JP2023064780A - Semiconductor light-emitting device - Google Patents

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semiconductor light
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真一 宮村
Shinichi Miyamura
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Abstract

To provide a semiconductor device having bondability and airtightness as well as a simple structure.SOLUTION: A semiconductor light-emitting device comprises: a semiconductor light-emitting element that emits an ultraviolet ray; a ceramic substrate that mounts the light-emitting element, having a pair of wires; a translucent cap that has a dome part that transmits emission light of the semiconductor light-emitting element, and an annular ring-shaped flange part provided at a bottom of the dome part; a cap junction layer that seals and bonds the flange part of the translucent cap and the substrate; and a sealed gas that fills a space defined by the substrate, the translucent cap, and the junction layer.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、半導体発光装置、特に紫外光を放射する半導体発光素子が内部に封入された半導体発光装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor light-emitting device, and more particularly to a semiconductor light-emitting device in which a semiconductor light-emitting element that emits ultraviolet light is encapsulated.

従来、半導体素子を半導体パッケージの内部に封入する半導体装置が知られている。半導体発光モジュールの場合では、半導体発光素子が載置された支持体に、発光素子からの光を透過するガラスなどの透明窓部材が接合されて気密封止される。 Conventionally, there has been known a semiconductor device in which a semiconductor element is sealed inside a semiconductor package. In the case of a semiconductor light emitting module, a transparent window member such as glass that transmits light from the light emitting element is joined to a support on which the semiconductor light emitting element is mounted and hermetically sealed.

例えば、特許文献1、2には、半導体発光素子を収容する凹部が設けられた基板と、窓部材とが接合された半導体発光モジュールが開示されている。
また、特許文献3、4には、紫外線発光素子が搭載された実装基板と、スペーサと、ガラスにより形成されたカバーとが接合された紫外光発光装置が開示されている。
For example, Patent Literatures 1 and 2 disclose a semiconductor light emitting module in which a substrate provided with a recess for housing a semiconductor light emitting element is joined to a window member.
Further, Patent Literatures 3 and 4 disclose an ultraviolet light emitting device in which a mounting substrate on which an ultraviolet light emitting element is mounted, a spacer, and a cover made of glass are joined together.

特開2015-18873号公報JP 2015-18873 A 特開2018-93137号公報JP 2018-93137 A 特開2016-127255号公報JP 2016-127255 A 特開2016-127249号公報JP 2016-127249 A

しかしながら、基板と窓部材との間の封止性、接合信頼性について一層の向上が求められている。紫外光を放射する半導体発光素子、特にAlGaN系の半導体発光素子は、気密が不十分であると劣化し易く、当該半導体発光素子が搭載された半導体装置には高い気密性が求められるので金属接合部材が用いられる。 However, there is a demand for further improvements in sealing performance and bonding reliability between the substrate and the window member. A semiconductor light-emitting element that emits ultraviolet light, particularly an AlGaN-based semiconductor light-emitting element, is likely to deteriorate if airtightness is insufficient. A member is used.

また、AlGaN系結晶は水分によって劣化する。特に、発光波長が短波長になるほどAl組成が増加して劣化し易い。そこで、発光素子を収めるパッケージ内部に水分が侵入しない気密構造として、基板とガラス蓋を金属接合材で気密する構造が採用されていたが、構造及び製法が複雑になり、コストが高くなるという問題があった。 Also, AlGaN-based crystals are degraded by moisture. In particular, as the emission wavelength becomes shorter, the Al composition increases and deterioration is more likely to occur. Therefore, as an airtight structure that prevents moisture from entering the package containing the light emitting element, a structure in which the substrate and the glass lid are sealed with a metal bonding material has been adopted. was there.

本発明は上記した点に鑑みてなされたものであり、樹脂接合部材で基板とガラス蓋を接合しても発光素子の劣化を防止できる半導体装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a semiconductor device capable of preventing deterioration of a light emitting element even when a substrate and a glass lid are bonded with a resin bonding member.

本発明の第1の実施形態による半導体発光装置は、
紫外線を放射する半導体発光素子と、
発光素子を載置する一対の配線を有するセラミックス製の基板と、
前記半導体発光素子の放射光を透過するドーム部と、ドーム部の底部に設けられた円環状であるフランジ部と、を有する透光性キャップと、
前記透光キャップの前記フランジ部と前記基板を封止且つ接合するキャップ接合層と、
前記基板と前記透光キャップと前記接合層とで画定された空間を満たす封入ガスと、
を備え、
前記フランジ部は、平坦部と当該平坦部から前記基板の方向へ突出し前記円環状と同心の円環状の凸部とを有し
前記凸部は、前記ドーム部の前記フランジ部と接する外側面より外周に配置され、
前記凸部の頂部は、前記フランジ部の平坦面と平行で前記基板の少なくとも一部に接触し、
前記基板の前記凸部の頂部と接触する部分は平坦であり、
前記キャップ接合層は、前記フランジ部の前記凸部の外周側の面と前記基板の上面との間に配されており、
前記封入ガスは、少なくとも酸素を含んでいる。
A semiconductor light emitting device according to a first embodiment of the present invention comprises:
a semiconductor light-emitting element that emits ultraviolet light;
a ceramic substrate having a pair of wirings on which a light emitting element is mounted;
a translucent cap having a dome portion that transmits light emitted from the semiconductor light emitting element, and an annular flange portion provided at the bottom of the dome portion;
a cap bonding layer that seals and bonds the flange portion of the translucent cap and the substrate;
a filled gas that fills a space defined by the substrate, the translucent cap, and the bonding layer;
with
The flange portion has a flat portion and an annular convex portion that protrudes from the flat portion toward the substrate and is concentric with the annular ring. placed around the perimeter,
the top of the projection is parallel to the flat surface of the flange and is in contact with at least a portion of the substrate;
A portion of the substrate in contact with the top of the convex portion is flat,
The cap bonding layer is arranged between the surface of the flange portion on the outer peripheral side of the convex portion and the upper surface of the substrate,
The filled gas contains at least oxygen.

第1の実施形態による半導体発光装置10の上面を模式的に示す平面図である。1 is a plan view schematically showing the top surface of a semiconductor light emitting device 10 according to a first embodiment; FIG. 半導体発光装置10の側面を模式的に示す図である。1 is a diagram schematically showing a side surface of a semiconductor light emitting device 10; FIG. 半導体発光装置10の裏面を模式的に示す平面図である。2 is a plan view schematically showing the back surface of the semiconductor light emitting device 10; FIG. 半導体発光装置10の内部構造を模式的に示す図である。1 is a diagram schematically showing an internal structure of a semiconductor light emitting device 10; FIG. 第1の実施形態の透光キャップ13の1/4部分を模式的に示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view schematically showing a 1/4 portion of the translucent cap 13 of the first embodiment; 図1AのA-A線に沿った半導体発光装置10の断面を模式的に示す断面図である。1B is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the semiconductor light emitting device 10 taken along line AA of FIG. 1A; FIG. 基板11と透光キャップ13の接合前の状態を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a state before the substrate 11 and the translucent cap 13 are joined. 基板11と透光キャップ13の接合後の状態を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a state after bonding the substrate 11 and the translucent cap 13; 基板11及びフランジ部13Bの接合部の断面を拡大して示す部分拡大断面図である。4 is a partially enlarged cross-sectional view showing an enlarged cross-section of a joint portion between the substrate 11 and the flange portion 13B; FIG. 第2の実施形態による半導体発光装置30の断面を模式的に示す断面図である。It is a sectional view showing typically a section of semiconductor light-emitting device 30 by a 2nd embodiment. 第2の実施形態の基板11及びフランジ部13Bの接合部を拡大して示す部分拡大断面図である。It is a partially enlarged cross-sectional view showing an enlarged joint portion between the substrate 11 and the flange portion 13B of the second embodiment. 第2の実施形態の改変例の基板11及びフランジ部13Bの接合部を拡大して示す部分拡大断面図である。FIG. 11 is a partially enlarged cross-sectional view showing an enlarged joint portion between a substrate 11 and a flange portion 13B in a modified example of the second embodiment;

本発明の好適な実施形態について以下に説明する。以下に説明する実施形態は一例に過ぎず、これらを適宜改変し、組合せてもよい。また、以下の説明及び添付図面において、実質的に同一又は等価な部分には同一の参照符を付して説明する。
[第1の実施形態]
図1Aは、本発明の第1の実施形態による半導体発光装置10の上面を模式的に示す平面図である。図1Bは、半導体発光装置10の側面を模式的に示す図である。図1Cは、半導体発光装置10の裏面を模式的に示す平面図である。図1Dは、半導体発光装置10の内部構造を模式的に示す図である。図1Eは、透光キャップ13の1/4の部分を模式的に示す斜視図である。また、図2は、図1AのA-A線に沿った半導体発光装置10の断面を模式的に示す断面図である。なお、図2は、図面及び説明の明確さのため透光キャップ13の片側1/2の部分を示している。
Preferred embodiments of the invention are described below. The embodiments described below are merely examples, and they may be modified and combined as appropriate. Also, in the following description and accompanying drawings, substantially the same or equivalent parts are denoted by the same reference numerals.
[First embodiment]
FIG. 1A is a plan view schematically showing the top surface of a semiconductor light emitting device 10 according to a first embodiment of the invention. FIG. 1B is a diagram schematically showing a side surface of the semiconductor light emitting device 10. FIG. FIG. 1C is a plan view schematically showing the back surface of the semiconductor light emitting device 10. FIG. FIG. 1D is a diagram schematically showing the internal structure of the semiconductor light emitting device 10. As shown in FIG. FIG. 1E is a perspective view schematically showing a quarter portion of the translucent cap 13. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the semiconductor light emitting device 10 taken along line AA of FIG. 1A. It should be noted that FIG. 2 shows a half of one side of the translucent cap 13 for clarity of drawing and explanation.

半導体発光装置10は、図1A及び図1Bに示すように、矩形板形状の基板11と、半円球状のガラスからなる透光性窓である透光キャップ13とが、キャップ接合層12(20)を介して接合されて構成されている。また、基板11には、紫外線を放射する発光素子15、保護素子16が載置されている。また、半導体発光装置10は、基板11と透光キャップ13で囲まれた内空間19を有している。
なお、基板11の側面がx方向及びy方向に平行であり、基板11の上面がxy平面に平行であるとして示している。
As shown in FIGS. 1A and 1B, the semiconductor light emitting device 10 includes a rectangular plate-shaped substrate 11 and a translucent cap 13, which is a translucent window made of semispherical glass, and a cap bonding layer 12 (20 ) are joined together. A light-emitting element 15 that emits ultraviolet rays and a protective element 16 are mounted on the substrate 11 . The semiconductor light-emitting device 10 also has an inner space 19 surrounded by the substrate 11 and the translucent cap 13 .
The side surfaces of the substrate 11 are shown parallel to the x-direction and the y-direction, and the upper surface of the substrate 11 is shown parallel to the xy plane.

基板11は、2つの平行な主面を有する矩形の板状の基材と、一方の主面に発光素子15と保護素子16を載置する配線電極14を有している。基板11の基材は、発光素子15が出射する光に対して耐性があり、またガス等を透過しない気密性(2つの主面間を貫通する気孔がない)のセラミック基板である。例えば、窒化アルミニウム(AlN)、アルミナ(Al2O3)等のセラミックが用いられる。なお、本実施例では熱伝導性に優れたAlNを用いている。 The substrate 11 has a rectangular plate-shaped base material having two parallel main surfaces, and wiring electrodes 14 on which the light emitting element 15 and the protective element 16 are mounted on one of the main surfaces. The base material of the substrate 11 is an airtight ceramic substrate that is resistant to the light emitted by the light emitting element 15 and impermeable to gases and the like (no pores penetrating between the two main surfaces). For example, ceramics such as aluminum nitride (AlN) and alumina (Al2O3) are used. Note that AlN, which has excellent thermal conductivity, is used in this embodiment.

図1Dに示すように、基板11の一方の主面上には、発光素子15を載置する第1配線電極(本形態ではアノード電極)14A及び第2配線電極(本形態ではカソード電極)14Bが備えられている(以下、特に区別しない場合には、配線電極14と称する。また、配線電極14を配した主面を上面と称する。)。また、基板11の他方の主面(下面)には、発光装置10を回路基板に実装する第1実装電極17A(アノード側)と第2実装電極17B(カソード側)が備えられている。また、第1配線電極14Aと第1実装電極17Aは、第1接続配線18Aで電気的に接続されており、第2配線電極14Bと第2実装電極17Bは、第2接続配線18Bで電気的に接続されている。 As shown in FIG. 1D, on one main surface of the substrate 11, a first wiring electrode (anode electrode in this embodiment) 14A and a second wiring electrode (cathode electrode in this embodiment) 14B on which the light emitting element 15 is mounted are provided. (hereinafter referred to as the wiring electrode 14 unless otherwise distinguished, and the main surface on which the wiring electrode 14 is arranged is referred to as the upper surface). The other main surface (lower surface) of the substrate 11 is provided with a first mounting electrode 17A (anode side) and a second mounting electrode 17B (cathode side) for mounting the light emitting device 10 on the circuit board. The first wiring electrode 14A and the first mounting electrode 17A are electrically connected by a first connection wiring 18A, and the second wiring electrode 14B and the second mounting electrode 17B are electrically connected by a second connection wiring 18B. It is connected to the.

配線電極14及び実装電極17は、例えば、銅(Cu)又はタングステン(W)層にニッケル(Ni)、金(Au)が順に積層されたCu/Ni/Au、又はW/Ni/Auを用いることができる。または、ニッケル・クロム合金(NiCr)層にAu、Ni、Auが順に積層されたNiCr/Au/Ni/Auを用いることができる。また、第1接続配線18A及び第2接続配線18Bは、Cu又はWを用いることができる。 For the wiring electrodes 14 and the mounting electrodes 17, for example, Cu/Ni/Au or W/Ni/Au in which nickel (Ni) and gold (Au) are laminated in order on a copper (Cu) or tungsten (W) layer are used. be able to. Alternatively, NiCr/Au/Ni/Au in which Au, Ni, and Au are laminated in order on a nickel-chromium alloy (NiCr) layer can be used. Further, Cu or W can be used for the first connection wiring 18A and the second connection wiring 18B.

発光素子15は、n型半導体層、発光層及びp型半導体層を含む半導体構造層が形成された窒化ガリウムアルミ(AlGaN)系の半導体発光素子(LED)である。また、発光素子15は、半導体構造層が、反射層を介して導電性の支持基板(シリコン:Si)上に形成(接合)されている。
発光素子15は、支持基板の半導体構造層が接合された面の反対面(発光素子15の裏面とも称する)にアノード電極を備え(図示せず)、基板11上の第1配線電極14Aに電気的に接続されている。また、発光素子15は、半導体構造層の支持基板が接合された面の反対面(発光素子15の表面とも称する)にカソード電極(カソード電極パッド15B)を備え、ボンディングワイヤを介して第2配線電極14Bに電気的に接続されている。
発光素子15は、波長265~415nmの紫外光を発光する窒化アルミ系の発光素子であることが好適である。具体的には、発光中心波長が、265nm、275nm、355nm、365nm、385nm、405nm又は415nmの発光素子を用いた。
本実施形態では、発光ダイオード(LED)としたが、半導体レーザを用いることもできる。
なお、窒化アルミ系の紫外線を放射する発光素子(UV-LED素子)を構成する半導体結晶のAl組成は高く、酸素(O2)や水分(H2O)によって酸化劣化され易い。
The light-emitting device 15 is a gallium aluminum nitride (AlGaN)-based semiconductor light-emitting device (LED) in which semiconductor structural layers including an n-type semiconductor layer, a light-emitting layer, and a p-type semiconductor layer are formed. In the light emitting element 15, a semiconductor structure layer is formed (joined) on a conductive support substrate (silicon: Si) via a reflective layer.
The light-emitting element 15 is provided with an anode electrode (not shown) on the opposite surface of the support substrate to which the semiconductor structure layer is joined (also referred to as the back surface of the light-emitting element 15), and the first wiring electrode 14A on the substrate 11 is electrically connected. properly connected. In addition, the light emitting element 15 has a cathode electrode (cathode electrode pad 15B) on the surface opposite to the surface of the semiconductor structure layer to which the support substrate is bonded (also referred to as the surface of the light emitting element 15), and the second wiring is provided via a bonding wire. It is electrically connected to electrode 14B.
The light-emitting element 15 is preferably an aluminum nitride-based light-emitting element that emits ultraviolet light with a wavelength of 265 to 415 nm. Specifically, a light-emitting element having an emission center wavelength of 265 nm, 275 nm, 355 nm, 365 nm, 385 nm, 405 nm, or 415 nm was used.
In this embodiment, a light emitting diode (LED) is used, but a semiconductor laser can also be used.
The Al composition of the semiconductor crystal constituting the aluminum nitride-based light-emitting element (UV-LED element) that emits ultraviolet rays is high, and is easily oxidized and deteriorated by oxygen (O2) and moisture (H2O).

また、基板11上には、第1配線電極14A及び第2配線電極14Bに接続された保護素子16が設けられている。保護素子16は、発光素子15を静電破壊から守る機能を有する。ここでは、ツェナーダイオード(ZD)を用いている。 A protection element 16 connected to the first wiring electrode 14A and the second wiring electrode 14B is provided on the substrate 11 . The protective element 16 has a function of protecting the light emitting element 15 from electrostatic breakdown. Here, a Zener diode (ZD) is used.

半導体発光装置10は、図2に示すように、第1実装電極17A及び第2実装電極17Bへ電圧印加することで、発光素子15の表面(光取り出し面)からの放射光LEが放射され、透光キャップ13を経て外部に放射される。 In the semiconductor light emitting device 10, as shown in FIG. 2, by applying a voltage to the first mounting electrode 17A and the second mounting electrode 17B, emitted light LE is emitted from the surface (light extraction surface) of the light emitting element 15. The light is radiated to the outside through the translucent cap 13 .

次に、透光キャップ13について説明する。
図1B及び図2に示すように、透光キャップ13は、半円球状のドーム部13Aと、ドーム部13Aの底部に設けられたフランジ部13Bとからなる。また、図1Eに透光キャップ13の1/4部分を模式的に示すようにフランジ部13Bは円環板形状をしている。
円環板形状のフランジ部13Bは、底面(ドーム部13Aと反対の面)に、ドーム部13Aの中心Cと同じくする円環形状の凸部13C(以後、円環状凸部と称することもある)を備えている。すなわち、上面視においてドーム部13A、フランジ部13B、凸部13Cは中心Cを同じくする同心円に配置されている。また、フランジ部13Bの外縁(外周)とフランジ部13Bの内縁(内周)も同心となっている。
Next, the translucent cap 13 will be described.
As shown in FIGS. 1B and 2, the translucent cap 13 includes a semispherical dome portion 13A and a flange portion 13B provided at the bottom of the dome portion 13A. Further, as shown in FIG. 1E schematically showing the 1/4 portion of the translucent cap 13, the flange portion 13B has an annular plate shape.
The annular plate-shaped flange portion 13B has, on its bottom surface (the surface opposite to the dome portion 13A), an annular convex portion 13C (hereinafter also referred to as an annular convex portion) that is the same as the center C of the dome portion 13A. ). That is, the dome portion 13A, the flange portion 13B, and the convex portion 13C are arranged in concentric circles having the same center C when viewed from above. The outer edge (periphery) of the flange portion 13B and the inner edge (inner periphery) of the flange portion 13B are also concentric.

図3Aは、基板11と透光キャップ13の接合前の状態を模式的に示す断面図である。図3Bは、基板11と透光キャップ13の接合後の状態を模式的に示す断面図である。
凸部13Cは、フランジ部13Bの平坦な底面部から突出している。また、凸部13Cはフランジ部13Bの底面の半径方向(幅方向)の中央近傍に位置している。また、円環状に突出した凸部13Cの頂部は、フランジ部13の平坦な底面部と並行である。ここで、フランジ部13Bの凸部13Cの頂部よりも外側の領域をフランジ外側部13Dとし、凸部13Cの頂部よりも内側の領域をフランジ内側部13Eとしたとき、本実施形態では13Eと13Dを略等距離としている。
FIG. 3A is a cross-sectional view schematically showing a state before the substrate 11 and the translucent cap 13 are joined. FIG. 3B is a cross-sectional view schematically showing the state after the substrate 11 and the translucent cap 13 are bonded.
The convex portion 13C protrudes from the flat bottom portion of the flange portion 13B. The convex portion 13C is positioned near the center in the radial direction (width direction) of the bottom surface of the flange portion 13B. Moreover, the top of the convex portion 13</b>C projecting in an annular shape is parallel to the flat bottom portion of the flange portion 13 . Here, when the area outside the top of the projection 13C of the flange 13B is defined as the flange outside part 13D, and the area inside the top of the projection 13C is defined as the flange inside part 13E, in the present embodiment, 13E and 13D are approximately equidistant.

また、凸部13Cの円周方向に垂直な断面形状は、図3Bに示すように、凸部13Cの頂部が基板11に当接した際に欠けにくい半円形状としている。凸部13Cの形状は半円形状以外に、例えば、三角形状、矩形状又は台形形状とすることもできる。
透光キャップ13は、発光素子15から放射される光を透光し且つ封入ガス気密する材質であり、石英ガラス又はホウ珪酸ガラスとしている。なお、透光性のセラミックとすることもできるが、形状加工性の優れたガラス材が好適である。
Moreover, the cross-sectional shape of the convex portion 13C perpendicular to the circumferential direction is a semicircular shape that is less likely to be chipped when the top portion of the convex portion 13C comes into contact with the substrate 11, as shown in FIG. 3B. The shape of the convex portion 13C can be, for example, a triangular shape, a rectangular shape, or a trapezoidal shape other than the semicircular shape.
The translucent cap 13 is made of a material that transmits the light emitted from the light emitting element 15 and seals the sealed gas, and is made of quartz glass or borosilicate glass. Although translucent ceramics can be used, a glass material having excellent shape workability is preferable.

キャップ接合層12は、透光キャップ13と基板11とを接合する接合層である。キャップ接合層12は、図3Bに示すように、フランジ部13Bの底面に突出した凸部13Cの頂部から外周側であるフランジ外側部13Dと、フランジ外側部13Dに対向した基板11の上面と、フランジ部13Bの外周端から下した垂線に囲まれた領域を満たす形状(すなわち円環形状)及び大きさを有している。詳細には、フランジ部13Bの外周端から下した垂線部に相当する露出面(キャップ接合層12の外側面)は内側に窪んだ凹状となっている。これは、硬化前の樹脂接合材20の外側面が凹状であることを反映した形状であり、接合時に凸部13Cから内空間19へキャップ接合層12の前駆体である樹脂接合材20の越境を抑止できる。これにより、樹脂接合材20が紫外線によって発光素子15を劣化させるガスの発生を防止できる。
図3Bには、キャップ接合層12が凸部13Cの頂部まで満たしている形態を示しているが、必ずしも満たす必要はない。例えば、凸部13Cの頂部からフランジ部13Bに至る空間が満たされていなくてもよい。言い換えれば、キャップ接合層12はフランジ外側部13Dと基板11上面の間で内空間19を閉じる円環を形成していればよい。すなわち、半導体発光装置10の内空間19を気密封止できればよい。
キャップ接合層12としては、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂を用いることができる。キャップ接合層12は、紫外に暴露されると劣化することがあるので耐光性の優れたシリコーン樹脂が好ましい。特に、耐紫外線性の優れた飽和炭化水素系の官能基を有するシリコーン樹脂が好適である。例えば、キャップ接合層が劣化すると外気が発光装置10の内部へ侵入することがある。
The cap bonding layer 12 is a bonding layer that bonds the translucent cap 13 and the substrate 11 together. As shown in FIG. 3B, the cap bonding layer 12 includes a flange outer portion 13D, which is the outer peripheral side from the top of the convex portion 13C projecting from the bottom surface of the flange portion 13B, the upper surface of the substrate 11 facing the flange outer portion 13D, It has a shape (that is, an annular shape) and a size that fills a region surrounded by a vertical line extending from the outer peripheral end of the flange portion 13B. More specifically, the exposed surface (the outer surface of the cap bonding layer 12) corresponding to the vertical line extending downward from the outer peripheral end of the flange portion 13B is recessed inward. This shape reflects that the outer surface of the resin bonding material 20 before curing is concave, and the resin bonding material 20, which is the precursor of the cap bonding layer 12, crosses the boundary from the convex portion 13C to the inner space 19 during bonding. can be suppressed. This prevents the resin bonding material 20 from generating gas that deteriorates the light emitting element 15 due to ultraviolet rays.
Although FIG. 3B shows a form in which the cap bonding layer 12 fills up to the top of the convex portion 13C, it is not necessary to fill the convex portion 13C. For example, the space from the top of the convex portion 13C to the flange portion 13B may not be filled. In other words, the cap bonding layer 12 may form an annular ring that closes the inner space 19 between the flange outer portion 13D and the upper surface of the substrate 11 . That is, it suffices if the inner space 19 of the semiconductor light emitting device 10 can be hermetically sealed.
A silicone resin, an epoxy resin, or an acrylic resin can be used as the cap bonding layer 12 . Since the cap bonding layer 12 may be deteriorated when exposed to ultraviolet light, a silicone resin having excellent light resistance is preferable. In particular, silicone resins having saturated hydrocarbon-based functional groups, which are excellent in UV resistance, are suitable. For example, outside air may enter the light emitting device 10 when the cap bonding layer deteriorates.

基板11と透光キャップ13とキャップ接合層12とで画定された内空間19には封入ガスが満たされている。封入ガスとしては、窒素ガス、ドライ空気、又は窒素ガスに酸素ガスを3~20vol%混合されたガスなどを用いることができる。窒素ガス以外として、アルゴン(Ar)、キセノン(Xe)、ネオン(Ne)などの窒化ガリウムアルミニウム系の発光素子15に対して不活性なガスを用いることができる。窒化ガリウムアルミ系の発光素子15を用いた発光装置10は、製造時において、酸素ガスを含む封入ガスを封入することで発光素子15の光出力維持率を高く保つことができる。なお、封入ガスとしての酸素ガス成分は、発光素子15の出光面に堆積する無機炭素の発生を防ぐことに作用し、発光素子15を劣化させることはない。 An inner space 19 defined by the substrate 11, the translucent cap 13, and the cap bonding layer 12 is filled with a sealed gas. As the filling gas, nitrogen gas, dry air, or a mixture of nitrogen gas and 3 to 20 vol % of oxygen gas can be used. Gases other than nitrogen gas, such as argon (Ar), xenon (Xe), and neon (Ne), which are inert to the gallium nitride aluminum-based light emitting element 15 can be used. In the light-emitting device 10 using the gallium nitride aluminum-based light-emitting element 15, the light output maintenance rate of the light-emitting element 15 can be kept high by enclosing a filling gas containing oxygen gas during manufacturing. It should be noted that the oxygen gas component as the sealing gas acts to prevent the generation of inorganic carbon deposited on the light emitting surface of the light emitting element 15, and does not deteriorate the light emitting element 15. FIG.

図4に示すように、本実施形態の透光キャップ13に設けた円環状の凸部13Cは、ドーム部13Aがフランジ部13Bに接続されている外周部から距離Lだけ離間して配置している。ドーム部13Aを導波してフランジ部13Bに至る紫外線UVは、円環状凸部13Cの内周側のフランジ部13B(フランジ内側部13E)に至り、当該フランジ部13Bの底面より基板11へ放散できる。言い換えれば、円環状凸部13Cの外周部に配置されたキャップ接合層12はドーム部13Aを導波してフランジ部13Bに至る紫外線に暴露されることを防止できる。よって、キャップ接合層12の樹脂劣化を防止できる。なお、距離Lは0より大きい(0<L)。好ましくは、ドーム部13Aの厚みtの1/√2倍(L=t×1/√2)程度以上がよい。また、フランジ部13Bの厚みTは、ドーム部13Aの厚みtと同等(T≒t)又は薄い(T<t)ことが好ましい。
また、ドーム部13Aの外表面とフランジ部13Bとの交点において、ドーム部13Aの外表面の接線とフランジ部13Bの平坦面とが成す角を5°程度以下としている。これにより、ドーム部13Aを導光する紫外線UVがキャップ接合層12に直接照射されることを防ぐことができ、樹脂の劣化を防止できる。
As shown in FIG. 4, the annular convex portion 13C provided on the translucent cap 13 of the present embodiment is arranged at a distance L from the outer peripheral portion where the dome portion 13A is connected to the flange portion 13B. there is The ultraviolet rays UV guided through the dome portion 13A and reaching the flange portion 13B reach the flange portion 13B (flange inner portion 13E) on the inner peripheral side of the annular convex portion 13C, and radiate from the bottom surface of the flange portion 13B to the substrate 11. can. In other words, the cap bonding layer 12 arranged on the outer peripheral portion of the annular convex portion 13C can prevent exposure to ultraviolet rays that propagate through the dome portion 13A and reach the flange portion 13B. Therefore, resin deterioration of the cap bonding layer 12 can be prevented. Note that the distance L is greater than 0 (0<L). Preferably, the thickness is about 1/√2 times the thickness t of the dome portion 13A (L=t×1/√2) or more. Moreover, it is preferable that the thickness T of the flange portion 13B is equal to the thickness t of the dome portion 13A (T≈t) or thinner (T<t).
At the intersection of the outer surface of the dome portion 13A and the flange portion 13B, the angle formed by the tangent to the outer surface of the dome portion 13A and the flat surface of the flange portion 13B is about 5° or less. As a result, it is possible to prevent direct irradiation of the cap bonding layer 12 with the ultraviolet light UV guiding the dome portion 13A, thereby preventing deterioration of the resin.

フランジ部13B(フランジ内側部13E)の裏面(基板11と対向する面)を凹凸状に荒らす(スリ状)こともできる。凹凸とすることで、紫外線UVの透過率(基板11へ至る光線量)を向上できる。
また、図4に示すように、円環状凸部13Cは基板11と凸部13Cの頂部で接している。この構造により、凸部13Cの頂部と基板11とを接触、又は凸部13Cの頂部と基板11との間の距離を極小にすることができる。これにより、樹脂接合材20は凸部13Cの頂部を越境することを抑止でき、樹脂接合材20が紫外線に暴露されることがないので発光素子15の光出力を維持することができる。
The rear surface (the surface facing the substrate 11) of the flange portion 13B (flange inner portion 13E) may be roughened (scraped). The unevenness can improve the transmittance of ultraviolet rays UV (the amount of light reaching the substrate 11).
Further, as shown in FIG. 4, the annular projection 13C is in contact with the substrate 11 at the top of the projection 13C. With this structure, the top of the projection 13C and the substrate 11 can be brought into contact with each other, or the distance between the top of the projection 13C and the substrate 11 can be minimized. As a result, the resin bonding material 20 can be prevented from crossing over the top of the convex portion 13C, and the resin bonding material 20 is not exposed to ultraviolet rays, so that the light output of the light emitting element 15 can be maintained.

[発光装置10の製造方法]
発光装置10の製造方法について、以下に説明する。
まず、基板11の第1配線電極14A上にAuSn微粒子を含む揮発性ソルダーペーストはんだを塗布する。次に、発光素子15を揮発性ソルダーペースト上に載置し、基板11を300℃まで加熱して、AuSnを溶融・固化して第1配線電極14A上に発光素子15を接合する。なお、保護素子16の接合は発光素子15の接合と平行して行う。また、ソルダーペーストに含まれるフラックスは基板11を加熱する段階で揮発する。
次に、発光素子15の上部電極のボンディングパッド15Bと第2配線電極14Bとの間をボンディングワイヤ18C(Auワイヤ)によって電気的に接続する。
次に、発光素子15及び保護素子16が接合された基板11を窒素雰囲気下で、320℃、20秒加熱して、ソルダーペーストのフラックス残留成分を揮発させる。
[Manufacturing Method of Light Emitting Device 10]
A method for manufacturing the light emitting device 10 will be described below.
First, a volatile solder paste containing AuSn fine particles is applied onto the first wiring electrode 14A of the substrate 11 . Next, the light emitting element 15 is placed on the volatile solder paste, and the substrate 11 is heated to 300° C. to melt and solidify the AuSn to bond the light emitting element 15 onto the first wiring electrode 14A. Note that the bonding of the protective element 16 is performed in parallel with the bonding of the light emitting element 15 . Also, the flux contained in the solder paste volatilizes during the heating of the substrate 11 .
Next, the bonding pad 15B of the upper electrode of the light emitting element 15 and the second wiring electrode 14B are electrically connected by a bonding wire 18C (Au wire).
Next, the substrate 11 to which the light emitting element 15 and the protection element 16 are bonded is heated in a nitrogen atmosphere at 320° C. for 20 seconds to volatilize residual flux components of the solder paste.

続いて、封入ガスであるドライ空気雰囲気下で基板11の透光キャップ13のフランジ外側部13Dに対応する領域へ円環状に樹脂接着剤20をポッティングする。樹脂接着剤20にチクソトロピー剤又は/及び増粘剤を添加すると、樹脂接着剤20をポッティングした後の形状ダレを防止できる。
次に、樹脂接着剤20の上に透光キャップ13のフランジ外側部13Dが当接するように載せ、凸部13Cが基板11に接するように力Fで押圧する。このとき樹脂接着剤20は、透光キャップ13の凸部13Cによってフランジ内側部13Eに越境せず、フランジ外側部13Dと基板11との間へ充填される。また、樹脂接着剤20のポッティング量を透光キャップ外側部13Dの下面及び基板11上面で画定される空間の体積より小さくしているので、樹脂接着剤20の外側面が凹状になり、凸部13Cの頂点から内側へ越境することが防止される。具体的には、凸部13Cの頂部と基板11の上面の一部に僅かな隙間が生じた場合でも、樹脂接着剤20の外側面を凹状としたことで生じる表面張力によって、硬化前の樹脂接着剤20がフランジ内側部13Eに浸潤することを防止できる。
Subsequently, a resin adhesive 20 is annularly potted in a region corresponding to the outer flange portion 13D of the translucent cap 13 of the substrate 11 in an atmosphere of dry air, which is a sealed gas. Addition of a thixotropic agent and/or a thickening agent to the resin adhesive 20 can prevent deformation after potting the resin adhesive 20 .
Next, the translucent cap 13 is placed on the resin adhesive 20 so that the outer flange portion 13D of the translucent cap 13 abuts thereon, and is pressed with a force F so that the convex portion 13C contacts the substrate 11 . At this time, the resin adhesive 20 is filled between the flange outer portion 13D and the substrate 11 without crossing over the flange inner portion 13E due to the convex portion 13C of the translucent cap 13 . In addition, since the amount of potting of the resin adhesive 20 is made smaller than the volume of the space defined by the lower surface of the translucent cap outer portion 13D and the upper surface of the substrate 11, the outer surface of the resin adhesive 20 is concave and convex. Inward crossing from the vertex of 13C is prevented. Specifically, even if there is a slight gap between the top of the convex portion 13C and a part of the upper surface of the substrate 11, the resin adhesive 20 before hardening is compressed by the surface tension generated by making the outer surface of the resin adhesive 20 concave. It is possible to prevent the adhesive 20 from infiltrating into the flange inner portion 13E.

次に、30分で150℃まで加熱し、続いて60分加熱維持して、樹脂接着剤20を硬化してキャップ接合層12を形成した。樹脂接着剤20はドライ空気の雰囲気下でも接着力が低下することがないので、簡易な工程で基板11と透光キャップ13を接合できる。
以上の工程により、基板11及び透光キャップ13が接合され、内空間19に半導体発光素子15とドライ空気が封止された半導体発光装置10が完成する。
Next, the resin adhesive 20 was cured by heating to 150° C. for 30 minutes and then maintained for 60 minutes to form the cap bonding layer 12 . Since the adhesive strength of the resin adhesive 20 does not decrease even in a dry air atmosphere, the substrate 11 and the translucent cap 13 can be bonded by a simple process.
Through the above steps, the substrate 11 and the light-transmitting cap 13 are joined, and the semiconductor light-emitting device 10 in which the semiconductor light-emitting element 15 and dry air are sealed in the inner space 19 is completed.

[第2の実施形態]
次に、第2の実施例について説明する。第2の実施形態は、基板11上に基板枠縁層31を形成している点、及びキャップ接合層12の形状が第1の実施形態と相違する。そこで、第1の実施形態と同様な部分は省略し、相違する点のみを説明する。
図5は、第2の実施形態の半導体発光装置30の断面図(第1の実施形態の図2に相当)であり、図6は図5の破線部で囲んだ部分の拡大図である。
[Second embodiment]
Next, a second embodiment will be described. The second embodiment differs from the first embodiment in that the substrate frame edge layer 31 is formed on the substrate 11 and the shape of the cap bonding layer 12 . Therefore, the parts similar to those of the first embodiment are omitted, and only the points of difference are explained.
FIG. 5 is a cross-sectional view (equivalent to FIG. 2 of the first embodiment) of the semiconductor light emitting device 30 of the second embodiment, and FIG. 6 is an enlarged view of the portion surrounded by the dashed line in FIG.

第2の実施形態の発光装置40は、図6に示すように、透光キャップ13の凸部13Cに対向した基板11上に、円環形状の基板枠縁層31が形成されている。すなわち、基板11と透光キャップ13は、基板11上に設けた基板枠縁層31と透光キャップ31の凸部13Cが接し、フランジ部13Bのフランジ外側部13Dと基板11の上面に囲まれた空間にキャップ接合層12が形成されている。 In the light emitting device 40 of the second embodiment, as shown in FIG. 6, an annular substrate frame edge layer 31 is formed on the substrate 11 facing the convex portion 13C of the translucent cap 13 . That is, the substrate 11 and the light-transmitting cap 13 are in contact with the substrate frame edge layer 31 provided on the substrate 11 and the convex portion 13C of the light-transmitting cap 31, and are surrounded by the flange outer portion 13D of the flange portion 13B and the upper surface of the substrate 11. A cap bonding layer 12 is formed in the space.

基板枠縁層31は、透光キャップ13の材料より低硬度の、金属層又は樹脂層で形成されており、透光キャップ13の凸部13Cの頂部が基板枠縁層31に食い込んで密着している。よって、導体発光装置40の内空間19に樹脂接着剤20が浸潤すること、また半導体発光装置10の外部から腐食性ガスが内空間19に侵入することを防止できる。
基板枠縁層31は、例えば、Cu/Ni/Au、W/Ni/Au、NiCr/Au/Ni/Auとすることができる。なお、基板枠縁層31は、配線電極14と同時に形成することができる。尚、基板枠縁層31の最表面は、プラチナ(Pt)、パラジウム(Pd)などの酸化しない貴金属とすることができる。
また、基板枠縁層31は、例えばフッ素系樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化樹脂又は熱可塑性樹脂とすることができる。なお、これらの樹脂は印刷・硬化、蒸着、溶着等で形成することができる。紫外線耐光性を考慮した場合、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)又はテトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)などのフッ素樹脂が好ましい。
また、キャップ接続層12については、外側面を凹状とする必要はなく、図6に示すようにフィレット形状とすることもできる。
The substrate frame edge layer 31 is formed of a metal layer or a resin layer having a lower hardness than the material of the translucent cap 13, and the top of the convex portion 13C of the translucent cap 13 bites into and adheres to the substrate frame edge layer 31. ing. Therefore, it is possible to prevent the resin adhesive 20 from infiltrating the inner space 19 of the semiconductor light emitting device 40 and prevent corrosive gas from entering the inner space 19 from the outside of the semiconductor light emitting device 10 .
The substrate frame edge layer 31 can be, for example, Cu/Ni/Au, W/Ni/Au, NiCr/Au/Ni/Au. Note that the substrate frame edge layer 31 can be formed simultaneously with the wiring electrodes 14 . The outermost surface of the substrate frame edge layer 31 can be made of a noble metal such as platinum (Pt) or palladium (Pd) that does not oxidize.
Further, the substrate frame edge layer 31 can be made of thermosetting resin such as fluorine resin, silicone resin, epoxy resin, or thermoplastic resin. These resins can be formed by printing/curing, vapor deposition, welding, or the like. Considering ultraviolet light resistance, fluororesins such as polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene/perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), or tetrafluoroethylene/hexafluoropropylene copolymer (FEP) are preferable. .
Also, the cap connection layer 12 does not need to have a concave outer surface, and may have a fillet shape as shown in FIG.

[変形例]
第2の実施形態の変形例を図7に示し説明する。本変形例は第1の実施形態にも適用できる。
本変形例は、基板11の上面と透光キャップ13のフランジ内側部13Eとの間に円環形状の紫外線吸収材32を設けている。紫外線吸収材32の径方向の幅Wは、例えばドーム部13Aの厚みt以上であることが好ましい。紫外線吸収材32としては、グラファイト、カーボン、黒色酸化チタンまたは黒色酸化アルミ等の紫外線を吸収できる材料なら良い。また、基板11上又はフランジ内側部13Eの底面に接着又は蒸着して形成することもできる。
[Modification]
A modification of the second embodiment is shown in FIG. 7 and will be described. This modification can also be applied to the first embodiment.
In this modification, an annular ultraviolet absorber 32 is provided between the upper surface of the substrate 11 and the inner flange portion 13E of the translucent cap 13 . The radial width W of the ultraviolet absorber 32 is preferably equal to or greater than the thickness t of the dome portion 13A, for example. As the ultraviolet absorbing material 32, any material capable of absorbing ultraviolet rays, such as graphite, carbon, black titanium oxide, or black aluminum oxide, may be used. It can also be formed by bonding or vapor deposition on the substrate 11 or on the bottom surface of the flange inner portion 13E.

以上、詳細に説明したように、本発明によれば、樹脂接合材によって簡便に封止でき、透光キャップのフランジ部の構造によって樹脂接合材が劣化しない半導体装置を提供することができる。
また、説明した実施形態は例示に過ぎず、本発明の主旨の範囲において形状、材質等は適宜選択できる。また、本明細書において、用語「円環」は、楕円環、長円環、オーバル形の環等を含み、円、円球等についても同様である。また、用語「矩形」は、正方形、長方形、及びこれらの角部が面取りされた形状を含む。
As described in detail above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor device that can be easily sealed with a resin bonding material and that does not deteriorate the resin bonding material due to the structure of the flange portion of the translucent cap.
Moreover, the described embodiment is merely an example, and the shape, material, etc. can be appropriately selected within the scope of the gist of the present invention. Further, in this specification, the term "torus" includes an elliptical ring, an oval ring, an oval ring, and the like, and the same applies to a circle, a spherical ring, and the like. Also, the term "rectangle" includes squares, rectangles, and shapes with chamfered corners.

10,30,40 半導体発光装置
11 基板
12 キャップ接合層
13 透光キャップ
13A ドーム部
13B フランジ部
13C 凸部
13D フランジ外側部
13E フランジ内側部
19 内空間
20 樹脂接合材
31 基板枠縁層
32 紫外線吸収材
REFERENCE SIGNS LIST 10, 30, 40 semiconductor light emitting device 11 substrate 12 cap bonding layer 13 translucent cap 13A dome portion 13B flange portion 13C convex portion 13D flange outer portion 13E flange inner portion 19 inner space 20 resin bonding material 31 substrate frame edge layer 32 ultraviolet absorption material

Claims (10)

紫外線を放射する半導体発光素子と、
発光素子を載置する一対の配線を有するセラミックス製の基板と、
前記半導体発光素子の放射光を透過するドーム部と、ドーム部の底部に設けられた円環状であるフランジ部と、を有する透光性キャップと、
前記透光キャップの前記フランジ部と前記基板を封止且つ接合するキャップ接合層と、
前記基板と前記透光キャップと前記接合層とで画定された空間を満たす封入ガスと、
を備え、
前記フランジ部は、平坦部と当該平坦部から前記基板の方向へ突出し前記円環状と同心の円環状の凸部とを有し、
前記凸部は、前記ドーム部の前記フランジ部と接する外側面より外周に配置され、
前記凸部の頂部は、前記フランジ部の平坦面と平行で前記基板の少なくとも一部に接触し、
前記基板の前記凸部の頂部と接触する部分は平坦であり、
前記キャップ接合層は、前記フランジ部の前記凸部の外周側の面と前記基板の上面との間に配されており、
前記封入ガスは、少なくとも酸素を含んでいる半導体発光装置。
a semiconductor light-emitting element that emits ultraviolet light;
a ceramic substrate having a pair of wirings on which a light emitting element is mounted;
a translucent cap having a dome portion that transmits light emitted from the semiconductor light emitting element, and an annular flange portion provided at the bottom of the dome portion;
a cap bonding layer that seals and bonds the flange portion of the translucent cap and the substrate;
a filled gas that fills a space defined by the substrate, the translucent cap, and the bonding layer;
with
The flange portion has a flat portion and an annular convex portion that protrudes from the flat portion toward the substrate and is concentric with the annular ring,
The convex portion is arranged on the outer periphery from the outer surface of the dome portion in contact with the flange portion,
the top of the projection is parallel to the flat surface of the flange and is in contact with at least a portion of the substrate;
A portion of the substrate in contact with the top of the convex portion is flat,
The cap bonding layer is arranged between the surface of the flange portion on the outer peripheral side of the convex portion and the upper surface of the substrate,
The semiconductor light-emitting device, wherein the filled gas contains at least oxygen.
前記キャップ接合層の前記透光キャップの外側部と前記基板上面との間の外側面は凹状である請求項1に記載の半導体発光装置。 2. The semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein an outer surface of said cap bonding layer between the outer portion of said translucent cap and the upper surface of said substrate is concave. 前記キャップ接合層は、前記凸部の前記頂部を内周側に越境しない請求項1または2に記載の半導体発光装置。 3. The semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein the cap bonding layer does not extend over the top of the protrusion to the inner peripheral side. 前記キャップ接合層は、シリコーン樹脂からなる、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の半導体発光装置。 4. The semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein said cap bonding layer is made of silicone resin. 前記シリコーン樹脂は、官能基が飽和炭化水素系である請求項4に記載の半導体発光装置。 5. The semiconductor light emitting device according to claim 4, wherein the silicone resin has a saturated hydrocarbon functional group. (第2の実施形態)
前記透光キャップの前記凸部に対向した前記基板の面上に、円環形状の基板枠縁層が設けられている、請求項1ないし5のいずれか1項に記載の半導体発光装置。
(Second embodiment)
6. The semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein a ring-shaped substrate frame edge layer is provided on a surface of said substrate facing said convex portion of said translucent cap.
前記基板枠縁層は、前記透光キャップよりも低硬度の材料からなる請求項6に記載の半導体発光装置。 7. The semiconductor light-emitting device according to claim 6, wherein said substrate frame edge layer is made of a material having lower hardness than said translucent cap. 前記凸部の少なくとも一部は、前記基板枠縁層に食い込んでいる請求項6または7に記載の半導体発光装置。 8. The semiconductor light-emitting device according to claim 6, wherein at least part of said convex portion bites into said substrate frame edge layer. 前記基板枠縁層は、金属又は樹脂からなる、請求項6ないし8のいずれか1に記載の半導体発光装置。 9. The semiconductor light emitting device according to claim 6, wherein said substrate frame edge layer is made of metal or resin. 前記ドーム部の延長線上に対応する前記基板の上面上であって、前記基板と前記フランジ部との間に紫外線吸収材が設けられている、請求項1ないし9のいずれか1項に記載の半導体発光装置。

10. The ultraviolet absorber according to any one of claims 1 to 9, wherein an ultraviolet absorber is provided between the substrate and the flange portion on the upper surface of the substrate corresponding to the extension of the dome portion. Semiconductor light emitting device.

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