JP2023100005A - 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - Google Patents

樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 Download PDF

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Hiromu Nakamura
一晟 北村
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024190204A1 (ja) * 2023-03-14 2024-09-19 Jsr株式会社 感放射線性組成物及びパターン形成方法
WO2025057562A1 (ja) * 2023-09-14 2025-03-20 Jsr株式会社 感放射線性組成物、パターン形成方法、及び重合体
WO2025069728A1 (ja) * 2023-09-27 2025-04-03 Jsr株式会社 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法
WO2025142207A1 (ja) * 2023-12-26 2025-07-03 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024190204A1 (ja) * 2023-03-14 2024-09-19 Jsr株式会社 感放射線性組成物及びパターン形成方法
WO2025057562A1 (ja) * 2023-09-14 2025-03-20 Jsr株式会社 感放射線性組成物、パターン形成方法、及び重合体
WO2025069728A1 (ja) * 2023-09-27 2025-04-03 Jsr株式会社 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法
WO2025142207A1 (ja) * 2023-12-26 2025-07-03 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物

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