JP2023132956A - 照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システム - Google Patents
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Abstract
【課題】正常組織のダメージを低く保ちながら、標的の治療効果を高めることができる照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システムを提供する。【解決手段】イオン源2で生成した荷電粒子を線形加速器4およびシンクロトロン5で加速して標的80に照射する荷電粒子照射システム1の照射パラメータデータ67を決定する計画装置70について、1つの標的80に対する照射パラメータデータ67を、複数種類のイオン種の荷電粒子を組み合わせて決定し、荷電粒子の照射の順序を、線エネルギ付与が小さいイオン種の順序が先になるように決定する計画プログラム73とこれを実行するCPU71を備えた。【選択図】図2
Description
この発明は、例えば標的に荷電粒子を照射する荷電粒子照射システムの照射計画を作成するような照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システムに関する。
従来、荷電粒子をがん細胞などの患部に照射する重粒子線治療を行う装置が提供されている。炭素線治療などの重粒子線治療では、標的内に一様な臨床効果を実現することが好ましい。このためには、吸収線量に生物学的効果比(RBE)を掛け合わせた臨床線量を定義し、それが標的内で一様になるように照射計画を立案するといったことができる。
図6(A)は、単一のイオン種の荷電粒子を照射する照射スポットを説明する説明図である。この図は、標的の縦断面をビーム進行方向側面から見た図である。図示するように、体表面188の奥にある腫瘍領域182に対して、照射方向垂直面に配置したスポットSPを照射方向へ配置して3次元的にスポットSPを配置する。このスポットSPに順次イオン種のビームを図示矢印方向から照射していき、腫瘍領域182を塗りつぶすように照射する。
図6(B)は、このような炭素線治療による深部線量分布図である。この図には、臨床線量191、RBE192、およびイオン種照射線量193の深度分布を示している。炭素線治療で標的内に一様な臨床線量を設計する場合、それを実現するための炭素線の線質(LET)分布はほぼ一意に決定される。ここでRBE192に誤差192a,192bがあった場合、臨床線量191の分布に大きなゆがみ191a,191bが発生し、臨床線量分布が大きく悪化する可能性がある。
RBEは、線質(粒子種やLET)、線量レベル、細胞種、エンドポイントなどに依存し、それ自体に大きな誤差が付随する。従って、臨床線量分布が大きく悪化することを防止するために、このRBEの誤差を軽減することが望まれる。
このような荷電粒子の照射装置について、例えば、複数種類のイオン種の荷電粒子を組み合わせて、1つの標的に対する照射パラメータを決定する照射計画装置が提案されている(特許文献1参照)。
このような荷電粒子の照射装置では、骨軟部肉腫や膵がんといった難治性の腫瘍に対する治療成績を劇的に改善させることを目的として、従来技術よりも正常組織へのダメージを低く保ちながら、がん細胞の殺傷効果をさらに高めていくことが望まれている。
この発明は、上述の課題に鑑みて、正常組織へのダメージを低く保ちながら、標的の治療効果を高めることができる照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システムを提供することを目的とする。
この発明は、所定のイオン種の荷電粒子を加速器で加速して標的に照射する荷電粒子照射システムの照射パラメータを決定する照射計画装置であって、1つの標的に対する前記照射パラメータを、複数種類のイオン種の前記荷電粒子を組み合わせて決定する、複合照射パラメータ決定手段を備え、前記複合照射パラメータ決定手段は、前記標的内の少なくとも一部の部位に対して複数種類の前記イオン種の荷電粒子を照射するよう決定する照射イオン種決定処理と、前記照射イオン種決定処理により決定した複数種類のイオン種のうち線エネルギ付与が小さいイオン種の荷電粒子を先に照射するよう照射順序を決定する照射順序決定処理とを実行する照射計画装置、またはその照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システムであることを特徴とする。
この発明により、正常組織のダメージを低く保ちながら、標的の治療効果を高めることができる照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システムを提供できる。
以下、この発明の一実施形態を図面と共に説明する。
図1は、荷電粒子照射システム1の構成を示す構成図である。荷電粒子照射システム1は、複数のイオン源2(2A,2B,2C)と、複数イオン源接続部3と、線形加速器4と、シンクロトロン5と、搬送系6と、固定照射部20と、回転ガントリ22と、これらを制御する制御装置50を備えている。そして、制御装置50には、治療計画データを送信する計画装置70が接続されている。
図1は、荷電粒子照射システム1の構成を示す構成図である。荷電粒子照射システム1は、複数のイオン源2(2A,2B,2C)と、複数イオン源接続部3と、線形加速器4と、シンクロトロン5と、搬送系6と、固定照射部20と、回転ガントリ22と、これらを制御する制御装置50を備えている。そして、制御装置50には、治療計画データを送信する計画装置70が接続されている。
イオン源2は、原子から電子を取り除いてイオンを生成する装置であり、第1種のイオン種を取り出す第1イオン源2Aと、第2種のイオン種を取り出す第2イオン源2Bと、第3種のイオン種を取り出す第3イオン源2Cとを有する。第1から第3の各イオン源2は、それぞれ酸素イオン、炭素イオン、ヘリウムイオンを生成するなど、異なる種類のイオンを生成するように構成されている。
複数イオン源接続部3は、第1イオン源2A~第3イオン源2Cを選択的に線形加速器4に接続する接続部である。複数イオン源接続部3は、制御装置50の制御により、線形加速器4へイオン種を供給するイオン源2を、第1イオン源2A~第3イオン源2Cのいずれか1つに適宜切り替える。
複数イオン源接続部3は、第1イオン源2A~第3イオン源2Cを選択的に線形加速器4に接続する接続部である。複数イオン源接続部3は、制御装置50の制御により、線形加速器4へイオン種を供給するイオン源2を、第1イオン源2A~第3イオン源2Cのいずれか1つに適宜切り替える。
線形加速器4は、加速器の一種であり、イオン源2から供給される荷電粒子を電磁石によって所定エネルギまで加速し、シンクロトロン5に供給する。
シンクロトロン5は、加速器の一種であり、線形加速器4から入射した荷電粒子を電磁石によって周回軌道上でさらに加速して高エネルギにする加速器である。
シンクロトロン5は、加速器の一種であり、線形加速器4から入射した荷電粒子を電磁石によって周回軌道上でさらに加速して高エネルギにする加速器である。
搬送系6は、シンクロトロン5から射出部11によって取り出された荷電粒子を照射装置25まで電磁石により搬送する。
射出部11は、シンクロトロン5と搬送系6の接続部分に設けられ、制御装置50の制御に従ってシンクロトロン5から荷電粒子を搬送系6へ射出する。
切替部12は、搬送系6上に設けられ、制御装置の制御に従って、搬送系6で搬送される荷電粒子をどの治療室9(9A,9B,9C)の照射装置25へ搬送するかを切り替える。
治療室9A,9Bに設けられた固定照射部20は、後端の照射装置25から荷電粒子を照射する。
射出部11は、シンクロトロン5と搬送系6の接続部分に設けられ、制御装置50の制御に従ってシンクロトロン5から荷電粒子を搬送系6へ射出する。
切替部12は、搬送系6上に設けられ、制御装置の制御に従って、搬送系6で搬送される荷電粒子をどの治療室9(9A,9B,9C)の照射装置25へ搬送するかを切り替える。
治療室9A,9Bに設けられた固定照射部20は、後端の照射装置25から荷電粒子を照射する。
治療室9Cに設けられた回転ガントリ22は、回転により荷電粒子の照射方向を変更でき、変更後の照射方向へ向けて後端の照射装置25から荷電粒子を照射する。なお、治療室9A、9Bのような固定照射部20を備える治療室の場合、患者が乗せられているベッドや台を移動および/または回転させることで、患者および患者体内に位置する標的に対する照射方向を変更することができる。
照射装置25は、荷電粒子のXY方向(荷電粒子の照射方向に対する垂直平面方向)の位置をX方向スキャニング磁石とY方向スキャニング磁石で制御し、荷電粒子のZ方向(荷電粒子の進行方向)の停止位置をエネルギ変更部(レンジフタ)により制御し、スキャニングモニタにより照射スポット別の荷電粒子の照射線量を計測する。すなわち、照射装置25は、荷電粒子の照射スポットの3次元位置の制御と照射線量を計測するスキャニング照射装置として機能する。このスキャニング照射装置は、荷電粒子が細く絞られたペンシルビームを3次元的に走査し、腫瘍を塗りつぶすようにして治療を行う。
制御装置50は、CPU(中央演算処理装置)51と記憶部52とを有している。記憶部には制御プログラム60と電流値変更パターンデータ66と照射パラメータデータ67と最大深度データ68等、各種のプログラムとデータが記憶されている。CPU51は、制御プログラム60等のプログラムに従って電流値変更パターンデータ66および照射パラメータデータ67等のデータを用いて動作する。この動作により、制御装置50は、イオン源切替部61、加速器制御部62、照射位置制御部63、停止位置制御部64、及び線量モニタ部65として機能する。また、CPU51は、イオン源切替部61でイオン種を切り替えて加速器制御部62で適切な電流値での加速を行い照射位置制御部63および停止位置制御部64で照射スポットを変更していく制御を行う複数イオン種照射制御部としても機能する。
イオン源切替部61は、荷電粒子を発生させるイオン源を第1イオン源2Aから第3イオン源2Cのいずれか1つに切り替える制御を行う。これにより、スピル間でイオン種を切り替えることができる。
加速器制御部62は、イオン源2から供給されるイオン種に応じ電流値変更パターンデータ66から適切な電流値変更パターンを読み出し、この電流値変更パターンに従って線形加速器4の電磁石に流す電流値を制御する。
加速器制御部62は、イオン源2から供給されるイオン種に応じ電流値変更パターンデータ66から適切な電流値変更パターンを読み出し、この電流値変更パターンに従って線形加速器4の電磁石に流す電流値を制御する。
照射位置制御部63は、照射装置25のX方向スキャニング磁石とY方向スキャニング磁石を制御駆動し、標的に向かって射出する荷電粒子の進行方向垂直面での位置(XY方向の位置)を制御する。
停止位置制御部64は、照射装置25のエネルギ変更部を制御駆動し、荷電粒子の進行方向(Z方向)の停止位置を制御する。
線量モニタ部65は、照射装置25の線量モニタによって計測された照射スポット別の照射線量を取得する。
停止位置制御部64は、照射装置25のエネルギ変更部を制御駆動し、荷電粒子の進行方向(Z方向)の停止位置を制御する。
線量モニタ部65は、照射装置25の線量モニタによって計測された照射スポット別の照射線量を取得する。
電流値変更パターンデータ66は、イオン種別に線形加速器4、シンクロトロン5、および線形加速器4の電磁石に流す電流値のパターンデータである。この電流値変更パターンデータ66を記憶する記憶部52は、電流パターン記憶部として機能する。
照射パラメータデータ67は、スポット番号、X位置、Y位置、エネルギ,照射量、及びイオン種を有するデータである。エネルギは、Z方向の照射位置を示している。照射量は照射する荷電粒子の個数または線量を示している。イオン種は、イオン種名、イオン種番号、または第1イオン源2Aから第3イオン源2Cのどのイオン源を用いるかを示すイオン源IDなど、照射すべきイオン種を特定できる適宜の情報で構成される。この照射パラメータデータ67は、計画装置70から受け取って記憶部52に記憶される。
最大深度データ68は、荷電粒子照射システム1で照射できるイオン種別の最大深度を記憶している。この最大深度は、重いイオン種(高LET(Linear Energy Transfer)放射線)ほど浅く、軽いイオン種(低LET放射線)ほど深くなる。従って、軽いイオン種については設定せず、使用可能なイオン種の一部の重いイオン種にのみ設定する構成としてもよい。ここでいう「軽い」と「重い」の比較は、各イオン種の線エネルギ付与(LET)が小さいか大きいかの比較である。例えば、ヘリウムイオン(He)は、酸素イオン(O)と比較して線エネルギ付与(LET)が小さいため、ヘリウムイオンは酸素イオンより「軽い」となる。
制御装置50は、その他にも射出部11から荷電粒子を射出する制御、切替部12により荷電粒子の照射先を切り替える制御等も実行する。
この制御装置50による照射スポットの切り替えとイオン種の切り替えは、適宜の順に行うとよい。例えば、1つのイオン種について全照射スポットへの照射を完了してから次のイオン種に切り替える、あるいは所定範囲の照射スポットについて全てのイオン種を照射してから次の所定範囲の照射スポットに切り替えるといったことができる。所定範囲の照射スポットは、1つの照射方向深さ位置における照射方向垂直面の全照射スポットとする、あるいは1つの照射スポットとするなど、適宜の範囲とすることができる。なお、イオン種を変更すると電流値変更パターンデータ66に従ってシンクロトロン5等に流す電流値を変化させる必要があるため、イオン種別に全照射スポットに照射していくことが望ましい。
この制御装置50による照射スポットの切り替えとイオン種の切り替えは、適宜の順に行うとよい。例えば、1つのイオン種について全照射スポットへの照射を完了してから次のイオン種に切り替える、あるいは所定範囲の照射スポットについて全てのイオン種を照射してから次の所定範囲の照射スポットに切り替えるといったことができる。所定範囲の照射スポットは、1つの照射方向深さ位置における照射方向垂直面の全照射スポットとする、あるいは1つの照射スポットとするなど、適宜の範囲とすることができる。なお、イオン種を変更すると電流値変更パターンデータ66に従ってシンクロトロン5等に流す電流値を変化させる必要があるため、イオン種別に全照射スポットに照射していくことが望ましい。
この荷電粒子照射システム1により、イオン源2で複数種類の異なるイオン種の前記荷電粒子を生成でき、この複数のイオン種を切り替えて、加速した各イオン種の荷電粒子を1つの標的に照射できる。
計画装置70は、CPU71、記憶部72、入力部74、および表示部75を有するコンピュータであり、照射計画装置として機能する。
記憶部72は、照射計画プログラムとしての計画プログラム73等の各種プログラムと各種データを記憶している。
CPU71は、計画プログラム73等のプログラムに従って記憶部72のデータを用いて動作する。この動作により、計画装置70は、照射パラメータデータ67を作成し、この照射パラメータデータ67を制御装置50に送信する。
入力部74は、キーボードとマウス等の入力装置で構成され、治療計画者等の入力操作を受け付ける。
表示部75は、ディスプレイ等の文字および画像を表示する表示装置で構成され、CT撮影画像やMRI画像やPET画像等の各種画像と各種領域(GTV,CTV,PTV)等を表示する。
記憶部72は、照射計画プログラムとしての計画プログラム73等の各種プログラムと各種データを記憶している。
CPU71は、計画プログラム73等のプログラムに従って記憶部72のデータを用いて動作する。この動作により、計画装置70は、照射パラメータデータ67を作成し、この照射パラメータデータ67を制御装置50に送信する。
入力部74は、キーボードとマウス等の入力装置で構成され、治療計画者等の入力操作を受け付ける。
表示部75は、ディスプレイ等の文字および画像を表示する表示装置で構成され、CT撮影画像やMRI画像やPET画像等の各種画像と各種領域(GTV,CTV,PTV)等を表示する。
このように構成された荷電粒子照射システム1により、照射パラメータデータ67に基づいて、複数のイオン種を用いることで荷電粒子のビーム強度を変調して照射する強度変調混合イオン照射法(IMCIT)を実行できる。
次に、計画装置70により複数のイオン種を用いた照射パラメータデータ67を作成するための演算について説明する。
本発明の強度変調混合イオン照射法は、“どのイオン種mを”、“どのスポットiに”、“何個wi,m”照射するか、をインバースプランニングにより決定していく。なお、スポットiは照射パラメータデータ67のスポット番号を示す。
本発明の強度変調混合イオン照射法は、“どのイオン種mを”、“どのスポットiに”、“何個wi,m”照射するか、をインバースプランニングにより決定していく。なお、スポットiは照射パラメータデータ67のスポット番号を示す。
まず、照射するイオン種数Mとそのイオン種を選択し、各イオン種について各スポットに照射する線量カーネルを作成する。線量カーネルdi,m(r)とは、スポットiに照射するイオン種mのペンシルビームが患者体内の位置rに付与する線量を表す。この線量カーネルdi,m(r)は、各イオン種の物理的特性を反映したものとなる。ここでいう物理的特性は、散乱によるビームの拡がり、核破砕片の生成量、LET(Linear Energy Transfer:線エネルギ付与)である。
強度変調混合イオン照射法の治療計画では、目的に応じて、最小二乗法等による繰り返し演算の評価指標fを定式化することで、その目的に合わせた照射パラメータ(wi,m)を決定することができる。
<1> 第1の評価指標f
評価指標fは、第1の例として、次の数1および数2に示す数式で算出することができる。
評価指標fは、第1の例として、次の数1および数2に示す数式で算出することができる。
第1項は、上限許容値を超える場合に対するペナルティを示しており、QT
OとH’[(減算)]2の乗算となっている。(減算)部分は、複数種類のイオン種mの核種をwm個照射した場合に標的の各位置j(患者体内の3次元位置,スポットiで特定される位置の解像度より高解像度に特定することが好ましい)に与える線量から、上限許容値となる最大線量DT
maxを減算する式である。H’[ ]部分は、ヘビサイドファンクションであり、(減算)部分の値が正ならその値を取り出し、負ならゼロとする。これにより、線量が上限許容値以下になれば、この第1項は、適切な値であるからゼロとなり、評価指標fを増加させない。QT
Oは、ペナルティ係数であり、大きく設定するとH’[(減算)]2で算出される上限許容値を超えた値が評価指標fに大きく影響を与える。
第2項は、下限許容値を下回る場合に対するペナルティを示しており、QT
UとH’[(減算)]2の乗算となっている。(減算)部分は、複数種類のイオン種mの核種をwm個照射した場合に標的の各位置j(患者体内の3次元位置)に与える線量を、下限許容値となる最大線量DT
minから減算する式である。H’[ ]部分は、線量が下限許容値以上になれば、この第2項は、適切な値であるからゼロとなり、評価指標fを増加させない。QT
uは、ペナルティ係数であり、大きく設定するとH’[(減算)]2で算出される下限許容値を下回る値が評価指標fに大きく影響を与える。
第3項は、重要臓器に対して照射可能な線量の上限許容値を超える場合に対するペナルティを示しており、Qo
oとH’[(減算)]2の乗算となっている。(減算)部分は、複数種類のイオン種mの核種をwm個照射した場合に標的の各位置j(患者体内の3次元位置)に与える線量から、上限許容値となる最大線量DO
maxを減算する式である。H’[ ]部分は、線量が上限許容値以下になれば、この第1項は、適切な値であるからゼロとなり、評価指標fを増加させない。QT
Oは、ペナルティ係数であり、大きく設定するとH’[(減算)]2で算出される上限許容値を超えた値が評価指標fに大きく影響を与える。
例えば、標的周辺の領域をOARとして設定し、第3項の重要度係数QO
Oを大きな値に設定したとする。最適な線量分布から最適な照射方法を逆計算するインバースプランニングでは、評価指標f(wm)が最小となるように各スポットiに照射するイオン種mの個数wi,mを最適決定する。従って、重要度係数QO
Oを大きな値に設定することにより、標的には必要十分な線量を保ちつつ(第1項,第2項)、標的周辺の領域への線量付与を最小にするために“どの位置”に“どのイオン種”を“どれくらい”照射するかを決定できる。
この第1の評価指標fを用いることで、1種類のイオン種のみを用いる従来例より腫瘍への線量集中性を高めることができる。
この第1の評価指標fを用いることで、1種類のイオン種のみを用いる従来例より腫瘍への線量集中性を高めることができる。
<2> 第2の評価指標f
第2の例として、評価指標fは、次の数3に示す数式で算出することができる。
第2の例として、評価指標fは、次の数3に示す数式で算出することができる。
このように、[数3]に示す数式の第3項を追加することにより、腫瘍内の一部の領域(T’)のLETをある値LETT’
minを下回らないように制限を設けることができる。
この第2の評価指標fを用いることで、腫瘍内に含まれる正常細胞とがん細胞の放射線感受性の違いなどに応じた効果的な治療を提供できる。
この第2の評価指標fを用いることで、腫瘍内に含まれる正常細胞とがん細胞の放射線感受性の違いなどに応じた効果的な治療を提供できる。
<3> 第3の評価指標f
第3の例として、評価指標fは、次の数4に示す数式で算出することができる。
第3の例として、評価指標fは、次の数4に示す数式で算出することができる。
<4> イオン種別の深さ制限の設定
イオン種(核種)について加速可能な最大エネルギを超えた深さには、線量カーネルを作成できない。従って、最大深度データ68にイオン種別の最大深さを登録しておき、深さによって選択可能なイオン種を制限する。これにより、あるイオン種について加速可能な最大エネルギを超える深さには、そのイオン種よりも軽いイオン種を照射することとなる。例えば、酸素では16cm、炭素では22cm、ヘリウムでは66cmを照射できるシンクロトロンを備える施設では、そのスペックを治療計画に登録して制限することで、おのずと22cmを超える位置にはヘリウムが照射されることになる。
これにより、荷電粒子照射システム1を用いた重粒子線治療装置の低価格化および小型化などの効果が得られる。
イオン種(核種)について加速可能な最大エネルギを超えた深さには、線量カーネルを作成できない。従って、最大深度データ68にイオン種別の最大深さを登録しておき、深さによって選択可能なイオン種を制限する。これにより、あるイオン種について加速可能な最大エネルギを超える深さには、そのイオン種よりも軽いイオン種を照射することとなる。例えば、酸素では16cm、炭素では22cm、ヘリウムでは66cmを照射できるシンクロトロンを備える施設では、そのスペックを治療計画に登録して制限することで、おのずと22cmを超える位置にはヘリウムが照射されることになる。
これにより、荷電粒子照射システム1を用いた重粒子線治療装置の低価格化および小型化などの効果が得られる。
このように、イオン種を複数用いることにより生じる自由度を利用して、<1>から<4>に示したように目的に合わせてインバースプランニングの目的関数を定式化することで、その目的に合致した照射パラメータを自動決定することができる。
図2は、計画装置70のCPU71が計画プログラム73に従って照射パラメータデータ67を作成する処理のフローチャートである。このフローチャートにおけるステップS1~S14を実行するCPU71は、複合照射パラメータ決定手段として機能する。
まず、CPU71は、入力部74により、別途のCT撮影により得られたデータに基づく標的/重要臓器のデータの入力を受け付ける(ステップS1)。このデータ入力は、例えば表示部75に表示するCT撮影画像において、GTVとCTVの各領域を医師が囲うことで入力される。GTVは、画像や触診で確認できる肉眼的腫瘍体積であり、CTVは、GTVと顕微鏡的な進展範囲を含む臨床標的体積である。またこのとき、評価指標fが十分小さい値であるとして許容できる許容評価値Cの入力も許容する。
まず、CPU71は、入力部74により、別途のCT撮影により得られたデータに基づく標的/重要臓器のデータの入力を受け付ける(ステップS1)。このデータ入力は、例えば表示部75に表示するCT撮影画像において、GTVとCTVの各領域を医師が囲うことで入力される。GTVは、画像や触診で確認できる肉眼的腫瘍体積であり、CTVは、GTVと顕微鏡的な進展範囲を含む臨床標的体積である。またこのとき、評価指標fが十分小さい値であるとして許容できる許容評価値Cの入力も許容する。
CPU71は、照射するイオン種を決定する照射イオン種決定処理を実行する(ステップS2)。ここで、イオン種数をM、イオン種をm=1,Mとして決定する。このイオン種の決定は、イオン源2から照射可能なイオン種によって定まるため、照射可能イオン種データを計画装置70の記憶部72に予め記憶しておき、この照射可能イオン種データを読み出して決定してもよい。なお、照射するイオン種は、2種類以上のイオン種であり、第1のイオン種(軽いイオン種)と、第1のイオン種よりも重い第2のイオン種が少なくとも含まれる。また、照射するイオン種の種類は、荷電粒子照射システム1で選択可能な複数のイオン種(例えば4種など)のうち、使用する複数のイオン種(例えば3種など)を治療計画者によって入力されるか、あるいは使用するイオン種を決定するアルゴリズムを定めておいてCPU71が自動的に決定するなど、適宜の方法によって決定できる。
CPU71は、入力された標的/重要臓器のデータに対して、イオン種毎にペンシルビーム(荷電粒子)を照射する照射方向を決定する照射方向決定処理を実行する(ステップS3)。各イオン種の荷電粒子の照射方向は、操作者による入力によって決定されるか、あるいは照射方向を決定するアルゴリズムを定めておいてCPU71が自動的に決定するなど、適宜の方法で決定できる。なお、照射する方向毎に異なるイオン種を設定することが好ましいが、一方向から複数のイオン種を照射することも可能である。また、基本的には、人や動物等の生体の体表面からCTVの領域の奥側の境界までの距離をCTV距離としたときに、軽いイオン種の荷電粒子のCTV距離よりも、重いイオン種の荷電粒子のCTV距離の方が短くなるように照射方向を決定することが好ましい。すなわち、重いイオン種の荷電粒子のCTV距離よりも、軽いイオン種の荷電粒子のCTV距離の方が長くなるように照射方向を決定することが好ましい。なお、CTV距離は、体表面からCTVの領域の中心までの距離としてもよい。
CPU71は、照射する荷電粒子のイオン種の照射する順番(照射順序)を決定する照射順序決定処理を実行する(ステップS4)。詳述すると、CPU71は、軽いイオン種の荷電粒子を先に照射し、重いイオン種の荷電粒子を後から照射するように照射順序を決定する。3種類以上のイオン種の荷電粒子を使用する場合は、軽いイオン種の荷電粒子から順に照射して最も重いイオン種を最後に照射する。この照射順序は、操作者による入力によって決定されるか、あるいは照射順序を決定するアルゴリズムを定めておいてCPU71が自動的に決定するなど、適宜の方法で決定できる。このステップS4を実行するCPU71は、照射順序決定手段として機能する。この照射順序決定手段は、この構成に限らず、操作者が照射順を入力する操作を受け付けて入力された照射順が軽いイオン種から重いイオン種の順になっていない場合にアラーム表示を出す、あるいは、最初に指定したイオン種よりも重いイオン種しか指定できないように選択不可とするなど、適宜の構成とすることができる。
CPU71は、複数のイオン種の荷電粒子の各照射の照射タイミングの時間間隔(照射間隔)を決定する(ステップS5)。この照射間隔は、操作者による入力によって決定されるか、あるいは照射間隔を決定するアルゴリズムを定めておいてCPU71が自動的に決定するなど、適宜の方法で決定できる。各照射タイミングの時間間隔は、最長でも2時間以内とすることができ、1時間以内とすることが好ましく、30分以内とすることがより好ましい。また、照射タイミングの時間間隔は、照射装置が照射するイオン種を切り替えるために必要な最短の時間以上とすることができる。照射装置が照射するイオン種を切り替えるために必要な最短の時間は、照射装置、照射するイオン種、照射方向等によって適宜変更される。
CPU71は、生体の体内の標的/重要臓器に線量処方を行う(ステップS6)。ここでは、[数1]から[数5]に示した上限許容値Dmaxや下限許容値Dminなどを、医師の指示のもと、治療計画者が入力部74で入力する。
CPU71は、各イオン種についてステップS3の照射方向決定処理で決定した照射方向毎にペンシルビームの照射位置を決定する(ステップS7)。照射位置は、PTVの全領域(これが標的となる)に対して、ビームスポットを3次元位置で密に配置することで決定する。ここで定められた照射位置の全体がターゲットTとなり、照射位置の1つ1つがイオン種のペンシルビームを照射するスポットとなる。なお、PTVとは、CTVに照射誤差を含めた計画標的体積である。また、CPU71は、照射位置のうちGTVに対応する部分を悪性度の強いターゲットT’として設定し、照射位置の周囲をOARである保護領域Oとして設定する。
CPU71は、ペンシルビームの線量カーネルd(i,m)を作成する(ステップS8)。ここでiは照射位置(スポットID)を示し、mは体積を示す。
CPU71は、ペンシルビームの重みw(i,m)の初期値を決定する(ステップS9)。この初期値は、スポットにどの種類の核種をどの順番で何個照射するかのおよそのオーダーに基づいてCPU71が決定する。
CPU71は、ペンシルビームの重みw(i,m)の初期値を決定する(ステップS9)。この初期値は、スポットにどの種類の核種をどの順番で何個照射するかのおよそのオーダーに基づいてCPU71が決定する。
CPU71は、重みに従って線量Dを計算する(ステップS10)。この線量計算により、どの位置にどのイオン種をどれだけ照射するかを決める照射パラメータデータ67の候補が得られる。
CPU71は、標的には必要十分な線量で、かつ重要臓器の被爆が許容値以下となるように、評価指標fを導出する(ステップS11)。このとき、複数種類のイオン種を混合照射する部位については、どのイオン種をどの順番でどれだけ照射したかによって変化するがん細胞の殺傷効果を表す実効的な線量(実効線量)を加味して算出する。この照射順によって変化する実効線量は、事前に検証して求めておく、演算式によって求める、多数の照射事例を機械学習させたAI(人工知能)により算出するなど、適宜の方法によって算出できる。
CPU71は、評価指標fがC未満となるか、変数nがNより大きくなるまで(ステップS12:No)、ペンシルビームの重みw(i,m)を更新して変数nを1加算し(ステップS13)、ステップS10からS13を繰り返す。ここで、Cは評価指標fが十分小さいとして許容できる許容評価値であり、Nは最大繰り返し回数である。従って、評価指標fがC未満と十分小さくなるか、最大繰り返し回数となれば、繰り返し演算を終了する。また、重みw(i,m)の更新は、照射する全領域のデータを更新すると良いが、これに限らず、スポット別に、現在記憶されている値と今回計算した値を比較し、今回計算した値が好ましい場合にそのスポットの値を更新してもよい。
評価指標fがC未満となるか、変数nがNより大きくなれば(ステップS12:Yes)、CPU71は、照射パラメータデータ67を制御装置50へ出力し(ステップS14)、処理を終了する。このとき、CPU71は、イオン種の照射順、照射方向、照射タイミングの時間間隔が適切か否かを判定し、複数種類のイオン種の照射順序が軽い順になっていない場合、複数の照射方向を適切に活用できてない場合、および照射タイミングの時間間隔が長すぎるまたは短すぎる場合、エラー表示を行うことが好ましい。このエラー表示によって照射の順序、方向、時間間隔のうち不適切な部分を治療計画者が認識でき、再度照射計画を作成しなおすことができる。
以上の動作により、複数種類のイオン種を用いた照射パラメータデータ67を作成することができる。荷電粒子照射システム1の制御装置50は、この照射パラメータデータ67に従って、1の標的(一人の患者の照射領域)に対して複数種類のイオン種を切り替えて照射することができる。このように、複数のイオン源2A~2Cを有し、一回の治療行為で、イオン種の切り替え、加速、取り出し、照射方向の変更、およびその照射を行い、エネルギとイオン種を切り替えることで、腫瘍内における任意の線量/線質分布を実現することができる。
このようにして作成された照射パラメータデータ67により、腫瘍に対して照射するイオン種の配置は、例えば図3(A)の照射イオン種分布図に示すように設定される。この図は、照射イオン種分布の縦断面をビーム進行方向側面から見た図である。標的80全体を埋め尽くすように照射スポットSPが3次元に配置されている。この例では、照射方向手前側(体表面88に近い側)とXY方向の周辺部を重いイオン種(この例ではオキシジェンO)を主とする第1照射領域82とし、腫瘍中心部をそれより軽いイオン種(この例では炭素C)を主とする第2照射領域83とし、照射方向奥側をさらに軽いイオン種(この例ではヘリウムHe)を主とする第3照射領域84としている。第1照射領域82、第2照射領域83、第3照射領域84には、一部または全部について複数種類のイオン種を組み合わせた荷電粒子が照射される。例えば、第1照射領域82は、重いイオン種(この例ではオキシジェンO)を主としつつそれより軽い中程度のイオン種(この例では炭素C)を混合し、第2照射領域83は、中程度のイオン種(この例では炭素C)とそれより軽いイオン種(この例ではヘリウムHe)を混合し、第3照射領域84は軽いイオン種(この例ではヘリウムHe)のみとするといったことができる。このように照射することで、散乱が小さく、核破砕片生成量が多く、LETが高い特性を有する重いイオン種と、散乱が大きく、核破砕片生成量が少なく、LETが低い特性を有する軽いイオン種の良い点を組み合わせ、かつ、異なるイオン種の照射による高い効果を利用して、標的80内の部位別(各照射領域82,83,84別)に好適な線質の照射を行うことができる。すなわち、標的の辺縁(照射方向の垂直方向周囲部)には重いイオン種を照射して散乱を小さくし、標的下流側(照射方向の奥側)には軽いイオン種を照射して核破砕片による標的後方への線量付与を軽減し、標的上流側(照射方向の手前側)には重いイオン種を照射してLETを高くすることで、周辺の正常組織の被爆を最小限に抑えつつ標的80に線量を集中させることができる。そして、異なるイオン種を混合することで、単独のイオン種よりも高い効果を得ることができる。なお、ここでいう混合とは、複数種類の核種を物理的に混ぜて照射するのではなく、照射タイミングを異ならせて同じ部位に異なるイオン種を重複して照射することをいう。
なお、各照射領域82,83,84は、それぞれの照射スポットにおいて複数のイオン種の組み合わせでイオン種別に照射量(荷電粒子の照射個数)の割合を異ならせる、あるいは、単一のイオン種のみ照射する照射スポットと複数種類のイオン種を照射する照射スポットとを混在させるなど、適宜の照射設定とすることができる。
図3(B)は、制御装置50が強度変調混合イオン照射法により照射パラメータデータ67に従って複数のイオン種を用いて照射した深度線量分布図を示す。この図は、図3(A)と共に説明したように、照射方向手前側(深度の浅い部分,上流側)に重いイオン種、照射方向奥側(深度の深い部分,下流側)に軽いイオン種を照射した場合の例である。
図示するように、臨床線量91(Dclin)に対して、物理的なエネルギ量を示す第1イオン種照射線量94と第2イオン種照射線量95と第3イオン種照射線量96を組み合わせて標的内の線質(LET)の分布をなだらかに保つようにする。図示の例では、重いイオン種であるオキシジェンを照射方向手前側で他のイオン種より多い割合で照射して第1イオン種照射線量94とし、次に重いイオン種である炭素を照射方向中央付近で他のイオン種より多い割合で照射して第2イオン種照射線量95とし、これらより軽いイオン種であるヘリウムを照射方向奥側で他のイオン種より多い割合で照射して第3イオン種照射線量96としている。
このようにして、複数のイオン種を組み合わせることで線質(粒子種とLET)を任意に変化させつつ標的内に一様な臨床線量分布を実現することができる。これにより、複数のイオン種を組み合わせて標的内の線質(LET)の分布をなだらかに保つことができ、RBE92に誤差92a,92bが生じた場合にも、臨床線量91の分布のゆがみ91a,91bを小さく抑えることができる。
腫瘍内の正常細胞やがん細胞の放射線感受性に応じて、複数のイオン種により与える線質分布を最適化することで、正常細胞は温存しつつがん細胞だけを殺傷し得る。
深部の照射には軽いイオン種を用いることで、加速エネルギが低い加速器で体深部の治療を行うことができる。すなわち、重いイオン種を深部まで届かせるためには加速エネルギを高くする必要があるが、本発明によれば深部については軽いイオン種を用いて低い加速エネルギで済むため、全体として必要とする加速エネルギを下げられる。このため、加速器の低価格化や小型化が実現でき、重粒子線治療の普及に貢献できる。
また、複数イオン種を用いることで、一方向からの単門照射においても線量だけでなく線質の空間分布を任意に設定することができ、従来の単一イオン種のみを用いるよりも腫瘍への線量集中性を高めることができる。また、生物学的効果比(RBE)や照射、位置決め誤差の影響を受けにくい治療を提供できる。また、腫瘍内に含まれる正常細胞とがん細胞の放射線感受性の違いなどに応じた効果的な治療を提供できる。また、標的内に与える線量分布と線質分布を、回転ガントリのような大規模な装置を必要とせずに実現できる。
ここで、実際に複数種類のイオン種の荷電粒子を別々の方向から標的に照射する一例を図とともに説明する。
図4は、複数種類のイオン種の荷電粒子を照射した場合の一例を説明するCT撮影画像である。
本実施例では、ヘリウム(He)と酸素(O)の2種類のイオン種を荷電粒子として照射した。
図4に示すように、荷電粒子を照射する体内には、照射対象であるがん細胞といった標的の範囲として、GTV領域100とPTV領域101の各領域が設定されている。このとき、酸素(O)より軽いイオン種であるヘリウム(He)の荷電粒子が照射されるヘリウム照射方向102は、酸素(O)の荷電粒子が照射される酸素照射方向103よりも体表面から体内に存在する肉眼的腫瘍体積GTV(ターゲットT´、GTV領域100)までの距離(CTV距離)が大きい(長い、遠い)方向に設定されている。このとき、各イオン種の荷電粒子が照射される方向が成す角度は、図4に示すような90度に限らず、照射される身体上の部位(体、足、腕等)と、各部位の体表面から肉眼的腫瘍体積GTVまでの距離によって適宜設定される。また、各イオン種の荷電粒子が照射される経路を示す照射線は、肉眼的腫瘍体積GTVの範囲内で、いずれかの方向から見たときに交差するように設定される。
図4は、複数種類のイオン種の荷電粒子を照射した場合の一例を説明するCT撮影画像である。
本実施例では、ヘリウム(He)と酸素(O)の2種類のイオン種を荷電粒子として照射した。
図4に示すように、荷電粒子を照射する体内には、照射対象であるがん細胞といった標的の範囲として、GTV領域100とPTV領域101の各領域が設定されている。このとき、酸素(O)より軽いイオン種であるヘリウム(He)の荷電粒子が照射されるヘリウム照射方向102は、酸素(O)の荷電粒子が照射される酸素照射方向103よりも体表面から体内に存在する肉眼的腫瘍体積GTV(ターゲットT´、GTV領域100)までの距離(CTV距離)が大きい(長い、遠い)方向に設定されている。このとき、各イオン種の荷電粒子が照射される方向が成す角度は、図4に示すような90度に限らず、照射される身体上の部位(体、足、腕等)と、各部位の体表面から肉眼的腫瘍体積GTVまでの距離によって適宜設定される。また、各イオン種の荷電粒子が照射される経路を示す照射線は、肉眼的腫瘍体積GTVの範囲内で、いずれかの方向から見たときに交差するように設定される。
また、上述したような方法で耳下腺癌細胞(HSGc-C5細胞)に対して、ヘリウム(He)の荷電粒子(ヘリウム線)と酸素(O)の荷電粒子(酸素線)の照射順序を変更してそれぞれ90秒間照射し、照射後のHSGc-C5細胞の生残率を測定した。照射パラメータは、アクリル内8.5~14.5cmの深さにおける耳下腺癌細胞の生残率が10%となるように計画し、ヘリウム線と酸素線の照射タイミングの間隔は20分とした。また、同じ条件の実験を別日にも実施した。
図5は、ヘリウム線および酸素線の連続照射の深部線量分布グラフ(図上段)と、深部生残率分布グラフ(図下段)である。
図5の深部生残率分布グラフに示すように、酸素の荷電粒子(酸素線)を照射した後に、酸素より軽いヘリウムの荷電粒子(ヘリウム線)を照射した場合(Sexp(O-He)、下段グラフ実線)は、深さ(Depth in PMMA、グラフ横軸)が8.5~14.5cmの範囲におけるHSGc-C5細胞の生残率(Survival Fraction、グラフ縦軸)が10%程度となり、照射計画通りの結果となった。
一方で、ヘリウムの荷電粒子(ヘリウム線)を照射した後に、ヘリウムより重い酸素の荷電粒子(酸素線)を照射した場合(Sexp(He-O)、下段グラフ破線)は、HSGc-C5細胞の生残率が5%程度となり、照射計画より高い効果が得られた。
なお、深部生残率分布グラフにおける○と△のスポットの違いは、同じマークのスポットは同日に実験し、異なるマークのスポットは異なる日に実験した実験結果である。気温などが異なる別日に同様の実験を行っても、ヘリウムの荷電粒子(ヘリウム線)を照射した後に酸素の荷電粒子(酸素線)を照射した場合の方が、生残率が低くなった。
図5の深部生残率分布グラフに示すように、酸素の荷電粒子(酸素線)を照射した後に、酸素より軽いヘリウムの荷電粒子(ヘリウム線)を照射した場合(Sexp(O-He)、下段グラフ実線)は、深さ(Depth in PMMA、グラフ横軸)が8.5~14.5cmの範囲におけるHSGc-C5細胞の生残率(Survival Fraction、グラフ縦軸)が10%程度となり、照射計画通りの結果となった。
一方で、ヘリウムの荷電粒子(ヘリウム線)を照射した後に、ヘリウムより重い酸素の荷電粒子(酸素線)を照射した場合(Sexp(He-O)、下段グラフ破線)は、HSGc-C5細胞の生残率が5%程度となり、照射計画より高い効果が得られた。
なお、深部生残率分布グラフにおける○と△のスポットの違いは、同じマークのスポットは同日に実験し、異なるマークのスポットは異なる日に実験した実験結果である。気温などが異なる別日に同様の実験を行っても、ヘリウムの荷電粒子(ヘリウム線)を照射した後に酸素の荷電粒子(酸素線)を照射した場合の方が、生残率が低くなった。
以上の構成により、標的の治療効果を高めることができる照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システムを提供できる。
CPU71は、荷電粒子の照射順序を、軽いイオン種の荷電粒子を先に照射し、重いイオン種の荷電粒子を後から照射するように決定する。すなわち、荷電粒子の照射順序を、線エネルギ付与が小さいイオン種の順序が先になるように決定する。この構成により、軽いイオン種の荷電粒子の照射によって、ある程度がん細胞(標的)にダメージを与え、その後、重いイオン種の荷電粒子によってがん細胞(標的)に、より大きなダメージを与えることができる。すなわち、軽いイオン種と重いイオン種の相乗効果を好適に発揮させることができ、単一のイオン種の荷電粒子のみをその部位に照射した場合や、重いイオン種の荷電粒子をその部位に先に照射して軽いイオン種の荷電粒子をその部位に後に照射した場合よりも高い治療効果を得ることができる。このとき、必要な加速エネルギは、順序を特定しない照射と同程度となる。したがって、体内の通常の細胞(正常組織)に対するダメージを大きくすることなく、高い治療効果(標的(がん細胞)に対する高い殺傷効果)を得ることができる、また、患者の体力や腫瘍の大きさ等を考慮して、順序を特定しない照射と同程度の治療効果を得ようとした場合であっても、必要な加速エネルギを小さくすることができる。したがって、体内を通過する際の線量が小さくなり、体内の通常の細胞に対するダメージを小さくすることができる。すなわち、疾患や患者の状態に合わせて荷電粒子の加速エネルギを調整することで、順序を特定しない照射と比較して、体内の通常の細胞へのダメージを低く保ちながら、治療効果をさらに高めることができる。
CPU71は、荷電粒子の照射順序を、軽いイオン種の荷電粒子を先に照射し、重いイオン種の荷電粒子を後から照射するように決定する。すなわち、荷電粒子の照射順序を、線エネルギ付与が小さいイオン種の順序が先になるように決定する。この構成により、軽いイオン種の荷電粒子の照射によって、ある程度がん細胞(標的)にダメージを与え、その後、重いイオン種の荷電粒子によってがん細胞(標的)に、より大きなダメージを与えることができる。すなわち、軽いイオン種と重いイオン種の相乗効果を好適に発揮させることができ、単一のイオン種の荷電粒子のみをその部位に照射した場合や、重いイオン種の荷電粒子をその部位に先に照射して軽いイオン種の荷電粒子をその部位に後に照射した場合よりも高い治療効果を得ることができる。このとき、必要な加速エネルギは、順序を特定しない照射と同程度となる。したがって、体内の通常の細胞(正常組織)に対するダメージを大きくすることなく、高い治療効果(標的(がん細胞)に対する高い殺傷効果)を得ることができる、また、患者の体力や腫瘍の大きさ等を考慮して、順序を特定しない照射と同程度の治療効果を得ようとした場合であっても、必要な加速エネルギを小さくすることができる。したがって、体内を通過する際の線量が小さくなり、体内の通常の細胞に対するダメージを小さくすることができる。すなわち、疾患や患者の状態に合わせて荷電粒子の加速エネルギを調整することで、順序を特定しない照射と比較して、体内の通常の細胞へのダメージを低く保ちながら、治療効果をさらに高めることができる。
CPU71は、軽いイオン種の荷電粒子の照射方向を、重いイオン種の荷電粒子の照射方向よりも体表面から悪性度の高い標的の領域(GTV)までの距離(CTV距離)が大きく(長く、遠く)なるように決定する。この構成により、重いイオン種の荷電粒子は、軽いイオン種の荷電粒子よりも体内の移動距離が小さく(短く)なる。したがって、正常組織へのダメージを低く保ちながら、標的の治療効果を高めることができる。また、重いイオン種の荷電粒子の照射距離を小さくできるため、全体として必要とする加速エネルギを下げることができる。したがって、加速器の低価格化や小型化が実現でき、重粒子線治療の普及に貢献することができる。
CPU71は、複数のイオン種の荷電粒子の各照射の照射タイミングの時間間隔を2時間以内とする。この構成により、軽いイオン種の荷電粒子の照射によって、ある程度がん細胞(標的)にダメージを与え、がん細胞が修復するより前に、重いイオン種の荷電粒子によってがん細胞(標的)により大きなダメージを与えることができ、高いがん治療効果を得ることができる。
この発明は、上述の実施形態の構成のみに限定されるものではなく、多くの実施の形態を得ることができる。
例えば、計画プログラム73として例示した本発明の照射計画プログラムを、非一時的な(非一過性の)有形の記憶媒体に記憶させ、照射計画記憶媒体73a(図1参照)として提供することもできる。同様に、制御プログラム60として例示した制御プログラムを、非一時的な(非一過性の)有形の記憶媒体に記憶させ、制御記憶媒体60a(図1参照)として提供することもできる。
この発明は、標的に対して荷電粒子のビームを照射する荷電粒子照射システムに利用することができる。
1…荷電粒子照射システム
2…イオン源
2A…第1イオン源
2B…第2イオン源
2C…第3イオン源
4…線形加速器
5…シンクロトロン
67…照射パラメータデータ
68…最大深度データ
70…計画装置
71…CPU
72…記憶部
73…計画プログラム
2…イオン源
2A…第1イオン源
2B…第2イオン源
2C…第3イオン源
4…線形加速器
5…シンクロトロン
67…照射パラメータデータ
68…最大深度データ
70…計画装置
71…CPU
72…記憶部
73…計画プログラム
Claims (6)
- 所定のイオン種の荷電粒子を加速器で加速して標的に照射する荷電粒子照射システムの照射パラメータを決定する照射計画装置であって、
1つの前記標的に対する前記照射パラメータを、複数種類のイオン種の前記荷電粒子を組み合わせて決定する、複合照射パラメータ決定手段を備え、
前記複合照射パラメータ決定手段は、
前記標的内の少なくとも一部の部位に対して前記複数種類のイオン種の前記荷電粒子を照射するよう決定する照射イオン種決定処理と、
前記照射イオン種決定処理により決定した前記複数種類のイオン種のうち線エネルギ付与が小さいイオン種の前記荷電粒子を先に照射するよう照射順序を決定する照射順序決定処理とを実行する
照射計画装置。 - 前記標的は、生体の体内に存在し、
前記複合照射パラメータ決定手段は、
前記複数種類のイオン種の前記荷電粒子の照射方向を決定する照射方向決定処理を実行する構成であり、
前記照射方向決定処理は、線エネルギ付与が小さいイオン種の前記荷電粒子の照射方向を、線エネルギ付与が大きいイオン種の前記荷電粒子の照射方向よりも前記生体の体表面から前記体内の前記標的までの距離が長くなる方向に設定する処理である
請求項1記載の照射計画装置。 - 前記複合照射パラメータ決定手段は、
前記複数種類のイオン種の前記荷電粒子の照射タイミングの時間間隔を2時間以内に設定する
請求項1または2記載の照射計画装置。 - コンピュータを、所定のイオン種の荷電粒子を加速器で加速して標的に照射する荷電粒子照射システムの照射パラメータを決定する照射計画装置として機能させる照射計画プログラムであって、
前記コンピュータを、
1つの前記標的に対する前記照射パラメータを、複数種類のイオン種の前記荷電粒子を組み合わせて決定する、複合照射パラメータ決定手段として機能させ、
前記複合照射パラメータ決定手段に、
前記標的内の少なくとも一部の部位に対して前記複数種類のイオン種の前記荷電粒子を照射するよう決定する照射イオン種決定処理と、
前記照射イオン種決定処理により決定した前記複数種類のイオン種のうち線エネルギ付与が小さいイオン種の前記荷電粒子を先に照射するよう照射順序を決定する照射順序決定処理とを実行させる
照射計画プログラム。 - 所定のイオン種の荷電粒子を加速器で加速して標的に照射する荷電粒子照射システムの照射パラメータを決定する照射計画決定方法であって、
照射計画装置が、
1つの前記標的に対する前記照射パラメータを、複数種類のイオン種の前記荷電粒子を組み合わせて決定する、複合照射パラメータ決定手段を備え、
前記複合照射パラメータ決定手段が、
前記標的内の少なくとも一部の部位に対して前記複数種類のイオン種の前記荷電粒子を照射するよう決定する照射イオン種決定処理と、
前記照射イオン種決定処理により決定した前記複数種類のイオン種のうち線エネルギ付与が小さいイオン種の前記荷電粒子を先に照射するよう照射順序を決定する照射順序決定処理とを実行する
照射計画決定方法。 - 荷電粒子を生成するイオン源と、
前記イオン源で生成された前記荷電粒子を加速する加速器と、
前記加速器から取り出される前記荷電粒子を標的に照射する照射装置と、
これらの動作を制御する制御装置とを備えた荷電粒子照射システムであって、
前記イオン源は、前記荷電粒子として異なるイオン種を生成する複数種類のイオン源で構成され、
前記制御装置は、
前記加速器に設けられた電磁石に流す電流値をイオン種別に定めた電流パターン記憶部と、
1の前記標的に対して、使用する前記イオン源と前記電流パターン記憶部の電流値に基づいて前記加速器の前記電磁石に流す電流値を対応させて切り替え、前記複数種類のイオン種を切り替えて照射する複数イオン種照射制御部とを備え、
前記複数イオン種照射制御部は、前記荷電粒子の照射を、線エネルギ付与が小さいイオン種を先に照射し、線エネルギ付与が大きいイオン種を後に照射する
荷電粒子照射システム。
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