JP2023050530A - Polarizing plate with adhesion suppressing layer and liquid crystal device using polarizing plate with adhesion suppressing layer - Google Patents

Polarizing plate with adhesion suppressing layer and liquid crystal device using polarizing plate with adhesion suppressing layer Download PDF

Info

Publication number
JP2023050530A
JP2023050530A JP2021160683A JP2021160683A JP2023050530A JP 2023050530 A JP2023050530 A JP 2023050530A JP 2021160683 A JP2021160683 A JP 2021160683A JP 2021160683 A JP2021160683 A JP 2021160683A JP 2023050530 A JP2023050530 A JP 2023050530A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polarizing plate
layer
liquid crystal
adhesion
suppression layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021160683A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
貴博 吉川
Takahiro Yoshikawa
諒太 森島
Ryota MORISHIMA
大輔 服部
Daisuke Hattori
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2021160683A priority Critical patent/JP2023050530A/en
Publication of JP2023050530A publication Critical patent/JP2023050530A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

To provide a liquid crystal display device in which an optical defect is suppressed while maintaining high luminance, and to provide a polarizing plate with an adhesion suppressing layer capable of achieving such a liquid crystal display device.SOLUTION: A polarizing plate with adhesion suppressing layer includes: a polarizing plate including a polarizer; and an adhesion suppressing layer arranged directly on one side of the polarizing plate or through an adhesive layer. The adhesion suppressing layer is a porous layer. A liquid crystal display device includes: a liquid crystal cell; a viewing side polarizing plate arranged on the viewing side of the liquid crystal cell; and the polarizing plate with the adhesion suppressing layer arranged on the side opposite to the viewing side of the liquid crystal cell. The polarizing plate with the adhesion suppressing layer is arranged so that the adhesion suppressing layer is opposite to the viewing side of the polarizing plate.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、密着抑制層付偏光板および該密着抑制層付偏光板を用いた液晶表示装置に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a polarizing plate with an adhesion-suppressing layer and a liquid crystal display device using the polarizing plate with an adhesion-suppressing layer.

近年、低消費電力かつ省スペースの画像表示装置として、液晶表示装置の普及には目覚ましいものがある。液晶表示装置の背面側(バックライト側)には、各種の光学フィルムまたは光学シートが用いられている。このような光学フィルムまたは光学シートは、代表的には、光を屈折、反射、回折、干渉または分散等させることにより、光を集光、拡散、収束、偏光または反射等させる機能を有する。このような光学フィルムまたは光学シートの代表例としては、反射型偏光子(輝度向上フィルム)、プリズムフィルム(プリズムシート)、拡散フィルム(拡散シート)が挙げられる。 2. Description of the Related Art In recent years, there has been remarkable spread of liquid crystal display devices as image display devices with low power consumption and space saving. Various optical films or optical sheets are used on the back side (backlight side) of the liquid crystal display device. Such an optical film or optical sheet typically has the function of condensing, diffusing, converging, polarizing or reflecting light by refracting, reflecting, diffracting, interfering or dispersing the light. Representative examples of such an optical film or optical sheet include a reflective polarizer (brightness enhancement film), a prism film (prism sheet), and a diffusion film (diffusion sheet).

特開2012-2829号公報JP-A-2012-2829

液晶表示装置においては、上記のような光学フィルムまたはシートと液晶パネル(実質的には、背面側偏光板)とが物理的に接して(光学的に密着して)、ウェットアウト(光学的なムラが濡れたようなシミとして見える現象)、干渉縞(ニュートンリング)、バックライトのライトイメージが目立つ、といった光学的な欠陥が発生する場合がある。本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、高い輝度を維持しつつ光学的欠陥が抑制された液晶表示装置およびそのような液晶表示装置を実現し得る密着抑制層付偏光板を提供することにある。 In the liquid crystal display device, the optical film or sheet as described above and the liquid crystal panel (substantially, the back side polarizing plate) are in physical contact (optically in close contact) to wet out (optically There may be optical defects such as a phenomenon where unevenness looks like wet spots), interference fringes (Newton rings), and a conspicuous light image of the backlight. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above conventional problems, and a main object thereof is to provide a liquid crystal display device in which optical defects are suppressed while maintaining high luminance, and such a liquid crystal display device can be realized. An object of the present invention is to provide a polarizing plate with an adhesion suppression layer.

本発明の実施形態による密着抑制層付偏光板は、偏光子を含む偏光板と、該偏光板の一方の側に直接または粘着剤層を介して配置された密着抑制層と、を有し、該密着抑制層は多孔質層である。
1つの実施形態においては、上記密着抑制層付偏光板は、上記偏光板のもう一方の側に別の粘着剤層が設けられている。
1つの実施形態においては、上記密着抑制層の水接触角は90°以上である。
1つの実施形態においては、上記密着抑制層の空隙率は30体積%~80体積%である。1つの実施形態においては、上記密着抑制層の空隙サイズは2nm~500nmである。1つの実施形態においては、上記密着抑制層の屈折率は1.05~1.30である。1つの実施形態においては、上記密着抑制層のヘイズは0.1%以上5.0%未満である。
1つの実施形態においては、上記密着抑制層の厚みは0.1μm~100μmである。
本発明の別の局面によれば、液晶表示装置が提供される。この液晶表示装置は、液晶セルと、該液晶セルの視認側に配置された視認側偏光板と、該液晶セルの視認側と反対側に配置された上記の密着抑制層付偏光板と、を有する。該密着抑制層付偏光板は、上記密着抑制層が上記偏光板の視認側と反対側になるように配置されている。
1つの実施形態においては、上記液晶表示装置は、上記密着抑制層付偏光板の視認側と反対側に、光源を含むバックライトユニットを有する。
1つの実施形態においては、上記液晶表示装置は、上記密着抑制層付偏光板と上記バックライトユニットとの間に、反射型偏光子、拡散フィルム、およびプリズムフィルムから選択される少なくとも1つの光学フィルムをさらに有する。
1つの実施形態においては、上記液晶表示装置は、上記光学フィルムのうち最も視認側の光学フィルムは、上記密着抑制層付偏光板との間に空気層を介して配置されている。別の実施形態においては、上記光学フィルムのうち最も視認側の光学フィルムは、上記密着抑制層付偏光板に貼り合わせられている。
本発明の別の実施形態による液晶表示装置は、液晶セルと、該液晶セルの視認側に配置された視認側偏光板と、該液晶セルの視認側と反対側に配置された背面側偏光板と、バックライトユニットと、該背面側偏光板と該バックライトユニットとの間に配置された少なくとも1つの光学フィルムと、を有し、該少なくとも1つの光学フィルムのうち最も視認側の光学フィルムの視認側に密着抑制層が形成されており、該密着抑制層は多孔質層である。
A polarizing plate with an adhesion suppression layer according to an embodiment of the present invention has a polarizing plate containing a polarizer and an adhesion suppression layer disposed on one side of the polarizing plate directly or via an adhesive layer, The adhesion suppressing layer is a porous layer.
In one embodiment, the adhesion suppression layer-attached polarizing plate is provided with another pressure-sensitive adhesive layer on the other side of the polarizing plate.
In one embodiment, the adhesion suppression layer has a water contact angle of 90° or more.
In one embodiment, the adhesion suppressing layer has a porosity of 30% by volume to 80% by volume. In one embodiment, the adhesion suppressing layer has a pore size of 2 nm to 500 nm. In one embodiment, the adhesion suppressing layer has a refractive index of 1.05 to 1.30. In one embodiment, the adhesion suppressing layer has a haze of 0.1% or more and less than 5.0%.
In one embodiment, the adhesion suppressing layer has a thickness of 0.1 μm to 100 μm.
According to another aspect of the invention, a liquid crystal display device is provided. This liquid crystal display device comprises a liquid crystal cell, a viewing side polarizing plate arranged on the viewing side of the liquid crystal cell, and the polarizing plate with an adhesion suppression layer arranged on the side opposite to the viewing side of the liquid crystal cell. have. The adhesion-suppressing layer-attached polarizing plate is arranged such that the adhesion-suppressing layer is on the opposite side of the polarizing plate to the viewing side.
In one embodiment, the liquid crystal display device has a backlight unit including a light source on the side opposite to the viewing side of the polarizing plate with the adhesion suppression layer.
In one embodiment, the liquid crystal display device has at least one optical film selected from a reflective polarizer, a diffusion film, and a prism film between the polarizing plate with an adhesion suppression layer and the backlight unit. further has
In one embodiment, in the liquid crystal display device, the optical film closest to the viewing side among the optical films is arranged with the polarizing plate with the adhesion suppression layer via an air layer. In another embodiment, the optical film closest to the viewer among the optical films is attached to the polarizing plate with the adhesion suppression layer.
A liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention comprises a liquid crystal cell, a viewing-side polarizing plate arranged on the viewing side of the liquid crystal cell, and a back-side polarizing plate arranged on the side opposite to the viewing side of the liquid crystal cell. and a backlight unit, and at least one optical film disposed between the back-side polarizing plate and the backlight unit, wherein the optical film closest to the viewing side of the at least one optical film An adhesion suppression layer is formed on the viewing side, and the adhesion suppression layer is a porous layer.

本発明の実施形態によれば、高い輝度を維持しつつ光学的欠陥が抑制された液晶表示装置およびそのような液晶表示装置を実現し得る密着抑制層付偏光板を得ることができる。 According to the embodiments of the present invention, it is possible to obtain a liquid crystal display device in which optical defects are suppressed while maintaining high luminance, and a polarizing plate with an adhesion suppression layer capable of realizing such a liquid crystal display device.

本発明の1つの実施形態による密着抑制層付偏光板の概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate with an adhesion suppression layer according to one embodiment of the present invention; FIG. 本発明の1つの実施形態による液晶表示装置の概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention; FIG.

以下、本発明の代表的な実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。なお、見やすくするために図面は模式的に表されており、さらに、図面における長さ、幅、厚み等の比率、ならびに角度等は、実際とは異なっている。 Although representative embodiments of the present invention will be described below, the present invention is not limited to these embodiments. The drawings are shown schematically for the sake of clarity, and the ratios of length, width, thickness, etc., and angles, etc. in the drawings are different from the actual ones.

A.密着抑制層付偏光板の全体構成
図1は、本発明の1つの実施形態による密着抑制層付偏光板の概略断面図である。図示例の密着抑制層付偏光板100は、偏光板10と、偏光板10の一方の側に粘着剤層21を介して配置された密着抑制層30と、を有する。密着抑制層30は、偏光板に直接(すなわち、粘着剤層も接着剤層も介することなく)形成されていてもよい。すなわち、粘着剤層21は省略されてもよい。偏光板10は、偏光子11と、偏光子11の一方の側に配置された第1の保護層12と、偏光子11のもう一方の側に配置された第2の保護層13とを含む。目的に応じて、第1の保護層12および第2の保護層13の一方は省略されてもよい。密着抑制層付偏光板100は、代表的には液晶表示装置における背面側偏光板として用いられ得る。密着抑制層付偏光板100が液晶セルの背面側に配置される場合には、密着抑制層30は、代表的には偏光板10の視認側(液晶セル側)と反対側に配置される。密着抑制層付偏光板100においては、実用的には、偏光板10のもう一方の側には別の粘着剤層22が設けられ、密着抑制層付偏光板100は液晶セルに貼り合わせ可能とされている。別の粘着剤層22の表面には、密着抑制層付偏光板が使用に供されるまで、はく離ライナー(図示せず)が仮着されていることが好ましい。はく離ライナーを仮着することにより、別の粘着剤層を保護するとともに、密着抑制層付偏光板のロール形成が可能となる。以下、便宜上、粘着剤層21を第1の粘着剤層、別の粘着剤層22を第2の粘着剤層と称する場合がある。
A. Overall Configuration of Polarizing Plate with Adhesion Suppression Layer FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate with an adhesion suppression layer according to one embodiment of the present invention. A polarizing plate 100 with an adhesion suppression layer in the illustrated example has a polarizing plate 10 and an adhesion suppression layer 30 arranged on one side of the polarizing plate 10 with an adhesive layer 21 interposed therebetween. The adhesion-suppressing layer 30 may be formed directly on the polarizing plate (that is, without an adhesive layer or an adhesive layer interposed therebetween). That is, the adhesive layer 21 may be omitted. The polarizing plate 10 includes a polarizer 11, a first protective layer 12 arranged on one side of the polarizer 11, and a second protective layer 13 arranged on the other side of the polarizer 11. . Depending on the purpose, one of the first protective layer 12 and the second protective layer 13 may be omitted. The polarizing plate 100 with an adhesion suppression layer can be typically used as a rear-side polarizing plate in a liquid crystal display device. When the polarizing plate 100 with adhesion suppression layer is arranged on the back side of the liquid crystal cell, the adhesion suppression layer 30 is typically arranged on the opposite side of the polarizing plate 10 from the viewing side (liquid crystal cell side). In the polarizing plate with adhesion suppression layer 100, practically, another adhesive layer 22 is provided on the other side of the polarizing plate 10, and the polarizing plate with adhesion suppression layer 100 can be attached to the liquid crystal cell. It is It is preferable that a release liner (not shown) is temporarily adhered to the surface of another pressure-sensitive adhesive layer 22 until the polarizing plate with an adhesion suppression layer is used. By temporarily attaching the release liner, it is possible to protect the other pressure-sensitive adhesive layer and roll-form the polarizing plate with the adhesion-suppressing layer. Hereinafter, for the sake of convenience, the adhesive layer 21 may be referred to as the first adhesive layer, and the separate adhesive layer 22 may be referred to as the second adhesive layer.

本発明の実施形態においては、密着抑制層30は多孔質層である。密着抑制層30は、代表的には、C項で後述するように特定の空隙(孔)構造を有する。その結果、密着抑制層30は、特定の水接触角、空隙率、空隙サイズ、屈折率、ヘイズ等を有し得る。密着抑制層30は、代表的には、密着抑制層付偏光板100の視認側と反対側の最外層であり、密着抑制層付偏光板が液晶表示装置に適用された場合に背面側の光学フィルムまたは光学シートに対向または隣接する。特定の構造を有する密着抑制層を背面側偏光板の背面側最外層として(すなわち、背面側の光学フィルムまたは光学シートに対向または隣接する位置に)設けることにより、液晶パネル(実質的には、背面側偏光板)と背面側の光学フィルムまたは光学シートとの光学的密着(特に、高湿環境下における光学的密着)を良好に抑制することができる。その結果、密着抑制層付偏光板が液晶表示装置に適用された場合に、高い輝度を維持しつつ光学的欠陥が抑制された液晶表示装置を実現することができる。本発明の実施形態によれば、具体的には、高い輝度を維持しつつ、ウェットアウト、干渉縞(ニュートンリング)、バックライトのライトイメージ等、特に高湿環境下におけるウェットアウトが抑制された液晶表示装置を実現することができる。さらに、このような多孔質層は、いわゆるハニカム構造またはそれに類似する構造(例えば、複数の貫通孔が形成された構造)を有する層に比べて、上記の効果を顕著なものとすることができる。 In the embodiment of the invention, the adhesion suppression layer 30 is a porous layer. The adhesion suppressing layer 30 typically has a specific void (hole) structure as described later in Section C. As a result, the adhesion-preventing layer 30 can have a specific water contact angle, porosity, void size, refractive index, haze, and the like. The adhesion suppression layer 30 is typically the outermost layer on the side opposite to the viewing side of the adhesion suppression layer attached polarizing plate 100, and when the adhesion suppression layer attached polarizing plate is applied to a liquid crystal display device, the optical layer on the back side is used. Facing or adjacent to the film or optical sheet. A liquid crystal panel (substantially, It is possible to satisfactorily suppress optical adhesion (especially optical adhesion in a high-humidity environment) between the rear side polarizing plate) and the rear side optical film or optical sheet. As a result, when the polarizing plate with an adhesion suppression layer is applied to a liquid crystal display device, it is possible to realize a liquid crystal display device in which optical defects are suppressed while maintaining high luminance. Specifically, according to the embodiment of the present invention, wet-out, interference fringes (Newton rings), backlight light image, etc., especially in a high-humidity environment, are suppressed while maintaining high brightness. A liquid crystal display device can be realized. Furthermore, such a porous layer can make the above effect more remarkable than a layer having a so-called honeycomb structure or a structure similar thereto (for example, a structure in which a plurality of through holes are formed). .

以下、密着抑制層付偏光板の構成要素について説明する。 The constituent elements of the polarizing plate with an adhesion suppressing layer will be described below.

B.偏光板
B-1.偏光子
偏光子11としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
B. Polarizing plate B-1. Polarizer Any appropriate polarizer can be employed as the polarizer 11 . For example, the resin film forming the polarizer may be a single-layer resin film or a laminate of two or more layers.

単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ポリビニルアルコール(PVA)系フィルム、部分ホルマール化PVA系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、PVAの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、PVA系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。 Specific examples of the polarizer composed of a single-layer resin film include hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol (PVA) films, partially formalized PVA films, and partially saponified ethylene/vinyl acetate copolymer films. In addition, oriented polyene films such as those dyed with dichroic substances such as iodine and dichroic dyes and stretched, and dehydrated PVA and dehydrochlorinated polyvinyl chloride films. A polarizer obtained by dyeing a PVA-based film with iodine and uniaxially stretching the film is preferably used because of its excellent optical properties.

上記ヨウ素による染色は、例えば、PVA系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは3~7倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、PVA系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にPVA系フィルムを水に浸漬して水洗することで、PVA系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、PVA系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。 The dyeing with iodine is performed by, for example, immersing the PVA-based film in an aqueous iodine solution. The draw ratio of the uniaxial drawing is preferably 3 to 7 times. Stretching may be performed after the dyeing treatment, or may be performed while dyeing. Moreover, you may dye after extending|stretching. If necessary, the PVA-based film is subjected to swelling treatment, cross-linking treatment, washing treatment, drying treatment, and the like. For example, by immersing the PVA-based film in water and washing it with water before dyeing, not only can dirt and anti-blocking agents on the surface of the PVA-based film be washed away, but also the PVA-based film can be swollen to remove uneven dyeing. can be prevented.

上記二層以上の積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたPVA系樹脂層(PVA系樹脂フィルム)との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、PVA系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にPVA系樹脂層を形成して、樹脂基材とPVA系樹脂層との積層体を得ること;当該積層体を延伸および染色してPVA系樹脂層を偏光子とすること;により作製され得る。本実施形態においては、好ましくは、樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とポリビニルアルコール系樹脂とを含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温(例えば、95℃以上)で空中延伸することをさらに含み得る。加えて、本実施形態においては、好ましくは、積層体は、長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に2%以上収縮させる乾燥収縮処理に供される。代表的には、本実施形態の製造方法は、積層体に、空中補助延伸処理と染色処理と水中延伸処理と乾燥収縮処理とをこの順に施すことを含む。補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にPVAを塗布する場合でも、PVAの結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にPVAの配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、PVAの配向性の低下や溶解などの問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。さらに、PVA系樹脂層を液体に浸漬した場合において、PVA系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ポリビニルアルコール分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得る。これにより、染色処理および水中延伸処理など、積層体を液体に浸漬して行う処理工程を経て得られる偏光子の光学特性は向上し得る。さらに、乾燥収縮処理により積層体を幅方向に収縮させることにより、光学特性を向上させることができる。得られた樹脂基材/偏光子の積層体はそのまま用いてもよく(すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく)、樹脂基材/偏光子の積層体から樹脂基材を剥離した剥離面に、もしくは、剥離面とは反対側の面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開2012-73580号公報、特許第6470455号に記載されている。これらの公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。 Specific examples of the polarizer obtained using the laminate of two or more layers include a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer (PVA-based resin film) laminated on the resin substrate, or a resin A polarizer obtained using a laminate of a base material and a PVA-based resin layer formed by coating on the resin base material can be mentioned. A polarizer obtained by using a laminate of a resin base material and a PVA-based resin layer formed by coating on the resin base material is obtained, for example, by applying a PVA-based resin solution to the resin base material and drying the resin base material. forming a PVA-based resin layer thereon to obtain a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer; stretching and dyeing the laminate to use the PVA-based resin layer as a polarizer; obtain. In this embodiment, preferably, a polyvinyl alcohol-based resin layer containing a halide and a polyvinyl alcohol-based resin is formed on one side of the resin substrate. Stretching typically includes immersing the laminate in an aqueous boric acid solution for stretching. Furthermore, stretching may further include stretching the laminate in air at a high temperature (eg, 95° C. or higher) before stretching in an aqueous boric acid solution, if necessary. In addition, in the present embodiment, the laminate is preferably subjected to drying shrinkage treatment in which the laminate is heated while being conveyed in the longitudinal direction to shrink the laminate by 2% or more in the width direction. Typically, the manufacturing method of the present embodiment includes subjecting the laminate to an in-air auxiliary stretching treatment, a dyeing treatment, an underwater stretching treatment, and a drying shrinkage treatment in this order. By introducing auxiliary stretching, it is possible to improve the crystallinity of PVA and achieve high optical properties even when PVA is coated on a thermoplastic resin. At the same time, by increasing the orientation of PVA in advance, it is possible to prevent problems such as deterioration of orientation and dissolution of PVA when immersed in water in the subsequent dyeing process or stretching process, resulting in high optical properties. can be achieved. Furthermore, when the PVA-based resin layer is immersed in a liquid, disturbance of the orientation of the polyvinyl alcohol molecules and deterioration of the orientation can be suppressed as compared with the case where the PVA-based resin layer does not contain a halide. As a result, the optical properties of the polarizer obtained through treatment steps such as dyeing treatment and underwater stretching treatment in which the laminate is immersed in a liquid can be improved. Furthermore, the optical properties can be improved by shrinking the laminate in the width direction by drying shrinkage treatment. The obtained resin substrate/polarizer laminate may be used as it is (that is, the resin substrate may be used as a protective layer for the polarizer), and the resin substrate may be peeled off from the resin substrate/polarizer laminate. Any appropriate protective layer may be laminated according to the purpose on the peeled surface or on the surface opposite to the peeled surface. Details of the method for manufacturing such a polarizer are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580 and Japanese Patent No. 6470455. These publications are incorporated herein by reference in their entirety.

偏光子の厚みは、好ましくは15μm以下であり、より好ましくは12μm以下であり、さらに好ましくは10μm以下であり、特に好ましくは8μm以下であり、とりわけ好ましくは5μm以下である。偏光子の厚みの下限は、例えば1μmであり得る。偏光子の厚みがこのような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制することができ、および、良好な加熱時の外観耐久性が得られる。 The thickness of the polarizer is preferably 15 µm or less, more preferably 12 µm or less, still more preferably 10 µm or less, particularly preferably 8 µm or less, and particularly preferably 5 µm or less. A lower limit for the thickness of the polarizer can be, for example, 1 μm. If the thickness of the polarizer is within such a range, it is possible to satisfactorily suppress curling during heating, and obtain excellent durability in appearance during heating.

偏光子は、好ましくは、波長380nm~780nmのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、例えば41.5%~46.0%であり、好ましくは43.0%~46.0%であり、より好ましくは44.5%~46.0%である。偏光子の偏光度は、好ましくは97.0%以上であり、より好ましくは99.0%以上であり、さらに好ましくは99.9%以上である。 The polarizer preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength of 380 nm to 780 nm. The single transmittance of the polarizer is, for example, 41.5% to 46.0%, preferably 43.0% to 46.0%, more preferably 44.5% to 46.0%. The degree of polarization of the polarizer is preferably 97.0% or higher, more preferably 99.0% or higher, still more preferably 99.9% or higher.

B-2.保護層
第1の保護層12および第2の保護層13は、それぞれ、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、環状オレフィン系(例えば、ポリノルボルネン系)、ポリオレフィン系、(メタ)アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、(メタ)アクリル系、ウレタン系、(メタ)アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開2001-343529号公報(WO01/37007)に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとN-メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。好ましくは、第1の保護層12および第2の保護層13は、それぞれ、セルロース系樹脂フィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム、または(メタ)アクリル系樹脂フィルムで構成される。
B-2. Protective Layers First protective layer 12 and second protective layer 13 are each formed of any suitable film that can be used as a protective layer for a polarizer. Specific examples of the material that is the main component of the film include cellulose-based resins such as triacetyl cellulose (TAC), polyester-based, polyvinyl alcohol-based, polycarbonate-based, polyamide-based, polyimide-based, polyethersulfone-based, and polysulfone-based resins. , polystyrene-based, cyclic olefin-based (for example, polynorbornene-based), polyolefin-based, (meth)acrylic-based, and acetate-based transparent resins. Thermosetting resins such as (meth)acrylic, urethane, (meth)acrylic urethane, epoxy, and silicone, or ultraviolet curable resins may also be used. In addition, for example, a glassy polymer such as a siloxane-based polymer can also be used. Further, polymer films described in JP-A-2001-343529 (WO01/37007) can also be used. Materials for this film include, for example, a resin composition containing a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted imide group in a side chain and a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted phenyl group and nitrile group in a side chain. can be used, for example, a resin composition comprising an alternating copolymer of isobutene and N-methylmaleimide and an acrylonitrile/styrene copolymer. The polymer film can be, for example, an extrudate of the resin composition. Preferably, the first protective layer 12 and the second protective layer 13 are each composed of a cellulose-based resin film, a cyclic olefin-based resin film, or a (meth)acrylic-based resin film.

第1の保護層12および第2の保護層13の厚みは、それぞれ、代表的には300μm以下であり、好ましくは100μm以下、より好ましくは5μm~80μm、さらに好ましくは10μm~60μmである。 The thicknesses of the first protective layer 12 and the second protective layer 13 are each typically 300 μm or less, preferably 100 μm or less, more preferably 5 μm to 80 μm, still more preferably 10 μm to 60 μm.

第1の保護層12および第2の保護層13は、それそれが同一の構成であってもよく、互いに異なる構成であってもよい。 The first protective layer 12 and the second protective layer 13 may have the same structure or different structures.

第1の保護層12は、1つの実施形態においては、光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、面内位相差Re(550)が0nm~10nmであり、厚み方向の位相差Rth(550)が-10nm~+10nmであることをいう。 The first protective layer 12 is preferably optically isotropic in one embodiment. As used herein, “optically isotropic” means that the in-plane retardation Re (550) is 0 nm to 10 nm and the thickness direction retardation Rth (550) is −10 nm to +10 nm. say.

C.密着抑制層
密着抑制層は、上記のとおり、内部に空隙(孔)を有する多孔質層である。密着抑制層の空隙率は、好ましくは30体積%~80体積%であり、より好ましくは32体積%~70体積%であり、さらに好ましくは35体積%~65体積%であり、特に好ましくは40体積%~60体積%である。空隙率がこのような範囲であれば、液晶表示装置の背面側の光学フィルムまたは光学シートとの接触面積を低減することができるので、良好な密着抑制特性を実現することができる。その結果、例えばウェットアウトを良好に抑制することができる。空隙率は、エリプソメーターで測定した屈折率の値から、Lorentz‐Lorenz’s formula(ローレンツ-ローレンツの式)より算出され得る。
C. Adhesion Suppression Layer As described above, the adhesion suppression layer is a porous layer having voids (pores) therein. The porosity of the adhesion suppression layer is preferably 30% to 80% by volume, more preferably 32% to 70% by volume, still more preferably 35% to 65% by volume, particularly preferably 40% by volume. % to 60% by volume. If the porosity is in this range, the contact area with the optical film or optical sheet on the back side of the liquid crystal display device can be reduced, so that excellent adhesion suppressing properties can be achieved. As a result, for example, wet-out can be suppressed satisfactorily. The porosity can be calculated by Lorentz-Lorenz's formula from refractive index values measured by an ellipsometer.

密着抑制層の水接触角は、例えば90°以上であり、より好ましくは90°~150°であり、さらに好ましくは90°~140°であり、特に好ましくは90°~135°である。水接触角がこのような範囲であれば、密着抑制の効果を好適に発現することができる。さらに、水接触角は、空隙率等と比較して測定および制御が容易であるという利点がある。接触角は、例えば、協和界面科学(株)製「全自動接触角計DM700」を用いて測定され得る。 The adhesion-suppressing layer has a water contact angle of, for example, 90° or more, preferably 90° to 150°, still more preferably 90° to 140°, and particularly preferably 90° to 135°. If the water contact angle is in such a range, the effect of suppressing adhesion can be favorably exhibited. Furthermore, the water contact angle has the advantage of being easier to measure and control than porosity and the like. The contact angle can be measured, for example, using a "fully automatic contact angle meter DM700" manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.

密着抑制層における空隙(孔)のサイズは、空隙(孔)の長軸の直径および短軸の直径のうち、長軸の直径を指すものとする。空隙(孔)のサイズは、例えば2nm~500nmであり、好ましくは5nm~300nmであり、より好ましくは10nm~200nmであり、さらに好ましくは20nm~100nmである。空隙(孔)のサイズは、目的および用途等に応じて、所望のサイズに調整することができる。なお、空隙(孔)のサイズは、BET試験法により定量化できる。具体的には、比表面積測定装置(マイクロメリティック社製:ASAP2020)のキャピラリに、サンプル(形成された空隙層または多孔質層)を0.1g投入した後、室温で24時間、減圧乾燥を行って、空隙構造内の気体を脱気する。そして、上記サンプルに窒素ガスを吸着させることで吸着等温線を描き、細孔分布を求める。これによって、空隙サイズが評価できる。 The size of the voids (pores) in the adhesion suppressing layer refers to the diameter of the major axis of the diameter of the major axis and the diameter of the minor axis of the void (pore). The size of the voids (pores) is, for example, 2 nm to 500 nm, preferably 5 nm to 300 nm, more preferably 10 nm to 200 nm, still more preferably 20 nm to 100 nm. The size of the voids (pores) can be adjusted to a desired size depending on the purpose, application, and the like. The size of voids (pores) can be quantified by the BET test method. Specifically, 0.1 g of a sample (formed void layer or porous layer) was put into the capillary of a specific surface area measuring device (manufactured by Micromeritic: ASAP2020), and then dried under reduced pressure at room temperature for 24 hours. to degas the gas within the void structure. Then, by causing the sample to adsorb nitrogen gas, an adsorption isotherm is drawn to determine the pore size distribution. This allows the void size to be evaluated.

密着抑制層の屈折率は、好ましくは1.05~1.30であり、より好ましくは1.08~1.28であり、さらに好ましくは1.10~1.27であり、特に好ましくは1.12~1.26であり、とりわけ好ましくは1.14~1.25である。屈折率がこのような範囲であれば、上記所望の空隙率の実現が容易である。さらに、屈折率がこのような範囲であれば、良好なフレネル反射を実現することができ、また、密着抑制層の厚みを制御する効果との相乗的な効果により良好な薄膜干渉を実現することができる。その結果、良好な反射抑制特性を実現することができ、例えばニュートンリング(干渉縞)を良好に抑制することができる。屈折率は、特に断らない限り、波長550nmにおいて測定した屈折率をいう。 The adhesion suppressing layer preferably has a refractive index of 1.05 to 1.30, more preferably 1.08 to 1.28, still more preferably 1.10 to 1.27, and particularly preferably 1 .12 to 1.26, particularly preferably 1.14 to 1.25. If the refractive index is within this range, it is easy to achieve the desired porosity. Furthermore, if the refractive index is within such a range, good Fresnel reflection can be achieved, and good thin film interference can be achieved by a synergistic effect with the effect of controlling the thickness of the adhesion suppressing layer. can be done. As a result, good anti-reflection characteristics can be achieved, and for example, Newton rings (interference fringes) can be well suppressed. A refractive index refers to a refractive index measured at a wavelength of 550 nm unless otherwise specified.

密着抑制層のヘイズは、好ましくは0.1%以上5%未満であり、より好ましくは0.2%以上4%未満であり、さらに好ましくは0.3%以上3%未満である。ヘイズは、例えば、以下のような方法により測定できる。なお、ヘイズは、密着抑制層の透明性の指標である。
空隙層または多孔質層(密着抑制層)を50mm×50mmのサイズにカットし、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所社製:HM-150)にセットしてヘイズを測定する。ヘイズ値については、以下の式より算出する。
ヘイズ(%)=[拡散透過率(%)/全光線透過率(%)]×100(%)
The haze of the adhesion suppressing layer is preferably 0.1% or more and less than 5%, more preferably 0.2% or more and less than 4%, and still more preferably 0.3% or more and less than 3%. Haze can be measured, for example, by the following method. The haze is an indicator of the transparency of the adhesion suppressing layer.
The void layer or porous layer (adhesion suppressing layer) is cut into a size of 50 mm×50 mm and set in a haze meter (HM-150 manufactured by Murakami Color Research Laboratory) to measure the haze. The haze value is calculated using the following formula.
Haze (%) = [diffuse transmittance (%)/total light transmittance (%)] x 100 (%)

密着抑制層は、上記所望の特性を満足する(すなわち、上記特性で特定され得る多孔質構造を有する)限りにおいて、任意の適切な構成が採用され得る。密着抑制層を構成する材料としては、例えば、国際公開第2004/113966号、特開2013-254183号公報、および特開2012-189802号公報に記載の材料を採用し得る。具体的には、例えば、有機ケイ素化合物(有機シラン化合物);シリカ系化合物;加水分解性シラン類、ならびにその部分加水分解物および脱水縮合物;有機ポリマー;シラノール基を含有するケイ素化合物;ケイ酸塩を酸やイオン交換樹脂に接触させることにより得られる活性シリカ;重合性モノマー(例えば、(メタ)アクリル系モノマー、およびスチレン系モノマー);硬化性樹脂(例えば、(メタ)アクリル系樹脂、フッ素含有樹脂、およびウレタン樹脂);およびこれらの組み合わせが挙げられる。密着抑制層は、例えば、このような材料の溶液または分散液を塗工、噴霧または印刷等することにより形成され得る。 Any appropriate configuration can be adopted for the adhesion-suppressing layer as long as it satisfies the desired properties described above (that is, has a porous structure that can be specified by the properties described above). As the material constituting the adhesion suppression layer, for example, the materials described in WO 2004/113966, JP-A-2013-254183, and JP-A-2012-189802 can be employed. Specifically, for example, organosilicon compounds (organosilane compounds); silica-based compounds; hydrolyzable silanes, and partial hydrolysates and dehydration condensates thereof; organic polymers; silicon compounds containing silanol groups; Active silica obtained by contacting a salt with an acid or an ion exchange resin; Polymerizable monomers (e.g., (meth) acrylic monomers and styrene monomers); Curable resins (e.g., (meth) acrylic resins, fluorine containing resins, and urethane resins); and combinations thereof. The adhesion-preventing layer can be formed, for example, by coating, spraying or printing a solution or dispersion of such material.

密着抑制層は、上記のとおり、内部に空隙(孔)を有する多孔質層である。多孔質層は、1つの実施形態においては、エアロゲル、および/または粒子(例えば、中空微粒子および/または多孔質粒子)を含む。密着抑制層は、好ましくはナノポーラス層(具体的には、90%以上の微細孔の直径が10-1nm~10nmの範囲内の多孔質層)であり得る。上記粒子としては、任意の適切な粒子を採用し得る。粒子は、代表的には、シリカ系もしくはシルセスキオキサン系化合物からなる。粒子の形状としては、例えば、球状、板状、針状、ストリング状、およびブドウの房状が挙げられる。ストリング状の粒子としては、例えば、球状、板状、または針状の形状を有する複数の粒子が数珠状に連なった粒子、短繊維状の粒子(例えば、特開2001-188104号公報に記載の短繊維状の粒子)、およびこれらの組み合わせが挙げられる。ストリング状の粒子は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。ブドウの房状の粒子としては、例えば、球状、板状、および針状の粒子が複数凝集してブドウの房状になったものが挙げられる。粒子の形状は、例えば透過電子顕微鏡で観察することによって確認できる。 The adhesion suppressing layer is a porous layer having voids (pores) therein, as described above. The porous layer, in one embodiment, comprises aerogels and/or particles (eg, hollow microparticles and/or porous particles). The adhesion-preventing layer may preferably be a nanoporous layer (specifically, a porous layer in which 90% or more of the micropores have a diameter within the range of 10 −1 nm to 10 3 nm). Any appropriate particles can be adopted as the particles. The particles are typically composed of silica-based or silsesquioxane-based compounds. Particle shapes include, for example, spherical, plate-like, needle-like, string-like, and grape cluster-like shapes. Examples of string-like particles include particles in which a plurality of particles having a spherical, plate-like, or needle-like shape are linked in a beaded shape, and short fiber-like particles (for example, the particles described in JP-A-2001-188104). short fibrous particles), and combinations thereof. String-like particles may be linear or branched. Grape cluster-like particles include, for example, grape cluster-like particles obtained by aggregating a plurality of spherical, plate-like, and needle-like particles. The shape of the particles can be confirmed, for example, by observing them with a transmission electron microscope.

密着抑制層は、代表的には上記のように塗工、噴霧または印刷により形成され得る。このような構成であれば、スパッタリング等に比べて格段に簡便に密着抑制層を形成することができ、かつ、偏光板に対する悪影響が格段に小さい。印刷は、任意の適切な方式が採用され得る。印刷方法は、具体的には、グラビア印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷等の有版式の印刷方法であってもよく、インクジェット印刷、レーザー印刷、静電印刷等の無版式の印刷方法であってもよい。密着抑制層は、偏光板に直接形成されてもよく、任意の適切な基材に塗工形成された後、偏光板に転写されてもよい。 The adhesion-suppressing layer can be typically formed by coating, spraying or printing as described above. With such a structure, the adhesion suppressing layer can be formed much more easily than sputtering or the like, and the adverse effect on the polarizing plate is much less. Any appropriate method can be adopted for printing. Specifically, the printing method may be a plate-type printing method such as gravure printing, offset printing, or flexographic printing, or a plateless printing method such as inkjet printing, laser printing, or electrostatic printing. good. The adhesion-suppressing layer may be directly formed on the polarizing plate, or may be transferred to the polarizing plate after being formed by coating on any appropriate base material.

密着抑制層は、1つの実施形態においては、微細な空隙構造を形成する一種類または複数種類の構成単位からなり、該構成単位同士が触媒作用を介して化学的に結合している。構成単位の形状としては、例えば、粒子状、繊維状、棒状、平板状が挙げられる。構成単位は、1つの形状のみを有していてもよく、2つ以上の形状を組み合わせて有していてもよい。このような空隙層は、空隙層形成工程において、例えば微細孔粒子どうしを化学的に結合させることにより形成され得る。なお、本発明の実施形態において「粒子」(例えば、上記微細孔粒子)の形状は特に限定されず、例えば球状でもよく他の形状でもよい。また、本発明の実施形態において、上記微細孔粒子は、例えば、ゾルゲル数珠状粒子、ナノ粒子(中空ナノシリカ・ナノバルーン粒子)、ナノ繊維等であってもよい。微細孔粒子は、代表的には無機物を含む。無機物の具体例としては、ケイ素(Si)、マグネシウム(Mg)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、亜鉛(Zn)、ジルコニウム(Zr)が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。1つの実施形態においては、上記微細孔粒子は、例えばケイ素化合物の微細孔粒子であり、上記多孔体は、例えばシリコーン多孔体である。また、多孔質層および/または空気層を少なくとも一部に有する密着抑制層の別形態としては、例えば、ナノファイバー等の繊維状物質からなり、該繊維状物質が絡まり合い空隙が形成されて層を成している空隙層がある。このような空隙層の製造方法は特に限定されず、例えば、上記微細孔粒子どうしが化学的に結合している多孔体の空隙層の場合と同様である。さらに別の形態としては、中空ナノ粒子やナノクレイを用いた空隙層、中空ナノバルーンやフッ化マグネシウムを用いて形成した空隙層が挙げられる。空隙層は、単一の構成物質からなる空隙層であってもよいし、複数の構成物質からなる空隙層であってもよい。空隙層は、単一の上記形態で構成されていてもよく、複数の上記形態を含んで構成されていてもよい。 In one embodiment, the adhesion-suppressing layer is composed of one type or a plurality of types of structural units that form a fine void structure, and the structural units are chemically bonded to each other through catalytic action. Examples of the shape of the structural unit include particulate, fibrous, rod-like, and tabular. A structural unit may have only one shape, or may have a combination of two or more shapes. Such a void layer can be formed, for example, by chemically bonding microporous particles together in the void layer forming step. In addition, in the embodiment of the present invention, the shape of the "particle" (for example, the microporous particles) is not particularly limited, and may be, for example, spherical or other shape. Further, in the embodiment of the present invention, the microporous particles may be, for example, sol-gel beaded particles, nanoparticles (hollow nanosilica/nanoballoon particles), nanofibers, and the like. Microporous particles typically include inorganic material. Specific examples of inorganic substances include silicon (Si), magnesium (Mg), aluminum (Al), titanium (Ti), zinc (Zn), and zirconium (Zr). These may be used alone or in combination of two or more. In one embodiment, the microporous particles are, for example, silicon compound microporous particles, and the porous body is, for example, a silicone porous body. Another form of the adhesion-suppressing layer having at least a portion of the porous layer and/or the air layer is, for example, composed of fibrous substances such as nanofibers, and the fibrous substances are entangled to form voids. There is a void layer forming The method for producing such a void layer is not particularly limited, and is, for example, the same as in the case of the void layer of the porous body in which the microporous particles are chemically bonded to each other. Still another form includes a void layer using hollow nanoparticles or nanoclay, and a void layer formed using hollow nanoballoons or magnesium fluoride. The void layer may be a void layer composed of a single constituent substance, or may be a void layer composed of a plurality of constituent substances. The void layer may be composed of a single form described above, or may be composed of a plurality of forms described above.

本実施形態においては、多孔体の多孔質構造は、例えば、孔構造が連続した連泡構造体であり得る。連泡構造体とは、例えば上記シリコーン多孔体において、三次元的に孔構造が連なっていることを意味し、孔構造の内部空隙が連続している状態ともいえる。多孔質体が連泡構造を有することにより、空隙率を高めることが可能である。ただし、中空シリカのような独泡粒子(個々に孔構造を有する粒子)を使用する場合には、連泡構造を形成できない。一方、例えばシリカゾル粒子(ゾルを形成するゲル状ケイ素化合物の粉砕物)を使用する場合、当該粒子が三次元の樹状構造を有するために、塗工膜(ゲル状ケイ素化合物の粉砕物を含むゾルの塗工膜)中で当該樹状粒子が沈降および堆積することで、容易に連泡構造を形成することが可能である。密着抑制層は、より好ましくは、連泡構造が複数の細孔分布を含むモノリス構造を有する。モノリス構造は、例えば、ナノサイズの微細な空隙が存在する構造と、同ナノ空隙が集合した連泡構造とを含む階層構造を意味する。モノリス構造を形成する場合、例えば、微細な空隙で膜強度を付与しつつ、粗大な連泡空隙で高い空隙率を付与し、膜強度と高空隙率とを両立することができる。このようなモノリス構造は、好ましくは、シリカゾル粒子に粉砕する前段階のゲル(ゲル状ケイ素化合物)において、生成する空隙構造の細孔分布を制御することにより形成され得る。また例えば、ゲル状ケイ素化合物を粉砕する際、粉砕後のシリカゾル粒子の粒度分布を所望のサイズに制御することにより、モノリス構造を形成することができる。 In the present embodiment, the porous structure of the porous body may be, for example, an open cell structure with continuous pore structures. The open cell structure means that the pore structure is three-dimensionally connected, for example, in the silicone porous material described above, and can be said to be a state in which the internal voids of the pore structure are continuous. Porosity can be increased by the porous body having an open-cell structure. However, when closed-cell particles (particles having individual pore structures) such as hollow silica are used, an open-cell structure cannot be formed. On the other hand, for example, when using silica sol particles (pulverized gel-like silicon compound that forms a sol), the particles have a three-dimensional dendritic structure, so the coating film (including pulverized gel-like silicon compound) By sedimentation and deposition of the dendritic particles in the sol coating film), it is possible to easily form an open cell structure. The adhesion suppressing layer more preferably has a monolithic structure in which the open cell structure contains a plurality of pore distributions. A monolithic structure means, for example, a hierarchical structure including a structure in which nano-sized fine voids exist and an open-cell structure in which the nano-sized voids are aggregated. In the case of forming a monolithic structure, for example, it is possible to achieve both film strength and high porosity by imparting film strength with fine pores and imparting high porosity with coarse open-cell pores. Such a monolithic structure can be preferably formed by controlling the pore distribution of the void structure produced in the gel (gelled silicon compound) prior to pulverization into silica sol particles. Further, for example, when pulverizing the gelled silicon compound, a monolithic structure can be formed by controlling the particle size distribution of the silica sol particles after pulverization to a desired size.

密着抑制層は、例えば上記のようにゲル状化合物の粉砕物を含み、当該粉砕物同士が化学的に結合している。密着抑制層における粉砕物同士の化学的な結合(化学結合)の形態は、特に制限されず、例えば架橋結合、共有結合、水素結合が挙げられる。 The adhesion-suppressing layer contains, for example, pulverized gel compounds as described above, and the pulverized materials are chemically bonded to each other. The form of chemical bonding (chemical bonding) between the pulverized particles in the adhesion suppressing layer is not particularly limited, and examples thereof include cross-linking, covalent bonding, and hydrogen bonding.

密着抑制層の厚みは、目的に応じて適切に設定することができる。密着抑制層の厚みは、例えば0.1μm(100nm)~100μmであり、また例えば0.1μm(100nm)~20μmであり得る。密着抑制層の厚みは、例えば100nm~800nmであってもよく、また例えば150nm~750nmであってもよく、また例えば200nm~700nmであってもよく、また例えば250nm~650nmであってもよく、また例えば300nm~600nmであってもよく、また例えば350nm~550nmであってもよい。また、密着抑制層の厚みは、例えば100nm~80μmであってもよく、また例えば200nm~70μmであってもよく、また例えば300nm~60μmであってもよく、また例えば400nm~50μmであってもよく、また例えば500nm~40μmであってもよい。さらに、密着抑制層の厚みは、例えば10μm~100μmであってもよく、また例えば20μm~90μmであってもよく、また例えば30μm~80μmであってもよく、また例えば40μm~70μmであってもよく、また例えば60μm~100μmであってもよく、また例えば70μm~100μmであってもよく、また例えば80μm~90μmであってもよい。密着抑制層の厚みは、例えば1μm~20μmであってもよく、また例えば3μm~15μmであってもよく、また例えば5μm~12μmであってもよく、また例えば7μm~10μmであってもよい。 The thickness of the adhesion suppressing layer can be appropriately set according to the purpose. The thickness of the adhesion suppressing layer is, for example, 0.1 μm (100 nm) to 100 μm, and can be, for example, 0.1 μm (100 nm) to 20 μm. The thickness of the adhesion suppression layer may be, for example, 100 nm to 800 nm, or may be, for example, 150 nm to 750 nm, or may be, for example, 200 nm to 700 nm, or may be, for example, may be 250 nm to 650 nm, Further, it may be, for example, 300 nm to 600 nm, or may be, for example, 350 nm to 550 nm. Further, the thickness of the adhesion suppressing layer may be, for example, 100 nm to 80 μm, may be, for example, 200 nm to 70 μm, may be, for example, be 300 nm to 60 μm, and may be, for example, may be 400 nm to 50 μm. and may be, for example, between 500 nm and 40 μm. Furthermore, the thickness of the adhesion-suppressing layer may be, for example, 10 μm to 100 μm, or may be, for example, 20 μm to 90 μm, may be, for example, be 30 μm to 80 μm, or may be, for example, be 40 μm to 70 μm. It may be, for example, 60 μm to 100 μm, or it may be, for example, 70 μm to 100 μm, or it may be, for example, 80 μm to 90 μm. The thickness of the adhesion suppressing layer may be, for example, 1 μm to 20 μm, or may be, for example, 3 μm to 15 μm, or may be, for example, 5 μm to 12 μm, or may be, for example, 7 μm to 10 μm.

密着抑制層の具体的な構成および形成方法の詳細は、例えば国際公開第2019/151073号に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。 Details of the specific configuration and formation method of the adhesion suppressing layer are described, for example, in International Publication No. 2019/151073. The description of the publication is incorporated herein by reference.

D.第1の粘着剤層
第1の粘着剤層21は、代表的には、粘着剤層を構成する粘着剤が通常の状態では密着抑制層の空隙に浸透しない程度の硬さを有する。第1の粘着剤層を構成する粘着剤の23℃における貯蔵弾性率は、例えば1.0×10(Pa)~1.0×10(Pa)であり、好ましくは1.3×10(Pa)~1.0×10(Pa)であり、より好ましくは1.5×10(Pa)~5.0×10(Pa)である。密着抑制層(多孔質層)に隣接する第1の粘着剤層の貯蔵弾性率を上記のような範囲とすることにより、第1の粘着剤層を構成する粘着剤が密着抑制層の空隙に入り込むことを防止できるので、密着抑制層が多孔質層としての構造、特性および効果を維持することができる。貯蔵弾性率は、JIS K7244-1「プラスチック-動的機械特性の試験方法」に記載の方法に準拠して、周波数1Hzの条件で、-50℃~150℃の範囲で昇温速度5℃/分で測定した際の、23℃における値を読み取ることにより求められる。
D. First Adhesive Layer The first adhesive layer 21 typically has hardness to the extent that the adhesive constituting the adhesive layer does not permeate into the voids of the adhesion suppressing layer under normal conditions. The storage modulus at 23° C. of the adhesive constituting the first adhesive layer is, for example, 1.0×10 5 (Pa) to 1.0×10 7 (Pa), preferably 1.3×10 5 (Pa) to 1.0×10 6 (Pa), more preferably 1.5×10 5 (Pa) to 5.0×10 5 (Pa). By setting the storage elastic modulus of the first pressure-sensitive adhesive layer adjacent to the adhesion-suppressing layer (porous layer) to the above range, the pressure-sensitive adhesive constituting the first pressure-sensitive adhesive layer is absorbed into the voids of the adhesion-suppressing layer. Since the penetration can be prevented, the adhesion suppressing layer can maintain the structure, properties and effects as a porous layer. The storage modulus is measured in accordance with the method described in JIS K7244-1 "Plastics - Test method for dynamic mechanical properties" under the condition of a frequency of 1 Hz and a temperature increase rate of 5 ° C./ in the range of -50 ° C. to 150 ° C. It is determined by reading the value at 23° C. when measured in minutes.

第1の粘着剤層を構成する粘着剤としては、上記のような特性を有する限りにおいて任意の適切な粘着剤が用いられ得る。粘着剤としては、代表的には、アクリル系粘着剤(アクリル系粘着剤組成物)が挙げられる。アクリル系粘着剤組成物は、代表的には、(メタ)アクリル系ポリマーを主成分(ベースポリマー)として含む。(メタ)アクリル系ポリマーは、粘着剤組成物の固形分中、例えば50重量%以上、好ましくは70重量%以上、より好ましくは90重量%以上の割合で粘着剤組成物に含有され得る。(メタ)アクリル系ポリマーは、モノマー単位としてアルキル(メタ)アクリレートを主成分として含有する。なお、(メタ)アクリレートはアクリレートおよび/またはメタクリレートをいう。アルキル(メタ)アクリレートのアルキル基としては、例えば、1個~18個の炭素原子を有する直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。当該アルキル基の平均炭素数は、好ましくは3個~9個である。(メタ)アクリル系ポリマーを構成するモノマーとしては、アルキル(メタ)アクリレート以外に、カルボキシル基含有モノマー、ヒドロキシル基含有モノマー、アミド基含有モノマー、芳香環含有(メタ)アクリレート、複素環含有(メタ)アクリレート等のコモノマーが挙げられる。コモノマーは、好ましくはヒドロキシル基含有モノマーおよび/または複素環含有(メタ)アクリレートであり、より好ましくはN-アクリロイルモルホリンである。アクリル系粘着剤組成物は、好ましくは、シランカップリング剤および/または架橋剤を含有し得る。シランカップリング剤としては、例えばエポキシ基含有シランカップリング剤が挙げられる。架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、過酸化物系架橋剤が挙げられる。このような粘着剤層またはアクリル系粘着剤組成物の詳細は、例えば特許第4140736号に記載されており、当該特許公報の記載は本明細書に参考として援用される。 Any appropriate pressure-sensitive adhesive may be used as the pressure-sensitive adhesive constituting the first pressure-sensitive adhesive layer as long as it has the properties as described above. The adhesive typically includes an acrylic adhesive (acrylic adhesive composition). An acrylic pressure-sensitive adhesive composition typically contains a (meth)acrylic polymer as a main component (base polymer). The (meth)acrylic polymer can be contained in the PSA composition in a proportion of, for example, 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, more preferably 90% by weight or more, based on the solid content of the PSA composition. A (meth)acrylic polymer contains alkyl (meth)acrylate as a main component as a monomer unit. (Meth)acrylate refers to acrylate and/or methacrylate. Alkyl groups of alkyl (meth)acrylates include, for example, linear or branched alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms. The average number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 3-9. Monomers constituting (meth)acrylic polymers include, in addition to alkyl (meth)acrylates, carboxyl group-containing monomers, hydroxyl group-containing monomers, amide group-containing monomers, aromatic ring-containing (meth)acrylates, and heterocyclic ring-containing (meth)acrylates. Comonomers such as acrylates are included. The comonomer is preferably a hydroxyl group-containing monomer and/or a heterocycle-containing (meth)acrylate, more preferably N-acryloylmorpholine. The acrylic pressure-sensitive adhesive composition can preferably contain a silane coupling agent and/or a cross-linking agent. Silane coupling agents include, for example, epoxy group-containing silane coupling agents. Examples of cross-linking agents include isocyanate-based cross-linking agents and peroxide-based cross-linking agents. Details of such a pressure-sensitive adhesive layer or acrylic pressure-sensitive adhesive composition are described, for example, in Japanese Patent No. 4140736, and the description of the patent publication is incorporated herein by reference.

第1の粘着剤層の厚みは、好ましくは5μm~30μmであり、より好ましくは10μm~25μmである。第1の粘着剤層の厚みがこのような範囲であれば、充分な密着力を有しつつ、全体厚みに対する第1の粘着剤層厚みの影響が小さいという利点を有する。 The thickness of the first adhesive layer is preferably 5 μm to 30 μm, more preferably 10 μm to 25 μm. If the thickness of the first pressure-sensitive adhesive layer is within such a range, there is an advantage that the influence of the thickness of the first pressure-sensitive adhesive layer on the overall thickness is small while maintaining sufficient adhesion.

E.第2の粘着剤層
第2の粘着剤層22は、偏光板を液晶セルに貼り合わせるための任意の適切な粘着剤で構成される。具体的には、第2の粘着剤層は、当業界で広く用いられている粘着剤で構成され得る。第2の粘着剤層の厚みは、例えば5μm~200μmであってもよく、また例えば10μm~150μmであってもよい。
E. Second Adhesive Layer The second adhesive layer 22 is composed of any suitable adhesive for bonding the polarizing plate to the liquid crystal cell. Specifically, the second pressure-sensitive adhesive layer can be composed of pressure-sensitive adhesives widely used in the industry. The thickness of the second adhesive layer may be, for example, 5 μm to 200 μm, or may be, for example, 10 μm to 150 μm.

F.液晶表示装置
上記A項~E項に記載の密着抑制層付偏光板は、液晶表示装置の背面側偏光板として用いられ得る。したがって、本発明の実施形態は、そのような密着抑制層付偏光板を用いた液晶表示装置も包含する。図2は、本発明の1つの実施形態による液晶表示装置の概略断面図である。図示例の液晶表示装置200は、液晶セル130と、液晶セル130の視認側に配置された視認側偏光板110と、液晶セル130の視認側と反対側に配置された上記A項~E項に記載の密着抑制層付偏光板100と、を有する。視認側偏光板110の偏光子の吸収軸方向と密着抑制層付偏光板100の偏光子の吸収軸方向とは、代表的には、実質的に直交している。密着抑制層付偏光板100は、第2の粘着剤層22を介して液晶セル130に貼り合わせられている。したがって、密着抑制層30は、偏光板10の視認側(液晶セル側)と反対側になるように配置されている。
F. Liquid Crystal Display Device The polarizing plate with an adhesion suppressing layer according to the above items A to E can be used as a back side polarizing plate of a liquid crystal display device. Therefore, the embodiments of the present invention also include a liquid crystal display device using such a polarizing plate with an adhesion suppression layer. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display according to one embodiment of the invention. The liquid crystal display device 200 of the illustrated example includes a liquid crystal cell 130, a viewing side polarizing plate 110 arranged on the viewing side of the liquid crystal cell 130, and the above items A to E arranged on the side opposite to the viewing side of the liquid crystal cell 130. and a polarizing plate 100 with an adhesion suppression layer described in . Typically, the absorption axis direction of the polarizer of the viewer-side polarizing plate 110 and the absorption axis direction of the polarizer of the polarizing plate with adhesion suppression layer 100 are substantially perpendicular to each other. The adhesion suppression layer-attached polarizing plate 100 is attached to the liquid crystal cell 130 via the second adhesive layer 22 . Therefore, the adhesion suppressing layer 30 is arranged on the side opposite to the viewing side (liquid crystal cell side) of the polarizing plate 10 .

液晶セル130は、視認側基板132と、背面側基板131と、視認側基板132および背面側基板131に挟持された、表示媒体としての液晶分子を含む液晶層133と、を有する。一般的な構成においては、一方の基板(代表的には、視認側基板132)に、カラーフィルターおよびブラックマトリクスが設けられており、他方の基板(代表的には、背面側基板131)に、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子と、このスイッチング素子にゲート信号を与える走査線及びソース信号を与える信号線と、画素電極および対向電極とが設けられている。上記基板の間隔(セルギャップ)は、スペーサー等によって制御されている。上記基板の液晶層と接する側には、例えば、ポリイミドからなる配向膜等を設けることができる。 The liquid crystal cell 130 has a viewer-side substrate 132 , a back-side substrate 131 , and a liquid crystal layer 133 sandwiched between the viewer-side substrate 132 and the back-side substrate 131 and containing liquid crystal molecules as a display medium. In a general configuration, one substrate (typically, the viewer-side substrate 132) is provided with a color filter and a black matrix, and the other substrate (typically, the rear-side substrate 131) is provided with A switching element for controlling electro-optical characteristics of liquid crystal, a signal line for applying a gate signal and a source signal to the switching element, a pixel electrode and a counter electrode are provided. The spacing (cell gap) between the substrates is controlled by a spacer or the like. An alignment film made of polyimide, for example, can be provided on the side of the substrate that is in contact with the liquid crystal layer.

液晶層は、電界が存在しない状態でホモジニアス配列に配向させた液晶分子を含んでいてもよく、電界が存在しない状態でホメオトロピック配列に配向させた液晶分子を含んでいてもよい。「ホモジニアス配列に配向させた液晶分子」とは、配向処理された基板と液晶分子の相互作用の結果として、液晶分子の配向ベクトルが基板平面に対し平行に配向した状態のものをいい;「ホメオトロピック配列に配向させた液晶分子」とは、配向処理された基板と液晶分子の相互作用の結果として、液晶分子の配向ベクトルが基板平面に対し垂直に配向した状態のものをいう。ホモジニアス配列の液晶層を用いる駆動モードの代表例としては、インプレーンスイッチング(IPS)モードが挙げられる。ホメオトロピック配列の液晶層を用いる駆動モードの代表例としては、ヴァーティカルアラインメント(VA)モードが挙げられる。なお、本発明の実施形態において駆動モードは限定されず、目的に応じた任意の適切な駆動モードを採用することができる。 The liquid crystal layer may contain liquid crystal molecules aligned in a homogeneous alignment in the absence of an electric field, or may contain liquid crystal molecules aligned in a homeotropic alignment in the absence of an electric field. "Homogeneous alignment of liquid crystal molecules" refers to a state in which the alignment vectors of liquid crystal molecules are aligned parallel to the plane of the substrate as a result of the interaction between the alignment-treated substrate and the liquid crystal molecules; The term "tropically aligned liquid crystal molecules" refers to a state in which the alignment vectors of the liquid crystal molecules are aligned perpendicular to the plane of the substrate as a result of the interaction between the liquid crystal molecules and the substrate subjected to the alignment treatment. A representative example of a driving mode using a liquid crystal layer of homogeneous alignment is an in-plane switching (IPS) mode. A typical example of a drive mode using a homeotropically aligned liquid crystal layer is a vertical alignment (VA) mode. Note that the drive mode is not limited in the embodiment of the present invention, and any appropriate drive mode can be adopted according to the purpose.

実用的には、液晶表示装置100は、密着抑制層付偏光板100の視認側と反対側にバックライトユニット170を有する。バックライトユニットは光源を含む。図示例のバックライトユニット170はエッジライト方式であり、代表的には、光源171と導光板172とを含む。バックライトユニットとしては任意の適切な他の方式(例えば、直下型)が採用されてもよい。直下型バックライトユニット(図示せず)は、代表的には、液晶パネル(液晶セルおよび両側偏光板)の鉛直下方に配置された光源と、光源の上方に配置された拡散フィルムまたは拡散シートと、を有する。 Practically, the liquid crystal display device 100 has a backlight unit 170 on the side opposite to the viewing side of the polarizing plate 100 with an adhesion suppression layer. A backlight unit includes a light source. The illustrated backlight unit 170 is of edge light type and typically includes a light source 171 and a light guide plate 172 . Any other appropriate type (for example, direct type) may be employed as the backlight unit. A direct type backlight unit (not shown) typically includes a light source arranged vertically below a liquid crystal panel (liquid crystal cell and both polarizing plates) and a diffusion film or diffusion sheet arranged above the light source. , have

1つの実施形態においては、液晶表示装置200は、密着抑制層付偏光板100とバックライトユニット170との間に、少なくとも1つの光学フィルムをさらに有していてもよい。光学フィルムとしては、例えば、反射型偏光子(輝度向上フィルム)、プリズムフィルム(プリズムシート)、拡散フィルム(拡散シート)が挙げられる。これらの光学フィルムはそれぞれ、単独で用いてもよく2つ以上を用いてもよい。例えば、2つのプリズムフィルムを用いてもよい。図示例の液晶表示装置200においては、密着抑制層付偏光板100側から順に、例えば、反射型偏光子140、拡散フィルム150およびプリズムフィルム160が配置されている。プリズムフィルムは、代表的には、単位プリズムによる凸部が密着抑制層付偏光板側となるようにして配置される。光学フィルムの配置順序は、目的に応じて適宜変更され得る。本発明の実施形態による密着抑制層付偏光板を用いることにより、高い輝度を維持しつつ、ウェットアウト、干渉縞(ニュートンリング)、バックライトのライトイメージ等、特に高湿環境下におけるウェットアウトが抑制された液晶表示装置を実現するとともに、これらの光学フィルムの機能を良好に維持することができる。 In one embodiment, the liquid crystal display device 200 may further have at least one optical film between the polarizing plate 100 with an adhesion suppression layer and the backlight unit 170 . Examples of optical films include reflective polarizers (brightness enhancement films), prism films (prism sheets), and diffusion films (diffusion sheets). Each of these optical films may be used alone or in combination of two or more. For example, two prism films may be used. In the illustrated liquid crystal display device 200, for example, a reflective polarizer 140, a diffusion film 150, and a prism film 160 are arranged in this order from the polarizing plate 100 with an adhesion suppression layer. The prism film is typically arranged so that the convex portion of the unit prisms is on the polarizing plate side with the adhesion suppressing layer. The arrangement order of the optical films can be appropriately changed depending on the purpose. By using the polarizing plate with an adhesion suppression layer according to the embodiment of the present invention, wet-out, interference fringes (Newton rings), backlight light image, etc., especially in a high-humidity environment can be reduced while maintaining high brightness. A suppressed liquid crystal display device can be realized, and the functions of these optical films can be favorably maintained.

上記のような光学フィルムは、1つの実施形態においては、すべての光学フィルムがバックライトユニットの筐体内に組み込まれる。この場合、光学フィルムのうち最も視認側の光学フィルムは、密着抑制層付偏光板との間に空気層を介して配置されることとなる。さらに、このような実施形態においては、代表的には、筐体内においてそれぞれのフィルムは互いに貼着されず、実質的に空気層を介した別置きとされる。 As for the optical films as described above, in one embodiment, all the optical films are incorporated into the housing of the backlight unit. In this case, the optical film closest to the viewing side among the optical films is arranged with an air layer interposed between the polarizing plate with the adhesion suppression layer. Further, in such an embodiment, typically, the respective films are not adhered to each other in the housing, but are substantially separated with an air layer interposed therebetween.

光学フィルムは、別の実施形態においては、光学フィルムのうち最も視認側の光学フィルムが密着抑制層付偏光板に貼り合わせられている。すなわち、最も視認側の光学フィルムは、密着抑制層付偏光板と一体化され得る。この場合、残りのすべての光学フィルムが順次貼り合わせられて密着抑制層付偏光板と一体化されてもよく;残りの光学フィルムの一部(例えば、視認側から2番目の光学フィルムのみ)は密着抑制層付偏光板と一体化され、一部はバックライトユニットの筐体内に組み込まれてもよく;残りのすべての光学フィルムがバックライトユニットの筐体内に組み込まれてもよい。なお、貼り合わせは、任意の適切な接着層(粘着剤層または接着剤層)を介して行われ得る。 In another embodiment of the optical film, the optical film closest to the viewer is attached to the polarizing plate with the adhesion suppression layer. That is, the optical film closest to the viewer can be integrated with the polarizing plate with the adhesion suppression layer. In this case, all the remaining optical films may be successively laminated to be integrated with the polarizing plate with an adhesion suppression layer; It may be integrated with the polarizing plate with an adhesion suppression layer, and part of it may be incorporated in the housing of the backlight unit; all the remaining optical films may be incorporated in the housing of the backlight unit. Note that lamination can be performed via any appropriate adhesive layer (adhesive layer or adhesive layer).

本発明の実施形態においては、密着抑制層が背面側偏光板に対向または隣接していれば同様の効果が得られ得る。したがって、密着抑制層は、背面側偏光板の背面側に形成される代わりに、バックライト側の光学フィルムのうち最も視認側の光学フィルムの視認側に形成されていてもよい(図示せず)。 In the embodiment of the present invention, the same effect can be obtained if the adhesion suppressing layer faces or is adjacent to the back side polarizing plate. Therefore, the adhesion suppressing layer may be formed on the viewing side of the optical film closest to the viewing side among the optical films on the backlight side, instead of being formed on the back side of the back side polarizing plate (not shown). .

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における評価項目は以下のとおりである。なお、特に明記しない限り、実施例における「部」および「%」は重量基準である。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. Evaluation items in the examples are as follows. "Parts" and "%" in the examples are by weight unless otherwise specified.

(1)密着抑制層の水接触角
実施例で形成した密着抑制層について、協和界面科学(株)製「全自動接触角計DM700」を用いて測定した
(1) Water contact angle of adhesion suppression layer The adhesion suppression layer formed in the example was measured using a "fully automatic contact angle meter DM700" manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.

(2)密着抑制層の空隙率
基材(アクリルフィルム)上に実施例と同様の密着抑制層を形成し、積層体を作製した。得られた積層体の密着抑制層について、X線回折装置(RIGAKU社製、製品名「RINT-2000」)を用いて全反射領域のX線反射率を測定した。さらに、Intensityと2θのフィッティグを行った後に、積層体の全反射臨界角から膜密度(g/cm)を算出し、さらに、空隙率(%)を以下の式から算出した。
空隙率(%)=45.48×膜密度(g/cm)+100(%)
(2) Porosity of Adhesion Suppressing Layer An adhesion suppressing layer similar to that of the example was formed on a substrate (acrylic film) to prepare a laminate. The X-ray reflectance of the total reflection region of the obtained adhesion-suppressing layer of the laminate was measured using an X-ray diffractometer (manufactured by RIGAKU, product name "RINT-2000"). Furthermore, after fitting the Intensity and 2θ, the film density (g/cm 3 ) was calculated from the total reflection critical angle of the laminate, and the porosity (%) was calculated from the following formula.
Porosity (%) = 45.48 x film density (g/cm 3 ) + 100 (%)

(3)密着抑制層の屈折率
実施例で形成した密着抑制層について、エリプソメーターを用いて測定した。
(3) Refractive index of adhesion suppression layer The adhesion suppression layer formed in the example was measured using an ellipsometer.

(4)密着抑制層のヘイズ
実施例で形成した密着抑制層について、ヘイズメーターを用いて測定した。
(4) Haze of adhesion suppressing layer The adhesion suppressing layer formed in Examples was measured using a haze meter.

(5)ウェットアウト
実施例および比較例で得られた液晶表示装置を、温度60℃および相対湿度95%のオーブンに24時間静置し、取り出した後にウェットアウトの有無を目視により観察し、以下の基準で評価した。
○(良好):ウェットアウトは認められなかった
×(不良):ウェットアウトが認められた
(5) Wet-out The liquid crystal display devices obtained in Examples and Comparative Examples were placed in an oven at a temperature of 60° C. and a relative humidity of 95% for 24 hours, and after taking them out, the presence or absence of wet-out was visually observed. was evaluated according to the criteria of
○ (Good): Wet-out was not observed × (Poor): Wet-out was observed

(6)輝度
実施例および比較例で得られた液晶表示装置に白画面を表示し、輝度計(AUTRONIC-MELCHERS社製、商品名「Conoscope」)を用いて白画面表示の輝度を測定した。比較例1の液晶表示装置の輝度を「100」としたときの割合として評価した。
(6) Luminance A white screen was displayed on the liquid crystal display devices obtained in Examples and Comparative Examples, and the luminance of the white screen display was measured using a luminance meter (manufactured by AUTONIC-MELCHERS, trade name "Conoscope"). It was evaluated as a ratio when the luminance of the liquid crystal display device of Comparative Example 1 was defined as "100".

[製造例1]偏光板の作製
(偏光子の作製)
熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、Tg約75℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み:100μm)を用い、樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール(重合度4200、ケン化度99.2モル%)およびアセトアセチル変性PVA(日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー」)を9:1で混合したPVA系樹脂100重量部に、ヨウ化カリウム13重量部を添加したものを水に溶かし、PVA水溶液(塗布液)を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記PVA水溶液を塗布して60℃で乾燥することにより、厚み13μmのPVA系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、130℃のオーブン内で縦方向(長手方向)に2.4倍に一軸延伸した(空中補助延伸処理)。
次いで、積層体を、液温40℃の不溶化浴(水100重量部に対して、ホウ酸を4重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(不溶化処理)。
次いで、液温30℃の染色浴(水100重量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを1:7の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液)に、最終的に得られる偏光子の単体透過率(Ts)が所望の値となるように濃度を調整しながら60秒間浸漬させた(染色処理)。
次いで、液温40℃の架橋浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを3重量部配合し、ホウ酸を5重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(架橋処理)。
その後、積層体を、液温70℃のホウ酸水溶液(ホウ酸濃度4重量%、ヨウ化カリウム濃度5重量%)に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向(長手方向)に総延伸倍率が5.5倍となるように一軸延伸を行った(水中延伸処理)。
その後、積層体を液温20℃の洗浄浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを4重量部配合して得られた水溶液)に浸漬させた(洗浄処理)。
その後、約90℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が約75℃に保たれたSUS製の加熱ロールに接触させた(乾燥収縮処理)。
このようにして、樹脂基材上に厚み約5μmの偏光子を形成し、樹脂基材/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Production Example 1] Production of polarizing plate (production of polarizer)
A long amorphous isophthalic copolymerized polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) having a Tg of about 75° C. was used as the thermoplastic resin substrate, and one side of the resin substrate was subjected to corona treatment.
Polyvinyl alcohol (degree of polymerization: 4,200, degree of saponification: 99.2 mol%) and acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name "GOSEFIMER") were mixed at a ratio of 9:1, and 100 parts by weight of PVA-based resin. was added with 13 parts by weight of potassium iodide and dissolved in water to prepare an aqueous PVA solution (coating solution).
The above PVA aqueous solution was applied to the corona-treated surface of the resin base material and dried at 60° C. to form a PVA-based resin layer having a thickness of 13 μm, thereby producing a laminate.
The resulting laminate was uniaxially stretched 2.4 times in the machine direction (longitudinal direction) in an oven at 130° C. (in-air auxiliary stretching treatment).
Next, the laminate was immersed in an insolubilizing bath (an aqueous boric acid solution obtained by mixing 4 parts by weight of boric acid with 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 40° C. for 30 seconds (insolubilizing treatment).
Then, the finally obtained polarizer is added to a dyeing bath (iodine aqueous solution obtained by blending iodine and potassium iodide at a weight ratio of 1:7 with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 30 ° C. It was immersed for 60 seconds while adjusting the concentration so that the single transmittance (Ts) was a desired value (dyeing treatment).
Next, it was immersed for 30 seconds in a cross-linking bath at a liquid temperature of 40°C (an aqueous solution of boric acid obtained by blending 3 parts by weight of potassium iodide and 5 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water). (crosslinking treatment).
After that, while immersing the laminate in an aqueous solution of boric acid (boric acid concentration: 4% by weight, potassium iodide concentration: 5% by weight) at a liquid temperature of 70° C., the laminate was moved vertically (longitudinally) between rolls with different peripheral speeds. Uniaxial stretching was performed so that the stretching ratio was 5.5 times (underwater stretching treatment).
After that, the laminate was immersed in a washing bath (aqueous solution obtained by blending 4 parts by weight of potassium iodide with 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 20° C. (washing treatment).
Thereafter, while drying in an oven maintained at about 90° C., it was brought into contact with a heating roll made of SUS whose surface temperature was maintained at about 75° C. (dry shrinkage treatment).
In this manner, a polarizer having a thickness of about 5 μm was formed on the resin base material to obtain a polarizing plate having a structure of resin base material/polarizer.

(偏光板の作製)
得られた偏光子の表面(樹脂基材とは反対側の面)に、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(厚み25μm)を貼り合わせた。次いで、樹脂基材を剥離して、当該剥離面にアクリルフィルム(厚み20μm)を貼り合わせ、TACフィルム(外側またはバックライト側保護層)/偏光子/アクリルフィルム(内側または液晶セル側保護層)の構成を有する偏光板P1を得た。
(Preparation of polarizing plate)
A triacetyl cellulose (TAC) film (thickness: 25 μm) was attached to the surface of the obtained polarizer (the surface opposite to the resin substrate). Next, the resin substrate is peeled off, and an acrylic film (thickness 20 μm) is attached to the peeled surface, TAC film (outer or backlight side protective layer) / polarizer / acrylic film (inner or liquid crystal cell side protective layer). A polarizing plate P1 having the structure of was obtained.

[製造例2]密着抑制層形成用塗工液の調製
(1)ケイ素化合物のゲル化
2.2gのジメチルスルホキシド(DMSO)に、ケイ素化合物の前駆体であるメチルトリメトキシシラン(MTMS)を0.95g溶解させて混合液Aを調製した。この混合液Aに、0.01mol/Lのシュウ酸水溶液を0.5g添加し、室温で30分撹拌を行うことでMTMSを加水分解して、トリス(ヒドロキシ)メチルシランを含む混合液Bを生成した。
5.5gのDMSOに、28重量%のアンモニア水0.38g、および純水0.2gを添加した後、さらに、上記混合液Bを追添し、室温で15分撹拌することで、トリス(ヒドロキシ)メチルシランのゲル化を行い、ゲル状ケイ素化合物を含む混合液Cを得た。
(2)熟成処理
上記のように調製したゲル状ケイ素化合物を含む混合液Cを、そのまま、40℃で20時間インキュベートして、熟成処理を行った。
(3)粉砕処理
つぎに、上記のように熟成処理したゲル状ケイ素化合物を、スパチュラを用いて数mm~数cmサイズの顆粒状に砕いた。次いで、混合液Cにイソプロピルアルコール(IPA)を40g添加し、軽く撹拌した後、室温で6時間静置して、ゲル中の溶媒および触媒をデカンテーションした。同様のデカンテーション処理を3回行うことにより、溶媒置換し、混合液Dを得た。次いで、混合液D中のゲル状ケイ素化合物を粉砕処理(高圧メディアレス粉砕)した。粉砕処理(高圧メディアレス粉砕)は、ホモジナイザー(エスエムテー社製、商品名「UH-50」)を使用し、5ccのスクリュー瓶に、混合液D中のゲル状化合物1.85gおよびIPAを1.15g秤量した後、50W、20kHzの条件で2分間の粉砕で行った。
この粉砕処理によって、上記混合液D中のゲル状ケイ素化合物が粉砕されたことにより、該混合液Dは、粉砕物のゾル液Eとなった。混合液Eに含まれる粉砕物の粒度バラツキを示す体積平均粒子径を、動的光散乱式ナノトラック粒度分析計(日機装社製、UPA-EX150型)にて確認したところ、0.50~0.70であった。さらに、このゾル液(混合液C’)0.75gに対し、光塩基発生剤(和光純薬工業株式会社:商品名WPBG266)の1.5重量%濃度MEK(メチルエチルケトン)溶液を0.062g、ビス(トリメトキシシリル)エタンの5%濃度MEK溶液を0.036gの比率で添加し、密着抑制層形成用塗工液Iを得た。
[Production Example 2] Preparation of coating solution for forming adhesion-suppressing layer (1) Gelation of silicon compound To 2.2 g of dimethylsulfoxide (DMSO), methyltrimethoxysilane (MTMS), which is a precursor of the silicon compound, was added to 0. Mixture A was prepared by dissolving .95 g. 0.5 g of a 0.01 mol/L oxalic acid aqueous solution is added to this mixed solution A, and MTMS is hydrolyzed by stirring at room temperature for 30 minutes to generate a mixed solution B containing tris(hydroxy)methylsilane. bottom.
After adding 0.38 g of 28% by weight ammonia water and 0.2 g of pure water to 5.5 g of DMSO, the mixture B was further added and stirred at room temperature for 15 minutes to obtain Tris ( Hydroxy)methylsilane was gelled to obtain a mixed liquid C containing a gelled silicon compound.
(2) Aging Treatment Mixture C containing the gel-like silicon compound prepared as described above was incubated as it was at 40° C. for 20 hours to perform an aging treatment.
(3) Pulverization Next, the gel-like silicon compound aged as described above was pulverized into granules with a size of several mm to several cm using a spatula. Next, 40 g of isopropyl alcohol (IPA) was added to the mixed liquid C, and after lightly stirring, the mixture was allowed to stand at room temperature for 6 hours, and the solvent and catalyst in the gel were decanted. By performing the same decantation treatment three times, the solvent was replaced and a mixed liquid D was obtained. Next, the gelled silicon compound in the mixed liquid D was pulverized (high-pressure medialess pulverization). The pulverization treatment (high-pressure medialess pulverization) uses a homogenizer (manufactured by SMT Co., Ltd., trade name "UH-50"), and 1.85 g of the gel compound in the mixed liquid D and 1.85 g of IPA are added to a 5 cc screw bottle. After weighing 15 g, it was pulverized for 2 minutes under conditions of 50 W and 20 kHz.
By this pulverization treatment, the gel-like silicon compound in the mixture D was pulverized, so that the mixture D became the sol E of the pulverized product. The volume average particle diameter, which indicates the variation in particle size of the pulverized material contained in the mixed liquid E, was confirmed by a dynamic light scattering type Nanotrack particle size analyzer (manufactured by Nikkiso Co., Ltd., UPA-EX150 type), and was 0.50 to 0. .70. Furthermore, 0.062 g of a 1.5% by weight MEK (methyl ethyl ketone) solution of a photobase generator (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.: trade name WPBG266) was added to 0.75 g of this sol liquid (mixture C′). A 5% concentration MEK solution of bis(trimethoxysilyl)ethane was added at a rate of 0.036 g to obtain a coating liquid I for forming an adhesion suppressing layer.

[製造例3]密着抑制層形成用塗工液の調製
アルミナゾル液(4.9%濃度:川研ファインケミカル製)20部に水13部を添加し、80℃で加熱後、NHを3部添加した。さらに80℃で10時間加熱してゲル状化合物を得た。このゲル状化合物を製造例2のゲル状化合物に代えて用いたこと以外は製造例2と同様にして、密着抑制層形成用塗工液IIを得た。
[Production Example 3] Preparation of coating solution for forming adhesion suppression layer Add 13 parts of water to 20 parts of alumina sol solution (4.9% concentration: manufactured by Kawaken Fine Chemicals), heat at 80 ° C., and then add 3 parts of NH3. added. Furthermore, it heated at 80 degreeC for 10 hours, and obtained the gel-like compound. A coating solution II for forming an adhesion suppressing layer was obtained in the same manner as in Production Example 2, except that this gel compound was used in place of the gel compound in Production Example 2.

[製造例4]第1の粘着剤層の形成
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた4つ口フラスコに、ブチルアクリレート90.7部、N-アクリロイルモルホリン6部、アクリル酸3部、2-ヒドロキシブチルアクリレート0.3部、重合開始剤として2,2’-アゾビスイソブチロニトリル0.1重量部を酢酸エチル100gと共に仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換した後、フラスコ内の液温を55℃付近に保って8時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー溶液を調製した。得られたアクリル系ポリマー溶液の固形分100部に対して、イソシアネート架橋剤(日本ポリウレタン工業社製のコロネートL,トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネートのアダクト体)0.2部、ベンゾイルパーオキサイド(日本油脂社製のナイパーBMT)0.3部、γ-グリシドキシプロピルメトキシシラン(信越化学工業社製:KBM-403)0.2部を配合したアクリル系粘着剤溶液を調製した。次いで、上記アクリル系粘着剤溶液を、シリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(三菱化学ポリエステルフィルム社製、厚さ:38μm)の片面に、乾燥後の粘着剤層の厚さが20μmになるように塗布し、150℃で3分間乾燥を行い、粘着剤層PSA1を形成した。得られた粘着剤の23℃における貯蔵弾性率は、1.3×10(Pa)であった。
[Production Example 4] Formation of first adhesive layer In a four-necked flask equipped with a stirring blade, a thermometer, a nitrogen gas inlet tube, and a cooler, 90.7 parts of butyl acrylate, 6 parts of N-acryloylmorpholine, acrylic 3 parts of an acid, 0.3 parts of 2-hydroxybutyl acrylate, and 0.1 parts by weight of 2,2′-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator were charged together with 100 g of ethyl acetate, and nitrogen gas was introduced while gently stirring. After purging with nitrogen, the temperature of the liquid in the flask was maintained at around 55° C., and the polymerization reaction was carried out for 8 hours to prepare an acrylic polymer solution. Based on 100 parts of the solid content of the obtained acrylic polymer solution, 0.2 parts of an isocyanate cross-linking agent (Coronate L manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., an adduct of tolylene diisocyanate of trimethylolpropane), benzoyl peroxide (Japan An acrylic pressure-sensitive adhesive solution was prepared by blending 0.3 parts of Nyper BMT manufactured by Yushi Co., Ltd. and 0.2 parts of γ-glycidoxypropylmethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.: KBM-403). Next, the above acrylic adhesive solution was applied to one side of a polyethylene terephthalate (PET) film (Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd., thickness: 38 μm) that had been subjected to silicone treatment, and the adhesive layer after drying had a thickness of 20 μm. and dried at 150° C. for 3 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer PSA1. The storage elastic modulus of the obtained adhesive at 23° C. was 1.3×10 5 (Pa).

[製造例5]第2の粘着剤層の形成
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた4つ口フラスコに、ブチルアクリレート99部、4-ヒドロキシブチルアクリレート1部、重合開始剤として2,2’-アゾビスイソブチロニトリル0.1部を酢酸エチル100部と共に仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換した後、フラスコ内の液温を55℃付近に保って8時間重合反応を行い、アクリル系ポリマーの溶液を調製した。得られたアクリル系ポリマー溶液の固形分100部に対して、イソシアネート架橋剤(三井武田ケミカル社製のタケネートD110N,トリメチロールプロパンキシリレンジイソシアネート)0.1部、ベンゾイルパーオキサイド(日本油脂社製のナイパーBMT)0.1部、γ-グリシドキシプロピルメトキシシラン(信越化学工業社製:KBM-403)0.2部を配合して、アクリル系粘着剤組成物の溶液を調製した。次いで、上記アクリル系粘着剤組成物の溶液を、シリコーン系剥離剤で処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム(セパレータフィルム:三菱化学ポリエステルフィルム(株)製,MRF38)の片面に塗布し、150℃で3分間乾燥を行い、セパレータフィルムの表面に厚さが20μmの粘着剤層PSA2を形成した。得られた粘着剤の23℃における貯蔵弾性率は、8.2×10(Pa)であった。
[Production Example 5] Formation of Second Adhesive Layer 99 parts of butyl acrylate, 1 part of 4-hydroxybutyl acrylate, and 1 part of 4-hydroxybutyl acrylate were added to a four-necked flask equipped with a stirring blade, a thermometer, a nitrogen gas inlet tube, and a cooler to initiate polymerization. 0.1 part of 2,2'-azobisisobutyronitrile as a reagent was charged together with 100 parts of ethyl acetate, and nitrogen gas was introduced while gently stirring to replace nitrogen gas. , the polymerization reaction was carried out for 8 hours to prepare an acrylic polymer solution. Based on 100 parts of the solid content of the obtained acrylic polymer solution, 0.1 part of an isocyanate cross-linking agent (Takenate D110N manufactured by Mitsui Takeda Chemicals, trimethylolpropane xylylene diisocyanate), benzoyl peroxide (manufactured by NOF Co., Ltd. Nyper BMT) and 0.2 parts of γ-glycidoxypropylmethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.: KBM-403) were blended to prepare a solution of an acrylic pressure-sensitive adhesive composition. Next, the solution of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition was applied to one side of a polyethylene terephthalate film (separator film: MRF38, manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd.) treated with a silicone release agent, and the mixture was heated at 150°C for 3 minutes. After drying, a pressure-sensitive adhesive layer PSA2 having a thickness of 20 μm was formed on the surface of the separator film. The storage elastic modulus of the obtained adhesive at 23° C. was 8.2×10 4 (Pa).

[実施例1]
製造例1で得られた偏光板P1のTACフィルム表面に製造例2で得られた密着抑制層形成用塗工液Iを塗布した。塗膜を温度100℃で1分間乾燥し、次いで積算光量350mJ/cmで紫外線照射を行い、さらに、60℃で20時間のエージングを行って密着抑制層を形成した。密着抑制層の水接触角は130°、空隙率は59%であった。このようにして、密着抑制層付偏光板を得た。
[Example 1]
The adhesion suppressing layer-forming coating solution I obtained in Production Example 2 was applied to the surface of the TAC film of the polarizing plate P1 obtained in Production Example 1. The coating film was dried at a temperature of 100° C. for 1 minute, then irradiated with ultraviolet rays at an integrated light amount of 350 mJ/cm 2 , and further aged at 60° C. for 20 hours to form an adhesion suppressing layer. The adhesion-suppressing layer had a water contact angle of 130° and a porosity of 59%. Thus, a polarizing plate with an adhesion suppression layer was obtained.

市販の液晶表示装置(LG社製、製品名「43UH7710」)から液晶パネルを取り出した。液晶パネルの視認側の構成はそのままとし、バックライト側の光学フィルムを取り除いた。次いで、液晶パネルの光学フィルムを取り除いた面(バックライト側表面)に、上記で得られた密着抑制層付偏光板を、製造例5で得られた第2の粘着剤層PSA2を介して貼り合わせた。一方、上記液晶表示装置から取り出したバックライトユニットの筐体内の光学フィルムを取り除いた後、当該筐体内に液晶パネル側から順に拡散フィルムおよびプリズムフィルムを組み込んだ。プリズムフィルムは、単位プリズムによる凸部が拡散フィルム側となるようにして筐体内に組み込んだ。光学フィルムを組み込んだバックライトユニットを液晶パネルと組み合わせ、液晶表示装置を得た。得られた液晶表示装置を上記(5)および(6)の評価に供した。結果を表1に示す。 A liquid crystal panel was taken out from a commercially available liquid crystal display device (manufactured by LG, product name “43UH7710”). The configuration on the viewing side of the liquid crystal panel was left as it was, and the optical film on the backlight side was removed. Next, the polarizing plate with an adhesion suppression layer obtained above is attached to the surface of the liquid crystal panel from which the optical film has been removed (backlight side surface) via the second adhesive layer PSA2 obtained in Production Example 5. Matched. On the other hand, after removing the optical film in the housing of the backlight unit taken out from the liquid crystal display device, the diffusion film and the prism film were incorporated into the housing in order from the liquid crystal panel side. The prism film was assembled in the housing so that the convex portion of the unit prism was on the diffusion film side. A liquid crystal display device was obtained by combining the backlight unit incorporating the optical film with the liquid crystal panel. The obtained liquid crystal display device was subjected to the evaluations of (5) and (6) above. Table 1 shows the results.

[実施例2]
アクリルフィルム(基材)に製造例2で得られた密着抑制層形成用塗工液Iを塗布した。以降の手順は実施例1と同様にして、基材上に密着抑制層を形成した。得られた密着抑制層を、製造例1で得られた偏光板P1のTACフィルム表面に、製造例4で得られた第1の粘着剤層PSA1を介して転写した。このようにして、密着抑制層付偏光板を得た。以降の手順は実施例1と同様にして液晶表示装置を得た。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
[Example 2]
The adhesion suppressing layer-forming coating liquid I obtained in Production Example 2 was applied to an acrylic film (substrate). Subsequent procedures were the same as in Example 1 to form an adhesion suppressing layer on the substrate. The resulting adhesion-suppressing layer was transferred onto the TAC film surface of the polarizing plate P1 obtained in Production Example 1 via the first pressure-sensitive adhesive layer PSA1 obtained in Production Example 4. Thus, a polarizing plate with an adhesion suppression layer was obtained. Subsequent procedures were carried out in the same manner as in Example 1 to obtain a liquid crystal display device. The obtained liquid crystal display device was subjected to the same evaluation as in Example 1. Table 1 shows the results.

[実施例3]
バックライトユニットの光学フィルムとして拡散フィルムの代わりにプリズムフィルムを用いたこと(すなわち、2つのプリズムフィルムを用いたこと)以外は実施例1と同様にして、液晶表示装置を得た。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
[Example 3]
A liquid crystal display device was obtained in the same manner as in Example 1, except that a prism film was used instead of the diffusion film as the optical film of the backlight unit (that is, two prism films were used). The obtained liquid crystal display device was subjected to the same evaluation as in Example 1. Table 1 shows the results.

[実施例4]
バックライトユニットの光学フィルムとして拡散フィルムの代わりに反射型偏光子(輝度向上フィルム)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、液晶表示装置を得た。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
[Example 4]
A liquid crystal display device was obtained in the same manner as in Example 1, except that a reflective polarizer (brightness enhancement film) was used instead of the diffusion film as the optical film of the backlight unit. The obtained liquid crystal display device was subjected to the same evaluation as in Example 1. Table 1 shows the results.

[実施例5]
密着抑制層形成用塗工液I(製造例2)の代わりに密着抑制層形成用塗工液II(製造例3)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、密着抑制層付偏光板を得た。密着抑制層の水接触角は90°、空隙率は40%であった。以降の手順は実施例1と同様にして液晶表示装置を得た。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
[Example 5]
In the same manner as in Example 1 except that the adhesion suppression layer-forming coating solution II (Production Example 3) was used instead of the adhesion suppression layer-forming coating solution I (Production Example 2), a polarized light with an adhesion suppression layer was prepared. got a board The adhesion-suppressing layer had a water contact angle of 90° and a porosity of 40%. Subsequent procedures were carried out in the same manner as in Example 1 to obtain a liquid crystal display device. The obtained liquid crystal display device was subjected to the same evaluation as in Example 1. Table 1 shows the results.

[実施例6]
拡散フィルムをバックライトユニットの筐体内に組み込む代わりに、密着抑制層付偏光板の密着抑制層に粘着剤を介して貼り合わせたこと以外は実施例1と同様にして、液晶表示装置を得た。なお、プリズムフィルムは実施例1と同様にしてバックライトユニットの筐体内に組み込んだ。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
[Example 6]
A liquid crystal display device was obtained in the same manner as in Example 1, except that instead of incorporating the diffusion film into the housing of the backlight unit, it was attached to the adhesion suppression layer of the polarizing plate with the adhesion suppression layer via an adhesive. . The prism film was incorporated in the housing of the backlight unit in the same manner as in Example 1. The obtained liquid crystal display device was subjected to the same evaluation as in Example 1. Table 1 shows the results.

[比較例1]
製造例1で得られた偏光板P1をそのまま用いたこと(すなわち、密着抑制層を形成しなかったこと)以外は実施例4と同様にして液晶表示装置を得た。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
A liquid crystal display device was obtained in the same manner as in Example 4, except that the polarizing plate P1 obtained in Production Example 1 was used as it was (that is, no adhesion suppression layer was formed). The obtained liquid crystal display device was subjected to the same evaluation as in Example 1. Table 1 shows the results.

[実施例7]
密着抑制層を偏光板P1に形成する代わりに、拡散フィルムの視認側に形成したこと以外は実施例1と同様にして、液晶表示装置を得た。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
[Example 7]
A liquid crystal display device was obtained in the same manner as in Example 1, except that the adhesion suppressing layer was formed on the viewing side of the diffusion film instead of forming it on the polarizing plate P1. The obtained liquid crystal display device was subjected to the same evaluation as in Example 1. Table 1 shows the results.

[実施例8]
密着抑制層を偏光板P1に形成する代わりに、視認側のプリズムフィルムの視認側に形成したこと以外は実施例3と同様にして、液晶表示装置を得た。得られた液晶表示装置を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
[Example 8]
A liquid crystal display device was obtained in the same manner as in Example 3, except that the adhesion suppressing layer was formed on the viewing side of the prism film on the viewing side instead of forming it on the polarizing plate P1. The obtained liquid crystal display device was subjected to the same evaluation as in Example 1. Table 1 shows the results.

Figure 2023050530000002
Figure 2023050530000002

[評価]
表1から明らかなように、本発明の実施例の密着抑制層付偏光板およびそれを用いた液晶表示装置は、輝度を維持しつつ、ウェットアウトが良好に抑制されている。
[evaluation]
As is clear from Table 1, the polarizing plate with an adhesion suppression layer and the liquid crystal display device using the polarizing plate of the example of the present invention satisfactorily suppress wet-out while maintaining brightness.

本発明の実施形態による密着抑制層付偏光板は液晶表示装置の背面側偏光板として好適に用いられ得、本発明の実施形態による液晶表示装置は各種の画像表示装置として好適に用いられ得る。 A polarizing plate with an adhesion suppression layer according to an embodiment of the present invention can be suitably used as a rear side polarizing plate of a liquid crystal display device, and a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention can be suitably used as various image display devices.

10 偏光板
11 偏光子
12 第1の保護層
13 第2の保護層
21 第1の粘着剤層
22 第2の粘着剤層
30 密着抑制層
100 密着抑制層付偏光板
110 視認側偏光板
130 液晶セル
170 バックライトユニット
200 液晶表示装置
REFERENCE SIGNS LIST 10 polarizing plate 11 polarizer 12 first protective layer 13 second protective layer 21 first adhesive layer 22 second adhesive layer 30 adhesion suppression layer 100 polarizing plate with adhesion suppression layer 110 viewing side polarizing plate 130 liquid crystal Cell 170 Backlight unit 200 Liquid crystal display device

Claims (14)

偏光子を含む偏光板と、該偏光板の一方の側に直接または粘着剤層を介して配置された密着抑制層と、を有し、
該密着抑制層が多孔質層である、
密着抑制層付偏光板。
A polarizing plate containing a polarizer, and an adhesion suppression layer disposed directly on one side of the polarizing plate or via an adhesive layer,
The adhesion suppression layer is a porous layer,
A polarizing plate with an adhesion suppression layer.
前記偏光板のもう一方の側に別の粘着剤層が設けられている、請求項1に記載の密着抑制層付偏光板。 2. The polarizing plate with an adhesion suppression layer according to claim 1, wherein another pressure-sensitive adhesive layer is provided on the other side of said polarizing plate. 前記密着抑制層の水接触角が90°以上である、請求項1または2に記載の密着抑制層付偏光板。 3. The polarizing plate with an adhesion-suppressing layer according to claim 1, wherein the adhesion-suppressing layer has a water contact angle of 90[deg.] or more. 前記密着抑制層の空隙率が30体積%~80体積%である、請求項1から3のいずれかに記載の密着抑制層付偏光板。 4. The polarizing plate with an adhesion suppression layer according to claim 1, wherein the adhesion suppression layer has a porosity of 30% by volume to 80% by volume. 前記密着抑制層の空隙サイズが2nm~500nmである、請求項4に記載の密着抑制層付偏光板。 5. The polarizing plate with an adhesion suppression layer according to claim 4, wherein the adhesion suppression layer has a void size of 2 nm to 500 nm. 前記密着抑制層の屈折率が1.05~1.30である、請求項5に記載の密着抑制層付偏光板。 6. The polarizing plate with an adhesion suppression layer according to claim 5, wherein the adhesion suppression layer has a refractive index of 1.05 to 1.30. 前記密着抑制層のヘイズが0.1%以上5.0%未満である、請求項6に記載の密着抑制層付偏光板。 7. The polarizing plate with an adhesion suppression layer according to claim 6, wherein the adhesion suppression layer has a haze of 0.1% or more and less than 5.0%. 前記密着抑制層の厚みが0.1μm~100μmである、請求項1から7のいずれかに記載の密着抑制層付偏光板。 8. The polarizing plate with an adhesion suppression layer according to claim 1, wherein the adhesion suppression layer has a thickness of 0.1 μm to 100 μm. 液晶セルと、該液晶セルの視認側に配置された視認側偏光板と、該液晶セルの視認側と反対側に配置された請求項1から8のいずれかに記載の密着抑制層付偏光板と、を有し、
該密着抑制層付偏光板は、前記密着抑制層が前記偏光板の視認側と反対側になるように配置されている、
液晶表示装置。
A liquid crystal cell, a viewing side polarizing plate arranged on the viewing side of the liquid crystal cell, and a polarizing plate with an adhesion suppression layer according to any one of claims 1 to 8 arranged on the side opposite to the viewing side of the liquid crystal cell. and
The adhesion-suppressing layer-attached polarizing plate is arranged such that the adhesion-suppressing layer is on the side opposite to the viewing side of the polarizing plate.
Liquid crystal display.
前記密着抑制層付偏光板の視認側と反対側に、光源を含むバックライトユニットを有する、請求項9に記載の液晶表示装置。 10. The liquid crystal display device according to claim 9, further comprising a backlight unit including a light source on the side opposite to the viewing side of the polarizing plate with the adhesion suppression layer. 前記密着抑制層付偏光板と前記バックライトユニットとの間に、反射型偏光子、拡散フィルム、およびプリズムフィルムから選択される少なくとも1つの光学フィルムをさらに有する、請求項10に記載の液晶表示装置。 11. The liquid crystal display device according to claim 10, further comprising at least one optical film selected from a reflective polarizer, a diffusion film, and a prism film between the polarizing plate with an adhesion suppression layer and the backlight unit. . 前記光学フィルムのうち最も視認側の光学フィルムが、前記密着抑制層付偏光板との間に空気層を介して配置されている、請求項11に記載の液晶表示装置。 12. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein the optical film closest to the viewing side among the optical films is arranged with the polarizing plate with the adhesion suppression layer via an air layer. 前記光学フィルムのうち最も視認側の光学フィルムが、前記密着抑制層付偏光板に貼り合わせられている、請求項11に記載の液晶表示装置。 12. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein the optical film closest to the viewer among the optical films is attached to the polarizing plate with the adhesion suppression layer. 液晶セルと、該液晶セルの視認側に配置された視認側偏光板と、該液晶セルの視認側と反対側に配置された背面側偏光板と、バックライトユニットと、該背面側偏光板と該バックライトユニットとの間に配置された少なくとも1つの光学フィルムと、を有し、
該少なくとも1つの光学フィルムのうち最も視認側の光学フィルムの視認側に密着抑制層が形成されており、該密着抑制層が多孔質層である、
液晶表示装置。

A liquid crystal cell, a viewing side polarizing plate arranged on the viewing side of the liquid crystal cell, a back side polarizing plate arranged on the side opposite to the viewing side of the liquid crystal cell, a backlight unit, and the back side polarizing plate at least one optical film disposed between the backlight unit;
An adhesion suppression layer is formed on the viewing side of the optical film closest to the viewing side of the at least one optical film, and the adhesion suppression layer is a porous layer.
Liquid crystal display.

JP2021160683A 2021-09-30 2021-09-30 Polarizing plate with adhesion suppressing layer and liquid crystal device using polarizing plate with adhesion suppressing layer Pending JP2023050530A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021160683A JP2023050530A (en) 2021-09-30 2021-09-30 Polarizing plate with adhesion suppressing layer and liquid crystal device using polarizing plate with adhesion suppressing layer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021160683A JP2023050530A (en) 2021-09-30 2021-09-30 Polarizing plate with adhesion suppressing layer and liquid crystal device using polarizing plate with adhesion suppressing layer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023050530A true JP2023050530A (en) 2023-04-11

Family

ID=85806300

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021160683A Pending JP2023050530A (en) 2021-09-30 2021-09-30 Polarizing plate with adhesion suppressing layer and liquid crystal device using polarizing plate with adhesion suppressing layer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2023050530A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5082480B2 (en) Thin polarizing plate and image display device using the same
JP2017054093A (en) Polarizing plate having retardation layer and picture display unit
WO2015046225A1 (en) Polarizing plate and image display device
JP2009109993A (en) Set of polarizing plate, liquid crystal panel using the same, and liquid crystal display device
JP6677722B2 (en) Horizontal alignment type liquid crystal display
JP2009163216A (en) Set of polarizing plate, and liquid crystal panel and liquid crystal display using the same
JP2009169389A (en) Set of polarizing plate, liquid crystal panel using the same and liquid crystal display device
JP4405075B2 (en) Polarizing film, manufacturing method thereof, and polarizing plate using the same
JP2012078420A (en) Light diffusing polarizer plate, and liquid crystal display device
JP2010217844A (en) Polarizing plate set, liquid crystal panel using the same, and liquid crystal display device
JP2009198666A (en) Method of manufacturing polarizing plate, polarizing plate, and liquid crystal display using the polarizing plate
JP2001350018A (en) Optical compensation film, polarizing plate and liquid crystal display device using the same
JP5258016B2 (en) Set of polarizing plates, and liquid crystal panel and liquid crystal display device using the same
JP2005345958A (en) Liquid crystal panel, polarizing plate and liquid crystal display
KR102169534B1 (en) A set of polarizer, and a liquid crystal panel and a liquid display apparatus using the set of polarizer
JP2018036586A (en) Optical member
TWI708966B (en) Polarizing plate set and ips mode liquid crystal display device using the same
WO2005050300A1 (en) Liquid crystal display device
JP2002258050A (en) Polarizing plate and liquid crystal display device using the same
JP2002258043A (en) Polarizing plate and liquid crystal display device using the same
JP2018060152A (en) Set of polarizing plates for ips mode and ips mode liquid crystal display using the same
KR100866005B1 (en) Polarization plate, method for manufacturing the same and liquid crystal display device
JP2023050530A (en) Polarizing plate with adhesion suppressing layer and liquid crystal device using polarizing plate with adhesion suppressing layer
JP2002258042A (en) Polarizing plate and liquid crystal display device using the same
TW526341B (en) Optical polarizing plate and liquid crystal display device equipped with the same