JP2023119106A - Control device, mounting device, and image processing method - Google Patents
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Abstract
Description
本明細書では、制御装置、実装装置及び画像処理方法を開示する。 This specification discloses a control device, a mounting device, and an image processing method.
従来、画像処理方法としては、撮像部に含まれる欠陥画素の位置およびその出力信号に含まれる欠陥成分レベルについてのデータを記憶したメモリから読み出したデータと当該ビデオカメラの使用状況とに基づいて欠陥補正信号を生成して、出力信号に対して欠陥補正を行うものが提案されている(例えば、特許文献1参照)。この画像処理方法では、使用情報の変化によっても欠陥レベルが変化する白傷欠陥や黒傷欠陥等による画像欠陥を適正に補正することができる、としている。 Conventionally, as an image processing method, a defect image is detected based on data read from a memory storing data on the position of a defective pixel included in an imaging unit and the defect component level included in the output signal thereof, and on the usage status of the video camera. A technique for generating a correction signal and performing defect correction on an output signal has been proposed (see, for example, Patent Document 1). According to this image processing method, it is possible to appropriately correct image defects such as white defects and black defects, the defect level of which changes depending on changes in usage information.
ところで、部品を基板に配置する実装装置は、部品を採取した際の位置決定処理において、より高画質な画像を必要とするときがある。また、画像を撮像する撮像部には、特許文献1のように、欠陥画素を有することがある。このように、より高画質な画像を生成する際に、欠陥画素をより適切に補正することが求められていた。 By the way, a mounting apparatus that places a component on a board sometimes requires a higher quality image in the position determination process when picking up the component. Further, an imaging unit that captures an image may have a defective pixel as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-200012. In this way, there has been a demand for more appropriate correction of defective pixels when generating images of higher quality.
本明細書で開示する発明は、このような課題に鑑みなされたものであり、より高画質な画像を生成する際に、欠陥画素をより適切に補正することができる制御装置、実装装置及び画像処理方法を提供することを主目的とする。 The invention disclosed in the present specification has been made in view of such problems, and is capable of more appropriately correcting defective pixels when generating a higher quality image. The main purpose is to provide a processing method.
本明細書で開示する発明は、上述の主目的を達成するために以下の手段を採った。 The invention disclosed in this specification has taken the following measures to achieve the above-mentioned main object.
本明細書で開示する制御装置は、
実装装置を含み、対象物を撮像する撮像部を有する実装システムに用いられる制御装置であって、
対象物を撮像した第1画像と前記第1画像から1画素を超えてずらした位置で前記対象物を撮像した第2画像とを取得し、前記第1画像に含まれる欠陥画素を前記第2画像の同位置の画素を用いて欠陥補正した第1補正画像を少なくとも用いて前記第1画像及び第2画像よりも解像度の高い高解像度画像を生成する制御部、
を備えたものである。
The control device disclosed herein is
A control device used in a mounting system including a mounting device and having an imaging unit for imaging an object,
obtaining a first image of an object and a second image of the object at a position shifted by more than one pixel from the first image; A control unit that generates a high-resolution image having higher resolution than the first image and the second image by using at least the first corrected image in which defects are corrected using pixels at the same position in the image;
is provided.
この制御装置では、より高画質な画像を生成する際に、欠陥画素をより適切に補正することができる。 With this control device, defective pixels can be corrected more appropriately when generating a higher quality image.
本実施形態を図面を参照しながら以下に説明する。図1は、本開示の一例である実装システム10の概略説明図である。図2は、実装部20及び撮像部18の一例を示す説明図である。実装システム10は、例えば、撮像する対象物としての部品Pを基材としての基板Sに実装する処理を実行するシステムである。この実装システム10は、実装装置11と、管理装置40と、図示しない印刷装置、印刷検査装置、実装検査装置、搬送装置、リフロー装置などを備えている。実装システム10は、部品Pを基板Sに実装する実装処理を実施する複数の実装装置11が上流から下流に配置された実装ラインとして構成されている。なお、本実施形態において、左右方向(X軸)、前後方向(Y軸)及び上下方向(Z軸)は、図1、2に示した通りとする。また、部品P1、Pa(図2参照)などは、部品Pと総称する。
This embodiment will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic explanatory diagram of a
実装装置11は、図1に示すように、基板処理部12と、部品供給部14と、撮像部18と、実装部20と、制御装置30とを備えている。基板処理部12は、基材としての基板Sの搬入、搬送、実装位置での固定、搬出を行うユニットである。基材としては、板状の基板Sのほか、立体形状を有する部材などが含まれる。
The
部品供給部14は、実装部20へ部品Pを供給するユニットである。この部品供給部14には、部品Pを保持したテープを有するフィーダ15が複数装着されている。このフィーダ15は、テープに保持された部品Pを採取位置へ送り出す。この部品供給部14は、部品を複数配列して載置するトレイ16を有するトレイユニットを備えていてもよい。実装装置11で用いる部品Pには、図2に示すように、部品P1、Paなどが含まれる。ここでは、部品P1や部品Paを部品Pと総称する。部品P1は、微細なチップ部品である。部品Paは、例えば、部品P1よりも大きいサイズを有する部品であり、板状の本体部37と、微細な部位であるバンプ38とを有している。本体部37は、部品Paの機能を内蔵した板状部材である。バンプ38は、本体部37の下部に多数配列されている電極である。この部品Paは実装処理時にバンプ38の形状や存在などを確認する必要がある。
The
撮像部18は、画像を撮像する装置であり、実装ヘッド22に採取され保持された1以上の部品Pの画像を撮像するパーツカメラである。この撮像部18は、部品供給部14と基板処理部12との間に配置されている。この撮像部18の撮像範囲は、撮像部18の上方である。撮像部18は、照明部と、撮像素子と、画像処理部とを備える。照明部は、上方に光を照射し実装ヘッド22に保持された部品Pに対して光を照射可能に構成されている。撮像素子は、受光により電荷を発生させ発生した電荷を出力する素子である。撮像素子は、露光後の電荷の転送処理と次画像の露光処理とをオーバーラップさせることにより高速な連続取込み処理をすることができるCMOSイメージセンサとしてもよい。画像処理部は、入力された電荷に基づいて画像データを生成する処理を行う。撮像部18は、部品Pを保持した実装ヘッド22が撮像部18の上方を通過する際、実装ヘッド22を移動しながら、あるいは実装ヘッド22を停止した状態で、1又は2以上の画像を撮像し、撮像画像データを制御装置30へ出力する。
The
実装部20は、部品Pを部品供給部14から採取し、基板処理部12に固定された基板Sへ配置するユニットである。実装部20は、ヘッド移動部21と、実装ヘッド22と、採取部材23とを備えている。ヘッド移動部21は、ガイドレールに導かれてXY方向へ移動するスライダと、スライダを駆動するモータとを備えている。実装ヘッド22は、複数の部品を採取してヘッド移動部21によりXY方向へ移動するものである。この実装ヘッド22は、スライダに取り外し可能に装着されている。実装ヘッド22の下面には、1以上の採取部材23が取り外し可能に装着されている。実装ヘッド22は、部品Pを採取する複数の採取部材23が円周上に配置されている(図2参照)。採取部材23は、負圧を利用して部品を採取するノズルとしてもよい。採取部材23は、ノズルのほか、部品Pを機械的に保持するメカニカルチャックなどとしてもよい。
The
制御装置30は、CPUを含む制御部31を中心とするマイクロプロセッサとして構成されており、各種データを記憶する記憶部32などを備えている。この制御装置30は、基板処理部12、部品供給部14、撮像部18、実装部20へ制御信号を出力し、部品供給部14や撮像部18、実装部20からの信号を入力する。記憶部32には、部品Pを基板Sへ実装する配置順や配置位置などを含む実装条件情報33が記憶されている。この実装条件情報33には、部品Pを実装する際の採取順、配置順、部品Pの識別情報(ID)、超解像処理の条件、撮像条件及び基板S上の配置位置(座標)の情報などが含まれている。なお、超解像処理とは、複数の撮像画像から高画質な画像を生成する処理(例えば、マルチフレーム超解像処理など)をいう。また、この超解像処理で得られた高画質画像は、実装ヘッド22に採取された際の部品Pの採取ずれ量の検出や、部品Pの部位(バンプ38など)の異常検査などに用いられる。ここで、「高画質画像」とは、より高い確率で正しい位置結果を得ることができる画像をいい、よりノイズの少ない画像や、より高解像度の画像などをいうものとする。欠陥位置情報34は、撮像部18の撮像素子のうち、欠陥画素を生じる撮像素子を特定する情報を含む。この欠陥位置情報34には、欠陥画素の位置を特定する情報として、例えば、撮像素子の番号(識別子)や撮像素子の位置などが含まれている。
The
管理装置40は、実装システム10の各装置の情報を管理するコンピュータである。管理装置40は、図1に示すように、制御部41と、記憶部42と、表示部と、入力装置とを備えている。制御部41は、CPUを中心とするマイクロプロセッサとして構成されている。記憶部42は、例えばHDDなど、処理プログラムなど各種データを記憶する装置である。表示部は、各種情報を表示する液晶画面である。入力装置は、作業者が各種指令を入力するキーボード及びマウス等を含む。
The
次に、こうして構成された本実施形態の実装システム10の動作、特に、部品Pを基板Sへ配置する実装処理について説明する。図5は、実装装置11の制御部31が実行する実装処理ルーチンの一例を示すフローチャートである。このルーチンは、記憶部32に記憶され、作業者の実装開始入力に基づいて実行される。ここでは、制御装置30がバンプ38を有する部品Paに対して超解像処理を実行する処理を一例として説明する。このルーチンが開始されると、制御部31は、まず、実装条件情報33を記憶部32から読み出して取得し(S100)、基板Sの搬送及び固定処理を基板処理部12に行わせる(S110)。次に、制御部31は、実装条件情報33の配置順に基づいて採取部材23が吸着する部品Pを設定する(S120)。次に、制御部31は、必要に応じて採取部材23の装着や交換を行い、1以上の部品Pの吸着及び移動処理を実装部20に行わせる(S130)。制御部31は、このとき撮像部18の上方を通過するよう実装ヘッド22を移動させる。
Next, the operation of the mounting
次に、制御部31は、実装ヘッド22に採取された中に超解像処理を要する部品Pがあるか否かを判定する(S140)。制御部31は、例えば、部品Paなど、特定の部品Pが実装ヘッド22に採取されているときに、超解像処理を要する部品Pがあると判定する。超解像を要する部品Pがないときには、制御部31は、採取している部品Pの画像を撮像部18に撮像処理させ(S150)、撮像画像から部品Pのずれ量を検出する(S210)。ここでは、撮像画像から部品Pの位置を決定し、その結果を用いて部品Pの採取位置ずれ量や角度ずれ量などを検出する。
Next, the
一方、S140で超解像処理を有する部品Pがあるときには、制御部31は、1画素を超えてずらした複数の撮像位置で画像を撮像部18に撮像処理させる(S170)。制御部31は、例えば、X軸方向及び/又はY軸方向に5画素以上や10画素以上ずらした位置で第1画像及び第2画像を撮像させる。このとき、撮像処理のたびに実装ヘッド22を停止させるものとしてもよいし、実装ヘッド22を移動しながら撮像処理を複数回行うものとしてもよい。なお、ここでは、2カ所の撮像位置で撮像画像を得る場合を主として説明する。
On the other hand, when there is a component P having super-resolution processing in S140, the
図4は、撮像画像の説明図であり、図4Aが第1画像51、図4Bが第2画像61の一例の説明図である。図4では、実装ヘッド22をXY軸方向におよそ5.5画素ずらした位置で撮像した一例を示す。なお、第1画像51と第2画像61との撮像順は、特に限定されず、いずれを先に撮像してもよい。ここで、「第1」や「第2」の文言は、その取得順序を表すものでなく、各画像を特定するために用いられている趣旨である。第1画像51には、部品領域52と、バンプ53と、欠陥画素55とが含まれる。バンプ53は、部品領域52の内部に含まれる。欠陥画素55は、欠陥を有する撮像素子の位置に現れる。制御部31は、本体部37の中央位置など、本体部37の形状などに基づいて部品領域52に基準パターン54を設定するものとしてもよい。基準パターン54は、部品領域52の中央に配置され、欠陥画素55との相対位置の基準点として用いられる。同様に、第2画像61には、部品領域62と、バンプ63と、基準パターン64と、欠陥画素65とが含まれる。制御装置30は、図4に示すように、実装ヘッド22の位置を大きくずらすことによって、撮像画像内に存在する欠陥画素の位置を大きく変更するのである。
4A and 4B are explanatory diagrams of captured images, in which FIG. 4A is an explanatory diagram of an example of the
次に、制御部31は、第1画像51の欠陥画素55を第2画像61の同位置の画素の値に置き換えることによって、欠陥補正を実行し(S180)、第2画像61の欠陥画素65を第1画像51の同位置の画素の値に置き換えることによって、欠陥補正を実行する(S190)。なお、撮像部18の撮像素子に欠陥画素となるものがないときには、制御部31は、S180、S190の処理を省略することができる。図5は、撮像画像の欠陥補正処理及び超解像処理の一例を示す説明図であり、図5Aが欠陥画素の補正処理の図、図5Bが欠陥補正後の第1補正画像58及び第2補正画像68の図、図5Cが高解像度画像70の説明図である。図5では、第1画像51及び部品領域52のうち、部品領域52及び部品領域62の領域を示した。図5Aに示すように、制御部31は、第1画像51の欠陥画素55を第2画像61の同位置に相当する画素値で置き換え、同じく第2画像61の欠陥画素65を第1画像51の同位置に相当する画素値で置き換えて、図5Bに示すように、それぞれ第1補正画像58及び第2補正画像68として修復する。
Next, the
続いて、制御部31は、欠陥画素55,65の欠陥補正がなされた第1補正画像58及び第2補正画像68を用いて、撮像画像である第1画像51及び第2画像61よりも解像度の高い高解像度画像70を生成する超解像処理を実行する(S200)。この超解像処理では、制御部31は、複数の画像を用い、第1補正画像58と第2補正画像68との正確な移動量を求め、仮の高画質画像を生成し、この仮の画像に対してぼけ推定処理、再構成処理を行い、撮像画像に比して高解像度の画像を生成する。図6は、超解像処理の説明図であり、図6Aが低画質画像の概念図、図6Bが低画質画像を重ね合わせて得られる高解像度画像70の概念図である。図6Bに示すように、低画質画像を整数以外のピクセルピッチの範囲(例えば、0.5ピクセル、1.5ピクセルなど)でずらして撮像した画像を重ね合わせると、画素間の情報をより増やすことができる。また、実際に撮像した画像を用いるため、単に推定して画素間の情報を補間するのに比して、信頼性の高い高解像度画像を生成することができる(図5C参照)。
Subsequently, the
S200で高解像度画像70を得たあと、制御部31は、S210で、高解像度画像70から部品Pのずれ量を検出する。また、制御部31は、高解像度画像70を用いて、本体部37やバンプ38の形状や位置などを確認するものとしてもよい。制御部31は、S160~S200を経て高解像度画像に基づく部品Pのずれ量か、S150を経て撮像画像に基づく部品Pのずれ量かのいずれかを得ることができる。S210のあと、制御部31は、検出したずれ量を補正した位置に部品Pを配置する(S220)。S220のあと、制御部31は、現基板の実装処理が完了したか否かを判定し(S230)、完了していないときには、S120以降の処理を実行する。即ち、制御部31は、次に採取する部品Pを設定し、必要に応じて採取部材23を取り替え、部品Pを撮像し、ずれ量を補正して基板Sに配置させる。一方、S230で現基板の実装処理が完了したときには、制御部31は、実装完了した基板Sを基板処理部12により排出させ(S240)、生産完了したか否かを判定する(S250)。生産完了していないときには、制御部31は、S110以降の処理を実行する一方、生産完了したときには、そのままこのルーチンを終了する。このように、実装装置11は、高画質な高解像度画像70を用いて部品Pの位置決定結果を得ながら実装処理を行うのである。
After obtaining the high-
ここで、本実施形態の構成要素と本開示の構成要素との対応関係を明らかにする。本実施形態の制御装置30が本開示の制御装置に相当し、制御部31が制御部に相当し、撮像部18が撮像部に相当し、実装部20が実装部に相当し、実装装置11が実装装置に相当し、実装システム10が実装システムに相当する。また、第1画像51が第1画像に相当し、第2画像61が第2画像に相当し、欠陥画素55,65が欠陥画素に相当し、第1補正画像58が第1補正画像に相当し、第2補正画像68が第2補正画像に相当し、高解像度画像70が高解像度画像に相当し、基準パターン54,64が基準パターンに相当する。なお、本実施形態では、制御装置30や実装装置11の動作を説明することにより本開示の画像処理方法の一例も明らかにしている。
Here, correspondence relationships between the components of the present embodiment and the components of the present disclosure will be clarified. The
以上説明した実施形態の制御装置30は、対象物としての部品Pを撮像した第1画像51に含まれる欠陥画素55を、第1画像51から1画素を超えてずらした位置で部品Pを撮像した第2画像61の同位置の画素を用いて欠陥補正し、この欠陥補正した第1補正画像58を少なくとも用いて、より解像度の高い高解像度画像70を生成する超解像処理を実行する。この制御装置30では、1画素を超えてずらした第1画像51及び第2画像61を用いることによって、複数の撮像画像で欠陥画素が重なることをより抑制することができ、それぞれの欠陥画素を埋めることができる。したがって、この制御装置30では、より高画質な画像を生成する際に、欠陥画素55,65をより適切に補正することができる。
The
また、制御装置30は、撮像部18の画素欠陥する位置を含む欠陥位置情報34を記憶する記憶部32を備え、制御部31は、欠陥位置情報34から欠陥画素の位置を取得して欠陥補正する。この制御装置30では、予め用意された欠陥位置情報34を用いて欠陥画素の位置を求めることができる。更に、制御部31は、第1画像51及び第2画像61に含まれる基準パターン54,64の位置に基づいて欠陥画素55,65の位置を取得する。この制御装置30では、基準パターン54,64の位置から欠陥画素55,65の位置を取得することができる。更に、制御部31は、第1画像51に対して複数画素を超えてずらした位置で第2画像61を取得する。この制御装置30では、例えば、5ピクセル以上や10ピクセル以上など、より離れた位置で第1画像51と第2画像61とを取得するため、より確実に欠陥画素55,65の補正を行うことができる。
Further, the
また、制御部31は、欠陥画素55,65に対してこの欠陥画素55,65に隣接する画素の値を用いた補間処理を行わない。図7は、欠陥画素を補間する従来の補間処理の一例を示す説明図であり、図7Aが第1画像51の説明図、図7Bが近隣セルでの補間処理を行った補間画素155の説明図、図7Cが補間画素155,165を含む第1補正画像158及び第2補正画像168の図、図7Dが第1補正画像158及び第2補正画像168から得られた高解像度画像170の図である。図7に示すように、制御部31が欠陥画素55,65を直接補間処理すると、これらが中間値である補間画素155,165に補正される。この補間画素が部品領域52,62に存在すると、高解像度画像170の補間画素175のように、対象物には存在しない画素が強調されるなど、場合によっては、補正された画素の影響が大きくなり、超解像処理を行ったにもかかわらず、逆に画像処理における認識精度の低下につながるおそれがある。この制御装置30では、補間処理を行わないことによって、画像の認識精度の低下を防止することができる。
Further, the
また、実装装置11は、対象物としての部品Pを撮像する撮像部18と、部品Pを基材としての基板Sに配置する実装部20と、上述した制御装置30と、を備える。この実装装置11は、上述した制御装置30を備えるため、より高画質な画像を生成する際に、欠陥画素をより適切に補正することができる。
The mounting
なお、本開示は上述した実施形態に何ら限定されることはなく、本開示の技術的範囲に属する限り種々の態様で実施し得ることはいうまでもない。 It goes without saying that the present disclosure is not limited to the above-described embodiments, and can be implemented in various forms as long as they fall within the technical scope of the present disclosure.
例えば、上述した実施形態では、超解像処理を行うに際して、欠陥画素55,65を欠陥補正した第1補正画像58及び第2補正画像68を用いるものとしたが、特にこれに限定されない。制御部31は、第1補正画像58と第2画像61とを用いて超解像処理を実行するものとしてもよいし、第1画像51と第2補正画像68とを用いて超解像処理を実行するものとしてもよい。図8は、別の実装処理ルーチンの一例を示すフローチャートである。なお、このフローチャートは、図3の実装処理ルーチンの一部を変更したものであり、実装処理ルーチンと同じステップは同じ番号を付し、その詳細な説明を省略する。この図8の実装処理において、制御部31は、部品領域52,62を中心に画像処理を行うものとする。制御部31は、S170で複数の位置で撮像画像を撮像処理したのち、部品領域52,62を抽出し(S300)、第1画像51の部品領域52に欠陥画素55が含まれるか否かを欠陥位置情報34に基づいて判定する(S310)。部品領域52に欠陥画素55があるときには、制御部31は、S180で第1画像51の欠陥画素55を第2画像61の同位置の画素で欠陥補正する。S180のあと、またはS310で第1画像51の部品領域52に欠陥画素55がないときには、制御部31は、第2画像61の部品領域62に欠陥画素65が含まれるか否かを欠陥位置情報34に基づいて判定する(S320)。部品領域62に欠陥画素65があるときには、制御部31は、S190で第1画像51の欠陥画素55を第2画像61の同位置の画素で欠陥補正する。S190のあと、またはS320で部品領域62に欠陥画素65がないときには、S200で超解像処理を実行する。このとき、制御部31は、部品領域62にのみ欠陥画素65がないときには、第1補正画像58の部品領域と第2画像61の部品領域62とを用いて超解像処理を実行する。一方、制御部31は、部品領域52にのみ欠陥画素55がないときには、第1画像51の部品領域52と第2補正画像68の部品領域とを用いて超解像処理を実行する。このように、撮像画像の一部領域を用いて超解像処理を実行する場合は、欠陥画素の位置によっては、欠陥補正を省略することができる。
For example, in the above-described embodiment, the first corrected
上述した実施形態では、制御部31は、基準パターン54,64を用いて超解像処理を実行するものとしたが、特にこれに限定されず、これを省略するものとしてもよい。第1画像51は第2画像61の特定位置から欠陥画素55,65の位置を特定することができる。
In the above-described embodiment, the
上述した実施形態では、2つの撮像画像を用いて超解像処理を実行するものとしたが、特にこれに限定されず、3以上の撮像画像を用いて超解像処理と実行してもよい。このとき、制御部31は、例えば、第1画像の欠陥画素を第2画像の同位置の画素を用いて欠陥補正し、第2画像の欠陥画素を第3画像の同位置の画素を用いて欠陥補正し、第3画像の欠陥画素を第1画像の同位置の画素を用いて欠陥補正するものとしてもよい。即ち、制御部31は、できるだけ重複しない画素を用いて欠陥補正を行うことが好ましい。
In the above-described embodiment, super-resolution processing is performed using two captured images, but the present invention is not particularly limited to this, and super-resolution processing may be performed using three or more captured images. . At this time, for example, the
上述した実施形態では、第1画像51及び第2画像61を取得する際に5ピクセル以上など、複数画素を超えてずらすものとしたが、1画素を超えていれば、特に限定されない。1画素を超えれば、複数の撮像画像で欠陥画素の位置が重なることはまれであり、欠陥補正を実行することができる。
In the above-described embodiment, when the
上述した実施形態では、超解像処理を行う撮像画像は、実装装置11の撮像部18が撮像するものとして説明したが、特にこれに限定されず、例えば、実装ヘッド22に配設され下方を撮像するマークカメラの撮像画像に超解像処理を行うものとしてもよいし、印刷検査装置や実装検査装置が有する撮像部の撮像画像に対して超解像処理を行うものとしてもよい。また、撮像する対象物としては、実装処理に用いる部品Pや基材の全体像のほか、部品の一部(例えば電極やリード、バンプなど)、基材の一部、部品や基材に付された部位(例えばマーク)などが挙げられる。
In the above-described embodiment, the captured image for super-resolution processing is described as being captured by the
上述した実施形態では、実装装置11が制御装置30を備え、超解像処理を実行するものとしたが、特にこれに限定されず、管理装置40の制御部41が欠陥補正を撮像画像に行って、超解像処理を実行してもよいし、他の装置の制御装置が、欠陥補正を撮像画像に行って、超解像処理を実行してもよい。また、上述した実施形態では、実装処理を実行する際に、欠陥補正及び超解像処理を実行するものとして説明したが、特にこれに限定されず、部品Pを基板Sへ配置したのちに実行する実装検査時など、実装処理以外の処理において、欠陥補正及び超解像処理を実行するものとしてもよい。このようにしても、制御装置は、より高画質な画像を生成する際に、欠陥画素をより適切に補正することができる。
In the above-described embodiment, the mounting
また、上述した実施形態では、本開示を制御装置30、実装装置11及び実装システム10として説明したが、例えば、画像処理方法としてもよいし、上述した処理をコンピュータが実行するプログラムとしてもよい。
Further, in the above-described embodiment, the present disclosure has been described as the
ここで、本開示は、以下のように構成してもよい。例えば、本開示の画像処理方法は、
実装装置を含み、対象物を撮像する撮像部を有する実装システムに用いられる画像処理方法であって、
(a)対象物を撮像した第1画像と前記第1画像から1画素を超えてずらした位置で前記対象物を撮像した第2画像とを取得するステップと、
(b)前記第1画像に含まれる欠陥画素を前記第2画像の同位置の画素を用いて欠陥補正した第1補正画像を少なくとも用いて前記第1画像及び第2画像よりも解像度の高い高解像度画像を生成するステップと、
を含むものである。
Here, the present disclosure may be configured as follows. For example, the image processing method of the present disclosure is
An image processing method used in a mounting system including a mounting device and having an imaging unit for imaging an object,
(a) obtaining a first image of an object and a second image of the object at a position shifted from the first image by more than one pixel;
(b) using at least a first corrected image in which defective pixels included in the first image are corrected using pixels at the same positions in the second image; generating a resolution image;
includes.
この画像処理方法は、上述した制御装置と同様に、1画素を超えてずらした第1画像及び第2画像を用いることによって、欠陥画素を埋めることができ、より高画質な画像を生成する際に、欠陥画素をより適切に補正することができる。なお、この画像処理方法において、上述した制御装置の種々の態様を採用してもよいし、また、上述した制御装置の各機能を実現するようなステップを追加してもよい。 This image processing method can fill in defective pixels by using the first image and the second image that are shifted by more than one pixel, as in the control device described above, and can generate an image of higher quality. In addition, defective pixels can be corrected more appropriately. In this image processing method, various aspects of the above-described control device may be employed, and steps may be added to realize each function of the above-described control device.
本開示は、部品を基板上に配置する実装処理を行う装置に利用可能である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present disclosure can be used for a device that performs mounting processing for arranging components on a board.
10 実装システム、11 実装装置、12 基板処理部、14 部品供給部、15 フィーダ、16 トレイ、18 撮像部、20 実装部、21 ヘッド移動部、22 実装ヘッド、23 吸着ノズル、30 制御装置、31 制御部、32 記憶部、33 実装条件情報、34 欠陥位置情報、37 本体部、38 バンプ、40 ホストPC、41 制御部、42 記憶部、51 第1画像、52 部品領域、53 バンプ、54 基準パターン、55 欠陥画素、58 第1補正画像、61 第2画像、62 部品領域、63 バンプ、64 基準パターン、65 欠陥画素、68 第2補正画像、70 高解像度画像、155 補間画素、158 第1補正画像、165 補間画素、168 第2補正画像、170 高解像度画像、175 補間画素、P,P1,Pa 部品、S 基板。
REFERENCE SIGNS
Claims (8)
対象物を撮像した第1画像と前記第1画像から1画素を超えてずらした位置で前記対象物を撮像した第2画像とを取得し、前記第1画像に含まれる欠陥画素を前記第2画像の同位置の画素を用いて欠陥補正した第1補正画像を少なくとも用いて前記第1画像及び第2画像よりも解像度の高い高解像度画像を生成する超解像処理を実行する制御部、
を備えた制御装置。 A control device used in a mounting system including a mounting device and having an imaging unit for imaging an object,
obtaining a first image of an object and a second image of the object at a position shifted by more than one pixel from the first image; A control unit that performs super-resolution processing to generate a high-resolution image having a higher resolution than the first image and the second image using at least the first corrected image in which defects are corrected using pixels at the same position in the image;
control device with
前記撮像部の画素欠陥する位置を含む欠陥位置情報を記憶する記憶部、を備え、
前記制御部は、前記欠陥位置情報から前記欠陥画素の位置を取得して欠陥補正する、制御装置。 The control device according to claim 1 or 2,
a storage unit that stores defect position information including the pixel defect position of the imaging unit;
The control device, wherein the control unit acquires the position of the defective pixel from the defect position information and corrects the defect.
部品を基材に配置する実装部と、
請求項1~6のいずれか1項に記載の制御装置と、
を備えた実装装置。 an imaging unit that images an object;
a mounting unit for arranging components on a base material;
A control device according to any one of claims 1 to 6,
Mounting equipment with
(a)対象物を撮像した第1画像と前記第1画像から1画素を超えてずらした位置で前記対象物を撮像した第2画像とを取得するステップと、
(b)前記第1画像に含まれる欠陥画素を前記第2画像の同位置の画素を用いて欠陥補正した第1補正画像を少なくとも用いて前記第1画像及び第2画像よりも解像度の高い高解像度画像を生成するステップと、
を含む画像処理方法。 An image processing method used in a mounting system including a mounting device and having an imaging unit for imaging an object,
(a) obtaining a first image of an object and a second image of the object at a position shifted from the first image by more than one pixel;
(b) using at least a first corrected image in which defective pixels included in the first image are corrected using pixels at the same positions in the second image; generating a resolution image;
An image processing method including
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