JP2023074287A - Optical element, and authentication body - Google Patents

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Abstract

To provide an optical element and an authentication body that can easily make an authentication determination of the optical element and an ID body packaged inside a polycarbonate-made card.SOLUTION: An optical element has: a first layer; a second layer that contacts the first layer; and a third layer that contacts the second layer, each having light translucency, and the first layer contains urethane resin with a molecular weight equal to or more than 1000 and less than 10000 at a weight ratio equal to or more than 5% and less than 45% with respect to at least ultraviolet ray hardening resin with a molecular weight equal to or more than 20000 and less than 100000.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明の各実施形態は、光学素子、および、認証体に関する。 Embodiments of the present invention relate to optical elements and authenticators.

商品券などの有価証券、紙幣、および、クレジットカードの偽造の防止と、商品のブランドプロテクションとを目的として、それらの物品に対し、ホログラム、回折格子、および、多層干渉膜などを用いた光学素子が付される。こうした光学素子の製造は容易でないため、光学素子は、光学素子が付された物品の偽造を防止する効果を有する。 Optical elements using holograms, diffraction gratings, multilayer interference films, etc., for the purpose of preventing counterfeiting of securities such as gift certificates, banknotes, and credit cards, as well as product brand protection. is attached. Since such an optical element is not easy to manufacture, the optical element has the effect of preventing counterfeiting of the article to which the optical element is attached.

上述した光学素子として、光学素子の真贋を判定するときに、特別な検証器具を用いることなく目視のみによって判定が可能な光学素子が広く用いられている。なかでも、光学素子を観察する角度に応じて、光学素子が視認される色や、光学素子が表示する像が変化するものが広く用いられている。このうち、光学素子を観察する角度に応じて色が変化する光学素子には、上述したような、回折格子や多層干渉膜などを挙げることができる。 As the optical element described above, an optical element is widely used that can be judged only by visual observation without using a special verification tool when judging the authenticity of the optical element. Among them, those in which the color visually recognized by the optical element and the image displayed by the optical element change depending on the angle at which the optical element is observed are widely used. Among them, the optical element whose color changes according to the angle at which the optical element is observed includes the diffraction grating and the multilayer interference film as described above.

回折格子および多層干渉膜は、これらの光学素子を観察する角度を変化させると、観察者によって視認される光学素子の色が連続的に変化する特徴を有する。このように複数の色が観察者によって観察されるため、真贋判定において光学素子が真正の光学素子であると判定する上で視認するべき色を明文化しにくい。また、光学素子の真贋を判定する上で、光学素子を観察する角度のなかで、適切な角度の範囲が観察者に分かりにくい。 Diffraction gratings and multilayer interference films have the characteristic that the color of the optical element visually recognized by the observer changes continuously when the angle at which these optical elements are observed is changed. Since a plurality of colors are observed by an observer in this way, it is difficult to clearly define the colors that should be visually recognized when determining that an optical element is a genuine optical element in authenticity determination. Further, in determining the authenticity of the optical element, it is difficult for the observer to understand the appropriate angle range among the angles at which the optical element is observed.

こうした問題を解決するために、所定の色に発色する光学素子として、格子構造が用いられている。格子構造における微細な構造の周期は可視光の波長以下である。格子構造は、導波モード共鳴といわれる現象によって、格子構造に入射した光のなかで、特定の波長の光のみを正反射方向に射出する特性を有する。そのため、格子構造によれば、観察者は、正反射方向以外の方向から光学素子を観察したときには、光学素子において所定の色を有した光を視認することができない。それゆえに、格子構造によれば、回折格子や多層干渉膜とは異なり、光学素子を観察するべき角度や、その角度において視認される色を規定することができる。結果として、光学素子の真贋判定の方法を明文化することができる。こうしたサブ波長格子を用いた偽造防止用の光学素子には、例えば、特許文献1に記載の光学素子を挙げることができる。 In order to solve such problems, a grating structure is used as an optical element that develops a predetermined color. The period of fine structures in the lattice structure is equal to or less than the wavelength of visible light. The grating structure has a characteristic of emitting only light of a specific wavelength out of light incident on the grating structure in a specular direction due to a phenomenon called waveguide mode resonance. Therefore, according to the grating structure, when the observer observes the optical element from a direction other than the direction of specular reflection, the observer cannot visually recognize light having a predetermined color in the optical element. Therefore, unlike a diffraction grating or a multilayer interference film, the grating structure can define the angle at which the optical element should be observed and the color to be viewed at that angle. As a result, it is possible to stipulate the method of authenticity determination of the optical element. An example of an anti-counterfeiting optical element using such a sub-wavelength grating is the optical element described in Patent Document 1.

ところで、特許文献1に記載の光学素子では、第1の色が視認される第1の角度において光学素子を視認した後に、光学素子が広がる平面に対する法線を回転軸として、光学素子を回転させる。そして、第2の色が視認される第2の角度において光学素子を視認することによって、光学素子の真贋を判定する。 By the way, in the optical element described in Patent Document 1, after viewing the optical element at the first angle at which the first color is viewed, the optical element is rotated around the normal to the plane on which the optical element spreads as the axis of rotation. . Then, the authenticity of the optical element is determined by viewing the optical element at a second angle at which the second color is viewed.

ここで、光学素子を回転させるために観察者が行う手の動作は、他の動作、例えば、光学素子を傾ける動作に比べて自然な動作ではない。そのため、観察者による判定作業の作業性が低くなりやすく、これによって、判定の効率も低くなりやすい。また、サブ波長格子は、上述したように、正反射方向にのみ所定の色を有した光を放出する。そのため、観察者が光学素子を手に取った瞬間、あるいは、観察者が光学素子を平面上に載置し、次いで光学素子を観察した瞬間に、観察者が、光学素子が呈する色を視認できる可能性は低い。すなわち、そうした瞬間に観察者が正反射方向において光学素子を観察する可能性は低い。それゆえに、観察者は、光学素子が呈する色が視認できる角度を見つけた後に、光学素子を回転させ、さらに、光学素子を回転させた後にも、光学素子が呈する別の色が視認できる角度を見つける必要がある。結果として、観察者が光学素子の真贋を判定するまでに時間を要するため、より容易に真贋を判定することが可能な光学素子が求められている。 Here, the motion of the hand performed by the observer to rotate the optical element is not as natural as other motions, such as the motion of tilting the optical element. Therefore, the operability of the judgment work by the observer tends to be low, and the efficiency of judgment tends to be low as a result. Also, the sub-wavelength grating emits light of a given color only in the specular direction, as described above. Therefore, the moment the observer picks up the optical element, or the moment the observer places the optical element on a flat surface and then observes the optical element, the observer can visually recognize the color exhibited by the optical element. Unlikely. That is, it is unlikely that the observer will observe the optical element in the specular direction at such moments. Therefore, the observer rotates the optical element after finding the angle at which the color exhibited by the optical element can be visually recognized, and further rotates the optical element to determine the angle at which another color exhibited by the optical element can be visually recognized. need to find. As a result, it takes time for an observer to determine the authenticity of an optical element, and thus an optical element that can more easily determine the authenticity of an optical element is desired.

そのような光学素子として、例えば、特許文献2に記載したような光学素子を挙げることができる。特許文献2に記載の光学素子では、第1格子構造および第2格子構造に起因する色の発現と消失とが同時に起こる。そのため、光学素子の真贋判定では、光学素子が、第1格子構造に由来する色を呈する第1領域と、第2格子構造に由来する色を呈する第2領域とを備えるか否かを、一度に把握することができる。それゆえに、光学素子を回転させることによって、光学素子が2つの色を呈する状態を有するか否かを判定する場合に比べて、光学素子の真贋をより容易に判定することができる特徴を持つ。 As such an optical element, for example, an optical element as described in Patent Document 2 can be cited. In the optical element described in Patent Document 2, the appearance and disappearance of color due to the first lattice structure and the second lattice structure occur simultaneously. Therefore, in determining the authenticity of an optical element, whether or not the optical element has a first region exhibiting a color derived from the first lattice structure and a second region exhibiting a color derived from the second lattice structure is determined once. can be grasped. Therefore, by rotating the optical element, it is possible to more easily determine the authenticity of the optical element compared to the case of determining whether the optical element has a state of exhibiting two colors.

特表2013-527938号公報Japanese Patent Publication No. 2013-527938 国際公開第019-182051号International Publication No. 019-182051

ところで、例えば光学素子をポリカーボネート製カードに内装する場合、光学素子を貼り付けたポリカーボネートシートを含む複数のポリカーボネートシートを重ねてラミネートを行なう。その際にポリカーボネートシートの表面凹凸形状が光学素子にうつることがあり、その結果前述した各構造に起因する発色が弱まり、真贋の判定の容易性が低下したり、ブランドイメージを傷つけたりする恐れがある。 By the way, for example, when an optical element is embedded in a card made of polycarbonate, a plurality of polycarbonate sheets including a polycarbonate sheet to which the optical element is pasted are stacked and laminated. At that time, the uneven surface shape of the polycarbonate sheet may be transferred to the optical element, and as a result, the color development caused by each structure described above may be weakened, the ease of authenticity determination may be reduced, and there is a risk of damaging the brand image. be.

ラミネート時にポリカーボネートシートの表面凹凸形状を光学素子にうつさないようにするためには、ラミネート時の熱および圧力を少しずつ時間をかけて加える必要があるが、そのような条件下では光学素子にクラックが発生しやすくなり、問題となっている。 In order not to transfer the surface irregularities of the polycarbonate sheet to the optical element during lamination, it is necessary to apply heat and pressure during lamination little by little over time. becomes more likely to occur and is a problem.

上記課題を解決するための光学素子は、第1層と、前記第1層に接する第2層と、前記第2層に接する第3層とを備え、各層が光透光過性を有する。前記第1層は第1の屈折率を有する樹脂製の層であり、前記第2層に接する第1面を有し、前記第1面の少なくとも一部に凹部および凸部によって形成された格子構造を含み、前記第2層は前記第1の屈折率よりも高い第2の屈折率を有する誘電体製の層であり、前記格子構造に追従した凹凸状を有し、前記第3層は、前記第2の屈折率よりも低い第3の屈折率を有する樹脂製の層である。前記第1面は凹凸面を有し、前記格子構造は第1格子構造と第2格子構造とを含み、前記凹凸面は、前記第1格子構造が位置する第1領域と、前記第1面に対向する平面視において前記第1領域に近接し、前記第2格子構造が位置する第2領域とを含む。前記第1格子構造の方位角と、前記第2格子構造の方位角とが互いに等しく、前記第1格子構造および前記第2格子構造の格子周期が、250nm以上500nm以下であり、前記第1格子構造の格子周期と、前記第2格子構造の格子周期との差が、20nm以上である。 An optical element for solving the above problems includes a first layer, a second layer in contact with the first layer, and a third layer in contact with the second layer, each layer having light-transmitting properties. The first layer is a resin layer having a first refractive index, has a first surface in contact with the second layer, and has a grating formed by concave portions and convex portions on at least a portion of the first surface. structure, wherein the second layer is a dielectric layer having a second refractive index higher than the first refractive index, has an uneven shape following the lattice structure, and the third layer is and a resin layer having a third refractive index lower than the second refractive index. The first surface has an uneven surface, the lattice structure includes a first lattice structure and a second lattice structure, and the uneven surface includes a first area where the first lattice structure is located and the first surface. and a second region adjacent to the first region in a plan view opposite to the second grating structure, the second region being located thereon. the azimuth angle of the first grating structure and the azimuth angle of the second grating structure are equal to each other, the grating periods of the first grating structure and the second grating structure are 250 nm or more and 500 nm or less, and the first grating The difference between the grating period of the structure and the grating period of the second grating structure is 20 nm or more.

前記第1層は少なくとも分子量20000以上100000未満の紫外線硬化性樹脂に対し、分子量1000以上10000未満のウレタン樹脂を、重量比5%以上45%未満含むことを特徴とする。 The first layer is characterized by containing at least 5% or more and less than 45% by weight of a urethane resin having a molecular weight of 1000 or more and less than 10000 to an ultraviolet curable resin having a molecular weight of 20000 or more and less than 100000.

前記第1層は少なくともナノインデンター硬さが0.03GPa以上0.5未満であることを特徴とする。 The first layer is characterized by having at least a nanoindenter hardness of 0.03 GPa or more and less than 0.5.

前記第1層を少なくとも厚さ100μmの2軸延伸PETフィルム上に厚さ5μm設け
た際に、硬化前における破断伸度が0.5%以上50%未満であることを特徴とする。
The elongation at break before curing is 0.5% or more and less than 50% when the first layer is provided on a biaxially stretched PET film having a thickness of at least 100 μm and a thickness of 5 μm.

上記構成によれば、光学素子をポリカーボネート製カード中に内装しても、発色の低下による真贋判定の容易性やブランドイメージの低下を引き起こすことなく、光学素子のクラック発生も防ぐことができる。 According to the above configuration, even if the optical element is embedded in a polycarbonate card, it is possible to prevent cracks from occurring in the optical element without degrading the ease of authenticity determination or degrading the brand image due to deterioration in color development.

上記光学素子において、前記第1領域と前記第2領域との間に位置する第3領域をさらに備え、前記第2層に対して前記第3層とは反対側に位置する光源から前記光学素子に対し光が照射されている状態を前記光源の側からある観察角度で観察するとき、前記光学素子は、前記第3領域が呈する色が、前記第1領域が呈する色、および、前記第2領域が呈する色の両方と異なる状態を有してもよい。
上記構成によれば、光学素子が第3領域を有するため、光学素子が第3領域を有しない場合に比べて、光学素子の観察者が、第1領域と第2領域との境界をより明確に認識することが可能である。
The optical element further includes a third region located between the first region and the second region, and the light source located on the opposite side of the second layer to the third layer is connected to the optical element. is irradiated with light from the light source side at an observation angle, the optical element detects that the color exhibited by the third region is the color exhibited by the first region and the color exhibited by the second region. Regions may have different states as well as the color they exhibit.
According to the above configuration, since the optical element has the third region, the observer of the optical element can more clearly see the boundary between the first region and the second region than when the optical element does not have the third region. It is possible to recognize

前記第3領域は、前記第1層の前記第1面において平坦面によって形成され、前記平坦面の平均粗さSaが、20μm以下であってもよい。上記構成によれば、第3領域において、第3領域に入射した光が正反射方向に反射され、第3領域が白色を呈する。これにより、導波モード共鳴によって正反射方向に特定の色を表示する第1領域および第2領域における境界がより明確になる。
上記光学素子において、前記第3領域は、前記第3領域に入射した光の正反射方向とは異なる方向に指向性を有した散乱構造、または、反射防止構造を含んでもよい。上記構成によれば、第3領域が、正反射方向では黒色を呈する。これにより、導波モード共鳴によって正反射方向に特定の色を表示する第1領域および第2領域における境界がより明確になる。
上記光学素子において、前記第3領域は、一定な幅を有してもよい。上記構成によれば、第1領域と第2領域との境界が、第3領域によって一様に強調することができる。光学素子に平面的な印象となりやすく、また、強い印象を与えやすい。特に、第3領域が直線状であると、印象がシャープになりやすい。なお、曲線状の第3領域は、光学素子に柔らかな印象を与えやすい。
上記光学素子において、前記第3領域は、第1部分と第2部分とを含み、前記第1部分の幅は前記第2部分の幅と異なってもよい。上記構成によれば、第3領域の幅が異なることによって、光学素子のに意匠性を与えやすい。特に曲線と組み合わせるとリズミカルな印象となる。また、幅の変化は、連続的である場合は、自然な外観となりやすい。
上記光学素子において、前記第3領域の幅は、30μm以上3000μm以下であってもよい。上記構成によれば、第3領域の幅が30μm以上であることによって、観察者が第3領域を視認することが可能である。また、第3領域の幅が3000μm以下であることによって、第3領域が、第1領域および第2領域よりも目立つことが抑えられる。
The third region may be formed by a flat surface on the first surface of the first layer, and an average roughness Sa of the flat surface may be 20 μm or less. According to the above configuration, in the third area, the light incident on the third area is reflected in the regular reflection direction, and the third area exhibits white color. Thereby, the boundary between the first region and the second region that displays a specific color in the specular direction due to waveguide mode resonance becomes clearer.
In the above optical element, the third region may include a scattering structure or an antireflection structure having directivity in a direction different from a regular reflection direction of light incident on the third region. According to the above configuration, the third area presents a black color in the regular reflection direction. Thereby, the boundary between the first region and the second region that displays a specific color in the specular direction due to waveguide mode resonance becomes clearer.
In the optical element described above, the third region may have a constant width. According to the above configuration, the boundary between the first area and the second area can be uniformly emphasized by the third area. The optical element tends to have a planar impression, and tends to give a strong impression. In particular, when the third region is linear, the impression tends to be sharp. The curved third region tends to give the optical element a soft impression.
In the optical element described above, the third region may include a first portion and a second portion, and the width of the first portion may be different from the width of the second portion. According to the above configuration, the width of the third region is different, so that it is easy to add design to the optical element. Especially when combined with curves, it creates a rhythmic impression. Also, when the width change is continuous, it tends to have a natural appearance.
In the above optical element, the width of the third region may be 30 μm or more and 3000 μm or less. According to the above configuration, since the width of the third region is 30 μm or more, the observer can visually recognize the third region. Further, since the width of the third region is 3000 μm or less, the third region is suppressed from being more conspicuous than the first region and the second region.

上記光学素子において、前記第1領域および前記第2領域は、各々0.1mm2以下の面積を有するように区画された複数のセルをそれぞれ含み、前記第1領域および前記第2領域は、前記セルの少なくとも一部に前記格子構造が位置する前記セルを含んでもよい。 In the above optical element, the first region and the second region each include a plurality of cells partitioned to have an area of 0.1 mm or less, and the first region and the second region each include the cells may include the cell in which the lattice structure is located in at least a portion of.

上記構成によれば、各セルにおける格子構造の面積率によって、セルの輝度を変えることが可能である。 According to the above configuration, it is possible to change the brightness of the cell by changing the area ratio of the lattice structure in each cell.

上記光学素子において、前記第1層に対して前記第2層とは反対側に位置する樹脂層をさらに備え、前記第1層の硬度が、前記樹脂層の硬度および前記第3層の硬度よりも高くてもよい。
上記構成によれば、光学素子に作用する外力を樹脂層と第3層とによって吸収すること
が可能である。これにより、第1層が有する格子構造の形状が外力によって変わることが抑えられる。
上記光学素子において、前記第1層は、分子量20000以上100000未満の紫外線硬化性樹脂に対し、分子量1000以上10000未満のウレタン樹脂を、重量比5%以上45%未満含むことを特徴とする。分子量が前記範囲内にある紫外線硬化性樹脂を用いることで、タックフリー性を持ちながら前記格子構造を形成できる流動性も得られる。また分子量が前記範囲内にあるウレタン樹脂を前記範囲の割合で含むことで、前記格子構造を形成できる流動性を保持しつつも、前記第1層を硬化させた後も柔軟性が残るため、ポリカーボネートシートを重ねてラミネートを行う際に、光学素子にクラックが発生するのを抑制できる。
The optical element further includes a resin layer located on the side opposite to the second layer with respect to the first layer, wherein the hardness of the first layer is higher than the hardness of the resin layer and the hardness of the third layer. may be higher.
According to the above configuration, it is possible to absorb the external force acting on the optical element by the resin layer and the third layer. This prevents the shape of the lattice structure of the first layer from being changed by an external force.
In the above optical element, the first layer contains urethane resin with a molecular weight of 1000 or more and less than 10000 in a weight ratio of 5% or more and less than 45% with respect to the ultraviolet curable resin with a molecular weight of 20000 or more and less than 100000. By using an ultraviolet curable resin having a molecular weight within the above range, fluidity capable of forming the lattice structure can be obtained while maintaining tack-free properties. In addition, by including a urethane resin having a molecular weight within the above range at a ratio within the above range, flexibility remains even after the first layer is cured while maintaining fluidity for forming the lattice structure. It is possible to suppress the occurrence of cracks in the optical element when the polycarbonate sheets are stacked and laminated.

前記第1層は少なくともナノインデンター硬さが0.03GPa以上0.5未満であることを特徴とする。前記第1層のナノインデンター硬さが前記範囲内にあることで、前記第1層を硬化させた後も柔軟性が残るため、ポリカーボネートシートを重ねてラミネートを行う際に、光学素子にクラックが発生するのを抑制できる。ナノインデンター硬さは各種ナノインデンテーション硬度計を用いて測定することができ、例えば、ブルカージャパン製のTI Premierによって測定できる。圧子は薄膜に適したバーコビッチ型が好ましく、圧子の押し込み深さは前記第1層の乾燥膜厚の1/10とするのが好ましい。 The first layer is characterized by having at least a nanoindenter hardness of 0.03 GPa or more and less than 0.5. When the nanoindenter hardness of the first layer is within the range, the flexibility remains even after the first layer is cured. can be prevented from occurring. The nanoindenter hardness can be measured using various nanoindentation hardness testers, for example, TI Premier manufactured by Bruker Japan. The indenter is preferably of the Berkovich type suitable for thin films, and the indentation depth of the indenter is preferably 1/10 of the dry film thickness of the first layer.

前記第1層を少なくとも厚さ100μmの2軸延伸PETフィルム上に厚さ5μm設けた際に、破断伸度が0.5%以上50%未満であることを特徴とする。前記第1層の破断伸度が前記範囲内にあることで、前記第1層を硬化させた後も柔軟性が残るため、ポリカーボネートシートを重ねてラミネートを行う際に、光学素子にクラックが発生するのを抑制できる。破断伸度は各種引張試験機を用いて測定することができ、例えば、島津製作所製の卓上形精密万能試験機AGS-Xによって測定できる。試験条件はJIS規格(JIS K 7127:1999)に則り設定することが好ましい。 The elongation at break is 0.5% or more and less than 50% when the first layer is provided to a thickness of 5 μm on a biaxially stretched PET film having a thickness of at least 100 μm. When the elongation at break of the first layer is within the above range, the flexibility remains even after the first layer is cured, so cracks occur in the optical element when the polycarbonate sheets are stacked and laminated. can be suppressed. The elongation at break can be measured using various tensile testers, for example, a tabletop precision universal tester AGS-X manufactured by Shimadzu Corporation. It is preferable to set the test conditions according to the JIS standard (JIS K 7127:1999).

前記光学素子はポリカーボネート製カードに内装されることを特徴とし、前記ポリカーボネート製カードを構成する各ポリカーボネートシートは、ガラス転移温度が100℃以上160℃未満であり、線熱膨張係数が6×10-5/K以上8×10-5/K未満であり、厚さが30μm以上200μm未満であり、かつ前記光学素子が接する表面の算術平均面粗さSaが1μm以上7μm未満であることが望ましい。このようなポリカーボネート製カードを用いた際に、前述のように、ラミネートを行う際に光学素子にクラックが発生するのを抑制できる。
前記第1層の厚さが、1μm以上10μm以下であり、前記樹脂層および前記第3層は、熱可塑性樹脂によって形成されてもよい。上記構成によれば、第1層が有する格子構造の形状が外力によって変わることがより抑えられる。
The optical element is embedded in a polycarbonate card, and each polycarbonate sheet constituting the polycarbonate card has a glass transition temperature of 100° C. or more and less than 160° C. and a linear thermal expansion coefficient of 6×10 − 5 /K or more and less than 8×10 -5 /K, the thickness is 30 μm or more and less than 200 μm, and the arithmetic mean surface roughness Sa of the surface in contact with the optical element is preferably 1 μm or more and less than 7 μm. When such a polycarbonate card is used, it is possible to suppress the occurrence of cracks in the optical element during lamination as described above.
The first layer may have a thickness of 1 μm or more and 10 μm or less, and the resin layer and the third layer may be made of a thermoplastic resin. According to the above configuration, the change in the shape of the lattice structure of the first layer due to external force is further suppressed.

上記光学素子において、前記第1層に対して、前記第2層とは反対側に位置する樹脂層をさらに備え、前記第1層、前記第3層、および、前記樹脂層の少なくとも1つがフィラーを含み、前記フィラーの平均粒径は、400nm以下であってもよい。上記構成によれば、各層がフィラーを含まない場合と比べて、光学素子から射出される光の射出角の範囲が広がる。そのため、光学素子が呈する色を観察者が観察することが可能な観察角度の範囲が広がる。 The optical element further includes a resin layer located on the side opposite to the second layer with respect to the first layer, wherein at least one of the first layer, the third layer, and the resin layer is a filler. and the average particle size of the filler may be 400 nm or less. According to the above configuration, the range of emission angles of light emitted from the optical element is widened compared to the case where each layer does not contain a filler. As a result, the range of observation angles that allow the observer to observe the colors presented by the optical element is widened.

本発明によれば、ポリカーボネート製カードに内装された光学素子および身分証明書体の真贋判定を容易に行うことができ、またブランドイメージの低下を防ぐことができる。 Advantageous Effects of Invention According to the present invention, it is possible to easily determine the authenticity of an optical element and an identification card body embedded in a polycarbonate card, and prevent deterioration of the brand image.

本発明の第1実施形態の光学素子の構造が概略的に図解された断面図。1 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of an optical element according to a first embodiment of the invention; FIG. 本発明の第1実施形態の光学素子の外観が概略的に図解された平面図。1 is a plan view schematically illustrating the appearance of an optical element according to a first embodiment of the present invention; FIG. 本発明の第1実施形態の光学素子の構造が概略的に図解された平面図。1 is a plan view schematically illustrating the structure of an optical element according to a first embodiment of the invention; FIG. 本発明のセルにおける方位角が概略的に図解された平面図。FIG. 2 is a plan view schematically illustrating azimuth angles in the cell of the present invention; 図3のI‐I線、および、II‐II線に沿う断面における構造が概略的に図解された断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure in a cross section taken along the II line and the II-II line in FIG. 3; 本発明の第1実施形態の光学素子の作用が概略的に図解された断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically illustrating the action of the optical element of the first embodiment of the present invention; 本発明の格子構造から射出される光の波長と方位角との関係が概略的に図解された斜視図。FIG. 2 is a perspective view schematically illustrating the relationship between the wavelength and the azimuth angle of light emitted from the grating structure of the present invention; 本発明の格子構造から射出される光の波長と方位角との関係が概略的に図解された斜視図。FIG. 2 is a perspective view schematically illustrating the relationship between the wavelength and the azimuth angle of light emitted from the grating structure of the present invention; 本発明の第1実施形態の光学素子の構造が模式的に図解された斜視図。1 is a perspective view schematically illustrating the structure of an optical element according to a first embodiment of the present invention; FIG. 本発明の第1実施形態の作用が概略的に図解されている。The operation of the first embodiment of the invention is schematically illustrated. 本発明の第1実施形態の作用が概略的に図解されている。The operation of the first embodiment of the invention is schematically illustrated. (a)本発明の第1実施形態の境界領域の構造が概略的に図解された平面図、(b)III‐III線およびIV‐IV線に沿う断面図。(a) A plan view schematically illustrating the structure of the boundary region of the first embodiment of the present invention, (b) a cross-sectional view taken along lines III-III and IV-IV. (a)本発明の第1実施形態の境界領域の構造が概略的に図解された平面図、(b)V‐V線に沿う断面図。(a) A plan view schematically illustrating the structure of the boundary region of the first embodiment of the present invention, (b) a cross-sectional view taken along line VV. (a)本発明の第1実施形態の境界領域の構造が概略的に図解された平面図、(b)VI‐VI線に沿う断面図。(a) A plan view schematically illustrating the structure of the boundary region of the first embodiment of the present invention, (b) a cross-sectional view taken along line VI-VI. 本発明の光学素子の測色装置の構成が概略的に図解された装置構成図。1 is an apparatus configuration diagram schematically illustrating the configuration of an optical element colorimetry apparatus according to the present invention; FIG. 本発明の第1実施形態の構造の光学特性が示されたグラフ。4 is a graph showing the optical properties of the structure of the first embodiment of the invention; 本発明の第1実施形態の構造の光学特性が示されたグラフ。4 is a graph showing the optical properties of the structure of the first embodiment of the invention; 本発明の第1実施形態の構造の光学特性が示されたグラフ。4 is a graph showing the optical properties of the structure of the first embodiment of the invention; 本発明の第1実施形態の構造の光学特性が示されたグラフ。4 is a graph showing the optical properties of the structure of the first embodiment of the invention; 本発明の第1実施形態の構造の光学特性が示された色度図。FIG. 2 is a chromaticity diagram showing the optical characteristics of the structure of the first embodiment of the invention; 本発明の第1実施形態の構造の光学特性が示された色度図。FIG. 2 is a chromaticity diagram showing the optical characteristics of the structure of the first embodiment of the invention; 本発明の第1実施形態の構造の光学特性が示されたグラフ。4 is a graph showing the optical properties of the structure of the first embodiment of the invention; 本発明の第1実施形態の構造の光学特性が示されたグラフ。4 is a graph showing the optical properties of the structure of the first embodiment of the invention; 本発明の第1実施形態の構造の光学特性が示されたグラフ。4 is a graph showing the optical properties of the structure of the first embodiment of the invention; 本発明の第1実施形態の境界領域が概略的に図解された平面図。FIG. 2 is a plan view schematically illustrating the boundary area of the first embodiment of the present invention; 本発明の第1実施形態の領域の構成が概略的に図解された平面図。FIG. 2 is a plan view schematically illustrating the configuration of regions according to the first embodiment of the present invention; 本発明の第1実施形態の領域の構成が概略的に図解された平面図。FIG. 2 is a plan view schematically illustrating the configuration of regions according to the first embodiment of the present invention; 本発明の第1実施形態の領域の構成が概略的に図解された平面図。FIG. 2 is a plan view schematically illustrating the configuration of regions according to the first embodiment of the present invention; 本発明の第1実施形態の領域の構成が概略的に図解された平面図。FIG. 2 is a plan view schematically illustrating the configuration of regions according to the first embodiment of the present invention; 本発明の第1実施形態の構造が概略的に図解された平面図。1 is a plan view schematically illustrating the structure of a first embodiment of the present invention; FIG. 図30におけるVII‐VII線に沿う断面における構造が概略的に図解された断面図。FIG. 31 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure in a cross section taken along line VII-VII in FIG. 30; 図30におけるVII‐VII線に沿う断面における構造が概略的に図解された断面図。FIG. 31 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure in a cross section taken along line VII-VII in FIG. 30; 本発明の第1実施形態の光学素子が備える各領域の構造が概略的に図解された平面図および断面図。FIG. 2 is a plan view and cross-sectional view schematically illustrating the structure of each region provided in the optical element of the first embodiment of the present invention; 本発明の第1実施形態の光学素子が備える各領域の構造が概略的に図解された平面図および断面図。FIG. 2 is a plan view and cross-sectional view schematically illustrating the structure of each region provided in the optical element of the first embodiment of the present invention; 本発明の第1実施形態の他の例における構造が拡大図とともに概略的に図解された平面図。FIG. 4 is a plan view schematically illustrating the structure of another example of the first embodiment of the present invention together with an enlarged view; 本発明の第2実施形態の光学素子における構造が拡大図とともに概略的に図解された断面図。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view along with an enlarged view of the structure of the optical element of the second embodiment of the present invention; 本発明の第2実施形態の光学素子における他の例における構造が概略的に図解された断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of another example of the optical element of the second embodiment of the present invention; 本発明の第2実施形態の光学素子における別の他の例における構造が概略的に図解された断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of another example of the optical element of the second embodiment of the present invention; 本発明の第3実施形態の光学素子における構造が概略的に図解された断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of an optical element according to a third embodiment of the present invention; 本発明の第4実施形態の光学素子における第1例の構造が概略的に図解された断面図。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of a first example in the optical element of the fourth embodiment of the present invention; 本発明の第4実施形態の光学素子における第2例の構造が概略的に図解された断面図。FIG. 12 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of a second example in the optical element of the fourth embodiment of the present invention; 本発明の第5実施形態の光学素子における第1例の構造が概略的に図解された断面図。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of a first example in the optical element of the fifth embodiment of the present invention; 本発明の第5実施形態の光学素子における層構成が概略的に図解された断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically illustrating the layer structure of an optical element according to a fifth embodiment of the present invention; 本発明の第6実施形態の光学素子の第1例における構造が概略的に図解された断面図。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of the first example of the optical element of the sixth embodiment of the present invention; 本発明の第6実施形態の光学素子の第1例における作用が概略的に図解されている。The effect|action in the 1st example of the optical element of 6th Embodiment of this invention is illustrated schematically. 本発明の第6実施形態の光学素子の第1例における第1状態が概略的に図解された平面図。FIG. 11 is a plan view schematically illustrating the first state in the first example of the optical element of the sixth embodiment of the present invention; 本発明の第6実施形態の光学素子の第1例における第2状態が概略的に図解された平面図。FIG. 11 is a plan view schematically illustrating a second state in the first example of the optical element of the sixth embodiment of the present invention; 本発明の第6実施形態の光学素子の第1例における第3状態が概略的に図解された平面図。FIG. 11 is a plan view schematically illustrating the third state in the first example of the optical element of the sixth embodiment of the present invention; 本発明の第6実施形態の光学素子の第1例における第4状態が概略的に図解された平面図。FIG. 11 is a plan view schematically illustrating a fourth state in the first example of the optical element of the sixth embodiment of the present invention; 本発明の第6実施形態の光学素子の第2例における構造が概略的に図解された断面図。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of the second example of the optical element of the sixth embodiment of the present invention; 本発明の第7実施形態の光学素子の第1例における構造が概略的に図解された断面図。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of the first example of the optical element of the seventh embodiment of the present invention; 本発明の第7実施形態の光学素子の第2例における構造が概略的に図解された断面図。FIG. 12 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of the second example of the optical element of the seventh embodiment of the present invention; 本発明の第7実施形態の光学素子の第3例における構造が概略的に図解された断面図。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of the third example of the optical element of the seventh embodiment of the present invention; 本発明の第7実施形態の光学素子の第4例における構造が概略的に図解された断面図。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of the fourth example of the optical element of the seventh embodiment of the present invention; 本発明の第8実施形態の転写箔の構造が概略的に図解された断面図。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of a transfer foil according to an eighth embodiment of the present invention; 本発明の第9実施形態の光学素子の構造が概略的に図解された断面図。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of an optical element according to a ninth embodiment of the present invention; 本発明の第9実施形態の光学素子が適用されたIDカードの構造が概略的に図解された平面図。FIG. 20 is a plan view schematically illustrating the structure of an ID card to which the optical element of the ninth embodiment of the present invention is applied; 本発明の第9実施形態の光学素子の構造が概略的に図解された平面図。FIG. 11 is a plan view schematically illustrating the structure of an optical element according to a ninth embodiment of the present invention; 本発明の第10実施形態の認証体における構造が概略的に図解された平面図。FIG. 20 is a plan view schematically illustrating the structure of the authenticator of the tenth embodiment of the present invention; 図58のXIV‐XIV線に沿う断面における構造が概略的に図解された断面図。FIG. 59 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure in a cross section taken along line XIV-XIV of FIG. 58; 本発明の第11実施形態の認証体における構造が概略的に図解された断面図。FIG. 21 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of the authentication body of the eleventh embodiment of the present invention; 本発明の第11実施形態の認証体の第1例における作用が概略的に図解されている。The operation of the first example of the authenticator of the eleventh embodiment of the present invention is schematically illustrated. 本発明の第11実施形態の認証体の第1例における作用が概略的に図解されている。The operation of the first example of the authenticator of the eleventh embodiment of the present invention is schematically illustrated. 本発明の第11実施形態の認証体の第1例における作用が概略的に図解されている。The operation of the first example of the authenticator of the eleventh embodiment of the present invention is schematically illustrated. 本発明の第11実施形態の認証体の第1例における作用が概略的に図解されている。The operation of the first example of the authenticator of the eleventh embodiment of the present invention is schematically illustrated. 本発明の第11実施形態の認証体の第2例における作用が概略的に図解されている。The operation in the second example of the authenticator of the eleventh embodiment of the present invention is schematically illustrated. 本発明の第11実施形態の認証体の第2例における作用が概略的に図解されている。The operation in the second example of the authenticator of the eleventh embodiment of the present invention is schematically illustrated. 本発明の第11実施形態の認証体の第2例における作用が概略的に図解されている。The operation in the second example of the authenticator of the eleventh embodiment of the present invention is schematically illustrated. 光学素子上に発生したクラックが図解されている。A crack generated on the optical element is illustrated.

[第1実施形態]
図1から図35を参照して、本発明の光学素子の第1実施形態を説明する。なお、各図面において、同一または類似した機能を発揮する構成要素には全て同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。また、本開示の本発明の実施形態は、背景からの独自の単一の発明を元とする一群の実施形態である。また、本開示の各側面は、単一の発明を元とした一群の実施形態の側面である。本開示の各構成は、本開示の各側面を有しうる。本開示の各特徴(feature)は組合せ可能であり、各構成をなせる。したがって、本開示の各特徴(feature)、本開示の各構成、本開示の各側面、本開示の各実施形態は、組合せることが可能であり、その組合せは相乗的機能を有し、相乗的な効果を発揮しうる。
図1が示すように、光学素子10は、第1層11と、第1層11に接する第2層12と、第2層12に接する第3層13とを備えている。各層は、光透光過性を有している。光学素子は、セキュリティシールの全体または一部とできる。言い換えれば、セキュリティシールは、光学素子を含むことができる。また、光学素子は、可視のモチーフとできる。セキュリティシールの形態はパッチ、ストライプ、オーバーレイ、ステッカーとできる。光学素子10では、第2層12に対して第3層13とは反対側に位置する光源から光が照射されている状態が、第2層12に対して第3層13とは反対側から観察される。光学素子10において、第1層11のなかで、第2層12に接する面とは反対側の面が、観察者によって観察される観察面10Sである。
[First embodiment]
A first embodiment of the optical element of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 35. FIG. In addition, in each drawing, the same reference numerals are given to all constituent elements exhibiting the same or similar functions, and redundant explanations are omitted. Also, the inventive embodiments of the present disclosure are a group of embodiments that originate from a unique single invention from the background. Moreover, each aspect of this disclosure is an aspect of a group of embodiments based on a single invention. Each configuration of this disclosure can have each aspect of this disclosure. Each feature of the disclosure is combinable to form each configuration. Accordingly, each feature of this disclosure, each configuration of this disclosure, each aspect of this disclosure, and each embodiment of this disclosure are combinable, and the combination has synergistic function and synergistic effective.
As shown in FIG. 1 , the optical element 10 comprises a first layer 11 , a second layer 12 in contact with the first layer 11 and a third layer 13 in contact with the second layer 12 . Each layer has light transmissivity. The optical element can be all or part of the security seal. In other words, the security seal can include an optical element. Also, the optical element can be a visible motif. Security seals can be in the form of patches, stripes, overlays, stickers. In the optical element 10, the state in which light is emitted from the light source located on the side opposite to the third layer 13 with respect to the second layer 12 is the state in which the light is emitted from the side opposite to the third layer 13 with respect to the second layer 12. Observed. In the optical element 10, the surface of the first layer 11 opposite to the surface in contact with the second layer 12 is an observation surface 10S viewed by the observer.

第1層11は、第1の屈折率n1を有する樹脂製の層である。第1層11は、第2層12に接する表面11Sの少なくとも一部に格子構造11Gを含む。表面11Sは、第1面の一例である。第2層12は、格子構造11Gに追従した凹凸状を有している。第2層12は、第1の屈折率n1よりも高い第2の屈折率n2を有する誘電体製の層である。第3層13は、第2の屈折率n2よりも低い第3の屈折率n3を有する樹脂製の層である。凹部と凸部で構成される最小構造単位である格子構造11Gは1つの方向に沿って複数並べられ、格子パターンGPとして表面11Sに広がる。格子パターンGPは、表面11Sの凹凸面として形成できる。格子構造11Gの格子周期は、250nm以上500nm以下の可視波長以下のサブ波長であって、例えば400nmである。 The first layer 11 is a resin layer having a first refractive index n1. The first layer 11 includes a lattice structure 11G on at least a portion of the surface 11S that contacts the second layer 12 . The surface 11S is an example of a first surface. The second layer 12 has an uneven shape following the grid structure 11G. The second layer 12 is a dielectric layer having a second refractive index n2 higher than the first refractive index n1. The third layer 13 is a resin layer having a third refractive index n3 lower than the second refractive index n2. A plurality of lattice structures 11G, which are the minimum structural unit composed of concave portions and convex portions, are arranged along one direction and spread over the surface 11S as a lattice pattern GP. The grid pattern GP can be formed as an uneven surface on the surface 11S. The grating period of the grating structure 11G is a sub-wavelength equal to or shorter than the visible wavelength of 250 nm or more and 500 nm or less, and is, for example, 400 nm.

第1層11の屈折率n1は、第3層13の屈折率n3と互いに同じであってもよいし、互いに異なってもよい。第1層11の屈折率n1と第3層13の屈折率n3との差は、0.2以下であることが好ましくとでき、さらには、0.1以下であることがより好ましいとできる。第1層11の屈折率n1と第3層13の屈折率n3との差が、0.2以下であれば、彩度を上げやすい。第1層11の屈折率n1と第3層13の屈折率n3との差が、0.1以下であれば、最大の彩度に近づく。第1層11の屈折率n1と第2層12の屈折率n2との差、および、第3層13の屈折率n3と第2層12の屈折率n2との差は、それぞれ0.3以上であることが好ましく、0.5以上であることがより好ましい。 The refractive index n1 of the first layer 11 may be the same as or different from the refractive index n3 of the third layer 13 . The difference between the refractive index n1 of the first layer 11 and the refractive index n3 of the third layer 13 is preferably 0.2 or less, and more preferably 0.1 or less. If the difference between the refractive index n1 of the first layer 11 and the refractive index n3 of the third layer 13 is 0.2 or less, it is easy to increase the saturation. If the difference between the refractive index n1 of the first layer 11 and the refractive index n3 of the third layer 13 is 0.1 or less, the saturation approaches the maximum. The difference between the refractive index n1 of the first layer 11 and the refractive index n2 of the second layer 12, and the difference between the refractive index n3 of the third layer 13 and the refractive index n2 of the second layer 12 are each 0.3 or more. is preferable, and 0.5 or more is more preferable.

第1層11の表面11Sのなかで、格子構造11Gが位置する領域が凹凸面である。すなわち、表面11Sは、凹凸面を有する。本実施形態では、表面11Sの全体が凹凸面であるが、表面11Sの一部のみが凹凸面であってもよい。 A region of the surface 11S of the first layer 11 where the lattice structure 11G is located is an uneven surface. That is, the surface 11S has an uneven surface. Although the entire surface 11S is uneven in this embodiment, only a part of the surface 11S may be uneven.

図2は、観察面10Sと対向する平面視における光学素子10の外観を示している。光学素子10は、モチーフ領域11S1と背景領域11S2とを備えている。モチーフ領域11S1は第1領域の一例であり、背景領域11S2は第2領域の一例である。モチーフ領域11S1は、複数の画像要素11R1,11R2,11R3,11R4,11R5から形成されている。背景領域11S2は、パターン要素11P1,11P2から形成される。モチーフ領域11S1は、文字、記号、物体形状、および、シンボルなどのデザイン全体のなかで主となる要素であって、特定の意味を有した輪郭を有する領域である。一方で、背景領域11S2は、特別な意味を有していない領域であって、図2の例のようにストライプ状であってもよいし、その他の幾何学模様などの図形であってもよい。
モチーフ領域11S1と背景領域11S2とは、境界領域11S3を介して隣り合っている。境界領域11S3は、第3領域の一例である。光学素子10がある観察角度で観察されたときに、光学素子10は、境界領域11S3が呈する色が、モチーフ領域11S1が呈する色、および、背景領域11S2が呈する色の両方と異なる状態を有する。光学素子10が境界領域11S3を有するため、光学素子10が第3領域11S3を有しない場合に比べて、光学素子10の観察者が、モチーフ領域11S1と背景領域11S2との境界をより明確に認識することが可能である。なお、光学素子10は、境界領域11S3を有しなくてもよい。光学素子10が境界領域11S3を有しない場合には、モチーフ領域11S1と背景領域11S2とが接している。
FIG. 2 shows the appearance of the optical element 10 in plan view facing the viewing surface 10S. The optical element 10 comprises a motif area 11S1 and a background area 11S2. Motif region 11S1 is an example of a first region, and background region 11S2 is an example of a second region. Motif region 11S1 is formed from a plurality of image elements 11R1, 11R2, 11R3, 11R4 and 11R5. Background area 11S2 is formed from pattern elements 11P1 and 11P2. The motif area 11S1 is a main element in the entire design such as characters, symbols, object shapes, and symbols, and is an area having a contour with a specific meaning. On the other hand, the background area 11S2 is an area that does not have a special meaning, and may be striped as in the example of FIG. 2, or may be other figures such as geometric patterns. .
The motif region 11S1 and the background region 11S2 are adjacent to each other with a boundary region 11S3 interposed therebetween. The boundary area 11S3 is an example of a third area. When the optical element 10 is observed at a certain viewing angle, the optical element 10 has a state in which the color exhibited by the boundary region 11S3 is different from both the color exhibited by the motif region 11S1 and the color exhibited by the background region 11S2. Since the optical element 10 has the boundary region 11S3, the observer of the optical element 10 can recognize the boundary between the motif region 11S1 and the background region 11S2 more clearly than when the optical element 10 does not have the third region 11S3. It is possible to Note that the optical element 10 may not have the boundary region 11S3. When the optical element 10 does not have the boundary region 11S3, the motif region 11S1 and the background region 11S2 are in contact.

図3は、図2に示した光学素子10の一部を拡大した図である。モチーフ領域11S1、背景領域11S2、境界領域11S3において、複数のセルPxが区画されている。各セルPxの面積は、0.1mm以下であることが好ましい。第1層11の表面11Sの全体において、複数のセルPxが隙間なく並んでいる。本実施形態では、表面11Sと対向する平面視において、各セルPxは正方形状を有しているが、画素領域Pxは、正三角形状および正六角形状などを有してもよい。また、各セルPxは、多角形状であって、かつ、互いに異なる長さを有した辺を含む形状であってもよい。セルPxにおいて、一辺の長さは0.3mm以下であることが好ましい。なお、一辺の長さが0.08mm以下であることがより好ましい。この場合には、セルPxの一辺の長さが人の目の分解能よりも小さい値であるため、各セルPxが観察者によって視認されない。これにより、光学素子10が、高解像度の像を表示することが可能である。 FIG. 3 is an enlarged view of part of the optical element 10 shown in FIG. A plurality of cells Px are defined in the motif region 11S1, the background region 11S2, and the boundary region 11S3. The area of each cell Px is preferably 0.1 mm 2 or less. A plurality of cells Px are arranged without gaps on the entire surface 11S of the first layer 11 . In the present embodiment, each cell Px has a square shape in plan view facing the surface 11S, but the pixel region Px may have a regular triangular shape, a regular hexagonal shape, or the like. Further, each cell Px may be polygonal and may have a shape including sides having mutually different lengths. In the cell Px, the length of one side is preferably 0.3 mm or less. In addition, it is more preferable that the length of one side is 0.08 mm or less. In this case, since the length of one side of the cell Px is a value smaller than the resolution of the human eye, each cell Px is not visually recognized by the observer. This allows the optical element 10 to display a high-resolution image.

以下では、図示および説明の便宜上、観察面10Sと対向する平面視での構造を用いて、第1層11の表面11S、すなわち第1層11のなかで第2層12との界面を形成する面について説明する。また、図3では、図示の便宜上、格子パターンGPが延びる方向を直線によって示している。ここでは例として、境界領域11S3に隣接する画像要素11R1およびパターン要素11P2のうち、境界領域11S3の輪郭からの距離が少なくとも300μmの領域内のセル11G1,11G2に配置された格子構造の格子方向が互いに直交した場合を示している。なお、セル11G1,11G2において格子方向が互いに平行もしくは直交していれば、格子方向の組み合わせ方は任意である。 Hereinafter, for convenience of illustration and description, the structure in a plan view facing the observation surface 10S is used to form the surface 11S of the first layer 11, that is, the interface with the second layer 12 in the first layer 11. Describe the surface. In addition, in FIG. 3, for convenience of illustration, the direction in which the grid pattern GP extends is indicated by a straight line. Here, as an example, among the image element 11R1 and the pattern element 11P2 adjacent to the boundary area 11S3, the lattice directions of the lattice structures arranged in the cells 11G1 and 11G2 in the area whose distance from the contour of the boundary area 11S3 is at least 300 μm are A case where they are orthogonal to each other is shown. The lattice directions of the cells 11G1 and 11G2 may be combined in any manner as long as the lattice directions are parallel or perpendicular to each other.

図4を参照して、格子方向を表す方位角の定義を説明する。
図4が示すように、光学素子10の観察面10Sに沿う任意の方向が、X方向であり、X方向に直交する方向がY方向である。本実施形態では、X方向が方位角において基準となる方向であり、X方向と格子構造が延びる方向とが形成する角度が方位角φである。そのため、第1セルPx1における方位角φは0°であり、第2セルPx2における方位角
φは45°である。また、第3セルPx3における方位角φは90°であり、第4セルPx4における方位角φは135°である。なお、X方向は光学素子10の水平方向と一致する場合が多く、その場合に利用する格子構造の方位角φは0°、90°、または、0°および90°であることが好ましい。このような設計とすることによって、光学素子10の製造が容易であり、光学素子10の生産効率を高めることができる。第1格子構造の方位角と、前記第2格子構造の方位角の差が1°以下のとき、それぞれの方位角は等しいと定義できる。
The definition of the azimuth angle representing the lattice direction will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 4, an arbitrary direction along the viewing surface 10S of the optical element 10 is the X direction, and a direction perpendicular to the X direction is the Y direction. In this embodiment, the X direction is the reference direction for the azimuth angle, and the angle formed by the X direction and the direction in which the lattice structure extends is the azimuth angle φ. Therefore, the azimuth angle φ in the first cell Px1 is 0°, and the azimuth angle φ in the second cell Px2 is 45°. The azimuth angle φ in the third cell Px3 is 90°, and the azimuth angle φ in the fourth cell Px4 is 135°. The X direction often coincides with the horizontal direction of the optical element 10, and the azimuth angle φ of the lattice structure used in that case is preferably 0°, 90°, or 0° and 90°. Such a design facilitates the manufacture of the optical element 10 and increases the production efficiency of the optical element 10 . When the difference between the azimuth angle of the first grating structure and the azimuth angle of said second grating structure is less than or equal to 1°, the respective azimuth angles can be defined as equal.

図5は、図3におけるI‐I線およびII‐II線に沿う格子構造11Gの断面構造を示している。図5では、図示の便宜上、画像要素に配置される第1格子構造11G1の断面構造と、パターン要素に配置される第2格子構造11G2の断面構造とを、紙面の上下方向において並べて示している。なお、各格子構造の断面構造は、1つのセルPxに位置する格子構造の断面構造を模式的に示している。また、図5では、図示の便宜上、各格子構造を、平坦面から離れる方向に突出する凸部を構成する面として示している。 FIG. 5 shows a cross-sectional structure of the grid structure 11G taken along lines II and II-II in FIG. In FIG. 5, for convenience of illustration, the cross-sectional structure of the first lattice structure 11G1 arranged in the image element and the cross-sectional structure of the second lattice structure 11G2 arranged in the pattern element are shown side by side in the vertical direction of the paper surface. . The cross-sectional structure of each lattice structure schematically shows the cross-sectional structure of the lattice structure located in one cell Px. In addition, in FIG. 5, for convenience of illustration, each lattice structure is shown as a surface forming a convex portion projecting in a direction away from the flat surface.

図5が示すように、各格子パターンGPにおいて、互いに隣り合う格子構造の距離が格子周期dである。第1格子構造11G1における格子周期が第1周期d1であり、第2格子構造11G2における格子周期が第2周期d2である。本実施形態では、第1周期d1が第2周期d2よりも小さいが、第1周期d1が第2周期d2よりも大きくてもよい。本実施形態では、格子構造は、凸部と凹部を備えた最小単位の構造であって、格子構造が1つの方向において繰り返されたパターンが格子パターンGPである。 As shown in FIG. 5, in each grid pattern GP, the distance between adjacent grid structures is the grid period d. The grating period of the first grating structure 11G1 is the first period d1, and the grating period of the second grating structure 11G2 is the second period d2. In this embodiment, the first period d1 is shorter than the second period d2, but the first period d1 may be longer than the second period d2. In the present embodiment, the lattice structure is a minimum unit structure having convex portions and concave portions, and a pattern in which the lattice structure is repeated in one direction is the lattice pattern GP.

第1格子構造11G1の格子方向と第2格子構造11G2の格子方向とが互いに直交する場合は、第1周期d1と第2周期d2とは同じでもよいし、異なっていてもよい。一方で、第1格子構造11G1の格子方向と第2格子構造11G2の格子方向とが互いに平行である場合は、第1周期d1と第2周期d2とは異なっていることが好ましい。いずれの場合においても、光学素子10は、式(1)を満たす構成であればよい。
|d1(n21-R)-d2(n22-R)|≧20 … 式(1)
式(1)において、n21は第1格子構造11G1が配置された領域における入射光に対する仮想層12Vの有効屈折率、n22は第2格子構造11G2が配置された領域における入射光に対する仮想層12Vの有効屈折率、Rは第1層11の屈折率n1と入射光の角度θによって規定される定数である。
When the lattice direction of the first lattice structure 11G1 and the lattice direction of the second lattice structure 11G2 are orthogonal to each other, the first period d1 and the second period d2 may be the same or different. On the other hand, when the lattice direction of the first lattice structure 11G1 and the lattice direction of the second lattice structure 11G2 are parallel to each other, the first period d1 and the second period d2 are preferably different. In either case, the optical element 10 may have a configuration that satisfies the formula (1).
|d1(n21-R)-d2(n22-R)|≧20 Equation (1)
In equation (1), n21 is the effective refractive index of the virtual layer 12V for incident light in the region where the first grating structure 11G1 is arranged, and n22 is the effective refractive index of the virtual layer 12V for incident light in the region where the second grating structure 11G2 is arranged. The effective refractive index, R, is a constant defined by the refractive index n1 of the first layer 11 and the angle θ of incident light.

図6は、光学素子10において、格子構造11Gが配置された領域に光が入射する様子を模式的に示している。入射光ILは、第1層11側から入射角θで第2層12へ入射する。第2層12は格子構造11Gの形状にあたるが、可視波長以下の細かい構造、すなわちサブ波長格子においては格子構造が存在する領域を、実質的にz方向に一定の厚みを有した二次元平面的な層、すなわち仮想層12Vと見なせることが知られている。この仮想層12Vの屈折率neffは有効屈折率あるいは実効屈折率といわれ、偏光方向によって値が異なる(光学異方性)。今回のように、構造に方向性がある場合に発生する光学異方性は構造複屈折といわれ、入射光と構造の方向との関係性によって有効屈折率が異なる。 FIG. 6 schematically shows how light is incident on the region in which the grating structure 11G is arranged in the optical element 10. As shown in FIG. Incident light IL enters the second layer 12 at an incident angle θ from the first layer 11 side. The second layer 12 corresponds to the shape of the grating structure 11G, but in a fine structure below the visible wavelength, that is, in a sub-wavelength grating, the region where the grating structure exists is substantially a two-dimensional plane with a constant thickness in the z direction. layer, i.e., a virtual layer 12V. The refractive index neff of the virtual layer 12V is called an effective refractive index or effective refractive index, and its value varies depending on the polarization direction (optical anisotropy). The optical anisotropy that occurs when the structure has directionality, as in this case, is called structural birefringence, and the effective refractive index varies depending on the relationship between the incident light and the direction of the structure.

図7は、方位角φが0°である格子構造11Gの斜視構造を示している。一方で、図8は、方位角φが90°である格子構造11Gの斜視構造を示している。なお、本実施形態では図示の便宜上、格子構造を矩形状としているが、波状であってもよい。格子構造11Gへの入射光が含む偏光成分のうち、格子構造11Gの入射面に対して電場が垂直に振動している偏光がs偏光である。これに対して、格子構造11Gの入射面に対して電場が平行に振動している偏光がp偏光である。なお、入射面とは、格子構造が広がる平面に対して垂直であり、かつ、入射光と反射光とを含む平面である。また、s偏光およびp偏光の各々は、格子構造11Gの方位角φには依存しない。言い換えれば、図7が示す格子構造
11Gに入射する入射光であっても、図8が示す格子構造11Gに入射する入射光であっても、s偏光およびp偏光を含む。
FIG. 7 shows a perspective structure of the grating structure 11G with an azimuth angle φ of 0°. On the other hand, FIG. 8 shows a perspective structure of a grating structure 11G with an azimuth angle φ of 90°. In this embodiment, for convenience of illustration, the lattice structure is rectangular, but may be wavy. Among the polarized components included in the incident light to the grating structure 11G, the polarized light whose electric field oscillates perpendicularly to the plane of incidence of the grating structure 11G is the s-polarized light. On the other hand, p-polarized light is polarized light whose electric field oscillates parallel to the plane of incidence of the grating structure 11G. The plane of incidence is a plane that is perpendicular to the plane on which the grating structure spreads and that contains the incident light and the reflected light. Also, each of the s-polarized light and the p-polarized light is independent of the azimuth angle φ of the grating structure 11G. In other words, both the incident light incident on the grating structure 11G shown in FIG. 7 and the grating structure 11G shown in FIG. 8 contain s-polarized light and p-polarized light.

ここで、格子構造11Gのような溝を有する構造では、上述のように溝が延びる方向、すなわち方位角φと電場の振動方向との関係によって光学異方性が生じる。格子構造11Gに入射した光のなかで、電場の振動方向が格子構造11Gの方位角φと平行な成分がTE波である。一方で、格子構造11Gに入射した光のなかで、電場の振動方向が格子構造11Gの方位角φと直交する成分がTM波である。図7を参照して先に説明したように、方位角φが90°である格子構造11Gでは、電場の振動方向が格子構造11Gの方位角φと平行な成分であるp偏光は、TE波と等しい。これに対して、図8を参照して先に説明したように、方位角φが0°である格子構造11Gでは、電場の振動方向が格子構造11Gの方位角φと直交する成分であるp偏光は、TM波と等しい。 Here, in a structure having grooves such as the lattice structure 11G, optical anisotropy occurs depending on the direction in which the grooves extend, that is, the relationship between the azimuth angle φ and the vibration direction of the electric field as described above. Among the light incident on the grating structure 11G, the component whose vibration direction of the electric field is parallel to the azimuth angle φ of the grating structure 11G is the TE wave. On the other hand, among the light incident on the grating structure 11G, the component whose electric field oscillation direction is perpendicular to the azimuth angle φ of the grating structure 11G is the TM wave. As described above with reference to FIG. 7, in the grating structure 11G having an azimuth angle φ of 90°, the p-polarized light whose electric field oscillation direction is parallel to the azimuth angle φ of the grating structure 11G is a TE wave. is equal to On the other hand, as described above with reference to FIG. 8, in the lattice structure 11G in which the azimuth angle φ is 0°, the oscillation direction of the electric field is the component p Polarization is equal to TM waves.

図9を参照して、格子構造11Gが矩形形状である単純なモデルを用いて、仮想層12Vの有効屈折率について説明する。
図9が示すように、周期dの格子構造の凸部に相当する領域の屈折率をnaとし、凹部に相当する領域の屈折率をnbとし、周期dのうち凸部の占める幅をaとし、凹部の占める幅をbとする。周期dに対する凸部の占有率をFとすると、入射光のうちTE波およびTM波に対する有効屈折率neffはそれぞれ式(2)および式(3)のように表される。
n_(eff_TE)=√(Fn_a^2+(1-F)n_b^2 ) … 式(2)
n_(eff_TM)=1/√(F/(n_a^2 )+((1-F))/(n_b^2 )) … 式(3)
Referring to FIG. 9, the effective refractive index of virtual layer 12V will be described using a simple model in which grating structure 11G has a rectangular shape.
As shown in FIG. 9, let na be the refractive index of the regions corresponding to the convex portions of the grating structure with the period d, let nb be the refractive index of the regions corresponding to the concave portions, and let a be the width occupied by the convex portions in the period d. , the width occupied by the recess is b. Assuming that the occupancy rate of the convex portion with respect to the period d is F, the effective refractive index neff for the TE wave and the TM wave of the incident light is expressed by Equations (2) and (3), respectively.
n_(eff_TE)=√(Fn_a^2+(1-F)n_b^2) … Equation (2)
n_(eff_TM)=1/√(F/(n_a^2)+((1-F))/(n_b^2)) … Formula (3)

以下に、上記式(1)の導出過程を説明する。式(1)では、有効屈折率n21および有効屈折率n22はどちらも上記TE波およびTM波の両方での屈折率を含めたものとして扱っている。上述のように格子構造11Gの方位角φによって有効屈折率n21および有効屈折率n22の値は変化する。ここで、格子構造11Gにおいて導波モード共鳴が生じるためには、下記の式(4)から式(7)で表される位相整合条件を満たす必要がある。この式が成り立つ特定波長の光が仮想層12Vを伝搬し、観察者の方向へ射出される。なお、図6に示すような平坦面に形成された格子構造においては、入射光ILの入射角θと射出光ELの射出角θは等しい、すなわち正反射角度でゼロ次回折光として特定の色が観察される。
kn1sinθ+mK=β … 式(4)
k=2π/λ … 式(5)
K=2π/d … 式(6)
β=(2π/λ)・neff… 式(7)
なお、kは波数であり、n1は第1層11の屈折率であり、θは仮想層12Vに入射する光の角度であり、mは回折次数であり、λは共鳴波長であり、Kは逆格子ベクトルであり、dは格子周期であり、βは伝搬定数であり、neffは有効屈折率である。
The derivation process of the above formula (1) will be described below. In formula (1), both the effective refractive index n21 and the effective refractive index n22 are treated as including the refractive indices for both the TE wave and the TM wave. As described above, the values of the effective refractive index n21 and the effective refractive index n22 change depending on the azimuth angle φ of the grating structure 11G. Here, in order for waveguide mode resonance to occur in the grating structure 11G, it is necessary to satisfy the phase matching conditions represented by the following formulas (4) to (7). Light of a specific wavelength that satisfies this formula propagates through the virtual layer 12V and is emitted in the direction of the viewer. In the grating structure formed on the flat surface as shown in FIG. 6, the incident angle θ of the incident light IL and the exit angle θ of the emitted light EL are equal. Observed.
kn1sin θ+mK=β (4)
k=2π/λ … Equation (5)
K=2π/d... Formula (6)
β=(2π/λ)·neff Expression (7)
where k is the wavenumber, n1 is the refractive index of the first layer 11, θ is the angle of light incident on the virtual layer 12V, m is the diffraction order, λ is the resonance wavelength, and K is the is the reciprocal lattice vector, d is the grating period, β is the propagation constant, and neff is the effective refractive index.

式(4)に式(5)から式(7)を代入することによって、式(8)が導出される。
d(neff-R)=mλ … 式(8)
屈折率n1および入射角θは、材料および入射角度を固定して考える場合には一定であるため、ここではn1sinθを定数Rとして取り扱う。導波モード共鳴に寄与するのは主に1次回折光であるため、式8においてm=1とすることができる。第1格子構造11G1および第2格子構造11G2について、式(8)より導かれる共鳴波長λをそれぞれλ1、λ2とすると、式(9)が成り立つ。
|λ1-λ2|=|d1(n21-R)-d2(n22-R)|… 式(9)
可視波長域において、特定の色に該当する波長範囲が比較的狭い黄緑、黄、橙よりも広い205nm以上の波長差がある場合に、2つの色で表示される2領域で色の違いを知覚
できるといえる。したがって、画像要素およびパターン要素に、式(9)の右辺が205以上となるような第1格子構造11G1および第2格子構造11G2を設けることで色の違いを知覚できが望ましく、波長差|λ1-λ2|が大きいほど色の違いが明瞭になるため好ましい。なお、格子構造の方位角に平行なTE波の方が格子構造の方位角に直交なTM波よりも構造に起因して有効屈折率が高くなり、仮想層12Vと第1層11との屈折率差が大きくなるため、正反射方向に射出する特定波長の強度が高く、光学効果としては支配的であるといえる。
By substituting equations (5) to (7) into equation (4), equation (8) is derived.
d(neff-R)=mλ... Formula (8)
Since the refractive index n1 and the incident angle θ are constant when the material and the incident angle are fixed, n1 sin θ is treated as a constant R here. Since it is mainly the first-order diffracted light that contributes to guided mode resonance, m=1 can be set in Eq. For the first grating structure 11G1 and the second grating structure 11G2, assuming that the resonance wavelengths λ derived from the formula (8) are λ1 and λ2, respectively, the formula (9) holds.
|λ1-λ2|=|d1(n21-R)-d2(n22-R)|... Equation (9)
In the visible wavelength range, when there is a wavelength difference of 205 nm or more, which is wider than the relatively narrow wavelength range corresponding to yellowish green, yellow, and orange, the color difference is displayed in two areas. It can be said that it is perceptible. Therefore, it is desirable to provide the image element and the pattern element with the first grating structure 11G1 and the second grating structure 11G2 such that the right side of Equation (9) is 205 or more so that the difference in color can be perceived, and the wavelength difference |λ1 The larger -λ2| is preferable because the color difference becomes clearer. Note that the TE wave parallel to the azimuth angle of the grating structure has a higher effective refractive index than the TM wave perpendicular to the azimuth angle of the grating structure due to the structure, and the refraction between the virtual layer 12V and the first layer 11 Since the index difference increases, the intensity of the specific wavelength emitted in the direction of specular reflection is high, which can be said to be dominant as an optical effect.

図3を参照して先に説明した光学素子10は、画像要素11R1に図7が示す第1格子構造11G1を備えることが可能であり、パターン要素11P2に図8が示す第2格子構造11G2を備えることが可能である。この場合において、画像要素11R1が第1色を呈し、かつ、パターン要素11P2が第2色を呈する状態が、光学素子10、観察者、および、光源の相対位置における初期位置である。光学素子10の法線を回転軸として光学素子10を初期位置から90°回転させると、画像要素11R1において、s偏光がTE波に対応し、かつ、p偏光がTM波に対応する。これに対して、パターン要素11P2において、s偏光がTM波に対応し、かつ、p偏光がTE波に対応する。これにより、画像要素11R1が第2色を呈し、かつ、パターン要素11P2が第1色を呈する。それゆえに、観察者は、光学素子10の回転によって、画像要素11R1が呈する色とパターン要素11P2が呈する色とが反転したと認識する。 The optical element 10 described above with reference to FIG. 3 can comprise the first grating structure 11G1 shown in FIG. 7 in the image element 11R1 and the second grating structure 11G2 shown in FIG. 8 in the pattern element 11P2. It is possible to prepare. In this case, the state in which the image element 11R1 exhibits the first color and the pattern element 11P2 exhibits the second color is the initial relative position of the optical element 10, the observer, and the light source. When the optical element 10 is rotated 90° from the initial position with the normal to the optical element 10 as the axis of rotation, the s-polarized light corresponds to the TE wave and the p-polarized light corresponds to the TM wave in the image element 11R1. In contrast, in pattern element 11P2, s-polarized light corresponds to TM waves and p-polarized light corresponds to TE waves. As a result, the image element 11R1 exhibits the second color and the pattern element 11P2 exhibits the first color. Therefore, the observer perceives that the rotation of the optical element 10 reverses the color exhibited by the image element 11R1 and the color exhibited by the pattern element 11P2.

上述したように、第1格子構造11G1の方位角φと、第2格子構造11G2の方位角φとは、90°以下であることが以下の理由から好ましい。光学素子10の観察面10Sと、観察者の視線を含む平面とが形成する角度が、観察角度である。格子構造が呈する色が視認される観察角度は、光源、観察者、および、光学素子10の相対的な位置の関係のみに影響されるで規定される。そのため、第1格子構造11G1の方位角φと、第2格子構造11G2の方位角φとが互いに異なっても、第1格子構造11G1が呈する色が視認される観察角度と、第2格子構造11G2が呈する色とが視認される観察角度とは、互いに等しい。言い換えれば、各格子11G1,11G2が呈する色が発現する観察角度と、各格子11G1,11G2が呈する色が消失する観察角度とは、2つの格子間において互いに等しい。 As described above, the azimuth angle φ of the first grating structure 11G1 and the azimuth angle φ of the second grating structure 11G2 are preferably 90° or less for the following reasons. The angle formed by the observation surface 10S of the optical element 10 and the plane including the line of sight of the observer is the observation angle. The viewing angle at which the colors exhibited by the grating structure are viewed is defined by being influenced only by the relative positional relationship between the light source, the observer, and the optical element 10 . Therefore, even if the azimuth angle φ of the first lattice structure 11G1 and the azimuth angle φ of the second lattice structure 11G2 are different from each other, the observation angle at which the color exhibited by the first lattice structure 11G1 is visually recognized and the second lattice structure 11G2 The color exhibited by and the viewing angle at which the is visually recognized are equal to each other. In other words, the observation angle at which the colors exhibited by the gratings 11G1 and 11G2 appear and the observation angle at which the colors exhibited by the gratings 11G1 and 11G2 disappear are equal between the two gratings.

第1格子構造11G1の方位角φと、第2格子構造11G2の方位角φとの差が90°である場合、第1格子構造11G1から射出されるゼロ次回折光の波長と、第2格子構造11G2から射出されるゼロ次回折光の波長とは互いに異なる。これにより、第1格子構造11G1が呈する第1色と、第2格子構造11G2が呈する第2色とが互いに異なる。第1格子構造11G1の方位角φと第2格子構造11G2の方位角φとの差を、0°よりも大きくかつ90°未満の範囲に含まれる角度に設定した場合には、第1格子構造11G1および第2格子構造11G2の少なくとも一方が、第1色と第2色との中間色を呈する。第1格子構造11G1が呈する色と、第2格子構造11G2が呈する色とは、方位角φの差に応じて変わる。そのため、第1格子構造11G1の方位角φと第2格子構造11G2の方位角φとの差によって、1つの方向に沿って並ぶセルPxにおいて、各セルPxが呈する色を徐々に変化させたり、互いに隣り合うセルPx間において、各セルPxが呈する色を急激に変えたりすることができる。 When the difference between the azimuth angle φ of the first grating structure 11G1 and the azimuth angle φ of the second grating structure 11G2 is 90°, the wavelength of the zero-order diffracted light emitted from the first grating structure 11G1 and the second grating structure The wavelength is different from that of the zero-order diffracted light emitted from 11G2. Accordingly, the first color exhibited by the first lattice structure 11G1 and the second color exhibited by the second lattice structure 11G2 are different from each other. When the difference between the azimuth angle φ of the first grating structure 11G1 and the azimuth angle φ of the second grating structure 11G2 is set to an angle that is greater than 0° and less than 90°, the first grating structure At least one of 11G1 and the second grating structure 11G2 presents an intermediate color between the first color and the second color. The color exhibited by the first lattice structure 11G1 and the color exhibited by the second lattice structure 11G2 change according to the difference in the azimuth angle φ. Therefore, depending on the difference between the azimuth angle φ of the first lattice structure 11G1 and the azimuth angle φ of the second lattice structure 11G2, the color of each cell Px arranged along one direction is gradually changed, Between the cells Px adjacent to each other, the color exhibited by each cell Px can be abruptly changed.

なお、格子構造11Gにおいて、第1格子構造11G1における方位角φと、第2格子構造11G2における方位角φとの差が90°に設定されたときに、第1格子構造11G1が射出する光の波長と、第2格子構造11G2が射出する光の波長との差が最も大きくなる。これに対して、第1格子構造11G1における方位角φと、第2格子構造11G2における方位角φとの差を90°よりも大きくしても、第1格子構造11G1が射出する光の波長と、第2格子構造11G2が射出する光の波長との差は、大きくはならない。 In addition, in the grating structure 11G, when the difference between the azimuth angle φ of the first grating structure 11G1 and the azimuth angle φ of the second grating structure 11G2 is set to 90°, the amount of light emitted from the first grating structure 11G1 is The difference between the wavelength and the wavelength of light emitted from the second grating structure 11G2 is the largest. On the other hand, even if the difference between the azimuth angle φ of the first grating structure 11G1 and the azimuth angle φ of the second grating structure 11G2 is larger than 90°, the wavelength of the light emitted from the first grating structure 11G1 , the difference from the wavelength of the light emitted from the second grating structure 11G2 is not large.

第1格子構造11G1における方位角φと、第2格子構造11G2における方位角φとの差が小さいほど、第1格子構造11G1における形状の精度と、第2格子構造11G2における形状の精度とに差が生じにくい。それゆえに、第1格子構造11G1における方位角φと、第2格子構造11G2における方位角φとの差の最大値は、90°であることが好ましい。 The smaller the difference between the azimuth angle φ in the first lattice structure 11G1 and the azimuth angle φ in the second lattice structure 11G2, the difference in shape accuracy between the first lattice structure 11G1 and the second lattice structure 11G2. is less likely to occur. Therefore, the maximum difference between the azimuth angle φ in the first grating structure 11G1 and the azimuth angle φ in the second grating structure 11G2 is preferably 90°.

図10が示すように、光学素子10では、例えば、光学素子10の観察面10Sに垂直な平面上において、光源LSと観察者OBとが、観察面10Sの法線に対して対象となるように位置するとき、観察者OBは、光学素子10が射出するゼロ次回折光を視認することができる。言い換えれば、光学素子10は、光源LSから入射した入射光に対する正反射の方向に、格子構造11Gの格子周期に応じた波長の光を射出することができる。 As shown in FIG. 10, in the optical element 10, for example, on a plane perpendicular to the observation surface 10S of the optical element 10, the light source LS and the observer OB are symmetrical with respect to the normal to the observation surface 10S. , the observer OB can visually recognize the zero-order diffracted light emitted by the optical element 10 . In other words, the optical element 10 can emit light having a wavelength corresponding to the grating period of the grating structure 11G in the direction of specular reflection of the incident light from the light source LS.

上述したように、本実施形態において、格子構造の格子周期は、可視波長以下、特に250nm以上500nm以下に設定されている。しかしながら、ゼロ次回折光による特定の波長を有した光のみが特定の方向に射出されるための格子周期は、格子構造の屈折率、および、格子構造に入射する入射光の入射角などによって変わる。以下において、格子構造がゼロ次回折光のみを射出するための条件、言い換えれば、サブ波長格子が1次回折光を射出しないための条件を説明する。 As described above, in the present embodiment, the grating period of the grating structure is set to be less than or equal to the visible wavelength, particularly 250 nm or more and 500 nm or less. However, the grating period for emitting only light having a specific wavelength due to zero-order diffracted light in a specific direction varies depending on the refractive index of the grating structure, the incident angle of the incident light on the grating structure, and the like. In the following, the conditions for the grating structure to emit only the zero-order diffracted light, in other words the conditions for the sub-wavelength grating not to emit the first-order diffracted light, will be described.

反射型の回折格子において、以下の式(10)が成り立つことが知られている。
sinθ1+sinθ2 = mλ/nd … 式(10)
なお、式(10)において、θ1は回折格子に対する入射光の入射角であり、θ2は回折格子が射出する回折光の回折角であり、mは回折光の回折次数である。λは波長であり、nは回折格子の屈折率であり、dは回折格子の格子周期である。
It is known that the following formula (10) is established in a reflective diffraction grating.
sin θ1 + sin θ2 = mλ/nd Equation (10)
In equation (10), θ1 is the incident angle of the incident light with respect to the diffraction grating, θ2 is the diffraction angle of the diffracted light emitted from the diffraction grating, and m is the diffraction order of the diffracted light. λ is the wavelength, n is the refractive index of the grating, and d is the grating period of the grating.

ここで、屈折率nが1であり、かつ、回折格子が配置された平面に対して垂直な光が入射したと仮定したときの1次回折光について考える。このとき、入射角θ1は0°であり、回折次数mは1である。そのため、これらの数値を式(10)に代入すると、以下の式(11)が導かれる。 Here, let us consider first-order diffracted light when it is assumed that the refractive index n is 1 and the light is incident perpendicular to the plane on which the diffraction grating is arranged. At this time, the incident angle θ1 is 0° and the diffraction order m is 1. Therefore, substituting these numerical values into the equation (10) leads to the following equation (11).

sinθ2 = λ/d … 式(11)
sinθ2は-1以上1以下であるため、式(11)における右辺(λ/d)が1よりも大きいとき、式(11)は成り立たない。言い換えれば、右辺(λ/d)が1よりも大きいとき、1次回折光は回折格子から射出されない。したがって、上述した前提のもとでは、回折格子の格子周期が波長よりも小さいときに、回折格子はゼロ次回折光のみを射出する。
sin θ2 = λ/d... Equation (11)
Since sin θ2 is −1 or more and 1 or less, when the right side (λ/d) in equation (11) is greater than 1, equation (11) does not hold. In other words, when the right side (λ/d) is greater than 1, the 1st order diffracted light is not emitted from the diffraction grating. Therefore, under the above assumption, the diffraction grating emits only the zero-order diffracted light when the grating period of the diffraction grating is smaller than the wavelength.

一方で、屈折率が1ではなく、かつ、入射角θ1が0°でない場合には、回折格子がゼロ次以外の次数の回折光を射出する場合もある。例えば、入射角θ1が30°であり、かつ、波長λが600nmであると仮定したときの1次回折光について考える。このとき、入射角θ1は30°であり、波長λは600nmであり、回折次数mは1である。そのため、これらの数値を式(10)に代入すると、以下の式(12)が導かれる。 On the other hand, if the refractive index is not 1 and the incident angle θ1 is not 0°, the diffraction grating may emit diffracted light of orders other than the zeroth order. For example, consider first-order diffracted light when the incident angle θ1 is 30° and the wavelength λ is 600 nm. At this time, the incident angle θ1 is 30°, the wavelength λ is 600 nm, and the diffraction order m is one. Therefore, substituting these numerical values into the equation (10) leads to the following equation (12).

1/2 + sinθ2 =600/nd … 式(12)
sinθ2は-1以上1以下であるため、式(12)の左辺(1/2+sinθ2)は-0.5以上1.5以下であり、屈折率nと格子周期dとの積が0以上400以下を満たすとき、屈折率nと格子周期dとの組み合わせによって、回折格子が1次回折光を射出する。例えば、1次回折光が射出されるときの屈折率nと格子周期dとの組み合わせ(n,d)は、以下の通りである。
1/2+sin θ2=600/nd Equation (12)
Since sin θ2 is −1 or more and 1 or less, the left side (1/2+sin θ2) of Equation (12) is −0.5 or more and 1.5 or less, and the product of the refractive index n and the grating period d is 0 or more and 400 or less. is satisfied, the diffraction grating emits the first-order diffracted light depending on the combination of the refractive index n and the grating period d. For example, the combination (n, d) of the refractive index n and grating period d when the first-order diffracted light is emitted is as follows.

(n,d) = (1,400)、(1.5,200)、(2,100)
このように、回折格子の屈折率nによっては、回折格子の格子周期dが波長λ以下であっても、1次回折光やより高次の回折光が射出されることがある。言い換えれば、回折格子の格子周期dと、回折格子の屈折率nとの調整によって、回折格子がゼロ次回折光を射出する一方で、ゼロ次回折光よりも高次の回折光を射出しないように回折格子を構成することが可能である。
(n,d) = (1,400), (1.5,200), (2,100)
As described above, depending on the refractive index n of the diffraction grating, even if the grating period d of the diffraction grating is equal to or less than the wavelength λ, first-order diffracted light and higher-order diffracted light may be emitted. In other words, by adjusting the grating period d of the diffraction grating and the refractive index n of the diffraction grating, the diffraction grating emits zero-order diffracted light while not emitting diffracted light of higher orders than the zero-order diffracted light. It is possible to construct a grid.

一方で、1次回折光の回折角θ2がゼロ次回折光の回折角θ2よりも大幅に大きくなるように設計することで、観察者に対する回折格子の相対位置が固定された状態において、ゼロ次回折光が観察者によって視認される一方で、1次回折光が観察者によって視認されないように、回折格子を構成することも可能である。これにより、回折格子を形成する材料の選択における自由度や、回折格子の格子周期における自由度を高めることはできる。 On the other hand, by designing the diffraction angle θ2 of the first-order diffracted light to be significantly larger than the diffraction angle θ2 of the zero-order diffracted light, the zero-order diffracted light can be obtained in a state where the relative position of the diffraction grating with respect to the observer is fixed. It is also possible to configure the diffraction grating so that it is visible to the observer, while the first order diffracted light is not visible to the observer. This makes it possible to increase the degree of freedom in selecting the material forming the diffraction grating and the degree of freedom in the grating period of the diffraction grating.

図11が示すように、光源LSと観察者OBの視点とを固定した状態で、上述した平面と光学素子10とが、垂直以外の角度で交差するように光学素子10を傾ける。この場合には、光学素子10は、観察者OBの視線の方向にはゼロ次回折光を射出しないため、観察者は光学素子10が射出する特定の波長の光を視認することができない。言い換えれば、観察者は、光学素子10が呈する色を視認することができない。 As shown in FIG. 11, with the light source LS and the viewpoint of the observer OB fixed, the optical element 10 is tilted so that the above-described plane and the optical element 10 intersect at an angle other than perpendicular. In this case, the optical element 10 does not emit zero-order diffracted light in the direction of the line of sight of the observer OB, so the observer cannot visually recognize light of a specific wavelength emitted by the optical element 10 . In other words, the observer cannot visually recognize the color exhibited by the optical element 10 .

光学素子10では、第1格子構造11G1および第2格子構造11G2の両方において、各格子構造に起因する色の発現と消失とが同時に起こる。そのため、光学素子10の全体において、特定の色を呈する状態と、特定の色を呈しない状態とが切り替わる。それゆえに、光学素子10の真贋判定では、光学素子10が、第1格子構造11G1に由来する色を呈するモチーフ領域11S1と、第2格子構造11G2に由来する色を呈する背景領域11S2とを備えるか否かを、一度に把握することができる。結果として、光学素子10を回転させることによって、光学素子10が2つの色を呈する状態を有するか否かを判定する場合に比べて、光学素子10の真贋をより容易に判定することができる。 In the optical element 10, in both the first grating structure 11G1 and the second grating structure 11G2, the appearance and disappearance of color due to each grating structure occur simultaneously. Therefore, the entire optical element 10 switches between a state of exhibiting a specific color and a state of not exhibiting a specific color. Therefore, in authenticity determination of the optical element 10, the optical element 10 includes the motif region 11S1 exhibiting the color derived from the first lattice structure 11G1 and the background region 11S2 exhibiting the color derived from the second lattice structure 11G2. It is possible to grasp at once whether or not. As a result, by rotating the optical element 10, the authenticity of the optical element 10 can be determined more easily than determining whether the optical element 10 has a state of exhibiting two colors.

図12から図14を用いて、境界領域11S3の構造を説明する。図12から図14では、(a)が境界領域11S3におけるXY平面に沿う概略的な構造を示し、(b)が(a)における断面指示線に沿う断面構造を示している。 The structure of the boundary area 11S3 will be described with reference to FIGS. 12 to 14. FIG. 12 to 14, (a) shows the schematic structure along the XY plane in the boundary region 11S3, and (b) shows the cross-sectional structure along the cross-sectional indication line in (a).

図12は、無指向性の散乱構造の一例を示している。
図12が示すように、無指向性の散乱構造は、構造の幅や高さが不規則な構成である。図示の便宜上、図12では構造がX方向とY方向にランダムに並んだ形態としているが、方向も関係なく完全にランダムに凹凸構造が形成された形態であってもよい。この無指向性の散乱構造は、モチーフ領域11S1の格子構造や背景領域11S2の格子構造を形成する工程で同時に形成してもよいし、第1層11から第3層13を含む積層体を別の基材に転写したり、ラミネートしたりするときに物理的に生成されるものであってもよい。
FIG. 12 shows an example of an omnidirectional scattering structure.
As shown in FIG. 12, an omnidirectional scattering structure is a configuration in which the width and height of the structure are irregular. For convenience of illustration, the structures are arranged randomly in the X direction and the Y direction in FIG. This omnidirectional scattering structure may be formed simultaneously with the step of forming the lattice structure of the motif region 11S1 and the lattice structure of the background region 11S2, or the laminate including the first to third layers 11 to 13 may be formed separately. It may also be one that is physically generated during transfer or lamination to a base material.

図13は、指向性の散乱構造の一例を示している。
図13が示すように、指向性の散乱構造において、構造の幅や高さが不規則ではあるが、構造の並ぶ方向が揃っている。観察者が紙面手前から観察しているとすると、図13に示す構造断面図に対して紙面の奥から紙面の手前に向けて光が入射する場合には、観察者側に散乱光が入ってくるため白色として知覚される。一方で、構造断面図に対して紙面の左から紙面の右に向けて光が入射する場合には、射出方向から観察しても光が弱く、散乱構造は、実質的に黒またはグレーにみえる。つまり、光学素子10を平面視した状態でどの方向に指向性の散乱構造を設けるかによって、境界領域を白色にも黒色にも表示可能である。例えば、境界領域11S3に入射した光の正反射方向とは異なる方向に指向性を有した散乱構造によれば、第3領域が、正反射方向では黒色を呈する。これにより、導波モード共鳴によって正反射方向に特定の色を表示するモチーフ領域11S1および背景領域11S2における境界がより明確になる。
FIG. 13 shows an example of a directional scattering structure.
As shown in FIG. 13, in the directional scattering structure, the width and height of the structure are irregular, but the directions in which the structures are arranged are aligned. Assuming that the observer observes from the front side of the paper, when light is incident from the back of the paper toward the front of the paper with respect to the structural cross-sectional view shown in FIG. It is perceived as white because it is dark. On the other hand, when light is incident from the left side of the paper to the right side of the paper with respect to the structure cross section, the light is weak even when viewed from the exit direction, and the scattering structure appears substantially black or gray. . In other words, depending on the direction in which the directional scattering structure is provided when the optical element 10 is viewed from above, the boundary region can be displayed in either white or black. For example, according to a scattering structure having directivity in a direction different from the regular reflection direction of light incident on the boundary region 11S3, the third region presents black in the regular reflection direction. As a result, the boundaries between the motif region 11S1 and the background region 11S2, which display a specific color in the specular direction due to waveguide mode resonance, become clearer.

図14は、モスアイ構造に代表される反射防止構造の一例を示している。
図14が示すように、モスアイ構造による反射防止の原理とは、ナノオーダーの針状構造を設けることで、構造周辺の屈折率がゆるやかに変化するため、入射した光の反射や屈折が極めて小さくなり、結果的に黒色に見えるという原理である。図14では、円錐状の構造を正方配列した例を示しているが、構造のXY方向の断面積がZ方向に変化する微細構造であればよく、配列も正方配列に限定されるものではない。
FIG. 14 shows an example of an antireflection structure represented by a moth-eye structure.
As shown in Fig. 14, the principle of anti-reflection by the moth-eye structure is that the refractive index around the structure gradually changes by providing a nano-order needle-like structure, so the reflection and refraction of incident light are extremely small. It is the principle that it becomes black as a result. FIG. 14 shows an example in which conical structures are arranged in a square arrangement, but any fine structure may be used as long as the cross-sectional area of the structure in the XY direction changes in the Z direction, and the arrangement is not limited to a square arrangement. .

また、境界領域11S3に格子構造11Gを設けてもよい。この場合には、モチーフ領域11S1や背景領域11S2と同じく境界領域11S3においても特定波長の色が表示される。境界領域11S3は境界領域11S3内の平均色彩値L*a*b*と、境界領域11S3に隣接する画像要素およびパターン要素の少なくとも一方の要素内での平均色彩値L*a*b*の色差ΔE*abが13以上である。この条件を満たせば、境界領域11S3に設ける格子構造11Gは任意である。 Also, the lattice structure 11G may be provided in the boundary region 11S3. In this case, the color of the specific wavelength is displayed in the boundary region 11S3 as well as in the motif region 11S1 and the background region 11S2. The boundary area 11S3 is the color difference between the average color value L*a*b* within the boundary area 11S3 and the average color value L*a*b* within at least one of the image elements and pattern elements adjacent to the boundary area 11S3. ΔE*ab is 13 or more. As long as this condition is satisfied, the lattice structure 11G provided in the boundary area 11S3 is arbitrary.

境界領域11S3に配置する格子構造11Gは、光学素子10と対向する平面視において縦方向に延びる、すなわち方位角φが90°の格子構造11Gであることが好ましい。格子構造11Gの方位角φが0°の場合と90°の場合とでは光学特性が異なる。 The lattice structure 11G arranged in the boundary region 11S3 preferably extends in the vertical direction in plan view facing the optical element 10, that is, the lattice structure 11G has an azimuth angle φ of 90°. The optical characteristics differ between when the azimuth angle φ of the grating structure 11G is 0° and when it is 90°.

図15から図24を参照して、格子構造11Gの方位角の違いによる特徴を説明する。なお、図16から図24は実験より得られた結果の一例である。当該実験は、格子周期dが300nmから500nmまで20nm刻みに条件を振ったサンプルの測色結果に関する。サンプルは、第1層11から第3層13を含む積層体を基材でラミネートした形態とした。各条件5mm角の平面上に格子周期dが一定の格子構造11Gを設け、それぞれ図7に示すように格子方向と平行に光を入射したα入射の場合と、図8に示すように格子方向と直交して光を入射したβ入射の場合とで分光反射率取得による測色を行なった。 15 to 24, the characteristics of the grating structure 11G due to the different azimuth angles will be described. 16 to 24 are examples of results obtained from experiments. This experiment relates to the results of colorimetry of samples in which the grating period d varies from 300 nm to 500 nm in increments of 20 nm. The sample had a form in which a laminate including the first layer 11 to the third layer 13 was laminated with a base material. For each condition, a grating structure 11G having a constant grating period d is provided on a plane of 5 mm square, and as shown in FIG. Colorimetry was performed by acquiring the spectral reflectance in the case of β incidence, in which the light was incident orthogonally.

当該測定は、図15に示すような光学系を用いて行なった。サンプルへの入射角と受光角が等しくなるように光学系を準備し、サンプルホルダーに設置したサンプル表面約4mmφの領域について反射光を受光し、反射光について測色した。なお、入射角および受光角は30度を基本とした。分光器では生データとして、後に参照する図16や図17に示すような分光反射スペクトルが得られる。各波長に対する物体の反射率と光源の分光特性、ヒトの視感度から三刺激値XYZが導かれ、そこからL*a*b*表色系などの各種色彩値へと変換される。 The measurement was performed using an optical system as shown in FIG. An optical system was prepared so that the angle of incidence on the sample and the angle of light reception were the same, reflected light was received from an area of about 4 mmφ on the surface of the sample placed on the sample holder, and the color of the reflected light was measured. The incident angle and the light receiving angle were basically set to 30 degrees. The spectrometer obtains spectral reflectance spectra as shown in FIGS. 16 and 17 to be referred to later as raw data. The tristimulus values XYZ are derived from the reflectance of the object for each wavelength, the spectral characteristics of the light source, and the human visibility, and converted into various color values such as the L*a*b* color system.

図15に示すような方法によって、画像要素およびパターン要素に対して測定を行なうことで、それぞれの共鳴波長λ1、λ2を取得できる。そのため、式(9)の右辺を求めなくても簡易的に両者の波長差がどの程度であるかを判断することができる。すなわち、式(9)で示される共鳴波長λ1、λ2の差と、構造周期の差の関係を実験的に求めることができる。このように、図15のように実験的に得られた結果から、共鳴波長λ1、λ2の差が25nmとなる、構造周期の差は20nmに相当することがわかる。いいかえれば、厳格には共鳴波長λ1、λ2と構造周期の差の関係は、式(9)で定式化できるが、実用的は、共鳴波長λ1、λ2の差と構造周期の差とが線形の関係であることから、実験値を用いた近似値を得ることができる。この近似値は、観察角度や、構造の材質に依存するが、現実的な観察角度や構造の材質は類似することから、ほとんどの現実的な構成において、十分に実用的である。 Respective resonance wavelengths λ1 and λ2 can be obtained by measuring the image element and the pattern element by the method shown in FIG. Therefore, it is possible to easily determine the extent of the wavelength difference between the two without obtaining the right side of the equation (9). That is, it is possible to experimentally obtain the relationship between the difference between the resonance wavelengths λ1 and λ2 and the difference in the structural period, which is given by the formula (9). Thus, from the experimentally obtained results shown in FIG. 15, it can be seen that the difference in the structural period is 20 nm when the difference between the resonance wavelengths λ1 and λ2 is 25 nm. In other words, strictly speaking, the relationship between the resonance wavelengths λ1 and λ2 and the structural period difference can be formulated by Equation (9). Since it is a relationship, an approximation using experimental values can be obtained. This approximation depends on the viewing angle and structure materials, but is reasonably practical in most practical configurations because realistic viewing angles and structure materials are similar.

図16および図17は、格子構造11Gの格子方向と入射方向の関係の異なるα入射およびβ入射の条件で、格子周期dの異なるサンプルを測定して得られた分光反射スペクトルである。図16がα入射の条件で得られた分光反射スペクトルであり、図17がβ入射の条件で得られた分光反射スペクトルである。 16 and 17 are spectral reflectance spectra obtained by measuring samples with different grating periods d under conditions of α incidence and β incidence with different relationships between the grating direction of the grating structure 11G and the incident direction. FIG. 16 is the spectral reflectance spectrum obtained under the condition of α incidence, and FIG. 17 is the spectral reflectance spectrum obtained under the condition of β incidence.

図18は、図16および図17の結果について、格子構造11Gの格子周期dと反射ピーク波長の関係を示したものである。
図18が示すように、α入射、β入射どちらの場合も格子周期dと反射ピーク波長の関係が線形性を有している。しかし、α入射の場合は終始一貫した変化であるのに対して、β入射の場合は格子周期における360nmから380nm付近を境に、両者の関係が異なっている。このことから、α入射となる格子構造11Gの方が設計面および製造面において制御しやすいといえる。
FIG. 18 shows the relationship between the grating period d of the grating structure 11G and the reflection peak wavelength for the results of FIGS.
As shown in FIG. 18, the relationship between the grating period d and the reflection peak wavelength has linearity for both α incidence and β incidence. However, in the case of α incidence, the change is consistent from beginning to end, whereas in the case of β incidence, the relationship between the two differs at a boundary between 360 nm and 380 nm in the grating period. From this, it can be said that the lattice structure 11G with α incidence is easier to control in terms of design and manufacturing.

図19は、図16および図17の結果について、格子構造11Gの格子周期dとピーク反射率の関係を示したものである。
図19が示すように、全体的にα入射の方がβ入射よりも反射率が高い。これは、図17において、格子周期dの細かい格子構造11Gの反射ピークが、主成分である長波長側以外に短波長側にも現れていることに起因する。これらは格子方向と入射方向の関係で生じる偏光の影響によるものといえる。α入射となる構造設計では、主となる色相に該当する波長における反射率が高いほど、表示される色の発色が強くなり、視認性が高まることから、α入射となる構造設計が好ましい。
FIG. 19 shows the relationship between the grating period d of the grating structure 11G and the peak reflectance for the results of FIGS.
As shown in FIG. 19, α incidence generally has higher reflectance than β incidence. This is because, in FIG. 17, the reflection peak of the grating structure 11G with a small grating period d appears not only on the long wavelength side, which is the main component, but also on the short wavelength side. It can be said that these are due to the influence of polarization caused by the relationship between the grating direction and the incident direction. In the structural design for α incidence, the higher the reflectance in the wavelength corresponding to the main hue, the stronger the color development of the displayed color and the higher the visibility. Therefore, the structural design for α incidence is preferable.

図20および図21は、図16および図17に示した分光反射率から、色彩値へ換算した結果である。図20は、CIE1976に基づくu’v’色度図を示している。図21は、CIE Lab表色系のab色度図を示している。いずれも色度図に示した矢印の起点が格子周期300nmの色彩値であり、プロット間を結ぶ線にしたがって格子周期が20nmずつ大きくなっている。α入射とβ入射では、前者の方が全体的に色度図の外側に位置しており、後者と比べて高彩度である。高彩度であるほど、各色相の色味が強く感じられるようになるため、α入射すなわち格子方向と入射方向が平行な格子構造を設ける方が視認性は高くなる。 20 and 21 are the results of converting the spectral reflectances shown in FIGS. 16 and 17 into color values. FIG. 20 shows a u'v' chromaticity diagram based on CIE 1976. FIG. 21 shows an ab chromaticity diagram of the CIE Lab color system. In both cases, the starting point of the arrow shown in the chromaticity diagram is the color value at the grating period of 300 nm, and the grating period increases by 20 nm along the lines connecting the plots. Between α incidence and β incidence, the former is positioned outside the chromaticity diagram as a whole and has higher saturation than the latter. The higher the saturation, the stronger the hue of each hue. Therefore, providing a lattice structure in which the incident direction is parallel to the α incidence, that is, the lattice direction, improves the visibility.

図22には、青、緑、赤に相当する波長について、α入射とβ入射の場合で近しい色相となる格子周期dを図21より抽出し、図16および図17より該当する分光反射スペクトルを重ね合わせたものである。450nm付近にピークを有するのが青であり、500nm付近が緑であり、650nm付近が赤である。また、実線のスペクトルはα入射の結果を示し、破線のスペクトルはβ入射の結果を示す。それぞれの波長について実線と破線を比較すると、上述したように反射率に差があることが容易に分かる。 FIG. 22 shows the grating periods d that give similar hues in the case of α incident and β incident with respect to wavelengths corresponding to blue, green, and red, extracted from FIG. 21, and corresponding spectral reflection spectra from FIGS. It is superimposed. Blue has a peak around 450 nm, green around 500 nm, and red around 650 nm. Also, the solid-line spectrum shows the result of α-incidence, and the dashed-line spectrum shows the result of β-incidence. Comparing the solid line and the dashed line for each wavelength, it is easy to see that there is a difference in reflectance as described above.

図23および図24には、それぞれα入射とβ入射について、測定する正反射角度を30°を中心に20°、40°と変化させた場合の分光反射スペクトルを示す。図23がα入射における分光反射スペクトルを示し、図24がβ入射における分光反射スペクトルを示している。正反射角度20°から40°におけるピーク波長の中心の変動幅S1および変動幅S2を比較すると、β入射の変動幅S2が大きい。すなわち、光学素子10を正反射角で観察するよう観察者に指示した場合に、β入射だと、同じ正反射でも観察する角度によって見える色相が大きくずれる可能性がある。一方、α入射の場合は色相の変動量が比較的小さいため、α入射となる構造設計にすることで観察される色の角度依存性を低くすることができる。 FIG. 23 and FIG. 24 show spectral reflectance spectra when the specular reflection angle to be measured is changed from 30° to 20° and 40° for α incidence and β incidence, respectively. FIG. 23 shows the spectral reflection spectrum for α incidence, and FIG. 24 shows the spectral reflection spectrum for β incidence. Comparing the fluctuation width S1 and the fluctuation width S2 of the center of the peak wavelength at the specular reflection angle of 20° to 40°, the fluctuation width S2 of β incidence is large. In other words, when an observer is instructed to observe the optical element 10 at a specular reflection angle, there is a possibility that the observed hue will largely deviate depending on the viewing angle even with the same specular reflection at β incidence. On the other hand, in the case of α-incidence, the amount of change in hue is relatively small. Therefore, by designing the structure for α-incidence, the angular dependence of observed colors can be reduced.

正反射角度によって色が変化する現象は、上記式(4)の位相整合条件より説明できる。入射角θが変化した場合、格子周期dは一定であるため、共鳴波長λが変化することになる。図7のように格子方向と入射方向が平行だと、入射角θが変化しても式(2)、式(3)におけるFは変化しない、つまり有効屈折率が変化しないため、共鳴波長λの変化は小さい。一方で、図8のように格子方向と入射方向が直交する場合、入射角θによってFが変化する。特に、第2層12の誘電体製層の厚さが、第1層11と第2層12の境界面に形成された格子構造の形状に対して分布をもつ場合には、Fの変化が生じやすく、入射角θによる有効屈折率の変動が大きくなる可能性がある。 The phenomenon that the color changes depending on the specular reflection angle can be explained by the phase matching condition of the above equation (4). When the incident angle θ changes, the resonance wavelength λ changes because the grating period d is constant. When the grating direction and the incident direction are parallel as shown in FIG. 7, even if the incident angle θ changes, F in the equations (2) and (3) does not change, that is, the effective refractive index does not change. change is small. On the other hand, when the grating direction and the incident direction are perpendicular to each other as shown in FIG. 8, F varies depending on the incident angle θ. In particular, when the thickness of the dielectric layer of the second layer 12 has a distribution with respect to the shape of the lattice structure formed at the interface between the first layer 11 and the second layer 12, the change in F is It is likely to occur, and the variation of the effective refractive index with the angle of incidence θ may become large.

以上のように、α入射、すなわち格子方向と入射方向が平行な格子構造を設ける方が視認性や色安定性という観点で優れているといえる。一般的に、光学素子10は、真上あるいは前方上側から光が当たるような照明環境下にて観察されることが多い。これを踏まえると、α入射となる状態は、図7のように観察者からみて格子構造11Gの方位角が90°すなわち縦方向となる。このような格子方向とする別のメリットとして、回折光が観察者の目に入りにくいことが挙げられる。これによれば、光学素子10を傾けながら観察する場合に、本来見せたいモチーフ領域や背景領域のみに視線を集めることができる。 As described above, it can be said that α incidence, that is, provision of a grating structure in which the grating direction and the incident direction are parallel is superior from the viewpoint of visibility and color stability. In general, the optical element 10 is often observed under a lighting environment in which light hits it from directly above or from above in front. Based on this, the state of α incidence is such that the azimuth angle of the grating structure 11G is 90° as seen from the observer, that is, the vertical direction, as shown in FIG. Another advantage of such a grating direction is that diffracted light is less likely to enter the observer's eyes. According to this, when observing while tilting the optical element 10, the line of sight can be focused only on the motif area or the background area that is originally desired to be shown.

また、モチーフ領域11S1、背景領域11S2、および、境界領域11S3に配置される格子構造11Gすべてにおいて方位角が90°である場合には、以下のような製造上のメリットがある。例えば、このような格子構造11Gを備えたフィルムを作製する場合に、格子構造11Gが形成された金属版を熱可塑性樹脂あるいは紫外線硬化性樹脂などに熱圧を加えて金属版の構造に樹脂を充填させ、硬化させることで作製する方法が考えられる。光学素子10を大量生産する場合にはロールに金属版を巻き付け、長いフィルムにエンボスする方法があるが、これらの工程において、フィルムの流れ方向と格子構造の方向が平行である方が、成形性が高く狙った光学効果を得やすく、さらに、金属版に樹脂が取られて版がすぐに使えなくなるなどの不良が起こりにくくなる。 Further, when the lattice structure 11G arranged in the motif region 11S1, the background region 11S2, and the boundary region 11S3 all have an azimuth angle of 90°, the following manufacturing advantages are obtained. For example, when a film having such a grid structure 11G is produced, the metal plate on which the grid structure 11G is formed is subjected to thermal pressure to a thermoplastic resin or an ultraviolet-curing resin so that the resin is formed in the structure of the metal plate. A method of producing by filling and curing is conceivable. When mass-producing the optical element 10, there is a method of winding a metal plate around a roll and embossing it on a long film. It is easy to obtain the desired optical effect, and it is less likely that defects such as resin being removed from the metal plate and the plate becoming unusable soon will occur.

図25は、境界領域11S3の一態様を示している。
図25(a)が示すように、境界領域11S3は画像要素11Rに接する部位と、パターン要素に接する部位とにそれぞれ輪郭を有しているが、この輪郭上の任意の点と、当該点における接線に直交し、もう一方の輪郭と交わる点との距離を境界領域11S3の幅Wbとする。
図25(b)が示すように、幅Wbは境界領域全体で一定であってもよい。これにより、モチーフ領域11S1と背景領域11S2との境界が、境界領域11S3によって一様に強調される。
または、図25(c)が示すように、境界領域11S3の幅は、幅Wb1および幅Wb2を含むように局所的に変化してもよい。すなわち、境界領域11S3第1部分と第2部分とを含み、第1部分の幅Wb1が第2部分の幅Wb2と異なってもよい。これにより、境界領域11S3の幅が異なることによって、光学素子10の意匠性美観が高められる。境界領域11S3の幅は、30μm以上3000μm以下であることが好ましいとできる。境界領域11S3の幅が30μm以上であることによって、観察者が境界領域11S3を視認することが可能である。また、境界領域11S3の幅が3000μm以下であることによって、境界領域11S3が、モチーフ領域11S1および背景領域11S2よりも目立つことが抑えられる。特に境界領域11S3の幅が30μm以上300μm未満の場合には、緻密な線が描けるため補助的な境界線として利用することができる。一方で、境界領域11S3の幅が300μm以上3000μm以下の場合は、人の目で十分解像できる太さであるため、領域間の境界線、特に異なる絵柄の境界として利用することができる。
FIG. 25 shows one aspect of the boundary area 11S3.
As shown in FIG. 25(a), the boundary area 11S3 has contours at a portion in contact with the image element 11R and at a portion in contact with the pattern element. The width Wb of the boundary region 11S3 is defined as the distance from the point perpendicular to the tangent line and intersecting the other contour.
As shown in FIG. 25(b), the width Wb may be constant throughout the boundary region. Thereby, the boundary between the motif region 11S1 and the background region 11S2 is uniformly emphasized by the boundary region 11S3.
Alternatively, as shown in FIG. 25(c), the width of boundary region 11S3 may vary locally to include width Wb1 and width Wb2. That is, the boundary region 11S3 may include the first portion and the second portion, and the width Wb1 of the first portion may differ from the width Wb2 of the second portion. As a result, the design aesthetics of the optical element 10 are enhanced by the difference in the width of the boundary region 11S3. It can be said that the width of the boundary region 11S3 is preferably 30 μm or more and 3000 μm or less. Since the width of the boundary region 11S3 is 30 μm or more, the observer can visually recognize the boundary region 11S3. Further, by setting the width of the boundary region 11S3 to 3000 μm or less, the boundary region 11S3 is suppressed from being more conspicuous than the motif region 11S1 and the background region 11S2. In particular, when the width of the boundary region 11S3 is 30 μm or more and less than 300 μm, it can be used as an auxiliary boundary line because a fine line can be drawn. On the other hand, when the width of the boundary region 11S3 is 300 μm or more and 3000 μm or less, the width is sufficiently large enough to be resolved by the human eye, and thus can be used as a boundary line between regions, particularly as a boundary between different patterns.

図26から図29を参照して、モチーフ領域11S1、背景領域11S2、および、境界領域11S3の配置に関する変形例を説明する。 26 to 29, modified examples regarding the arrangement of the motif region 11S1, the background region 11S2, and the boundary region 11S3 will be described.

図26は、モチーフ領域11S1が3つの画像要素から形成され、モチーフ領域11S1の外周に境界領域11S3が設けられている。境界領域11S3および背景領域11S2は格子構造11Gを備えなくてもよく、平均粗さSaが20μm以下の実質的に平坦な面であってもよい。このような構造とすることで、例えば国旗のようなシンボルを表示させる場合に、モチーフ領域11S1以外は白色となるため、シンボルのイメージを損なうことなく、見せたいデザインを強調させることができる。 In FIG. 26, a motif area 11S1 is formed from three image elements, and a boundary area 11S3 is provided around the motif area 11S1. The boundary region 11S3 and the background region 11S2 may not have the grating structure 11G, and may be substantially flat surfaces with an average roughness Sa of 20 μm or less. With such a structure, when displaying a symbol such as a national flag, for example, the area other than the motif area 11S1 is white, so the design to be displayed can be emphasized without impairing the image of the symbol.

図27は、モチーフ領域11S1が互いに接していない複数の画像要素11Rから形成される場合の例を示す。このような場合においては、画像要素のそれぞれをモチーフ領域11S1とみなし、それぞれに境界領域11S3を設けてもよい。このような構造であっても、境界領域11S3によって各画像要素の輪郭がはっきりと表示されるため、結果として、モチーフ領域11S1全体の形状を観察者に印象付けることは可能である。 FIG. 27 shows an example in which the motif area 11S1 is formed from a plurality of image elements 11R that are not in contact with each other. In such a case, each of the image elements may be regarded as the motif region 11S1, and a boundary region 11S3 may be provided for each. Even with such a structure, the outline of each image element is clearly displayed by the boundary region 11S3, and as a result, it is possible to impress the observer with the shape of the entire motif region 11S1.

図28は、背景領域11S2および境界領域11S3が、モチーフ領域11S1の輪郭の一部に存在しない場合の例である。図28が示すように、図27のようにモチーフ領域11S1の輪郭を完全に取り囲む構成でなくても、デザインが配置される領域の端にあたる部分においては、モチーフ領域11S1の輪郭を認識できるため、境界領域11S3がなくてもよい。ただし、モチーフ領域11S1とデザイン領域の外側の色が類似している場合には、境界領域11S3を設けて輪郭を際立たせる方がモチーフ形状を認識しやすく好ましい。 FIG. 28 shows an example in which the background area 11S2 and the boundary area 11S3 are not part of the outline of the motif area 11S1. As shown in FIG. 28, even if the configuration does not completely surround the outline of the motif area 11S1 as shown in FIG. The border area 11S3 may be absent. However, when the motif area 11S1 and the outer color of the design area are similar, it is preferable to provide a boundary area 11S3 to make the outline stand out, so that the motif shape can be easily recognized.

図29は、デザイン領域全体がモチーフ領域11S1で埋め尽くされた場合の例である。
図29が示すように、一見すると意味をもたない図形であっても、デザイン全体に配置され、それ自体が「柄」という意味をもつ場合には、「柄」の一つひとつをモチーフ領域11S1として扱ってもよい。このとき、モチーフ領域11S1のそれぞれに境界領域11S3を設ける場合は、表面11Sのなかでモチーフ領域11S1が位置しない領域を背景領域11S2として扱える。デザイン全体の外観を考慮して境界領域11S3を設けない場合には、近接する複数のモチーフ領域11S1を背景領域11S2と見なしてもよいし、表面11Sにおいてモチーフ領域11S1が位置しない領域を境界領域11S3とみなしてもよい。複数のモチーフ領域11Sの最近接点の距離が1mm以下であれば、近接していると定義できる。
FIG. 29 shows an example in which the entire design area is filled with motif areas 11S1.
As shown in FIG. 29, even if a figure that has no meaning at first glance is placed in the entire design and has the meaning of "pattern" itself, each "pattern" can be used as a motif area 11S1. can handle. At this time, when a boundary region 11S3 is provided for each of the motif regions 11S1, a region of the surface 11S where the motif regions 11S1 are not located can be treated as the background region 11S2. If the boundary region 11S3 is not provided in consideration of the appearance of the entire design, a plurality of adjacent motif regions 11S1 may be regarded as the background region 11S2, and a region on the surface 11S where the motif regions 11S1 are not located may be regarded as the boundary region 11S3. may be regarded as If the distance between the nearest points of a plurality of motif regions 11S is 1 mm or less, they can be defined as close.

図30から図32を参照して、格子構造11Gの変形例を説明する。
図30は、XY平面上に方位角φで配列された格子構造11Gを示している。図30において格子構造11Gに直交するVII‐VII線における断面形状を図31および図32に示す。
Modifications of the grid structure 11G will be described with reference to FIGS. 30 to 32. FIG.
FIG. 30 shows grating structures 11G arranged at an azimuth angle φ on the XY plane. 31 and 32 show cross-sectional shapes taken along line VII-VII perpendicular to the lattice structure 11G in FIG.

図31に示される構造が、基本となる構造である。図31において、凸部における高さをHp、凹部における高さをHvとすると、高さHpと高さHvとの距離Hが構造高さである。凸部と凹部の中心位置CLを基準とした場合に、中心位置CLよりも上側にある凸部の幅をdpとし、下側にある凹部の幅をdvとする。図31の例において、幅dpと幅dvとは互いに等しい。 The structure shown in FIG. 31 is the basic structure. In FIG. 31, when Hp is the height of the convex portion and Hv is the height of the concave portion, the distance H between the height Hp and the height Hv is the structural height. When the center position CL of the protrusion and the recess is used as a reference, the width of the protrusion above the center position CL is dp, and the width of the recess below the center position CL is dv. In the example of FIG. 31, width dp and width dv are equal to each other.

一方で、図32に示される構造は、図31に示される構造の変形例である。図32が示す構造において、中心位置CLを基準とした凸部の幅dpと凹部の幅dvとは互いに異なる。幅dpと幅dvの比率によって、上述の有効屈折率は変化する。有効屈折率が変化すると、式(4)から式(7)に示す位相整合条件を満たす共鳴波長λが変わるため、観察される色が変化することとなる。 On the other hand, the structure shown in FIG. 32 is a modification of the structure shown in FIG. In the structure shown in FIG. 32, the width dp of the convex portion and the width dv of the concave portion with respect to the center position CL are different from each other. The above effective refractive index changes depending on the ratio of the width dp and the width dv. When the effective refractive index changes, the resonance wavelength λ that satisfies the phase matching conditions shown in Equations (4) to (7) changes, resulting in a change in observed color.

このように、位相整合条件に含まれる変数の値によって観察される色は変化する。図31および図32では格子構造11Gの凸部と凹部の幅の比率について示したが、その他にも格子構造11Gの方位角φ、格子周期dによっても有効屈折率は変化する。 Thus, the observed color changes with the values of the variables involved in the phase matching condition. 31 and 32 show the ratio of the widths of the protrusions and recesses of the grating structure 11G, the effective refractive index also changes depending on the azimuth angle φ and the grating period d of the grating structure 11G.

さらに、位相整合条件を満たすある一定条件のもとであっても、格子構造11Gの構造高さHによって、凸部と凹部それぞれで反射された光の干渉状態が異なり、観察される光の強度、言い換えると濃淡に相当する変数である彩度が変化する。 Furthermore, even under a certain condition that satisfies the phase matching condition, the interference state of the light reflected by the convex portion and the concave portion differs depending on the structure height H of the grating structure 11G, and the intensity of the observed light is different. In other words, the saturation, which is a variable corresponding to gradation, changes.

これらの変数の少なくとも1つを異ならせることで、モチーフ領域11S1、背景領域11S2、境界領域11S3の色相や濃淡を変えられるため、色彩表現を自在に行える。図33に一例を示す。モチーフ領域11S1を形成する画像要素11R1,11R2および背景領域11S2を形成するパターン要素11P1,11P2について、それぞれX方向に並ぶセルPxおよびその断面形状を示している。図33(a)が画素要素11R1の平面構造、および、VIII‐VIII線に沿う断面構造を示し、図33(b)が画素要素11R2の平面構造、および、IX‐IX線に沿う断面構造を示し、図33(c)がパターン要素11P1の平面構造、および、X‐X線に沿う断面構造を示し、図33(d)がパターン要素11P2の平面構造、および、XI‐XI線に沿う断面構造を示している。
この例では、各要素内ではセルPxの格子構造11Gが一様であり、特定の色でベタ塗りされたような外観となる。ただし、VIII‐VIII線からXI‐XI線に従う断面については、要素ごとに異なり、例えば画像要素11R1と画像要素11R2とでは、格子構造11Gの格子周期dは異なる(d1>d2)一方で、構造高さHは互いに等しい(H1=H2)。これに対して、パターン要素は、画像要素とは方位角φが異なる。さらに、パターン要素11P1とパターン要素11P2では、格子構造11Gの格子周期dは等しく(d3=d4)、構造高さHが異なる(H3<H4)。
By changing at least one of these variables, the hue and shade of the motif area 11S1, the background area 11S2, and the boundary area 11S3 can be changed, so that color expression can be freely performed. An example is shown in FIG. Cells Px arranged in the X direction and their cross-sectional shapes are shown for image elements 11R1 and 11R2 forming the motif region 11S1 and pattern elements 11P1 and 11P2 forming the background region 11S2. FIG. 33(a) shows the planar structure of the pixel element 11R1 and the cross-sectional structure along the VIII-VIII line, and FIG. 33(b) shows the planar structure of the pixel element 11R2 and the cross-sectional structure along the IX-IX line. 33(c) shows the planar structure of the pattern element 11P1 and the cross-sectional structure along the line XX, and FIG. 33(d) shows the planar structure of the pattern element 11P2 and the cross-section along the line XI-XI. showing the structure.
In this example, the lattice structure 11G of the cells Px is uniform within each element, giving the appearance of being solidly painted with a specific color. However, the cross section from the VIII-VIII line to the XI-XI line is different for each element. The heights H are equal to each other (H1=H2). In contrast, the pattern elements differ in azimuth angle φ from the image elements. Furthermore, the pattern element 11P1 and the pattern element 11P2 have the same grating period d (d3=d4) and different structure heights H (H3<H4).

図34は、光学素子10における別の変形例を示している。画像要素11R1とパターン要素11P1について、それぞれX方向またはY方向に並ぶセルPxおよびその断面形状を示している。図34(a)が画像要素11R1の平面構造、および、XII‐XII線に沿う断面構造を示し、図34(b)がパターン要素11P1の平面構造、および、XIII‐XIII線に沿う断面構造を示している。この例では、画像要素11R1では、要素内において部分的に格子周期dが変化している。XII‐XII線に沿う断面において構造高さH1が一定であり、格子周期d1と格子周期d2とが互いに異なっている。
また、パターン要素11P1では、格子周期dが一定であり、構造高さH3と構造高さH4とが互いに異なっている。このように、要素内において格子構造の方位角、格子周期、構造高さ、および、格子構造の凹部と凸部との比率のいずれかを変化させることによって、色相にグラデーションを付与したり、濃淡を付与したりすることができる。この際、要素内において格子構造の方位角、格子周期、構造高さ、および、格子構造の凹部と凸部との比率のいずれかを変化例えば、図34が示すような花びらを光学素子10が表示する場合には、花びらの中心から外側に向けて色相の濃淡を変化させることによって、疑似的な立体感を表現することもできる。
34 shows another modification of the optical element 10. FIG. For the image element 11R1 and the pattern element 11P1, cells Px arranged in the X direction or the Y direction and their cross-sectional shapes are shown. FIG. 34(a) shows the plane structure of the image element 11R1 and the cross-sectional structure along line XII-XII, and FIG. 34(b) shows the plane structure of the pattern element 11P1 and the cross-sectional structure along line XIII-XIII. showing. In this example, the grating period d is partially changed in the image element 11R1. In the section along the line XII-XII, the structural height H1 is constant and the grating periods d1 and d2 differ from each other.
Moreover, in the pattern element 11P1, the grating period d is constant, and the structural height H3 and the structural height H4 are different from each other. In this way, by changing the azimuth angle of the lattice structure, the lattice period, the height of the lattice structure, or the ratio of the concave portions to the convex portions of the lattice structure within the element, gradation can be imparted to the hue or shade can be obtained. can be given. At this time, any one of the lattice structure azimuth angle, grating period, structure height, and ratio of concave portions to convex portions of the grating structure is changed within the element. In the case of display, a pseudo three-dimensional effect can be expressed by changing the shade of hue from the center of the petal to the outside.

図35は、本実施形態の光学素子10における他の例である。図35は、図3と同様、観察面10Sと対向する平面視における光学素子10の構造を示している。
図35が示すように、複数のセルPxは、表面11Sと対向する平面視において、各セルPxの一部に位置する第1格子構造11G1を備えるセルPxを含んでもよい。図3を参照して先に説明した例では、第1格子構造11G1は、各セルPxの全体に位置している。これに限らず、各セルPxにおいて、そのセルPxの一部のみに第1格子構造11G1が位置してもよい。各セルPxにおいて、画素領域Pxの面積に対する第1格子構造11G1の面積の比が面積率である。複数のセルPxには、面積率が互いに異なるセルPx
が含まれてもよい。
FIG. 35 shows another example of the optical element 10 of this embodiment. Similar to FIG. 3, FIG. 35 shows the structure of the optical element 10 in plan view facing the viewing surface 10S.
As shown in FIG. 35, the plurality of cells Px may include cells Px having the first lattice structure 11G1 located in a portion of each cell Px in plan view facing the surface 11S. In the example described above with reference to FIG. 3, the first lattice structure 11G1 is located throughout each cell Px. Without being limited to this, in each cell Px, the first lattice structure 11G1 may be located only in part of the cell Px. In each cell Px, the ratio of the area of the first lattice structure 11G1 to the area of the pixel region Px is the area ratio. Cells Px having different area ratios are included in the plurality of cells Px.
may be included.

各セルPxにおける面積率が高いほど、各セルPxの輝度が高い。そのため、複数のセルPxが、面積率が互いに異なるセルPxを含むことによって、第1領域11S1が呈する色において、同一の色相において輝度による濃淡を形成することが可能である。また、面積率は、漸次的に、変化させてもよい。これにより、モチーフ領域11S1に擬似的な立体像を表示させることが可能でもある。この場合には、モチーフ領域11S1が表示すべき立体像における輝度の高低、すなわち階調値に応じて、面積率を決定することができる。
また、光学素子10は、モチーフ領域11S1と背景領域11S2とを備える一方で、境界領域11S3を備えていない。そして、光学素子10では、モチーフ領域11S1と背景領域11S2とが互いに接している。
The higher the area ratio in each cell Px, the higher the brightness of each cell Px. Therefore, by including the cells Px having different area ratios in the plurality of cells Px, it is possible to form shading by luminance in the same hue in the color exhibited by the first region 11S1. Also, the area ratio may be changed gradually. This also makes it possible to display a pseudo stereoscopic image in the motif area 11S1. In this case, the area ratio can be determined according to the level of luminance in the stereoscopic image to be displayed by the motif area 11S1, that is, the gradation value.
Further, the optical element 10 includes the motif region 11S1 and the background region 11S2, but does not include the boundary region 11S3. In the optical element 10, the motif region 11S1 and the background region 11S2 are in contact with each other.

本実施形態では、光学素子10は、モチーフ領域11S1の中央からモチーフ領域11S1の外縁に向かう方向に沿って、セルPxにおける面積率が小さくなる部分を含み、かつ、モチーフ領域11S1の外縁における面積率が最も小さい。 In the present embodiment, the optical element 10 includes a portion having a smaller area ratio in the cell Px along the direction from the center of the motif region 11S1 to the outer edge of the motif region 11S1, and the area ratio at the outer edge of the motif region 11S1. is the smallest.

[第2実施形態]
図36から図38を参照して、光学素子の第2実施形態を説明する。本発明の第2実施形態の光学素子は、第1実施形態の光学素子と比べて、格子構造を備える格子パターンの形状が異なる。そのため以下では、こうした相違点について詳しく説明する一方で、第2実施形態の光学素子において第1実施形態の光学素子に対応する構成には、第1実施形態と同一の符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。なお、以下に参照する図36から図38では、図示の便宜上、格子構造を平坦面から離れる方向に突出する凸部が並ぶ構造として示している。また、第2実施形態の光学素子では、観察者によって観察される格子構造の色が、ゼロ次回折光よりも高次の回折光に基づく場合もある。そのため以下では、格子構造が発色する効果が最も高い効率で現れる角度をm次とし、m次における回折光をm次回折光とする。
[Second embodiment]
A second embodiment of the optical element will now be described with reference to FIGS. 36-38. The optical element of the second embodiment of the present invention differs from the optical element of the first embodiment in the shape of the grating pattern having the grating structure. Therefore, hereinafter, while such differences will be described in detail, the same reference numerals as in the first embodiment are given to the optical elements of the second embodiment that correspond to the optical elements of the first embodiment. A detailed explanation is omitted. In addition, in FIGS. 36 to 38 referred to below, for convenience of illustration, the lattice structure is shown as a structure in which convex portions protruding in a direction away from the flat surface are arranged. In addition, in the optical element of the second embodiment, the color of the grating structure observed by the observer may be based on higher-order diffracted light than zero-order diffracted light. Therefore, hereinafter, the angle at which the grating structure produces the color with the highest efficiency is defined as the mth order, and the diffracted light at the mth order is defined as the mth order diffracted light.

上述したように、格子パターンは、複数の格子構造11Gを含んでいる。複数の格子構造が並ぶ方向が第1方向D1であり、第1方向D1と直交する方向が第2方向D2である。各格子構造において、第1方向D1に沿い、かつ、第1層11が広がる平面に垂直な断面における形状が、断面形状である。各格子パターンにおいて、格子群が繰り返し配置されている。格子群において、断面形状が互いに異なる2つ以上の格子構造が第2方向D2に沿って並んでいる。以下、本実施形態の光学素子について、より詳しく説明する。 As described above, the grid pattern includes multiple grid structures 11G. The direction in which the plurality of lattice structures are arranged is the first direction D1, and the direction orthogonal to the first direction D1 is the second direction D2. In each lattice structure, the shape of the cross section along the first direction D1 and perpendicular to the plane on which the first layer 11 extends is the cross-sectional shape. In each grid pattern, grid groups are repeatedly arranged. In the lattice group, two or more lattice structures having different cross-sectional shapes are arranged along the second direction D2. The optical element of this embodiment will be described in more detail below.

図36が示すように、第1実施形態の光学素子10と同様、光学素子20は、第1層11、第2層12、および、第3層13を備えている。光学素子20は、第1方向D1において、3つの部分を含んでいる。すなわち、光学素子20は、第1部分20A、第2部分20B、および、第3部分20Cを備えている。第1部分20A、第2部分20B、および、第3部分20Cは、格子構造が並ぶ方向において、記載の順に並んでいる。 As shown in FIG. 36, the optical element 20 comprises a first layer 11, a second layer 12 and a third layer 13, like the optical element 10 of the first embodiment. The optical element 20 includes three portions in the first direction D1. That is, the optical element 20 has a first portion 20A, a second portion 20B, and a third portion 20C. The first portion 20A, the second portion 20B, and the third portion 20C are arranged in the order of description in the direction in which the lattice structures are arranged.

格子パターンにおいて、各部分に属する複数の格子構造11Gは、互いに同じ断面形状を有する。一方で、各部分間において、各部分に属する格子構造の断面形状は、互いに異なっている。格子パターンにおいて、第1部分20Aに属する部分が第1格子20AGであり、第2部分20Bに属する部分が第2格子20BGであり、第3部分20Cに属する部分が第3格子20CGである。 In the grid pattern, a plurality of grid structures 11G belonging to each portion have the same cross-sectional shape. On the other hand, between the portions, the cross-sectional shapes of the lattice structures belonging to the portions are different from each other. In the lattice pattern, the portion belonging to the first portion 20A is the first lattice 20AG, the portion belonging to the second portion 20B is the second lattice 20BG, and the portion belonging to the third portion 20C is the third lattice 20CG.

第1格子20AGは、複数の第1格子構造AGPを含んでいる。複数の第1格子構造AGPは、第1方向D1に沿って繰り返されている。第1格子20AGの断面形状は、波状
である。第1格子20AGの格子周期は、第1周期d1である。第1格子構造AGPは、第1方向D1に沿う断面において、1つの山部が2つの谷部によって挟まれた形状を有している。第1格子構造AGPは、一方の谷部と山部とを結ぶ斜面と、山部と他方の谷部とを結ぶ斜面とを有している。各斜面は、第1層11が広がる平面に対して傾きを有している。
The first grating 20AG includes a plurality of first grating structures AGP. A plurality of first lattice structures AGP are repeated along the first direction D1. The cross-sectional shape of the first grating 20AG is wavy. The grating period of the first grating 20AG is the first period d1. The first lattice structure AGP has a shape in which one peak is sandwiched between two valleys in a cross section along the first direction D1. The first lattice structure AGP has slopes connecting one valley and peaks and slopes connecting the peaks and the other valley. Each slope has an inclination with respect to the plane on which the first layer 11 extends.

第1方向D1に沿う断面において、一方の斜面に対する接線と、複数の谷部を結ぶ直線とが形成する角度が第1接線角度θ1である。なお、複数の谷部を結ぶ直線は、第1層11の表面にほぼ平行な直線である。なお、第1接線角度θ1は、第1層11が広がる平面と斜面とが形成する角度に等しい。 In a cross section along the first direction D1, a first tangent angle θ1 is formed by a line tangent to one of the slopes and a straight line connecting a plurality of valleys. A straight line connecting the plurality of valleys is a straight line substantially parallel to the surface of the first layer 11 . The first tangential angle θ1 is equal to the angle formed by the plane on which the first layer 11 spreads and the slope.

第2格子20BGは、複数の第2格子構造BGPを含んでいる。複数の第2格子構造BGPは、第1方向D1に沿って繰り返されている。第2格子20BGの断面形状は、波状である。第2格子20BGの格子周期は、第2周期d2である。第2周期d2は、第1周期d1に等しい。第2格子構造BGPは、第1格子構造AGPと同様、第1方向D1に沿う断面において、1つの山部が2つの谷部によって挟まれた形状を有している。第2格子構造BGPは、一方の谷部と山部とを結ぶ斜面と、山部と他方の谷部とを結ぶ斜面とを有している。各斜面は、第1層11が広がる平面に対して傾きを有している。 The second grating 20BG includes a plurality of second grating structures BGP. A plurality of second lattice structures BGP are repeated along the first direction D1. The cross-sectional shape of the second grating 20BG is wavy. The grating period of the second grating 20BG is the second period d2. The second period d2 is equal to the first period d1. Like the first lattice structure AGP, the second lattice structure BGP has a shape in which one peak is sandwiched between two valleys in the cross section along the first direction D1. The second lattice structure BGP has slopes connecting one valley and peaks and slopes connecting the peaks and the other valley. Each slope has an inclination with respect to the plane on which the first layer 11 extends.

第1方向D1に沿う断面において、一方の斜面に対する接線と、複数の谷部を結ぶ直線とが形成する角度が第2接線角度θ2である。第2接線角度θ2は、第1接線角度θ1とは異なる角度である。なお、第2接線角度θ2は、第1層11が広がる平面と斜面とが形成する角度に等しい。本実施形態において、第2接線角度θ2は、第1接線角度θ1よりも小さい。一方で、上述したように、第2格子20BGの第2周期d2は、第1格子20AGの第1格子周期d1に等しい。そのため、第1方向D1に沿う断面において、第2格子構造BGPの断面形状と、第1格子構造AGPの断面形状とは互いに異なっている。 In the cross section along the first direction D1, the second tangent angle θ2 is the angle formed by the tangent to one of the slopes and the straight line connecting the plurality of valleys. The second tangent angle θ2 is an angle different from the first tangent angle θ1. In addition, the second tangential angle θ2 is equal to the angle formed by the plane on which the first layer 11 spreads and the slope. In this embodiment, the second tangent angle θ2 is smaller than the first tangent angle θ1. On the other hand, as described above, the second grating period d2 of the second grating 20BG is equal to the first grating period d1 of the first grating 20AG. Therefore, in the cross section along the first direction D1, the cross-sectional shape of the second lattice structure BGP and the cross-sectional shape of the first lattice structure AGP are different from each other.

第3格子20CGは、複数の第3格子構造CGPを含んでいる。複数の第3格子構造CGPは、第1方向D1に沿って繰り返されている。第3格子20CGの断面形状は、波状である。第3格子20CGの格子周期は、第3周期d3である。第3周期d3は、第1周期d1および第2周期d2に等しい。第3格子構造CGPは、第1格子構造AGPと同様、第1方向D1に沿う断面において、1つの山部が2つの谷部によって挟まれた形状を有している。第3格子構造CGPは、一方の谷部と山部とを結ぶ斜面と、山部と他方の谷部とを結ぶ斜面とを有している。各斜面は、第1層11が広がる平面に対して傾きを有している。 The third grating 20CG includes a plurality of third grating structures CGP. A plurality of third lattice structures CGP are repeated along the first direction D1. The cross-sectional shape of the third grating 20CG is wavy. The grating period of the third grating 20CG is the third period d3. The third period d3 is equal to the first period d1 and the second period d2. Similar to the first lattice structure AGP, the third lattice structure CGP has a shape in which one peak is sandwiched between two valleys in the cross section along the first direction D1. The third lattice structure CGP has slopes connecting one valley and peaks and slopes connecting the peaks and the other valley. Each slope has an inclination with respect to the plane on which the first layer 11 extends.

第1方向D1に沿う断面において、一方の斜面に対する接線と、複数の谷部を結ぶ直線とが形成する角度が第3接線角度θ3である。第3接線角度θ3は、第1接線角度θ1とは異なる角度であり、かつ、第2接線角度θ2とも異なる角度である。なお、第3接線角度θ3は、第1層11が広がる平面と斜面とが形成する角度に等しい。本実施形態において、第3接線角度θ3は、第1接線角度θ1よりも小さく、かつ、第2接線角度θ2よりも小さい。一方で、上述したように、第3格子20CGの第3周期d3は、第1周期d1および第2周期d2に等しい。そのため、第1方向D1に沿う断面において、第3格子構造CGPの断面形状は、第1格子構造AGPの断面形状、および、第2格子構造BGPの断面形状の両方と異なっている。 In the cross section along the first direction D1, the third tangent angle θ3 is the angle formed by the tangent to one of the slopes and the straight line connecting the plurality of valleys. The third tangent angle θ3 is an angle different from the first tangent angle θ1 and also from the second tangent angle θ2. In addition, the third tangential angle θ3 is equal to the angle formed by the plane on which the first layer 11 spreads and the slope. In this embodiment, the third tangent angle θ3 is smaller than the first tangent angle θ1 and smaller than the second tangent angle θ2. On the other hand, as mentioned above, the third period d3 of the third grating 20CG is equal to the first period d1 and the second period d2. Therefore, in the cross section along the first direction D1, the cross-sectional shape of the third lattice structure CGP is different from both the cross-sectional shape of the first lattice structure AGP and the cross-sectional shape of the second lattice structure BGP.

すなわち、本実施形態では、各格子パターンにおける上述した断面形状は、第1層11が広がる平面に対して傾きを有した斜面を含んでいる。そして、複数の格子パターンは、第1層11に対する斜面の傾斜角が互いに異なる格子構造を含んでいる。 That is, in the present embodiment, the above-described cross-sectional shape of each lattice pattern includes a slope that is inclined with respect to the plane on which the first layer 11 extends. The plurality of grid patterns include grid structures having different slope angles with respect to the first layer 11 .

こうした格子パターンによれば、各斜面における接線角度θ1,θ2,θ3を変えることによって、光学素子20に入射した光が回折する角度を変えることができる。すなわち、第1格子20AG、第2格子20BG、および、第3格子20CGの間において、接線角度θ1,θ2,θ3を互いに異ならせることで、各格子20AG,20BG,20CGにおいてm次回折光が射出される角度を互いに異ならせることができる。これにより、複数の格子パターン全体において接線角度が等しい場合と比べて、m次回折光が射出される角度の範囲を広げることができる。言い換えれば、観察者がm次回折光を観察することが可能な観察角度の範囲を広げることができる。なお、各格子20AG,20BG,20CGにおいて、断面形状が異なる一方で格子周期は等しいため、各格子20AG,20BG,20CGが呈する色はほぼ同じである。それゆえに、各格子20AG,20BG,20CGから射出されたm次回折光の集合は白色光を生成しない。 According to such a grating pattern, by changing the tangential angles θ1, θ2, θ3 on each slope, the angle at which light incident on the optical element 20 is diffracted can be changed. That is, by making the tangential angles θ1, θ2, and θ3 different among the first grating 20AG, the second grating 20BG, and the third grating 20CG, m-order diffracted light is emitted from each grating 20AG, 20BG, and 20CG. can be different from each other. This makes it possible to widen the range of angles at which the m-th order diffracted light is emitted, compared to the case where the tangential angles are the same across the plurality of grating patterns. In other words, it is possible to widen the range of observation angles in which the observer can observe the m-order diffracted light. The gratings 20AG, 20BG, and 20CG have different cross-sectional shapes but have the same grating period, so that the gratings 20AG, 20BG, and 20CG exhibit substantially the same color. Therefore, the set of m-order diffracted lights emitted from each grating 20AG, 20BG, 20CG do not produce white light.

第1方向D1において、各格子20AG,20BG,20CGの幅は300μm以下であることが好ましくとでき、さらには、85μm以下であることがより好ましいとできる。各格子20AG,20BG,20CGの幅が300μm以下であることによって、人の目の分解能では、各格子20AG,20BG,20CGを分離することができない。それゆえに、観察者は、各格子20AG,20BG,20CGが、互いに異なる角度で光を回折していると認識すること
はできない。
In the first direction D1, the width of each grating 20AG, 20BG, 20CG is preferably 300 μm or less, and more preferably 85 μm or less. Since the width of each grating 20AG, 20BG, 20CG is 300 μm or less, the gratings 20AG, 20BG, 20CG cannot be separated with the resolution of the human eye. Therefore, the observer cannot recognize that each grating 20AG, 20BG, 20CG diffracts light at different angles.

なお、各格子20AG,20BG,20CGの幅は、以下の理由から85μm以下であることがより好ましい。一般に、視力が1.0である人が、観察対象から5m離れた位置から視覚1分で分離することが可能な間隔は、1.454mmであることが知られている。こうした事項は、ランドルト環を用いて説明されている。なお、1分は、1°の60分の1である。観察者が光学素子20から30cm離れた位置から光学素子20を観察すると仮定した場合、観察者の目によって分離することが可能な間隔、すなわち分解能Rは、以下の式(13)から導出することができる。 The width of each grating 20AG, 20BG, 20CG is more preferably 85 μm or less for the following reason. In general, it is known that the distance that a person with a visual acuity of 1.0 can separate from a position 5 m away from an observation object in 1 visual minute is 1.454 mm. These matters are explained using the Landolt ring. Note that 1 minute is 1/60 of 1°. Assuming that the observer observes the optical element 20 from a position 30 cm away from the optical element 20, the distance that can be separated by the observer's eyes, that is, the resolution R can be derived from the following equation (13). can be done.

R = 1454 × (30/500) (μm) … 式(13)
なお、式(13)の右辺において、第1項の単位がμmであり、第2項の単位がcmである。式(13)より、分解能Rは87.24μmである。そのため、各格子20AG,20BG,20CGの幅が85μm以下であれば、人の目の分解能では、各格子20AG,20BG,20CGを分解することができない確実性を高めることができる。このため、各格子20AG,20BG,20CGの幅が85μm以下であると、ジャギーのような像の違和感を防止しやすい。
R = 1454 x (30/500) (μm)... Formula (13)
In the right side of equation (13), the unit of the first term is μm and the unit of the second term is cm. From equation (13), the resolution R is 87.24 μm. Therefore, if the width of each grating 20AG, 20BG, 20CG is 85 μm or less, it is possible to increase the certainty that the gratings 20AG, 20BG, 20CG cannot be resolved with the resolution of the human eye. Therefore, if the width of each of the gratings 20AG, 20BG, and 20CG is 85 μm or less, it is easy to prevent the image from appearing unnatural, such as jaggies.

各格子構造AGP,BGP,CGPの断面形状が、互いに異なる接線角度を有した波形状であることは、m次回折光が射出される方向を、接線角度によって制御することが可能である点で好ましい。これに対して、格子構造の断面形状が、光学素子20の表面に対して平行な面と、表面に対して直交する面とから構成される矩形状である場合、m次回折光、すなわちゼロ次回折光は、入射光に対する正反射の方向に射出される。例えば、光学素子20の表面に対する入射光の入射角度が45°である場合には、正反射光の射出角度も45°である。そのため、観察者は、観察角度が45°である方向から光学素子20を観察しなければ、光学素子20が射出する光を観察することができない。 It is preferable that the cross-sectional shape of each of the grating structures AGP, BGP, and CGP is a wave shape with tangent angles different from each other in that the direction in which the m-th order diffracted light is emitted can be controlled by the tangent angle. . On the other hand, when the cross-sectional shape of the grating structure is a rectangular shape composed of a plane parallel to the surface of the optical element 20 and a plane orthogonal to the surface, the m-order diffracted light, that is, the zero-order The diffracted light is emitted in the direction of specular reflection of the incident light. For example, when the incident angle of the incident light with respect to the surface of the optical element 20 is 45°, the exit angle of the specularly reflected light is also 45°. Therefore, the observer cannot observe the light emitted from the optical element 20 unless the observer observes the optical element 20 from a direction with an observation angle of 45°.

正反射光の射出角度で光学素子20を観察した場合には、光源から光学素子20に向けて射出された光の正反射光も観察者によって観察される。そのため、観察者が、格子構造によって射出された光を視認しにくい場合がある。さらに、光学素子20に対する光源の相対位置によって、光学素子20を正反射の角度から観察することが難しい場合もある。この点で、m次回折光が射出される方向を、接線角度によって制御することが可能である
ことで、光学素子20がm次回折光を射出する角度の自由度が高くなる。そのため、
上述した問題を解決することが可能にもなる。
When the optical element 20 is observed at the emission angle of the specularly reflected light, the specularly reflected light of the light emitted from the light source toward the optical element 20 is also observed by the observer. Therefore, it may be difficult for an observer to visually recognize the light emitted by the grating structure. Furthermore, due to the relative position of the light source with respect to the optical element 20, it may be difficult to observe the optical element 20 from specular angles. In this regard, since the direction in which the m-order diffracted light is emitted can be controlled by the tangential angle, the degree of freedom of the angle at which the optical element 20 emits the m-order diffracted light increases. for that reason,
It also makes it possible to solve the problems mentioned above.

3つの格子構造を含む格子パターンは、以下の構造を有してもよい。
図37が示すように、格子パターンは、第1格子構造AGP、第2格子構造BGP、および、第3格子構造CGPを含んでいる。第1格子構造AGP、第2格子構造BGP、および、第3格子構造CGPが、第1方向D1に沿って記載の順に並んでいる。これにより、第1格子構造AGP、第2格子構造BGP、および、第3格子構造CGPが1つの格子群GPGを構成している。格子パターンにおいて、複数の格子群GPGが、第1方向D1に沿って繰り返されている。
A grid pattern comprising three grid structures may have the following structures.
As shown in FIG. 37, the grid pattern includes a first grid structure AGP, a second grid structure BGP and a third grid structure CGP. The first lattice structure AGP, the second lattice structure BGP, and the third lattice structure CGP are arranged in the order of description along the first direction D1. Thus, the first lattice structure AGP, the second lattice structure BGP, and the third lattice structure CGP constitute one lattice group GPG. In the grid pattern, multiple grid groups GPG are repeated along the first direction D1.

第1方向D1において、第1格子構造AGPの格子周期が第1周期d1であり、第2格子構造BGPの格子周期が第2周期d2であり、第3格子構造CGPの格子周期が第3周期d3である。第1周期d1、第2周期d2、および、第3周期d3は、互いに等しい。 In the first direction D1, the grating period of the first grating structure AGP is the first period d1, the grating period of the second grating structure BGP is the second period d2, and the grating period of the third grating structure CGP is the third period. d3. The first period d1, the second period d2 and the third period d3 are equal to each other.

第1方向D1において、格子群GPGの周期Dは、20μm以上であることが好ましい。格子群GPGの周期Dが大きいほど、より高次の回折光が同一の観察角度内に含まれる。言い換えれば、格子群GPGの周期Dが大きいほど、同一の次数の回折光が含まれる観察角度の範囲が狭くなる。これにより、m次回折光の観察角度と他の回折光の観察角度との差を小さくすることで、観察者は、m次回折光と同時に複数の回折光を視認することができる。これにより、観察者が光学素子20から射出された光を視認することができる観察角度の範囲が広がる。 In the first direction D1, the period D of the grating group GPG is preferably 20 μm or more. The larger the period D of the grating group GPG, the higher order diffracted light is included within the same viewing angle. In other words, the larger the period D of the grating group GPG, the narrower the observation angle range in which the diffracted light of the same order is included. Accordingly, by reducing the difference between the observation angle of the m-order diffracted light and the observation angles of the other diffracted lights, the observer can visually recognize a plurality of diffracted lights simultaneously with the m-order diffracted light. This widens the range of observation angles in which the observer can visually recognize the light emitted from the optical element 20 .

例えば、上述したように、断面形状が矩形状の回折格子では、入射光と回折格子の放線とが形成する角度を角度αとし、かつ、回折光と回折格子の放線とが形成する角度を角度βとするとき、以下の式(14)が成り立つ。なお、角度αは入射角であり、角度βは回折角である。 For example, as described above, in a diffraction grating with a rectangular cross-sectional shape, the angle formed by the incident light and the radiation of the diffraction grating is the angle α, and the angle formed by the diffracted light and the radiation of the diffraction grating is the angle When β, the following formula (14) holds. The angle α is the incident angle, and the angle β is the diffraction angle.

d(sinα+sinβ) = mλ … 式(14)
なお、式(14)において、dは回折格子の周期であり、mは回折次数であり、λは光の波長である。周期および波長の単位は、nmである。なお、図37に示されるサブ波長格子11Gでは、周期dが上述した格子群GPGの周期Dに相当する。式(14)において、角度αを45°に設定し、波長λを500nmに設定するとき、周期dを5000nmに設定すると、以下のように回折次数mと角度βとが決まる。
(m,β) = (1,-37.4)、(2,-30.5)、(3,-24.0)…
d(sinα+sinβ)=mλ... Equation (14)
In equation (14), d is the period of the diffraction grating, m is the diffraction order, and λ is the wavelength of light. The unit of period and wavelength is nm. In addition, in the sub-wavelength grating 11G shown in FIG. 37, the period d corresponds to the period D of the grating group GPG described above. In equation (14), when the angle α is set to 45° and the wavelength λ is set to 500 nm, and the period d is set to 5000 nm, the diffraction order m and the angle β are determined as follows.
(m, β) = (1, -37.4), (2, -30.5), (3, -24.0)...

また、周期dを10000nmに変更すると、以下のように回折次数mと角度βとが決まる。
(m,β) = (1,-41.1)、(2,-37.4)、(3,-33.9)…
Further, when the period d is changed to 10000 nm, the diffraction order m and the angle β are determined as follows.
(m, β) = (1, -41.1), (2, -37.4), (3, -33.9)...

また、周期dを20000nmに変更すると、以下のように回折次数mと角度βとが決まる。
(m,β) = (1,-43.0)、(2,-41.1)、(3,-39.2)…
Further, when the period d is changed to 20000 nm, the diffraction order m and the angle β are determined as follows.
(m, β) = (1, -43.0), (2, -41.1), (3, -39.2)...

このように、周期dが大きくなるほど、回折次数の異なる回折光間において、角度βの差が小さくなる。 Thus, the larger the period d, the smaller the difference in angle β between diffracted lights of different diffraction orders.

ここで、人の目における瞳孔径が5mmであり、かつ、観察者が光学素子20を観察する距離を30cmであると仮定する。この場合、光学素子20におけるある点から射出される光のうち、約1°の観察角度内に含まれる光が、観察者の目に入る。すなわち、観察
者は約1°の観察角度内の光を積算した結果を視認している。つまり、約1°の観察角度の範囲内に特定の波長を有した回折光が含まれていると、この観察角度の範囲内において回折効率が高くなる。また、観察者が、観察角度が変わるように光学素子20を傾けながら観察する場合、観察者が観察角度を2°以上変える間にわたって、光学素子20の呈する色が特定の色に保持されていることによって、観察者は光学素子20が呈する色を認識しやすい。そのため、光学素子20は、観察角度における2°の範囲内に次数の異なる回折光を少なくとも2つ射出するようなに構成は、上記の効果を有することができるされることが好ましい。この点で、光学素子20における周期Dは、20μm以上であれば、上記の効果を有することができることが好ましい。
Here, it is assumed that the pupil diameter of the human eye is 5 mm and the distance at which the observer observes the optical element 20 is 30 cm. In this case, the light emitted from a point on the optical element 20 that falls within a viewing angle of about 1° enters the observer's eye. That is, the observer visually recognizes the result of integrating light within an observation angle of about 1°. In other words, when diffracted light having a specific wavelength is included within an observation angle range of approximately 1°, the diffraction efficiency increases within this observation angle range. Also, when the observer observes while tilting the optical element 20 so as to change the observation angle, the color exhibited by the optical element 20 is maintained at a specific color while the observer changes the observation angle by 2° or more. Thereby, the observer can easily recognize the color exhibited by the optical element 20 . Therefore, it is preferable that the optical element 20 is configured to emit at least two diffracted lights of different orders within a range of 2° in the observation angle so as to have the above effect. In this respect, it is preferable that the period D in the optical element 20 is 20 μm or more so that the above effect can be obtained.

3つの格子構造を含む格子パターンは、以下の構造を有してもよい。
図38が示すように、格子構造11Gは、第1格子構造AGP、第2格子構造BGP、および、第3格子構造CGPを含んでいる。第1格子構造AGP、第2格子構造BGP、および、第3格子構造CGPが、第1方向D1に沿って記載の順に並んでいる。これにより、第1格子構造AGP、第2格子構造、および、第3格子構造が1つの格子群GPGを構成している。格子パターンにおいて、複数の格子群GPGが、第1方向D1に沿って繰り返されている。
A grid pattern comprising three grid structures may have the following structures.
As shown in FIG. 38, the grid structure 11G includes a first grid structure AGP, a second grid structure BGP and a third grid structure CGP. The first lattice structure AGP, the second lattice structure BGP, and the third lattice structure CGP are arranged in the order of description along the first direction D1. Thus, the first lattice structure AGP, the second lattice structure, and the third lattice structure constitute one lattice group GPG. In the grid pattern, multiple grid groups GPG are repeated along the first direction D1.

第1格子構造AGPの格子周期が第1周期d1であり、第2格子構造BGPの格子周期が第2周期d2であり、第3格子構造CGPの格子周期が第3周期d3である。第1周期d1、第2周期d2、および、第3周期d3は、互いに異なる。第1方向D1において互いに隣り合う格子構造間では、格子周期の差が20nm以下より小さくであることが好ましいとできる。例えば、第1周期d1を300nmに設定し、第2周期d2を310nmに設定し、かつ、第3周期d3を290nmに設定することが可能である。 The grating period of the first grating structure AGP is the first period d1, the grating period of the second grating structure BGP is the second period d2, and the grating period of the third grating structure CGP is the third period d3. The first period d1, the second period d2 and the third period d3 are different from each other. It can be said that the difference in grating period between the grating structures adjacent to each other in the first direction D1 is preferably less than 20 nm. For example, it is possible to set the first period d1 to 300 nm, the second period d2 to 310 nm, and the third period d3 to 290 nm.

格子構造間において格子周期が互いに異なるため、格子構造間において回折角が互いに異なる。格子構造間において、格子周期の差が小さいほど、回折角の差が小さくなる。上述したように、第1方向D1において互いに隣り合う格子構造間での格子周期の差が20nm以下より小さけであれば、各格子構造から射出されるm次回折光の回折角が互いにほぼ等しくなる。これにより、観察者は、各格子構造から射出されるm次回折光を分離することができない。そのため、観察者が光学素子20から射出される光を観察することが可能な観察角度を広げることができる。 Since the grating periods are different between the grating structures, the diffraction angles are different between the grating structures. Between grating structures, the smaller the grating period difference, the smaller the diffraction angle difference. As described above, if the grating period difference between the grating structures adjacent to each other in the first direction D1 is less than 20 nm, the diffraction angles of the m-order diffracted lights emitted from the grating structures are substantially equal to each other. . As a result, the observer cannot separate the m-th order diffracted light emitted from each grating structure. Therefore, the observation angle at which the observer can observe the light emitted from the optical element 20 can be widened.

以上説明したように、光学素子の第2実施形態によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
(1)複数の格子パターンにおいて、第1方向D1に沿う断面形状が互いに同一である場合と比べて、格子構造11Gから射出される光を観察者が視認することが可能な観察角度を広げることができる。
As described above, according to the second embodiment of the optical element, the effects described below can be obtained.
(1) Widening the observation angle at which the observer can visually recognize the light emitted from the lattice structure 11G compared to the case where the cross-sectional shapes along the first direction D1 are the same in the plurality of lattice patterns. can be done.

(2)複数の格子パターンにおいて、第1方向D1に沿う断面形状に含まれる斜面の傾斜角が互いに同一である場合と比べて、格子パターン間における傾斜角の差に応じて、格子構造11Gから射出される光を観察者が視認することが可能な観察角度を広げることができる。 (2) In a plurality of lattice patterns, compared with the case where the inclination angles of the slopes included in the cross-sectional shape along the first direction D1 are the same, the lattice structure 11G is changed from the lattice structure 11G to the The observation angle at which the observer can visually recognize the emitted light can be widened.

[第2実施形態の変形例]
なお、上述した第2実施形態は、以下のように適宜変更して実施することができる。
[断面形状]
・格子構造11Gは、上述した断面形状が互いに異なる4種以上の格子構造を含んでもよい。また、上述したように、断面形状は、4種以上の格子構造を含んでもよい。また、複数種の格子構造は、格子パターン内においてランダムに位置してもよい。
[Modification of Second Embodiment]
In addition, the above-described second embodiment can be implemented with appropriate changes as follows.
[Cross-sectional shape]
- The lattice structure 11G may include four or more kinds of lattice structures having mutually different cross-sectional shapes as described above. Also, as described above, the cross-sectional shape may include four or more lattice structures. Also, the lattice structures of multiple types may be randomly positioned within the lattice pattern.

・格子構造11Gの断面形状は、上述した波状に限らない。格子構造11Gが波形状以外の形状を有する場合であっても、パターン格子が、断面形状が互いに異なる格子構造を含んでいることによって、上述した(1)に準じた効果を得ることはできる。 - The cross-sectional shape of 11 G of grating|lattice structures is not restricted to the wave shape mentioned above. Even if the grating structure 11G has a shape other than the wavy shape, the pattern grating includes grating structures having different cross-sectional shapes, so that the effect according to (1) described above can be obtained.

[第3実施形態]
図39を参照して、光学素子の第3実施形態を説明する。本発明の第3実施形態の光学素子は、第1実施形態の光学素子10と比べて、第1層がフィラーを含む点が異なっている。そのため、以下では、こうした相違点を詳しく説明する一方で、第3実施形態の光学素子において、第1実施形態の光学素子に対応する構成には、第1実施形態と同一の符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。
[Third Embodiment]
A third embodiment of the optical element will be described with reference to FIG. The optical element of the third embodiment of the present invention differs from the optical element 10 of the first embodiment in that the first layer contains a filler. Therefore, hereinafter, while such differences will be described in detail, in the optical element of the third embodiment, the configurations corresponding to the optical elements of the first embodiment are denoted by the same reference numerals as those of the first embodiment. , the detailed description of which will be omitted.

図39が示すように、光学素子30が備える第1層11は、第1層11を形成する樹脂中に分散したフィラー31を含んでいる。フィラー31の平均粒径は、400nm以下である。第1層11に入射した光の少なくとも一部は、第1層11内に分散したフィラーによって散乱される。そのため、格子構造11Gに入射する光には、互いに異なる入射角を有した光が含まれる。これにより、格子パターンGPが含む各格子構造11Gは、その格子構造11Gに入射した光の入射角に応じた正反射の方向に光を反射する。格子構造11Gが反射した光は、フィラー31によって散乱されることなく、または、フィラー31によって散乱された後に、光学素子30の外部に射出される。そのため、第1層11がフィラーを含まない場合と比べて、光学素子30から射出される光の射出角の範囲が広がる。結果として、光学素子30が呈する色を観察者が観察することが可能な観察角度の範囲が広がる。 As shown in FIG. 39 , the first layer 11 included in the optical element 30 contains fillers 31 dispersed in the resin forming the first layer 11 . The average particle size of the filler 31 is 400 nm or less. At least part of the light incident on the first layer 11 is scattered by the filler dispersed within the first layer 11 . Therefore, the light incident on the grating structure 11G includes light having different incident angles. As a result, each grating structure 11G included in the grating pattern GP reflects light in the direction of specular reflection according to the incident angle of the light incident on the grating structure 11G. The light reflected by the grating structure 11G is emitted to the outside of the optical element 30 without being scattered by the filler 31 or after being scattered by the filler 31 . Therefore, compared with the case where the first layer 11 does not contain filler, the range of the emission angle of the light emitted from the optical element 30 is widened. As a result, the range of viewing angles through which the observer can observe the colors exhibited by the optical element 30 is widened.

上述したように、フィラー31の平均粒径は、400nm以下であることが好ましいとできる。これにより、ミー散乱が生じることが抑えられるため、第1層11の透明性が少なからず高められる。フィラー31の形状は、球状に限らない。そのため、本実施形態では、各フィラー31において規定することが可能な複数の直径における平均値が、各フィラー31の平均粒径である。ここで、フィラー31などの散乱体の大きさと散乱現状との関係について、以下のことが知られている。散乱体の平均粒径が400nm以上700nm以下の範囲に含まれる場合には、散乱体によってミー散乱が生じる。ミー散乱では、可視域に含まれる光は、光の波長に関わらず同程度に散乱されるため、ミー散乱によって散乱された光は白色を有する光として視認される。なお、ミー散乱では、散乱体の粒径によって光の散乱角度が影響される。ミー散乱では、散乱体の粒径が大きいほど、光の進行方向における前方に対する散乱が強くなる。 As described above, it can be said that the average particle diameter of the filler 31 is preferably 400 nm or less. As a result, the occurrence of Mie scattering is suppressed, so that the transparency of the first layer 11 is not a little increased. The shape of the filler 31 is not limited to spherical. Therefore, in the present embodiment, the average value of a plurality of diameters that can be defined for each filler 31 is the average particle size of each filler 31 . Here, the following is known about the relationship between the size of the scatterer such as the filler 31 and the scattering state. When the average particle size of the scatterer is in the range of 400 nm or more and 700 nm or less, the scatterer causes Mie scattering. In Mie scattering, light in the visible range is scattered to the same extent regardless of the wavelength of the light, so the light scattered by Mie scattering is viewed as white light. In Mie scattering, the scattering angle of light is affected by the particle size of the scatterer. In Mie scattering, the larger the particle size of the scatterer, the stronger the forward scattering in the traveling direction of light.

これに対して、散乱体が光の波長に対して1/10よりも小さい場合には、レイリー散乱が生じる。レイリー散乱では、光が散乱される方向は、散乱体の粒径に依存しない。レイリー散乱では、散乱体の粒径に関わらず、光の進行方向に対して8の字を描くような分布で、光が散乱される。また、レイリー散乱では、光の波長が短いほど、光の散乱が強くなる。 On the other hand, if the scatterer is smaller than 1/10 of the wavelength of light, Rayleigh scattering will occur. In Rayleigh scattering, the direction in which light is scattered does not depend on the particle size of the scatterer. In Rayleigh scattering, light is scattered in a figure-of-eight distribution with respect to the traveling direction of the light, regardless of the particle size of the scatterer. In Rayleigh scattering, the shorter the wavelength of light, the stronger the scattering of light.

本実施形態のように、散乱体であるフィラー31が分散した第1層11に透明性が必要とされる場合には、フィラー31の平均粒径は、少なくとも光の波長以下であり、かつ、フィラー31の散乱によってはレイリー散乱が生じるであることが必要である。それゆえにこの場合、フィラー31の平均粒径は、400nm以下であることが好ましい。フィラー31の平均粒径をDとし、光の波長をλとするとき、散乱断面積αは以下の式(15)によって算出することができる。 When transparency is required for the first layer 11 in which the filler 31 as a scatterer is dispersed as in the present embodiment, the average particle diameter of the filler 31 is at least equal to or less than the wavelength of light, and It is necessary that the scattering of the filler 31 causes Rayleigh scattering. Therefore, in this case, the average particle size of the filler 31 is preferably 400 nm or less. When the average particle diameter of the filler 31 is D and the wavelength of light is λ, the scattering cross section α can be calculated by the following formula (15).

α =πD/λ … 式(15)
式(15)を用いることによって、フィラー31によって生じる散乱現象が、レイリー散乱であるか、あるいは、ミー散乱であるかを簡易的に判断することができる。散乱断面積αが0.4以上である場合には、主にレイリー散乱が生じる一方で、散乱断面積αが、0.4よりも大きく、かつ、3未満である場合には、主にミー散乱が生じることが知られている。それゆえに、フィラー31に入射する光が可視域の光であって、例えば光の波長が400nmである場合には、フィラー31の平均粒径が50nm以下であれば、フィラー31によって主にレイリー散乱を生じさせることができる。これにより、第1層11における透明性が高い状態で、第1層11に入射した光をフィラー31によって散乱させることができる。
α = πD/λ... Equation (15)
By using equation (15), it can be easily determined whether the scattering phenomenon caused by the filler 31 is Rayleigh scattering or Mie scattering. When the scattering cross section α is 0.4 or more, mainly Rayleigh scattering occurs. Scattering is known to occur. Therefore, when the light incident on the filler 31 is light in the visible region and has a wavelength of 400 nm, for example, if the average particle size of the filler 31 is 50 nm or less, the filler 31 mainly causes Rayleigh scattering. can be generated. Thereby, the light incident on the first layer 11 can be scattered by the filler 31 while the transparency of the first layer 11 is high.

以上説明したように、第3実施形態の光学素子によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
(3)第1層11がフィラーを含まない場合と比べて、光学素子30から射出される光の射出角の範囲が広がる。そのため、光学素子30が呈する色を観察者が観察することが可能な観察角度の範囲が広がる。
As described above, according to the optical element of the third embodiment, the effects described below can be obtained.
(3) The range of the emission angle of the light emitted from the optical element 30 is widened as compared with the case where the first layer 11 does not contain the filler. Therefore, the range of viewing angles that allows the viewer to view the colors presented by the optical element 30 is widened.

[第4実施形態]
図40および図41を参照して、光学素子の第4実施形態を説明する。本発明の第4実施形態の光学素子は、第1実施形態の光学素子10と比べて、第3層13において、第2層12に接する面とは反対側の面の状態が異なっている。そのため以下では、こうした相違点を詳しく説明する一方で、第3実施形態の光学素子において第1実施形態の光学素子10と対応する構成には同一の符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。また、以下では、第4実施形態における第1例と第2例とを順に説明する。
[Fourth embodiment]
A fourth embodiment of the optical element will be described with reference to FIGS. 40 and 41. FIG. The optical element of the fourth embodiment of the present invention differs from the optical element 10 of the first embodiment in the state of the surface of the third layer 13 opposite to the surface in contact with the second layer 12 . Therefore, hereinafter, while such differences will be described in detail, detailed descriptions thereof will be omitted by assigning the same reference numerals to the structures of the optical element of the third embodiment that correspond to those of the optical element 10 of the first embodiment. . Moreover, below, the 1st example and 2nd example in 4th Embodiment are demonstrated in order.

[第1例]
図40が示すように、光学素子40において、第3層13は、熱可塑性を有した接着層である。第3層13は、第3層13の厚さ方向における中央よりも第2層12に接する面とは反対側の面寄りの部分に分散したフィラー41を含んでいる。第3層13において、第2層12に接する面が表面13Fであり、表面13Fとは反対側の面が裏面13Rである。第3層13において、フィラー41は、上述したように、第3層13の厚さ方向における中央よりも裏面13R寄りに位置することが好ましく、裏面13Rの近傍に位置することが好ましい。
[First example]
As shown in FIG. 40, in the optical element 40, the third layer 13 is a thermoplastic adhesive layer. The third layer 13 contains fillers 41 dispersed in a portion closer to the surface opposite to the surface in contact with the second layer 12 than the center in the thickness direction of the third layer 13 . In the third layer 13, the surface in contact with the second layer 12 is the surface 13F, and the surface opposite to the surface 13F is the back surface 13R. In the third layer 13, as described above, the filler 41 is preferably located closer to the back surface 13R than the center in the thickness direction of the third layer 13, and preferably located near the back surface 13R.

上述したように、第3層13は、熱可塑性を有した接着層である。第3層13を形成する材料には、熱可塑性を有した接着剤を用いることができる。第3層13が熱可塑性を有した接着層であるため、第3層13が被転写体に接する状態で光学素子40に熱および圧力を加えることにより、光学素子40を被転写体に転写することができる。このとき、第3層13に加えられた熱および圧力によって、第3層13の裏面13Rにフィラー41に起因する凹凸が生じ、これによって、第3層13の表面13Fにも凹凸が生じる。結果として、第1層11および第2層12のなかで、光学素子40の厚さ方向から見て、第3層13に形成された凹凸と重なる部分にも、凹凸が生じる。これにより、第1層11と第2層12との界面において、格子パターンGPに対してフィラー41に起因する凹凸が付加される。被転写体には、例えば、紙幣、パスポート、および、IDカードとなどを挙げることができる。 As described above, the third layer 13 is a thermoplastic adhesive layer. A thermoplastic adhesive can be used as the material forming the third layer 13 . Since the third layer 13 is an adhesive layer having thermoplastic properties, the optical element 40 is transferred to the transfer target by applying heat and pressure to the optical element 40 while the third layer 13 is in contact with the transfer target. be able to. At this time, due to the heat and pressure applied to the third layer 13, unevenness due to the filler 41 is generated on the rear surface 13R of the third layer 13, and thus the surface 13F of the third layer 13 is also uneven. As a result, in the first layer 11 and the second layer 12, unevenness is also generated in a portion overlapping with the unevenness formed in the third layer 13 when viewed from the thickness direction of the optical element 40. FIG. As a result, at the interface between the first layer 11 and the second layer 12, unevenness caused by the filler 41 is added to the lattice pattern GP. Examples of transfer-receiving objects include bills, passports, and ID cards.

第1層11と第2層12との界面における凹凸は、フィラー41の大きさ、各層11,12,13の厚さ、および、光学素子40を転写するときの熱および圧力の条件によって、調節することができる。 The unevenness at the interface between the first layer 11 and the second layer 12 is adjusted by the size of the filler 41, the thickness of each layer 11, 12, 13, and the heat and pressure conditions when transferring the optical element 40. can do.

格子パターンGPには、フィラー41に起因する凹凸が付加されるため、格子パターンGPを構成する複数の格子構造11Gには、格子構造11Gに対する光の入射角が違いに異なる格子構造11Gが含まれる。そして、各格子構造11Gは、その格子構造11Gにおける光の入射角に応じた射出角で、m次回折光を反射する。各格子構造11Gがm次回折光を射出する射出角の範囲は、各格子構造11Gに付与された凹凸が有する曲率によって変わる。言い換えれば、観察者が、格子パターンGPが呈する色を観察することが可能な観察角度は、各格子構造11Gに付与された凹凸の曲率によって変わる。 Since unevenness caused by the filler 41 is added to the lattice pattern GP, the plurality of lattice structures 11G forming the lattice pattern GP includes the lattice structures 11G having different incident angles of light with respect to the lattice structures 11G. . Each grating structure 11G reflects the m-order diffracted light at an exit angle corresponding to the incident angle of the light on the grating structure 11G. The range of emission angles at which m-th order diffracted light is emitted from each grating structure 11G varies depending on the curvature of the unevenness provided to each grating structure 11G. In other words, the observation angle at which the observer can observe the color exhibited by the grid pattern GP changes depending on the curvature of the unevenness given to each grid structure 11G.

上述したように、光学素子40が呈する色は、観察角度における2°以上の範囲において保たれることが好ましい。一方で、光学素子40が呈する色を観察することができる観察角度の範囲が広すぎると、各観察角度において光学素子40が射出する光の強度が低くなる。そのため、光学素子40が呈する色を観察することができる観察角度の範囲は、2°以上10°以下であることが好ましく、2°以上5°以下であることがより好ましい。こうした観察角度の範囲に、全ての格子パターンGPが射出するm次回折光の射出角が含まれることが好ましい。 As described above, it is preferable that the color exhibited by the optical element 40 is maintained within a viewing angle range of 2° or more. On the other hand, if the range of observation angles over which the colors exhibited by the optical element 40 can be observed is too wide, the intensity of the light emitted by the optical element 40 will be low at each observation angle. Therefore, the range of observation angles at which the colors exhibited by the optical element 40 can be observed is preferably 2° or more and 10° or less, and more preferably 2° or more and 5° or less. It is preferable that such an observation angle range includes the emission angles of the m-order diffracted lights emitted by all the grating patterns GP.

そのため、フィラー41に起因する凹凸の曲率は、過度に大きくないことが好ましい。以下の2つの方法により、フィラー41に起因する凹凸の曲率が過度に大きくなることを抑える方法として、以下の2つの方法を挙げることができる。第1の方法では、フィラー41を第3層13において一様に分散させ、かつ、凹凸の曲率が過度に大きくならないように、転写における熱および圧力の条件を調節する。第2の方法では、フィラー41として、球状を有するフィラーではなく、扁平な形状を有するフィラーを用い、かつ、第3層13の厚さ方向において、フィラー41の直径が小さくなるように、第3層13にフィラー41を分散させる。 Therefore, it is preferable that the curvature of the unevenness caused by the filler 41 is not excessively large. The following two methods can be cited as methods for suppressing excessive increase in the curvature of the unevenness caused by the filler 41 by the following two methods. In the first method, the heat and pressure conditions in the transfer are adjusted so that the filler 41 is uniformly dispersed in the third layer 13 and the curvature of the unevenness is not excessively increased. In the second method, a filler having a flat shape is used as the filler 41 instead of a filler having a spherical shape. Filler 41 is dispersed in layer 13 .

[第2例]
図41が示すように、光学素子40は、第3層13に接する第4層42をさらに備えている。第4層42は、第3層13に接する表面42Fを含んでいる。表面42Fは、凹凸を含んでいる。
[Second example]
As FIG. 41 shows, the optical element 40 further comprises a fourth layer 42 in contact with the third layer 13 . The fourth layer 42 includes a surface 42</b>F that contacts the third layer 13 . The surface 42F includes unevenness.

第4層42の表面42Fにおける凹凸は、種々の方法によって形成することができる。例えば、第3層13を被転写体である第4層42に転写するときに、熱および圧力によって変形した第3層13に追従するように、第4層42の表面42Fに凹凸を形成することができる。この場合には、第3層13には、熱可塑性を有した接着層を用いることができる。また、第4層42には、例えば、紙や樹脂フィルムを用いることができる。あるいは、第4層42に微粒子や繊維を分散させることによって、第4層42の表面42Fに凹凸を形成することができる。また、第4層42の表面42Fには、第4層42を成膜するときに生じる脱泡やむらによっても凹凸を生じさせることができる。第2例においても、第1例と同様、第4層42の表面42Fに起因する凹凸を格子構造11Gに付加することができる。そのため、第2例の光学素子40によっても、第1例の光学素子40と同様の効果を得ることができる。 The unevenness on the surface 42F of the fourth layer 42 can be formed by various methods. For example, unevenness is formed on the surface 42F of the fourth layer 42 so as to follow the deformation of the third layer 13 due to heat and pressure when the third layer 13 is transferred to the fourth layer 42, which is the object to be transferred. be able to. In this case, a thermoplastic adhesive layer can be used for the third layer 13 . Paper or a resin film can be used for the fourth layer 42, for example. Alternatively, by dispersing fine particles or fibers in the fourth layer 42, the surface 42F of the fourth layer 42 can be uneven. The surface 42</b>F of the fourth layer 42 can also be uneven due to defoaming and unevenness that occur when the fourth layer 42 is formed. In the second example, similarly to the first example, unevenness caused by the surface 42F of the fourth layer 42 can be added to the lattice structure 11G. Therefore, the same effects as those of the optical element 40 of the first example can be obtained with the optical element 40 of the second example.

なお、第4層42が被転写体であり、かつ、第4層42が微粒子を含む場合には、微粒子の平均粒径が、接着層である第3層13の厚さと同程度であることが好ましい。また、第4層42に対する転写において、熱および圧力の条件を調節することによって、サブ波長格子11Gに付与される凹凸が過度に大きくなることが抑えられる。 When the fourth layer 42 is the object to be transferred and contains fine particles, the average particle diameter of the fine particles should be approximately the same as the thickness of the third layer 13, which is the adhesive layer. is preferred. Also, in the transfer to the fourth layer 42, by adjusting the conditions of heat and pressure, it is possible to prevent the irregularities imparted to the sub-wavelength grating 11G from becoming excessively large.

また、繊維が分散した第4層42として、紙製の第4層42を用いることができる。この場合、第4層42を構成する繊維は、第4層42の表面42Fに平行に並んでいる。パルプ繊維は、直径が20μm以上50μm以下であり、かつ、長さが1mm以上5mm以
下程度の大きさを有する。そのため、格子パターンGPに付与される凹凸が過度に大きくなる場合がある。これに対して、セルロースナノファイバーは、直径が4nm以上100nm以下であり、かつ、長さが5μm以上程度の大きさを有する。そのため、サブ波長格子11Gに付与される凹凸が過度に大きくなることが抑えられる。なお、セルロースナノファイバーは、パルプ繊維を分解することによって得られる繊維である。
Moreover, the fourth layer 42 made of paper can be used as the fourth layer 42 in which the fibers are dispersed. In this case, the fibers forming the fourth layer 42 are arranged parallel to the surface 42F of the fourth layer 42 . The pulp fibers have a diameter of 20 μm or more and 50 μm or less and a length of approximately 1 mm or more and 5 mm or less. Therefore, the unevenness given to the grid pattern GP may become excessively large. In contrast, cellulose nanofibers have a diameter of 4 nm or more and 100 nm or less and a length of about 5 μm or more. Therefore, the unevenness provided to the sub-wavelength grating 11G is prevented from becoming excessively large. Cellulose nanofibers are fibers obtained by decomposing pulp fibers.

以上説明したように、第4実施形態の光学素子によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
(4)フィラー41に起因する凹凸が格子パターンGPに付与されるため、複数の格子構造11Gが、格子構造11Gに対する光の入射角が互いに異なる格子構造11Gを含むことができる。これにより、格子構造11Gにおける射出角も異なるため、格子パターンGPから射出される光が観察される観察角度を広げることができる。
As described above, according to the optical element of the fourth embodiment, the effects described below can be obtained.
(4) Since the unevenness caused by the filler 41 is imparted to the grating pattern GP, the plurality of grating structures 11G can include the grating structures 11G having different incident angles of light with respect to the grating structure 11G. This makes it possible to widen the observation angle at which the light emitted from the grating pattern GP is observed, since the emission angles in the grating structure 11G are also different.

(5)第4層42の表面42Fに起因する凹凸が格子パターンGPに付与されるため、複数の格子構造11Gが、格子構造11Gに対する光の入射角度が互いに異なる格子構造11Gを含むことができる。これにより、格子構造11Gにおける射出角も異なるため、格子パターンGPから射出される光が観察される観察角度を広げることができる。 (5) Since the unevenness caused by the surface 42F of the fourth layer 42 is imparted to the grating pattern GP, the plurality of grating structures 11G can include the grating structures 11G having different incident angles of light with respect to the grating structure 11G. . This makes it possible to widen the observation angle at which the light emitted from the grating pattern GP is observed, since the emission angles in the grating structure 11G are also different.

[第5実施形態]
図42および図43を参照して、光学素子の第5実施形態を説明する。本発明の第5実施形態の光学素子は、第1実施形態の光学素子と比べて、第1層から第3層の他に、樹脂層を備える点が異なっている。そのため以下では、こうした相違点を詳しく説明する一方で、第5実施形態の光学素子において第1実施形態の光学素子10と対応する構成には、第1実施形態の光学素子10と同じ符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。
[Fifth embodiment]
A fifth embodiment of the optical element will be described with reference to FIGS. 42 and 43. FIG. The optical element of the fifth embodiment of the present invention differs from the optical element of the first embodiment in that it includes a resin layer in addition to the first to third layers. Therefore, hereinafter, while such differences will be described in detail, the same reference numerals as those of the optical element 10 of the first embodiment will be given to the configurations of the optical element of the fifth embodiment that correspond to those of the optical element 10 of the first embodiment. Therefore, detailed description thereof will be omitted.

[第1例]
図42が示すように、光学素子50は、第1層11に対して第2層12とは反対側に樹脂層14を備える。樹脂層14は、第1層11に接している。第1層11の硬度は、第3層13の硬度および樹脂層14の硬度がよりも高い。なお、これらの層の積層体において、第2層12の厚さは他の層の厚さと比べて薄い。そのため、第2層12の硬度は、光学素子50が有する特性に対してあまり影響しないと見なすことが可能であるとして省略した。
例えば、第1層11、第2層12、第3層、および、樹脂層14を供えるカードなどの媒体を製造する場合に、各層が有する微細な凹凸構造やフィラーなどの凹凸が、カードを形成する複数の層をラミネートする際に、格子パターンGPに対して付与されることがある。このとき、樹脂層14および第3層13が比較的弾性を有した材料によって形成されていることによって、樹脂層14および第3層によって外部からの力を吸収することができる。また、第1層11をこれらの層に対して硬度の高い材料によって形成することによって、積層体に外部から力が加わった場合にも、格子パターンGPの領域にまで微細な凹凸の影響が生じないようにすることができる。これにより、格子パターンGPが備える格子構造11Gの形状が変形することを抑え、これによって、特定の方向において観察される色の純度および発色の強さを維持することができる。
上記の硬度を達成するために、第1層11を形成する材料が紫外線硬化性樹脂であり、第3層13および樹脂層14を形成する材料が熱可塑性樹脂であってよい。さらに、第1層11の厚さを、第1層11に形成する格子構造11Gの構造高さよりも厚くすることによって、第1層11有する硬度による効果をより高めることができる。第1層11の厚さは、1μm以上10μm以下であることが好ましい。
なお、樹脂層14は、上述したフィラーを含んでもよい。
[First example]
As shown in FIG. 42 , the optical element 50 has the resin layer 14 on the side of the first layer 11 opposite to the second layer 12 . The resin layer 14 is in contact with the first layer 11 . The hardness of the first layer 11 is higher than the hardness of the third layer 13 and the hardness of the resin layer 14 . In addition, in the laminate of these layers, the thickness of the second layer 12 is thinner than the thickness of the other layers. Therefore, the hardness of the second layer 12 is omitted because it can be assumed that the properties of the optical element 50 are not significantly affected.
For example, when manufacturing a medium such as a card provided with the first layer 11, the second layer 12, the third layer, and the resin layer 14, the fine uneven structure of each layer and the unevenness of fillers form the card. may be applied to the lattice pattern GP when laminating a plurality of layers. At this time, since the resin layer 14 and the third layer 13 are made of a relatively elastic material, the resin layer 14 and the third layer can absorb external forces. In addition, by forming the first layer 11 from a material having a higher hardness than these layers, even when a force is applied to the laminate from the outside, fine irregularities are produced even in the region of the grid pattern GP. can be prevented. This prevents the shape of the lattice structure 11G included in the lattice pattern GP from being deformed, thereby maintaining the purity and intensity of color observed in a specific direction.
In order to achieve the hardness described above, the material forming the first layer 11 may be an ultraviolet curable resin, and the material forming the third layer 13 and the resin layer 14 may be a thermoplastic resin. Furthermore, by making the thickness of the first layer 11 thicker than the structure height of the lattice structure 11G formed in the first layer 11, the effect of the hardness of the first layer 11 can be further enhanced. The thickness of the first layer 11 is preferably 1 μm or more and 10 μm or less.
In addition, the resin layer 14 may contain the filler mentioned above.

[第2例]
図43は、第1例の構造を含むIDカード50Cの構造における一例を示している。
図43が示す例では、例えば、第1層11は成形層であり、第2層12は反射層であり、第3層13は接着層であり、樹脂層14は剥離層である。これらの積層体を印字層16に転写し、次いで、印字層16に対して白色層17と印字層16とを順に積層する。そして、最上層である樹脂層14、および、最下層である印字層16の各々に保護層15を積層してラミネートする。これにより、図43に示すIDカード50Cを得ることが可能である。
印字層16は、例えばレーザー光線に反応することによって黒色を呈するとなる材料によって形成されている。印字層16のレーザー光線で炭化し黒色となる材料によって形成できる。印字層16には、上述したラミネートの後に識別個人情報や顔写真画像などの生体情報画像を印字することが可能である。また、白色層17には、ポリカーボネートなどによって形成された耐熱性の高い基材を用いることが好ましい。白色層17の表面には、印刷が施されていてもよい。
保護層15は、樹脂層14に接する面に凹凸を有している。これにより、上述したラミネートの後に、IDカード50Cには、保護層15を介してIDカード50Cに入射した光を散乱する効果が付与される。これによって、観察者が、IDカード50Cから射出される光を視認することができる観察角度の範囲を広げることができる。このとき、第1層11が第1例に記載の硬度および第1例に記載の厚さの少なくとも一方を有することができる。これによって、格子パターンGPの形状に対して保護層15の凹凸が影響することを抑えつつ、すなわちIDカード50Cから射出される光が有する明瞭な色相を保ちつつ、当該光が観察される角度範囲を広げることができる。
[Second example]
FIG. 43 shows an example of the structure of an ID card 50C including the structure of the first example.
In the example shown in FIG. 43, for example, the first layer 11 is a molding layer, the second layer 12 is a reflective layer, the third layer 13 is an adhesive layer, and the resin layer 14 is a release layer. These laminates are transferred to the printed layer 16, and then the white layer 17 and the printed layer 16 are laminated on the printed layer 16 in this order. Then, the protective layer 15 is laminated on each of the resin layer 14 as the uppermost layer and the print layer 16 as the lowermost layer. As a result, the ID card 50C shown in FIG. 43 can be obtained.
The printing layer 16 is made of a material that exhibits a black color by reacting to a laser beam, for example. The printing layer 16 can be formed of a material that is carbonized by a laser beam and turns black. On the printing layer 16, it is possible to print biometric information images such as identification personal information and face photograph images after lamination as described above. Moreover, it is preferable to use a highly heat-resistant substrate made of polycarbonate or the like for the white layer 17 . The surface of the white layer 17 may be printed.
The protective layer 15 has unevenness on the surface in contact with the resin layer 14 . As a result, after lamination as described above, the ID card 50C is provided with an effect of scattering light incident on the ID card 50C through the protective layer 15. FIG. As a result, the observer can widen the range of observation angles in which the light emitted from the ID card 50C can be visually recognized. At this time, the first layer 11 can have at least one of the hardness described in the first example and the thickness described in the first example. As a result, while suppressing the influence of the unevenness of the protective layer 15 on the shape of the grid pattern GP, that is, while maintaining the clear hue of the light emitted from the ID card 50C, the angle range in which the light is observed can be expanded.

[第6実施形態]
図44から図50を参照して、光学素子の第6実施形態を説明する。本発明の第6実施形態の光学素子は、第1実施形態の光学素子と比べて、レリーフ面を備えるレリーフ層を備える点が異なっている。そのため以下では、こうした相違点を詳しく説明する一方で、第6実施形態の光学素子において第1実施形態の光学素子10と対応する構成には、第1実施形態の光学素子10と同じ符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。また以下では、第5実施形態の光学素子における2つの例を順に説明する。
[Sixth Embodiment]
A sixth embodiment of the optical element will be described with reference to FIGS. The optical element of the sixth embodiment of the invention differs from the optical element of the first embodiment in that it comprises a relief layer with a relief surface. Therefore, hereinafter, while such differences will be described in detail, the same reference numerals as those of the optical element 10 of the first embodiment will be given to the configurations of the optical element of the sixth embodiment that correspond to those of the optical element 10 of the first embodiment. Therefore, detailed description thereof will be omitted. Two examples of the optical element of the fifth embodiment will be described in order below.

[第1例]
[光学素子の構成]
図44を参照して、第1例の光学素子における構成を説明する。
[First example]
[Configuration of optical element]
The configuration of the optical element of the first example will be described with reference to FIG.

図44が示すように、光学素子60は、上述した第1実施形態の光学素子10と同様、第1層11と、第1層11に接する第2層12と、第2層12に接する第3層13とを備えている。第1層11は、第2層12に接する裏面11Rの少なくとも一部に格子構造11Gを含む樹脂製の層である。裏面11Rは、第1面の一例である。図44では、図示の便宜上、裏面11Rの全体に格子構造11Gが位置するような断面形状が示されているが、本実施形態の光学素子60では、裏面11Rの一部に格子構造11Gが形成されている。 As shown in FIG. 44, the optical element 60 includes a first layer 11, a second layer 12 in contact with the first layer 11, and a second layer 12 in contact with the second layer 12, similarly to the optical element 10 of the first embodiment described above. three layers 13; The first layer 11 is a resin layer including a lattice structure 11G on at least a portion of the back surface 11R that contacts the second layer 12 . The back surface 11R is an example of a first surface. For convenience of illustration, FIG. 44 shows a cross-sectional shape in which the lattice structure 11G is positioned over the entire rear surface 11R. It is

第2層12は、第1層11の裏面11Rに接する表面12Fが、格子構造11Gに追従した凹凸状である。表面12Fは、第2面の一例である。第2層12は、第1層11の屈折率よりも高い屈折率を有した誘電体製の層である。第3層13は、第2層12よりも屈折率が低い樹脂製の層である。 A surface 12F of the second layer 12, which is in contact with the rear surface 11R of the first layer 11, has an uneven shape following the lattice structure 11G. The surface 12F is an example of a second surface. The second layer 12 is a dielectric layer having a higher refractive index than the first layer 11 . The third layer 13 is a resin layer having a lower refractive index than the second layer 12 .

光学素子60は、裏面11Rおよび表面12Fとは異なるレリーフ面13Reを含むレ
リーフ層を含んでいる。レリーフ面13Reは、複数の反射面を含み、互いに隣り合う反射面間のピッチが、格子構造11Gのピッチよりも大きい。本実施形態では、レリーフ層は、上述した第3層13である。より詳しくは、第3層13のなかで、第4層14に接する面である裏面13Rが、レリーフ面13Reである。
The optical element 60 includes a relief layer including a relief surface 13Re different from the back surface 11R and the front surface 12F. The relief surface 13Re includes a plurality of reflective surfaces, and the pitch between adjacent reflective surfaces is larger than the pitch of the grating structure 11G. In this embodiment, the relief layer is the third layer 13 described above. More specifically, in the third layer 13, the back surface 13R, which is the surface in contact with the fourth layer 14, is the relief surface 13Re.

なお、図44では、図示の便宜上、裏面13Rの全体にレリーフ面13Reが位置しているが、本実施形態の光学素子60では、表面13Fの一部にレリーフ面13Reが位置している。また、レリーフ面13Reは、光学素子60の厚さ方向から見て、表面13Fのなかで格子構造11Gと重なる位置に形成されている。 In FIG. 44, the relief surface 13Re is positioned over the entire back surface 13R for convenience of illustration, but in the optical element 60 of the present embodiment, the relief surface 13Re is positioned on a portion of the front surface 13F. Also, the relief surface 13Re is formed at a position overlapping the grating structure 11G in the surface 13F when viewed from the thickness direction of the optical element 60. As shown in FIG.

格子構造11Gは、正反射方向を含む反射方向に、格子構造11Gの格子周期に固有の色を呈する有色像を表示する。レリーフ面13Reは、正反射方向とは異なる方向を含む反射方向に白色の反射光による反射像を表示する。光学素子60は、有色像および反射像を表示しない第1状態、有色像を主として表示する第2状態、反射像を主として表示する第3状態、および、有色像および反射像を主として表示する第4状態を有する。光学素子60が広がる平面と、観察者の視線を含む平面とが形成する角度が観察角度である。光学素子60は、観察角度に応じて各状態のいずれかを有する。 The grating structure 11G displays a colored image in reflection directions, including the specular reflection direction, with a color unique to the grating period of the grating structure 11G. The relief surface 13Re displays a reflected image by white reflected light in a reflection direction including a direction different from the regular reflection direction. The optical element 60 has a first state in which the colored image and the reflected image are not displayed, a second state in which the colored image is mainly displayed, a third state in which the reflected image is mainly displayed, and a fourth state in which the colored image and the reflected image are mainly displayed. have a state. The angle formed by the plane in which the optical element 60 extends and the plane containing the line of sight of the observer is the viewing angle. The optical element 60 has one of each state depending on the viewing angle.

光学素子60は、さらに第4層61を備えている。第4層61は、反射層であってもよいし、屈折層であってもよい。第4層61が屈折層である場合、第4層61の屈折率は、第3層13の屈折率と異なっている。第4層61の屈折率が、第3層13の屈折率と異なることによって、第4層61は、レリーフ面13Reにおける反射率を高めることができる。互いに隣接する2つの層において、界面における反射率は、2つの層の間における屈折率の差によって決まる。そのため、第4層61の屈折率が第3層13の屈折率とは異なることによって、第4層61が反射層である場合と同様の効果が得られる。 Optical element 60 further comprises a fourth layer 61 . The fourth layer 61 may be a reflective layer or a refractive layer. When the fourth layer 61 is a refractive layer, the refractive index of the fourth layer 61 is different from the refractive index of the third layer 13 . By having the refractive index of the fourth layer 61 different from that of the third layer 13, the fourth layer 61 can increase the reflectance on the relief surface 13Re. For two layers adjacent to each other, the reflectance at the interface is determined by the difference in refractive index between the two layers. Therefore, since the refractive index of the fourth layer 61 is different from that of the third layer 13, the same effect as when the fourth layer 61 is a reflective layer can be obtained.

上述したように、光学素子60は、第2層12に対して第3層13とは反対側から観察される。そのため、第4層61は、光透過性を有してもよいし、光透過性を有しなくてもよい。第4層61は、単一の層から構成されてもよいし、複数の層から構成されてもよい。第4層61が屈折層であり、かつ、複数の層から構成される場合には、第4層61は、相対的に屈折率の低い層と、相対的に屈折率の高い層とを備えることができる。 As described above, the optical element 60 is viewed from the side opposite to the third layer 13 with respect to the second layer 12 . Therefore, the fourth layer 61 may or may not have optical transparency. The fourth layer 61 may be composed of a single layer, or may be composed of a plurality of layers. When the fourth layer 61 is a refractive layer and is composed of a plurality of layers, the fourth layer 61 includes a layer with a relatively low refractive index and a layer with a relatively high refractive index. be able to.

レリーフ面13Reは、上述したように複数の反射面を含んでいる。レリーフ面13Reは、散乱および反射の少なくとも一方によって、白色光によって形成される反射像を表示する。レリーフ面13Reは、上述したように複数の反射面を含み、複数の反射面は、レリーフ面13Re内において所定の規則で並んでもよいし、不規則に並んでもよい。レリーフ面13Reでは、各反射面の向きや角度によって、レリーフ面13Reが射出する光の射出方向を制御することができる。 The relief surface 13Re includes a plurality of reflecting surfaces as described above. The relief surface 13Re displays a reflected image formed by white light by at least one of scattering and reflection. The relief surface 13Re includes a plurality of reflecting surfaces as described above, and the plurality of reflecting surfaces may be arranged according to a predetermined rule within the relief surface 13Re, or may be arranged irregularly. In the relief surface 13Re, the direction of light emitted from the relief surface 13Re can be controlled by the orientation and angle of each reflecting surface.

格子構造11Gは、上述した正反射方向を含む射出方向の範囲に光を射出する。格子構造11Gが射出する光のなかで、正反射方向に射出される光の強度が最も大きい。これに対して、レリーフ面13Reは、正反射方向とは異なる方向を含む射出方向の範囲に光を射出する。レリーフ面13Reが射出する光のなかで、正反射方向とは異なる方向に射出される光の強度が最も大きい。言い換えれば、レリーフ面13Reでは、レリーフ面13Reが射出する光のなかで、正反射方向とは異なる方向に射出される光の強度が最も大きくなるように、反射面の向きや角度が設定されている。 The grating structure 11G emits light in a range of emission directions including the specular reflection direction described above. Among the lights emitted by the grating structure 11G, the intensity of the light emitted in the specular reflection direction is the highest. On the other hand, the relief surface 13Re emits light in a range of emission directions including directions different from the regular reflection direction. Among the light emitted from the relief surface 13Re, the intensity of the light emitted in a direction different from the regular reflection direction is the highest. In other words, the direction and angle of the reflective surface of the relief surface 13Re are set so that the intensity of light emitted in a direction different from the regular reflection direction among the light emitted from the relief surface 13Re is maximized. there is

レリーフ面13Reにおいて、反射面の周期は400nmよりも大きく1000nm以下であってもよいし、1000nmよりも大きくてもよい。レリーフ面13Reが回折光を射出することを抑える上では、反射面の周期は1000nmよりも大きいことが好まし
い。レリーフ面13Reにおいて、例えば、反射面が延びる方向と直交する断面における形状は、鋸歯状でもよい。
In the relief surface 13Re, the period of the reflective surface may be greater than 400 nm and less than or equal to 1000 nm, or may be greater than 1000 nm. In order to prevent the relief surface 13Re from emitting diffracted light, the period of the reflecting surface is preferably larger than 1000 nm. The relief surface 13Re may have, for example, a sawtooth shape in a cross section orthogonal to the direction in which the reflecting surface extends.

格子構造11Gが表示する有色像とは、可視光の波長に含まれる特定の波長の光によって形成される像である。有色像には、例えば、赤色の像、緑色の像、および、青色の像などの有彩色の像が含まれる。格子構造11Gが赤色の像を表示する場合、格子構造11Gが射出する光には、例えば、620nm以上750nm以下の波長の光が含まれる。格子構造11Gが緑色の像を表示する場合、格子構造11Gが射出する光には、例えば、495nm以上570nm以下の波長の光が含まれる。格子構造11Gが青色の像を表示する場合、格子構造11Gが射出する光には、例えば、450nm以上495nm以下の波長の光が含まれる。なお、格子構造11Gが有色像を表示するとは、格子構造11Gが、有彩色を呈することと同義である。 A colored image displayed by the grating structure 11G is an image formed by light of a specific wavelength included in the wavelengths of visible light. Color images include, for example, chromatic images such as red images, green images, and blue images. When the grating structure 11G displays a red image, the light emitted by the grating structure 11G includes, for example, light with a wavelength of 620 nm or more and 750 nm or less. When the grating structure 11G displays a green image, the light emitted by the grating structure 11G includes, for example, light with a wavelength of 495 nm or more and 570 nm or less. When the grating structure 11G displays a blue image, the light emitted by the grating structure 11G includes, for example, light with a wavelength of 450 nm or more and 495 nm or less. It should be noted that the lattice structure 11G displaying a colored image is synonymous with the lattice structure 11G presenting a chromatic color.

レリーフ面13Reが表示する反射像とは、レリーフ面13Reでの反射あるいは散乱によって生じる白色光によって形成される像である。言い換えれば、レリーフ面13Reが表示する反射像は無彩色の像であり、色相を有しない像である。レリーフ面13Reは、各位置から射出される白色光の強度が互いに異なるように構成されてもよい。これにより、レリーフ面13Reは、白色光の強度の差によって、言い換えれば明度の差によって、特定の画像を表示することができる。なお、レリーフ面13Reが反射像を表示するとは、レリーフ面13Reが、無彩色を呈することと同義である。 The reflected image displayed by the relief surface 13Re is an image formed by white light caused by reflection or scattering on the relief surface 13Re. In other words, the reflected image displayed by the relief surface 13Re is an achromatic image with no hue. The relief surface 13Re may be configured such that the intensity of white light emitted from each position is different from each other. Thereby, the relief surface 13Re can display a specific image by the difference in intensity of white light, in other words, by the difference in brightness. It should be noted that the fact that the relief surface 13Re displays a reflected image is synonymous with the fact that the relief surface 13Re presents an achromatic color.

[光学素子の作用]
図45から図49を参照して、光学素子60の作用を説明する。
図45が示すように、光源LSが放出した入射光ILが光学素子60に入射する角度が入射角αであり、光学素子60が射出する射出光ELが射出される角度が射出角βである。観察者OBの視線方向を含む平面と、光学素子60が広がる平面とが形成する角度が、観察角度θOBである。上述した正反射方向とは、入射角αと同一の大きさを有した射出角βで、射出光ELが射出される方向である。光学素子60において、格子構造11Gは、正反射方向を含む反射方向に有色像を表示する一方で、レリーフ面13Reは、正反射方向とは異なる方向を含む反射方向に白色光による反射像を表示する。光学素子60は、観察角度θOBに応じて、以下の4つの状態のいずれかを有する。
[Action of optical element]
The action of the optical element 60 will be described with reference to FIGS. 45 to 49. FIG.
As shown in FIG. 45, the angle at which the incident light IL emitted by the light source LS is incident on the optical element 60 is the incident angle α, and the angle at which the emitted light EL emitted from the optical element 60 is emitted is the exit angle β. . The angle formed by the plane including the line-of-sight direction of the observer OB and the plane in which the optical element 60 extends is the observation angle θOB. The specular reflection direction mentioned above is the direction in which the emitted light EL is emitted at the exit angle β having the same magnitude as the incident angle α. In the optical element 60, the grating structure 11G displays a colored image in the reflection direction including the specular direction, while the relief surface 13Re displays a white light reflected image in the reflection direction including the direction different from the specular direction. do. The optical element 60 has one of the following four states according to the observation angle θOB.

なお、本実施形態では、格子構造11Gが表示する有色像が月形状を有し、レリーフ面13Reが表示する反射像が星形状を有する例を説明する。ただし、格子構造11Gが表示する有色像の形状、および、レリーフ面13Reが表示する反射像の形状は、任意の形状とすることが可能である。また、格子構造11Gが表示する像が第1像であり、レリーフ面13Reが表示する像が第2像である。 In this embodiment, an example in which the colored image displayed by the grating structure 11G has a moon shape and the reflected image displayed by the relief surface 13Re has a star shape will be described. However, the shape of the colored image displayed by the grating structure 11G and the shape of the reflected image displayed by the relief surface 13Re can be arbitrary. The image displayed by the grating structure 11G is the first image, and the image displayed by the relief surface 13Re is the second image.

図46は、光学素子60の第1状態を示している。
図20が示すように、光学素子60の第1状態では、光学素子60において、第1像P1および第2像P2の両方が消失する。第1状態において、第1像P1を形成するための光における輝度、および、第2像P2を形成するための光における輝度が、観察者OBによって第1像P1および第2像P2が識別されない程度に低い。言い換えれば、観察者OBが光学素子60を観察する観察角度θOBでは、格子構造11Gが反射した光、および、レリーフ面13Reが反射した光の輝度は、いずれも光学素子60が貼られた媒体の反射光と比べて低いため、観察者OBによって第1像P1および第2像P2が識別されない。
46 shows the first state of the optical element 60. FIG.
As shown in FIG. 20 , in the first state of the optical element 60 , both the first image P1 and the second image P2 disappear in the optical element 60 . In the first state, the brightness of the light for forming the first image P1 and the brightness of the light for forming the second image P2 are such that the observer OB cannot distinguish between the first image P1 and the second image P2. moderately low. In other words, at the observation angle θOB at which the observer OB observes the optical element 60, the brightness of the light reflected by the grating structure 11G and the light reflected by the relief surface 13Re both correspond to the brightness of the medium on which the optical element 60 is attached. Since it is low compared to the reflected light, the first image P1 and the second image P2 are not discernible by the observer OB.

図47は、光学素子60の第2状態を示している。
図47が示すように、光学素子60の第2状態では、光学素子60において、第1像P
1が出現し、第2像P2は消失する。第1像P1が出現するとは、第1像P1における光の輝度が、第2像P2における光の輝度よりも高い状態で、光学素子60が、第1像P1を表示することである。そのため、第2状態には、第1像P1が識別される一方で、第2像P2は識別されない状態が含まれる。また、第2状態には、光学素子60において第1像P1および第2像P2が出現し、かつ、第1像P1における光の輝度が、第2像P2における光の輝度よりも高い状態が含まれる。
47 shows the second state of the optical element 60. FIG.
As shown in FIG. 47, in the second state of the optical element 60, the first image P
1 appears and the second image P2 disappears. Appearance of the first image P1 means that the optical element 60 displays the first image P1 in a state where the brightness of the light in the first image P1 is higher than the brightness of the light in the second image P2. Therefore, the second state includes a state in which the first image P1 is identified while the second image P2 is not identified. In the second state, the first image P1 and the second image P2 appear on the optical element 60, and the brightness of the light in the first image P1 is higher than the brightness of the light in the second image P2. included.

言い換えれば、観察者OBが光学素子60を観察する観察角度θOBでは、サブ波長格子11Gが反射した光を観察者が知覚しやすい一方で、レリーフ面13Reが反射した光を観察者が知覚しにくい。 In other words, at the observation angle θOB at which the observer OB observes the optical element 60, the observer easily perceives the light reflected by the sub-wavelength grating 11G, but the observer hardly perceives the light reflected by the relief surface 13Re. .

図48は、光学素子60の第3状態を示している。
図48が示すように、光学素子60の第3状態では、光学素子60において、第2像P2が出現する。第2像P2が出現するとは、第2像P2における光の輝度が、第1像P1における光の輝度よりも高く、光学素子60が、少なくとも第2像P2を表示することである。そのため、第3状態には、第2像P2が識別される一方で、第1像P1が識別されない状態が含まれる。また、第3状態には、光学素子60が第2像P2および第1像P1を表示し、かつ、第2像P2における光の輝度が、第1像P1における光の輝度よりも高い状態が含まれる。
48 shows the third state of the optical element 60. FIG.
As shown in FIG. 48 , in the third state of the optical element 60 , the second image P2 appears on the optical element 60 . Appearance of the second image P2 means that the brightness of the light in the second image P2 is higher than the brightness of the light in the first image P1, and the optical element 60 displays at least the second image P2. Therefore, the third state includes a state in which the second image P2 is identified while the first image P1 is not identified. In the third state, the optical element 60 displays the second image P2 and the first image P1, and the brightness of the light in the second image P2 is higher than the brightness of the light in the first image P1. included.

言い換えれば、観察者OBが光学素子60を観察する観察角度θOBでは、レリーフ面13Reが反射した光の輝度は観察者が像を識別できる程度であり、格子構造11Gが反射した光の輝度は観察者が識別できる程度ではない。 In other words, at the observation angle θOB at which the observer OB observes the optical element 60, the luminance of the light reflected by the relief surface 13Re is such that the observer can identify the image, and the luminance of the light reflected by the grating structure 11G is such that the observer can distinguish the image. not to the extent that a person can identify it.

図49は、光学素子60の第4状態を示している。
図49が示すように、光学素子60の第4状態では、光学素子60において、第1像P1および第2像P2の両方が出現する。第1像P1および第2像P2の両方が出現するとは、光学素子60が第1像P1および第2像P2の両方が観察者に識別される。この状態では、第1像P1における光の輝度が、第2像P2における光の輝度とほぼ等しくてもよい。言い換えれば、観察者OBが光学素子50を観察する観察角度θOBでは、サブ波長格子11Gが反射した光と、レリーフ面13Reが反射した光の強度は、観察者OBが識別できる程度である。なお、光学素子60は第1状態から第3状態を有していればよい。なお、光学素子60において、第4状態は必須ではない。
49 shows the fourth state of the optical element 60. FIG.
As shown in FIG. 49 , in the fourth state of the optical element 60 , both the first image P1 and the second image P2 appear on the optical element 60 . When both the first image P1 and the second image P2 appear, the optical element 60 makes both the first image P1 and the second image P2 visible to the observer. In this state, the brightness of the light in the first image P1 may be substantially equal to the brightness of the light in the second image P2. In other words, at the observation angle θOB at which the observer OB observes the optical element 50, the intensity of the light reflected by the sub-wavelength grating 11G and the light reflected by the relief surface 13Re is such that the observer OB can distinguish between them. In addition, the optical element 60 only needs to have the first state to the third state. In addition, in the optical element 60, the fourth state is not essential.

このように、光学素子60は、白色の反射光によって形成される反射像、すなわち無彩色の像と、特定の波長を有した光によって形成される有色像、すなわち有彩色の像とを表示する。ここで、無彩色の像と有彩色の像との判別は、無彩色の第1像と無彩色の第2像とを判別したり、有彩色の第1像と有彩色の第2像とを判別したりする場合に比べて、2つの像の判別に個人差が生じにくい。それゆえに、光学素子60では、2つの有彩色の像、または、2つの無彩色の像に基づいて、光学素子60の真贋を判定させる場合と比べて、真贋の判定に個人差が生じにくく、また、真贋を判定する基準が明文化されやすい。 In this way, the optical element 60 displays a reflected image formed by reflected white light, that is, an achromatic image, and a colored image formed by light having a specific wavelength, that is, a chromatic image. . Here, discrimination between an achromatic image and a chromatic image is performed by discriminating between an achromatic first image and an achromatic second image, or by discriminating between a chromatic first image and a chromatic second image. Individual differences are less likely to occur in discrimination between the two images than in the case of discriminating . Therefore, in the optical element 60, compared to the case of determining the authenticity of the optical element 60 based on two chromatic images or two achromatic images, individual differences in authenticity determination are less likely to occur. In addition, the criteria for judging authenticity are likely to be clearly stated.

また、光学素子60は、第1像P1が主として表示される第2状態と、第2像P2が主として表示される第3状態と、第1像P1と第2像P2との両方が表示されない第1状態とを含む。ここで、第2状態あるいは第3状態と第1状態とは、互いに対照的な状態であるため、第2状態あるいは第3状態と第4状態との判別に個人差が生じにくい。それゆえに、真贋の判定に個人差が生じにくく、また、真贋を判定する基準が明文化されやすい。 The optical element 60 has a second state in which the first image P1 is mainly displayed, a third state in which the second image P2 is mainly displayed, and neither the first image P1 nor the second image P2 is displayed. and a first state. Here, since the second or third state and the first state are mutually contrasting states, it is difficult for individual differences to occur in discrimination between the second or third state and the fourth state. Therefore, it is difficult for individual differences to occur in judgment of authenticity, and the criteria for judging authenticity are easily stipulated.

[第2例]
図50を参照して、光学素子60の第2例を説明する。
図50が示すように、第2例の光学素子60は、第1例の光学素子60と同様、第1層11、第2層12、および、第3層13を備えている。一方で、第2例の光学素子60では、第2層12がレリーフ層である。第2層12は、第2層12の表面12Fとは反対側の面、すなわち裏面12Rとしてレリーフ面12Reを含んでいる。なお、図50では、裏面12Rの全体にレリーフ面12Reが位置しているが、レリーフ面12Reは、裏面12Rの全体に位置してもよいし、裏面12Rの一部のみに位置してもよい。
[Second example]
A second example of the optical element 60 will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 50, the optical element 60 of the second example includes a first layer 11, a second layer 12 and a third layer 13, like the optical element 60 of the first example. On the other hand, in the optical element 60 of the second example, the second layer 12 is a relief layer. The second layer 12 includes a relief surface 12Re as a surface opposite to the surface 12F of the second layer 12, ie, a back surface 12R. In FIG. 50, the relief surface 12Re is positioned over the entire back surface 12R, but the relief surface 12Re may be positioned over the entire back surface 12R or only part of the back surface 12R. .

第2例の光学素子60では、第1層11の屈折率と第2層12の屈折率との差によって、格子構造11Gにより反射された光による有色像を表示することができる。また、第2例の光学素子60では、第2層12の屈折率と第3層13の屈折率との差によって、レリーフ面12Reにより反射された光による反射像を表示することができる。 In the optical element 60 of the second example, the difference between the refractive index of the first layer 11 and the refractive index of the second layer 12 makes it possible to display a colored image by the light reflected by the grating structure 11G. Further, in the optical element 60 of the second example, the difference between the refractive index of the second layer 12 and the refractive index of the third layer 13 allows the reflected image of the light reflected by the relief surface 12Re to be displayed.

なお、第2例の光学素子60において、第3層13における第2層12に接する面とは反対側の面は平坦面であってもよいし、第2層12のレリーフ面12Reにおける凹凸に追従する形状を有してもよい。 In the optical element 60 of the second example, the surface of the third layer 13 opposite to the surface in contact with the second layer 12 may be a flat surface, or the unevenness of the relief surface 12Re of the second layer 12 may be It may have a conforming shape.

以上説明したように、光学素子の第6実施形態によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
(6)光学素子50が有色像と、白色光による反射像とを表示するため、2つの像の判別に個人差が生じにくい。それゆえに、光学素子50では、真贋の判定に個人差が生じにくく、また、真贋を判定する基準が明文化されやすい。
As described above, according to the sixth embodiment of the optical element, the effects described below can be obtained.
(6) Since the optical element 50 displays a colored image and a reflected image by white light, it is difficult for individuals to distinguish between the two images. Therefore, with the optical element 50, individual differences are less likely to occur in judgment of authenticity, and the criteria for judging authenticity are easily stipulated.

(7)第2層12が格子構造11Gとレリーフ面12Reとを含むため、第1層11の屈折率と第2層12との屈折率との差により格子構造11Gでの反射率を高め、かつ、第2層12の屈折率と第3層13の屈折率との差によりレリーフ面12Reでの反射率を高めることができる。 (7) Since the second layer 12 includes the grating structure 11G and the relief surface 12Re, the difference between the refractive index of the first layer 11 and the refractive index of the second layer 12 increases the reflectance of the grating structure 11G, Moreover, the difference between the refractive index of the second layer 12 and the refractive index of the third layer 13 can increase the reflectance on the relief surface 12Re.

[第6実施形態の変形例]
なお、上述した第6実施形態は、以下のように適宜変更して実施することができる。
[Modified example of the sixth embodiment]
In addition, the sixth embodiment described above can be implemented with appropriate changes as follows.

[レリーフ層]
・光学素子50において、第1層11がレリーフ層であってもよい。すなわち、第1層11のなかで、格子構造11Gを含む面とは反対側の面が、レリーフ面を含んでもよい。こうした場合にも、上述した(6)に準じた効果を得ることができる。
[Relief layer]
- In the optical element 50, the first layer 11 may be a relief layer. That is, the surface of the first layer 11 opposite to the surface containing the grating structure 11G may contain a relief surface. Even in such a case, the effect according to (6) described above can be obtained.

・第2例の光学素子60において、第3層13のなかでレリーフ面12Reに接する面である表面は、レリーフ面12Reに追従する形状を有している。そのため、第3層13の表面もレリーフ面として機能することができる。 - In the optical element 60 of the second example, the surface of the third layer 13 that is in contact with the relief surface 12Re has a shape that follows the relief surface 12Re. Therefore, the surface of the third layer 13 can also function as a relief surface.

[第7実施形態]
図51から図54を参照して、光学素子の第7実施形態を説明する。本発明の第7実施形態の光学素子は、第6実施形態の光学素子60と比べて、第1層11、第2層12、および、第3層13以外の層がレリーフ層である点が異なる。そのため以下では、こうした相違点を詳しく説明する一方で、第7実施形態の光学素子において、第6実施形態の光学素子60と対応する構成には、第6実施形態と同じ符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。また以下では、第7実施形態の光学素子として4つの例を順に説明する。
[Seventh Embodiment]
A seventh embodiment of the optical element will be described with reference to FIGS. The optical element of the seventh embodiment of the present invention differs from the optical element 60 of the sixth embodiment in that layers other than the first layer 11, the second layer 12, and the third layer 13 are relief layers. different. Therefore, hereinafter, while such differences will be described in detail, in the optical element of the seventh embodiment, the configurations corresponding to the optical element 60 of the sixth embodiment are denoted by the same reference numerals as in the sixth embodiment. A detailed description thereof is omitted. Four examples of the optical element of the seventh embodiment will be described below in order.

[第1例]
図51を参照して、第1例の光学素子を説明する。
図51が示すように、光学素子70は、第1層11、第2層12、および、第3層13を備えている。光学素子70は、レリーフ面71Reを含むレリーフ層71をさらに備えている。レリーフ面71Reは、上述した裏面11Rおよび表面12Fとは異なる面である。レリーフ面71Reは複数の反射面を含み、互いに隣り合う反射面間のピッチが、格子構造11Gのピッチよりも大きい。レリーフ面71Reは、レリーフ層71の裏面71Rに含まれる。
[First example]
The optical element of the first example will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 51, the optical element 70 comprises a first layer 11, a second layer 12 and a third layer 13. As shown in FIG. The optical element 70 further comprises a relief layer 71 including a relief surface 71Re. The relief surface 71Re is a surface different from the back surface 11R and the front surface 12F described above. The relief surface 71Re includes a plurality of reflective surfaces, and the pitch between adjacent reflective surfaces is larger than the pitch of the grating structure 11G. The relief surface 71Re is included in the back surface 71R of the relief layer 71 .

光学素子70は、反射層72と、接着層73とをさらに備えている。反射層72は、レリーフ面71Reに接し、かつ、レリーフ面71Reの凹凸に追従する形状を有している。接着層73は、反射層72に対してレリーフ層71とは反対側において反射層72に接している。光学素子70において、第3層13が接着層として機能している。これにより、第1層11および第2層12から構成される多層体が、第3層13によってレリーフ層71に貼り付けられている。そのため、光学素子70では、光学素子70の厚さ方向から見て、格子構造11Gとレリーフ面71Reとが重なっている。 The optical element 70 further includes a reflective layer 72 and an adhesive layer 73 . The reflective layer 72 is in contact with the relief surface 71Re and has a shape that follows the unevenness of the relief surface 71Re. The adhesive layer 73 is in contact with the reflective layer 72 on the side opposite to the relief layer 71 with respect to the reflective layer 72 . In the optical element 70, the third layer 13 functions as an adhesive layer. As a result, the multilayer body composed of the first layer 11 and the second layer 12 is attached to the relief layer 71 by the third layer 13 . Therefore, in the optical element 70, the grating structure 11G and the relief surface 71Re overlap when viewed from the thickness direction of the optical element .

接着層73は、反射層72においてレリーフ層71に接する面とは反対側の面の全体に位置してもよいし、一部に位置してもよい。
第1例の光学素子70によれば、第1層11、第2層12、および、第3層13から形成される第1多層体と、レリーフ層71、反射層72、および、接着層73から形成される第2多層体とを個別に製造することができる。また、第1例の光学素子70によれば、接着層73を用いて光学素子70を被接着体に貼り付けることができる。
The adhesive layer 73 may be positioned on the entire surface of the reflective layer 72 opposite to the surface in contact with the relief layer 71, or may be positioned partially.
According to the optical element 70 of the first example, the first multilayer body formed from the first layer 11, the second layer 12 and the third layer 13, the relief layer 71, the reflective layer 72 and the adhesive layer 73 A second multi-layer body formed from can be manufactured separately. Further, according to the optical element 70 of the first example, the optical element 70 can be attached to the adherend using the adhesive layer 73 .

[第2例]
図52を参照して、第2例の光学素子を説明する。
図52が示すように、光学素子70は、上述した第1例の光学素子70と同様、第1層11、第2層12、および、第3層13に加えて、レリーフ層71、反射層72、および、接着層73を備えている。第2例の光学素子70は、さらに、第3層13とレリーフ層71との間に基材74を備えている。基材74において互いに隣り合う一対の面では、第3層13が一方の面に位置し、レリーフ層71が他方の面に位置している。基材74は光透過性を有している。基材74は、光学素子70の製造時に、基材74に対して形成される第1層11およびレリーフ層71の支持層として機能することができる。第2例の光学素子70は、レリーフ層71に対して基材74側から観察される。
[Second example]
The optical element of the second example will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 52, the optical element 70 includes the first layer 11, the second layer 12, and the third layer 13, as well as the relief layer 71 and the reflective layer 70, similarly to the optical element 70 of the first example described above. 72 and an adhesive layer 73 . The optical element 70 of the second example further comprises a substrate 74 between the third layer 13 and the relief layer 71 . Of the pair of surfaces of the substrate 74 that are adjacent to each other, the third layer 13 is located on one surface and the relief layer 71 is located on the other surface. The base material 74 has optical transparency. The base material 74 can function as a support layer for the first layer 11 and the relief layer 71 formed on the base material 74 when the optical element 70 is manufactured. The optical element 70 of the second example is observed from the substrate 74 side with respect to the relief layer 71 .

[第3例]
図53を参照して、第3例の光学素子を説明する。
図53が示すように、光学素子70では、上述した第1例の光学素子70と同様、第1層11、第2層12、および、第3層13に加えて、レリーフ層71、反射層72、および、接着層73を備えている。第3例の光学素子70は、さらに、第1基材75と第2基材76とを備えている。第1基材75は、第3層13とレリーフ層71との間に位置している。第3層13は接着層として機能し、これにより、第1層11および第2層12から構成される多層体が第3層13によって第1基材75に接着されている。接着層73は、第2基材76に接着されている。第1基材75は、光透過性を有する。一方で、第2基材76は、光透過性を有してもよいし、光透過性を有しなくてもよい。
[Third example]
The optical element of the third example will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 53, in the optical element 70, in addition to the first layer 11, the second layer 12, and the third layer 13, the relief layer 71 and the reflective layer are provided, as in the optical element 70 of the first example described above. 72 and an adhesive layer 73 . The optical element 70 of the third example further includes a first base material 75 and a second base material 76 . A first substrate 75 is located between the third layer 13 and the relief layer 71 . The third layer 13 functions as an adhesive layer, whereby the multi-layer body composed of the first layer 11 and the second layer 12 is adhered to the first substrate 75 by the third layer 13 . The adhesive layer 73 is adhered to the second base material 76 . The first base material 75 has optical transparency. On the other hand, the second base material 76 may or may not have optical transparency.

第1層11、第2層12、および、第3層13から構成される第1多層体は、サブ波長格子11Gと対向する平面視において、第1基材75の一部に位置している。レリーフ層71、反射層72、および、接着層73を備える第2多層体は、レリーフ面71Reと対向する平面視において、第2基材76の一部に位置している。光学素子70の厚さ方向から見て、第1層11はレリーフ層71に重なっている。 A first multilayer body composed of the first layer 11, the second layer 12, and the third layer 13 is located on a part of the first base material 75 in plan view facing the sub-wavelength grating 11G. . A second multilayer body including the relief layer 71, the reflective layer 72, and the adhesive layer 73 is positioned on a portion of the second base material 76 in plan view facing the relief surface 71Re. The first layer 11 overlaps the relief layer 71 when viewed from the thickness direction of the optical element 70 .

[第4例]
図54を参照して、第4例の光学素子を説明する。
図54が示すように、光学素子70は、第1例の光学素子70と同様、第1層11、第2層12、および、第3層13に加えて、レリーフ層71、反射層72、および、接着層73を備えている。光学素子70は、さらに、第1基材75、および、第2基材76を備えている。第3層13は接着層として機能し、第3層13はレリーフ層71に接着している。接着層73は、第2基材76に接着している。
[Fourth example]
The optical element of the fourth example will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 54, the optical element 70 includes, in addition to the first layer 11, the second layer 12 and the third layer 13, a relief layer 71, a reflective layer 72, a and an adhesive layer 73 . Optical element 70 further comprises a first substrate 75 and a second substrate 76 . The third layer 13 functions as an adhesive layer and adheres to the relief layer 71 . The adhesive layer 73 adheres to the second base material 76 .

上述した第1多層体は、格子構造11Gと対応する平面視において、第1基材75の一部に位置している。第2多層体は、レリーフ面71Reと対向する平面視において、第2基材76の一部に位置している。光学素子70の厚さ方向から見て、第1層11はレリーフ層71に重なっている。 The above-described first multilayer body is positioned on a portion of the first base material 75 in plan view corresponding to the grid structure 11G. The second multilayer body is positioned on a portion of the second base material 76 in plan view facing the relief surface 71Re. The first layer 11 overlaps the relief layer 71 when viewed from the thickness direction of the optical element 70 .

光学素子70は、接着層73に対して反射層72側から観察される。そのため、第1基材75は、光透過性を有する。一方で、第2基材76は、光透過性を有してもよいし、光透過性を有しなくてもよい。 The optical element 70 is observed from the reflective layer 72 side with respect to the adhesive layer 73 . Therefore, the first base material 75 has optical transparency. On the other hand, the second base material 76 may or may not have optical transparency.

なお、光学素子70の第1例から第3例において、各基材には、紙およびプラスチックフィルムなどを用いることができる。各基材には印刷が施されていてもよい。または、各基材は多層体であり、基材を構成する複数の層において、少なくとも一部の層に印刷が施されてもよい。 In addition, in the first to third examples of the optical element 70, paper, plastic film, or the like can be used for each base material. Each substrate may be printed. Alternatively, each base material may be a multi-layer body, and printing may be applied to at least some of the layers constituting the base material.

以上説明したように、第7実施形態の光学素子によれば、上述した(6)に加えて、以下に記載の効果を得ることができる。
(8)第1層11、第2層12、および、第3層13以外の層がレリーフ面を備えるレリーフ層であるため、レリーフ層における設計の自由度が高まる。
As described above, according to the optical element of the seventh embodiment, in addition to the above (6), the following effects can be obtained.
(8) Since the layers other than the first layer 11, the second layer 12, and the third layer 13 are relief layers having relief surfaces, the degree of freedom in designing the relief layers is increased.

[第7実施形態の変形例]
なお、上述した第7実施形態は、以下のように適宜変更して実施することができる。
[Modification of the seventh embodiment]
In addition, the above-described seventh embodiment can be implemented with appropriate modifications as follows.

[基材]
・第1例から第3例の光学素子70において、格子構造11Gと対向する平面視において、各基材は、第1多層体および第2多層体の少なくとも一方よりも小さくてもよい。
[Base material]
- In the optical element 70 of the first to third examples, each substrate may be smaller than at least one of the first multilayer body and the second multilayer body in plan view facing the grating structure 11G.

・第1層11を含む第1多層体、および、レリーフ層71を含む第2多層体は、2つの基材の間に内包されてもよい。言い換えれば、第1多層体および第2多層体の各々は、2つの基材によって挟まれた状態で、ラミネートされてもよい。 • A first multilayer body comprising the first layer 11 and a second multilayer body comprising the relief layer 71 may be encapsulated between two substrates. In other words, each of the first multilayer body and the second multilayer body may be laminated while sandwiched between two substrates.

・各基材は、レーザー光線の照射によって発色するレーザー発色層であってもよい。そして、第1例における基材74は、レーザー光線の照射によって基材74に記録された情報を含んでもよい。 - Each base material may be a laser coloring layer that develops color when irradiated with a laser beam. The base material 74 in the first example may include information recorded on the base material 74 by irradiation with a laser beam.

また、第2例の光学素子70において、第1基材75および第2基材76の少なくとも一方が、レーザー光線の照射によって記録された情報を含むことができる。第1基材75が情報を含む場合には、光学素子70の厚さ方向から見て、レリーフ面71Reが表示する第2像と、第1基材75が含む情報とを重ねることによって、第2像の一部のみが視認される。これにより、光学素子70において、偽造に対する耐性が高まる。これに対して、第2基材76が情報を含む場合には、光学素子70の厚さ方向から見て、格子構造11Gが表示する第1像の全体と、レリーフ面が表示する第2像の全体とが視認される。 Further, in the optical element 70 of the second example, at least one of the first substrate 75 and the second substrate 76 can contain information recorded by irradiation with a laser beam. When the first base material 75 contains information, by superimposing the second image displayed by the relief surface 71Re and the information contained in the first base material 75 when viewed from the thickness direction of the optical element 70, the Only part of the two images are visible. This increases the resistance to forgery in the optical element 70 . On the other hand, when the second base material 76 contains information, when viewed from the thickness direction of the optical element 70, the entire first image displayed by the lattice structure 11G and the second image displayed by the relief surface can be seen in its entirety.

第3例の光学素子70において、第1基材75が情報を含む場合には、光学素子70の厚さ方向から見て、格子構造11Gが表示する第1像、および、レリーフ面71Reが表示する第2像と、第1基材75が含む情報とを重ねることによって、第1像の一部、および、第2像の一部のみが視認される。これにより、光学素子70において、偽造に対する耐性が高まる。これに対して、第2基材76が情報を含む場合には、光学素子70の厚さ方向から見て、格子構造11Gが表示する第1像の全体と、レリーフ面が表示する第2像の全体とが視認される。 In the optical element 70 of the third example, when the first base material 75 contains information, the first image displayed by the lattice structure 11G and the relief surface 71Re are displayed when viewed from the thickness direction of the optical element 70. By superimposing the second image and the information contained in the first substrate 75, only a portion of the first image and a portion of the second image are visible. This increases the resistance to forgery in the optical element 70 . On the other hand, when the second base material 76 contains information, when viewed from the thickness direction of the optical element 70, the entire first image displayed by the lattice structure 11G and the second image displayed by the relief surface can be seen in its entirety.

[第8実施形態]
図55を参照して、光学素子を備える転写箔を説明する。本発明の第8実施形態では、転写箔が備える光学素子が、第6実施形態の光学素子60における第1例である場合を、転写箔の一例として説明する。
[Eighth embodiment]
A transfer foil with optical elements will be described with reference to FIG. In the eighth embodiment of the present invention, a case where the optical element included in the transfer foil is the first example of the optical element 60 of the sixth embodiment will be described as an example of the transfer foil.

図55が示すように、転写箔80は、光学素子60と、光学素子60を被転写体に接着させるための接着層81と、を含む接着体を備えている。転写箔80は、さらに、支持層82と剥離層83とを備えている。転写箔80において、支持層82、剥離層83、光学素子60、および、接着層81が、記載の順に積み重なっている。被転写体に転写された後の光学素子60は、剥離層83に対して光学素子60とは反対側から観察される。そのため、剥離層83は光透過性を有する。一方で、光学素子60が転写されるとき、剥離層83は支持層82から剥離されるため、支持層82は光透過性を有してもよいし、光透過性を有しなくてもよい。 As shown in FIG. 55, the transfer foil 80 has an adherent including the optical element 60 and an adhesive layer 81 for adhering the optical element 60 to the object to be transferred. Transfer foil 80 further comprises support layer 82 and release layer 83 . In the transfer foil 80, a support layer 82, a release layer 83, an optical element 60, and an adhesive layer 81 are stacked in the order described. The optical element 60 after being transferred to the transferred body is observed from the side opposite to the optical element 60 with respect to the release layer 83 . Therefore, the release layer 83 has optical transparency. On the other hand, since the release layer 83 is separated from the support layer 82 when the optical element 60 is transferred, the support layer 82 may or may not have optical transparency. .

転写箔70は、格子構造11Gとレリーフ面13Reとを含む。そのため、被転写体には、転写箔80の一部を転写するのみによって、第1像P1と第2像P2とを表示する光学素子50を転写することができる。光学素子60の転写には、例えば、ホットスタンプ方式を用いることができる。 Transfer foil 70 includes grating structure 11G and relief surface 13Re. Therefore, the optical element 50 that displays the first image P1 and the second image P2 can be transferred to the transfer target only by transferring a part of the transfer foil 80 . A hot stamp method, for example, can be used to transfer the optical element 60 .

[第8実施形態の変形例]
[転写箔]
・格子構造11Gを含む第1転写箔と、レリーフ面13Reを含む第2転写箔とを準備し、2つの転写箔を用いて光学素子を形成することが可能である。この場合には、光学素子の厚さ方向から見て、第1転写箔が含む格子構造11Gと、第2転写箔が含むレリーフ面13Reとが重なるように、被転写体に対して第1転写箔の一部と第2転写箔の一部とを転写すればよい。この場合には、光学素子を形成するときに、第1転写箔の一部が転写される位置と、第2転写箔の一部が転写される位置との位置合わせが必要である。そのため、光学素子において、偽造に対する耐性が高められる。
[Modification of the eighth embodiment]
[Transfer foil]
- It is possible to provide a first transfer foil comprising the grating structure 11G and a second transfer foil comprising the relief surface 13Re and to form the optical element using the two transfer foils. In this case, when viewed from the thickness direction of the optical element, the first transfer foil is applied to the object so that the lattice structure 11G included in the first transfer foil overlaps the relief surface 13Re included in the second transfer foil. A portion of the foil and a portion of the second transfer foil may be transferred. In this case, when forming the optical element, it is necessary to align the position where a portion of the first transfer foil is transferred and the position where a portion of the second transfer foil is transferred. Therefore, the optical element is more resistant to counterfeiting.

[光学素子]
・転写箔は、上述した光学素子60に代えて、第1実施形態の光学素子10、第2実施形態の光学素子20、第3実施形態の光学素子30、および、第4実施形態の光学素子40を含んでもよい。また、転写箔は、上述した光学素子60に代えて、第5実施形態における第2例の光学素子60、第6実施形態における第1例および第2例の光学素子70を含んでもよい。
[Optical element]
The transfer foil is the optical element 10 of the first embodiment, the optical element 20 of the second embodiment, the optical element 30 of the third embodiment, and the optical element of the fourth embodiment instead of the optical element 60 described above. 40 may be included. Also, the transfer foil may include the optical element 60 of the second example in the fifth embodiment, and the optical elements 70 of the first and second examples in the sixth embodiment, instead of the optical element 60 described above.

[第9実施形態]
図56から図58を参照して、第9実施形態の光学素子を説明する。本発明の第9実施形態では、第6実施形態と比べて、第6実施形態におけるレリーフ面を、格子構造と同じ面に備える点が異なっている。
図56が示すように、光学素子90において、第1層91は、格子構造11Gおよびレリーフ面11Reを第2層12との界面に備えている。光学素子90では、例えば、格子
構造11Gが形成された格子領域SA1と、レリーフ面11Reが形成されたレリーフ領域SA2とが、交互に配置される。図56では、図示の便宜上、第1層11が格子領域SA1とレリーフ領域SA2とをそれぞれ一つずつ備え、かつ、第1層11の裏面11Rは、格子領域SA1およびレリーフ領域SA2以外の領域を有していない。しかしながら、格子領域SA1およびレリーフ領域SA2の数や配置は、光学素子90が表示する像によって変更される。
[Ninth Embodiment]
The optical element of the ninth embodiment will be described with reference to FIGS. 56 to 58. FIG. The ninth embodiment of the present invention differs from the sixth embodiment in that the relief surface in the sixth embodiment is provided on the same surface as the grating structure.
As shown in FIG. 56, in the optical element 90, the first layer 91 has a lattice structure 11G and a relief surface 11Re at the interface with the second layer 12. As shown in FIG. In the optical element 90, for example, grating areas SA1 in which the grating structure 11G is formed and relief areas SA2 in which the relief surfaces 11Re are formed are alternately arranged. In FIG. 56, for convenience of illustration, the first layer 11 has one lattice area SA1 and one relief area SA2, and the back surface 11R of the first layer 11 has an area other than the lattice area SA1 and the relief area SA2. do not have However, the number and arrangement of grating areas SA1 and relief areas SA2 are changed according to the image displayed by optical element 90. FIG.

上述したレリーフ面71Reと同様、レリーフ面11Reは、複数の反射面を含む。各反射面を含む構造における幅は、格子構造11Gの幅よりも大きくてもよいし、各反射面を含む構造の高さは、格子構造11Gの高さよりも高くてもよい。あるいは、反射面を含む構造の幅は格子構造11Gの幅と同等であってもよく、また、反射面を含む構造の高さは格子構造11Gの高さと同等であってもよい。ただし、レリーフ面11Reによって表示される色は無彩色を主とし、かつ、レリーフ面11Reは、格子構造11Gによって有色像が表示される観察角度とは異なる観察角度に像を表示する。
上述したように、レリーフ面11Reにおいて、反射面が延びる方向と直交する断面における形状は、例えば鋸歯状でもよい。反射面を含む構造が、レリーフ面11Reにおいて回折光が発生しない程度に大きい場合には、レリーフ面11Reにおいて、互いに隣り合う反射面のピッチが略一定であってよく、これによって、レリーフ面11Reが特定の方向に白色光を反射することができる。一方で、反射面を含む構造が、レリーフ面11Reにおいて回折光が発生する程度に小さい場合には、例えば、レリーフ面11Re内に、互いに異なる大きさを有した構造を混在させ、これによって、各大きさの構造に起因する回折光を混合することによって、光学素子90に白色を表示させてもよい。
Similar to the relief surface 71Re described above, the relief surface 11Re includes a plurality of reflective surfaces. The width of the structure containing each reflective surface may be greater than the width of the grating structure 11G, and the height of the structure containing each reflective surface may be greater than the height of the grating structure 11G. Alternatively, the width of the structure containing the reflective surface may be equal to the width of the grating structure 11G, and the height of the structure containing the reflective surface may be equal to the height of the grating structure 11G. However, the colors displayed by the relief surface 11Re are mainly achromatic colors, and the relief surface 11Re displays an image at an observation angle different from the observation angle at which a colored image is displayed by the grating structure 11G.
As described above, the relief surface 11Re may have, for example, a sawtooth shape in a cross section perpendicular to the direction in which the reflecting surface extends. If the structure including the reflective surface is large enough to prevent the occurrence of diffracted light on the relief surface 11Re, the pitch between the adjacent reflective surfaces on the relief surface 11Re may be substantially constant. White light can be reflected in a specific direction. On the other hand, when the structure including the reflective surface is small enough to generate diffracted light on the relief surface 11Re, for example, structures having different sizes are mixed within the relief surface 11Re, thereby Mixing the diffracted light due to the structure of the scale may cause the optical element 90 to display white.

図57(a)は、光学素子90が格子構造11Gによって表示する第1像P1の一例を示し、図57(b)は、光学素子90がレリーフ面11Reによって表示する第2像P2の一例を示している。なお、図57は、光学素子90が適用されたIDカード90Cのへ面構造を、IDカード90Cが有する第3像P3とともに示している。なお、第3像P3は、IDカード120の所有者を識別する個人識別情報を含んでいる。第3像P3は、例えば、所有者の顔写真画像、および、氏名、ID番号などの個人識別情報を含んでいる。
図57(a)が示すように、光学素子90は、第1像P1としてユーロを意味する記号を表示することが可能である。図57(b)が示すように、光学素子90は、第2像P2としてユーロを意味する文字列(EURO)を表示することが可能である。光学素子90は、領域Aにおいて、第1像P1の一部と第2像P2の一部とを表示することが可能である。すなわち、領域Aには、第1像P1を表示するための格子構造11Gの一部と、第2像P2を表示するためのレリーフ面11Reの一部とが位置している。
図58が示すように、領域Aでは、格子構造11Gが位置するセルと、レリーフ面11Reを形成する反射面を含む構造が位置するセルとが配置されている。
図58(a)が示すように、セルPxとセルPxrとは市松状に配置されてもよいまた、図58(b)が示すように、セルPxとセルPxrとはストライプ状に配置されてもよい。また、図58(c)が示すように、セルPxとセルPxrとは、1つのセルPxrの周りを8つのセルPxによって取り囲むように配置されてもよい。なお、領域Aにおいて、セルPxおよびセルPxrの配置、および、セルPxの面積とセルPxrの面積との比は、光学素子90が表示する像に応じて変更可能である。例えば、領域Aにおいて第1像P1の一部を第2像P2の一部よりも強調したい場合には、領域AにおいてセルPxが占める割合をセルPxrが占める割合よりも大きくしてもよい。
FIG. 57(a) shows an example of the first image P1 displayed by the optical element 90 using the grating structure 11G, and FIG. 57(b) shows an example of the second image P2 displayed by the optical element 90 using the relief surface 11Re. showing. 57 shows the face structure of an ID card 90C to which the optical element 90 is applied, together with the third image P3 of the ID card 90C. The third image P3 contains personal identification information for identifying the owner of the ID card 120. FIG. The third image P3 includes, for example, the face photograph image of the owner and personal identification information such as name and ID number.
As shown in FIG. 57(a), the optical element 90 can display a symbol representing the euro as the first image P1. As shown in FIG. 57(b), the optical element 90 can display a character string (EURO) meaning euro as the second image P2. The optical element 90 can display a portion of the first image P1 and a portion of the second image P2 in the area A. FIG. That is, in the area A, a portion of the grating structure 11G for displaying the first image P1 and a portion of the relief surface 11Re for displaying the second image P2 are located.
As shown in FIG. 58, in the region A, cells in which the grating structure 11G is located and cells in which the structure including the reflective surface forming the relief surface 11Re are located are arranged.
As shown in FIG. 58(a), the cells Px and the cells Pxr may be arranged in a checkerboard pattern. As shown in FIG. 58(b), the cells Px and the cells Pxr are arranged in a stripe pattern. good too. Alternatively, as shown in FIG. 58(c), the cells Px and the cells Pxr may be arranged such that one cell Pxr is surrounded by eight cells Px. Note that in the area A, the arrangement of the cells Px and the cells Pxr and the ratio of the area of the cells Px to the area of the cells Pxr can be changed according to the image displayed by the optical element 90 . For example, if a portion of the first image P1 is to be emphasized more than a portion of the second image P2 in the region A, the proportion of the cells Px in the region A may be made larger than the proportion of the cells Pxr.

[第10実施形態]
図59および図60を参照して、本発明の第10実施形態の認証体を説明する。以下では、認証体の実一例であるとして、IDカードを説明する。カードの実例は、IDカードや免許証、ライセンスカード、メンバーカード、クレジットカードである。なお、IDカ
ードは、第7実施形態の光学素子70における第3例をIDカードの一部として含んでいる。
[Tenth embodiment]
An authenticator according to the tenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 59 and 60. FIG. An ID card will be described below as an example of an authenticator. Examples of cards are ID cards, driver's licenses, license cards, membership cards and credit cards. The ID card includes the third example of the optical element 70 of the seventh embodiment as part of the ID card.

[IDカードの構成]
図59が示すように、IDカード100は、IDカード100の表面100Fと対向する平面視において、2次元的に広がる板状を有している。IDカード100は、表面100Fを介して、第1画像101、第2画像102、および、第3画像103を表示する。また、IDカード100は、表面100Fを介して第1像P1および第2像P2を表示する。
[Configuration of ID card]
As shown in FIG. 59, the ID card 100 has a plate shape that spreads out two-dimensionally in plan view facing the surface 100F of the ID card 100 . ID card 100 displays first image 101, second image 102, and third image 103 through surface 100F. Also, the ID card 100 displays the first image P1 and the second image P2 through the surface 100F.

本実施形態では、第1画像101は、顔画像101aと背景画像101bとを含んでいる。顔画像101aは、IDカード100の所有者の顔を示す画像である。背景画像101bは、顔画像101aを内部に含み、顔画像101aの背景を構成している。第2画像102は、IDカード100の所有者に関する情報を含んでいる。第2画像102は、文字および数字によって表現される情報を含んでいる。第3画像103は、IDカード100に関する情報を含んでいる。第3画像103が含む情報は、IDカード100の名称である。顔画像101aと第2画像102はカードの所有者を識別する識別情報である。なお、IDカード100は、表面100Fを介して第1像P1および第2像P2を表示することが可能であればよい。上述した画像は、IDカード100が表示することが可能な画像の一例である。 In this embodiment, the first image 101 includes a face image 101a and a background image 101b. The face image 101 a is an image showing the face of the owner of the ID card 100 . The background image 101b contains the face image 101a therein and constitutes the background of the face image 101a. A second image 102 contains information about the owner of the ID card 100 . The second image 102 contains information represented by letters and numbers. A third image 103 contains information about the ID card 100 . Information included in the third image 103 is the name of the ID card 100 . The face image 101a and the second image 102 are identification information for identifying the owner of the card. Note that the ID card 100 only needs to be able to display the first image P1 and the second image P2 through the surface 100F. The images described above are examples of images that can be displayed by the ID card 100 .

図60は、図59におけるXIV‐XIV線に沿うIDカード100の断面構造を示している。
図60が示すように、認証体の一例であるIDカード100は、光学素子70を備えている。光学素子70は、識別情報を覆っていてもよい。IDカード100が備える光学素子70では、第1層11、第2層12、および、第3層13を備える第1多層体が、剥離層78をさらに備えている。剥離層78は、第1層11を覆っている。レリーフ層71、反射層72、および、接着層73を備える第2多層体は、剥離層79をさらに備えている。剥離層79は、レリーフ層71を覆っている。光学素子70において、第2多層体は、第1基材75によって覆われている。
FIG. 60 shows the cross-sectional structure of the ID card 100 along line XIV-XIV in FIG.
As shown in FIG. 60, an ID card 100, which is an example of an authenticator, has an optical element . Optical element 70 may cover the identification information. In the optical element 70 provided by the ID card 100 , the first multi-layer body comprising the first layer 11 , the second layer 12 and the third layer 13 further comprises a release layer 78 . A release layer 78 covers the first layer 11 . The second multilayer body comprising relief layer 71 , reflective layer 72 and adhesive layer 73 further comprises release layer 79 . A release layer 79 covers the relief layer 71 . In the optical element 70 the second multilayer body is covered by the first substrate 75 .

第2基材76の全体が、レーザー光線の照射前において、レーザー光線の照射によって発色する特性を有している。IDカード100が備える第2基材76は、レーザー光線の照射によって発色した部分である第1発色部76aと、第2発色部76bとを含んでいる。第1発色部76aは、顔画像101aを表示する部分であり、第2発色部76bは、第2画像102を表示する部分である。 The second base material 76 as a whole has a characteristic of developing color by laser beam irradiation before laser beam irradiation. The second base material 76 included in the ID card 100 includes a first coloring portion 76a and a second coloring portion 76b, which are portions colored by irradiation with a laser beam. The first coloring portion 76a is a portion that displays the face image 101a, and the second coloring portion 76b is a portion that displays the second image 102. As shown in FIG.

IDカード100は、白色層111、下部保護層112、および、上部保護層113を備えている。白色層111は、白色に着色された層であり、第2基材76に接している。白色層111のなかで、第2基材76に接する面の一部には、印刷114が施されている。IDカード100の厚さ方向から見て、印刷114は、第1発色部76aと重なる領域に位置している。印刷114は、背景画像102bを表示する。 The ID card 100 has a white layer 111 , a lower protective layer 112 and an upper protective layer 113 . The white layer 111 is a layer colored white and is in contact with the second base material 76 . A part of the surface of the white layer 111 that is in contact with the second base material 76 is printed 114 . When viewed from the thickness direction of the ID card 100, the print 114 is located in a region overlapping the first coloring portion 76a. Print 114 displays background image 102b.

下部保護層112は、白色層111のなかで、第2基材76に接する面とは反対側の面に位置している。上部保護層113は、第1基材75を覆い、かつ、第1基材75との間に第1多層体を内包している。上部保護層113は、光透過性を有している。一方で、下部保護層112は、光透過性を有してもよいし、光透過性を有しなくてもよい。 The lower protective layer 112 is located on the surface of the white layer 111 opposite to the surface in contact with the second base material 76 . The upper protective layer 113 covers the first base material 75 and encloses the first multilayer body between the first base material 75 and the first base material 75 . The upper protective layer 113 has optical transparency. On the other hand, the lower protective layer 112 may or may not have optical transparency.

[第10実施形態の変形例]
[認証体]
・認証体は、IDカードに限らず、例えばパスポートなどの所有者を認証するために用いられる他の認証体として具体化されてもよい。
[Modification of the tenth embodiment]
[Authenticator]
- The authentication body is not limited to an ID card, but may be embodied as other authentication bodies used for authenticating the owner, such as a passport.

[光学素子]
・認証体は、上述した光学素子70に代えて、第1実施形態の光学素子10、第2実施形態の光学素子20、第3実施形態の光学素子30、第4実施形態の光学素子40、第6実施形態の光学素子60、および、第9実施形態の光学素子90を含んでもよい。また、認証体は、上述した光学素子70に代えて、第7実施形態の第1例、第2例、および、第4例における光学素子70を備えてもよい。
[Optical element]
The authentication body is the optical element 10 of the first embodiment, the optical element 20 of the second embodiment, the optical element 30 of the third embodiment, the optical element 40 of the fourth embodiment, instead of the optical element 70 described above. The optical element 60 of the sixth embodiment and the optical element 90 of the ninth embodiment may be included. Also, the authentication body may include the optical element 70 in the first, second, and fourth examples of the seventh embodiment instead of the optical element 70 described above.

[第11実施形態]
図61から図68を参照して、本発明の第11実施形態の認証体を説明する。以下では、認証体の一例としてIDカードの他の例を説明する。
[Eleventh embodiment]
An authenticator according to the eleventh embodiment of the present invention will now be described with reference to FIGS. 61 to 68. FIG. Another example of an ID card will be described below as an example of an authenticator.

[IDカードの構成]
図61を参照して、IDカードの構成を説明する。IDカードの一例として、第1実施形態の光学素子10を備えるIDカードについて説明するが、IDカードは、第1実施形態の光学素子10に限らず、第2実施形態から第9実施形態の各々における光学素子を備えてもよい。
[Configuration of ID card]
The configuration of the ID card will be described with reference to FIG. An ID card including the optical element 10 of the first embodiment will be described as an example of an ID card, but the ID card is not limited to the optical element 10 of the first embodiment, and can be any of the second to ninth embodiments. You may provide the optical element in.

IDカード120は、第1層11、第2層12、および、第3層13に加えて、表示層121をさらに備えている。表示層121は、所定の情報を表示することができる。表示層121は、例えば、文字、数字、図形、および、QRコード(登録商標)などを用いて所定の情報を表示することができる。IDカード121は、第1層11において第2層12に接する面とは反対側の面として、表面121Fを含んでいる。 ID card 120 further includes display layer 121 in addition to first layer 11 , second layer 12 , and third layer 13 . The display layer 121 can display predetermined information. The display layer 121 can display predetermined information using, for example, letters, numbers, graphics, QR codes (registered trademark), and the like. The ID card 121 includes a surface 121</b>F as the surface of the first layer 11 opposite to the surface in contact with the second layer 12 .

表示層121は、第3層13に接する表示面121F上に施された印刷によって、所定の情報を表示することができる。表示面121Fに印刷を施す方法には、例えば、活版印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷を挙げることがとできる。印刷に用いるインキには、機能性インキを用いることができる。機能性インキは、IDカード120に光を照射する光源の種類あるいは状態に応じて色が変わるインキ、および、観察者の観察角度に応じて色や光沢が変わるインキなどである。光源の種類あるいは状態に応じて色が変化するインキには、蓄光インキ、および、フォトクロミックインキなどを挙げることがとできる。観察角度に応じて色や光沢が変わるインキには、パールインキ、磁性インキ、および、カラーシフトインキなどを挙げることができる。 The display layer 121 can display predetermined information by printing on the display surface 121</b>F in contact with the third layer 13 . Examples of methods for printing on the display surface 121F include letterpress printing, gravure printing, offset printing, and screen printing. Functional ink can be used for the ink used for printing. Functional ink includes ink that changes color depending on the type or state of the light source that irradiates the ID card 120 with light, ink that changes color and gloss depending on the viewing angle of the observer, and the like. Phosphorescent ink, photochromic ink, and the like can be given as examples of ink whose color changes depending on the type or state of the light source. Pearl inks, magnetic inks, color shift inks, and the like are examples of inks that change color and gloss depending on the viewing angle.

蓄光インキは、太陽光や蛍光灯などから放出された光エネルギーを吸収し、かつ、蓄積し、暗闇において徐々に発光する機能を有している。フォロクロミックインキは、紫外線に反応して発色するインキである。フォトクロミックインキは、フォトクロミックインキに対する紫外線の照射量に応じて、レッド、ブルー、パープル、および、イエローなどの互いに異なる色を呈する機能を有している。パールインキは、パール顔料が添加されたインキである。パールインキの光沢は、観察角度に応じて変わる。パールインキは、パール顔料として偏光パールから形成されたパール顔料を含むことによって、観察角度に応じて色調も変わる。機能性インキによれば、表示面121Fに形成された印刷の色が変わるか否かを容易に確認することができる。そのため、IDカード120の真贋を、印刷の色に基づいて確実に判定することができる。 Phosphorescent ink has the function of absorbing and accumulating light energy emitted from sunlight, fluorescent lamps, etc., and gradually emitting light in the dark. Forochromic ink is an ink that develops color in response to ultraviolet light. Photochromic ink has the function of exhibiting different colors such as red, blue, purple, and yellow, depending on the amount of ultraviolet light applied to the photochromic ink. Pearl ink is ink to which a pearl pigment is added. The luster of pearl ink changes depending on the viewing angle. Since the pearl ink contains a pearl pigment formed from polarized pearl as a pearl pigment, the color tone changes depending on the viewing angle. With the functional ink, it is possible to easily confirm whether or not the color of the print formed on the display surface 121F changes. Therefore, the authenticity of the ID card 120 can be reliably determined based on the printed color.

なお、表示面121Fに印刷を施す方法には、インクジェット方式、サーマルプリンタ方式、および、レーザー方式などを用いてもよい。これらの方式によれば、表示面121Fに形成する情報をIDカード120ごとに設定することが可能である。そのため、複数
のIDカード120に共通する柄などは、上述した印刷によって相対的に高い速度で印刷し、かつ、各IDカード120に固有で識別されるの個人識別情報は、インクジェット方式、サーマルプリンタ方式、および、レーザー方式などを用いて印刷することが好ましい。
As a method for printing on the display surface 121F, an inkjet method, a thermal printer method, a laser method, or the like may be used. According to these methods, information to be formed on the display surface 121F can be set for each ID card 120. FIG. Therefore, patterns common to a plurality of ID cards 120 are printed at a relatively high speed by the above-described printing, and personal identification information unique to each ID card 120 is printed using an inkjet method or a thermal printer. It is preferable to print using a method, a laser method, or the like.

なお、上述したように、IDカード120が備える光学素子は、第1実施形態の光学素子10に限らず、第5実施形態および第6実施形態の各々における光学素子であってもよい。すなわち、IDカード120は、格子構造11Gが表示する第1像P1、レリーフ面が表示する第2像P2、および、表示層121が表示する第3像を表示することが可能であってもよい。こうしたIDカード120では、第1像P1の輝度、および、第2像P2の輝度が十分に高い場合には、第1像P1が表示される観察角度、および、第2像P2が表示される観察角度の各々では、第3像が視認されにくい。一方で、第1像P1および第2像P2の両方が表示されない観察角度では、第3像が視認される。それゆえに、観察者は、第3像を視認することができる。 As described above, the optical element included in the ID card 120 is not limited to the optical element 10 of the first embodiment, and may be the optical element of each of the fifth and sixth embodiments. That is, the ID card 120 may be capable of displaying the first image P1 displayed by the grating structure 11G, the second image P2 displayed by the relief surface, and the third image displayed by the display layer 121. . With such an ID card 120, when the brightness of the first image P1 and the brightness of the second image P2 are sufficiently high, the observation angle at which the first image P1 is displayed and the second image P2 are displayed. At each viewing angle, the third image is less visible. On the other hand, at an observation angle at which neither the first image P1 nor the second image P2 are displayed, the third image is visible. Therefore, the observer can visually recognize the third image.

第1像P1、第2像P2、および、第3像の各々が視認される観察角度は、第1像P1および第2像P2の各々が発現する観察角度、すなわち、格子構造11Gおよびレリーフ面の形状によって、任意に設定することが可能である。 The observation angle at which each of the first image P1, the second image P2, and the third image is visually recognized is the observation angle at which each of the first image P1 and the second image P2 appears, that is, the grating structure 11G and the relief surface can be arbitrarily set depending on the shape of

IDカード120において、第1層11、第2層12、および、第3層13から構成される多層体は、3つの層が積み重なる方向において、70%以上の透過率を有することができる好ましい。これにより、IDカード120が表示する像が視認されやすい。この場合特に、第1層11、第2層12、および、第3層13から構成される多層体である光学素子が、識別情報を覆う場合、その識別のしやすさが工場する。例えば、道路運送車両の保安基準における第195条では、自動車の前面ガラスおよび側面ガラスの各々における透過率が70%以上であることが義務づけられている。こうした基準に鑑みても、人が情報を明瞭かつ確実に視認する上では、情報を表示するための光が透過する透過体の透過率が70%以上であることが好ましいと言える。 In the ID card 120, the multilayer body composed of the first layer 11, the second layer 12 and the third layer 13 preferably has a transmittance of 70% or more in the direction in which the three layers are stacked. As a result, the image displayed by the ID card 120 is easily visible. In this case, in particular, when the optical element, which is a multi-layer body composed of the first layer 11, the second layer 12 and the third layer 13, covers the identification information, the ease of identification is important. For example, Article 195 of the Safety Standards for Road Transport Vehicles requires that the transmittance of each of the front glass and side glass of an automobile be 70% or more. Considering these standards, it can be said that the transmittance of the transmissive material through which the light for displaying information is transmitted is preferably 70% or more in order for people to visually recognize the information clearly and reliably.

透明な多層体の透過率は、分光光度計を用いて測定することができる。IDカード120が観察される環境では、光源が太陽光または蛍光灯であることが想定される。そのため、IDカード100に用いられる多層体の透過率として、500nmの波長における透過率を測定することが好ましい。多層体の透過率は、JIS K7375:2008「プラスチックの全光線透過率及び全光線反射率の求め方」に準拠する方法で測定することが好ましい。 The transmittance of transparent multilayers can be measured using a spectrophotometer. In the environment in which the ID card 120 is observed, it is assumed that the light source is sunlight or a fluorescent lamp. Therefore, it is preferable to measure the transmittance at a wavelength of 500 nm as the transmittance of the multilayer body used for the ID card 100 . The transmittance of the multilayer body is preferably measured by a method conforming to JIS K7375:2008 "Determination of total light transmittance and total light reflectance of plastic".

[IDカードの作用]
図62から図68を参照して、IDカード120の作用を説明する。以下では、IDカード120の第1例における作用と、IDカード120の第2例における作用とを順に説明する。なお、IDカード120の第1例は、格子構造11Gとレリーフ面とを含む光学素子を備え、かつ、観察者の目視によってIDカード120の真贋が判定される構成である。これに対して、IDカード120の第2例は、格子構造11Gを含む一方で、レリーフ面を含まない光学素子を備え、かつ、検証器によってIDカード120の真贋が判定される構成である。
[Function of ID card]
The operation of the ID card 120 will be described with reference to FIGS. 62 to 68. FIG. Below, the operation of the first example of the ID card 120 and the operation of the second example of the ID card 120 will be described in order. A first example of the ID card 120 has an optical element including a lattice structure 11G and a relief surface, and has a configuration in which the authenticity of the ID card 120 is determined by visual observation of an observer. On the other hand, the second example of the ID card 120 has an optical element that includes the grating structure 11G but does not include a relief surface, and has a configuration in which the authenticity of the ID card 120 is determined by a verifier.

[第1例]
図62から図65を参照して、IDカード120の第1例における作用を説明する。
図62は、観察者OBが目視によってIDカード120の真贋を判定する方法を模式的に示している。
[First example]
The operation of the first example of the ID card 120 will be described with reference to FIGS. 62 to 65. FIG.
FIG. 62 schematically shows how the observer OB judges the authenticity of the ID card 120 visually.

図62が示すように、観察者OBは、IDカード120を手に持った状態でIDカード120を視認する。基準平面Ph0は、観察者OBがIDカード120の観察を開始するときにIDカード120が配置される平面である。基準平面Ph0は、IDカード120の真贋を判定するときの基準面である。観察者OBは、基準平面Ph0に配置したIDカード120を、第1平面Ph1、第2平面Ph2、および、第3平面Ph3の各々に沿うように傾ける。観察者OBは、IDカード120が各平面Ph1,Ph2,Ph3の各々に位置するときに、IDカード120を観察する。基準平面Ph0と第1平面Ph1とが形成する角度が第1角度θ1であり、基準平面Ph0と第2平面Ph2とが形成する角度が第2角度θ2であり、基準平面Ph0と第3平面Ph3とが形成する角度が第3角度θ3である。第1角度θ1は、第2角度θ2および第3角度θ3よりも大きく、かつ、第2角度θ2は、第3角度θ3よりも大きい。 As shown in FIG. 62, the observer OB visually recognizes the ID card 120 while holding the ID card 120 in his/her hand. The reference plane Ph0 is a plane on which the ID card 120 is placed when the observer OB starts observing the ID card 120 . A reference plane Ph0 is a reference plane for determining the authenticity of the ID card 120 . The observer OB tilts the ID card 120 placed on the reference plane Ph0 along each of the first plane Ph1, the second plane Ph2, and the third plane Ph3. Observer OB observes ID card 120 when ID card 120 is positioned on each of planes Ph1, Ph2, and Ph3. The angle formed by the reference plane Ph0 and the first plane Ph1 is the first angle θ1, the angle formed by the reference plane Ph0 and the second plane Ph2 is the second angle θ2, and the reference plane Ph0 and the third plane Ph3. is the third angle θ3. The first angle θ1 is larger than the second angle θ2 and the third angle θ3, and the second angle θ2 is larger than the third angle θ3.

光源LSは、IDカード120に対して観察者OBとは反対側に位置している。言い換えれば、光源LSは、観察者OBの前方に位置している。光源LS、IDカード120、および、観察者OBは、IDカード120に入射した光源LSの光が、IDカード120において、観察者OBに向けて反射されるような相対位置で配置されている。IDカード120を観察するときには、点光源からの光が一方向からIDカード120に入射することが好ましい。しかしながら、実際には、IDカード120の観察時には、蛍光灯からの光や外光が、様々な方向からIDカード120に入射する。この場合であっても、IDカード120に入射した光に、IDカード120において観察者OBに向けて反射される光が含まれていれば、IDカード120から射出される光の輝度が低くなるものの、観察者OBは、IDカード120が表示する情報を視認することができる。 The light source LS is located on the opposite side of the ID card 120 from the observer OB. In other words, the light source LS is positioned in front of the observer OB. The light source LS, the ID card 120, and the observer OB are arranged at relative positions such that the light from the light source LS incident on the ID card 120 is reflected at the ID card 120 toward the observer OB. When observing the ID card 120, it is preferable that the light from the point light source is incident on the ID card 120 from one direction. However, in practice, when the ID card 120 is observed, light from a fluorescent lamp and external light enter the ID card 120 from various directions. Even in this case, if the light incident on the ID card 120 includes light reflected by the ID card 120 toward the observer OB, the brightness of the light emitted from the ID card 120 will be low. However, the observer OB can visually recognize the information displayed by the ID card 120 .

図63から図65は、それぞれIDカード120が表示する像を示している。図63は、IDカード120が第1平面Ph1に配置されたときにIDカード120が示す像であり、図64は、IDカード120が第2平面Ph2に配置されたときにIDカード120が示す像である。図65は、IDカード120が第3平面Ph3に配置されたときにIDカード120が示す像である。なお、IDカード120は、第1像P1、第2像P2、および、第3像P3を表示することが可能に構成されている。 63 to 65 show images displayed by the ID card 120, respectively. FIG. 63 shows an image of the ID card 120 when the ID card 120 is placed on the first plane Ph1, and FIG. 64 shows an image of the ID card 120 when the ID card 120 is placed on the second plane Ph2. is a statue. FIG. 65 is an image of the ID card 120 when the ID card 120 is placed on the third plane Ph3. ID card 120 is configured to be able to display first image P1, second image P2, and third image P3.

図63が示すように、観察者OBがIDカード120を第1平面Ph1に配置したとき、IDカード120は、第3像P3のみを表示している。なお、第3像P3は、IDカード120の所有者に関する個人識別情報を含んでいる。第3像P3は、例えば、所有者の顔写真、および、氏名、ID番号などの識別個人情報を含んでいる。観察者OBがIDカード120を第1平面Ph1に配置したときには、IDカード120は、第3像P3の全てを、表面120Fを介して外部に表示する。 As shown in FIG. 63, when the observer OB places the ID card 120 on the first plane Ph1, the ID card 120 displays only the third image P3. The third image P3 contains personal identification information about the owner of the ID card 120. FIG. The third image P3 includes, for example, the face photograph of the owner and identifying personal information such as name and ID number. When the observer OB places the ID card 120 on the first plane Ph1, the ID card 120 displays the entire third image P3 to the outside through the surface 120F.

図64が示すように、観察者OBがIDカード120を第2平面Ph2に配置したとき、IDカード120は、第2像P2を表示する。IDカード120の表面120Fと対向する平面視において、第2像P2は第3像P3の一部に重なる。そのため、本実施形態では、第3像P3の一部は、第2像P2によって隠蔽される。なお、第2像P2の輝度は、第3像P3の一部を完全に隠蔽しない程度の輝度であってもよい。 As shown in FIG. 64, when the observer OB places the ID card 120 on the second plane Ph2, the ID card 120 displays the second image P2. In a plan view facing front surface 120F of ID card 120, second image P2 partially overlaps third image P3. Therefore, in this embodiment, part of the third image P3 is hidden by the second image P2. The brightness of the second image P2 may be a brightness that does not completely hide a part of the third image P3.

図64が示すように、観察者OBがIDカード120を第3平面Ph3に配置したとき、IDカード120は、第1像P1を表示する。一方で、IDカード120は、第2像P2を表示しない。IDカード120の表面120Fと対向する平面視において、第1像P1は第3像P3の一部に重なる。そのため、本実施形態では、第3像P3の一部は、第1像P1によって隠蔽される。なお、第1像P1の輝度は、第3像P3の一部を完全には隠蔽しない程度の輝度であってもよい。 As shown in FIG. 64, when the observer OB places the ID card 120 on the third plane Ph3, the ID card 120 displays the first image P1. On the other hand, the ID card 120 does not display the second image P2. In a plan view facing front surface 120F of ID card 120, first image P1 partially overlaps third image P3. Therefore, in this embodiment, part of the third image P3 is hidden by the first image P1. Note that the brightness of the first image P1 may be a brightness that does not completely hide a part of the third image P3.

このように、観察者OBがIDカード120を基準平面Ph0に対して前方に傾けた場合に、IDカード120は、IDカード120の位置に応じて、第1像P1および第2像P2を表示する。言い換えれば、観察者OBが、観察空間において、IDカード120のなかで観察者OBが把持した部分の位置をほぼ固定した状態で、IDカード120の表面120Fを観察者OBに近づけた場合に、IDカード120の位置に応じて、IDカード120は、第1像P1および第2像P2を表示する。 In this way, when the observer OB tilts the ID card 120 forward with respect to the reference plane Ph0, the ID card 120 displays the first image P1 and the second image P2 according to the position of the ID card 120. do. In other words, when the observer OB brings the surface 120F of the ID card 120 closer to the observer OB while the position of the portion of the ID card 120 gripped by the observer OB is substantially fixed in the observation space, Depending on the position of ID card 120, ID card 120 displays first image P1 and second image P2.

なお、観察者OBが、例えば第2平面Ph2を基準面として、IDカード120を左右に傾けた場合にも、観察者OBは、IDカード120が表示する第1像P1および第2像P2を視認することは可能である。言い換えれば、観察者OBが、観察空間において、IDカード120の表面120Fと観察者OBとの間の距離をほぼ変えずに、IDカード120を傾けたときにも、観察者OBは、第1像P1および第2像P2を視認することは可能である。しかしながら、観察者OBは、第2像P2を容易に視認することができる一方で、観察者OBは、以下の理由から、限られた観察条件においてのみ第1像P1を観察することができる。 Note that even if the observer OB tilts the ID card 120 to the left or right with respect to the second plane Ph2, for example, the observer OB cannot see the first image P1 and the second image P2 displayed by the ID card 120. Visibility is possible. In other words, even when the observer OB inclines the ID card 120 without substantially changing the distance between the front surface 120F of the ID card 120 and the observer OB in the observation space, the observer OB is in the first position. It is possible to visually recognize the image P1 and the second image P2. However, while the observer OB can easily view the second image P2, the observer OB can view the first image P1 only under limited viewing conditions for the following reasons.

上述したように、第1像P1は、IDカード120の表面に対する放線を含む平面に対して、光源LSと観察者OBとが対象な角度に位置する場合にのみ観察者OBによって視認される。そのため、第2平面Ph2を基準としてIDカード120を左右に傾けた場合には、第2平面Ph2が基準平面Ph0と形成する角度が第3角度θ3である必要がある。ここで、第2平面Ph2は、観察者OBが無意識にIDカード120を手に取ったときにIDカード120を配置する平面である。そのため、第2平面Ph2と基準平面Ph0とが形成する角度が第3角度θ3に一致する確率は低い。これに対して、観察者OBが基準平面Ph0に対してIDカード120を前後に傾けたときに、観察者OBが第3平面Ph3にIDカード120を配置する確率が高い。 As described above, the first image P1 is viewed by the observer OB only when the light source LS and the observer OB are positioned at symmetrical angles with respect to the plane containing the radiation for the surface of the ID card 120 . Therefore, when the ID card 120 is tilted left or right with respect to the second plane Ph2, the angle formed by the second plane Ph2 and the reference plane Ph0 must be the third angle θ3. Here, the second plane Ph2 is a plane on which the ID card 120 is arranged when the observer OB picks up the ID card 120 unconsciously. Therefore, the probability that the angle formed by the second plane Ph2 and the reference plane Ph0 matches the third angle θ3 is low. On the other hand, when the observer OB tilts the ID card 120 back and forth with respect to the reference plane Ph0, there is a high probability that the observer OB will place the ID card 120 on the third plane Ph3.

それゆえに、IDカード120を観察するときには、観察者OBの視線を含む平面に対して斜め上方に光源LSが位置する状態で、観察者OBがIDカード120を前後に傾けることが好ましい。これにより、観察者OBが、第1像P1および第2像P2の両方を観察する確率が高まる。そのため、観察者OBによるIDカード120の真贋の判定が、正確に行われやすい。 Therefore, when observing the ID card 120, the observer OB preferably tilts the ID card 120 back and forth with the light source LS positioned obliquely above the plane including the line of sight of the observer OB. This increases the probability that the observer OB observes both the first image P1 and the second image P2. Therefore, the authenticity determination of the ID card 120 by the observer OB is likely to be performed accurately.

[第2例]
図66から図68を参照して、IDカード120の第2例における作用を説明する。
図66は、検証器VによってIDカード120の真贋を判定する方法を模式的に示している。
[Second example]
The operation of the second example of the ID card 120 will be described with reference to FIGS. 66 to 68. FIG.
FIG. 66 schematically shows a method of determining the authenticity of the ID card 120 by the verifier V. As shown in FIG.

図66が示すように、IDカード120の表面120Fに、光源LSからの光を入射角αで入射させ、かつ、射出角βで反射される反射光が検証器Vに入力されるように、IDカード120の真贋を判定するための環境を設定する。検証器Vには、例えば、画像を読み取ることが可能なカメラ、および、輝度の分布を読み取ることが可能なセンサーなどを用いることができる。検証器Vは、第1像P1および第2像P2の各々を画像、もしくは、輝度などの光学的な情報として処理することが可能な機器であればよい。 As shown in FIG. 66, the light from the light source LS is incident on the surface 120F of the ID card 120 at an incident angle α, and the reflected light reflected at an exit angle β is input to the verifier V. An environment for determining the authenticity of the ID card 120 is set. For the verifier V, for example, a camera capable of reading images, a sensor capable of reading luminance distribution, and the like can be used. The verifier V may be any device capable of processing each of the first image P1 and the second image P2 as an image or optical information such as luminance.

図67は、真正のIDカード120が表示する像を示している。一方で、図68は、偽のIDカード200が表示する像を示している。なお、図67および図68は、特定の観察条件において、各IDカード120,200が表示する像を示している。 FIG. 67 shows the image displayed by the genuine ID card 120. FIG. On the other hand, FIG. 68 shows an image displayed by the fake ID card 200. FIG. 67 and 68 show images displayed by the ID cards 120 and 200 under specific viewing conditions.

図66が示すように、真正のIDカード120は、第3像P3の一部としてQRコード(登録商標)P3aを示している。
これに対して、偽のIDカード200は、第3像P3の一部としてQRコード(登録商標)P3aを示すと同時に、第1像P1も表面200Fを介して表示している。ここで、検証器Vは、上述した観察条件において、IDカード100が表示するQRコード(登録商標)P3aを読み取った場合に、IDカード120が真正であると判定する。この場合には、IDカード120は、第3像P3の一部としてQRコード(登録商標)P3aを表示し、かつ、QRコード(登録商標)P3aが他の像とは重ならないため、検証器Vは、IDカード120を真正のIDカード120であると判定する。これに対して、IDカード200は、第3像P3の一部としてQRコード(登録商標)P3aを表示するものの、IDカード120の厚さ方向から見て、QRコード(登録商標)P3aに重なるように第1像P1を表示する。言い換えれば、検証器Vが読み取った情報には、QRコード(登録商標)以外の情報も含まれる。そのため、検証器Vは、IDカード200が偽物であると判定する。
As shown in FIG. 66, the authentic ID card 120 shows a QR code (registered trademark) P3a as part of the third image P3.
On the other hand, the fake ID card 200 shows the QR code (registered trademark) P3a as part of the third image P3 and also displays the first image P1 through the surface 200F. Here, the verifier V determines that the ID card 120 is genuine when the QR code (registered trademark) P3a displayed by the ID card 100 is read under the observation conditions described above. In this case, the ID card 120 displays the QR code (registered trademark) P3a as part of the third image P3, and the QR code (registered trademark) P3a does not overlap other images, so the verifier V determines that the ID card 120 is a genuine ID card 120 . On the other hand, although the ID card 200 displays the QR code (registered trademark) P3a as part of the third image P3, it overlaps the QR code (registered trademark) P3a when viewed from the thickness direction of the ID card 120. The first image P1 is displayed as follows. In other words, the information read by the verifier V includes information other than the QR code (registered trademark). Therefore, the verifier V determines that the ID card 200 is a fake.

本実施形態では、IDカード120,200が表示するコードとしてQRコード(登録商標)P3aを例示したが、IDカード120,200が表示するコードは検証器Vによる読み取りが可能な他のコードでもよい。他のコードには、例えばバーコードを挙げることがとできる。なお、検証器Vによる判定には、第3像P3ではなく、第1像P1を用いてもよいし、第2像P2を用いてもよい。 In this embodiment, the QR code (registered trademark) P3a is exemplified as the code displayed by the ID cards 120 and 200, but the code displayed by the ID cards 120 and 200 may be other codes that can be read by the verifier V. . Other codes may include, for example, barcodes. For determination by the verifier V, the first image P1 may be used instead of the third image P3, or the second image P2 may be used.

また、上述した例では、検証器Vの位置が一カ所に固定されているが、検証器Vが可動式であり、かつ、検証器Vが、上述した射出角βに加えて、射出角βとは異なる角度である角度γでもIDカード120から射出された光を読み取ってもよい。この場合には、互いに異なる角度において得られた2つの情報を用いることによって、IDカード120の真贋を二段階で判定することができる。これにより、真贋判定の確度をより高めることができる。 Also, in the above example, the position of the verifier V is fixed in one place, but the verifier V is movable, and the verifier V has an exit angle β The light emitted from the ID card 120 may be read at an angle γ that is different from . In this case, the authenticity of the ID card 120 can be determined in two steps by using two pieces of information obtained at different angles. As a result, the accuracy of authenticity determination can be further increased.

[光学素子の形成材料]
以下、光学素子の形成に用いることが可能な材料を説明する。以下では、光学素子のなかで、第1層11、第2層12、および、第3層13の各々を形成するための材料を説明する。
[Material for Forming Optical Element]
Materials that can be used to form optical elements are described below. Materials for forming each of the first layer 11, the second layer 12, and the third layer 13 of the optical element will be described below.

[第1層]
第1層11を形成するための材料には紫外線硬化性樹脂を含む。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、アクリルアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、脂環式エポキシ、グリシジル型エポキシ、オキセタン化合物などが挙げられるが、特にアクリルアクリレート、ウレタンアクリレートが好ましい。
第1層11を形成するための材料には、ウレタン樹脂を含むことが好ましい。ウレタン樹脂としては、アクリル変性ウレタン、エポキシ変性ウレタン、ポリエステル変性ウレタン、シリコン変性ウレタン、ビニル変性ウレタン等の変性ウレタン樹脂を用いても構わない。
第1層11を形成するための材料は、硬化剤、可塑剤、分散剤、各種レベリング剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、潤滑剤、および、光安定化剤などの少なくとも1つを含んでもよい。
[第3層]
第3層13を形成するための材料には、以下に挙げる各種の樹脂を本質的に含む用いることができる。各層を形成するための材料には、例えば、上述した樹脂は、例えば、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリメチルペンテン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアリールフタレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、アセタール系樹脂、および、セルロース系樹脂などを用いることができる。第3層の形成材料には、これらの樹脂のうちの1つのみを用いてもよいし、2つ以上を混合または、複合して用いてもよい。第3層13を形成するための材料は、硬化剤、可塑剤、分散剤、各種レベリング剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、潤滑剤、および、光安定化剤などの少なくとも1つを含んでもよい。
[First layer]
A material for forming the first layer 11 includes an ultraviolet curable resin. Examples of UV-curable resins include acrylic acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, alicyclic epoxy, glycidyl type epoxy, and oxetane compounds, with acrylic acrylate and urethane acrylate being particularly preferred.
The material for forming the first layer 11 preferably contains urethane resin. Modified urethane resins such as acrylic-modified urethane, epoxy-modified urethane, polyester-modified urethane, silicon-modified urethane, and vinyl-modified urethane may be used as the urethane resin.
Materials for forming the first layer 11 include at least curing agents, plasticizers, dispersants, various leveling agents, ultraviolet absorbers, antioxidants, viscosity modifiers, lubricants, and light stabilizers. may include one.
[Third layer]
A material for forming the third layer 13 can be used that essentially contains various resins listed below. Materials for forming each layer include, for example, the above resins such as poly(meth)acrylic resins, polyurethane resins, fluorine resins, silicone resins, polyimide resins, epoxy resins, and polyethylene resins. , polypropylene resin, methacrylic resin, polymethylpentene resin, cyclic polyolefin resin, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyarylphthalate resins, polysulfone-based resins, polyphenylene sulfide-based resins, polyethersulfone-based resins, polyethylene naphthalate-based resins, polyetherimide-based resins, acetal-based resins, and cellulose-based resins. As the material for forming the third layer, only one of these resins may be used, or two or more of them may be mixed or combined. Materials for forming the third layer 13 include at least curing agents, plasticizers, dispersants, various leveling agents, ultraviolet absorbers, antioxidants, viscosity modifiers, lubricants, and light stabilizers. may include one.

第1層11および第3層13の各々を形成する方法には、例えば、熱エンボス法、キャスト法、および、フォトポリマー法などを挙げることができる。フォトポリマー法では、プラスチックフィルムなどの平坦な基材と、金属製のスタンパとの間に、放射線硬化樹脂を流し込む。そして、放射線の照射によって放射線硬化樹脂を硬化させた後、硬化された樹脂膜を基材ごと金属製のスタンパから剥離する。フォトポリマー法では、熱可塑性樹脂を利用するプレス法やキャスト法に比べて、微細凹凸構造の転写精度が高く、耐熱性や耐薬品性にも優れているため好ましい。 Methods for forming each of the first layer 11 and the third layer 13 include, for example, a hot embossing method, a casting method, and a photopolymer method. In the photopolymer method, a radiation-curable resin is poured between a flat substrate such as a plastic film and a metal stamper. Then, after curing the radiation-curable resin by irradiation with radiation, the cured resin film together with the substrate is peeled off from the metal stamper. The photopolymer method is preferable to the pressing method and the casting method that use thermoplastic resins, because the transfer accuracy of the fine relief structure is high, and the heat resistance and chemical resistance are also excellent.

[第2層]
第2層12を形成するための材料には、上述したように、光透過性を有した誘電体を用いることができる。誘電体には、金属、金属化合物、ケイ素化合物、または、これらの混合物を用いることができる。誘電体には、例えば、ZnS、ZnO、ZnSe、SiNx、SiOx、TixOx、Ta、Cr、ZrO、Nb、および、ITOなどを挙げることができる。
[Second layer]
As the material for forming the second layer 12, a dielectric having optical transparency can be used as described above. A metal, a metal compound, a silicon compound, or a mixture thereof can be used for the dielectric. Dielectrics can include, for example, ZnS, ZnO, ZnSe , SiNx, SiOx, TixOx , Ta2O5 , Cr2O3 , ZrO2 , Nb2O5 , and ITO.

第2層12を形成する方法には、例えば、物理気相成長法、および、化学気相成長法などを用いることができる。物理気相成長法には、実例として例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンクラスタービーム法などを挙げることが適用できる。化学気相成長法には、実例として、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、および、光化学気相成長法などを適用挙げることができる。これらの方法の中でも、真空蒸着法は、生産性を高めやすい。およびイオンプレーティング法は、他の方法よりも生産性が高い点、および、良質な反射層を形成することがしやすい点で好ましい。なお、物理気相成長法および化学気相成長法における成膜条件は、反射層の形成材料に応じて適宜選択することができる。 As a method for forming the second layer 12, for example, a physical vapor deposition method, a chemical vapor deposition method, or the like can be used. Examples of physical vapor deposition methods include vacuum deposition, sputtering, ion plating, and ion cluster beam methods. Examples of chemical vapor deposition methods include plasma chemical vapor deposition, thermal chemical vapor deposition, and photochemical vapor deposition. Among these methods, the vacuum deposition method tends to increase productivity. and the ion plating method are preferable in that they are more productive than other methods and that a good reflective layer can be easily formed. The film formation conditions in the physical vapor deposition method and the chemical vapor deposition method can be appropriately selected according to the material for forming the reflective layer.

第2層12は、各種の印刷方式、キャスト方式、および、ダイコート方式などを用いて形成することもできる。この場合には、上述した誘電体の少なくとも1つが分散した樹脂を用いて、第2層12を形成することができる。 The second layer 12 can also be formed using various printing methods, casting methods, die coating methods, and the like. In this case, the second layer 12 can be formed using a resin in which at least one of the dielectrics described above is dispersed.

[実施例1]
以下、実施例1を説明する。実施例1は、上述した第10実施形態の認証体に対応する試験例である。試験例1では、第1層11を含む第1転写箔と、レリーフ層71を含む第2転写箔とを準備した。そして、第1転写箔の一部を第1基材75に転写し、かつ、第2転写箔の一部を第2基材76に転写した。第2基材76としてレーザー光線の照射によって発色する基材を用いた。第1基材75と第2基材76とをラミネートすることによって、試験例1の認証体としてIDカードを得た。
[Example 1]
Example 1 will be described below. Example 1 is a test example corresponding to the authenticator of the tenth embodiment described above. In Test Example 1, a first transfer foil including the first layer 11 and a second transfer foil including the relief layer 71 were prepared. A portion of the first transfer foil was transferred to the first base material 75 and a portion of the second transfer foil was transferred to the second base material 76 . As the second base material 76, a base material that develops color when irradiated with a laser beam was used. By laminating the first base material 75 and the second base material 76, an ID card was obtained as an authenticator of Test Example 1. FIG.

より詳しくは、第1転写箔を製造するときに、まず、厚さが38μmであるPETフィルム(ルミラー(登録商標)、東レ(株))を支持層として準備した。支持層が備える1つの面に、剥離層用インキを塗布し、剥離層用インキを乾燥させることによって、剥離層を得た。剥離層78の厚さは1μmであった。次いで、剥離層78上に第1層用インキをグラビア印刷法によって塗工した後、第1層用インキを乾燥させた。乾燥後の第1層用イ
ンキの厚さは2μmであった。そして、乾燥後の第1層用インキに、格子構造11Gを形成するための原版を押し当てることによって、格子構造11Gを成形した。なお、成形時において、プレス圧力を2kgf/cmに設定し、プレス温度を80℃に設定し、プレススピードを10m/minに設定した。
More specifically, when manufacturing the first transfer foil, first, a PET film (Lumirror (registered trademark), Toray Industries, Inc.) having a thickness of 38 μm was prepared as a support layer. A release layer was obtained by applying a release layer ink to one surface of the support layer and drying the release layer ink. The thickness of the release layer 78 was 1 μm. Next, the ink for the first layer was applied onto the release layer 78 by gravure printing, and then the ink for the first layer was dried. The thickness of the ink for the first layer after drying was 2 μm. Then, a grid structure 11G was formed by pressing an original plate for forming the grid structure 11G against the dried first layer ink. During molding, the press pressure was set at 2 kgf/cm 2 , the press temperature was set at 80° C., and the press speed was set at 10 m/min.

成型と同時に、支持層に対して剥離層78とは反対側から、第1層用インキに紫外線を照射した。紫外線の照射には、高圧水銀灯を用い、かつ、高圧水銀灯の出力を300mJ/cmに設定した。これにより、第1層用インキを硬化させることによって、第1層11を得た。そして、第1層11上に、50nmの厚さを有するTiO膜を真空蒸着によって形成した。これにより、第2層12が得られた。次いで、接着層用インキを塗工し、接着層用インキを乾燥させることによって、2.5μm以上4μm以下の厚さを有し、接着層として機能する第3層13を得た。なお、乾燥時の温度を120℃に設定し、時間を45秒に設定した。なお、第2転写箔を形成するときには、レリーフ面71Reの成形に用いる原版を格子構造11Gの成形に用いる原版と異ならせる以外は、第1転写箔と同じ方法を用いた。 Simultaneously with the molding, the ink for the first layer was irradiated with ultraviolet rays from the opposite side of the support layer to the release layer 78 . A high-pressure mercury lamp was used for the irradiation of ultraviolet rays, and the output of the high-pressure mercury lamp was set to 300 mJ/cm 2 . Thus, the first layer 11 was obtained by curing the ink for the first layer. Then, a TiO 2 film having a thickness of 50 nm was formed on the first layer 11 by vacuum deposition. Thereby, the second layer 12 was obtained. Next, the adhesive layer ink was applied and the adhesive layer ink was dried to obtain the third layer 13 having a thickness of 2.5 μm or more and 4 μm or less and functioning as an adhesive layer. The drying temperature was set to 120° C. and the drying time was set to 45 seconds. When forming the second transfer foil, the same method as for the first transfer foil was used except that the original plate used for molding the relief surface 71Re was different from the original plate used for molding the grid structure 11G.

上述した剥離層用インキ、第1層用インキ、レリーフ層用インキ、第3層用インキ、および、接着層用インキとして、以下の組成を有するインキを用いた。
[剥離層用インキ]
アクリル樹脂 70.0質量部
メチルエチルケトン 30.0質量部
[第1層用インキ/レリーフ層用インキ]
紫外線硬化型アクリルアクリレート樹脂(分子量=40000) 60.0質量部
ウレタンアクリレート(分子量=6500) 18.0質量部
メチルエチルケトン 22.0質量部
[第3層用インキ/接着層用インキ]
ウレタン樹脂 50.0質量部
シリカフィラー 10.0質量部
メチルエチルケトン 40.0質量部
Inks having the following compositions were used as the release layer ink, the first layer ink, the relief layer ink, the third layer ink, and the adhesive layer ink.
[Ink for release layer]
Acrylic resin 70.0 parts by mass Methyl ethyl ketone 30.0 parts by mass [Ink for first layer/Ink for relief layer]
UV curable acrylic acrylate resin (molecular weight = 40000) 60.0 parts by mass Urethane acrylate (molecular weight = 6500) 18.0 parts by mass Methyl ethyl ketone 22.0 parts by mass [Third layer ink/adhesive layer ink]
Urethane resin 50.0 parts by mass Silica filler 10.0 parts by mass Methyl ethyl ketone 40.0 parts by mass

第1基材75として、100μmの厚さを有し、かつ、透明なポリカーボネート基材(LEXAN SD8B14、SABIC社製)(LEXANは登録商標)を準備した。第2基材76として、100μmの厚さを有し、かつ、レーザー光線の照射によって発色するポリカーボネート基材(LEXAN SD8B94、SABIC社製)を準備した。第1転写箔を第1基材75に転写した後、支持層を取り除いた。また、第2転写箔を第2基材76に転写した後、支持層を取り除いた。転写時には、電気式のホットスタンプ機を用い、かつ、転写箔に接する面の温度を120℃に設定し、圧力を1.05t/cmに設定し、かつ、加圧する時間を1秒に設定した。 A transparent polycarbonate base material (LEXAN SD8B14, manufactured by SABIC) (LEXAN is a registered trademark) having a thickness of 100 μm was prepared as the first base material 75 . As the second base material 76, a polycarbonate base material (LEXAN SD8B94, manufactured by SABIC) which has a thickness of 100 μm and develops color when irradiated with a laser beam was prepared. After transferring the first transfer foil to the first substrate 75, the support layer was removed. After the second transfer foil was transferred to the second base material 76, the support layer was removed. At the time of transfer, an electric hot stamping machine is used, the temperature of the surface in contact with the transfer foil is set to 120 ° C., the pressure is set to 1.05 t / cm 2 , and the pressurization time is set to 1 second. bottom.

次いで、白色層111として、400μmの厚さを有し、かつ、白色の樹脂フィルム(LEXAN SD8B24、SAVIC社製)を準備した。下部保護層112および上部保護層113として、100μmの厚さを有し、かつ、透明な樹脂フィルム(LEXAN SD8B14)を準備した。そして、下部保護層112、白色層111、第2基材76、第1基材75、および、上部保護層113を記載の順に積み重ねた状態で、これらの層をラミネートした。ラミネート時には、温度を200℃に設定し、圧力を80N/cmに設定し、加熱および加圧をする時間を25分に設定した。そして、ラミネート後の多層体の一部をカード状に切り出した。 Next, a white resin film (LEXAN SD8B24, manufactured by SAVIC) having a thickness of 400 μm was prepared as the white layer 111 . A transparent resin film (LEXAN SD8B14) having a thickness of 100 μm was prepared as the lower protective layer 112 and the upper protective layer 113 . Then, the lower protective layer 112, the white layer 111, the second base material 76, the first base material 75, and the upper protective layer 113 were stacked in the order described, and these layers were laminated. During lamination, the temperature was set to 200° C., the pressure was set to 80 N/cm 2 , and the heating and pressing time was set to 25 minutes. Then, a part of the multilayer body after lamination was cut into a card shape.

レーザー印字機を用いて、多層体に1064nmの波長のレーザー光線を多層体に照射した。これにより、第2基材76に、第1発色部76aと第2発色部76bとを形成した
。結果として、試験例1のID識別体としてカードを得た。
Using a laser printer, the multilayer body was irradiated with a laser beam having a wavelength of 1064 nm. As a result, a first coloring portion 76 a and a second coloring portion 76 b were formed on the second base material 76 . As a result, a card was obtained as an ID identifier of Test Example 1.

[実施例2]
第1層用インキを以下の組成を有するインキを用いた以外は実施例1と同様にしてカードを得た。
[第1層用インキ/レリーフ層用インキ]
紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂(分子量=88000) 70.0質量部
ポリエステルウレタン(分子量=1800) 3.5質量部
メチルエチルケトン 26.5質量部
[Example 2]
A card was obtained in the same manner as in Example 1, except that an ink having the following composition was used for the first layer.
[Ink for first layer/Ink for relief layer]
UV curable urethane acrylate resin (molecular weight = 88000) 70.0 parts by mass Polyester urethane (molecular weight = 1800) 3.5 parts by mass Methyl ethyl ketone 26.5 parts by mass

[比較例1]
第1層用インキを以下の組成を有するインキを用いた以外は実施例1と同様にしてサンプル作製を試みたが、第1層インキを乾燥させた後もタックが残ったため、その後の格子構造11Gを形成するためのプロセスには進めなかった。
[第1層用インキ/レリーフ層用インキ]
紫外線硬化型アクリルアクリレート樹脂(分子量=12000) 60.0質量部
ウレタンアクリレート(分子量=6500) 18.0質量部
メチルエチルケトン 22.5質量部
[Comparative Example 1]
An attempt was made to prepare a sample in the same manner as in Example 1, except that an ink having the following composition was used as the ink for the first layer. It did not proceed to the process to form 11G.
[Ink for first layer/Ink for relief layer]
UV curable acrylic acrylate resin (molecular weight = 12000) 60.0 parts by mass Urethane acrylate (molecular weight = 6500) 18.0 parts by mass Methyl ethyl ketone 22.5 parts by mass

[比較例2]
第1層用インキを以下の組成を有するインキを用いた以外は実施例1と同様にしてカードを得た。
[第1層用インキ/レリーフ層用インキ]
紫外線硬化型アクリルアクリレート樹脂(分子量=40000) 70.0質量部
ウレタンアクリレート(分子量=6500) 2.1質量部
メチルエチルケトン 27.9質量部
[Comparative Example 2]
A card was obtained in the same manner as in Example 1 except that an ink having the following composition was used for the first layer.
[Ink for first layer/Ink for relief layer]
UV curable acrylic acrylate resin (molecular weight = 40000) 70.0 parts by mass Urethane acrylate (molecular weight = 6500) 2.1 parts by mass Methyl ethyl ketone 27.9 parts by mass

[比較例3]
第1層用インキを以下の組成を有するインキを用いた以外は実施例1と同様にしてサンプル作製を試みたが、第1層インキを乾燥させた後もタックが残ったため、その後の格子構造11Gを形成するためのプロセスには進めなかった。
[第1層用インキ/レリーフ層用インキ]
紫外線硬化型アクリルアクリレート樹脂(分子量=40000) 46.0質量部
ウレタンアクリレート(分子量=6500) 24.0質量部
メチルエチルケトン 30.0質量部
[Comparative Example 3]
An attempt was made to prepare a sample in the same manner as in Example 1, except that an ink having the following composition was used as the ink for the first layer. It did not proceed to the process to form 11G.
[Ink for first layer/Ink for relief layer]
UV curable acrylic acrylate resin (molecular weight = 40000) 46.0 parts by mass Urethane acrylate (molecular weight = 6500) 24.0 parts by mass Methyl ethyl ketone 30.0 parts by mass

[比較例4]
第1層用インキを以下の組成を有するインキを用いた以外は実施例1と同様にしてカードを得た。
[第1層用インキ/レリーフ層用インキ]
紫外線硬化型アクリルアクリレート樹脂(分子量=82000) 45.5質量部
ウレタンアクリレート(分子量=11000) 24.5質量部
メチルエチルケトン 30.0質量部
[Comparative Example 4]
A card was obtained in the same manner as in Example 1 except that an ink having the following composition was used for the first layer.
[Ink for first layer/Ink for relief layer]
UV curable acrylic acrylate resin (molecular weight = 82000) 45.5 parts by mass Urethane acrylate (molecular weight = 11000) 24.5 parts by mass Methyl ethyl ketone 30.0 parts by mass

[評価方法]
実施例および比較例で作製したサンプルは、第1層を形成できたものに関しては明細書に記載の方法でナノインデンター硬さおよび破断伸度を測定し、以下の3つの評価を実施した。
[Evaluation method]
For the samples prepared in Examples and Comparative Examples, the nanoindenter hardness and breaking elongation were measured by the method described in the specification for the samples on which the first layer was formed, and the following three evaluations were performed.

[タックフリー性]
第1層用インキを乾燥後、指で触った際にインキが付着しなければ〇、付着すれば×とした。
[Tack free]
After drying the ink for the first layer, when the ink was touched with a finger, ◯ was given when the ink did not adhere, and x was given when the ink adhered.

[成形率]
第1層11の格子構造11Gの深さを、走査型プローブ顕微鏡(AFM5400L/日立ハイテクサイエンス製)を用いて測定し、格子構造11Gを形成するための原版の深さに対する比率を求めた。
[Molding rate]
The depth of the lattice structure 11G of the first layer 11 was measured using a scanning probe microscope (AFM5400L/manufactured by Hitachi High-Tech Science) to obtain the ratio to the depth of the original for forming the lattice structure 11G.

[クラック有無]
カードを目視で確認し、光学素子上に図69のようなクラックが発生していなければ〇、発生していれば×とした。
[Presence or absence of cracks]
The card was visually checked, and if cracks as shown in FIG. 69 did not occur on the optical element, it was evaluated as ◯, and if it occurred, it was evaluated as x.

[評価結果]
評価結果は表1に示した通り、本発明に則り作製した実施例1および2は製造工程への影響なくカードラミネート時のクラックを抑制することができた。一方で紫外線硬化性樹脂の分子量が小さい比較例1およびウレタン樹脂の添加量が多すぎる比較例3は溶剤乾燥後もタックが残り、その後のプロセスに適用できずカード作製まで行えなかった。ウレタン樹脂の添加量が少なすぎる比較例2はカードラミネート時のクラックを抑制できなかった。またウレタン樹脂の分子量が大きく、ナノインデンター硬さも硬く、破断伸度も低い比較例4もカードラミネート時のクラックを抑制できず、成形性も低下する結果となった。
[Evaluation results]
As shown in Table 1, the evaluation results of Examples 1 and 2 produced according to the present invention were able to suppress cracks during card lamination without affecting the manufacturing process. On the other hand, in Comparative Example 1, in which the molecular weight of the UV-curable resin was small, and in Comparative Example 3, in which the amount of urethane resin added was too large, tackiness remained even after the solvent was dried. In Comparative Example 2, in which the amount of urethane resin added was too small, cracks during card lamination could not be suppressed. Also, in Comparative Example 4, in which the urethane resin had a large molecular weight, a high nanoindenter hardness, and a low elongation at break, cracks during card lamination could not be suppressed, resulting in poor moldability.

Figure 2023074287000002
Figure 2023074287000002

以上、本発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成は本実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計,本発明が目的とするものと均等な効果をもたらす全ての実施形態をも含むことができる。
更に、本開示の範囲は、請求項により画される発明の特徴(feature)に限定されるものではなく、全ての開示されたそれぞれの特徴(feature)、その特徴(feature)のあらゆる組み合わせも含む。
Although the embodiments of the present invention have been described in detail above with reference to the drawings, the specific configuration is not limited to the present embodiments, and the design and the present invention are provided within the scope of the gist of the present invention. It can also include all embodiments that provide equivalent effects.
Furthermore, the scope of the present disclosure is not limited to the inventive features defined by the claims, but includes each and every feature disclosed, and any combination of the features. .

本開示で用いられる「部分」、「要素」、「画素」、「セグメント」「単位」「印刷体」、「物品」という用語は、物理的存在である。物理的存在は、物質的形態または、物質に囲まれた空間的形態を指すことができる。物理的存在は、構造体とできる。構造体は、特定の機能を有するものとできる。特定の機能を有した構造体の組合せは、各構造体の各機能の組合せにより相乗的効果を発現できる。 The terms "portion", "element", "pixel", "segment", "unit", "print", and "article" as used in this disclosure are physical entities. A physical presence can refer to a physical form or a spatial form surrounded by matter. A physical entity can be a structure. A structure may have a specific function. A combination of structures having specific functions can exhibit a synergistic effect due to the combination of each function of each structure.

本開示および特に添付の特許請求の範囲内で使用される用語(例えば、添付の特許請求の範囲の本文)は、一般的に、「オープンな」用語として意図される(例えば、「有する」という用語は、「少なくとも有する」と解釈すべきであり、「含む」という用語は「含むがそれに限定されない」などと解釈されるべきである。 The terms used in the present disclosure and particularly in the appended claims (eg, in the appended claim text) are generally intended as "open" terms (eg, "having"). The terms are to be interpreted as "having at least", the term "including" is to be interpreted as "including but not limited to", and so on.

また、用語、構成、特徴(feature)、側面、実施形態を解釈する場合、必要に応じて図面を参照すべきである。図面により、直接的かつ一義的に導き出せる事項は、テキストと同等に、補正の根拠となるべきである。 Also, when interpreting terms, configurations, features, aspects, and embodiments, reference should be made to the drawings as necessary. Matters that can be directly and unambiguously derived from drawings should serve as grounds for amendment in the same way as text.

さらに、特定の数の導入された請求項の記載が意図される場合、そのような意図は、請求項に明示的に記載され、そのような記載がない場合、そのような意図は存在しない。例えば、理解を助けるために、以下の添付の特許請求の範囲は、「少なくとも1つ」および「1つまたは複数」の導入句の使用を含み、請求の列挙を導入することができる。しかしながら、そのような語句の使用は、不定冠詞「a」または「an」によるクレーム記載の
導入が、そのようなクレームを含む特定のクレームを、そのような記載を1つだけ含む実施形態に限定することを意味すると解釈されるべきではない。 「1つ以上」または「少なくとも1つ」の冒頭の語句および「a」または「an」などの不定冠詞(例えば、「a」および/または「an」)は、少なくとも「少なくとも」を意味すると解釈されるべきである。「1つ」または「1つ以上」)。請求項の記述を導入するために使用される明確な記事の使用についても同様である。
Moreover, where a particular number of introduced claim recitations are intended, such intentions are expressly recited in the claims; in the absence of such recitations, no such intention exists. For example, to aid understanding, the following appended claims contain usage of the introductory phrases "at least one" and "one or more" to introduce claim recitations. However, use of such phrases indicates that the introduction of a claim recitation by the indefinite article "a" or "an" limits any particular claim containing such claim to embodiments containing only one such recitation. should not be construed to mean that Initial phrases of "one or more" or "at least one" and indefinite articles such as "a" or "an" (e.g., "a" and/or "an") shall be construed to mean at least "at least" It should be. "one" or "one or more"). The same is true for the use of distinct words used to introduce claim recitations.

実施形態に関し付記する。
(付記1)
第1層と、前記第1層に接する第2層と、前記第2層に接する第3層とを備え、各層が光透光過性を有し、光学素子であって、
前記第1層は第1の屈折率を有する樹脂製の層であり、前記第2層に接する第1面を有し、前記第1面の少なくとも一部に凹部および凸部によって形成された格子構造を含み、
前記第2層は前記第1の屈折率よりも高い第2の屈折率を有する誘電体製の層であり、前記格子構造に追従した凹凸状を有し、
前記第3層は、前記第2の屈折率よりも低い第3の屈折率を有する樹脂製の層であり、
前記第1面は凹凸面を有し、 前記格子構造は第1格子構造と第2格子構造とを含み、
前記凹凸面は、前記第1格子構造が位置する第1領域と、前記第1面に対向する平面視において前記第1領域に近接し、前記第2格子構造が位置する第2領域とを含み、
前記第1格子構造の方位角と、前記第2格子構造の方位角とが互いに等しいか、または直交し、
前記第1格子構造および前記第2格子構造の格子周期が、250nm以上500nm以下であり、
前記第1格子構造の格子周期と、前記第2格子構造の格子周期との差が、20nm以上である
光学素子。
(付記2)
前記第1領域と前記第2領域との間に位置する第3領域をさらに備え、
前記第2層に対して前記第3層とは反対側に位置する光源から前記光学素子に対し光が照射されている状態を前記光源の側からある観察角度で観察するとき、前記光学素子は、前記第3領域が呈する色が、前記第1領域が呈する色、および、前記第2領域が呈する色の両方と異なる状態を有する
付記1に記載の光学素子。
(付記3)
要素内において格子構造の方位角、格子周期、構造高さ、および、格子構造の凹部と凸部との比率のいずれかが変化している
付記1または2に記載の光学素子。
(付記4)
前記第3領域は、前記第1層の前記第1面において平坦面によって形成され、
前記平坦面の平均粗さSaが、20μm以下である
付記2または3に記載の光学素子。
(付記5)
前記第3領域は、前記第3領域に入射した光の正反射方向とは異なる方向に指向性を有した散乱構造、または、反射防止構造を含む
付記2から4いずれか一つに記載の光学素子。
(付記6)
前記第3領域は、一定な幅を有する
付記2から5のいずれか一つに記載の光学素子。
(付記7)
前記第3領域は、第1部分と第2部分とを含み、前記第1部分の幅は前記第2部分の幅
と異なる
付記2から5のいずれか一つに記載の光学素子。
(付記8)
前記第3領域の幅は、30μm以上3000μm以下である
付記2から6のいずれか一つに記載の光学素子。
(付記9)
前記第1領域および前記第2領域は、各々0.1mm2以下の面積を有するように区画された複数のセルをそれぞれ含み、
前記第1領域および前記第2領域は、前記セルの少なくとも一部に前記格子構造が位置する前記セルを含む
付記1から7のいずれか一つに記載の光学素子。
(付記10)
前記各セルにおいて、前記第1領域および/または前記第2領域は、面積率が互いに異なるセルを含む付記8に記載の光学素子。
(付記11)
前記面積率が、漸次的に変化する付記9に記載の光学素子。
(付記12)
前記第1層に対して、前記第2層とは反対側に位置する樹脂層をさらに備え、
前記第1層の硬度が、前記樹脂層の硬度および前記第3層の硬度よりも高い
付記1から10いずれか一つに記載の光学素子。
(付記13)
前記第1層は、紫外線硬化性樹脂によって形成され、
前記第1層の厚さが、1μm以上10μm以下であり、
前記樹脂層および前記第3層は、熱可塑性樹脂によって形成される
付記9に記載の光学素子。
(付記14)
前記第1層に対して、前記第2層とは反対側に位置する樹脂層をさらに備え、
前記第1層、前記第3層、および、前記樹脂層の少なくとも1つがフィラーを含み、
前記フィラーの平均粒径は、400nm以下である
付記1から13に記載の光学素子。
(付記15)
請求項1から13いずれか一つに記載の光学素子が識別情報を覆う認証体。
A supplementary remark is made regarding the embodiment.
(Appendix 1)
An optical element comprising a first layer, a second layer in contact with the first layer, and a third layer in contact with the second layer, each layer having light transmissivity,
The first layer is a resin layer having a first refractive index, has a first surface in contact with the second layer, and has a grating formed by concave portions and convex portions on at least a portion of the first surface. including structure,
The second layer is a dielectric layer having a second refractive index higher than the first refractive index, and has an uneven shape following the lattice structure,
The third layer is a resin layer having a third refractive index lower than the second refractive index,
the first surface has an uneven surface, the lattice structure includes a first lattice structure and a second lattice structure,
The uneven surface includes a first region where the first lattice structure is located, and a second region adjacent to the first region in plan view facing the first surface and where the second lattice structure is located. ,
the azimuth angle of the first lattice structure and the azimuth angle of the second lattice structure are equal to or orthogonal to each other;
grating periods of the first grating structure and the second grating structure are 250 nm or more and 500 nm or less;
An optical element, wherein a difference between a grating period of the first grating structure and a grating period of the second grating structure is 20 nm or more.
(Appendix 2)
Further comprising a third region located between the first region and the second region,
When a state in which the optical element is irradiated with light from a light source located on the side opposite to the third layer with respect to the second layer is observed from the light source side at a certain observation angle, the optical element , the optical element according to appendix 1, wherein the color exhibited by the third region is different from both the color exhibited by the first region and the color exhibited by the second region.
(Appendix 3)
3. The optical element according to appendix 1 or 2, wherein any one of the azimuth angle of the grating structure, the grating period, the structure height, and the ratio of the concave parts to the convex parts of the grating structure is changed in the element.
(Appendix 4)
the third region is formed by a flat surface on the first surface of the first layer;
4. The optical element according to appendix 2 or 3, wherein the flat surface has an average roughness Sa of 20 μm or less.
(Appendix 5)
5. The optical system according to any one of appendices 2 to 4, wherein the third region includes a scattering structure or an antireflection structure having directivity in a direction different from the regular reflection direction of light incident on the third region. element.
(Appendix 6)
6. The optical element according to any one of appendices 2 to 5, wherein the third region has a constant width.
(Appendix 7)
6. The optical element according to any one of Appendixes 2 to 5, wherein the third region includes a first portion and a second portion, and the width of the first portion is different from the width of the second portion.
(Appendix 8)
7. The optical element according to any one of appendices 2 to 6, wherein the width of the third region is 30 μm or more and 3000 μm or less.
(Appendix 9)
The first region and the second region each include a plurality of cells partitioned to have an area of 0.1 mm or less,
8. The optical element according to any one of appendices 1 to 7, wherein the first region and the second region include the cells in which the grating structure is located in at least part of the cells.
(Appendix 10)
9. The optical element according to appendix 8, wherein in each of the cells, the first region and/or the second region include cells having different area ratios.
(Appendix 11)
9. The optical element according to appendix 9, wherein the area ratio changes gradually.
(Appendix 12)
Further comprising a resin layer located on the side opposite to the second layer with respect to the first layer,
11. The optical element according to any one of Appendixes 1 to 10, wherein hardness of the first layer is higher than hardness of the resin layer and hardness of the third layer.
(Appendix 13)
The first layer is formed of an ultraviolet curable resin,
The thickness of the first layer is 1 μm or more and 10 μm or less,
The optical element according to appendix 9, wherein the resin layer and the third layer are made of a thermoplastic resin.
(Appendix 14)
Further comprising a resin layer located on the side opposite to the second layer with respect to the first layer,
At least one of the first layer, the third layer, and the resin layer contains a filler,
14. The optical element according to appendices 1 to 13, wherein the filler has an average particle size of 400 nm or less.
(Appendix 15)
14. An authentication body in which the optical element according to any one of claims 1 to 13 covers identification information.

10,20,30,40,50,60…光学素子、10S…観察面、11…第1層、11G…格子構造、11G1…第1格子構造、11G2…第2格子構造、11P1,11P2…パターン要素、11R,12R,13R,61R…裏面、11R1,11R2,11R3,11R4,11R5…画像要素、11Re,12Re,13Re,61Re…レリーフ面、11S,12F,13F,42F,80F,100F,200F…表面、11S1…モチーフ領域、11S2…背景領域、11S3…境界領域、12…第2層、12V…仮想層、13…第3層、14…樹脂層、15…保護層、16…印字層、17…白色層、20A…第1部分、20AG…第1格子、20B…第2部分、20BG…第2格子、20C…第3部分、20CG…第3格子、31,41…フィラー、42,51…第4層、61…レリーフ層、62…反射層、63,71…接着層、64…基材、65…第1基材、66…第2基材、66a…第1発色部、66b…第2発色部、68,69,73…剥離層、70…転写箔、72…支持層、80,100,200…IDカード、81…第1画像、81a…顔画像、81b…背景画像、82…第2画像、83…第3画像、91…白色層、92…下部保護層、93…上部保護層、94…印刷、101…表示層、101F…表示面、V…検証器、GP…格子パターン、LS…光源、OB…観察者、P1…第1像、P2…第2像、P3…第3像、P3a…QRコード(登録商標)、Px…セル、AGP…第1格子構造、BGP…第2格子構造、CGP…第3格子構造、G1A…第1格子、G1B…第2格子、GPG…格子群、Ph0…基準平面、Ph1…第1平面、Ph2…第2平面、Ph3…第3平面、Px1…第1セル、Px2…第2セル、Px3…第3セル、Px4…第4セル、S1A…第1要素、S1B…第2要素 10, 20, 30, 40, 50, 60... optical element, 10S... viewing surface, 11... first layer, 11G... grating structure, 11G1... first grating structure, 11G2... second grating structure, 11P1, 11P2... pattern Elements 11R, 12R, 13R, 61R Back surface 11R1, 11R2, 11R3, 11R4, 11R5 Image elements 11Re, 12Re, 13Re, 61Re Relief surface 11S, 12F, 13F, 42F, 80F, 100F, 200F Surface 11S1 Motif area 11S2 Background area 11S3 Boundary area 12 Second layer 12V Virtual layer 13 Third layer 14 Resin layer 15 Protective layer 16 Printed layer 17 White layer 20A First portion 20AG First grating 20B Second portion 20BG Second grating 20C Third portion 20CG Third grating 31, 41 Filler 42, 51 Fourth layer 61 Relief layer 62 Reflective layer 63, 71 Adhesive layer 64 Base material 65 First base material 66 Second base material 66a First coloring portion 66b Second 2 Color development part 68, 69, 73 Release layer 70 Transfer foil 72 Support layer 80, 100, 200 ID card 81 First image 81a Face image 81b Background image 82 Second image, 83... Third image, 91... White layer, 92... Lower protective layer, 93... Upper protective layer, 94... Printing, 101... Display layer, 101F... Display surface, V... Verifier, GP... Lattice pattern , LS...light source, OB...observer, P1...first image, P2...second image, P3...third image, P3a...QR code (registered trademark), Px...cell, AGP...first grating structure, BGP... Second grating structure, CGP... Third grating structure, G1A... First grating, G1B... Second grating, GPG... Grating group, Ph0... Reference plane, Ph1... First plane, Ph2... Second plane, Ph3... Third grating Plane, Px1... 1st cell, Px2... 2nd cell, Px3... 3rd cell, Px4... 4th cell, S1A... 1st element, S1B... 2nd element

Claims (15)

第1層と、前記第1層に接する第2層と、前記第2層に接する第3層とを備え、各層が光透光過性を有する光学素子であって、
前記第1層は第1の屈折率を有する樹脂製の層であり、
前記第2層に接する第1面を有し、前記第1面の少なくとも一部に凹部および凸部によって形成された格子構造を含み、
前記第2層は前記第1の屈折率よりも高い第2の屈折率を有する誘電体製の層であり、前記格子構造に追従した凹凸状を有し、
前記第3層は、前記第2の屈折率よりも低い第3の屈折率を有する樹脂製の層であり、
前記第1面は凹凸面を有し、 前記格子構造は第1格子構造と第2格子構造とを含み、
前記凹凸面は、前記第1格子構造が位置する第1領域と、前記第1面に対向する平面視において前記第1領域に近接し、前記第2格子構造が位置する第2領域とを含み、
前記第1格子構造の方位角と、前記第2格子構造の方位角とが互いに等しく、
前記第1格子構造および前記第2格子構造の格子周期が、250nm以上500nm以下であり、
前記第1格子構造の格子周期と、前記第2格子構造の格子周期との差が、20nm以上であり、
前記第1層は少なくとも分子量20000以上100000未満の紫外線硬化性樹脂に対し、分子量1000以上10000未満のウレタン樹脂を、重量比5%以上45%未満含む、光学素子。
An optical element comprising a first layer, a second layer in contact with the first layer, and a third layer in contact with the second layer, each layer having a light-transmitting property,
The first layer is a resin layer having a first refractive index,
including a lattice structure having a first surface in contact with the second layer and formed by recesses and protrusions on at least a portion of the first surface;
The second layer is a dielectric layer having a second refractive index higher than the first refractive index, and has an uneven shape following the lattice structure,
The third layer is a resin layer having a third refractive index lower than the second refractive index,
the first surface has an uneven surface, the lattice structure includes a first lattice structure and a second lattice structure,
The uneven surface includes a first region where the first lattice structure is located, and a second region adjacent to the first region in plan view facing the first surface and where the second lattice structure is located. ,
the azimuth angle of the first lattice structure and the azimuth angle of the second lattice structure are equal to each other;
grating periods of the first grating structure and the second grating structure are 250 nm or more and 500 nm or less;
the difference between the grating period of the first grating structure and the grating period of the second grating structure is 20 nm or more;
The optical element, wherein the first layer contains a urethane resin having a molecular weight of 1000 or more and less than 10000 in a weight ratio of 5% or more and less than 45% with respect to an ultraviolet curable resin having a molecular weight of 20000 or more and less than 100000.
前記第1層は少なくともナノインデンター硬さが0.03GPa以上0.5未満であることを特徴とする光学素子。 The optical element, wherein the first layer has a nanoindenter hardness of at least 0.03 GPa or more and less than 0.5. 前記第1層を少なくとも厚さ100μmの2軸延伸PETフィルム上に厚さ5μm設けた際に、破断伸度が0.5%以上50%未満であることを特徴とする光学素子。 An optical element characterized in that the elongation at break is 0.5% or more and less than 50% when the first layer is provided on a biaxially stretched PET film having a thickness of at least 100 μm and a thickness of 5 μm. 前記第1領域と前記第2領域との間に位置する第3領域をさらに備え、
前記第2層に対して前記第3層とは反対側に位置する光源から前記光学素子に対し光が照射されている状態を前記光源の側からある観察角度で観察するとき、前記光学素子は、前記第3領域が呈する色が、前記第1領域が呈する色、および、前記第2領域が呈する色の両方と異なる状態を有する
請求項1に記載の光学素子。
Further comprising a third region located between the first region and the second region,
When a state in which the optical element is irradiated with light from a light source located on the side opposite to the third layer with respect to the second layer is observed from the light source side at a certain observation angle, the optical element 2. The optical element according to claim 1, wherein the color exhibited by the third region is different from both the color exhibited by the first region and the color exhibited by the second region.
前記第3領域は、前記第1層の前記第1面において平坦面によって形成され、
前記平坦面の平均粗さSaが、20μm以下である
請求項2に記載の光学素子。
the third region is formed by a flat surface on the first surface of the first layer;
The optical element according to claim 2, wherein the flat surface has an average roughness Sa of 20 µm or less.
前記第3領域は、前記第3領域に入射した光の正反射方向とは異なる方向に指向性を有した散乱構造、または、反射防止構造を含む
請求項2に記載の光学素子。
3. The optical element according to claim 2, wherein the third region includes a scattering structure or an antireflection structure having directivity in a direction different from the regular reflection direction of light incident on the third region.
前記第3領域は、一定な幅を有する
請求項2から4のいずれか一項に記載の光学素子。
The optical element according to any one of claims 2 to 4, wherein the third region has a constant width.
前記第3領域は、第1部分と第2部分とを含み、前記第1部分の幅は前記第2部分の幅と異なる
請求項2から4のいずれか一項に記載の光学素子。
The optical element according to any one of claims 2 to 4, wherein the third region includes a first portion and a second portion, the width of the first portion being different from the width of the second portion.
前記第3領域の幅は、30μm以上3000μm以下である
請求項2から6のいずれか一項に記載の光学素子。
The optical element according to any one of claims 2 to 6, wherein the width of the third region is 30 µm or more and 3000 µm or less.
前記第1領域および前記第2領域は、各々0.1mm以下の面積を有するように区画された複数のセルをそれぞれ含み、
前記第1領域および前記第2領域は、前記セルの少なくとも一部に前記格子構造が位置する前記セルを含む
請求項1から7のいずれか一項に記載の光学素子。
The first region and the second region each include a plurality of cells partitioned to have an area of 0.1 mm 2 or less,
8. The optical element according to any one of claims 1 to 7, wherein the first region and the second region comprise the cells in which the grating structure is located in at least part of the cells.
前記第1層に対して、前記第2層とは反対側に位置する樹脂層をさらに備え、
前記第1層の硬度が、前記樹脂層の硬度および前記第3層の硬度よりも高い
請求項1から8のいずれか一項に記載の光学素子。
Further comprising a resin layer located on the side opposite to the second layer with respect to the first layer,
The optical element according to any one of claims 1 to 8, wherein the hardness of the first layer is higher than the hardness of the resin layer and the hardness of the third layer.
前記第1層は、紫外線硬化性樹脂によって形成され、
前記第1層の厚さが、1μm以上10μm以下であり、
前記樹脂層および前記第3層は、熱可塑性樹脂によって形成される
請求項9に記載の光学素子。
The first layer is formed of an ultraviolet curable resin,
The thickness of the first layer is 1 μm or more and 10 μm or less,
The optical element according to claim 9, wherein the resin layer and the third layer are made of thermoplastic resin.
前記第1層に対して、前記第2層とは反対側に位置する樹脂層をさらに備え、
前記第1層、前記第3層、および、前記樹脂層の少なくとも1つがフィラーを含み、
前記フィラーの平均粒径は、400nm以下である
請求項1から10のいずれか一項に記載の光学素子。
Further comprising a resin layer located on the side opposite to the second layer with respect to the first layer,
At least one of the first layer, the third layer, and the resin layer contains a filler,
The optical element according to any one of claims 1 to 10, wherein the filler has an average particle size of 400 nm or less.
請求項1から13のいずれか一項に記載の光学素子が識別情報を備える認証体。 14. An authenticator in which the optical element according to any one of claims 1 to 13 is provided with identification information. 前記光学素子はポリカーボネート製カードに内装され、前記ポリカーボネート製カードを構成する各ポリカーボネートシートは、ガラス転移温度が100℃以上160℃未満であり、線熱膨張係数が6×10-5/K以上8×10-5/K未満であり、厚さが30μm以上200μm未満であり、かつ前記光学素子が接する表面の算術平均面粗さSaが1μm以上7μm未満であることを特徴とする請求項1から14のいずれか一項に記載の光学素子。 The optical element is contained in a polycarbonate card, and each polycarbonate sheet constituting the polycarbonate card has a glass transition temperature of 100° C. or more and less than 160° C. and a linear thermal expansion coefficient of 6×10 −5 /K or more. × 10 -5 /K or less, the thickness is 30 µm or more and less than 200 µm, and the arithmetic mean surface roughness Sa of the surface in contact with the optical element is 1 µm or more and less than 7 µm. 15. The optical element according to any one of 14.
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