JP2023026306A - Automatic analysis device and automatic analysis method - Google Patents

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Abstract

To improve analysis precision.SOLUTION: An automatic analysis device includes: a storage part; a transfer part; a measurement part; and a static electricity removal part. The storage part stores a container for storing a sample to be analyzed. The transfer part transfers the container from the storage part. The measurement part injects the sample to the container transferred from the transfer part and measures liquid in the container. The static electricity removal part is provided in at least one of the storage part and the transfer part and removes static electricity of the container.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本明細書及び図面に開示の実施形態は、自動分析装置および自動分析方法に関する。 Embodiments disclosed in the specification and drawings relate to an automatic analysis device and an automatic analysis method.

被検体から採取された被検試料(血液などの生体試料)(以下、試料と称する)の分析を行う自動分析装置では、一般的に、空きの反応容器を予め用意する必要があり、当該反応容器を反応ディスクなどの作業エリアに提供した後、試料と試薬とを混ぜた液体、又は、試料を反応容器の中に注入することで、血液凝固の分析などの様々な分析を行う。 In an automatic analyzer that analyzes a test sample (biological sample such as blood) (hereinafter referred to as a sample) collected from a subject, it is generally necessary to prepare an empty reaction container in advance. After providing the container to a work area such as a reaction disk, a liquid mixture of sample and reagents or injecting the sample into the reaction container performs various analyzes such as blood clotting analysis.

その故、自動分析装置は、キュベット搬送装置と、反応ディスクなどを有する分析装置とを備える。キュベット搬送装置は、試料の分析に用いられる反応容器であるキュベットを、分析装置内の反応ディスクまで搬送する。分析装置は、搬送されたキュベットに試料と試薬とを注入し、又は、搬送されたキュベットに試料を注入し、当該キュベット内の液体を測定することによって、試料に対する様々な分析を行う。 Therefore, an automated analyzer comprises a cuvette transporter and an analyzer with a reaction disk or the like. A cuvette transporter transports a cuvette, which is a reaction container used for sample analysis, to a reaction disk in the analyzer. The analyzer performs various analyzes on the sample by injecting the sample and reagents into the transported cuvette, or by injecting the sample into the transported cuvette and measuring the liquid in the cuvette.

血液凝固の分析を例に挙げると、図16は、従来の自動分析装置の構成を示す全体的概略図である。自動分析装置は、キュベット搬送装置100’と、反応ディスク60’を有する分析装置とを備える。キュベット搬送装置100’は、反応ディスク60’にキュベット1’を搬送する。図16に示すように、キュベット搬送装置100’は、一方側が開口した容器であるキュベット1’を反応ディスク60’に搬送し、図16中の点線で囲まれた部分に示すように、一般的に、点線でそれぞれ囲まれた収納ユニット10’、配置ユニット20’、および搬送ユニット30’を備える。 Taking the analysis of blood coagulation as an example, FIG. 16 is an overall schematic diagram showing the configuration of a conventional automatic analyzer. The automated analyzer comprises a cuvette transporter 100' and an analyzer with a reaction disk 60'. A cuvette transport device 100' transports the cuvette 1' to the reaction disk 60'. As shown in FIG. 16, the cuvette transporting device 100′ transports the cuvette 1′, which is a container with one side open, to the reaction disk 60′, and as shown in the part surrounded by the dotted line in FIG. , a storage unit 10', an arrangement unit 20', and a transport unit 30', which are surrounded by dotted lines.

キュベット1’が収納ユニット10’の中に投入された後、分離器40’経由で配置ユニット20’に投入される。配置ユニット20’は、収納ユニット10’によって搬送されたキュベット1’を、下流の搬送ユニット30’に配置するために、配置器50’によりキュベット1’を同じ向きに並べる。 After the cuvette 1' is introduced into the storage unit 10', it is introduced into the placement unit 20' via the separator 40'. The arranging unit 20' aligns the cuvettes 1' in the same direction by the arranging device 50' in order to arrange the cuvettes 1' conveyed by the storage unit 10' in the downstream conveying unit 30'.

配置ユニット20’で搬送ユニット30’に並べられたキュベット1’が、搬送ユニット30’のレール30A’により反応ディスク60’に搬送され、反応ディスク60’においてキュベット1’内に試料が注入されることで分析が行われる。上記構造により、収納ユニット10’の中に乱雑に投入されたキュベット1’を自動的に並べ、反応ディスク60’に搬送することができる。 The cuvettes 1' arranged in the transport unit 30' in the arrangement unit 20' are transported to the reaction disk 60' by the rails 30A' of the transport unit 30', and the sample is injected into the cuvette 1' in the reaction disk 60'. Analysis is performed by With the structure described above, the cuvettes 1' thrown into the storage unit 10' at random can be automatically arranged and transported to the reaction disk 60'.

しかし、キュベット1’は、プラスチックなどの粉塵が発生し易い材料からなる。例えば、上記のキュベット搬送装置100’を有する自動分析装置において、キュベット1’が反応ディスク60’に入る前、収納ユニット10’に乱雑に置かれ、キュベット搬送装置100’により反応ディスク60’に1つずつ搬送される。この過程において、キュベット1’同士の間や、キュベット1’と収納ユニット10’との間や、キュベット1’と配置ユニット20’との間では、相互的な摩擦がいずれも存在する。このため、例えばプラスチック材質のキュベット1’は粉塵が発生し易く、粉塵がキュベット1に入った場合、注入される試料と混ざって分析装置の分析結果に対し影響を及ぼし、最終的に評価結果に影響する可能性がある。このため、粉塵の発生により分析の精度が低下する可能性がある。キュベット中の粉塵を除去することは、非常に重要である。 However, the cuvette 1' is made of a dust-prone material such as plastic. For example, in the automatic analyzer having the cuvette transport device 100′ described above, the cuvettes 1′ are randomly placed in the storage unit 10′ before entering the reaction disk 60′, and the cuvette transport device 100′ moves the cuvette 1′ to the reaction disk 60′. transported one by one. In this process, there is mutual friction between the cuvettes 1', between the cuvettes 1' and the storage unit 10', and between the cuvettes 1' and the placement unit 20'. For this reason, for example, the cuvette 1' made of a plastic material is likely to generate dust. may affect. Therefore, the generation of dust may reduce the accuracy of analysis. Removing dust in the cuvette is very important.

また、分離器40’は、上下方向に移動することにより、キュベット1’を小分けにして配置ユニット20’に供給する。具体的には、分離器40’の上部には、配置ユニット20’に向いて傾斜した斜面が設けられる。分離器40’が低い位置に下がった際に、一部のキュベット1’が分離器40’の斜面に落ち込み、分離器40’の位置が上がった際に、キュベット1’が分離器40’の斜面から配置ユニット20’に滑り落ちる。このような過程においては、分離器40’に入っていないキュベット1’が再び収納ユニット10’に滑り落ち戻る。このとき、キュベット1’が収納ユニット10’の各部分と複数回ぶつかり、粉塵が発生し易くなる。 Also, the separator 40' moves vertically to subdivide the cuvettes 1' and supply them to the arrangement unit 20'. Specifically, the upper portion of the separator 40' is provided with a slope that is inclined toward the arrangement unit 20'. When the separator 40' is lowered to a lower position, some of the cuvettes 1' fall on the slope of the separator 40', and when the position of the separator 40' is raised, the cuvettes 1' fall on the separator 40'. It slides down the slope onto the placement unit 20'. In this process, the cuvettes 1' not in the separator 40' slide back into the storage unit 10'. At this time, the cuvette 1' collides with each part of the storage unit 10' multiple times, and dust is likely to be generated.

また、配置器50’は、同様に、上下方向に移動することにより、キュベット1’を配置する。このような過程においても、キュベット1’が配置器50’に乱雑に滑り落ちる。例えば、配置器50’が低い位置に下がった際に、一部のキュベット1’が配置器50’に落ち込んで、配置器50’の位置が上昇した際に、配置器50’に入りきらないキュベット1’が再び配置ユニット20’に滑り落ち戻る。この過程においては、キュベット1’が配置ユニット20’の各部分と複数回ぶつかり、粉塵が発生し易くなる。 Similarly, the placement device 50' places the cuvette 1' by moving vertically. Also in this process, the cuvette 1' randomly slides down into the placement device 50'. For example, when the placement device 50' is lowered to a lower position, some cuvettes 1' fall into the placement device 50', and when the position of the placement device 50' rises, the cuvettes 1' do not fit into the placement device 50'. The cuvette 1' again slides back into the placement unit 20'. During this process, the cuvette 1' collides with each part of the placement unit 20' multiple times, which is likely to generate dust.

このように、図16に示すキュベット搬送装置100’は、粉塵が発生し易いため、自動分析装置において、粉塵の発生により分析精度が低下する可能性がある。 As described above, the cuvette transport apparatus 100' shown in FIG. 16 is likely to generate dust, and the generation of dust may reduce the analysis accuracy in the automatic analyzer.

実開平6-18968号公報Japanese Utility Model Laid-Open No. 6-18968

本明細書及び図面に開示の実施形態の一つは、分析精度を向上させることである。 One of the embodiments disclosed in the specification and drawings is to improve analytical accuracy.

実施形態に係る自動分析装置は、収納部と、移送部と、測定部と、静電気除去部と、を備える。前記収納部は、分析対象となる試料を収容するための容器を収納する。前記移送部は、前記収納部から前記容器を移送する。前記測定部は、前記移送部から移送された前記容器に前記試料を注入し、当該容器内の液体を測定する。前記静電気除去部は、前記収納部及び前記移送部のうち少なくとも1つに設けられ、前記容器の静電気を除去する。 An automatic analyzer according to an embodiment includes a storage section, a transfer section, a measurement section, and a static electricity removal section. The storage part stores a container for storing a sample to be analyzed. The transfer section transfers the container from the storage section. The measurement unit injects the sample into the container transferred from the transfer unit, and measures the liquid in the container. The static remover is installed in at least one of the storage unit and the transfer unit, and removes static electricity from the container.

図1は、第1の実施形態に係る自動分析装置の構成を示す全体的概略図である。FIG. 1 is an overall schematic diagram showing the configuration of an automatic analyzer according to the first embodiment. 図2Aは、第1の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の収納ユニットに設けられた静電気除去構造の一例を示す俯瞰図である。FIG. 2A is a bird's-eye view showing an example of a static elimination structure provided in a storage unit of a cuvette transport device in the automatic analyzer according to the first embodiment; 図2Bは、図2AにおけるA-A断面図である。FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 2A. 図2Cは、第1の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の収納ユニットの静電気除去構造の一例を示す斜視図である。FIG. 2C is a perspective view showing an example of the static elimination structure of the storage unit of the cuvette transport device in the automatic analyzer according to the first embodiment. 図3は、第1の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の配置ユニットに設けられた静電気除去機構の一例を示す拡大概略図である。FIG. 3 is an enlarged schematic view showing an example of a static electricity removing mechanism provided in the arrangement unit of the cuvette transporting device in the automatic analyzer according to the first embodiment. 図4は、第1の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の配置ユニットに設けられた静電気除去機構の一例を示す簡単な概略図である。FIG. 4 is a simple schematic diagram showing an example of a static electricity removal mechanism provided in the arrangement unit of the cuvette transport device in the automatic analyzer according to the first embodiment. 図5は、第1の実施形態に係る自動分析装置の処理手順(自動分析方法)を示すフローチャートである。FIG. 5 is a flow chart showing the processing procedure (automatic analysis method) of the automatic analyzer according to the first embodiment. 図6Aは、第1の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の収納ユニットに設けられた静電気除去構造の変形例として、静電気除去構造の一部を示す概略図である。FIG. 6A is a schematic diagram showing part of a static electricity removal structure as a modification of the static electricity removal structure provided in the storage unit of the cuvette transport device in the automatic analyzer according to the first embodiment. 図6Bは、図6Aの静電気除去構造を示す斜視図である。6B is a perspective view showing the static electricity removal structure of FIG. 6A. 図7は、第2の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の構造を示す全体的概略図である。FIG. 7 is an overall schematic diagram showing the structure of the cuvette transport device in the automatic analyzer according to the second embodiment. 図8は、第2の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の配置ユニットの構造を示す概略図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing the structure of the arrangement unit of the cuvette transport device in the automatic analyzer according to the second embodiment. 図9は、第2の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の搬送ユニットの搬送経路を示す概略図である。FIG. 9 is a schematic diagram showing the transport path of the transport unit of the cuvette transport device in the automatic analyzer according to the second embodiment. 図10Aは、第2の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の搬送ユニットの挟みユニットの構造を示す概略図である。FIG. 10A is a schematic diagram showing the structure of a clamping unit of the transport unit of the cuvette transport device in the automatic analyzer according to the second embodiment. 図10Bは、第2の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の搬送ユニットの挟みユニットの構造を示す概略図である。FIG. 10B is a schematic diagram showing the structure of a clamping unit of the transport unit of the cuvette transport device in the automatic analyzer according to the second embodiment. 図10Cは、第2の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の搬送ユニットの挟みユニットの構造を示す概略図である。FIG. 10C is a schematic diagram showing the structure of a clamping unit of the transport unit of the cuvette transport device in the automatic analyzer according to the second embodiment. 図11は、第2の実施形態に係る自動分析装置の処理手順(自動分析方法)を示すフローチャートである。FIG. 11 is a flow chart showing the processing procedure (automatic analysis method) of the automatic analyzer according to the second embodiment. 図12は、第3の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の構造を示す全体的概略図である。FIG. 12 is an overall schematic diagram showing the structure of the cuvette transport device in the automatic analyzer according to the third embodiment. 図13は、第4の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の構造を示す全体的概略図である。FIG. 13 is an overall schematic diagram showing the structure of the cuvette transport device in the automatic analyzer according to the fourth embodiment. 図14は、第5の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の構造を示す全体的概略図である。FIG. 14 is an overall schematic diagram showing the structure of the cuvette transport device in the automatic analyzer according to the fifth embodiment. 図15は、第6の実施形態に係る自動分析装置におけるキュベット搬送装置の清掃機構を示す概略図である。FIG. 15 is a schematic diagram showing the cleaning mechanism of the cuvette transport device in the automatic analyzer according to the sixth embodiment. 図16は、従来の自動分析装置の構成を示す全体的概略図である。FIG. 16 is an overall schematic diagram showing the configuration of a conventional automatic analyzer.

以下、図面を参照しながら、自動分析装置および自動分析方法の実施形態について説明する。また、各実施形態においては、実質的に同一の構成部材に対し同一の符号を表記して詳しい説明を適切に省略する。 Hereinafter, embodiments of an automatic analysis device and an automatic analysis method will be described with reference to the drawings. Further, in each embodiment, substantially the same constituent members are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is appropriately omitted.

また、実施形態に対して説明する際に、自動分析装置として、血液凝固分析装置が例に挙げられて説明されるが、本実施形態は血液凝固分析装置に限らず、容器を用いて、被検体から採取された試料(血液などの生体試料)に関する分析を行う装置さえであれば、本実施形態を応用しても良い。 In addition, when describing the embodiments, a blood coagulation analyzer is taken as an example of an automatic analyzer. The present embodiment may be applied as long as it is an apparatus that analyzes a sample (biological sample such as blood) collected from a specimen.

また、各図面では、説明の便宜上に概略的に示された構造であり、そのうちの部品の具体的な寸法および異なる部品間の比例関係および位置関係が必ずしも実際の製品と一致するとは限らず、適切な変形を行われたものである。 In addition, in each drawing, the structure is shown schematically for the convenience of explanation, and the specific dimensions of the parts and the proportional and positional relationships between different parts do not necessarily match the actual product. Appropriate modifications have been made.

(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係る自動分析装置200の構成を示す全体的概略図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is an overall schematic diagram showing the configuration of an automatic analyzer 200 according to the first embodiment.

自動分析装置200としての血液凝固分析装置は、キュベット1を反応ディスクに自動的に搬送するキュベット搬送装置を有し、キュベット1が反応ディスクに置かれた後、自動分析装置200の注入機構によって試料と試薬とを混ぜた液体又は試料を注入され、さらに、自動分析装置200の分析機構によってキュベット1における試料に対し様々な分析が行われる。本実施形態で、キュベット搬送装置を除いた注入機構、分析機構など他の構造としては、いずれも公知の構造を用いてもよく、図示と説明を省略する。図1では、キュベット1の搬送に関する構成のみを示して説明を行う。 The blood coagulation analyzer as the automatic analyzer 200 has a cuvette transporter that automatically transports the cuvette 1 to the reaction disk. A liquid mixed with a reagent or a sample is injected, and various analyzes are performed on the sample in the cuvette 1 by the analysis mechanism of the automatic analyzer 200 . In this embodiment, other structures such as an injection mechanism and an analysis mechanism other than the cuvette conveying device may be known structures, and illustration and description thereof are omitted. In FIG. 1, only the structure related to the transportation of the cuvette 1 is shown and explained.

図1に示すように、第1の実施形態に係る自動分析装置200は、キュベット搬送装置100を備える。キュベット搬送装置100は、順次に接続された収納ユニット10、配置ユニット20および搬送ユニット30を備え、キュベット1を収納ユニット10から、配置ユニット20および搬送ユニット30経由で反応ディスク60に搬送する。 As shown in FIG. 1, an automatic analyzer 200 according to the first embodiment includes a cuvette transport device 100. As shown in FIG. The cuvette transfer device 100 includes a storage unit 10 , a placement unit 20 and a transfer unit 30 that are connected in sequence, and transfers the cuvette 1 from the storage unit 10 to the reaction disk 60 via the placement unit 20 and transfer unit 30 .

第1の実施形態に係る自動分析装置200は、更に、反応ディスク60を有する分析装置70と、制御回路を備える。制御回路は、収納ユニット10、配置ユニット20、搬送ユニット30、分析装置70を制御する。ここで、収納ユニット10は、「収納部」の一例であり、配置ユニット20および搬送ユニット30は、「移送部」の一例である。また、分析装置70は、「測定部」の一例であり、移送部(配置ユニット20、搬送ユニット30)から移送されたキュベット1に試料を注入し、当該キュベット1内の液体を測定することによって、試料の分析を行う。 The automatic analyzer 200 according to the first embodiment further comprises an analyzer 70 having a reaction disk 60 and a control circuit. The control circuit controls the storage unit 10, the placement unit 20, the transport unit 30, and the analyzer 70. FIG. Here, the storage unit 10 is an example of the "storage section", and the arrangement unit 20 and the transport unit 30 are examples of the "transfer section". Also, the analyzer 70 is an example of a “measurement unit”, and by injecting a sample into the cuvette 1 transferred from the transfer unit (arrangement unit 20, transfer unit 30) and measuring the liquid in the cuvette 1, , analyze the sample.

キュベット搬送装置100の収納ユニット10の主体構造は、上方が開口したケージングであり、空きのキュベット1が収納ユニット10の上方にある開口から収納ユニット10に投入されることで、収納ユニット10で一時的に収納される。ケージングの下面には、配置ユニット20に向いて傾斜した斜面が形成されることで、ケージング内において、キュベット1は配置ユニット20側へ移動する。 The main structure of the storage unit 10 of the cuvette transporting device 100 is a casing with an upper opening, and an empty cuvette 1 is put into the storage unit 10 from the opening above the storage unit 10, and temporarily stored in the storage unit 10. stored properly. A slope inclined toward the placement unit 20 is formed on the bottom surface of the casing, so that the cuvette 1 moves toward the placement unit 20 in the casing.

具体的には、収納ユニット10は、キュベット1が収納されるケージング13と、分離器と、分離器を上下方向に移動させる移動機構と、分離器及び移動機構を収納するケージングとを備える。分離器としては、例えば、図16に示すような分離器40’が用いられる分離器は、上下方向に移動することにより、収納ユニット10におけるキュベット1を小分けにして取り出す。例えば、分離器は、低い位置に下がった際に、キュベット1の進入を受け入れ、高い位置に上った際に、キュベット1を配置ユニット20に落とす。 Specifically, the storage unit 10 includes a casing 13 in which the cuvette 1 is stored, a separator, a movement mechanism for vertically moving the separator, and a casing for housing the separator and the movement mechanism. As a separator, for example, a separator 40' as shown in FIG. 16 is used. By moving vertically, the cuvettes 1 in the storage unit 10 are taken out in small portions. For example, the separator accepts entry of the cuvette 1 when lowered to its lower position, and drops the cuvette 1 into the placement unit 20 when raised to its higher position.

キュベット搬送装置100の配置ユニット20は、収納ユニット10と搬送ユニット30との間に接続され、収納ユニット10で収納されたキュベット1を搬送ユニット30に順次に配置する。 The placement unit 20 of the cuvette transport device 100 is connected between the storage unit 10 and the transport unit 30 and sequentially places the cuvettes 1 stored in the storage unit 10 on the transport unit 30 .

具体的には、配置ユニット20は、レール50と、レール50を上下方向に移動させる移動機構と、レール50及び移動機構を収納するケージングとを備える。レール50としては、例えば、図16に示すような配置器50’が用いられる。 Specifically, the arrangement unit 20 includes a rail 50, a moving mechanism for vertically moving the rail 50, and a casing for housing the rail 50 and the moving mechanism. As the rail 50, for example, a placement device 50' as shown in FIG. 16 is used.

ここで、キュベット1は、例えば、上面が開口した部材で形成され、キュベット1の胴体部の開口側にはフランジが形成されている。レール50は、キュベット1を整列させるために、所定距離だけ離間して配置されたレールである。ここで、所定距離は、キュベット1のフランジよりも短く、キュベット1の胴体部の外径よりも長い。なお、キュベット1の形状は、これに限らず、上面が開口した容器であればよく、その断面形状および外観が反応ディスク60に応じて任意的に設定されても良い。 Here, the cuvette 1 is formed of, for example, a member with an open top, and a flange is formed on the open side of the body of the cuvette 1 . Rails 50 are rails spaced apart a predetermined distance to align the cuvettes 1 . Here, the predetermined distance is shorter than the flange of the cuvette 1 and longer than the outer diameter of the body of the cuvette 1 . Note that the shape of the cuvette 1 is not limited to this, as long as it is a container with an open top, and the cross-sectional shape and appearance thereof may be arbitrarily set according to the reaction disk 60 .

そこで、レール50は、上下方向に移動することによりキュベット1を整列させることで、キュベット1を所定の姿勢で搬送ユニット30に供給する。例えば、配置ユニット20の移動機構は、低い位置に下がった際に、キュベット1をレール50に整列させ、高い位置に上った際に、レール50内のキュベット1を順次に搬送ユニット30に供給する。なお、配置ユニット20において、レール50に整列されないキュベット1は、レール50が高い位置に上った際に、収納ユニット10に落ちる。 Therefore, the rails 50 move vertically to align the cuvettes 1, thereby supplying the cuvettes 1 to the transport unit 30 in a predetermined posture. For example, the moving mechanism of the placement unit 20 aligns the cuvettes 1 with the rails 50 when lowered to the low position, and sequentially supplies the cuvettes 1 in the rails 50 to the transport unit 30 when raised to the high position. do. In addition, in the arrangement unit 20, the cuvettes 1 that are not aligned with the rails 50 fall into the storage unit 10 when the rails 50 rise to a high position.

キュベット搬送装置100の搬送ユニット30は、キュベット1を整列させるために、所定距離だけ離間して配置されたレール30Aを備える。搬送ユニット30において、レール30Aの向きは、水平方向に対して傾いており、当該レール30Aは、始端から終端まで下方に傾斜する。これにより、搬送ユニット30が、配置ユニット20から供給されたキュベット1の姿勢をそのまま保持して反応ディスク60に搬送することで、キュベット1を開口が上へ向く状態で反応ディスク60の所定位置に搬送し、分析装置70が、反応ディスク60において分析を行うことが可能になる。 The transport unit 30 of the cuvette transport apparatus 100 comprises rails 30A spaced apart by a predetermined distance for aligning the cuvettes 1 . In the transport unit 30, the direction of the rail 30A is inclined with respect to the horizontal direction, and the rail 30A is inclined downward from the start end to the end end. As a result, the transport unit 30 holds the posture of the cuvette 1 supplied from the placement unit 20 as it is and transports it to the reaction disk 60, so that the cuvette 1 is placed at a predetermined position on the reaction disk 60 with the opening facing upward. This allows the analysis device 70 to perform analysis on the reaction disk 60 .

分析装置70は、例えば、反応ディスク60、試薬庫、注入機構および測定機構を備える。 The analyzer 70 includes, for example, a reaction disk 60, a reagent reservoir, an injection mechanism and a measurement mechanism.

反応ディスク60は、反応槽であり、円周上に配置された複数のキュベット1を回転可能に保持する。 The reaction disk 60 is a reaction vessel and rotatably holds a plurality of cuvettes 1 arranged on a circumference.

試薬庫は、円周上に配置された複数の試薬容器を保冷して保持する。試薬庫内の試薬容器は、試料に含まれる各検査項目の成分と反応する成分を含有する試薬を収容する。試薬庫は、各検査項目の試薬容器を回転可能に保持するターンテーブルを有する。 The reagent storage keeps and retains a plurality of reagent containers arranged on a circumference. A reagent container in the reagent storage accommodates a reagent containing a component that reacts with the component of each test item contained in the sample. The reagent storage has a turntable that rotatably holds reagent containers for each test item.

注入機構は、例えば、試料分注プローブ、試薬分注プローブを備える。 The injection mechanism includes, for example, a sample dispensing probe and a reagent dispensing probe.

試料分注プローブは、例えば、試料吸引位置に移動された試料容器内の試料の分注を行う。具体的には、試料分注プローブは、試料吸引位置に位置する試料容器内の試料を検査項目毎に吸引して、当該検査項目の分析パラメータとして設定された量の試料を、反応ディスク60における試料吐出位置に位置するキュベット1内へ吐出する。その後、試料分注プローブは洗浄される。 The sample dispensing probe, for example, dispenses the sample in the sample container moved to the sample aspirating position. Specifically, the sample pipetting probe aspirates the sample in the sample container positioned at the sample aspirating position for each inspection item, and deposits the amount of sample set as the analysis parameter for the inspection item on the reaction disk 60. The sample is discharged into the cuvette 1 positioned at the sample discharge position. The sample dispensing probe is then washed.

試薬分注プローブは、例えば、試薬吸引位置に移動された試薬容器内の試薬の分注を行う。具体的には、試薬分注プローブは、試薬吸引位置に位置する試薬容器内の試薬を吸引して、当該検査項目の分析パラメータとして設定された量の試薬を、反応ディスク60における試薬吐出位置に位置するキュベット1内に吐出する。その後、試薬分注プローブは洗浄される。 For example, the reagent dispensing probe dispenses the reagent in the reagent container moved to the reagent aspirating position. Specifically, the reagent dispensing probe aspirates the reagent in the reagent container located at the reagent aspirating position, and dispenses the reagent in the amount set as the analysis parameter of the test item to the reagent dispensing position on the reaction disk 60. Dispense into the cuvette 1 located. The reagent dispensing probe is then washed.

測定機構は、例えば、試料と試薬との混合液を収容するキュベット1に、光を照射することによって混合液を測定する。具体的には、測定機構は、回転している測定位置のキュベット1に光を照射し、この照射によりキュベット1内の試料及び試薬の混合液を透過した光を検出する。そして、測定機構は、検出した信号を処理してデジタル信号で表される標準データや被検データを生成して制御回路に出力する。その後、キュベット1は洗浄される。 The measurement mechanism measures the liquid mixture by, for example, irradiating the cuvette 1 containing the liquid mixture of the sample and the reagent with light. Specifically, the measurement mechanism irradiates the rotating cuvette 1 at the measurement position with light, and detects the light transmitted through the mixed liquid of the sample and the reagent in the cuvette 1 by this irradiation. The measurement mechanism then processes the detected signals to generate standard data and test data represented by digital signals, and outputs the data to the control circuit. The cuvette 1 is then washed.

ここで、キュベット搬送装置100の収納ユニット10について説明する。収納ユニット10は、キュベット1が収納されるケージング13と、上下方向に移動することによりキュベット1を取り出して配置ユニット20に落とす分離器と、分離器を上下方向に移動させる移動機構と、分離器及び移動機構を収納するケージングとに加えて、キュベット1に付いた静電気を金属の伝導作用により除去するための静電気除去構造10Aを備える。図2Aは、第1の実施形態に係る自動分析装置200におけるキュベット搬送装置100の収納ユニット10に設けられた静電気除去構造10Aの一例を示す俯瞰図である。図2Bは、図2AにおけるA-A断面図である。図2Cは、静電気除去構造10Aの一例を示す斜視図である。ここで、収納ユニット10の静電気除去構造10Aは、「静電気除去部」の一例である。 Here, the storage unit 10 of the cuvette transport device 100 will be described. The storage unit 10 includes a casing 13 in which the cuvette 1 is stored, a separator that moves vertically to take out the cuvette 1 and drop it into the arrangement unit 20, a moving mechanism that vertically moves the separator, and a separator. And, in addition to a casing for housing the moving mechanism, a static electricity removing structure 10A for removing static electricity attached to the cuvette 1 by metal conduction action is provided. FIG. 2A is a bird's-eye view showing an example of the static electricity removing structure 10A provided in the storage unit 10 of the cuvette transporting device 100 in the automatic analyzer 200 according to the first embodiment. FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 2A. FIG. 2C is a perspective view showing an example of the static electricity removal structure 10A. Here, the static electricity removing structure 10A of the storage unit 10 is an example of the "static electricity removing portion".

収納ユニット10の静電気除去構造10Aは、複数の仕切り板11、複数のブラシ12を備える。複数の仕切り板11、複数のブラシ12は、キュベット1が収納されるケージング13内に設けられる。図2A~図2Cでは、収納ユニット10のキュベット1を収容するためのケージング13が立方体として概略的且つ簡略化されている。ただし、図1には、収納ユニット10と配置ユニット20との間の、キュベット1が通過できる通路が示されていないが、実際には、収納ユニット10と配置ユニット20との間には、キュベット1が通過できる開口が設けられている。 The static electricity removal structure 10</b>A of the storage unit 10 includes a plurality of partition plates 11 and a plurality of brushes 12 . A plurality of partition plates 11 and a plurality of brushes 12 are provided within a casing 13 in which the cuvette 1 is accommodated. 2A-2C, the casing 13 for housing the cuvette 1 of the storage unit 10 is schematically and simplified as a cube. 1 does not show a path through which the cuvette 1 can pass between the storage unit 10 and the placement unit 20, but actually, there is a cuvette between the storage unit 10 and the placement unit 20. An opening is provided through which 1 can pass.

例えば、複数の仕切り板11は、金属からなる。具体的には、図2A~図2Cに示すように、ケージング13内に、複数の仕切り板11として3つの金属製の仕切り板11が、上下方向に沿って平行に設けられる。なお、図2A~図2Cでは3つの仕切り板11を示しているが、仕切り板11の数は3つでなくてもよく、収納ユニット10のケージング13の大きさに応じて適宜変更することができる。例えば、複数のブラシ12の各々は、仕切り板11に設けられる。具体的には、各ブラシ12は、一端部が仕切り板11の側面に固定されて、他端部が仕切り板11の側面から垂直方向に延びるように設けられる。ブラシ12は、例えば、導電性繊維、カーボンファイバーなどの導電性材料からなる。収納ユニット10の静電気除去構造10Aでは、ケージング13内において、仕切り板11は、キュベット1がブラシ12を通過するように設けられる。ここで、仕切り板11は、「板」の一例である。 For example, the partition plates 11 are made of metal. Specifically, as shown in FIGS. 2A to 2C, three metal partition plates 11 are provided in the casing 13 in parallel along the vertical direction as the plurality of partition plates 11 . Although three partition plates 11 are shown in FIGS. 2A to 2C, the number of partition plates 11 does not have to be three, and can be changed as appropriate according to the size of the casing 13 of the storage unit 10. can. For example, each of the plurality of brushes 12 is provided on the partition plate 11 . Specifically, each brush 12 is provided so that one end is fixed to the side surface of the partition plate 11 and the other end extends vertically from the side surface of the partition plate 11 . The brush 12 is made of a conductive material such as conductive fiber or carbon fiber. In the static electricity removal structure 10 A of the storage unit 10 , the partition plate 11 is provided in the casing 13 so that the cuvette 1 passes through the brush 12 . Here, the partition plate 11 is an example of a "plate".

このような構造によれば、操作者又は投入装置によってキュベット1を収納ユニット10に投入する場合、キュベット1は、図2A、図2Bに示すように、下へ移動する過程においてブラシ12と接触することで、キュベット1に付いた静電気が金属の伝導作用により除去される。そのため、キュベット1に付着した粉塵などの不純物はキュベット1からより落ち易くなる。 According to this structure, when the cuvette 1 is loaded into the storage unit 10 by the operator or the loading device, the cuvette 1 comes into contact with the brush 12 while moving downward, as shown in FIGS. 2A and 2B. As a result, the static electricity attached to the cuvette 1 is removed by the conductive action of the metal. Therefore, impurities such as dust adhering to the cuvette 1 can be easily removed from the cuvette 1 .

次に、キュベット搬送装置100の配置ユニット20について説明する。配置ユニット20は、上述したレール50と、レール50を上下方向に移動させる移動機構と、レール50及び移動機構を収納するケージングとに加えて、キュベット1に付いた静電気を金属の伝導作用により除去するための静電気除去機構20Aを備える。配置ユニット20の静電気除去機構は、キュベット1の粉塵を収集することで、キュベット1に付いた静電気を金属の伝導作用により除去する。図3は、第1の実施形態に係る自動分析装置200におけるキュベット搬送装置100の配置ユニット20に設けられた静電気除去機構20Aの一例を示す拡大概略図である。ここで、配置ユニット20の静電気除去構造20Aは、「静電気除去部」の一例である。 Next, the placement unit 20 of the cuvette transport device 100 will be described. The arrangement unit 20 includes the above-described rails 50, a moving mechanism for vertically moving the rails 50, a casing for housing the rails 50 and the moving mechanism, and the static electricity attached to the cuvette 1 is removed by metal conduction. A static electricity removal mechanism 20A is provided for removing static electricity. The static electricity removing mechanism of the placement unit 20 collects the dust on the cuvette 1 and removes the static electricity attached to the cuvette 1 by the conductive action of the metal. FIG. 3 is an enlarged schematic diagram showing an example of the static elimination mechanism 20A provided in the placement unit 20 of the cuvette transporting device 100 in the automatic analyzer 200 according to the first embodiment. Here, the static electricity removing structure 20A of the arrangement unit 20 is an example of the "static electricity removing portion".

図3の左側には、配置ユニット20において、レール50と、レール50を上下方向に移動させる移動機構と、レール50及び移動機構を収納するケージングとを除いた構造が示されている。配置ユニット20の静電気除去構造20Aは、収集ボックス21、放電回路22を備える。収集ボックス21は、キュベット1を移送する経路の少なくとも一部の下方に設けられ、放電回路22は、静電気を利用して収集ボックス21に粉塵を引き付ける。ここで、収集ボックス21は、「粉塵収集部」の一例であり、放電回路22は、「静電気引付ユニット」の一例である。 The left side of FIG. 3 shows the structure of the arrangement unit 20 excluding the rail 50 , the moving mechanism for vertically moving the rail 50 , and the casing for housing the rail 50 and the moving mechanism. The static electricity removal structure 20A of the arrangement unit 20 comprises a collection box 21 and a discharge circuit 22. As shown in FIG. A collection box 21 is provided below at least part of the path along which the cuvettes 1 are transported, and a discharge circuit 22 attracts dust to the collection box 21 using static electricity. Here, the collection box 21 is an example of the "dust collector", and the discharge circuit 22 is an example of the "static electricity attraction unit".

例えば、収集ボックス21は、レール50及び移動機構を収納するケージングの下方に設けられる。具体的には、図3に示すように、配置ユニット20のケージングの下には、上方が開口した金属製の収集ボックス21が設けられ、収集ボックス21は、上から落ちた粉塵などの不純物を受け入れることが可能な形状に形成されている。 For example, the collection box 21 is provided below the casing that houses the rails 50 and movement mechanism. Specifically, as shown in FIG. 3, a collection box 21 made of metal with an upper opening is provided under the casing of the arrangement unit 20, and the collection box 21 collects impurities such as dust falling from above. formed into an acceptable shape.

また、収集ボックス21と放電回路22の放電ヘッド22Aとがワイヤーにより電気接続されることで、放電回路22が収集ボックス21に対して放電し、収集ボックス21に静電気を発生させる。このとき、静電気を発生した収集ボックス21が、粉塵などの不純物を引き付ける作用を発生させる。例えば、収集ボックス21の上に位置した配置ユニット20におけるキュベット1上の粉塵などの不純物を、配置ユニット20のケージングの底部に設けられた貫通孔経由で、収集ボックス21の中に引き付ける。 Also, the collection box 21 and the discharge head 22A of the discharge circuit 22 are electrically connected by a wire, so that the discharge circuit 22 discharges to the collection box 21 and causes the collection box 21 to generate static electricity. At this time, the static electricity generated collection box 21 generates an effect of attracting impurities such as dust. For example, impurities such as dust on the cuvettes 1 in the placement unit 20 located above the collection box 21 are drawn into the collection box 21 via through holes provided in the bottom of the casing of the placement unit 20 .

図3の上部には、放電回路22の回路構成の一例が示されている。放電回路22は、一端が接地された高圧直流電源22Bと、高圧直流電源22Bの他端と直列に接続された抵抗素子R1、R2と、抵抗素子R1と抵抗素子R2の間に接続され、高圧直流電源22Bと並列に接続された容量素子であるコンデンサC1と、抵抗素子R1、R2と直列に接続され、放電のための電荷を蓄積する放電スイッチ22Cと、を有する。なお、高圧直流電源22Bと抵抗素子R1との間には、高圧直流電源22Bと抵抗素子R1とを接続するための電源スイッチ22Dが設けられる。制御回路が放電スイッチ22Cをオン/オフ制御することで、放電回路22が収集ボックス21に対して放電し、収集ボックス21に静電気を発生させる。図3に示した放電回路22の回路構成は、一例に過ぎず、放電可能な構成であれば、図3に示した回路構成でなくても良い。 An example of the circuit configuration of the discharge circuit 22 is shown in the upper portion of FIG. The discharge circuit 22 includes a high-voltage DC power supply 22B having one end grounded, resistance elements R1 and R2 connected in series to the other end of the high-voltage DC power supply 22B, and connected between the resistance elements R1 and R2. It has a capacitor C1, which is a capacitive element connected in parallel with the DC power supply 22B, and a discharge switch 22C, which is connected in series with the resistance elements R1 and R2 and accumulates charges for discharging. A power switch 22D for connecting the high voltage DC power supply 22B and the resistance element R1 is provided between the high voltage DC power supply 22B and the resistance element R1. The control circuit turns on/off the discharge switch 22C, whereby the discharge circuit 22 discharges to the collection box 21 and causes the collection box 21 to generate static electricity. The circuit configuration of the discharge circuit 22 shown in FIG. 3 is merely an example, and the circuit configuration may be different from that shown in FIG. 3 as long as it is capable of discharging.

図4は、第1の実施形態に係る自動分析装置200におけるキュベット搬送装置100の配置ユニット20に設けられた静電気除去機構20Aの一例を示す簡単な概略図である。図4では、配置ユニット20がキュベット1を収容できる空間として簡単に表され、収集ボックス21は、レール50及び移動機構を収納するケージング20Bの下方に設けられる。ケージング20Bの底部には、複数の貫通孔23が設けられる。また、配置ユニット20のケージング20Bの下方には、放電回路22と接続された収集ボックス21が、配置ユニット20と距離を空けて設けられ、収集ボックス21と放電回路22とからなる静電気除去構造20Aにより、配置ユニット20の中に存在する粉塵などの不純物に対し静電気作用で引き付けることで、粉塵などの不純物が貫通孔23経由で収集ボックス21の中に引き付けられる。 FIG. 4 is a simple schematic diagram showing an example of the static elimination mechanism 20A provided in the placement unit 20 of the cuvette transporting device 100 in the automatic analyzer 200 according to the first embodiment. In FIG. 4, the placement unit 20 is simply represented as a space in which the cuvette 1 can be accommodated, and the collection box 21 is provided below the rail 50 and the casing 20B which accommodates the movement mechanism. A plurality of through holes 23 are provided in the bottom of the casing 20B. A collection box 21 connected to a discharge circuit 22 is provided below the casing 20B of the placement unit 20 at a distance from the placement unit 20. A static electricity removal structure 20A comprising the collection box 21 and the discharge circuit 22. By electrostatically attracting impurities such as dust present in the placement unit 20 , the impurities such as dust are attracted into the collection box 21 via the through holes 23 .

次に、第1の実施形態に係る自動分析装置200の処理手順(自動分析方法)について説明する。図5は、第1の実施形態に係る自動分析装置200の処理手順を示すフローチャートである。 Next, a processing procedure (automatic analysis method) of the automatic analysis device 200 according to the first embodiment will be described. FIG. 5 is a flow chart showing the processing procedure of the automatic analyzer 200 according to the first embodiment.

まず、自動分析の開始時に、キュベット搬送装置100の収納ユニット10の中にキュベット1が投入され、収納ユニット10は、投入されたキュベット1を収納する。ここで、キュベット1が、収納ユニット10のケージング13に上方から投入されたとき、ケージング13と仕切り板11との間や、2つの仕切り板11の間に落ちて、ブラシ12と接触する(図5のステップS501)。この過程において、キュベット1上の不要な静電気が除去されるので、粉塵などの不純物がキュベット1に吸着されることなく、当該キュベット1が収納ユニット10から配置ユニット20に搬送される。 First, at the start of automatic analysis, the cuvette 1 is loaded into the storage unit 10 of the cuvette transporter 100, and the storage unit 10 stores the loaded cuvette 1. FIG. Here, when the cuvette 1 is put into the casing 13 of the storage unit 10 from above, it falls between the casing 13 and the partition plate 11 or between the two partition plates 11 and comes into contact with the brush 12 (Fig. 5 step S501). In this process, unnecessary static electricity on the cuvette 1 is removed, so that the cuvette 1 is transported from the storage unit 10 to the placement unit 20 without attracting impurities such as dust to the cuvette 1 .

次に、キュベット搬送装置100において、配置ユニット20は、収納ユニット10から供給されたキュベット1を、レール50により整列させることで、キュベット1を所定の姿勢で搬送ユニット30に供給する。例えば、配置ユニット20は、低い位置に下がった際に、キュベット1をレール50に整列させ、高い位置に上った際に、レール50内のキュベット1を順次に搬送ユニット30に供給する。ここで、配置ユニット20では、放電回路22を起動させることで、収集ボックス21を利用し、レール50により整列されたキュベット1から落ちた粉塵などの不純物を静電気で引き付け、収集ボックス21の中に引き込む(図5のステップS502)。 Next, in the cuvette transporting device 100 , the placement unit 20 aligns the cuvettes 1 supplied from the storage unit 10 with the rails 50 to supply the cuvettes 1 to the transporting unit 30 in a predetermined posture. For example, the arranging unit 20 aligns the cuvettes 1 with the rails 50 when lowered to the lower position, and sequentially supplies the cuvettes 1 in the rails 50 to the transport unit 30 when raised to the higher position. Here, in the placement unit 20 , by activating the discharge circuit 22 , the collecting box 21 is used to electrostatically attract impurities such as dust falling from the cuvettes 1 aligned by the rails 50 , into the collecting box 21 . Pull in (step S502 in FIG. 5).

次に、粉塵などの不純物を除去されたキュベット1が搬送ユニット30のレール30Aに並べられることで(図5のステップS503)、搬送ユニット30が、配置ユニット20から供給されたキュベット1の姿勢をそのまま保持して反応ディスク60に搬送する(図5のステップS504)。次に、分析装置70では、注入機構により、反応ディスク60上のキュベット1に対し試料を注入し、測定機構により、キュベット1内の液体を測定することによって、試料に対する様々な分析を行う(図5のステップS505)。 Next, the cuvettes 1 from which impurities such as dust have been removed are arranged on the rails 30A of the transport unit 30 (step S503 in FIG. 5), so that the transport unit 30 changes the attitude of the cuvettes 1 supplied from the arrangement unit 20. It is held as it is and transported to the reaction disk 60 (step S504 in FIG. 5). Next, in the analyzer 70, the injection mechanism injects the sample into the cuvette 1 on the reaction disk 60, and the measurement mechanism measures the liquid in the cuvette 1, thereby performing various analyzes on the sample (Fig. 5 step S505).

以上の説明により、第1の実施形態に係る自動分析装置200では、キュベット搬送装置100でキュベット1を搬送する過程において、粉塵などの不純物を除去することで、粉塵などの不純物がキュベット1に混入しない。このため、第1の実施形態に係る自動分析装置200では、分析装置70が行う分析結果に影響がなく、分析精度が向上する。 As described above, in the automatic analyzer 200 according to the first embodiment, impurities such as dust are removed from the cuvette 1 during the process of transporting the cuvette 1 by the cuvette transporting device 100 . do not. Therefore, in the automatic analyzer 200 according to the first embodiment, there is no influence on the analysis results performed by the analyzer 70, and the analysis accuracy is improved.

例えば、第1の実施形態に係る自動分析装置200では、収納ユニット10のケージング13内に、キュベット1に付いた静電気を金属の伝導作用により除去するための静電気除去構造10A(仕切り板11およびブラシ12)を設けることにより、キュベット搬送装置100でキュベット1を搬送する過程において、粉塵などの不純物を除去することができる。 For example, in the automatic analyzer 200 according to the first embodiment, the static electricity removing structure 10A (partition plate 11 and brush By providing 12), impurities such as dust can be removed in the process of transporting the cuvette 1 by the cuvette transporting device 100 .

また、例えば、第1の実施形態に係る自動分析装置200では、配置ユニット20のキュベット1を移送する経路(レール50及び移動機構を収納するケージング20B)の下方に、静電気を利用して粉塵などの不純物を引き付ける作用を発生させる静電気除去構造20A(収集ボックス21および放電回路22)を設けることにより、キュベット搬送装置100でキュベット1を搬送する過程において、粉塵などの不純物を除去することができる。 Further, for example, in the automatic analyzer 200 according to the first embodiment, static electricity is used to disperse dust and the like below the path (the rail 50 and the casing 20B that houses the moving mechanism) for transferring the cuvettes 1 of the placement unit 20. By providing the static electricity removal structure 20A (the collection box 21 and the discharge circuit 22) that attracts impurities, impurities such as dust can be removed in the process of transporting the cuvettes 1 by the cuvette transporter 100.

このように、第1の実施形態に係る自動分析装置200によれば、分析精度を向上させることができる。 Thus, according to the automatic analyzer 200 according to the first embodiment, analysis accuracy can be improved.

(第1の実施形態の変形例1)
第1の実施形態に係る自動分析装置200では、キュベット搬送装置100の配置ユニット20において、キュベット1を移送する経路(レール50及び移動機構を収納するケージング20B)の下方に、静電気を利用して粉塵などの不純物を引き付ける作用を発生させる収集ボックス21および放電回路22を備える静電気除去構造20Aが設けられているが、これに限定されない。例えば、配置ユニット20の静電気除去構造20Aは、放電回路22を備えず、収集ボックス21のみを備えてもよい。この場合でも、静電気除去構造20Aは、収集ボックス21のみを利用して、キュベット1を搬送する過程においてキュベット1から落ちた粉塵などの不純物を収集することができる。
(Modification 1 of the first embodiment)
In the automatic analyzer 200 according to the first embodiment, in the arrangement unit 20 of the cuvette transporting device 100, static electricity is used below the path for transporting the cuvette 1 (the rail 50 and the casing 20B for housing the moving mechanism). A static eliminator structure 20A is provided comprising a collection box 21 and a discharge circuit 22 that act to attract impurities such as but not limited to dust. For example, the static electricity removal structure 20A of the placement unit 20 may not include the discharge circuit 22 and may include only the collection box 21 . Even in this case, the static electricity removal structure 20A can collect impurities such as dust particles dropped from the cuvette 1 during the process of transporting the cuvette 1 using only the collection box 21 .

また、第1の実施形態に係る自動分析装置200では、静電気除去構造20Aは、キュベット搬送装置100の配置ユニット20に設けられているが、収納ユニット10に設けられてもよい。具体的には、静電気除去構造20A(収集ボックス21と放電回路22)が、収納ユニット10における静電気除去構造10Aのキュベット1を収容するケージング13の下方に設けられ、当該ケージング13の底部には貫通孔が設けられる。この場合、収納ユニット10において、静電気除去構造10A(仕切り板11およびブラシ12)により、キュベット1から落ちた粉塵などの不純物を、静電気除去構造20A(収集ボックス21、放電回路22)内に引き付けることができる。 Moreover, in the automatic analyzer 200 according to the first embodiment, the static electricity removal structure 20A is provided in the placement unit 20 of the cuvette transport device 100, but may be provided in the storage unit 10. FIG. Specifically, the static electricity removal structure 20A (the collection box 21 and the discharge circuit 22) is provided below the casing 13 that houses the cuvette 1 of the static electricity removal structure 10A in the storage unit 10, and the bottom of the casing 13 A hole is provided. In this case, in the storage unit 10, the static electricity removal structure 10A (partition plate 11 and brush 12) attracts impurities such as dust falling from the cuvette 1 into the static electricity removal structure 20A (collection box 21, discharge circuit 22). can be done.

また、第1の実施形態に係る自動分析装置200では、キュベット搬送装置100に静電気除去構造10Aと静電気除去構造20Aとが設けられているが、例えば、静電気除去構造20A(収集ボックス21と放電回路22)が設けられなくてもよい。この場合でも、収納ユニット10において、静電気除去構造10A(金属製の仕切り板11および導電性のブラシ12)により、キュベット1に付いた静電気を金属の伝導作用により除去することができる。 Further, in the automatic analyzer 200 according to the first embodiment, the static electricity removal structure 10A and the static electricity removal structure 20A are provided in the cuvette transport device 100. For example, the static electricity removal structure 20A (the collection box 21 and the discharge circuit 22) may not be provided. Even in this case, in the storage unit 10, static electricity attached to the cuvette 1 can be removed by the conductive action of the metal by the static electricity removal structure 10A (metal partition plate 11 and conductive brush 12).

また、第1の実施形態に係る自動分析装置200では、収納ユニット10の静電気除去構造10Aは、ブラシ12を備えず、仕切り板11のみを備えてもよい。この場合でも、静電気除去構造10Aは、金属製の仕切り板11のみを利用して、キュベット1を搬送する過程においてキュベット1が仕切り板11とぶつかることにより、キュベット1に付いた静電気を金属の伝導作用により除去することができる。 Moreover, in the automatic analyzer 200 according to the first embodiment, the static electricity removal structure 10A of the storage unit 10 may not include the brush 12 and may include only the partition plate 11 . Even in this case, the static electricity removal structure 10A utilizes only the metal partition plate 11, and the cuvette 1 collides with the partition plate 11 in the process of transporting the cuvette 1, so that the static electricity attached to the cuvette 1 is dissipated through metal conduction. It can be removed by action.

また、第1の実施形態に係る自動分析装置200では、例えば、静電気除去構造10Aが設けられなくてもよい。この場合、配置ユニット20において、静電気除去構造20A(収集ボックス21、放電回路22)により、キュベット1に付いた静電気を金属の伝導作用により除去する。 Moreover, in the automatic analyzer 200 according to the first embodiment, for example, the static electricity removing structure 10A may not be provided. In this case, in the arrangement unit 20, static electricity attached to the cuvette 1 is removed by the conductive action of the metal by the static electricity removal structure 20A (collection box 21, discharge circuit 22).

(第1の実施形態の変形例2)
さらに、第1の実施形態に係る自動分析装置200では、収納ユニット10の静電気除去構造10Aにおいて、キュベット1を収容するケージング13内に、互いに平行であり且つ上下に延びた金属製の仕切り板11が3つ設けられているが、静電気除去構造10Aは、静電気を除去することができれば、複数の仕切り板11が設けられた構造に限定されず、他の構造を用いても良い。
(Modification 2 of the first embodiment)
Furthermore, in the automatic analyzer 200 according to the first embodiment, in the static electricity removal structure 10A of the storage unit 10, the metal partition plates 11 extending vertically and parallel to each other are provided in the casing 13 for accommodating the cuvettes 1. However, the static electricity removal structure 10A is not limited to the structure provided with the plurality of partition plates 11, and other structures may be used as long as the static electricity can be removed.

例えば、図6Aは、第1の実施形態に係る自動分析装置200におけるキュベット搬送装置100の収納ユニット10に設けられた静電気除去構造10Aの変形例として、当該静電気除去構造10Aの一部を示す概略図である。図6Bは、図6Aの静電気除去構造10Aを示す斜視図である。 For example, FIG. 6A schematically shows a part of the static electricity removal structure 10A as a modification of the static electricity removal structure 10A provided in the storage unit 10 of the cuvette transport device 100 in the automatic analyzer 200 according to the first embodiment. It is a diagram. FIG. 6B is a perspective view showing the static electricity removal structure 10A of FIG. 6A.

収納ユニット10の静電気除去構造10Aは、複数の回転軸14、複数のブラシ15を備える。即ち、本変形例では、静電気除去構造10Aは、上述した複数の仕切り板11、複数のブラシ12に代えて、複数の回転軸14、複数のブラシ15を備える。複数の回転軸14、複数のブラシ15は、キュベット1が収納されるケージング13内に設けられる。 The static electricity removal structure 10</b>A of the storage unit 10 includes a plurality of rotating shafts 14 and a plurality of brushes 15 . That is, in this modification, the static electricity removal structure 10A includes a plurality of rotating shafts 14 and a plurality of brushes 15 instead of the plurality of partition plates 11 and the plurality of brushes 12 described above. A plurality of rotating shafts 14 and a plurality of brushes 15 are provided within a casing 13 in which the cuvette 1 is accommodated.

例えば、複数の回転軸14は、金属からなる。具体的には、図6A、図6Bに示すように、ケージング13内に、複数の回転軸14として3つの金属製の回転軸14が、並行に設けられる。なお、図6Bでは3つの回転軸14を示しているが、回転軸14の数は3つでなくてもよく、収納ユニット10のケージング13の大きさに応じて適宜変更することができる。例えば、複数のブラシ15の各々は、回転軸14に設けられる。具体的には、各ブラシ15は、一端部が回転軸14に固定されて、他端部が回転軸14から回転軸14の周方向に外へ延びるように設けられる。ブラシ15は、例えば、導電性繊維、カーボンファイバーなどの導電性材料からなる。収納ユニット10の静電気除去構造10Aでは、ケージング13内において、回転軸14は、キュベット1がブラシ15を通過するように設けられる。 For example, the multiple rotating shafts 14 are made of metal. Specifically, as shown in FIGS. 6A and 6B , three metal rotating shafts 14 are provided in parallel as a plurality of rotating shafts 14 in the casing 13 . Although three rotating shafts 14 are shown in FIG. 6B, the number of rotating shafts 14 does not have to be three, and can be changed as appropriate according to the size of the casing 13 of the storage unit 10 . For example, each of the plurality of brushes 15 is provided on the rotating shaft 14 . Specifically, each brush 15 is provided so that one end is fixed to the rotating shaft 14 and the other end extends outward from the rotating shaft 14 in the circumferential direction of the rotating shaft 14 . The brush 15 is made of a conductive material such as conductive fiber or carbon fiber. In the static electricity removal structure 10 A of the storage unit 10 , the rotating shaft 14 is provided within the casing 13 so that the cuvette 1 passes through the brush 15 .

このような構造によれば、操作者又は投入装置によって収納ユニット10にキュベット1を投入する場合、キュベット1は、図6A、図6Bに示すように、下へ移動する過程において、ブラシ15と接触することで、キュベット1に付いた静電気が金属の伝導作用により除去される。よって、キュベット1に付着した粉塵などの不純物はキュベット1からより落ち易くなる。 According to this structure, when the cuvette 1 is loaded into the storage unit 10 by the operator or the loading device, the cuvette 1 comes into contact with the brush 15 in the process of moving downward as shown in FIGS. 6A and 6B. By doing so, the static electricity attached to the cuvette 1 is removed by the conductive action of the metal. Therefore, impurities such as dust adhering to the cuvette 1 can be easily removed from the cuvette 1 .

ここで、収納ユニット10の静電気除去構造10Aは、回転軸14に対して駆動機構を設置し、回転軸14を回転させても良い。具体的には、静電気除去構造10Aは、更に、キュベット1がブラシ15を通過する際に回転軸14が回転するように、回転軸14を駆動する駆動機構を備えてもよい。ここで、駆動機構は、「回転軸駆動部」の一例である。 Here, the static electricity removing structure 10A of the storage unit 10 may be provided with a drive mechanism for the rotating shaft 14 to rotate the rotating shaft 14 . Specifically, the static electricity removal structure 10A may further include a drive mechanism that drives the rotating shaft 14 so that the rotating shaft 14 rotates when the cuvette 1 passes the brush 15 . Here, the drive mechanism is an example of a "rotating shaft drive section".

これにより、静電気除去構造10Aは、キュベット1が、ケージング13と回転軸14との間や、2つの回転軸14の間に落ちることを促進し、キュベット1に付着した粉塵などの不純物を除去することも促進することができる。 As a result, the static electricity removal structure 10A promotes the cuvette 1 to fall between the casing 13 and the rotating shaft 14 or between the two rotating shafts 14, thereby removing impurities such as dust adhering to the cuvette 1. can also be promoted.

なお、収納ユニット10の静電気除去構造10Aにおいて、仕切り板11または回転軸14は、金属でなくてもよく、キュベット1に付いた静電気を除去することが可能であれば、他の材料であっても良い。 In addition, in the static electricity removal structure 10A of the storage unit 10, the partition plate 11 or the rotating shaft 14 may not be made of metal, and may be made of other materials as long as the static electricity attached to the cuvette 1 can be removed. Also good.

(第2の実施形態)
以下、図7~図11を参照しながら、第2の実施形態について説明する。
(Second embodiment)
The second embodiment will be described below with reference to FIGS. 7 to 11. FIG.

図7は、第2の実施形態に係る自動分析装置200におけるキュベット搬送装置100の構造を示す全体的概略図である。図7では、第2の実施形態におけるキュベット搬送装置100の各構成について説明を行い、分析装置70などの他の構成についての説明を省略する。 FIG. 7 is an overall schematic diagram showing the structure of the cuvette transport device 100 in the automatic analyzer 200 according to the second embodiment. In FIG. 7, each configuration of the cuvette transport device 100 in the second embodiment will be described, and description of other configurations such as the analysis device 70 will be omitted.

図7に示すように、第2の実施形態に係るキュベット搬送装置100は、順次に接続された収納ユニット10a、配置ユニット20aおよび搬送ユニット30aを備え、キュベット1を収納ユニット10aから、配置ユニット20aおよび搬送ユニット30a経由で反応ディスク60に搬送する。 As shown in FIG. 7, the cuvette transporting device 100 according to the second embodiment comprises a storage unit 10a, a placement unit 20a and a transport unit 30a which are connected in sequence, and the cuvette 1 is transferred from the storage unit 10a to the placement unit 20a. and transported to the reaction disk 60 via the transport unit 30a.

ここで、収納ユニット10a、配置ユニット20aおよび搬送ユニット30aは、それぞれ、第1の実施形態における収納ユニット10、配置ユニット20および搬送ユニット30に相当する。 Here, the storage unit 10a, the placement unit 20a, and the transport unit 30a correspond to the storage unit 10, the placement unit 20, and the transport unit 30 in the first embodiment, respectively.

まず、第2の実施形態における収納ユニット10aについて、図7を用いて説明する。 First, a storage unit 10a according to the second embodiment will be described with reference to FIG.

収納ユニット10aの主体構造は、上方が開口したケージング13であり、空きのキュベット1が収納ユニット10aの上方にある開口から収納ユニット10aに投入されることで、収納ユニット10aで一時的に収納される。ケージング13の下面には、配置ユニット20aに向いて傾斜した斜面が形成されることで、キュベット1は配置ユニット20a側へ移動する。 The main structure of the storage unit 10a is a casing 13 with an upper opening, and an empty cuvette 1 is temporarily stored in the storage unit 10a by being thrown into the storage unit 10a through an opening above the storage unit 10a. be. The cuvette 1 is moved toward the placement unit 20a by forming a sloping surface on the lower surface of the casing 13 toward the placement unit 20a.

具体的には、収納ユニット10aは、少なくとも、キュベット1が収納されるケージング13を備える。ここで、第2の実施形態では、以下に説明する配置ユニット20aの構成により、収納ユニット10aにおいて、上下方向に移動することによりキュベット1を取り出して配置ユニット20に落とす分離器と、分離器を上下方向に移動させる移動機構と、分離器及び移動機構を収納するケージングとが不要となる。 Specifically, the storage unit 10a includes at least a casing 13 in which the cuvette 1 is stored. Here, in the second embodiment, due to the configuration of the placement unit 20a described below, the storage unit 10a has a separator that moves vertically to take out the cuvette 1 and drop it into the placement unit 20, and a separator. A moving mechanism for vertical movement and a casing for housing the separator and the moving mechanism are not required.

次に、第2の実施形態における配置ユニット20aについて、図7、図8を用いて説明する。 Next, an arrangement unit 20a according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 7 and 8. FIG.

配置ユニット20aは、収納ユニット10aと搬送ユニット30aとの間に接続されている。配置ユニット20aの主体は、鉛直方向に沿う中心軸を周りに螺旋上昇することができるコンベヤーベルトであり、当該コンベヤーベルトは、収納ユニット10aに収納されたキュベット1を輸送ユニット30aに順次に並べるために用いられる。 The placement unit 20a is connected between the storage unit 10a and the transport unit 30a. The main body of the arranging unit 20a is a conveyor belt that can spirally rise around a central axis along the vertical direction. used for

具体的には、配置ユニット20aは、コンベヤーベルト24と、モータ24Aと、コンベヤーベルト24及びモータ24Aを収納するケージングとを備える。即ち、配置ユニット20aは、第1の実施形態におけるレール50と、レール50を上下方向に移動させる移動機構と、レール50及び移動機構を収納するケージングとに代えて、コンベヤーベルト24と、モータ24Aとを備える。 Specifically, the placement unit 20a includes a conveyor belt 24, a motor 24A, and a casing that houses the conveyor belt 24 and the motor 24A. That is, the arrangement unit 20a includes a conveyor belt 24 and a motor 24A instead of the rail 50, the moving mechanism for vertically moving the rail 50, and the casing for housing the rail 50 and the moving mechanism in the first embodiment. and

コンベヤーベルト24の下方に、モータ24Aが接続されており、モータ24Aによる駆動に応じて、コンベヤーベルト24が中心軸を周りに螺旋上昇することができる。例えば、収納ユニット10aのケージング13と配置ユニット20aのケージングとの間には、キュベット1が通過できる開口が設けられ、収納ユニット10aのケージング13の下面には、配置ユニット20aに向いて傾斜した斜面が形成されることで、キュベット1が配置ユニット20a側へ移動する。このため、収納ユニット10aの中に乱雑に収納されたキュベット1が配置ユニット20aの下部に蓄積する。ここで、配置ユニット20a内でコンベヤーベルト24の上に落ちたキュベット1は、コンベヤーベルト24の螺旋上昇運動に従い、上に向かって螺旋移動する。 A motor 24A is connected to the lower part of the conveyor belt 24, and the conveyor belt 24 can spirally rise around the central axis in response to the drive by the motor 24A. For example, an opening through which the cuvette 1 can pass is provided between the casing 13 of the storage unit 10a and the casing of the arrangement unit 20a. is formed, the cuvette 1 moves toward the arrangement unit 20a. Therefore, the cuvettes 1 randomly stored in the storage unit 10a are accumulated under the placement unit 20a. Here, the cuvette 1 dropped onto the conveyor belt 24 in the arrangement unit 20a follows the spiral upward movement of the conveyor belt 24 and spirally moves upward.

このように、第2の実施形態では、配置ユニット20aがコンベヤーベルト24、モータ24Aを備えることにより、例えば、収納ユニット10aは、少なくとも、キュベット1が収納されるケージング13を備えていればよく、上下方向に移動することによりキュベット1を取り出して配置ユニット20に落とす分離器と、分離器を上下方向に移動させる移動機構と、分離器及び移動機構を収納するケージングとが不要となる。 Thus, in the second embodiment, the arrangement unit 20a includes the conveyor belt 24 and the motor 24A. The vertical movement eliminates the need for a separator for taking out the cuvette 1 and dropping it into the placement unit 20, a moving mechanism for moving the separator vertically, and a casing for housing the separator and the moving mechanism.

図8は、第2の実施形態に係る自動分析装置200におけるキュベット搬送装置100の配置ユニット20aの構造を示す概略図である。また、図8の右上には、コンベヤーベルト24の正面図が示されており、図8の左下には、コンベヤーベルト24の俯瞰図が示されている。 FIG. 8 is a schematic diagram showing the structure of the arrangement unit 20a of the cuvette transporting device 100 in the automatic analyzer 200 according to the second embodiment. A front view of the conveyor belt 24 is shown in the upper right of FIG. 8, and a bird's-eye view of the conveyor belt 24 is shown in the lower left of FIG.

コンベヤーベルト24は、モータ24Aによる作用の下で、鉛直方向の中心軸を周りに螺旋上昇な経路を形成する。ここで、コンベヤーベルト24が形成する経路は、螺旋上昇レールとして機能する。コンベヤーベルト24の表面には、一定の摩擦力を有する材料が用いられる。例えば、配置ユニット20aの下部に蓄積したキュベット1(例えば、図7のキュベット1A)がコンベヤーベルト24の螺旋上昇レールに乗ると、当該キュベット1がコンベヤーベルト24の螺旋上昇運動に従って螺旋上昇する。続いて、配置ユニット20aの下部に蓄積した別のキュベット1(例えば、図7のキュベット1B)がコンベヤーベルト24の螺旋上昇レールに乗った場合、当該キュベット1がコンベヤーベルト24の螺旋上昇運動に従って螺旋上昇する。一方、配置ユニット20aの下部に蓄積したキュベット1(例えば、図7のキュベット1C)がコンベヤーベルト24の螺旋上昇レールに乗れない場合には、当該キュベット1は、配置ユニット20aの下部に落ち戻る。 Conveyor belt 24 forms a helical ascending path around a vertical central axis under the action of motor 24A. Here, the path formed by the conveyor belt 24 functions as a spiral ascending rail. A material having a constant frictional force is used for the surface of the conveyor belt 24 . For example, when the cuvette 1 (for example, the cuvette 1A in FIG. 7) accumulated in the lower portion of the placement unit 20a rides on the spiral ascending rail of the conveyor belt 24, the cuvette 1 spirally ascends according to the spiral ascending motion of the conveyor belt 24. Subsequently, when another cuvette 1 (for example, the cuvette 1B in FIG. 7) accumulated in the lower part of the placement unit 20a rides on the spiral ascending rail of the conveyor belt 24, the cuvette 1 spirals according to the spiral ascending motion of the conveyor belt 24. Rise. On the other hand, if the cuvette 1 (eg, cuvette 1C in FIG. 7) accumulated in the lower portion of the placement unit 20a cannot ride on the spiral ascending rail of the conveyor belt 24, the cuvette 1 falls back to the lower portion of the placement unit 20a.

また、コンベヤーベルト24は、金属材料からなる、または、接地されることで、例えば第1の実施形態における静電気除去機構20Aと同様に、当該コンベヤーベルト24上に搬送されたキュベット1の静電気を除去することができる。 In addition, the conveyor belt 24 is made of a metal material or is grounded to remove static electricity from the cuvette 1 transported on the conveyor belt 24, for example, in the same manner as the static electricity removal mechanism 20A in the first embodiment. can do.

更に、配置ユニット20aは、所定の長さを有するレール25を備える。レール25は、コンベヤーベルト24の頂部に設けられる。レール25は、キュベット1を整列させるために、所定距離だけ離間して配置されたレール25a、25bである。ここで、所定距離は、キュベット1のフランジよりも短く、キュベット1の胴体部の外径よりも長い。この形状により、キュベット1が順次にコンベヤーベルト24の螺旋上昇運動に従ってコンベヤーベルト24の頂部に上昇した際に、キュベット1(例えば、図7、図8のキュベット1D)の胴体部は、一定の確率でレール25aとレール25bとの間に落ちて、レール25に挟まれ、キュベット1の開口が上へ向く状態として、当該キュベット1がレール25上を移動する。一方、レール25aとレール25bとの間に入っていないキュベット1(図8のキュベット1E)は、配置ユニット20aの下部に落ち戻る。 Furthermore, the placement unit 20a comprises rails 25 having a predetermined length. A rail 25 is provided on top of the conveyor belt 24 . The rails 25 are rails 25a, 25b spaced apart by a predetermined distance to align the cuvettes 1 . Here, the predetermined distance is shorter than the flange of the cuvette 1 and longer than the outer diameter of the body of the cuvette 1 . Due to this shape, when the cuvette 1 sequentially follows the helical upward movement of the conveyor belt 24 and rises to the top of the conveyor belt 24, the body of the cuvette 1 (eg, cuvette 1D in FIGS. 7 and 8) has a certain probability of The cuvette 1 falls between the rails 25a and 25b, is sandwiched between the rails 25, and moves on the rails 25 with the opening of the cuvette 1 facing upward. On the other hand, the cuvette 1 (cuvette 1E in FIG. 8) that is not between the rails 25a and 25b falls back to the bottom of the placement unit 20a.

配置ユニット20aにおいて、レール25は、搬送ユニット30aのレールと繋げられている。これにより、配置ユニット20aは、キュベット1を、当該キュベット1の開口が上へ向く状態で、搬送ユニット30aに渡すことができる。即ち、配置ユニット20aは、コンベヤーベルト24、モータ24A、レール25を備えることにより、キュベット1が軸周りに螺旋上昇可能な経路を形成しており、当該経路上でキュベット1を螺旋上昇させた後、所定の姿勢で並べ、搬送ガイドレール31に順次に送ることができる。ここで、配置ユニット20aは、「容器配置機構」の一例である。 In the arrangement unit 20a, the rail 25 is connected with the rail of the transport unit 30a. As a result, the placement unit 20a can transfer the cuvette 1 to the transport unit 30a with the opening of the cuvette 1 facing upward. That is, the placement unit 20a is provided with a conveyor belt 24, a motor 24A, and a rail 25, thereby forming a path through which the cuvette 1 can spirally ascend around the axis. , can be arranged in a predetermined posture and sent to the transport guide rail 31 in sequence. Here, the arranging unit 20a is an example of a "container arranging mechanism."

次に、第2の実施形態における搬送ユニット30aについて、図7、図9を用いて説明する。 Next, a transport unit 30a according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 7 and 9. FIG.

搬送ユニット30aは、キュベット1を搬送することで、反応ディスク60内で分析が行われるように、キュベット1を、移送先である分析装置70の反応ディスク60の所定位置に移送する。 By transporting the cuvette 1, the transport unit 30a transports the cuvette 1 to a predetermined position of the reaction disk 60 of the analysis device 70, which is the transport destination, so that analysis is performed in the reaction disk 60. FIG.

具体的には、搬送ユニット30aは、搬送ガイドレール31と、挟みユニット35とを備える。即ち、搬送ユニット30aは、第1の実施形態におけるレール30Aに代えて、搬送ガイドレール31と、挟みユニット35とを備える。 Specifically, the conveying unit 30 a includes a conveying guide rail 31 and a clamping unit 35 . That is, the transport unit 30a includes a transport guide rail 31 and a clamping unit 35 instead of the rail 30A in the first embodiment.

搬送ガイドレール31は、配置ユニット20aのレール25と繋がるレールである。搬送ガイドレール31は、キュベット1を移送先(反応ディスク60)に搬送する搬送経路において、配置ユニット20aからキュベット1の開口が上へ向く状態で当該キュベット1を受け取り、当該搬送経路による搬送により、キュベット1の姿勢を、当該キュベット1の開口が下へ向く状態へ転換させる。ここで、搬送ガイドレール31は、「容器方向転換ユニット」の一例である。 The transport guide rail 31 is a rail connected to the rail 25 of the arrangement unit 20a. The transport guide rail 31 receives the cuvette 1 from the arranging unit 20a on the transport path for transporting the cuvette 1 to the transport destination (reaction disk 60) with the opening of the cuvette 1 facing upward. The posture of the cuvette 1 is changed to a state in which the opening of the cuvette 1 faces downward. Here, the transport guide rail 31 is an example of a "container direction changing unit".

搬送ガイドレール31は、搬送経路において、キュベット1の開口が下へ向く状態にキュベット1の姿勢を転換することにより、キュベット1内の粉塵などの不純物を落ち易くする。また、搬送ガイドレール31は、接地されることで、静電気除去機構を構成する。即ち、搬送ガイドレール31は、搬送経路上のキュベット1の静電気を除去することができる。 The transport guide rail 31 changes the position of the cuvette 1 so that the opening of the cuvette 1 faces downward in the transport path, thereby making it easier to remove dust and other impurities inside the cuvette 1 . Further, the transport guide rail 31 is grounded to constitute a static electricity removal mechanism. That is, the transport guide rail 31 can remove static electricity from the cuvette 1 on the transport path.

挟みユニット35は、搬送ガイドレール31の搬送経路の末端に設けられる。挟みユニット35は、搬送ガイドレール31から、開口が下へ向く状態のキュベット1を受け取り、当該キュベット1を挟む。そして、挟みユニット35は、キュベット1の開口が上へ向く状態になるように、キュベット1を反転させる。その後、挟みユニット35は、反応ディスク60の所定位置に送り込む。 The clamping unit 35 is provided at the end of the conveying path of the conveying guide rail 31 . The clamping unit 35 receives the cuvette 1 with the opening facing downward from the transport guide rail 31 and clamps the cuvette 1 . Then, the clamping unit 35 reverses the cuvette 1 so that the opening of the cuvette 1 faces upward. After that, the clamping unit 35 feeds the reaction disk 60 to a predetermined position.

図9は、第2の実施形態に係る自動分析装置200におけるキュベット搬送装置100の搬送ユニット30aの搬送経路を形成する搬送ガイドレール31を示す概略図である。図9に示すように、搬送ガイドレール31は、複数の搬送経路において、複数のガイドレールを有する。例えば、搬送ガイドレール31は、キュベット1を複数のガイドレールによって同時に当接することで、キュベット1を所定の姿勢で複数のガイドレールに沿って移動させる。 FIG. 9 is a schematic diagram showing the transport guide rail 31 forming the transport path of the transport unit 30a of the cuvette transport device 100 in the automatic analyzer 200 according to the second embodiment. As shown in FIG. 9, the transport guide rail 31 has a plurality of guide rails in a plurality of transport paths. For example, the transport guide rail 31 moves the cuvette 1 in a predetermined posture along the guide rails by simultaneously contacting the cuvette 1 with a plurality of guide rails.

図9に示す例では、搬送ガイドレール31は、複数のガイドレールとして、3本のガイドレール31a、31b、31cを有する。例えば、搬送ガイドレール31は、複数のガイドレールとして、キュベット1の開口位置に当接するガイドレール31c、および、キュベット1の頭部を挟む少なくとも2本のガイドレール31a、31bを含む。 In the example shown in FIG. 9, the transport guide rail 31 has three guide rails 31a, 31b, and 31c as a plurality of guide rails. For example, the transport guide rail 31 includes, as a plurality of guide rails, a guide rail 31c that abuts on the opening position of the cuvette 1, and at least two guide rails 31a and 31b that sandwich the head of the cuvette 1.

具体的には、ガイドレール31aとガイドレール31bとが配置ユニット20aのレール25と繋がっていることで、配置ユニット20aのコンベヤーベルト24から送られてきたキュベット1が、レール25を通って、ガイドレール31aとガイドレール31bとの間に落ちる。このとき、ガイドレール31aとガイドレール31bとがそれぞれキュベット1の頭部の両側で挟むことにより、キュベット1がガイドレール31aとガイドレール31bとの間から落ちることを防ぐ。ここで、図9のB-B断面に示すように、キュベット1の胴体部1aの開口側にはフランジ1bが形成されていて、ガイドレール31aとガイドレール31bとは、所定距離だけ離間して配置される。所定距離は、キュベット1のフランジ1bよりも短く、キュベット1の胴体部1aの外径よりも長い。キュベット1の頭部とは、例えば、キュベット1の胴体部1aのフランジ1b側の部分であり、ガイドレール31aとガイドレール31bとが、キュベット1の胴体部1aを挟みながら、当該キュベット1のフランジ1bに当接することで、キュベット1の頭部を挟む。 Specifically, since the guide rails 31a and 31b are connected to the rails 25 of the placement unit 20a, the cuvettes 1 sent from the conveyor belt 24 of the placement unit 20a pass through the rails 25 and pass through the guide rails 25. It falls between the rail 31a and the guide rail 31b. At this time, the cuvette 1 is prevented from falling from between the guide rails 31a and 31b by sandwiching the head of the cuvette 1 between the guide rails 31a and 31b. Here, as shown in the BB section of FIG. 9, a flange 1b is formed on the opening side of the body portion 1a of the cuvette 1, and the guide rails 31a and 31b are separated by a predetermined distance. placed. The predetermined distance is shorter than the flange 1 b of the cuvette 1 and longer than the outer diameter of the body 1 a of the cuvette 1 . The head portion of the cuvette 1 is, for example, a portion of the body portion 1a of the cuvette 1 on the side of the flange 1b. The head of the cuvette 1 is sandwiched by contact with 1b.

また、ガイドレール31aとガイドレール31bとが、キュベット1の胴体部1aを挟みながら、キュベット1のフランジ1bに当接する状態で、ガイドレール31cがキュベット1の開口位置に当接することで、キュベット1が傾斜または逆立ちになる時に落ちることを防ぐ。そのため、キュベット1が、開口が上へ向く状態でガイドレール31aとガイドレール31bとの間に位置した経路で、ガイドレール31cを設けず、キュベット1が落ちる可能性がある箇所のみに、ガイドレール31cを設けても良い。また、搬送経路全体をわたってガイドレール31cを設けることで、ガイドレール31a、31bおよび31cを合わせてキュベット1の位置を3本のガイドレール31a、31b、31cで囲まれた空間の中に固定しても良い。 The guide rail 31a and the guide rail 31b are in contact with the flange 1b of the cuvette 1 while sandwiching the body 1a of the cuvette 1, and the guide rail 31c is in contact with the opening position of the cuvette 1. Prevents falling when the is tilted or turned upside down. Therefore, in the path where the cuvette 1 is positioned between the guide rails 31a and 31b with the opening facing upward, the guide rails 31c are not provided, and the guide rails are provided only at locations where the cuvette 1 may fall. 31c may be provided. In addition, by providing the guide rail 31c over the entire transport path, the position of the cuvette 1 is fixed in the space surrounded by the three guide rails 31a, 31b, and 31c by combining the guide rails 31a, 31b, and 31c. You can

また、3本のガイドレール31a、31b、31cは螺旋形状になっており、キュベット1が配置ユニット20aから離れるに従って、ガイドレール31a、31b、31cによって同時に当接されたキュベット1の姿勢が、順次に、図9のB-B断面、C-C断面、D-D断面、E-E断面で示された姿勢に転換する。 The three guide rails 31a, 31b, and 31c have a spiral shape, and as the cuvette 1 moves away from the arrangement unit 20a, the posture of the cuvette 1 simultaneously contacted by the guide rails 31a, 31b, and 31c changes sequentially. 9, the posture is changed to that shown in the BB cross section, CC cross section, DD cross section, and EE cross section of FIG.

図9のB-B断面は、ガイドレール31a、31b、31cの搬送経路の始端となる位置である。図9のB-B断面では、ガイドレール31a、31b、31cは、キュベット1の姿勢を、当該キュベット1の開口が上へ向くように当接しており、この姿勢が配置ユニット20aから離れたばかりの姿勢である。 The BB cross section in FIG. 9 is the starting end of the transport path of the guide rails 31a, 31b, and 31c. In the BB section of FIG. 9, the guide rails 31a, 31b, and 31c are in contact with the cuvette 1 so that the opening of the cuvette 1 faces upward. Posture.

続いて、図9のC-C断面では、ガイドレール31a、31b、31cがキュベット1を時計回りに回転させ、当該キュベット1の開口が右上へ傾斜するような姿勢になる。 Subsequently, in the CC section of FIG. 9, the guide rails 31a, 31b, and 31c rotate the cuvette 1 clockwise, and the opening of the cuvette 1 is tilted to the upper right.

次に、図9のD-D断面では、ガイドレール31a、31b、31cがキュベット1をさらに時計回りに回転させ、当該キュベット1の開口が右下へ傾斜するような姿勢になる。 Next, in the DD section of FIG. 9, the guide rails 31a, 31b, and 31c further rotate the cuvette 1 clockwise, and the opening of the cuvette 1 is tilted downward and to the right.

また、図9のE-E断面は、ガイドレール31a、31b、31cの搬送経路の末端となる位置にある。図9のE-E断面では、ガイドレール31a、31b、31cがキュベット1の姿勢を、当該キュベット1の開口が下へ向く姿勢に当接している。即ち、キュベット1の開口が下へ向く状態にキュベット1の姿勢が転換される。 The EE section of FIG. 9 is at the end of the transport path of the guide rails 31a, 31b, and 31c. In the EE section of FIG. 9, the guide rails 31a, 31b, and 31c are in contact with the cuvette 1 so that the opening of the cuvette 1 faces downward. That is, the posture of the cuvette 1 is changed so that the opening of the cuvette 1 faces downward.

このように、第2の実施形態では、搬送ユニット30aが搬送ガイドレール31を備えることにより、キュベット1を搬送ガイドレール31で移送する際に、キュベット1の姿勢は、当該キュベット1の開口が下へ向く姿勢に転換されるので、キュベット1中の粉塵などの不純物をより落ち易くすることができる。 As described above, in the second embodiment, the transport unit 30a is provided with the transport guide rails 31, so that when the cuvette 1 is transported by the transport guide rails 31, the cuvette 1 is positioned so that the opening of the cuvette 1 is downward. Since the posture is changed to face toward the cuvette 1, impurities such as dust in the cuvette 1 can be more easily removed.

なお、ガイドレール31aがレール25aと繋がり、ガイドレール31bがレール25bと繋がり、両者も一体に形成された構造であっても良い。また、図9に示す例では、レール25の数がガイドレール31の数と一致していないが、レール25の数をガイドレール31の数と一致させることで、繋がりをよりスムーズにしても良い。 The guide rail 31a may be connected to the rail 25a, the guide rail 31b may be connected to the rail 25b, and both may be integrally formed. In addition, in the example shown in FIG. 9, the number of rails 25 does not match the number of guide rails 31, but by matching the number of rails 25 with the number of guide rails 31, the connection may be made smoother. .

図7の説明に戻る。 Returning to the description of FIG.

搬送ユニット30aは、更に、静電気除去ユニット32と、開閉扉33とを備える。静電気除去ユニット32と開閉扉33とは、搬送ガイドレール31の搬送経路の末端に設けられる。 The conveying unit 30a further includes a static elimination unit 32 and an opening/closing door 33. As shown in FIG. The static electricity removal unit 32 and the opening/closing door 33 are provided at the end of the transport path of the transport guide rail 31 .

静電気除去ユニット32は、図7における点線枠の拡大図に示すように、2つのブラシ付きの金属軸であり、複数の回転軸32A、複数のブラシ32Bを備える。なお、図7の静電気除去ユニット32を示す拡大図では、搬送ガイドレール31の図示を省略している。 As shown in the enlarged view of the dotted frame in FIG. 7, the static elimination unit 32 is a metal shaft with two brushes, and includes a plurality of rotating shafts 32A and a plurality of brushes 32B. Note that the illustration of the transport guide rail 31 is omitted in the enlarged view of the static electricity removing unit 32 in FIG. 7 .

例えば、複数の回転軸32Aは、金属からなる。具体的には、図7に示すように、複数の回転軸32Aとして2つの金属製の回転軸32Aが、平行に設けられる。例えば、複数のブラシ32Bの各々は、回転軸32Aに設けられる。具体的には、各ブラシ32Bは、一端部が回転軸32Aに固定されて、他端部が回転軸32Aから回転軸32Aの周方向に外へ延びるように設けられる。静電気除去ユニット32では、搬送ガイドレール31の搬送経路の末端において、回転軸32Aは、キュベット1がブラシ32Bを通過するように設けられる。ここで、静電気除去ユニット32は、「静電気除去部」の一例である。 For example, the multiple rotating shafts 32A are made of metal. Specifically, as shown in FIG. 7, two metal rotating shafts 32A are provided in parallel as a plurality of rotating shafts 32A. For example, each of the plurality of brushes 32B is provided on the rotating shaft 32A. Specifically, each brush 32B has one end fixed to the rotating shaft 32A and the other end extending outward from the rotating shaft 32A in the circumferential direction of the rotating shaft 32A. In the static electricity removal unit 32, at the end of the transport path of the transport guide rail 31, the rotating shaft 32A is provided so that the cuvette 1 passes through the brush 32B. Here, the static electricity removal unit 32 is an example of a "static electricity removal section."

このような構造によれば、開口が下へ向く姿勢であるキュベット1は、2つの金属製の回転軸32Aの間を通過する過程において、ブラシ32Bと接触することにより、キュベット1に付いた静電気が金属の伝導作用により除去される。そのため、キュベット1に吸着した粉塵などの不純物がキュベット1からより落ち易くなる。 According to such a structure, the cuvette 1 with its opening facing downward comes into contact with the brush 32B in the process of passing between the two metal rotating shafts 32A, thereby removing static electricity from the cuvette 1. is removed by the conductive action of the metal. Therefore, impurities such as dust adsorbed to the cuvette 1 are more easily removed from the cuvette 1 .

ここで、静電気除去ユニット32は、回転軸32Aに対して駆動機構を設置し、回転軸32Aを回転させても良い。具体的には、静電気除去ユニット32は、更に、キュベット1がブラシ32Bを通過する際に回転軸32Aが回転するように、回転軸32Aを駆動する駆動機構を備えてもよい。ここで、駆動機構は、「回転軸駆動部」の一例である。 Here, the static electricity removal unit 32 may install a drive mechanism with respect to 32 A of rotating shafts, and may rotate 32 A of rotating shafts. Specifically, the static electricity removal unit 32 may further include a drive mechanism that drives the rotating shaft 32A so that the rotating shaft 32A rotates when the cuvette 1 passes the brush 32B. Here, the drive mechanism is an example of a "rotating shaft drive section".

これにより、静電気除去ユニット32は、キュベット1に付着した粉塵などの不純物を除去することを促進することができる。 Thereby, the static electricity removal unit 32 can facilitate removal of impurities such as dust adhering to the cuvette 1 .

また、開閉扉33は、搬送ガイドレール31の搬送経路の末端に設けられ、例えば、静電気除去ユニット32の後段に設けられる。開閉扉33は、搬送ガイドレール31からキュベット1を受け取り、一時的に支持し、挟みユニット35が開閉扉33の対向する位置に来た際に、開閉扉33が開き、キュベット1が挟みユニット35の位置に落ちて挟みユニット35によって挟まれる。挟みユニット35が開閉扉33の対向する位置に来ていない場合、開閉扉33が閉じてキュベット1の落ちることを阻止する。 Further, the opening/closing door 33 is provided at the end of the transport path of the transport guide rail 31, for example, after the static electricity removal unit 32. As shown in FIG. The opening/closing door 33 receives the cuvette 1 from the transport guide rail 31 and temporarily supports it. , and is pinched by the pinching unit 35. - 特許庁When the clamping unit 35 is not at a position facing the opening/closing door 33, the opening/closing door 33 is closed to prevent the cuvette 1 from falling.

挟みユニット35は、キュベット1を挟み、挟まれたキュベット1を直径方向に沿って延びた状態で挟みユニット35の回転軸を周りに周方向に回転させることができる。挟みユニット35は、開閉扉33の下方に回転した際に、開き位置になって開閉扉33から落ちたキュベット1を受け取り、この受取位置から離れた後にキュベット1を挟んで回転する。挟みユニット35は、キュベット1の開口が上へ向くような位置に回転した際に、再び開き、キュベット1を解放することで、キュベット1が、下方にある反応ディスク60の所定位置に落ちる。 The clamping unit 35 clamps the cuvette 1 and rotates the clamping unit 35 in the circumferential direction around the rotational axis of the clamping unit 35 while extending in the diametrical direction. When the clamping unit 35 rotates downward of the opening/closing door 33, it becomes an open position and receives the cuvette 1 dropped from the opening/closing door 33, and after leaving the receiving position, rotates while clamping the cuvette 1.例文帳に追加When the clamping unit 35 is rotated to a position in which the opening of the cuvette 1 faces upward, the clamping unit 35 opens again and releases the cuvette 1 so that the cuvette 1 falls into place on the reaction disk 60 below.

図10A~図10Cは、第2の実施形態に係る自動分析装置200におけるキュベット搬送装置100の搬送ユニット30aの挟みユニット35の構造を示す概略図である。 10A to 10C are schematic diagrams showing the structure of the clamping unit 35 of the transport unit 30a of the cuvette transport device 100 in the automatic analyzer 200 according to the second embodiment.

図10Aに示すように、挟みユニット35は、両側からキュベット1を挟むことが可能な受け板352と、伸縮可能で受け板352を支持する押付スプリング351と、受け板352の間で一方側から当接する支持部材353と、を有する。また、挟みユニット35が中心軸を周りに回転可能な円盤に設けられ、且つ、当該中心軸には、ブロック34が固定されることで、挟みユニット35が円盤の回転に従い中心軸を周りに回転して、ブロック34に対し移動するように形成される。 As shown in FIG. 10A, the clamping unit 35 includes a receiving plate 352 capable of clamping the cuvette 1 from both sides, a pressing spring 351 that can extend and contract to support the receiving plate 352, and a clamping force between the receiving plate 352 from one side. and a support member 353 that abuts. The clipping unit 35 is provided on a disk that can rotate about the central axis, and the block 34 is fixed to the central axis, so that the clipping unit 35 rotates about the central axis in accordance with the rotation of the disk. and is configured to move relative to the block 34 .

図10Aでは、同図に示すL位置の近くに、挟みユニット35が下へ向くキュベット1の開口に対向する位置に回転した際に、支持部材353は、位置が固定されたブロック34と当接することで、押付スプリング351の圧力と抵抗して受け板352を外側へ押し開ける。よって、受け板352が開き、キュベット1が受け板352の間に落ちる。 In FIG. 10A, support member 353 abuts positionally fixed block 34 when clamp unit 35 is rotated to a position facing the opening of cuvette 1 facing downward, near the L position shown in the figure. As a result, the receiving plate 352 is pushed outward against the pressure of the pressing spring 351 . Accordingly, the receiving plate 352 opens and the cuvette 1 falls between the receiving plates 352 .

挟みユニット35が反時計回りに回転すると、支持部材353がブロック34から離れ受け板352の間から抜き出すことで、押付スプリング351の付勢により受け板352がキュベット1を挟み保持する。図10Bには、挟みユニット35がキュベット1を挟んで回転した状態を示す。 When the clamping unit 35 rotates counterclockwise, the support member 353 is separated from the block 34 and pulled out from between the receiving plates 352 . FIG. 10B shows a state in which the clamping unit 35 rotates while clamping the cuvette 1 .

次に、図10Cに示すように、挟みユニット35が更に反時計回りに、キュベット1の開口が上へ向き、底部が下方にある反応ディスク60の対応位置と合わせるように回転した際に、支持部材353が別箇の、位置が固定されたブロック34と当接することで、押付スプリング351の圧力と抵抗して受け板352を再び押し開ける。よって、受け板352が開き、キュベット1が反応ディスク60の対応位置に落ちる。そうすると、キュベット1の搬送が終了する。 Next, as shown in FIG. 10C, when the clamping unit 35 is further rotated counterclockwise so that the opening of the cuvette 1 faces upward and the bottom is aligned with the corresponding position of the reaction disk 60 that is downward, the supporting Abutment of member 353 against a separate, fixed position block 34 pushes back plate 352 open again against the pressure of pressing spring 351 . Accordingly, the receiving plate 352 is opened and the cuvette 1 drops onto the corresponding position of the reaction disk 60 . Then, the transportation of the cuvette 1 is completed.

図10A~図10Cでは、挟みユニット35が固定された中心軸を周りに回転可能な円盤に設けられ、ブロック34が中心軸に設けられた例について示したが、挟みユニット35は、図10A~図10Cに示す構造に限らず、ブロック34を固定させて挟みユニット35をブロック34に対する所定の位置に移動させることが可能な構成さえであれば良く、具体的な位置決め構造は、任意的に設置しても良い。 10A to 10C show an example in which the pincher unit 35 is provided on a disk rotatable around a fixed central axis, and the block 34 is provided on the central axis. The structure is not limited to that shown in FIG. 10C, and any structure that allows the block 34 to be fixed and the clip unit 35 to be moved to a predetermined position with respect to the block 34 is sufficient. You can

また、挟みユニット35の回転方向には、周方向に間隔をあけて複数の挟みユニット35を設けても良い。この場合、搬送ガイドレール31からキュベット1を順次に受け取り搬送することで、搬送の効率を向上させることが可能になる。図10A~図10Cには、周方向に4つの挟みユニット35が設けられた例のみについて示したが、挟みユニット35の数は4つに限らず、任意的に設定しても良い。 In addition, a plurality of pinching units 35 may be provided at intervals in the circumferential direction in the rotation direction of the pinching unit 35 . In this case, the efficiency of transportation can be improved by sequentially receiving and transporting the cuvettes 1 from the transport guide rails 31 . 10A to 10C show only an example in which four clamping units 35 are provided in the circumferential direction, but the number of clamping units 35 is not limited to four and may be set arbitrarily.

次に、第2の実施形態に係る自動分析装置200の処理手順(自動分析方法)について説明する。図11は、第2の実施形態に係る自動分析装置200の処理手順を示すフローチャートである。 Next, a processing procedure (automatic analysis method) of the automatic analyzer 200 according to the second embodiment will be described. FIG. 11 is a flow chart showing the processing procedure of the automatic analyzer 200 according to the second embodiment.

まず、自動分析の開始時に、キュベット搬送装置100の収納ユニット10aの中にキュベット1が投入され、収納ユニット10aは、投入されたキュベット1を収納する。ここで、キュベット1が、収納ユニット10aのケージング13に上方から投入されたとき、収納ユニット10aの下方である斜面に沿って配置ユニット20a側へ移動する(図11のステップS111)。 First, at the start of automatic analysis, the cuvette 1 is loaded into the storage unit 10a of the cuvette transporter 100, and the loaded cuvette 1 is stored in the storage unit 10a. Here, when the cuvette 1 is put into the casing 13 of the storage unit 10a from above, it moves toward the placement unit 20a along the slope below the storage unit 10a (step S111 in FIG. 11).

次に、キュベット1が配置ユニット20aのコンベヤーベルト24に進入し、配置ユニット20aのコンベヤーベルト24が駆動され螺旋上昇することにより、キュベット1が搬送ユニット30aに配置されるようにガイドされ、当該キュベット1の開口が上へ向く姿勢で搬送ユニット30aの搬送ガイドレール31に並べられる(図11のステップS112)。 Next, the cuvette 1 enters the conveyor belt 24 of the arranging unit 20a, and the conveyor belt 24 of the arranging unit 20a is driven to spirally ascend, thereby guiding the cuvette 1 so as to be arranged on the transport unit 30a. 1 are aligned on the transport guide rail 31 of the transport unit 30a with one opening facing upward (step S112 in FIG. 11).

次に、搬送ガイドレール31は、複数本のガイドレールでキュベット1を挟んで搬送し、搬送ガイドレール31の搬送経路においてキュベット1を容器の開口が下へ向く姿勢に転換させる(図11のステップS113)。 Next, the transport guide rails 31 transport the cuvette 1 sandwiched between a plurality of guide rails, and change the position of the cuvette 1 in the transport path of the transport guide rails 31 so that the opening of the container faces downward (step 11 in FIG. 11). S113).

且つ、搬送ガイドレール31の搬送経路においては、キュベット1に静電気除去ユニット32を通過させることで、キュベット1の静電気を除去する。その後、キュベット1が反応ディスク60の上方に搬送されて、開閉扉33経由で挟みユニット35の中に落ちる(図11のステップS114)。 In addition, static electricity of the cuvette 1 is removed by causing the cuvette 1 to pass through the static electricity removal unit 32 on the transfer path of the transfer guide rail 31 . After that, the cuvette 1 is transported above the reaction disk 60 and falls into the clamping unit 35 via the opening/closing door 33 (step S114 in FIG. 11).

挟みユニット35がキュベット1を挟んだ後、キュベット1を反転させ、反応ディスク60に入れる(図11のステップS115)。次に、分析装置70では、注入機構により、反応ディスク60上のキュベット1に試料を注入し、測定機構により、キュベット1内の液体を測定することによって、試料に対する様々な分析を行う(図11のステップS116)。 After the pinching unit 35 pinches the cuvette 1, the cuvette 1 is turned over and placed in the reaction disk 60 (step S115 in FIG. 11). Next, in the analyzer 70, the injection mechanism injects the sample into the cuvette 1 on the reaction disk 60, and the measurement mechanism measures the liquid in the cuvette 1, thereby performing various analyzes on the sample (FIG. 11). step S116).

以上の説明により、第2の実施形態に係る自動分析装置200では、キュベット搬送装置100でキュベット1を搬送する過程において、粉塵などの不純物を除去することで、粉塵などの不純物がキュベット1に混入しない。このため、第2の実施形態に係る自動分析装置200では、分析装置70が行う分析結果に影響がなく、分析精度が向上する。 As described above, in the automatic analyzer 200 according to the second embodiment, impurities such as dust are removed from the cuvette 1 during the process of transporting the cuvette 1 by the cuvette transporting device 100. do not. Therefore, in the automatic analyzer 200 according to the second embodiment, there is no influence on the analysis result performed by the analyzer 70, and the analysis accuracy is improved.

例えば、第2の実施形態に係る自動分析装置200では、搬送ユニット30aが、搬送ガイドレール31の搬送経路において、キュベット1の開口が下へ向く状態にキュベット1の姿勢を転換することにより、キュベット1内の粉塵などの不純物を落ち易くする。また、搬送ガイドレール31は、接地されることで、搬送経路上のキュベット1の静電気を除去することができる。 For example, in the automatic analyzer 200 according to the second embodiment, the transport unit 30a changes the posture of the cuvette 1 in the transport path of the transport guide rail 31 so that the opening of the cuvette 1 faces downward. Make it easier to remove impurities such as dust in 1. Also, the transport guide rail 31 is grounded to remove static electricity from the cuvette 1 on the transport path.

また、第2の実施形態に係る自動分析装置200では、搬送ユニット30aが、搬送ガイドレール31の搬送経路の末端において、静電気を利用して粉塵などの不純物を引き付ける作用を発生させる静電気除去構造20A(回転軸32A、ブラシ32B)を設けることにより、キュベット搬送装置100でキュベット1を搬送する過程において、粉塵などの不純物を除去することができる。 In addition, in the automatic analyzer 200 according to the second embodiment, the static electricity removal structure 20A in which the transport unit 30a generates an effect of attracting impurities such as dust using static electricity at the end of the transport path of the transport guide rail 31. By providing (the rotating shaft 32A and the brush 32B), impurities such as dust can be removed in the process of transporting the cuvette 1 by the cuvette transporting device 100. FIG.

また、第2の実施形態に係る自動分析装置200では、挟みユニット35がキュベット1を挟み、開口が上へ向く姿勢に再び反転することにより、キュベット1を反応ディスクの中にスムーズに入れることが可能になる。 In addition, in the automatic analyzer 200 according to the second embodiment, the clamping unit 35 clamps the cuvette 1, and the cuvette 1 can be smoothly put into the reaction disk by reversing the posture in which the opening faces upward. be possible.

(第2の実施形態の変形例)
第2の実施形態に係る自動分析装置200では、ガイドレール31に、キュベット1に静電気除去ユニット32を通過させることでキュベット1の静電気を除去する構成が設けられたが、静電気を除去する方式がそれに限らず、ガイドレール31を接地させることでガイドレール31に搬送されたキュベット1の静電気を除去しても良い。
(Modification of Second Embodiment)
In the automatic analyzer 200 according to the second embodiment, the guide rail 31 is provided with a configuration for removing static electricity from the cuvette 1 by passing the cuvette 1 through the static electricity removing unit 32. However, there is another method for removing static electricity. Alternatively, the static electricity of the cuvette 1 transported to the guide rail 31 may be removed by grounding the guide rail 31 .

また、第2の実施形態に係る自動分析装置200では、3本のガイドレール31a、31b、31cからガイドレール31が構成されたが、ガイドレールの数はそれに限らず、3本以上のガイドレールを用いキュベット1をガイドしてもよく、キュベット1の形状に応じてガイドレールの数を具体的に設計しても良く、キュベット1の姿勢を一定に保持し安定に搬送できれば良い。 In addition, in the automatic analyzer 200 according to the second embodiment, the guide rail 31 is composed of the three guide rails 31a, 31b, and 31c, but the number of guide rails is not limited thereto, and three or more guide rails can be used. may be used to guide the cuvette 1, and the number of guide rails may be specifically designed according to the shape of the cuvette 1, as long as the posture of the cuvette 1 can be kept constant and transported stably.

また、第2の実施形態に係る自動分析装置200では、挟みユニット35の回転方向および軌跡も、反時計回りの方向および円周の軌跡に限らず、キュベット1を開口が上へ向くように反転できれば良く、具体的な回転方向および軌跡を反応ディスクへの搬送に合わせて変更しても良い。 In addition, in the automatic analyzer 200 according to the second embodiment, the rotating direction and locus of the clamping unit 35 are not limited to the counterclockwise direction and the locus of the circumference. If possible, the specific rotation direction and trajectory may be changed according to the transfer to the reaction disk.

(第3の実施形態)
以下、図12を参照しながら、第3の実施形態について説明する。
(Third Embodiment)
A third embodiment will be described below with reference to FIG.

第3の実施形態に係る自動分析装置200では、第1の実施形態における収納ユニット10と第2の実施形態における配置ユニット20aおよび搬送ユニット30aとを組み合わせてキュベット1の搬送を行う。 In the automatic analyzer 200 according to the third embodiment, the cuvette 1 is transported by combining the storage unit 10 of the first embodiment with the arrangement unit 20a and transport unit 30a of the second embodiment.

図12は、第3の実施形態に係る自動分析装置200におけるキュベット搬送装置100の構造を示す全体的概略図である。図12に示すように、第3の実施形態に係るキュベット搬送装置100は、順次に接続された収納ユニット10b、配置ユニット20bおよび搬送ユニット30bを備え、キュベット1を収納ユニット10bから配置ユニット20bおよび搬送ユニット30b経由で反応ディスク60に搬送する。 FIG. 12 is an overall schematic diagram showing the structure of the cuvette transport device 100 in the automatic analyzer 200 according to the third embodiment. As shown in FIG. 12, the cuvette transport apparatus 100 according to the third embodiment comprises a storage unit 10b, an arrangement unit 20b and a transport unit 30b which are connected in sequence, and the cuvettes 1 are transferred from the storage unit 10b to the arrangement unit 20b and the transport unit 30b. It is transported to the reaction disk 60 via the transport unit 30b.

ここで、収納ユニット10b、配置ユニット20bおよび搬送ユニット30bは、それぞれ、第1の実施形態における収納ユニット10、第2の実施形態における配置ユニット20aおよび搬送ユニット30aに相当する。 Here, the storage unit 10b, the placement unit 20b, and the transport unit 30b correspond to the storage unit 10 in the first embodiment, and the placement unit 20a and the transport unit 30a in the second embodiment, respectively.

即ち、収納ユニット10bの構成は、第1の実施形態における収納ユニット10と同一であり、収納ユニット10bのケージング13の中には、通過したキュベット1に対し静電気を除去するように、ブラシ12付きの仕切り板11が設けられる。また、配置ユニット20bおよび搬送ユニット30bの構成は、それぞれ、第2の実施形態における配置ユニット20aおよび搬送ユニット30aと同一であり、配置ユニット20bでは、螺旋上昇したコンベヤーベルト24を利用してキュベット1を搬送する。搬送ユニット30bには、静電気を除去するための静電気除去ユニット32が設けられ、搬送ガイドレール31による搬送により、キュベット1の開口方向を下へ向く状態に反転した後、開閉扉33及び挟みユニット35により、キュベット1の開口方向を上へ向くように再び反転する。従って、ここで詳しい説明は省略する。 That is, the structure of the storage unit 10b is the same as that of the storage unit 10 in the first embodiment, and the casing 13 of the storage unit 10b is provided with a brush 12 to remove static electricity from the cuvette 1 passing therethrough. partition plate 11 is provided. The arrangement unit 20b and the transport unit 30b have the same configurations as the arrangement unit 20a and the transport unit 30a in the second embodiment, respectively. to convey. The transport unit 30b is provided with a static electricity removing unit 32 for removing static electricity. , the opening direction of the cuvette 1 is reversed again so as to face upward. Therefore, detailed description is omitted here.

第3の実施形態に係る自動分析装置200では、第1の実施形態と第2の実施形態とを組み合わせたため、以上に説明した第1の実施形態および第2の実施形態と同一の技術的効果を奏することができる。 Since the automatic analyzer 200 according to the third embodiment combines the first embodiment and the second embodiment, the same technical effects as those of the first embodiment and the second embodiment described above can be played.

また、第3の実施形態に係る自動分析装置200では、収納ユニット10bおよび搬送ユニット30bにキュベット1の静電気を除去する構成をそれぞれ設けることにより、キュベット1の各搬送過程において生じた粉塵などの不純物をさらに除去することができ、自動分析装置200の精度をさらに向上させることができる。 In addition, in the automatic analyzer 200 according to the third embodiment, the storage unit 10b and the transport unit 30b are each provided with a structure for removing static electricity from the cuvette 1, thereby removing impurities such as dust generated during each transport process of the cuvette 1. can be further removed, and the accuracy of the automatic analyzer 200 can be further improved.

(第4の実施形態)
以下、図13を参照しながら、第4の実施形態について説明する。
(Fourth embodiment)
A fourth embodiment will be described below with reference to FIG.

第4の実施形態に係る自動分析装置200では、第1~第3の実施形態に対して、搬送ユニットの搬送経路において、更に、以下に説明する清掃機構が設けられる。例えば、第4の実施形態では、第2の実施形態に対して、搬送ユニット30aの搬送経路において、図13に示す清掃機構が設けられる場合について説明する。 In the automatic analyzer 200 according to the fourth embodiment, in contrast to the first to third embodiments, a cleaning mechanism, which will be described below, is further provided in the transport path of the transport unit. For example, in the fourth embodiment, a cleaning mechanism shown in FIG. 13 is provided in the transport path of the transport unit 30a in contrast to the second embodiment.

図13は、第4の実施形態に係る自動分析装置200におけるキュベット搬送装置100の構造を示す全体的概略図である。 FIG. 13 is an overall schematic diagram showing the structure of the cuvette transport device 100 in the automatic analyzer 200 according to the fourth embodiment.

図13に示すように、キュベット搬送装置100は、順次に接続された収納ユニット10c、配置ユニット20cおよび搬送ユニット30cを含み、キュベット1を収納ユニット10cから配置ユニット20cおよび搬送ユニット30c経由で反応ディスク60に搬送する。 As shown in FIG. 13, the cuvette transfer device 100 includes a storage unit 10c, a placement unit 20c and a transfer unit 30c which are connected in series, and the cuvette 1 is transferred from the storage unit 10c to the reaction disk via the placement unit 20c and the transfer unit 30c. 60.

ここで、収納ユニット10c、配置ユニット20cおよび搬送ユニット30cは、それぞれ、第2の実施形態における収納ユニット10a、配置ユニット20aおよび搬送ユニット30aに相当する。更に、搬送ユニット30aは、搬送ガイドレール31の搬送経路において、清掃機構36を備える。従って、相違点のみについて説明し重複な説明を省略する。 Here, the storage unit 10c, the placement unit 20c, and the transport unit 30c correspond to the storage unit 10a, the placement unit 20a, and the transport unit 30a in the second embodiment, respectively. Further, the transport unit 30 a includes a cleaning mechanism 36 on the transport path of the transport guide rails 31 . Therefore, only the points of difference will be explained, and redundant explanations will be omitted.

図13に示すように、清掃機構36が搬送ガイドレール31でキュベット1を移送する搬送経路に設けられ、その移送されたキュベット1に対し、キュベット1の内部を清掃する。 As shown in FIG. 13, the cleaning mechanism 36 is provided in the transport path along which the cuvette 1 is transported by the transport guide rail 31, and cleans the inside of the transported cuvette 1. As shown in FIG.

図13の下方で示された拡大図のように、清掃機構36は、移動過程におけるキュベット1を順次に挟む挟み部材361と、挟み部材361で挟まれたキュベット1の中に伸びる吹管362および吸引管363と、吹管362および吸引管363がキュベット1の中に伸びた後、キュベット1の開口を密閉するシーリング材364と、を含む。 As shown in the enlarged view at the bottom of FIG. 13, the cleaning mechanism 36 includes a clamping member 361 that sequentially clamps the cuvette 1 during the moving process, a blowpipe 362 that extends into the cuvette 1 clamped by the clamping member 361, and a suction pipe. It includes a tube 363 and a sealing material 364 that seals the opening of the cuvette 1 after the blow tube 362 and suction tube 363 have been extended into the cuvette 1 .

吹管362がキュベット1の中に空気などのガスを吹き入れ、吸引管363の先端に、粉塵などの不純物を吸い込むための孔が複数設けられ、吹管362から吹き出されたガスが粉塵などの不純物を連れて吸引管363から排出される。 A blowpipe 362 blows gas such as air into the cuvette 1, and a plurality of holes are provided at the tip of the suction tube 363 for sucking in impurities such as dust. It is discharged from the suction tube 363 together.

第4の実施形態では、吹管362がキュベット1に伸びた深さを吸引管363がキュベット1に伸びた深さよりも大きくすることで、キュベット1中の粉塵などをより全面的に吹き出すことができる。 In the fourth embodiment, the depth to which the blowpipe 362 extends into the cuvette 1 is made larger than the depth to which the suction tube 363 extends into the cuvette 1, so that dust and the like in the cuvette 1 can be blown out more completely. .

このように、第4の実施形態に係る自動分析装置200では、搬送ガイドレール31の搬送経路に清掃機構36を設けることにより、キュベット1の内部にある不純物をより綺麗に清掃することで、自動分析装置200の分析精度をより向上させることができる。 As described above, in the automatic analyzer 200 according to the fourth embodiment, by providing the cleaning mechanism 36 in the transport path of the transport guide rail 31, impurities inside the cuvette 1 can be cleaned more thoroughly, thereby automatically The analysis accuracy of the analysis device 200 can be further improved.

(第5の実施形態)
以下、図14を参照しながら、第5の実施形態について説明する。
(Fifth embodiment)
The fifth embodiment will be described below with reference to FIG.

第5の実施形態に係る自動分析装置200では、第1~第3の実施形態に対して、搬送ユニットの搬送経路において、更に、以下に説明する清掃機構が設けられる。例えば、第5の実施形態では、第2の実施形態に対して、搬送ユニット30aの搬送経路において、図14に示す清掃機構が設けられる場合について説明する。 In the automatic analyzer 200 according to the fifth embodiment, in contrast to the first to third embodiments, a cleaning mechanism, which will be described below, is further provided in the transport path of the transport unit. For example, in the fifth embodiment, a cleaning mechanism shown in FIG. 14 is provided in the transport path of the transport unit 30a in contrast to the second embodiment.

図14は、第5の実施形態に係る自動分析装置200におけるキュベット搬送装置100の構造を示す全体的概略図である。 FIG. 14 is an overall schematic diagram showing the structure of the cuvette transport device 100 in the automatic analyzer 200 according to the fifth embodiment.

図14に示すように、キュベット搬送装置100は、順次に接続された収納ユニット10d、配置ユニット20dおよび搬送ユニット30dを備え、キュベット1を収納ユニット10dから配置ユニット20dおよび搬送ユニット30d経由で反応ディスク60に搬送する。 As shown in FIG. 14, the cuvette transfer device 100 includes a storage unit 10d, an arrangement unit 20d and a transfer unit 30d which are connected in sequence, and the cuvette 1 is transferred from the storage unit 10d to the reaction disk via the arrangement unit 20d and the transfer unit 30d. 60.

ここで、収納ユニット10d、配置ユニット20dおよび搬送ユニット30cは、それぞれ、第2の実施形態における収納ユニット10a、配置ユニット20aおよび搬送ユニット30aに相当する。更に、搬送ユニット30dは、搬送ガイドレール31の搬送経路において、清掃機構37を備える。従って、相違点のみについて説明し重複な説明を省略する。 Here, the storage unit 10d, the placement unit 20d and the transport unit 30c respectively correspond to the storage unit 10a, the placement unit 20a and the transport unit 30a in the second embodiment. Further, the transport unit 30 d includes a cleaning mechanism 37 on the transport path of the transport guide rail 31 . Therefore, only the points of difference will be explained, and redundant explanations will be omitted.

図14に示すように、清掃機構37が搬送ガイドレール31でキュベット1を移送する搬送経路に設けられ、特に、キュベット1の姿勢が、当該キュベット1の開口が下へ向く状態に転換された位置に設けられ、開口が下へ向く姿勢であるキュベット1に対し、キュベット1の内部を清掃する。 As shown in FIG. 14, the cleaning mechanism 37 is provided in the transport path along which the cuvette 1 is transported by the transport guide rail 31, and in particular, the position of the cuvette 1 is changed to a state in which the opening of the cuvette 1 faces downward. The inside of the cuvette 1 is cleaned with respect to the cuvette 1 in which the opening faces downward.

図14の下方で示された拡大図のように、清掃機構37は、搬送経路におけるキュベット1を順次に挟む挟み部材371と、挟み部材371のキュベット1と反対側に設けられた圧電セラミック372と、を含む。 As shown in the enlarged view at the bottom of FIG. 14, the cleaning mechanism 37 consists of a clamping member 371 that sequentially clamps the cuvettes 1 in the transport path, and a piezoelectric ceramic 372 that is provided on the opposite side of the clamping member 371 from the cuvettes 1 . ,including.

圧電セラミック372は、振動を発生させることで、挟み部材371を振動させて、キュベット1中の粉塵などの不純物を落とすために用いられる。 The piezoelectric ceramic 372 is used to vibrate the pinching member 371 by generating vibration to remove impurities such as dust in the cuvette 1 .

このように、第5の実施形態に係る自動分析装置200では、搬送ガイドレール31の搬送経路に清掃機構37を設けることにより、キュベット1の内部にある不純物をより綺麗に清掃することで、自動分析装置200の分析精度をより向上させることができる。 As described above, in the automatic analyzer 200 according to the fifth embodiment, by providing the cleaning mechanism 37 in the transport path of the transport guide rail 31, impurities inside the cuvette 1 can be cleaned more thoroughly, thereby automatically The analysis accuracy of the analysis device 200 can be further improved.

(第6の実施形態)
以下、図15を参照しながら、第6の実施形態について説明する。
(Sixth embodiment)
The sixth embodiment will be described below with reference to FIG.

第6の実施形態では、第4の実施形態における清掃機構36と第5の実施形態における清掃機構37とを組み合わせた清掃機構について説明する。ここで、清掃機構のみについて説明し、他の部分に対する説明を省略する。 In the sixth embodiment, a cleaning mechanism combining the cleaning mechanism 36 of the fourth embodiment and the cleaning mechanism 37 of the fifth embodiment will be described. Here, only the cleaning mechanism will be described, and description of other parts will be omitted.

図15は、第6の実施形態に係る自動分析装置200におけるキュベット搬送装置100の清掃機構を示す概略図である。図15に示すように、第6の実施形態における清掃機構は、搬送経路におけるキュベット1を順次に挟む挟み部材361と、挟み部材361で挟まれたキュベット1の中に伸びる吹管362および吸引管363と、吹管362および吸引管363がキュベット1の中に伸びた後、キュベット1の開口を密閉するシーリング材364と、挟み部材361のキュベット1と反対側に設けられた圧電セラミック372と、を含む。 FIG. 15 is a schematic diagram showing the cleaning mechanism of the cuvette transport device 100 in the automatic analyzer 200 according to the sixth embodiment. As shown in FIG. 15, the cleaning mechanism according to the sixth embodiment includes a clamping member 361 that sequentially clamps the cuvettes 1 in the transport path, and a blow pipe 362 and a suction pipe 363 that extend into the cuvette 1 sandwiched between the clamping members 361. , a sealing material 364 that seals the opening of the cuvette 1 after the blow tube 362 and the suction tube 363 extend into the cuvette 1 , and a piezoelectric ceramic 372 provided on the side of the clamping member 361 opposite to the cuvette 1 . .

吹管362がキュベット1の中に空気などのガスを吹き入れ、吸引管363の先端に、粉塵などの不純物を吸い込むための孔が複数設けられ、吹管362から吹き出されたガスが粉塵などの不純物を連れて吸引管363から排出される。 A blowpipe 362 blows gas such as air into the cuvette 1, and the tip of the suction tube 363 is provided with a plurality of holes for sucking in impurities such as dust. It is discharged from the suction tube 363 together.

同時に、圧電セラミック372は、さらに、挟み部材361を振動させることで、キュベット1中の粉塵などの不純物を落とす。振動作用により落ちた粉塵などの不純物が、吹管362から吹き入れられた空気などによって吸引管363に連れられてガスとともに排出される。 At the same time, the piezoelectric ceramic 372 also shakes the clamping member 361 to remove impurities such as dust in the cuvette 1 . Impurities such as dust falling due to the vibration action are taken to the suction pipe 363 by the air blown from the blowpipe 362 and discharged together with the gas.

第6の実施形態に係る自動分析装置200では、このような清掃機構を設けることにより、キュベット1の内部にある不純物をより綺麗に清掃することで、自動分析装置200の精度をより向上させることができる。 In the automatic analyzer 200 according to the sixth embodiment, by providing such a cleaning mechanism, impurities inside the cuvette 1 can be cleaned more cleanly, thereby further improving the accuracy of the automatic analyzer 200. can be done.

以上説明した少なくとも1つの実施形態によれば、分析精度を向上させることができる。 According to at least one embodiment described above, analysis accuracy can be improved.

なお、いくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の主旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置換および変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。 It should be noted that although several embodiments have been described, these embodiments are provided by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, substitutions, and modifications can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and spirit of the invention, as well as the scope of the invention described in the claims and equivalents thereof.

1 キュベット
10 収納ユニット
10A 静電気除去構造
20 配置ユニット
20A 静電気除去構造
30 搬送ユニット
32 静電気除去ユニット
100 キュベット搬送装置
Reference Signs List 1 cuvette 10 storage unit 10A static electricity removal structure 20 arrangement unit 20A static electricity removal structure 30 transport unit 32 static electricity removal unit 100 cuvette transport device

Claims (17)

分析対象となる試料を収容するための容器を収納する収納部と、
前記収納部から前記容器を移送する移送部と、
前記移送部から移送された前記容器に前記試料を注入し、当該容器内の液体を測定する測定部と、
前記収納部及び前記移送部のうち少なくとも1つに設けられ、前記容器の静電気を除去する静電気除去部と、
を備える自動分析装置。
a storage unit for storing a container for storing a sample to be analyzed;
a transfer unit that transfers the container from the storage unit;
a measurement unit that injects the sample into the container transferred from the transfer unit and measures the liquid in the container;
a static electricity removal unit provided in at least one of the storage unit and the transfer unit and removing static electricity from the container;
Automatic analyzer with
前記静電気除去部は、
金属からなる板、
を備える請求項1に記載の自動分析装置。
The static electricity removing unit
a plate made of metal,
The automatic analyzer according to claim 1, comprising:
前記静電気除去部は、
前記板に設けられたブラシ、
を備え、
前記板は、前記容器が前記ブラシを通過するように設けられる、
請求項2に記載の自動分析装置。
The static electricity removing unit
a brush provided on the plate;
with
the plate is provided so that the container passes through the brush;
The automatic analyzer according to claim 2.
前記静電気除去部は、
金属からなる回転軸、
を備える請求項1に記載の自動分析装置。
The static electricity removing unit
a rotating shaft made of metal,
The automatic analyzer according to claim 1, comprising:
前記静電気除去部は、
前記回転軸に設けられたブラシ、
を備え、
前記回転軸は、前記容器が前記ブラシを通過するように設けられる、
請求項4に記載の自動分析装置。
The static electricity removing unit
a brush provided on the rotating shaft;
with
The rotating shaft is provided so that the container passes through the brush.
The automatic analyzer according to claim 4.
前記静電気除去部は、
前記容器が前記ブラシを通過する際に前記回転軸が回転するように、前記回転軸を駆動する回転軸駆動部、
を更に備える請求項4に記載の自動分析装置。
The static electricity removing unit
a rotary shaft drive for driving the rotary shaft such that the rotary shaft rotates when the container passes through the brush;
The automatic analyzer according to claim 4, further comprising:
前記静電気除去部は、ブラシを備え、前記容器が当該ブラシを通過するように設けられる、
請求項1に記載の自動分析装置。
The static electricity removal unit includes a brush, and the container is provided so as to pass through the brush.
The automatic analyzer according to claim 1.
前記静電気除去部は、
前記容器を移送する経路の少なくとも一部の下方に設けられた粉塵収集部と、
静電気を利用して前記粉塵収集部に粉塵を引き付ける静電気引付ユニットと、
を備える請求項1に記載の自動分析装置。
The static electricity removing unit
a dust collector provided below at least part of the path for transferring the container;
an electrostatic attraction unit that uses static electricity to attract dust to the dust collector;
The automatic analyzer according to claim 1, comprising:
前記移送部は、
前記容器を前記測定部に搬送する搬送経路において、前記容器の姿勢を、当該容器の開口が下へ向く状態に転換させる容器方向転換ユニットと、
前記搬送経路の末端に設けられ、開口が下へ向く状態の前記容器を挟み、前記容器の開口が上へ向く状態になるように前記容器を反転させた後、前記測定部に送り込む挟みユニットと、
を備え、
前記容器方向転換ユニットは、接地されることにより前記静電気除去部を構成する、
請求項1に記載の自動分析装置。
The transfer section is
a container direction changing unit that changes the posture of the container to a state in which the opening of the container faces downward on the transport path that transports the container to the measuring unit;
a pinching unit provided at the end of the conveying path that pinches the container with the opening facing downward, inverts the container so that the opening of the container faces upward, and then feeds the container into the measuring unit; ,
with
The container direction changing unit constitutes the static electricity remover by being grounded,
The automatic analyzer according to claim 1.
前記移送部は、
前記容器を所定の姿勢で並べ、前記容器方向転換ユニットに順次に送る容器配置機構、
を備え、
前記容器方向転換ユニットは、前記容器配置機構が送ってきた前記容器を、前記搬送経路において、前記容器の姿勢を、当該容器の開口が下へ向く状態に順次に転換させる、
請求項9に記載の自動分析装置。
The transfer section is
a container arranging mechanism for arranging the containers in a predetermined posture and sequentially sending the containers to the container direction changing unit;
with
The container direction changing unit sequentially changes the orientation of the container sent by the container placement mechanism to a state in which the opening of the container faces downward on the transport path.
The automatic analyzer according to claim 9.
前記容器配置機構は、前記容器が軸周りに螺旋上昇可能な経路を形成しており、当該経路上で前記容器を螺旋上昇させた後、前記所定の姿勢で前記容器方向転換ユニットに送る、
請求項10に記載の自動分析装置。
The container arranging mechanism forms a path that allows the container to spirally ascend around the axis, and after spirally ascending the container on the path, sends the container to the container direction changing unit in the predetermined posture.
The automatic analyzer according to claim 10.
前記容器方向転換ユニットは、
前記搬送経路において複数のガイドレール、
を有し、
前記容器方向転換ユニットは、前記容器を前記複数のガイドレールによって同時に当接することで、前記容器を前記所定の姿勢で前記複数のガイドレールに沿って移動させる、
請求項10に記載の自動分析装置。
The container redirecting unit comprises:
a plurality of guide rails in the transport path;
has
The container direction changing unit moves the container along the plurality of guide rails in the predetermined posture by simultaneously contacting the container with the plurality of guide rails.
The automatic analyzer according to claim 10.
前記複数のガイドレールは、前記容器の開口位置に当接するガイドレール、および、前記容器の頭部を挟む少なくとも2本のガイドレールを含む、
請求項12に記載の自動分析装置。
The plurality of guide rails include a guide rail that contacts the opening position of the container and at least two guide rails that sandwich the head of the container,
The automatic analyzer according to claim 12.
前記静電気除去部は、
前記容器を清掃する清掃ユニット、
を有する請求項1に記載の自動分析装置。
The static electricity removing unit
a cleaning unit for cleaning the container;
The automatic analyzer according to claim 1, comprising:
前記清掃ユニットは、
前記容器内に空気を入れる吹管と
前記容器から空気を吸う吸引管と、
を有し、
前記吸引管の前記容器内に伸びた長さが、前記吹管の前記容器内に伸びた長さよりも短い、
請求項14に記載の自動分析装置。
The cleaning unit
a blowpipe for drawing air into the container; a suction pipe for sucking air from the container;
has
the length of the suction tube extending into the container is shorter than the length of the blowpipe extending into the container;
The automatic analyzer according to claim 14.
前記清掃ユニットは、
前記容器を挟む挟み機構と、
前記容器を振動させる振動機構と、
を有する請求項14に記載の自動分析装置。
The cleaning unit
a pinching mechanism that pinches the container;
a vibrating mechanism for vibrating the container;
The automatic analyzer according to claim 14, comprising:
分析対象となる試料を収容するための容器を収納部で収納する収納ステップと、
前記収納部から前記容器を移送部により移送する移送ステップと、
前記移送部から移送された前記容器に前記試料を注入し、当該容器内の液体を測定する測定ステップと、
前記収納ステップ及び前記移送ステップのうち少なくとも1つにおいて、前記容器の静電気を除去する静電気除去ステップと、
を含む自動分析方法。
a storage step of storing a container for storing a sample to be analyzed in a storage unit;
a transfer step of transferring the container from the storage unit by a transfer unit;
a measurement step of injecting the sample into the container transferred from the transfer unit and measuring the liquid in the container;
a static electricity removing step of removing static electricity from the container in at least one of the storing step and the transferring step;
Automated analysis methods, including
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