JP2023143658A - Space purifier - Google Patents

Space purifier Download PDF

Info

Publication number
JP2023143658A
JP2023143658A JP2022180783A JP2022180783A JP2023143658A JP 2023143658 A JP2023143658 A JP 2023143658A JP 2022180783 A JP2022180783 A JP 2022180783A JP 2022180783 A JP2022180783 A JP 2022180783A JP 2023143658 A JP2023143658 A JP 2023143658A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
aqueous solution
hypochlorous acid
section
bubbles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022180783A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
如水 岸本
Yukimi Kishimoto
将秀 福本
Masahide Fukumoto
伎朗 松本
Kio MATSUMOTO
拓也 和田
Takuya Wada
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2022047679A external-priority patent/JP7198987B1/en
Application filed by Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd filed Critical Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority to JP2022180783A priority Critical patent/JP2023143658A/en
Priority to PCT/JP2023/000430 priority patent/WO2023181590A1/en
Publication of JP2023143658A publication Critical patent/JP2023143658A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61LMETHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L9/00Disinfection, sterilisation or deodorisation of air
    • A61L9/015Disinfection, sterilisation or deodorisation of air using gaseous or vaporous substances, e.g. ozone
    • A61L9/04Disinfection, sterilisation or deodorisation of air using gaseous or vaporous substances, e.g. ozone using substances evaporated in the air without heating
    • A61L9/12Apparatus, e.g. holders, therefor
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61LMETHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L9/00Disinfection, sterilisation or deodorisation of air
    • A61L9/16Disinfection, sterilisation or deodorisation of air using physical phenomena
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F8/00Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying
    • F24F8/20Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by sterilisation
    • F24F8/24Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by sterilisation using sterilising media
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F8/00Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying
    • F24F8/80Self-contained air purifiers

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)

Abstract

To provide a technology that improves a hypochlorite gas concentration contained in an air bubble in a space purifier according to a bubbling method.SOLUTION: A space purifier 2 is provided with a storage section 5 that stores a hypochlorite aqueous solution 6 and an air supply portion 7 that is provided by immersing in the hypochlorite aqueous solution 6 and discharges air 3a taken in from the outside (private room space 1) as an air bubble 8 in the hypochlorite aqueous solution 6. The air supply section 7 discharges air bubble into the hypochlorite aqueous solution 6 stored by the storage portion 5 while mixing the hypochlorite aqueous solution 6 taken into the interior from the storage section 5 with the air 3a taken in from the outside (private room space 1).SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、個室空間などの除菌に用いられる空間浄化装置に関するものである。 The present invention relates to a space purification device used for disinfecting a private room space.

従来、居住空間などを除菌し、感染症のリスクを低減させる装置として、次亜塩素酸を含む水溶液(例えば、次亜塩素酸水)中に空気をバブリングして気泡を発生させ、浮上した気泡に含まれる次亜塩素酸ガスを空気とともに対象空間に放出する空気調和機(空間浄化装置)が知られている(例えば、特許文献1参照)。 Traditionally, devices have been used to sterilize living spaces and reduce the risk of infectious diseases by bubbling air into an aqueous solution containing hypochlorous acid (e.g., hypochlorous acid water) to generate bubbles that float to the surface. BACKGROUND ART An air conditioner (space purification device) that releases hypochlorous acid gas contained in bubbles into a target space together with air is known (for example, see Patent Document 1).

特開2005-305100号公報Japanese Patent Application Publication No. 2005-305100

しかしながら、バブリング方式による従来の空間浄化装置では、発生した気泡が浮力によって液面に向かって浮上する過程で気泡内に除菌成分を含んだガスを取り込むため、除菌成分を含んだ水溶液との十分な気液接触時間が確保できない場合には、必要な除菌成分ガス濃度の確保が難しいという課題があった。 However, in conventional space purification devices using the bubbling method, gas containing sterilizing components is taken into the bubbles as they rise toward the liquid surface due to buoyancy. If sufficient gas-liquid contact time cannot be secured, there is a problem in that it is difficult to secure the necessary sterilization component gas concentration.

そこで本発明は、上記従来の課題を解決するものであり、バブリング方式による空間浄化装置において、気泡に含ませる除菌成分ガス濃度を向上させる技術を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is intended to solve the above-mentioned conventional problems, and aims to provide a technology for improving the concentration of a sterilizing component gas contained in bubbles in a space purification device using a bubbling method.

そして、この目的を達成するために、本発明に係る空間浄化装置は、除菌成分を含む水溶液を貯留する貯留部と、外部から取り込んだ空気を気泡として除菌成分を含む水溶液中に放出する空気供給部と、を備える。空気供給部は、貯留部に浸漬された溶液吸込口を介して貯留部から内部に取り込んだ除菌成分を含む水溶液と、外部から取り込んだ空気とを混合しながら、貯留部が貯留する除菌成分を含む水溶液中に気泡を放出する際、貯留部において溶液吸込口が配置された領域から離れていく方向に気泡を流通させるものであり、これにより所期の目的を達成するものである。 In order to achieve this objective, the space purification device according to the present invention includes a storage part that stores an aqueous solution containing a sterilizing component, and a storage section that stores air taken in from the outside as bubbles and releases it into the aqueous solution containing a sterilizing component. An air supply section. The air supply section mixes an aqueous solution containing a sterilizing component taken into the interior from the storage section through a solution suction port immersed in the storage section with air taken in from the outside, and the sterilization that the storage section stores. When releasing air bubbles into an aqueous solution containing components, the air bubbles are caused to flow in a direction away from the area where the solution suction port is arranged in the storage part, thereby achieving the intended purpose.

本発明によれば、バブリング方式による空間浄化装置において、気泡に含ませる除菌成分ガス濃度を向上させることができる。 According to the present invention, in the space purification device using the bubbling method, it is possible to improve the concentration of the sterilizing component gas contained in the bubbles.

図1は、本発明の実施の形態1に係る空間浄化装置の個室空間への設置例を示す概略側面図である。FIG. 1 is a schematic side view showing an example of installing a space purification device in a private room space according to Embodiment 1 of the present invention. 図2は、空間浄化装置の構成を示す概略側面図である。FIG. 2 is a schematic side view showing the configuration of the space purification device. 図3は、空間浄化装置の構成を示す概略透過正面図である。FIG. 3 is a schematic transparent front view showing the configuration of the space purification device. 図4は、本発明の実施の形態2に係る空間浄化装置の構成を示す概略側面図である。FIG. 4 is a schematic side view showing the configuration of a space purification device according to Embodiment 2 of the present invention. 図5は、本発明の実施の形態3に係る空間浄化装置の構成を示す概略側面図である。FIG. 5 is a schematic side view showing the configuration of a space purification device according to Embodiment 3 of the present invention. 図6は、空間浄化装置の構成を示す概略透過正面図である。FIG. 6 is a schematic transparent front view showing the configuration of the space purification device.

本発明に係る空間浄化装置は、除菌成分を含む水溶液を貯留する貯留部と、除菌成分を含む水溶液に浸漬して設けられ、外部から取り込んだ空気を気泡として除菌成分を含む水溶液中に放出する空気供給部と、を備える。空気供給部は、貯留部から内部に取り込んだ除菌成分を含む水溶液と、外部から取り込んだ空気とを混合しながら、貯留部が貯留する除菌成分を含む水溶液中に気泡を放出する。 The space purification device according to the present invention includes a storage part that stores an aqueous solution containing a sterilizing component, and is provided by being immersed in the aqueous solution containing a sterilizing component, and air taken in from the outside is used as bubbles in the aqueous solution containing the sterilizing component. and an air supply section for discharging air to the air. The air supply section mixes the aqueous solution containing the sterilizing component taken into the interior from the storage section with the air taken in from the outside, and releases air bubbles into the aqueous solution containing the sterilizing component stored in the storage section.

こうした構成によれば、空気供給部の内部において除菌成分を含む水溶液と空気とを混合する過程で、空気内に一定程度の除菌成分ガスを含ませることができる。これにより、気泡には、空気供給部の内部で取り込まれる除菌成分ガスと、気泡が除菌成分を含む水溶液中を浮上する過程で気泡内に取り込まれる除菌成分ガスとを含ませることができる。この結果、気泡が液面に達した際に、気泡から放出される除菌成分ガスの濃度を増加させることができる。つまり、空間浄化装置は、気泡に含ませる除菌成分ガス濃度を向上させることができ、より高濃度の除菌成分ガスを外部に供給することができる。 According to this configuration, in the process of mixing an aqueous solution containing a sterilizing component with air inside the air supply section, a certain amount of sterilizing component gas can be included in the air. This allows the bubbles to contain the sterilizing component gas that is taken in inside the air supply section and the sterilizing component gas that is taken into the bubbles during the process of the bubbles floating in the aqueous solution containing the sterilizing component. can. As a result, when the bubbles reach the liquid surface, the concentration of the sterilizing component gas released from the bubbles can be increased. In other words, the space purification device can improve the concentration of the sterilizing component gas contained in the bubbles, and can supply a higher concentration of the sterilizing component gas to the outside.

また、本発明に係る空間浄化装置では、空気供給部は、貯留部から内部に除菌成分を含む水溶液を取り込む溶液吸込口と、外部から内部に空気を取り込む空気吸込口と、溶液吸込口から取り込んだ除菌成分を含む水溶液と空気吸込口から取り込んだ空気とを混合した状態で吐出する吐出部と、を備え、吐出部は、気泡を鉛直方向下方に向けて放出することが好ましい。これにより、吐出部から放出された気泡は、除菌成分を含む水溶液中を少なくとも鉛直方向下方に向けて下降し、その後液面に向けて浮上していくので、気泡が除菌成分を含む水溶液中を流通する時間が長くなり、気泡に取り込まれる除菌成分ガスがさらに増加する。この結果、気泡が液面に達した際に、気泡から放出される除菌成分ガスの濃度をさらに増加させることができる。 Furthermore, in the space purification device according to the present invention, the air supply section includes a solution suction port that takes an aqueous solution containing a sterilizing component into the inside from the storage section, an air suction port that takes air into the inside from the outside, and a solution suction port that takes air from the outside into the inside. It is preferable to include a discharge part that discharges a mixed state of the aqueous solution containing the taken-in sterilizing component and the air taken in from the air suction port, and the discharge part discharges bubbles vertically downward. As a result, the air bubbles released from the discharge part descend at least vertically downward in the aqueous solution containing the sterilizing component, and then rise to the surface of the liquid, so that the bubbles are removed from the aqueous solution containing the sterilizing component. The time it takes to circulate inside becomes longer, and the amount of sterilizing component gas taken into the bubbles further increases. As a result, when the bubbles reach the liquid surface, the concentration of the sterilizing component gas released from the bubbles can be further increased.

また、本発明に係る空間浄化装置では、貯留部は、貯留部の底部から鉛直方向上方に延伸して設けられた仕切板を有し、仕切板は、溶液吸込口が配置され、溶液吸込口から除菌成分を含む水溶液を取り込む第一領域と、吐出部が配置され、吐出部から放出された気泡が流通する第二領域とに、貯留部を区分することが好ましい。これにより、第二領域において吐出部から放出された気泡が、仕切板によって、第一領域の溶液吸込口に吸い込まれるのを抑制することができる。この結果、気泡を含む除菌成分を含む水溶液が溶液吸込口から取り込まれることに起因する異音の発生が抑制される。つまり、空間浄化装置は、騒音を抑制しつつ、より高濃度の除菌成分ガスを外部に供給することができる。 Further, in the space purification device according to the present invention, the storage section has a partition plate extending vertically upward from the bottom of the storage section, and the partition plate has a solution suction port arranged therein, and a solution suction port. It is preferable that the storage section is divided into a first region that takes in an aqueous solution containing a sterilizing component from the reservoir, and a second region where a discharge section is disposed and through which air bubbles released from the discharge section flow. Thereby, the air bubbles discharged from the discharge part in the second region can be prevented from being sucked into the solution suction port in the first region by the partition plate. As a result, the generation of abnormal noise caused by the aqueous solution containing the sterilizing component containing air bubbles being taken in from the solution suction port is suppressed. In other words, the space purification device can supply a higher concentration of sterilization component gas to the outside while suppressing noise.

また、本発明に係る空間浄化装置では、仕切板は、第二領域側が順テーパ形状を有して構成され、吐出部は、順テーパ形状部分に吹き付けるように気泡を放出することが好ましい。これにより、吐出部から鉛直方向下方に放出された気泡は、順テーパ形状部分に沿って向きを変えて略水平方向に流通するようになるので、気泡が除菌成分を含む水溶液中を流通する時間がさらに長くなり、気泡に取り込まれる除菌成分ガスをさらに増加させることができる。 Further, in the space purification device according to the present invention, it is preferable that the partition plate has a forward tapered shape on the second region side, and that the discharge portion discharges the bubbles so as to spray the bubbles onto the forward tapered portion. As a result, the air bubbles discharged vertically downward from the discharge part change direction along the forward tapered portion and flow approximately horizontally, so that the air bubbles flow through the aqueous solution containing the sterilizing component. The time becomes longer, and the amount of sterilizing component gas taken into the bubbles can be further increased.

また、本発明に係る空間浄化装置では、空気供給部は、吐出部の先端に設けられ、吐出部から鉛直方向下方に向けて放出された気泡の流通方向を調整する流向調整板をさらに備える。流向調整板は、溶液吸込口が配置された領域とは流向調整板を挟んで反対側の領域の方向に気泡の流通方向を変化させることが好ましい。これにより、吐出部から放出された気泡は、流向調整板によって溶液吸込口が配置された領域と反対側の領域の方向に流通するので、気泡が溶液吸込口に吸込まれるのを抑制することができる。この結果、気泡を含む除菌成分を含む水溶液が溶液吸込口から取り込まれることに起因する異音の発生が抑制される。つまり、空間浄化装置は、騒音を抑制しつつ、より高濃度の除菌成分ガスを外
部に供給することができる。
Furthermore, in the space purification device according to the present invention, the air supply section further includes a flow direction adjustment plate that is provided at the tip of the discharge section and adjusts the flow direction of the air bubbles discharged vertically downward from the discharge section. It is preferable that the flow direction adjustment plate changes the flow direction of the bubbles toward a region on the opposite side of the flow direction adjustment plate from the region where the solution suction port is arranged. As a result, the air bubbles discharged from the discharge part flow in the direction of the area opposite to the area where the solution suction port is arranged by the flow direction adjusting plate, so that air bubbles are suppressed from being sucked into the solution suction port. I can do it. As a result, the generation of abnormal noise caused by the aqueous solution containing the sterilizing component containing air bubbles being taken in from the solution suction port is suppressed. In other words, the space purification device can supply a higher concentration of sterilization component gas to the outside while suppressing noise.

また、本発明に係る空間浄化装置では、除菌成分を含む水溶液を所定濃度に調整する除菌水生成部を備えてもよい。このようにすることで、除菌成分を含む水溶液の濃度コントロールが容易となるので、除菌成分を含む水溶液の濃度を安定化させることができる。つまり、空間浄化装置は、より高濃度の除菌成分ガスを安定して外部に放出することができる。 Further, the space purification device according to the present invention may include a sterilizing water generation unit that adjusts an aqueous solution containing a sterilizing component to a predetermined concentration. By doing so, the concentration of the aqueous solution containing the sterilizing component can be easily controlled, so that the concentration of the aqueous solution containing the sterilizing component can be stabilized. In other words, the space purification device can stably release a higher concentration of sterilizing component gas to the outside.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施の形態は、本発明を具体化した一例であって、本発明の技術的範囲を限定するものではない。また、実施形態において説明する各図は、模式的な図であり、各図中の各構成要素の大きさ及び厚さそれぞれの比が、必ずしも実際の寸法比を反映しているとは限らない。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Note that the following embodiments are examples of embodying the present invention, and do not limit the technical scope of the present invention. Furthermore, each figure described in the embodiments is a schematic diagram, and the ratio of the size and thickness of each component in each figure does not necessarily reflect the actual size ratio. .

(実施の形態1)
まず、図1~図3を参照して、本実施の形態1に係る空間浄化装置2の概略について説明する。図1は、本発明の実施の形態1に係る空間浄化装置2の個室空間1への設置例を示す概略側面図である。図2は、空間浄化装置2の構成を示す概略側面図である。図3は、空間浄化装置2の構成を示す概略透過正面図である。
(Embodiment 1)
First, an outline of the space purification device 2 according to the first embodiment will be explained with reference to FIGS. 1 to 3. FIG. 1 is a schematic side view showing an example of installing a space purification device 2 in a private room space 1 according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 2 is a schematic side view showing the configuration of the space purification device 2. As shown in FIG. FIG. 3 is a schematic transparent front view showing the configuration of the space purification device 2. As shown in FIG.

図1に示す通り、空間浄化装置2は、個室空間1の壁面の所定の高さの位置に設置される。空間浄化装置2は、個室空間1の空気3を取り込み、取り込んだ空気3(図2に示す空気3a)に次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)を付加して、同じく取り込んだ空気3(図2に示す空気3b)と混合して次亜塩素酸を含む空気4として個室空間1に放出する。その結果、放出された空気4(次亜塩素酸を含む空気4)により個室空間1が除菌される。つまり、空間浄化装置2は、個室空間1に次亜塩素酸を放出して除菌する装置と言える。なお、空間浄化装置2は、外部電源との接続ができるのであれば、個室空間1での設置場所に制約を受けない。 As shown in FIG. 1, the space purification device 2 is installed at a predetermined height on the wall surface of the private room space 1. The space purification device 2 takes in the air 3 in the private room space 1, adds hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) to the taken in air 3 (air 3a shown in FIG. 2), and converts the taken in air 3 ( It is mixed with air 3b) shown in FIG. 2 and released into the private room space 1 as air 4 containing hypochlorous acid. As a result, the private room space 1 is sterilized by the released air 4 (air 4 containing hypochlorous acid). In other words, the space purification device 2 can be said to be a device that releases hypochlorous acid into the private room space 1 to sterilize it. Note that the space purification device 2 is not restricted in its installation location in the private room space 1 as long as it can be connected to an external power source.

個室空間1は、利用者が日常生活で使用する空間であり、壁及び扉などの構造体によって構成される。個室空間1内には、テーブルあるいは椅子が設置されていてもよい。また、個室空間1内の空調(冷房、暖房)を行う空調機などが設置されていてもよい。 The private room space 1 is a space used by users in their daily lives, and is composed of structures such as walls and doors. A table or chairs may be installed in the private room space 1. Furthermore, an air conditioner or the like that performs air conditioning (cooling, heating) in the private room space 1 may be installed.

空気3は、個室空間1から空間浄化装置2に取り込まれる空気である。図1の矢印は、空気3の主な流れを示す。図2に示す通り、空気3は、空間浄化装置2に導入された後、空気3aと空気3bとに分離される。詳細は後述するが、空気3aは、空気供給部7に吸い込まれ、次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)が付加される空気であり、空気3bは、空気供給部7に吸い込まれずに内部風路24を通過し、混合部21において次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)が付加された空気3cに混合される空気である。 Air 3 is air taken into the space purification device 2 from the private room space 1. The arrows in FIG. 1 indicate the main flows of air 3. As shown in FIG. 2, after the air 3 is introduced into the space purification device 2, it is separated into air 3a and air 3b. Although the details will be described later, air 3a is air that is sucked into the air supply section 7 and hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) is added thereto, and air 3b is air that is not sucked into the air supply section 7 but internally. This air passes through the air passage 24 and is mixed with the air 3c to which hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) has been added in the mixing section 21.

空気4は、空間浄化装置2から個室空間1に吹き出される空気である。図1の矢印は、空気4の主な流れを示す。詳細は後述するが、空気4には、空間浄化装置2の内部において発生させる次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)が含まれている。 Air 4 is air blown out from space purification device 2 into private room space 1 . The arrows in FIG. 1 indicate the main flows of air 4. Although details will be described later, the air 4 contains hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) generated inside the space purification device 2.

次に、空間浄化装置2の具体的な構成について説明する。 Next, a specific configuration of the space purification device 2 will be explained.

図2に示す通り、空間浄化装置2は、風路部17、貯留部5、空気供給部7、空気放出部9、空気供給部保持部12、次亜塩素酸水溶液供給部13を有して構成される。 As shown in FIG. 2, the space purification device 2 includes an air passage section 17, a storage section 5, an air supply section 7, an air discharge section 9, an air supply section holding section 12, and a hypochlorous acid aqueous solution supply section 13. configured.

風路部17は、空気放出部9から供給される次亜塩素酸ガスを含む空気3cと、外気吸込部18から取り込んだ空気3のうち内部風路24を通過した空気3bとを混合して空気
4として放出する部材である。風路部17は、空気放出部9の上面に設置される。風路部17の下面には、空気放出部9と連通接続する開口部が設けられる。これにより、空気放出部9からの空気3cが風路部17内に供給される。なお、風路部17は、空間浄化装置2の外枠を構成する筐体の一部とも言える。
The air passage section 17 mixes air 3c containing hypochlorous acid gas supplied from the air discharge section 9 with air 3b that has passed through the internal air passage 24 out of the air 3 taken in from the outside air suction section 18. This is a member that emits air 4. The air passage section 17 is installed on the upper surface of the air discharge section 9. An opening that communicates with the air discharge section 9 is provided on the lower surface of the air passage section 17 . As a result, the air 3c from the air discharge section 9 is supplied into the air passage section 17. Note that the air passage section 17 can also be said to be a part of the casing that constitutes the outer frame of the space purification device 2.

より詳細には、風路部17は、外気吸込部18、吹出部19、混合部21、送風部22、及びフィルタ部23を有して構成される。 More specifically, the air passage section 17 includes an outside air suction section 18 , a blowout section 19 , a mixing section 21 , an air blowing section 22 , and a filter section 23 .

外気吸込部18は、風路部17が外部と連通する開口部であり、外部(個室空間1)の空気3を空間浄化装置2の内部に取り込むための取込口である。外気吸込部18は、風路部17の上面に形成される円形状の複数の孔または複数のスリットなどによって構成される。 The outside air suction part 18 is an opening through which the air passage part 17 communicates with the outside, and is an intake port for taking in the air 3 from the outside (the private room space 1 ) into the space purifying device 2 . The outside air suction section 18 is configured by a plurality of circular holes or a plurality of slits formed on the upper surface of the air passage section 17 .

吹出部19は、風路部17が外部と連通する開口部であり、次亜塩素酸ガスを含む空気4を空間浄化装置2から個室空間1に吹き出すための部材である。具体的には、吹出部19は、吹出口19a及び吹出方向フード19bを有して構成される。吹出口19aは、風路部17内から次亜塩素酸ガスを含む空気4が流出する開口であり、風路部17の上面に形成される円形状の複数の孔または複数のスリットなどによって構成される。吹出方向フード19bは、吹出口19a全体を覆うように設置された金属製のエアフードである。吹出方向フード19bは、吹出口19aから吹き出す空気4の吹出方向を、空間浄化装置2の一方向(外気吸込部18と逆側)へと向けるものである。これにより、吹出部19から吹き出す空気4が、外気吸込部18に吸い込まれる空気3と混合しないようにしている。 The blowout section 19 is an opening through which the air passage section 17 communicates with the outside, and is a member for blowing out the air 4 containing hypochlorous acid gas from the space purification device 2 into the private room space 1 . Specifically, the blowing section 19 includes a blowing outlet 19a and a blowing direction hood 19b. The air outlet 19a is an opening through which air 4 containing hypochlorous acid gas flows out from inside the air passage part 17, and is formed by a plurality of circular holes or a plurality of slits formed on the upper surface of the air passage part 17. be done. The blowout direction hood 19b is a metal air hood installed so as to cover the entire blowout port 19a. The blowing direction hood 19b directs the blowing direction of the air 4 blown out from the blowing outlet 19a toward one direction of the space purifying device 2 (the opposite side to the outside air suction section 18). This prevents the air 4 blown out from the blowout section 19 from mixing with the air 3 sucked into the outside air suction section 18 .

外気吸込部18と吹出部19とは、風路部17の内部風路24によって連通接続されている。そして、内部風路24には、空気放出部9が連通接続されている。 The outside air suction section 18 and the blowout section 19 are connected to each other by an internal air passage 24 of the air passage section 17 . An air discharge section 9 is connected to the internal air passage 24 .

混合部21は、空気放出部9から供給される次亜塩素酸ガスを含む空気3cと、外気吸込部18から取り込んだ空気3のうち内部風路24を通過する空気3bとを混合する空間である。混合部21は、内部風路24の一部であり、内部風路24における空気3cと空気3bが合流する空間とも言える。混合部21にて混合された次亜塩素酸ガスを含む空気は、風路部17を通じて、空気4として吹出部19から個室空間1に吹き出される。 The mixing part 21 is a space in which air 3c containing hypochlorous acid gas supplied from the air discharge part 9 and air 3b passing through the internal air passage 24 out of the air 3 taken in from the outside air suction part 18 are mixed. be. The mixing part 21 is a part of the internal air passage 24, and can also be said to be a space where the air 3c and the air 3b in the internal air passage 24 merge. The air containing hypochlorous acid gas mixed in the mixing part 21 is blown out as air 4 from the blowing part 19 into the private room space 1 through the air passage part 17 .

送風部22は、風路部17に空気を流通させるための送風ファンであり、風路部17の内部風路24に配置される。送風部22を動作することで、外気吸込部18から空気3を取り込み、混合部21にて外気吸込部18から取り込んだ空気3のうち内部風路24を通過した空気3bと空気放出部9から供給された空気3cとを混合し、吹出部19から空気4として吹き出すことができる。 The blower section 22 is a blower fan for circulating air through the air path section 17 , and is arranged in the internal air path 24 of the air path section 17 . By operating the ventilation section 22, air 3 is taken in from the outside air suction section 18, and in the mixing section 21, out of the air 3 taken in from the outside air suction section 18, air 3b that has passed through the internal air passage 24 and from the air discharge section 9 are mixed. It can be mixed with the supplied air 3c and blown out as air 4 from the blowing section 19.

フィルタ部23は、外気吸込部18から取り込んだ空気3の汚れあるいは異物を取り除くためのフィルタであり、内部風路24における外気吸込部18の近傍に配置される。 The filter section 23 is a filter for removing dirt or foreign matter from the air 3 taken in from the outside air suction section 18 , and is arranged near the outside air suction section 18 in the internal air passage 24 .

貯留部5は、内部に次亜塩素酸水溶液6を貯留する容器である。貯留部5は、四角柱状の形状を有しており、貯留部5の外形寸法は、例えば、幅200mm、奥行き100mm、高さ115mmである。なお、貯留部5は、空間浄化装置2の外枠を構成する筐体の一部とも言える。貯留部5の内部には、貯留する次亜塩素酸水溶液6に浸漬された状態で空気供給部7が設置されるとともに、水位センサ16(満水センサ16a及び渇水センサ16b)が設置される。貯留部5の上面には、空気放出部9と連通接続するための開口部(図示せず)が設けられ、開口部を覆うように空気放出部9が設置される。貯留部5の上部には、貯留する次亜塩素酸水溶液6の液面6aと空気放出部9の下面との間に内部空間11が形成される。貯留部5の側面には、次亜塩素酸水溶液供給部13が設置される。なお
、特に図示しないが、貯留部5には、市水給水用の開口が設けられており、貯留部5が渇水となった際に、直接市水を給水できるように構成されている。
The storage section 5 is a container that stores an aqueous hypochlorous acid solution 6 inside. The storage section 5 has a quadrangular prism shape, and the external dimensions of the storage section 5 are, for example, a width of 200 mm, a depth of 100 mm, and a height of 115 mm. Note that the storage section 5 can also be said to be a part of the casing that constitutes the outer frame of the space purification device 2. Inside the storage section 5, an air supply section 7 is installed while being immersed in the stored hypochlorous acid aqueous solution 6, and a water level sensor 16 (full water sensor 16a and low water sensor 16b) is installed. An opening (not shown) for communication and connection with the air discharge section 9 is provided on the upper surface of the storage section 5, and the air discharge section 9 is installed so as to cover the opening. An internal space 11 is formed in the upper part of the storage part 5 between the liquid surface 6a of the stored hypochlorous acid aqueous solution 6 and the lower surface of the air discharge part 9. A hypochlorous acid aqueous solution supply section 13 is installed on the side surface of the storage section 5 . Although not particularly shown, the storage section 5 is provided with an opening for supplying city water, and is configured so that city water can be directly supplied when the storage section 5 is in a drought.

より詳細には、貯留部5は、貯留部5の底部5cから鉛直方向上方に延伸して設けられた仕切板25を有している。詳細は後述するが、仕切板25は、空気放出部9が次亜塩素酸水溶液6を取り込む第一領域5aと、空気放出部9から放出された気泡8が流通する第二領域5bとに、貯留部5を区分する部材である。 More specifically, the storage section 5 includes a partition plate 25 extending vertically upward from the bottom 5c of the storage section 5. Although the details will be described later, the partition plate 25 has a first area 5a where the air release part 9 takes in the hypochlorous acid aqueous solution 6, and a second area 5b where the air bubbles 8 released from the air release part 9 circulate. This is a member that divides the storage section 5.

第一領域5aは、貯留部5内において空気供給部7が次亜塩素酸水溶液6を吸い込む領域である。より詳細には、第一領域5aは、後述する空気供給部7の溶液吸込口7aが配置され、溶液吸込口7aから次亜塩素酸水溶液6を取り込む領域であり、「吸込領域」とも呼ぶ。 The first region 5 a is a region in the storage section 5 where the air supply section 7 sucks the hypochlorous acid aqueous solution 6 . More specifically, the first region 5a is a region where a solution suction port 7a of an air supply unit 7, which will be described later, is arranged and takes in the hypochlorous acid aqueous solution 6 from the solution suction port 7a, and is also referred to as a "suction region."

第二領域5bは、貯留部5内において空気供給部7から放出された気泡8が流通する領域である。より詳細には、第二領域5bは、後述する空気供給部7の吐出部7dが配置され、吐出部7dから放出された気泡8が次亜塩素酸水溶液6の液面6aに向けて浮上する際に流通する領域であり、「吐出領域」とも呼ぶ。 The second region 5b is a region in which the air bubbles 8 released from the air supply section 7 circulate within the storage section 5. More specifically, in the second region 5b, a discharge section 7d of the air supply section 7, which will be described later, is arranged, and air bubbles 8 released from the discharge section 7d float toward the liquid surface 6a of the hypochlorous acid aqueous solution 6. This is the area where the liquid flows, and is also called the "discharge area."

底部5cは、貯留部5の底面を指し、仕切板25が設けられている。 The bottom portion 5c refers to the bottom surface of the storage portion 5, and a partition plate 25 is provided thereon.

仕切板25は、第一領域5aと第二領域5bとを区分するために、貯留部5の底部5cから鉛直方向上方に延伸して設けられた突起である。仕切板25は、溶液吸込口7aを設置する領域と、吐出部7dを設置する領域とを区分する突起とも言える。仕切板25は、図3に示すように、貯留部5の一方の側面から対向する他方の側面まで延伸されて設置される。なお、仕切板25は、2つの領域(第一領域5a及び第二領域5b)を完全に分離するものではなく、貯留部5の上方側において2つの領域間での次亜塩素酸水溶液6の移動は可能となっている。 The partition plate 25 is a protrusion extending vertically upward from the bottom 5c of the storage section 5 to separate the first region 5a and the second region 5b. The partition plate 25 can also be said to be a protrusion that separates an area where the solution suction port 7a is installed and an area where the discharge part 7d is installed. As shown in FIG. 3, the partition plate 25 is installed so as to extend from one side surface of the storage section 5 to the other opposing side surface. Note that the partition plate 25 does not completely separate the two regions (the first region 5a and the second region 5b), and the hypochlorous acid aqueous solution 6 is separated between the two regions on the upper side of the storage section 5. Movement is possible.

仕切板25は、貯留部5の底部5c側から鉛直方向上方に向かって突起幅が細くなる順テーパ形状(第一テーパ部25a及び第二テーパ部25b)を有して構成される。第一テーパ部25aは、仕切板25の第一領域5a側のテーパ形状を指し、第二テーパ部25bは、仕切板25の第二領域5b側のテーパ形状を指す。 The partition plate 25 is configured to have a forward tapered shape (a first tapered portion 25a and a second tapered portion 25b) in which the protrusion width becomes narrower vertically upward from the bottom 5c side of the storage portion 5. The first tapered portion 25a refers to the tapered shape of the partition plate 25 on the first region 5a side, and the second taper portion 25b refers to the tapered shape of the partition plate 25 on the second region 5b side.

第一テーパ部25a及び第二テーパ部25bはいずれも、仕切板25の頂点から底部5cにかけて、底部5cの方向に湾曲している。詳細は後述するが、第二テーパ部25bでは、吐出部7dから吐出された気泡8を湾曲したテーパ形状に沿わせるようにして、気泡8を第一領域5aとは逆の方向に流通させている。 Both the first tapered part 25a and the second tapered part 25b are curved in the direction of the bottom 5c from the apex of the partition plate 25 to the bottom 5c. Although details will be described later, in the second tapered part 25b, the bubbles 8 discharged from the discharge part 7d are made to flow in the opposite direction to the first region 5a so as to follow the curved taper shape. There is.

内部空間11は、貯留部5内において、次亜塩素酸水溶液6の液面6aの上方に生じる空気領域であり、貯留部5の全面に亘って形成される。内部空間11は、貯留部5が次亜塩素酸水溶液6によって満水状態となっても、次亜塩素酸水溶液6の液面6aの上方に形成される。内部空間11では、次亜塩素酸水溶液6中を浮上してきた気泡8が弾けて次亜塩素酸ガスを放出し、次亜塩素酸ガスを含む空気3cとなる。 The internal space 11 is an air region that occurs above the liquid level 6a of the hypochlorous acid aqueous solution 6 in the storage section 5, and is formed over the entire surface of the storage section 5. The internal space 11 is formed above the liquid level 6a of the hypochlorous acid aqueous solution 6 even when the storage section 5 is filled with the hypochlorous acid aqueous solution 6. In the internal space 11, the bubbles 8 floating in the hypochlorous acid aqueous solution 6 burst and release hypochlorous acid gas, becoming air 3c containing hypochlorous acid gas.

次亜塩素酸水溶液6は、後述する高濃度次亜塩素酸水溶液15を希釈して生成される次亜塩素酸を含んだ水溶液(次亜塩素酸水とも呼ぶ)である。次亜塩素酸水溶液6は、後述する空気供給部7から供給される気泡8が浮力により液中を流通する過程で、気泡8の内部に次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)を含ませる役割を有する。このため、次亜塩素酸水溶液6の濃度を増減させることで、気泡8に含ませる次亜塩素酸の量を増減させることができる。また、次亜塩素酸水溶液6の水素イオン濃度(pH)を5~7程度にすることで、
次亜塩素酸水溶液6から次亜塩素酸が気化しやすくなり、気泡8に含ませる次亜塩素酸の量を増加させることができる。また、気泡8が浮力により上昇する距離(気泡8が次亜塩素酸水溶液6中を流通する距離)を増加させ、次亜塩素酸水溶液6と気泡8の接触時間を増加させることで、気泡8に含ませる次亜塩素酸の量を増加させることができる。これらのことから、本実施の形態では、次亜塩素酸水溶液6の濃度を100mg/L程度とし、次亜塩素酸水溶液6のpHを7程度とし、上述した貯留部5の外径寸法に基づいて内部に貯留する次亜塩素酸水溶液6の容量(満水時の容量)を2L程度としている。なお、次亜塩素酸水溶液6の濃度は、気化式の従来の空間浄化装置に用いられる次亜塩素酸水溶液の濃度よりも、数倍濃く調整されている。また、次亜塩素酸水溶液6は、請求項の「除菌成分を含む水溶液」に相当する。
The hypochlorous acid aqueous solution 6 is an aqueous solution containing hypochlorous acid (also referred to as hypochlorous acid water) that is generated by diluting a high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 described later. The hypochlorous acid aqueous solution 6 contains hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) inside the bubbles 8 during the process in which the bubbles 8 supplied from the air supply section 7 described later circulate through the liquid due to buoyancy. have a role. Therefore, by increasing or decreasing the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6, the amount of hypochlorous acid contained in the bubbles 8 can be increased or decreased. In addition, by setting the hydrogen ion concentration (pH) of the hypochlorous acid aqueous solution 6 to about 5 to 7,
Hypochlorous acid is easily vaporized from the hypochlorous acid aqueous solution 6, and the amount of hypochlorous acid contained in the bubbles 8 can be increased. In addition, by increasing the distance that the bubbles 8 rise due to buoyancy (the distance that the bubbles 8 flow through the hypochlorous acid aqueous solution 6) and increasing the contact time between the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the bubbles 8, the bubbles 8 The amount of hypochlorous acid included in the water can be increased. For these reasons, in this embodiment, the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 is set to about 100 mg/L, the pH of the hypochlorous acid aqueous solution 6 is set to about 7, and the The capacity of the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored inside (capacity when full) is about 2L. Note that the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 is adjusted to be several times higher than the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution used in a conventional vaporization-type space purification device. Further, the hypochlorous acid aqueous solution 6 corresponds to the "aqueous solution containing a sterilizing component" in the claims.

空気供給部7は、個室空間1から内部に空気3aを吸い込み、吸い込んだ空気3aを次亜塩素酸水溶液6中に気泡8として放出する部材である。本実施の形態では、空気供給部7は、貯留部5から内部に取り込んだ次亜塩素酸水溶液6と、外部(個室空間1)から取り込んだ空気3aとを混合しながら、貯留部5が貯留する次亜塩素酸水溶液6中に気泡8を放出するポンプである。空気供給部7は、貯留部5内において、空気供給部保持部12によって貯留部5に固定されて設置される。空気供給部7は、仕切板25の鉛直方向上方において、空気供給部保持部12によって貯留部5の上部から吊り下げられて、部材の大部分が次亜塩素酸水溶液6中に浸漬される。 The air supply unit 7 is a member that sucks air 3 a into the interior from the private room space 1 and releases the sucked air 3 a into the hypochlorous acid aqueous solution 6 as bubbles 8 . In this embodiment, the air supply section 7 mixes the hypochlorous acid aqueous solution 6 taken into the interior from the storage section 5 with the air 3a taken in from the outside (private room space 1), while the storage section 5 This is a pump that releases air bubbles 8 into an aqueous hypochlorous acid solution 6. The air supply section 7 is installed within the storage section 5 and fixed to the storage section 5 by the air supply section holding section 12 . The air supply section 7 is suspended from the upper part of the storage section 5 by the air supply section holding section 12 above the partition plate 25 in the vertical direction, and most of the member is immersed in the hypochlorous acid aqueous solution 6.

より詳細には、空気供給部7は、溶液吸込口7a、空気吸込口7b、気泡生成部7c、吐出部7d、及びモータ部7eを有して構成される。空気供給部7は、貯留部5の上部から吊り下げられた状態で、貯留部5の第一領域5aに溶液吸込口7a及び空気吸込口7bが位置し、貯留部5の第二領域5bに気泡生成部7c、吐出部7d、及びモータ部7eが位置するように設置されている。 More specifically, the air supply section 7 includes a solution suction port 7a, an air suction port 7b, a bubble generation section 7c, a discharge section 7d, and a motor section 7e. The air supply section 7 is suspended from the upper part of the storage section 5, with a solution suction port 7a and an air suction port 7b located in the first region 5a of the storage section 5, and a solution suction port 7a and an air suction port 7b located in the second region 5b of the storage section 5. It is installed so that the bubble generation part 7c, the discharge part 7d, and the motor part 7e are located.

溶液吸込口7aは、貯留部5の次亜塩素酸水溶液6を吸い込む円筒状の吸込口である。溶液吸込口7aは、貯留部5の第一領域5aに位置し、貯留部5の底部5cに対して略水平状態で、第二領域5b側とは反対側の方向にある貯留部5の側面を向いて設置される。溶液吸込口7aは、気泡生成部7cと連通接続される。溶液吸込口7aは、モータ部7eが動作することで、貯留部5から次亜塩素酸水溶液6を吸い込み、貯留部5から吸い込んだ次亜塩素酸水溶液6を気泡生成部7cに送り込む。 The solution suction port 7a is a cylindrical suction port that sucks the hypochlorous acid aqueous solution 6 from the storage section 5. The solution suction port 7a is located in the first region 5a of the storage section 5, and is substantially horizontal with respect to the bottom 5c of the storage section 5, and is located on the side surface of the storage section 5 in the direction opposite to the second region 5b side. It is installed facing the direction. The solution suction port 7a is connected to the bubble generating section 7c. The solution suction port 7a sucks the hypochlorous acid aqueous solution 6 from the storage section 5 when the motor section 7e operates, and sends the hypochlorous acid aqueous solution 6 sucked from the storage section 5 to the bubble generation section 7c.

空気吸込口7bは、内部風路24内の空気3aを吸い込む円筒状の吸込口である。空気吸込口7bの一端は、溶液吸込口7aの側面に連通接続され、空気吸込口7bの他端は、鉛直方向上方の内部風路24にまで延設されている。空気吸込口7bは、例えば、樹脂製のチューブである。空気吸込口7bは、モータ部7eが動作することで、内部風路24から空気3aを吸い込み、吸い込んだ空気3aを、溶液吸込口7aから吸い込まれた次亜塩素酸水溶液6に送り込む。 The air suction port 7b is a cylindrical suction port that sucks the air 3a within the internal air passage 24. One end of the air suction port 7b is connected to the side surface of the solution suction port 7a, and the other end of the air suction port 7b extends vertically upward to the internal air passage 24. The air suction port 7b is, for example, a tube made of resin. The air suction port 7b sucks air 3a from the internal air passage 24 when the motor part 7e operates, and sends the sucked air 3a into the hypochlorous acid aqueous solution 6 sucked from the solution suction port 7a.

ここで、空気吸込口7bの他端は、内部風路24におけるフィルタ部23の下流側、且つ、混合部21の上流側に配置される。これにより、空気吸込口7bは、フィルタ部23の通過後の汚れの少ない空気3aを取り込み、次亜塩素酸水溶液6に送り込むことができるため、汚れの蓄積による空気吸込口7bの詰まり及び次亜塩素酸水溶液6の汚染を防ぐことができる。 Here, the other end of the air suction port 7b is arranged downstream of the filter section 23 in the internal air passage 24 and upstream of the mixing section 21. As a result, the air suction port 7b can take in the air 3a with little dirt after passing through the filter section 23 and feed it into the hypochlorous acid aqueous solution 6, which prevents clogging of the air suction port 7b due to dirt accumulation. Contamination of the chloric acid aqueous solution 6 can be prevented.

気泡生成部7cは、溶液吸込口7aから流入する空気3aを含む次亜塩素酸水溶液6を攪拌して混合する部材である。気泡生成部7cは、溶液吸込口7aと吐出部7dとの間を連通接続し、モータ部7eが動作することで、溶液吸込口7aから流入した次亜塩素酸水溶液6(空気3aを含む次亜塩素酸水溶液6)を吐出部7dに送出する。この際、気泡生
成部7cは、内部で次亜塩素酸水溶液6と空気3aとを攪拌して混合し、空気3aを微細化して気泡8とし、気泡8を含む次亜塩素酸水溶液6として吐出部7dに送出する。気泡生成部7cは、内部で次亜塩素酸水溶液6と空気3aとを混合しながら、空気3aを微細化して気泡8として生成しているとも言える。なお、気泡生成部7cの内部での攪拌&混合の過程で、空気3a(気泡8)には次亜塩素酸ガスを含ませている。
The bubble generating section 7c is a member that stirs and mixes the hypochlorous acid aqueous solution 6 containing the air 3a flowing in from the solution suction port 7a. The bubble generation section 7c connects the solution suction port 7a and the discharge section 7d, and when the motor section 7e operates, the bubble generation section 7c generates hypochlorous acid aqueous solution 6 (containing air 3a) flowing from the solution suction port 7a. The chlorous acid aqueous solution 6) is delivered to the discharge section 7d. At this time, the bubble generating unit 7c internally stirs and mixes the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the air 3a, atomizes the air 3a to form bubbles 8, and discharges the hypochlorous acid aqueous solution 6 containing the bubbles 8. The information is sent to section 7d. It can be said that the bubble generating section 7c atomizes the air 3a and generates the bubbles 8 while mixing the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the air 3a inside. Note that hypochlorous acid gas is contained in the air 3a (bubbles 8) during the stirring and mixing process inside the bubble generating section 7c.

吐出部7dは、気泡生成部7cで生成した気泡8を含む次亜塩素酸水溶液6を、貯留部5内の次亜塩素酸水溶液6中に放出する吐出部である。吐出部7dは、貯留部5の第二領域5bに位置し、鉛直方向下方の貯留部5の底部5cを向いて設置される。そして、吐出部7dは、貯留部5の底部5cに向けて気泡8を含む次亜塩素酸水溶液6を放出する。具体的には、吐出部7dは、貯留部5の底部5cに設けられた仕切板25の第二テーパ部25bに向けて気泡8を含む次亜塩素酸水溶液6を放出する。なお、吐出部7dは、「気泡8を含む次亜塩素酸水溶液6を放出する」としているが、「気泡8を放出する」と読み替えてもよい。 The discharge section 7d is a discharge section that discharges the hypochlorous acid aqueous solution 6 containing the bubbles 8 generated in the bubble generation section 7c into the hypochlorous acid aqueous solution 6 in the storage section 5. The discharge part 7d is located in the second region 5b of the storage part 5, and is installed facing the bottom part 5c of the storage part 5 in the vertical direction downward. The discharge section 7d then discharges the hypochlorous acid aqueous solution 6 containing the bubbles 8 toward the bottom 5c of the storage section 5. Specifically, the discharge section 7d discharges the hypochlorous acid aqueous solution 6 containing air bubbles 8 toward the second tapered section 25b of the partition plate 25 provided at the bottom 5c of the storage section 5. In addition, although the discharge part 7d is said to "discharge the hypochlorous acid aqueous solution 6 containing the bubbles 8," it may be read as "discharges the bubbles 8."

モータ部7eは、空気供給部7の一連の動作を行う部材である。モータ部7eは、回転動作することによって、空気供給部7の内部に次亜塩素酸水溶液6の流れを生じさせる。具体的には、モータ部7eの回転動作によって、溶液吸込口7aから次亜塩素酸水溶液6が吸い込まれるとともに、溶液吸込口7a内が負圧となることで空気吸込口7bから空気3aが溶液吸込口7aに吸い込まれる。そして、気泡生成部7cでの攪拌&混合の過程で気泡8が生成され、生成された気泡8が吐出部7dから次亜塩素酸水溶液6中に放出される。 The motor section 7e is a member that performs a series of operations of the air supply section 7. The motor section 7e causes the hypochlorous acid aqueous solution 6 to flow inside the air supply section 7 by rotating. Specifically, the hypochlorous acid aqueous solution 6 is sucked in from the solution suction port 7a by the rotational operation of the motor part 7e, and the air 3a is sucked into the solution from the air suction port 7b due to negative pressure inside the solution suction port 7a. It is sucked into the suction port 7a. Then, bubbles 8 are generated during the stirring and mixing process in the bubble generating section 7c, and the generated bubbles 8 are discharged into the hypochlorous acid aqueous solution 6 from the discharge section 7d.

空気供給部7は、以上のように構成される。 The air supply section 7 is configured as described above.

そして、空気供給部7では、次亜塩素酸水溶液6への空気3aの供給量、気泡生成部7cでの攪拌&混合時間、及び発生させる気泡8の大きさ(径)を制御することによって、後述する空気放出部9から個室空間1の放出される空気4に含ませる次亜塩素酸(次亜塩素酸ガス)の量を調整することができる。 Then, in the air supply section 7, by controlling the amount of air 3a supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6, the stirring & mixing time in the bubble generation section 7c, and the size (diameter) of the bubbles 8 to be generated, It is possible to adjust the amount of hypochlorous acid (hypochlorous acid gas) contained in the air 4 released from the private room space 1 from the air release section 9, which will be described later.

具体的には、空気供給部7では、次亜塩素酸水溶液6への空気3aの供給量が増加すれば、それに応じて気泡8の発生量(発生数)が多くなり、空気放出部9から放出する空気4に含ませる次亜塩素酸ガスを増加させることができる。また、空気供給部7では、気泡生成部7cでの攪拌&混合時間を長くすることで、次亜塩素酸水溶液6と空気3aとの間の接触時間が長くなり、最終的に生成される気泡8に含ませる次亜塩素酸ガスを増加させることができる。また、空気供給部7では、次亜塩素酸水溶液6に放出する気泡8の大きさ(径)を小さくすることで、浮上する際の気泡8の上昇速度を低下させて次亜塩素酸水溶液6と気泡8との間の接触時間を増加させることができる。さらに、気泡8の大きさ(径)が大きい場合と比較して、次亜塩素酸水溶液6と液中を流通する気泡8との間の接触面積を増加させることができる。これらの結果、次亜塩素酸水溶液6を流通する気泡8が、浮上する過程で気泡8内に取り込む次亜塩素酸の量が増加し、空気放出部9から放出する空気4に含ませる次亜塩素酸を増加させることができる。 Specifically, in the air supply unit 7, as the amount of air 3a supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 increases, the amount (number of generated) of bubbles 8 increases accordingly, and the air bubbles 8 are released from the air discharge unit 9. Hypochlorous acid gas contained in the air 4 to be released can be increased. In addition, in the air supply section 7, by lengthening the stirring and mixing time in the bubble generation section 7c, the contact time between the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the air 3a becomes longer, and the bubbles that are finally generated are increased. The amount of hypochlorous acid gas contained in 8 can be increased. In addition, in the air supply unit 7, by reducing the size (diameter) of the bubbles 8 released into the hypochlorous acid aqueous solution 6, the rising speed of the bubbles 8 when floating is reduced, and the hypochlorous acid aqueous solution 6 is The contact time between the air bubbles 8 and the air bubbles 8 can be increased. Furthermore, compared to the case where the size (diameter) of the bubbles 8 is large, the contact area between the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the bubbles 8 flowing in the liquid can be increased. As a result, the amount of hypochlorous acid taken into the bubbles 8 during the floating process of the bubbles 8 flowing through the hypochlorous acid aqueous solution 6 increases, and the amount of hypochlorous acid contained in the air 4 released from the air release section 9 increases. Chloric acid can be increased.

ここで、空気供給部7による次亜塩素酸水溶液6への空気3aの供給量は、空気吸込口7bの空気の吸入量によって制御することができる。また、気泡8の大きさ(径)は、空気吸込口7bの径の大きさ(及び空気吸込口7bの空気の吸込量)によって制御することができる。また、吐出部7dから放出される気泡8の到達深さは、空気供給部7が取り込む次亜塩素酸水溶液6の量によって制御することができる。これらを踏まえ、本実施の形態では、空気供給部7による次亜塩素酸水溶液6への空気3aの供給量を0.1m3/h程度とし、溶液吸込口7aにおいて発生させる気泡8の大きさ(径)を1mm~2mm程
度とし、空気供給部7が取り込む次亜塩素酸水溶液6の量を5L/minとしている。
Here, the amount of air 3a supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 by the air supply unit 7 can be controlled by the amount of air sucked into the air suction port 7b. Further, the size (diameter) of the bubble 8 can be controlled by the diameter of the air suction port 7b (and the amount of air sucked into the air suction port 7b). Further, the depth at which the bubbles 8 discharged from the discharge section 7d reach can be controlled by the amount of the hypochlorous acid aqueous solution 6 taken in by the air supply section 7. Based on these considerations, in this embodiment, the amount of air 3a supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 by the air supply unit 7 is set to about 0.1 m3/h, and the size of the air bubbles 8 generated at the solution suction port 7a ( The diameter) is approximately 1 mm to 2 mm, and the amount of hypochlorous acid aqueous solution 6 taken in by the air supply section 7 is 5 L/min.

気泡8は、空気供給部7(空気吸込口7b)により個室空間1から吸い込まれた空気3aが泡状に微細化された空気であり、次亜塩素酸水溶液6によって空気が閉じ込められた状態となっている。空気供給部7から放出された気泡8は、次亜塩素酸水溶液6に含まれる次亜塩素酸(及び水分)を内部の空気に取り込みながら浮上する。その後、気泡8は、次亜塩素酸水溶液6の液面6aまで浮上すると弾けてなくなる。そして、気泡8内の空気は、空気内に含まれていた次亜塩素酸(及び水分)とともに、内部空間11内の空気と混合される。その後、内部空間11内の空気(次亜塩素酸を含む空気)は、空気放出部9から空気3cとして混合部21に供給される。 The air bubbles 8 are the air 3a sucked from the private room space 1 by the air supply unit 7 (air suction port 7b), which is atomized into bubbles, and the air is trapped by the hypochlorous acid aqueous solution 6. It has become. The air bubbles 8 released from the air supply section 7 float up while taking in the hypochlorous acid (and moisture) contained in the hypochlorous acid aqueous solution 6 into the air inside. Thereafter, when the bubbles 8 rise to the liquid level 6a of the hypochlorous acid aqueous solution 6, they burst and disappear. Then, the air in the bubbles 8 is mixed with the air in the internal space 11 along with the hypochlorous acid (and moisture) contained in the air. Thereafter, the air in the internal space 11 (air containing hypochlorous acid) is supplied from the air discharge section 9 to the mixing section 21 as air 3c.

空気放出部9は、貯留部5と風路部17とを連通させる部材であり、貯留部5の上面と風路部17の下面との間に設置される。空気放出部9は、エリミネータ10を含む。空気放出部9は、貯留部5の開口部(図示せず)から導入される次亜塩素酸を含む空気(内部空間11内の空気)を、空気放出部9の供給口(図示せず)からエリミネータ10を介して風路部17の混合部21に空気3cとして導出する。 The air discharge section 9 is a member that communicates the storage section 5 and the air passage section 17, and is installed between the upper surface of the storage section 5 and the lower surface of the air passage section 17. The air discharge section 9 includes an eliminator 10. The air discharge part 9 supplies air containing hypochlorous acid (air in the internal space 11) introduced from the opening (not shown) of the storage part 5 to the supply port (not shown) of the air discharge part 9. The air is then led out through the eliminator 10 to the mixing section 21 of the air passage section 17 as air 3c.

エリミネータ10は、貯留部5内において気泡8が液面6aで弾けることで生じる水滴などを取り除く多孔質の部材である。エリミネータ10は、空気放出部9の内部において、貯留部5内の次亜塩素酸水溶液6の液面6aの全面を覆うように設置される。エリミネータ10は、次亜塩素酸ガスを含む空気3cを流通させるものの、水滴などを取り除く。これにより、風路部17への水滴の飛散、しいては空間浄化装置2から個室空間1への水滴の噴霧を防ぐことができる。 The eliminator 10 is a porous member that removes water droplets and the like generated when the bubbles 8 burst on the liquid surface 6a in the reservoir 5. The eliminator 10 is installed inside the air discharge part 9 so as to cover the entire liquid surface 6a of the hypochlorous acid aqueous solution 6 in the storage part 5. The eliminator 10 allows air 3c containing hypochlorous acid gas to flow through it, but removes water droplets and the like. Thereby, it is possible to prevent water droplets from scattering to the air passage section 17, and furthermore, from spraying water droplets from the space purifying device 2 to the private room space 1.

空気供給部保持部12は、貯留部5内において空気供給部7を固定する平板状の部材である。空気供給部保持部12は、エリミネータ10の下方において空気供給部7を吊り下げるように固定している。 The air supply section holding section 12 is a flat member that fixes the air supply section 7 within the storage section 5 . The air supply section holding section 12 fixes the air supply section 7 so as to suspend it below the eliminator 10.

次亜塩素酸水溶液供給部13は、貯留部5に高濃度次亜塩素酸水溶液15を供給する部材である。次亜塩素酸水溶液供給部13は、貯留部5の側面に設置される。次亜塩素酸水溶液供給部13は、高濃度次亜塩素酸水溶液15を次亜塩素酸水溶液6に供給することで、次亜塩素酸水溶液6の濃度を調整する。より詳細には、次亜塩素酸水溶液供給部13は、次亜塩素酸水溶液タンク13a、次亜塩素酸水溶液ポンプ13b、及びチューブ13cを有して構成される。 The hypochlorous acid aqueous solution supply section 13 is a member that supplies the high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 to the storage section 5 . The hypochlorous acid aqueous solution supply section 13 is installed on the side surface of the storage section 5 . The hypochlorous acid aqueous solution supply unit 13 adjusts the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 by supplying the high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 to the hypochlorous acid aqueous solution 6. More specifically, the hypochlorous acid aqueous solution supply section 13 includes a hypochlorous acid aqueous solution tank 13a, a hypochlorous acid aqueous solution pump 13b, and a tube 13c.

次亜塩素酸水溶液タンク13aは、内部に予め指定された濃度の高濃度次亜塩素酸水溶液15を貯留する容器である。次亜塩素酸水溶液タンク13aには、例えば、内容物として高濃度次亜塩素酸水溶液15を密封して収容する袋状の変形可能なパウチパック容器が用いられる。次亜塩素酸水溶液タンク13aは、次亜塩素酸水溶液ポンプ13bの動作によりチューブ13cを介して貯留部5に高濃度次亜塩素酸水溶液15を供給可能になっている。 The hypochlorous acid aqueous solution tank 13a is a container that stores therein a high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 having a predetermined concentration. The hypochlorous acid aqueous solution tank 13a is, for example, a bag-shaped deformable pouch pack container that seals and stores the high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 as the contents. The hypochlorous acid aqueous solution tank 13a is capable of supplying the high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 to the storage section 5 via the tube 13c by the operation of the hypochlorous acid aqueous solution pump 13b.

次亜塩素酸水溶液ポンプ13bは、制御部(図示せず)からの出力信号に応じて、次亜塩素酸水溶液タンク13aから貯留部5に高濃度次亜塩素酸水溶液15を送出させる部材である。 The hypochlorous acid aqueous solution pump 13b is a member that sends out the high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 from the hypochlorous acid aqueous solution tank 13a to the storage section 5 in response to an output signal from a control section (not shown). .

チューブ13cは、次亜塩素酸水溶液タンク13aと貯留部5を構成する容器の側壁に設けられた導入口(図示せず)とを、次亜塩素酸水溶液ポンプ13bを介して接続し、次亜塩素酸水溶液タンク13aから貯留部5にかけて高濃度次亜塩素酸水溶液15を流通させるための部材である。 The tube 13c connects the hypochlorous acid aqueous solution tank 13a and an inlet (not shown) provided on the side wall of the container constituting the storage section 5 via the hypochlorous acid aqueous solution pump 13b. This is a member for circulating the high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 from the chloric acid aqueous solution tank 13a to the storage section 5.

高濃度次亜塩素酸水溶液15は、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6を所定濃度以上となるように調整する薬液(次亜塩素酸水)である。高濃度次亜塩素酸水溶液15は、次亜塩素酸水原液とも言える。高濃度次亜塩素酸水溶液15は、貯留部5内で希釈して次亜塩素酸水溶液6を所定濃度に調整するため、次亜塩素酸水溶液6の濃度より数倍高いことが望ましい。これを踏まえ、本実施の形態では、高濃度次亜塩素酸水溶液15の濃度を1000ppm、次亜塩素酸水溶液ポンプ13bが供給する高濃度次亜塩素酸水溶液15の量を200mLとした。 The high-concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 is a chemical solution (hypochlorous acid water) that adjusts the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage section 5 to a predetermined concentration or higher. The high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 can also be said to be a hypochlorous acid water stock solution. The high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 is desirably several times higher in concentration than the hypochlorous acid aqueous solution 6 because it is diluted in the storage section 5 to adjust the hypochlorous acid aqueous solution 6 to a predetermined concentration. Based on this, in the present embodiment, the concentration of the high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 is set to 1000 ppm, and the amount of the high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 supplied by the hypochlorous acid aqueous solution pump 13b is set to 200 mL.

次亜塩素酸水溶液供給部13は、以上のように構成される。 The hypochlorous acid aqueous solution supply section 13 is configured as described above.

そして、次亜塩素酸水溶液供給部13は、次亜塩素酸水溶液ポンプ13bを動作させることで、チューブ13cを通じて所定量の高濃度次亜塩素酸水溶液15を次亜塩素酸水溶液タンク13aから貯留部5に供給する。これにより、貯留部5に貯留されている次亜塩素酸水溶液6に対して高濃度次亜塩素酸水溶液15が混合されることになる。 Then, the hypochlorous acid aqueous solution supply section 13 operates the hypochlorous acid aqueous solution pump 13b to supply a predetermined amount of the high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 from the hypochlorous acid aqueous solution tank 13a to the storage section through the tube 13c. Supply to 5. As a result, the high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 is mixed with the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage section 5 .

次に、水位センサ16(満水センサ16a及び渇水センサ16b)について説明する。 Next, the water level sensor 16 (full water sensor 16a and low water sensor 16b) will be explained.

水位センサ16は、貯留部5の内部に貯留する次亜塩素酸水溶液6の水位を検出する部材である。水位センサ16は、満水センサ16aと渇水センサ16bとを有する。水位センサ16のそれぞれは、貯留部5内の所定の高さの位置に設置される。 The water level sensor 16 is a member that detects the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored inside the storage section 5. The water level sensor 16 includes a full water sensor 16a and a low water sensor 16b. Each of the water level sensors 16 is installed at a predetermined height within the reservoir 5.

満水センサ16aは、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6の水位が満水状態(満水水位)であることを検出する。一方、渇水センサ16bは、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6の水位が渇水状態(渇水水位)であることを検出する。渇水センサ16bは、空気供給部7の溶液吸込口7aより高い位置に設けられており、次亜塩素酸水溶液6の水位の低下により溶液吸込口7aから空気が流れ込んで、空気供給部7に異音または異常が発生することを防止している。なお、本実施の形態では、渇水水位は、満水水位での次亜塩素酸水溶液6の容量(満水時の容量)2Lから25%減少した1.5Lとなる水位に設定している。 The full water sensor 16a detects that the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage section 5 is in a full water state (full water level). On the other hand, the drought sensor 16b detects that the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage section 5 is in a drought state (drought water level). The water shortage sensor 16b is provided at a higher position than the solution suction port 7a of the air supply section 7, and when the water level of the hypochlorous acid aqueous solution 6 decreases, air flows into the solution suction port 7a and causes an abnormality in the air supply section 7. Prevents noise or abnormalities from occurring. In this embodiment, the dry water level is set to 1.5 L, which is 25% less than the 2 L capacity of the hypochlorous acid aqueous solution 6 at the full water level (capacity at full water level).

以上のように、空間浄化装置2は各部材によって構成される。 As described above, the space purification device 2 is composed of each member.

次に、次亜塩素酸水溶液6の濃度調整方法について説明する。 Next, a method for adjusting the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 will be explained.

まず、ユーザーは、貯留部5に市水を給水し、空間浄化装置2の運転を開始させる。運転開始後、渇水センサ16bが渇水を検知しなければ、次亜塩素酸水溶液供給部13が貯留部5に高濃度次亜塩素酸水溶液15を所定量供給し、貯留部5内に所定濃度の次亜塩素酸水溶液6を生成する。そして、長時間運転する中で貯留部5内の次亜塩素酸水溶液6の水量が減少し、渇水センサ16bが渇水を検知したら、排水ランプ(図示せず)が点灯し、ユーザーに排水を通知する。貯留部5から残った次亜塩素酸水溶液6を排水した後、ユーザーは、再び貯留部5に市水を給水し、空間浄化装置2の運転を開始させる。これにより、貯留部5には、常に新しい所定濃度の次亜塩素酸水溶液6が貯留される。 First, the user supplies city water to the storage section 5 and starts the operation of the space purification device 2. After the start of operation, if the water shortage sensor 16b does not detect water shortage, the hypochlorous acid aqueous solution supply section 13 supplies a predetermined amount of high concentration hypochlorous acid aqueous solution 15 to the storage section 5, so that the storage section 5 has a predetermined concentration. A hypochlorous acid aqueous solution 6 is produced. When the amount of water in the hypochlorous acid aqueous solution 6 in the storage unit 5 decreases during long-term operation and the water shortage sensor 16b detects a water shortage, a drainage lamp (not shown) lights up to notify the user of drainage. do. After draining the remaining hypochlorous acid aqueous solution 6 from the storage section 5, the user supplies city water to the storage section 5 again and starts the operation of the space purification device 2. As a result, a new hypochlorous acid aqueous solution 6 of a predetermined concentration is always stored in the storage section 5.

次に、図2を参照して、空間浄化装置2における各空気(空気3、空気3a、空気3b、空気3c、気泡8、及び空気4)の流れについて説明する。 Next, with reference to FIG. 2, the flow of each air (air 3, air 3a, air 3b, air 3c, air bubbles 8, and air 4) in the space purification device 2 will be explained.

空間浄化装置2では、送風部22が動作すると、基本的な空気の流れとして、個室空間1の空気3は、外気吸込部18から内部(風路部17)に吸い込まれ、内部に吸い込まれた空気3は、内部風路24を流通して、空気4として吹出部19から個室空間1に放出さ
れる。
In the space purification device 2, when the blower section 22 operates, the air 3 in the private room space 1 is sucked into the interior (air path section 17) from the outside air suction section 18 as a basic air flow. The air 3 flows through the internal air passage 24 and is released as air 4 from the blow-off section 19 into the private room space 1.

一方、空気供給部7のモータ部7eが動作を開始すると、内部風路24内の空気3の一部が空気3aとして分離される。つまり、空気3は、一部の空気3aと、残りの空気3bとに分離される。分離された空気3aは、空気吸込口7b(空気吸込口7bの他端)から吸い込まれ、溶液吸込口7aから吸い込まれた次亜塩素酸水溶液6に送り込まれる。次亜塩素酸水溶液6に送り込まれた空気3aは、次亜塩素酸水溶液6とともに気泡生成部7cに導入され、気泡生成部7c内で攪拌&混合される。気泡生成部7c内の空気3aは、次亜塩素酸水溶液6との攪拌&混合の過程で微細化される。そして、微細化された空気3aは、気泡8として次亜塩素酸水溶液6とともに、吐出部7dから貯留部5の次亜塩素酸水溶液6中に送出される。 On the other hand, when the motor section 7e of the air supply section 7 starts operating, a portion of the air 3 within the internal air passage 24 is separated as air 3a. That is, the air 3 is separated into a part of the air 3a and the remaining air 3b. The separated air 3a is sucked in through the air suction port 7b (the other end of the air suction port 7b), and sent into the hypochlorous acid aqueous solution 6 sucked in through the solution suction port 7a. The air 3a sent into the hypochlorous acid aqueous solution 6 is introduced into the bubble generating section 7c together with the hypochlorous acid aqueous solution 6, and is stirred and mixed within the bubble generating section 7c. The air 3a in the bubble generating section 7c is made fine in the process of stirring and mixing with the hypochlorous acid aqueous solution 6. Then, the micronized air 3a is sent out as bubbles 8 together with the hypochlorous acid aqueous solution 6 from the discharge section 7d into the hypochlorous acid aqueous solution 6 in the storage section 5.

吐出部7dから放出された気泡8は、鉛直方向下方にある貯留部5の底部5cに向かって放出されるので、そのまま次亜塩素酸水溶液6中を矢印F1の方向に下降する。下降した気泡8は、仕切板25の第二テーパ部25bに衝突する勢いで、そのまま第二テーパ部25bに沿うようにして流通方向を変え、貯留部5の底部5cに沿って略水平方向(矢印F2)に流通していく。この際、下降した気泡8は、仕切板25によって第一領域5aとは逆の方向に流通するので、溶液吸込口7aが位置する第一領域5aの方向には拡散しない。 The bubbles 8 discharged from the discharge part 7d are discharged toward the bottom part 5c of the storage part 5 located vertically downward, so they descend in the hypochlorous acid aqueous solution 6 in the direction of the arrow F1. The descending air bubbles 8 have the force of colliding with the second tapered part 25b of the partition plate 25, change the flow direction so as to continue along the second tapered part 25b, and flow in a substantially horizontal direction ( It is distributed in the direction of arrow F2). At this time, the descending air bubbles 8 flow in the direction opposite to the first region 5a by the partition plate 25, and therefore do not diffuse in the direction of the first region 5a where the solution suction port 7a is located.

そして、略水平方向に流通する気泡8は、矢印F3のように、浮力の影響を受けて液面6aに向けて浮上していく。浮上した気泡8は、液面6aに到達すると破裂して内部空間11の空気と混ざり合い、空気3cとして空気放出部9へと移動していく。上述した通り、空気3cには、次亜塩素酸ガスが含まれる。 Then, the bubbles 8 flowing in the substantially horizontal direction float toward the liquid surface 6a under the influence of buoyancy, as indicated by arrow F3. When the floating bubbles 8 reach the liquid surface 6a, they burst, mix with the air in the internal space 11, and move to the air discharge section 9 as air 3c. As described above, the air 3c contains hypochlorous acid gas.

空気放出部9に導入された空気3cは、エリミネータ10を通過して風路部17の混合部21に導出される。 The air 3c introduced into the air discharge section 9 passes through the eliminator 10 and is led out to the mixing section 21 of the air path section 17.

混合部21に導出された空気3c(次亜塩素酸ガスを含む空気3c)は、内部風路24を流通する空気3bと混合され、次亜塩素酸ガスを含む空気4として吹出部19から個室空間1に放出される。 The air 3c (air 3c containing hypochlorous acid gas) led out to the mixing part 21 is mixed with the air 3b flowing through the internal air passage 24, and is sent from the blowing part 19 to a private room as air 4 containing hypochlorous acid gas. released into space 1.

そして、放出された空気4(次亜塩素酸ガスを含む空気4)は、個室空間1内に拡散していく。その結果、次亜塩素酸ガスを含む空気4によって個室空間1の除菌がなされる。 The released air 4 (air 4 containing hypochlorous acid gas) then diffuses into the private room space 1. As a result, the private room space 1 is sterilized by the air 4 containing hypochlorous acid gas.

本実施の形態では、気泡生成部7cでの空気3aと次亜塩素酸水溶液6との攪拌&混合、及び、気泡8が矢印F1の方向と矢印F2の方向に移動することに伴う、気泡8の次亜塩素酸水溶液6中を滞留する時間の長時間化によって、気泡8に含ませる次亜塩素酸ガスの濃度を高くすることができる。 In this embodiment, the air 3a and the hypochlorous acid aqueous solution 6 are stirred and mixed in the air bubble generating section 7c, and the air bubbles 8 are generated as the air bubbles 8 move in the direction of the arrow F1 and the direction of the arrow F2. By increasing the residence time in the hypochlorous acid aqueous solution 6, the concentration of the hypochlorous acid gas contained in the bubbles 8 can be increased.

以上、本実施の形態1に係る空間浄化装置2によれば、以下の効果を享受することができる。 As mentioned above, according to the space purification device 2 according to the first embodiment, the following effects can be enjoyed.

(1)空間浄化装置2は、次亜塩素酸水溶液6を貯留する貯留部5と、次亜塩素酸水溶液6に浸漬して設けられ、外部(個室空間1)から取り込んだ空気3aを気泡8として次亜塩素酸水溶液6中に放出する空気供給部7と、を備える。空気供給部7は、貯留部5から内部に取り込んだ次亜塩素酸水溶液6と、外部(個室空間1)から取り込んだ空気3aとを混合しながら、貯留部5が貯留する次亜塩素酸水溶液6中に気泡を放出するようにした。 (1) The space purification device 2 includes a storage section 5 that stores an aqueous hypochlorous acid solution 6, and a storage section 5 that is immersed in the aqueous hypochlorous acid solution 6. and an air supply section 7 for discharging the hypochlorous acid into the aqueous hypochlorous acid solution 6. The air supply unit 7 mixes the hypochlorous acid aqueous solution 6 taken into the interior from the storage unit 5 with the air 3a taken in from the outside (private room space 1), and mixes the hypochlorous acid aqueous solution stored in the storage unit 5. 6 to release air bubbles.

こうした構成によれば、空気供給部7の内部において次亜塩素酸水溶液6と空気3aとを混合する過程で、空気3a内に一定程度の次亜塩素酸ガスを含ませることができる。これにより、気泡8には、空気供給部7の内部で取り込まれる次亜塩素酸ガスと、気泡8が次亜塩素酸水溶液6中を浮上する過程で気泡8内に取り込まれる次亜塩素酸ガスとを含ませることができる。この結果、気泡8が液面6aに達した際に、気泡8から放出される次亜塩素酸ガスの濃度を増加させることができる。つまり、空間浄化装置2は、気泡8に含ませる次亜塩素酸ガス濃度を向上させることができ、より高濃度の次亜塩素酸ガスを外部(個室空間1)に供給することができる。 According to such a configuration, in the process of mixing the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the air 3a inside the air supply unit 7, a certain amount of hypochlorous acid gas can be included in the air 3a. As a result, the bubbles 8 contain hypochlorous acid gas taken in inside the air supply section 7 and hypochlorous acid gas taken into the bubbles 8 in the process of the bubbles 8 floating in the hypochlorous acid aqueous solution 6. can be included. As a result, when the bubbles 8 reach the liquid level 6a, the concentration of hypochlorous acid gas released from the bubbles 8 can be increased. That is, the space purification device 2 can improve the concentration of hypochlorous acid gas contained in the bubbles 8, and can supply a higher concentration of hypochlorous acid gas to the outside (private room space 1).

(2)空間浄化装置2では、空気供給部7は、貯留部5から内部に次亜塩素酸水溶液6を取り込む溶液吸込口7aと、外部(風路部17)から内部に空気3aを取り込む空気吸込口7bと、溶液吸込口7aから取り込んだ次亜塩素酸水溶液6と空気吸込口7bから取り込んだ空気3aとを混合した状態で吐出する吐出部7dと、を備え、吐出部7dは、気泡を鉛直方向下方に向けて放出するようにした。これにより、吐出部7dから放出された気泡8は、次亜塩素酸水溶液6中を少なくとも鉛直方向下方に向けて下降し、その後液面6aに向けて浮上していくので、気泡8が次亜塩素酸水溶液6中を流通する時間が長くなり、気泡8に取り込まれる次亜塩素酸ガスがさらに増加する。この結果、気泡8が液面6aに達した際に、気泡8から放出される次亜塩素酸ガスの濃度をさらに増加させることができる。 (2) In the space purification device 2, the air supply section 7 includes a solution suction port 7a that takes in the hypochlorous acid aqueous solution 6 from the storage section 5 into the interior, and an air intake port 7a that takes in the air 3a from the outside (air path section 17) into the inside. The discharge part 7d includes a suction port 7b and a discharge part 7d that discharges a mixed state of the hypochlorous acid aqueous solution 6 taken in from the solution suction port 7a and the air 3a taken in from the air suction port 7b. is now emitted vertically downward. As a result, the bubbles 8 discharged from the discharge part 7d descend at least vertically downward in the hypochlorous acid aqueous solution 6, and then float toward the liquid level 6a, so that the bubbles 8 The time for the hypochlorous acid to flow through the chloric acid aqueous solution 6 becomes longer, and the amount of hypochlorous acid gas taken into the bubbles 8 further increases. As a result, when the bubbles 8 reach the liquid level 6a, the concentration of hypochlorous acid gas released from the bubbles 8 can be further increased.

(3)空間浄化装置2では、貯留部5は、貯留部5の底部5cから鉛直方向上方に延伸して設けられた仕切板25を有し、仕切板25は、溶液吸込口7aが配置され、溶液吸込口7aから次亜塩素酸水溶液6を取り込む第一領域5aと、吐出部7dが配置され、吐出部7dから放出された気泡8が流通する第二領域5bとに、貯留部5を区分するようにした。これにより、第二領域5bにおいて吐出部7dから放出された気泡8が、仕切板25によって、第一領域5aの溶液吸込口7aに吸い込まれるのを抑制することができる。この結果、気泡8を含む次亜塩素酸水溶液6が溶液吸込口7aから取り込まれることに起因する異音の発生が抑制される。つまり、空間浄化装置2は、騒音を抑制しつつ、より高濃度の次亜塩素酸ガスを外部(個室空間1)に供給することができる。 (3) In the space purification device 2, the storage section 5 has a partition plate 25 extending vertically upward from the bottom 5c of the storage section 5, and the partition plate 25 has the solution suction port 7a arranged therein. , a storage section 5 is provided in a first region 5a that takes in an aqueous hypochlorous acid solution 6 from a solution suction port 7a, and a second region 5b where a discharge section 7d is disposed and through which bubbles 8 released from the discharge section 7d flow. I tried to separate it. Thereby, the air bubbles 8 discharged from the discharge portion 7d in the second region 5b can be prevented from being sucked into the solution suction port 7a of the first region 5a by the partition plate 25. As a result, the generation of abnormal noise caused by the hypochlorous acid aqueous solution 6 containing air bubbles 8 being taken in from the solution suction port 7a is suppressed. In other words, the space purification device 2 can supply hypochlorous acid gas at a higher concentration to the outside (private room space 1) while suppressing noise.

(4)空間浄化装置2では、仕切板25は、第二領域5b側が順テーパ形状(第二テーパ部25b)を有して構成され、吐出部7dは、順テーパ形状部分に吹き付けるように気泡8を放出するようにした。これにより、吐出部7dから鉛直方向下方に放出された気泡8は、順テーパ形状部分(第二テーパ部25b)に沿って向きを変えて略水平方向に流通するようになるので、気泡8が次亜塩素酸水溶液6中を流通する時間がさらに長くなり、気泡8に取り込まれる次亜塩素酸ガスをさらに増加させることができる。 (4) In the space purification device 2, the partition plate 25 is configured such that the second region 5b side has a forward tapered shape (second tapered portion 25b), and the discharge portion 7d blows air bubbles onto the forward tapered portion. 8 was released. As a result, the air bubbles 8 discharged vertically downward from the discharge portion 7d change direction along the forward tapered portion (second tapered portion 25b) and flow approximately horizontally, so that the air bubbles 8 The time for the hypochlorous acid aqueous solution 6 to flow becomes longer, and the amount of hypochlorous acid gas taken into the bubbles 8 can be further increased.

(実施の形態2)
図4を参照して、本実施の形態2に係る空間浄化装置2aについて説明する。図4は、本発明の実施の形態2に係る空間浄化装置2aの構成を示す概略側面図である。
(Embodiment 2)
With reference to FIG. 4, a space purification device 2a according to the second embodiment will be described. FIG. 4 is a schematic side view showing the configuration of a space purification device 2a according to Embodiment 2 of the present invention.

本発明の実施の形態2に係る空間浄化装置2aは、次亜塩素酸水溶液供給部13に代えて、次亜塩素酸水生成部29を備えている点で実施の形態1と異なる。これ以外の空間浄化装置2aの構成は、実施の形態1に係る空間浄化装置2と同様である。以下、実施の形態1で説明済みの内容は再度の説明を適宜省略し、実施の形態1と異なる点を主に説明する。 The space purification device 2a according to the second embodiment of the present invention differs from the first embodiment in that it includes a hypochlorous acid water generation section 29 instead of the hypochlorous acid aqueous solution supply section 13. The other configuration of the space purification device 2a is the same as that of the space purification device 2 according to the first embodiment. Hereinafter, the content already explained in Embodiment 1 will be omitted from being explained again, and the points different from Embodiment 1 will be mainly explained.

図4に示す通り、空間浄化装置2aは、次亜塩素酸水溶液6の濃度調整手段として、次亜塩素酸水生成部29を備える。次亜塩素酸水生成部29は、塩化物供給部26及び電極27を有する。次亜塩素酸水生成部29は、塩化物供給部26から供給される塩化物水溶
液28を、電極27によって電気分解して次亜塩素酸を生成し、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6を所定濃度に調整する。なお、次亜塩素酸水生成部29は、請求項の「除菌水生成部」に相当する。
As shown in FIG. 4, the space purification device 2a includes a hypochlorous acid water generating section 29 as a concentration adjusting means for the hypochlorous acid aqueous solution 6. The hypochlorous acid water generation section 29 has a chloride supply section 26 and an electrode 27. The hypochlorous acid water generation unit 29 electrolyzes the chloride aqueous solution 28 supplied from the chloride supply unit 26 using the electrode 27 to generate hypochlorous acid, and the hypochlorous acid water is stored in the storage unit 5. Adjust the acid aqueous solution 6 to a predetermined concentration. Note that the hypochlorous acid water generation section 29 corresponds to the "sterilized water generation section" in the claims.

塩化物供給部26は、貯留部5が貯留する次亜塩素酸水溶液6に所定量の塩化物水溶液28を供給する部材である。塩化物供給部26は、貯留部5の外側に設置され、貯留部5を構成する容器の側壁に設けられた導入口(図示せず)を介して貯留部5内に塩化物水溶液28を導入するように構成される。より詳細には、塩化物供給部26は、塩化物水溶液タンク26a、塩化物ポンプ26b、及びチューブ26cを有して構成される。 The chloride supply unit 26 is a member that supplies a predetermined amount of the chloride aqueous solution 28 to the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage unit 5 . The chloride supply unit 26 is installed outside the storage unit 5 and introduces the chloride aqueous solution 28 into the storage unit 5 through an inlet (not shown) provided on the side wall of a container that constitutes the storage unit 5. configured to do so. More specifically, the chloride supply section 26 includes a chloride aqueous solution tank 26a, a chloride pump 26b, and a tube 26c.

塩化物水溶液タンク26aは、内部に予め指定された濃度の塩化物水溶液28を貯留する容器である。塩化物水溶液タンク26aには、例えば、内容物として塩化物水溶液28を密封して収容する袋状の変形可能なパウチパック容器が用いられる。塩化物水溶液タンク26aは、塩化物ポンプ26bの動作によりチューブ26cを介して貯留部5に塩化物水溶液28を供給可能になっている。 The chloride aqueous solution tank 26a is a container that stores therein a chloride aqueous solution 28 having a predetermined concentration. The chloride aqueous solution tank 26a is, for example, a bag-like deformable pouch pack container that seals and stores the chloride aqueous solution 28 as its contents. The chloride aqueous solution tank 26a can supply the chloride aqueous solution 28 to the storage section 5 via the tube 26c by operation of the chloride pump 26b.

塩化物水溶液28は、電気分解によって次亜塩素酸水を生成可能な電解質であればよく、少量でも塩化物イオンを含んで入れば特に制限はなく、例えば、溶質として塩化ナトリウム、塩化カルシウム、又は塩化マグネシウムなどを溶解した水溶液が挙げられる。また、水溶液のpHを調整するためにリン酸カリウムなどを加えてもよい。本実施の形態では、塩化物水溶液28として、塩化ナトリウム水溶液(塩水)にリン酸カリウムを加えた水溶液を使用している。また、塩化物水溶液28は、塩化ナトリウムが高濃度であることが望ましい。高濃度の塩化物水溶液28を使用することで、次亜塩素酸水溶液6の水量を大きく変化させることなく、次亜塩素酸水溶液6に塩化物(塩化物水溶液)を供給することができる。 The chloride aqueous solution 28 may be any electrolyte that can generate hypochlorous acid water by electrolysis, and is not particularly limited as long as it contains even a small amount of chloride ions. For example, it may contain sodium chloride, calcium chloride, or solute as a solute. An example is an aqueous solution in which magnesium chloride or the like is dissolved. Additionally, potassium phosphate or the like may be added to adjust the pH of the aqueous solution. In this embodiment, as the chloride aqueous solution 28, an aqueous solution in which potassium phosphate is added to a sodium chloride aqueous solution (salt water) is used. Further, it is desirable that the chloride aqueous solution 28 has a high concentration of sodium chloride. By using the highly concentrated chloride aqueous solution 28, chloride (chloride aqueous solution) can be supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 without significantly changing the amount of water in the hypochlorous acid aqueous solution 6.

塩化物ポンプ26bは、制御部(図示せず)からの出力信号に応じて、塩化物水溶液タンク26aから貯留部5に塩化物水溶液28を送出させる部材である。 The chloride pump 26b is a member that sends out the chloride aqueous solution 28 from the chloride aqueous solution tank 26a to the storage section 5 in response to an output signal from a control section (not shown).

チューブ26cは、塩化物水溶液タンク26aと貯留部5を構成する容器の側壁に設けられた導入口とを、塩化物ポンプ26bを介して接続し、塩化物水溶液タンク26aから貯留部5にかけて塩化物水溶液28を流通させるための部材である。 The tube 26c connects the chloride aqueous solution tank 26a and an inlet provided on the side wall of the container constituting the storage section 5 via the chloride pump 26b, and supplies chloride from the chloride aqueous solution tank 26a to the storage section 5. This is a member for circulating the aqueous solution 28.

塩化物供給部26は、以上のように構成される。 The chloride supply section 26 is configured as described above.

そして、塩化物供給部26は、塩化物ポンプ26bを動作させることで、チューブ26cを通じて所定量の塩化物水溶液28を塩化物水溶液タンク26aから貯留部5に供給する。これにより、貯留部5に貯留されている次亜塩素酸水溶液6に対して塩化物水溶液28が混合されることになる。 Then, the chloride supply unit 26 supplies a predetermined amount of the chloride aqueous solution 28 from the chloride aqueous solution tank 26a to the storage unit 5 through the tube 26c by operating the chloride pump 26b. As a result, the chloride aqueous solution 28 is mixed with the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage section 5 .

電極27は、塩化物イオンを含む水溶液である塩化物水溶液28を電気分解するための部材である。電極27は、例えば、貯留部5の底部5cにおいて次亜塩素酸水溶液6に沈んだ状態で設置される。電極27は、陽極と陰極との一対の電極からなり、導電性基体の表面に触媒被膜を有して構成される。導電性基体には、例えば、チタン、タンタル、ニッケル、又はステンレス等が使用できるが、次亜塩素酸に対する耐食性が大きいチタンが好ましい。また、触媒被膜に含まれる触媒には、例えば、イリジウム又は白金族金属等が使用される。これにより、電極27での電気分解反応を活性化させることができる。 The electrode 27 is a member for electrolyzing a chloride aqueous solution 28, which is an aqueous solution containing chloride ions. The electrode 27 is installed, for example, in a submerged state in the hypochlorous acid aqueous solution 6 at the bottom 5c of the storage section 5. The electrode 27 consists of a pair of electrodes, an anode and a cathode, and is constructed by having a catalyst coating on the surface of a conductive substrate. For example, titanium, tantalum, nickel, or stainless steel can be used for the conductive substrate, but titanium is preferred because of its high corrosion resistance against hypochlorous acid. Further, as the catalyst contained in the catalyst film, for example, iridium or a platinum group metal is used. Thereby, the electrolysis reaction at the electrode 27 can be activated.

電極27では、一対の電極間に電流を流すことで塩化物(塩化物水溶液28)が電気分解し、次亜塩素酸が生成される。この結果、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6と
塩化物水溶液28の混合水溶液は、所定濃度を有する次亜塩素酸水溶液6として調整される。ここで、電極27への通電時間は、例えば、貯留部5に供給された塩化物の量に基づいて予め実験的に求められた時間に設定される。
At the electrode 27, by passing a current between the pair of electrodes, chloride (chloride aqueous solution 28) is electrolyzed, and hypochlorous acid is generated. As a result, the mixed aqueous solution of the hypochlorous acid aqueous solution 6 and the chloride aqueous solution 28 stored in the storage section 5 is adjusted as the hypochlorous acid aqueous solution 6 having a predetermined concentration. Here, the time during which the electrode 27 is energized is set to a time determined experimentally in advance based on the amount of chloride supplied to the reservoir 5, for example.

次に、次亜塩素酸水生成部29の動作の流れを説明する。 Next, the flow of operation of the hypochlorous acid water generating section 29 will be explained.

次亜塩素酸水生成部29では、貯留部5に貯留される次亜塩素酸水溶液6を所定の濃度に調整するために、一定時間ごとに次亜塩素酸水溶液6に次亜塩素酸を供給する。つまり、詳細は後述するが、次亜塩素酸水生成部29では、塩化物供給部26による既定量の塩化物水溶液28の供給と、電極27による電気分解とを一定時間ごとに実行する。 In the hypochlorous acid water generation unit 29, hypochlorous acid is supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6 at regular intervals in order to adjust the hypochlorous acid aqueous solution 6 stored in the storage unit 5 to a predetermined concentration. do. That is, although the details will be described later, in the hypochlorous acid water generation section 29, the chloride supply section 26 supplies a predetermined amount of the chloride aqueous solution 28, and the electrode 27 performs electrolysis at regular intervals.

次亜塩素酸水生成部29では、まず、一定時間が経過すると、塩化物ポンプ26bにより塩化物水溶液タンク26aから貯留部5に既定量の塩化物水溶液28を送り込み、次亜塩素酸水溶液6に対して塩化物水溶液28を供給して混合する。そして、次亜塩素酸水生成部29では、電極27に電流を流し、次亜塩素酸水溶液6に混合された塩化物、つまり塩化ナトリウムを電気分解し、塩化物水溶液28として供給された塩化ナトリウムの量に対応した次亜塩素酸を生成する。これにより、次亜塩素酸水溶液6に対して次亜塩素酸が供給されたのと同等の状態となる。つまり、次亜塩素酸水生成部29によって、次亜塩素酸水溶液6の濃度(次亜塩素酸の濃度)が調整されたことになる。この際、次亜塩素酸水生成部29の動作において、次亜塩素酸水溶液6に供給する塩化物水溶液28の量(供給量)を調整することで、次亜塩素酸水溶液6に供給する次亜塩素酸の量を制御できる。なお、塩化ナトリウムを電気分解することで、次亜塩素酸水溶液6のpHは上昇するが、塩化物水溶液28に含まれるリン酸カリウムによって中和され、所定のpHに調整されるようにしている。 In the hypochlorous acid water generating section 29, first, after a certain period of time has passed, a predetermined amount of the chloride aqueous solution 28 is sent from the chloride aqueous solution tank 26a to the storage section 5 by the chloride pump 26b, and the hypochlorous acid aqueous solution 6 is A chloride aqueous solution 28 is supplied and mixed. Then, in the hypochlorous acid water generation section 29, a current is applied to the electrode 27 to electrolyze the chloride, that is, sodium chloride, mixed in the hypochlorous acid aqueous solution 6, and the sodium chloride is supplied as the chloride aqueous solution 28. generates hypochlorous acid corresponding to the amount of This results in a state equivalent to when hypochlorous acid is supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6. In other words, the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 (concentration of hypochlorous acid) is adjusted by the hypochlorous acid water generation section 29. At this time, in the operation of the hypochlorous acid water generation unit 29, by adjusting the amount (supply amount) of the chloride aqueous solution 28 supplied to the hypochlorous acid aqueous solution 6, The amount of chlorite can be controlled. Note that by electrolyzing sodium chloride, the pH of the hypochlorous acid aqueous solution 6 increases, but it is neutralized by potassium phosphate contained in the chloride aqueous solution 28 and adjusted to a predetermined pH. .

以上のようにして、空間浄化装置2aは、次亜塩素酸水溶液6を所定濃度に調整している。 As described above, the space purification device 2a adjusts the hypochlorous acid aqueous solution 6 to a predetermined concentration.

以上、本実施の形態2に係る空間浄化装置2aによれば、上記した効果(1)~(4)に加え、以下の効果を享受することができる。 As described above, according to the space purification device 2a according to the second embodiment, in addition to the effects (1) to (4) described above, the following effects can be enjoyed.

(5)空間浄化装置2aでは、次亜塩素酸水溶液6を所定濃度に調整する次亜塩素酸水生成部29を備える構成とした。こうした構成によれば、次亜塩素酸水溶液6の濃度コントロールが容易となるので、次亜塩素酸水溶液6の濃度を安定化させることができる。つまり、空間浄化装置2aは、より高濃度の次亜塩素酸ガスを安定して外部(個室空間1)に放出することができる。 (5) The space purification device 2a is configured to include a hypochlorous acid water generation unit 29 that adjusts the hypochlorous acid aqueous solution 6 to a predetermined concentration. According to such a configuration, the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 can be easily controlled, so that the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 can be stabilized. In other words, the space purification device 2a can stably release higher concentration hypochlorous acid gas to the outside (private room space 1).

(実施の形態3)
図5及び図6を参照して、本実施の形態3に係る空間浄化装置2bについて説明する。図5は、本発明の実施の形態3に係る空間浄化装置2bの構成を示す概略側面図である。図6は、空間浄化装置2bの構成を示す概略透過正面図である。
(Embodiment 3)
A space purification device 2b according to the third embodiment will be described with reference to FIGS. 5 and 6. FIG. 5 is a schematic side view showing the configuration of a space purification device 2b according to Embodiment 3 of the present invention. FIG. 6 is a schematic transparent front view showing the configuration of the space purification device 2b.

本発明の実施の形態3に係る空間浄化装置2bは、仕切板25を設けることなく第四領域5e側(実施の形態1の第二領域5b側に相当する領域)に気泡8が選択的に流通するように、吐出部7dの先端に流向調整板7fを設けている点で実施の形態1と異なる。これ以外の空間浄化装置2bの構成は、実施の形態1に係る空間浄化装置2と同様である。以下、実施の形態1で説明済みの内容は再度の説明を適宜省略し、実施の形態1と異なる点を主に説明する。 In the space purification device 2b according to the third embodiment of the present invention, the air bubbles 8 are selectively formed on the fourth region 5e side (the region corresponding to the second region 5b side in the first embodiment) without providing the partition plate 25. This differs from Embodiment 1 in that a flow direction adjustment plate 7f is provided at the tip of the discharge portion 7d to allow the flow to flow. The other configuration of the space purification device 2b is the same as that of the space purification device 2 according to the first embodiment. Hereinafter, the content already explained in Embodiment 1 will be omitted from being explained again, and the points different from Embodiment 1 will be mainly explained.

図5に示す通り、空間浄化装置2bでは、空気供給部7は、吐出部7dの先端から鉛直
方向下方に延伸して設けられ、気泡8の流通方向を変化させる流向調整板7fを備える。詳細は後述するが、流向調整板7fは、吐出部7dから鉛直方向下方に放出された気泡8が次亜塩素酸水溶液6中を流通する際の流通方向を、溶液吸込口7aが配置された領域(第三領域5d)とは流向調整板7fを挟んで反対側の領域(第四領域5e)に変化させる部材である。なお、流向調整板7fは、空間浄化装置2の仕切板25と同様の役割を有しており、溶液吸込口7aが次亜塩素酸水溶液6を取り込む第三領域5dと、吐出部7dから放出された気泡8が主として流通する第四領域5eとに、貯留部5を区分しているとも言える。
As shown in FIG. 5, in the space purification device 2b, the air supply section 7 is provided extending vertically downward from the tip of the discharge section 7d, and includes a flow direction adjustment plate 7f that changes the flow direction of the air bubbles 8. Although details will be described later, the flow direction adjustment plate 7f has a solution suction port 7a arranged so that the flow direction when the bubbles 8 discharged vertically downward from the discharge portion 7d flows through the hypochlorous acid aqueous solution 6. The region (third region 5d) is a member that changes to the region (fourth region 5e) on the opposite side of the flow direction adjusting plate 7f. Note that the flow direction adjusting plate 7f has the same role as the partition plate 25 of the space purification device 2, and the solution suction port 7a takes in the hypochlorous acid aqueous solution 6 from the third area 5d and discharges it from the discharge part 7d. It can also be said that the storage section 5 is divided into a fourth region 5e through which the bubbles 8 mainly circulate.

第三領域5dは、貯留部5内において空気供給部7が次亜塩素酸水溶液6を吸い込む領域である。より詳細には、第三領域5dは、空気供給部7の溶液吸込口7aが配置され、溶液吸込口7aから次亜塩素酸水溶液6を取り込む領域であり、空間浄化装置2における第一領域5aに相当する。 The third region 5d is a region in the storage section 5 where the air supply section 7 sucks the hypochlorous acid aqueous solution 6. More specifically, the third region 5d is a region where the solution suction port 7a of the air supply unit 7 is arranged and takes in the hypochlorous acid aqueous solution 6 from the solution suction port 7a, and is the first region 5a in the space purification device 2. corresponds to

第四領域5eは、貯留部5内において空気供給部7から放出された気泡8が主として流通する領域である。より詳細には、第四領域5eは、空気供給部7の吐出部7dが配置され、吐出部7dから放出された気泡8が次亜塩素酸水溶液6の液面6aに向けて浮上する際に流通する領域であり、空間浄化装置2における第二領域5bに相当する。 The fourth region 5e is a region in which the air bubbles 8 released from the air supply section 7 mainly flow within the storage section 5. More specifically, in the fourth region 5e, the discharge part 7d of the air supply part 7 is arranged, and when the air bubbles 8 released from the discharge part 7d float toward the liquid surface 6a of the hypochlorous acid aqueous solution 6, This is a region where the air circulates, and corresponds to the second region 5b in the space purification device 2.

流向調整板7fは、吐出部7dの先端(下端)に設けられ、吐出部7dから鉛直方向下方に放出された気泡8の次亜塩素酸水溶液6内での流通方向を、第四領域5e側における貯留部5の底部5cに沿った方向(流向調整板7fから離れていく方向)に変化させる部材である。 The flow direction adjustment plate 7f is provided at the tip (lower end) of the discharge part 7d, and directs the flow direction of the bubbles 8 discharged vertically downward from the discharge part 7d in the hypochlorous acid aqueous solution 6 to the fourth region 5e side. This is a member that changes the flow direction in the direction along the bottom 5c of the storage section 5 (the direction away from the flow direction adjusting plate 7f).

具体的には、流向調整板7fは、気泡生成部7cの下端から吐出部7dの溶液吸込口7a側の側面に沿って鉛直方向下方に延伸して取り付けられている。流向調整板7fは、吐出部7dの先端(下端)から鉛直方向下方にさらに真っ直ぐ延伸され、流向調整板7fの先端部分が、貯留部5の底部5c近傍において、第三領域5dとは反対側の第四領域5eの方向に弧を描いて湾曲している。つまり、流向調整板7fの先端部分には、所定の湾曲面(内側湾曲面とも言う)が形成されている。また、流向調整板7fは、図6に示すように、吐出部7dの一方の側面から対向する他方の側面まで延伸されて設置される。つまり、流向調整板7fは、吐出部7dの開口幅に対応して構成されている。そして、流向調整板7fの湾曲面には、吐出部7dから鉛直方向下方に放出された気泡8(気泡8を含む次亜塩素酸水溶液6)が吹き付けられる。 Specifically, the flow direction adjusting plate 7f is attached so as to extend vertically downward from the lower end of the bubble generating section 7c along the side surface of the discharge section 7d on the side of the solution suction port 7a. The flow direction adjusting plate 7f extends further straight down in the vertical direction from the tip (lower end) of the discharge portion 7d, and the tip portion of the flow direction adjusting plate 7f is located on the opposite side from the third region 5d in the vicinity of the bottom 5c of the storage portion 5. It is curved in an arc in the direction of the fourth region 5e. That is, a predetermined curved surface (also referred to as an inner curved surface) is formed at the tip of the flow direction adjustment plate 7f. Further, as shown in FIG. 6, the flow direction adjusting plate 7f is installed so as to extend from one side surface of the discharge portion 7d to the other opposing side surface. In other words, the flow direction adjustment plate 7f is configured to correspond to the opening width of the discharge portion 7d. Then, the bubbles 8 (hypochlorous acid aqueous solution 6 containing the bubbles 8) discharged vertically downward from the discharge portion 7d are sprayed onto the curved surface of the flow direction adjusting plate 7f.

次に、図5を参照して、空間浄化装置2bにおける気泡8の流れについて説明する。 Next, with reference to FIG. 5, the flow of bubbles 8 in the space purifying device 2b will be described.

吐出部7dから放出された気泡8は、鉛直方向下方にある貯留部5の底部5cに向かって放出されるので、そのまま次亜塩素酸水溶液6中を矢印F4の方向に下降する。下降した気泡8は、流向調整板7fの湾曲面に衝突する勢いで、そのまま流向調整板7fの湾曲面に沿うようにして流通方向を変え、貯留部5の底部5cに沿って略水平方向(矢印F5)に流通していく。この際、下降した気泡8は、流向調整板7fによって第三領域5dとは逆の方向に流通するので、溶液吸込口7aが位置する第三領域5dには拡散しない。 The bubbles 8 discharged from the discharge part 7d are discharged toward the bottom part 5c of the storage part 5 located vertically downward, so they descend in the hypochlorous acid aqueous solution 6 in the direction of the arrow F4. The descending air bubbles 8 have the force of colliding with the curved surface of the flow direction adjustment plate 7f, change the flow direction so as to continue along the curved surface of the flow direction adjustment plate 7f, and flow in a substantially horizontal direction ( It is distributed in the direction shown by arrow F5). At this time, the air bubbles 8 that have descended flow in the direction opposite to the third region 5d by the flow direction adjusting plate 7f, and therefore do not diffuse into the third region 5d where the solution suction port 7a is located.

そして、略水平方向に流通する気泡8は、矢印F6のように、浮力の影響を受けて液面6aに向けて浮上していく。浮上した気泡8は、液面6aに到達すると破裂して内部空間11の空気と混ざり合い、空気3cとして空気放出部9へと移動していく。上述した通り、空気3cには、次亜塩素酸ガスが含まれる。 Then, the bubbles 8 flowing in the substantially horizontal direction float toward the liquid surface 6a under the influence of buoyancy, as indicated by arrow F6. When the floating bubbles 8 reach the liquid surface 6a, they burst, mix with the air in the internal space 11, and move to the air discharge section 9 as air 3c. As described above, the air 3c contains hypochlorous acid gas.

空気放出部9に導入された空気3cは、エリミネータ10を通過して風路部17の混合
部21に導出される。
The air 3c introduced into the air discharge section 9 passes through the eliminator 10 and is led out to the mixing section 21 of the air path section 17.

混合部21に導出された空気3c(次亜塩素酸ガスを含む空気3c)は、内部風路24を流通する空気3bと混合され、次亜塩素酸ガスを含む空気4として吹出部19から個室空間1に放出される。 The air 3c (air 3c containing hypochlorous acid gas) led out to the mixing part 21 is mixed with the air 3b flowing through the internal air passage 24, and is sent from the blowing part 19 to a private room as air 4 containing hypochlorous acid gas. released into space 1.

そして、放出された空気4(次亜塩素酸ガスを含む空気4)は、個室空間1内に拡散していく。その結果、次亜塩素酸ガスを含む空気4によって個室空間1の除菌がなされる。 The released air 4 (air 4 containing hypochlorous acid gas) then diffuses into the private room space 1. As a result, the private room space 1 is sterilized by the air 4 containing hypochlorous acid gas.

本実施の形態では、気泡生成部7cでの空気3aと次亜塩素酸水溶液6との攪拌&混合、及び、気泡8が矢印F4の方向と矢印F5の方向に移動することに伴う、気泡8の次亜塩素酸水溶液6中を滞留する時間の長時間化によって、気泡8に含ませる次亜塩素酸ガスの濃度を高くすることができる。 In this embodiment, the air 3a and the hypochlorous acid aqueous solution 6 are stirred and mixed in the air bubble generating section 7c, and the air bubbles 8 are generated as the air bubbles 8 move in the direction of the arrow F4 and the direction of the arrow F5. By increasing the residence time in the hypochlorous acid aqueous solution 6, the concentration of the hypochlorous acid gas contained in the bubbles 8 can be increased.

以上、本実施の形態3に係る空間浄化装置2bによれば、上記した効果(1)~(2)に加え、以下の効果を享受することができる。 As described above, according to the space purification device 2b according to the third embodiment, in addition to the effects (1) to (2) described above, the following effects can be enjoyed.

(6)空間浄化装置2bでは、空気供給部7は、空気供給部7は、吐出部7dの先端に設けられ、吐出部7dから鉛直方向下方に向けて放出された気泡8の流通方向を調整する流向調整板7fを備える。流向調整板7fは、溶液吸込口7aが配置された領域(第三領域5d)とは流向調整板7fを挟んで反対側の領域(第四領域5e)の方向に気泡8の流通方向を変化させる構成とした。これにより、第四領域5eにおいて吐出部7dから放出された気泡8は、流向調整板7fによって溶液吸込口7aが配置された第三領域5dと反対側の第四領域5eの方向に流通するので、気泡8が第三領域5dの溶液吸込口7aに吸込まれるのを抑制することができる。この結果、気泡8を含む次亜塩素酸水溶液6が溶液吸込口7aから取り込まれることに起因する異音の発生が抑制される。つまり、空間浄化装置2bは、騒音を抑制しつつ、より高濃度の次亜塩素酸ガスを外部に供給することができる。 (6) In the space purification device 2b, the air supply section 7 is provided at the tip of the discharge section 7d, and adjusts the flow direction of the air bubbles 8 discharged vertically downward from the discharge section 7d. The flow direction adjusting plate 7f is provided. The flow direction adjustment plate 7f changes the flow direction of the bubbles 8 toward a region (fourth region 5e) on the opposite side of the flow direction adjustment plate 7f from the region (third region 5d) where the solution suction port 7a is arranged. The configuration was such that As a result, the air bubbles 8 discharged from the discharge part 7d in the fourth region 5e flow in the direction of the fourth region 5e on the opposite side to the third region 5d where the solution suction port 7a is arranged by the flow direction adjusting plate 7f. , it is possible to suppress the air bubbles 8 from being sucked into the solution suction port 7a of the third region 5d. As a result, the generation of abnormal noise caused by the hypochlorous acid aqueous solution 6 containing air bubbles 8 being taken in from the solution suction port 7a is suppressed. In other words, the space purification device 2b can supply hypochlorous acid gas at a higher concentration to the outside while suppressing noise.

以上、実施の形態に基づき本発明を説明したが、本発明は上記の実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改良変形が可能であることは容易に推察できるものである。 Although the present invention has been described above based on the embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various improvements and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. can be easily inferred.

本実施の形態に係る空間浄化装置2、2aでは、貯留部5の底部5cに仕切板25を設け、空間浄化装置2bでは、吐出部7dの先端に流向調整板7fを設けた。しかしながら、これに限られず、例えば、仕切板25あるいは流向調整板7fを設ける代わりに、第二領域5b側または第四領域5e側に気泡8が選択的に流通するように、吐出部7d自体の吹出方向を変えてもよい。具体的には、吐出部7dから気泡8(気泡8を含む次亜塩素酸水溶液6)を吹き出す方向を、鉛直方向下方ではなく、鉛直方向に対して斜め45度(第一領域5aまたは第三領域5dとは反対側となる斜め45度)の方向にしてもよい。このようにしても、気泡8が溶液吸込口7aに吸込まれるのを抑制することができる。また、次亜塩素酸水溶液6中を流通する気泡8が次亜塩素酸水溶液6と接触する時間を長くすることができる。 In the space purification devices 2 and 2a according to the present embodiment, a partition plate 25 is provided at the bottom 5c of the storage portion 5, and in the space purification device 2b, a flow direction adjustment plate 7f is provided at the tip of the discharge portion 7d. However, the present invention is not limited to this, and for example, instead of providing the partition plate 25 or the flow direction adjusting plate 7f, the discharge part 7d itself may be configured such that the air bubbles 8 selectively flow to the second region 5b side or the fourth region 5e side. The blowing direction may be changed. Specifically, the direction in which the bubbles 8 (the hypochlorous acid aqueous solution 6 containing the bubbles 8) are blown out from the discharge part 7d is set at an angle of 45 degrees with respect to the vertical direction (the first region 5a or the third The direction may be at an angle of 45 degrees, which is the opposite side to the region 5d. Even in this case, the air bubbles 8 can be prevented from being sucked into the solution suction port 7a. Moreover, the time during which the bubbles 8 flowing through the hypochlorous acid aqueous solution 6 are in contact with the hypochlorous acid aqueous solution 6 can be increased.

また、本実施の形態に係る空間浄化装置2、2aでは、仕切板25に順テーパ形状を有して構成したが、これに限られない。例えば、仕切板25をテーパ形状のない矩形板で構成してもよい。このようにしても、貯留部5の底部5cに衝突する勢いの気泡8が第一領域5a側に拡散するのを抑制することができる。 Further, in the space purification devices 2 and 2a according to the present embodiment, the partition plate 25 is configured to have a forward tapered shape, but the present invention is not limited to this. For example, the partition plate 25 may be a rectangular plate without a tapered shape. Even in this case, it is possible to suppress the bubbles 8 having the force of colliding with the bottom portion 5c of the storage portion 5 from diffusing toward the first region 5a side.

また、本実施の形態に係る空間浄化装置2bでは、流向調整板7fの先端部分を湾曲面
で構成したが、これに限られない。例えば、流向調整板7fの先端部分を湾曲していない矩形板で構成してもよい。このようにしても、貯留部5の底部5cに衝突する勢い気泡8が第三領域5d側に拡散するのを抑制することができる。
Further, in the space purification device 2b according to the present embodiment, the tip portion of the flow direction adjusting plate 7f is configured to have a curved surface, but the present invention is not limited to this. For example, the tip portion of the flow direction adjusting plate 7f may be formed of a non-curved rectangular plate. Even in this case, it is possible to suppress the force bubbles 8 colliding with the bottom 5c of the storage section 5 from diffusing toward the third region 5d.

また、本実施の形態に係る空間浄化装置2bでは、吐出部7dの先端に流向調整板7fを固定して設けたが、これに限らない。例えば、流向調整板7fは、要求される次亜塩素酸ガス濃度に応じて吐出部7dに対する角度を調整可能な、可動式の調整板としてもよい。このようにすることで、より正確に吹き出される次亜塩素酸ガス濃度をコントロールすることができる。 Further, in the space purification device 2b according to the present embodiment, the flow direction adjusting plate 7f is fixedly provided at the tip of the discharge portion 7d, but the present invention is not limited to this. For example, the flow direction adjustment plate 7f may be a movable adjustment plate whose angle relative to the discharge portion 7d can be adjusted according to the required hypochlorous acid gas concentration. By doing so, the concentration of hypochlorous acid gas blown out can be controlled more accurately.

また、本実施の形態に係る空間浄化装置2aは、次亜塩素酸水溶液6における次亜塩素酸の濃度を計測するセンサをさらに備えるように構成し、センサの出力に応じて次亜塩素酸水生成部29を制御し、次亜塩素酸水溶液6の濃度をコントロールするようにしてもよい。具体的には、センサの出力する次亜塩素酸水溶液6の濃度が規定値を下回ると、次亜塩素酸水生成部29を動作させ、センサの出力する次亜塩素酸水溶液6の濃度が規定値となったら次亜塩素酸水生成部29を停止するように制御する。これにより、次亜塩素酸水溶液6の濃度をより確実に一定の範囲内に制御することができる。 Moreover, the space purification device 2a according to the present embodiment is configured to further include a sensor that measures the concentration of hypochlorous acid in the hypochlorous acid aqueous solution 6, and the hypochlorous acid water The generation unit 29 may be controlled to control the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6. Specifically, when the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 output from the sensor falls below a specified value, the hypochlorous acid water generation unit 29 is operated, and the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 output from the sensor falls below the specified value. When the value is reached, the hypochlorous acid water generating section 29 is controlled to be stopped. Thereby, the concentration of the hypochlorous acid aqueous solution 6 can be more reliably controlled within a certain range.

また、本実施の形態に係る空間浄化装置2,2bでは、次亜塩素酸水溶液6を、除菌成分を含む水溶液の例として説明したが、これに限られない。除菌成分を含む水溶液として、例えば、水道水を電気分解して得られるオゾン水溶液(オゾン水とも言う)を用いてもよい。この場合にも、空気供給部の内部においてオゾン水溶液と空気とを混合する過程で、空気内に一定程度のオゾンガスを含ませることができる。これにより、気泡8には、空気供給部7の内部で取り込まれるオゾンガスと、気泡8がオゾン水溶液中を浮上する過程で気泡8内に取り込まれるオゾンガスとを含ませることができる。この結果、気泡8が液面に達した際に、気泡8から放出されるオゾンガスの濃度を増加させることができる。他にも、例えば、高濃度二酸化塩素水溶液を希釈して得られる二酸化塩素水溶液を用いてもよい。この場合にも同様で、空気供給部7の内部において二酸化塩素水溶液と空気とを混合する過程で、空気内に一定程度の二酸化塩素ガスを含ませることができる。これにより、気泡8には、空気供給部7の内部で取り込まれる二酸化塩素ガスと、気泡8が二酸化塩素水溶液中を浮上する過程で気泡8内に取り込まれる二酸化塩素ガスとを含ませることができる。この結果、気泡8が液面に達した際に、気泡8から放出される二酸化塩素ガスの濃度を増加させることができる。 Furthermore, in the space purification devices 2 and 2b according to the present embodiment, the hypochlorous acid aqueous solution 6 has been described as an example of an aqueous solution containing a sterilizing component, but the present invention is not limited to this. As the aqueous solution containing a sterilizing component, for example, an ozone aqueous solution (also referred to as ozone water) obtained by electrolyzing tap water may be used. Also in this case, a certain amount of ozone gas can be included in the air during the process of mixing the ozone aqueous solution and air inside the air supply section. Thereby, the bubbles 8 can contain ozone gas taken in inside the air supply section 7 and ozone gas taken into the bubbles 8 in the process of the bubbles 8 floating in the ozone aqueous solution. As a result, when the bubbles 8 reach the liquid level, the concentration of ozone gas released from the bubbles 8 can be increased. Alternatively, for example, a chlorine dioxide aqueous solution obtained by diluting a highly concentrated chlorine dioxide aqueous solution may be used. The same applies to this case, and in the process of mixing the chlorine dioxide aqueous solution and air inside the air supply section 7, a certain amount of chlorine dioxide gas can be included in the air. Thereby, the bubbles 8 can contain chlorine dioxide gas taken in inside the air supply section 7 and chlorine dioxide gas taken into the bubbles 8 during the process of the bubbles 8 floating in the chlorine dioxide aqueous solution. . As a result, when the bubbles 8 reach the liquid level, the concentration of chlorine dioxide gas released from the bubbles 8 can be increased.

本発明に係る空間浄化装置では、より高濃度の除菌成分ガス(例えば、次亜塩素酸ガス)を対象空間に供給することができるので、個室空間などを除菌する装置として有用である。 The space purification device according to the present invention can supply a higher concentration of sterilizing component gas (for example, hypochlorous acid gas) to the target space, so it is useful as a device for sterilizing a private room space or the like.

1 個室空間
2 空間浄化装置
2a 空間浄化装置
2b 空間浄化装置
3 空気
3a 空気
3b 空気
3c 空気
4 空気
5 貯留部
5a 第一領域
5b 第二領域
5c 底部
5d 第三領域
5e 第四領域
6 次亜塩素酸水溶液
6a 液面
7 空気供給部
7a 溶液吸込口
7b 空気吸込口
7c 気泡生成部
7d 吐出部
7e モータ部
7f 流向調整板
8 気泡
9 空気放出部
10 エリミネータ
11 内部空間
12 空気供給部保持部
13 次亜塩素酸水溶液供給部
13a 次亜塩素酸水溶液タンク
13b 次亜塩素酸水溶液ポンプ
13c チューブ
15 高濃度次亜塩素酸水溶液
16 水位センサ
16a 満水センサ
16b 渇水センサ
17 風路部
18 外気吸込部
19 吹出部
21 混合部
22 送風部
23 フィルタ部
24 内部風路
25 仕切板
25a 第一テーパ部
25b 第二テーパ部
26 塩化物供給部
26a 塩化物水溶液タンク
26b 塩化物ポンプ
26c チューブ
27 電極
28 塩化物水溶液
29 次亜塩素酸水生成部
1 Private room space 2 Space purification device 2a Space purification device 2b Space purification device 3 Air 3a Air 3b Air 3c Air 4 Air 5 Storage part 5a First area 5b Second area 5c Bottom 5d Third area 5e Fourth area 6 Hypochlorite Acid aqueous solution 6a Liquid level 7 Air supply part 7a Solution suction port 7b Air suction port 7c Bubble generation part 7d Discharge part 7e Motor part 7f Flow direction adjustment plate 8 Bubbles 9 Air discharge part 10 Eliminator 11 Internal space 12 Air supply part holding part 13 Next Hypochlorous acid aqueous solution supply section 13a Hypochlorous acid aqueous solution tank 13b Hypochlorous acid aqueous solution pump 13c Tube 15 High concentration hypochlorous acid aqueous solution 16 Water level sensor 16a Full water sensor 16b Water shortage sensor 17 Air path section 18 Outside air suction section 19 Blowout section 21 Mixing section 22 Air blowing section 23 Filter section 24 Internal air passage 25 Partition plate 25a First tapered section 25b Second tapered section 26 Chloride supply section 26a Chloride aqueous solution tank 26b Chloride pump 26c Tube 27 Electrode 28 Chloride aqueous solution 29 Next Chlorous acid water generation section

Claims (3)

除菌成分を含む水溶液を貯留する貯留部と、
外部から取り込んだ空気を気泡として前記除菌成分を含む水溶液中に放出する空気供給部と、
を備え、
前記空気供給部は、前記貯留部に浸漬された溶液吸込口を介して前記貯留部から内部に取り込んだ前記除菌成分を含む水溶液と、外部から取り込んだ前記空気とを混合しながら、前記貯留部が貯留する前記除菌成分を含む水溶液中に前記気泡を放出する際、前記貯留部において前記溶液吸込口が配置された領域から離れていく方向に前記気泡を流通させる、空間浄化装置。
a storage section that stores an aqueous solution containing a sterilizing component;
an air supply unit that releases air taken in from the outside into the aqueous solution containing the sterilization component as bubbles;
Equipped with
The air supply unit mixes the aqueous solution containing the sterilizing component taken into the storage unit from the storage unit through a solution suction port immersed in the storage unit, and the air taken in from the outside. When releasing the bubbles into the aqueous solution containing the sterilizing component stored in the storage section, the space purification device causes the bubbles to flow in a direction away from a region where the solution suction port is arranged in the storage section.
前記気泡は、前記空気供給部から鉛直方向下方に向けて選択的に放出され、前記貯留部の底部に沿って前記溶液吸込口が配置された領域から離れていく方向に流通した後、前記除菌成分を含む水溶液の液面に向けて浮上する、請求項1に記載の空間浄化装置。 The air bubbles are selectively discharged vertically downward from the air supply section, flow in a direction away from the area where the solution suction port is arranged along the bottom of the storage section, and then The space purification device according to claim 1, which floats toward the surface of the aqueous solution containing bacterial components. 前記貯留部に前記除菌成分を含む水溶液を供給する除菌成分供給部を備え、
前記除菌成分供給部は、前記空気供給部から放出される前記気泡が流通する領域外に設置される、請求項1または2に記載の空間浄化装置。
comprising a sterilizing component supply section that supplies an aqueous solution containing the sterilizing component to the storage section,
The space purification device according to claim 1 or 2, wherein the sterilization component supply section is installed outside a region through which the bubbles released from the air supply section flow.
JP2022180783A 2022-03-24 2022-11-11 Space purifier Pending JP2023143658A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022180783A JP2023143658A (en) 2022-03-24 2022-11-11 Space purifier
PCT/JP2023/000430 WO2023181590A1 (en) 2022-03-24 2023-01-11 Space purification device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022047679A JP7198987B1 (en) 2022-03-24 2022-03-24 space purifier
JP2022180783A JP2023143658A (en) 2022-03-24 2022-11-11 Space purifier

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022047679A Division JP7198987B1 (en) 2022-03-24 2022-03-24 space purifier

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023143658A true JP2023143658A (en) 2023-10-06

Family

ID=88100947

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022180783A Pending JP2023143658A (en) 2022-03-24 2022-11-11 Space purifier

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2023143658A (en)
WO (1) WO2023181590A1 (en)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4471742B2 (en) * 2004-03-26 2010-06-02 三洋電機株式会社 Air conditioner and electrolyzed water spray device
CA2675574C (en) * 2006-04-06 2017-09-05 Cdg Research Corporation Use of storage-stable aqueous solutions of chlorine dioxide to generate pure chlorine dioxide gas for decontamination
JP2019019016A (en) * 2017-07-12 2019-02-07 日本軽金属株式会社 Aqueous sodium hypochlorite solution, sodium hypochlorite pentahydrate crystal for giving the same, and method for producing aqueous sodium hypochlorite solution
JP2019072359A (en) * 2017-10-18 2019-05-16 キヤノンマーケティングジャパン株式会社 Cleaning system, method of controlling the same, and program, and information processing device, method of controlling the same, and program
JP7241257B2 (en) * 2018-12-27 2023-03-17 パナソニックIpマネジメント株式会社 Liquid atomization device
WO2022054616A1 (en) * 2020-09-10 2022-03-17 パナソニックIpマネジメント株式会社 Air purification device and air purifying function-equipped heat exchange-type ventilation device using same

Also Published As

Publication number Publication date
WO2023181590A1 (en) 2023-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4740080B2 (en) Air sanitizer
JP4753824B2 (en) Air sanitizer
KR20080039260A (en) Air sterilizing device
JP2010029244A (en) Air sterilizing apparatus
JP2011244866A (en) Air sterilizing apparatus
WO2023181590A1 (en) Space purification device
JP7198987B1 (en) space purifier
WO2011065289A1 (en) Water supply tank and electrolytic device provided with same
JP5289215B2 (en) Air sanitizer
KR20110079945A (en) Humidifier capable of sterilizing water
WO2023228472A1 (en) Space sanitization device
JP2011045564A (en) Air disinfecting apparatus
JP2020151276A (en) Air purification device
WO2022190613A1 (en) Air purification device
JP2024016985A (en) Space purifier
WO2022209124A1 (en) Air purification device
WO2022209123A1 (en) Air purification device
WO2022264656A1 (en) Sterilization device
JP2023101050A (en) Hypochlorous acid generation device
JP2011045563A (en) Air disinfecting apparatus
JP2024005176A (en) Desktop air purification device
JP2023031470A (en) Sterilization device
JP2022182222A (en) air conditioner
JP2022130842A (en) Air purification device
JP2009045388A (en) Air sterilizer