JP2023084962A - Oxidation reaction electrode and electrochemical reaction device - Google Patents

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真太郎 水野
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Abstract

To provide an oxidation reaction electrode with excellent durability and an electrochemical reaction device.SOLUTION: An oxidation reaction electrode has a substrate 114, and a catalyst layer 116 containing iridium oxide supported on the substrate 114. A thickness of the catalyst layer 116 is 10 nm or more and 500 nm or less. When the atomic concentration of iridium is measured by energy-dispersive X-ray analysis at a plurality of measurement points on a surface of the catalyst layer 116 at a detection depth where a substance that becomes the substrate 114 can be detected, the coefficient of variation (standard deviation of the atomic concentration of iridium/average value of the atomic concentration of iridium) of the atomic concentration of iridium is 0.1 or less.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、酸化反応用電極及び電気化学反応デバイスに関する。 The present invention relates to an oxidation reaction electrode and an electrochemical reaction device.

酸化反応用電極と還元反応用電極との間を電気的に接続し、バイアス電圧を印加することで、酸化反応用電極で水を酸化して酸素を生成し、還元反応用電極で二酸化炭素等を還元してギ酸等を生成する電気化学反応デバイスが知られている(例えば、特許文献1)。 By electrically connecting the oxidation reaction electrode and the reduction reaction electrode and applying a bias voltage, the oxidation reaction electrode oxidizes water to generate oxygen, and the reduction reaction electrode produces carbon dioxide, etc. is known to produce formic acid or the like (for example, Patent Document 1).

非特許文献1には、酸化イリジウムを酸化触媒として使用した酸化反応用電極が開示されている。 Non-Patent Document 1 discloses an oxidation reaction electrode using iridium oxide as an oxidation catalyst.

特開2017-125242号公報JP 2017-125242 A

“A large-size cell for solar-driven CO2 conversion with a solar-to-formate conversion efficiency of 7.2%”, Joule, 2021, 5, pp.687-705“A large-size cell for solar-driven CO2 conversion with a solar-to-formate conversion efficiency of 7.2%”, Joule, 2021, 5, pp.687-705

ところで、一般的に、酸化反応用電極は、酸化イリジウム等の酸化触媒を含む溶液を基板に塗布することにより作製されるが、この方法では、基板の面内で触媒層の厚みに偏りが生じてしまう。触媒層の厚みに偏りが生じると、電極として動作させたときに、触媒粒子の脱落が起こり易くなるため、電極の耐久性が低下する。 Incidentally, an oxidation reaction electrode is generally produced by coating a substrate with a solution containing an oxidation catalyst such as iridium oxide. end up If the thickness of the catalyst layer is uneven, the catalyst particles are likely to fall off when operated as an electrode, resulting in a decrease in the durability of the electrode.

そこで、本発明の目的は、耐久性に優れた酸化反応用電極及び当該酸化反応用電極を備える電気化学反応デバイスを提供することである。 Accordingly, an object of the present invention is to provide an oxidation reaction electrode having excellent durability and an electrochemical reaction device provided with the oxidation reaction electrode.

本発明の実施形態に係る酸化反応用電極は、基板と、前記基板上に担持された酸化イリジウムを含む触媒層と、を有し、前記触媒層の厚さが10nm以上500nm以下であり、エネルギー分散型X線分析により、前記触媒層表面の複数の測定点において、前記基板となる物質が検出できる検出深さで、イリジウムの原子数濃度を測定した場合、当該イリジウムの原子数濃度の変動係数([イリジウムの原子数濃度の標準偏差/イリジウムの原子数濃度の平均値])が0.1以下であることを特徴とする。 An oxidation reaction electrode according to an embodiment of the present invention includes a substrate and a catalyst layer containing iridium oxide supported on the substrate, the thickness of the catalyst layer being 10 nm or more and 500 nm or less, energy Variation coefficient of the iridium atomic concentration when the iridium atomic concentration is measured at a plurality of measurement points on the catalyst layer surface at a detection depth at which the substrate material can be detected by dispersive X-ray analysis. ([standard deviation of iridium atomic concentration/average iridium atomic concentration]) is 0.1 or less.

本発明の実施形態に係る電気化学反応デバイスは、上記酸化反応用電極と、還元反応用電極と、電解液とを備えることを特徴とする。 An electrochemical reaction device according to an embodiment of the present invention is characterized by comprising the oxidation reaction electrode, the reduction reaction electrode, and the electrolytic solution.

また、上記電気化学反応デバイスにおいて、前記電解液のpHは6以上10以下であることが好ましい。 Moreover, in the above electrochemical reaction device, the pH of the electrolytic solution is preferably 6 or more and 10 or less.

本発明の実施形態によれば、耐久性に優れた酸化反応用電極及び当該酸化反応用電極を備える電気化学反応デバイスを提供することができる。 According to the embodiments of the present invention, it is possible to provide an oxidation reaction electrode having excellent durability and an electrochemical reaction device including the oxidation reaction electrode.

本実施形態に係る電気化学反応デバイスの構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a structure of the electrochemical reaction device which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る酸化反応用電極の構成の一例を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of an oxidation reaction electrode according to the present embodiment; FIG. 測定点5カ所において、触媒層の表面から基板となる物質が検出できる深さで測定を行うことにより検出されたイリジウム原子数濃度およびチタン原子数濃度を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing the iridium atomic number concentration and the titanium atomic number concentration detected by performing measurements at five measurement points from the surface of the catalyst layer to a depth at which a substrate material can be detected. 通電時間に対する実施例及び比較例の酸化反応用電極の電流密度の結果を示す図である。FIG. 4 is a graph showing results of current densities of the oxidation reaction electrodes of Examples and Comparative Examples with respect to energization time.

本発明の実施形態について以下説明する。本実施形態は本発明を実施する一例であって、本発明は本実施形態に限定されるものではない。 Embodiments of the present invention are described below. This embodiment is an example of implementing the present invention, and the present invention is not limited to this embodiment.

図1は、本実施形態に係る電気化学反応デバイスの構成の一例を示す図である。図1に示すように、電気化学反応デバイス100は、還元反応用電極102、酸化反応用電極104、電解液106を含んで構成される。また、図1に示す電気化学反応デバイス100では、太陽電池セル108、窓材110及び枠材112を備えている。 FIG. 1 is a diagram showing an example of the configuration of an electrochemical reaction device according to this embodiment. As shown in FIG. 1, the electrochemical reaction device 100 includes a reduction reaction electrode 102, an oxidation reaction electrode 104, and an electrolytic solution . Moreover, the electrochemical reaction device 100 shown in FIG.

還元反応用電極102は、還元反応によって炭素化合物又はプロトンを還元するために利用される電極である。還元反応用電極102は、炭素化合物又はプロトンを還元することができる電極であれば、その形態は特に限定されないが、例えば、基板と、基板上に配置される導電層と、導電層上に配置される導電体層と、を有する。 The reduction reaction electrode 102 is an electrode used for reducing carbon compounds or protons by a reduction reaction. The form of the reduction reaction electrode 102 is not particularly limited as long as it is an electrode capable of reducing carbon compounds or protons. and a conductive layer.

基板は、還元反応用電極102を構造的に支持する部材であり、特に材料が限定されるものではないが、例えば、ガラス基板等とされる。また、基板は、例えば、金属又は半導体を含んでもよい。基板として用いられる金属は、特に限定されるものではないが、銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、亜鉛(Zn)、インジウム(In)、カドミウム(Cd)、スズ(Sn)、パラジウム(Pd)、鉛(Pb)を含むことが好適である。基板として用いられる半導体は、特に限定されるものではないが、酸化チタン(TiO)、シリコン(Si)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化タンタル(Ta)等とすることが好適である。 The substrate is a member that structurally supports the reduction reaction electrode 102, and although the material is not particularly limited, it may be, for example, a glass substrate. The substrate may also comprise, for example, metals or semiconductors. The metal used as the substrate is not particularly limited, but silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), zinc (Zn), indium (In), cadmium (Cd), tin (Sn). , palladium (Pd), and lead (Pb). The semiconductor used as the substrate is not particularly limited, but titanium oxide (TiO 2 ), silicon (Si), strontium titanate (SrTiO 3 ), zinc oxide (ZnO), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ). etc. is preferable.

導電層は、還元反応用電極102における集電を効果的にするために設けられる。導電層は、特に限定されるものではないが、酸化インジウム錫(ITO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、酸化亜鉛(ZnO)等とすることが好適である。特に、熱的及び化学的な安定性を考慮するとフッ素ドープ酸化錫(FTO)を用いることが好適である。 The conductive layer is provided to effectively collect current at the reduction reaction electrode 102 . The conductive layer is not particularly limited, but is preferably made of indium tin oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (FTO), zinc oxide (ZnO), or the like. In particular, it is preferable to use fluorine-doped tin oxide (FTO) in consideration of thermal and chemical stability.

導電体層は、還元触媒を含む導電体から構成される。導電体層は、導電体に還元触媒を担持させることで構成することができる。導電体は、例えば、カーボン材料(C)を含む材料から構成することができる。カーボン材料は、例えば、カーボンナノチューブ、グラフェン及びグラファイトの少なくとも1つを含むことが好適である。グラフェン及びグラファイトであればサイズが1nm以上1μm以下であることが好適である。カーボンナノチューブであれば直径が1nm以上40nm以下であることが好適である。導電体は、エタノール等の液体に混ぜ合わせたカーボン材料をスプレーで塗布し、加熱することによって形成することができる。スプレーの代わりに、スピンコートによって塗布してもよい。また、スピンコートを用いず、直接溶液を滴下して乾かして塗布してもよい。 The conductor layer is composed of a conductor containing a reduction catalyst. The conductor layer can be formed by supporting a reduction catalyst on a conductor. The conductor can be made of, for example, a material containing a carbon material (C). The carbon material preferably includes at least one of carbon nanotubes, graphene and graphite, for example. Graphene and graphite preferably have a size of 1 nm or more and 1 μm or less. Carbon nanotubes preferably have a diameter of 1 nm or more and 40 nm or less. The conductor can be formed by spraying and heating a carbon material mixed with a liquid such as ethanol. It may be applied by spin coating instead of spraying. Alternatively, the solution may be directly dropped and dried without using spin coating.

還元触媒は、還元触媒機能を有する材料であれば特に限定されないが、例えば、錯体触媒とすることが好適である。錯体触媒は、例えば、ルテニウム錯体とすることが好適である。錯体触媒は、例えば、[Ru{4,4’-di(1-H-1-pyrrolypropyl carbonate)-2,2’-bipyridine}(CO)(MeCN)Cl]、[Ru{4,4’-di(1-H-1-pyrrolypropyl carbonate)-2,2’-bipyridine}(CO)Cl]、[Ru{4,4’-di(1-H-1-pyrrolypropyl carbonate)-2,2’-bipyridine}(CO)、[Ru{4,4’-di(1-H-1-pyrrolypropyl carbonate)-2,2’-bipyridine}(CO)(CHCN)Cl]等とすることができる。 The reduction catalyst is not particularly limited as long as it is a material having a reduction catalyst function, but is preferably a complex catalyst, for example. The complex catalyst is preferably a ruthenium complex, for example. Complex catalysts include, for example, [Ru{4,4′-di(1-H-1-pyrrolypropyl carbonate)-2,2′-bipyridine}(CO)(MeCN)Cl 2 ], [Ru{4,4′ -di(1-H-1-pyrrolypropyl carbonate)-2,2'-bipyridine}(CO) 2Cl2 ], [Ru{ 4,4' -di(1-H-1-pyrrolypropyl carbonate)-2, 2′-bipyridine}(CO) 2 ] n , [Ru{4,4′-di(1-H-1-pyrrolypropyl carbonate)-2,2′-bipyridine}(CO)(CH 3 CN)Cl 2 ] etc.

導電体層は、例えば、錯体触媒をアセトニトリル(MeCN)溶液に溶解した液を導電体の上に塗布することで作製することができる。また、導電体層は、電解重合法により作製することもできる。例えば、作用極として導電体の電極、対極にフッ素含有酸化錫(FTO)で被覆したガラス基板、参照電極にAg/Ag電極を用い、錯体触媒を含む電解液中においてAg/Ag電極に対して負電圧となるようにカソード電流を流した後、Ag/Ag電極に対して正電位となるようにアノード電流を流すことにより作製することができる。電解質の溶液には、例えば、アセトニトリル(MeCN)、電解質には、例えば、Tetrabutylammoniumperchlorate(TBAP)を用いることができる。 The conductor layer can be produced, for example, by coating a liquid obtained by dissolving a complex catalyst in an acetonitrile (MeCN) solution on the conductor. Moreover, the conductor layer can also be produced by an electrolytic polymerization method. For example, using a conductive electrode as the working electrode, a glass substrate coated with fluorine-containing tin oxide (FTO) as the counter electrode, and an Ag/ Ag + electrode as the reference electrode, On the other hand, it can be produced by passing a cathodic current so as to give a negative voltage and then passing an anodic current so as to give a positive potential to the Ag/Ag + electrode. For example, acetonitrile (MeCN) can be used as the electrolyte solution, and Tetrabutylammonium perchlorate (TBAP) can be used as the electrolyte.

このように形成された導電体層は、基板上に配置された導電層上に担持、塗布又は貼付される。これにより、基板、基板上に配置された導電層、導電層上に配置された導電体層を含む還元反応用電極が作製される。 The conductive layer thus formed is carried, applied or adhered onto the conductive layer arranged on the substrate. As a result, a reduction reaction electrode including a substrate, a conductive layer disposed on the substrate, and a conductive layer disposed on the conductive layer is produced.

酸化反応用電極104は、酸化反応によって水を酸化するために利用される電極である。図2は、本実施形態に係る酸化反応用電極の構成を示す断面図である。図2に示すように、酸化反応用電極104は、基板114、触媒層116を有する。なお、図1に示す電気化学反応デバイス100では、酸化反応用電極104の触媒層116が、還元反応用電極102の導電体層と対向するように配置されている。 The oxidation reaction electrode 104 is an electrode used to oxidize water by an oxidation reaction. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the oxidation reaction electrode according to this embodiment. As shown in FIG. 2, the oxidation reaction electrode 104 has a substrate 114 and a catalyst layer 116 . In the electrochemical reaction device 100 shown in FIG. 1, the catalyst layer 116 of the oxidation reaction electrode 104 is arranged so as to face the conductor layer of the reduction reaction electrode 102 .

基板114は、例えば、金属を表面とする導電性基板であり、具体的には、金属からなる基板、又は下地基板の表面に金属層を形成してなる基板等が挙げられる。ここで、基板114を構成する金属は、耐食性を有することが好ましく、例えば、電解液中で、且つ水の酸化還元電位以上の電位で腐食しない金属が好ましい。 The substrate 114 is, for example, a conductive substrate having a metal surface. Specifically, a substrate made of metal, a substrate formed by forming a metal layer on the surface of a base substrate, or the like can be mentioned. Here, the metal forming the substrate 114 preferably has corrosion resistance. For example, a metal that does not corrode in an electrolytic solution and at a potential equal to or higher than the oxidation-reduction potential of water is preferred.

基板114を構成する金属としては、高い導電性、高い耐食性等の点で、Ti、Au、Pt、Ru、Ir、Sn、Rhからなる群から選択される少なくとも1種を含むことが好ましく、特に、Tiを含むことが好ましい。 The metal constituting the substrate 114 preferably contains at least one selected from the group consisting of Ti, Au, Pt, Ru, Ir, Sn, and Rh in terms of high conductivity, high corrosion resistance, etc., particularly , Ti.

下地基板の表面に金属層を形成する方法としては、特に限定されないが、電気めっき、溶融めっき、真空蒸着、スパッタリング等が挙げられる。これらの中では、金属層の薄膜化が容易である等の点で、スパッタリングが好ましい。下地基板としては、特に限定されるものではなく、ガラス基板、プラスチック基板、酸化インジウム錫(ITO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、酸化亜鉛(ZnO)等を被覆したガラス基板やプラスチック基板等が挙げられる。また、下地基板は、例えば、Ti、Au、Pt、Ru、Ir、Sn、Rh、Cu、Ag等の基板等でもよい。 A method for forming a metal layer on the surface of the underlying substrate is not particularly limited, but examples thereof include electroplating, hot-dip plating, vacuum deposition, and sputtering. Among these, sputtering is preferable because it is easy to thin the metal layer. The base substrate is not particularly limited, and may be a glass substrate, a plastic substrate, a glass substrate coated with indium tin oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (FTO), zinc oxide (ZnO), or the like, or a plastic substrate. mentioned. Further, the underlying substrate may be, for example, a substrate such as Ti, Au, Pt, Ru, Ir, Sn, Rh, Cu, Ag, or the like.

触媒層116は、酸化触媒を含んで構成される。酸化触媒は、酸化触媒機能を有する材料であり、酸化イリジウムを含む。酸化触媒は、酸化イリジウムの他に、例えば、酸化ルテニウム等を含んでいてもよい。 The catalyst layer 116 contains an oxidation catalyst. The oxidation catalyst is a material having an oxidation catalyst function and contains iridium oxide. The oxidation catalyst may contain, for example, ruthenium oxide in addition to iridium oxide.

触媒層116の厚さは、10nm以上500nm以下であればよいが、20nm以上450nm以下であることが好ましく、50nm以上400nm以下であることが好ましい。触媒層116の厚みが10nm未満であると、酸化触媒機能の低下、或いは基板114面内で均一な厚みを有する触媒層116の作製が困難となる。また、触媒層116の厚みが500nmを超えると、電圧を印加して酸化反応用電極104を作動させた際に、酸化触媒の脱落が起き易くなる。触媒層116の厚さは平均値であり、測定方法は実施例の欄で説明する。 The thickness of the catalyst layer 116 may be 10 nm or more and 500 nm or less, preferably 20 nm or more and 450 nm or less, and more preferably 50 nm or more and 400 nm or less. If the thickness of the catalyst layer 116 is less than 10 nm, the oxidation catalyst function is lowered, or it becomes difficult to prepare the catalyst layer 116 having a uniform thickness within the substrate 114 plane. Further, when the thickness of the catalyst layer 116 exceeds 500 nm, the oxidation catalyst tends to come off when the oxidation reaction electrode 104 is operated by applying a voltage. The thickness of the catalyst layer 116 is an average value, and the measuring method will be described in the Examples section.

また、本実施形態では、エネルギー分散型X線分析により、触媒層116表面の複数の測定点において、基板114となる物質が検出できる検出深さで、イリジウムの原子数濃度を測定した場合、当該イリジウムの原子数濃度の変動係数([イリジウムの原子数濃度の標準偏差/イリジウムの原子数濃度の平均値])が0.1以下であり、好ましくは0.08以下である。ここで、イリジウムの原子数濃度の変動係数が低いほど、基板114の面内でより均一な厚みの触媒層116が形成されることを示している。 Further, in the present embodiment, when the atomic number concentration of iridium is measured at a plurality of measurement points on the surface of the catalyst layer 116 by energy dispersive X-ray analysis at a detection depth at which the substance that becomes the substrate 114 can be detected, the The variation coefficient of iridium atomic concentration ([standard deviation of iridium atomic concentration/average iridium atomic concentration]) is 0.1 or less, preferably 0.08 or less. Here, the lower the variation coefficient of the iridium atomic concentration, the more uniform the thickness of the catalyst layer 116 formed in the plane of the substrate 114 .

本実施形態のように、イリジウムの原子数濃度の変動係数が0.1以下であると、基板114の面内で均一な厚みの触媒層116が形成されているため、酸化反応用電極104を動作させたときに、触媒層116内の触媒粒子の脱落が抑制される。その結果、本実施形態の酸化反応用電極104は、優れた耐久性を示す。また、基板114の面内で均一な厚みの触媒層116が形成される本実施形態の酸化反応用電極104では、電極面内での電流特性のばらつきが少なく、電極面内で均一な量の酸素を生成することが可能となる。 When the variation coefficient of the atomic number concentration of iridium is 0.1 or less as in the present embodiment, the catalyst layer 116 having a uniform thickness is formed in the plane of the substrate 114, so that the oxidation reaction electrode 104 is When operated, the shedding of catalyst particles in the catalyst layer 116 is suppressed. As a result, the oxidation reaction electrode 104 of this embodiment exhibits excellent durability. Further, in the oxidation reaction electrode 104 of the present embodiment, in which the catalyst layer 116 having a uniform thickness is formed in the plane of the substrate 114, there is little variation in the current characteristics in the plane of the electrode, and the amount of uniformity in the plane of the electrode is small. Oxygen can be produced.

本実施形態におけるエネルギー分散型X線分析の測定条件、イリジウムの原子数濃度の変動係数の算出方法等については、以下の実施例の欄で説明する。 The measurement conditions of the energy dispersive X-ray analysis, the method of calculating the coefficient of variation of the iridium atomic number concentration, and the like in this embodiment will be described in the following Examples section.

本実施形態の酸化反応用電極104の作製方法の一例について説明する。酸化反応用電極104は、例えば、電着法により、基板114上に酸化イリジウムを担持させる方法等により作製される。電着法の一例において、まず、基板114を、酸化イリジウムを含む液中に浸漬する。液中において、酸化イリジウムは所定の極性に帯電されている。次いで、基板114と、同じ液中に浸漬された対極との間に、所定の電圧を印加する。このとき、基板114は、帯電されている酸化イリジウムとは逆の極性に設定する。これにより、基板114上に酸化イリジウムを担持することができ、基板114上に酸化イリジウムを含む触媒層116が形成された酸化反応用電極104を作製することができる。また、電着法を採用することにより、エネルギー分散型X線分析に基づいて算出されるイリジウムの原子数濃度の変動係数([イリジウムの原子数濃度の標準偏差/イリジウムの原子数濃度の平均値])が0.1以下である酸化反応用電極104の作製が容易となる。また、電着法により、触媒層116と基板114との密着性を強くすることができるため、より優れた耐久性を示す酸化反応用電極104を作製できる。 An example of a method for producing the oxidation reaction electrode 104 of this embodiment will be described. The oxidation reaction electrode 104 is produced, for example, by a method of supporting iridium oxide on the substrate 114 by electrodeposition. In one example of the electrodeposition method, the substrate 114 is first immersed in a liquid containing iridium oxide. In the liquid, iridium oxide is charged with a predetermined polarity. Next, a predetermined voltage is applied between the substrate 114 and a counter electrode immersed in the same liquid. At this time, the substrate 114 is set to a polarity opposite to that of the charged iridium oxide. As a result, iridium oxide can be supported on the substrate 114, and the oxidation reaction electrode 104 having the catalyst layer 116 containing iridium oxide formed on the substrate 114 can be manufactured. In addition, by adopting the electrodeposition method, the coefficient of variation of the iridium atomic number concentration calculated based on energy dispersive X-ray analysis ([standard deviation of iridium atomic number concentration / average value of iridium atomic number concentration ]) is 0.1 or less. In addition, the electrodeposition method can strengthen the adhesion between the catalyst layer 116 and the substrate 114, so that the oxidation reaction electrode 104 can be manufactured with superior durability.

本実施形態の酸化反応用電極104の作製方法としては、電着法に限定されず、触媒層116の厚みが10nm以上500nm以下で、エネルギー分散型X線分析に基づいて算出されるイリジウムの原子数濃度の変動係数を0.1以下とすることができる方法であればよく、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法等が挙げられる。 The method for producing the oxidation reaction electrode 104 of the present embodiment is not limited to the electrodeposition method. Any method can be used as long as the coefficient of variation of number concentration can be 0.1 or less, and examples thereof include sputtering and vacuum deposition.

なお、従来、酸化反応用電極の作製方法としては、酸化イリジウムが分散したスラリーを基板上に塗布することにより酸化反応用電極を作製する方法がある。しかし、この方法では、触媒層の厚みが10nm以上500nm以下で、エネルギー分散型X線分析に基づいて算出されるイリジウムの原子数濃度の変動係数を0.1以下とすることは困難である。 Conventionally, as a method for producing an oxidation reaction electrode, there is a method of producing an oxidation reaction electrode by coating a substrate with a slurry in which iridium oxide is dispersed. However, with this method, when the thickness of the catalyst layer is 10 nm or more and 500 nm or less, it is difficult to make the variation coefficient of the iridium atomic number concentration calculated based on the energy dispersive X-ray analysis 0.1 or less.

電解液106は、酸化還元反応中におけるpH変動を抑える点で、例えば、リン酸緩衝水溶液やホウ酸緩衝水溶液等が好ましい。還元反応用電極102において炭素化合物を還元する場合には、電解液106中に二酸化炭素等の炭素化合物が溶解されている。図1に示す電気化学反応デバイス100では、例えば、電解液106の供給用タンクを設け、ポンプによって、タンク内の電解液106を還元反応用電極102と酸化反応用電極104との間に設けられた間隙に供給する。 The electrolytic solution 106 is preferably an aqueous phosphate buffer solution, an aqueous borate buffer solution, or the like, in terms of suppressing pH fluctuations during the oxidation-reduction reaction. When reducing a carbon compound in the reduction reaction electrode 102 , a carbon compound such as carbon dioxide is dissolved in the electrolytic solution 106 . In the electrochemical reaction device 100 shown in FIG. 1, for example, a tank for supplying the electrolytic solution 106 is provided, and the electrolytic solution 106 in the tank is provided between the reduction reaction electrode 102 and the oxidation reaction electrode 104 by a pump. feed into the gap.

また、電解液106のpHは、例えば、電圧印加時に、酸化反応用電極104の基板114の金属腐食を抑制する等の点で、4以上10以下であることが好ましい。 Further, the pH of the electrolytic solution 106 is preferably 4 or more and 10 or less from the viewpoint of suppressing metal corrosion of the substrate 114 of the oxidation reaction electrode 104 when voltage is applied, for example.

図1に示す太陽電池セル108は、還元反応用電極102と酸化反応用電極104との間に適切なバイアス電圧を印加する装置である。図1に示すように、太陽電池セル108の正極に酸化反応用電極104を接続し、太陽電池セル108の負極に還元反応用電極102を接続することで、両電極にバイアス電圧を印加する。バイアス電圧を印加する装置は、太陽電池セル108に限定されるものではなく、例えば、化学電池(一次電池、二次電池等を含む)、定電圧源等が挙げられる。 The solar cell 108 shown in FIG. 1 is a device that applies an appropriate bias voltage between the reduction reaction electrode 102 and the oxidation reaction electrode 104 . As shown in FIG. 1, by connecting the oxidation reaction electrode 104 to the positive electrode of the solar cell 108 and connecting the reduction reaction electrode 102 to the negative electrode of the solar cell 108, a bias voltage is applied to both electrodes. A device that applies a bias voltage is not limited to the solar battery cell 108, and includes, for example, chemical batteries (including primary batteries, secondary batteries, etc.), constant voltage sources, and the like.

図1に示す窓材110は、太陽電池セル108を保護する部材である。太陽電池セル108に対しては、受光面側に窓材110を設けることが好適である。窓材110は、太陽電池セル108において発電に寄与する波長の光を透過する部材とし、例えば、ガラス、プラスチック等とすることができる。 A window member 110 shown in FIG. 1 is a member that protects the solar battery cell 108 . It is preferable to provide a window member 110 on the light receiving surface side of the solar cell 108 . The window member 110 is a member that transmits light having a wavelength that contributes to power generation in the solar cell 108, and can be glass, plastic, or the like, for example.

還元反応用電極102、酸化反応用電極104、太陽電池セル108及び窓材110は、枠材112によって構造的に支持されている。 The reduction reaction electrode 102 , oxidation reaction electrode 104 , solar cell 108 and window member 110 are structurally supported by a frame member 112 .

図1に示す電気化学反応デバイス100では、還元反応用電極102及び酸化反応用電極104の表面に電解液106を供給した状態で、太陽電池セル108により、還元反応用電極102と酸化反応用電極104との間にバイアス電圧を印加する。これにより、酸化反応用電極104では、電解液106中の水が酸化されて、酸素が生成され(式(1))、還元反応用電極102では、電解液106中の炭素化合物、例えばCOが還元されて、一酸化炭素やギ酸等が生成されたり(式(2)、(3))、プロトンが還元されて水素が生成されたりする(式(4))。両電極で生成された生成物は、電気化学反応デバイス100から排出され、外部の回収用タンクに回収される。なお、両電極に印加する電圧は、両極で酸化還元反応が生じる電圧であればよいが、例えば、二酸化炭素を還元してギ酸を生成する場合には、1.5V~3.0Vが好ましく、プロトンを還元して水素を生成する場合には、1.5V~2.2Vが好ましい。
酸化反応:2HO→O+4H+4e (1)
還元反応:CO+2H+2e→CO+HO (2)
:CO+2H+2e→HCOOH (3)
:2H+2e→H (4)
In the electrochemical reaction device 100 shown in FIG. 1 , the reduction reaction electrode 102 and the oxidation reaction electrode 104 are connected to each other by the solar cell 108 while the electrolytic solution 106 is supplied to the surfaces of the reduction reaction electrode 102 and the oxidation reaction electrode 104 . 104 is applied. As a result, at the oxidation reaction electrode 104, water in the electrolyte solution 106 is oxidized to generate oxygen (formula (1)), and at the reduction reaction electrode 102, a carbon compound, such as CO 2 , in the electrolyte solution 106 is is reduced to produce carbon monoxide, formic acid, and the like (formulas (2) and (3)), and protons are reduced to produce hydrogen (formula (4)). Products generated by both electrodes are discharged from the electrochemical reaction device 100 and collected in an external collection tank. The voltage applied to both electrodes may be a voltage at which an oxidation-reduction reaction occurs at both electrodes. 1.5 V to 2.2 V is preferred when protons are reduced to produce hydrogen.
Oxidation reaction: 2H 2 O→O 2 +4H + +4e (1)
Reduction reaction: CO 2 +2H + +2e →CO+H 2 O (2)
: CO 2 +2H + +2e →HCOOH (3)
: 2H + +2e →H 2 (4)

以下、実施例を挙げ、本発明をより具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.

<実施例>
<酸化反応用電極の作製>
文献(Y.Zhao et.al., “A High Yield Synthesis of Ligand-Free ilridium Oxide Nanoparticles with High Electrocatalytic Activity”, J.Phys.Chem.Lett., 2012, 2, P402-406)に基づいて、pH12に調整した酸化イリジウムナノコロイド溶液を調製した。具体的な調製方法は以下の通りである。1mMの塩化イリジウム酸(IV)カリウム(KIrCl)水溶液25ml溶液に、10wt%の水酸化ナトリウム(NaOH)水溶液を加えて、pH13に調整した溶液を得た。当該溶液を氷水で1時間冷却した後、3M硝酸(HNO)水溶液を滴下してpH1に調整し、酸化イリジウム(IrOx)のナノコロイド水溶液を得た。この溶液に1.5wt%NaOH水溶液を滴下してpH12に調整した。
<Example>
<Preparation of electrode for oxidation reaction>
Based on the literature (Y.Zhao et.al., "A High Yield Synthesis of Ligand-Free ilridium Oxide Nanoparticles with High Electrocatalytic Activity", J.Phys.Chem.Lett., 2012, 2, P402-406), pH 12 An iridium oxide nanocolloid solution adjusted to A specific preparation method is as follows. A 10 wt % sodium hydroxide (NaOH) aqueous solution was added to 25 ml of a 1 mM potassium iridate (IV) chloride (K 2 IrCl 6 ) aqueous solution to obtain a solution adjusted to pH 13. After cooling the solution with ice water for 1 hour, a 3M nitric acid (HNO 3 ) aqueous solution was added dropwise to adjust the pH to 1 to obtain an iridium oxide (IrOx) nanocolloid aqueous solution. A 1.5 wt % NaOH aqueous solution was added dropwise to this solution to adjust the pH to 12.

上記調製したpH12の酸化イリジウムナノコロイド溶液を電着浴として、ガラス製容器に注いだ。そして、容器内に満たされた電着浴に、作用極としてのTi基板、対極としてのPt基板、参照極としてのAg/AgCl電極を浸漬して、三電極式の電気化学セルを構築した。各電極を電気化学アナライザー(ALS610)に接続し、電圧-0.195~0.895Vの範囲で、掃引速度100mV/sでサイクリックボルタンメトリーを400サイクル行った。これにより、Ti基板上に酸化イリジウムの触媒層が形成された電極を得た。当該電極を電着浴から取り出し、イオン交換水で洗浄した後、室温で自然乾燥させた。この電極を実施例の酸化反応用電極として使用した。実施例の酸化反応用電極の触媒層の厚みは約100nmであった。 The pH 12 iridium oxide nanocolloid solution prepared above was used as an electrodeposition bath and poured into a glass container. Then, a Ti substrate as a working electrode, a Pt substrate as a counter electrode, and an Ag/AgCl electrode as a reference electrode were immersed in the electrodeposition bath filled in the container to construct a three-electrode electrochemical cell. Each electrode was connected to an electrochemical analyzer (ALS610), and 400 cycles of cyclic voltammetry were performed in the voltage range of -0.195 to 0.895 V at a sweep rate of 100 mV/s. As a result, an electrode was obtained in which an iridium oxide catalyst layer was formed on a Ti substrate. The electrode was taken out from the electrodeposition bath, washed with deionized water, and then naturally dried at room temperature. This electrode was used as an oxidation reaction electrode in the examples. The thickness of the catalyst layer of the oxidation reaction electrode of the example was about 100 nm.

触媒層の厚みは、触媒層の質量と触媒の理論密度から算出した。 The thickness of the catalyst layer was calculated from the mass of the catalyst layer and the theoretical density of the catalyst.

<比較例>
上記調製したpH12の酸化イリジウムナノコロイド溶液125μLをTi基板上に塗布し、乾燥炉内にて60℃で1時間乾燥した。乾燥後、Ti基板上に酸化イリジウムが塗布された電極をイオン交換水で洗浄した。この塗布、乾燥、洗浄の操作を6回繰り返した。但し、最後の乾燥は、60℃3時間乾燥とした。このようにして得られた電極を、比較例の酸化反応用電極とした。
<Comparative example>
125 μL of the prepared iridium oxide nanocolloid solution having a pH of 12 was applied onto a Ti substrate and dried in a drying oven at 60° C. for 1 hour. After drying, the electrode in which iridium oxide was applied on the Ti substrate was washed with deionized water. This application, drying and washing operation was repeated six times. However, the final drying was performed at 60°C for 3 hours. The electrode thus obtained was used as an oxidation reaction electrode of a comparative example.

(エネルギー分散型X線分析)
エネルギー分散型X線分析装置を搭載した走査型電子顕微鏡(日立ハイテク社製、SU3500)を用いて、実施例の触媒層表面の全体が観察視野に収まり、且つ観察視野における測定点の範囲を2mm×2mmとする観察倍率で観察し、この観察視野について、イリジウム原子数濃度を測定した。測定条件は、加速電圧を10~15kVに設定し、また、検出深さを触媒層の表面から基板となる物質が検出できる深さに設定した(500nm~1μmに設定した)。測定範囲は、観察視野における測定点の範囲を2mm×2mmとする観察倍率で、触媒層の一端から反対側の他端までの間の任意の5カ所を測定点として設定した(なお、測定点は5カ所以上10カ所以下とすることが望ましい)。比較例においても同様に測定した。
(Energy dispersive X-ray analysis)
Using a scanning electron microscope (manufactured by Hitachi High-Tech Corporation, SU3500) equipped with an energy dispersive X-ray analyzer, the entire surface of the catalyst layer of the example fits in the observation field, and the range of measurement points in the observation field is 2 mm. Observation was made at an observation magnification of 2 mm, and the iridium atomic number concentration was measured for this observation field. As for the measurement conditions, the acceleration voltage was set to 10 to 15 kV, and the detection depth was set to a depth from the surface of the catalyst layer at which the substrate substance can be detected (set to 500 nm to 1 μm). The measurement range was an observation magnification in which the range of measurement points in the observation field was 2 mm × 2 mm, and arbitrary five points from one end of the catalyst layer to the other end on the opposite side were set as measurement points (measurement points should be 5 or more and 10 or less). Comparative examples were also measured in the same manner.

図3に、測定点5カ所において、触媒層の表面から基板となる物質が検出できる深さで測定を行うことにより検出されたイリジウム原子数濃度およびチタン原子数濃度を示す。図3示すように、実施例では、いずれの測定点においても、イリジウム原子数濃度はほとんど変化していないが、比較例では、測定点によって、イリジウム原子数濃度にばらつきがみられた。比較例の場合には、触媒層の両端のイリジウム原子数濃度が高く、中央のイリジウム原子数濃度が低かった。 FIG. 3 shows the iridium atomic number concentration and the titanium atomic number concentration detected by measuring at five measurement points from the surface of the catalyst layer to a depth at which the substrate material can be detected. As shown in FIG. 3, in the example, the iridium atomic number concentration hardly changed at any measurement point, but in the comparative example, the iridium atomic number concentration varied depending on the measurement points. In the case of the comparative example, the iridium atomic number concentration at both ends of the catalyst layer was high, and the iridium atomic number concentration at the center was low.

実施例及び比較例において、5カ所の測定点で測定されたイリジウム原子数濃度の平均値、及びイリジウム原子数濃度の標準偏差を求め、それらの値から、イリジウム原子数濃度の変動係数([イリジウム原子数濃度の標準偏差/イリジウム原子数濃度の平均値])を求めた。その結果、実施例のイリジウム原子数濃度の変動係数は、0.079であり、比較例のイリジウム原子数濃度の変動係数は、0.53であった。 In the examples and comparative examples, the average value of the iridium atomic number concentration measured at five measurement points and the standard deviation of the iridium atomic number concentration were obtained, and from these values, the coefficient of variation of the iridium atomic number concentration ([iridium standard deviation of atomic number concentration/average value of iridium atomic number concentration]) was obtained. As a result, the variation coefficient of the iridium atomic number concentration of the example was 0.079, and the variation coefficient of the iridium atomic number concentration of the comparative example was 0.53.

(耐久性の評価)
実施例及び比較例の酸化反応用電極に流れる電流を、電気化学アナライザー(ALS610)を使用し、三電極方式で測定した。三電極方式では、容器内に電解液を満たして、電解液中に作用極として上記作製した酸化反応用電極、対極として白金電極、参照電極としてAg/AgClを浸漬した三電極式の電気化学セルを使用した。電解液は、pH6.3である、0.4mol/Lのリン酸緩衝液(KHPO+KHPO)を用いた。各電極を電気化学アナライザーに接続し、電圧1.2Vで通電し、酸化反応用電極に流れる電流値を測定した。通電時間は1日6時間として、それを数日間繰り返した。
(Evaluation of durability)
The current flowing through the oxidation reaction electrodes of Examples and Comparative Examples was measured by a three-electrode method using an electrochemical analyzer (ALS610). In the three-electrode method, a container is filled with an electrolytic solution, and a three-electrode electrochemical cell in which the oxidation reaction electrode prepared above as a working electrode, a platinum electrode as a counter electrode, and Ag/AgCl as a reference electrode are immersed in the electrolytic solution. It was used. The electrolytic solution used was a 0.4 mol/L phosphate buffer (K 2 HPO 4 +KH 2 PO 4 ) with a pH of 6.3. Each electrode was connected to an electrochemical analyzer, energized at a voltage of 1.2 V, and the current value flowing through the oxidation reaction electrode was measured. The energization time was set to 6 hours a day, and it was repeated for several days.

図4は、通電時間に対する実施例及び比較例の酸化反応用電極の電流密度の結果を示す図である。電流密度(mA/cm)であり、上記測定した電流値を酸化反応用電極の面積で除した値である。 FIG. 4 is a graph showing the results of the current density of the oxidation reaction electrodes of Examples and Comparative Examples with respect to the energization time. It is a current density (mA/cm 2 ), which is a value obtained by dividing the current value measured above by the area of the oxidation reaction electrode.

比較例は、通電時間18時間で、酸化反応用電極の電流密度がほぼ0になっていたので、この時点で、酸化反応電極による酸化反応はほぼ停止したと考えられる。これに対し、実施例は、通電時間30時間でも、酸化反応用電極の電流密度が検出されていたので、比較例よりも長い時間、酸化反応用電極の酸化反応が行われた。この結果から、実施例のように、エネルギー分散型X線分析に基づいて算出されたイリジウムの原子数濃度の変動係数が0.1以下である酸化反応用電極は、優れた耐久性を有すると言える。 In the comparative example, the current density of the oxidation reaction electrode was almost 0 after 18 hours of energization, so it is considered that the oxidation reaction by the oxidation reaction electrode almost stopped at this point. On the other hand, in the example, the current density of the oxidation reaction electrode was detected even when the current was applied for 30 hours, so the oxidation reaction of the oxidation reaction electrode took longer than in the comparative example. From this result, it was concluded that the oxidation reaction electrode having a coefficient of variation of iridium atomic number concentration calculated based on energy dispersive X-ray analysis as in the example of 0.1 or less has excellent durability. I can say

100 電気化学反応デバイス、102 還元反応用電極、104 酸化反応用電極、106 電解液、108 太陽電池セル、110 窓材、112 枠材、114 基板、116 酸化触媒層。
100 electrochemical reaction device, 102 reduction reaction electrode, 104 oxidation reaction electrode, 106 electrolytic solution, 108 solar cell, 110 window material, 112 frame material, 114 substrate, 116 oxidation catalyst layer.

Claims (3)

基板と、前記基板上に担持された酸化イリジウムを含む触媒層と、を有し、
前記触媒層の厚さが10nm以上500nm以下であり、
エネルギー分散型X線分析により、前記触媒層表面の複数の測定点において、前記基板となる物質が検出できる検出深さで、イリジウムの原子数濃度を測定した場合、当該イリジウムの原子数濃度の変動係数([イリジウムの原子数濃度の標準偏差/イリジウムの原子数濃度の平均値])が0.1以下であることを特徴とする酸化反応用電極。
having a substrate and a catalyst layer containing iridium oxide supported on the substrate;
The thickness of the catalyst layer is 10 nm or more and 500 nm or less,
When the atomic number concentration of iridium is measured at a plurality of measurement points on the surface of the catalyst layer by energy dispersive X-ray analysis at a detection depth at which the substrate material can be detected, fluctuations in the atomic number concentration of the iridium. An oxidation reaction electrode characterized by having a coefficient ([standard deviation of iridium atomic concentration/average value of iridium atomic concentration]) of 0.1 or less.
請求項1に記載の酸化反応用電極と、還元反応用電極と、電解液とを備えることを特徴とする電気化学反応デバイス。 An electrochemical reaction device comprising the oxidation reaction electrode according to claim 1, a reduction reaction electrode, and an electrolytic solution. 前記電解液のpHは6以上10以下であることを特徴とする請求項2に記載の電気化学反応デバイス。
3. The electrochemical reaction device according to claim 2, wherein the electrolyte has a pH of 6 or more and 10 or less.
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