JP2023035716A - Exhaust gas cleaning apparatus, and exhaust gas cleaning method - Google Patents

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Abstract

To provide an exhaust gas cleaning apparatus equipped with a hydrocarbon HC adsorbent capable of suppressing desorption of adsorbed HC and giving a higher HC adsorption factor than conventional ones and an exhaust gas cleaning method using the apparatus.SOLUTION: An exhaust gas cleaning apparatus 2 is equipped with a three-way catalyst 4 and a HC adsorbent 60. The HC adsorbent 60 includes a first zeolite layer 61 made of first zeolite having a silica-alumina ratio of 5-45 and a second zeolite layer 62 made of second zeolite having a silica-alumina ratio of 10-100. The first zeolite is FAU-type zeolite or BEA-type zeolite ion-exchanged with a Cu ion or a Cr ion. The second zeolite is MFI-type zeolite, FAU-type zeolite, BEA-type zeolite, or YFI-type zeolite ion-exchanged with a Cs ion, a Rb ion, or a K ion. An exhaust gas cleaning method uses the exhaust gas cleaning apparatus 2.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、炭化水素(以下、HCという)吸着材を備えた排気浄化装置及びこれを用いた排気浄化方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an exhaust gas purification device provided with a hydrocarbon (hereinafter referred to as HC) adsorbent and an exhaust gas purification method using the same.

従来、内燃機関の排気通路に設けられた排気浄化装置において、例えば内燃機関の冷間始動時等では、三元触媒(以下、TWCという)が十分に活性化していない。そのため、排気浄化装置には排気中のHCを吸着する目的でHC吸着材が設けられる。HC吸着材としては、一般的にはゼオライトが用いられ、TWCと併用される。 2. Description of the Related Art Conventionally, in an exhaust purification device provided in an exhaust passage of an internal combustion engine, a three-way catalyst (hereinafter referred to as TWC) is not sufficiently activated, for example, when the internal combustion engine is cold-started. Therefore, an exhaust purification device is provided with an HC adsorbent for the purpose of adsorbing HC in the exhaust gas. Zeolite is generally used as the HC adsorbent and is used in combination with TWC.

例えば、HC吸着材により吸着したHCを、酸化させて浄化する技術が開示されている(例えば、特許文献1参照)。この技術では、ゼオライトからなるHC吸着材と、白金-ロジウム系の触媒成分を主体とするTWCとを触媒前段部に設けるとともに、ゼオライトからなるHC吸着材と、酸化セリウムからなる酸素供給剤と、パラジウムを主体としたTWCとを触媒後段部に設けることにより、排気中のHCを効率良く浄化できるとされている。 For example, a technique of oxidizing and purifying HC adsorbed by an HC adsorbent has been disclosed (see, for example, Patent Document 1). In this technology, an HC adsorbent made of zeolite and a TWC mainly composed of platinum-rhodium catalyst components are provided in the front stage of the catalyst, and an HC adsorbent made of zeolite, an oxygen supply agent made of cerium oxide, It is said that HC in the exhaust can be efficiently purified by providing a TWC mainly composed of palladium in the rear stage of the catalyst.

特開平9-85056号公報JP-A-9-85056

特許文献1のように、吸着したHCを脱離した際に酸化浄化するために、HC吸着材とTWCとを組み合わせることが一般的に行われている。しかしながら、脱離したHCを確実に酸化浄化するためにはTWCの低温活性が求められるため、貴金属量が多く必要となりコストが高くなる。また、HCの脱離が急に起こると酸素が不足してHCを酸化浄化できなくなるため、酸素供給剤が必要となる。 As in Patent Document 1, it is common practice to combine an HC adsorbent and a TWC in order to oxidize and purify the adsorbed HC when it is desorbed. However, since low-temperature activity of the TWC is required in order to oxidize and purify desorbed HC with certainty, a large amount of precious metal is required, resulting in an increase in cost. In addition, if the desorption of HC occurs suddenly, oxygen becomes insufficient and HC cannot be purified by oxidation, so an oxygen supply agent is required.

本発明は、吸着したHCの脱離を抑制でき、従来よりも高いHC吸着率が得られるHC吸着材を備えた排気浄化装置及びこれを用いた排気浄化方法を提供することを目的とする。以下、本発明において「~」は上端及び下端の値を含むものである。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an exhaust gas purification device equipped with an HC adsorbent capable of suppressing desorption of adsorbed HC and obtaining a higher HC adsorption rate than conventional ones, and an exhaust gas purification method using the same. Hereinafter, in the present invention, "-" includes the upper and lower values.

(1) 本発明は、内燃機関(例えば、後述のエンジン1)の排気通路(例えば、後述の排気管3)に設けられ、三元触媒と前記内燃機関の排気中に含まれる炭化水素を吸着する炭化水素吸着材(例えば、後述のHC吸着材60)とを備えた排気浄化装置(例えば、後述の排気浄化装置2)であって、前記炭化水素吸着材は、ケイバン比が5~45である第1ゼオライトからなる第1ゼオライト層(例えば、後述の第1ゼオライト層61)と、ケイバン比が10~100である第2ゼオライトからなる第2ゼオライト層(例えば、後述の第2ゼオライト層62)と、を備え、前記第1ゼオライトは、Cuイオン又はCrイオンによりイオン交換された、FAU型ゼオライト又はBEA型ゼオライトであり、前記第2ゼオライトは、Csイオン、Rbイオン又はKイオンによりイオン交換された、MFI型ゼオライト、FAU型ゼオライト、BEA型ゼオライト又はYFI型ゼオライトである、排気浄化装置を提供する。 (1) The present invention is provided in an exhaust passage (for example, an exhaust pipe 3, which will be described later) of an internal combustion engine (for example, an engine 1, which will be described later), and adsorbs hydrocarbons contained in a three-way catalyst and the exhaust gas of the internal combustion engine. and a hydrocarbon adsorbent (for example, an HC adsorbent 60 to be described later) (for example, an exhaust gas purification device 2 to be described later), wherein the hydrocarbon adsorbent has a Keiban ratio of 5 to 45. A first zeolite layer made of a certain first zeolite (for example, a first zeolite layer 61 described later) and a second zeolite layer made of a second zeolite having a Keiban ratio of 10 to 100 (for example, a second zeolite layer 62 described later ), wherein the first zeolite is FAU-type zeolite or BEA-type zeolite ion-exchanged with Cu ions or Cr ions, and the second zeolite is ion-exchanged with Cs ions, Rb ions, or K ions MFI-type zeolite, FAU-type zeolite, BEA-type zeolite, or YFI-type zeolite.

(2) (1)の排気浄化装置において、前記第1ゼオライトは、Cuイオンによりイオン交換され、Alに対するCuのイオン交換率が30%~70%であってよい。 (2) In the exhaust purification device of (1), the first zeolite may be ion-exchanged with Cu ions, and the ion exchange ratio of Cu to Al may be 30% to 70%.

(3) (1)又は(2)の排気浄化装置において、前記第2ゼオライトは、Csイオンによりイオン交換され、Alに対するCsのイオン交換率が80%~120%であってよい。 (3) In the exhaust purification device of (1) or (2), the second zeolite may be ion-exchanged with Cs ions, and the ion exchange ratio of Cs to Al may be 80% to 120%.

(4) (1)から(3)いずれかの排気浄化装置において、前記炭化水素吸着材は、前記排気通路に設けられる前記三元触媒の下流に配置されてよい。 (4) In the exhaust purification device of any one of (1) to (3), the hydrocarbon adsorbent may be arranged downstream of the three-way catalyst provided in the exhaust passage.

(5) また本発明は、(1)から(4)いずれかの排気浄化装置を用いる排気浄化方法を提供する。 (5) The present invention also provides an exhaust purification method using the exhaust purification device of any one of (1) to (4).

本発明によれば、吸着したHCの脱離を抑制でき、従来よりも高いHC吸着率を有するHC吸着材を備えた排気浄化装置及びこれを用いた排気浄化方法を提供できる。そのため、脱離したHCの酸化浄化のためにHC吸着材とTWCを併用することにより、TWCの貴金属量を増やす必要がないうえ、酸素供給剤も不要となり、コストを削減できる。 According to the present invention, it is possible to provide an exhaust gas purification device equipped with an HC adsorbent that can suppress the desorption of adsorbed HC and has a higher HC adsorption rate than conventional ones, and an exhaust gas purification method using the same. Therefore, by using the HC adsorbent and the TWC together for oxidizing and purifying the desorbed HC, it is not necessary to increase the amount of noble metal in the TWC, and the oxygen supply agent is not required, thereby reducing the cost.

本発明の一実施形態に係るHC吸着材を備える排気浄化装置を示す図である。1 is a diagram showing an exhaust purification device provided with an HC adsorbent according to one embodiment of the present invention; FIG. 上記実施形態に係るHCトラップの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the HC trap which concerns on the said embodiment. 上記実施形態に係るHC吸着材の特性を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the characteristics of the HC adsorbent according to the embodiment; 各種金属元素の電子配置を示す図である。It is a figure which shows the electronic arrangement of various metal elements. ゼオライト骨格を示す図である。It is a figure which shows a zeolite frame|skeleton. 実施例1に係るHCトラップにおけるHC吸着材の構成を示す図である。4 is a diagram showing the configuration of the HC adsorbent in the HC trap according to Example 1. FIG. 実施例2に係るHCトラップにおけるHC吸着材の構成を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the configuration of the HC adsorbent in the HC trap according to Example 2; 実施例3に係るHCトラップにおけるHC吸着材の構成を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the configuration of an HC adsorbent in an HC trap according to Example 3; 実施例1~3に係るHCトラップにおける温度とHC吸着率との関係を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing the relationship between temperature and HC adsorption rate in the HC traps according to Examples 1-3. 実施例1~3に係るHCトラップにおけるHC吸着量、脱離量及びこれらの差分を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing HC adsorption amounts, desorption amounts, and their differences in HC traps according to Examples 1 to 3; 実施例1、4及び比較例1~2に係るHCトラップにおける温度とHC吸着率との関係を示す図である。FIG. 4 is a graph showing the relationship between temperature and HC adsorption rate in HC traps according to Examples 1 and 4 and Comparative Examples 1 and 2; 実施例1、4及び比較例1~2に係るHCトラップにおけるHC吸着量、脱離量及びこれらの差分を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing HC adsorption amounts, desorption amounts, and their differences in HC traps according to Examples 1 and 4 and Comparative Examples 1 and 2; 実施例5に係るHCトラップにおけるHC吸着材の構成を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the structure of an HC adsorbent in an HC trap according to Example 5; 実施例6に係るHCトラップにおけるHC吸着材の構成を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the structure of an HC adsorbent in an HC trap according to Example 6; 実施例7に係るHCトラップにおけるHC吸着材の構成を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the structure of an HC adsorbent in an HC trap according to Example 7; 実施例5~7に係るHCトラップにおける温度とHC吸着率との関係を示す図である。FIG. 10 is a graph showing the relationship between temperature and HC adsorption rate in HC traps according to Examples 5-7. 実施例5~7に係るHCトラップにおけるHC吸着量、脱離量及びこれらの差分を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing HC adsorption amounts, desorption amounts, and their differences in HC traps according to Examples 5 to 7;

以下、本発明の一実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。 An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

図1は、本実施形態に係る内燃機関(以下、「エンジン」という。)1の排気浄化装置2の構成を示す図である。
エンジン1は、直噴方式のガソリンエンジンである。図1に示すように、本実施形態に係る排気浄化装置2は、排気が流通する排気管3の上流側から順に設けられた、TWC4と、GPF5と、HCトラップ6と、を備える。
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an exhaust purification system 2 of an internal combustion engine (hereinafter referred to as "engine") 1 according to this embodiment.
The engine 1 is a direct injection gasoline engine. As shown in FIG. 1, the exhaust purification device 2 according to this embodiment includes a TWC 4, a GPF 5, and an HC trap 6, which are provided in order from the upstream side of an exhaust pipe 3 through which exhaust gas flows.

TWC4は、排気中のHCをHOとCOに、COをCOに、NOxをNにそれぞれ酸化又は還元することで浄化する。TWC4は、例えば、アルミナ、シリカ、ジルコニア、チタニア、セリア、ゼオライト等の酸化物からなる担体に、触媒金属としてPdやRh等の貴金属を担持させたものが用いられる。このTWC4は、通常、ハニカム支持体上に担持される。 The TWC 4 purifies the exhaust gas by oxidizing or reducing HC to H2O and CO2 , CO to CO2 , and NOx to N2, respectively. As the TWC 4, for example, a carrier made of an oxide such as alumina, silica, zirconia, titania, ceria, or zeolite on which a noble metal such as Pd or Rh is supported as a catalytic metal is used. This TWC4 is usually carried on a honeycomb support.

また、TWC4は、OSC能を有するOSC材を含む。OSC材としては、CeOの他、CeOとZrOの複合酸化物(以下、「CeZr複合酸化物」という。)等が用いられる。中でも、CeZr複合酸化物は、高い耐久性を有するため好ましく用いられる。なお、これらOSC材に、上記触媒金属が担持されていてもよい。 TWC4 also includes an OSC material with OSC capabilities. As the OSC material, in addition to CeO 2 , a composite oxide of CeO 2 and ZrO 2 (hereinafter referred to as “CeZr composite oxide”) or the like is used. Among them, the CeZr composite oxide is preferably used because of its high durability. The catalyst metal may be supported on these OSC materials.

TWC4の調製方法については特に限定されず、従来公知のスラリー法等により調製される。例えば、上記の酸化物、貴金属、OSC材等を含むスラリーを調製後、調製したスラリーをコージェライト製ハニカム基材にコートして焼成することにより調製される。 The method for preparing TWC4 is not particularly limited, and it is prepared by a conventionally known slurry method or the like. For example, after preparing a slurry containing the above-mentioned oxides, noble metals, OSC materials, etc., the prepared slurry is coated on a cordierite honeycomb substrate and fired.

GPF5は、排気中の粒子状物質を捕捉して浄化する。具体的には、GPF5は、フィルタ基材と、フィルタ基材の隔壁に担持された排気浄化触媒と、を備える。排気浄化触媒としては、本実施形態ではTWCが用いられ、上述のTWC4と同様のものが用いられる。フィルタ基材は、例えば軸方向に長い円柱形状であり、コージェライト、ムライト、シリコンカーバイド(SiC)等の多孔質体により形成される。フィルタ基材には、流入側端面から流出側端面まで延びる複数のセルが設けられ、これらセルは隔壁により区画形成される。フィルタ基材はいわゆるウォールフロータイプのフィルタであり、流入側端面及び流出側端面においてセルが交互に目封じされる。このような構成からなるGPF5は、隔壁内の微細な細孔を排気が通過する際に、隔壁の表面に粒子状物質が堆積することで、粒子状物質を捕捉する。 GPF5 traps and cleans particulate matter in the exhaust. Specifically, the GPF 5 includes a filter base material and an exhaust purification catalyst supported on partition walls of the filter base material. As the exhaust purification catalyst, a TWC is used in this embodiment, and the same as the TWC4 described above is used. The filter base material has, for example, a cylindrical shape elongated in the axial direction, and is made of a porous material such as cordierite, mullite, or silicon carbide (SiC). The filter base material is provided with a plurality of cells extending from the inflow side end surface to the outflow side end surface, and these cells are partitioned by partition walls. The filter base material is a so-called wall-flow type filter, and the cells are alternately plugged on the inflow side end surface and the outflow side end surface. The GPF 5 having such a configuration traps particulate matter by accumulating particulate matter on the surface of the partition wall when the exhaust gas passes through fine pores in the partition wall.

なお、粒子状物質には、すす(カーボンスート)、燃料やオイルの燃え残り(SOF)、オイルの燃え滓であるアッシュ(Ash、灰)等の粒子状物質が含まれる。近年では、これら粒子状物質の排出規制が厳格化されてきており、これら粒子状物質の総排出重量(g/km、g/kW)の規制(PM規制)だけでなく、例えばPM2.5等の粒子径2.5μm以下の小さな粒子状物質の排出個数が規制(PN規制)されるようになってきている。これに対して、GPF5は、これらPM規制やPN規制に対応可能なものである。またGPFの代わりにTWCが用いられる場合もある。 Particulate matter includes particulate matter such as soot (carbon soot), fuel or oil residue (SOF), and ash, which is oil ash. In recent years, emission regulations for these particulate matter have been tightened. The number of discharged small particulate matter with a particle diameter of 2.5 μm or less is being regulated (PN regulation). On the other hand, GPF5 can correspond to these PM regulation and PN regulation. Also, TWC may be used instead of GPF.

HCトラップ6は、HC吸着材60を備える。HCトラップ6は、排気中に含まれるHCを吸着する特性を有する。例えばエンジン1の冷間始動時等では、TWC4が十分に活性化しておらず機能しないところ、このHCトラップ6により排気中のHCを吸着する。HCトラップ6では、HC吸着材60自体が、HCを酸化浄化できる自己浄化機能を有する。ただし、これに限定されず、HC吸着材60が自己浄化機能を有しない場合、又は自己浄化機能が不十分である場合には、HC吸着材60に加えてTWCのコートが併用される。 The HC trap 6 has an HC adsorbent 60 . The HC trap 6 has the property of adsorbing HC contained in the exhaust. For example, when the engine 1 is cold-started, the HC trap 6 adsorbs HC in the exhaust gas when the TWC 4 is not sufficiently activated and does not function. In the HC trap 6, the HC adsorbent 60 itself has a self-cleaning function capable of oxidizing and cleaning HC. However, the present invention is not limited to this, and if the HC adsorbent 60 does not have a self-cleaning function or the self-cleaning function is insufficient, the HC adsorbent 60 and TWC coating are used together.

HCトラップ6は、例えば、コージェライト、ムライト、シリコンカーバイド(SiC)等の多孔質体からなる基材に、後段で詳述するHC吸着材60が担持されて構成される。基材としては、通常、ハニカム構造のハニカム基材が用いられる。 The HC trap 6 is configured by supporting an HC adsorbent 60, which will be described in detail later, on a base material made of a porous material such as cordierite, mullite, silicon carbide (SiC), or the like. As the substrate, a honeycomb substrate having a honeycomb structure is usually used.

HCトラップ6の調製方法については特に限定されず、従来公知のスラリー法等により調製される。例えば、後段で詳述するHC吸着材60を含むスラリーを調製後、調製したスラリーをコージェライト製ハニカム基材にコートして焼成することにより調製される。 The method for preparing the HC trap 6 is not particularly limited, and it is prepared by a conventionally known slurry method or the like. For example, after preparing a slurry containing the HC adsorbent 60, which will be described in detail later, a cordierite honeycomb base material is coated with the prepared slurry and fired.

次に、HC吸着材60について詳しく説明する。
図2は、HCトラップの構成を示す図である。図2に示されるように、HCトラップのHC吸着材60は、ハニカム基材6aの各セルを区画形成する隔壁に担持される。HC吸着材60は、隔壁の表面に加えて、隔壁内の細孔の内表面にも担持される。
Next, the HC adsorbent 60 will be described in detail.
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the HC trap. As shown in FIG. 2, the HC adsorbent 60 of the HC trap is carried on the partition walls that partition and form each cell of the honeycomb substrate 6a. The HC adsorbent 60 is carried not only on the surfaces of the partition walls but also on the inner surfaces of the pores within the partition walls.

HC吸着材60は、第1ゼオライト層61と、第2ゼオライト層62と、を必須の構成要素として備える。HC吸着材60は、さらに第3ゼオライト層63を備えていてもよい。図2に一例として示されるHC吸着材60は、ハニカム基材6a側から順に積層形成された、第1ゼオライト層61と、第2ゼオライト層62と、第3ゼオライト層63と、を備える。ただし、これら各層の積層順序については制限されない。 The HC adsorbent 60 has a first zeolite layer 61 and a second zeolite layer 62 as essential components. HC adsorbent 60 may further comprise a third zeolite layer 63 . The HC adsorbent 60 shown as an example in FIG. 2 includes a first zeolite layer 61, a second zeolite layer 62, and a third zeolite layer 63 which are laminated in order from the honeycomb substrate 6a side. However, the stacking order of these layers is not limited.

第1ゼオライト層61は、第1ゼオライトから構成され、第2ゼオライト層62は、第2ゼオライトから構成される。本実施形態では、第1ゼオライトは、相対的に低温の低温度域でHCを脱離する一方で、相対的に高温の高温度域でHCを吸着する特性を有し、かつ第2ゼオライトは、高温度域でHCを脱離する特性を有する一方で、低温度域でHCを吸着することが好ましい。ここで、低温度域とは、例えば75℃以上150℃以下の範囲であり、高温度域とは、例えば150℃より高く250℃以下の範囲である。このような特性を有する第1ゼオライトと第2ゼオライトの組み合わせにより、吸着したHCの脱離をより確実に抑制でき、従来よりも高いHC吸着率がより確実に得られる。 The first zeolite layer 61 is composed of the first zeolite, and the second zeolite layer 62 is composed of the second zeolite. In the present embodiment, the first zeolite has the property of desorbing HC in a relatively low temperature range and adsorbing HC in a relatively high temperature range, and the second zeolite is , while having the property of desorbing HC in a high temperature range, it is preferable to adsorb HC in a low temperature range. Here, the low temperature range is, for example, the range from 75° C. to 150° C., and the high temperature range is the range from 150° C. to 250° C., for example. By combining the first zeolite and the second zeolite having such properties, the desorption of adsorbed HC can be more reliably suppressed, and a higher HC adsorption rate than conventionally obtained can be obtained more reliably.

第1ゼオライト層61は、ケイバン比が5~45である第1ゼオライトからなる。ケイバン比が5~45である第1ゼオライトは、200℃付近においてHC吸着作用を有する。そのため、この第1ゼオライト層61と後述の第2ゼオライト層62を組み合わせることにより、吸着したHCの脱離を抑制でき、従来よりも高いHC吸着率を有するHC吸着材が得られる。第1ゼオライトのより好ましいケイバン比は6~20である。また、第1ゼオライト中におけるAl元素量は、好ましくは1.7~29.8質量%であり、より好ましくは4.1~29.8質量%であり、さらに好ましくは7.8~22.0質量%である。 The first zeolite layer 61 is made of first zeolite having a Keiban ratio of 5-45. The first zeolite having a Keiban ratio of 5 to 45 has an HC adsorption action at around 200.degree. Therefore, by combining the first zeolite layer 61 and a second zeolite layer 62 described later, desorption of adsorbed HC can be suppressed, and an HC adsorbent having a higher HC adsorption rate than conventional HC adsorbents can be obtained. A more preferable Keiban ratio of the first zeolite is 6-20. Further, the amount of Al element in the first zeolite is preferably 1.7-29.8% by mass, more preferably 4.1-29.8% by mass, still more preferably 7.8-22. It is 0% by mass.

第1ゼオライトは、細孔径が0.5nm以上のゼオライトであることが好ましい。具体的に、第1ゼオライトとしては、耐熱性が向上する観点から、FAU型ゼオライト又はBEA型ゼオライトが好ましく用いられる。 The first zeolite is preferably zeolite with a pore size of 0.5 nm or more. Specifically, as the first zeolite, FAU-type zeolite or BEA-type zeolite is preferably used from the viewpoint of improving heat resistance.

第1ゼオライトは、最外殻の電子がs軌道上に1個配置されるとともに、最外殻の一つ内側の内殻のd軌道の全て又は半分が電子で満たされる金属元素によりイオン交換された金属イオン交換ゼオライトであることが好ましい。ゼオライトのイオン交換種として上記のような金属元素を用いることにより、200℃付近においてより高いHC吸着性能が得られる。 The first zeolite is ion-exchanged with a metal element in which one electron in the outermost shell is arranged on the s orbital and all or half of the d orbitals in the inner shell inside one of the outermost shells are filled with electrons. It is preferably a metal ion-exchanged zeolite. Higher HC adsorption performance is obtained at around 200° C. by using the above metal elements as the ion-exchange species of zeolite.

より具体的に、第1ゼオライトとしては、Cuイオン又はCrイオンによりイオン交換されたゼオライトが好ましく用いられる。ゼオライトのイオン交換種として上記のような金属元素を用いることにより、200℃付近においてより高いHC吸着性能が得られる。またこれらCuイオンによりイオン交換されたゼオライト(以下、「Cuイオン交換ゼオライト」という。)及びCrイオンによりイオン交換されたゼオライト(以下、「Crイオン交換ゼオライト」という。)は、HC吸着性能が良好であるとともにHCを酸化浄化可能ないわゆる自己浄化機能を有するためである。この場合、第1ゼオライトとしてCuイオン交換ゼオライト又はCrイオン交換ゼオライトを用いた場合には、HCトラップ6の後段にTWCを配置する必要がない。中でも、Cuイオン交換ゼオライトが第1ゼオライトとして特に好ましく用いられる。 More specifically, zeolite ion-exchanged with Cu ions or Cr ions is preferably used as the first zeolite. Higher HC adsorption performance is obtained at around 200° C. by using the above metal elements as the ion-exchange species of zeolite. In addition, the zeolite ion-exchanged with these Cu ions (hereinafter referred to as "Cu ion-exchanged zeolite") and the zeolite ion-exchanged with Cr ions (hereinafter referred to as "Cr ion-exchanged zeolite") have good HC adsorption performance. This is because it has a so-called self-purification function capable of oxidizing and purifying HC. In this case, when a Cu ion-exchanged zeolite or a Cr ion-exchanged zeolite is used as the first zeolite, it is not necessary to arrange the TWC after the HC trap 6 . Among them, Cu ion-exchanged zeolite is particularly preferably used as the first zeolite.

上記Cuイオン交換ゼオライト及びCrイオン交換ゼオライトは、Alに対するCu又はCrのイオン交換率が100%以下であることが好ましい。CuやCrの金属イオン交換率が高いほどHC吸着率が向上する一方で、耐熱性は低下する。Cuイオン交換ゼオライトの場合、Alに対するCuのイオン交換率は30%~70%であることが好ましい。このCuイオン交換ゼオライトによれば、高いHC吸着性能と高い耐熱性を併せ持つHC吸着材が得られる。ここで示すイオン交換率は、Metal/Alのモル比であって、Metalは金属、Alはアルミニウムのモル数を示している。 The Cu ion-exchanged zeolite and Cr ion-exchanged zeolite preferably have an ion exchange ratio of Cu or Cr with respect to Al of 100% or less. The higher the metal ion exchange rate of Cu or Cr, the higher the HC adsorption rate, but the lower the heat resistance. In the case of Cu ion-exchanged zeolite, the ion exchange ratio of Cu to Al is preferably 30% to 70%. According to this Cu ion-exchanged zeolite, an HC adsorbent having both high HC adsorption performance and high heat resistance can be obtained. The ion exchange rate shown here is the molar ratio of Metal/Al, where Metal indicates the number of moles of metal and Al indicates the number of moles of aluminum.

第2ゼオライト層62は、ケイバン比が10~100である第2ゼオライトからなる。ケイバン比が10~100である第2ゼオライトによれば、上述の第1ゼオライトがHC吸着性能を発揮する200℃付近の高温領域において、優れたHC脱離性能が得られる。そのため、この第2ゼオライト層62と上述の第1ゼオライト層61を組み合わせることにより、吸着したHCの脱離を抑制でき、従来よりも高いHC吸着率を有するHC吸着材が得られる。第2ゼオライトのより好ましいケイバン比は20~40である。また、第2ゼオライト中におけるAl元素量は、好ましくは0.8~14.5質量%であり、より好ましくは1.7~14.5質量%であり、さらに好ましくは4.1~7.8質量%である。 The second zeolite layer 62 is made of a second zeolite having a Keiban ratio of 10-100. According to the second zeolite having a Keiban ratio of 10 to 100, excellent HC desorption performance can be obtained in the high temperature range of around 200° C. where the first zeolite exhibits HC adsorption performance. Therefore, by combining the second zeolite layer 62 and the above-described first zeolite layer 61, desorption of adsorbed HC can be suppressed, and an HC adsorbent having a higher HC adsorption rate than conventional ones can be obtained. A more preferable Keiban ratio of the second zeolite is 20-40. Also, the amount of Al element in the second zeolite is preferably 0.8 to 14.5% by mass, more preferably 1.7 to 14.5% by mass, still more preferably 4.1 to 7.5% by mass. 8% by mass.

第2ゼオライトは、細孔径が0.5nm以上のゼオライトであることが好ましい。具体的に、第2ゼオライトとしては、耐熱性の観点から、MFI型ゼオライト、FAU型ゼオライト、BEA型ゼオライト又はYFI型ゼオライトが好ましく用いられる。 The second zeolite is preferably zeolite with a pore size of 0.5 nm or more. Specifically, as the second zeolite, MFI-type zeolite, FAU-type zeolite, BEA-type zeolite, or YFI-type zeolite is preferably used from the viewpoint of heat resistance.

第2ゼオライトは、最外殻の電子がs軌道上に1個配置されるとともに、最外殻の一つ内側の内殻のp軌道の全てが電子で満たされる金属元素によりイオン交換された金属イオン交換ゼオライトであることが好ましい。ゼオライトのイオン交換種として上記のような金属元素を用いた第2ゼオライトによれば、上述の第1ゼオライトがHC吸着性能を発揮する200℃付近の高温領域において、優れたHC脱離性能が得られる。 The second zeolite is a metal ion-exchanged with a metal element in which one electron in the outermost shell is arranged on the s orbital and all the p orbitals in the inner shell inside one of the outermost shells are filled with electrons. It is preferably an ion-exchanged zeolite. According to the second zeolite using the above metal element as the ion-exchange species of the zeolite, excellent HC desorption performance can be obtained in the high temperature range around 200° C. where the above-mentioned first zeolite exhibits HC adsorption performance. be done.

より具体的に、第2ゼオライトとしては、Csイオンによりイオン交換されたゼオライト(以下、「Csイオン交換ゼオライト」という。)、Rbイオンによりイオン交換されたゼオライト(以下、「Ruイオン交換ゼオライト」という。)又はKイオンによりイオン交換されたゼオライト(以下、「Kイオン交換ゼオライト」という。)が好ましく用いられる。これにより、HC吸着性能が向上する。中でも、Csイオン交換ゼオライトが第2ゼオライトとして特に好ましく用いられる。 More specifically, the second zeolite includes zeolite ion-exchanged with Cs ions (hereinafter referred to as "Cs ion-exchanged zeolite") and zeolite ion-exchanged with Rb ions (hereinafter referred to as "Ru ion-exchanged zeolite"). ) or zeolite ion-exchanged with K ions (hereinafter referred to as "K ion-exchanged zeolite") is preferably used. This improves the HC adsorption performance. Among them, Cs ion-exchanged zeolite is particularly preferably used as the second zeolite.

第2ゼオライトは、Alに対する上記金属のイオン交換率が10%~120%であることが好ましい。上記金属のイオン交換率が高いほど、HC吸着率が向上する。Csイオン交換ゼオライト、Rbイオン交換ゼオライト及びKイオン交換ゼオライトを用いる場合には、Alに対するCs、Rb又はKのイオン交換率が50%~120%であることが好ましい。特に、Csイオン交換ゼオライトは、Alに対するCsのイオン交換率が80%~120%であることが好ましい。Csは高価であるところ、Alに対するCsのイオン交換率がこの範囲であれば、コストを抑えつつ高いHC吸着率が得られる。 The second zeolite preferably has an ion exchange rate of 10% to 120% with respect to Al. The higher the ion exchange rate of the metal, the higher the HC adsorption rate. When Cs ion-exchanged zeolite, Rb ion-exchanged zeolite and K ion-exchanged zeolite are used, the ion exchange ratio of Cs, Rb or K to Al is preferably 50% to 120%. In particular, the Cs ion-exchanged zeolite preferably has an ion exchange ratio of Cs to Al of 80% to 120%. Cs is expensive, but if the ion exchange rate of Cs with respect to Al is within this range, a high HC adsorption rate can be obtained while suppressing costs.

第3ゼオライト層63は、第3ゼオライトから構成される。上述したように、第3ゼオライト層63は任意の構成であるが、本実施形態では第3ゼオライト層63を備えている方が好ましい。第3ゼオライト層63としては、高ケイバン比のBEA型ゼオライトが好ましく用いられる。高ケイバン比のBEA型ゼオライトは、疎水性を示す。HC吸着材60は、排気中に含まれる水分の影響を強く受ける親水性であるところ、BEA型ゼオライトは排気中のHC分子径に最適な細孔径を有するゼオライトである。そのため、疎水性である高ケイバン比のBEA型ゼオライトを用いることにより、HCの物理的な吸着性能を向上でき、HCの高温脱離特性は示さないものの、HCの低温吸着性能が向上する。 The third zeolite layer 63 is composed of third zeolite. As described above, the third zeolite layer 63 may have any configuration, but it is preferable to include the third zeolite layer 63 in this embodiment. As the third zeolite layer 63, BEA type zeolite with a high silicon ratio is preferably used. BEA-type zeolites with high Kaban ratios exhibit hydrophobicity. The HC adsorbent 60 is hydrophilic and strongly affected by the moisture contained in the exhaust gas, whereas the BEA zeolite is a zeolite having a pore diameter most suitable for the HC molecular diameter in the exhaust gas. Therefore, by using BEA type zeolite with a high Keiban ratio, which is hydrophobic, the physical adsorption performance of HC can be improved, and although the high temperature desorption performance of HC is not exhibited, the low temperature adsorption performance of HC is improved.

図3は、HC吸着材60の特性を示す図である。図3中、横軸は温度(℃)を表し、縦軸はHC吸着率(%)を表している。図3では、吸着率0%の直線に対して、上側においてHCを吸着し、下側においてHCを脱離することを示している。また、吸着率0%の直線と各曲線とで囲まれる面積(積分値)は、吸着量と脱離量を表している。 FIG. 3 is a diagram showing the characteristics of the HC adsorbent 60. As shown in FIG. In FIG. 3, the horizontal axis represents temperature (° C.) and the vertical axis represents HC adsorption rate (%). FIG. 3 shows that HC is adsorbed on the upper side of the straight line with an adsorption rate of 0%, and HC is desorbed on the lower side. The area (integral value) surrounded by the straight line with the adsorption rate of 0% and each curve represents the amount of adsorption and the amount of desorption.

図3に示されるように、第1ゼオライトの一例であるCuイオン交換FAU型ゼオライト(CuFAU;ハニカム基材6aあたりの担持量145g/L(以下、同様。))自体は、単独では、相対的に低温の低温度域(約75℃以上約150℃以下)においてHCを脱離する一方で、相対的に高温の高温度域(約150℃より高く約250℃以下)においてHCを吸着する特性を有することが分かる。また、第2ゼオライトの一例であるCsイオン交換MFI型ゼオライト(CsMFI;55g/L)自体は、単独では、相対的に低温の低温度域(約75℃以上約150℃以下)においてHCを吸着する一方で、相対的に高温の高温度域(約150℃より高く約250℃以下)においてHCを脱離する特性を有する。 As shown in FIG. 3, the Cu ion-exchanged FAU-type zeolite (CuFAU; loading amount per honeycomb substrate 6a: 145 g/L (hereinafter the same)), which is an example of the first zeolite, itself has a relative Absorbs HC in a relatively high temperature range (higher than about 150°C to about 250°C) while desorbing HC in a low temperature range (about 75°C or higher and about 150°C or lower). is found to have In addition, Cs ion-exchanged MFI zeolite (CsMFI; 55 g/L), which is an example of the second zeolite, itself adsorbs HC in a relatively low temperature range (about 75 ° C. or higher and about 150 ° C. or lower). On the other hand, it has the property of desorbing HC in a relatively high temperature range (higher than about 150° C. and about 250° C. or lower).

これに対して、HC吸着材60は、第1ゼオライトからなる第1ゼオライト層61と、第2ゼオライトからなる第2ゼオライト層62とを組み合わせたものであり、図3に示されるような温度に応じたHC吸着特性を示す。即ち、HC吸着材60は、HCの脱離量よりも吸着量の方が多くなるように、HCの脱離温度域と吸着温度域が異なる2つのゼオライトを組み合わせて用いたものであり、吸着したHCの脱離を抑制でき、従来よりも高いHC吸着率が得られるようになっている。 On the other hand, the HC adsorbent 60 is a combination of a first zeolite layer 61 made of the first zeolite and a second zeolite layer 62 made of the second zeolite, and is heated to the temperature shown in FIG. The corresponding HC adsorption properties are shown. That is, the HC adsorbent 60 uses a combination of two zeolites having different HC desorption temperature ranges and different HC adsorption temperature ranges so that the HC adsorption amount is larger than the HC desorption amount. HC desorption can be suppressed, and a higher HC adsorption rate than before can be obtained.

なお上述したように、CuFAUのようなCuイオン交換ゼオライトは、HCの酸化機能を有しており、いわゆるHC自己浄化機能を備えている。そのため、Cuイオン交換ゼオライトは、脱離せずに吸着したHCを、300℃以上でCOとHOに酸化浄化することができる。また、微量の貴金属をゼオライトに含浸担持することで、Cuの酸化機能をアシストすることも可能である。 As described above, a Cu ion-exchanged zeolite such as CuFAU has an HC oxidation function, that is, a so-called HC self-cleaning function. Therefore, the Cu ion-exchanged zeolite can oxidize and purify HC adsorbed without desorption into CO 2 and H 2 O at 300° C. or higher. In addition, it is possible to assist the oxidation function of Cu by impregnating and supporting a trace amount of precious metal in zeolite.

図4は、各種金属元素の電子配置を示す図である。ゼオライトの各種金属元素の電子配置は、HC吸着脱離性能と相関があることが今回本出願人によって判明している。具体的に、最外殻に電子が1個、その内殻の軌道は電子が埋まっている元素は、HC吸着性能が優れる傾向にある。特に、最外殻がs軌道でその一つ内殻がd軌道のCuとAgは、HC脱離温度が高い。Cr、Moは、最外殻の手前の軌道の半分の電子が埋まっている準安定な元素であり、特にCrはHC高温脱離性を示す。アルカリ金属は最外殻電子が1個であるが、内殻はp軌道であり、その他最外殻の電子が1個で内殻がs軌道のものに、B、Al、Ga、Inがあるが、高温脱離性能を示すものはない。従って、最外殻に電子が1個で、その内殻のd軌道とp軌道が電子で満たされている元素が、高温脱離を示す。 FIG. 4 is a diagram showing the electronic arrangement of various metal elements. The present applicant has found that the electron configuration of various metal elements in zeolite has a correlation with the HC adsorption/desorption performance. Specifically, elements with one electron in the outermost shell and electrons buried in the orbits of the inner shell tend to have excellent HC adsorption performance. In particular, Cu and Ag having an s-orbital as the outermost shell and a d-orbital as the innermost shell have a high HC desorption temperature. Cr and Mo are metastable elements in which half of the electrons in orbitals in front of the outermost shell are buried, and Cr in particular exhibits high-temperature desorption of HC. Alkali metals have one outermost electron, but the inner shell is a p-orbital. Others with one outermost electron and an inner s-orbital include B, Al, Ga, and In. However, none of them show high-temperature desorption performance. Therefore, an element with one electron in the outermost shell and filled with electrons in the d-orbital and p-orbital in the inner shell exhibits high-temperature desorption.

従って、上述したように、第1ゼオライトとして、最外殻の電子がs軌道上に1個配置されるとともに、最外殻の一つ内側の内殻のd軌道の全て又は半分が電子で満たされる金属元素によりイオン交換された金属イオン交換ゼオライトを用いることが好ましい。また、第2ゼオライトとして、最外殻の電子がs軌道上に1個配置されるとともに、最外殻の一つ内側の内殻のp軌道の全てが電子で満たされる金属元素によりイオン交換された金属イオン交換ゼオライトを用いることが好ましい。 Therefore, as described above, as the first zeolite, one electron in the outermost shell is arranged on the s orbital, and all or half of the d orbitals in the inner shell inside one of the outermost shells are filled with electrons. It is preferable to use a metal ion-exchanged zeolite ion-exchanged with a metal element. In addition, as the second zeolite, one electron in the outermost shell is arranged on the s orbital, and all the p orbitals in the inner shell inside one of the outermost shells are ion-exchanged with a metal element filled with electrons. It is preferred to use a metal ion-exchanged zeolite.

ここで、ゼオライトについてさらに詳しく説明する。
ゼオライトは、結晶性アルミノシリケートであり、高表面積で規則正しい細孔径を有する。ゼオライトは、主としてSi、Al、Oからなる酸化物結晶であり、優れたHC吸着性能を有する。ほぼSiOで構成されるゼオライトは、細孔の大きさとHCとの分子間引力によって決まる物理的なHC吸着性能を有する。また、Siが4価であるのに対してAlは3価であるため、これにより元素がイオン交換できるサイトが生じる。そのイオン交換の元素の種類によって化学的なHC吸着脱離挙動が変化する。物理吸着に対して、化学吸着は高い吸着力を示し、高温までHCを保持可能となる。従って、Al量が多いほど高い吸着力を示すが、逆に不安定な状態であるため、耐熱性が低下する。また、イオン交換種によっても耐熱性は異なり、ゼオライト種によっても耐熱性は異なる。イオン交換していない元素は耐熱性に悪影響を及ぼすため、上述のようなイオン交換率が設定されている。
Here, zeolite will be described in more detail.
Zeolites are crystalline aluminosilicates with high surface areas and regular pore sizes. Zeolite is an oxide crystal mainly composed of Si, Al, and O, and has excellent HC adsorption performance. Zeolites composed mostly of SiO2 have a physical HC adsorption performance determined by the pore size and the intermolecular attractive force with HC. Also, since Si is tetravalent and Al is trivalent, this creates sites where elements can exchange ions. The chemical adsorption/desorption behavior of HC changes depending on the type of ion-exchange element. Chemisorption exhibits a higher adsorptive power than physical adsorption, and HC can be retained at high temperatures. Therefore, the higher the amount of Al, the higher the adsorptive power, but on the contrary, the more unstable the state, the lower the heat resistance. Moreover, the heat resistance differs depending on the ion-exchange species, and the heat resistance also differs depending on the zeolite species. Elements that are not ion-exchanged adversely affect heat resistance, so the ion exchange rate is set as described above.

図5は、ゼオライト骨格を示す図である。ゼオライト骨格中のAlにより生じるイオン交換サイトに任意の金属Mをイオン交換することができる。アロマ、オレフィン等の二重結合を有する不飽和HCは極性HCであり、イオン交換した金属Mに化学吸着することで、強いHC吸着力が発現する。 FIG. 5 is a diagram showing a zeolite framework. Any metal M can be ion-exchanged to the ion-exchange sites generated by Al in the zeolite framework. Unsaturated HCs having double bonds such as aromatics and olefins are polar HCs, and when chemically adsorbed to ion-exchanged metals M, strong HC adsorption power is exhibited.

一方、ゼオライト骨格中のAlは、熱によって脱離し、構造破壊が生じる。そのため、Al量が多いと脱Alにより耐熱性が低下する。即ち、耐熱性とHC吸着性能(脱離温度の向上)は相反する特性である。この点、上述した本実施形態に係るHC吸着材60では、耐熱性とHC吸着性能がバランス良く得られるゼオライト種を選定したものであると言える。 On the other hand, Al in the zeolite framework is desorbed by heat, resulting in structural destruction. Therefore, when the amount of Al is large, heat resistance is lowered due to dealumination. That is, heat resistance and HC adsorption performance (improved desorption temperature) are contradictory characteristics. In this regard, it can be said that the HC adsorbent 60 according to the present embodiment is selected from zeolite species that provide a good balance between heat resistance and HC adsorption performance.

以上の構成を備えるHC吸着材60は、例えば次のようにして調製される。
第1ゼオライト層61、第2ゼオライト層62又は第3ゼオライト層63を構成するゼオライトを、結合剤としてのシリカゾルや純水ともにボールミルで12時間粉砕、混合する。次いで、これにより得られたスラリーに、コージェライト製ハニカム基材を浸漬し、その後、焼成することにより、1層目のゼオライト層を形成する。次いで、順次積層するゼオライト層を同様にして形成することにより、HC吸着材60が調製可能である。
The HC adsorbent 60 having the above structure is prepared, for example, as follows.
The zeolite constituting the first zeolite layer 61, the second zeolite layer 62 or the third zeolite layer 63 is pulverized and mixed with silica sol as a binder and pure water for 12 hours in a ball mill. Next, a cordierite honeycomb substrate is immersed in the slurry thus obtained and then fired to form the first zeolite layer. The HC adsorbent 60 can then be prepared by similarly forming successively stacked zeolite layers.

以上説明したHC吸着材60によれば、上述の第1ゼオライト層と第2ゼオライト層とを備えることにより、吸着したHCの脱離を抑制でき、従来よりも高いHC吸着率を有するHC吸着材を提供できる。また、HCを効率良く浄化するためには、HCを脱離する前に酸化浄化させる必要があるところ、従来の技術では、HC脱離温度を高くすることと、HC浄化温度を低くすることの両面で対応していた。しかしながら、HC浄化温度を低くするためには、触媒の貴金属量を多くすることが必要であり、酸化させるためには酸素が必要となる。そのため上述の特許文献1では、低温活性に優れるパラジウムと酸素供給可能な酸化セリウムを用いており、コスト高であった。 According to the HC adsorbent 60 described above, by including the above-described first zeolite layer and second zeolite layer, desorption of adsorbed HC can be suppressed, and the HC adsorbent has a higher HC adsorption rate than conventional HC adsorbents. can provide In addition, in order to purify HC efficiently, it is necessary to oxidize and purify HC before it is desorbed. I dealt with both sides. However, in order to lower the HC purification temperature, it is necessary to increase the amount of noble metal in the catalyst, and oxygen is required for oxidation. Therefore, in Patent Document 1 described above, palladium, which is excellent in low-temperature activity, and cerium oxide, which can supply oxygen, are used, resulting in a high cost.

これに対して、本実施形態ではHCの脱離を抑制する。さらには、HCを自己浄化できるようにした。即ち、貴金属触媒層無しでもゼオライト自身に酸化機能を持たせ、自己浄化できるようにしたため、貴金属触媒層が不要(又は吸着材層に極微量添加)となり、コストを削減できる。同時に、HCの吸着を阻害する触媒層が無いため、よりHC吸着性能が向上する。さらには、暖まり難い後方にHC吸着材を配置できるため、HCの吸着量も多くなる。貴金属に比べて酸化性能が弱く最後段に配置されるため昇温が遅くなるため、徐々に酸化させることで少ない酸素量で酸化が可能である。また、触媒機能が弱くなるため、その分三元触媒とHC吸着材の間にもうひとつ通常の三元触媒は必要となるが、それでも貴金属量はリア側の三元触媒は一般的に少ない(1~2g/L)ため、吸着材と三元触媒と組み合わせて吸着したHCを浄化する場合に比べコスト的に安価である。 In contrast, in the present embodiment, desorption of HC is suppressed. Furthermore, it is made possible to self-purify HC. That is, since the zeolite itself has an oxidizing function and can be self-purified even without a noble metal catalyst layer, the noble metal catalyst layer is unnecessary (or a very small amount is added to the adsorbent layer), and the cost can be reduced. At the same time, since there is no catalyst layer that inhibits HC adsorption, the HC adsorption performance is further improved. Furthermore, since the HC adsorbent can be placed in the rear where it is difficult to warm up, the amount of HC adsorbed increases. Since it has weaker oxidation performance than noble metals and is placed in the last stage, the temperature rise is slow, so oxidation is possible with a small amount of oxygen by oxidizing gradually. In addition, since the catalytic function is weakened, another normal three-way catalyst is required between the three-way catalyst and the HC adsorbent, but the amount of precious metal is generally small in the rear three-way catalyst ( 1 to 2 g/L), the cost is lower than that of purifying adsorbed HC by combining an adsorbent and a three-way catalyst.

本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良は本発明に含まれる。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, and includes modifications and improvements within the scope of achieving the object of the present invention.

次に、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Next, examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these examples.

[実施例1]
図6は、実施例1に係るHCトラップにおけるHC吸着材の構成を示す図である。図6に示されるように、実施例1として、ハニカム基材側から順に、第2ゼオライト層62を構成するCsMFI(50)、第3ゼオライト層63を構成するケイバン比が1555であるBEA型ゼオライト(以下、BEA)(7)、第1ゼオライト層61を構成するCuFAU(174)が積層されてなるHC吸着材を調製した。
[Example 1]
FIG. 6 is a diagram showing the configuration of the HC adsorbent in the HC trap according to Example 1. FIG. As shown in FIG. 6, as Example 1, CsMFI (50) constituting the second zeolite layer 62 and BEA type zeolite having a Keiban ratio of 1555 constituting the third zeolite layer 63 were used in order from the honeycomb substrate side. An HC adsorbent was prepared by laminating CuFAU (174) (hereinafter referred to as BEA) (7) and forming the first zeolite layer 61 .

具体的には、先ず、CsMFIの粉末100重量部と、結合剤としてのシリカゾル50重量部と、純水110重量部と、をボールミルで12時間粉砕、混合した。これにより得られたスラリーに、直径1インチ、長さ60mm、400セル、3.5ミルのコージェライト製ハニカム基材を浸漬した。その後、焼成することにより、ハニカム基材に対してCsMFIを50g/L担持させた。 Specifically, first, 100 parts by weight of CsMFI powder, 50 parts by weight of silica sol as a binder, and 110 parts by weight of pure water were pulverized and mixed in a ball mill for 12 hours. A 1 inch diameter, 60 mm long, 400 cells, 3.5 mil cordierite honeycomb substrate was immersed in the resulting slurry. After that, 50 g/L of CsMFI was supported on the honeycomb substrate by firing.

次いで、BEAの粉末100重量部と、結合剤としてのシリカゾル50重量部と、純水110重量部と、をボールミルで12時間粉砕、混合した。これにより得られたスラリーに、上述のCsMFIが担持されたハニカム基材を浸漬した。その後、焼成することにより、ハニカム基材に対してさらにBEAを7g/L担持させた。 Next, 100 parts by weight of BEA powder, 50 parts by weight of silica sol as a binder, and 110 parts by weight of pure water were pulverized and mixed in a ball mill for 12 hours. The honeycomb base material supporting CsMFI was immersed in the slurry thus obtained. After that, 7 g/L of BEA was further supported on the honeycomb substrate by firing.

次いで、CuFAUの粉末100重量部と、結合剤としてのシリカゾル50重量部と、純水110重量部と、をボールミルで12時間粉砕、混合した。これにより得られたスラリーに、上述のCsMFI及びBEAが担持されたハニカム基材を浸漬した。その後、焼成することにより、ハニカム基材に対してさらにCuFAUを174g/L担持させた。以上により、HC吸着材を得た。 Next, 100 parts by weight of CuFAU powder, 50 parts by weight of silica sol as a binder, and 110 parts by weight of pure water were pulverized and mixed in a ball mill for 12 hours. The honeycomb substrate supporting CsMFI and BEA described above was immersed in the slurry thus obtained. After that, 174 g/L of CuFAU was further supported on the honeycomb substrate by firing. As described above, an HC adsorbent was obtained.

なお、実施例1で用いたCuFAUとしては、ケイバン比10、細孔径0.9nm、Alに対するCuのイオン交換率50%のCuイオン交換FAU型ゼオライトを用いた。また、実施例1で用いたCsMFIとしては、ケイバン比40、細孔径0.58nm、Alに対するCsのイオン交換率100%のCsイオン交換MFI型ゼオライトを用いた。 As the CuFAU used in Example 1, a Cu ion-exchanged FAU-type zeolite having a Kaban ratio of 10, a pore size of 0.9 nm, and an ion exchange ratio of Cu to Al of 50% was used. As the CsMFI used in Example 1, a Cs ion-exchanged MFI type zeolite having a Keiban ratio of 40, a pore size of 0.58 nm, and an ion exchange ratio of Cs to Al of 100% was used.

[評価]
評価は、以下の条件に従って実施した(後述の各実施例及び各比較例についても同様である)。
[evaluation]
The evaluation was carried out under the following conditions (the same applies to each example and each comparative example described later).

(エージング条件)
温度/時間:fresh、850℃×10時間
雰囲気:Rich(80秒)/Air(20秒)
Rich:C=1.0%、O=2.5%、HO=10%、N=バランス
流量:500cc/分(φ1inch)
(Aging condition)
Temperature/time: fresh, 850°C x 10 hours Atmosphere: Rich (80 seconds)/Air (20 seconds)
Rich: C3H6 = 1.0%, O2 = 2.5%, H2O = 10%, N2 = balance flow rate: 500 cc / min (φ1 inch)

(評価条件)
前処理:Air雰囲気700℃×10分
ガス組成:NO=500ppm、C=240ppmC、isoC12=120ppmC、トルエン=840ppmC、H=0.17%、CO=0.5%、O2=0.49%、CO=14%、HO=10%、N=バランス、昇温速度:20℃/分
測定温度:50~500℃
ガス量:25L/分
触媒サイズ:φ25.4mm×60mm(30cc)
SV:50,000h-1相当
(Evaluation conditions)
Pretreatment: Air atmosphere 700°C x 10 minutes Gas composition: NO = 500 ppm, C3H6 = 240 ppmC, isoC5H12 = 120 ppmC, toluene = 840 ppmC , H2 = 0.17%, CO = 0.5%, O2 = 0.49%, CO2 = 14%, H2O = 10%, N2 = balance, heating rate: 20°C/min Measurement temperature: 50-500°C
Gas volume: 25 L/min Catalyst size: φ25.4 mm x 60 mm (30 cc)
SV: equivalent to 50,000h -1

具体的な操作手順としては、先ず、調製したHC吸着材について、850℃×10時間のエージング処理(上記エージング条件のエージング処理)を実施した。次いで、エージング処理後のHC吸着材を室温(25℃)まで冷却した後、前処理としてAir雰囲気で700℃×10分の再加熱を実施した。次いで、室温(25℃)まで冷却した後、50℃から500℃へ20℃/分の昇温速度で昇温させながら、上記ガス組成で構成された模擬排気25L/分を、HC吸着材に流通させて性能を評価した。テストピースのサイズはφ25.4×60mmとし、HC吸着材を流通後のガス組成を計測することにより、性能を評価した。 As a specific operating procedure, first, the prepared HC adsorbent was subjected to aging treatment at 850° C. for 10 hours (aging treatment under the above aging conditions). Next, after cooling the HC adsorbent after the aging treatment to room temperature (25° C.), it was reheated in an air atmosphere at 700° C. for 10 minutes as a pretreatment. Next, after cooling to room temperature (25° C.), while raising the temperature from 50° C. to 500° C. at a rate of 20° C./min, 25 L/min of simulated exhaust gas composed of the above gas composition was applied to the HC adsorbent. It was circulated and the performance was evaluated. The size of the test piece was φ25.4×60 mm, and the performance was evaluated by measuring the gas composition after flowing the HC adsorbent.

[実施例2]
図7は、実施例2に係るHCトラップにおけるHC吸着材の構成を示す図である。図7に示されるように、実施例2として、ハニカム基材側から順に、第1ゼオライト層61を構成するCuFAU(131)、第2ゼオライト層62を構成するCsMFI(49)、第3ゼオライト層63を構成するBEA(13)が積層されてなるHC吸着材を調製した。なお、用いた材料、調製方法は実施例1と同様とした。
[Example 2]
FIG. 7 is a diagram showing the configuration of the HC adsorbent in the HC trap according to Example 2. FIG. As shown in FIG. 7, in Example 2, CuFAU (131) forming the first zeolite layer 61, CsMFI (49) forming the second zeolite layer 62, and the third zeolite layer were arranged in this order from the honeycomb substrate side. An HC adsorbent was prepared by laminating BEA (13) constituting 63. The materials and preparation method used were the same as in Example 1.

[実施例3]
図8は、実施例3に係るHCトラップにおけるHC吸着材の構成を示す図である。図8に示されるように、実施例3として、ハニカム基材側から順に、第1ゼオライト層61を構成するCuFAU(117)、第2ゼオライト層62を構成するCsMFI(29)、第3ゼオライト層63を構成するBEA(4)が積層されてなるHC吸着材を調製した。なお、用いた材料、調製方法は実施例1と同様とした。
[Example 3]
FIG. 8 is a diagram showing the configuration of the HC adsorbent in the HC trap according to Example 3. FIG. As shown in FIG. 8, in Example 3, CuFAU (117) forming the first zeolite layer 61, CsMFI (29) forming the second zeolite layer 62, and the third zeolite layer were arranged in order from the honeycomb substrate side. An HC adsorbent was prepared by laminating BEA (4) comprising 63. The materials and preparation method used were the same as in Example 1.

図9は、実施例1~3に係るHCトラップにおける温度とHC吸着率との関係を示す図である。また、図10は、実施例1~3に係るHCトラップにおけるHC吸着量、脱離量及びこれらの差分を示す図である。図9及び図10に示されるように、実施例1~3に係るHC吸着材いずれにおいても、HC吸着量がHC脱離量よりも多いことが確認され、高いHC吸着率が得られることが確認された。 FIG. 9 is a graph showing the relationship between temperature and HC adsorption rate in the HC traps according to Examples 1-3. FIG. 10 is a diagram showing the HC adsorption amount, the desorption amount, and their difference in the HC traps according to Examples 1-3. As shown in FIGS. 9 and 10, in all of the HC adsorbents according to Examples 1 to 3, it was confirmed that the HC adsorption amount was larger than the HC desorption amount, indicating that a high HC adsorption rate was obtained. confirmed.

なお、実機においてHC脱離量を確実に低減したい吸着材の温度域は150℃までである。これは、吸着材の温度が150℃を超えると、上流側に配置されるTWCが活性化されてHCを浄化処理できるようになるため、HC吸着材に流入するHC量はほぼ0となるからである。ただし、150℃を超えても、吸着したHCが脱離する場合にはHCを放出することになることから、この場合には150℃を超えてもHCが極力脱離しないことが必要となる。例えばCuFAUのようなCuイオン交換ゼオライトでは、約300℃を超えると自己浄化機能が働くため、約300℃まで吸着していればHCを自己浄化できるため問題は無いと言える。 Note that the temperature range of the adsorbent in which the amount of desorbed HC is to be reliably reduced in the actual equipment is up to 150°C. This is because when the temperature of the adsorbent exceeds 150°C, the TWC arranged upstream is activated and becomes capable of purifying HC, so the amount of HC flowing into the HC adsorbent becomes almost zero. is. However, even if the temperature exceeds 150°C, HC will be released if the adsorbed HC is desorbed. . For example, a Cu ion-exchanged zeolite such as CuFAU has a self-cleaning function when the temperature exceeds about 300°C. Therefore, if it is adsorbed up to about 300°C, it can self-clean HC, so it can be said that there is no problem.

[実施例4]
実施例4として、実施例1のHC吸着材に対して、CuFAUの担持量を200g/Lに変更した以外は実施例1と同様のHC吸着材を調製した。なお、用いた材料、調製方法は実施例1と同様とした。
[Example 4]
As Example 4, an HC adsorbent was prepared in the same manner as in Example 1, except that the amount of CuFAU supported was changed to 200 g/L. The materials and preparation method used were the same as in Example 1.

[比較例1]
比較例1として、ハニカム基材側から順に、第3ゼオライト層63を構成するBEA(15)、第2ゼオライト層62を構成するCsMFI(135)が積層されてなるHC吸着材を調製した。なお、用いた材料、調製方法は実施例1と同様とした。
[Comparative Example 1]
As Comparative Example 1, an HC adsorbent was prepared by laminating BEA (15) forming the third zeolite layer 63 and CsMFI (135) forming the second zeolite layer 62 in this order from the honeycomb substrate side. The materials and preparation method used were the same as in Example 1.

[比較例2]
比較例2として、ハニカム基材上に、第1ゼオライト層61を構成するCuFAUを100g/L担持させてなるHC吸着材を調製した。なお、用いた材料、調製方法は実施例1と同様とした。
[Comparative Example 2]
As Comparative Example 2, an HC adsorbent was prepared by supporting 100 g/L of CuFAU constituting the first zeolite layer 61 on a honeycomb substrate. The materials and preparation method used were the same as in Example 1.

図11は、実施例1、4及び比較例1~2に係るHCトラップにおける温度とHC吸着率との関係を示す図である。また、図12は、実施例1、4及び比較例1~2に係るHCトラップにおけるHC素吸着量、脱離量及びこれらの差分を示す図である。図11及び図12に示されるように、各比較例ではHC吸着量よりも脱離量が多いか、あるいはHC吸着量が脱離量より僅かに多いだけであり、高いHC吸着率は得られないことが確認された。これに対して、実施例1、4に係るHC吸着材いずれにおいても、HC吸着量がHC脱離量よりも格段に多いことが確認され、高いHC吸着率が得られることが確認された。特に、実施例1よりもCuFAUの担持量が多い実施例4の方が、より高いHC吸着率が得られることが確認された。 FIG. 11 is a diagram showing the relationship between temperature and HC adsorption rate in the HC traps according to Examples 1 and 4 and Comparative Examples 1 and 2. FIG. Also, FIG. 12 is a diagram showing the amount of hydrogen adsorbed, the amount of hydrogen desorbed, and the difference between them in the HC traps according to Examples 1 and 4 and Comparative Examples 1 and 2. As shown in FIG. As shown in FIGS. 11 and 12, in each comparative example, the amount of HC desorbed was greater than the amount of HC adsorbed, or the amount of HC adsorbed was only slightly greater than the amount of desorbed, and a high HC adsorption rate was not obtained. Confirmed not. On the other hand, in both the HC adsorbents of Examples 1 and 4, it was confirmed that the HC adsorption amount was much larger than the HC desorption amount, and it was confirmed that a high HC adsorption rate was obtained. In particular, it was confirmed that Example 4, in which the amount of CuFAU supported was greater than Example 1, provided a higher HC adsorption rate.

[実施例5]
図13は、実施例5に係るHCトラップにおけるHC吸着材の構成を示す図である。図13に示されるように、実施例5として、ハニカム基材側から順に、第2ゼオライト層62を構成するCsMFI(36)、第3ゼオライト層63を構成するBEA(4.5)、第1ゼオライト層61を構成するCuFAU(110)が積層されてなるHC吸着材を調製した。なお、用いた材料、調製方法は実施例1と同様とした。
[Example 5]
FIG. 13 is a diagram showing the configuration of the HC adsorbent in the HC trap according to Example 5. FIG. As shown in FIG. 13, in Example 5, CsMFI (36) constituting the second zeolite layer 62, BEA (4.5) constituting the third zeolite layer 63, and the first An HC adsorbent was prepared by laminating CuFAU (110) constituting the zeolite layer 61 . The materials and preparation method used were the same as in Example 1.

[実施例6]
図14は、実施例6に係るHCトラップにおけるHC吸着材の構成を示す図である。図14に示されるように、実施例6として、ハニカム基材側から順に、第2ゼオライト層62を構成するCsYFI(35)、第3ゼオライト層63を構成するBEA(3.5)、第1ゼオライト層61を構成するCuFAU(112)が積層されてなるHC吸着材を調製した。即ち、実施例5のHC吸着材に対して、第2ゼオライト層62を構成するCsMFIをCsYFIに変更し、各担持量を若干変更した。なお、実施例5と共通する構成について、用いた材料、調製方法は実施例1と同様とした。また、実施例6で用いたCsYFIとしては、ケイバン比20、細孔径0.8nm、Alに対するCsのイオン交換率98%のCsイオン交換YFI型ゼオライトを用いた。
[Example 6]
FIG. 14 is a diagram showing the configuration of the HC adsorbent in the HC trap according to Example 6. FIG. As shown in FIG. 14, as Example 6, CsYFI (35) constituting the second zeolite layer 62, BEA (3.5) constituting the third zeolite layer 63, and the first An HC adsorbent was prepared by laminating CuFAU (112) constituting the zeolite layer 61 . That is, in the HC adsorbent of Example 5, CsMFI constituting the second zeolite layer 62 was changed to CsYFI, and each supported amount was slightly changed. It should be noted that the same materials and preparation methods as in Example 1 were used for the configuration common to Example 5. As the CsYFI used in Example 6, a Cs ion-exchanged YFI zeolite having a Keiban ratio of 20, a pore size of 0.8 nm, and an ion exchange ratio of Cs to Al of 98% was used.

[実施例7]
図15は、実施例7に係るHCトラップにおけるHC吸着材の構成を示す図である。図15に示されるように、実施例7として、ハニカム基材側から順に、第2ゼオライト層62を構成するCsYFI(34)、第1ゼオライト層61を構成するCuFAU(111)が積層されてなるHC吸着材を調製した。即ち、実施例6のHC吸着材に対して、第3ゼオライト層63を形成せずに2層構成とし、各担持量を若干変更した。なお、用いた材料、調製方法は実施例1と同様とした。
[Example 7]
FIG. 15 is a diagram showing the configuration of the HC adsorbent in the HC trap according to Example 7. FIG. As shown in FIG. 15, as Example 7, CsYFI (34) constituting the second zeolite layer 62 and CuFAU (111) constituting the first zeolite layer 61 were laminated in order from the honeycomb substrate side. An HC adsorbent was prepared. That is, in contrast to the HC adsorbent of Example 6, the third zeolite layer 63 was not formed, but a two-layer structure was formed, and the amount of each carried was slightly changed. The materials and preparation method used were the same as in Example 1.

図16は、実施例5~7に係るHCトラップにおけるHC吸着材における温度とHC吸着率との関係を示す図である。また、図17は、実施例5~7に係るHCトラップにおけるHC吸着材におけるHC吸着量、脱離量及びこれらの差分を示す図である。これら図16及び図17に示されるように、実施例5~7に係るHC吸着材いずれにおいても、HC吸着量がHC脱離量よりも多いことが確認され、高いHC吸着率が得られることが確認された。特に、実施例5のHC吸着材に対して、第2ゼオライト層62を構成するCsMFIをCsYFIに変更した実施例6では、より高いHC吸着率が得られることが確認された。また、実施例6のHC吸着材に対して、第3ゼオライト層63を形成せず第2ゼオライト層62と第1ゼオライト層61の2層構成とした実施例7では、実施例6よりもHC吸着率が低下することが確認され、第3ゼオライト63の有用性が確認された。 FIG. 16 is a diagram showing the relationship between the temperature and the HC adsorption rate of the HC adsorbent in the HC traps according to Examples 5-7. FIG. 17 is a diagram showing the amount of HC adsorbed, the amount of desorbed HC in the HC adsorbent in the HC traps according to Examples 5 to 7, and the difference therebetween. As shown in FIGS. 16 and 17, in all of the HC adsorbents according to Examples 5 to 7, it was confirmed that the HC adsorption amount was larger than the HC desorption amount, and a high HC adsorption rate was obtained. was confirmed. In particular, it was confirmed that a higher HC adsorption rate was obtained in Example 6, in which CsMFI constituting the second zeolite layer 62 was changed to CsYFI in contrast to the HC adsorbent of Example 5. In contrast to the HC adsorbent of Example 6, in Example 7 in which the third zeolite layer 63 was not formed and the two-layer structure of the second zeolite layer 62 and the first zeolite layer 61 was used, the HC adsorbent was higher than that in Example 6. It was confirmed that the adsorption rate decreased, and the usefulness of the third zeolite 63 was confirmed.

1 エンジン(内燃機関)
2 排気浄化装置
3 排気管(排気通路)
4 TWC(三元触媒)
5 GPF
6 HCトラップ
6a ハニカム基材
60 HC吸着材(炭化水素吸着材)
61 第1ゼオライト層
62 第2ゼオライト層
63 第3ゼオライト層
1 engine (internal combustion engine)
2 exhaust purification device 3 exhaust pipe (exhaust passage)
4 TWC (three-way catalyst)
5 GPFs
6 HC trap 6a honeycomb substrate 60 HC adsorbent (hydrocarbon adsorbent)
61 first zeolite layer 62 second zeolite layer 63 third zeolite layer

Claims (5)

内燃機関の排気通路に設けられ、三元触媒と前記内燃機関の排気中に含まれる炭化水素を吸着する炭化水素吸着材とを備えた排気浄化装置であって、
前記炭化水素吸着材は、ケイバン比が5~45である第1ゼオライトからなる第1ゼオライト層と、ケイバン比が10~100である第2ゼオライトからなる第2ゼオライト層と、を備え、
前記第1ゼオライトは、Cuイオン又はCrイオンによりイオン交換された、FAU型ゼオライト又はBEA型ゼオライトであり、
前記第2ゼオライトは、Csイオン、Rbイオン又はKイオンによりイオン交換された、MFI型ゼオライト、FAU型ゼオライト、BEA型ゼオライト又はYFI型ゼオライトである、排気浄化装置。
An exhaust purification device provided in an exhaust passage of an internal combustion engine, comprising a three-way catalyst and a hydrocarbon adsorbent for adsorbing hydrocarbons contained in the exhaust gas of the internal combustion engine,
The hydrocarbon adsorbent comprises a first zeolite layer made of a first zeolite having a Keiban ratio of 5 to 45 and a second zeolite layer made of a second zeolite having a Keiban ratio of 10 to 100,
The first zeolite is FAU-type zeolite or BEA-type zeolite ion-exchanged with Cu ions or Cr ions,
The second zeolite is an MFI zeolite, FAU zeolite, BEA zeolite, or YFI zeolite ion-exchanged with Cs ions, Rb ions, or K ions.
前記第1ゼオライトは、Cuイオンによりイオン交換され、Alに対するCuのイオン交換率が30%~70%である、請求項1に記載の排気浄化装置。 2. The exhaust purification device according to claim 1, wherein the first zeolite is ion-exchanged with Cu ions, and the ion exchange ratio of Cu to Al is 30% to 70%. 前記第2ゼオライトは、Csイオンによりイオン交換され、Alに対するCsのイオン交換率が80%~120%である、請求項1又は2に記載の排気浄化装置。 3. The exhaust purification device according to claim 1, wherein the second zeolite is ion-exchanged with Cs ions, and the ion exchange rate of Cs with respect to Al is 80% to 120%. 前記炭化水素吸着材は、前記排気通路に設けられる前記三元触媒の下流に配置される、請求1から3いずれかに記載の排気浄化装置。 4. The exhaust purification device according to any one of claims 1 to 3, wherein said hydrocarbon adsorbent is arranged downstream of said three-way catalyst provided in said exhaust passage. 請求項1から4いずれかに記載の排気浄化装置を用いる排気浄化方法。 An exhaust purification method using the exhaust purification device according to any one of claims 1 to 4.
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