO") was prepared.

<実施例1-1>
(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A-1)を含有する樹脂組成物100質量部
に対し、光重合開始剤(C-1)を4質量部混合し、混合物が40%の樹脂分となるよう
にメチルエチルケトン/プロピレングリコールモノメチルエーテル=50部/50部にて
希釈し、活性エネルギー線硬化型組成物を調製した。得られた活性エネルギー線硬化型組
成物を、易接着層を設けた厚み125μmのPETフィルム上にバーコーターを用いて乾
燥後の膜厚が5μmとなるように塗工し、80℃で1分間乾燥させた。その後、高圧水銀
灯ランプ80W、1灯を用いて、照度150mW/cm2、積算照射量400mJ/cm
2の条件にて紫外線を照射し、硬化塗膜を得た。硬化塗膜について、以下の評価を行った
。結果を表1に示す。
<Example 1-1>
4 parts by mass of a photopolymerization initiator (C-1) is mixed with 100 parts by mass of a resin composition containing (meth)acrylate (meth)acrylate (A-1), so that the mixture has a resin content of 40%. The mixture was diluted with 50 parts/50 parts of methyl ethyl ketone/propylene glycol monomethyl ether to prepare an active energy ray-curable composition. The obtained active energy ray-curable composition was coated onto a 125 μm thick PET film provided with an easily adhesive layer using a bar coater so that the film thickness after drying was 5 μm, and then heated at 80° C. for 1 minute. Dry. After that, using one 80W high-pressure mercury lamp, the illumination intensity was 150mW/cm2, and the cumulative irradiation amount was 400mJ/cm.
A cured coating film was obtained by irradiating ultraviolet rays under the conditions of 2. The cured coating film was evaluated as follows. The results are shown in Table 1.

(ハードコート(HC)性)
硬化塗膜を爪で引っかき、傷を確認した。
〇:爪で傷が入らない
△:爪で傷が入る
×:タック感が残り、HC性がない
(Hard coat (HC) property)
Scratches were checked by scratching the cured paint film with a fingernail.
〇: No scratches with nails △: Scratches with nails ×: Tackiness remains, no HC property

(細菌低付着性)
予め黄色ブドウ球菌(NBRC12732)、大腸菌(NBRC3972)を37℃で
一晩培養し、OD600が0.4~0.6の範囲内となるようにリン酸緩衝生理食塩水(
pH7.0)を用いて希釈培養液を調製した。硬化塗膜から3cm四方を切り出した試験
片を、TPP製細胞培養フラスコの内側に貼り付けた後、希釈培養液100mLを添加し
、37℃で1時間静置にて各種菌を付着させた。付着後、希釈培養液を吸引除去し、リン
酸緩衝生理食塩水(pH7.0)100mLにてフラスコの内側を3回洗浄した。フラス
コ内に残存する液滴を除去した後、イオン交換水にて先端の綿棒を湿らせたATP測定キ
ット(Kikkoman ルシパックA3 Surface)でフラスコの内側の壁面を
拭い、発光量(Relative Light Unit;RLU)により付着菌体量を
測定した。
<大腸菌>
S:RLUが100未満である。
A:RLUが100以上500未満である。
B:RLUが500以上1,000未満以下である。
C:RLUが1,000以上5,000未満である。
D:RLUが5,000以上である。
<黄色ブドウ球菌>
S:RLUが1,000未満である。
A:RLUが1,000以上5,000未満である。
B:RLUが5,000以上10,000未満以下である。
C:RLUが10,000以上50,000未満である。
D:RLUが50,000以上である。
(Low bacterial adhesion)
Staphylococcus aureus (NBRC12732) and Escherichia coli (NBRC3972) were cultured in advance at 37°C overnight, and then cultured in phosphate buffered saline (
(pH 7.0) to prepare a diluted culture solution. A 3 cm square test piece was cut out from the cured coating and was pasted on the inside of a TPP cell culture flask, 100 mL of diluted culture solution was added, and various bacteria were allowed to adhere to the test piece by allowing it to stand at 37°C for 1 hour. After attachment, the diluted culture solution was removed by suction, and the inside of the flask was washed three times with 100 mL of phosphate buffered saline (pH 7.0). After removing the droplets remaining in the flask, wipe the inner wall of the flask with an ATP measurement kit (Kikkoman Lucipak A3 Surface) with a cotton swab tip moistened with ion-exchanged water to measure the luminescence amount (Relative Light Unit; RLU). ) was used to measure the amount of attached bacterial cells.
<Escherichia coli>
S: RLU is less than 100.
A: RLU is 100 or more and less than 500.
B: RLU is 500 or more and less than 1,000.
C: RLU is 1,000 or more and less than 5,000.
D: RLU is 5,000 or more.
<Staphylococcus aureus>
S: RLU is less than 1,000.
A: RLU is 1,000 or more and less than 5,000.
B: RLU is 5,000 or more and less than 10,000.
C: RLU is 10,000 or more and less than 50,000.
D: RLU is 50,000 or more.

<実施例1-2~1-5>
(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A-1)の代わりに表1に記載のアクリル(
メタ)アクリレート(A-2~A-5)をそれぞれ使用した以外は、実施例1-1と同様
にして、活性エネルギー線硬化型組成物を調製し、硬化塗膜を得た。得られた硬化塗膜に
ついて、実施例1-1と同様にして評価した。
<Examples 1-2 to 1-5>
Instead of (meth)acrylic (meth)acrylate (A-1), the acrylics listed in Table 1 (
An active energy ray-curable composition was prepared and a cured coating film was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that each of the meth)acrylates (A-2 to A-5) was used. The obtained cured coating film was evaluated in the same manner as in Example 1-1.

<実施例1-6~1-12>
(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A-2)と(メタ)アクリル酸エステル(B
-1~B-6)を表1に記載の比率で配合した以外は、実施例1-1と同様にして、活性
エネルギー線硬化型組成物を調製し、硬化塗膜を得た。得られた硬化塗膜について、実施
例1-1と同様にして評価した。
<Examples 1-6 to 1-12>
(meth)acrylic (meth)acrylate (A-2) and (meth)acrylic acid ester (B)
An active energy ray-curable composition was prepared in the same manner as in Example 1-1, except that B-1 to B-6) were blended in the proportions shown in Table 1, and a cured coating film was obtained. The obtained cured coating film was evaluated in the same manner as in Example 1-1.

<実施例1-13~1-14>
実施例1-1において、光重合開始剤(C-1)の代わりに光重合開始剤(C-2、C
-3)を表1に記載した量だけ配合した以外は、実施例1-1と同様にして、活性エネル
ギー線硬化型組成物を調製し、硬化塗膜を得た。得られた硬化塗膜について、実施例1-
1と同様にして評価した。
<Examples 1-13 to 1-14>
In Example 1-1, photopolymerization initiators (C-2, C
An active energy ray-curable composition was prepared in the same manner as in Example 1-1, except that 3) was blended in the amount shown in Table 1, and a cured coating film was obtained. Regarding the obtained cured coating film, Example 1-
Evaluation was made in the same manner as in 1.

<比較例1-1~1-2>
(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A-1)を含有する樹脂組成物を使用せず、
(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A’-1)、(A’-2)をそれぞれ含有する
樹脂組成物を使用した以外は実施例1-1と同様にして、活性エネルギー線硬化型組成物
を調製した。得られた硬化塗膜について、実施例1-1と同様にして評価した。結果を表
1に示す。
<Comparative Examples 1-1 to 1-2>
Without using a resin composition containing (meth)acrylate (meth)acrylate (A-1),
An active energy ray-curable composition was prepared in the same manner as in Example 1-1 except that resin compositions containing (meth)acrylate (A'-1) and (A'-2) were used. was prepared. The obtained cured coating film was evaluated in the same manner as in Example 1-1. The results are shown in Table 1.

<実施例2-1>
実施例1-2で得られた硬化塗膜のエタノール拭取り試験前後の評価結果を表2に示す
<Example 2-1>
Table 2 shows the evaluation results of the cured coating film obtained in Example 1-2 before and after the ethanol wiping test.

<実施例2-2>
実施例1-2で得られた硬化塗膜の代わりに実施例1-3で得られた硬化塗膜を使用し
た以外は、実施例2-1と同様にして、活性エネルギー線硬化型組成物を調製し、硬化塗
膜を得た。得られた硬化塗膜について、実施例2-1と同様にして評価した。評価結果を
表2に示す。
<Example 2-2>
An active energy ray-curable composition was prepared in the same manner as in Example 2-1, except that the cured coating film obtained in Example 1-3 was used instead of the cured coating film obtained in Example 1-2. was prepared to obtain a cured coating film. The obtained cured coating film was evaluated in the same manner as in Example 2-1. The evaluation results are shown in Table 2.

<比較例2-1、2-2>
(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A-1)の代わりに表2に記載の(メタ)ア
クリル重合体(a-2)、(a-3)をそれぞれ使用した以外は、実施例1-1と同様に
して、活性エネルギー線硬化型組成物を調製し、硬化塗膜を得た。得られた硬化塗膜につ
いて、実施例2-1と同様にして評価した。評価結果を表2に示す。なお、比較例2-1
、2-2のサンプルは、ベタツキがあり、エタノール拭き前の試験は不可であった。
<Comparative Examples 2-1, 2-2>
Example 1-1 except that (meth)acrylic polymers (a-2) and (a-3) listed in Table 2 were used instead of (meth)acrylate (A-1), respectively. In the same manner as above, an active energy ray-curable composition was prepared, and a cured coating film was obtained. The obtained cured coating film was evaluated in the same manner as in Example 2-1. The evaluation results are shown in Table 2. In addition, Comparative Example 2-1
Samples 2-2 were sticky and could not be tested before wiping with ethanol.

Figure 2023145395000001
Figure 2023145395000001

Figure 2023145395000002
Figure 2023145395000002

以上説明した実施例1-1~1-14および実施例2-1~2-2の結果に示すように
、(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)を含有する活性エネルギー線硬化型組成
物により、細菌低付着性に優れ、エタノール拭取耐性を有する硬化塗膜が得られることを
確認した。
また、実施例1-1~1-14の活性エネルギー線硬化型組成物によれば、ハードコー
ト性にも優れる硬化塗膜が得られた。
一方、比較例1-1~1-2は、分子内にオキシアルキレン構造を有していない(メタ
)アクリル(メタ)アクリレートを含む活性エネルギー線硬化型組成物であるため、細菌
低付着性に優れなかった。
また、比較例2-1~2-2は、オキシアルキレン構造を有するものの、(メタ)アク
リロイル基を有していない(メタ)アクリレートを含む活性エネルギー線硬化型組成物で
あるため、エタノール拭き取り後における細菌低付着性に優れなかった。
As shown in the results of Examples 1-1 to 1-14 and Examples 2-1 to 2-2 described above, an active energy ray-curable composition containing (meth)acrylate (meth)acrylate (A) It was confirmed that a cured coating film with excellent low bacterial adhesion and ethanol wiping resistance could be obtained.
Further, according to the active energy ray-curable compositions of Examples 1-1 to 1-14, cured coating films with excellent hard coat properties were obtained.
On the other hand, Comparative Examples 1-1 and 1-2 are active energy ray-curable compositions containing (meth)acrylate (meth)acrylate that does not have an oxyalkylene structure in the molecule, so they have low bacterial adhesion. It wasn't great.
In addition, Comparative Examples 2-1 and 2-2 are active energy ray-curable compositions containing (meth)acrylate that has an oxyalkylene structure but does not have a (meth)acryloyl group, so after wiping with ethanol, It was not excellent in low bacterial adhesion.

Claims (6)

ポリオキシアルキレン構造の繰り返し数が2以上である(メタ)アクリル(メタ)アク
リレート(A)を含有し、
ATP測定時に、大腸菌の発光量が1,000以下であり、かつ黄色ブドウ球菌の発光量
が50,000以下であることを特徴とする、細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成
物。
Contains (meth)acrylic (meth)acrylate (A) whose polyoxyalkylene structure has a repeating number of 2 or more,
1. A low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition, characterized in that the amount of luminescence of Escherichia coli is 1,000 or less and the amount of luminescence of Staphylococcus aureus is 50,000 or less when measuring ATP.
前記ポリオキシアルキレン構造がポリオキシメチレン構造、ポリオキシエチレン構造、
ポリオキシプロピレン構造、ポリオキシテトラメチレン構造からなる群から選ばれる少な
くとも1種以上である、請求項1に記載の細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物。
The polyoxyalkylene structure is a polyoxymethylene structure, a polyoxyethylene structure,
The low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition according to claim 1, which has at least one member selected from the group consisting of a polyoxypropylene structure and a polyoxytetramethylene structure.
前記(メタ)アクリル(メタ)アクリレート(A)以外に(メタ)アクリル酸エステル
化合物(B)をさらに含有する、請求項1に記載の細菌低付着性活性エネルギー線硬化型
組成物。
The low-bacteria-adhesive active energy ray-curable composition according to claim 1, further comprising a (meth)acrylic acid ester compound (B) in addition to the (meth)acrylate (A).
光重合開始剤(C)をさらに含有する、請求項1に記載の細菌低付着性活性エネルギー
線硬化型組成物。
The low bacterial adhesion active energy ray-curable composition according to claim 1, further comprising a photopolymerization initiator (C).
請求項1~4のいずれか一項に記載の細菌低付着性活性エネルギー線硬化型組成物の硬
化塗膜。
A cured coating film of the low bacterial adhesion active energy ray-curable composition according to any one of claims 1 to 4.
基材の少なくとも一方の面に、請求項5に記載の硬化塗膜を有する積層体。 A laminate having the cured coating film according to claim 5 on at least one surface of a base material.
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