JP2023130200A - Particulate matter processing device cleaning system - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 268
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 title abstract 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 202
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims abstract description 64
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 43
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 42
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 84
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims description 48
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 43
- 238000005469 granulation Methods 0.000 claims description 25
- 230000003179 granulation Effects 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 238000009700 powder processing Methods 0.000 claims description 24
- 238000013019 agitation Methods 0.000 claims description 10
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 7
- 239000008213 purified water Substances 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 19
- 235000008429 bread Nutrition 0.000 description 14
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 9
- 230000002301 combined effect Effects 0.000 description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- 230000005653 Brownian motion process Effects 0.000 description 7
- 238000005537 brownian motion Methods 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 230000009172 bursting Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 3
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005243 fluidization Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000011176 pooling Methods 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000009420 retrofitting Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000009495 sugar coating Methods 0.000 description 1
- 238000009492 tablet coating Methods 0.000 description 1
- 239000002700 tablet coating Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)
- Glanulating (AREA)
Abstract
Description
本発明は、パンコーティング装置や撹拌造粒機、流動層造粒コーティング装置などの粉粒体処理装置の洗浄技術に関し、特に、付帯設備を含む装置内外を自動洗浄可能な粉粒体処理装置の洗浄システムに関する。 The present invention relates to cleaning technology for powder processing equipment such as pan coating equipment, stirring granulators, and fluidized bed granulation coating equipment, and in particular to cleaning technology for powder processing equipment that can automatically clean the inside and outside of the equipment, including ancillary equipment. Regarding cleaning systems.
造粒コーティング装置など、薬剤や食品等の製造に使用される粉粒体処理装置では、粉粒体の造粒やコーティング処理の後、コンタミネーション防止等のため、装置の洗浄処理が実施される。この洗浄処理に際しては、従来より、装置内に配した洗浄ノズルから、洗浄液として、市水(水道水)や、温水、薬液、精製水などを噴射したり、装置内に洗浄水を溜めおき、その状態で溜め洗いしたりする方法が取られている。また、洗浄処理の形態としては、装置を分解せずに洗浄する定置洗浄や、作業員による手洗浄、装置内に設置したノズルによる自動洗浄など、種々の態様が存在している。 In powder processing equipment, such as granulation coating equipment, used in the production of pharmaceuticals, foods, etc., after the granulation and coating processing of the powder, the equipment is cleaned to prevent contamination, etc. . Conventionally, in this cleaning process, cleaning liquid such as city water (tap water), hot water, chemical solution, purified water, etc. is sprayed from a cleaning nozzle placed inside the device, or cleaning water is stored inside the device. One method is to wash the water in a pool under such conditions. Furthermore, there are various forms of cleaning processing, such as fixed cleaning in which the device is cleaned without disassembling it, manual cleaning by an operator, and automatic cleaning using a nozzle installed in the device.
しかしながら、従来の洗浄処理は、専ら装置内部の洗浄がメインであり、液槽タンクや配管等の送液ラインなど装置付帯設備の洗浄は必ずしも十分とは言えなかった。また、洗浄作用も、ノズル噴射の衝撃力によって汚れを分離させる効果や、温水や薬液によって汚れを溶かす効果に限られており、装置を十分に洗浄するには相当な時間を要し、付帯設備を含む装置内外を効率良く自動洗浄できない、という問題があった。 However, conventional cleaning processing mainly focuses on cleaning the inside of the device, and cleaning of the equipment incidental to the device, such as the liquid tank and the liquid sending lines such as piping, is not necessarily sufficient. In addition, the cleaning action is limited to the effect of separating dirt by the impact force of the nozzle jet, or the effect of dissolving dirt with hot water or chemical solutions, and it takes a considerable amount of time to thoroughly clean the equipment, and the attached equipment There was a problem in that it was not possible to efficiently and automatically clean the inside and outside of the device, including the inside and outside of the device.
この場合、例えば、液槽タンクは、内部に洗浄ノズルを設置して洗浄する程度であり、送液ラインについては、その中に精製水を流すのみとなっており、とても十分な洗浄ができているとは言い難い。このため、従来の粉粒体処理装置、特に、薬剤や食品を取り扱うものでは、同一製品に対して同一送液ラインを使用する運用や、処理バッチ毎に新品に交換する方法が取られており、コストや生産効率の点で課題があった。また、排水配管については、そもそも洗浄をするという概念がないため、洗浄処理自体が行われておらず、GMPの観点からも好ましくなかった。 In this case, for example, the liquid tank can only be cleaned by installing a cleaning nozzle inside it, and the liquid supply line can only be cleaned with purified water, making it very difficult to clean it thoroughly. It's hard to say that there are. For this reason, conventional powder and granule processing equipment, especially those that handle pharmaceuticals and foods, use the same liquid delivery line for the same product or replace it with a new one for each processing batch. However, there were issues in terms of cost and production efficiency. Furthermore, since there is no concept of cleaning the drainage pipes, the cleaning process itself is not performed, which is not preferable from a GMP perspective.
本発明の目的は、付帯設備を含む装置内外をくまなく、しかも効率良く自動洗浄し得る粉粒体処理装置の洗浄システムを提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a cleaning system for a powder processing apparatus that can automatically and efficiently clean the inside and outside of the apparatus including auxiliary equipment.
本発明の粉粒体処理装置洗浄システムは、粉粒体を収容する処理容器と、前記処理容器内の前記粉粒体に対し所定の処理液を噴霧するスプレーノズルと、を有する粉粒体処理装置の洗浄処理を行う洗浄システムであって、前記スプレーノズルに対し前記処理液を供給する送液ラインと、前記処理容器内に配置され、前記処理容器内を洗浄する洗浄液が噴射される洗浄ノズルと、前記洗浄ノズルに対し前記洗浄液を供給する洗浄液供給ラインと、
前記送液ラインおよび前記洗浄液供給ラインの各経路中に配置され、直径200nm未満の気泡を形成するウルトラファインバブル発生装置と、を有し、前記粉粒体処理装置の洗浄処理に際し、前記スプレーノズルおよび前記洗浄ノズルに対し、直径200nm未満のウルトラファインバブルを含む洗浄液を供給することを特徴とする。
A powder and granular material processing apparatus cleaning system of the present invention includes a processing container that accommodates a powder and granular material, and a spray nozzle that sprays a predetermined processing liquid onto the powder and granular material in the processing container. A cleaning system that performs a cleaning process for an apparatus, comprising: a liquid feeding line that supplies the processing liquid to the spray nozzle; and a cleaning nozzle that is disposed within the processing container and injects a cleaning liquid that cleans the inside of the processing container. and a cleaning liquid supply line that supplies the cleaning liquid to the cleaning nozzle;
an ultra-fine bubble generator that is disposed in each path of the liquid feeding line and the cleaning liquid supply line and that forms bubbles with a diameter of less than 200 nm; and a cleaning liquid containing ultra-fine bubbles with a diameter of less than 200 nm is supplied to the cleaning nozzle.
本発明にあっては、送液ラインと洗浄液供給ラインの経路中にウルトラファインバブル発生装置を配置し、粉粒体処理装置の洗浄処理に際し、スプレーノズルと洗浄ノズルに対し、直径200nm未満のウルトラファインバブルを含む洗浄液を供給する。これにより、ウルトラファインバブルとノズル噴射の複合効果により、付帯設備をも含む装置内外を自動洗浄する。この場合、ウルトラファインバブル発生装置は、従来の既存の送液ラインや洗浄液供給ラインに後付け可能であるため、従来のシステム構成や洗浄工程を変更することなく、粉粒体処理装置の自動洗浄を行うことが可能となる。 In the present invention, an ultra-fine bubble generator is placed in the path of the liquid feeding line and the cleaning liquid supply line, and when cleaning the powder/granular material processing equipment, ultra-fine bubbles with a diameter of less than 200 nm are applied to the spray nozzle and cleaning nozzle. Supply cleaning solution containing fine bubbles. As a result, the combined effect of ultra-fine bubbles and nozzle spray automatically cleans the inside and outside of the device, including the auxiliary equipment. In this case, the ultra-fine bubble generator can be retrofitted to the existing liquid delivery line or cleaning liquid supply line, so it can automatically clean the powder processing equipment without changing the conventional system configuration or cleaning process. It becomes possible to do so.
前記粉粒体処理装置洗浄システムにおいて、前記送液ラインとして、前記処理液が貯留される液槽と、該液槽内の前記処理液を前記ノズルに送給するポンプと、前記液槽に水を供給する第1配管と、前記液槽と前記ポンプ、前記ポンプと前記スプレーノズルとの間をそれぞれ接続する第2配管と、を設け、前記ウルトラファインバブル発生装置を、前記第1配管の経路中に配設するようにしても良い。 In the powder processing equipment cleaning system, the liquid supply line includes a liquid tank in which the processing liquid is stored, a pump that feeds the processing liquid in the liquid tank to the nozzle, and a water supply line to the liquid tank. and a second pipe connecting the liquid tank and the pump, and the pump and the spray nozzle, respectively, and connecting the ultra fine bubble generator to the first pipe. It may be arranged inside.
また、前記粉粒体処理装置は、前記処理容器を収容する筐体と、前記処理容器内に処理気体を供給し該処理容器から前記処理気体を排気するための給排気系部材と、を有し、前記筐体内、前記処理容器内および前記給排気系部材内に前記洗浄ノズルを配置し、前記粉粒体処理装置の洗浄処理に際し、前記筐体内、前記処理容器内および前記給排気系部材内に、前記洗浄ノズルより、前記ウルトラファインバブルを含む洗浄液を噴射するようにしても良い。この場合、前記粉粒体処理装置は、処理容器として、回転軸線を中心に回転自在に設けられ粉粒体被処理物が収容されるコーティングパンを備えたパンコーティング装置であっても良い。 Further, the powder and granular material processing apparatus includes a casing that houses the processing container, and an air supply/exhaust system member for supplying processing gas into the processing container and exhausting the processing gas from the processing container. The cleaning nozzle is disposed within the housing, the processing container, and the supply/exhaust system member, and when cleaning the powder/granular material processing apparatus, the cleaning nozzle is disposed within the housing, the processing container, and the supply/exhaust system member. A cleaning liquid containing the ultra-fine bubbles may be sprayed from the cleaning nozzle during the cleaning process. In this case, the granular material processing apparatus may be a pan coating apparatus including a coating pan, which is rotatably provided around a rotation axis and accommodates the granular material to be treated, as a processing container.
さらに、前記粉粒体処理装置は、処理容器として、有底略円筒状のベッセルを備えた撹拌造粒装置であっても良く、処理容器として、円筒状に形成された容器を垂直方向に配置した流動層装置であっても良い。 Furthermore, the powder processing apparatus may be an agitation granulation apparatus equipped with a substantially cylindrical vessel with a bottom as the processing container, and the cylindrical container is arranged vertically as the processing container. A fluidized bed apparatus may also be used.
一方、前記洗浄ノズルは、通水することによりノズル先端が回転する低速回転式ノズルや、上下左右方向に前記洗浄液が噴射可能な三次元ノズル、球状のヘッド部を備えたシャワーボールであっても良い。 On the other hand, the cleaning nozzle may be a low-speed rotating nozzle whose nozzle tip rotates when water flows through it, a three-dimensional nozzle that can spray the cleaning liquid in vertical and horizontal directions, or a shower ball with a spherical head. good.
加えて、前記洗浄液として、市水、温水、薬液、精製水の何れかに対し、直径200nm未満のウルトラファインバブルを含有させたものを使用しても良い。 In addition, as the cleaning liquid, any one of city water, hot water, chemical solution, and purified water containing ultra-fine bubbles with a diameter of less than 200 nm may be used.
本発明の粉粒体処理装置洗浄システムによれば、粉粒体処理装置の送液ラインと洗浄液供給ラインの経路中にウルトラファインバブル発生装置を配置し、粉粒体処理装置の洗浄処理に際し、スプレーノズルと洗浄ノズルに対し、直径200nm未満のウルトラファインバブルを含む洗浄液を供給するようにしたので、ウルトラファインバブルとノズル噴射の複合効果により、付帯設備をも含む装置内外を洗浄することが可能となる。その結果、従来のマイクロバブルでは実現できなかった、付帯設備をも含む装置内外の自動洗浄を実現することが可能となる。 According to the powder processing equipment cleaning system of the present invention, an ultra-fine bubble generator is disposed in the route of the liquid feeding line and the cleaning liquid supply line of the powder processing equipment, and when cleaning the powder processing equipment, A cleaning solution containing ultra-fine bubbles with a diameter of less than 200 nm is supplied to the spray nozzle and cleaning nozzle, so the combined effect of ultra-fine bubbles and nozzle jetting makes it possible to clean the inside and outside of the equipment, including incidental equipment. becomes. As a result, it becomes possible to automatically clean the inside and outside of the device, including the ancillary equipment, which could not be achieved with conventional microbubbles.
(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態について説明する。図1は、本発明の実施の形態1である粉粒体処理装置洗浄システムの構成を示す説明図である。図1の洗浄システム1は、粉粒体処理装置のひとつであるパンコーティング装置2の洗浄処理を行うものであり、装置本体のみならず、コーティング液の送液ラインや、給排気ダクト等の給排気系部材についても自動洗浄可能となっている。
(Embodiment 1)
Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is an explanatory diagram showing the configuration of a powder processing apparatus cleaning system according to
パンコーティング装置2は、コーティングパン(回転ドラム:処理容器)3内に収容した錠剤等の粉粒体被処理物に対し、糖衣などのコーティング処理を行う装置である。コーティングパン3(以下、パン3と略記する)内には、コーティング液噴霧用のスプレーノズル4が収容配置されており、パン3を回転させつつ、スプレーノズル4からコーティング液(処理液)を噴霧することにより、パン3内の被処理物にコーティング処理が施される。
The
図1に示すように、パンコーティング装置2は、筐体5のパン室6内にパン3を回転自在に設置した構成となっている。パン3は、前面側(図中右側)をパン受ロール7にて支持された状態で、ほぼ水平な回転軸線Oを中心に回転し、その内部には錠剤等の被処理物が投入される。パン3の中央部は断面円形の胴部8となっており、胴部8には全周に亘って多数個の通気孔9が設けられている。筐体5の前面側には、内部空間が給気チャンバ10となった前面ドア11が設けられている。給気チャンバ10には、図示しない外部給気ダクトから、給気ダクト12を介して温風や冷風(処理気体)が供給される。給気チャンバ10に供給された処理気体はパン3内に導入され、被処理物の乾燥等に供された後、通気孔9からパン3外に排出される。
As shown in FIG. 1, the
筐体5にはさらに、処理気体を装置外に導出するための排気ダクト13が設けられている。排気ダクト13は、パン室6の下部に配設された排気チャンバ14と連通している。排気チャンバ14はパン3の下部と接しており、パン3内に供給された処理気体は、通気孔9を介して排気チャンバ14に流入する。パン3外に排出された処理気体は、排気チャンバ14から排気ダクト13に導入される。排気ダクト13には、図示しない外部排気ダクトが接続されており、排気ダクト13内の処理気体は外部排気ダクトに送られ、装置外へと排出される。なお、筐体5には、筐体内を乾燥させるための乾燥エアが送給される筐体乾燥エアダクト15も設けられている。
The
パン3内には、コーティング液噴霧用のスプレーノズル4が配置されている。スプレーノズル4は、ガンホルダ16に取り付けられており、パン3の前面開口部3aからパン内に挿入されている。スプレーノズル4には、ガンホルダ16内に収容された図示しない給液ホースを介して、コーティング液や噴霧エアが供給される。ガンホルダ16内の給液ホースは装置外部の送液ライン17に接続されており、コーティング液はこの送液ライン17を介してスプレーノズル4に供給される。
A spray nozzle 4 for spraying a coating liquid is arranged inside the
送液ライン17には、コーティング液を貯留する液槽18と、液槽18からスプレーノズル4にコーティング液を送給するポンプ19が設けられている。液槽18には送水配管(第1配管)20aから水が供給され、そこでコーティング剤と撹拌混合されコーティング液が形成される。液槽18内のコーティング液は、ポンプ19により、接続配管(第2配管)20bからガンホルダ16内のホースを介してスプレーノズル4に供給され、パン3内の粉粒体被処理物に噴霧される。
The
一方、洗浄システム1では、パンコーティング装置2の各所を洗浄するため、洗浄液噴射用のノズルが複数設けられている。具体的には、まずパン洗浄用として、筐体5内に、パン3の外側を洗浄するためのパン外洗浄ノズル21と、パン3の内側を洗浄するためのパン内洗浄ノズル22が設けられている。パン外洗浄ノズル21は筐体5の上部に配置されており、筐体5内部の洗浄も兼ねている。両洗浄ノズル21,22には、低速回転式の洗浄ノズルが使用されており、通水することによりノズル先端が回転し、周囲360°を洗浄するようになっている。パン内洗浄ノズル22は、液だれ等の防止のためコーティング処理中はパン外に配され、洗浄時にパン3の前面開口部3aから挿入することもできる。また、パン3の前面側には、パン受ロール7を洗浄するためのパン受ロール洗浄ノズル23が設けられている。
On the other hand, in the
次に、給排気系の洗浄用として、給気ダクト12や給気チャンバ10、排気チャンバ14、排気ダクト13の各給排気系部材内部にはそれぞれ、各ダクトやチャンバを洗浄するためのノズルが設置されている。すなわち、給気ダクト12には給気ダクト洗浄ノズル24、給気チャンバ10には給気チャンバ洗浄ノズル25、排気チャンバ14には排気チャンバ洗浄ノズル26、排気ダクト13には排気ダクト洗浄ノズル27がそれぞれ設けられている。また、排気チャンバ14の外側には、排気チャンバ外側洗浄ノズル28が設置されている。さらに、筐体乾燥エアダクト15内にも筐体乾燥エアダクト洗浄ノズル29が設けられている。各ノズル21~29も低速回転式の洗浄ノズルとなっており、洗浄液供給ライン30を介して洗浄液が供給される。
Next, for cleaning the supply/exhaust system, nozzles are installed inside each supply/exhaust system member such as the
このようなパンコーティング装置2では、錠剤等のコーティング処理の後、洗浄システム1により、装置本体や給排気ダクト・チャンバ、付帯設備である送液ラインなどの自動洗浄が行われる。その際、本発明による洗浄システム1では、洗浄液として、直径200nm未満の超微細な気泡であるウルトラファインバブル(以下、UFBと略記する)を含んだ洗浄水を使用する。そのため、洗浄システム1では、送液ライン17の送水配管20aと洗浄液供給ライン30にUFB発生装置31が取り付けられている。このUFB発生装置31は、インライン(経路途中)に設置されており、従来の既存の送液ライン17や洗浄液供給ライン30に後付けにて付加可能である。なお、UFBは極めて微小かつ無色透明であり、視認できず、UFBを含んだ洗浄液(以下、UFB含有水と略記する)は白濁等しておらず、通常の水と外見上は変わらない。
In such a
この場合、送液ライン17では、コーティング処理中はUFB発生装置31を作動させずに液槽18に水が供給され、液槽18からは所定のコーティング液がスプレーノズル4に供給される。これに対し、洗浄処理を行う場合は、UFB発生装置31を作動させつつ液槽18に水(市水、温水、薬液、精製水の何れでも良い)を供給する。その際、液槽18にはコーティング剤は供給しない。そして、UFB発生装置31を用いてUFB含有水を生成して液槽18に供給し、ポンプ19を作動させる。これにより、スプレーノズル4に対し、UFB含有水が洗浄液として供給され、パン3内に噴射される。その結果、液槽18や接続配管20bなどの送液ライン17や給液ホース、スプレーノズル4がUFB含有水によって洗浄される。
In this case, in the
一方、洗浄液供給ライン30は洗浄処理時のみ使用される。洗浄液供給ライン30では、図示しないポンプにより洗浄液が供給され、インラインのUFB発生装置31によってUFB含有水が生成される。生成されたUFB含有水は、洗浄液として各洗浄ノズル21~29に供給される。そして、各洗浄ノズル21~29からはUFB含有水が噴射され、パン3の内外や給排気系の洗浄処理が行われる。
On the other hand, the cleaning
すなわち、洗浄ノズル21~23によってパン3の内外や筐体5内が、洗浄ノズル24~29によって各ダクト12,13,15や各チャンバ10,14がそれぞれUFB含有水にて洗浄される。この際、パン室6内に噴射された洗浄液は、パン室6の下部に設けられた排水配管32から装置外へとそのまま排出される(流水洗浄の場合)。また、パン室6の下部にUFB含有水を貯め、その状態でパン3を回転させる溜め洗いを行うこともでき、溜め洗い後の洗浄液は排水配管32から排出される。
That is, the inside and outside of the
このように、本発明による洗浄システム1では、送液ライン17や洗浄液供給ライン30にインラインでUFB発生装置31を設置することにより、送液ライン17やパン3の内外、給排気系、排水配管32など、装置内外がUFB含有水にて洗浄される。この場合、送液ライン17の液槽18や接続配管20b等は、洗浄液中におけるUFBの微細振動(ブラウン運動)により洗浄される。また、パン3内や筐体5内、各ダクト12,13,15やチャンバ10,14は、UFB含有水の気泡破裂による衝撃圧力作用とノズル噴射による複合効果により洗浄される。なお、溜め洗いを行った場合も、UFBのブラウン運動の効果により洗浄力がアップする。さらに、排水配管32においてもブラウン運動による洗浄効果が発揮される。
As described above, in the
したがって、このようなUFBの作用により、当該洗浄システム1によれば、直径200nm以上の気泡(マイクロバブル:以下、MBと略記する)を用いた従来のシステムに比して、高い洗浄効果を得ることが可能となる。図2は、発明者らによるMBとUFBによる洗浄テストの結果を示す表である。
Therefore, due to the action of UFB, the
図2に示すように、MB含有水では、温水(40~50°C程度)による15分の流水洗浄でも角・隅部に汚れが残り、不完全な洗浄状態であった。これに対し、UFB含有水では、市水(15°C程度)15分の流水洗浄でも、噴射が当たった部分はほぼ汚れが落ちており、さらに15分の追加洗浄を行うことにより、残存無く洗浄を完了できた。このため、洗浄システム1では、送液ライン17や給排気系を含むパンコーティング装置内外の洗浄を、仕上げ洗いなどの手作業を行うことなく、全て自動にて実施することが可能となる。
As shown in FIG. 2, with MB-containing water, dirt remained in the corners and corners even after 15 minutes of running hot water (approximately 40 to 50°C), resulting in incomplete cleaning. On the other hand, with UFB-containing water, even after 15 minutes of washing with running city water (approximately 15°C), most of the dirt was removed from the area where the jet hit, and by performing an additional 15 minutes of washing, there was no remaining dirt. I was able to complete the cleaning. Therefore, in the
以上のように、本発明の洗浄システムによれば、UFB発生装置31をインラインで設置したので、UFBの作用とノズル噴射の複合効果により、付帯設備を含む装置内外をくまなく、しかも効率良く自動洗浄することが可能となる。その結果、従来、MBでは実現できなかった、付帯設備をも含む装置内外の完全自動洗浄を実現することが可能となる。しかも、UFB発生装置31は、従来の既存の送液ライン17や洗浄液供給ライン30に後付け可能であり、従来の洗浄工程(洗浄フロー)も変更することなく、UFBの洗浄効果を従来装置との相乗効果として得ることができる。したがって、多大なコスト増を招くことなく、洗浄処理の自動化を図ることができ、錠剤コーティング等の粉粒体処理の効率化を実現することが可能となる。
As described above, according to the cleaning system of the present invention, since the
(実施の形態2)
次に、本発明の実施の形態2である洗浄システムについて説明する。図3は、本発明の実施の形態2である洗浄システム40の構成を示す説明図であり、洗浄処理時の構成を示している。なお、以下の実施の形態では、実施の形態1の洗浄システム1と同様の部分、部材については同一の符号を付し、その説明は省略する。
(Embodiment 2)
Next, a cleaning system according to a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is an explanatory diagram showing the configuration of a
図3の洗浄システム40は、本発明を撹拌造粒装置に適用したものである。図3の撹拌造粒装置41は、粉粒体が投入・処理される有底略円筒状のベッセル(処理容器)42を備えており、ベッセル42内に供給された粉粒体被処理物を撹拌・造粒する。ベッセル42の底部中央には、モータ43によって回転駆動される撹拌翼44が配置されている。ベッセル42の側壁42aには、処理済みの粉粒体が排出される排出部45と、粉粒体解砕用のチョッパ46が設けられている。ベッセル42の上端には上蓋47が開閉自在に取り付けられており、上蓋47にはスプレーノズル48が取り付けられている。
A
スプレーノズル48には、送液ライン17を介してバインダ液が供給される。送液ライン17には、バインダ液を貯留する液槽18と、液槽18からスプレーノズル48にバインダ液を送給するポンプ19が設けられている。液槽18には送水配管20aから水が供給され、そこでバインダ剤と撹拌混合されバインダ液が形成される。液槽18内のバインダ液は、ポンプ19により、接続配管20bを介してスプレーノズル48に供給され、ベッセル42内の粉粒体被処理物に噴霧される。
Binder liquid is supplied to the
このような撹拌造粒装置41では、次のようにして粉粒体の撹拌、造粒等の処理を行う。ここではまず、ベッセル42の上端から被処理物である粉粒体を投入する。次に、モータ43を駆動し、撹拌翼44を回転駆動させる。その際、ベッセル42内に、スプレーノズル48によってバインダ液を適宜供給し、ベッセル42内の粉粒体を撹拌翼44によって撹拌し、造粒する。なお、ベッセル42の底部からパージエアを供給しても良い。ベッセル42内にて、撹拌、混合、造粒等の処理が施された粉粒体は、チョッパ46にて適宜解砕される。これにより、撹拌造粒装置41にて粉粒体が造粒され、所望の粒状製品が製造される。混合、造粒等の処理が終了した製品は、排出部45から排出される。
In such an
撹拌造粒装置41においても、粉粒体の造粒処理等の後、洗浄システム40により、送液ライン17やベッセル42の自動洗浄が行われる。この場合も、洗浄液としてはUFB含有水が使用される。このため、洗浄システム40においても、送液ライン17の送水配管20aにUFB発生装置31が取り付けられている。実施の形態1の場合と同様に、送液ライン17では、造粒等の処理中はUFB発生装置31を作動させずに液槽18に水が供給され、液槽18からは所定のバインダ液がスプレーノズル48に供給される。
Also in the
これに対し、洗浄処理を行う場合は、UFB発生装置31を作動させつつ液槽18に水を供給し、液槽18にUFB含有水を供給する。そして、ポンプ19を作動させ、スプレーノズル48に対し、UFB含有水を洗浄液として供給する。これにより、スプレーノズル48からUFB含有水が噴射され、液槽18や接続配管20bなどの送液ライン17やスプレーノズル48がUFB含有水によって洗浄される。
On the other hand, when performing a cleaning process, water is supplied to the
さらに、洗浄システム40では、洗浄処理に際し、上蓋47に洗浄ノズル49が取り付けられ、ベッセル42内の洗浄が行われる。洗浄ノズル49には、低速回転式の洗浄ノズルが使用され、洗浄液供給ライン30によって洗浄液が供給される。洗浄液供給ライン30では、インラインのUFB発生装置31によってUFB含有水が生成され、洗浄ノズル49に供給される。洗浄ノズル49に供給されたUFB含有水は、洗浄ノズル49からベッセル42内に噴射され、ベッセル42内部の洗浄が行われる。
Further, in the
洗浄ノズル49から噴射されたUFB含有水は、スプレーノズル48から噴射されたUFB含有水と共にベッセル42に貯留される。そして、ベッセル42をUFB含有水にて満たし、ベッセル42内を溜め洗いする。その際、撹拌翼44とチョッパ46を作動させる。これにより、ベッセル42の側壁42aや上蓋47の内側、撹拌翼44、チョッパ46などが洗浄される。撹拌翼44とチョッパ46を作動させながら、ベッセル42の溜め洗いを所定時間実施し、溜め洗い終了後は、ベッセル42内の洗浄液を排出部45から排出する。なお、この場合も、スプレーノズル48や洗浄ノズル49からの洗浄液を掛け流しし、ベッセル42内部を流水洗浄しても良い。
The UFB-containing water injected from the cleaning
このように、洗浄システム40では、送液ライン17や洗浄液供給ライン30にインラインでUFB発生装置31を設置することにより、送液ライン17やベッセル42の内部、排出部45など、装置内外がUFB含有水にて洗浄される。この場合、前述同様、送液ライン17はUFBのブラウン運動によって洗浄され、ベッセル42内はUFB含有水の気泡破裂による衝撃圧力作用とノズル噴射による複合効果により洗浄される。また、排出部45もUFBのブラウン運動により洗浄される。
In this way, in the
したがって、洗浄システム40によれば、UFB発生装置31をインラインで設置したことにより、UFBの作用とノズル噴射の複合効果により、MBでは実現できなかった、付帯設備をも含む装置内外の完全自動洗浄を実現することが可能となる。しかも、UFB発生装置31は、従来の既存の送液ライン17や洗浄液供給ライン30に後付け可能であり、従来の洗浄工程(洗浄フロー)も変更することなく、UFBの洗浄効果を従来装置との相乗効果として得ることができる。したがって、多大なコスト増を招くことなく、洗浄処理の自動化を図ることができ、撹拌造粒等の粉粒体処理の効率化を実現することが可能となる。
Therefore, according to the
(実施の形態3)
さらに、本発明の実施の形態3である洗浄システムについて説明する。図4は、本発明の実施の形態3である洗浄システム50の構成を示す説明図である。図4の洗浄システム50は、本発明を流動層装置に適用したものである。図4に示すように、流動層装置51は、粉粒体被処理物が収容され造粒コーティング処理や乾燥処理等が行われる処理容器52を有しており、処理容器52内にて粉粒体被処理物の造粒コーティング処理が行われる。
(Embodiment 3)
Furthermore, a cleaning system according to a third embodiment of the present invention will be explained. FIG. 4 is an explanatory diagram showing the configuration of a
処理容器52は円筒状に形成されており、上から順に、フィルタケーシング53、スプレーケーシング54、原料容器コンテナ55および給気ユニット56の各容器を垂直方向に重ねて配置した構成となっている。フィルタケーシング53の上端部には排気口57が形成されており、排気口57は図示しない排気設備に接続されている。フィルタケーシング53の下端部には、スプレーケーシング54との間にフィルタ58が取り付けられている。フィルタケーシング53内には、洗浄用のシャワーボール(洗浄ノズル)59が設置されている。シャワーボール59は球状のヘッド部を備えており、360°洗浄液が噴射可能となっている。シャワーボール59には、洗浄液供給ライン30を介して洗浄液が供給される。
The
スプレーケーシング54内は流動室60となっている。流動室60内には、粉粒体にバインダ液やコーティング液(以下、バインダ液等と略記する)を噴霧するためのスプレーノズル61が取り付けられている。スプレーノズル61には、送液ライン17を介してバインダ液等が供給される。送液ライン17には、バインダ液等を貯留する液槽18と、液槽18からスプレーノズル61にバインダ液等を送給するポンプ19が設けられている。液槽18には送水配管20aから水が供給され、そこでバインダ剤やコーティング剤と撹拌混合されバインダ液等が形成される。液槽18内のバインダ液等は、ポンプ19により、接続配管20bを介してスプレーノズル61に供給され、スプレーケーシング54内の粉粒体被処理物に噴霧される。
The inside of the
また、洗浄システム50では、スプレーケーシング54や原料容器コンテナ55を洗浄するため、スプレーケーシング54内に洗浄液噴射用の三次元ノズル(洗浄ノズル)62が設けられる。三次元ノズル62は、上下左右方向に洗浄液が噴射可能となっており、洗浄処理の際にスプレーケーシング54内に挿入される。三次元ノズル62に対しては、洗浄液供給ライン30を介して、洗浄液が供給される。
Further, in the
スプレーケーシング54の下方には原料容器コンテナ55が配置され、原料容器コンテナ55内には被処理物となる粉粒体が投入される。原料容器コンテナ55の下方には、給気ユニット56が据え付けられている。給気ユニット56の内部は給気室63となっている。給気ユニット56には、給気室63に連通する給気ダクト64が取り付けられている。給気ダクト64は、装置外に設けられた図示しないエア供給源に接続されている。給気室63内には、この給気ダクト64を介して、粉粒体を流動化するための処理気体(流動エア)が供給される。
A
このような流動層装置51では、給気ダクト64から給気室63に流動エアを供給する。流動エアは、処理容器52内にて旋回気流を形成し、処理容器52内の粉粒体を吹き上げる。吹き上げられた粉粒体は、流動室60内にて流動状態となり撹拌混合される。そして、流動状態となった粉粒体に、スプレーノズル61から適宜バインダ液等をスプレー状に噴霧する。これにより、流動層装置51にて、粉粒体の造粒処理やコーティング処理が実行される。一方、粉粒体を流動状態とした処理気体は、微細な固体粒子がフィルタ58によって除去されて清浄化され、その後、排気口57から装置外へと排出される。
In such a
流動層装置51においても、粉粒体の造粒処理等の後、洗浄システム50により、送液ライン17や処理容器52の自動洗浄が行われる。この場合も、洗浄液としてはUFB含有水が使用される。このため、洗浄システム50にも、送液ライン17の送水配管20aや洗浄液供給ライン30にUFB発生装置31が取り付けられている。
In the
送液ライン17では、実施の形態1,2の場合と同様に、造粒等の処理中はUFB発生装置31を作動させずに液槽18に水が供給され、液槽18からは所定のバインダ液等がスプレーノズル61に供給される。一方、洗浄処理を行う場合は、UFB発生装置31を作動させつつ液槽18に水を供給する。その際、液槽18にはバインダ剤等は供給しない。そして、UFB発生装置31を用いてUFB含有水を生成して液槽18に供給し、ポンプ19を作動させる。これにより、スプレーノズル61に対し、UFB含有水が洗浄液として供給され、流動室60内に噴射される。その結果、液槽18や接続配管20bなどの送液ライン17やスプレーノズル61がUFB含有水によって洗浄される。
In the
また、流動層装置51においても、洗浄液供給ライン30にUFB発生装置31が取り付けられている。洗浄液供給ライン30では、インラインのUFB発生装置31によってUFB含有水が生成され、シャワーボール59や三次元ノズル62に供給される。これにより、シャワーボール59からUFB含有水が噴射され、フィルタケーシング53内やフィルタ58の上面側の洗浄処理が行われる。また、三次元ノズル62からも上下左右方向に洗浄液が噴射され、スプレーケーシング54内のみならず、フィルタ58の下面側や原料容器コンテナ55もUFB含有水にて洗浄される。なお、排気口57や給気ダクト64内にも洗浄ノズルを設け、洗浄液供給ライン30から洗浄液を供給するようにしても良い。
Further, in the
このように、洗浄システム50では、処理容器52内に配した三次元ノズル62やシャワーボール59からUFB含有水の洗浄液を噴射し、フィルタケーシング53やスプレーケーシング54、原料容器コンテナ55をUFB含有水にて洗浄する。三次元ノズル62やシャワーボール59から噴射されたUFB含有水は、スプレーノズル61から噴射されたUFB含有水と共に、給気ユニット56内に流入する。そして、給気ユニット56内もUFB含有水にて洗浄され、給気ユニット56内を洗浄した洗浄液は、排水配管65から排出される。なお、洗浄処理の際、排水配管65を閉じて、給気ユニット56内、あるいは、その上の原料容器コンテナ55やスプレーケーシング54内など、処理容器52内を適宜溜め洗いしても良い。また、給気ダクト64内も併せて洗浄しても良い。
In this way, in the
洗浄システム50においても、実施の形態1,2と同様に、送液ライン17や洗浄液供給ライン30にインラインでUFB発生装置31を設置することにより、送液ライン17や処理容器52など、装置内外がUFB含有水にて洗浄される。この場合、前述同様、送液ライン17はUFBのブラウン運動によって洗浄され、処理容器52内はUFB含有水の気泡破裂による衝撃圧力作用とノズル噴射による複合効果により洗浄される。また、給気ユニット56もUFBのブラウン運動により洗浄される。
Also in the
したがって、洗浄システム50によれば、UFB発生装置31をインラインで設置したことにより、UFBの作用とノズル噴射の複合効果により、MBでは実現できなかった、付帯設備をも含む装置内外の完全自動洗浄を実現することが可能となる。しかも、UFB発生装置31は、従来の既存の送液ライン17や洗浄液供給ライン30に後付け可能であり、従来の洗浄工程(洗浄フロー)も変更することなく、UFBの洗浄効果を従来装置との相乗効果として得ることができる。したがって、多大なコスト増を招くことなく、洗浄処理の自動化を図ることができ、撹拌造粒等の粉粒体処理の効率化を実現することが可能となる。
Therefore, according to the
本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
例えば、前述の実施の形態は、パンコーティング装置や撹拌造粒装置、流動層装置に本発明による洗浄システム適用した例を示したが、本発明の洗浄システムは、前記実施形態以外の構成のパンコーティング装置や撹拌造粒装置、流動層装置、さらに、遠心転動造粒装置や粉砕装置等、実施の形態以外の粉粒体処理装置にも適用可能である。また、各実施形態にて使用しているノズルも一例であり、各洗浄ノズルは、低速回転式の洗浄ノズルやシャワーボール、三次元ノズルには限定されない。例えば、前述の洗浄ノズル21~29,49に、シャワーボールや三次元ノズルを用いたり、シャワーボール59や三次元ノズル62に代えて低速回転式の洗浄ノズルを用いたりすることもでき、さらに、一般的な噴射ノズルなど、上記以外の種類のノズルを用いることも可能である。加えて、前述の実施の形態にて示した各種数値は一例であり、本発明は前記数値には限定されない。
It goes without saying that the present invention is not limited to the embodiments described above, and can be modified in various ways without departing from the gist thereof.
For example, in the embodiments described above, the cleaning system according to the present invention is applied to a pan coating device, an agitation granulation device, or a fluidized bed device, but the cleaning system of the present invention can be applied to a pan coating device having a configuration other than the above embodiments. It is also applicable to powder processing devices other than the embodiments, such as a coating device, an agitation granulation device, a fluidized bed device, a centrifugal rolling granulation device, and a pulverization device. Moreover, the nozzles used in each embodiment are also examples, and each cleaning nozzle is not limited to a low-speed rotation type cleaning nozzle, a shower ball, or a three-dimensional nozzle. For example, a shower ball or a three-dimensional nozzle may be used as the above-mentioned
本発明は、粉粒体処理装置の洗浄システム以外にも適用可能であり、例えば、半導体製造装置などの洗浄ラインなどにも使用可能である。 The present invention is applicable not only to cleaning systems for powder and granular material processing equipment, but also to cleaning lines for semiconductor manufacturing equipment and the like.
1 洗浄システム
2 パンコーティング装置
3 コーティングパン
3a 前面開口部
4 スプレーノズル
5 筐体
6 パン室
7 パン受ロール
8 胴部
9 通気孔
10 給気チャンバ
11 前面ドア
12 給気ダクト
13 排気ダクト
14 排気チャンバ
15 筐体乾燥エアダクト
16 ガンホルダ
17 送液ライン
18 液槽
19 ポンプ
20a 送水配管(第1配管)
20b 接続配管(第2配管)
21 パン外洗浄ノズル
22 パン内洗浄ノズル
23 パン受ロール洗浄ノズル
24 給気ダクト洗浄ノズル
25 給気チャンバ洗浄ノズル
26 排気チャンバ洗浄ノズル
27 排気ダクト洗浄ノズル
28 排気チャンバ外側洗浄ノズル
29 筐体乾燥エアダクト洗浄ノズル
30 洗浄液供給ライン
31 UFB発生装置
32 排水配管
40 洗浄システム
41 撹拌造粒装置
42 ベッセル
42a 側壁
43 モータ
44 撹拌翼
45 排出部
46 チョッパ
47 上蓋
48 スプレーノズル
49 洗浄ノズル
50 洗浄システム
51 流動層装置
52 処理容器
53 フィルタケーシング
54 スプレーケーシング
55 原料容器コンテナ
56 給気ユニット
57 排気口
58 フィルタ
59 シャワーボール
60 流動室
61 スプレーノズル
62 三次元ノズル
63 給気室
64 給気ダクト
65 排水配管
O 回転軸線
1
20b Connection piping (second piping)
21 Pan outside cleaning
Claims (10)
前記スプレーノズルに対し前記処理液を供給する送液ラインと、
前記処理容器内に配置され、前記処理容器内を洗浄する洗浄液が噴射される洗浄ノズルと、
前記洗浄ノズルに対し前記洗浄液を供給する洗浄液供給ラインと、
前記送液ラインおよび前記洗浄液供給ラインの各経路中に配置され、直径200nm未満の気泡を形成するウルトラファインバブル発生装置と、を有し、
前記粉粒体処理装置の洗浄処理に際し、前記スプレーノズルおよび前記洗浄ノズルに対し、直径200nm未満のウルトラファインバブルを含む洗浄液を供給することを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。 A cleaning system that performs a cleaning process for a powder or granular material processing apparatus having a processing container that accommodates a powder or granular material, and a spray nozzle that sprays a predetermined treatment liquid onto the powder or granular material in the processing container,
a liquid feeding line that supplies the processing liquid to the spray nozzle;
a cleaning nozzle disposed within the processing container and spraying a cleaning liquid for cleaning the inside of the processing container;
a cleaning liquid supply line that supplies the cleaning liquid to the cleaning nozzle;
an ultra-fine bubble generator that is disposed in each path of the liquid feeding line and the cleaning liquid supply line and forms bubbles with a diameter of less than 200 nm,
A cleaning system for a powder or granular material processing apparatus, characterized in that a cleaning liquid containing ultra-fine bubbles with a diameter of less than 200 nm is supplied to the spray nozzle and the cleaning nozzle during cleaning of the powder or granular material processing apparatus.
前記送液ラインは、前記処理液が貯留される液槽と、該液槽内の前記処理液を前記ノズルに送給するポンプと、前記液槽に水を供給する第1配管と、前記液槽と前記ポンプ、前記ポンプと前記スプレーノズルとの間をそれぞれ接続する第2配管と、を有し、
前記ウルトラファインバブル発生装置は、前記第1配管の経路中に配設されることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。 The powder processing equipment cleaning system according to claim 1,
The liquid supply line includes a liquid tank in which the processing liquid is stored, a pump that feeds the processing liquid in the liquid tank to the nozzle, a first pipe that supplies water to the liquid tank, and a first pipe that supplies water to the liquid tank. a second pipe connecting the tank and the pump, and the pump and the spray nozzle, respectively;
A cleaning system for a powder or granular material processing apparatus, wherein the ultra-fine bubble generator is disposed in a path of the first pipe.
前記粉粒体処理装置は、
前記処理容器を収容する筐体と、
前記処理容器内に処理気体を供給し該処理容器から前記処理気体を排気するための給排気系部材と、を有し、
前記筐体内、前記処理容器内および前記給排気系部材内に前記洗浄ノズルを配置し、
前記粉粒体処理装置の洗浄処理に際し、前記筐体内、前記処理容器内および前記給排気系部材内に、前記洗浄ノズルより、前記ウルトラファインバブルを含む洗浄液を噴射することを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。 The granular material processing equipment cleaning system according to claim 1 or 2,
The granular material processing device includes:
a casing that accommodates the processing container;
an air supply and exhaust system member for supplying processing gas into the processing container and exhausting the processing gas from the processing container,
disposing the cleaning nozzle within the housing, within the processing container, and within the supply/exhaust system member;
During the cleaning process of the powder processing apparatus, a cleaning liquid containing the ultra-fine bubbles is injected from the cleaning nozzle into the housing, the processing container, and the air supply/exhaust system member. Body treatment equipment cleaning system.
前記粉粒体処理装置は、処理容器として、回転軸線を中心に回転自在に設けられ粉粒体被処理物が収容されるコーティングパンを備えたパンコーティング装置であることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。 The granular material processing equipment cleaning system according to claim 3,
The powder or granular material processing apparatus is a pan coating apparatus that is equipped with a coating pan as a processing container that is rotatably provided around a rotation axis and accommodates the powder or granular material to be processed. Processing equipment cleaning system.
前記粉粒体処理装置は、処理容器として、有底略円筒状のベッセルを備えた撹拌造粒装置であることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。 The granular material processing equipment cleaning system according to claim 1 or 2,
A cleaning system for a powder/granular material processing apparatus, wherein the powder/granular material processing apparatus is an agitation granulation apparatus equipped with a bottomed substantially cylindrical vessel as a processing container.
前記粉粒体処理装置は、処理容器として、円筒状に形成された容器を垂直方向に配置した流動層装置であることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。 The granular material processing equipment cleaning system according to claim 1 or 2,
A cleaning system for a powder/granular material processing apparatus, wherein the powder/granular material processing apparatus is a fluidized bed apparatus in which a cylindrical container is vertically arranged as a processing container.
前記洗浄ノズルは、通水することによりノズル先端が回転する低速回転式ノズルであることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。 In the powder processing equipment cleaning system according to any one of claims 1 to 6,
A cleaning system for a powder processing device, wherein the cleaning nozzle is a low-speed rotating nozzle whose tip rotates when water flows through it.
前記洗浄ノズルは、上下左右方向に前記洗浄液が噴射可能な三次元ノズルであることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。 In the powder processing equipment cleaning system according to any one of claims 1 to 6,
A cleaning system for a powder processing apparatus, wherein the cleaning nozzle is a three-dimensional nozzle that can spray the cleaning liquid in up, down, left and right directions.
前記洗浄ノズルは、球状のヘッド部を備えたシャワーボールであることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。 In the powder processing equipment cleaning system according to any one of claims 1 to 6,
A cleaning system for a powder processing apparatus, wherein the cleaning nozzle is a shower ball having a spherical head.
前記洗浄液は、市水、温水、薬液、精製水の何れかに対し、直径200nm未満のウルトラファインバブルを含有させてなることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。 In the powder processing equipment cleaning system according to any one of claims 1 to 9,
A cleaning system for a granular material processing apparatus, characterized in that the cleaning liquid contains ultra-fine bubbles with a diameter of less than 200 nm in any one of city water, hot water, chemical solution, and purified water.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Family
ID=88024777
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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