JP2023103954A - Coil component - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、コイル部品に関する。 The present invention relates to coil components.
特許文献1には、表面実装部品である受動部品であって、絶縁性を有する基体部と、上記基体部に内蔵された内部導体と、上記基体部の実装面に設けられ、上記内部導体に電気的に接続された外部電極と、を備え、上記外部電極は、上記基体部の上記実装面に対して略平行な面と、上記略平行な面を基準として上記基体部の上記実装面に対して反対側に隆起したドーム状の突起と、を有する、受動部品が開示されている。 Patent Document 1 discloses a passive component that is a surface-mount component, and includes a base portion having an insulating property, an internal conductor embedded in the base portion, and a mounting surface of the base portion provided on the inner conductor. and an external electrode electrically connected to the mounting surface of the base portion, wherein the external electrode is arranged on a surface substantially parallel to the mounting surface of the base portion and on the mounting surface of the base portion with reference to the substantially parallel surface. A passive component is disclosed having a dome-shaped protrusion raised on the opposite side.
特許文献2には、基体と、上記基体の表面に設けられ、所定の電極材料を含む電極ペーストを焼付処理して形成される焼付電極を含む電極と、を備え、上記基体は、上記電極が接する界面から上記基体の内部方向に、上記電極ペーストに含まれるガラスフリットに起因するガラス成分が、概ね10μm以上拡散していることを特徴とする電子部品が開示されている。 Patent Document 2 discloses a method comprising a substrate and an electrode including a baked electrode provided on the surface of the substrate and formed by baking an electrode paste containing a predetermined electrode material. An electronic component is disclosed in which a glass component resulting from the glass frit contained in the electrode paste is diffused from the contact interface toward the inside of the base by approximately 10 μm or more.
特許文献1には、受動部品の一例としてコイル部品が記載されている。さらに、特許文献1には、基体部が、例えばNi-Zn系又はMn-Zn系などのフェライト材料、Fe-Si-Cr系、Fe-Si-Al系、又はFe-Si-Cr-Al系等の軟磁性合金材料、Fe又はNi等の磁性金属材料、アモルファス磁性金属材料、ナノ結晶磁性金属材料、或いは金属磁性粒子を含有する樹脂等の磁性材料から構成されること、及び、外部電極が、例えば複数の金属層から構成されることが記載されている。 Patent Literature 1 describes a coil component as an example of a passive component. Furthermore, in Patent Document 1, the base portion is, for example, a ferrite material such as Ni-Zn-based or Mn-Zn-based, Fe-Si-Cr-based, Fe-Si-Al-based, or Fe-Si-Cr-Al-based A soft magnetic alloy material such as Fe or Ni, a magnetic metal material such as Fe or Ni, an amorphous magnetic metal material, a nanocrystalline magnetic metal material, or a magnetic material such as a resin containing metal magnetic particles, and the external electrode is , for example consisting of a plurality of metal layers.
特許文献1に記載のコイル部品では、基体部と外部電極との密着が充分に取れないおそれがある。 In the coil component described in Patent Literature 1, there is a possibility that the base portion and the external electrode cannot be sufficiently adhered to each other.
これに対し、特許文献2には、電極ペーストに含まれるガラス成分を焼付処理によって基体の内部に拡散させることで、基体と電極との密着性(固着強度)を向上させる技術が記載されている。 On the other hand, Patent Document 2 describes a technique for improving the adhesiveness (fixing strength) between the substrate and the electrode by diffusing the glass component contained in the electrode paste into the interior of the substrate by a baking process. .
しかし、電極ペーストにガラス成分が含まれることで、導体抵抗が上昇してしまう。 However, when the electrode paste contains a glass component, the conductor resistance increases.
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、直流抵抗を低く維持したまま、磁性体部と外部電極との密着性を向上できるコイル部品を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a coil component capable of improving adhesion between a magnetic body portion and an external electrode while maintaining a low DC resistance.
本発明のコイル部品は、金属磁性粒子を含有する磁性体部と、上記磁性体部の内部に埋設されたコイルと、上記磁性体部の少なくとも底面に設けられ、上記コイルと電気的に接続されている外部電極と、を備える。上記外部電極は、上記磁性体部側から順に、Agを含有する下地層と、めっき層とを含む。上記磁性体部と上記下地層との界面において、上記金属磁性粒子と上記下地層との間には、上記金属磁性粒子に含まれる金属元素を含有する酸化膜が存在する。上記磁性体部の内部において、上記界面に位置する上記金属磁性粒子に隣り合う金属磁性粒子の表面には、上記金属磁性粒子と上記下地層との間に存在する上記酸化膜よりも厚みが小さい酸化膜が存在する。 A coil component according to the present invention includes a magnetic body portion containing metal magnetic particles, a coil embedded inside the magnetic body portion, and a magnetic body portion provided on at least a bottom surface of the magnetic body portion and electrically connected to the coil. and external electrodes. The external electrode includes, in order from the magnetic body portion side, an underlying layer containing Ag and a plating layer. At the interface between the magnetic portion and the underlayer, an oxide film containing the metal element contained in the metal magnetic particles is present between the metal magnetic particles and the underlayer. Inside the magnetic body portion, the surface of the metal magnetic particle adjacent to the metal magnetic particle located at the interface has a thickness smaller than that of the oxide film existing between the metal magnetic particle and the underlayer. An oxide film is present.
本発明によれば、直流抵抗を低く維持したまま、磁性体部と外部電極との密着性を向上できるコイル部品を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the coil component which can improve the adhesiveness of a magnetic body part and an external electrode can be provided, maintaining low DC resistance.
以下、本発明のコイル部品について説明する。
しかしながら、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜変更して適用することができる。なお、以下において記載する本発明の個々の望ましい構成を2つ以上組み合わせたものもまた本発明である。
The coil component of the present invention will be described below.
However, the present invention is not limited to the following embodiments, and can be appropriately modified and applied without changing the gist of the present invention. It should be noted that a combination of two or more of the individual preferred configurations of the invention described below is also the invention.
本明細書において、要素間の関係性を示す用語(例えば「平行」、「垂直」、「直交」等)及び要素の形状を示す用語は、厳格な意味のみを表す表現ではなく、実質的に同等な範囲、例えば数%程度の差異をも含むことを意味する表現である。 In this specification, terms indicating the relationship between elements (e.g., "parallel", "perpendicular", "perpendicular", etc.) and terms indicating the shape of elements are not expressions that express only strict meanings, but substantially It is an expression that means to include a difference in an equivalent range, for example, a few percent difference.
以下に示す図面は模式図であり、その寸法、縦横比の縮尺等は実際の製品と異なる場合がある。 The drawings shown below are schematic diagrams, and their dimensions, aspect ratios, etc. may differ from actual products.
図1は、本発明のコイル部品の一例を模式的に示す斜視図である。図2は、図1に示すコイル部品の内部構造の一例を模式的に示す斜視図である。なお、コイル部品及び各構成要素の形状及び配置等は、図示する例に限定されない。 FIG. 1 is a perspective view schematically showing an example of the coil component of the present invention. 2 is a perspective view schematically showing an example of the internal structure of the coil component shown in FIG. 1. FIG. The shape, arrangement, etc. of the coil component and each component are not limited to the illustrated example.
図1及び図2に示すコイル部品1は、磁性体部10と、コイル20と、外部電極30と、を備える。図2に示すように、コイル部品1は、引出導体40をさらに備えてもよい。
A coil component 1 shown in FIGS. 1 and 2 includes a
磁性体部10は、例えば、6面を有する直方体形状又は略直方体形状である。磁性体部10は、角部及び稜線部に丸みが付けられていてもよい。角部は、磁性体部10の3面が交わる部分であり、稜線部は、磁性体部10の2面が交わる部分である。
The
図1及び図2には、コイル部品1及び磁性体部10における長さ方向、幅方向、高さ方向を、それぞれL方向、W方向、T方向として示している。長さ方向Lと幅方向Wと高さ方向Tとは互いに直交する。コイル部品1の実装面は、例えば、長さ方向Lと幅方向Wに平行な面(LW面)である。
In FIGS. 1 and 2, the length direction, width direction, and height direction of the coil component 1 and the
図1及び図2に示す磁性体部10は、高さ方向Tに相対する第1の主面11及び第2の主面12と、高さ方向Tに直交する長さ方向Lに相対する第1の端面13及び第2の端面14と、長さ方向L及び高さ方向Tに直交する幅方向Wに相対する第1の側面15及び第2の側面16とを有する。図1及び図2に示す例では、磁性体部10の第1の主面11が磁性体部10の底面に相当する。
The
図3は、図2に示すコイル部品のIII-III線に沿った断面図である。図4は、図2に示すコイル部品のIV-IV線に沿った断面図である。図5は、図4においてVで示す部分を拡大した模式図である。 3 is a cross-sectional view of the coil component shown in FIG. 2 along line III-III. 4 is a cross-sectional view of the coil component shown in FIG. 2 taken along line IV-IV. FIG. 5 is an enlarged schematic diagram of the portion indicated by V in FIG.
図3及び図4に示すように、磁性体部10は、積層構造を有することが好ましい。図3及び図4に示す例では、磁性体部10の積層方向は、高さ方向Tに沿っている。なお、図3及び図4では、説明の便宜上、磁性体部10が有する積層構造の各層の境界が示されているが、実際には境界が明瞭に現れない。
As shown in FIGS. 3 and 4, the
磁性体部10が積層構造を有すると、コイル部品1の設計の自由度が高くなる。例えば、磁性体部10の底面(第1の主面11)に外部電極30を備えるコイル部品1を製造する場合、磁性体部10が積層構造を有すると、底面側へのコイル20の引き出しが行いやすくなる。
When the
図5に示すように、磁性体部10は、金属磁性粒子50を含有する。
As shown in FIG. 5 , the
金属磁性粒子50を構成する金属磁性材料としては、例えば、Fe-Si合金、Fe-Si-Cr合金等のFe及びSiを含む合金等が挙げられる。これらの合金には、Cr、Mn、Cu、Ni、P、S等の元素が不純物として含まれていてもよい。
Examples of the metal magnetic material forming the metal
金属磁性粒子50の平均粒径は特に限定されないが、好ましくは1μm以上、50μm以下であり、より好ましくは2μm以上、20μm以下である。
The average particle diameter of the metal
金属磁性粒子50の平均粒径は、以下に説明する方法で測定することができる。まず、コイル部品1を切断して断面を形成する。例えば、コイル部品1が磁性体部10の底面(第1の主面11)に外部電極30を備える場合、底面に対して垂直な高さ方向Tにコイル部品1を切断することにより、底面に対して垂直な断面を形成する。この断面をイオンミリングにより加工する。加工後の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察する。SEMの拡大倍率は500倍以上5000倍以下程度に設定することが好ましい。得られたSEM画像から金属磁性粒子50の粒径(円相当径)を測長し、100個以上の金属磁性粒子50の平均値を金属磁性粒子50の平均粒径とすることができる。
The average particle size of the metal
また、完成品であるコイル部品1に含まれる金属磁性粒子50の平均粒径は、原料の金属磁性粉末の平均粒径と実質的に同一であると考えて差し支えない。原料の金属磁性粉末の平均粒径は、レーザー回折・散乱法によって体積基準の累積50%粒子径(メジアン径)D50を測定することにより求めることができる。
Moreover, the average particle size of the metal
金属磁性粒子50の表面には、絶縁性被膜が設けられている。この場合、磁性体部10の絶縁性が向上するため、コイル部品1の耐電圧性がより向上し得る。絶縁性被膜は、金属酸化物を含む酸化膜であり、Siの酸化物を含む酸化膜をさらに含むことが好ましい。
An insulating coating is provided on the surface of the metal
磁性体部10は、金属磁性粒子50以外の成分をさらに含有してもよい。例えば、磁性体部10は、Feよりも酸化しやすい元素として、Cr、Al、Li、Zn等の元素を少なくとも1種含有してもよい。
The
磁性体部10は、樹脂をさらに含有してもよい。磁性体部10が樹脂を含有する場合、樹脂の種類は特に限定されるものではなく、所望の特性に応じて適宜選択することができる。磁性体部10は、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、セルロース樹脂及びアルキド樹脂等からなる群より選択される1種以上の樹脂を含有してもよい。
The
コイル20は、磁性体部10の内部に埋設されている。コイル20は、図2、図3及び図4に示すように、巻回軸方向に積層された複数のコイル導体層を含んでもよい。図2、図3及び図4に示す例では、コイル20の巻回軸方向は、高さ方向Tに沿っている。図示されていないが、隣接するコイル導体層同士は、ビア導体を介して接続されている。
The
外部電極30は、磁性体部10の少なくとも底面(第1の主面11)に設けられ、コイル20と電気的に接続されている。コイル部品1では、磁性体部10の底面(第1の主面11)を実装面とすることができる。すなわち、コイル部品1の底面での実装が可能となる。
The
外部電極30は、例えば、第1の外部電極31と、第2の外部電極32とを含む。
The
第1の外部電極31は、磁性体部10の第1の主面11の一部を覆って配置される。図1等には示されていないが、第1の外部電極31は、磁性体部10の第1の主面11から延伸して第1の端面13の一部、第1の側面15の一部又は第2の側面16の一部を覆って配置されてもよい。
The first
第2の外部電極32は、磁性体部10の第1の主面11の一部を覆って配置される。図1等には示されていないが、第2の外部電極32は、磁性体部10の第1の主面11から延伸して第2の端面14の一部、第1の側面15の一部又は第2の側面16の一部を覆って配置されてもよい。
The second
外部電極30は、磁性体部10側から順に、下地層と、めっき層とを含む。図3及び図4に示す例では、第1の外部電極31は、磁性体部10側から順に、下地層31aと、めっき層31bとを含み、第2の外部電極32は、磁性体部10側から順に、下地層32aと、めっき層32bとを含む。
The
外部電極30の下地層は、Agを含有する下地電極である。
The base layer of the
外部電極30の下地層は、ガラス成分を含有しないことが好ましい。例えば、ガラスフリットを含有しないAgペーストを用いて下地層を形成することにより、導体抵抗の上昇を抑制することができる。
The underlying layer of the
なお、「ガラス成分を含有しない」とは、ガラス成分の含有量が検出限界以下であることを意味する。下地層に含有されるガラス成分の有無は、例えば、エネルギー分散型X線分析(EDX)によるマッピング元素分析を行い、ガラスを構成する元素(例えば、ケイ素(Si))が検出されるか否かによって確認される。 In addition, "not containing a glass component" means that the content of the glass component is below the detection limit. The presence or absence of the glass component contained in the underlayer is determined, for example, by mapping elemental analysis by energy dispersive X-ray analysis (EDX), and whether or not an element (for example, silicon (Si)) constituting the glass is detected. confirmed by
外部電極30のめっき層は、下地層を覆うように設けられる。めっき層は、1層でもよく、2層以上でもよい。図5に示す例では、第1の外部電極31のめっき層31bは、下地層31a側から順に、第1のめっき層31b1と、第2のめっき層31b2とを含む。第2の外部電極32のめっき層32bについても同様である。
The plating layer of the
図2及び図3に示すように、コイル20の両端は、磁性体部10の底面(第1の主面11)に引き出されていることが好ましい。具体的には、コイル20は、引出導体40を介して外部電極30と磁性体部10の底面(第1の主面11)で電気的に接続されていることが好ましい。
As shown in FIGS. 2 and 3 , both ends of the
引出導体40の一方の端部は、磁性体部10の内部でコイル20に接続されている。引出導体40の他方の端部は、磁性体部10の底面(第1の主面11)で外部電極30に接続されている。
One end of the
引出導体40は、例えば、第1の引出導体41と、第2の引出導体42とを含む。
The
第1の引出導体41の一方の端部は、コイル20の始端に接続されている。第1の引出導体41の他方の端部は、第1の外部電極31に接続されている。図2及び図3に示す例では、第1の引出導体41の一方の端部から他方の端部に延びる方向は、高さ方向Tに沿っている。
One end of the
図3に示すように、第1の引出導体41は、積層構造を有してもよい。図3に示す例では、第1の引出導体41の積層方向は、高さ方向Tに沿っている。なお、図3では、説明の便宜上、第1の引出導体41が有する積層構造の各層の境界が示されているが、実際には境界が明瞭に現れない。
As shown in FIG. 3, the
第2の引出導体42の一方の端部は、コイル20の終端に接続されている。第2の引出導体42の他方の端部は、第2の外部電極32に接続されている。図2及び図3に示す例では、第2の引出導体42の一方の端部から他方の端部に延びる方向は、高さ方向Tに沿っている。
One end of the
図示されていないが、第2の引出導体42は、積層構造を有してもよい。
Although not shown, the
図5に示すように、磁性体部10に含有される金属磁性粒子50のうち、磁性体部10と下地層31aとの界面に位置する金属磁性粒子51に着目したとき、磁性体部10と下地層31aとの界面において、金属磁性粒子51と下地層31aとの間には、酸化膜61が存在する。酸化膜61は、磁性体部10と下地層31aとの界面の全体に存在してもよく、一部に存在してもよい。
As shown in FIG. 5, among the metal
図示されていないが、磁性体部10に含有される金属磁性粒子50のうち、磁性体部10と下地層32aとの界面に位置する金属磁性粒子51に着目したとき、磁性体部10と下地層32aとの界面において、金属磁性粒子51と下地層32aとの間には、酸化膜61が存在することが好ましい。その場合、酸化膜61は、磁性体部10と下地層32aとの界面の全体に存在してもよく、一部に存在してもよい。
Although not shown, among the metal
なお、磁性体部10と下地層31aとの界面、及び、磁性体部10と下地層32aとの界面のうち、いずれか一方の界面にのみ酸化膜61が存在してもよく、両方の界面に酸化膜61が存在してもよい。
Note that the
酸化膜61は、金属磁性粒子51に含まれる金属元素を含有する。例えば、金属磁性粒子51がFe及びSiを含む場合、酸化膜61は、Feの酸化物を含有する酸化膜でもよく、Siの酸化物を含有する酸化膜でもよく、Fe及びSiの酸化物を含有する酸化膜でもよい。酸化膜61の組成は一様でなくてもよく、例えば、酸化膜61において、Feの酸化物を含有する部分、Siの酸化物を含有する部分、Fe及びSiの酸化物を含有する部分が混在してもよい。
図6Aは、図5に示す部分におけるFe元素のマッピング像である。図6Bは、図5に示す部分におけるO元素のマッピング像である。図6Cは、図5に示す部分におけるAg元素のマッピング像である。 FIG. 6A is a mapping image of Fe element in the portion shown in FIG. FIG. 6B is a mapping image of O element in the portion shown in FIG. FIG. 6C is a mapping image of Ag element in the portion shown in FIG.
図6A、図6B及び図6Cは、SEM-EDXにより測定して得られる元素のマッピング像である。図6A、図6B及び図6Cより、磁性体部10と下地層31aとの界面において、金属磁性粒子51と下地層31aとの間に酸化膜61が存在することが確認できる。
6A, 6B, and 6C are mapping images of elements obtained by SEM-EDX measurement. 6A, 6B, and 6C, it can be confirmed that an
酸化膜61の厚みは特に限定されず、例えば50nm以上である。酸化膜61の厚みは、好ましくは75nm以上であり、より好ましくは100nm以上であり、さらに好ましくは200nm以上であり、特に好ましくは1μm以上である。一方、酸化膜61の厚みは、例えば2μm以下である。酸化膜61の厚みは、一定でもよく、一定でなくてもよい。酸化膜61の厚みが一定でない場合、例えば酸化膜61の厚みが50nm以上である部分が存在してもよい。
The thickness of
コイル部品1では、磁性体部10と外部電極30の下地層との界面において、金属磁性粒子51に含まれる金属元素を含有する酸化膜61が介在していることで、磁性体部10と外部電極30との密着強度が高くなる。
In the coil component 1 , the
このように、コイル部品1では、酸化膜61によって磁性体部10と外部電極30との密着性を向上できるため、特許文献2に記載の技術と異なり、ガラス成分を含有しない下地層を形成することができる。したがって、導体抵抗の上昇を抑制することができる。以上より、直流抵抗を低く維持したまま、磁性体部10と外部電極30との密着性を向上できる。
As described above, in the coil component 1, the
例えば、金属磁性粒子51がFe及びSiを含む場合、金属磁性粒子51に含有されるFeは、外部電極30の下地層に含有されるAgよりもイオン化傾向が大きいため酸化されやすい。一方、Agは還元されやすいことから、外部電極30の下地層近傍の金属磁性粒子51の表面に、厚い酸化膜61が形成される。
For example, when the metal
したがって、図5に示すように、金属磁性粒子51と下地層31aとの間に存在する酸化膜61は、磁性体部10と下地層31aとの界面に位置する金属磁性粒子51の、下地層31a側の表面に存在することが好ましい。同様に、金属磁性粒子51と下地層32aとの間に存在する酸化膜61は、磁性体部10と下地層32aとの界面に位置する金属磁性粒子51の、下地層32a側の表面に存在することが好ましい。
Therefore, as shown in FIG. 5, the
なお、酸化膜61の厚みは、以下に説明する方法で測定することができる。まず、コイル部品1を切断して断面を形成し、イオンミリングにより加工する。加工後の断面を走査透過型電子顕微鏡(STEM)にて観察する。エネルギー分散型X線分析(EDX)によるマッピング元素分析を行い、酸素(O)が検出される範囲を酸化膜61の厚みとする。拡大倍率は、10000倍以上500000倍以下程度に設定することが好ましい。後述する酸化膜62及び63の厚みを測定する方法も同様である。
The thickness of
酸化膜61は、金属磁性粒子51に含まれる金属元素以外の元素をさらに含有してもよい。例えば、酸化膜61は、Cr、Al、Li、Zn等の元素を少なくとも1種含有してもよい。
The
例えば、金属磁性粒子51と下地層31aとの間に存在する酸化膜61がZnを含む場合、酸化膜61に含まれるZnは下地層31a側に偏在していることが好ましい。同様に、金属磁性粒子51と下地層32aとの間に存在する酸化膜61がZnを含む場合、酸化膜61に含まれるZnは下地層32a側に偏在していることが好ましい。Znが下地層31a側又は下地層32a側に偏在している場合、金属磁性粒子51と下地層31a又は下地層32aとの間の絶縁性が向上するため、コイル部品1の耐電圧性がさらに向上し得る。
For example, when the
なお、酸化膜61に含まれるZnが下地層31a側又は下地層32a側に偏在していることは、上述のEDXによるマッピング元素分析を行い、金属磁性粒子51と下地層31a又は下地層32aとの間で亜鉛(Zn)が検出される範囲を確認すればよい。なお、本開示における「酸化膜61に含まれるZnが下地層31a側又は下地層32a側に偏在している」とは、上述のマッピング元素分析の結果、Znの最大ピークが金属磁性粒子51と下地層31aの中央、又は金属磁性粒子51と下地層32aの中央よりも、下地層31a側又は下地層32a側に位置していることをいう。
The fact that the Zn contained in the
図5に示すように、磁性体部10と下地層31aとの界面において、隣接する金属磁性粒子51の間には、下地層31aの一部が入り込んでいてもよい。同様に、磁性体部10と下地層32aとの界面において、隣接する金属磁性粒子51の間には、下地層32aの一部が入り込んでいてもよい。その場合、アンカー効果によって、磁性体部10と外部電極30との密着強度が高くなる。
As shown in FIG. 5, a portion of the
図5に示すように、磁性体部10に含有される金属磁性粒子50のうち、磁性体部10の内部において、磁性体部10と下地層31a又は下地層32aとの界面に位置する金属磁性粒子51に隣り合う金属磁性粒子52の表面には、酸化膜62が存在することが好ましい。
As shown in FIG. 5 , among the metal
酸化膜62の厚みは、金属磁性粒子51と下地層31a又は下地層32aとの間に存在する酸化膜61の厚みよりも小さい。これにより、密着強度の向上と酸化による特性劣化の抑制との両立を図ることができる。金属磁性粒子50は、元々その表面に金属磁性粒子50に由来する金属元素の酸化物膜を備えている。これを脱脂、焼成することで、金属磁性粒子50が存在する位置によって酸化膜の厚みが異なるようになるため、酸化膜62の厚みを酸化膜61の厚みよりも小さくすることができる。
The thickness of the
酸化膜62は、例えば、金属磁性粒子52に含まれる金属元素を含有する。酸化膜62の組成は、酸化膜61の組成と同じでもよく、異なってもよい。
The
図7は、図4においてVIIで示す部分を拡大した模式図である。 FIG. 7 is an enlarged schematic diagram of the portion indicated by VII in FIG.
図7に示すように、磁性体部10に含有される金属磁性粒子50のうち、磁性体部10とコイル20との界面に位置する金属磁性粒子53に着目したとき、磁性体部10とコイル20との界面において、金属磁性粒子53とコイル20との間には、酸化膜63が存在してもよい。金属磁性粒子53とコイル20との間に存在する酸化膜63は、磁性体部10とコイル20との界面に位置する金属磁性粒子53の、コイル20側の表面に存在することが好ましい。
As shown in FIG. 7, among the metal
酸化膜63の厚みは、金属磁性粒子51と下地層31a又は下地層32aとの間に存在する酸化膜61よりも厚みが小さい。これにより、密着強度の向上と酸化による特性劣化の抑制との両立を図ることができる。
The thickness of the
酸化膜63は、例えば、金属磁性粒子53に含まれる金属元素を含有する。酸化膜63の組成は、酸化膜61の組成と同じでもよく、異なってもよい。また、酸化膜63の組成は、酸化膜62の組成と同じでもよく、異なってもよい。
The
コイル部品1は、図2及び図3に示すように、絶縁層70をさらに備えてもよい。
The coil component 1 may further include an insulating
図2及び図3に示す例では、コイル20を構成する複数のコイル導体層同士の間に絶縁層70が設けられている。コイル導体層同士の間に絶縁層70が配置されることにより、コイル導体層の間に発生する短絡を防止することができるため、コイル部品1の信頼性が向上し得る。
In the examples shown in FIGS. 2 and 3 , an insulating
図2及び図3に示す例では、絶縁層70は、高さ方向Tから見てコイル導体層と重なる位置のみに配置されている。絶縁層70の配置は特に限定されず、絶縁層70は、高さ方向Tから見てコイル導体層と重ならない位置にも設けられてよい。短絡を防止する観点から、絶縁層70は、図2及び図3に示すように、隣り合うコイル導体層の間の各々に配置されていることが好ましい。
In the example shown in FIGS. 2 and 3, the insulating
絶縁層70を構成する材料は、磁性体部10よりも絶縁性が高い材料であれば特に限定されず、例えば、非磁性材料、フェライト材料、金属磁性材料等が挙げられる。
The material forming the insulating
本発明のコイル部品は、例えば、以下の方法により製造される。 A coil component of the present invention is manufactured, for example, by the following method.
以下、印刷積層法を用いてコイル部品1を作製する方法の一例について説明する。本発明のコイル部品は、印刷積層法を用いて作製されてもよく、シート積層法を用いて作製されてもよい。 An example of a method of manufacturing the coil component 1 using the printing lamination method will be described below. The coil component of the present invention may be produced using a printing lamination method or may be produced using a sheet lamination method.
まず、磁性ペーストを準備する。 First, a magnetic paste is prepared.
例えば、体積基準の累積50%粒子径D50が2μm以上、20μm以下(好ましくは10μm程度)のFe-Si合金、Fe-Si-Cr合金等の金属磁性粉末を準備する。金属磁性粉末に、セルロース又はポリビニルブチラール(PVB)等の結合剤と、ターピネオール又はブチルジグリコールアセテート(BCA)等の溶剤とを含有させ、混錬することで、金属磁性粒子を含有する磁性ペーストを作製する。金属磁性粉末以外の成分として、Cr、Al、Li、Zn等の酸化物粉末を含有させて、混錬してもよい。 For example, a metal magnetic powder such as an Fe—Si alloy or Fe—Si—Cr alloy having a volume-based cumulative 50% particle diameter D50 of 2 μm or more and 20 μm or less (preferably about 10 μm) is prepared. A binder such as cellulose or polyvinyl butyral (PVB) and a solvent such as terpineol or butyl diglycol acetate (BCA) are added to the metal magnetic powder and kneaded to form a magnetic paste containing the metal magnetic particles. make. As a component other than the metal magnetic powder, oxide powder such as Cr, Al, Li, and Zn may be added and kneaded.
金属磁性粉末としてFe-Si合金を用いる場合、Siの含有量は2.0at%以上、8.0at%以下であることが好ましい。金属磁性粉末としてFe-Si-Cr合金を用いる場合、Siの含有量は2.0at%以上、8.0at%以下であることが好ましく、Crの含有量は0.2at%以上、6.0at%以下であることが好ましい。 When an Fe—Si alloy is used as the metal magnetic powder, the Si content is preferably 2.0 at % or more and 8.0 at % or less. When an Fe--Si--Cr alloy is used as the metal magnetic powder, the Si content is preferably 2.0 at % or more and 8.0 at % or less, and the Cr content is 0.2 at % or more and 6.0 at %. % or less.
金属磁性粉末の表面には、絶縁性被膜が設けられている。絶縁性被膜は、金属酸化物を含む酸化膜であり、Siの酸化物を含む酸化膜をさらに含むことが好ましい。Siの酸化物を含む酸化膜を形成する方法としては、例えばメカノケミカル法、ゾルゲル法等が挙げられる。中でも、ゾルゲル法が好ましい。ゾルゲル法によりSiの酸化物を含む酸化膜を形成する場合、例えば、Siアルコキシドを含むゾルゲルコート剤と有機鎖含有シランカップリング剤とを混合し、この混合液を金属磁性粉末の表面に付着させ、加熱処理によって脱水結合させた後、所定の温度で乾燥することで形成できる。 An insulating coating is provided on the surface of the metal magnetic powder. The insulating film is an oxide film containing a metal oxide, and preferably further contains an oxide film containing an oxide of Si. Methods for forming an oxide film containing an oxide of Si include, for example, a mechanochemical method and a sol-gel method. Among them, the sol-gel method is preferred. When forming an oxide film containing an oxide of Si by the sol-gel method, for example, a sol-gel coating agent containing a Si alkoxide and a silane coupling agent containing an organic chain are mixed, and the mixture is adhered to the surface of the metal magnetic powder. can be formed by drying at a predetermined temperature after dehydration bonding by heat treatment.
別途、Agを含有する導電ペーストを準備する。導電ペーストは、ガラスフリットを含有しないことが好ましい。 Separately, a conductive paste containing Ag is prepared. The conductive paste preferably does not contain glass frit.
絶縁層70を形成する場合には、さらに、絶縁性材料を含有する絶縁ペーストを準備する。
When forming the insulating
上記の磁性ペースト、導電ペースト及び絶縁ペーストを用いて、積層体ブロックを作製する。 A laminate block is produced using the above magnetic paste, conductive paste, and insulating paste.
図8Aは、磁性ペースト層を形成する方法の一例を模式的に示す平面図である。 FIG. 8A is a plan view schematically showing an example of a method of forming a magnetic paste layer;
図示されていないが、まず、金属プレートの上に熱剥離シート及びPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムを積み重ねた基板を準備する。基板の上に磁性ペーストを所定回数スクリーン印刷し、磁性ペースト層110を形成する。これはコイル部品の外層となる。
Although not shown, first, a substrate is prepared by stacking a thermal release sheet and a PET (polyethylene terephthalate) film on a metal plate. A
図8Bは、磁性ペースト層の上に導電ペースト層を形成する方法の一例を模式的に示す平面図である。 FIG. 8B is a plan view schematically showing an example of a method of forming a conductive paste layer on a magnetic paste layer;
磁性ペースト層110の上に導電ペーストを印刷し、コイル20のコイル導体層となる導電ペースト層120を形成する。さらに、導電ペースト層120が形成されていない領域に磁性ペースト層110を形成する。なお、磁性ペースト層110、導電ペースト層120は境界部で一部重なるように形成されてもよい。
A conductive paste is printed on the
図8Cは、導電ペースト層の上に絶縁ペースト層及びビア導体を形成する方法の一例を模式的に示す平面図である。 8C is a plan view schematically showing an example of a method of forming an insulating paste layer and via conductors on a conductive paste layer; FIG.
導電ペースト層120の上の所定の領域に絶縁ペーストを印刷し、絶縁ペースト層170を形成する。さらに、後述のビア導体となる領域以外の領域、及び、絶縁ペースト層170が形成された領域以外の領域に磁性ペーストを印刷し、磁性ペースト層110を形成する。また、導電ペースト層120上で次の工程で印刷するコイル導体層と接続する領域にビア導体145と、底面に引き出すためのビア導体141とを形成する。なお、絶縁ペースト層170、ビア導体141、ビア導体145及び磁性ペースト層110は境界部で一部重なるように形成されてもよい。
An insulating paste is printed on a predetermined area on the
図8Dは、磁性ペースト層及び絶縁ペースト層の上に導電ペースト層を形成する方法の一例を模式的に示す平面図である。 FIG. 8D is a plan view schematically showing an example of a method of forming a conductive paste layer on the magnetic paste layer and the insulating paste layer;
磁性ペースト層110及び絶縁ペースト層170の上に導電ペーストを印刷し、コイル導体層となる導電ペースト層120を形成する。さらに、底面に引き出すためのビア導体141の上に導電ペーストをさらに印刷する。なお、導電ペースト層120を形成するための導電ペーストと、ビア導体141の上の導電ペーストとは同時に印刷する。
A conductive paste is printed on the
図8C及び図8Dで説明した工程を所定回数繰り返す。 The steps described with reference to FIGS. 8C and 8D are repeated a predetermined number of times.
図8Eは、導電ペースト層の上にビア導体を形成する方法の一例を模式的に示す平面図である。 FIG. 8E is a plan view schematically showing an example of a method of forming via conductors on a conductive paste layer;
導電ペースト層120の上に導電ペーストを印刷し、底面に引き出すためのビア導体141及び142を形成する。さらに、ビア導体141及び142が形成されていない領域に磁性ペーストを印刷し、磁性ペースト層110を形成する。
A conductive paste is printed on the
図8Eで説明した工程を所定回数繰り返す。 The process described in FIG. 8E is repeated a predetermined number of times.
図8Fは、外部電極の下地層となる導電ペースト層を形成する方法の一例を模式的に示す平面図である。 FIG. 8F is a plan view schematically showing an example of a method of forming a conductive paste layer that serves as a base layer for external electrodes.
最後に、外部電極30の下地層となる導電ペースト層を形成する。具体的には、第1の外部電極31の下地層31aとなる導電ペースト層131aと、第2の外部電極32の下地層32aとなる導電ペースト層132aとを形成する。さらに、導電ペースト層131a及び132aが形成されていない領域に磁性ペースト層110を形成する。
Finally, a conductive paste layer that serves as a base layer for the
上記の手順で作製した積層体を加圧圧縮することにより、積層体ブロックが得られる。 A laminate block is obtained by compressing the laminate produced by the above procedure.
積層体ブロックをダイサー等で切断して個片化することにより、素子が得られる。焼成後に個片化してもよい。 Elements are obtained by cutting the laminate block with a dicer or the like to individualize it. You may separate into pieces after baking.
個片化した素子を脱脂後、焼成炉に入れ、大気中で600℃以上、800℃以下、30分間以上、90分間以下の条件で焼成を行う。このとき、磁性ペーストに含まれる金属磁性粉末の表面に酸化膜が形成される。 After degreasing the singulated elements, they are placed in a firing furnace and fired in the atmosphere at 600° C. or higher and 800° C. or lower for 30 minutes or longer and 90 minutes or shorter. At this time, an oxide film is formed on the surface of the metal magnetic powder contained in the magnetic paste.
必要に応じて、エポキシ樹脂等の樹脂を含浸し、熱硬化する。樹脂を含浸することで、金属磁性粒子間の空隙が樹脂で埋められるため、磁性体部10の強度を確保することができるとともに、めっき液又は湿気等の浸入を抑制することができる。
If necessary, it is impregnated with a resin such as an epoxy resin and heat-cured. By impregnating the resin, the gaps between the metal magnetic particles are filled with the resin, so that the strength of the
電解めっきにより、下地層の上にめっき層を形成する。めっき層として、例えば、Cu被膜を形成してもよく、Ni被膜及びSn被膜を順に形成してもよく、Ni被膜及びCu被膜を順に形成してもよい。これにより、外部電極30が形成される。
A plated layer is formed on the underlying layer by electroplating. As the plating layer, for example, a Cu film may be formed, a Ni film and a Sn film may be formed in this order, or a Ni film and a Cu film may be formed in this order. Thereby, the
以上により、図1に示すようなコイル部品1を作製することができる。コイル部品1のサイズは、例えば、長さ方向Lの寸法が1.6mm、幅方向Wの寸法が0.8mm、高さ方向Tの寸法が0.4mm以上、1.0mm以下(例えば0.64mm)であり、コイル20のコイル導体層の厚みは20μm以上、90μm以下である。
As described above, the coil component 1 as shown in FIG. 1 can be manufactured. The size of the coil component 1 is, for example, 1.6 mm in the length direction L, 0.8 mm in the width direction W, and 0.4 mm or more and 1.0 mm or less (for example, 0.4 mm) in the height direction T. 64 mm), and the thickness of the coil conductor layer of the
上記の例では、同一の導電ペーストを用いてコイル20及び外部電極30を形成しているが、異なる導電ペーストを用いてコイル20及び外部電極30を形成してもよい。導電ペーストを使い分けることで、コイル20近傍に形成される酸化膜63よりも外部電極30近傍に形成される酸化膜61を厚くすることができる。
Although the same conductive paste is used to form the
例えば、焼結しやすいAg粒子を含有する導電ペーストを用いて外部電極30の下地層を形成することで、外部電極30近傍に厚い酸化膜61が形成されるため、固着強度を向上させることができる。一方、焼結しにくいAg粒子を含有する導電ペーストを用いてコイル20のコイル導体層を形成することで、コイル20近傍に薄い酸化膜63が形成されるため、酸化による特性劣化を抑制することができる。
For example, by forming the base layer of the
焼結しやすいAg粒子として、例えば、粒径の小さいAg粒子、湿式還元法により作製されたAg粒子等を用いることができる。一方、焼結しにくいAg粒子として、例えば、粒径の大きいAg粒子、アトマイズ法により作製されたAg粒子等を用いることができる。 As Ag particles that are easily sintered, for example, Ag particles having a small particle size, Ag particles produced by a wet reduction method, or the like can be used. On the other hand, as Ag particles that are difficult to sinter, for example, Ag particles having a large particle size, Ag particles produced by an atomizing method, or the like can be used.
本発明のコイル部品は、上記実施形態に限定されるものではなく、コイル部品の構成、製造条件等に関し、本発明の範囲内において、種々の応用、変形を加えることが可能である。 The coil component of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various applications and modifications can be made within the scope of the present invention regarding the configuration of the coil component, manufacturing conditions, and the like.
例えば、コイル20は、積層構造を有してもよく、積層構造を有しなくてもよい。
For example, the
コイル20のパターン形状は特に限定されるものではない。コイル20のパターン形状を変更することにより、インダクタンスを調整することができる。例えば、コイル20のパターン形状は、直線状であってもよい。
The pattern shape of the
磁性体部10の内部には、1つのコイル20が配置されていてもよく、複数のコイル20が配置されていてもよい。磁性体部10の内部に複数のコイル20を配置することにより、コイル部品の実装面積及び実装点数を削減することができる。
One
磁性体部10の内部に複数のコイル20が配置されている場合、コイル20の構成はそれぞれ同じでもよく、一部又は全部が異なってもよい。
When a plurality of
磁性体部10の内部に複数のコイル20が配置されている場合、コイル20の配置は特に限定されるものではない。複数のコイル20は、全て同じ向きに配置されていてもよく、一部又は全部が異なる向きに配置されていてもよい。複数のコイル20は、直線状に配置されていてもよく、平面状に配置されていてもよい。複数のコイル20は、規則的に配置されていてもよく、不規則に配置されていてもよい。
When a plurality of
本明細書には、以下の内容が開示されている。 The following contents are disclosed in this specification.
<1>
金属磁性粒子を含有する磁性体部と、
上記磁性体部の内部に埋設されたコイルと、
上記磁性体部の少なくとも底面に設けられ、上記コイルと電気的に接続されている外部電極と、を備え、
上記外部電極は、上記磁性体部側から順に、Agを含有する下地層と、めっき層とを含み、
上記磁性体部と上記下地層との界面において、上記金属磁性粒子と上記下地層との間には、上記金属磁性粒子に含まれる金属元素を含有する酸化膜が存在し、
上記磁性体部の内部において、上記界面に位置する上記金属磁性粒子に隣り合う金属磁性粒子の表面には、上記金属磁性粒子と上記下地層との間に存在する上記酸化膜よりも厚みが小さい酸化膜が存在する、コイル部品。
<1>
a magnetic body portion containing metal magnetic particles;
a coil embedded inside the magnetic body;
an external electrode provided on at least the bottom surface of the magnetic body portion and electrically connected to the coil,
The external electrode includes, in order from the magnetic body portion side, an underlying layer containing Ag and a plating layer,
an oxide film containing the metal element contained in the metal magnetic particles is present between the metal magnetic particles and the underlayer at the interface between the magnetic material portion and the underlayer,
Inside the magnetic body portion, the surface of the metal magnetic particle adjacent to the metal magnetic particle located at the interface has a thickness smaller than that of the oxide film existing between the metal magnetic particle and the underlayer. Coil parts with oxide film.
<2>
上記金属磁性粒子と上記下地層との間に存在する上記酸化膜の厚みは50nm以上である、<1>に記載のコイル部品。
<2>
The coil component according to <1>, wherein the oxide film present between the metal magnetic particles and the underlayer has a thickness of 50 nm or more.
<3>
上記金属磁性粒子と上記下地層との間に存在する上記酸化膜の厚みは100nm以上である、<1>に記載のコイル部品。
<3>
The coil component according to <1>, wherein the oxide film present between the metal magnetic particles and the underlayer has a thickness of 100 nm or more.
<4>
上記金属磁性粒子と上記下地層との間に存在する上記酸化膜は、上記磁性体部と上記下地層との界面に位置する上記金属磁性粒子の、上記下地層側の表面に存在する、<1>~<3>のいずれか1つに記載のコイル部品。
<4>
The oxide film present between the metal magnetic particles and the underlayer is present on the underlayer-side surface of the metal magnetic particles located at the interface between the magnetic portion and the underlayer. The coil component according to any one of 1> to <3>.
<5>
上記下地層は、ガラス成分を含有しない、<1>~<4>のいずれか1つに記載のコイル部品。
<5>
The coil component according to any one of <1> to <4>, wherein the underlayer does not contain a glass component.
<6>
上記金属磁性粒子と上記下地層との間に存在する上記酸化膜はZnを含み、
上記Znは上記下地層側に偏在している、<1>~<5>のいずれか1つに記載のコイル部品。
<6>
the oxide film present between the metal magnetic particles and the underlayer contains Zn;
The coil component according to any one of <1> to <5>, wherein the Zn is unevenly distributed on the underlayer side.
<7>
上記磁性体部と上記コイルとの界面において、上記金属磁性粒子と上記コイルとの間には、上記金属磁性粒子と上記下地層との間に存在する上記酸化膜よりも厚みが小さい酸化膜が存在する、<1>~<6>のいずれか1つに記載のコイル部品。
<7>
At the interface between the magnetic body portion and the coil, an oxide film having a thickness smaller than that of the oxide film existing between the metal magnetic particles and the underlayer is provided between the metal magnetic particles and the coil. The coil component according to any one of <1> to <6>, which is present.
<8>
上記金属磁性粒子と上記コイルとの間に存在する上記酸化膜は、上記磁性体部と上記コイルとの界面に位置する上記金属磁性粒子の、上記コイル側の表面に存在する、<7>に記載のコイル部品。
<8>
<7>, wherein the oxide film present between the metal magnetic particles and the coil is present on the coil-side surface of the metal magnetic particles positioned at the interface between the magnetic portion and the coil; Coil components listed.
また、本明細書には、以下の内容も開示されている。 This specification also discloses the following.
<11>
金属磁性粒子を含有する磁性体部と、
上記磁性体部の内部に埋設されたコイルと、
上記磁性体部の少なくとも底面に設けられ、上記コイルと電気的に接続されている外部電極と、を備え、
上記外部電極は、上記磁性体部側から順に、Agを含有する下地層と、めっき層とを含み、
上記磁性体部と上記下地層との界面において、上記金属磁性粒子と上記下地層との間には、上記金属磁性粒子に含まれる金属元素を含有する酸化膜が存在し、
上記金属磁性粒子と上記下地層との間に存在する上記酸化膜の厚みは50nm以上である、コイル部品。
<11>
a magnetic body portion containing metal magnetic particles;
a coil embedded inside the magnetic body;
an external electrode provided on at least the bottom surface of the magnetic body portion and electrically connected to the coil,
The external electrode includes, in order from the magnetic body portion side, an underlying layer containing Ag and a plating layer,
an oxide film containing the metal element contained in the metal magnetic particles is present between the metal magnetic particles and the underlayer at the interface between the magnetic material portion and the underlayer,
A coil component, wherein the oxide film present between the metal magnetic particles and the underlayer has a thickness of 50 nm or more.
<12>
上記金属磁性粒子と上記下地層との間に存在する上記酸化膜の厚みは100nm以上である、<11>に記載のコイル部品。
<12>
The coil component according to <11>, wherein the oxide film present between the metal magnetic particles and the underlayer has a thickness of 100 nm or more.
<13>
上記金属磁性粒子と上記下地層との間に存在する上記酸化膜は、上記磁性体部と上記下地層との界面に位置する上記金属磁性粒子の、上記下地層側の表面に存在する、<11>又は<12>に記載のコイル部品。
<13>
The oxide film present between the metal magnetic particles and the underlayer is present on the underlayer-side surface of the metal magnetic particles located at the interface between the magnetic portion and the underlayer. 11> or the coil component according to <12>.
<14>
上記磁性体部の内部において、上記界面に位置する上記金属磁性粒子に隣り合う金属磁性粒子の表面には、上記金属磁性粒子と上記下地層との間に存在する上記酸化膜よりも厚みが小さい酸化膜が存在する、<11>~<13>のいずれか1つに記載のコイル部品。
<14>
Inside the magnetic body portion, the surface of the metal magnetic particle adjacent to the metal magnetic particle located at the interface has a thickness smaller than that of the oxide film existing between the metal magnetic particle and the underlayer. The coil component according to any one of <11> to <13>, including an oxide film.
<15>
上記下地層は、ガラス成分を含有しない、<11>~<14>のいずれか1つに記載のコイル部品。
<15>
The coil component according to any one of <11> to <14>, wherein the underlayer does not contain a glass component.
<16>
上記金属磁性粒子と上記下地層との間に存在する上記酸化膜はZnを含み、
上記Znは上記下地層側に偏在している、<11>~<15>のいずれか1つに記載のコイル部品。
<16>
the oxide film present between the metal magnetic particles and the underlayer contains Zn;
The coil component according to any one of <11> to <15>, wherein the Zn is unevenly distributed on the underlayer side.
<17>
上記磁性体部と上記コイルとの界面において、上記金属磁性粒子と上記コイルとの間には、上記金属磁性粒子と上記下地層との間に存在する上記酸化膜よりも厚みが小さい酸化膜が存在する、<11>~<16>のいずれか1つに記載のコイル部品。
<17>
At the interface between the magnetic body portion and the coil, an oxide film having a thickness smaller than that of the oxide film existing between the metal magnetic particles and the underlayer is provided between the metal magnetic particles and the coil. The coil component according to any one of <11> to <16>, which is present.
<18>
上記金属磁性粒子と上記コイルとの間に存在する上記酸化膜は、上記磁性体部と上記コイルとの界面に位置する上記金属磁性粒子の、上記コイル側の表面に存在する、<17>に記載のコイル部品。
<18>
<17>, wherein the oxide film present between the metal magnetic particles and the coil is present on the coil-side surface of the metal magnetic particles positioned at the interface between the magnetic portion and the coil; Coil components listed.
1 コイル部品
10 磁性体部
11 第1の主面(底面)
12 第2の主面
13 第1の端面
14 第2の端面
15 第1の側面
16 第2の側面
20 コイル
30 外部電極
31 第1の外部電極
31a 第1の外部電極の下地層
31b 第1の外部電極のめっき層
31b1 第1の外部電極の第1のめっき層
31b2 第1の外部電極の第2のめっき層
32 第2の外部電極
32a 第2の外部電極の下地層
32b 第2の外部電極のめっき層
40 引出導体
41 第1の引出導体
42 第2の引出導体
50 金属磁性粒子
51 磁性体部と下地層との界面に位置する金属磁性粒子
52 磁性体部と下地層との界面に位置する金属磁性粒子に隣り合う金属磁性粒子
53 磁性体部とコイルとの界面に位置する金属磁性粒子
61 金属磁性粒子と下地層との間に存在する酸化膜
62 磁性体部と下地層との界面に位置する金属磁性粒子に隣り合う金属磁性粒子の表面に存在する酸化膜
63 金属磁性粒子とコイルとの間に存在する酸化膜
70 絶縁層
110 磁性ペースト層
120、131a、132a 導電ペースト層
141、142、145 ビア導体
170 絶縁ペースト層
L 長さ方向
T 高さ方向
W 幅方向
REFERENCE SIGNS LIST 1
12 second
Claims (8)
前記磁性体部の内部に埋設されたコイルと、
前記磁性体部の少なくとも底面に設けられ、前記コイルと電気的に接続されている外部電極と、を備え、
前記外部電極は、前記磁性体部側から順に、Agを含有する下地層と、めっき層とを含み、
前記磁性体部と前記下地層との界面において、前記金属磁性粒子と前記下地層との間には、前記金属磁性粒子に含まれる金属元素を含有する酸化膜が存在し、
前記磁性体部の内部において、前記界面に位置する前記金属磁性粒子に隣り合う金属磁性粒子の表面には、前記金属磁性粒子と前記下地層との間に存在する前記酸化膜よりも厚みが小さい酸化膜が存在する、コイル部品。 a magnetic body portion containing metal magnetic particles;
a coil embedded inside the magnetic body;
an external electrode provided on at least the bottom surface of the magnetic body portion and electrically connected to the coil,
The external electrode includes, in order from the magnetic body portion side, an underlying layer containing Ag and a plating layer,
an oxide film containing a metal element contained in the metal magnetic particles is present between the metal magnetic particles and the underlayer at the interface between the magnetic material portion and the underlayer,
Inside the magnetic body portion, the surface of the metal magnetic particle adjacent to the metal magnetic particle located at the interface has a thickness smaller than that of the oxide film existing between the metal magnetic particle and the underlayer. Coil parts with oxide film.
前記Znは前記下地層側に偏在している、請求項1~3のいずれか1項に記載のコイル部品。 the oxide film present between the metal magnetic particles and the underlayer contains Zn;
4. The coil component according to claim 1, wherein said Zn is unevenly distributed on said underlayer side.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310017987.7A CN116453825A (en) | 2022-01-14 | 2023-01-06 | Coil component |
US18/153,451 US20230230755A1 (en) | 2022-01-14 | 2023-01-12 | Coil component |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022004581 | 2022-01-14 | ||
JP2022004581 | 2022-01-14 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023103954A true JP2023103954A (en) | 2023-07-27 |
Family
ID=87378511
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022163362A Pending JP2023103954A (en) | 2022-01-14 | 2022-10-11 | Coil component |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2023103954A (en) |
-
2022
- 2022-10-11 JP JP2022163362A patent/JP2023103954A/en active Pending
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