JP2023071105A - Heat-conductive silicone rubber composition - Google Patents

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thermally conductive
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祐貴 櫻井
Suketaka Sakurai
晃洋 遠藤
Akihiro Endo
淳一 塚田
Junichi Tsukada
良一 住吉
Ryoichi Sumiyoshi
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

To provide a heat-conductive silicone rubber composition from which is obtained a cured product that is highly heat-conductive and has, by post-curing at a low temperature, a sufficient low-molecular siloxane removing effect and sufficient hardness.SOLUTION: A heat-conductive silicone rubber composition comprises: (A) 100 pts.mass of an organopolysiloxane having an average degree of polymerization of 3,000-10,000 and a total content of a diorganocyclopolysiloxane having 3 to 10 silicon atoms of 500 ppm or less; (B) 10-100 pts.mass of an organopolysiloxane having alkenyl groups only at both ends of a molecular chain having an average degree of polymerization of 2-2,000 and; (C) 500-2,700 pts.mass of a heat-conductive filler; and (D) an effective amount of a curing agent.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、熱伝導性シリコーンゴム組成物、およびこの組成物を用いた放熱成形体に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a thermally conductive silicone rubber composition and a heat-dissipating molding using this composition.

コンバーターや電源などの電子機器に使用されるトランジスタやダイオードなどの半導体は、高性能化・高速化・小型化・高集積化に伴い、それ自身が大量の熱を発生するようになっている。それが原因で、機器の温度上昇は動作不良や破壊を引き起こすことがある。そのため、動作中の半導体の温度上昇を抑制するための多くの熱放散方法およびそれに使用する熱放散部材が提案されている。 Semiconductors such as transistors and diodes used in electronic devices such as converters and power supplies generate a large amount of heat as they become more sophisticated, faster, smaller and more highly integrated. Due to this, the temperature rise of the equipment may cause malfunction or destruction. Therefore, many heat dissipation methods and heat dissipation members used therefor have been proposed to suppress the temperature rise of semiconductors during operation.

例えば、電子機器等において動作中の半導体の温度上昇を抑えるために、アルミニウムや銅等の熱伝導率の高い金属板を用いたヒートシンクが使用されている。このヒートシンクは、半導体が発生する熱を伝導し、その熱を外気との温度差によって表面から放出する。一方、半導体とヒートシンクの間は電気的に絶縁されていなければならず、そのために、発熱性電子部品とヒートシンクとの間にプラスチックフィルムなどを介在させている。しかし、プラスチックフィルムは極めて熱伝導率が低いため、ヒートシンクへの熱の伝達を著しく妨げる。 For example, a heat sink using a metal plate with high thermal conductivity such as aluminum or copper is used in order to suppress temperature rise of a semiconductor during operation in an electronic device or the like. This heat sink conducts the heat generated by the semiconductor and releases the heat from the surface due to the temperature difference with the outside air. On the other hand, the semiconductor and the heat sink must be electrically insulated, so a plastic film or the like is interposed between the heat-generating electronic component and the heat sink. However, the plastic film has a very low thermal conductivity and significantly impedes the transfer of heat to the heat sink.

そこで、破れにくくかつ熱伝導性を付与するために、ガラスクロスに熱伝導性樹脂を積層した熱伝導性シートが開発されている。例えば、ガラスクロスに、窒化ホウ素粉末と球状シリカ粉末を熱伝導性充填材として含んだシリコーンゴムを積層した熱伝導性シートがある(特許文献1)。しかしながら、平面状に成形した放熱シートを配置する場合には、絶縁のための沿面距離が大きくなりすぎる問題があった。 Therefore, a thermally conductive sheet has been developed in which a thermally conductive resin is laminated on a glass cloth in order to impart thermal conductivity and resistance to tearing. For example, there is a thermally conductive sheet in which silicone rubber containing boron nitride powder and spherical silica powder as thermally conductive fillers is laminated on glass cloth (Patent Document 1). However, in the case of arranging a planar heat-dissipating sheet, there is a problem that the creepage distance for insulation becomes too large.

上記理由からチューブ形状やキャップ形状に成形した放熱成形物を用いて電子部品を包み込む提案がなされている(特許文献2)。しかしながら、熱伝導性を高めるために熱伝導性フィラーを高充填した場合、成形物の弾性や伸びが低下し、電子部品に成形物を装着する際に成形物が破れたり、割れたり、切れたりする問題があった。また、電子部品への放熱成形物の適用においては、低分子シロキサンを原因とする接点障害を防止するため、放熱成形物に高温ポストキュアを施し、低分子シロキサンを除去する必要がある。だが、このポストキュアによってさらに成形物が脆化し、電子部品への装着が困難となる問題があった。 For the reasons described above, a proposal has been made to wrap electronic components using a heat-dissipating molding molded in the shape of a tube or a cap (Patent Document 2). However, when the thermally conductive filler is highly filled in order to increase the thermal conductivity, the elasticity and elongation of the molded product are reduced, and the molded product may be torn, cracked, or cut when the molded product is attached to the electronic component. there was a problem with In addition, in the application of heat-dissipating molded products to electronic parts, in order to prevent contact failures caused by low-molecular-weight siloxane, the heat-dissipating-molded product must be subjected to high-temperature post-curing to remove low-molecular-weight siloxane. However, this post-curing causes the molding to become more brittle, making it difficult to attach it to electronic parts.

特開平9-199880号公報JP-A-9-199880 実開昭57-2666号公報Japanese Utility Model Laid-Open No. 57-2666

本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、高熱伝導かつ低温でのポストキュアで充分な低分子シロキサン除去効果および強度を有する硬化物が得られる熱伝導性シリコーンゴム組成物を提供することを目的とする。また、本熱伝導性シリコーンゴム組成物を用いた、低分子シロキサン含有量が少なく、容易に電子部品への実装が可能な放熱成形体を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a thermally conductive silicone rubber composition which, when post-cured at a low temperature and has high thermal conductivity, yields a cured product having a sufficient low-molecular-weight siloxane-removing effect and strength. With the goal. Another object of the present invention is to provide a heat-dissipating molded article that contains a small amount of low-molecular-weight siloxane and that can be easily mounted on electronic parts using the present thermally-conductive silicone rubber composition.

上記課題を解決するために、本発明では、
(A)平均重合度が3,000~10,000であり、ケイ素原子数3~10のジオルガノシクロポリシロキサンの合計含有量が500ppm以下であるオルガノポリシロキサン:100質量部、
(B)平均重合度2~2,000の分子鎖両末端にのみアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン:10~100質量部、
(C)熱伝導性充填材:500~2,700質量部、及び
(D)硬化剤:有効量
を含有するものであることを特徴とする熱伝導性シリコーンゴム組成物を提供する。
In order to solve the above problems, in the present invention,
(A) an organopolysiloxane having an average degree of polymerization of 3,000 to 10,000 and a total content of diorganocyclopolysiloxane having 3 to 10 silicon atoms of 500 ppm or less: 100 parts by mass;
(B) an organopolysiloxane having an average degree of polymerization of 2 to 2,000 and having alkenyl groups only at both ends of the molecular chain: 10 to 100 parts by mass;
(C) a thermally conductive filler: 500 to 2,700 parts by mass; and (D) a curing agent: an effective amount.

本発明の熱伝導性シリコーンゴム組成物であれば、高熱伝導かつ低温でのポストキュアで充分な低分子シロキサン除去効果および強度を有する硬化物が得られる。 With the thermally conductive silicone rubber composition of the present invention, a cured product having high thermal conductivity and sufficient low-molecular-weight siloxane removal effect and strength can be obtained by post-curing at a low temperature.

本発明の熱伝導性シリコーンゴム組成物は、さらに
(E)(E1)下記式(1):
Si(OR4-b-c (1)
(式中、Rは独立して炭素原子数6~15のアルキル基であり、Rは独立して炭素原子数1~5のアルキル基であり、Rは独立して炭素原子数1~4のアルキル基であり、bは1~3の整数であり、cは0、1又は2であり、但しb+cは1~3である。)
で表されるアルコキシシラン、および
(E2)下記式(2):

Figure 2023071105000002
(式中、Rは独立して炭素原子数1~4のアルキル基であり、dは5~100の整数である。)
で表される片末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたジメチルポリシロキサン
のうちから選択される1つ以上を、有機ケイ素化合物成分の合計量中、0.01~30質量%含むものであることが好ましい。 The thermally conductive silicone rubber composition of the present invention further comprises (E) (E1) the following formula (1):
R 2 b R 3 c Si(OR 4 ) 4-bc (1)
(wherein R 2 is independently an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms, R 3 is independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 4 is independently a ~4 alkyl group, b is an integer from 1 to 3, c is 0, 1 or 2, with the proviso that b+c is from 1 to 3.)
and (E2) the following formula (2):
Figure 2023071105000002
(Wherein, R 5 is independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and d is an integer of 5 to 100.)
0.01 to 30 mass% of the total amount of the organosilicon compound components is preferably one or more selected from dimethylpolysiloxane whose one end is blocked with a trialkoxysilyl group represented by .

このような熱伝導性シリコーンゴム組成物であれば、非球状の熱伝導性充填材の有機ケイ素化合物成分への充填が容易になり、得られる硬化物の強度が充分になる。 With such a thermally conductive silicone rubber composition, filling of the organosilicon compound component with the non-spherical thermally conductive filler is facilitated, and the strength of the resulting cured product is sufficient.

本発明では、前記熱伝導性シリコーンゴム組成物の可塑度が100~800であることが好ましい。 In the present invention, the plasticity of the thermally conductive silicone rubber composition is preferably 100-800.

このような熱伝導性シリコーンゴム組成物であれば、組成物がべたつかず、ロール作業等での取り扱いが容易になり、組成物の混練が容易にできる。 With such a thermally conductive silicone rubber composition, the composition is non-sticky, can be easily handled in rolling operations, and can be easily kneaded.

また、本発明は、上記熱伝導性シリコーンゴム組成物を硬化してなる硬化物を提供する。 The present invention also provides a cured product obtained by curing the thermally conductive silicone rubber composition.

このような硬化物であれば、高熱伝導かつ低温でのポストキュアで充分な低分子シロキサン除去効果および強度が得られる。 With such a cured product, sufficient low-molecular-weight siloxane removal effect and strength can be obtained by post-curing at a high heat conductivity and at a low temperature.

更に、本発明は、上記硬化物からなる放熱成形体であって、上記硬化物の熱伝導率が1.5W/m・K以上である放熱成形体を提供する。 Furthermore, the present invention provides a heat-dissipating molded article comprising the cured product, wherein the cured material has a thermal conductivity of 1.5 W/m·K or more.

このような放熱成形体であれば、好適な放熱性能を有し、低分子シロキサン含有量が少なく、容易に電子部品への実装が可能なものとなる。 Such a heat-dissipating molded product has suitable heat-dissipating performance, contains a small amount of low-molecular-weight siloxane, and can be easily mounted on electronic components.

本発明の放熱成形体は、上記硬化物のJIS K6253-3:2012に記載のタイプAデュロメータ硬さが60~96の範囲であることが好ましい。 In the heat-dissipating molded product of the present invention, the cured product preferably has a type A durometer hardness of 60 to 96 according to JIS K6253-3:2012.

このような放熱成形体であれば、取扱い時に硬化物層表面に傷が付きにくく、成形の際、硬化物の表面同士が融着したり、変形したりすることもないし、柔軟性に優れ、成形物を取り扱う際に割れが発生することもない。 With such a heat-dissipating molding, the surface of the cured product layer is less likely to be scratched during handling, the surfaces of the cured product do not fuse or deform during molding, and the product is excellent in flexibility. Cracks do not occur when the molding is handled.

上記放熱成形体は、上記硬化物の厚さが0.45mmのときの耐電圧が、4.5kV以上であることが好ましい。 It is preferable that the heat-dissipating molding has a withstand voltage of 4.5 kV or more when the cured product has a thickness of 0.45 mm.

このような放熱成形体であれば、電子部品に成形物を実装した際に、高電圧下にシートの絶縁破壊が発生することはない。 With such a heat-dissipating molded product, dielectric breakdown of the sheet does not occur under high voltage when the molded product is mounted on an electronic component.

また、上記放熱成形体は、150℃でポストキュアを1時間行った後のケイ素原子数3~10のジオルガノシクロポリシロキサンの含有量が100ppm以下であることが好ましい。 In addition, it is preferable that the content of diorganocyclopolysiloxane having 3 to 10 silicon atoms in the heat-dissipating molded article is 100 ppm or less after being post-cured at 150° C. for 1 hour.

このような放熱成形体であれば、経時で低分子シロキサンが揮発することによる接点障害の発生を効果的に防止できる。 With such a heat-dissipating molded product, it is possible to effectively prevent the occurrence of contact failure due to volatilization of low-molecular-weight siloxane over time.

本発明の熱伝導性シリコーンゴム組成物は、低温でのポストキュア工程を施した場合でも充分に低分子シロキサン含有量を小さくすることが可能である。また、本組成物を用いて成形した硬化物からなる放熱成形体は、高温ポストキュアによる脆化を抑制することが可能である。得られた放熱成形体は、熱伝導性、強度、絶縁性に優れ、低分子シロキサン含有量が少ないため、電子部品への実装が容易であるうえ、接点障害を防止できる。 The thermally conductive silicone rubber composition of the present invention can sufficiently reduce the low-molecular-weight siloxane content even when subjected to a post-curing process at a low temperature. In addition, a heat-dissipating molded article formed from a cured product molded using the present composition can be prevented from embrittlement due to high-temperature post-curing. The obtained heat-dissipating molded product has excellent thermal conductivity, strength, and insulating properties, and has a low content of low-molecular-weight siloxane, so that it can be easily mounted on electronic parts and can prevent contact failure.

実施例で作製した発熱性電子部品用カバーの形状を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the shape of a heat-generating electronic component cover produced in an example.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、低分子シロキサン含有量を一定値以下としたオルガノポリシロキサンに熱伝導性充填材を添加・混合した熱伝導性シリコーンゴム組成物を用いて放熱成形体を成形し、さらに低温にてポストキュアを施すことで、脆化を伴うことなく、また充分に低分子シロキサン含有量を低減した放熱成形体が得られることを見出し、本発明をなすに至った。 The inventors of the present invention have made intensive studies to achieve the above object, and as a result, have found a thermally conductive silicone rubber composition obtained by adding and mixing a thermally conductive filler to an organopolysiloxane having a low-molecular-weight siloxane content of a certain value or less. is used to form a heat-dissipating molded product, and post-curing at a low temperature can produce a heat-dissipating molded product with a sufficiently reduced low-molecular-weight siloxane content without embrittlement. I came up with the invention.

即ち、本発明は、下記(A)~(D)を含有するものであることを特徴とする熱伝導性シリコーンゴム組成物である。
(A)平均重合度が3,000~10,000であり、ケイ素原子数3~10のジオルガノシクロポリシロキサンの合計含有量が500ppm以下であるオルガノポリシロキサン:100質量部
(B)平均重合度2~2,000の分子鎖両末端にのみアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン:10~100質量部
(C)熱伝導性充填材:500~2,700質量部
(D)硬化剤:有効量
That is, the present invention is a thermally conductive silicone rubber composition characterized by containing the following (A) to (D).
(A) Organopolysiloxane having an average degree of polymerization of 3,000 to 10,000 and a total content of diorganocyclopolysiloxane having 3 to 10 silicon atoms of 500 ppm or less: 100 parts by mass (B) Average polymerization Organopolysiloxane having alkenyl groups only at both ends of the molecular chain with a degree of 2 to 2,000: 10 to 100 parts by mass (C) Thermally conductive filler: 500 to 2,700 parts by mass (D) Curing agent: Effective amount

以下、本発明の熱伝導性シリコーンゴム組成物および放熱成形体について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 The thermally conductive silicone rubber composition and heat-dissipating molding of the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited to them.

本発明は低温硬化可能な熱伝導性シリコーンゴム組成物を提供する。
本発明の熱伝導性シリコーンゴム組成物は、後述する特定の(A)~(D)成分を含有するものであることを特徴とする。必要に応じて、これら以外の成分を更に含んでもよい。以下、これら成分について説明する。
The present invention provides a low temperature curable thermally conductive silicone rubber composition.
The thermally conductive silicone rubber composition of the present invention is characterized by containing specific components (A) to (D) described below. If necessary, components other than these may be further included. These components are described below.

[(A)平均重合度3,000~10,000のオルガノポリシロキサン]
(A)成分は、熱伝導性シリコーンゴム組成物の主剤となるものであり、下記式(3)で示される平均組成式を有するものが好ましい。
SiO(4-n)/2 (3)
[(A) Organopolysiloxane having an average degree of polymerization of 3,000 to 10,000]
Component (A) is the main component of the thermally conductive silicone rubber composition, and preferably has an average compositional formula represented by the following formula (3).
RnSiO (4-n)/2 (3)

上記式(1)において、Rは独立して炭素数1~8の1価炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等のシクロアルキル基などが挙げられる。また、これらの基の炭素原子に直結した水素原子の一部又は全部を塩素、フッ素などのハロゲン原子で置換したものを用いてもよい。好ましくはメチル基、フェニル基、トリフロロプロピル基、ビニル基である。また、nは1.85~2.10の正数である。 In the above formula (1), R is independently a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, for example, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a vinyl group, an alkenyl group such as an allyl group, Aryl groups such as a phenyl group and a tolyl group, cycloalkyl groups such as a cyclohexyl group and a cyclopentyl group, and the like can be mentioned. Moreover, those obtained by substituting some or all of the hydrogen atoms directly attached to the carbon atoms of these groups with halogen atoms such as chlorine and fluorine may also be used. A methyl group, a phenyl group, a trifluoropropyl group and a vinyl group are preferred. Also, n is a positive number between 1.85 and 2.10.

オルガノポリシロキサンは直鎖状の分子構造を有することが好ましいが、分子中に一部分岐状の構造を有していてもよい。更にオルガノポリシロキサンは分子鎖末端をトリオルガノシリル基又は水酸基で封鎖されていることが好ましい。トリオルガノシリル基としては、トリメチルシリル基、ジメチルビニルシリル基、トリビニルシリル基、メチルフェニルビニルシリル基、メチルジフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジメチルヒドロキシシリル基等が例示される。 Organopolysiloxane preferably has a linear molecular structure, but may have a partially branched structure in the molecule. Furthermore, the organopolysiloxane preferably has a molecular chain end capped with a triorganosilyl group or a hydroxyl group. Examples of the triorganosilyl group include trimethylsilyl group, dimethylvinylsilyl group, trivinylsilyl group, methylphenylvinylsilyl group, methyldiphenylsilyl group, dimethylphenylsilyl group and dimethylhydroxysilyl group.

前記(A)成分の平均重合度は3,000~10,000であり、好ましくは5,000~10,000である。 The average degree of polymerization of component (A) is 3,000 to 10,000, preferably 5,000 to 10,000.

なお、本明細書中で言及する平均重合度とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレンを標準物質とした数平均分子量から求めた平均重合度を指すものとする。 The average degree of polymerization referred to in this specification refers to the average degree of polymerization obtained from the number average molecular weight obtained by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance.

(A)成分においては、ケイ素原子数3~10のジオルガノシクロポリシロキサンの合計含有量が500ppm以下であり、さらに300ppm以下であることがより好ましい。ケイ素原子数3~10のジオルガノシクロポリシロキサンの合計含有量が500ppmを超えると、成形体からの低分子除去に高温ポストキュアが必要となり、得られる成形体が脆化する場合があるほか、経時で成形体から低分子シロキサンが揮発し、接点障害の原因となる場合がある。
なお、本明細書において、ケイ素原子数3~10のジオルガノシクロポリシロキサンの合計含有量は、測定対象をガスクロマトグラフィー分析により測定することで求めることができる。
In component (A), the total content of diorganocyclopolysiloxanes having 3 to 10 silicon atoms is 500 ppm or less, more preferably 300 ppm or less. If the total content of diorganocyclopolysiloxane having 3 to 10 silicon atoms exceeds 500 ppm, high-temperature post-curing is required to remove low-molecular-weight substances from the molded article, and the resulting molded article may become brittle. Low-molecular-weight siloxane volatilizes from the molded product over time, which may cause contact failure.
In this specification, the total content of diorganocyclopolysiloxane having 3 to 10 silicon atoms can be determined by measuring the object to be measured by gas chromatography analysis.

[(B)平均重合度2~2,000の分子鎖両末端にのみアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン]
(B)成分は、熱伝導性シリコーンゴム組成物において、架橋反応に供される成分である。平均重合度が2~2,000であり、分子鎖両末端にのみアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンである。アルケニル基としては、炭素原子数2~8のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等が挙げられる。中でもビニル基、アリル基等炭素原子数2~4の低級アルケニル基が好ましく、特に好ましくはビニル基である。この(B)成分のオルガノポリシロキサンは、1種単独でも、平均重合度が異なる2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[(B) Organopolysiloxane having an average degree of polymerization of 2 to 2,000 and having alkenyl groups only at both ends of the molecular chain]
Component (B) is a component that undergoes a cross-linking reaction in the thermally conductive silicone rubber composition. It is an organopolysiloxane having an average degree of polymerization of 2 to 2,000 and having alkenyl groups only at both ends of the molecular chain. The alkenyl group is preferably an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, such as vinyl, allyl, propenyl, isopropenyl, butenyl, hexenyl, cyclohexenyl and the like. Among them, lower alkenyl groups having 2 to 4 carbon atoms such as vinyl group and allyl group are preferred, and vinyl group is particularly preferred. The (B) component organopolysiloxane may be used singly or in combination of two or more having different average degrees of polymerization.

前記(B)成分の平均重合度は2~2,000であり、好ましくは10~2,000である。 The average degree of polymerization of component (B) is 2 to 2,000, preferably 10 to 2,000.

前記(B)成分の配合量は、前記(A)成分100質量部に対して、10~100質量部が好ましく、30~70質量部がより好ましい。 The blending amount of component (B) is preferably 10 to 100 parts by mass, more preferably 30 to 70 parts by mass, per 100 parts by mass of component (A).

(B)成分として具体的には、下記一般式(4)で表されるものが挙げられる。

Figure 2023071105000003
(式中、Rは独立に脂肪族不飽和結合を有さない1価炭化水素基であり、Xはアルケニル基であり、aは0~1998の数である。) Specific examples of component (B) include those represented by the following general formula (4).
Figure 2023071105000003
(Wherein, R 1 is independently a monovalent hydrocarbon group having no aliphatic unsaturation, X is an alkenyl group, and a is a number from 0 to 1998.)

上記式中、Rの例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基などのアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニリル基等のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、メチルベンジル基等のアラルキル基等の炭素原子数が1~10、特に炭素原子数が1~6のものが挙げられる。また、これらの基の炭素原子に結合している水素原子の一部又は全部が、フッ素、塩素等のハロゲン原子で置換された基を用いてもよい。例えば、クロロメチル基、3-クロロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシル基などである。これらの中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、クロロメチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基等の炭素原子数1~3のアルキル基、及びフェニル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基等のアリール基である。また、Rは全てが同一であっても、異なっていてもよい。 Examples of R 1 in the above formula include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, heptyl group and octyl group. , nonyl, decyl, and dodecyl groups; cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, and cycloheptyl groups; phenyl, tolyl, xylyl, naphthyl, and biphenylyl groups; , phenylethyl group, phenylpropyl group, methylbenzyl group and other aralkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms. Groups in which some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of these groups are substituted with halogen atoms such as fluorine and chlorine may also be used. For example, chloromethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluoro such as a hexyl group. Among these, alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group, chloromethyl group and 3,3,3-trifluoropropyl group, and phenyl group, chlorophenyl group and fluorophenyl group are preferred. and aryl groups such as groups. In addition, all R 1s may be the same or different.

また、Xのアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等の炭素原子数2~8程度のものが挙げられる。中でもビニル基、アリル基等の低級アルケニル基が好ましく、特にはビニル基が好ましい。 Examples of alkenyl groups for X include those having about 2 to 8 carbon atoms, such as vinyl, allyl, propenyl, isopropenyl, butenyl, hexenyl, and cyclohexenyl groups. Among them, a lower alkenyl group such as a vinyl group or an allyl group is preferred, and a vinyl group is particularly preferred.

一般式(4)中、aは0~1998の数であるが、10≦a≦1998を満たす数であることが好ましく、より好ましくは10≦a≦1,000を満足する数である。一般式(4)で表されるオルガノポリシロキサンは、(A)成分のオルガノポリシロキサン100質量部に対して10~100質量部、特に30~70質量部添加することが好ましい。 In general formula (4), a is a number from 0 to 1998, preferably a number satisfying 10≦a≦1998, more preferably a number satisfying 10≦a≦1,000. The organopolysiloxane represented by the general formula (4) is preferably added in an amount of 10 to 100 parts by weight, particularly 30 to 70 parts by weight, per 100 parts by weight of the organopolysiloxane of component (A).

[(C)熱伝導性充填材]
(C)成分は、熱伝導性シリコーンゴム組成物おいて、熱伝導性を付与する充填材として用いられる成分である。前記(C)成分は、熱伝導性を有するものであればよく、さらに電気絶縁性を備えることが好ましい。特に限定されないが、例えば、アルミナ、シリカ、マグネシア、ベンガラ、ベリリア、チタニア、ジルコニア等の金属酸化物、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化硼素等の金属窒化物、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物、人工ダイヤモンドあるいは炭化ケイ素等の一般に熱伝導性充填材とされる物質を用いることができる。
[(C) Thermally conductive filler]
Component (C) is a component used as a filler that imparts thermal conductivity in the thermally conductive silicone rubber composition. The component (C) may have thermal conductivity, and preferably has electrical insulation. Although not particularly limited, examples include metal oxides such as alumina, silica, magnesia, red iron oxide, beryllia, titania, and zirconia; metal nitrides such as aluminum nitride, silicon nitride, and boron nitride; metal hydroxides such as magnesium hydroxide; Substances generally regarded as thermally conductive fillers, such as synthetic diamond or silicon carbide, can be used.

前記(C)成分の配合量は、前記(A)成分100質量部に対して、500~2,700質量部が好ましく、600~2,500質量部がより好ましい。 The blending amount of component (C) is preferably 500 to 2,700 parts by mass, more preferably 600 to 2,500 parts by mass, per 100 parts by mass of component (A).

なお、これら熱伝導性充填材は、シラン系カップリング剤又はその部分加水分解物、アルキルアルコキシシラン又はその部分加水分解物、有機シラザン類、オルガノポリシロキサンオイル、加水分解性官能基含有オルガノポリシロキサン等により表面処理されたものであってもよい。これら処理は、熱伝導性充填材自体を予め処理しても、あるいは(A)成分や(B)成分のオルガノポリシロキサンと(C)熱伝導性充填材との混合時に処理を行ってもよい。 These thermally conductive fillers include silane coupling agents or partial hydrolysates thereof, alkylalkoxysilanes or partial hydrolysates thereof, organic silazanes, organopolysiloxane oils, and hydrolyzable functional group-containing organopolysiloxanes. It may be surface-treated by the like. These treatments may be carried out in advance on the thermally conductive filler itself, or may be carried out at the time of mixing the organopolysiloxane of component (A) or component (B) with the thermally conductive filler (C). .

前記熱伝導性シリコーンゴム組成物において、熱伝導性充填材は特に
(1)平均粒径が5~60μm、好ましくは5μm以上50μm未満である粉末、および
(2)平均粒径が0.5~4μm、好ましくは0.5μm以上3μm未満である粉末
からなり、(1)成分と(2)成分の比が(1):(2)=9:1~4:6であることが好ましく、さらに8:2~5:5であることがより好ましい。(1)成分と(2)成分の比がこの範囲にあると、熱伝導性充填材を効果的にシリコーン中に分散充填することができ、熱伝導性シリコーンゴム組成物の可塑度を作業性が良好な範囲に収めることができる。また、放熱成形体の表面をより滑らかにすることができる。
In the thermally conductive silicone rubber composition, the thermally conductive filler is (1) a powder having an average particle size of 5 to 60 μm, preferably 5 μm or more and less than 50 μm, and (2) a powder having an average particle size of 0.5 to 50 μm. 4 μm, preferably 0.5 μm or more and less than 3 μm, and preferably the ratio of component (1) and component (2) is (1):(2)=9:1 to 4:6; More preferably 8:2 to 5:5. When the ratio of components (1) and (2) is within this range, the thermally conductive filler can be effectively dispersed and filled in the silicone, and the plasticity of the thermally conductive silicone rubber composition can be improved in workability. can be kept within a good range. Also, the surface of the heat-dissipating molding can be made smoother.

上記平均粒径は、通常、レーザー光回折による粒度分布測定における累積体積平均径D50(又はメジアン径)等として求めることができるが、具体的には、マイクロトラック・ベル(株)製の粒子径分布測定装置MT3000IIにより測定した体積基準の累積50%粒子径(D50)の値である。 The average particle diameter can be usually determined as a cumulative volume average diameter D 50 (or median diameter) in particle size distribution measurement by laser light diffraction. It is the value of the volume-based cumulative 50% particle diameter (D 50 ) measured by the MT3000II particle size distribution analyzer.

[(D)硬化剤]
(D)成分は、熱伝導性シリコーンゴム組成物を硬化するために必要な成分である。前記硬化剤は組成物の架橋反応の機構により適宜選択される。
[(D) Curing agent]
Component (D) is a component necessary for curing the thermally conductive silicone rubber composition. The curing agent is appropriately selected according to the mechanism of the cross-linking reaction of the composition.

硬化を付加反応によって行う場合には、硬化剤(D)としてオルガノハイドロジェンポリシロキサンを用い、白金系触媒の存在下で反応が行われる。過酸化物による硬化の場合には、硬化剤(D)として有機過酸化物が使用される。 When curing is carried out by an addition reaction, an organohydrogenpolysiloxane is used as the curing agent (D) and the reaction is carried out in the presence of a platinum-based catalyst. In the case of curing with peroxides, organic peroxides are used as curing agents (D).

ここで、組成物を付加反応(ヒドロシリル化反応)により硬化する場合には、この硬化剤は、1分子中に平均2個以上のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンと白金系触媒からなるものが配合される。 Here, when the composition is cured by an addition reaction (hydrosilylation reaction), the curing agent comprises an organohydrogenpolysiloxane having an average of two or more silicon-bonded hydrogen atoms per molecule and a platinum-based catalyst. The one consisting of is blended.

このオルガノハイドロジェンポリシロキサン中のケイ素原子に結合している基としては、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基が例示され、好ましくはアルキル基、アリール基であり、特に好ましくはメチル基、フェニル基である。また、このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの25℃における動粘度は特に限定されないが、好ましくは5~300mm/sの範囲内であり、特に好ましくは10~200mm/sの範囲内である。
なお、本発明において動粘度は、JIS Z8803:2011記載のキャノン-フェンスケ粘度計を用いて25℃で測定した時の値を指す。
The silicon-bonded groups in the organohydrogenpolysiloxane are exemplified by straight-chain alkyl groups, branched-chain alkyl groups, cyclic alkyl groups, aryl groups, aralkyl groups, and halogenated alkyl groups, and are preferred. is an alkyl group or an aryl group, particularly preferably a methyl group or a phenyl group. The kinematic viscosity of this organohydrogenpolysiloxane at 25° C. is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 to 300 mm 2 /s, particularly preferably in the range of 10 to 200 mm 2 /s.
In the present invention, kinematic viscosity refers to a value measured at 25° C. using a Canon-Fenske viscometer according to JIS Z8803:2011.

このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの分子構造は限定されず、例えば、直鎖状、分岐鎖状、一部分岐を有する直鎖状、環状、樹枝状(デンドリマー状)が挙げられる。このオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、例えば、これらの分子構造を有する単一重合体、これらの分子構造からなる共重合体、またはこれらの混合物であってもよい。 The molecular structure of this organohydrogenpolysiloxane is not limited, and examples thereof include linear, branched, partially branched linear, cyclic, and dendritic (dendrimer). This organohydrogenpolysiloxane may be, for example, a homopolymer having these molecular structures, a copolymer consisting of these molecular structures, or a mixture thereof.

このようなオルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、例えば、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサンコポリマー、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサンコポリマー、式:(CHSiO1/2で表されるシロキサン単位と式:(CHHSiO1/2で表されるシロキサン単位と式:SiO4/2で表されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサンコポリマー、およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。 Examples of such organohydrogenpolysiloxanes include dimethylpolysiloxane blocked at both molecular chain ends with dimethylhydrogensiloxy groups, dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer blocked at both molecular chain ends with trimethylsiloxy groups, and dimethylhydrogensiloxane at both molecular chain ends. Gensiloxy group-blocked dimethylsiloxane/methylhydrogensiloxane copolymer, a siloxane unit represented by the formula: (CH 3 ) 3 SiO 1/2 and a siloxane unit represented by the formula: (CH 3 ) 2 HSiO 1/2 and the formula : SiO 4/2 , and mixtures of two or more thereof.

熱伝導性シリコーンゴム組成物において、このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの含有量は、本組成物の硬化に必要な量(有効量)であり、具体的には、熱伝導性シリコーンゴム組成物中のケイ素原子結合アルケニル基1モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が0.8~10モルの範囲内となる量であることが好ましく、さらに1~8モルの範囲内となる量であることが好ましく、特には1.2~5モルの範囲内となる量であることが好ましい。本成分の含有量が上記範囲の下限以上であれば、硬化が充分となって充分なシート強度が得られ、またオイルブリードを抑制でき、上記範囲の上限以下であれば、シートが脆化したり、発泡が発生したりすることもない。 In the thermally conductive silicone rubber composition, the content of the organohydrogenpolysiloxane is an amount (effective amount) necessary for curing the composition. The amount of silicon-bonded hydrogen atoms in this component is preferably in the range of 0.8 to 10 mol, more preferably in the range of 1 to 8 mol, per 1 mol of silicon-bonded alkenyl groups. is preferable, and an amount within the range of 1.2 to 5 mol is particularly preferable. When the content of this component is at least the lower limit of the above range, curing is sufficient to obtain sufficient sheet strength, and oil bleeding can be suppressed. , foaming does not occur.

また、白金系触媒は、本組成物の硬化を促進するための触媒であり、例えば、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金のオレフィン錯体、白金のアルケニルシロキサン錯体、白金のカルボニル錯体等が挙げられる。 The platinum-based catalyst is a catalyst for accelerating the curing of the present composition, and examples thereof include chloroplatinic acid, chloroplatinic acid alcohol solutions, platinum olefin complexes, platinum alkenylsiloxane complexes, platinum carbonyl complexes, and the like. is mentioned.

また、本組成物が有機過酸化物によるフリーラジカル反応により硬化する場合には、硬化剤は有機過酸化物である。有機過酸化物としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ジ(p-メチルベンゾイル)パーオキサイド、ジ(o-メチルベンゾイル)パーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ-t-ブチルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシベンゾエートが挙げられる。 Also, when the composition is cured by a free radical reaction with an organic peroxide, the curing agent is an organic peroxide. Examples of organic peroxides include benzoyl peroxide, di(p-methylbenzoyl) peroxide, di(o-methylbenzoyl) peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis( t-butylperoxy)hexane, di-t-butylperoxide, t-butylperoxybenzoate.

この有機過酸化物の含有量は、本組成物の硬化に必要な量(有効量)であり、具体的には、有機ケイ素化合物成分100質量部に対して0.5~20質量部となる量であることが好ましく、特に1~10質量部となる量であることが好ましい。本成分の含有量が上記範囲の下限以上であれば、硬化が充分となって充分なシート強度が得られ、またオイルブリードを抑制でき、上記範囲の上限以下であれば、シートが脆化したり、発泡が発生したりすることもない。 The content of the organic peroxide is an amount (effective amount) necessary for curing the present composition, and specifically, it is 0.5 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the organosilicon compound component. An amount of 1 to 10 parts by mass is particularly preferable. When the content of this component is at least the lower limit of the above range, curing is sufficient to obtain sufficient sheet strength, and oil bleeding can be suppressed. , foaming does not occur.

[(E)成分]
本発明にかかる熱伝導性シリコーンゴム組成物は、有機ケイ素化合物成分として、下記に述べる(E)成分をさらに含むことができる。
(E)成分は、下記(E1)および(E2)成分のうちから選択される1つ以上である。(E)成分は、例えば非球状の熱伝導性充填材(C)の濡れ性を改善して有機ケイ素化合物成分への上記熱伝導性充填材の充填を容易にし、従って、上記熱伝導性充填材の充填量を高めることができる。
[(E) component]
The thermally conductive silicone rubber composition of the present invention can further contain component (E) described below as an organosilicon compound component.
The (E) component is one or more selected from the following (E1) and (E2) components. The component (E) improves the wettability of, for example, the non-spherical thermally conductive filler (C) to facilitate the filling of the organosilicon compound component with the thermally conductive filler. Material loading can be increased.

((E1)成分)
(E1)成分は、下記式(1)で表されるアルコキシシランである。
Si(OR4-b-c (1)
(式中、Rは独立して炭素原子数6~15のアルキル基であり、Rは独立して炭素原子数1~5のアルキル基であり、Rは独立して炭素原子数1~4のアルキル基であり、bは1~3の整数であり、cは0、1又は2であり、但しb+cは1~3である。)
((E1) component)
The (E1) component is an alkoxysilane represented by the following formula (1).
R 2 b R 3 c Si(OR 4 ) 4-bc (1)
(wherein R 2 is independently an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms, R 3 is independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 4 is independently a ~4 alkyl group, b is an integer from 1 to 3, c is 0, 1 or 2, with the proviso that b+c is from 1 to 3.)

上記式(1)において、Rで表されるアルキル基としては、例えば、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基およびテトラデシル基等が挙げられる。このRで表されるアルキル基の炭素原子数が6~15であることにより、例えば非球状の熱伝導性充填材(C)の濡れ性が充分向上して熱伝導性シリコーンゴム組成物への該熱伝導性充填材の充填が容易になり、また、上記組成物の低温特性が良好なものとなる。 In formula (1) above, the alkyl group represented by R 2 includes, for example, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group and tetradecyl group. When the number of carbon atoms in the alkyl group represented by R 2 is from 6 to 15, the wettability of the non-spherical thermally conductive filler (C) is sufficiently improved to form a thermally conductive silicone rubber composition. The filling of the thermally conductive filler becomes easy, and the low-temperature properties of the composition become good.

で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。特に、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素原子数1~3アルキル基が好ましい。 Examples of the alkyl group represented by R 3 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, pentyl group and neopentyl group. In particular, alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms such as methyl group, ethyl group and propyl group are preferred.

で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数1~4のアルキル基が挙げられる。 Examples of alkyl groups represented by R 4 include alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group and butyl group.

bは1~3の整数であり、cは0、1又は2である。但しb+cは1~3である。 b is an integer from 1 to 3 and c is 0, 1 or 2; However, b+c is 1-3.

((E2)成分)
(E2)成分は、下記式(2)で表される、分子鎖片末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたジメチルポリシロキサンである。

Figure 2023071105000004
(式中、Rは独立して炭素原子数1~4のアルキル基であり、dは5~100の整数である。) ((E2) component)
The (E2) component is a dimethylpolysiloxane having one molecular chain end blocked with a trialkoxysilyl group represented by the following formula (2).
Figure 2023071105000004
(Wherein, R 5 is independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and d is an integer of 5 to 100.)

で表されるアルキル基としては、上記式(1)中のRで表されるアルキル基と同様のものが挙げられる。 Examples of the alkyl group represented by R 5 include those similar to the alkyl group represented by R 4 in the above formula (1).

dは5~100の整数であり、好ましくは10~50の整数である。 d is an integer of 5-100, preferably an integer of 10-50.

(E)成分を配合する場合の配合量は、有機ケイ素化合物成分の合計量中、0.01~30質量%であるのが好ましく、より好ましくは1~20質量%である。上記量が上記下限以上であれば、非球状の熱伝導性充填材の有機ケイ素化合物成分への充填が容易になる。上記量が上記上限以下であれば、得られる硬化物の強度が充分になる。 When the component (E) is blended, the blending amount is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 1 to 20% by mass, based on the total amount of the organosilicon compound components. When the above amount is at least the above lower limit, filling of the non-spherical thermally conductive filler into the organosilicon compound component is facilitated. When the above amount is equal to or less than the above upper limit, the resulting cured product will have sufficient strength.

[(F)成分]
本発明にかかる熱伝導性シリコーンゴム組成物には、有機ケイ素化合物成分として、さらに下記(F)成分を含んでいてもよい。(F)成分は可塑剤であり、下記式(5)で表されるジメチルシロキサンである。

Figure 2023071105000005
(式中、eは5~500の整数、好ましくは50~400の整数である。) [(F) component]
The thermally conductive silicone rubber composition of the present invention may further contain the following component (F) as an organosilicon compound component. Component (F) is a plasticizer, which is dimethylsiloxane represented by the following formula (5).
Figure 2023071105000005
(Wherein, e is an integer of 5 to 500, preferably an integer of 50 to 400.)

(F)成分を配合する場合の配合量は、有機ケイ素化合物成分の合計量中、0.5~20質量%であるのが好ましく、より好ましくは1~15質量%である。上記量が上記下限以上であれば、シートの硬度が高くなって脆くなることはない。上記量が上記上限以下であれば、充分なシート強度が得られ、またオイルブリードが抑制される。 When the component (F) is blended, the blending amount is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, based on the total amount of the organosilicon compound components. If the above amount is equal to or more than the above lower limit, the sheet will not become brittle due to high hardness. When the above amount is equal to or less than the above upper limit, sufficient sheet strength can be obtained and oil bleeding can be suppressed.

[その他の成分]
本発明の熱伝導性シリコーンゴム組成物には、必要に応じて、更に他の成分を配合してもよい。例えば、後述するような補強性シリカ、シリコーンオイル、シリコーンウェッター、難燃剤、付加反応制御剤、着色剤、耐熱性向上剤、および内添離型剤等の任意成分を配合することができる。
[Other ingredients]
If necessary, the thermally conductive silicone rubber composition of the present invention may further contain other components. For example, optional components such as reinforcing silica, silicone oil, silicone wetter, flame retardant, addition reaction controller, colorant, heat resistance improver, and internal release agent, which will be described later, can be added.

[熱伝導性シリコーンゴム組成物の調製]
上記熱伝導性シリコーンゴム組成物は、以下のようにして調製され得る。(A)、(B)、(C)成分および配合する場合は(E)、(F)成分等とともに、ニーダー、バンバリーミキサー等の混合機を用いて、必要に応じ100℃以上の温度に加熱しながら混練りする。この混練り工程で、所望により、フュームドシリカおよび沈降性シリカ等の補強性シリカ;シリコーンオイル、シリコーンウェッター等;白金、酸化チタンおよびベンゾトリアゾール等の難燃剤等を添加してもよい。混練り工程で得られた均一混合物を、室温に冷却した後、ストレーナー等を通して濾過し、次いで、2本ロール、ニーダー、バンバリーミキサー等を用いて、前記混合物に所要量の硬化剤(D)を添加して、再度、混練りする。この再度の混練り工程において、所望により、1-エチニル-1-シクロヘキサノール等のアセチレン化合物系付加反応制御剤、有機顔料や無機顔料等の着色剤、酸化鉄や酸化セリウム等の耐熱性向上剤、および内添離型剤等を添加してもよい。
[Preparation of Thermally Conductive Silicone Rubber Composition]
The thermally conductive silicone rubber composition can be prepared as follows. (A), (B), (C) components and, if blended, components (E), (F), etc. are heated to a temperature of 100° C. or higher using a mixer such as a kneader or a Banbury mixer, if necessary. while kneading. In this kneading step, if desired, reinforcing silica such as fumed silica and precipitated silica; silicone oil, silicone wetter and the like; flame retardants such as platinum, titanium oxide and benzotriazole may be added. After the uniform mixture obtained in the kneading step is cooled to room temperature, it is filtered through a strainer or the like, and then a required amount of the curing agent (D) is added to the mixture using a two-roll kneader, Banbury mixer or the like. Add and knead again. In this second kneading step, if desired, an acetylene compound-based addition reaction controller such as 1-ethynyl-1-cyclohexanol, a coloring agent such as an organic pigment or an inorganic pigment, or a heat resistance improver such as iron oxide or cerium oxide. , and an internal release agent may be added.

上記熱伝導性シリコーンゴム組成物の硬化条件としては、例えば、付加反応による硬化の場合には、80~180℃、特に100~160℃にて30秒間~20分間、特に1分間~10分間とすることが好ましく、有機過酸化物による硬化の場合には、100~180℃、特に110~170℃にて30秒間~20分間、特に1分間~10分間とすることが好ましい。さらに、必要に応じて100~170℃にてポストキュアを行うことが好ましい。ポストキュア温度が高すぎると成形物の伸びが低下し脆化する可能性がある。 The curing conditions for the above thermally conductive silicone rubber composition are, for example, in the case of curing by addition reaction, 80 to 180° C., especially 100 to 160° C., for 30 seconds to 20 minutes, especially 1 minute to 10 minutes. In the case of curing with an organic peroxide, it is preferably 100 to 180° C., particularly 110 to 170° C., for 30 seconds to 20 minutes, particularly preferably 1 minute to 10 minutes. Furthermore, it is preferable to perform post-curing at 100 to 170° C. as necessary. If the post-cure temperature is too high, the elongation of the molded product may be reduced and the molded product may become brittle.

このように、本発明の熱伝導性シリコーンゴム組成物は、付加反応による硬化でも、有機過酸化物による硬化でも、180℃以下の低温で硬化できるうえ、低分子シロキサンを高温で除去する必要もないため、接点障害を防止するのに充分な低分子シロキサン除去効果を有すると共に、高熱伝導かつ強度に優れた硬化物(成型体、特に放熱成形体)が得られる。 As described above, the thermally conductive silicone rubber composition of the present invention can be cured at a low temperature of 180° C. or less in both addition reaction curing and organic peroxide curing, and low-molecular-weight siloxane does not need to be removed at a high temperature. Therefore, it is possible to obtain a cured product (a molded product, particularly a heat-dissipating molded product) that has sufficient low-molecular-weight siloxane-removing effect to prevent contact failure and has high thermal conductivity and excellent strength.

上記熱伝導性シリコーンゴム組成物の可塑度は100~800であることが好ましい。可塑度が上記範囲内であれば、組成物がべたつき、ロール作業等での取り扱いが困難になることはなく、組成物の混練が容易になる。なお、可塑度は株式会社上島製作所製の自動ウィリアムプラストメータVR-6155を用いてJIS K6249:2003に準拠した方法により測定できる。 The plasticity of the thermally conductive silicone rubber composition is preferably 100-800. If the plasticity is within the above range, the composition will not become sticky and difficult to handle in rolling work or the like, and the composition will be easily kneaded. The degree of plasticity can be measured by a method based on JIS K6249:2003 using an automatic William Plastometer VR-6155 manufactured by Ueshima Seisakusho Co., Ltd.

上記熱伝導性シリコーンゴム組成物の硬化物は熱伝導率が1.5W/m・K以上、より好ましくは1.8W/mK以上、さらに好ましくは2.0/mK以上である。なお、熱伝導率は、京都電子工業株式会社製のTPS-2500Sを用いたホットディスク法(ISO 22007-2準拠)で測定できる。 A cured product of the thermally conductive silicone rubber composition has a thermal conductivity of 1.5 W/m·K or more, preferably 1.8 W/mK or more, and still more preferably 2.0/mK or more. The thermal conductivity can be measured by the hot disk method (ISO 22007-2 compliant) using TPS-2500S manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd.

上記熱伝導性シリコーンゴム組成物の硬化物のJIS K6253-3:2012に記載のタイプAデュロメータ硬さは60~96の範囲、より好ましくは70~93である。硬度が60以上であれば、取扱い時に硬化物層表面に傷が付きにくく、成形の際、硬化物の表面同士が融着したり、変形したりすることもない。一方、硬度が96以下であれば、柔軟性に優れ、成形物を取り扱う際に割れが発生することもない。 The type A durometer hardness according to JIS K6253-3:2012 of the cured product of the thermally conductive silicone rubber composition is in the range of 60-96, more preferably 70-93. If the hardness is 60 or more, the surface of the cured product layer is less likely to be damaged during handling, and the surfaces of the cured product are not fused together or deformed during molding. On the other hand, if the hardness is 96 or less, the flexibility is excellent, and cracks do not occur when the molding is handled.

上記熱伝導性シリコーンゴム組成物の硬化物の厚さが0.45mmのときの耐電圧は、4.5kV以上である。耐電圧が4.5kV以上であれば、電子部品に成形物を実装した際に、高電圧下にシートの絶縁破壊が発生することはない。上記耐電圧は硬化物の厚さにほぼ比例する。なお、耐電圧はJIS C2110-1:2016に準拠した方法で測定できる。 When the cured product of the thermally conductive silicone rubber composition has a thickness of 0.45 mm, the withstand voltage is 4.5 kV or more. If the withstand voltage is 4.5 kV or higher, dielectric breakdown of the sheet will not occur under high voltage when the molding is mounted on an electronic component. The withstand voltage is approximately proportional to the thickness of the cured product. The withstand voltage can be measured by a method conforming to JIS C2110-1:2016.

上記熱伝導性シリコーンゴム組成物の硬化物は、150℃でポストキュアを1時間行った後のケイ素原子数3~10のジオルガノシクロポリシロキサンの含有量が100ppm以下、より好ましくは50ppm以下である。ケイ素原子数3~10のジオルガノシクロポリシロキサンの含有量が100ppm以下であれば、経時で低分子シロキサンが揮発することによる接点障害の発生を防止できる。 The cured product of the thermally conductive silicone rubber composition has a diorganocyclopolysiloxane content of 3 to 10 silicon atoms of 100 ppm or less, more preferably 50 ppm or less after post-curing at 150° C. for 1 hour. be. If the content of the diorganocyclopolysiloxane having 3 to 10 silicon atoms is 100 ppm or less, it is possible to prevent the occurrence of contact failure due to volatilization of the low-molecular-weight siloxane over time.

以上のように、本発明の熱伝導性シリコーンゴム組成物は、低分子シロキサン量を抑えることにより、フィラー高充填系であっても低温で硬化することができるため、成型時の寸法安定性が良好な成型品を与えることができる。このため、上記組成物は、発熱性電子部品用カバー等の放熱成形体の製造に好適である。 As described above, the thermally conductive silicone rubber composition of the present invention can be cured at a low temperature even in a system with a high filler content by suppressing the amount of low-molecular-weight siloxane. A good molded product can be obtained. Therefore, the above composition is suitable for producing heat-dissipating moldings such as heat-generating electronic component covers.

以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
なお、平均重合度は、GPCによるポリスチレンを標準物質とした数平均分子量から求めた。平均粒径は、レーザー光回折による粒度分布測定における累積体積平均径D50であり、マイクロトラック・ベル(株)製の粒子径分布測定装置MT3000IIにより測定した。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below by showing examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.
The average degree of polymerization was obtained from the number average molecular weight by GPC using polystyrene as a standard substance. The average particle diameter is a cumulative volume average diameter D50 in particle size distribution measurement by laser light diffraction, and was measured with a particle size distribution analyzer MT3000II manufactured by Microtrack Bell Co., Ltd.

[熱伝導性シリコーンゴム組成物の調製]
(1)下記に示す(A)~(C)成分、及び任意成分である(E)及び(F)成分を5Lの熱処理用ニーダー(井上製作所製)内に投入し、25~40℃で30分間混合した。その後、ニーダー内を加熱し組成物の温度が170℃になったことを確認した後、加熱撹拌を更に2時間おこなった。
[Preparation of Thermally Conductive Silicone Rubber Composition]
(1) The components (A) to (C) shown below and the optional components (E) and (F) are put into a 5 L heat treatment kneader (manufactured by Inoue Seisakusho) and heated at 25 to 40 ° C. for 30 Mix for a minute. Then, after confirming that the temperature of the composition reached 170° C. by heating the inside of the kneader, heating and stirring were further performed for 2 hours.

(A)成分:
(A-1)平均重合度8,000の、ジメチルビニル基で両末端封止したジメチルポリシロキサン;ケイ素原子数3~10のジオルガノシクロポリシロキサンの合計含有量;100ppm
(A-2)平均重合度8,000の、ジメチルビニル基で両末端封止したジメチルポリシロキサン;ケイ素原子数3~10のジオルガノシクロポリシロキサンの合計含有量;4700ppm
なお、上記ケイ素原子数3~10のジオルガノシクロポリシロキサンの合計含有量は、後述するガスクロマトグラフィー分析により測定した。
(A) Component:
(A-1) Dimethylpolysiloxane terminated at both ends with dimethylvinyl groups having an average degree of polymerization of 8,000; total content of diorganocyclopolysiloxane having 3 to 10 silicon atoms; 100 ppm
(A-2) Dimethylpolysiloxane terminated at both ends with dimethylvinyl groups having an average degree of polymerization of 8,000; total content of diorganocyclopolysiloxane having 3 to 10 silicon atoms; 4700 ppm
The total content of diorganocyclopolysiloxane having 3 to 10 silicon atoms was measured by gas chromatography analysis described later.

(B)成分:
平均重合度1,000の、ジメチルビニル基で両末端封止したジメチルポリシロキサン
(B) Component:
Dimethylpolysiloxane terminated at both ends with dimethylvinyl groups, with an average degree of polymerization of 1,000

(C)熱伝導性充填材:
(C-1)平均粒径:1μm:破砕状アルミナ
(C-2)平均粒径:1μm:球状アルミナ
(C-3)平均粒径:10μm:球状アルミナ
(C-4)平均粒径:45μm:球状アルミナ
(C-5)平均粒径:9.3μm:破砕状水酸化アルミニウム
(C-6)平均粒径:1.3μm:破砕状水酸化アルミニウム
(C) Thermally conductive filler:
(C-1) Average particle size: 1 μm: Crushed alumina (C-2) Average particle size: 1 μm: Spherical alumina (C-3) Average particle size: 10 μm: Spherical alumina (C-4) Average particle size: 45 μm : Spherical alumina (C-5) Average particle size: 9.3 µm: Crushed aluminum hydroxide (C-6) Average particle size: 1.3 µm: Crushed aluminum hydroxide

(E)成分:下記式(6)で示される、平均重合度が30であり、片末端がトリメトキシシリル基で封鎖されたジメチルポリシロキサン

Figure 2023071105000006
Component (E): A dimethylpolysiloxane having an average degree of polymerization of 30 and having one end blocked with a trimethoxysilyl group, represented by the following formula (6)
Figure 2023071105000006

(F)成分:下記式(7)で示されるジメチルポリシロキサン

Figure 2023071105000007
(式中、f=300) (F) component: dimethylpolysiloxane represented by the following formula (7)
Figure 2023071105000007
(where f = 300)

(2)加熱攪拌後に、室温(25℃)付近まで冷却し、混練したコンパウンドを取り出した。さらに、二本ロール(ダイシン機械(株))を用いて、前記コンパウンドに硬化剤として下記(D)を混練して熱伝導性シリコーンゴム組成物とした。 (2) After heating and stirring, the mixture was cooled to around room temperature (25°C) and the kneaded compound was taken out. Furthermore, using a twin roll (Daishin Kikai Co., Ltd.), the following (D) as a curing agent was kneaded into the compound to prepare a thermally conductive silicone rubber composition.

(D)成分:下記式(8)で表される有機過酸化物

Figure 2023071105000008
(D) component: organic peroxide represented by the following formula (8)
Figure 2023071105000008

[可塑度測定]
得られた熱伝導性シリコーンゴム組成物の可塑度を、株式会社上島製作所製の自動ウィリアムプラストメータVR-6155を用いてJIS K6249:2003に準拠した方法により測定した。結果を表1に示す。
[Plasticity measurement]
The plasticity of the resulting thermally conductive silicone rubber composition was measured using an automatic William Plastometer VR-6155 manufactured by Ueshima Seisakusho Co., Ltd. according to JIS K6249:2003. Table 1 shows the results.

[熱伝導率測定]
得られた熱伝導性シリコーンゴム組成物を、60mm×60mm×6mmの金型を用い、硬化後の厚さが6mmになるように圧力を調整し、高圧プレス機(庄司鉄工(株)製)を用いて165℃、100kgf/cmで10分間プレスキュアし、6mm厚のシートを作製した。さらに、150℃/1時間もしくは200℃/1時間の二次加硫をおこなった後、室温まで冷却した。作製した6mm厚のシートを2枚使用し、2枚のシートの間にプローブを挟んで、ホットディスク法(ISO 22007-2準拠)により25℃における熱伝導率を測定した。結果を表1に示す。
[Thermal conductivity measurement]
The resulting thermally conductive silicone rubber composition was pressed into a mold of 60 mm × 60 mm × 6 mm, the pressure was adjusted so that the thickness after curing was 6 mm, and a high-pressure press (manufactured by Shoji Iron Works Co., Ltd.) was applied. was press-cured at 165° C. and 100 kgf/cm 2 for 10 minutes to prepare a sheet having a thickness of 6 mm. Further, after performing secondary vulcanization at 150° C./1 hour or 200° C./1 hour, it was cooled to room temperature. Two 6 mm thick sheets were used, and a probe was sandwiched between the two sheets to measure the thermal conductivity at 25° C. by the hot disk method (according to ISO 22007-2). Table 1 shows the results.

[硬さ]
得られた熱伝導性シリコーンゴム組成物を、60mm×60mm×6mmの金型を用い、硬化後の厚さが6mmになるように圧力を調整し、高圧プレス機(庄司鉄工(株)製)を用いて165℃、100kgf/cmで10分間プレスキュアし、6mm厚のシートを作製した。さらに、150℃/1時間もしくは200℃/1時間の二次加硫をおこなった後、室温まで冷却した。作製した6mm厚のシートを2枚重ねたものを試験片としてデュロメータA硬度計を用いて硬さを測定した。結果を表1に示す。
[Hardness]
The resulting thermally conductive silicone rubber composition was pressed into a mold of 60 mm × 60 mm × 6 mm with a pressure adjusted so that the thickness after curing was 6 mm, followed by a high-pressure press (manufactured by Shoji Iron Works Co., Ltd.). was press-cured at 165° C. and 100 kgf/cm 2 for 10 minutes to prepare a sheet having a thickness of 6 mm. Further, after performing secondary vulcanization at 150° C./1 hour or 200° C./1 hour, it was cooled to room temperature. A durometer A hardness tester was used to measure the hardness of a test piece obtained by stacking two sheets having a thickness of 6 mm. Table 1 shows the results.

[耐電圧]
得られた熱伝導性シリコーンゴム組成物を、100mm×100mm×0.45mmの金型を用い、硬化後の厚さが0.45mmになるように圧力を調整し、高圧プレス機(庄司鉄工(株)製)を用いて165℃、100kgf/cmで10分間プレスキュアし、0.45mm厚のシートを作製した。さらに、150℃/1時間もしくは200℃/1時間の二次加硫をおこなった後、室温まで冷却した。作製した0.45mm厚のシートを用いて、JIS C2110-1:2016に準拠して気中耐電圧を測定した。結果を表1に示す。
[Withstand voltage]
The resulting thermally conductive silicone rubber composition was placed in a mold of 100 mm x 100 mm x 0.45 mm, the pressure was adjusted so that the thickness after curing was 0.45 mm, and a high pressure press (Shoji Iron Works ( Co., Ltd.) was used to press cure at 165° C. and 100 kgf/cm 2 for 10 minutes to prepare a sheet with a thickness of 0.45 mm. Further, after performing secondary vulcanization at 150° C./1 hour or 200° C./1 hour, it was cooled to room temperature. Air withstand voltage was measured according to JIS C2110-1:2016 using the 0.45 mm thick sheet thus produced. Table 1 shows the results.

[低分子シロキサン含有量]
得られた熱伝導性シリコーンゴム組成物を、100mm×100mm×0.45mmの金型を用い、硬化後の厚さが0.45mmになるように圧力を調整し、高圧プレス機(庄司鉄工(株)製)を用いて165℃、100kgf/cmで10分間プレスキュアし、0.45mm厚のシートを作製した。さらに、150℃/1時間もしくは200℃/1時間の二次加硫(ポストキュア)をおこなった後、室温まで冷却した。このシートの細片を採取し、アセトンに浸漬して低分子シロキサンを抽出し、ケイ素原子数3~10のジオルガノシクロポリシロキサンの合計含有量(質量ppm)をガスクロマトグラフィー分析により測定した。結果を表1に示す。
[Low-molecular-weight siloxane content]
The resulting thermally conductive silicone rubber composition was placed in a mold of 100 mm x 100 mm x 0.45 mm, the pressure was adjusted so that the thickness after curing was 0.45 mm, and a high pressure press (Shoji Iron Works ( Co., Ltd.) was used to press cure at 165° C. and 100 kgf/cm 2 for 10 minutes to prepare a sheet with a thickness of 0.45 mm. Further, after performing secondary vulcanization (post-curing) at 150° C./1 hour or 200° C./1 hour, it was cooled to room temperature. A small piece of this sheet was taken and immersed in acetone to extract low-molecular-weight siloxane, and the total content (mass ppm) of diorganocyclopolysiloxane having 3 to 10 silicon atoms was measured by gas chromatography analysis. Table 1 shows the results.

[強度]
得られた熱伝導性シリコーンゴム組成物を、100mm×100mm×2mmの金型を用い、硬化後の厚さが2mmになるように圧力を調整し、高圧プレス機(庄司鉄工(株)製)を用いて165℃、100kgf/cmで10分間プレスキュアし、2mm厚のシートを作製した。さらに、150℃/1時間もしくは200℃/1時間の二次加硫をおこなった後、室温まで冷却した。作製した2mm厚のシートを用いて、JIS K6249:2003に準拠して引張強さ、切断時伸び、引裂強さを測定した。結果を表1に示す。
[Strength]
The resulting thermally conductive silicone rubber composition was pressed into a mold of 100 mm x 100 mm x 2 mm with a pressure adjusted so that the thickness after curing was 2 mm, followed by a high-pressure press (manufactured by Shoji Iron Works Co., Ltd.). was press-cured at 165° C. and 100 kgf/cm 2 for 10 minutes to prepare a sheet having a thickness of 2 mm. Further, after performing secondary vulcanization at 150° C./1 hour or 200° C./1 hour, it was cooled to room temperature. Using the 2 mm thick sheet produced, the tensile strength, elongation at break, and tear strength were measured according to JIS K6249:2003. Table 1 shows the results.

[発熱性電子部品用カバーの成形]
混錬後の熱伝導性シリコーンゴム組成物をピストン、ポット、中型、下型からなるトランスファー成形機((株)ピーアールシー製)を用い165℃、100kgf/cmで10分間加熱プレスすることで成形した。成形物を脱型後150℃/1時間の二次加硫をおこない、発熱性電子部品用カバーを作製した。発熱性電子部品用カバーの形状を図1に示す。なお、図中に寸法(単位mm)をあわせて示す。
[Molding of cover for exothermic electronic parts]
The thermally conductive silicone rubber composition after kneading is hot-pressed at 165° C. and 100 kgf/cm 2 for 10 minutes using a transfer molding machine (manufactured by PRC Co., Ltd.) consisting of a piston, a pot, a medium mold, and a lower mold. Molded. After demolding, the molded product was subjected to secondary vulcanization at 150° C./1 hour to produce a heat-generating electronic component cover. FIG. 1 shows the shape of the heat-generating electronic component cover. The dimensions (unit: mm) are also shown in the figure.

[成形物の装着時耐割れ性]
15mm×4.5mm×高さ20mmの電極((株)セーフ製)に実施例1~3および比較例2,3で作製した発熱性電子部品用カバーを装着し、4.5kVの電圧を10秒間印加し、リーク電流の有無を測定した。装着時に割れが発生するとリーク電流が発生する。30個の測定を行い、30個中の割れの発生した個数を表1に示す
[Cracking resistance when molding is mounted]
A 15 mm × 4.5 mm × height 20 mm electrode (manufactured by Safe Co., Ltd.) was fitted with the exothermic electronic component covers prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 2 and 3, and a voltage of 4.5 kV was applied for 10 minutes. Seconds were applied, and the presence or absence of leakage current was measured. If cracks occur during mounting, leak current is generated. Thirty pieces were measured, and the number of cracks among the 30 pieces is shown in Table 1.

Figure 2023071105000009
Figure 2023071105000009

表1に示すように、実施例1~3では成形体の強度、装着時耐割れ性が良好であり、低分子シロキサン含有量も低かった。比較例1では熱伝導性充填材の配合量が多すぎたため、熱伝導性シリコーンゴム組成物が得られなかった。比較例2ではポストキュア(150℃で1時間)後でも低分子シロキサンを所望の量まで減量することができず、引張強さに劣るものであった。一方で、比較例3においては、低分子シロキサンを原因とする接点障害を防止するための高温ポストキュア(200℃で1時間)によりシートの脆化が発生し、成形物の装着取り扱い時に切れ、割れが発生したため、リーク電流が発生した。つまり、比較例2、3では低分子シロキサンを原因とする接点障害を防止できない。 As shown in Table 1, in Examples 1 to 3, the strength of the moldings and crack resistance during installation were good, and the low-molecular-weight siloxane content was low. In Comparative Example 1, a thermally conductive silicone rubber composition could not be obtained because the amount of the thermally conductive filler was too large. In Comparative Example 2, even after post-curing (150° C. for 1 hour), the low-molecular-weight siloxane could not be reduced to the desired amount, and the tensile strength was poor. On the other hand, in Comparative Example 3, the high-temperature post-cure (200° C. for 1 hour) to prevent contact failure caused by low-molecular-weight siloxane caused embrittlement of the sheet, and the sheet was cut during installation and handling of the molded product. Since the crack occurred, a leak current occurred. In other words, Comparative Examples 2 and 3 cannot prevent contact failure caused by low-molecular-weight siloxane.

このように、本発明の熱伝導性シリコーンゴム組成物は、低温で硬化可能であり、低温でのポストキュア工程を施した場合でも充分に低分子シロキサン含有量を小さくすることが可能である。このため、本発明の熱伝導性シリコーンゴム組成物は、ポストキュア工程を行わない、もしくは低温でのポストキュアでも充分な低分子シロキサン除去効果を得られ、高熱伝導かつ強度に優れた硬化物(成型体)を与えることができる。
また、本組成物を用いて成形した硬化物からなる放熱成形体は、高温ポストキュアによる脆化を抑制することが可能である。そして、得られた放熱成形体は、熱伝導性、強度、絶縁性に優れ、低分子シロキサン含有量が少ないため、電子部品への実装が容易であるうえ、接点障害を防止できる。
As described above, the thermally conductive silicone rubber composition of the present invention can be cured at a low temperature, and the low-molecular-weight siloxane content can be sufficiently reduced even when subjected to a low-temperature post-curing process. For this reason, the thermally conductive silicone rubber composition of the present invention can obtain a sufficient effect of removing low-molecular-weight siloxane even without a post-curing step or even with post-curing at a low temperature, resulting in a cured product ( molded body) can be given.
In addition, a heat-dissipating molded article formed from a cured product molded using the present composition can be prevented from embrittlement due to high-temperature post-curing. The heat-dissipating molded article thus obtained has excellent thermal conductivity, strength, and insulation properties, and has a low content of low-molecular-weight siloxane.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 In addition, this invention is not limited to the said embodiment. The above-described embodiment is an example, and any device having substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and exhibiting the same effect is the present invention. included in the technical scope of

Claims (8)

(A)平均重合度が3,000~10,000であり、ケイ素原子数3~10のジオルガノシクロポリシロキサンの合計含有量が500ppm以下であるオルガノポリシロキサン:100質量部、
(B)平均重合度2~2,000の分子鎖両末端にのみアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン:10~100質量部、
(C)熱伝導性充填材:500~2,700質量部、及び
(D)硬化剤:有効量
を含有するものであることを特徴とする熱伝導性シリコーンゴム組成物。
(A) an organopolysiloxane having an average degree of polymerization of 3,000 to 10,000 and a total content of diorganocyclopolysiloxane having 3 to 10 silicon atoms of 500 ppm or less: 100 parts by mass;
(B) an organopolysiloxane having an average degree of polymerization of 2 to 2,000 and having alkenyl groups only at both ends of the molecular chain: 10 to 100 parts by mass;
(C) a thermally conductive filler: 500 to 2,700 parts by mass; and (D) a curing agent: an effective amount.
さらに
(E)(E1)下記式(1):
Si(OR4-b-c (1)
(式中、Rは独立して炭素原子数6~15のアルキル基であり、Rは独立して炭素原子数1~5のアルキル基であり、Rは独立して炭素原子数1~4のアルキル基であり、bは1~3の整数であり、cは0、1又は2であり、但しb+cは1~3である。)
で表されるアルコキシシラン、および
(E2)下記式(2):
Figure 2023071105000010
(式中、Rは独立して炭素原子数1~4のアルキル基であり、dは5~100の整数である。)
で表される片末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたジメチルポリシロキサン
のうちから選択される1つ以上を、有機ケイ素化合物成分の合計量中、0.01~30質量%含むものであることを特徴とする請求項1に記載の熱伝導性シリコーンゴム組成物。
Furthermore, (E) (E1) the following formula (1):
R 2 b R 3 c Si(OR 4 ) 4-bc (1)
(wherein R 2 is independently an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms, R 3 is independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 4 is independently a ~4 alkyl group, b is an integer from 1 to 3, c is 0, 1 or 2, with the proviso that b+c is from 1 to 3.)
and (E2) the following formula (2):
Figure 2023071105000010
(Wherein, R 5 is independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and d is an integer of 5 to 100.)
0.01 to 30% by mass of the total amount of the organosilicon compound components, one or more selected from dimethylpolysiloxane whose one end is blocked with a trialkoxysilyl group represented by The thermally conductive silicone rubber composition according to claim 1, wherein
前記熱伝導性シリコーンゴム組成物の可塑度が100~800であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の熱伝導性シリコーンゴム組成物。 3. The thermally conductive silicone rubber composition according to claim 1, wherein the thermally conductive silicone rubber composition has a plasticity of 100-800. 請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の熱伝導性シリコーンゴム組成物を硬化してなる硬化物。 A cured product obtained by curing the thermally conductive silicone rubber composition according to any one of claims 1 to 3. 請求項4に記載の硬化物からなる放熱成形体であって、前記硬化物の熱伝導率が1.5W/m・K以上であることを特徴とする放熱成形体。 5. A heat-dissipating molded product made of the cured product according to claim 4, wherein the cured product has a thermal conductivity of 1.5 W/m·K or more. 請求項5に記載の放熱成形体であって、前記硬化物のJIS K6253-3:2012に記載のタイプAデュロメータ硬さが60~96の範囲であることを特徴とする放熱成形体。 6. The heat-dissipating molded product according to claim 5, wherein said cured product has a type A durometer hardness of 60 to 96 according to JIS K6253-3:2012. 請求項5又は請求項6に記載の放熱成形体であって、前記硬化物の厚さが0.45mmのときの耐電圧が、4.5kV以上であることを特徴とする放熱成形体。 7. The heat-dissipating molded article according to claim 5, wherein the heat-dissipating molded article has a withstand voltage of 4.5 kV or higher when the thickness of the cured product is 0.45 mm. 請求項5から請求項7のいずれか1項に記載の放熱成形体であって、150℃でポストキュアを1時間行った後のケイ素原子数3~10のジオルガノシクロポリシロキサンの含有量が100ppm以下であることを特徴とする放熱成形体。 The heat-dissipating molded article according to any one of claims 5 to 7, wherein the content of diorganocyclopolysiloxane having 3 to 10 silicon atoms after post-curing at 150°C for 1 hour is A heat-dissipating molded article characterized by having a concentration of 100 ppm or less.
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