JP2023116966A - Equivalent model creation device, equivalent model creation support method, and equivalent model creation support program - Google Patents

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JP2023116966A JP2022019393A JP2022019393A JP2023116966A JP 2023116966 A JP2023116966 A JP 2023116966A JP 2022019393 A JP2022019393 A JP 2022019393A JP 2022019393 A JP2022019393 A JP 2022019393A JP 2023116966 A JP2023116966 A JP 2023116966A
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Abstract

To provide an equivalent model creation device which can reduce a work load when generating an equivalent model circuit.SOLUTION: An equivalent model creation device comprises: a first waveform data acquisition unit which acquires first waveform data indicating an impedance for each frequency; a display data output unit which outputs display data indicating a first waveform based on the first waveform data; a target condition acquisition unit which acquires a target condition for determining a target impedance for each region of different frequency bands; a second waveform data acquisition unit which generates second waveform data indicating the target impedance for each frequency determined by using the target condition and the first waveform data; and a third waveform data generation unit which generates third waveform data indicating an impedance for each frequency in a model circuit constituted by an LCR component. The display data output unit outputs the display data indicating a second waveform based on the second waveform data and the display data indicating a third waveform based on the third waveform data.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示技術は、等価モデル作成技術に関する。 The technology disclosed herein relates to an equivalent model creation technology.

集積回路の開発段階においては、設計担当者により設計された集積回路に対し、検証担当者が等価回路を用いてPI(パワーインテグリティ)検証などの種々の検証を行う場合がある。この場合、例えば、検証担当者は、集積回路をLCR部品(L(コイル)、C(コンデンサ)、R(抵抗))でモデル化した等価回路(等価モデル回路)を生成する。具体的には、検証担当者は、設計担当者から回路のインピーダンスに関する実測値を受け取り、実測値に基づくインピーダンス特性に近づくように、モデル回路におけるLCR部品を調整して等価モデル回路を生成する。 In the development stage of an integrated circuit, a person in charge of verification may perform various verifications such as PI (power integrity) verification using an equivalent circuit on the integrated circuit designed by the person in charge of design. In this case, for example, the person in charge of verification generates an equivalent circuit (equivalent model circuit) that models the integrated circuit with LCR components (L (coil), C (capacitor), R (resistor)). Specifically, the person in charge of verification receives actual measured values of the impedance of the circuit from the person in charge of design, and adjusts the LCR components in the model circuit so as to approximate the impedance characteristics based on the measured values to generate an equivalent model circuit.

ところで、特許文献1には、回路を構成する回路網素子間の相互効果を予測して回路の周波数応答を生成し、周波数応答をグラフィック表示する回路分析装置が開示されている。特許文献1の回路分析装置においては、回路構成に基づいて、実測値に基づく周波数応答に近い、いわゆる「正しい周波数応答」(特許文献1)の波形が表示される。 By the way, Patent Document 1 discloses a circuit analysis apparatus that predicts mutual effects between network elements that constitute a circuit, generates a frequency response of the circuit, and graphically displays the frequency response. In the circuit analysis apparatus of Patent Document 1, a waveform of a so-called "correct frequency response" (Patent Document 1), which is close to the frequency response based on the actual measurement value, is displayed based on the circuit configuration.

特開平08-050152号公報JP-A-08-050152

しかしながら、従来、実測値に基づくインピーダンス特性の波形が複雑になるにしたがって、モデル回路におけるLCR部品を調整する回数が増える傾向にあり、等価モデル回路を生成する際の作業負荷が大きいという課題があった。
仮に、特許文献1の回路分析装置における上記開示を等価モデル回路の作成に利用しようとしても、実測値に基づくインピーダンス特性に近い、より複雑な波形を表示する程度であり、依然として、上記課題を解決できない。
However, conventionally, as the waveform of impedance characteristics based on measured values becomes more complex, the number of times the LCR components in the model circuit are adjusted tends to increase, and there is a problem that the workload in generating the equivalent model circuit becomes large. Ta.
Even if an attempt is made to use the above disclosure in the circuit analysis apparatus of Patent Document 1 to create an equivalent model circuit, it would only display a more complex waveform that is close to impedance characteristics based on actual measurements, and the above problems would still not be solved. Can not.

本開示は、上記課題を解決するもので、等価モデル回路を生成する際の作業負荷を低減させることができる等価モデル作成装置を提供することを目的とする。 An object of the present disclosure is to solve the above-described problems, and to provide an equivalent model creation apparatus capable of reducing the workload when creating an equivalent model circuit.

本開示の等価モデル作成装置は、周波数ごとのインピーダンスを示す第1波形データを取得する第1波形データ取得部と、前記第1波形データに基づく第1波形を示す表示データを出力する表示データ出力部と、それぞれ異なる周波数帯の領域ごとに、目標インピーダンスを決定するための目標条件を取得する目標条件取得部と、前記第1波形データおよび前記目標条件を用いて決定された周波数ごとの目標インピーダンスを示す第2波形データを生成する第2波形データ生成部と、LCR部品で構成されるモデル回路における、周波数ごとのインピーダンスを示す第3波形データを生成する第3波形データ生成部と、を備え、前記表示データ出力部は、さらに、前記第2波形データに基づく第2波形を示す表示データおよび前記第3波形データに基づく第3波形を示す表示データを出力する、ように構成した。 An equivalent model creation device of the present disclosure includes a first waveform data acquisition unit that acquires first waveform data representing impedance for each frequency, and a display data output that outputs display data representing a first waveform based on the first waveform data. a target condition acquiring unit for acquiring target conditions for determining target impedance for each different frequency band region; and a target impedance for each frequency determined using the first waveform data and the target condition. and a third waveform data generator for generating third waveform data indicating impedance for each frequency in a model circuit composed of LCR parts. The display data output unit further outputs display data representing a second waveform based on the second waveform data and display data representing a third waveform based on the third waveform data.

本開示によれば、等価モデル回路を生成する際の作業負荷を低減させることができる、という効果を奏する。 According to the present disclosure, it is possible to reduce the workload when generating an equivalent model circuit.

実施の形態1に係る等価モデル作成装置の構成例および周辺装置を示す図である。1 is a diagram showing a configuration example and peripheral devices of an equivalent model creation device according to Embodiment 1; FIG. 実施の形態1の等価モデル作成装置に係る機能の第1の例を説明する図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a first example of functions related to the equivalent model creation device of Embodiment 1; 実施の形態1に係る第3波形データ生成部の構成例を示す図である。6 is a diagram showing a configuration example of a third waveform data generation unit according to Embodiment 1; FIG. 実施の形態1に係る等価モデル作成装置に用いられる等価モデル回路のイメージ図である。2 is an image diagram of an equivalent model circuit used in the equivalent model creation device according to Embodiment 1; FIG. 実施の形態1に係る表示データ出力部の構成例を示す図である。4 is a diagram showing a configuration example of a display data output unit according to Embodiment 1; FIG. 実施の形態1に係る等価モデル作成装置の処理の例を示すフローチャートである。4 is a flow chart showing an example of processing of the equivalent model creation device according to Embodiment 1; 実施の形態1の等価モデル作成装置に係る機能の第2の例を説明する図である。FIG. 5 is a diagram for explaining a second example of functions related to the equivalent model creation device of Embodiment 1; 図7の各領域における波形の拡大図である。8 is an enlarged view of waveforms in each region of FIG. 7; FIG. 実施の形態2に係る等価モデル作成装置の構成例および周辺装置を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a configuration example and peripheral devices of an equivalent model creation device according to Embodiment 2; 実施の形態2に係る第3波形データ生成部の構成例を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating a configuration example of a third waveform data generation unit according to Embodiment 2; 実施の形態2に係る等価モデル作成装置の処理の例を示すフローチャートである。9 is a flow chart showing an example of processing of the equivalent model creation device according to Embodiment 2; 本開示に係る機能を実現するためのハードウェア構成の第1の例を示す図である。1 is a diagram illustrating a first example of a hardware configuration for realizing functions according to the present disclosure; FIG. 本開示に係る機能を実現するためのハードウェア構成の第2の例を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a second example of a hardware configuration for realizing functions according to the present disclosure;

以下、本開示をより詳細に説明するために、本開示を実施するための形態について、添付の図面に従って説明する。 Hereinafter, in order to describe the present disclosure in more detail, embodiments for carrying out the present disclosure will be described with reference to the accompanying drawings.

実施の形態1.
実施の形態1においては、取得したインピーダンス特性、および、周波数帯ごとの目標条件を用いてインピーダンス特性を生成することができる形態を示す。
図1は、実施の形態1に係る等価モデル作成装置1000の構成例および周辺装置を示す図である。
等価モデル作成装置1000は、入力装置2000と、表示装置3000と、通信可能に接続されている。
等価モデル作成装置1000は、入力装置2000を介して取得したインピーダンス特性(第1波形データ)および周波数帯ごとの目標条件に基づいて目標インピーダンス特性(第2波形データ)を生成する。
また、等価モデル作成装置1000は、取得したモデル回路の情報(モデル回路情報)に基づいてモデル回路のインピーダンス特性(第3波形データ)を生成する。
等価モデル作成装置1000は、入力装置2000を介して取得したインピーダンス特性を示す表示データ、目標インピーダンス特性を示す表示データ、または、モデル回路のインピーダンス特性を示す表示データを、表示装置3000へ出力する。
また、等価モデル作成装置1000は、外部からの指令にしたがってモデル回路のLCR値を出力する。
Embodiment 1.
In Embodiment 1, a form is shown in which impedance characteristics can be generated using acquired impedance characteristics and target conditions for each frequency band.
FIG. 1 is a diagram showing a configuration example and peripheral devices of an equivalent model creating apparatus 1000 according to Embodiment 1. As shown in FIG.
Equivalent model creation device 1000 is communicably connected to input device 2000 and display device 3000 .
The equivalent model creation device 1000 generates target impedance characteristics (second waveform data) based on the impedance characteristics (first waveform data) acquired via the input device 2000 and target conditions for each frequency band.
The equivalent model generating apparatus 1000 also generates the impedance characteristics (third waveform data) of the model circuit based on the acquired model circuit information (model circuit information).
Equivalent model creation device 1000 outputs display data indicating impedance characteristics, display data indicating target impedance characteristics, or display data indicating impedance characteristics of a model circuit acquired via input device 2000 to display device 3000 .
Equivalent model generating apparatus 1000 also outputs the LCR value of the model circuit according to a command from the outside.

等価モデル作成装置1000の内部構成を説明する。
図1に示す等価モデル作成装置1000は、波形データ出力部1100、表示データ出力部1200、および、LCR値出力部1300、を含んで構成されている。
The internal configuration of the equivalent model creation device 1000 will be described.
Equivalent model creation apparatus 1000 shown in FIG. 1 includes waveform data output section 1100 , display data output section 1200 , and LCR value output section 1300 .

波形データ出力部1100は、周波数ごとのインピーダンス特性を示す波形データを出力する。
具体的には、波形データ出力部1100は、少なくとも第1波形データ、第2波形データ、および、第3波形データといった3種類の波形データを出力する。
第1波形データは、入力装置2000を介して取得したインピーダンス特性を示し、具体的には、実測値に基づく、周波数ごとのインピーダンス値を示す。ただし、第1波形データ自体は、実測値に基づくデータであるかを判別できないため、実測値に基づくデータに限定することを意図しない。
第2波形データは、第1波形データおよび周波数帯ごとの目標条件に基づく、目標インピーダンス特性を示す。
第3波形データは、モデル回路情報に基づく、モデル回路のインピーダンス特性を示す。
モデル回路情報は、LCR部品で構成されたモデル回路の構成を示す情報である。
LCR部品は、L(コイル)、C(コンデンサ)、R(抵抗)といった受動部品である。LCR値は、これらの部品の値を示す。
モデル回路は、受動部品の様々な組み合わせに変更可能である。
波形データ出力部1100の詳細は、後述する。
The waveform data output section 1100 outputs waveform data indicating impedance characteristics for each frequency.
Specifically, waveform data output section 1100 outputs at least three types of waveform data: first waveform data, second waveform data, and third waveform data.
The first waveform data indicates impedance characteristics acquired via the input device 2000, and specifically indicates impedance values for each frequency based on actual measurements. However, since it cannot be determined whether the first waveform data itself is data based on measured values, it is not intended to be limited to data based on measured values.
The second waveform data indicates target impedance characteristics based on the first waveform data and target conditions for each frequency band.
The third waveform data indicates impedance characteristics of the model circuit based on the model circuit information.
The model circuit information is information indicating the configuration of the model circuit configured with the LCR parts.
LCR components are passive components such as L (coil), C (capacitor), and R (resistor). LCR values indicate the values of these components.
The model circuit can be modified with various combinations of passive components.
Details of the waveform data output unit 1100 will be described later.

表示データ出力部1200は、表示装置3000向けに表示データを生成して表示装置3000へ出力する。
具体的には、表示データ出力部1200は、波形データ出力部1100の出力データ、または、LCR値出力部1300の出力データを用いて表示データを生成して表示装置3000へ出力する。
表示データ出力部1200の詳細は、後述する。
The display data output unit 1200 generates display data for the display device 3000 and outputs the display data to the display device 3000 .
Specifically, the display data output section 1200 generates display data using the output data of the waveform data output section 1100 or the output data of the LCR value output section 1300 and outputs the display data to the display device 3000 .
Details of the display data output unit 1200 will be described later.

LCR値出力部1300は、外部から取得した指令信号(LCR値出力指令信号)に応じて、第3波形データ生成部1140により用いられたモデル回路におけるLCR値を出力する。
具体的には、LCR値出力部1300は、外部から、入力装置2000を介してLCR値を出力するよう指令する指令信号(LCR値出力指令信号)を取得する。LCR値出力部1300は、LCR値出力指令信号を取得すると、第3波形データ生成部1140からモデル回路におけるLCR値を取得し、LCR値を表示データ出力部1200へ出力する。LCR値出力部1300は、LCR値を、さらに別の外部装置へ出力してもよい。
The LCR value output unit 1300 outputs the LCR value in the model circuit used by the third waveform data generation unit 1140 according to an externally acquired command signal (LCR value output command signal).
Specifically, the LCR value output unit 1300 acquires a command signal (LCR value output command signal) commanding output of the LCR value from the outside via the input device 2000 . Upon acquiring the LCR value output command signal, LCR value output section 1300 acquires the LCR value in the model circuit from third waveform data generation section 1140 and outputs the LCR value to display data output section 1200 . The LCR value output unit 1300 may output the LCR value to another external device.

波形データ出力部1100は、第1波形データ取得部1110、目標条件取得部1120、第2波形データ生成部1130、および、第3波形データ生成部1140、を含んで構成されている。 The waveform data output section 1100 includes a first waveform data acquisition section 1110 , a target condition acquisition section 1120 , a second waveform data generation section 1130 and a third waveform data generation section 1140 .

第1波形データ取得部1110は、実測値に基づく、周波数ごとのインピーダンスを示す第1波形データを取得する。
第1波形データ取得部1110は、例えば、回路設計部門から提供された、実測値に基づく、周波数ごとのインピーダンス値を示す第1波形データを、入力装置2000を介して取得する。
First waveform data acquisition section 1110 acquires first waveform data representing impedance for each frequency based on actual measurements.
The first waveform data acquisition unit 1110 acquires, via the input device 2000, first waveform data indicating impedance values for each frequency based on actual measurement values provided by the circuit design department, for example.

目標条件取得部1120は、それぞれ異なる周波数帯の領域ごとに、目標インピーダンスを決定するための目標条件を取得する。
具体的には、目標条件取得部1120は、まず、第1波形データに示される周波数帯を分割する、それぞれ異なる周波数帯を示す複数の周波数帯情報を、入力装置2000を介して取得する。目標条件取得部1120は、次に、複数の周波数帯情報に示される周波数帯ごとに目標条件を取得する。
目標条件取得部1120が取得する目標条件は、それぞれ異なる複数の周波数帯情報と、当該周波数帯情報ごとの、第1波形データのインピーダンス値を基準にした増減の割合または目標インピーダンス値と、の組み合わせにより構成される。
周波数帯情報は、例えば、周波数自体で示される情報、または、周波数帯ごとの領域を識別する領域識別情報、である。周波数帯ごとの領域は、操作者により任意に定められる。
第1波形データのインピーダンス値を基準にした増減の割合は、例えば、第1波形データのインピーダンス値に対する増加率、または、増加率と低減率との組み合わせ(増減率)を用いて示される。
目標インピーダンス値は、例えば、Ωを単位とする数値を用いて示される。
目標条件取得部1120は、周波数帯情報と目標条件とを組み合わせた目標条件情報を出力する。
The target condition acquisition unit 1120 acquires target conditions for determining the target impedance for each different frequency band region.
Specifically, the target condition acquisition unit 1120 first acquires, via the input device 2000, a plurality of frequency band information indicating different frequency bands that divide the frequency band indicated by the first waveform data. The target condition acquisition unit 1120 then acquires a target condition for each frequency band indicated by the plurality of frequency band information.
The target condition acquired by the target condition acquisition unit 1120 is a combination of a plurality of different frequency band information and a target impedance value or a rate of increase or decrease based on the impedance value of the first waveform data for each of the frequency band information. Consists of
The frequency band information is, for example, information indicated by the frequency itself, or area identification information that identifies an area for each frequency band. The region for each frequency band is arbitrarily determined by the operator.
The rate of increase/decrease with respect to the impedance value of the first waveform data is indicated, for example, by using an increase rate with respect to the impedance value of the first waveform data, or a combination of an increase rate and a decrease rate (increase/decrease rate).
The target impedance value is indicated, for example, using a numerical value in units of Ω.
The target condition acquisition unit 1120 outputs target condition information in which the frequency band information and the target condition are combined.

第2波形データ生成部1130は、第1波形データおよび目標条件を用いて決定された周波数ごとの目標インピーダンスを示す第2波形データを生成する。
具体的には、第2波形データ生成部1130は、第1波形データ取得部1110から第1波形データを取得し、目標条件取得部1120から目標条件情報を取得する。
第2波形データ生成部1130は、第1波形データに示される周波数ごとのインピーダンス値、および、目標条件情報に示される周波数帯ごとの目標条件を用いて、周波数ごとの目標インピーダンス値を算出し、第2波形データを生成する。
第2波形データ生成部1130は、例えば、第1波形データのインピーダンス値に対し増加率の分を加算して目標インピーダンス値を算出する。
また、第2波形データ生成部1130は、例えば、第1波形データのインピーダンス値に対し、増加率の分を加算して目標インピーダンス値を算出するとともに、低減率の分を減算して目標インピーダンス値を算出する。この場合、第2波形データは、上限側第2波形データと下限側第2波形データとで目標インピーダンス値の範囲を示す。
また、第2波形データ生成部1130は、例えば、第1波形データのインピーダンス値に対し、増加率の分を加算して上限側目標インピーダンス値を算出するとともに、周波数帯の領域内における第1波形データのインピーダンス値の最大値を下限側目標インピーダンス値に決定する。この場合、第2波形データは、上限第2波形データと下限第2波形データとで目標インピーダンス値の範囲を示す。
Second waveform data generation section 1130 generates second waveform data indicating the target impedance for each frequency determined using the first waveform data and the target condition.
Specifically, second waveform data generating section 1130 acquires first waveform data from first waveform data acquiring section 1110 and acquires target condition information from target condition acquiring section 1120 .
The second waveform data generation unit 1130 calculates a target impedance value for each frequency using the impedance value for each frequency indicated by the first waveform data and the target condition for each frequency band indicated by the target condition information, Generate second waveform data.
The second waveform data generator 1130 calculates the target impedance value by, for example, adding the increase rate to the impedance value of the first waveform data.
Further, the second waveform data generation unit 1130 calculates the target impedance value by adding the increase rate to the impedance value of the first waveform data, and subtracts the decrease rate from the impedance value of the first waveform data to calculate the target impedance value. Calculate In this case, the second waveform data indicates the range of the target impedance value with the upper limit side second waveform data and the lower limit side second waveform data.
Further, the second waveform data generation unit 1130 calculates the upper limit side target impedance value by adding the increase rate to the impedance value of the first waveform data, for example, and calculates the first waveform in the region of the frequency band. The maximum impedance value of the data is determined as the target impedance value on the lower limit side. In this case, the second waveform data indicates the range of the target impedance value with the upper limit second waveform data and the lower limit second waveform data.

図2は、実施の形態1の等価モデル作成装置1000に係る機能の第1の例を説明する図である。
図2は、周波数を横軸にし、インピーダンス値を縦軸にして、第1波形5100、第2波形5300、および、各周波数帯の領域(A領域5210、B1領域5220、B2領域5230、C領域5240)を示している。
第1波形5100を示す第1波形データは、第1波形データ取得部1110により取得される。
FIG. 2 is a diagram for explaining a first example of functions related to the equivalent model creation device 1000 of the first embodiment.
FIG. 2 shows a first waveform 5100, a second waveform 5300, and regions of each frequency band (A region 5210, B1 region 5220, B2 region 5230, C region) with the frequency on the horizontal axis and the impedance value on the vertical axis. 5240).
The first waveform data representing the first waveform 5100 is obtained by the first waveform data obtaining section 1110 .

A領域5210は、インピーダンス値の最大値周辺(複数のピークがある領域)においては集積回路のCHIP(図4に示すモデル回路4000のCHIP部を参照)による影響が大きいと考えられるため、他の領域と区別した周波数帯である。
B1領域5220およびB2領域5230は、PCB(Printed Circuit Board)(図4に示すモデル回路4000のPCB部4100を参照)およびPCBのVIAによる影響が大きいと考えられるため、他の領域と区別した周波数帯である。
C領域5240は、集積回路の電源の抵抗による影響が大きいと考えられるため、他の領域と区別した周波数帯である。
A領域5210、B1領域5220、B2領域5230、および、C領域5240それぞれを示す周波数帯情報は、等価モデル作成装置1000における目標条件取得部1120により取得される。
The A region 5210 is considered to be greatly affected by the CHIP of the integrated circuit (see the CHIP part of the model circuit 4000 shown in FIG. 4) around the maximum value of the impedance value (the region with a plurality of peaks). It is a frequency band distinguished from a region.
The B1 region 5220 and the B2 region 5230 are considered to be greatly affected by the PCB (Printed Circuit Board) (see the PCB section 4100 of the model circuit 4000 shown in FIG. 4) and the VIA of the PCB. Obi.
The C region 5240 is a frequency band distinguished from other regions because it is considered that the resistance of the power supply of the integrated circuit has a large effect.
The frequency band information indicating A region 5210 , B1 region 5220 , B2 region 5230 , and C region 5240 is obtained by target condition obtaining section 1120 in equivalent model creation device 1000 .

また、A領域5210、B1領域5220、B2領域5230、および、C領域5240それぞれについての目標条件は、目標条件取得部1120により取得される。
図2に示す目標条件は、A領域5210の目標条件が第1波形5100におけるインピーダンス値の最大値の「+(a)%」であり、B1領域5220の目標条件が第1波形5100におけるインピーダンス値の「+(b)%」、B2領域5230の目標条件が第1波形5100におけるインピーダンス値の「+(b)%」、C領域5240の目標条件が第1波形5100におけるインピーダンス値の「+(c)%」である。
上記(a)、(b)、(b)、(c)は、第1波形5100のパターンに応じて、適宜設定されればよい。
なお、A領域、B領域(B1領域、B2領域)、C領域は、それぞれがさらに複数に分割されて設定されてもよい。例えば、A領域を分割してA1領域およびA2領域、C領域を分割してC1領域およびC2領域が設定されていてもよい。
Target conditions for each of the A region 5210, B1 region 5220, B2 region 5230, and C region 5240 are acquired by the target condition acquisition unit 1120. FIG.
The target condition shown in FIG. 2 is that the target condition of the A region 5210 is “+(a)%” of the maximum value of the impedance value in the first waveform 5100, and the target condition of the B1 region 5220 is the impedance value in the first waveform 5100. "+(b 1 )%" of the B2 region 5230 is "+(b 2 )%" of the impedance value in the first waveform 5100, and the target condition of the C region 5240 is "+(b 2 )%" of the impedance value in the first waveform 5100. +(c) %”.
The above (a), (b 1 ), (b 2 ), and (c) may be appropriately set according to the pattern of the first waveform 5100 .
The A area, B area (B1 area, B2 area), and C area may each be further divided into a plurality of areas and set. For example, the A region may be divided to set the A1 region and the A2 region, and the C region may be divided to set the C1 region and the C2 region.

図3は、実施の形態1に係る第3波形データ生成部1140の構成例を示す図である。
第3波形データ生成部1140は、LCR部品で構成されるモデル回路における、周波数ごとのインピーダンスを示す第3波形データを生成する。
図3に示す第3波形データ生成部1140は、モデル回路情報取得部1141、および、解析部1143、を含んで構成されている。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration example of the third waveform data generating section 1140 according to Embodiment 1. As shown in FIG.
The third waveform data generating section 1140 generates third waveform data indicating the impedance for each frequency in the model circuit composed of the LCR parts.
The third waveform data generation section 1140 shown in FIG. 3 includes a model circuit information acquisition section 1141 and an analysis section 1143 .

モデル回路情報取得部1141は、LCR部品で構成されるモデル回路を示すモデル回路情報を取得する。
図4は、実施の形態1に係る等価モデル作成装置1000に用いられるモデル回路4000のイメージ図である。
モデル回路4000は、例えば半導体パッケージを実装したプリント配線板からなる集積回路をモデル化した回路であり、 PCB部4100、 PKG部4200、 CHIP部4300、を含んで構成されている。
PCB部4100は、例えば集積回路におけるPCBをLCR部品でモデル化した回路部ものである。図4に示すPCB部4100は、電源4110、電源4110のLCR部品4120、LCR部品4130、LCR部品4140(4140-1,・・・,4140-n)、および、LCR部品4150(4150-1,・・・,4150-n)、を含んで構成されている。
LCR部品4140(4140-1,・・・,4140-n)、および、LCR部品4150(4150-1,・・・,4150-n)は、バイパスコンデンサ(パスコン)を構成している。具体的には、LCR部品4140とLCR部品4150との組み合わせで1つのバイパスコンデンサを構成する。図4では、LCR部品4140-1およびLCR部品4150-1からなるバイパスコンデンサから、LCR部品4140-nおよびLCR部品4150-nからなるバイパスコンデンサまで、n個のバイパスコンデンサを設定している。バイパスコンデンサの数nは、変更可能である。
PKG部4200は、例えば集積回路における半導体パッケージをモデル化した回路部であり、PKG部4200のLCR部品4210を含んで構成されている。
CHIP部4300は、例えば集積回路における半導体チップをモデル化した回路部であり、CHIP部4300のLCR部品4310を含んで構成されている。
各LCR部品のLCR値は、変更可能である。
バイパスコンデンサの数nおよび各LCR部品のLCR値は、等価モデル作成装置1000の外部で設定または調整されてもよいし、後述する実施の形態2の構成により等価モデル作成装置1000の内部で調整されてもよい。
The model circuit information acquisition unit 1141 acquires model circuit information indicating a model circuit composed of LCR parts.
FIG. 4 is an image diagram of a model circuit 4000 used in the equivalent model creation device 1000 according to the first embodiment.
The model circuit 4000 is a circuit modeling an integrated circuit made of a printed wiring board on which a semiconductor package is mounted, for example, and includes a PCB section 4100 , a PKG section 4200 and a CHIP section 4300 .
The PCB section 4100 is, for example, a circuit section in which a PCB in an integrated circuit is modeled with LCR components. PCB portion 4100 shown in FIG. , 4150-n).
LCR components 4140 (4140-1, . . . , 4140-n) and LCR components 4150 (4150-1, . . . , 4150-n) constitute bypass capacitors. Specifically, the combination of LCR component 4140 and LCR component 4150 constitutes one bypass capacitor. In FIG. 4, n decoupling capacitors are set, from the decoupling capacitor consisting of LCR component 4140-1 and LCR component 4150-1 to the decoupling capacitor consisting of LCR component 4140-n and LCR component 4150-n. The number n of bypass capacitors can be changed.
The PKG section 4200 is, for example, a circuit section that models a semiconductor package in an integrated circuit, and includes an LCR component 4210 of the PKG section 4200 .
The CHIP section 4300 is a circuit section that models a semiconductor chip in an integrated circuit, for example, and includes an LCR component 4310 of the CHIP section 4300 .
The LCR value of each LCR component can be changed.
The number n of decoupling capacitors and the LCR value of each LCR component may be set or adjusted outside equivalent model creation device 1000, or adjusted inside equivalent model creation device 1000 according to the configuration of Embodiment 2 described later. may

解析部1143は、モデル回路情報取得部1141から取得したモデル回路情報を用いて、当該モデル回路情報に示されるモデル回路における周波数ごとのインピーダンス値を示す第3波形データを生成する。
具体的には、解析部1143は、モデル回路情報取得部1141からモデル回路情報を取得する。次に、解析部1143は、モデル回路情報に示されるモデル回路を解析して、当該モデル回路情報に示されるモデル回路における周波数ごとのインピーダンス値を示す第3波形データを生成する。解析部1143は、生成した第3波形データを出力する。
The analysis unit 1143 uses the model circuit information acquired from the model circuit information acquisition unit 1141 to generate third waveform data representing the impedance value for each frequency in the model circuit indicated by the model circuit information.
Specifically, the analysis unit 1143 acquires model circuit information from the model circuit information acquisition unit 1141 . Next, the analysis unit 1143 analyzes the model circuit indicated by the model circuit information and generates third waveform data indicating the impedance value for each frequency in the model circuit indicated by the model circuit information. The analysis unit 1143 outputs the generated third waveform data.

また、解析部1143は、モデル回路情報に示されるモデル回路を解析して、モデル回路のLCR部品におけるLCR値を出力する。
具体的には、解析部1143は、LCR値出力部1300においてLCR値出力指令信号が取得されると、モデル回路を解析して、モデル回路のLCR部品におけるLCR値をLCR値出力部1300へ出力する。
Also, the analysis unit 1143 analyzes the model circuit indicated in the model circuit information and outputs the LCR values of the LCR components of the model circuit.
Specifically, when the LCR value output command signal is acquired by the LCR value output unit 1300 , the analysis unit 1143 analyzes the model circuit and outputs the LCR values of the LCR components of the model circuit to the LCR value output unit 1300 . do.

表示データ出力部1200の詳細を説明する。
図5は、実施の形態1に係る表示データ出力部1200の構成例を示す図である。
図5に示す表示データ出力部1200は、第1波形画像生成部1210、第2波形画像生成部1220、第3波形画像生成部1230、重畳画像生成部1240、および、LCR値画像生成部1250、を含んで構成されている。
Details of the display data output unit 1200 will be described.
FIG. 5 is a diagram showing a configuration example of the display data output unit 1200 according to the first embodiment.
The display data output unit 1200 shown in FIG. is composed of

第1波形画像生成部1210は、第1波形データに基づく第1波形を示す表示データを出力する。
具体的には、第1波形画像生成部1210は、波形データ出力部1100の第1波形データ取得部1110から出力された第1波形データを取得する。第1波形画像生成部1210は、第1波形データを用いて第1波形を示す表示データを生成する。第1波形画像生成部1210は、第1波形を示す表示データを表示装置3000へ出力する。
The first waveform image generator 1210 outputs display data representing a first waveform based on the first waveform data.
Specifically, first waveform image generation section 1210 acquires the first waveform data output from first waveform data acquisition section 1110 of waveform data output section 1100 . The first waveform image generator 1210 generates display data representing the first waveform using the first waveform data. First waveform image generator 1210 outputs display data representing the first waveform to display device 3000 .

第2波形画像生成部1220は、第2波形データに基づく第2波形を示す表示データを出力する。
具体的には、第2波形画像生成部1220は、波形データ出力部1100の第2波形データ生成部1130から出力された第2波形データを取得する。第2波形画像生成部1220は、第2波形データを用いて第2波形を示す表示データを生成する。第2波形画像生成部1220は、第2波形を示す表示データを表示装置3000へ出力する。
The second waveform image generator 1220 outputs display data representing a second waveform based on the second waveform data.
Specifically, second waveform image generation section 1220 acquires the second waveform data output from second waveform data generation section 1130 of waveform data output section 1100 . The second waveform image generator 1220 generates display data representing the second waveform using the second waveform data. Second waveform image generator 1220 outputs display data representing the second waveform to display device 3000 .

第3波形画像生成部1230は、第3波形データに基づく第3波形を示す表示データを出力する。
具体的には、第3波形画像生成部1230は、波形データ出力部1100の第3波形データ生成部1140から出力された第3波形データを取得する。第3波形画像生成部1230は、第3波形データを用いて第3波形を示す表示データを生成する。第3波形画像生成部1230は、第3波形を示す表示データを表示装置3000へ出力する。
The third waveform image generator 1230 outputs display data representing a third waveform based on the third waveform data.
Specifically, third waveform image generation section 1230 acquires the third waveform data output from third waveform data generation section 1140 of waveform data output section 1100 . The third waveform image generator 1230 generates display data representing the third waveform using the third waveform data. Third waveform image generator 1230 outputs display data representing the third waveform to display device 3000 .

重畳画像生成部1240は、第1波形データ、第2波形データ、および、第3波形データのうちの少なくとも2つの波形データを用いて、少なくとも2つの波形を重畳した表示画像を生成する。
重畳画像生成部1240は、例えば、第1波形データおよび第2波形データを用いて、当該第1波形データに示される第1波形および当該第2波形データに示される第2波形を重畳した表示画像を出力する。この表示画像は、例えば、第2波形データ生成部1130が第2波形データを生成し、操作者に第1波形データと第2波形データとを比較させて確認させる場合に用いられる。
重畳画像生成部1240は、例えば、第2波形データおよび第3波形データを用いて、当該第2波形データに示される第2波形および当該第3波形データに示される第3波形を重畳した表示画像を出力する。この表示画像は、例えば、第3波形データ生成部1140が第3波形データを生成し、操作者に第2波形データと第3波形データとを比較させて確認させる場合に用いられる。
重畳画像生成部1240は、例えば、第1波形データ、第2波形データ、および、第3波形データを用いて、当該第1波形データに示される第1波形、当該第2波形データに示される第2波形、および、当該第3波形データに示される第3波形を重畳した表示画像を出力する。この表示画像は、例えば、第3波形データ生成部1140が第3波形データを生成し、操作者に第1波形データと第2波形データと第3波形データとを比較させて確認させる場合に用いられる。
The superimposed image generator 1240 uses at least two waveform data out of the first waveform data, the second waveform data, and the third waveform data to generate a display image in which at least two waveforms are superimposed.
The superimposed image generation unit 1240 uses the first waveform data and the second waveform data, for example, to generate a display image in which the first waveform indicated by the first waveform data and the second waveform indicated by the second waveform data are superimposed. to output This display image is used, for example, when the second waveform data generator 1130 generates the second waveform data and the operator compares the first waveform data and the second waveform data to confirm.
The superimposed image generation unit 1240 uses the second waveform data and the third waveform data, for example, to generate a display image in which the second waveform indicated by the second waveform data and the third waveform indicated by the third waveform data are superimposed. to output This display image is used, for example, when the third waveform data generation unit 1140 generates the third waveform data and the operator compares the second waveform data and the third waveform data for confirmation.
Superimposed image generating section 1240, for example, uses the first waveform data, the second waveform data, and the third waveform data to generate the first waveform indicated by the first waveform data and the second waveform indicated by the second waveform data. A display image in which the two waveforms and the third waveform indicated by the third waveform data are superimposed is output. This display image is used, for example, when the third waveform data generator 1140 generates the third waveform data and the operator compares and confirms the first waveform data, the second waveform data, and the third waveform data. be done.

LCR値画像生成部1250は、LCR値出力部1300により出力されたLCR値を用いて、LCR値を示す表示画像を出力する。
具体的には、LCR値画像生成部1250は、LCR値出力部1300からLCR値を取得する。LCR値画像生成部1250は、LCR値を用いてLCR値を示す表示画像を生成する。LCR値画像生成部1250は、LCR値を示す表示画像を表示装置3000へ出力する。
The LCR value image generator 1250 uses the LCR values output by the LCR value output unit 1300 to output a display image showing the LCR values.
Specifically, the LCR value image generator 1250 acquires LCR values from the LCR value output unit 1300 . The LCR value image generator 1250 uses the LCR values to generate a display image showing the LCR values. LCR value image generator 1250 outputs a display image showing the LCR values to display device 3000 .

図1に示す入力装置2000は、操作者が操作することにより、等価モデル作成装置1000において用いる情報を入力または選択できる装置である。具体的には、入力装置2000は、マウス、キーボード、タッチパネルなどである。
また、入力装置2000は、操作者が操作することにより、図示しない記憶装置から等価モデル作成装置1000に情報を取得させるものであってもよい。
本開示における入力装置2000は、実測値に基づく、周波数ごとのインピーダンスを示す第1波形データ、それぞれ異なる周波数帯ごとの目標条件、モデル回路情報、および、LCR値を出力する指令、などを受け付け、等価モデル作成装置1000に出力する。
An input device 2000 shown in FIG. 1 is a device that allows an operator to input or select information to be used in the equivalent model creation device 1000 by operating it. Specifically, the input device 2000 is a mouse, keyboard, touch panel, or the like.
The input device 2000 may be operated by an operator to cause the equivalent model creation device 1000 to acquire information from a storage device (not shown).
The input device 2000 in the present disclosure accepts first waveform data indicating impedance for each frequency based on actual measurement values, target conditions for each different frequency band, model circuit information, and a command to output an LCR value, etc. Output to the equivalent model creation device 1000 .

図1に示す表示装置3000は、等価モデル作成装置1000から出力される表示データを用いて表示する装置である。具体的には、表示装置3000は、ディスプレイ、モニタなどである。
本開示における表示装置3000は、等価モデル作成装置1000から、各波形データに基づく波形を示す表示データ、および、LCR値を示す表示データを受け付け、それぞれを表示する。
A display device 3000 shown in FIG. 1 is a device that displays using display data output from the equivalent model creation device 1000 . Specifically, the display device 3000 is a display, a monitor, or the like.
The display device 3000 according to the present disclosure receives display data representing waveforms based on each waveform data and display data representing LCR values from the equivalent model creation device 1000, and displays them.

図1に示す入力装置2000および表示装置3000は、それぞれ別の装置で示しているが、一体化した入出力装置であってもよい。具体的には、例えばタッチパネル付きディスプレイである。 Although the input device 2000 and the display device 3000 shown in FIG. 1 are shown as separate devices, they may be an integrated input/output device. Specifically, it is a display with a touch panel, for example.

図6は、実施の形態1に係る等価モデル作成装置1000の処理の例を示すフローチャートである。
等価モデル作成装置1000は、処理を開始すると、まず、ステップST1000において、等価モデル作成装置1000は、第1波形データを取得する。
具体的には、等価モデル作成装置1000における表示データ出力部1200は、例えば、表示装置3000へ第1波形データの入力を促す表示データを出力する。表示装置3000による表示に対応して操作者が入力装置2000を操作すると、第1波形データ取得部1110は、入力装置2000から第1波形データを受け付け、第1波形データを表示データ出力部1200へ出力する。表示データ出力部1200は、第1波形データを受け付けると、表示データ出力部1200における第1波形画像生成部1210が第1波形データを用いて第1波形画像を生成する。表示データ出力部1200は、生成された第1波形画像を表示装置3000へ出力する。
FIG. 6 is a flow chart showing an example of processing of the equivalent model creation device 1000 according to the first embodiment.
When equivalent model creation device 1000 starts processing, first, equivalent model creation device 1000 acquires first waveform data in step ST1000.
Specifically, the display data output unit 1200 in the equivalent model generation device 1000 outputs display data prompting the display device 3000 to input the first waveform data, for example. When the operator operates the input device 2000 in response to the display by the display device 3000 , the first waveform data acquisition section 1110 receives the first waveform data from the input device 2000 and outputs the first waveform data to the display data output section 1200 . Output. When display data output section 1200 receives the first waveform data, first waveform image generation section 1210 in display data output section 1200 generates a first waveform image using the first waveform data. Display data output section 1200 outputs the generated first waveform image to display device 3000 .

等価モデル作成装置1000は、次に、周波数帯域ごとの目標条件を取得する(ステップST1010)。
具体的には、等価モデル作成装置1000における表示データ出力部1200は、例えば、表示装置3000へ目標条件の入力を促す表示データを出力する。表示装置3000による表示に対応して操作者が入力装置2000を操作すると、目標条件取得部1120は、第1波形データに示される周波数帯を分割するための、それぞれ異なる周波数帯を示す複数の周波数帯情報を、入力装置2000を介して取得する。次に、表示データ出力部1200は、例えば、周波数帯情報に示される周波数帯の領域ごとに目標条件の入力を促す表示データを表示装置3000へ出力する。表示装置3000による表示に対応して操作者が入力装置2000を操作すると、目標条件取得部1120は、複数の周波数帯情報に示される周波数帯ごとに目標条件を取得する。目標条件取得部1120は、周波数帯ごとに、周波数帯情報と目標条件とを組み合わせた目標条件情報を、第2波形データ生成部1130へ出力する。
Equivalent model generating apparatus 1000 then acquires a target condition for each frequency band (step ST1010).
Specifically, the display data output unit 1200 in the equivalent model creation device 1000 outputs display data prompting the input of the target condition to the display device 3000, for example. When the operator operates the input device 2000 in response to the display by the display device 3000, the target condition acquisition unit 1120 obtains a plurality of frequencies representing different frequency bands for dividing the frequency band represented by the first waveform data. Band information is acquired via the input device 2000 . Next, the display data output unit 1200 outputs to the display device 3000, for example, display data prompting input of target conditions for each frequency band region indicated by the frequency band information. When the operator operates the input device 2000 in response to the display by the display device 3000, the target condition acquisition unit 1120 acquires target conditions for each frequency band indicated by the plurality of frequency band information. Target condition acquisition section 1120 outputs target condition information, which is a combination of frequency band information and target conditions, to second waveform data generation section 1130 for each frequency band.

等価モデル作成装置1000は、次に、第2波形データを取得する(ステップST1020)。
具体的には、第2波形データ生成部1130は、第1波形データ取得部1110から第1波形データを取得し、目標条件取得部1120から目標条件情報を取得する。第2波形データ生成部1130は、第1波形データに示される周波数ごとのインピーダンス値、および、目標条件情報に示される周波数帯ごとの目標条件を用いて、周波数ごとの目標インピーダンス値を算出し、第2波形データを生成する。
Equivalent model generating apparatus 1000 then acquires second waveform data (step ST1020).
Specifically, second waveform data generating section 1130 acquires first waveform data from first waveform data acquiring section 1110 and acquires target condition information from target condition acquiring section 1120 . The second waveform data generation unit 1130 calculates a target impedance value for each frequency using the impedance value for each frequency indicated by the first waveform data and the target condition for each frequency band indicated by the target condition information, Generate second waveform data.

等価モデル作成装置1000は、次に、第2波形データを出力する(ステップST1030)。
具体的には、等価モデル作成装置1000における第2波形データ生成部1130は、生成した第2波形データを、表示データ出力部1200へ出力する。表示データ出力部1200は、第2波形データを受け付けると、表示データ出力部1200における第2波形画像生成部1220が第2波形データを用いて第2波形画像を生成する。表示データ出力部1200は、生成された第2波形画像を表示装置3000へ出力する。
Equivalent model generating apparatus 1000 then outputs the second waveform data (step ST1030).
Specifically, second waveform data generation section 1130 in equivalent model generation device 1000 outputs the generated second waveform data to display data output section 1200 . When display data output section 1200 receives the second waveform data, second waveform image generation section 1220 in display data output section 1200 generates a second waveform image using the second waveform data. Display data output section 1200 outputs the generated second waveform image to display device 3000 .

等価モデル作成装置1000は、処理を開始すると、上記ステップST1000からステップST1030までのフローと並行して、ステップST1040からステップST1070までの処理を実行する。
等価モデル作成装置1000は、ステップST1040において、モデル回路情報を取得する。
具体的には、等価モデル作成装置1000における表示データ出力部1200は、例えば、表示装置3000へモデル回路情報の入力を促す表示データを出力する。表示装置3000による表示に対応して操作者が入力装置2000を操作すると、等価モデル作成装置1000の第3波形データ生成部1140におけるモデル回路情報取得部1141は、LCR部品で構成されるモデル回路を示すモデル回路情報を取得する。モデル回路情報取得部1141は、モデル回路情報を、解析部1143へ出力する。
Equivalent model generating apparatus 1000, upon starting the processing, executes the processing from step ST1040 to step ST1070 in parallel with the flow from step ST1000 to step ST1030.
Equivalent model generating apparatus 1000 acquires model circuit information in step ST1040.
Specifically, the display data output unit 1200 in the equivalent model generation device 1000 outputs display data prompting the input of model circuit information to the display device 3000, for example. When the operator operates the input device 2000 in response to the display by the display device 3000, the model circuit information acquisition unit 1141 in the third waveform data generation unit 1140 of the equivalent model generation device 1000 generates a model circuit composed of LCR parts. Get the model circuit information shown. The model circuit information acquisition unit 1141 outputs model circuit information to the analysis unit 1143 .

等価モデル作成装置1000は、次に、モデル回路を解析する(ステップST1050)。
具体的には、等価モデル作成装置1000の第3波形データ生成部1140における解析部1143は、モデル回路情報取得部1141から出力されたモデル回路情報を取得する。解析部1143は、モデル回路情報に示されるモデル回路の構成を解析する。
Equivalent model generating apparatus 1000 then analyzes the model circuit (step ST1050).
Specifically, the analysis unit 1143 in the third waveform data generation unit 1140 of the equivalent model generation device 1000 acquires the model circuit information output from the model circuit information acquisition unit 1141 . The analysis unit 1143 analyzes the configuration of the model circuit indicated in the model circuit information.

等価モデル作成装置1000は、第3波形データを生成する(ステップST1060)。
具体的には、解析部1143は、解析結果として、当該モデル回路情報に示されるモデル回路における周波数ごとのインピーダンス値を示す第3波形データを生成する。
Equivalent model generating apparatus 1000 generates third waveform data (step ST1060).
Specifically, the analysis unit 1143 generates, as an analysis result, third waveform data indicating impedance values for each frequency in the model circuit indicated in the model circuit information.

等価モデル作成装置1000は、第3波形データを出力する(ステップST1070)。
具体的には、解析部1143は、第3波形データを表示データ出力部1200へ出力する。表示データ出力部1200の第3波形画像生成部1230は、波形データ出力部1100の第3波形データ生成部1140から出力された第3波形データを取得する。第3波形画像生成部1230は、第3波形データを用いて第3波形を示す表示データを生成する。第3波形画像生成部1230は、第3波形を示す表示データを表示装置3000へ出力する。
Equivalent model generating apparatus 1000 outputs the third waveform data (step ST1070).
Specifically, analysis section 1143 outputs the third waveform data to display data output section 1200 . Third waveform image generation section 1230 of display data output section 1200 acquires the third waveform data output from third waveform data generation section 1140 of waveform data output section 1100 . The third waveform image generator 1230 generates display data representing the third waveform using the third waveform data. Third waveform image generator 1230 outputs display data representing the third waveform to display device 3000 .

なお、等価モデル作成装置1000は、ステップST1030の処理、および、ステップST1070の処理を実行した後、第1波形画像、第2波形画像、および、第3波形画像のうちの2つ以上の画像を重畳した画像を表示装置3000へ出力してもよい。
この場合、具体的には、等価モデル作成装置1000の表示データ出力部1200における重畳画像生成部1240が、第1波形画像、第2波形画像、および、第3波形画像のうちの2つ以上の画像を重畳した画像を生成する。
After executing the process of step ST1030 and the process of step ST1070, equivalent model generating apparatus 1000 generates two or more images out of the first waveform image, the second waveform image, and the third waveform image. A superimposed image may be output to the display device 3000 .
In this case, specifically, the superimposed image generation unit 1240 in the display data output unit 1200 of the equivalent model generation device 1000 generates two or more of the first waveform image, the second waveform image, and the third waveform image. Generates an image in which images are superimposed.

等価モデル作成装置1000は、ステップST1030の処理、および、ステップST1070の処理を実行すると、ステップST1080の処理へ移行する。 Equivalent model generating apparatus 1000 proceeds to the process of step ST1080 after executing the process of step ST1030 and the process of step ST1070.

ステップST1080において、等価モデル作成装置1000は、「LCR値出力指令あり」であるかを判定する。
具体的には、等価モデル作成装置1000における表示データ出力部1200は、例えば、LCR値出力指令を実行させるボタンの画像を示す表示データを、表示装置3000へ出力する。表示装置3000によるボタンの画像の表示に対して操作者が入力装置2000を操作すると、LCR値出力部1300は、LCR値出力指令信号を受け付けて「LCR値出力指令あり」と判定する。LCR値出力部1300は、所定の一定時間の間に操作がない場合、「LCR値出力指令あり」ではないと判定する。
In step ST1080, equivalent model creation device 1000 determines whether "there is an LCR value output command".
Specifically, the display data output unit 1200 in the equivalent model creation device 1000 outputs to the display device 3000, for example, display data representing an image of a button for executing an LCR value output command. When the operator operates the input device 2000 while the button image is displayed on the display device 3000, the LCR value output unit 1300 receives the LCR value output command signal and determines that "there is an LCR value output command". The LCR value output unit 1300 determines that there is no "LCR value output command" when there is no operation for a predetermined constant time.

等価モデル作成装置1000は、「LCR値出力指令あり」と判定した場合(ステップST1080“YES”)、LCR値を出力する(ステップST1090)。
具体的には、等価モデル作成装置1000におけるLCR値出力部1300は、LCR値出力指令信号を受け付けると、「LCR値出力指令あり」と判定し、第3波形データ生成部1140の解析部1143からモデル回路のLCR部品における各LCR値を取得し、各LCR値を表示データ出力部1200へ出力する。
なお、等価モデル作成装置1000は、第3波形データ生成部1140の解析部1143からLCR値を出力するとともに、モデル回路を示すモデル回路情報を出力してもよい。
When equivalent model generating apparatus 1000 determines that "there is an LCR value output command" (step ST1080 "YES"), it outputs the LCR value (step ST1090).
Specifically, when the LCR value output unit 1300 in the equivalent model creation device 1000 receives the LCR value output command signal, it determines that “there is an LCR value output command”, and from the analysis unit 1143 of the third waveform data generation unit 1140 Each LCR value in the LCR component of the model circuit is acquired, and each LCR value is output to the display data output unit 1200 .
Note that the equivalent model generating apparatus 1000 may output the LCR value from the analysis section 1143 of the third waveform data generation section 1140 and output model circuit information indicating the model circuit.

等価モデル作成装置1000は、「LCR値出力指令あり」ではないと判定した場合(ステップST1080“NO”)、または、ステップST1090を実行した後、処理を終了するかを判定する(ステップST1100)。 If equivalent model generating apparatus 1000 determines that there is no "LCR value output command" (step ST1080 "NO"), or determines whether to end the process after executing step ST1090 (step ST1100).

等価モデル作成装置1000は、処理を終了しないと判定した場合(ステップST1100“NO”)、ステップST1040の処理へ移行し、例えば新たなモデル回路情報を取得するまで待機する。 When equivalent model generating apparatus 1000 determines not to end the process ("NO" in step ST1100), it proceeds to the process of step ST1040 and waits until new model circuit information is acquired, for example.

等価モデル作成装置1000は、処理を終了すると判定した場合(ステップST1100“YES”)、処理を終了する。 When equivalent model generating apparatus 1000 determines to end the process (step ST1100 "YES"), it ends the process.

ここで、等価モデル作成装置1000に係る機能の第2の例を説明する。
図7は、実施の形態1の等価モデル作成装置1000に係る機能の第2の例を説明する図である。
第2の例は、第2波形データが上限側第2波形データと下限側第2波形データとで目標インピーダンス値の範囲を示す例である。
図7は、周波数を横軸にし、インピーダンス値を縦軸にして、第1波形6100、上限側第2波形6310、下限側第2波形6320、第3波形6400、および、各周波数帯の領域(A1領域6210、B1領域6220、B2領域6230、C1領域6240、C2領域6250)を示している。
図8は、図7の各領域における波形の拡大図である。
第1波形6100を示す第1波形データは、例えば実測値に基づくインピーダンス特性を示し、第1波形データ取得部1110により取得される。
上限側第2波形6310を示す上限側第2波形データは、目標とするべきインピーダンス特性の範囲の上限側の目標インピーダンス特性を示し、第2波形データ生成部1130により生成される。
下限側第2波形6320を示す下限側第2波形データは、目標とするべきインピーダンス特性の範囲の下限側の目標インピーダンス特性を示し、第2波形データ生成部1130により生成される。
第3波形6400を示す第3波形データは、モデル回路のインピーダンス特性を示し、第3波形データ生成部1140により生成される。
Here, a second example of functions related to the equivalent model creation device 1000 will be described.
FIG. 7 is a diagram for explaining a second example of functions related to the equivalent model creation device 1000 of the first embodiment.
A second example is an example in which the second waveform data indicates the range of the target impedance value with the upper limit side second waveform data and the lower limit side second waveform data.
FIG. 7 shows a first waveform 6100, an upper limit side second waveform 6310, a lower limit side second waveform 6320, a third waveform 6400, and regions of each frequency band ( A1 area 6210, B1 area 6220, B2 area 6230, C1 area 6240, C2 area 6250).
FIG. 8 is an enlarged view of waveforms in each region of FIG.
The first waveform data representing the first waveform 6100 represents, for example, impedance characteristics based on actual measurements, and is acquired by the first waveform data acquiring section 1110 .
The upper limit side second waveform data indicating the upper limit side second waveform 6310 indicates the target impedance characteristic on the upper limit side of the range of impedance characteristics to be targeted, and is generated by the second waveform data generating section 1130 .
The lower limit side second waveform data indicating the lower limit side second waveform 6320 indicates the target impedance characteristic on the lower limit side of the target impedance characteristic range, and is generated by the second waveform data generating section 1130 .
The third waveform data representing the third waveform 6400 represents the impedance characteristics of the model circuit, and is generated by the third waveform data generator 1140. FIG.

A1領域6210は、インピーダンス値の最大値周辺(複数のピークがある領域)においては集積回路のCHIP(図4に示すモデル回路のCHIP部を参照)による影響が大きいと考えられるため、他の領域と区別した周波数帯である。
図7および図8においてA1領域6210は、54MHzから130MHzまでの周波数帯の領域である。
The A1 region 6210 is considered to be greatly affected by the CHIP of the integrated circuit (see the CHIP part of the model circuit shown in FIG. 4) around the maximum value of the impedance value (the region with multiple peaks). It is a frequency band distinguished from
A1 area 6210 in FIGS. 7 and 8 is a frequency band area from 54 MHz to 130 MHz.

B1領域6220およびB2領域6230は、PCB基板(図4に示すモデル回路のPCB部4100を参照)およびPCB基板のVIAによる影響が大きいと考えられるため、他の領域と区別した周波数帯である。
図7および図8においてB1領域6220は、10MHzから54MHzまでの周波数帯の領域である。
図7および図8においてB2領域6230は、130MHzから1GHzまでの周波数帯の領域である。
The B1 region 6220 and the B2 region 6230 are frequency bands distinguished from other regions because they are considered to be greatly affected by the PCB board (see the PCB portion 4100 of the model circuit shown in FIG. 4) and the VIA of the PCB board.
The B1 region 6220 in FIGS. 7 and 8 is a frequency band region from 10 MHz to 54 MHz.
A B2 region 6230 in FIGS. 7 and 8 is a frequency band region from 130 MHz to 1 GHz.

C1領域6240およびC2領域6250は、集積回路の電源の抵抗による影響が大きいと考えられるため、他の領域と区別した周波数帯である。
図7および図8においてC1領域6240は、1kHzから100kHzまでの周波数帯の領域である。
図7および図8においてC2領域6250は、100kHzから10MHzまでの周波数帯の領域である。
The C1 region 6240 and the C2 region 6250 are frequency bands distinguished from other regions because they are considered to be greatly affected by the resistance of the power supply of the integrated circuit.
A C1 region 6240 in FIGS. 7 and 8 is a frequency band region from 1 kHz to 100 kHz.
A C2 region 6250 in FIGS. 7 and 8 is a frequency band region from 100 kHz to 10 MHz.

A1領域6210、B1領域6220、B2領域6230、C1領域6240、および、C2領域6250それぞれを示す周波数帯情報は、等価モデル作成装置1000における目標条件取得部1120により取得される。 The frequency band information indicating each of A1 area 6210, B1 area 6220, B2 area 6230, C1 area 6240, and C2 area 6250 is acquired by target condition acquiring section 1120 in equivalent model creating apparatus 1000. FIG.

また、A1領域6210、B1領域6220、B2領域6230、C1領域6240、および、C2領域6250それぞれについての目標条件は、目標条件取得部1120により取得される。
図7および図8に示すA1領域6210の目標条件は、上限側の目標条件が、第1波形6100におけるインピーダンス値の最大値の「+(a)%」であり、下限側の目標条件が、第1波形6100におけるインピーダンス値の最大値と同じ(増減率「0%」)である。
図7および図8に示すB1領域6220の目標条件は、上限側の目標条件が、第1波形6100におけるインピーダンス値の「+(b)%」であり、下限側の目標条件が、第1波形6100におけるインピーダンス値の「-(b)%」である。
なお、説明においては、上限側の目標条件と下限側の目標条件とは同じ(b)であるが、それぞれを異なる値に設定してもよい。
図7および図8に示すB2領域6230の目標条件は、上限側の目標条件が、第1波形6100におけるインピーダンス値の「+(b)%」であり、下限側の目標条件が、第1波形6100におけるインピーダンス値の「-(b)%」である。
なお、説明においては、上限側の目標条件と下限側の目標条件とは同じ(b)であるが、それぞれを異なる値に設定してもよい。
図7および図8に示すC1領域6240の目標条件は、上限側の目標条件が、第1波形6100におけるインピーダンス値の「+(c)%」であり、下限側の目標条件が、第1波形6100におけるインピーダンス値の「-(c)%」である。
なお、説明においては、上限側の目標条件と下限側の目標条件とは同じ(c)であるが、それぞれを異なる値に設定してもよい。
図7および図8に示すC2領域6250の目標条件は、上限側の目標条件が、インピーダンス値「50mΩ」であり、下限側の目標条件が、インピーダンス値「0Ω」である。
なお、上記(a)、(b)、(b)、(c)は、第1波形6100のパターンに応じて、適宜設定されればよい。
Goal conditions for each of the A1 area 6210, B1 area 6220, B2 area 6230, C1 area 6240, and C2 area 6250 are acquired by the target condition acquisition unit 1120. FIG.
7 and 8, the upper limit side target condition is "+(a 1 )%" of the maximum value of the impedance value in the first waveform 6100, and the lower limit side target condition is , is the same as the maximum value of the impedance value in the first waveform 6100 (increase rate “0%”).
7 and FIG. 8, the upper limit side target condition is "+(b 1 )%" of the impedance value in the first waveform 6100, and the lower limit side target condition is the first is "-(b 1 )%" of the impedance value in waveform 6100;
In the description, the target condition on the upper limit side and the target condition on the lower limit side are the same (b 1 ), but they may be set to different values.
7 and 8 , the target condition of the B2 region 6230 shown in FIG. 7 and FIG. is "-(b 2 )%" of the impedance value in waveform 6100;
In the description, the target condition on the upper limit side and the target condition on the lower limit side are the same (b 2 ), but they may be set to different values.
7 and 8, the upper limit side target condition is "+(c 1 )%" of the impedance value in the first waveform 6100, and the lower limit side target condition is the first is "-(c 1 )%" of the impedance value in waveform 6100;
In the description, the target condition on the upper limit side and the target condition on the lower limit side are the same (c 1 ), but they may be set to different values.
The target conditions of the C2 area 6250 shown in FIGS. 7 and 8 are an impedance value of "50 mΩ" on the upper limit side and an impedance value of "0 Ω" on the lower limit side.
Note that (a 1 ), (b 1 ), (b 2 ), and (c 1 ) may be appropriately set according to the pattern of the first waveform 6100 .

上述してきた開示内容により、実測値に基づくインピーダンス特性の波形が仮に複雑であっても、波形に応じて分割した周波数帯の領域ごとに波形を簡略化した目標インピーダンスを表示することができる。また、領域に応じて対応するLCR部品におけるLCR値を変更することが容易になり、等価モデル回路を生成する際の作業負荷を低減させることができるようになる。 According to the disclosure described above, even if the waveform of the impedance characteristic based on the measured value is complicated, it is possible to display the target impedance in which the waveform is simplified for each frequency band divided according to the waveform. In addition, it becomes easy to change the LCR value of the corresponding LCR component according to the region, and the workload for generating the equivalent model circuit can be reduced.

本開示に係る等価モデル作成装置は、周波数ごとのインピーダンスを示す第1波形データを取得する第1波形データ取得部と、前記第1波形データに基づく第1波形を示す表示データを出力する表示データ出力部と、それぞれ異なる周波数帯の領域ごとに、目標インピーダンスを決定するための目標条件を取得する目標条件取得部と、前記第1波形データおよび前記目標条件を用いて決定された周波数ごとの目標インピーダンスを示す第2波形データを生成する第2波形データ生成部と、LCR部品で構成されるモデル回路における、周波数ごとのインピーダンスを示す第3波形データを生成する第3波形データ生成部と、を備え、前記表示データ出力部は、さらに、前記第2波形データに基づく第2波形を示す表示データおよび前記第3波形データに基づく第3波形を示す表示データを出力する、ように構成した。
これにより、等価モデル回路を生成する際の作業負荷を低減させることができる、という効果を奏する。
An equivalent model creation device according to the present disclosure includes a first waveform data acquisition unit that acquires first waveform data representing impedance for each frequency, and display data that outputs display data representing a first waveform based on the first waveform data. an output unit, a target condition acquisition unit for acquiring target conditions for determining target impedance for each different frequency band region, and a target for each frequency determined using the first waveform data and the target condition. a second waveform data generation unit that generates second waveform data representing impedance; and a third waveform data generation unit that generates third waveform data representing impedance for each frequency in a model circuit composed of LCR parts. Further, the display data output unit is configured to output display data representing a second waveform based on the second waveform data and display data representing a third waveform based on the third waveform data.
As a result, it is possible to reduce the workload when generating the equivalent model circuit.

本開示に係る等価モデル作成支援方法は、第1波形データ取得部が、周波数ごとのインピーダンスを示す第1波形データを取得する第1波形データ取得ステップと、表示データ出力部が、前記第1波形データに基づく第1波形を示す表示データを出力する表示データ出力ステップと、目標条件取得部が、それぞれ異なる周波数帯の領域ごとに、目標インピーダンスを決定するための目標条件を取得する目標条件取得ステップと、第2波形データ生成部が、前記第1波形データおよび前記目標条件を用いて決定された周波数ごとの目標インピーダンスを示す第2波形データを生成する第2波形データ生成ステップと、第3波形データ生成部が、LCR部品で構成されるモデル回路における、周波数ごとのインピーダンスを示す第3波形データを生成する第3波形データ生成ステップと、を備え、前記表示データ出力ステップは、さらに、前記第2波形データに基づく第2波形を示す表示データおよび前記第3波形データに基づく第3波形を示す表示データを出力する、ように構成した。
これにより、等価モデル回路を生成する際の作業負荷を低減させることができる、という効果を奏する。
An equivalent model creation support method according to the present disclosure includes a first waveform data acquisition step in which a first waveform data acquisition unit acquires first waveform data indicating impedance for each frequency, and a display data output unit acquires the first waveform A display data output step of outputting display data representing a first waveform based on data; and a target condition acquisition step of acquiring a target condition for determining a target impedance for each different frequency band region by the target condition acquisition unit. a second waveform data generation step of generating second waveform data indicating a target impedance for each frequency determined using the first waveform data and the target condition; and a third waveform a third waveform data generation step in which the data generation unit generates third waveform data indicating impedance for each frequency in a model circuit configured with LCR parts, and the display data output step further includes: Display data representing a second waveform based on two waveform data and display data representing a third waveform based on the third waveform data are output.
As a result, it is possible to reduce the workload when generating the equivalent model circuit.

本開示に係る等価モデル作成支援プログラムは、コンピュータを、周波数ごとのインピーダンスを示す第1波形データを取得する第1波形データ取得部と、前記第1波形データに基づく第1波形を示す表示データを出力する表示データ出力部と、それぞれ異なる周波数帯の領域ごとに、目標インピーダンスを決定するための目標条件を取得する目標条件取得部と、前記第1波形データおよび前記目標条件を用いて決定された周波数ごとの目標インピーダンスを示す第2波形データを生成する第2波形データ生成部と、LCR部品で構成されるモデル回路における、周波数ごとのインピーダンスを示す第3波形データを生成する第3波形データ生成部と、を備え、前記表示データ出力部は、さらに、前記第2波形データに基づく第2波形を示す表示データおよび前記第3波形データに基づく第3波形を示す表示データを出力する、等価モデル作成装置、として動作させる、ように構成した。
これにより、等価モデル回路を生成する際の作業負荷を低減させることができる、という効果を奏する。
An equivalent model creation support program according to the present disclosure comprises: a computer; a display data output unit for outputting; a target condition acquisition unit for acquiring target conditions for determining target impedance for each different frequency band region; A second waveform data generator for generating second waveform data indicating target impedance for each frequency; and a third waveform data generator for generating third waveform data indicating impedance for each frequency in a model circuit composed of LCR parts. and the display data output unit further outputs display data representing a second waveform based on the second waveform data and display data representing a third waveform based on the third waveform data. It was configured to operate as a creation device.
As a result, it is possible to reduce the workload when generating the equivalent model circuit.

本開示の等価モデル作成装置において、前記目標条件取得部が取得する目標条件は、それぞれ異なる複数の周波数帯情報と、当該周波数帯情報ごとの、前記第1波形データのインピーダンス値を基準にした増減の割合または目標インピーダンス値と、の組み合わせにより構成される、ように構成した。
これにより、周波数帯の領域ごとにより適当な目標条件を設定できるようになり、等価モデル回路を生成する際の作業負荷をより低減させることができる、という効果を奏する。
また、上記構成を、等価モデル作成支援方法または等価モデル作成プログラムに適用することにより、等価モデル作成支援方法または等価モデル作成支援プログラムは、上記効果と同様の効果を奏する。
In the equivalent model creation device of the present disclosure, the target condition acquired by the target condition acquisition unit includes a plurality of different frequency band information and an increase or decrease based on the impedance value of the first waveform data for each of the frequency band information. or a target impedance value.
As a result, it becomes possible to set more suitable target conditions for each frequency band region, and it is possible to further reduce the workload when generating the equivalent model circuit.
Further, by applying the above configuration to the equivalent model creation support method or the equivalent model creation support program, the equivalent model creation support method or the equivalent model creation support program has the same effects as those described above.

本開示の等価モデル作成装置において、前記表示データ出力部は、前記第2波形データおよび前記第3波形データを用いて、当該第2波形データに示される第2波形および当該第3波形データに示される第3波形を重畳した表示画像を出力する、ように構成した。
これにより、目標インピーダンス特性とモデル回路のインピーダンス特性とが比較しやすくなり、等価モデル回路を生成する際の作業負荷をより低減させることができる、という効果を奏する。
また、上記構成を、等価モデル作成支援方法または等価モデル作成プログラムに適用することにより、等価モデル作成支援方法または等価モデル作成支援プログラムは、上記効果と同様の効果を奏する。
In the equivalent model creation device of the present disclosure, the display data output unit uses the second waveform data and the third waveform data to generate the second waveform and the third waveform data shown in the second waveform data. It is configured to output a display image on which the third waveform is superimposed.
As a result, it becomes easier to compare the target impedance characteristic and the impedance characteristic of the model circuit, and it is possible to further reduce the workload when generating the equivalent model circuit.
Further, by applying the above configuration to the equivalent model creation support method or the equivalent model creation support program, the equivalent model creation support method or the equivalent model creation support program has the same effects as those described above.

本開示の等価モデル作成装置において、前記表示データ出力部は、前記第1波形データ、前記第2波形データ、および、前記第3波形データを用いて、当該第1波形データに示される第1波形、当該第2波形データに示される第2波形、および、当該第3波形データに示される第3波形を重畳した表示画像を出力する、ように構成した。
これにより、実測値に基づくインピーダンス特性と目標インピーダンス特性とモデル回路のインピーダンス特性とが比較しやすくなり、等価モデル回路を生成する際の作業負荷をより低減させることができる、という効果を奏する。
また、上記構成を、等価モデル作成支援方法または等価モデル作成プログラムに適用することにより、等価モデル作成支援方法または等価モデル作成支援プログラムは、上記効果と同様の効果を奏する。
In the equivalent model creation device of the present disclosure, the display data output unit uses the first waveform data, the second waveform data, and the third waveform data to generate the first waveform shown in the first waveform data , and outputs a display image in which the second waveform indicated by the second waveform data and the third waveform indicated by the third waveform data are superimposed.
As a result, it becomes easier to compare the impedance characteristics based on the measured values, the target impedance characteristics, and the impedance characteristics of the model circuit.
Further, by applying the above configuration to the equivalent model creation support method or the equivalent model creation support program, the equivalent model creation support method or the equivalent model creation support program has the same effects as those described above.

本開示の等価モデル作成装置において、外部から取得した指令信号に応じて、前記第3波形データ生成部により用いられたモデル回路におけるLCR値を出力するLCR値出力部、をさらに備えるように構成した。
これにより、モデル回路の調整後の等価モデル回路のLCR値を取得が容易になり、等価モデル回路を生成する際の作業負荷をより低減させることができる、という効果を奏する。
また、上記構成を、等価モデル作成支援方法または等価モデル作成プログラムに適用することにより、等価モデル作成支援方法または等価モデル作成支援プログラムは、上記効果と同様の効果を奏する。
The equivalent model creation device of the present disclosure further includes an LCR value output unit that outputs an LCR value in the model circuit used by the third waveform data generation unit according to an externally acquired command signal. .
As a result, it becomes easier to obtain the LCR value of the equivalent model circuit after adjustment of the model circuit.
Further, by applying the above configuration to the equivalent model creation support method or the equivalent model creation support program, the equivalent model creation support method or the equivalent model creation support program has the same effects as those described above.

実施の形態2.
実施の形態2は、等価モデル作成装置において、モデル回路におけるLCR部品の調整を可能にした構成を含む形態である。
実施の形態2の説明においては、実施の形態1において説明した構成についての説明を、適宜省略する場合がある。
Embodiment 2.
Embodiment 2 is a mode including a configuration that enables adjustment of LCR components in a model circuit in an equivalent model creation device.
In the description of the second embodiment, the description of the configuration described in the first embodiment may be omitted as appropriate.

図9は、実施の形態2に係る等価モデル作成装置1000Aの構成例および周辺装置を示す図である。
図9に示す等価モデル作成装置1000Aは、図1に示す等価モデル作成装置1000の構成とは異なる構成である。
入力装置2000および表示装置3000は、図1と同様であるため、その説明を省略する。
FIG. 9 is a diagram showing a configuration example and peripheral devices of an equivalent model creating apparatus 1000A according to Embodiment 2. As shown in FIG.
Equivalent model generating apparatus 1000A shown in FIG. 9 has a configuration different from that of equivalent model generating apparatus 1000 shown in FIG.
Since the input device 2000 and the display device 3000 are the same as those in FIG. 1, their description is omitted.

等価モデル作成装置1000Aの内部構成を説明する。
図9に示す等価モデル作成装置1000Aは、波形データ出力部1100A、表示データ出力部1200、および、LCR値出力部1300、を含んで構成されている。
The internal configuration of the equivalent model creation device 1000A will be described.
Equivalent model creation apparatus 1000A shown in FIG. 9 includes waveform data output section 1100A, display data output section 1200, and LCR value output section 1300.

波形データ出力部1100Aは、第1波形データ取得部1110、目標条件取得部1120、第2波形データ生成部1130、および、第3波形データ生成部1140A、を含んで構成されている。 Waveform data output section 1100A includes first waveform data acquisition section 1110, target condition acquisition section 1120, second waveform data generation section 1130, and third waveform data generation section 1140A.

図10は、実施の形態2に係る第3波形データ生成部1140Aの構成例を示す図である。
第3波形データ生成部1140Aは、LCR部品で構成されるモデル回路における、周波数ごとのインピーダンスを示す第3波形データを生成する。
また、第3波形データ生成部1140Aは、モデル回路に対する編集操作を受け付け、編集後のモデル回路における、周波数ごとのインピーダンスを示す第3波形データを生成する。
図3に示す第3波形データ生成部1140Aは、モデル回路情報取得部1141、モデル回路編集部1142、および、解析部1143、を含んで構成されている。
FIG. 10 is a diagram showing a configuration example of the third waveform data generator 1140A according to the second embodiment.
The third waveform data generating section 1140A generates third waveform data indicating impedance for each frequency in a model circuit composed of LCR parts.
Further, the third waveform data generating section 1140A receives an editing operation on the model circuit, and generates third waveform data indicating the impedance for each frequency in the edited model circuit.
The third waveform data generation section 1140A shown in FIG. 3 includes a model circuit information acquisition section 1141, a model circuit editing section 1142, and an analysis section 1143. FIG.

モデル回路情報取得部1141は、LCR部品で構成されるモデル回路を示すモデル回路情報を取得する。
モデル回路情報は、実施の形態1において説明したモデル回路情報と同様であるため、詳細な説明を省略する。
The model circuit information acquisition unit 1141 acquires model circuit information indicating a model circuit composed of LCR parts.
Since the model circuit information is the same as the model circuit information described in the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

モデル回路編集部1142は、モデル回路情報に示されるモデル回路を編集する。
具体的には、モデル回路編集部1142は、モデル回路情報取得部1141が出力したモデル回路情報、および、入力装置2000を介して取得した操作情報に基づいて、操作情報にしたがってモデル回路情報を編集する。このとき、モデル回路情報は、モデル回路における例えばバイパスコンデンサの数nおよび各LCR部品のLCR値といった情報が編集される。
モデル回路の編集においては、第2波形データと第3波形データとを比較しながらモデル回路情報を編集することを考えた場合、例えば、図2のA領域(または、図7および図8のA1領域)において差分が大きい場合、図4に示すモデル回路のCHIP部のLCR値を調整することにより、A領域におけるモデル回路のインピーダンス値が変化すると考えられる。また、同様に、例えば、図2のB1領域またはB2領域(または、図7および図8のB1領域またはB2領域)において差分が大きい場合、PCB部4100のLCR部品4130におけるLCR値を調整することにより、B1領域またはB2領域におけるモデル回路のインピーダンス値が変化すると考えられる。また、同様に、例えば、図2のC領域において差分が大きい場合、電源4110のLCR部品4120におけるLCR値を調整することにより、C領域におけるモデル回路のインピーダンス値が変化すると考えられる。
The model circuit editor 1142 edits the model circuit indicated by the model circuit information.
Specifically, the model circuit editing unit 1142 edits the model circuit information according to the operation information based on the model circuit information output by the model circuit information acquisition unit 1141 and the operation information acquired via the input device 2000. do. At this time, as the model circuit information, information such as the number n of decoupling capacitors and the LCR value of each LCR component in the model circuit is edited.
In editing the model circuit, when editing the model circuit information while comparing the second waveform data and the third waveform data, for example, area A in FIG. 2 (or area A1 in FIGS. 7 and 8) region), it is considered that the impedance value of the model circuit in region A changes by adjusting the LCR value of the CHIP part of the model circuit shown in FIG. Similarly, for example, if the difference is large in the B1 or B2 region of FIG. , the impedance value of the model circuit in the B1 region or the B2 region is considered to change. Similarly, for example, when the difference is large in region C of FIG. 2, it is considered that the impedance value of the model circuit in region C changes by adjusting the LCR value in LCR component 4120 of power supply 4110 .

解析部1143は、モデル回路情報取得部1141またはモデル回路編集部1142から取得したモデル回路情報を用いて、当該モデル回路情報に示されるモデル回路における周波数ごとのインピーダンス値を示す第3波形データを生成する。
具体的には、解析部1143は、モデル回路情報取得部1141またはモデル回路編集部1142からモデル回路情報を取得する。次に、解析部1143は、モデル回路情報に示されるモデル回路を解析して、当該モデル回路情報に示されるモデル回路における周波数ごとのインピーダンス値を示す第3波形データを生成する。解析部1143は、生成した第3波形データを出力する。
The analysis unit 1143 uses the model circuit information acquired from the model circuit information acquisition unit 1141 or the model circuit editing unit 1142 to generate third waveform data representing the impedance value for each frequency in the model circuit indicated by the model circuit information. do.
Specifically, the analysis unit 1143 acquires model circuit information from the model circuit information acquisition unit 1141 or the model circuit editing unit 1142 . Next, the analysis unit 1143 analyzes the model circuit indicated by the model circuit information and generates third waveform data indicating the impedance value for each frequency in the model circuit indicated by the model circuit information. The analysis unit 1143 outputs the generated third waveform data.

また、解析部1143は、モデル回路情報に示されるモデル回路を解析して、モデル回路のLCR部品におけるLCR値、および、解析に用いたモデル回路を示すモデル回路情報を出力する。
具体的には、解析部1143は、LCR値出力部1300においてLCR値出力指令信号が取得されると、モデル回路情報に示されるモデル回路を解析して、モデル回路のLCR部品における各LCR値、および、解析に用いたモデル回路を示すモデル回路情報を得る。解析部1143は、LCR値をLCR値出力部1300へ出力する。また、解析部1143は、モデル回路情報を表示データ出力部1200へ出力する。
Further, the analysis unit 1143 analyzes the model circuit indicated in the model circuit information, and outputs the LCR values of the LCR components of the model circuit and the model circuit information indicating the model circuit used for the analysis.
Specifically, when the LCR value output command signal is acquired by the LCR value output unit 1300, the analysis unit 1143 analyzes the model circuit indicated in the model circuit information, and calculates each LCR value, Then, model circuit information indicating the model circuit used for the analysis is obtained. Analysis section 1143 outputs the LCR value to LCR value output section 1300 . The analysis unit 1143 also outputs model circuit information to the display data output unit 1200 .

実施の形態2に係る等価モデル作成装置1000Aの処理の一例を説明する。
図11は、実施の形態2に係る等価モデル作成装置1000Aの処理の例を示すフローチャートである。
図11のフローチャートに示す処理は、ステップST2110の処理を追加した点で、図6のフローチャートと異なる。
図11のフローチャートに示すステップST2000からステップST2100までの処理のそれぞれは、図6のフローチャートに示すステップST1000からステップST1100までの処理のそれぞれに対応するため、ここでの詳細な説明は省略する。
An example of processing of the equivalent model creation device 1000A according to the second embodiment will be described.
FIG. 11 is a flow chart showing an example of processing of the equivalent model creation device 1000A according to the second embodiment.
The processing shown in the flowchart of FIG. 11 differs from the flowchart of FIG. 6 in that the processing of step ST2110 is added.
The processing from step ST2000 to step ST2100 shown in the flowchart of FIG. 11 respectively corresponds to the processing from step ST1000 to step ST1100 shown in the flowchart of FIG. 6, so detailed description thereof will be omitted here.

等価モデル作成装置1000Aは、ステップST2100において、図6に示すステップST1100と同様に判定を行い、処理を終了しないと判定した場合(ステップST2100“NO”)、モデル回路編集処理(ステップST2110)を実行する。
具体的には、等価モデル作成装置1000Aの表示データ出力部1200は、モデル回路編集用の画像である表示データを生成して表示装置3000へ出力する。表示装置3000によるモデル回路編集用の画像の表示に対応して操作者が入力装置2000を操作すると、モデル回路編集部1142は、入力装置2000を介して操作情報を取得する。モデル回路編集部1142は、モデル回路情報取得部1141が出力したモデル回路情報、および、入力装置2000を介して取得した操作情報に基づいて、操作情報にしたがってモデル回路情報におけるバイパスコンデンサの数n、LCR部品のLCR値といった情報を編集する。モデル回路編集部1142は、編集後のモデル回路情報を解析部1143へ出力する。
Equivalent model creation apparatus 1000A makes a determination in step ST2100 in the same manner as in step ST1100 shown in FIG. 6, and if it determines not to end processing (step ST2100 "NO"), it executes model circuit editing processing (step ST2110). do.
Specifically, display data output unit 1200 of equivalent model creation device 1000A generates display data, which is an image for model circuit editing, and outputs the generated display data to display device 3000 . When the operator operates the input device 2000 in response to the display of the model circuit editing image on the display device 3000 , the model circuit editing unit 1142 acquires operation information via the input device 2000 . Based on the model circuit information output by the model circuit information acquisition unit 1141 and the operation information acquired via the input device 2000, the model circuit editing unit 1142 calculates the number n of decoupling capacitors in the model circuit information, Edit information such as LCR values of LCR parts. The model circuit editing unit 1142 outputs the edited model circuit information to the analysis unit 1143 .

等価モデル作成装置1000Aは、ステップST2110の処理を実行すると、ステップST2050の処理へ移行する。
等価モデル作成装置1000Aは、ステップST2050の処理において、モデル回路を解析する。
具体的には、等価モデル作成装置1000Aの第3波形データ生成部1140Aにおける解析部1143は、モデル回路編集部1142から出力されたモデル回路情報を取得する。解析部1143は、モデル回路情報に示されるモデル回路の構成を解析する。
After executing the process of step ST2110, equivalent model generating apparatus 1000A proceeds to the process of step ST2050.
Equivalent model creation device 1000A analyzes the model circuit in the process of step ST2050.
Specifically, analysis section 1143 in third waveform data generation section 1140A of equivalent model creation device 1000A acquires model circuit information output from model circuit editing section 1142 . The analysis unit 1143 analyzes the configuration of the model circuit indicated in the model circuit information.

ステップST2050の処理を実行すると、等価モデル作成装置1000Aは、ステップST2060の処理へ移行して実行する。ステップST2060の処理以降の処理は、既に説明した内容と同様であるため、説明を省略する。 After executing the process of step ST2050, equivalent model creation apparatus 1000A shifts to and executes the process of step ST2060. Since the processing after the processing of step ST2060 is the same as the content already explained, the explanation is omitted.

上述してきた開示内容により、領域ごとに波形を比較させながら、領域に応じて対応するLCR部品におけるLCR値を変更することが容易になり、等価モデル回路を生成する際の作業負荷を低減させることができるようになる。 According to the disclosure described above, it becomes easy to change the LCR value in the corresponding LCR component according to the region while comparing the waveforms for each region, thereby reducing the workload when generating the equivalent model circuit. will be able to

本開示の等価モデル作成装置において、前記第3波形データ生成部は、モデル回路を示すモデル回路情報を取得するモデル回路情報取得部と、操作情報に基づいて前記モデル回路情報に示されるモデル回路を編集する等価モデル編集部と、前記モデル回路情報取得部または前記等価モデル編集部から取得したモデル回路情報を用いて、当該モデル回路情報に示されるモデル回路における周波数ごとのインピーダンス値を示す第3波形データを生成する解析部と、を備える、ように構成した。
これにより、領域ごとに波形を比較させながら、領域に応じて対応するLCR部品におけるLCR値を変更することが容易になり、等価モデル回路を生成する際の作業負荷を低減させることができるようになる、という効果を奏する。
また、上記構成を、等価モデル作成支援方法または等価モデル作成プログラムに適用することにより、等価モデル作成支援方法または等価モデル作成支援プログラムは、上記効果と同様の効果を奏する。
In the equivalent model creation device of the present disclosure, the third waveform data generation unit includes a model circuit information acquisition unit that acquires model circuit information indicating a model circuit, and a model circuit that is shown in the model circuit information based on operation information. Using the equivalent model editing unit to be edited and the model circuit information acquired from the model circuit information acquiring unit or the equivalent model editing unit, a third waveform representing the impedance value for each frequency in the model circuit indicated by the model circuit information. and an analysis unit that generates data.
This makes it easy to change the LCR value of the LCR component corresponding to the region while comparing the waveforms for each region, thereby reducing the workload when generating the equivalent model circuit. It has the effect of becoming
Further, by applying the above configuration to the equivalent model creation support method or the equivalent model creation support program, the equivalent model creation support method or the equivalent model creation support program has the same effects as those described above.

ここで、本開示に係る等価モデル作成装置1000,1000Aの機能を実現するハードウェア構成を説明する。
図12は、本開示に係る機能を実現するためのハードウェア構成の第1の例を示す図である。
図13は、本開示に係る機能を実現するためのハードウェア構成の第2の例を示す図である。
本開示の等価モデル作成装置1000,1000Aは、図12または図13に示されるようなハードウェアにより実現される。
Here, a hardware configuration that implements the functions of the equivalent model creation apparatuses 1000 and 1000A according to the present disclosure will be described.
FIG. 12 is a diagram illustrating a first example of a hardware configuration for realizing functions according to the present disclosure.
FIG. 13 is a diagram illustrating a second example of a hardware configuration for realizing functions according to the present disclosure.
Equivalent model creation devices 1000 and 1000A of the present disclosure are implemented by hardware as shown in FIG. 12 or 13 .

等価モデル作成装置1000,1000Aは、図12に示すように、プロセッサ10001、メモリ10002により構成される。
プロセッサ10001、メモリ10002は、例えば、コンピュータに搭載されているものである。
メモリ10002には、当該コンピュータを、波形データ出力部1100,1100A、第1波形データ取得部1110、目標条件取得部1120、第2波形データ生成部1130、第3波形データ生成部1140,1140A、モデル回路情報取得部1141、モデル回路編集部1142、解析部1143、表示データ出力部1200、第1波形画像生成部1210、第2波形画像生成部1220、第3波形画像生成部1230、重畳画像生成部1240、LCR値画像生成部1250、LCR値出力部1300、および、図示しない制御部として機能させるためのプログラムが記憶されている。メモリ10002に記憶されたプログラムをプロセッサ10001が読み出して実行することにより、波形データ出力部1100,1100A、第1波形データ取得部1110、目標条件取得部1120、第2波形データ生成部1130、第3波形データ生成部1140,1140A、モデル回路情報取得部1141、モデル回路編集部1142、解析部1143、表示データ出力部1200、第1波形画像生成部1210、第2波形画像生成部1220、第3波形画像生成部1230、重畳画像生成部1240、LCR値画像生成部1250、LCR値出力部1300、および、図示しない制御部の機能が実現される。
また、メモリ10002または図示しない他のメモリにより、図示しない記憶部が実現される。
プロセッサ10001は、例えば、CPU(Central Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)、マイクロプロセッサ、マイクロコントローラ又はDSP(Digital Signal Processor)などを用いたものである。
メモリ10002は、RAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)、EPROM(Erasable Programmable ROM)、EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read Only Memory)又はフラッシュメモリ等の不揮発性もしくは揮発性の半導体メモリであってもよいし、ハードディスク又はフレキシブルディスク等の磁気ディスクであってもよいし、CD(Compact Disc)又はDVD(Digital VersatileDisc)等の光ディスクであってもよいし、光磁気ディスクであってもよい。
プロセッサ10001とメモリ10002とは、相互にデータを伝送することが可能な状態に接続されている。また、プロセッサ10001とメモリ10002とは、入出力インタフェース10003を介して他のハードウェアと相互にデータを伝送することが可能な状態に接続されている。
Equivalent model generating devices 1000 and 1000A are composed of a processor 10001 and a memory 10002, as shown in FIG.
A processor 10001 and a memory 10002 are installed in a computer, for example.
In the memory 10002, the computer includes waveform data output units 1100 and 1100A, a first waveform data acquisition unit 1110, a target condition acquisition unit 1120, a second waveform data generation unit 1130, a third waveform data generation unit 1140 and 1140A, a model Circuit information acquisition unit 1141, model circuit editing unit 1142, analysis unit 1143, display data output unit 1200, first waveform image generation unit 1210, second waveform image generation unit 1220, third waveform image generation unit 1230, superimposed image generation unit 1240, an LCR value image generation unit 1250, an LCR value output unit 1300, and a program for functioning as a control unit (not shown) are stored. A program stored in the memory 10002 is read out and executed by the processor 10001, whereby waveform data output units 1100 and 1100A, a first waveform data acquisition unit 1110, a target condition acquisition unit 1120, a second waveform data generation unit 1130, a third Waveform data generation units 1140 and 1140A, model circuit information acquisition unit 1141, model circuit editing unit 1142, analysis unit 1143, display data output unit 1200, first waveform image generation unit 1210, second waveform image generation unit 1220, third waveform Functions of an image generator 1230, a superimposed image generator 1240, an LCR value image generator 1250, an LCR value output unit 1300, and a control unit (not shown) are implemented.
A storage unit (not shown) is implemented by the memory 10002 or another memory (not shown).
The processor 10001 uses, for example, a CPU (Central Processing Unit), a GPU (Graphics Processing Unit), a microprocessor, a microcontroller, or a DSP (Digital Signal Processor).
The memory 10002 is a nonvolatile memory such as RAM (Random Access Memory), ROM (Read Only Memory), EPROM (Erasable Programmable ROM), EEPROM (Electrically Erasable Programmable Read Only Memory), or flash memory. volatile or volatile semiconductor memory Alternatively, it may be a magnetic disk such as a hard disk or flexible disk, an optical disk such as a CD (Compact Disc) or a DVD (Digital Versatile Disc), or a magneto-optical disc.
The processor 10001 and the memory 10002 are connected in such a way that they can transmit data to each other. Also, the processor 10001 and the memory 10002 are connected via an input/output interface 10003 so as to be able to transmit data to and from other hardware.

または、波形データ出力部1100,1100A、第1波形データ取得部1110、目標条件取得部1120、第2波形データ生成部1130、第3波形データ生成部1140,1140A、モデル回路情報取得部1141、モデル回路編集部1142、解析部1143、表示データ出力部1200、第1波形画像生成部1210、第2波形画像生成部1220、第3波形画像生成部1230、重畳画像生成部1240、LCR値画像生成部1250、LCR値出力部1300、および、図示しない制御部の機能は、図13に示すように、専用の処理回路10004により実現されるものであっても良い。
処理回路10004は、例えば、単一回路、複合回路、プログラム化したプロセッサ、並列プログラム化したプロセッサ、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、PLD(Programmable Logic Device)、FPGA(Field-Programmable Gate Array)、SoC(System-on-a-Chip)またはシステムLSI(Large-Scale Integration)等を用いたものである。
また、メモリ10005または図示しない他のメモリにより、図示しない記憶部が実現される。
メモリ10005は、RAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)、EPROM(Erasable Programmable ROM)、EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read Only Memory)又はフラッシュメモリ等の不揮発性もしくは揮発性の半導体メモリであってもよいし、ハードディスク又はフレキシブルディスク等の磁気ディスクであってもよいし、CD(Compact Disc)又はDVD(Digital VersatileDisc)等の光ディスクであってもよいし、光磁気ディスクであってもよい。
処理回路10004とメモリ10005とは、相互にデータを伝送することが可能な状態に接続されている。また、処理回路10004とメモリ10005とは、入出力インタフェース10006を介して他のハードウェアと相互にデータを伝送することが可能な状態に接続されている。
なお、波形データ出力部1100,1100A、第1波形データ取得部1110、目標条件取得部1120、第2波形データ生成部1130、第3波形データ生成部1140,1140A、モデル回路情報取得部1141、モデル回路編集部1142、解析部1143、表示データ出力部1200、第1波形画像生成部1210、第2波形画像生成部1220、第3波形画像生成部1230、重畳画像生成部1240、LCR値画像生成部1250、LCR値出力部1300、および、図示しない制御部の機能をそれぞれ別の処理回路で実現しても良いし,まとめて処理回路で実現しても良い。
Alternatively, waveform data output units 1100 and 1100A, first waveform data acquisition unit 1110, target condition acquisition unit 1120, second waveform data generation unit 1130, third waveform data generation units 1140 and 1140A, model circuit information acquisition unit 1141, model Circuit editing unit 1142, analysis unit 1143, display data output unit 1200, first waveform image generation unit 1210, second waveform image generation unit 1220, third waveform image generation unit 1230, superimposed image generation unit 1240, LCR value image generation unit The functions of 1250, LCR value output section 1300, and control section (not shown) may be implemented by a dedicated processing circuit 10004 as shown in FIG.
The processing circuit 10004 is, for example, a single circuit, a composite circuit, a programmed processor, a parallel programmed processor, an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), a PLD (Programmable Logic Device), an FPGA (Field-Programmable Gate Array), an SoC. (System-on-a-Chip) or system LSI (Large-Scale Integration).
A storage unit (not shown) is implemented by the memory 10005 or another memory (not shown).
The memory 10005 is a nonvolatile memory such as RAM (Random Access Memory), ROM (Read Only Memory), EPROM (Erasable Programmable ROM), EEPROM (Electrically Erasable Programmable Read Only Memory), or flash memory. volatile or volatile semiconductor memory Alternatively, it may be a magnetic disk such as a hard disk or flexible disk, an optical disk such as a CD (Compact Disc) or a DVD (Digital Versatile Disc), or a magneto-optical disc.
Processing circuit 10004 and memory 10005 are connected in such a manner that data can be transmitted between them. Also, the processing circuit 10004 and the memory 10005 are connected via an input/output interface 10006 so as to be able to transmit data to and from other hardware.
Waveform data output units 1100 and 1100A, first waveform data acquisition unit 1110, target condition acquisition unit 1120, second waveform data generation unit 1130, third waveform data generation units 1140 and 1140A, model circuit information acquisition unit 1141, model Circuit editing unit 1142, analysis unit 1143, display data output unit 1200, first waveform image generation unit 1210, second waveform image generation unit 1220, third waveform image generation unit 1230, superimposed image generation unit 1240, LCR value image generation unit The functions of 1250, LCR value output unit 1300, and control unit (not shown) may be realized by separate processing circuits, or may be collectively realized by a processing circuit.

または、波形データ出力部1100,1100A、第1波形データ取得部1110、目標条件取得部1120、第2波形データ生成部1130、第3波形データ生成部1140,1140A、モデル回路情報取得部1141、モデル回路編集部1142、解析部1143、表示データ出力部1200、第1波形画像生成部1210、第2波形画像生成部1220、第3波形画像生成部1230、重畳画像生成部1240、LCR値画像生成部1250、LCR値出力部1300、および、図示しない制御部のうちの一部の機能がプロセッサ10001およびメモリ10002により実現され、かつ、残りの機能が処理回路10004により実現されるものであっても良い。 Alternatively, waveform data output units 1100 and 1100A, first waveform data acquisition unit 1110, target condition acquisition unit 1120, second waveform data generation unit 1130, third waveform data generation units 1140 and 1140A, model circuit information acquisition unit 1141, model Circuit editing unit 1142, analysis unit 1143, display data output unit 1200, first waveform image generation unit 1210, second waveform image generation unit 1220, third waveform image generation unit 1230, superimposed image generation unit 1240, LCR value image generation unit 1250, the LCR value output unit 1300, and the control unit (not shown) may be realized by the processor 10001 and the memory 10002, and the rest of the functions may be realized by the processing circuit 10004. .

なお、本開示は、その発明の範囲内において、各実施の形態の自由な組み合わせ、各実施の形態の任意の構成要素の変形、または各実施の形態の任意の構成要素の省略が可能である。 It should be noted that the present disclosure allows free combination of each embodiment, modification of any component of each embodiment, or omission of any component of each embodiment within the scope of the invention. .

1000,1000A 等価モデル作成装置、1100,1100A 波形データ出力部、1110 第1波形データ取得部、1120 目標条件取得部、1130 第2波形データ生成部、1140,1140A 第3波形データ生成部、1141 モデル回路情報取得部、1142 モデル回路編集部、1143 解析部、1200 表示データ出力部、1210 第1波形画像生成部、1220 第2波形画像生成部、1230 第3波形画像生成部、1240 重畳画像生成部、1250 LCR値画像生成部、1300 LCR値出力部、2000 入力装置、3000 表示装置、4000 モデル回路、4100 PCB部、4110 電源、4120 LCR部品、4130 LCR部品、4140(4140-1,・・・,4140-n) LCR部品、4150(4150-1,・・・,4150-n) LCR部品、4200 PKG部、4210 LCR部品、4300 CHIP部、4310 LCR部品、5100 第1波形、5210 A領域、5220 B1領域、5230 B2領域、5240 C領域、5300 第2波形、6100 第1波形、6210 A1領域、6220 B1領域、6230 B2領域、6240 C1領域、6250 C2領域、6310 上限側第2波形、6320 下限側第2波形、6400 第3波形、10001 プロセッサ、10002 メモリ、10003 入出力インタフェース、10004 処理回路、10005 メモリ、10006 入出力インタフェース。 1000,1000A Equivalent model creation device 1100,1100A Waveform data output unit 1110 First waveform data acquisition unit 1120 Target condition acquisition unit 1130 Second waveform data generation unit 1140,1140A Third waveform data generation unit 1141 Model circuit information acquisition unit 1142 model circuit editing unit 1143 analysis unit 1200 display data output unit 1210 first waveform image generation unit 1220 second waveform image generation unit 1230 third waveform image generation unit 1240 superimposed image generation unit , 1250 LCR value image generator, 1300 LCR value output unit, 2000 input device, 3000 display device, 4000 model circuit, 4100 PCB unit, 4110 power supply, 4120 LCR parts, 4130 LCR parts, 4140 (4140-1, ... , 4140-n) LCR parts, 4150 (4150-1, . 5220 B1 area, 5230 B2 area, 5240 C area, 5300 Second waveform, 6100 First waveform, 6210 A1 area, 6220 B1 area, 6230 B2 area, 6240 C1 area, 6250 C2 area, 6310 Upper limit side second waveform, 6320 Lower limit side second waveform 6400 Third waveform 10001 Processor 10002 Memory 10003 Input/output interface 10004 Processing circuit 10005 Memory 10006 Input/output interface.

Claims (8)

周波数ごとのインピーダンスを示す第1波形データを取得する第1波形データ取得部と、
前記第1波形データに基づく第1波形を示す表示データを出力する表示データ出力部と、
それぞれ異なる周波数帯の領域ごとに、目標インピーダンスを決定するための目標条件を取得する目標条件取得部と、
前記第1波形データおよび前記目標条件を用いて決定された周波数ごとの目標インピーダンスを示す第2波形データを生成する第2波形データ生成部と、
LCR部品で構成されるモデル回路における、周波数ごとのインピーダンスを示す第3波形データを生成する第3波形データ生成部と、
を備え、
前記表示データ出力部は、さらに、前記第2波形データに基づく第2波形を示す表示データおよび前記第3波形データに基づく第3波形を示す表示データを出力する、
等価モデル作成装置。
a first waveform data acquisition unit that acquires first waveform data indicating impedance for each frequency;
a display data output unit that outputs display data representing a first waveform based on the first waveform data;
a target condition acquisition unit that acquires a target condition for determining a target impedance for each different frequency band region;
a second waveform data generation unit that generates second waveform data indicating a target impedance for each frequency determined using the first waveform data and the target condition;
a third waveform data generating unit that generates third waveform data indicating impedance for each frequency in a model circuit composed of LCR parts;
with
The display data output unit further outputs display data representing a second waveform based on the second waveform data and display data representing a third waveform based on the third waveform data.
Equivalent model generator.
前記第3波形データ生成部は、
モデル回路を示すモデル回路情報を取得するモデル回路情報取得部と、
操作情報に基づいてモデル回路情報に示されるモデル回路を編集する等価モデル編集部と、
前記モデル回路情報取得部または前記等価モデル編集部から取得したモデル回路情報を用いて、当該モデル回路情報に示されるモデル回路における周波数ごとのインピーダンス値を示す第3波形データを生成する解析部と、
を備える、
請求項1に記載の等価モデル作成装置。
The third waveform data generation unit
a model circuit information acquisition unit that acquires model circuit information indicating a model circuit;
an equivalent model editing unit that edits the model circuit indicated in the model circuit information based on the operation information;
an analysis unit that uses the model circuit information acquired from the model circuit information acquiring unit or the equivalent model editing unit to generate third waveform data representing an impedance value for each frequency in the model circuit indicated in the model circuit information;
comprising
Equivalent model creation device according to claim 1.
前記目標条件取得部が取得する目標条件は、それぞれ異なる複数の周波数帯情報と、当該周波数帯情報ごとの、前記第1波形データのインピーダンス値を基準にした増減の割合または目標インピーダンス値と、の組み合わせにより構成される、
請求項1または請求項2に記載の等価モデル作成装置。
The target condition acquired by the target condition acquisition unit includes a plurality of different frequency band information and a rate of increase or decrease based on the impedance value of the first waveform data or a target impedance value for each of the frequency band information. Composed of a combination of
3. The equivalent model creation device according to claim 1 or 2.
前記表示データ出力部は、
前記第2波形データおよび前記第3波形データを用いて、当該第2波形データに示される第2波形および当該第3波形データに示される第3波形を重畳した表示画像を出力する、
請求項1から請求項3のうちのいずれか1項に記載の等価モデル作成装置。
The display data output unit
Using the second waveform data and the third waveform data, outputting a display image in which the second waveform indicated by the second waveform data and the third waveform indicated by the third waveform data are superimposed;
4. The equivalent model creation device according to any one of claims 1 to 3.
前記表示データ出力部は、
前記第1波形データ、前記第2波形データ、および、前記第3波形データを用いて、当該第1波形データに示される第1波形、当該第2波形データに示される第2波形、および、当該第3波形データに示される第3波形を重畳した表示画像を出力する、
請求項1から請求項4のうちのいずれか1項に記載の等価モデル作成装置。
The display data output unit
Using the first waveform data, the second waveform data, and the third waveform data, the first waveform indicated by the first waveform data, the second waveform indicated by the second waveform data, and the outputting a display image superimposed with the third waveform indicated by the third waveform data;
5. The equivalent model creation device according to any one of claims 1 to 4.
外部から取得した指令信号に応じて、前記第3波形データ生成部により用いられたモデル回路におけるLCR値を出力するLCR値出力部、
をさらに備えた、請求項1から請求項5のうちのいずれか1項に記載の等価モデル作成装置。
an LCR value output unit that outputs an LCR value in the model circuit used by the third waveform data generation unit according to an externally acquired command signal;
6. The equivalent model creation device according to any one of claims 1 to 5, further comprising:
第1波形データ取得部が、周波数ごとのインピーダンスを示す第1波形データを取得する第1波形データ取得ステップと、
表示データ出力部が、前記第1波形データに基づく第1波形を示す表示データを出力する表示データ出力ステップと、
目標条件取得部が、それぞれ異なる周波数帯の領域ごとに、目標インピーダンスを決定するための目標条件を取得する目標条件取得ステップと、
第2波形データ生成部が、前記第1波形データおよび前記目標条件を用いて決定された周波数ごとの目標インピーダンスを示す第2波形データを生成する第2波形データ生成ステップと、
第3波形データ生成部が、LCR部品で構成されるモデル回路における、周波数ごとのインピーダンスを示す第3波形データを生成する第3波形データ生成ステップと、
を備え、
前記表示データ出力ステップは、さらに、前記第2波形データに基づく第2波形を示す表示データおよび前記第3波形データに基づく第3波形を示す表示データを出力する、
等価モデル作成支援方法。
a first waveform data obtaining step in which the first waveform data obtaining unit obtains first waveform data indicating impedance for each frequency;
a display data output step in which a display data output unit outputs display data representing a first waveform based on the first waveform data;
a target condition acquisition step in which the target condition acquisition unit acquires target conditions for determining target impedance for each different frequency band region;
a second waveform data generation step in which a second waveform data generation unit generates second waveform data indicating a target impedance for each frequency determined using the first waveform data and the target condition;
a third waveform data generation step in which the third waveform data generation unit generates third waveform data indicating impedance for each frequency in a model circuit configured with LCR parts;
with
The display data output step further outputs display data representing a second waveform based on the second waveform data and display data representing a third waveform based on the third waveform data.
Equivalent model creation support method.
コンピュータを、
周波数ごとのインピーダンスを示す第1波形データを取得する第1波形データ取得部と、
前記第1波形データに基づく第1波形を示す表示データを出力する表示データ出力部と、
それぞれ異なる周波数帯の領域ごとに、目標インピーダンスを決定するための目標条件を取得する目標条件取得部と、
前記第1波形データおよび前記目標条件を用いて決定された周波数ごとの目標インピーダンスを示す第2波形データを生成する第2波形データ生成部と、
LCR部品で構成されるモデル回路における、周波数ごとのインピーダンスを示す第3波形データを生成する第3波形データ生成部と、
を備え、
前記表示データ出力部は、さらに、前記第2波形データに基づく第2波形を示す表示データおよび前記第3波形データに基づく第3波形を示す表示データを出力する、
等価モデル作成装置、
として動作させることを特徴とする等価モデル作成支援プログラム。
the computer,
a first waveform data acquisition unit that acquires first waveform data indicating impedance for each frequency;
a display data output unit that outputs display data representing a first waveform based on the first waveform data;
a target condition acquisition unit that acquires a target condition for determining a target impedance for each different frequency band region;
a second waveform data generation unit that generates second waveform data indicating a target impedance for each frequency determined using the first waveform data and the target condition;
a third waveform data generating unit that generates third waveform data indicating impedance for each frequency in a model circuit composed of LCR parts;
with
The display data output unit further outputs display data representing a second waveform based on the second waveform data and display data representing a third waveform based on the third waveform data.
equivalent model creation device,
An equivalent model creation support program characterized by operating as
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