JP2023130200A - Particulate matter processing device cleaning system - Google Patents

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Toshihiro Isshiki
淳平 北原
Jumpei Kitahara
優貴 武内
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Abstract

To provide a particulate matter processing device cleaning system which can automatically clean the inside and outside of a device including an auxiliary facility thoroughly and efficiently.SOLUTION: A cleaning system 1 performs automatic cleaning processing of a device body of a pan coating device 2 and a liquid feed line 17 of coating liquid and an air supply and exhaust system members including an air supply duct 12 and the like. Spray nozzles 4 connected to the liquid feed line 17 and an in-pan cleaning nozzle 22 connected to a cleaning liquid supply line 30 are provided in a coating pan 3. Cleaning nozzles 21, 23-29 connected to the cleaning liquid supply line 30 are provided in a housing 5 or each air supply and exhaust system member. An ultra fine bubble generation device 31 is provided for the liquid feed line 17 and the cleaning liquid supply line 30. In cleaning processing, a cleaning liquid containing ultra fine bubbles with diameters less than 200 nm is supplied to the spray nozzles 4 and the respective cleaning nozzles 21-29.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、パンコーティング装置や撹拌造粒機、流動層造粒コーティング装置などの粉粒体処理装置の洗浄技術に関し、特に、付帯設備を含む装置内外を自動洗浄可能な粉粒体処理装置の洗浄システムに関する。 The present invention relates to cleaning technology for powder processing equipment such as pan coating equipment, stirring granulators, and fluidized bed granulation coating equipment, and in particular to cleaning technology for powder processing equipment that can automatically clean the inside and outside of the equipment, including ancillary equipment. Regarding cleaning systems.

造粒コーティング装置など、薬剤や食品等の製造に使用される粉粒体処理装置では、粉粒体の造粒やコーティング処理の後、コンタミネーション防止等のため、装置の洗浄処理が実施される。この洗浄処理に際しては、従来より、装置内に配した洗浄ノズルから、洗浄液として、市水(水道水)や、温水、薬液、精製水などを噴射したり、装置内に洗浄水を溜めおき、その状態で溜め洗いしたりする方法が取られている。また、洗浄処理の形態としては、装置を分解せずに洗浄する定置洗浄や、作業員による手洗浄、装置内に設置したノズルによる自動洗浄など、種々の態様が存在している。 In powder processing equipment, such as granulation coating equipment, used in the production of pharmaceuticals, foods, etc., after the granulation and coating processing of the powder, the equipment is cleaned to prevent contamination, etc. . Conventionally, in this cleaning process, cleaning liquid such as city water (tap water), hot water, chemical solution, purified water, etc. is sprayed from a cleaning nozzle placed inside the device, or cleaning water is stored inside the device. One method is to wash the water in a pool under such conditions. Furthermore, there are various forms of cleaning processing, such as fixed cleaning in which the device is cleaned without disassembling it, manual cleaning by an operator, and automatic cleaning using a nozzle installed in the device.

特開2013-208537公報Japanese Patent Application Publication No. 2013-208537

しかしながら、従来の洗浄処理は、専ら装置内部の洗浄がメインであり、液槽タンクや配管等の送液ラインなど装置付帯設備の洗浄は必ずしも十分とは言えなかった。また、洗浄作用も、ノズル噴射の衝撃力によって汚れを分離させる効果や、温水や薬液によって汚れを溶かす効果に限られており、装置を十分に洗浄するには相当な時間を要し、付帯設備を含む装置内外を効率良く自動洗浄できない、という問題があった。 However, conventional cleaning processing mainly focuses on cleaning the inside of the device, and cleaning of the equipment incidental to the device, such as the liquid tank and the liquid sending lines such as piping, is not necessarily sufficient. In addition, the cleaning action is limited to the effect of separating dirt by the impact force of the nozzle jet, or the effect of dissolving dirt with hot water or chemical solutions, and it takes a considerable amount of time to thoroughly clean the equipment, and the attached equipment There was a problem in that it was not possible to efficiently and automatically clean the inside and outside of the device, including the inside and outside of the device.

この場合、例えば、液槽タンクは、内部に洗浄ノズルを設置して洗浄する程度であり、送液ラインについては、その中に精製水を流すのみとなっており、とても十分な洗浄ができているとは言い難い。このため、従来の粉粒体処理装置、特に、薬剤や食品を取り扱うものでは、同一製品に対して同一送液ラインを使用する運用や、処理バッチ毎に新品に交換する方法が取られており、コストや生産効率の点で課題があった。また、排水配管については、そもそも洗浄をするという概念がないため、洗浄処理自体が行われておらず、GMPの観点からも好ましくなかった。 In this case, for example, the liquid tank can only be cleaned by installing a cleaning nozzle inside it, and the liquid supply line can only be cleaned with purified water, making it very difficult to clean it thoroughly. It's hard to say that there are. For this reason, conventional powder and granule processing equipment, especially those that handle pharmaceuticals and foods, use the same liquid delivery line for the same product or replace it with a new one for each processing batch. However, there were issues in terms of cost and production efficiency. Furthermore, since there is no concept of cleaning the drainage pipes, the cleaning process itself is not performed, which is not preferable from a GMP perspective.

本発明の目的は、付帯設備を含む装置内外をくまなく、しかも効率良く自動洗浄し得る粉粒体処理装置の洗浄システムを提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a cleaning system for a powder processing apparatus that can automatically and efficiently clean the inside and outside of the apparatus including auxiliary equipment.

本発明の粉粒体処理装置洗浄システムは、粉粒体を収容する処理容器と、前記処理容器内の前記粉粒体に対し所定の処理液を噴霧するスプレーノズルと、を有する粉粒体処理装置の洗浄処理を行う洗浄システムであって、前記スプレーノズルに対し前記処理液を供給する送液ラインと、前記処理容器内に配置され、前記処理容器内を洗浄する洗浄液が噴射される洗浄ノズルと、前記洗浄ノズルに対し前記洗浄液を供給する洗浄液供給ラインと、
前記送液ラインおよび前記洗浄液供給ラインの各経路中に配置され、直径200nm未満の気泡を形成するウルトラファインバブル発生装置と、を有し、前記粉粒体処理装置の洗浄処理に際し、前記スプレーノズルおよび前記洗浄ノズルに対し、直径200nm未満のウルトラファインバブルを含む洗浄液を供給することを特徴とする。
A powder and granular material processing apparatus cleaning system of the present invention includes a processing container that accommodates a powder and granular material, and a spray nozzle that sprays a predetermined processing liquid onto the powder and granular material in the processing container. A cleaning system that performs a cleaning process for an apparatus, comprising: a liquid feeding line that supplies the processing liquid to the spray nozzle; and a cleaning nozzle that is disposed within the processing container and injects a cleaning liquid that cleans the inside of the processing container. and a cleaning liquid supply line that supplies the cleaning liquid to the cleaning nozzle;
an ultra-fine bubble generator that is disposed in each path of the liquid feeding line and the cleaning liquid supply line and that forms bubbles with a diameter of less than 200 nm; and a cleaning liquid containing ultra-fine bubbles with a diameter of less than 200 nm is supplied to the cleaning nozzle.

本発明にあっては、送液ラインと洗浄液供給ラインの経路中にウルトラファインバブル発生装置を配置し、粉粒体処理装置の洗浄処理に際し、スプレーノズルと洗浄ノズルに対し、直径200nm未満のウルトラファインバブルを含む洗浄液を供給する。これにより、ウルトラファインバブルとノズル噴射の複合効果により、付帯設備をも含む装置内外を自動洗浄する。この場合、ウルトラファインバブル発生装置は、従来の既存の送液ラインや洗浄液供給ラインに後付け可能であるため、従来のシステム構成や洗浄工程を変更することなく、粉粒体処理装置の自動洗浄を行うことが可能となる。 In the present invention, an ultra-fine bubble generator is placed in the path of the liquid feeding line and the cleaning liquid supply line, and when cleaning the powder/granular material processing equipment, ultra-fine bubbles with a diameter of less than 200 nm are applied to the spray nozzle and cleaning nozzle. Supply cleaning solution containing fine bubbles. As a result, the combined effect of ultra-fine bubbles and nozzle spray automatically cleans the inside and outside of the device, including the auxiliary equipment. In this case, the ultra-fine bubble generator can be retrofitted to the existing liquid delivery line or cleaning liquid supply line, so it can automatically clean the powder processing equipment without changing the conventional system configuration or cleaning process. It becomes possible to do so.

前記粉粒体処理装置洗浄システムにおいて、前記送液ラインとして、前記処理液が貯留される液槽と、該液槽内の前記処理液を前記ノズルに送給するポンプと、前記液槽に水を供給する第1配管と、前記液槽と前記ポンプ、前記ポンプと前記スプレーノズルとの間をそれぞれ接続する第2配管と、を設け、前記ウルトラファインバブル発生装置を、前記第1配管の経路中に配設するようにしても良い。 In the powder processing equipment cleaning system, the liquid supply line includes a liquid tank in which the processing liquid is stored, a pump that feeds the processing liquid in the liquid tank to the nozzle, and a water supply line to the liquid tank. and a second pipe connecting the liquid tank and the pump, and the pump and the spray nozzle, respectively, and connecting the ultra fine bubble generator to the first pipe. It may be arranged inside.

また、前記粉粒体処理装置は、前記処理容器を収容する筐体と、前記処理容器内に処理気体を供給し該処理容器から前記処理気体を排気するための給排気系部材と、を有し、前記筐体内、前記処理容器内および前記給排気系部材内に前記洗浄ノズルを配置し、前記粉粒体処理装置の洗浄処理に際し、前記筐体内、前記処理容器内および前記給排気系部材内に、前記洗浄ノズルより、前記ウルトラファインバブルを含む洗浄液を噴射するようにしても良い。この場合、前記粉粒体処理装置は、処理容器として、回転軸線を中心に回転自在に設けられ粉粒体被処理物が収容されるコーティングパンを備えたパンコーティング装置であっても良い。 Further, the powder and granular material processing apparatus includes a casing that houses the processing container, and an air supply/exhaust system member for supplying processing gas into the processing container and exhausting the processing gas from the processing container. The cleaning nozzle is disposed within the housing, the processing container, and the supply/exhaust system member, and when cleaning the powder/granular material processing apparatus, the cleaning nozzle is disposed within the housing, the processing container, and the supply/exhaust system member. A cleaning liquid containing the ultra-fine bubbles may be sprayed from the cleaning nozzle during the cleaning process. In this case, the granular material processing apparatus may be a pan coating apparatus including a coating pan, which is rotatably provided around a rotation axis and accommodates the granular material to be treated, as a processing container.

さらに、前記粉粒体処理装置は、処理容器として、有底略円筒状のベッセルを備えた撹拌造粒装置であっても良く、処理容器として、円筒状に形成された容器を垂直方向に配置した流動層装置であっても良い。 Furthermore, the powder processing apparatus may be an agitation granulation apparatus equipped with a substantially cylindrical vessel with a bottom as the processing container, and the cylindrical container is arranged vertically as the processing container. A fluidized bed apparatus may also be used.

一方、前記洗浄ノズルは、通水することによりノズル先端が回転する低速回転式ノズルや、上下左右方向に前記洗浄液が噴射可能な三次元ノズル、球状のヘッド部を備えたシャワーボールであっても良い。 On the other hand, the cleaning nozzle may be a low-speed rotating nozzle whose nozzle tip rotates when water flows through it, a three-dimensional nozzle that can spray the cleaning liquid in vertical and horizontal directions, or a shower ball with a spherical head. good.

加えて、前記洗浄液として、市水、温水、薬液、精製水の何れかに対し、直径200nm未満のウルトラファインバブルを含有させたものを使用しても良い。 In addition, as the cleaning liquid, any one of city water, hot water, chemical solution, and purified water containing ultra-fine bubbles with a diameter of less than 200 nm may be used.

本発明の粉粒体処理装置洗浄システムによれば、粉粒体処理装置の送液ラインと洗浄液供給ラインの経路中にウルトラファインバブル発生装置を配置し、粉粒体処理装置の洗浄処理に際し、スプレーノズルと洗浄ノズルに対し、直径200nm未満のウルトラファインバブルを含む洗浄液を供給するようにしたので、ウルトラファインバブルとノズル噴射の複合効果により、付帯設備をも含む装置内外を洗浄することが可能となる。その結果、従来のマイクロバブルでは実現できなかった、付帯設備をも含む装置内外の自動洗浄を実現することが可能となる。 According to the powder processing equipment cleaning system of the present invention, an ultra-fine bubble generator is disposed in the route of the liquid feeding line and the cleaning liquid supply line of the powder processing equipment, and when cleaning the powder processing equipment, A cleaning solution containing ultra-fine bubbles with a diameter of less than 200 nm is supplied to the spray nozzle and cleaning nozzle, so the combined effect of ultra-fine bubbles and nozzle jetting makes it possible to clean the inside and outside of the equipment, including incidental equipment. becomes. As a result, it becomes possible to automatically clean the inside and outside of the device, including the ancillary equipment, which could not be achieved with conventional microbubbles.

本発明の実施の形態1である洗浄システムの構成を示す断面図である。1 is a sectional view showing the configuration of a cleaning system according to a first embodiment of the present invention. マイクロバブルとウルトラファインバブルによる洗浄テストの結果を示す表である。2 is a table showing the results of a cleaning test using microbubbles and ultrafine bubbles. 本発明の実施の形態2である洗浄システムの構成を示す説明図である。It is an explanatory view showing the composition of the cleaning system which is Embodiment 2 of the present invention. 本発明の実施の形態3である洗浄システムの構成を示す説明図である。It is an explanatory view showing the composition of the washing system which is Embodiment 3 of the present invention.

(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態について説明する。図1は、本発明の実施の形態1である粉粒体処理装置洗浄システムの構成を示す説明図である。図1の洗浄システム1は、粉粒体処理装置のひとつであるパンコーティング装置2の洗浄処理を行うものであり、装置本体のみならず、コーティング液の送液ラインや、給排気ダクト等の給排気系部材についても自動洗浄可能となっている。
(Embodiment 1)
Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is an explanatory diagram showing the configuration of a powder processing apparatus cleaning system according to Embodiment 1 of the present invention. The cleaning system 1 in Fig. 1 cleans a pan coating device 2, which is one of the powder processing devices, and cleans not only the device itself, but also the coating liquid supply line, supply and exhaust ducts, etc. Exhaust system components can also be automatically cleaned.

パンコーティング装置2は、コーティングパン(回転ドラム:処理容器)3内に収容した錠剤等の粉粒体被処理物に対し、糖衣などのコーティング処理を行う装置である。コーティングパン3(以下、パン3と略記する)内には、コーティング液噴霧用のスプレーノズル4が収容配置されており、パン3を回転させつつ、スプレーノズル4からコーティング液(処理液)を噴霧することにより、パン3内の被処理物にコーティング処理が施される。 The pan coating device 2 is a device that performs a coating process such as sugar coating on a powder or granular material to be processed, such as a tablet, accommodated in a coating pan (rotating drum: processing container) 3. A spray nozzle 4 for spraying a coating liquid is housed in the coating pan 3 (hereinafter abbreviated as pan 3), and the coating liquid (processing liquid) is sprayed from the spray nozzle 4 while rotating the pan 3. By doing so, the object to be processed in the pan 3 is coated.

図1に示すように、パンコーティング装置2は、筐体5のパン室6内にパン3を回転自在に設置した構成となっている。パン3は、前面側(図中右側)をパン受ロール7にて支持された状態で、ほぼ水平な回転軸線Oを中心に回転し、その内部には錠剤等の被処理物が投入される。パン3の中央部は断面円形の胴部8となっており、胴部8には全周に亘って多数個の通気孔9が設けられている。筐体5の前面側には、内部空間が給気チャンバ10となった前面ドア11が設けられている。給気チャンバ10には、図示しない外部給気ダクトから、給気ダクト12を介して温風や冷風(処理気体)が供給される。給気チャンバ10に供給された処理気体はパン3内に導入され、被処理物の乾燥等に供された後、通気孔9からパン3外に排出される。 As shown in FIG. 1, the bread coating device 2 has a structure in which a bread 3 is rotatably installed in a bread chamber 6 of a housing 5. The pan 3 rotates around a substantially horizontal axis of rotation O with its front side (right side in the figure) supported by a pan receiving roll 7, and a workpiece such as a tablet is thrown into the pan 3. . The center of the bread 3 is a body part 8 having a circular cross section, and the body part 8 is provided with a large number of ventilation holes 9 over the entire circumference. A front door 11 whose interior space is an air supply chamber 10 is provided on the front side of the housing 5. Hot air and cold air (processing gas) are supplied to the air supply chamber 10 from an external air supply duct (not shown) via an air supply duct 12 . The processing gas supplied to the air supply chamber 10 is introduced into the pan 3, used for drying the object to be processed, etc., and then discharged from the pan 3 through the ventilation hole 9.

筐体5にはさらに、処理気体を装置外に導出するための排気ダクト13が設けられている。排気ダクト13は、パン室6の下部に配設された排気チャンバ14と連通している。排気チャンバ14はパン3の下部と接しており、パン3内に供給された処理気体は、通気孔9を介して排気チャンバ14に流入する。パン3外に排出された処理気体は、排気チャンバ14から排気ダクト13に導入される。排気ダクト13には、図示しない外部排気ダクトが接続されており、排気ダクト13内の処理気体は外部排気ダクトに送られ、装置外へと排出される。なお、筐体5には、筐体内を乾燥させるための乾燥エアが送給される筐体乾燥エアダクト15も設けられている。 The housing 5 is further provided with an exhaust duct 13 for leading the processing gas out of the apparatus. The exhaust duct 13 communicates with an exhaust chamber 14 located at the bottom of the bread chamber 6. The exhaust chamber 14 is in contact with the lower part of the pan 3 , and the processing gas supplied into the pan 3 flows into the exhaust chamber 14 through the vent hole 9 . The processing gas discharged outside the pan 3 is introduced into the exhaust duct 13 from the exhaust chamber 14. An external exhaust duct (not shown) is connected to the exhaust duct 13, and the process gas in the exhaust duct 13 is sent to the external exhaust duct and exhausted to the outside of the apparatus. Note that the housing 5 is also provided with a housing drying air duct 15 through which dry air for drying the inside of the housing is supplied.

パン3内には、コーティング液噴霧用のスプレーノズル4が配置されている。スプレーノズル4は、ガンホルダ16に取り付けられており、パン3の前面開口部3aからパン内に挿入されている。スプレーノズル4には、ガンホルダ16内に収容された図示しない給液ホースを介して、コーティング液や噴霧エアが供給される。ガンホルダ16内の給液ホースは装置外部の送液ライン17に接続されており、コーティング液はこの送液ライン17を介してスプレーノズル4に供給される。 A spray nozzle 4 for spraying a coating liquid is arranged inside the pan 3. The spray nozzle 4 is attached to the gun holder 16 and inserted into the pan 3 through the front opening 3a. Coating liquid and spray air are supplied to the spray nozzle 4 via a liquid supply hose (not shown) housed in the gun holder 16 . The liquid supply hose inside the gun holder 16 is connected to a liquid supply line 17 outside the apparatus, and the coating liquid is supplied to the spray nozzle 4 via this liquid supply line 17.

送液ライン17には、コーティング液を貯留する液槽18と、液槽18からスプレーノズル4にコーティング液を送給するポンプ19が設けられている。液槽18には送水配管(第1配管)20aから水が供給され、そこでコーティング剤と撹拌混合されコーティング液が形成される。液槽18内のコーティング液は、ポンプ19により、接続配管(第2配管)20bからガンホルダ16内のホースを介してスプレーノズル4に供給され、パン3内の粉粒体被処理物に噴霧される。 The liquid supply line 17 is provided with a liquid tank 18 for storing the coating liquid and a pump 19 for feeding the coating liquid from the liquid tank 18 to the spray nozzle 4 . Water is supplied to the liquid tank 18 from a water supply pipe (first pipe) 20a, where it is stirred and mixed with the coating agent to form a coating liquid. The coating liquid in the liquid tank 18 is supplied by the pump 19 from the connecting pipe (second pipe) 20b to the spray nozzle 4 via the hose in the gun holder 16, and is sprayed onto the powder or granular material to be treated in the pan 3. Ru.

一方、洗浄システム1では、パンコーティング装置2の各所を洗浄するため、洗浄液噴射用のノズルが複数設けられている。具体的には、まずパン洗浄用として、筐体5内に、パン3の外側を洗浄するためのパン外洗浄ノズル21と、パン3の内側を洗浄するためのパン内洗浄ノズル22が設けられている。パン外洗浄ノズル21は筐体5の上部に配置されており、筐体5内部の洗浄も兼ねている。両洗浄ノズル21,22には、低速回転式の洗浄ノズルが使用されており、通水することによりノズル先端が回転し、周囲360°を洗浄するようになっている。パン内洗浄ノズル22は、液だれ等の防止のためコーティング処理中はパン外に配され、洗浄時にパン3の前面開口部3aから挿入することもできる。また、パン3の前面側には、パン受ロール7を洗浄するためのパン受ロール洗浄ノズル23が設けられている。 On the other hand, in the cleaning system 1, a plurality of nozzles for spraying cleaning liquid are provided in order to clean various parts of the pan coating apparatus 2. Specifically, for bread cleaning, an outside pan cleaning nozzle 21 for cleaning the outside of the pan 3 and an inside pan cleaning nozzle 22 for cleaning the inside of the pan 3 are provided in the housing 5. ing. The pan outside cleaning nozzle 21 is arranged at the top of the housing 5 and also serves to clean the inside of the housing 5. Both the cleaning nozzles 21 and 22 are low-speed rotating cleaning nozzles, and when water flows through them, the tips of the nozzles rotate to clean the 360° surrounding area. The pan cleaning nozzle 22 is placed outside the pan during the coating process to prevent liquid dripping, and can also be inserted through the front opening 3a of the pan 3 during cleaning. Furthermore, a bread receiving roll cleaning nozzle 23 for cleaning the bread receiving roll 7 is provided on the front side of the bread 3.

次に、給排気系の洗浄用として、給気ダクト12や給気チャンバ10、排気チャンバ14、排気ダクト13の各給排気系部材内部にはそれぞれ、各ダクトやチャンバを洗浄するためのノズルが設置されている。すなわち、給気ダクト12には給気ダクト洗浄ノズル24、給気チャンバ10には給気チャンバ洗浄ノズル25、排気チャンバ14には排気チャンバ洗浄ノズル26、排気ダクト13には排気ダクト洗浄ノズル27がそれぞれ設けられている。また、排気チャンバ14の外側には、排気チャンバ外側洗浄ノズル28が設置されている。さらに、筐体乾燥エアダクト15内にも筐体乾燥エアダクト洗浄ノズル29が設けられている。各ノズル21~29も低速回転式の洗浄ノズルとなっており、洗浄液供給ライン30を介して洗浄液が供給される。 Next, for cleaning the supply/exhaust system, nozzles are installed inside each supply/exhaust system member such as the supply air duct 12, the air supply chamber 10, the exhaust chamber 14, and the exhaust duct 13 for cleaning each duct and chamber. is set up. That is, the supply air duct 12 has a supply air duct cleaning nozzle 24 , the supply air chamber 10 has an air supply chamber cleaning nozzle 25 , the exhaust chamber 14 has an exhaust chamber cleaning nozzle 26 , and the exhaust duct 13 has an exhaust duct cleaning nozzle 27 . Each is provided. Furthermore, an exhaust chamber outer cleaning nozzle 28 is installed outside the exhaust chamber 14 . Furthermore, a housing drying air duct cleaning nozzle 29 is also provided within the housing drying air duct 15. Each of the nozzles 21 to 29 is also a low-speed rotating cleaning nozzle, and the cleaning liquid is supplied through a cleaning liquid supply line 30.

このようなパンコーティング装置2では、錠剤等のコーティング処理の後、洗浄システム1により、装置本体や給排気ダクト・チャンバ、付帯設備である送液ラインなどの自動洗浄が行われる。その際、本発明による洗浄システム1では、洗浄液として、直径200nm未満の超微細な気泡であるウルトラファインバブル(以下、UFBと略記する)を含んだ洗浄水を使用する。そのため、洗浄システム1では、送液ライン17の送水配管20aと洗浄液供給ライン30にUFB発生装置31が取り付けられている。このUFB発生装置31は、インライン(経路途中)に設置されており、従来の既存の送液ライン17や洗浄液供給ライン30に後付けにて付加可能である。なお、UFBは極めて微小かつ無色透明であり、視認できず、UFBを含んだ洗浄液(以下、UFB含有水と略記する)は白濁等しておらず、通常の水と外見上は変わらない。 In such a pan coating apparatus 2, after coating a tablet or the like, the cleaning system 1 automatically cleans the apparatus main body, the supply/exhaust duct/chamber, and the liquid feeding line which is ancillary equipment. At this time, in the cleaning system 1 according to the present invention, cleaning water containing ultra-fine bubbles (hereinafter abbreviated as UFB), which are ultrafine bubbles with a diameter of less than 200 nm, is used as the cleaning liquid. Therefore, in the cleaning system 1, a UFB generator 31 is attached to the water supply pipe 20a of the liquid supply line 17 and the cleaning liquid supply line 30. This UFB generator 31 is installed in-line (in the middle of the route) and can be added to the conventional existing liquid feeding line 17 or cleaning liquid supply line 30 by retrofitting. Note that UFB is extremely small and colorless and transparent and cannot be visually recognized, and the cleaning liquid containing UFB (hereinafter abbreviated as UFB-containing water) is not cloudy and looks the same as normal water.

この場合、送液ライン17では、コーティング処理中はUFB発生装置31を作動させずに液槽18に水が供給され、液槽18からは所定のコーティング液がスプレーノズル4に供給される。これに対し、洗浄処理を行う場合は、UFB発生装置31を作動させつつ液槽18に水(市水、温水、薬液、精製水の何れでも良い)を供給する。その際、液槽18にはコーティング剤は供給しない。そして、UFB発生装置31を用いてUFB含有水を生成して液槽18に供給し、ポンプ19を作動させる。これにより、スプレーノズル4に対し、UFB含有水が洗浄液として供給され、パン3内に噴射される。その結果、液槽18や接続配管20bなどの送液ライン17や給液ホース、スプレーノズル4がUFB含有水によって洗浄される。 In this case, in the liquid supply line 17, water is supplied to the liquid tank 18 without operating the UFB generator 31 during the coating process, and a predetermined coating liquid is supplied from the liquid tank 18 to the spray nozzle 4. On the other hand, when performing a cleaning process, water (which may be city water, warm water, chemical solution, or purified water) is supplied to the liquid tank 18 while operating the UFB generator 31. At this time, no coating agent is supplied to the liquid tank 18. Then, UFB-containing water is generated using the UFB generator 31 and supplied to the liquid tank 18, and the pump 19 is operated. As a result, the UFB-containing water is supplied as a cleaning liquid to the spray nozzle 4 and is sprayed into the pan 3. As a result, the liquid tank 18, the liquid supply line 17 such as the connecting pipe 20b, the liquid supply hose, and the spray nozzle 4 are cleaned by the UFB-containing water.

一方、洗浄液供給ライン30は洗浄処理時のみ使用される。洗浄液供給ライン30では、図示しないポンプにより洗浄液が供給され、インラインのUFB発生装置31によってUFB含有水が生成される。生成されたUFB含有水は、洗浄液として各洗浄ノズル21~29に供給される。そして、各洗浄ノズル21~29からはUFB含有水が噴射され、パン3の内外や給排気系の洗浄処理が行われる。 On the other hand, the cleaning liquid supply line 30 is used only during cleaning processing. In the cleaning liquid supply line 30, a cleaning liquid is supplied by a pump (not shown), and UFB-containing water is generated by an in-line UFB generator 31. The generated UFB-containing water is supplied to each of the cleaning nozzles 21 to 29 as a cleaning liquid. Then, UFB-containing water is injected from each of the cleaning nozzles 21 to 29 to clean the inside and outside of the pan 3 and the air supply and exhaust system.

すなわち、洗浄ノズル21~23によってパン3の内外や筐体5内が、洗浄ノズル24~29によって各ダクト12,13,15や各チャンバ10,14がそれぞれUFB含有水にて洗浄される。この際、パン室6内に噴射された洗浄液は、パン室6の下部に設けられた排水配管32から装置外へとそのまま排出される(流水洗浄の場合)。また、パン室6の下部にUFB含有水を貯め、その状態でパン3を回転させる溜め洗いを行うこともでき、溜め洗い後の洗浄液は排水配管32から排出される。 That is, the inside and outside of the pan 3 and the inside of the casing 5 are cleaned by the cleaning nozzles 21 to 23, and the ducts 12, 13, 15 and the chambers 10, 14 are cleaned by the cleaning nozzles 24 to 29, respectively, with UFB-containing water. At this time, the cleaning liquid injected into the bread chamber 6 is directly discharged from the drain pipe 32 provided at the bottom of the bread chamber 6 to the outside of the apparatus (in the case of running water cleaning). In addition, UFB-containing water can be stored in the lower part of the bread chamber 6 and the pan 3 can be rotated in this state to perform pool washing, and the cleaning liquid after the pool washing is discharged from the drain pipe 32.

このように、本発明による洗浄システム1では、送液ライン17や洗浄液供給ライン30にインラインでUFB発生装置31を設置することにより、送液ライン17やパン3の内外、給排気系、排水配管32など、装置内外がUFB含有水にて洗浄される。この場合、送液ライン17の液槽18や接続配管20b等は、洗浄液中におけるUFBの微細振動(ブラウン運動)により洗浄される。また、パン3内や筐体5内、各ダクト12,13,15やチャンバ10,14は、UFB含有水の気泡破裂による衝撃圧力作用とノズル噴射による複合効果により洗浄される。なお、溜め洗いを行った場合も、UFBのブラウン運動の効果により洗浄力がアップする。さらに、排水配管32においてもブラウン運動による洗浄効果が発揮される。 As described above, in the cleaning system 1 according to the present invention, by installing the UFB generator 31 in-line in the liquid feeding line 17 and the cleaning liquid supply line 30, the liquid feeding line 17, the inside and outside of the pan 3, the supply and exhaust system, and the drainage piping 32, etc., the inside and outside of the device are washed with UFB-containing water. In this case, the liquid tank 18 of the liquid supply line 17, the connecting pipe 20b, etc. are cleaned by the minute vibrations (Brownian motion) of the UFB in the cleaning liquid. Further, the inside of the pan 3, the inside of the housing 5, each of the ducts 12, 13, 15, and the chambers 10, 14 are cleaned by the combined effect of the impact pressure effect caused by the bursting of bubbles of the UFB-containing water and the nozzle injection. Note that even when washing in a pool, the cleaning power increases due to the Brownian motion effect of UFB. Furthermore, the cleaning effect due to Brownian motion is also exhibited in the drain pipe 32.

したがって、このようなUFBの作用により、当該洗浄システム1によれば、直径200nm以上の気泡(マイクロバブル:以下、MBと略記する)を用いた従来のシステムに比して、高い洗浄効果を得ることが可能となる。図2は、発明者らによるMBとUFBによる洗浄テストの結果を示す表である。 Therefore, due to the action of UFB, the cleaning system 1 achieves a higher cleaning effect than the conventional system using bubbles with a diameter of 200 nm or more (microbubbles: hereinafter abbreviated as MB). becomes possible. FIG. 2 is a table showing the results of a cleaning test conducted by the inventors using MB and UFB.

図2に示すように、MB含有水では、温水(40~50°C程度)による15分の流水洗浄でも角・隅部に汚れが残り、不完全な洗浄状態であった。これに対し、UFB含有水では、市水(15°C程度)15分の流水洗浄でも、噴射が当たった部分はほぼ汚れが落ちており、さらに15分の追加洗浄を行うことにより、残存無く洗浄を完了できた。このため、洗浄システム1では、送液ライン17や給排気系を含むパンコーティング装置内外の洗浄を、仕上げ洗いなどの手作業を行うことなく、全て自動にて実施することが可能となる。 As shown in FIG. 2, with MB-containing water, dirt remained in the corners and corners even after 15 minutes of running hot water (approximately 40 to 50°C), resulting in incomplete cleaning. On the other hand, with UFB-containing water, even after 15 minutes of washing with running city water (approximately 15°C), most of the dirt was removed from the area where the jet hit, and by performing an additional 15 minutes of washing, there was no remaining dirt. I was able to complete the cleaning. Therefore, in the cleaning system 1, it is possible to completely automatically clean the inside and outside of the pan coating apparatus, including the liquid supply line 17 and the supply/exhaust system, without performing manual operations such as finishing cleaning.

以上のように、本発明の洗浄システムによれば、UFB発生装置31をインラインで設置したので、UFBの作用とノズル噴射の複合効果により、付帯設備を含む装置内外をくまなく、しかも効率良く自動洗浄することが可能となる。その結果、従来、MBでは実現できなかった、付帯設備をも含む装置内外の完全自動洗浄を実現することが可能となる。しかも、UFB発生装置31は、従来の既存の送液ライン17や洗浄液供給ライン30に後付け可能であり、従来の洗浄工程(洗浄フロー)も変更することなく、UFBの洗浄効果を従来装置との相乗効果として得ることができる。したがって、多大なコスト増を招くことなく、洗浄処理の自動化を図ることができ、錠剤コーティング等の粉粒体処理の効率化を実現することが可能となる。 As described above, according to the cleaning system of the present invention, since the UFB generator 31 is installed in-line, the combined effect of the UFB action and nozzle jetting can efficiently and automatically It becomes possible to wash. As a result, it becomes possible to realize completely automatic cleaning of the inside and outside of the device, including the ancillary equipment, which has not been possible with MB in the past. Moreover, the UFB generator 31 can be retrofitted to the conventional existing liquid feeding line 17 and cleaning liquid supply line 30, and the cleaning effect of UFB can be improved from that of the conventional device without changing the conventional cleaning process (cleaning flow). It can be obtained as a synergistic effect. Therefore, it is possible to automate the cleaning process without causing a large increase in cost, and it is possible to realize efficiency in processing powder and granular materials such as tablet coating.

(実施の形態2)
次に、本発明の実施の形態2である洗浄システムについて説明する。図3は、本発明の実施の形態2である洗浄システム40の構成を示す説明図であり、洗浄処理時の構成を示している。なお、以下の実施の形態では、実施の形態1の洗浄システム1と同様の部分、部材については同一の符号を付し、その説明は省略する。
(Embodiment 2)
Next, a cleaning system according to a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is an explanatory diagram showing the configuration of a cleaning system 40 according to the second embodiment of the present invention, and shows the configuration during cleaning processing. In addition, in the following embodiments, the same parts and members as those in the cleaning system 1 of Embodiment 1 are given the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

図3の洗浄システム40は、本発明を撹拌造粒装置に適用したものである。図3の撹拌造粒装置41は、粉粒体が投入・処理される有底略円筒状のベッセル(処理容器)42を備えており、ベッセル42内に供給された粉粒体被処理物を撹拌・造粒する。ベッセル42の底部中央には、モータ43によって回転駆動される撹拌翼44が配置されている。ベッセル42の側壁42aには、処理済みの粉粒体が排出される排出部45と、粉粒体解砕用のチョッパ46が設けられている。ベッセル42の上端には上蓋47が開閉自在に取り付けられており、上蓋47にはスプレーノズル48が取り付けられている。 A cleaning system 40 in FIG. 3 is an application of the present invention to an agitation granulation device. The stirring granulation device 41 shown in FIG. 3 is equipped with a bottomed, substantially cylindrical vessel (processing container) 42 into which powder and granules are fed and processed. Stir and granulate. A stirring blade 44 rotationally driven by a motor 43 is arranged at the center of the bottom of the vessel 42 . A side wall 42a of the vessel 42 is provided with a discharge section 45 for discharging the processed powder and granules, and a chopper 46 for crushing the powder and granules. An upper lid 47 is attached to the upper end of the vessel 42 so as to be openable and closable, and a spray nozzle 48 is attached to the upper lid 47.

スプレーノズル48には、送液ライン17を介してバインダ液が供給される。送液ライン17には、バインダ液を貯留する液槽18と、液槽18からスプレーノズル48にバインダ液を送給するポンプ19が設けられている。液槽18には送水配管20aから水が供給され、そこでバインダ剤と撹拌混合されバインダ液が形成される。液槽18内のバインダ液は、ポンプ19により、接続配管20bを介してスプレーノズル48に供給され、ベッセル42内の粉粒体被処理物に噴霧される。 Binder liquid is supplied to the spray nozzle 48 via the liquid feed line 17 . The liquid supply line 17 is provided with a liquid tank 18 for storing the binder liquid and a pump 19 for feeding the binder liquid from the liquid tank 18 to the spray nozzle 48 . Water is supplied to the liquid tank 18 from the water supply pipe 20a, where it is stirred and mixed with the binder agent to form a binder liquid. The binder liquid in the liquid tank 18 is supplied by the pump 19 to the spray nozzle 48 via the connecting pipe 20b, and is sprayed onto the powder or granular material to be treated in the vessel 42.

このような撹拌造粒装置41では、次のようにして粉粒体の撹拌、造粒等の処理を行う。ここではまず、ベッセル42の上端から被処理物である粉粒体を投入する。次に、モータ43を駆動し、撹拌翼44を回転駆動させる。その際、ベッセル42内に、スプレーノズル48によってバインダ液を適宜供給し、ベッセル42内の粉粒体を撹拌翼44によって撹拌し、造粒する。なお、ベッセル42の底部からパージエアを供給しても良い。ベッセル42内にて、撹拌、混合、造粒等の処理が施された粉粒体は、チョッパ46にて適宜解砕される。これにより、撹拌造粒装置41にて粉粒体が造粒され、所望の粒状製品が製造される。混合、造粒等の処理が終了した製品は、排出部45から排出される。 In such an agitation granulation device 41, processes such as agitation and granulation of powder and granules are performed in the following manner. Here, first, powder or granular material to be treated is charged from the upper end of the vessel 42. Next, the motor 43 is driven to rotate the stirring blades 44. At this time, a binder liquid is appropriately supplied into the vessel 42 through the spray nozzle 48, and the powder and granular material within the vessel 42 is stirred by the stirring blade 44 to be granulated. Note that purge air may be supplied from the bottom of the vessel 42. The granular material that has been subjected to processes such as stirring, mixing, and granulation in the vessel 42 is appropriately crushed by the chopper 46. Thereby, the powder is granulated in the stirring granulator 41, and a desired granular product is manufactured. The product that has been subjected to processes such as mixing and granulation is discharged from the discharge section 45.

撹拌造粒装置41においても、粉粒体の造粒処理等の後、洗浄システム40により、送液ライン17やベッセル42の自動洗浄が行われる。この場合も、洗浄液としてはUFB含有水が使用される。このため、洗浄システム40においても、送液ライン17の送水配管20aにUFB発生装置31が取り付けられている。実施の形態1の場合と同様に、送液ライン17では、造粒等の処理中はUFB発生装置31を作動させずに液槽18に水が供給され、液槽18からは所定のバインダ液がスプレーノズル48に供給される。 Also in the agitation granulation device 41, after the granulation process of powder and granules, etc., the cleaning system 40 automatically cleans the liquid feeding line 17 and the vessel 42. Also in this case, UFB-containing water is used as the cleaning liquid. Therefore, in the cleaning system 40 as well, the UFB generator 31 is attached to the water supply pipe 20a of the liquid supply line 17. As in the case of Embodiment 1, in the liquid feeding line 17, water is supplied to the liquid tank 18 without operating the UFB generator 31 during processing such as granulation, and a predetermined binder liquid is supplied from the liquid tank 18. is supplied to the spray nozzle 48.

これに対し、洗浄処理を行う場合は、UFB発生装置31を作動させつつ液槽18に水を供給し、液槽18にUFB含有水を供給する。そして、ポンプ19を作動させ、スプレーノズル48に対し、UFB含有水を洗浄液として供給する。これにより、スプレーノズル48からUFB含有水が噴射され、液槽18や接続配管20bなどの送液ライン17やスプレーノズル48がUFB含有水によって洗浄される。 On the other hand, when performing a cleaning process, water is supplied to the liquid tank 18 while operating the UFB generator 31, and UFB-containing water is supplied to the liquid tank 18. Then, the pump 19 is operated to supply UFB-containing water to the spray nozzle 48 as a cleaning liquid. As a result, UFB-containing water is sprayed from the spray nozzle 48, and the liquid tank 18, the liquid feeding line 17 such as the connecting pipe 20b, and the spray nozzle 48 are cleaned with the UFB-containing water.

さらに、洗浄システム40では、洗浄処理に際し、上蓋47に洗浄ノズル49が取り付けられ、ベッセル42内の洗浄が行われる。洗浄ノズル49には、低速回転式の洗浄ノズルが使用され、洗浄液供給ライン30によって洗浄液が供給される。洗浄液供給ライン30では、インラインのUFB発生装置31によってUFB含有水が生成され、洗浄ノズル49に供給される。洗浄ノズル49に供給されたUFB含有水は、洗浄ノズル49からベッセル42内に噴射され、ベッセル42内部の洗浄が行われる。 Further, in the cleaning system 40, a cleaning nozzle 49 is attached to the upper lid 47 to clean the inside of the vessel 42 during the cleaning process. A low-speed rotation type cleaning nozzle is used as the cleaning nozzle 49, and cleaning liquid is supplied through the cleaning liquid supply line 30. In the cleaning liquid supply line 30 , UFB-containing water is generated by an in-line UFB generator 31 and supplied to the cleaning nozzle 49 . The UFB-containing water supplied to the cleaning nozzle 49 is injected into the vessel 42 from the cleaning nozzle 49, and the inside of the vessel 42 is cleaned.

洗浄ノズル49から噴射されたUFB含有水は、スプレーノズル48から噴射されたUFB含有水と共にベッセル42に貯留される。そして、ベッセル42をUFB含有水にて満たし、ベッセル42内を溜め洗いする。その際、撹拌翼44とチョッパ46を作動させる。これにより、ベッセル42の側壁42aや上蓋47の内側、撹拌翼44、チョッパ46などが洗浄される。撹拌翼44とチョッパ46を作動させながら、ベッセル42の溜め洗いを所定時間実施し、溜め洗い終了後は、ベッセル42内の洗浄液を排出部45から排出する。なお、この場合も、スプレーノズル48や洗浄ノズル49からの洗浄液を掛け流しし、ベッセル42内部を流水洗浄しても良い。 The UFB-containing water injected from the cleaning nozzle 49 is stored in the vessel 42 together with the UFB-containing water injected from the spray nozzle 48. Then, the vessel 42 is filled with UFB-containing water, and the inside of the vessel 42 is washed. At that time, the stirring blades 44 and the chopper 46 are operated. As a result, the side wall 42a of the vessel 42, the inside of the top lid 47, the stirring blade 44, the chopper 46, etc. are cleaned. While operating the stirring blades 44 and the chopper 46, the vessel 42 is pooled for a predetermined period of time, and after the pooling cleaning is completed, the cleaning liquid in the vessel 42 is discharged from the discharge section 45. In this case as well, the inside of the vessel 42 may be washed with running water by pouring the washing liquid from the spray nozzle 48 or the washing nozzle 49.

このように、洗浄システム40では、送液ライン17や洗浄液供給ライン30にインラインでUFB発生装置31を設置することにより、送液ライン17やベッセル42の内部、排出部45など、装置内外がUFB含有水にて洗浄される。この場合、前述同様、送液ライン17はUFBのブラウン運動によって洗浄され、ベッセル42内はUFB含有水の気泡破裂による衝撃圧力作用とノズル噴射による複合効果により洗浄される。また、排出部45もUFBのブラウン運動により洗浄される。 In this way, in the cleaning system 40, by installing the UFB generator 31 in-line in the liquid feeding line 17 and the cleaning liquid supply line 30, the inside and outside of the device, such as the liquid feeding line 17, the inside of the vessel 42, and the discharge part 45, are exposed to UFB. Washed with water containing water. In this case, as described above, the liquid feeding line 17 is cleaned by the Brownian motion of the UFB, and the inside of the vessel 42 is cleaned by the combined effect of the impact pressure effect due to the bursting of bubbles of the UFB-containing water and the nozzle injection. Further, the discharge section 45 is also cleaned by the Brownian motion of the UFB.

したがって、洗浄システム40によれば、UFB発生装置31をインラインで設置したことにより、UFBの作用とノズル噴射の複合効果により、MBでは実現できなかった、付帯設備をも含む装置内外の完全自動洗浄を実現することが可能となる。しかも、UFB発生装置31は、従来の既存の送液ライン17や洗浄液供給ライン30に後付け可能であり、従来の洗浄工程(洗浄フロー)も変更することなく、UFBの洗浄効果を従来装置との相乗効果として得ることができる。したがって、多大なコスト増を招くことなく、洗浄処理の自動化を図ることができ、撹拌造粒等の粉粒体処理の効率化を実現することが可能となる。 Therefore, according to the cleaning system 40, by installing the UFB generator 31 in-line, the combined effect of the UFB action and the nozzle jet can be used to completely automatically clean the inside and outside of the device, including the ancillary equipment, which could not be achieved with the MB. It becomes possible to realize this. Moreover, the UFB generator 31 can be retrofitted to the conventional existing liquid feeding line 17 and cleaning liquid supply line 30, and the cleaning effect of UFB can be improved from that of the conventional device without changing the conventional cleaning process (cleaning flow). It can be obtained as a synergistic effect. Therefore, it is possible to automate the cleaning process without causing a large increase in cost, and it is possible to improve the efficiency of powder processing such as agitation granulation.

(実施の形態3)
さらに、本発明の実施の形態3である洗浄システムについて説明する。図4は、本発明の実施の形態3である洗浄システム50の構成を示す説明図である。図4の洗浄システム50は、本発明を流動層装置に適用したものである。図4に示すように、流動層装置51は、粉粒体被処理物が収容され造粒コーティング処理や乾燥処理等が行われる処理容器52を有しており、処理容器52内にて粉粒体被処理物の造粒コーティング処理が行われる。
(Embodiment 3)
Furthermore, a cleaning system according to a third embodiment of the present invention will be explained. FIG. 4 is an explanatory diagram showing the configuration of a cleaning system 50 according to Embodiment 3 of the present invention. A cleaning system 50 in FIG. 4 is an application of the present invention to a fluidized bed apparatus. As shown in FIG. 4, the fluidized bed apparatus 51 has a processing container 52 in which a powder or granule material to be processed is accommodated and subjected to granulation coating processing, drying processing, etc. A granulation coating process is performed on the object to be treated.

処理容器52は円筒状に形成されており、上から順に、フィルタケーシング53、スプレーケーシング54、原料容器コンテナ55および給気ユニット56の各容器を垂直方向に重ねて配置した構成となっている。フィルタケーシング53の上端部には排気口57が形成されており、排気口57は図示しない排気設備に接続されている。フィルタケーシング53の下端部には、スプレーケーシング54との間にフィルタ58が取り付けられている。フィルタケーシング53内には、洗浄用のシャワーボール(洗浄ノズル)59が設置されている。シャワーボール59は球状のヘッド部を備えており、360°洗浄液が噴射可能となっている。シャワーボール59には、洗浄液供給ライン30を介して洗浄液が供給される。 The processing container 52 is formed in a cylindrical shape, and has a configuration in which a filter casing 53, a spray casing 54, a raw material container container 55, and an air supply unit 56 are vertically stacked one on top of the other in order from the top. An exhaust port 57 is formed at the upper end of the filter casing 53, and the exhaust port 57 is connected to an exhaust facility (not shown). A filter 58 is attached to the lower end of the filter casing 53 and between it and the spray casing 54 . A cleaning shower ball (cleaning nozzle) 59 is installed inside the filter casing 53 . The shower ball 59 has a spherical head and can spray cleaning liquid 360°. A cleaning liquid is supplied to the shower ball 59 via a cleaning liquid supply line 30 .

スプレーケーシング54内は流動室60となっている。流動室60内には、粉粒体にバインダ液やコーティング液(以下、バインダ液等と略記する)を噴霧するためのスプレーノズル61が取り付けられている。スプレーノズル61には、送液ライン17を介してバインダ液等が供給される。送液ライン17には、バインダ液等を貯留する液槽18と、液槽18からスプレーノズル61にバインダ液等を送給するポンプ19が設けられている。液槽18には送水配管20aから水が供給され、そこでバインダ剤やコーティング剤と撹拌混合されバインダ液等が形成される。液槽18内のバインダ液等は、ポンプ19により、接続配管20bを介してスプレーノズル61に供給され、スプレーケーシング54内の粉粒体被処理物に噴霧される。 The inside of the spray casing 54 is a flow chamber 60. A spray nozzle 61 is installed in the flow chamber 60 for spraying a binder liquid or a coating liquid (hereinafter abbreviated as binder liquid or the like) onto the powder material. Binder liquid and the like are supplied to the spray nozzle 61 via the liquid feed line 17 . The liquid feeding line 17 is provided with a liquid tank 18 that stores a binder liquid and the like, and a pump 19 that feeds the binder liquid and the like from the liquid tank 18 to the spray nozzle 61. Water is supplied to the liquid tank 18 from a water supply pipe 20a, where it is stirred and mixed with a binder agent and a coating agent to form a binder liquid and the like. The binder liquid and the like in the liquid tank 18 are supplied by the pump 19 to the spray nozzle 61 via the connecting pipe 20b, and are sprayed onto the granular material to be treated in the spray casing 54.

また、洗浄システム50では、スプレーケーシング54や原料容器コンテナ55を洗浄するため、スプレーケーシング54内に洗浄液噴射用の三次元ノズル(洗浄ノズル)62が設けられる。三次元ノズル62は、上下左右方向に洗浄液が噴射可能となっており、洗浄処理の際にスプレーケーシング54内に挿入される。三次元ノズル62に対しては、洗浄液供給ライン30を介して、洗浄液が供給される。 Further, in the cleaning system 50, a three-dimensional nozzle (cleaning nozzle) 62 for spraying a cleaning liquid is provided in the spray casing 54 in order to clean the spray casing 54 and the raw material container container 55. The three-dimensional nozzle 62 is capable of spraying cleaning liquid in vertical and horizontal directions, and is inserted into the spray casing 54 during cleaning processing. Cleaning liquid is supplied to the three-dimensional nozzle 62 via the cleaning liquid supply line 30.

スプレーケーシング54の下方には原料容器コンテナ55が配置され、原料容器コンテナ55内には被処理物となる粉粒体が投入される。原料容器コンテナ55の下方には、給気ユニット56が据え付けられている。給気ユニット56の内部は給気室63となっている。給気ユニット56には、給気室63に連通する給気ダクト64が取り付けられている。給気ダクト64は、装置外に設けられた図示しないエア供給源に接続されている。給気室63内には、この給気ダクト64を介して、粉粒体を流動化するための処理気体(流動エア)が供給される。 A raw material container 55 is disposed below the spray casing 54, and powder and granular material to be treated is put into the raw material container 55. An air supply unit 56 is installed below the raw material container 55. The interior of the air supply unit 56 is an air supply chamber 63. An air supply duct 64 communicating with the air supply chamber 63 is attached to the air supply unit 56 . The air supply duct 64 is connected to an air supply source (not shown) provided outside the device. A processing gas (fluidizing air) for fluidizing the powder is supplied into the air supply chamber 63 through the air supply duct 64 .

このような流動層装置51では、給気ダクト64から給気室63に流動エアを供給する。流動エアは、処理容器52内にて旋回気流を形成し、処理容器52内の粉粒体を吹き上げる。吹き上げられた粉粒体は、流動室60内にて流動状態となり撹拌混合される。そして、流動状態となった粉粒体に、スプレーノズル61から適宜バインダ液等をスプレー状に噴霧する。これにより、流動層装置51にて、粉粒体の造粒処理やコーティング処理が実行される。一方、粉粒体を流動状態とした処理気体は、微細な固体粒子がフィルタ58によって除去されて清浄化され、その後、排気口57から装置外へと排出される。 In such a fluidized bed device 51, fluidized air is supplied from the air supply duct 64 to the air supply chamber 63. The fluidized air forms a swirling airflow within the processing container 52 and blows up the powder and granular material within the processing container 52. The blown up powder and granules become fluidized in the fluidization chamber 60 and are stirred and mixed. Then, a suitable binder liquid or the like is sprayed from the spray nozzle 61 onto the fluidized powder or granular material. As a result, the fluidized bed device 51 performs granulation and coating of the powder. On the other hand, the processing gas that has made the powder into a fluidized state is purified by removing fine solid particles by the filter 58, and then is discharged from the apparatus through the exhaust port 57.

流動層装置51においても、粉粒体の造粒処理等の後、洗浄システム50により、送液ライン17や処理容器52の自動洗浄が行われる。この場合も、洗浄液としてはUFB含有水が使用される。このため、洗浄システム50にも、送液ライン17の送水配管20aや洗浄液供給ライン30にUFB発生装置31が取り付けられている。 In the fluidized bed apparatus 51 as well, the cleaning system 50 automatically cleans the liquid feeding line 17 and the processing container 52 after the granulation process of the powder and granules. Also in this case, UFB-containing water is used as the cleaning liquid. For this reason, the cleaning system 50 also includes a UFB generator 31 attached to the water supply pipe 20a of the liquid supply line 17 and the cleaning liquid supply line 30.

送液ライン17では、実施の形態1,2の場合と同様に、造粒等の処理中はUFB発生装置31を作動させずに液槽18に水が供給され、液槽18からは所定のバインダ液等がスプレーノズル61に供給される。一方、洗浄処理を行う場合は、UFB発生装置31を作動させつつ液槽18に水を供給する。その際、液槽18にはバインダ剤等は供給しない。そして、UFB発生装置31を用いてUFB含有水を生成して液槽18に供給し、ポンプ19を作動させる。これにより、スプレーノズル61に対し、UFB含有水が洗浄液として供給され、流動室60内に噴射される。その結果、液槽18や接続配管20bなどの送液ライン17やスプレーノズル61がUFB含有水によって洗浄される。 In the liquid supply line 17, water is supplied to the liquid tank 18 without operating the UFB generator 31 during processing such as granulation, and a predetermined amount of water is supplied from the liquid tank 18, as in the first and second embodiments. Binder liquid and the like are supplied to the spray nozzle 61. On the other hand, when performing a cleaning process, water is supplied to the liquid tank 18 while operating the UFB generator 31. At this time, no binder agent or the like is supplied to the liquid tank 18. Then, UFB-containing water is generated using the UFB generator 31 and supplied to the liquid tank 18, and the pump 19 is operated. As a result, UFB-containing water is supplied to the spray nozzle 61 as a cleaning liquid and is injected into the flow chamber 60 . As a result, the liquid tank 18, the liquid feeding line 17 such as the connecting pipe 20b, and the spray nozzle 61 are cleaned by the UFB-containing water.

また、流動層装置51においても、洗浄液供給ライン30にUFB発生装置31が取り付けられている。洗浄液供給ライン30では、インラインのUFB発生装置31によってUFB含有水が生成され、シャワーボール59や三次元ノズル62に供給される。これにより、シャワーボール59からUFB含有水が噴射され、フィルタケーシング53内やフィルタ58の上面側の洗浄処理が行われる。また、三次元ノズル62からも上下左右方向に洗浄液が噴射され、スプレーケーシング54内のみならず、フィルタ58の下面側や原料容器コンテナ55もUFB含有水にて洗浄される。なお、排気口57や給気ダクト64内にも洗浄ノズルを設け、洗浄液供給ライン30から洗浄液を供給するようにしても良い。 Further, in the fluidized bed apparatus 51 as well, a UFB generator 31 is attached to the cleaning liquid supply line 30. In the cleaning liquid supply line 30 , UFB-containing water is generated by an in-line UFB generator 31 and supplied to the shower ball 59 and the three-dimensional nozzle 62 . As a result, UFB-containing water is sprayed from the shower ball 59, and the inside of the filter casing 53 and the upper surface of the filter 58 are cleaned. Further, the cleaning liquid is also sprayed from the three-dimensional nozzle 62 in the vertical and horizontal directions, and not only the inside of the spray casing 54 but also the lower surface side of the filter 58 and the raw material container 55 are cleaned with the UFB-containing water. Note that cleaning nozzles may also be provided in the exhaust port 57 and the air supply duct 64, and the cleaning liquid may be supplied from the cleaning liquid supply line 30.

このように、洗浄システム50では、処理容器52内に配した三次元ノズル62やシャワーボール59からUFB含有水の洗浄液を噴射し、フィルタケーシング53やスプレーケーシング54、原料容器コンテナ55をUFB含有水にて洗浄する。三次元ノズル62やシャワーボール59から噴射されたUFB含有水は、スプレーノズル61から噴射されたUFB含有水と共に、給気ユニット56内に流入する。そして、給気ユニット56内もUFB含有水にて洗浄され、給気ユニット56内を洗浄した洗浄液は、排水配管65から排出される。なお、洗浄処理の際、排水配管65を閉じて、給気ユニット56内、あるいは、その上の原料容器コンテナ55やスプレーケーシング54内など、処理容器52内を適宜溜め洗いしても良い。また、給気ダクト64内も併せて洗浄しても良い。 In this way, in the cleaning system 50, the cleaning liquid containing UFB is sprayed from the three-dimensional nozzle 62 and the shower ball 59 arranged in the processing container 52, and the filter casing 53, the spray casing 54, and the raw material container 55 are sprayed with the UFB-containing water. Wash at The UFB-containing water sprayed from the three-dimensional nozzle 62 and the shower ball 59 flows into the air supply unit 56 together with the UFB-containing water sprayed from the spray nozzle 61. The inside of the air supply unit 56 is also cleaned with the UFB-containing water, and the cleaning liquid that cleaned the inside of the air supply unit 56 is discharged from the drain pipe 65. Note that during the cleaning process, the drainage pipe 65 may be closed and the inside of the processing container 52, such as the inside of the air supply unit 56 or the inside of the raw material container 55 or the spray casing 54 thereon, may be pooled and washed as appropriate. Furthermore, the inside of the air supply duct 64 may also be cleaned.

洗浄システム50においても、実施の形態1,2と同様に、送液ライン17や洗浄液供給ライン30にインラインでUFB発生装置31を設置することにより、送液ライン17や処理容器52など、装置内外がUFB含有水にて洗浄される。この場合、前述同様、送液ライン17はUFBのブラウン運動によって洗浄され、処理容器52内はUFB含有水の気泡破裂による衝撃圧力作用とノズル噴射による複合効果により洗浄される。また、給気ユニット56もUFBのブラウン運動により洗浄される。 Also in the cleaning system 50, as in the first and second embodiments, by installing the UFB generator 31 in-line in the liquid feeding line 17 and the cleaning liquid supply line 30, the liquid feeding line 17, the processing container 52, etc. is washed with UFB-containing water. In this case, as described above, the liquid feeding line 17 is cleaned by the Brownian motion of the UFB, and the inside of the processing container 52 is cleaned by the combined effect of the impact pressure effect due to the bursting of bubbles of the UFB-containing water and the nozzle jetting. Furthermore, the air supply unit 56 is also cleaned by the Brownian motion of the UFB.

したがって、洗浄システム50によれば、UFB発生装置31をインラインで設置したことにより、UFBの作用とノズル噴射の複合効果により、MBでは実現できなかった、付帯設備をも含む装置内外の完全自動洗浄を実現することが可能となる。しかも、UFB発生装置31は、従来の既存の送液ライン17や洗浄液供給ライン30に後付け可能であり、従来の洗浄工程(洗浄フロー)も変更することなく、UFBの洗浄効果を従来装置との相乗効果として得ることができる。したがって、多大なコスト増を招くことなく、洗浄処理の自動化を図ることができ、撹拌造粒等の粉粒体処理の効率化を実現することが可能となる。 Therefore, according to the cleaning system 50, by installing the UFB generator 31 in-line, the combined effect of the UFB action and nozzle jetting allows for completely automatic cleaning of the inside and outside of the device, including the ancillary equipment, which could not be achieved with the MB. It becomes possible to realize this. Moreover, the UFB generator 31 can be retrofitted to the conventional existing liquid feeding line 17 and cleaning liquid supply line 30, and the cleaning effect of UFB can be improved from that of the conventional device without changing the conventional cleaning process (cleaning flow). It can be obtained as a synergistic effect. Therefore, it is possible to automate the cleaning process without causing a large increase in cost, and it is possible to improve the efficiency of powder processing such as agitation granulation.

本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
例えば、前述の実施の形態は、パンコーティング装置や撹拌造粒装置、流動層装置に本発明による洗浄システム適用した例を示したが、本発明の洗浄システムは、前記実施形態以外の構成のパンコーティング装置や撹拌造粒装置、流動層装置、さらに、遠心転動造粒装置や粉砕装置等、実施の形態以外の粉粒体処理装置にも適用可能である。また、各実施形態にて使用しているノズルも一例であり、各洗浄ノズルは、低速回転式の洗浄ノズルやシャワーボール、三次元ノズルには限定されない。例えば、前述の洗浄ノズル21~29,49に、シャワーボールや三次元ノズルを用いたり、シャワーボール59や三次元ノズル62に代えて低速回転式の洗浄ノズルを用いたりすることもでき、さらに、一般的な噴射ノズルなど、上記以外の種類のノズルを用いることも可能である。加えて、前述の実施の形態にて示した各種数値は一例であり、本発明は前記数値には限定されない。
It goes without saying that the present invention is not limited to the embodiments described above, and can be modified in various ways without departing from the gist thereof.
For example, in the embodiments described above, the cleaning system according to the present invention is applied to a pan coating device, an agitation granulation device, or a fluidized bed device, but the cleaning system of the present invention can be applied to a pan coating device having a configuration other than the above embodiments. It is also applicable to powder processing devices other than the embodiments, such as a coating device, an agitation granulation device, a fluidized bed device, a centrifugal rolling granulation device, and a pulverization device. Moreover, the nozzles used in each embodiment are also examples, and each cleaning nozzle is not limited to a low-speed rotation type cleaning nozzle, a shower ball, or a three-dimensional nozzle. For example, a shower ball or a three-dimensional nozzle may be used as the above-mentioned cleaning nozzles 21 to 29, 49, or a low-speed rotating cleaning nozzle may be used in place of the shower ball 59 or the three-dimensional nozzle 62. It is also possible to use types of nozzles other than those described above, such as common injection nozzles. In addition, the various numerical values shown in the above-described embodiments are merely examples, and the present invention is not limited to the above numerical values.

本発明は、粉粒体処理装置の洗浄システム以外にも適用可能であり、例えば、半導体製造装置などの洗浄ラインなどにも使用可能である。 The present invention is applicable not only to cleaning systems for powder and granular material processing equipment, but also to cleaning lines for semiconductor manufacturing equipment and the like.

1 洗浄システム
2 パンコーティング装置
3 コーティングパン
3a 前面開口部
4 スプレーノズル
5 筐体
6 パン室
7 パン受ロール
8 胴部
9 通気孔
10 給気チャンバ
11 前面ドア
12 給気ダクト
13 排気ダクト
14 排気チャンバ
15 筐体乾燥エアダクト
16 ガンホルダ
17 送液ライン
18 液槽
19 ポンプ
20a 送水配管(第1配管)
20b 接続配管(第2配管)
21 パン外洗浄ノズル
22 パン内洗浄ノズル
23 パン受ロール洗浄ノズル
24 給気ダクト洗浄ノズル
25 給気チャンバ洗浄ノズル
26 排気チャンバ洗浄ノズル
27 排気ダクト洗浄ノズル
28 排気チャンバ外側洗浄ノズル
29 筐体乾燥エアダクト洗浄ノズル
30 洗浄液供給ライン
31 UFB発生装置
32 排水配管
40 洗浄システム
41 撹拌造粒装置
42 ベッセル
42a 側壁
43 モータ
44 撹拌翼
45 排出部
46 チョッパ
47 上蓋
48 スプレーノズル
49 洗浄ノズル
50 洗浄システム
51 流動層装置
52 処理容器
53 フィルタケーシング
54 スプレーケーシング
55 原料容器コンテナ
56 給気ユニット
57 排気口
58 フィルタ
59 シャワーボール
60 流動室
61 スプレーノズル
62 三次元ノズル
63 給気室
64 給気ダクト
65 排水配管
O 回転軸線
1 Cleaning system 2 Pan coating device 3 Coating pan 3a Front opening 4 Spray nozzle 5 Housing 6 Bread chamber 7 Bread receiving roll 8 Body 9 Ventilation hole 10 Air supply chamber 11 Front door 12 Air supply duct 13 Exhaust duct 14 Exhaust chamber 15 Housing drying air duct 16 Gun holder 17 Liquid feeding line 18 Liquid tank 19 Pump 20a Water feeding piping (first piping)
20b Connection piping (second piping)
21 Pan outside cleaning nozzle 22 Pan inside cleaning nozzle 23 Pan receiving roll cleaning nozzle 24 Supply air duct cleaning nozzle 25 Supply air chamber cleaning nozzle 26 Exhaust chamber cleaning nozzle 27 Exhaust duct cleaning nozzle 28 Exhaust chamber outside cleaning nozzle 29 Housing dry air duct cleaning Nozzle 30 Cleaning liquid supply line 31 UFB generator 32 Drain piping 40 Cleaning system 41 Stirring granulation device 42 Vessel 42a Side wall 43 Motor 44 Stirring blades 45 Discharge section 46 Chopper 47 Upper lid 48 Spray nozzle 49 Cleaning nozzle 50 Cleaning system 51 Fluidized bed device 52 Processing container 53 Filter casing 54 Spray casing 55 Raw material container 56 Air supply unit 57 Exhaust port 58 Filter 59 Shower ball 60 Flow chamber 61 Spray nozzle 62 Three-dimensional nozzle 63 Air supply chamber 64 Air supply duct 65 Drainage pipe O Rotation axis

Claims (10)

粉粒体を収容する処理容器と、前記処理容器内の前記粉粒体に対し所定の処理液を噴霧するスプレーノズルと、を有する粉粒体処理装置の洗浄処理を行う洗浄システムであって、
前記スプレーノズルに対し前記処理液を供給する送液ラインと、
前記処理容器内に配置され、前記処理容器内を洗浄する洗浄液が噴射される洗浄ノズルと、
前記洗浄ノズルに対し前記洗浄液を供給する洗浄液供給ラインと、
前記送液ラインおよび前記洗浄液供給ラインの各経路中に配置され、直径200nm未満の気泡を形成するウルトラファインバブル発生装置と、を有し、
前記粉粒体処理装置の洗浄処理に際し、前記スプレーノズルおよび前記洗浄ノズルに対し、直径200nm未満のウルトラファインバブルを含む洗浄液を供給することを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。
A cleaning system that performs a cleaning process for a powder or granular material processing apparatus having a processing container that accommodates a powder or granular material, and a spray nozzle that sprays a predetermined treatment liquid onto the powder or granular material in the processing container,
a liquid feeding line that supplies the processing liquid to the spray nozzle;
a cleaning nozzle disposed within the processing container and spraying a cleaning liquid for cleaning the inside of the processing container;
a cleaning liquid supply line that supplies the cleaning liquid to the cleaning nozzle;
an ultra-fine bubble generator that is disposed in each path of the liquid feeding line and the cleaning liquid supply line and forms bubbles with a diameter of less than 200 nm,
A cleaning system for a powder or granular material processing apparatus, characterized in that a cleaning liquid containing ultra-fine bubbles with a diameter of less than 200 nm is supplied to the spray nozzle and the cleaning nozzle during cleaning of the powder or granular material processing apparatus.
請求項1記載の粉粒体処理装置洗浄システムにおいて、
前記送液ラインは、前記処理液が貯留される液槽と、該液槽内の前記処理液を前記ノズルに送給するポンプと、前記液槽に水を供給する第1配管と、前記液槽と前記ポンプ、前記ポンプと前記スプレーノズルとの間をそれぞれ接続する第2配管と、を有し、
前記ウルトラファインバブル発生装置は、前記第1配管の経路中に配設されることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。
The powder processing equipment cleaning system according to claim 1,
The liquid supply line includes a liquid tank in which the processing liquid is stored, a pump that feeds the processing liquid in the liquid tank to the nozzle, a first pipe that supplies water to the liquid tank, and a first pipe that supplies water to the liquid tank. a second pipe connecting the tank and the pump, and the pump and the spray nozzle, respectively;
A cleaning system for a powder or granular material processing apparatus, wherein the ultra-fine bubble generator is disposed in a path of the first pipe.
請求項1又は2記載の粉粒体処理装置洗浄システムにおいて、
前記粉粒体処理装置は、
前記処理容器を収容する筐体と、
前記処理容器内に処理気体を供給し該処理容器から前記処理気体を排気するための給排気系部材と、を有し、
前記筐体内、前記処理容器内および前記給排気系部材内に前記洗浄ノズルを配置し、
前記粉粒体処理装置の洗浄処理に際し、前記筐体内、前記処理容器内および前記給排気系部材内に、前記洗浄ノズルより、前記ウルトラファインバブルを含む洗浄液を噴射することを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。
The granular material processing equipment cleaning system according to claim 1 or 2,
The granular material processing device includes:
a casing that accommodates the processing container;
an air supply and exhaust system member for supplying processing gas into the processing container and exhausting the processing gas from the processing container,
disposing the cleaning nozzle within the housing, within the processing container, and within the supply/exhaust system member;
During the cleaning process of the powder processing apparatus, a cleaning liquid containing the ultra-fine bubbles is injected from the cleaning nozzle into the housing, the processing container, and the air supply/exhaust system member. Body treatment equipment cleaning system.
請求項3記載の粉粒体処理装置洗浄システムにおいて、
前記粉粒体処理装置は、処理容器として、回転軸線を中心に回転自在に設けられ粉粒体被処理物が収容されるコーティングパンを備えたパンコーティング装置であることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。
The granular material processing equipment cleaning system according to claim 3,
The powder or granular material processing apparatus is a pan coating apparatus that is equipped with a coating pan as a processing container that is rotatably provided around a rotation axis and accommodates the powder or granular material to be processed. Processing equipment cleaning system.
請求項1又は2記載の粉粒体処理装置洗浄システムにおいて、
前記粉粒体処理装置は、処理容器として、有底略円筒状のベッセルを備えた撹拌造粒装置であることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。
The granular material processing equipment cleaning system according to claim 1 or 2,
A cleaning system for a powder/granular material processing apparatus, wherein the powder/granular material processing apparatus is an agitation granulation apparatus equipped with a bottomed substantially cylindrical vessel as a processing container.
請求項1又は2記載の粉粒体処理装置洗浄システムにおいて、
前記粉粒体処理装置は、処理容器として、円筒状に形成された容器を垂直方向に配置した流動層装置であることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。
The granular material processing equipment cleaning system according to claim 1 or 2,
A cleaning system for a powder/granular material processing apparatus, wherein the powder/granular material processing apparatus is a fluidized bed apparatus in which a cylindrical container is vertically arranged as a processing container.
請求項1~6の何れか1項に記載の粉粒体処理装置洗浄システムにおいて、
前記洗浄ノズルは、通水することによりノズル先端が回転する低速回転式ノズルであることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。
In the powder processing equipment cleaning system according to any one of claims 1 to 6,
A cleaning system for a powder processing device, wherein the cleaning nozzle is a low-speed rotating nozzle whose tip rotates when water flows through it.
請求項1~6の何れか1項に記載の粉粒体処理装置洗浄システムにおいて、
前記洗浄ノズルは、上下左右方向に前記洗浄液が噴射可能な三次元ノズルであることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。
In the powder processing equipment cleaning system according to any one of claims 1 to 6,
A cleaning system for a powder processing apparatus, wherein the cleaning nozzle is a three-dimensional nozzle that can spray the cleaning liquid in up, down, left and right directions.
請求項1~6の何れか1項に記載の粉粒体処理装置洗浄システムにおいて、
前記洗浄ノズルは、球状のヘッド部を備えたシャワーボールであることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。
In the powder processing equipment cleaning system according to any one of claims 1 to 6,
A cleaning system for a powder processing apparatus, wherein the cleaning nozzle is a shower ball having a spherical head.
請求項1~9の何れか1項に記載の粉粒体処理装置洗浄システムにおいて、
前記洗浄液は、市水、温水、薬液、精製水の何れかに対し、直径200nm未満のウルトラファインバブルを含有させてなることを特徴とする粉粒体処理装置洗浄システム。
In the powder processing equipment cleaning system according to any one of claims 1 to 9,
A cleaning system for a granular material processing apparatus, characterized in that the cleaning liquid contains ultra-fine bubbles with a diameter of less than 200 nm in any one of city water, hot water, chemical solution, and purified water.
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