JP2023027025A - アブレーションプロトコル及びシステム構成を生成するための言語 - Google Patents

アブレーションプロトコル及びシステム構成を生成するための言語 Download PDF

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Abstract

【課題】アブレーションプロトコル及びシステム構成を生成すること。【解決手段】方法は、（ｉ）アブレーションプロトコルパラメータ及びそれぞれの値を設定し、（ｉｉ）アブレーションシステムの構成を設定し、（ｉｉｉ）アブレーションプロトコルパラメータ及び値をアブレーションシステムの構成に関連付ける自動ロジックを適用し、（ｉｖ）アブレーションプロトコルのパラメータの１つ以上及びシステム構成を表示する１つ以上のグラフィカルユーザインターフェース（ＧＵＩ）を生成するためのコマンドを定義するアブレーションプログラミング言語を生成することを含む。アブレーションシステムで後で使用するためにアブレーションプログラミング言語を提供する。【選択図】図１

Description

本発明は、一般に、侵襲的アブレーションに関し、特にアブレーションプロトコル及びシステム構成の生成に関する。
不可逆エレクトロポレーション（irreversible electroporation、ＩＲＥ）を制御する方法は、特許文献において以前に提案されている。例えば、米国特許第７，９９１，５５９号は、コンピュータ化されたエレクトロポレーションの技術を記載している。エレクトロポレーション装置は、以前に保存された複数のユーザ定義の処理プロトコルのうちの１つに従って制御することができる。処理プロトコルに関連付けられた処理ログを生成することができ、処理ログは、患者又はサンプル固有の情報を含んでもよい。処理ログ又は処理ログの要約をユーザにエクスポートすることができる。対話式命令をユーザに提供することができる。これらの命令は、処理プロトコルの１つ以上のステップに対応してもよい。
別の例として、米国特許出願公開第２０１８／００７１０１４号は、不可逆エレクトロポレーションを作り出すことができる電気パルスを送達するための治療装置及び方法を記載している。このシステムは、電場分布及び治療ゾーンを有意に変化させることなく、電気伝導率の上昇を制御して電気アークを排除する目的で、開放灌流又は閉鎖灌流を有する双極プローブを含んでもよい。この発明は、アーク放電又はシステム障害の全体的なリスクを低減しながら、双極プローブを使用して臨床的に許容可能なアブレーションサイズを達成するために、特定の又はカスタマイズされたパルスパラメータの送達と共に灌流を含むことができる。
以下に説明する本発明の一実施形態は、（ｉ）アブレーションプロトコルパラメータ及びそれぞれの値を設定し、（ｉｉ）アブレーションシステムの構成を設定し、（ｉｉｉ）アブレーションプロトコルパラメータ及び値をアブレーションシステムの構成に関連付ける自動ロジックを適用し、（ｉｖ）アブレーションプロトコルのパラメータの１つ以上及びシステム構成を表示する１つ以上のグラフィカルユーザインターフェース（graphical user interface、ＧＵＩ）を生成するためのコマンドを定義するアブレーションプログラミング言語を生成することを含む方法を提供する。アブレーションシステムで後で使用するためにアブレーションプログラミング言語を提供する。
一部の実施形態では、自動ロジックは、アブレーションプロトコルの値の間の１つ以上の相互依存性を指定する。他の実施形態では、自動ロジックは、アブレーションプロトコルの値に対する１つ以上の制限を指定する。
一部の実施形態では、生成されたＧＵＩのうちの少なくとも１つは、アブレーションプロトコルのパラメータ又はシステム構成を設定するためのユーザ入力を受信するようにも構成される。
一部の実施形態では、アブレーションは、不可逆エレクトロポレーション（ＩＲＥ）及び高周波（radiofrequency、ＲＦ）アブレーションのいずれかである。
本発明の別の実施形態によれば、アブレーションプログラミング言語を使用して、（ｉ）アブレーションプロトコル及び互換性のあるシステム構成を生成し、（ｉｉ）アブレーションプロトコルのパラメータ及びシステム構成を表示する１つ以上のグラフィカルユーザインターフェース（ＧＵＩ）を調整する一連のコマンドを含むスクリプトを生成することを含む方法が更に提供される。１つ以上のＧＵＩを使用して、アブレーションプロトコルのパラメータの少なくとも１つ及びシステム構成の値を入力する。
一部の実施形態では、この方法は、生成されたアブレーションプロトコル及びシステム構成に従ってアブレーションを実施することを更に含む。
一実施形態では、アブレーションプロトコルのパラメータを入力することは、アブレーションプロトコルにおけるアブレーションパルスの電力、波形、及び持続時間のうちの少なくとも１つを入力することを含む。
別の実施形態では、システム構成の値を入力することは、カテーテル電極を選択すること、アブレーション発生器の出力チャネルを選択すること、及びカテーテル電極と出力チャネルとの間の相互接続を選択することのうちの少なくとも１つを含む。
本発明の別の実施形態によれば、メモリ及びプロセッサを含むシステムが更に提供される。メモリは、アブレーションプログラミング言語を記憶するように構成される。プロセッサは、（ａ）メモリからアブレーションプログラミング言語をアップロードし、（ｂ）アブレーションプログラミング言語を使用して、（ｉ）アブレーションプロトコル及び互換性のあるシステム構成を生成し、（ｉｉ）アブレーションプロトコルのパラメータ及びシステム構成を表示する１つ以上のグラフィカルユーザインターフェース（ＧＵＩ）を調整する一連のコマンドを含むスクリプトを生成し、（ｃ）１つ以上のＧＵＩを使用して、アブレーションプロトコルのパラメータの少なくとも１つ及びシステム構成の値を入力するように構成されている。
本発明の別の実施形態によれば、プログラム命令が記憶されている有形の非一時的なコンピュータ可読媒体を含むコンピュータソフトウェア製品が更に提供され、命令が１つ以上のプロセッサによって読み取られると、１つ以上のプロセッサに、（ａ）（ｉ）アブレーションプロトコルパラメータ及びそれぞれの値を設定し、（ｉｉ）アブレーションシステムの構成を設定し、（ｉｉｉ）アブレーションプロトコルパラメータ及び値をアブレーションシステムの構成に関連付ける自動ロジックを適用し、（ｉｖ）アブレーションプロトコルのパラメータの１つ以上及びシステム構成を表示する１つ以上のグラフィカルユーザインターフェース（ＧＵＩ）を生成するためのコマンドを定義するアブレーションプログラミング言語を生成させ、そして、（ｂ）アブレーションシステムで後で使用するためにアブレーションプログラミング言語を提供させる。
本発明は、図面と併せて、その実施形態の以下の詳細な説明からより完全に理解されるであろう。
本発明の例示的な実施形態による、カテーテルベースの不可逆エレクトロポレーション（ＩＲＥ）システムの概略描画図である。 本発明の例示的な実施形態による、ＩＲＥプログラミング言語を使用したスクリプト及びグラフィカルユーザインターフェース（ＧＵＩ）の生成を概略的に示すブロック図である。 本発明の例示的な実施形態による、図２のＩＲＥプログラミング言語を使用して生成された、システム構成用のＧＵＩの一例である。 本発明の例示的な実施形態による、図２のプログラミング言語を使用して生成された、ＩＲＥプロトコルパラメータを指定するためのＧＵＩの一例である。 本発明の例示的な実施形態による、図２のＩＲＥプログラミング言語及びスクリプト、並びに図３及び図４のＧＵＩを使用して、ＩＲＥプロトコル及びシステム構成を設定するための方法を概略的に示すフローチャートである。
概要
不可逆エレクトロポレーション（Irreversible electroporation、ＩＲＥ）は、パルスフィールドアブレーション（Pulsed Field Ablation、ＰＦＡ）とも呼ばれ、組織細胞を高電圧パルスにさらすことによって組織細胞を死滅させるための侵襲性治療方法として使用することができる。具体的には、ＩＲＥパルスは、心不整脈を治療するために心筋組織細胞を死滅させるための潜在的用途がある。細胞破壊は、膜内外電位差が閾値を超えたときに起こり、細胞死を引き起こし、したがって、組織病変が発生する。したがって、特に興味のあるのは、高電圧双極電気パルスを使用して（例えば、組織と接触している選択されたセットの一対の電極を使用して）、高電場（例えば、特定の閾値を超える）を発生させて、電極間の組織細胞を死滅させることである。
ＩＲＥプロシージャを設定することは、通常、相互に関連する多数のパラメータに値を割り当てることを含む。パラメータのいくつかの例は、パルスタイプ、パルス持続時間、正パルスと負パルスとの間の遅延、パルス振幅、列内のパルス数、ＩＲＥバースト又は列シーケンス内の列数、列間の遅延、定義されたシーケンスによって通電される多電極カテーテルの選択された電極、及び列の通電時間である。
同様に、多電極カテーテルを使用するマルチチャネル高周波（ＲＦ）アブレーションは、複数のパラメータ（例えば、電力、持続時間、温度制限、使用すべき電極、双極又は単極設定など）を選択することを含む。
開発者は、任意の所与のプロシージャについてすべてのパラメータ又はこれらのパラメータの範囲を設定することができるが、パラメータは数が多く、相互に関連しているため、開発者はパラメータの各々に関連する条件及び制限について十分な知識を持っている必要がある。この知識があっても、すべてのパラメータ値の設定には時間がかかり、エラーが発生しやすい。
実際には、設定メニューのような既存のツールでは、ユーザは完全に最適化されたアブレーションプロトコルを準備することができない。その結果、タスクにおそらく最も適している有効なプロトコルは、定義するには複雑すぎるため、使用されない。したがって、ハイエンドのアブレーションシステム及びカテーテルは、それらの利点を十分に活用するようには利用されていない。
以下に説明する本発明の実施形態は、開発者が提供するアブレーションプログラミング言語を提供し、この言語は、自動ロジック及びユーザがスクリプトを書くためのエディタを含む。わかりやすくするために、本明細書に記載される実施形態は、主にＩＲＥを指す。しかしながら、開示された技術は、任意の他の適切なタイプのアブレーション、例えばＲＦアブレーションに同様に適用可能である。
一部の実施形態では、ユーザは、エディタを使用してスクリプトを書いて、所与のＩＲＥプロシージャを生成する。プログラミング言語は、ＩＲＥパラメータの定義及びそれらの可能な値と制限を含む。通常、ＩＲＥプログラミング言語は広範囲の許容値を提供し、ユーザはスクリプトでより制限された範囲を選択する。更に、各パラメータは、提供された言語構文を使用して定義される。スクリプトに従って、ＩＲＥパルスが生成され、カテーテルの電極に接続される。
開発者は、通常、所与のプロシージャ用のプログラミング構文を使用して書かれたスクリプトと共に、パラメータを有する１つ以上のグラフィックユーザインターフェース（ＧＵＩ）を生成する。スクリプトを使用することで、１つ以上のＧＵＩ（１つはＩＲＥプロトコルパラメータ用、もう１つはシステム構成用など）が調整され、ユーザがスクリプト自体を修正する必要なしに更に調整できるようになる。例えば、ユーザは、対話型ＧＵＩを使用して、ＩＲＥプロトコルパラメータ及びシステム構成を調整することができる。
一実施形態では、方法が提供され、この方法は、臓器内の組織と接触して配置されたカテーテルの電極で後で使用するために、（ｉ）不可逆エレクトロポレーション（ＩＲＥ）プロトコルパラメータ及び値を設定し、（ｉｉ）ＩＲＥシステムの構成を設定し、（ｉｉｉ）プロトコルパラメータ及び値をＩＲＥシステムの構成に関連付ける自動ロジックを適用し、（ｉｖ）ＩＲＥプロトコルのパラメータ及びシステム構成を表示する１つ以上のユーザインターフェース（ＧＵＩ）を生成するためのコマンドを定義するように構成された構文の生成を含む。この言語を使用して、一連のコマンド、ＩＲＥプロトコルを生成するための自動ロジック、及び互換性のあるシステム構成を適用するように構成されたスクリプトを生成する。スクリプトを使用して、１つ以上のＧＵＩを調整して、ＩＲＥプロトコルのパラメータ及びシステム構成を表示する。１つ以上のＧＵＩを使用して、ＩＲＥプロトコルパラメータ及び／又はシステム構成、並びにそれぞれの値を設定及び／又は調整する。
したがって、開示された技術は、誤ったプロトコル又はシステム構成を適用するリスクなしに、ＩＲＥプロトコル及びＩＲＥシステム構成の柔軟な構成を可能にする。この目的のために、自動ロジックは、通常、１つ以上のＧＵＩが動作する（例えば、実装する）アブレーションパラメータ及びシステム構成のための一連のルール（例えば、関係）を含む。例えば、ＧＵＩは、ＩＲＥプロトコル値及び自動ロジックによって許容されるシステム構成値の相互依存性及び制限に違反しないことが知られている調整を提供することができる。
１つ以上のＧＵＩ許容選択の一例として、典型的には複数のチャネル（例えば、ＩＲＥ発生器の数十のチャネル）からの各ＩＲＥチャネルには、空間的に近い他のチャネル（例えば、多電極カテーテルの１つ以上の隣接する電極を含むチャネル）からのパルスに関連する制約を考慮しながら、パルスシーケンス及び波形などの特定のパルスパラメータが割り当てられる。
１つ以上のＧＵＩ許容選択の別の例（ＲＦアブレーションに関連する）として、典型的には複数のチャネル（例えば、ＲＦ発生器の数十のチャネル）からの各ＲＦチャネルには、例えば空間的に近い他のチャネルからのＲＦ電力に関連する制約を考慮しながら、電力及び周波数などの特定のＲＦパラメータが割り当てられる。
一連のコマンド及び自動ロジックを提供して、広範囲の有効なＩＲＥプロトコル及び／又はＲＦプロトコル並びにシステム構成を生成することにより、ＩＲＥ（又はＲＦ）アブレーション処置は、例えば心腔内で多電極カテーテルを使用して、任意の所与の臨床症例に適合するように正確に設定することができ、それにより、臨床効果が高まり、ＩＲＥ（又はＲＦアブレーション）処置の安全性が向上する。
システムの説明
図１は、本発明の例示的な実施形態による、カテーテルベースの不可逆エレクトロポレーション（ＩＲＥ）システム２０の概略描画図である。システム２０は、カテーテル２１を含み、カテーテル２１のシャフト２２は、医師３０によって、シース２３を介して患者２８の血管系を通して挿入される。次に、医師は、シャフト２２の遠位端２２ａを、患者の心臓２６内の標的位置にナビゲートする。
シャフト２２の遠位端２２ａが標的位置に到達すると、医師３０はシース２３を後退させ、そして、通常、生理食塩水をバルーン４０に注入することにより、バルーン４０を拡張する。次に、医師３０は、バルーン４０カテーテル上に配置された複数の電極５０がＰＶ小孔５１の内壁に係合して、複数の電極５０を介して小孔５１組織に高電圧ＩＲＥパルスを印加するようにシャフト２２を操作する。
バルーンカテーテルが示されているが、開示された実施形態は、バスケット、マルチアーム、又はループカテーテルなどの任意の多電極カテーテルに適用できる。これらのカテーテルのいくつかは、プロトコル生成スクリプト及びユーザインターフェース用に開示された実施形態によって管理することができる数百もの配置されたアブレーション電極を有する。
挿入図２５に見られるように、遠位端２２ａには、複数の等距離の平滑エッジＩＲＥ電極５０を含む拡張可能なバルーン４０が取り付けられている。バルーン４０の遠位部分の平坦な形状により、隣接する電極５０間の距離は、電極５０が遠位部分を覆っている場合でも、ほぼ一定のままである。したがって、バルーン４０の構成は、隣接する電極５０間のより効果的な（例えば、ほぼ均一な電場強度を有する）エレクトロポレーションを可能にし、一方、電極５０の平滑エッジは望ましくない熱効果を最小限に抑える。
本明細書に記載の実施形態では、カテーテル２１は、心臓２６の左心房４５におけるＰＶ小孔５１組織の電気生理学的感知及び／又は前述のＩＲＥ分離など、任意の適切な診断及び／又は治療目的に使用することができる。
カテーテル２１の近位端は、電極５０の対の間にＩＲＥパルスを印加するように構成されたＩＲＥパルス発生器３８を含むコンソール２４に接続されている。電極は、カテーテル２１のシャフト２２内を走る電気配線によってＩＲＥパルス発生器３８に接続されている。コンソール２４のメモリ４８は、ピーク双極電圧及びパルス幅などのＩＲＥパルスパラメータを含むＩＲＥプロトコルを記憶する。
コンソール２４は、典型的には患者２６の胸の周りに配置されるカテーテル２１及び外部電極４９から信号を受信するための適切なフロントエンド及びインターフェース回路３７を有するプロセッサ４１、典型的には汎用コンピュータを含む。この目的のために、プロセッサ４１は、ケーブル３９を通るワイヤによって外部電極４９に接続されている。
処置中、システム２０は、Ｂｉｏｓｅｎｓｅ－Ｗｅｂｓｔｅｒ（カリフォルニア州アーバイン）によって提供されるＡｃｔｉｖｅ Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｌｏｃａｔｉｏｎ（ＡＣＬ）法を使用して心臓２６内の電極５０のそれぞれの位置を追跡することができ、この方法は米国特許第８，４５６，１８２号に記載されており、その開示が参照により本明細書に組み込まれる。
他の実施形態では、医師３０は、ディスプレイ４６上のグラフィカルユーザインターフェースＧＵＩ４７から、プロトコルのパラメータ及びアブレーションシステム構成のいずれかを変更することができる。例えば、ユーザは、隣接する電極、バックパッチなどを使用するか否かを決定することができる。ＧＵＩ４７は、任意の適切なタイプの入力装置、例えば、キーボード、マウス、及びタッチスクリーンで操作することができる。
図示の実施形態では、ＧＵＩ４７は、開示されたＩＲＥ言語によって生成されたＧＵＩ３００及び４００を含み、それらは、ＩＲＥプロトコル及び関連するシステム構成を表示及び調整するためにスクリプトエディタ（図示せず）と共に使用される。
プロセッサ４１は、通常、本明細書に記載の機能を実行するようにソフトウェアでプログラムされる。ソフトウェアは、例えば、ネットワークを介して電子形式でコンピュータにダウンロードされてもよく、あるいは、代替的に又は追加的に、磁気、光学、又は電子メモリなどの非一時的な有形媒体に提供及び／又は記憶されてもよい。
特に、プロセッサ４１は、図２に含まれている本明細書に開示されるような専用アルゴリズムを実行し、これにより、プロセッサ４１は、以下で更に説明するように、開示されたステップを実行することができる。特に、プロセッサ４１は、プロセッサ４１がメモリ４８からアップロードする治療プロトコルに従ってＩＲＥパルスを出力するようにＩＲＥパルス発生器３８に命令するように構成されている。
ＩＲＥプロトコル及び関連するシステム構成を生成するための構文
図２は、本発明の例示的な実施形態による、ＩＲＥプログラミング言語２０２を使用して、スクリプト２０５及びグラフィカルユーザインターフェース（ＧＵＩ）２０６を生成するように構成されたシステム２００を概略的に示すブロック図である。
見られるように、システム２００は、メモリ２０８、例えば、ＩＲＥプログラミング言語２０２を記憶する図１のシステム２０のメモリ４８を含む。言語２０２は、ＩＲＥパラメータ及び自動ロジック（例えば、アブレーションパラメータ及びシステム構成のための一連の関係又はルール、ＩＲＥプロトコル値の相互依存性及び制限、並びにシステム構成値）を含む。ＩＲＥプログラミング言語２０２は、１つ以上のＧＵＩ２０６を生成するためのコマンドも保持している。メモリ２０８は、コマンドを使用できるようにするためにエディタ２０４を更に記憶することができる。他の場合には、任意の適切なテキストエディタを使用することができ、その場合、専用エディタはメモリ２０８に提供されない可能性がある。
システム２００のプロセッサ２１０、例えば、システム２０のプロセッサ４１は、開発者インターフェース２１２（例えば、システム２０のディスプレイ４６上）を使用して、エディタ２０４を用いて、プログラミング構文２０３を使用して生成されたＩＲＥスクリプト２０５を適用する。
スクリプト２０５は、１つ以上の初期ＧＵＩ２０６をそれぞれの実際のＧＵＩ２１６に調整する。例えば、ＧＵＩは、使用される多電極カテーテルに応じて、関連する数のチャネル（例えば、１６、６４、又は９２個のチャネル）を表示するように調整されてもよい。
ＧＵＩ２１６は、例えば、医師３０によって、ＩＲＥプロトコル値及びシステム構成を入力するために使用される。通常、システム構成に関して、これらの値は、発生器３８の設定及びカテーテル２１の使用方法（例えば、電極接続レイアウト）に影響を与える。
例えば、図２に示されるように、言語２０２は、コマンドラインＰＵＬＳＥ．ＷＩＤＴＨ＝１／２０／ＥＬＥＣを提供し、これは、ユーザが１μ秒から２０μ秒の間でパルス幅の範囲を調整（例えば、選択）することができることを意味する。更に見られるように、スクリプト２０５を使用して、ユーザは、ＧＵＩ２１６の１つに入力することができるように、範囲を１μ秒から３μ秒の間に調整する。
別の例として、言語２０２はコマンドラインＰＵＬＳＥ．ＤＥＬＡＹ＝０．２／１．５／ＥＬＥＣを提供し、これは、ユーザが０．２μ秒から１．５μ秒の間でパルス間遅延の範囲を調整することができることを意味する。更に見られるように、スクリプト２０５を使用して、ユーザは、ＧＵＩ２１６の１つに入力することができるように、範囲を０．５μ秒から１μ秒の間に調整する。
追加的に又は代替的に、言語２０２は、例えば、コマンドライン又は他の方法を使用して、任意の他の適切なコマンドを提供することができる。
図２に示されているスクリプトと言語の使用は、単に例として示されている。代替の実施形態では、同じスクリプト生成技術を使用して、ＲＦシステム用に考案されたものなど、任意の他の適切なスクリプトを使用することができる。
ＩＲＥプロトコル値及びシステム構成を設定及び調整するためのＧＵＩ
図３は、本発明の例示的な実施形態による、図２のＩＲＥプログラミング言語２０２を使用して生成された、システム２０の構成用のＧＵＩ３００の一例である。
図示の実施形態では、ユーザは、異なる「スロット」３０２のウィンドウ間を移動することができ、ここで、スロットは、所与の単一のパルス列の期間である。この図は、「スロット１」で示されるスロットの一例を示す。
スロット３０２ごとに、各チャネル３０４に対して異なる設定を定義することができる。この例では、６つのチャネルがある。
例として、チャネル３０４ごとに５つのパラメータがあり、これらは、チェックを付けるかチェックを外すかによって、スロットごとのシステム構成を定義する。
示されている５つのパラメータは次のとおりである。
１．Ｆａｓｔ Ｏｕｔｐｕｔ：チャネルが現在のスロットでアクティブであるか否かを定義する
２．Ｓｌｏｗ ｏｕｔｐｕｔ：電極がチャネルに接続されているか否かを定義する
３．Ｂａｃｋｐａｔｃｈ：チャネルが内部で別のチャネルに接続されているか否かを定義する
４．Ｎｅｉｇｈｂｏｒ：チャネルが隣接する電極に接続されているか否かを定義する
５．Ｐｏｌａｒｉｔｙ ｓｗａｐ：パルスの正極性又は負極性を定義する
図示の例では、スロット１のチャネル１～４は、出力電極に接続されてアクティブであると定義されている。チャネル１～４も内部で正極性で接続されている。チャンネル５～８は、出力に接続されているが非アクティブであると定義されている。チャンネル９は、出力電極に接続され、アクティブであり、また内部でチャネル１～４に負極性で接続されていると定義されている。チャンネル１０は完全に切断されている。同様に、他のスロットもそれぞれのウィンドウで設定することができる。
図４は、本発明の例示的な実施形態による、図２のＩＲＥプログラミング言語２０２を使用して生成された、ＩＲＥプロトコルパラメータを指定するためのＧＵＩ４００の一例である。
図示の例では、パルス幅は３μ秒に設定されている。自動ロジックにより、パルス幅を１μ秒から２０μ秒の間にすることができる。パルス間の遅延は０．５μ秒に設定されている。自動ロジックにより、この遅延を０．２μ秒から１．５μ秒の間にすることができる。列内のパルス数は７に設定されている。列の数は１０に設定されている。列間の遅延は３０ミリ秒に設定されている。パルス振幅は４００Ｖに設定されている。
図３及び図４に示されるＧＵＩは、単に例として示されている。代替の実施形態では、同じＧＵＩ生成技術を使用して、ＲＦシステム用に考案されたものなど、任意の他の適切なＧＵＩを使用することができる。
ＩＲＥプロトコル及び関連するシステム構成を生成する方法
図５は、本発明の例示的な実施形態による、図２のＩＲＥプログラミング言語２０２及びスクリプト２０５、並びに図３及び図４のＧＵＩ３００及び４００を使用して、ＩＲＥプロトコル及びシステム構成を設定するための方法を概略的に示すフローチャートである。
提示された実施形態によると、アルゴリズムは、アップロードステップ５０２において、ユーザがプロセッサ２１０に、ＩＲＥパラメータ及び自動ロジック２０３をメモリ２０８からアップロードするように指示することから始まるプロセスを実行する。
次に、オフラインプロセッサ２１０が開発者インターフェース２１２を表示している状態で、ユーザは、言語構文生成ステップ５０４において、ＩＲＥ言語２０２を生成する。
次に、プロセッサ２１０が開発者インターフェース２１２を表示している状態で、ユーザは、スクリプト生成ステップ５０５において、スクリプト２０５を生成する。
次に、スクリプト２０５を使用して、ユーザは、ＧＵＩ生成ステップ５０６において、ＧＵＩ３００及び４００を生成する。ＧＵＩ３００及び４００は、それぞれシステム構成及びＩＲＥプロトコルパラメータを表示する。
最後に、ＧＵＩ３００及び４００を使用して、ユーザは、アブレーション準備ステップ５０８において、システム構成及び／又はＩＲＥプロトコル値を入力する（例えば、調整する）。
この時点で、ユーザは、システム２０を操作して、ステップ５０２～５０８でユーザが計画したアブレーションを実施することができる。
図５のワークフローでは、ＩＲＥプロトコル及びＩＲＥシステム構成の設定について説明しているが、フローチャートは、必要な変更を加えて、ＲＧプロトコル及びＲＦシステム構成の設定に適用できる。
本明細書に記載の実施形態は、主に心臓用途に対処するものであるが、本明細書に記載の方法及びシステムは、神経学及び耳鼻咽喉科などの他の医療用途にも使用することができる。
したがって、上記の実施形態は、例として引用したものであり、本発明は、上記で特に示され、説明されたものに限定されないことが理解されるであろう。むしろ、本発明の範囲は、上記の様々な特徴の組み合わせ及び部分的組み合わせの両方、並びに前述の説明を読むことで当業者に想到されるであろう、先行技術において開示されていないそれらの変形及び修正を含む。参照により本特許出願に組み込まれる文献は、本出願の不可欠な部分と見なされるべきであり、ただし、これらの組み込まれた文献において、いずれかの用語が本明細書において明示的又は暗黙的になされた定義と矛盾する方法で定義されている限り、本明細書における定義のみを考慮すべきである。
〔実施の態様〕
（１） アブレーションプロトコル及びシステム構成を生成するための方法であって、
（ｉ）アブレーションプロトコルパラメータ及びそれぞれの値を設定し、（ｉｉ）アブレーションシステムの構成を設定し、（ｉｉｉ）前記アブレーションプロトコルパラメータ及び前記値を前記アブレーションシステムの前記構成に関連付ける自動ロジックを適用し、（ｉｖ）前記アブレーションプロトコルの前記パラメータの１つ以上及び前記システム構成を表示する１つ以上のグラフィカルユーザインターフェース（ＧＵＩ）を生成するためのコマンドを定義するアブレーションプログラミング言語を生成することと、
前記アブレーションシステムで後で使用するために前記アブレーションプログラミング言語を提供することと、を含む、方法。
（２） 前記自動ロジックは、前記アブレーションプロトコルの前記値の間の１つ以上の相互依存性を指定する、実施態様１に記載の方法。
（３） 前記自動ロジックは、前記アブレーションプロトコルの前記値に対する１つ以上の制限を指定する、実施態様１に記載の方法。
（４） 前記生成されたＧＵＩのうちの少なくとも１つは、前記アブレーションプロトコルの前記パラメータ又は前記システム構成を設定するためのユーザ入力を受信するようにも構成される、実施態様１に記載の方法。
（５） 前記アブレーションが不可逆エレクトロポレーション（ＩＲＥ）及び高周波（ＲＦ）アブレーションのいずれかである、実施態様１に記載の方法。
（６） アブレーションプロトコル及びシステム構成を生成するための方法であって、
アブレーションプログラミング言語を使用して、（ｉ）アブレーションプロトコル及び互換性のあるシステム構成を生成し、（ｉｉ）前記アブレーションプロトコルの前記パラメータ及び前記システム構成を表示する１つ以上のグラフィカルユーザインターフェース（ＧＵＩ）を調整する一連のコマンドを含むスクリプトを生成することと、
前記１つ以上のＧＵＩを使用して、前記アブレーションプロトコルの前記パラメータの少なくとも１つ及び前記システム構成の値を入力することと、を含む、方法。
（７） 前記生成されたアブレーションプロトコル及びシステム構成に従ってアブレーションを実施することを含む、実施態様６に記載の方法。
（８） 前記アブレーションプロトコルの前記パラメータを入力することは、前記アブレーションプロトコルにおけるアブレーションパルスの電力、波形、及び持続時間のうちの少なくとも１つを入力することを含む、実施態様６に記載の方法。
（９） 前記システム構成の前記値を入力することは、カテーテル電極を選択すること、アブレーション発生器の出力チャネルを選択すること、及び前記カテーテル電極と前記出力チャネルとの間の相互接続を選択することのうちの少なくとも１つを含む、実施態様６に記載の方法。
（１０） 前記アブレーションが不可逆エレクトロポレーション（ＩＲＥ）及び高周波（ＲＦ）アブレーションのいずれかである、実施態様６に記載の方法。
（１１） アブレーションプロトコル及びシステム構成を生成するためのシステムであって、
アブレーションプログラミング言語を記憶するように構成されたメモリと、
プロセッサであって、
前記メモリから前記アブレーションプログラミング言語をアップロードし、
前記アブレーションプログラミング言語を使用して、（ｉ）アブレーションプロトコル及び互換性のあるシステム構成を生成し、（ｉｉ）前記アブレーションプロトコルの前記パラメータ及び前記システム構成を表示する１つ以上のグラフィカルユーザインターフェース（ＧＵＩ）を調整する一連のコマンドを含むスクリプトを生成し、
前記１つ以上のＧＵＩを使用して、前記アブレーションプロトコルの前記パラメータの少なくとも１つ及び前記システム構成の値を入力するように構成されたプロセッサと、を備える、システム。
（１２） 前記プロセッサは、前記生成されたアブレーションプロトコル及びシステム構成に従ってアブレーションを実施するようにアブレーションシステムに指示するように更に構成されている、実施態様１１に記載のシステム。
（１３） 前記プロセッサは、前記アブレーションプロトコルにおけるアブレーションパルスの電力、波形、及び持続時間のうちの少なくとも１つを入力することによって、前記アブレーションプロトコルの前記パラメータを入力するように構成されている、実施態様１１に記載のシステム。
（１４） 前記プロセッサは、カテーテル電極を選択すること、アブレーション発生器の出力チャネルを選択すること、及び前記カテーテル電極と前記出力チャネルとの間の相互接続を選択することのうちの少なくとも１つによって前記システム構成の前記値を入力するように構成されている、実施態様１１に記載のシステム。
（１５） 前記アブレーションが不可逆エレクトロポレーション（ＩＲＥ）及び高周波（ＲＦ）アブレーションのいずれかである、実施態様１１に記載のシステム。
（１６） プログラム命令が記憶されている有形の非一時的なコンピュータ可読媒体を含むコンピュータソフトウェア製品であって、前記命令が１つ以上のプロセッサによって読み取られると、前記１つ以上のプロセッサに、
（ｉ）アブレーションプロトコルパラメータ及びそれぞれの値を設定し、（ｉｉ）アブレーションシステムの構成を設定し、（ｉｉｉ）前記アブレーションプロトコルパラメータ及び前記値を前記アブレーションシステムの前記構成に関連付ける自動ロジックを適用し、（ｉｖ）前記アブレーションプロトコルの前記パラメータの１つ以上及び前記システム構成を表示する１つ以上のグラフィカルユーザインターフェース（ＧＵＩ）を生成するためのコマンドを定義するアブレーションプログラミング言語を生成させ、そして、
前記アブレーションシステムで後で使用するために前記アブレーションプログラミング言語を提供させる、コンピュータソフトウェア製品。
（１７） 前記アブレーションが不可逆エレクトロポレーション（ＩＲＥ）及び高周波（ＲＦ）アブレーションのいずれかである、実施態様１１に記載のコンピュータソフトウェア製品。

Claims (17)

  1. アブレーションプロトコル及びシステム構成を生成するための方法であって、
    （ｉ）アブレーションプロトコルパラメータ及びそれぞれの値を設定し、（ｉｉ）アブレーションシステムの構成を設定し、（ｉｉｉ）前記アブレーションプロトコルパラメータ及び前記値を前記アブレーションシステムの前記構成に関連付ける自動ロジックを適用し、（ｉｖ）前記アブレーションプロトコルの前記パラメータの１つ以上及び前記システム構成を表示する１つ以上のグラフィカルユーザインターフェース（ＧＵＩ）を生成するためのコマンドを定義するアブレーションプログラミング言語を生成することと、
    前記アブレーションシステムで後で使用するために前記アブレーションプログラミング言語を提供することと、を含む、方法。
  2. 前記自動ロジックは、前記アブレーションプロトコルの前記値の間の１つ以上の相互依存性を指定する、請求項１に記載の方法。
  3. 前記自動ロジックは、前記アブレーションプロトコルの前記値に対する１つ以上の制限を指定する、請求項１に記載の方法。
  4. 前記生成されたＧＵＩのうちの少なくとも１つは、前記アブレーションプロトコルの前記パラメータ又は前記システム構成を設定するためのユーザ入力を受信するようにも構成される、請求項１に記載の方法。
  5. 前記アブレーションが不可逆エレクトロポレーション（ＩＲＥ）及び高周波（ＲＦ）アブレーションのいずれかである、請求項１に記載の方法。
  6. アブレーションプロトコル及びシステム構成を生成するための方法であって、
    アブレーションプログラミング言語を使用して、（ｉ）アブレーションプロトコル及び互換性のあるシステム構成を生成し、（ｉｉ）前記アブレーションプロトコルの前記パラメータ及び前記システム構成を表示する１つ以上のグラフィカルユーザインターフェース（ＧＵＩ）を調整する一連のコマンドを含むスクリプトを生成することと、
    前記１つ以上のＧＵＩを使用して、前記アブレーションプロトコルの前記パラメータの少なくとも１つ及び前記システム構成の値を入力することと、を含む、方法。
  7. 前記生成されたアブレーションプロトコル及びシステム構成に従ってアブレーションを実施することを含む、請求項６に記載の方法。
  8. 前記アブレーションプロトコルの前記パラメータを入力することは、前記アブレーションプロトコルにおけるアブレーションパルスの電力、波形、及び持続時間のうちの少なくとも１つを入力することを含む、請求項６に記載の方法。
  9. 前記システム構成の前記値を入力することは、カテーテル電極を選択すること、アブレーション発生器の出力チャネルを選択すること、及び前記カテーテル電極と前記出力チャネルとの間の相互接続を選択することのうちの少なくとも１つを含む、請求項６に記載の方法。
  10. 前記アブレーションが不可逆エレクトロポレーション（ＩＲＥ）及び高周波（ＲＦ）アブレーションのいずれかである、請求項６に記載の方法。
  11. アブレーションプロトコル及びシステム構成を生成するためのシステムであって、
    アブレーションプログラミング言語を記憶するように構成されたメモリと、
    プロセッサであって、
    前記メモリから前記アブレーションプログラミング言語をアップロードし、
    前記アブレーションプログラミング言語を使用して、（ｉ）アブレーションプロトコル及び互換性のあるシステム構成を生成し、（ｉｉ）前記アブレーションプロトコルの前記パラメータ及び前記システム構成を表示する１つ以上のグラフィカルユーザインターフェース（ＧＵＩ）を調整する一連のコマンドを含むスクリプトを生成し、
    前記１つ以上のＧＵＩを使用して、前記アブレーションプロトコルの前記パラメータの少なくとも１つ及び前記システム構成の値を入力するように構成されたプロセッサと、を備える、システム。
  12. 前記プロセッサは、前記生成されたアブレーションプロトコル及びシステム構成に従ってアブレーションを実施するようにアブレーションシステムに指示するように更に構成されている、請求項１１に記載のシステム。
  13. 前記プロセッサは、前記アブレーションプロトコルにおけるアブレーションパルスの電力、波形、及び持続時間のうちの少なくとも１つを入力することによって、前記アブレーションプロトコルの前記パラメータを入力するように構成されている、請求項１１に記載のシステム。
  14. 前記プロセッサは、カテーテル電極を選択すること、アブレーション発生器の出力チャネルを選択すること、及び前記カテーテル電極と前記出力チャネルとの間の相互接続を選択することのうちの少なくとも１つによって前記システム構成の前記値を入力するように構成されている、請求項１１に記載のシステム。
  15. 前記アブレーションが不可逆エレクトロポレーション（ＩＲＥ）及び高周波（ＲＦ）アブレーションのいずれかである、請求項１１に記載のシステム。
  16. プログラム命令が記憶されている有形の非一時的なコンピュータ可読媒体を含むコンピュータソフトウェア製品であって、前記命令が１つ以上のプロセッサによって読み取られると、前記１つ以上のプロセッサに、
    （ｉ）アブレーションプロトコルパラメータ及びそれぞれの値を設定し、（ｉｉ）アブレーションシステムの構成を設定し、（ｉｉｉ）前記アブレーションプロトコルパラメータ及び前記値を前記アブレーションシステムの前記構成に関連付ける自動ロジックを適用し、（ｉｖ）前記アブレーションプロトコルの前記パラメータの１つ以上及び前記システム構成を表示する１つ以上のグラフィカルユーザインターフェース（ＧＵＩ）を生成するためのコマンドを定義するアブレーションプログラミング言語を生成させ、そして、
    前記アブレーションシステムで後で使用するために前記アブレーションプログラミング言語を提供させる、コンピュータソフトウェア製品。
  17. 前記アブレーションが不可逆エレクトロポレーション（ＩＲＥ）及び高周波（ＲＦ）アブレーションのいずれかである、請求項１１に記載のコンピュータソフトウェア製品。
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