JP2023022647A - Compound, and metal complex - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、化合物及び金属錯体に関する。 The present invention relates to compounds and metal complexes.
種々の金属イオンと安定的に錯形成することが可能な化合物及びこのような化合物に由来する配位子を有する金属錯体は、様々な用途に使用され有用である。このような化合物及び金属錯体の用途としては、例えば、金属除去剤、金属触媒、発光錯体、MRI造影剤、放射性核種医薬品、放射性廃棄物の分離等が挙げられる(例えば、特許文献1、2、非特許文献1、2)。 Compounds capable of stably forming complexes with various metal ions and metal complexes having ligands derived from such compounds are useful in various applications. Applications of such compounds and metal complexes include, for example, metal removing agents, metal catalysts, luminescent complexes, MRI contrast agents, radionuclide drugs, and separation of radioactive wastes (e.g., Patent Documents 1, 2, Non-Patent Documents 1 and 2).
本発明は、錯形成した状態での金属保持力が高い、新規な錯体を形成することが可能な化合物を提供することを目的とする。また、本発明は、このような化合物に由来する配位子を有する金属錯体を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a compound capable of forming a novel complex with high metal retention in the complexed state. Another object of the present invention is to provide a metal complex having a ligand derived from such a compound.
本発明者らが上記課題を解決すべく鋭意検討したところ、8-ヒドロキシキノリン-2-カルボン酸誘導体を含む部分構造、ピリジン-2,6-ジカルボン酸誘導体を含む部分構造、又は2,2’-ビピリジン-6,6’-ジカルボン酸誘導体を含む部分構造からなる群から選ばれる部分構造を2つ以上有する化合物が複数の金属種に対して錯体を形成することが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies by the present inventors to solve the above problems, a partial structure containing an 8-hydroxyquinoline-2-carboxylic acid derivative, a partial structure containing a pyridine-2,6-dicarboxylic acid derivative, or 2,2' - discovering that a compound having two or more partial structures selected from the group consisting of partial structures containing a bipyridine-6,6'-dicarboxylic acid derivative can form a complex with a plurality of metal species; The present invention has been completed.
本発明の一側面は、化合物に関する。当該化合物は、下記式(1)で表される化合物である。
[式(1)中、nは、0~6の整数を表す。
Q1、Q2、及びQ3は、それぞれ独立に、水素原子、群Aから選ばれる基、群Bから選ばれる基、群Cから選ばれる基、又は置換基を表す。ただし、Q1、Q2、及びQ3の少なくとも2個は、群A、群B、又は群Cから選ばれる基である。
nが2以上である場合、複数存在するQ3は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
(群A)
群Aは、下記式(A-1)、式(A-2)、式(A-3)、及び式(A-4)で表される基からなる群である。
(式(A-1)、式(A-2)、式(A-3)、及び式(A-4)中、R1a、R2a、R3a、R4a、及びR5aは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。なお、*は、結合手を表す。)
(群B)
群Bは、下記式(B-1)及び式(B-2)で表される基からなる群である。
(式(B-1)及び式(B-2)中、R1b、R2b、及びR3bは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。なお、*は、結合手を表す。)
(群C)
群Cは、下記式(C-1)、式(C-2)、式(C-3)、式(C-4)、式(C-5)、及び式(C-6)で表される基からなる群である。
(式(C-1)、式(C-2)、式(C-3)、式(C-4)、式(C-5)、及び式(C-6)中、R1c、R2c、R3c、R4c、R5c、及びR6cは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。なお、*は、結合手を表す。)
Yは、窒素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
nが2以上である場合、複数存在するYは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Z1は、単結合、-C(=O)-、又は置換基を有していてもよい、メチレン基若しくは少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基を表し、少なくとも2個の-CH2-を有する基中の-CH2-の一部又は全部は、-O-、-C(=O)-、-NHC(=O)-、又は-C(=O)NH-に置換されていてもよい。
Z2及びZ3は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有していてもよい2価の連結基を表す。
Q1、Q2、及びQ3がすべて群Bから選ばれる基である場合、Z1、Z2、及びZ3は、末端に-CH2-C(=O)NH-を有する2価の連結基であり、当該連結基は、-CH2-C(=O)NH-中の窒素原子を介してQ1、Q2、及びQ3とそれぞれ結合している。
nが2以上である場合、複数存在するZ2及びZ3は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、Z1及びZ2は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。]
One aspect of the invention relates to compounds. The compound is a compound represented by the following formula (1).
[In formula (1), n represents an integer of 0 to 6.
Q 1 , Q 2 and Q 3 each independently represent a hydrogen atom, a group selected from group A, a group selected from group B, a group selected from group C or a substituent. However, at least two of Q 1 , Q 2 and Q 3 are groups selected from group A, group B or group C.
When n is 2 or more, multiple Q3 's may be the same or different.
(Group A)
Group A is a group consisting of groups represented by the following formulas (A-1), (A-2), (A-3), and (A-4).
(In Formula (A-1), Formula (A-2), Formula (A-3), and Formula (A-4), R 1a , R 2a , R 3a , R 4a , and R 5a are each independently represents a hydrogen atom or a substituent.* represents a bond.)
(Group B)
Group B is a group consisting of groups represented by the following formulas (B-1) and (B-2).
(In formulas (B-1) and (B-2), R 1b , R 2b and R 3b each independently represent a hydrogen atom or a substituent. * represents a bond.)
(Group C)
Group C is represented by the following formula (C-1), formula (C-2), formula (C-3), formula (C-4), formula (C-5), and formula (C-6) It is a group consisting of the group
(In formula (C-1), formula (C-2), formula (C-3), formula (C-4), formula (C-5), and formula (C-6), R 1c , R 2c , R 3c , R 4c , R 5c and R 6c each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and * represents a bond.)
Y represents a nitrogen atom or a hydrocarbon group optionally having a substituent.
When n is 2 or more, multiple Y's may be the same or different.
Z 1 represents a single bond, -C(=O)-, or an optionally substituted methylene group or a hydrocarbylene group having at least two -CH 2 -, and at least two Part or all of -CH 2 - in a group having -CH 2 - may be -O-, -C(=O)-, -NHC(=O)-, or -C(=O)NH- may be substituted.
Z 2 and Z 3 each independently represent a single bond or a divalent linking group which may have a substituent.
When Q 1 , Q 2 and Q 3 are all groups selected from Group B, Z 1 , Z 2 and Z 3 are divalent groups having -CH 2 -C(=O)NH- at the ends A linking group, which is linked to Q 1 , Q 2 and Q 3 through the nitrogen atom in -CH 2 -C(=O)NH-.
When n is 2 or more, multiple Z 2 and Z 3 may be the same or different, and Z 1 and Z 2 may combine with each other to form a ring structure. . ]
式(1)で表される化合物は、好ましくは、下記式(2)で表される化合物である。
[式(2)中、Q1、Q2、Q3、Z1、Z2、Z3、及びnは、前記と同義である。]
The compound represented by Formula (1) is preferably a compound represented by Formula (2) below.
[In formula (2), Q 1 , Q 2 , Q 3 , Z 1 , Z 2 , Z 3 and n are as defined above. ]
式(2)で表される化合物は、好ましくは、下記式(3)で表される化合物である。
[式(2)中、Q1、Q2、Q3、Z1、Z2、及びZ3は、前記と同義である。
n1は、0又は1を表す。]
The compound represented by Formula (2) is preferably a compound represented by Formula (3) below.
[In Formula (2), Q 1 , Q 2 , Q 3 , Z 1 , Z 2 and Z 3 are as defined above.
n1 represents 0 or 1; ]
式(3)で表される化合物は、好ましくは、下記式(4)で表される化合物である。
[式(4)中、Q1、Q2、Q3、及びn1は、前記と同義である。
Z1Aは、単結合又は置換基を有していてもよい、メチレン基若しくは少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基を表し、少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基中の-CH2-の一部又は全部は、-O-、-C(=O)-、-NHC(=O)-、又は-C(=O)NH-に置換されていてもよい。
Z2A及びZ3Aは、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、ヒドロカルビレン基中の-CH2-の一部又は全部は、-O-、-C(=O)-、-NHC(=O)-、又は-C(=O)NH-に置換されていてもよい。
Q1、Q2、及びQ3がすべて群Bから選ばれる基である場合、Z1A、Z2A、及びZ3Aは、末端の-CH2-が-CH2-C(=O)NH-に置換されたヒドロカルビレン基であり、当該基は、-CH2-C(=O)NH-中の窒素原子を介してQ1、Q2、及びQ3とそれぞれ結合している。]
The compound represented by Formula (3) is preferably a compound represented by Formula (4) below.
[In Formula (4), Q 1 , Q 2 , Q 3 , and n 1 are as defined above.
Z 1A represents a single bond or optionally substituted methylene group or hydrocarbylene group having at least two —CH 2 —, hydrocarbylene having at least two —CH 2 — Part or all of -CH 2 - in the group may be substituted with -O-, -C(=O)-, -NHC(=O)-, or -C(=O)NH- .
Z 2A and Z 3A each independently represent a single bond or an optionally substituted hydrocarbylene group, and part or all of —CH 2 — in the hydrocarbylene group is —O— , -C(=O)-, -NHC(=O)-, or -C(=O)NH-.
When Q 1 , Q 2 and Q 3 are all groups selected from Group B, Z 1A , Z 2A and Z 3A have -CH 2 - at the ends of -CH 2 -C(=O)NH- which is attached to Q 1 , Q 2 and Q 3 respectively through the nitrogen atom in —CH 2 —C(=O)NH—. ]
式(4)で表される化合物は、好ましくは、下記式(5A)、式(5B)、又は式(5C)で表される化合物である。
[式(5A)、式(5B)、及び式(5C)中、R1a、R2a、R4a、R5a、R1b、R3b、R1c、R2c、R4c、R5c、R6c、Z1A、Z2A、Z3A、及びn1は、前記と同義である。
Q2A及びQ3Aは、それぞれ独立に、下記式(A-2a)、式(B-2a)、及び式(C-3a)で表される基からなる群より選ばれる基である。
((A-2a)、式(B-2a)、及び式(C-3a)中、環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子は、置換基によって置換されていてもよい。なお、*は、結合手を表す。)]
The compound represented by Formula (4) is preferably a compound represented by Formula (5A), Formula (5B), or Formula (5C) below.
[In Formula (5A), Formula (5B), and Formula (5C), R 1a , R 2a , R 4a , R 5a , R 1b , R 3b , R 1c , R 2c , R 4c , R 5c , R 6c , Z 1A , Z 2A , Z 3A , and n 1 are as defined above.
Q 2A and Q 3A are each independently a group selected from the group consisting of groups represented by the following formulas (A-2a), (B-2a) and (C-3a).
(In (A-2a), formula (B-2a), and formula (C-3a), a hydrogen atom directly bonded to a carbon atom constituting a ring may be substituted by a substituent. Note that * represents a bond.)]
本発明の他の一側面は、金属錯体に関する。当該金属錯体は、金属元素と、上記の化合物に由来する配位子とを有する。 Another aspect of the invention relates to metal complexes. The metal complex has a metal element and a ligand derived from the above compound.
本発明によれば、錯形成した状態での金属保持力が高い、新規な錯体を形成することが可能な化合物が提供される。また、本発明によれば、このような化合物に由来する配位子を有する金属錯体が提供される。さらに、本発明の金属錯体は、錯形成した状態での金属保持力が高い。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the compound which can form a novel complex with high metal retention power in the state of complex formation is provided. The present invention also provides metal complexes having ligands derived from such compounds. Furthermore, the metal complex of the present invention has high metal retention in the complexed state.
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments.
[置換基]
本明細書において、個々に特に説明がない限り、「置換基」は3種類に分類される。
第一は、抗原と親和性のある構造体を有する基である(以下、「置換基A」という場合がある。)。
第二は、抗原と親和性のある構造体と架橋可能な部位を有する基である(以下、「置換基B」という場合がある。)。
第三は、有機化学(有機配位子)の分野で一般的に取り得る基である(以下、「置換基C」という場合がある。)。
[Substituent]
In this specification, "substituents" are classified into three types, unless otherwise specified.
The first group is a group having a structure that has affinity with an antigen (hereinafter sometimes referred to as "substituent A").
The second group is a group having a site capable of cross-linking with a structure having affinity for an antigen (hereinafter sometimes referred to as "substituent B").
The third group is a group that can generally be taken in the field of organic chemistry (organic ligands) (hereinafter sometimes referred to as "substituent C").
置換基A及び置換基Bにおける「抗原」とは、放射線を利用する治療又は診断において利用できる抗原を意味する。「抗原」は、好ましくは、がん細胞に由来する抗原である。 The “antigen” in Substituent A and Substituent B means an antigen that can be used in therapy or diagnosis using radiation. The "antigen" is preferably an antigen derived from cancer cells.
置換基A及び置換基Bにおける「抗原と親和性のある構造体」とは、特定の抗原に対して選択的に相互作用する構造体を意味する。「抗原と親和性のある構造体」は、好ましくは、がん細胞に由来する抗原と親和性のある構造体である。がん細胞に由来する抗原と親和性のある構造体の例としては、抗体、抗体フラグメント、ペプチド鎖、酵素、核酸塩基含有成分(例えば、オリゴヌクレオチド、DNAベクター、RNAベクター、アプタマー)等が挙げられる。 The "structure having affinity with an antigen" in Substituent A and Substituent B means a structure that selectively interacts with a specific antigen. The "structure having affinity with an antigen" is preferably a structure having affinity with an antigen derived from cancer cells. Examples of structures that have affinity for cancer cell-derived antigens include antibodies, antibody fragments, peptide chains, enzymes, nucleic acid base-containing components (e.g., oligonucleotides, DNA vectors, RNA vectors, aptamers), and the like. be done.
置換基Aは、「抗原と親和性のある構造体」と、置換基Bにおける「抗原と親和性のある構造体と架橋可能な部位」(以下、単に「架橋可能な部位」という場合がある。)とが化学結合した部分構造を含むことが好ましい。 Substituent A is a "structure with affinity for an antigen" and a "site capable of cross-linking with a structure having affinity with an antigen" in Substituent B (hereinafter sometimes simply referred to as a "cross-linkable site"). ) is preferably included in the partial structure chemically bonded to.
置換基Bにおける「架橋可能な部位」とは、抗原と親和性のある構造体中における「特定部位」(例えば、チオール基、アジド基、末端アミノ基等)に対して選択的に共有結合を形成できる構造を意味する。「架橋可能な部位」の構造は、抗原と親和性のある構造体中における特定部位に対して選択的に共有結合を形成するために一般的に取り得る基として特に限定されない。このような「架橋可能な部位」としては、例えば、下記式(D-1)~式(D-12)で表される基が挙げられる。 The "crosslinkable site" in the substituent B is a selective covalent bond to a "specific site" (e.g., thiol group, azide group, terminal amino group, etc.) in the structure that has affinity for the antigen. It means a structure that can be formed. The structure of the "crosslinkable site" is not particularly limited as a group that can generally be taken to selectively form a covalent bond with a specific site in a structure that has affinity with an antigen. Examples of such “crosslinkable sites” include groups represented by the following formulas (D-1) to (D-12).
式(D-1)~式(D-12)中、環構造の中央から伸びている直線は、環構造の任意の位置における結合を表す。*は、結合手を表し、後述する式(11)におけるL2との結合部位である。これらの基は、置換基を有していてもよい。 In formulas (D-1) to (D-12), a straight line extending from the center of the ring structure represents a bond at any position of the ring structure. * represents a bond, which is a binding site with L2 in formula (11) described later. These groups may have a substituent.
置換基Aの好ましい態様である、「抗原と親和性のある構造体」と、置換基Bにおける「架橋可能な部位」とが化学結合した部分構造(以下、「架橋構造」という場合がある。)は、例えば、クリックケミストリーによって形成することができる。クリックケミストリーの例としては、下記式(6)で表される、アジド基とアルキニル基とを、触媒存在下で反応させることで、1,2,3-トリアゾール環を形成させる反応が挙げられる。なお、*は、結合手を表す。 A preferred embodiment of Substituent A, a partial structure in which a "structure having affinity with an antigen" and a "crosslinkable site" in Substituent B are chemically bonded (hereinafter sometimes referred to as "crosslinked structure"). ) can be formed, for example, by click chemistry. An example of click chemistry includes a reaction in which an azide group and an alkynyl group represented by the following formula (6) are reacted in the presence of a catalyst to form a 1,2,3-triazole ring. Note that * represents a bond.
クリックケミストリーの別の例としては、下記式(7)で表される、アジド基とシクロオクチン基との反応、又は、下記式(8)で表される、テトラジン基とアルキニル基との反応が挙げられる。なお、*は、結合手を表す。 Another example of click chemistry is the reaction between an azide group and a cyclooctyne group represented by the following formula (7), or the reaction between a tetrazine group and an alkynyl group represented by the following formula (8). mentioned. Note that * represents a bond.
また、「架橋構造」を形成するために、「架橋可能な部位」及び「特定部位」からなる群より選ばれる部位を2個以上有する架橋剤を用いることができる。このような架橋剤としては、例えば、下記式(9)で例示される架橋剤が挙げられる。架橋剤は、例えば、「架橋可能な部位」及び「特定部位」からなる群より選ばれる部位の一方を、後述の金属錯体における金属元素及び式(1)で表される化合物に由来する配位子の構造含有部位に、「架橋可能な部位」及び「特定部位」からなる群より選ばれる部位のその他の一方を、「抗原と親和性のある構造体」の構造含有部位に、それぞれ結合させる反応に使用することができる。 Moreover, in order to form a "crosslinked structure", a crosslinker having two or more sites selected from the group consisting of "crosslinkable sites" and "specific sites" can be used. Examples of such a cross-linking agent include cross-linking agents exemplified by the following formula (9). The cross-linking agent, for example, one of the sites selected from the group consisting of "cross-linkable site" and "specific site", the coordination derived from the metal element in the metal complex described later and the compound represented by formula (1) Bind the other part selected from the group consisting of "crosslinkable site" and "specific site" to the structure-containing site of the child to the structure-containing site of the "structure having affinity for antigen". can be used for reactions.
置換基Aとしては、例えば、下記式(10)で表される基が挙げられる。 Examples of the substituent A include groups represented by the following formula (10).
式(10)中、L1は、直接結合、置換基Cを有していてもよいヒドロカルビレン基、又は置換基Cを有していてもよいヘテロアリーレン基を表す。L1が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。L2は、直接結合、C(=O)NRe1、C(=S)NRe2、OC(=O)NRe3、OC(=O)、C(=O)、C(=S)、NRe4、S、又はOを表す。L2が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。L3は、上記「架橋構造」を表す。L3が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。Spは、上記「抗原と親和性のある構造体」を表す。n2は、1~10の整数を表し、n3は1又は2を表す。なお、*は、結合手を表す。 In formula (10), L 1 represents a direct bond, a hydrocarbylene group optionally having a substituent C, or a heteroarylene group optionally having a substituent C; When multiple L 1 are present, they may be the same or different. L 2 is a direct bond, C(=O)NR e1 , C(=S)NR e2 , OC(=O)NR e3 , OC(=O), C(=O), C(=S), NR represents e4 , S, or O; When multiple L2 are present, they may be the same or different. L3 represents the above "crosslinked structure". When multiple L3 are present, they may be the same or different. Sp represents the above-mentioned "structure having affinity with antigen". n2 represents an integer of 1 to 10, n3 represents 1 or 2; Note that * represents a bond.
L1は、直接結合、置換基Cを有していてもよいヒドロカルビレン基又は置換基Cを有していてもよいヘテロアリーレン基であり、好ましくは直接結合又は置換基Cを有していてもよいヒドロカルビレン基である。 L 1 is a direct bond, a hydrocarbylene group optionally having a substituent C or a heteroarylene group optionally having a substituent C, preferably a direct bond or having a substituent C is a hydrocarbylene group that may be
L1における置換基Cを有していてもよいヒドロカルビレン基のヒドロカルビレン基としては、例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基が挙げられる。L1は、好ましくはアルキレン基、シクロアルキレン基であり、より好ましくはアルキレン基である。 Examples of the hydrocarbylene group of the hydrocarbylene group optionally having substituent C in L 1 include an alkylene group, a cycloalkylene group and an arylene group. L 1 is preferably an alkylene group or a cycloalkylene group, more preferably an alkylene group.
L1のヒドロカルビレン基におけるアルキレン基は、飽和脂肪族炭化水素を構成する炭素原子に直接結合する水素原子を2個除いた2価の基である。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、tert-ブチレン基、ペンチレン基、へキシレン基等が挙げられる。これらのアルキレン基中の-CH2-の一部は、-O-に置換されていてもよい。アルキレン基の炭素原子数は、特に限定されないが、好ましくは1~8個である。 The alkylene group in the hydrocarbylene group of L 1 is a divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to the carbon atoms constituting the saturated aliphatic hydrocarbon are removed. Alkylene groups include methylene, ethylene, propylene, isopropylene, butylene, isobutylene, tert-butylene, pentylene, and hexylene groups. A portion of —CH 2 — in these alkylene groups may be substituted with —O—. Although the number of carbon atoms in the alkylene group is not particularly limited, it is preferably 1 to 8.
L1のヒドロカルビレン基におけるシクロアルキレン基は、シクロアルカンを構成する炭素原子に直接結合する水素原子を2個除いた2価の基である。シクロアルキレン基としては、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロへキシレン基、シクロオクチレン基等が挙げられる。シクロアルキレン基の炭素原子数は、特に限定されないが、好ましくは6個である。 The cycloalkylene group in the hydrocarbylene group of L 1 is a divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to carbon atoms constituting cycloalkane are removed. The cycloalkylene group includes a cyclopropylene group, a cyclobutylene group, a cyclopentylene group, a cyclohexylene group, a cyclooctylene group and the like. Although the number of carbon atoms in the cycloalkylene group is not particularly limited, it is preferably six.
L1のヒドロカルビレン基におけるアリーレン基は、芳香族炭化水素を構成する炭素原子に直接結合する水素原子を2個除いた2価の基である。アリーレン基としては、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、ナフチレン基、アントラセニレン基等が挙げられる。アリーレン基は、好ましくはフェニレン基である。アリーレン基の炭素原子数は、特に限定されないが、好ましくは6~12個である。 The arylene group in the hydrocarbylene group of L1 is a divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to carbon atoms constituting the aromatic hydrocarbon are removed. Arylene groups include phenylene groups, biphenylene groups, terphenylene groups, naphthylene groups, anthracenylene groups and the like. Arylene groups are preferably phenylene groups. Although the number of carbon atoms in the arylene group is not particularly limited, it is preferably 6 to 12.
L1の置換基Cを有していてもよいヘテロアリーレン基は、例えば、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピロール、N-アルキルピロール、フラン、チオフェン、チアゾール、イミダゾール、オキサゾール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、イソキノリン、キナゾリン等の複素環式化合物を構成する炭素原子に直接結合する水素原子を2個除いた2価の基である。ヘテロアリーレン基は、好ましくはピリジレン基である。 Heteroarylene groups optionally having a substituent C of L 1 are, for example, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyrrole, N-alkylpyrrole, furan, thiophene, thiazole, imidazole, oxazole, benzofuran, benzothiophene, isoquinoline, It is a divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to carbon atoms constituting a heterocyclic compound such as quinazoline are removed. A heteroarylene group is preferably a pyridylene group.
L2は、直接結合、C(=O)NRe1、C(=S)NRe2、OC(=O)NRe3、OC(=O)、C(=O)、C(=S)、NRe4、S、又はOであり、C(=O)NRe1は、L1及びL3と、-L1-C(=O)NRe1-L3-で結合してもよく、-L3-C(=O)NRe1-L1-で結合してもよい。C(=S)NRe2、OC(=O)NRe3、及びOC(=O)も同様である。Re1、Re2、Re3、及びRe4は、それぞれ水素原子又は炭素原子数1~8個のヒドロカルビル基を表す。Re1、Re2、Re3、及びRe4が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。L2は、好ましくは直接結合又はC(=O)NHである。 L 2 is a direct bond, C(=O)NR e1 , C(=S)NR e2 , OC(=O)NR e3 , OC(=O), C(=O), C(=S), NR e4 , S, or O, and C(=O)NR e1 may be bonded to L 1 and L 3 via -L 1 -C(=O)NR e1 -L 3 -, -L 3 -C(=O)NR e1 -L 1 - may be used for bonding. The same applies to C(=S)NR e2 , OC(=O)NR e3 , and OC(=O). R e1 , R e2 , R e3 and R e4 each represent a hydrogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 8 carbon atoms. When a plurality of R e1 , R e2 , R e3 and R e4 are present, they may be the same or different. L2 is preferably a direct bond or C(=O)NH.
Re1、Re2、Re3、及びRe4における炭素原子数1~8のヒドロカルビル基としては、例えば、炭素原子数が1~8個である、アルキル基、アリール基、アラルキル基が挙げられる。炭素原子数1~8個のヒドロカルビル基は、好ましくは炭素原子数1~8個のアルキル基である。 Examples of hydrocarbyl groups having 1 to 8 carbon atoms in R e1 , R e2 , R e3 and R e4 include alkyl groups, aryl groups and aralkyl groups having 1 to 8 carbon atoms. Hydrocarbyl groups of 1 to 8 carbon atoms are preferably alkyl groups of 1 to 8 carbon atoms.
L3は、上記「架橋構造」である。L3としては、例えば、下記式(E-1)~式(E-8)で表される2価の基が挙げられる。式(E-1)~式(E-8)で表される2価の基は、置換基を有していてもよい。なお、*は、結合手を表す。 L3 is the above "crosslinked structure". Examples of L 3 include divalent groups represented by the following formulas (E-1) to (E-8). The divalent groups represented by formulas (E-1) to (E-8) may have a substituent. Note that * represents a bond.
n2は1~10の整数であり、好ましくは1~5の整数であり、より好ましくは1である。 n2 is an integer of 1-10, preferably an integer of 1-5, more preferably 1;
n3は1又は2であり、上記式(9)で例示される架橋剤等の架橋剤を用いる場合、n3は好ましくは2であり、架橋剤を用いない場合、n3は好ましくは1である。 n 3 is 1 or 2. When using a cross-linking agent such as the cross-linking agent exemplified by the above formula (9), n 3 is preferably 2. When no cross-linking agent is used, n 3 is preferably 1. is.
Spは、「抗原と親和性のある構造体」である。「抗原と親和性のある構造体」は、上記の構造体が例示される。 Sp is "a structure that has affinity with an antigen". The "structure having an affinity for an antigen" is exemplified by the structures described above.
本実施形態の化合物及び/又は金属錯体は、分子内・分子間を含めた視点で置換基Aを有する構造体が複数ある場合、1個の「抗原と親和性のある構造体」が複数の本願の化合物及び/又は金属錯体と結合していてもよい。この場合、複数の置換基Aにおいて1個の「抗原と親和性のある構造体」が共有されていてもよい。 In the compound and/or metal complex of the present embodiment, when there are a plurality of structures having a substituent A from the viewpoint of intramolecular and intermolecular aspects, one "antigen-affinity structure" has a plurality of It may be bound to the compound and/or metal complex of the present application. In this case, one "antigen-affinity structure" may be shared among a plurality of substituents A.
置換基Bとしては、例えば、下記式(11)で表される基が挙げられる。 Examples of the substituent B include groups represented by the following formula (11).
式(11)中、L1、L2、及びn2は、前記と同義である。Lkは、上記「架橋可能な部位」を表す。なお、*は、結合手を表す。 In formula (11), L 1 , L 2 and n 2 are as defined above. Lk represents the above "crosslinkable site". Note that * represents a bond.
置換基Cとしては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、スルホン酸基、ニトロ基、ホスホン酸基、ヒドロカルビル基、シリル基、ヘテロアリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、シリルオキシ基が挙げられる。置換基Cは、水溶性の液中で溶解して使用し易い観点から、好ましくはヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、スルホン酸基、ホスホン酸基、又はアルキルオキシ基である。これらの基の一部はハロゲン原子で置換されていてもよく、例えば、メチル基の水素原子がフッ素置換されてトリフルオロメチル基になっていてもよい。 Substituent C includes, for example, halogen atom, hydroxyl group, carboxyl group, amino group, sulfonic acid group, nitro group, phosphonic acid group, hydrocarbyl group, silyl group, heteroaryl group, alkyloxy group, aryloxy group, aralkyl An oxy group and a silyloxy group are mentioned. Substituent C is preferably a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, or an alkyloxy group from the viewpoint of being easily dissolved in an aqueous solution and used. A portion of these groups may be substituted with halogen atoms, for example, a hydrogen atom of a methyl group may be substituted with fluorine to form a trifluoromethyl group.
置換基Cで表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。ハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。 A halogen atom represented by the substituent C includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. A halogen atom is preferably a fluorine atom.
置換基Cで表されるアミノ基において、窒素原子上の水素原子は、炭化水素基で置換されていてもよい。アミノ基としては、例えば、無置換アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ-n-プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジフェニルアミノ基が挙げられる。アミノ基は、好ましくは無置換アミノ基である。 In the amino group represented by substituent C, a hydrogen atom on the nitrogen atom may be substituted with a hydrocarbon group. The amino group includes, for example, unsubstituted amino group, dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, diisopropylamino group and diphenylamino group. The amino group is preferably an unsubstituted amino group.
置換基Cで表されるヒドロカルビル基としては、例えば、アルキル基、アリール基、アラルキル基が挙げられる。ヒドロカルビル基は、好ましくはアルキル基である。 Examples of hydrocarbyl groups represented by substituent C include alkyl groups, aryl groups, and aralkyl groups. Hydrocarbyl groups are preferably alkyl groups.
置換基Cで表されるヒドロカルビル基におけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ノルボニル基、ノニル基、デシル基、3,7-ジメチルオクチル基、ドデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、ドコシル基等の飽和脂肪族炭化水素基が挙げられる。これらのアルキル基中の-CH2-の一部は、-O-に置換されていてもよい。アルキル基の炭素原子数は、特に限定されないが、入手の容易性及びコストの点から、好ましくは1~8個である。 Examples of the alkyl group in the hydrocarbyl group represented by the substituent C include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, norbornyl group, Nonyl group, decyl group, 3,7-dimethyloctyl group, dodecyl group, pentadecyl group, octadecyl group, docosyl group and other saturated aliphatic hydrocarbon groups can be mentioned. A portion of —CH 2 — in these alkyl groups may be substituted with —O—. Although the number of carbon atoms in the alkyl group is not particularly limited, it is preferably 1 to 8 in terms of availability and cost.
置換基Cで表されるヒドロカルビル基におけるアリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、アントラセニル基等の芳香族炭化水素基が挙げられる。アリール基は、好ましくはフェニル基である。アリール基の炭素原子数は、特に限定されないが、好ましくは6~18個である。 Examples of the aryl group in the hydrocarbyl group represented by the substituent C include aromatic hydrocarbon groups such as phenyl group, biphenyl group, terphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group and anthracenyl group. Aryl groups are preferably phenyl groups. Although the number of carbon atoms in the aryl group is not particularly limited, it is preferably 6 to 18.
置換基Cで表されるヒドロカルビル基におけるアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、(2-メチルフェニル)メチル基、(3-メチルフェニル)メチル基、(4-メチルフェニル)メチル基、(2,4-ジメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基が挙げられる。アラルキル基は、好ましくはベンジル基である。アラルキル基の炭素原子数は、特に限定されないが、好ましくは7~18個である。 Examples of the aralkyl group in the hydrocarbyl group represented by the substituent C include a benzyl group, (2-methylphenyl)methyl group, (3-methylphenyl)methyl group, (4-methylphenyl)methyl group, (2, 4-dimethylphenyl)methyl group, (ethylphenyl)methyl group and naphthylmethyl group. Aralkyl groups are preferably benzyl groups. Although the number of carbon atoms in the aralkyl group is not particularly limited, it is preferably 7 to 18.
置換基Cで表されるシリル基において、ケイ素原子上の水素原子は、炭化水素基で置換されていてもよい。このような置換シリル基としては、例えば、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基等の1個の炭素原子数1~18個の炭化水素基で置換された一置換シリル基;ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基等の2個の炭素原子数1~18個の炭化水素基で置換された二置換シリル基;トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ-n-ブチルシリル基、トリ-tert-ブチルシリル基、トリ-イソブチルシリル基、tert-ブチル-ジメチルシリル基、トリ-n-ペンチルシリル基等の3個の炭素原子数1~18個の炭化水素基で置換された三置換シリル基などが挙げられる。置換シリル基は、好ましくはトリメチルシリル基又はtert-ブチルジメチルシリル基である。 In the silyl group represented by substituent C, a hydrogen atom on the silicon atom may be substituted with a hydrocarbon group. Examples of such substituted silyl groups include monosubstituted silyl groups substituted with one hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms such as methylsilyl group, ethylsilyl group and phenylsilyl group; Silyl group, disubstituted silyl group substituted with two hydrocarbon groups having 1 to 18 carbon atoms such as diphenylsilyl group; trimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, tri-n-butylsilyl group, tri-tert- a trisubstituted silyl group substituted with three hydrocarbon groups having 1 to 18 carbon atoms such as a butylsilyl group, a tri-isobutylsilyl group, a tert-butyl-dimethylsilyl group, a tri-n-pentylsilyl group; mentioned. A substituted silyl group is preferably a trimethylsilyl group or a tert-butyldimethylsilyl group.
置換基Cで表されるヘテロアリール基としては、例えば、ピリジル基、ピラジル基、ピリミジル基、ピロリル基、N-アルキルピロリル基、フリル基、チオフェンニル基、チアゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基、イソキノリニル基が挙げられる。ヘテロアリール基は、好ましくはピリジル基又はピリミジニル基である。 Examples of the heteroaryl group represented by the substituent C include pyridyl group, pyrazyl group, pyrimidyl group, pyrrolyl group, N-alkylpyrrolyl group, furyl group, thiophenyl group, thiazolyl group, imidazolyl group, oxazolyl group, A benzofuranyl group, a benzothiophenyl group, and an isoquinolinyl group can be mentioned. A heteroaryl group is preferably a pyridyl or pyrimidinyl group.
置換基Cで表されるアルキルオキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペンチルオキシ基、n-オクチルオキシ基等が挙げられる。これらのアルキルオキシ基中の-CH2-の一部は、-O-に置換されていてもよい。アルキルオキシ基は、好ましくはメトキシ基である。アルキルオキシ基の炭素原子数は、特に限定されないが、好ましくは1~8個である。 Examples of the alkyloxy group represented by the substituent C include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group and n-pentyloxy group. , n-octyloxy group and the like. A portion of —CH 2 — in these alkyloxy groups may be substituted with —O—. Alkyloxy groups are preferably methoxy groups. Although the number of carbon atoms in the alkyloxy group is not particularly limited, it is preferably 1 to 8.
置換基Cで表されるアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、2-メチルフェノキシ基、3-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基、2,4-ジメチルフェノキシ基、ナフトキシ基が挙げられる。アリールオキシ基は、好ましくはフェノキシ基である。アリールオキシ基の炭素原子数は、特に限定されないが、好ましくは6~18個である。 Examples of the aryloxy group represented by the substituent C include phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 2,4-dimethylphenoxy group and naphthoxy group. Aryloxy groups are preferably phenoxy groups. Although the number of carbon atoms in the aryloxy group is not particularly limited, it is preferably 6 to 18.
置換基Cで表されるアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、(2-メチルフェニル)メトキシ基、(3-メチルフェニル)メトキシ基、(4-メチルフェニル)メトキシ基、(2,4-ジメチルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基が挙げられる。アラルキルオキシ基は、好ましくはベンジルオキシ基である。アラルキルオキシ基の炭素原子数は、特に限定されないが、好ましくは7~18個である。 Examples of the aralkyloxy group represented by the substituent C include a benzyloxy group, (2-methylphenyl)methoxy group, (3-methylphenyl)methoxy group, (4-methylphenyl)methoxy group, (2,4 -dimethylphenyl)methoxy group and naphthylmethoxy group. An aralkyloxy group is preferably a benzyloxy group. Although the number of carbon atoms in the aralkyloxy group is not particularly limited, it is preferably 7 to 18.
置換基Cで表されるシリルオキシ基において、ケイ素原子上の水素原子は、炭化水素基で置換されていてもよい。このような置換シリルオキシ基としては、例えば、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリ-n-ブチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、tert-ブチルジメチルシリルオキシ基が挙げられる。置換シリルオキシ基は、好ましくはトリメチルシリルオキシ基又はtert-ブチルジメチルシリルオキシ基である。 In the silyloxy group represented by substituent C, a hydrogen atom on the silicon atom may be substituted with a hydrocarbon group. Examples of such substituted silyloxy groups include trimethylsilyloxy, triethylsilyloxy, tri-n-butylsilyloxy, triphenylsilyloxy, triisopropylsilyloxy, and tert-butyldimethylsilyloxy groups. be done. A substituted silyloxy group is preferably a trimethylsilyloxy group or a tert-butyldimethylsilyloxy group.
本明細書において、置換基は、個々に特に説明がない限り、好ましくは置換基B又は置換基Cであり、より好ましくは置換基Cである。 In this specification, the substituent is preferably the substituent B or the substituent C, more preferably the substituent C, unless otherwise specified.
本明細書において、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Bnはベンジル基を表し、DMFはN,N-ジメチルホルムアミドを表す。 In this specification, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Bn represents a benzyl group, and DMF represents N,N-dimethylformamide.
本明細書において、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキル基;プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基等のアルキレン基などの分岐可能な基が直鎖構造、分岐構造の指定なく記載されている場合、これらは直鎖構造であっても分岐構造であってもよい。これらの基は、好ましくは直鎖構造である。 In the present specification, alkyl groups such as propyl, butyl, pentyl, hexyl and octyl groups; alkylene groups such as propylene, butylene, pentylene, hexylene and octylene groups. If a chain structure or branched structure is not specified, these may be a straight chain structure or a branched structure. These groups preferably have a linear structure.
本明細書において、基の説明において炭素原子数を記載している場合、当該炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含まない炭素原子数を意味する。 In this specification, when the number of carbon atoms is stated in the explanation of a group, the number of carbon atoms means the number of carbon atoms not including the number of carbon atoms of the substituent.
[化合物]
一実施形態の化合物は、下記式(1)で表される化合物である。
[Compound]
A compound of one embodiment is a compound represented by the following formula (1).
[式(1)中、nは、0~6の整数を表す。
Q1、Q2、及びQ3は、それぞれ独立に、水素原子、群Aから選ばれる基、群Bから選ばれる基、群Cから選ばれる基、又は置換基を表す。ただし、Q1、Q2、及びQ3の少なくとも2個は、群A、群B、又は群Cから選ばれる基である。
nが2以上である場合、複数存在するQ3は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
(群A)
群Aは、下記式(A-1)、式(A-2)、式(A-3)、及び式(A-4)で表される基からなる群である。
(式(A-1)、式(A-2)、式(A-3)、及び式(A-4)中、R1a、R2a、R3a、R4a、及びR5aは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。なお、*は、結合手を表す。)
(群B)
群Bは、下記式(B-1)及び式(B-2)で表される基からなる群である。
(式(B-1)及び式(B-2)中、R1b、R2b、及びR3bは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。なお、*は、結合手を表す。)
(群C)
群Cは、下記式(C-1)、式(C-2)、式(C-3)、式(C-4)、式(C-5)、及び式(C-6)で表される基からなる群である。
(式(C-1)、式(C-2)、式(C-3)、式(C-4)、式(C-5)、及び式(C-6)中、R1c、R2c、R3c、R4c、R5c、及びR6cは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。なお、*は、結合手を表す。)
Yは、窒素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
nが2以上である場合、複数存在するYは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Z1は、単結合、-C(=O)-、又は置換基を有していてもよい、メチレン基若しくは少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基を表し、少なくとも2個の-CH2-を有する基中の-CH2-の一部又は全部は、-O-、-C(=O)-、-NHC(=O)-、又は-C(=O)NH-に置換されていてもよい。
Z2及びZ3は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有していてもよい2価の連結基を表す。
Q1、Q2、及びQ3がすべて群Bから選ばれる基である場合、Z1、Z2、及びZ3は、末端に-CH2-C(=O)NH-を有する2価の連結基であり、当該連結基は、-CH2-C(=O)NH-中の窒素原子を介してQ1、Q2、及びQ3とそれぞれ結合している。
nが2以上である場合、複数存在するZ2及びZ3は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、Z1及びZ2は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。]
[In formula (1), n represents an integer of 0 to 6.
Q 1 , Q 2 and Q 3 each independently represent a hydrogen atom, a group selected from group A, a group selected from group B, a group selected from group C or a substituent. However, at least two of Q 1 , Q 2 and Q 3 are groups selected from group A, group B or group C.
When n is 2 or more, multiple Q3 's may be the same or different.
(Group A)
Group A is a group consisting of groups represented by the following formulas (A-1), (A-2), (A-3), and (A-4).
(In Formula (A-1), Formula (A-2), Formula (A-3), and Formula (A-4), R 1a , R 2a , R 3a , R 4a , and R 5a are each independently represents a hydrogen atom or a substituent.* represents a bond.)
(Group B)
Group B is a group consisting of groups represented by the following formulas (B-1) and (B-2).
(In formulas (B-1) and (B-2), R 1b , R 2b and R 3b each independently represent a hydrogen atom or a substituent. * represents a bond.)
(Group C)
Group C is represented by the following formula (C-1), formula (C-2), formula (C-3), formula (C-4), formula (C-5), and formula (C-6) It is a group consisting of the group
(In formula (C-1), formula (C-2), formula (C-3), formula (C-4), formula (C-5), and formula (C-6), R 1c , R 2c , R 3c , R 4c , R 5c and R 6c each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and * represents a bond.)
Y represents a nitrogen atom or a hydrocarbon group optionally having a substituent.
When n is 2 or more, multiple Y's may be the same or different.
Z 1 represents a single bond, -C(=O)-, or an optionally substituted methylene group or a hydrocarbylene group having at least two -CH2-, and at least two - Some or all of -CH 2 - in groups containing CH 2 - are substituted with -O-, -C(=O)-, -NHC(=O)-, or -C(=O)NH- may have been
Z 2 and Z 3 each independently represent a single bond or a divalent linking group which may have a substituent.
When Q 1 , Q 2 and Q 3 are all groups selected from Group B, Z 1 , Z 2 and Z 3 are divalent groups having -CH 2 -C(=O)NH- at the ends A linking group, which is linked to Q 1 , Q 2 and Q 3 through the nitrogen atom in -CH 2 -C(=O)NH-.
When n is 2 or more, multiple Z 2 and Z 3 may be the same or different, and Z 1 and Z 2 may combine with each other to form a ring structure. . ]
Q1、Q2、及びQ3は、それぞれ独立に、水素原子、群Aから選ばれる基、群Bから選ばれる基、群Cから選ばれる基、又は置換基を表す。ただし、Q1、Q2、及びQ3の少なくとも2個は、群A、群B、又は群Cから選ばれる基である。好ましくは、Q1、Q2、及びQ3のうち2個又は3個が、群A、群B、又は群Cから選ばれる基である。 Q 1 , Q 2 and Q 3 each independently represent a hydrogen atom, a group selected from group A, a group selected from group B, a group selected from group C or a substituent. However, at least two of Q 1 , Q 2 and Q 3 are groups selected from group A, group B or group C. Preferably, two or three of Q 1 , Q 2 and Q 3 are groups selected from Group A, Group B or Group C.
Q1、Q2、及びQ3がすべて群Bから選ばれる基である場合、Z1、Z2、及びZ3は、末端に-CH2-C(=O)NH-を有する2価の連結基であり、当該連結基は、-CH2-C(=O)NH-中の窒素原子を介してQ1、Q2、及びQ3とそれぞれ結合している。Z1、Z2、及びZ3は、Q1、Q2、及びQ3が、それぞれ独立に、群A、群B、又は群Cから選ばれる基である場合においても、末端に-CH2-C(=O)NH-を有する2価の連結基であり、当該連結基が、-CH2-C(=O)NH-中の窒素原子を介してQ1、Q2、及びQ3とそれぞれ結合していることが好ましい。 When Q 1 , Q 2 and Q 3 are all groups selected from Group B, Z 1 , Z 2 and Z 3 are divalent groups having -CH 2 -C(=O)NH- at the ends A linking group, which is linked to Q 1 , Q 2 and Q 3 through the nitrogen atom in -CH 2 -C(=O)NH-. Z 1 , Z 2 and Z 3 have —CH 2 at the terminal even when Q 1 , Q 2 and Q 3 are each independently a group selected from Group A, Group B or Group C. A divalent linking group having -C(=O)NH-, wherein the linking group is linked to Q 1 , Q 2 and Q 3 via the nitrogen atom in -CH 2 -C(=O)NH- are preferably combined with each other.
群Aにおいて、R1a、R2a、R3a、R4a、及びR5aは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基である。置換基は、好ましくは置換基B又は置換基Cである。置換基が置換基Bである場合、R1a、R2a、R3a、R4a、及びR5aのうち、置換基Bの数は、好ましくは0個又は1個である。置換基が置換基Cである場合、R1a、R2a、R3a、R4a、及びR5aのうち、置換基Cの数は、好ましくは0個又は1個である。R1a、R2a、R3a、R4a、及びR5aは、好ましくは水素原子である。群Aの各式において、R1a、R2a、R3a、R4a、及びR5aの合計はいずれも4個であるが、合計4個のR1a、R2a、R3a、R4a、及びR5aのうち、水素原子の数は、好ましくは3個又は4個である。 In Group A, R 1a , R 2a , R 3a , R 4a and R 5a are each independently a hydrogen atom or a substituent. The substituent is preferably substituent B or substituent C. When the substituent is the substituent B, the number of the substituent B among R 1a , R 2a , R 3a , R 4a and R 5a is preferably 0 or 1. When the substituent is substituent C, the number of substituent C among R 1a , R 2a , R 3a , R 4a and R 5a is preferably 0 or 1. R 1a , R 2a , R 3a , R 4a and R 5a are preferably hydrogen atoms. In each formula of Group A, the total number of R 1a , R 2a , R 3a , R 4a , and R 5a is 4, but a total of 4 R 1a , R 2a , R 3a , R 4a , and The number of hydrogen atoms in R 5a is preferably 3 or 4.
群Aから選ばれる基は、好ましくは、式(A-2)、及び式(A-3)で表される基からなる群から選ばれる基、より好ましくは式(A-2)で表される基である。 A group selected from group A is preferably a group selected from the group consisting of groups represented by formula (A-2) and formula (A-3), more preferably represented by formula (A-2) is a group.
群Aから選ばれる基としては、例えば、下記式(A-1a)~式(A-15a)で表される基が挙げられる。なお、*は、結合手を表す。下記式(A-1a)~式(A-15a)で表される基は、結合手を有する複素環が水素原子を有しているとき、当該水素原子は置換基で置換されていてもよい。群Aから選ばれる基は、上記式(A-2)で表される基であることから、好ましくは、式(A-2a)、又は式(A-5a)~式(A-15a)で表される基である。 Groups selected from Group A include, for example, groups represented by the following formulas (A-1a) to (A-15a). Note that * represents a bond. In the groups represented by the following formulas (A-1a) to (A-15a), when the heterocyclic ring having a bond has a hydrogen atom, the hydrogen atom may be substituted with a substituent. . Since the group selected from Group A is a group represented by the above formula (A-2), it is preferably represented by formula (A-2a) or formula (A-5a) to formula (A-15a). It is a group represented.
群Bにおいて、R1b、R2b、及びR3bは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基である。置換基は、好ましくは置換基B又は置換基Cである。置換基が置換基Bである場合、R1b、R2b、及びR3bのうち、置換基Bの数は、好ましくは0個又は1個である。置換基が置換基Cである場合、R1b、R2b、及びR3bのうち、置換基Cの数は、好ましくは0個又は1個である。R1b、R2b、及びR3bは、好ましくは水素原子である。群Bの各式において、R1b、R2b、及びR3bの合計はいずれも2個であるが、合計2個のR1b、R2b、及びR3bのうち、水素原子の数は、好ましくは1個又は2個である。 In Group B, R 1b , R 2b and R 3b are each independently a hydrogen atom or a substituent. The substituent is preferably substituent B or substituent C. When the substituent is the substituent B, the number of the substituent B among R 1b , R 2b and R 3b is preferably 0 or 1. When the substituent is C, the number of C substituents in R 1b , R 2b and R 3b is preferably 0 or 1. R 1b , R 2b and R 3b are preferably hydrogen atoms. In each formula of Group B, the total number of R 1b , R 2b and R 3b is 2, and the number of hydrogen atoms among the total of 2 R 1b , R 2b and R 3b is preferably is one or two.
群Bから選ばれる基は、好ましくは、式(B-2)で表される基である。 A group selected from group B is preferably a group represented by formula (B-2).
群Bから選ばれる基としては、例えば、下記式(B-1a)~式(B-8a)で表される基が挙げられる。なお、*は、結合手を表す。式(B-1a)~式(B-8a)で表される基は、結合手を有する複素環が水素原子を有しているとき、当該水素原子は置換基で置換されていてもよい。群Bから選ばれる基は、上記式(B-2)で表される基であることから、好ましくは、式(B-1a)~式(B-4a)、式(B-7a)又は式(B-8a)で表される基である。 Groups selected from Group B include, for example, groups represented by the following formulas (B-1a) to (B-8a). Note that * represents a bond. In the groups represented by formulas (B-1a) to (B-8a), when the heterocyclic ring having a bond has a hydrogen atom, the hydrogen atom may be substituted with a substituent. The group selected from Group B is a group represented by the above formula (B-2), and therefore is preferably represented by formulas (B-1a) to (B-4a), formula (B-7a) or formula It is a group represented by (B-8a).
群Cにおいて、R1c、R2c、R3c、R4c、R5c、及びR6cは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基である。置換基は、好ましくは置換基B又は置換基Cである。置換基が置換基Bである場合、R1c、R2c、R3c、R4c、R5c、及びR6cのうち、置換基Bの数は、好ましくは0個又は1個である。置換基が置換基Cである場合、R1c、R2c、R3c、R4c、R5c、及びR6cのうち、置換基Cの数は、好ましくは0個又は1個である。R1c、R2c、R3c、R4c、R5c、及びR6cは、好ましくは水素原子である。群Cの各式において、R1c、R2c、R3c、R4c、R5c、及びR6cの合計はいずれも5個であるが、合計5個のR1c、R2c、R3c、R4c、R5c、及びR6cのうち、水素原子の数は、好ましくは4個又は5個である。 In Group C, R 1c , R 2c , R 3c , R 4c , R 5c , and R 6c are each independently a hydrogen atom or a substituent. The substituent is preferably substituent B or substituent C. When the substituent is the substituent B, the number of the substituent B among R 1c , R 2c , R 3c , R 4c , R 5c and R 6c is preferably 0 or 1. When the substituent is C, the number of C substituents among R 1c , R 2c , R 3c , R 4c , R 5c , and R 6c is preferably 0 or 1. R 1c , R 2c , R 3c , R 4c , R 5c and R 6c are preferably hydrogen atoms. In each formula of Group C, the total number of R 1c , R 2c , R 3c , R 4c , R 5c , and R 6c is 5, but a total of 5 R 1c , R 2c , R 3c , R Among 4c , R 5c and R 6c , the number of hydrogen atoms is preferably 4 or 5.
群Cから選ばれる基は、金属元素に剛直な骨格で強く配位できる観点から、好ましくは、ビピリジン誘導体であるよりフェナントロリン誘導体である式(C-4)、式(C-5)、又は式(C-6)で表される基であり、より好ましくは式(C-5)又は式(C-6)である。 The group selected from Group C is preferably a phenanthroline derivative rather than a bipyridine derivative, from the viewpoint of being able to strongly coordinate to the metal element with a rigid skeleton, the formula (C-4), the formula (C-5), or the formula A group represented by (C-6), more preferably formula (C-5) or formula (C-6).
群Cから選ばれる基としては、例えば、下記式(C-1a)~式(C-9a)で表される基が挙げられる。なお、*は、結合手を表す。式(C-1a)~式(C-9a)で表される基は、結合手を有する複素環が水素原子を有しているとき、当該水素原子は置換基で置換されていてもよい。群Cから選ばれる基は、上記式(C-5)又は式(C-6)で表される基であることから、好ましくは、式(C-5a)、式(C-6a)、式(C-8a)、又は式(C-9a)で表される基である。 Groups selected from Group C include, for example, groups represented by the following formulas (C-1a) to (C-9a). Note that * represents a bond. In the groups represented by formulas (C-1a) to (C-9a), when the heterocyclic ring having a bond has a hydrogen atom, the hydrogen atom may be substituted with a substituent. A group selected from Group C is a group represented by the above formula (C-5) or formula (C-6), and therefore is preferably represented by formula (C-5a), formula (C-6a), formula (C-8a), or a group represented by the formula (C-9a).
Yは、窒素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。Yにおける炭化水素基としては、例えば、メチン基、炭素原子数6~18の芳香環式炭化水素環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子を3個除いた3価の基、炭素原子数4~18のシクロアルカントリイル基が挙げられる。シクロアルカントリイル基における-CH2-の一部は、-O-又は-C(=O)-に置換されていてもよい。Yは、好ましくは窒素原子である。 Y represents a nitrogen atom or a hydrocarbon group optionally having a substituent. Examples of the hydrocarbon group for Y include, for example, a methine group, a trivalent group excluding three hydrogen atoms directly bonded to carbon atoms constituting an aromatic hydrocarbon ring having 6 to 18 carbon atoms, and a number of carbon atoms. 4 to 18 cycloalkanetriyl groups are included. A portion of -CH 2 - in the cycloalkanetriyl group may be substituted with -O- or -C(=O)-. Y is preferably a nitrogen atom.
Yにおける置換基を有していてもよい炭化水素基の具体例としては、下記式(D-1a)~式(D-5a)が挙げられる。式(D-1a)~式(D-5a)で表される基における水素原子は置換基で置換されていてもよい。なお、*は、結合手を表す。置換基を有していてもよい炭化水素基は、好ましくは式(D-1a)、式(D-2a)、又は式(D-5a)である。 Specific examples of the optionally substituted hydrocarbon group for Y include the following formulas (D-1a) to (D-5a). A hydrogen atom in the groups represented by formulas (D-1a) to (D-5a) may be substituted with a substituent. Note that * represents a bond. The optionally substituted hydrocarbon group is preferably represented by formula (D-1a), formula (D-2a), or formula (D-5a).
nが2以上である場合、複数存在するYは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。nが2以上である場合、複数存在するYは、好ましくは、同一である。 When n is 2 or more, multiple Y's may be the same or different. When n is 2 or more, a plurality of Y's are preferably the same.
Z1は、単結合、-C(=O)-、又は置換基を有していてもよい、メチレン基若しくは少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基を表す。Z1は、好ましくは置換基を有していてもよい、少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基である。少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基における-CH2-数は、好ましくは3個以上であり、より好ましくは4個以上である。 Z 1 represents a single bond, -C(=O)-, or a hydrocarbylene group having an optionally substituted methylene group or at least two -CH 2 -. Z 1 is preferably an optionally substituted hydrocarbylene group having at least two —CH 2 —. The number of —CH 2 — in the hydrocarbylene group having at least two —CH 2 — is preferably 3 or more, more preferably 4 or more.
Z2及びZ3は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有していてもよい2価の連結基を表す。Z2及びZ3は、好ましくは置換基を有していてもよい2価の連結基である。 Z 2 and Z 3 each independently represent a single bond or a divalent linking group which may have a substituent. Z 2 and Z 3 are preferably divalent linking groups optionally having a substituent.
2価の連結基としては、例えば、ヒドロカルビレン基が挙げられる。ヒドロカルビレン基としては、例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基等が挙げられる。シクロアルキレン基及びアリーレン基の具体例及び好ましい例は、上記L1におけるそれらと同様であってよい。 Divalent linking groups include, for example, hydrocarbylene groups. Examples of hydrocarbylene groups include alkylene groups, cycloalkylene groups, and arylene groups. Specific examples and preferred examples of the cycloalkylene group and the arylene group may be the same as those for L 1 above.
ヒドロカルビレン基は、好ましくはアルキレン基である。Z2及びZ3のヒドロカルビレン基におけるアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、tert-ブチレン基、ペンチレン基、へキシレン基等が挙げられる。Z1の少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基におけるアルキレン基は、Z2及びZ3のヒドロカルビレン基におけるアルキレン基のうち、少なくとも2個の-CH2-を有するアルキレン基が挙げられる。Z1、Z2、及びZ3のアルキレン基は、直鎖状、分岐状、又は環状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。Z1の少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基におけるアルキレン基の炭素原子数は、好ましくは2~30個であり、より好ましくは6~30個である。Z2及びZ3のヒドロカルビレン基におけるアルキレン基の炭素原子数は、好ましくは1~30個であり、より好ましくは2~30個であり、さらに好ましくは6~30個である。これらのアルキレン基の炭素原子数は、Q1、Q2、又はQ3中の配位結合部位が単一の金属元素に結合できる距離にあることが可能となることから、一定以上の数であることが好ましい。これらのアルキレン基のQ1、Q2、及びQ3とYとの間を連結する主鎖の炭素原子数は、好ましくは6個以上である。 A hydrocarbylene group is preferably an alkylene group. Examples of the alkylene group in the hydrocarbylene group of Z 2 and Z 3 include methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene group, butylene group, isobutylene group, tert-butylene group, pentylene group and hexylene group. . The alkylene group in the hydrocarbylene group having at least two —CH 2 — of Z 1 is an alkylene group having at least two —CH 2 — among the alkylene groups in the hydrocarbylene groups of Z 2 and Z 3 is mentioned. The alkylene groups of Z 1 , Z 2 and Z 3 may be linear, branched or cyclic, but are preferably linear. The number of carbon atoms in the alkylene group in the hydrocarbylene group having at least two —CH 2 — in Z 1 is preferably 2-30, more preferably 6-30. The number of carbon atoms in the alkylene group in the hydrocarbylene groups of Z 2 and Z 3 is preferably 1-30, more preferably 2-30, still more preferably 6-30. The number of carbon atoms in these alkylene groups is a certain number or more because the coordinate bonding site in Q 1 , Q 2 or Q 3 can be at a distance that allows bonding to a single metal element. Preferably. The number of carbon atoms in the main chain connecting between Q 1 , Q 2 and Q 3 of these alkylene groups and Y is preferably 6 or more.
Z1の少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基中の-CH2-の一部又は全部、並びに、Z2及びZ3のヒドロカルビレン基中の-CH2-の一部又は全部は、-O-、-C(=O)-、-NHC(=O)-、又は-C(=O)NH-に置換されていてもよく、水溶液中の溶解性、及び、合成容易性の観点から、これらのヒドロカルビレン基中の-CH2-の一部は、-O-、-C(=O)-、-NHC(=O)-、又は-C(=O)NH-に置換されていることが好ましく、-O-、-NHC(=O)-、又は-C(=O)NH-で置換されていることがより好ましく、-O-、-NHC(=O)-、及び-C(=O)NH-からなる群から選ばれる2個以上の基で置換されていることがさらに好ましく、当該群から選ばれる4個以上の基で置換されていることが特に好ましい。 some or all of the —CH 2 — in the hydrocarbylene groups having at least two —CH 2 — of Z 1 and some of —CH 2 — in the hydrocarbylene groups of Z 2 and Z 3 or all may be substituted with -O-, -C(=O)-, -NHC(=O)-, or -C(=O)NH-, solubility in aqueous solution and synthetic For ease of consideration, some of the —CH 2 — in these hydrocarbylene groups are —O—, —C(=O)—, —NHC(=O)—, or —C(=O) preferably substituted with NH-, more preferably substituted with -O-, -NHC(=O)-, or -C(=O)NH-, -O-, -NHC(= more preferably substituted with 2 or more groups selected from the group consisting of O)- and -C(=O)NH-, and substituted with 4 or more groups selected from the group is particularly preferred.
Z1の少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基中の-CH2-の2個以上、並びに、Z2及びZ3のヒドロカルビレン基中の-CH2-の2個以上が、-O-、-C(=O)-、-NHC(=O)-、又は-C(=O)NH-に置換されている場合、-CH2-の2個以上は、-O-、-C(=O)-、-NHC(=O)-、及び-C(=O)NH-からなる群より選ばれる少なくとも2種に置換されていていることが好ましい。このとき、少なくとも2種のうち1種は、-O-であることが好ましい。 two or more —CH 2 — in the hydrocarbylene group with at least two —CH 2 — of Z 1 and two or more —CH 2 — in the hydrocarbylene groups of Z 2 and Z 3 is substituted with -O-, -C(=O)-, -NHC(=O)-, or -C(=O)NH-, two or more of -CH 2 - are -O It is preferably substituted with at least two selected from the group consisting of -, -C(=O)-, -NHC(=O)-, and -C(=O)NH-. At this time, at least one of the two is preferably -O-.
Z1におけるメチレン基若しくは少なくとも2個の-CH2-を有する基、並びに、Z2及びZ3における2価の連結基が有していてもよい置換基は、好ましくは置換基B又は置換基Cである。 The methylene group or the group having at least two —CH 2 — in Z 1 and the substituent which the divalent linking group in Z 2 and Z 3 may have is preferably the substituent B or the substituent is C.
nが2以上である場合、複数存在するZ2及びZ3は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、Z1及びZ2は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。nは、3~6であってよい。nが3~6である場合、Z1及びZ2は、互いに結合して環構造を形成していることが好ましい。 When n is 2 or more, multiple Z 2 and Z 3 may be the same or different, and Z 1 and Z 2 may combine with each other to form a ring structure. . n may be 3-6. When n is 3 to 6, Z 1 and Z 2 are preferably bonded together to form a ring structure.
Z1及びZ2が互いに結合して環構造を形成する場合、Q1及びQ2は、好ましくは水素原子である。式(1)で表される化合物において、nが3~6であり、Z1及びZ2が互いに結合して環構造を形成している化合物としては、例えば、下記式(E-1)~式(E-4)で表される化合物が挙げられる。当該化合物は、好ましくは、式(E-1)又は式(E-2)で表される化合物ある。 When Z 1 and Z 2 combine with each other to form a ring structure, Q 1 and Q 2 are preferably hydrogen atoms. In the compound represented by the formula (1), the compound in which n is 3 to 6 and Z 1 and Z 2 are bonded to each other to form a ring structure include, for example, the following formulas (E-1) to A compound represented by formula (E-4) can be mentioned. The compound is preferably a compound represented by Formula (E-1) or Formula (E-2).
他方、nは、0~2であってもよく、より好ましくは0又は1である。nが0~2である場合、Z1及びZ2は、互いに結合して環構造を形成していないことが好ましい。Q1及びQ2は、それぞれ独立に、好ましくは、群Aから選ばれる基、群Bから選ばれる基、群Cから選ばれる基、又は置換基である。式(1)で表される化合物において、nが0~2であり、Z1及びZ2が互いに結合して環構造を形成していない化合物としては、例えば、下記式(F-1)~式(F-20)で表される化合物が挙げられる。なお、Spは、「抗原と親和性のある構造体」を表す。当該化合物は、nが0又は1であることから、好ましくは、式(F-1)~式(F-18)で表される化合物であり、末端に-CH2-C(=O)NH-を有し、-CH2-C(=O)NH-中の窒素原子を介してQ1、Q2、及びQ3とそれぞれ結合していることから、より好ましくは、式(F-1)、式(F-2)、式(F-7)、式(F-9)、式(F-16)、又は(F-19)で表される化合物ある。 On the other hand, n may be 0-2, more preferably 0 or 1. When n is 0 to 2, Z 1 and Z 2 are preferably not bonded to each other to form a ring structure. Q 1 and Q 2 are each independently preferably a group selected from group A, a group selected from group B, a group selected from group C, or a substituent. In the compound represented by the formula (1), the compound in which n is 0 to 2 and Z 1 and Z 2 are not bonded to each other to form a ring structure include, for example, the following formulas (F-1) to A compound represented by the formula (F-20) can be mentioned. In addition, Sp represents "a structure having an affinity for an antigen". Since n is 0 or 1, the compounds are preferably compounds represented by formulas (F-1) to (F-18), and have —CH 2 —C(═O)NH - and is bonded to Q 1 , Q 2 and Q 3 through the nitrogen atom in -CH 2 -C(=O)NH-, more preferably formula (F-1 ), formula (F-2), formula (F-7), formula (F-9), formula (F-16), or (F-19).
式(1)で表される化合物は、好ましくは、下記式(2)で表される化合物である。式(2)で表される化合物は、式(1)で表される化合物において、Yが窒素原子である化合物である。 The compound represented by Formula (1) is preferably a compound represented by Formula (2) below. The compound represented by formula (2) is a compound represented by formula (1) in which Y is a nitrogen atom.
[式(2)中、Q1、Q2、Q3、Z1、Z2、Z3、及びnは、前記と同義である。]
[In formula (2), Q 1 , Q 2 , Q 3 , Z 1 , Z 2 , Z 3 and n are as defined above. ]
式(2)で表される化合物は、好ましくは、下記式(3)で表される化合物である。式(3)で表される化合物は、式(2)で表される化合物において、nが0又は1である化合物である。 The compound represented by Formula (2) is preferably a compound represented by Formula (3) below. The compound represented by formula (3) is a compound represented by formula (2) in which n is 0 or 1.
[式(2)中、Q1、Q2、Q3、Z1、Z2、及びZ3は、前記と同義である。
n1は、0又は1を表す。]
[In Formula (2), Q 1 , Q 2 , Q 3 , Z 1 , Z 2 and Z 3 are as defined above.
n1 represents 0 or 1; ]
式(3)で表される化合物は、好ましくは、下記式(4)で表される化合物である。式(4)で表される化合物は、式(3)で表される化合物において、Z1、Z2、及びZ3がそれぞれ独立に、単結合又は置換基を有していてもよいヒドロカルビレン基である化合物である。 The compound represented by Formula (3) is preferably a compound represented by Formula (4) below. The compound represented by formula (4) is a compound represented by formula (3) in which Z 1 , Z 2 and Z 3 are each independently a single bond or a hydrocarbyl group optionally having a substituent. It is a compound that is a rene group.
[式(4)中、Q1、Q2、Q3、及びn1は、前記と同義である。
Z1Aは、単結合又は置換基を有していてもよい、メチレン基若しくは少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基を表し、少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基中の-CH2-の一部又は全部は、-O-、-C(=O)-、-NHC(=O)-、又は-C(=O)NH-に置換されていてもよい。
Z2A及びZ3Aは、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、ヒドロカルビレン基中の-CH2-の一部又は全部は、-O-、-C(=O)-、-NHC(=O)-、又は-C(=O)NH-に置換されていてもよい。
Q1、Q2、及びQ3がすべて群Bから選ばれる基である場合、Z1A、Z2A、及びZ3Aは、末端の-CH2-が-CH2-C(=O)NH-に置換されたヒドロカルビレン基であり、当該基は、-CH2-C(=O)NH-中の窒素原子を介してQ1、Q2、及びQ3とそれぞれ結合している。]
[In Formula (4), Q 1 , Q 2 , Q 3 , and n 1 are as defined above.
Z 1A represents a single bond or optionally substituted methylene group or hydrocarbylene group having at least two —CH 2 —, hydrocarbylene having at least two —CH 2 — Part or all of -CH 2 - in the group may be substituted with -O-, -C(=O)-, -NHC(=O)-, or -C(=O)NH- .
Z 2A and Z 3A each independently represent a single bond or an optionally substituted hydrocarbylene group, and part or all of —CH 2 — in the hydrocarbylene group is —O— , -C(=O)-, -NHC(=O)-, or -C(=O)NH-.
When Q 1 , Q 2 and Q 3 are all groups selected from Group B, Z 1A , Z 2A and Z 3A have -CH 2 - at the ends of -CH 2 -C(=O)NH- which is attached to Q 1 , Q 2 and Q 3 respectively through the nitrogen atom in —CH 2 —C(=O)NH—. ]
式(4)で表される化合物は、好ましくは、下記式(5A)、式(5B)、又は式(5C)で表される化合物である。 The compound represented by Formula (4) is preferably a compound represented by Formula (5A), Formula (5B), or Formula (5C) below.
[式(5A)、式(5B)、及び式(5C)中、R1a、R2a、R4a、R5a、R1b、R3b、R1c、R2c、R4c、R5c、R6c、Z1A、Z2A、Z3A、及びn1は、前記と同義である。
Q2A及びQ3Aは、それぞれ独立に、下記式(A-2a)、式(B-2a)、及び式(C-3a)で表される基からなる群より選ばれる基である。
[In Formula (5A), Formula (5B), and Formula (5C), R 1a , R 2a , R 4a , R 5a , R 1b , R 3b , R 1c , R 2c , R 4c , R 5c , R 6c , Z 1A , Z 2A , Z 3A , and n 1 are as defined above.
Q 2A and Q 3A are each independently a group selected from the group consisting of groups represented by the following formulas (A-2a), (B-2a) and (C-3a).
((A-2a)、式(B-2a)、及び式(C-3a)中、環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子は、置換基によって置換されていてもよい。なお、*は、結合手を表す。)]
(In (A-2a), formula (B-2a), and formula (C-3a), a hydrogen atom directly bonded to a carbon atom constituting a ring may be substituted by a substituent. Note that * represents a bond.)]
Q2A及びQ3Aは、同一であっても異なっていてもよく、好ましくは、置換されていてもよい置換基以外の部位において、同一である。 Q2A and Q3A may be the same or different, and are preferably the same at sites other than the optionally substituted substituents.
式(5A)、式(5B)、又は式(5C)で表される化合物は、環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子が置換基Bで0個又は1個置換されていることが好ましく、「抗原と親和性のある構造体」と組み合わせて用いることができることから、1個置換されていることがより好ましい。 In the compound represented by formula (5A), formula (5B), or formula (5C), 0 or 1 hydrogen atoms directly bonded to carbon atoms constituting the ring are substituted with substituent B. More preferably, one substitution is possible because it can be used in combination with a "structure having affinity for an antigen."
式(5A)、式(5B)、又は式(5C)で表される化合物としては、例えば、下記式(G-1)~式(G-16)で表される化合物が挙げられる。これらの化合物は、置換基を有していてもよい。なお、Spは、「抗原と親和性のある構造体」を表す。 Examples of compounds represented by formula (5A), formula (5B), or formula (5C) include compounds represented by the following formulas (G-1) to (G-16). These compounds may have a substituent. In addition, Sp represents "a structure having an affinity for an antigen".
本実施形態の化合物は、酸又は塩基との相互作用で塩を形成していてもよく、水和していてもよい。塩を形成していてもよい酸の種類としては、例えば、塩酸、臭素酸、ヨウ素酸、リン酸、酢酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、テトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸、テトラフェニルホウ酸などが挙げられる。酸は、好ましくは塩酸又は臭素酸である。酸による塩構造としては、例えば、本実施形態の化合物中の窒素部位が酸と相互作用している塩構造が挙げられる。 The compound of this embodiment may form a salt upon interaction with an acid or base, or may be hydrated. Examples of acids that may form salts include hydrochloric acid, bromic acid, iodic acid, phosphoric acid, acetic acid, sulfuric acid, nitric acid, perchloric acid, trifluoroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and tetrafluoroboric acid. , hexafluorophosphoric acid, tetraphenylboric acid, and the like. The acid is preferably hydrochloric acid or bromic acid. The salt structure with an acid includes, for example, a salt structure in which the nitrogen site in the compound of the present embodiment interacts with an acid.
塩を形成していてもよい塩基の種類としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物;水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム等の4級アンモニウムの水酸化物;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩などが挙げられる。塩基による塩構造としては、例えば、本実施形態の化合物中のカルボン酸部位のプロトンが別のカチオンで置き換わった塩構造が挙げられる。 Examples of the base that may form a salt include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth metal hydroxides such as magnesium hydroxide and calcium hydroxide; substances; quaternary ammonium hydroxides such as tetramethylammonium hydroxide and tetrabutylammonium hydroxide; alkali metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate and potassium carbonate; lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate and the like and alkali metal hydrogen carbonate. The salt structure with a base includes, for example, a salt structure in which the proton of the carboxylic acid site in the compound of the present embodiment is replaced with another cation.
本実施形態の化合物は、一部のプロトンが分子内で移動していてもよい。例えば、式(G-1)で表される化合物は、カルボン酸のうち1個又は2個のプロトンが、キノリン構造中の窒素原子の近傍に移動していてもよい。 In the compound of this embodiment, some protons may move within the molecule. For example, in the compound represented by formula (G-1), one or two protons in the carboxylic acid may move to the vicinity of the nitrogen atom in the quinoline structure.
[化合物の製造方法]
次に、本実施形態の化合物の製造方法について説明する。
[Method for producing compound]
Next, a method for producing the compound of the present embodiment will be described.
式(1)で表される化合物は、Z1、Z2、及びZ3となり得る部位に、それぞれQ1、Q2、及びQ3となり得る化合物を連結することができる公知の手法を適宜組み合わせて製造することができる。 The compound represented by formula (1) can be obtained by appropriately combining known methods that can link compounds that can be Q 1 , Q 2 and Q 3 to sites that can be Z 1 , Z 2 and Z 3 . can be manufactured by
以下では、Z1、Z2、及びZ3(以下、Z1、Z2、及びZ3を単に「Zx」という場合がある。)となり得る部位に、それぞれQ1、Q2、及びQ3となり得る部位を連結する結合部位の形成方法を具体的に説明する。 In the following , Q 1 , Q 2 and Q A method for forming a binding site that connects the sites that can be 3 will be specifically described.
Zxが、末端の-CH2-が-CH2-C(=O)NH-に置換されたヒドロカルビレン基であり、当該基は、-CH2-C(=O)NH-中の窒素原子を介してQ1、Q2、及びQ3とそれぞれ結合している場合において、このようなヒドロカルビレン基による結合部位の形成方法としては、下記式(10)に例示するように、ヒドロカルビレン基にカルボン酸基が結合している化合物と、アミノ基を有する化合物とを、塩化オキサリル等の公知のカルボン酸部位活性化剤や縮合剤等を用いて、DMF、トルエン、ジクロロメタン等の溶媒中で混合させる方法が挙げられる。 Z x is a hydrocarbylene group in which the terminal —CH 2 — is replaced with —CH 2 —C(=O)NH—, and the group is When each of Q 1 , Q 2 , and Q 3 is bonded via a nitrogen atom, a method for forming a bonding site with such a hydrocarbylene group is as exemplified by the following formula (10). A compound having a carboxylic acid group bonded to a hydrocarbylene group and a compound having an amino group are reacted with a known carboxylic acid site activator such as oxalyl chloride or a condensing agent using DMF, toluene, dichloromethane, or the like. and a method of mixing in a solvent of
また、例えば、Zxがアルキレン基である場合において、このようなアルキレン基による結合部位の形成方法としては、下記式(11)に例示するように、アルデヒド構造を有する化合物と、アミノ基を有する化合物とをエタノ-ル等の溶媒中で混合させた後、水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤を反応させる方法等が挙げられる。 Further, for example, in the case where Z x is an alkylene group, the method for forming a bonding site with such an alkylene group includes a compound having an aldehyde structure and a compound having an amino group, as exemplified in the following formula (11) compound in a solvent such as ethanol, and then reacting with a reducing agent such as sodium borohydride.
式(10)及び式(11)において、得られる化合物は、カルボン酸がエステル構造で保護されている。エステル部位は、一般的に知られている脱エステル化反応等を行い脱保護することによって、カルボン酸に誘導することができる。このように、Zxの結合部位を形成する工程では、適宜保護基を導入しておいて、後に脱保護を行うことによって、本実施形態の化合物を製造することができる。 In formulas (10) and (11), the carboxylic acid in the resulting compound is protected with an ester structure. An ester site can be derived into a carboxylic acid by deprotecting it by performing a generally known de-esterification reaction or the like. Thus, in the step of forming the binding site of Zx , the compound of the present embodiment can be produced by appropriately introducing a protecting group and then deprotecting it.
上記を例とした公知の手法を組み合わせることによって、式(1)で表される化合物を得ることができる。それぞれの反応における出発物質の例であるカルボン酸構造を有する化合物、及び、アミノ基を有する化合物等についても、公知のカルボン酸誘導体の合成法、及び、アミノ化合物誘導体の合成法を適宜組み合わせることで製造することができる。 The compound represented by formula (1) can be obtained by combining known techniques exemplified above. A compound having a carboxylic acid structure and a compound having an amino group, which are examples of starting materials in each reaction, can be obtained by appropriately combining known methods for synthesizing carboxylic acid derivatives and amino compound derivatives. can be manufactured.
なお、「抗原と親和性のある構造体と架橋可能な部位」を有する置換基Bを有する式(1)で表される化合物についても、部分的に置換基Bの構造を有する化合物を合成する公知の手法を適宜組み合わせることで製造することができる。 As for the compound represented by the formula (1) having the substituent B having "the site capable of cross-linking with the structure having affinity for the antigen", a compound partially having the structure of the substituent B is synthesized. It can be produced by appropriately combining known techniques.
例えば、置換基Bが-C6H5NCS構造(式(D-1)で表される基)を有する化合物の製造方法としては、上記式(10)又は式(11)において原料のいずれかにニトロフェニル基を有する化合物を用い、Zxよる結合部位を形成する反応を行う。続いて、適宜脱保護反応を行い、エステル部位をカルボン酸へ変換した後、パラジウム触媒と水素を組み合わせて用いる等の一般的な還元剤によって、エタノール等の溶媒中でニトロ部位をアミンに変換した後、クロロホルム等の溶媒中でチオホスゲンと混合することによって、-C6H5NCS構造を有する化合物を製造することができる。 For example, as a method for producing a compound in which the substituent B has a —C 6 H 5 NCS structure (a group represented by the formula (D-1)), any of the raw materials in the above formula (10) or (11) A compound having a nitrophenyl group is used to perform a reaction to form a binding site by Z x . Subsequently, an appropriate deprotection reaction was performed to convert the ester site to a carboxylic acid, and then the nitro site was converted to an amine in a solvent such as ethanol using a common reducing agent such as a combination of a palladium catalyst and hydrogen. Compounds having the —C 6 H 5 NCS structure can be prepared by subsequent mixing with thiophosgene in a solvent such as chloroform.
[金属錯体]
次に、本実施形態の化合物に由来する配位子を有する金属錯体について説明する。
[Metal complex]
Next, a metal complex having a ligand derived from the compound of this embodiment will be described.
本実施形態の金属錯体は、上記化合物に金属元素が相互作用している。より具体的には、上記化合物中のヘテロ原子と金属元素とが相互作用しており、式(1)で表される化合物における含窒素複素環中の窒素原子及び/又は酸素含有官能基中の酸素原子と相互作用している。相互作用は、通常、配位結合である。 In the metal complex of the present embodiment, the metal element interacts with the above compound. More specifically, the heteroatom in the compound interacts with the metal element, and the nitrogen atom in the nitrogen-containing heterocycle and/or the oxygen-containing functional group in the compound represented by formula (1) It interacts with oxygen atoms. Interactions are usually coordinate bonds.
金属錯体は、式(1)で表される化合物のヘテロ原子(例えば、窒素含有複素環基中の窒素原子、1~3級アミン中の窒素原子、-OH(-O-を含む)中の酸素原子、-CO2H(-CO2 -を含む)中の酸素原子等)のいずれかいずれかと配位結合しており、配位結合の数は、好ましくは4~12個、より好ましくは6~10個である。本実施形態の化合物は、金属元素を結合させたときに、三次元的に上述の相互作用を示すことが可能である。なお、配位結合の形成の有無は、普及している3D分子構造をシミュレーションできるソフトウェアを用いた構造最適化計算によって、金属元素とヘテロ原子との距離を特定することにより確認することができる。 The metal complex is a heteroatom of the compound represented by formula (1) (e.g., a nitrogen atom in a nitrogen-containing heterocyclic group, a nitrogen atom in a primary to tertiary amine, -OH (including -O - ) an oxygen atom, an oxygen atom in —CO 2 H (including —CO 2 — ), and the number of coordinate bonds is preferably 4 to 12, more preferably 6 to 10. The compound of the present embodiment can three-dimensionally exhibit the above-described interaction when a metal element is bonded. The presence or absence of formation of coordinate bonds can be confirmed by specifying the distance between the metal element and the heteroatom by structural optimization calculation using software that can simulate the 3D molecular structure that is widely used.
式(1)で表される化合物に由来する配位子において、Q1、Q2、及びQ3の少なくとも2個は、群A、群B、又は群Cから選ばれる基である。ここで、群A、群B、又は群Cから選ばれる基の全てにおいて、それぞれ少なくとも1個のヘテロ原子が金属元素と相互作用していることが好ましく、少なくとも2個が金属元素と相互作用していることがより好ましく、少なくとも3個が金属元素と相互作用していることがさらに好ましい。 In the ligand derived from the compound represented by formula (1), at least two of Q 1 , Q 2 and Q 3 are groups selected from group A, group B or group C. Here, in all groups selected from Group A, Group B, or Group C, preferably at least one heteroatom interacts with the metal element, and at least two heteroatoms interact with the metal element. More preferably, at least three interact with the metal element.
金属元素は、無電荷であっても荷電しているイオンであってもよく、好ましくは荷電しているイオンである。金属元素が荷電している場合、好ましくは1~4価であり、より好ましくは2~4価である。 The metal elements may be uncharged or charged ions, preferably charged ions. When the metal element is charged, it preferably has a valence of 1 to 4, more preferably 2 to 4.
金属元素は、典型金属元素、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、遷移金属元素、又は希土類元素であってよく、放射性元素であっても非放射性元素であってもよい。 The metal element may be a typical metal element, an alkali metal element, an alkaline earth metal element, a transition metal element, or a rare earth element, and may be a radioactive element or a non-radioactive element.
非放射性元素である金属元素としては、例えば、Mg、Al、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Te、Ba、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、La、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hg、Tl、Pb、Biが挙げられる。非放射性元素である金属元素は、好ましくは、安定的に2~4価の金属カチオン状態として使用可能な金属元素である。 Examples of metal elements that are non-radioactive elements include Mg, Al, Ca, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Sr, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Te, Ba, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, La, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Hg, Tl, Pb, and Bi. The metal element, which is a non-radioactive element, is preferably a metal element that can be stably used as a divalent to tetravalent metal cation.
放射性元素である金属元素としては、例えば、44Sc、47Sc、51Cr、59Fe、57Co、58Co、60Cu、61Cu、62Cu、64Cu、67Cu、66Ga、67Ga,68Ga、75Se、83Sr、86Y、90Y、89Zr、99Mo、94mTc、99mTc、97Ru、103Ru、105Rh、109Pd、111Ag、110In、111In、114mIn、132La、135La、153Sm、149Tb、60Tb、161Tb、166Ho、167Tm、169Yb、177Lu、186Re、188Re、199Au、201Tl、212Pb、212Bi、213Bi、233Ra、225Ac、227Th、241Am、244Cmが挙げられる。放射性元素である金属元素は、好ましくは、2~4価の金属カチオン状態として使用可能な金属元素である。 Examples of metal elements that are radioactive elements include 44 Sc, 47 Sc, 51 Cr, 59 Fe, 57 Co, 58 Co, 60 Cu, 61 Cu, 62 Cu, 64 Cu , 67 Cu , 66 Ga, 67 Ga, 68 Ga, 75 Se, 83 Sr , 86 Y, 90 Y, 89 Zr, 99 Mo, 94m Tc, 99m Tc, 97 Ru, 103 Ru, 105 Rh, 109 Pd, 111 Ag, 110 In, 111 In, 114m In , 132 La, 135 La, 153 Sm, 149 Tb, 60 Tb, 161 Tb, 166 Ho, 167 Tm, 169 Yb, 177 Lu, 186 Re, 188 Re, 199 Au, 201 Tl, 212 Pbi, 212 B Bi, 233 Ra, 225 Ac, 227 Th, 241 Am, 244 Cm. The metal element, which is a radioactive element, is preferably a metal element that can be used as a divalent to tetravalent metal cation.
金属錯体1分子中に存在する金属元素の数は、1個であっても複数であってもよい。金属錯体1分子中に存在する金属元素の数は、好ましくは1個又は2個、より好ましくは1個である。 The number of metal elements present in one molecule of the metal complex may be one or more. The number of metal elements present in one molecule of the metal complex is preferably 1 or 2, more preferably 1.
金属錯体1分子中に存在する金属元素の種類は、1種類であっても2種類以上であってもよい。金属錯体1分子中に存在する金属元素の種類は、好ましくは1種類である。 The number of metal elements present in one molecule of the metal complex may be one or two or more. The number of metal elements present in one molecule of the metal complex is preferably one.
金属錯体は、金属錯体を電気的に中性にするための対イオンを含んでいてもよい。金属錯体が正に帯電している場合、これを中和する陰イオンが選ばれる。陰イオンとしては、例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、硫化物イオン、酸化物イオン、水酸化物イオン、水素化物イオン、リン酸イオン、酢酸イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、炭酸水素イオン、トリフルオロ酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン等が挙げられる。陰イオンは、好ましくは塩酸イオン又は酢酸イオンである。金属錯体が負に帯電している場合、これを中和する陽イオンが選ばれる。陽イオンとしては、例えば、プロトン、アンモニウムイオン、テトラアルキルアンモニウムイオン、テトラアリールホスホニウムイオン等が挙げられる。対イオンは複数存在していてもよく、それらは同一であっても異なっていてもよい。 The metal complex may contain a counterion to render the metal complex electrically neutral. If the metal complex is positively charged, an anion is chosen to neutralize it. Anions include, for example, fluoride ion, chloride ion, bromide ion, iodide ion, sulfide ion, oxide ion, hydroxide ion, hydride ion, phosphate ion, acetate ion, sulfate ion, nitric acid ions, bicarbonate ions, trifluoroacetate ions, trifluoromethanesulfonate ions, tetrafluoroborate ions, and the like. The anion is preferably hydrochloride or acetate. If the metal complex is negatively charged, a cation is chosen to neutralize it. Examples of cations include protons, ammonium ions, tetraalkylammonium ions, tetraarylphosphonium ions, and the like. A plurality of counterions may be present, and they may be the same or different.
金属錯体は、金属錯体化の反応時又は精製時に使用した溶媒等の中性分子を含んでいてもよい。中性分子としては、例えば、水、メタノール、エタノール、n-プロパノール、N,N-ジメチルホルミアミド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルスルホキシド、アセトン、クロロホルム、アセトニトリル、ベンゾニトリル、トリエチルアミン、ピリジン、ジエチルエーテル、酢酸、プロピオン酸、塩酸等が挙げられる。なお、中性分子は、複数存在していてもよく、それらは同一であっても異なっていてもよい。 The metal complex may contain neutral molecules such as the solvent used during the metal complexation reaction or purification. Examples of neutral molecules include water, methanol, ethanol, n-propanol, N,N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylsulfoxide, acetone, chloroform, acetonitrile, benzonitrile, triethylamine, pyridine. , diethyl ether, acetic acid, propionic acid, hydrochloric acid, and the like. A plurality of neutral molecules may exist, and they may be the same or different.
金属錯体は、置換基A又は置換基Bを1個有していることが好ましい。 The metal complex preferably has one substituent A or one substituent B.
本実施形態の金属錯体としては、例えば、下記式(H-1)~式(H-16)で表される金属錯体が挙げられる。これら金属錯体は置換基を有していてもよい。 Examples of the metal complex of this embodiment include metal complexes represented by the following formulas (H-1) to (H-16). These metal complexes may have a substituent.
式中、Mは金属元素を表す。Mとヘテロ原子との破線は、相互作用する可能性があることを表す。なお、Mとヘテロ原子との破線は、便宜的なものであり、必ずしも全ての破線において相互作用が存在することを意味するものではなく、一方、Mとヘテロ原子との破線が表記されていない箇所が、部分的に相互作用していてもよい。また、酸素アニオンとして表記されている部分の一部は、プロトンと結合してOH構造となっていてもよい。また、上記式で表される金属錯体は、上記のとおり、対イオン及び/又は中性分子を有していてもよく、上記の化合物に由来する配位子は置換基を有していてもよい。なお、Spは、「抗原と親和性のある構造体」を表す。 In the formula, M represents a metal element. Dashed lines between M and heteroatoms represent possible interactions. Note that the dashed lines between M and heteroatoms are for convenience and do not necessarily mean that interactions exist in all dashed lines, while the dashed lines between M and heteroatoms are not shown. The points may be partially interacting. Also, part of the moieties represented as oxygen anions may combine with protons to form an OH structure. Further, the metal complex represented by the above formula may have a counterion and/or a neutral molecule as described above, and the ligand derived from the above compound may have a substituent. good. In addition, Sp represents "a structure having an affinity for an antigen".
[金属錯体の製造方法]
次に、本実施形態の金属錯体の製造方法について説明する。本実施形態の金属錯体の製造方法は、金属元素を付与する反応剤と式(1)で表される化合物とを混合する工程を備えている。
[Method for producing metal complex]
Next, a method for producing the metal complex of this embodiment will be described. The method for producing a metal complex according to the present embodiment includes a step of mixing a reactant that imparts a metal element and the compound represented by formula (1).
本実施形態の金属錯体は、例えば、本実施形態の化合物を有機化学的に合成した後、得られた化合物を、金属元素を付与する反応剤(以下、「金属付与剤」という場合がある。)と混合し、反応させることにより得られる。反応させる金属付与剤の量は、目的とする金属錯体に応じて適宜調整することができる。 For example, the metal complex of the present embodiment is obtained by organically synthesizing the compound of the present embodiment, and then using the obtained compound as a reactant for imparting a metal element (hereinafter, sometimes referred to as a "metal imparting agent". ) and reacted. The amount of the metal-providing agent to be reacted can be appropriately adjusted according to the desired metal complex.
金属付与剤としては、例えば、上記で例示した金属元素の酢酸塩、フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、硫酸塩、炭酸塩、硝酸塩、酢酸塩、水酸化物、過塩素酸塩、トリフルオロ酢酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩、テトラフェニルホウ酸塩等が挙げられる。金属付与剤は、好ましくは金属元素の塩化物又は酢酸塩である。金属付与剤は、水和物であってもよい。 Examples of the metal imparting agent include acetates, fluorides, chlorides, bromides, iodides, sulfates, carbonates, nitrates, acetates, hydroxides, perchlorates, and tris of the metal elements exemplified above. fluoroacetate, trifluoromethanesulfonate, tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, tetraphenylborate and the like. The metal donating agent is preferably a chloride or acetate of a metal element. The metal imparting agent may be a hydrate.
化合物と金属付与剤との反応は、溶媒(すなわち、反応溶媒)中で行うことが好ましい。 The reaction between the compound and the metal donating agent is preferably carried out in a solvent (ie reaction solvent).
反応溶媒としては、例えば、水、酢酸、プロピオン酸、塩酸、アンモニア水、メタノール、エタノール、n-プロパノール、N,N-ジメチルホルミアミド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルスルホキシド、アセトン、クロロホルム、アセトニトリル、ベンゾニトリル、トリエチルアミン、ピリジン、ジエチルエーテル等が挙げられる。反応溶媒は、1種単独で用いてもよく、2種以上混合して用いてもよい。反応溶媒は、例えば、反応液のpHを調整するための酸、塩基、緩衝剤等の別成分を含有していてもよい。 Examples of reaction solvents include water, acetic acid, propionic acid, hydrochloric acid, aqueous ammonia, methanol, ethanol, n-propanol, N,N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylsulfoxide, acetone, and chloroform. , acetonitrile, benzonitrile, triethylamine, pyridine, diethyl ether and the like. The reaction solvent may be used singly or in combination of two or more. The reaction solvent may contain other components such as acids, bases and buffers for adjusting the pH of the reaction solution.
反応温度は、通常、-10~200℃であり、好ましくは0~100℃、より好ましくは10~40℃である。反応時間は、通常、1分~1週間であり、好ましくは1分~24時間、より好ましくは1分~6時間である。 The reaction temperature is usually -10 to 200°C, preferably 0 to 100°C, more preferably 10 to 40°C. The reaction time is generally 1 minute to 1 week, preferably 1 minute to 24 hours, more preferably 1 minute to 6 hours.
これら反応溶媒、反応温度、反応時間等の条件は、化合物の種類、金属付与剤の種類等に合わせて適宜最適化できる。 Conditions such as the reaction solvent, reaction temperature, and reaction time can be appropriately optimized according to the type of compound, the type of metal-providing agent, and the like.
金属錯体を単離精製する場合、反応後の精製方法としては、公知の再結晶法、再沈殿法、クロマトグラフィー法等から適宜最適な手段を選択して用いることができる。条件によっては、生成した金属錯体が析出する場合があり、析出した金属錯体をろ過操作により分取しても、金属錯体を単離精製することができる。 In the case of isolating and purifying the metal complex, as a purification method after the reaction, an optimum method can be appropriately selected and used from known recrystallization methods, reprecipitation methods, chromatography methods, and the like. Depending on the conditions, the produced metal complex may precipitate, and the metal complex can be isolated and purified by separating the precipitated metal complex by filtration.
置換基Aを有する金属錯体は、置換基Aを有する化合物に対して金属付与剤を反応させることにより得ることができる。また、置換基Bを有する化合物に対して金属付与剤を反応させ錯体とした後、上記式(6)~式(8)に例示する、「抗原と親和性のある構造体」と、「架橋可能な部位」との結合反応を行うことによっても得ることができる。 A metal complex having substituent A can be obtained by reacting a compound having substituent A with a metal-donating agent. In addition, after reacting a compound having a substituent B with a metal-donating agent to form a complex, the "structure having affinity for the antigen" and the "crosslinking" exemplified in the above formulas (6) to (8) It can also be obtained by performing a binding reaction with "possible sites".
[化合物及び/又は金属錯体の有用性]
次に、本実施形態の化合物及び/又は金属錯体の有用性について説明する。
[Utility of compound and/or metal complex]
Next, usefulness of the compound and/or metal complex of the present embodiment will be described.
本実施形態の化合物は、例えば、Co、Fe、Ni等の酸化還元活性のある金属元素と錯体化させることによって、過酸化水素分解等の反応の触媒、二酸化炭素還元の電極触媒などに利用することができる。 The compound of the present embodiment is used as a catalyst for reactions such as decomposition of hydrogen peroxide, an electrode catalyst for carbon dioxide reduction, etc., by forming a complex with a metal element having oxidation-reduction activity such as Co, Fe, Ni, etc. be able to.
本実施形態のいくつかの形態の化合物は、金属保持力が高いため、非常に低濃度の金属と錯体を形成できる。そのため、例えば、放射性廃棄物中又は海水中から有価金属元素を捕集することができる。いくつかの形態の化合物は、金属元素と強く配位結合を形成するため、例えば、金属粒子の表面被覆材として使用することができる。本実施形態のいくつかの形態の化合物は、特定の金属元素を用いることで発光特性を付与することが可能であり、発光材料として使用することができる。さらに、本実施形態のいくつかの形態の化合物を配位子として用いた場合、放射性金属元素の保持力が高いため、放射性医薬に用いることができる。 Some forms of the compounds of this embodiment have high metal retention and can form complexes with very low concentrations of metals. Therefore, for example, valuable metal elements can be collected from radioactive waste or seawater. Some forms of the compound form strong coordination bonds with metal elements, and therefore can be used, for example, as surface coating materials for metal particles. Some forms of the compound of the present embodiment can be given luminescent properties by using a specific metal element, and can be used as a luminescent material. Furthermore, when some forms of the compounds of this embodiment are used as ligands, they can be used in radiopharmaceuticals because of their high retention of radiometal elements.
以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below based on examples, but the present invention is not limited to these.
化合物の構造は、核磁気共鳴(NMR)分光法、質量分析法(MS)等の公知の方法で、その構造を確認した。 The structures of the compounds were confirmed by known methods such as nuclear magnetic resonance (NMR) spectroscopy and mass spectroscopy (MS).
以下において、中圧分取カラムクロマトグラフィーは、山善株式会社製EPCLC-AI-580Sに、逆相カラムとして山善株式会社製のODS M W917とODS-SM L UW113とを連結したものを用いた。
ゲルろ過カラムクロマトグラフィーは、日本分析工業社製LC-9104に、カラムとして日本分析工業社製のJAIGEL-2H-40とJAIGEL-1H-40とを連結したものを用いた。
NMR測定にはBRUKER社製AV NEO 300MHz NMRスペクトロメーターを用いた。
紫外可視吸収スペクトル分析は島津製作所製UV-2400PCを用いた。
In the following medium-pressure preparative column chromatography, EPCLC-AI-580S manufactured by Yamazen Co., Ltd. and ODS M W917 and ODS-SM L UW113 manufactured by Yamazen Co., Ltd. connected as reversed-phase columns were used.
For gel filtration column chromatography, JAIGEL-2H-40 and JAIGEL-1H-40 manufactured by Nippon Analytical Industry Co., Ltd. were connected to LC-9104 manufactured by Nippon Analytical Industry Co., Ltd. as columns.
An AV NEO 300 MHz NMR spectrometer manufactured by BRUKER was used for the NMR measurement.
UV-visible absorption spectrum analysis was performed using Shimadzu UV-2400PC.
合成例1
<化合物(S-2)の合成>
<Synthesis of Compound (S-2)>
反応容器内を窒素ガス雰囲気にした後、3,6,9-トリオキサウンデカン-1,11-二酸0.250g(0.788mmol)、塩化オキサリル6.00g(47.3mmol)、及びDMF0.0600mLを加え、65℃に昇温して還流させながら1時間撹拌した後、未反応の塩化オキサリル及びDMFを減圧濃縮した。別の反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、室温で化合物(S-1)0.455g(1.97mmol)をDMF11.0mLに溶解させた。この溶液を上記反応液に滴下し、室温で15分間撹拌した後にトリエチルアミン0.239g(2.36mmol)を滴下した。上記反応液をさらに2時間撹拌した後、減圧濃縮により乾固させた。この粗生成物をメタノールに再溶解させ、水/メタノール及びアセトニトリル/メタノールを移動相とする逆相クロマトグラフィーにより精製した。分取した溶液を減圧濃縮、減圧乾燥することにより化合物(S-2)を収率41%で得た。得られた化合物(S-2)の同定データを以下に示す。 After the inside of the reaction vessel was replaced with a nitrogen gas atmosphere, 0.250 g (0.788 mmol) of 3,6,9-trioxaundecane-1,11-dioic acid, 6.00 g (47.3 mmol) of oxalyl chloride, and 0.00 g (47.3 mmol) of DMF were added. 0600 mL was added, and the mixture was heated to 65° C. and stirred for 1 hour while refluxing, and then unreacted oxalyl chloride and DMF were concentrated under reduced pressure. After creating a nitrogen gas atmosphere in another reaction vessel, 0.455 g (1.97 mmol) of compound (S-1) was dissolved in 11.0 mL of DMF at room temperature. This solution was added dropwise to the above reaction solution, and after stirring for 15 minutes at room temperature, 0.239 g (2.36 mmol) of triethylamine was added dropwise. After the above reaction solution was further stirred for 2 hours, it was concentrated to dryness under reduced pressure. The crude product was redissolved in methanol and purified by reverse phase chromatography using water/methanol and acetonitrile/methanol mobile phases. The collected solution was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure to obtain compound (S-2) with a yield of 41%. Identification data of the obtained compound (S-2) are shown below.
1H-NMR(300MHz,DMSO-d6):δ(ppm)=3.74(d,J=3.3Hz,8H),3.96(s,6H),4.14(s,4H),7.16(d,J=8.6Hz,2H),7.51(d,J=8.2Hz,2H),8.08(d,J=8.6Hz,2H),8.36(d,J=8.2Hz,2H),9.69(s,2H),10.0(br,2H). 1 H-NMR (300 MHz, DMSO-d6): δ (ppm) = 3.74 (d, J = 3.3 Hz, 8H), 3.96 (s, 6H), 4.14 (s, 4H), 7.16 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.51 (d, J = 8.2 Hz, 2H), 8.08 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 8.36 (d , J=8.2 Hz, 2H), 9.69 (s, 2H), 10.0 (br, 2H).
実施例1
<化合物(G-1)の合成>
<Synthesis of compound (G-1)>
反応容器内を窒素ガス雰囲気にした後、化合物(S-2)130mg(0.205mmol)を、メタノール3.06mL及び水1.53mLの混合溶媒に加え溶解させた。ここに4.0M水酸化ナトリウム水溶液1.52mLを滴下し室温で30分間撹拌した。次に上記反応液に36%塩酸水溶液を0.530mL滴下し30分間撹拌した後、減圧濃縮により乾固させた。この粗生成物を水に再溶解させ、水/メタノール及びアセトニトリル/メタノールを移動相とする逆相クロマトグラフィーにより精製した。分取した溶液を減圧濃縮、減圧乾燥することにより化合物(G-1)の生成をNMRで確認した。得られた化合物(G-1)の同定データを以下に示す。 After the inside of the reaction vessel was replaced with a nitrogen gas atmosphere, 130 mg (0.205 mmol) of compound (S-2) was dissolved in a mixed solvent of 3.06 mL of methanol and 1.53 mL of water. 1.52 mL of a 4.0 M sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. Next, 0.530 mL of a 36% hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise to the above reaction solution, and after stirring for 30 minutes, the solution was concentrated under reduced pressure to dryness. The crude product was redissolved in water and purified by reverse phase chromatography using water/methanol and acetonitrile/methanol mobile phases. The separated solution was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure to confirm the production of compound (G-1) by NMR. Identification data of the obtained compound (G-1) are shown below.
1H-NMR(300MHz,DMSO-d6):δ(ppm)=3.94(br,8H),4.25(s,4H),6.92(d,J=8.1Hz,2H),7.19(d,J=8.1Hz,2H),7.83(d,J=8.7Hz,2H),8.00(d,J=8.7Hz,2H). 1 H-NMR (300 MHz, DMSO-d6): δ (ppm) = 3.94 (br, 8H), 4.25 (s, 4H), 6.92 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 7.19 (d, J=8.1 Hz, 2H), 7.83 (d, J=8.7 Hz, 2H), 8.00 (d, J=8.7 Hz, 2H).
合成例2
<化合物(S-4)の合成>
<Synthesis of compound (S-4)>
反応容器内を窒素ガス雰囲気にした後、3,6,9-トリオキサウンデカン-1,11-二酸80.0mg(0.252mmol)、塩化オキサリル1.92g(15.1mmol)、及びDMF0.0190mLを加え、65℃に昇温して還流させながら1時間撹拌した後、未反応の塩化オキサリル及びDMFを減圧濃縮した。別の反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、室温でジメチル-4-アミノピリジン-2,6-ジカルボキシレート(化合物(S-3))0.135g(0.630mmol)をDMF3.53mLに溶解させた。この溶液を上記反応液に滴下し、室温で10分間撹拌した後にトリエチルアミン0.0770g(0.756mmol)を滴下した。上記反応液をさらに3時間撹拌した後、減圧濃縮により乾固させた。この粗生成物をメタノールに再溶解させ、水/メタノール及びアセトニトリル/メタノールを移動相とする逆相クロマトグラフィーにより精製した。分取した溶液を減圧濃縮、減圧乾燥することにより化合物(S-4)を収率54%で得た。得られた化合物(S-4)の同定データを以下に示す。 After the inside of the reaction vessel was replaced with a nitrogen gas atmosphere, 80.0 mg (0.252 mmol) of 3,6,9-trioxaundecane-1,11-dioic acid, 1.92 g (15.1 mmol) of oxalyl chloride, and 0.92 g (15.1 mmol) of DMF were added. 0190 mL was added, and the mixture was heated to 65° C. and stirred for 1 hour while refluxing, and then unreacted oxalyl chloride and DMF were concentrated under reduced pressure. After making the inside of another reaction vessel a nitrogen gas atmosphere, 0.135 g (0.630 mmol) of dimethyl-4-aminopyridine-2,6-dicarboxylate (compound (S-3)) was added to 3.53 mL of DMF at room temperature. Dissolved. This solution was added dropwise to the above reaction solution, and after stirring for 10 minutes at room temperature, 0.0770 g (0.756 mmol) of triethylamine was added dropwise. After the above reaction solution was further stirred for 3 hours, it was concentrated to dryness under reduced pressure. The crude product was redissolved in methanol and purified by reverse phase chromatography using water/methanol and acetonitrile/methanol mobile phases. The collected solution was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure to obtain compound (S-4) with a yield of 54%. Identification data of the obtained compound (S-4) are shown below.
1H-NMR(300MHz,DMSO-d6):δ(ppm)=3.70(m,8H),3.91(s,12H),4.19(s,4H),8.56(s,4H),10.5(s,2H). 1 H-NMR (300 MHz, DMSO-d6): δ (ppm) = 3.70 (m, 8H), 3.91 (s, 12H), 4.19 (s, 4H), 8.56 (s, 4H), 10.5(s, 2H).
実施例2
<化合物(G-10)の合成>
<Synthesis of compound (G-10)>
反応容器内を窒素ガス雰囲気にした後、化合物(S-4)68.0mg(0.110mmol)を、メタノール1.61mL及び水1.61mLの混合溶媒に加え溶解させた。ここに4.0M水酸化ナトリウム水溶液0.410mLを滴下し室温で30分間撹拌した。次に上記反応液に36%塩酸水溶液を0.142mL滴下し30分間撹拌した後、減圧濃縮により乾固させた。この粗生成物を水に再溶解させ、水/メタノール及びアセトニトリル/メタノールを移動相とする逆相クロマトグラフィーにより精製した。分取した溶液を減圧濃縮、減圧乾燥することにより化合物(G-10)の生成をNMRで確認した。得られた化合物(G-10)の同定データを以下に示す。 After the inside of the reaction vessel was replaced with a nitrogen gas atmosphere, 68.0 mg (0.110 mmol) of compound (S-4) was dissolved in a mixed solvent of 1.61 mL of methanol and 1.61 mL of water. 0.410 mL of a 4.0 M sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. Next, 0.142 mL of a 36% hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise to the above reaction solution, and after stirring for 30 minutes, the solution was concentrated under reduced pressure to dryness. The crude product was redissolved in water and purified by reverse phase chromatography using water/methanol and acetonitrile/methanol mobile phases. The collected solution was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure to confirm the production of compound (G-10) by NMR. Identification data of the obtained compound (G-10) are shown below.
1H-NMR(300MHz,DMSO-d6):δ(ppm)=3.64(m,8H),4.20(s,4H),8.54(s,4H),10.9(s,2H). 1 H-NMR (300 MHz, DMSO-d6): δ (ppm) = 3.64 (m, 8H), 4.20 (s, 4H), 8.54 (s, 4H), 10.9 (s, 2H).
合成例3
<化合物(S-5)の合成>
<Synthesis of Compound (S-5)>
反応容器内を窒素ガス雰囲気にした後、4,7,10,13,16-ペンタオキサノナデカン-1,19-二酸80.0mg(0.166mmol)、塩化オキサリル1.26g(9.93mmol)、及びDMF0.0130mLを加え、65℃に昇温して還流させながら1時間撹拌した後、未反応の塩化オキサリル及びDMFを減圧濃縮した。別の反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、室温で化合物(S-3)0.0890g(0.414mmol)をDMF3.36mLに溶解させた。この溶液を上記反応液に滴下し、室温で5分間撹拌した後にトリエチルアミン0.0500g(0.497mmol)を滴下した。上記反応液をさらに3時間撹拌した後、減圧濃縮により乾固させた。この粗生成物をメタノールに再溶解させ、水/メタノール及びアセトニトリル/メタノールを移動相とする逆相クロマトグラフィーにより精製した。分取した溶液を減圧濃縮、減圧乾燥することにより化合物(S-5)を収率40%で得た。得られた化合物(S-5)の同定データを以下に示す。 After making the inside of the reaction vessel a nitrogen gas atmosphere, 80.0 mg (0.166 mmol) of 4,7,10,13,16-pentaoxanonadecane-1,19-dioic acid and 1.26 g (9.93 mmol) of oxalyl chloride were added. ), and 0.0130 mL of DMF were added, and the mixture was heated to 65° C. and stirred for 1 hour while refluxing, and then unreacted oxalyl chloride and DMF were concentrated under reduced pressure. After creating a nitrogen gas atmosphere in another reaction vessel, 0.0890 g (0.414 mmol) of compound (S-3) was dissolved in 3.36 mL of DMF at room temperature. This solution was added dropwise to the above reaction solution, and after stirring for 5 minutes at room temperature, 0.0500 g (0.497 mmol) of triethylamine was added dropwise. After the above reaction solution was further stirred for 3 hours, it was concentrated to dryness under reduced pressure. The crude product was redissolved in methanol and purified by reverse phase chromatography using water/methanol and acetonitrile/methanol mobile phases. The collected solution was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure to obtain compound (S-5) with a yield of 40%. Identification data of the obtained compound (S-5) are shown below.
1H-NMR(300MHz,CDCl3):δ(ppm)=2.68(t,J=6.0Hz,4H),3.64(m,16H),3.79(t,J=6.0Hz,4H),3.97(s,12H),8.56(s,4H),9.66(s,2H). 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ): δ (ppm) = 2.68 (t, J = 6.0 Hz, 4H), 3.64 (m, 16H), 3.79 (t, J = 6.0 Hz). 0 Hz, 4H), 3.97 (s, 12H), 8.56 (s, 4H), 9.66 (s, 2H).
実施例3
<化合物(G-12)の合成>
<Synthesis of compound (G-12)>
反応容器内を窒素ガス雰囲気にした後、化合物(S-5)48.0mg(0.0650mmol)を、メタノール1.14mL及び水1.14mLの混合溶媒に加え溶解させた。ここに4.0M水酸化ナトリウム水溶液0.195mLを滴下し室温で1時間撹拌した。次に上記反応液に36%塩酸水溶液を0.0670mL滴下し30分間撹拌した後、減圧濃縮により乾固させた。この粗生成物を水に再溶解させ、水/メタノール及びアセトニトリル/メタノールを移動相とする逆相クロマトグラフィーにより精製した。分取した溶液を減圧濃縮、減圧乾燥することにより化合物(G-12)の生成をNMRで確認した。得られた化合物(G-12)の同定データを以下に示す。 After a nitrogen gas atmosphere was created in the reaction vessel, 48.0 mg (0.0650 mmol) of compound (S-5) was dissolved in a mixed solvent of 1.14 mL of methanol and 1.14 mL of water. 0.195 mL of 4.0 M sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Next, 0.0670 mL of a 36% hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise to the above reaction solution, and after stirring for 30 minutes, the solution was concentrated under reduced pressure to dryness. The crude product was redissolved in water and purified by reverse phase chromatography using water/methanol and acetonitrile/methanol mobile phases. The collected solution was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure to confirm the production of compound (G-12) by NMR. Identification data of the obtained compound (G-12) are shown below.
1H-NMR(300MHz,DMSO-d6):δ(ppm)=2.63(t,J=6.0Hz,4H),3.46(m,16H),3.71(t,J=6.0Hz,4H),8.45(s,4H),10.8(s,2H). 1 H-NMR (300 MHz, DMSO-d6): δ (ppm) = 2.63 (t, J = 6.0 Hz, 4H), 3.46 (m, 16H), 3.71 (t, J = 6 .0Hz, 4H), 8.45(s, 4H), 10.8(s, 2H).
合成例4
<化合物(S-6)の合成>
<Synthesis of compound (S-6)>
反応容器内を窒素ガス雰囲気にした後、5-ニトロ-1,10-フェナントロリン-2,9-二酸水和物50.0mg(0.160mmol)、塩化オキサリル0.406g(3.19mmol)、及びメタノール0.588mLを加えた。室温で1間撹拌した後、水3.00mLを加え析出した黄色沈殿をろ過した。得られたろ過物を水3.00mLで洗浄した後、減圧乾燥して化合物(S-6)を収率83%で得た。得られた化合物(S-6)の同定データを以下に示す。 After creating a nitrogen gas atmosphere in the reaction vessel, 50.0 mg (0.160 mmol) of 5-nitro-1,10-phenanthroline-2,9-dioic acid hydrate, 0.406 g (3.19 mmol) of oxalyl chloride, and 0.588 mL of methanol were added. After stirring for 1 hour at room temperature, 3.00 mL of water was added and the precipitated yellow precipitate was filtered. The resulting filtrate was washed with 3.00 mL of water and then dried under reduced pressure to obtain compound (S-6) with a yield of 83%. Identification data of the obtained compound (S-6) are shown below.
1H-NMR(300MHz,CDCl3):δ(ppm)=4.05(s,6H),8.53(d,J=8.4Hz,1H),8.56(d,J=9.0Hz,1H),9.01(d,J=8.4Hz,1H),9.10(d,J=9.0Hz,1H),9.24(s,1H). 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ): δ (ppm)=4.05 (s, 6H), 8.53 (d, J=8.4 Hz, 1H), 8.56 (d, J=9. 0 Hz, 1 H), 9.01 (d, J = 8.4 Hz, 1 H), 9.10 (d, J = 9.0 Hz, 1 H), 9.24 (s, 1 H).
合成例5
<化合物(S-7)の合成>
<Synthesis of Compound (S-7)>
反応容器内を窒素ガス雰囲気にした後、化合物(S-6)42.0mg(0.123mmol)、Pd/fibroin33.6mg、メタノール10.6mLを加えた。反応容器内を再度窒素ガス置換した後に水素雰囲気にした。室温で2日間撹拌した後、ろ過を行いろ液を得た。得られたろ液を濃縮し、減圧乾燥して化合物(S-7)を収率37%で得た。得られた化合物(S-7)の同定データを以下に示す。 After the inside of the reaction vessel was filled with a nitrogen gas atmosphere, 42.0 mg (0.123 mmol) of compound (S-6), 33.6 mg of Pd/fibroin, and 10.6 mL of methanol were added. After the inside of the reaction vessel was replaced with nitrogen gas again, the atmosphere was made into a hydrogen atmosphere. After stirring at room temperature for 2 days, filtration was performed to obtain a filtrate. The resulting filtrate was concentrated and dried under reduced pressure to obtain compound (S-7) with a yield of 37%. Identification data of the obtained compound (S-7) are shown below.
1H-NMR(300MHz,CD3OD):δ(ppm)=4.08(s,6H),7.09(s,1H),8.30(d,J=9.0Hz,1H),8.32(d,J=9.0Hz,1H),8.48(d,J=9.0Hz,1H),8.89(d,J=9.0Hz,1H). 1 H-NMR (300 MHz, CD 3 OD): δ (ppm) = 4.08 (s, 6H), 7.09 (s, 1H), 8.30 (d, J = 9.0Hz, 1H), 8.32 (d, J=9.0 Hz, 1 H), 8.48 (d, J=9.0 Hz, 1 H), 8.89 (d, J=9.0 Hz, 1 H).
合成例6
<化合物(S-8)の合成>
<Synthesis of Compound (S-8)>
反応容器内を窒素ガス雰囲気にした後、4,7,10,13,16-ペンタオキサノナデカン-1,19-二酸9.15mg(0.0190mmol)、塩化オキサリル0.142g(0.0960mmol)、及びDMF1μLを加え、65℃に昇温して還流させながら30分間撹拌した後、未反応の塩化オキサリル及びDMFを減圧濃縮した。別の反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、室温で化合物(S-7)15.0mg(0.0470mmol)をDMF0.397mLに溶解させた。この溶液を上記反応液に滴下し、室温で10分間撹拌した後にトリエチルアミン10mg(0.0560mmol)を滴下した。上記反応液をさらに1時間撹拌した後、減圧濃縮により乾固させた。この粗生成物をメタノールに再溶解させ、水/メタノール及びアセトニトリル/メタノールを移動相とする逆相クロマトグラフィーにより精製した。分取した溶液を減圧濃縮、減圧乾燥することにより化合物(S-8)を得た。化合物(S-8)の生成は下記のとおりマススペクトル分析により確認した。 After making the inside of the reaction vessel a nitrogen gas atmosphere, 9.15 mg (0.0190 mmol) of 4,7,10,13,16-pentaoxanonadecane-1,19-dioic acid and 0.142 g (0.0960 mmol) of oxalyl chloride were added. ), and 1 μL of DMF were added, and the mixture was heated to 65° C. and stirred for 30 minutes while refluxing, and then unreacted oxalyl chloride and DMF were concentrated under reduced pressure. After creating a nitrogen gas atmosphere in another reaction vessel, 15.0 mg (0.0470 mmol) of compound (S-7) was dissolved in 0.397 mL of DMF at room temperature. This solution was added dropwise to the above reaction solution, and after stirring for 10 minutes at room temperature, 10 mg (0.0560 mmol) of triethylamine was added dropwise. The above reaction solution was further stirred for 1 hour and then concentrated to dryness under reduced pressure. The crude product was redissolved in methanol and purified by reverse phase chromatography using water/methanol and acetonitrile/methanol mobile phases. The separated solution was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure to obtain compound (S-8). The production of compound (S-8) was confirmed by mass spectrometry as described below.
HRMS(ESI)m/z(M+H)+ calcd for C40H36N6O13:809.2,found:809.2. HRMS ( ESI) m/z (M+H) + calcd for C40H36N6O13 : 809.2 , found : 809.2.
実施例4
<化合物(G-13)の合成>
<Synthesis of compound (G-13)>
化合物(G-13)を、実施例3に記載した化合物(S-5)の代わりに化合物(S-8)を用い、実施例3と同様の方法で合成した。化合物(G-13)の生成は下記のとおりマススペクトル分析により確認した。 Compound (G-13) was synthesized in the same manner as in Example 3 using compound (S-8) instead of compound (S-5) described in Example 3. The production of compound (G-13) was confirmed by mass spectrometry as described below.
HRMS(ESI)m/z(M+H)+ calcd for C36H28N6O13:753.2,found:753.2. HRMS ( ESI) m/z (M+H) + calcd for C36H28N6O13 : 753.2 , found : 753.2.
合成例7
<化合物(S-9)の合成>
<Synthesis of Compound (S-9)>
反応容器内を窒素ガス雰囲気にした後、N,N’,N’’-トリス(カルボキシエトキシエチル)アミン塩酸塩0.110g(0.272mmol)、塩化オキサリル1.55g(12.2mmol)、及びDMF0.0190mLを加え、2時間撹拌した後、未反応の塩化オキサリル及びDMFを減圧濃縮した。別の反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、室温で化合物(S-1)0.297g(1.36mmol)をDMF2.72mLに溶解させた。この溶液を上記反応液に滴下し、室温で10分間撹拌した後にトリエチルアミン0.138g(1.36mmol)を滴下した。上記反応液をさらに20時間撹拌した後、減圧濃縮により乾固させた。この粗生成物をメタノールに再溶解させ、水/メタノール及びアセトニトリル/メタノールを移動相とする逆相クロマトグラフィーにより精製した。分取した溶液を減圧濃縮、減圧乾燥することにより化合物(S-9)を収率38%で得た。 After creating a nitrogen gas atmosphere in the reaction vessel, 0.110 g (0.272 mmol) of N,N′,N″-tris(carboxyethoxyethyl)amine hydrochloride, 1.55 g (12.2 mmol) of oxalyl chloride, and After adding 0.0190 mL of DMF and stirring for 2 hours, unreacted oxalyl chloride and DMF were concentrated under reduced pressure. After creating a nitrogen gas atmosphere in another reaction vessel, 0.297 g (1.36 mmol) of compound (S-1) was dissolved in 2.72 mL of DMF at room temperature. This solution was added dropwise to the above reaction solution, and after stirring for 10 minutes at room temperature, 0.138 g (1.36 mmol) of triethylamine was added dropwise. After the above reaction solution was further stirred for 20 hours, it was concentrated to dryness under reduced pressure. The crude product was redissolved in methanol and purified by reverse phase chromatography using water/methanol and acetonitrile/methanol mobile phases. The collected solution was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure to obtain compound (S-9) with a yield of 38%.
実施例5
<化合物(G-5)の合成>
<Synthesis of compound (G-5)>
化合物(S-9)0.013g(0.016mmol)をメタノール0.16mLと水0.16mLの混合溶媒に加え溶解させた。ここに4.0M水酸化ナトリウム水溶液0.06mLを滴下し室温で2時間撹拌した。氷水浴中で0℃に冷却した後に6M塩酸を滴下し、析出した白色固体をろ過することにより化合物(G-5)を得た。得られた化合物(G-5)の同定データを以下に示す。 0.013 g (0.016 mmol) of compound (S-9) was dissolved in a mixed solvent of 0.16 mL of methanol and 0.16 mL of water. 0.06 mL of a 4.0 M sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After cooling to 0° C. in an ice water bath, 6M hydrochloric acid was added dropwise, and the precipitated white solid was filtered to obtain compound (G-5). Identification data of the obtained compound (G-5) are shown below.
1H-NMR(300MHz,DMSO-d6):δ(ppm)=2.69(t,J=6.6Hz,6H),3.45(t,J=6.6Hz,6H),3.73(t,J=6.6Hz,6H),3.75(t,J=6.6Hz,6H),7.16(d,J=7.8Hz,3H),7.60(d,J=7.8Hz,3H),8.15(d,J=7.8Hz,3H),8.50(d,J=7.8Hz,3H),9.96(s,3H),10.18(s,3H),13.00(s,3H). 1 H-NMR (300 MHz, DMSO-d6): δ (ppm) = 2.69 (t, J = 6.6 Hz, 6H), 3.45 (t, J = 6.6 Hz, 6H), 3.73 (t, J = 6.6 Hz, 6H), 3.75 (t, J = 6.6 Hz, 6H), 7.16 (d, J = 7.8 Hz, 3H), 7.60 (d, J = 7.8Hz, 3H), 8.15 (d, J = 7.8Hz, 3H), 8.50 (d, J = 7.8Hz, 3H), 9.96 (s, 3H), 10.18 ( s, 3H), 13.00 (s, 3H).
合成例8
<化合物(S-10)の合成>
<Synthesis of compound (S-10)>
反応容器内を窒素ガス雰囲気にした後、N,N’,N’’-トリス(カルボキシエトキシエチル)アミン塩酸塩0.130g(0.322mmol)、塩化オキサリル1.84g(14.5mmol)、及びDMF0.0190mLを加え、2時間撹拌した後、未反応の塩化オキサリル及びDMFを減圧濃縮した。別の反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、室温で化合物(S-3)0.245g(1.13mmol)をDMF3.22mLに溶解させた。この溶液を上記反応液に滴下し、室温で10分間撹拌した後にトリエチルアミン0.114g(1.13mmol)を滴下した。上記反応液をさらに20時間撹拌した後、減圧濃縮により乾固させた。この粗生成物をメタノールに再溶解させ、水/メタノール及びアセトニトリル/メタノールを移動相とする逆相クロマトグラフィーにより精製した。分取した溶液を減圧濃縮、減圧乾燥することにより化合物(S-10)を収率20%で得た。得られた化合物(S-10)の同定データを以下に示す。 After creating a nitrogen gas atmosphere in the reaction vessel, 0.130 g (0.322 mmol) of N,N′,N″-tris(carboxyethoxyethyl)amine hydrochloride, 1.84 g (14.5 mmol) of oxalyl chloride, and After adding 0.0190 mL of DMF and stirring for 2 hours, unreacted oxalyl chloride and DMF were concentrated under reduced pressure. After creating a nitrogen gas atmosphere in another reaction vessel, 0.245 g (1.13 mmol) of compound (S-3) was dissolved in 3.22 mL of DMF at room temperature. This solution was added dropwise to the above reaction solution, and after stirring for 10 minutes at room temperature, 0.114 g (1.13 mmol) of triethylamine was added dropwise. After the above reaction solution was further stirred for 20 hours, it was concentrated to dryness under reduced pressure. The crude product was redissolved in methanol and purified by reverse phase chromatography using water/methanol and acetonitrile/methanol mobile phases. The collected solution was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure to obtain compound (S-10) with a yield of 20%. Identification data of the obtained compound (S-10) are shown below.
1H-NMR(300MHz,DMSO-d6):δ(ppm)=2.73(t,J=6.3Hz,6H),2.89(t,J=6.3Hz,6H),2.36(t,J=6.3Hz,6H),3.77(t,J=6.3Hz,6H),3.87(s,18H),7.40(s,6H),10.60(s,3H). 1 H-NMR (300 MHz, DMSO-d6): δ (ppm) = 2.73 (t, J = 6.3 Hz, 6H), 2.89 (t, J = 6.3 Hz, 6H), 2.36 (t, J = 6.3 Hz, 6H), 3.77 (t, J = 6.3 Hz, 6H), 3.87 (s, 18H), 7.40 (s, 6H), 10.60 (s , 3H).
実施例6
<化合物(G-6)の合成>
<Synthesis of compound (G-6)>
化合物(S-10)3.0mg(0.004mmol)をメタノール0.036mLと水0.036mLの混合溶媒に加え溶解させた。ここに4M水酸化ナトリウム水溶液0.014mLを滴下し室温で2時間撹拌した。氷水浴中で0℃に冷却した後に6M塩酸を滴下し、析出した白色固体をろ過することにより化合物(G-6)を得た。化合物(G-6)の生成は下記の通りマススペクトル分析により確認した。 3.0 mg (0.004 mmol) of compound (S-10) was dissolved in a mixed solvent of 0.036 mL of methanol and 0.036 mL of water. 0.014 mL of 4M sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After cooling to 0° C. in an ice water bath, 6M hydrochloric acid was added dropwise, and the precipitated white solid was filtered to obtain compound (G-6). The production of compound (G-6) was confirmed by mass spectrometry as described below.
HRMS(ESI)m/z(M+H)+ calcd for C36H40N7O18:858.2,found:858.2. HRMS ( ESI ) m/z (M+H) + calcd for C36H40N7O18 : 858.2 , found : 858.2.
実施例7
<化合物(G-1)のLa錯体合成>
緩衝液として0.1mol/LのHEPES(4-(2-hydroxyethyl)-1-piperazineethanesulfonic acid))水溶液を調製した(以下、「緩衝液1」という。)。緩衝液1中に化合物(G-1)を30μmol/Lの濃度で溶解し、溶液1aとした。別の容器にて、緩衝液1中にLaCl3を3mmol/Lの濃度で溶解し、溶液1bとした。次いで、溶液1aに、化合物(G-1)とLaCl3とが同モル量になるように、溶液1bを添加することによって、溶液1cを得た。溶液1a及び溶液1cの添加前後で紫外可視吸収スペクトル分析を行ったところ、LaCl3の添加に伴って390nmに最大吸収波長を示すピークが出現した。このことから、La錯体の形成が確認された。
Example 7
<La Complex Synthesis of Compound (G-1)>
A 0.1 mol/L HEPES (4-(2-hydroxyethyl)-1-piperazineethanesulfonic acid) aqueous solution was prepared as a buffer (hereinafter referred to as "buffer 1"). Compound (G-1) was dissolved in buffer solution 1 at a concentration of 30 μmol/L to obtain solution 1a. In a separate container, LaCl 3 was dissolved in buffer 1 at a concentration of 3 mmol/L to obtain solution 1b. Next, solution 1c was obtained by adding solution 1b to solution 1a so that the compound (G-1) and LaCl 3 were in the same molar amount. Ultraviolet-visible absorption spectroscopy was performed before and after the addition of solution 1a and solution 1c, and a peak with a maximum absorption wavelength of 390 nm appeared with the addition of LaCl 3 . This confirmed the formation of a La complex.
実施例8
<化合物(G-1)のLa錯体の金属保持力>
上記溶液1cに、化合物(G-1)に対して1当量のエチレンジアミン四酢酸(以下、EDTAと記す)を添加し、添加前後で紫外可視吸収スペクトル分析を行った。最大吸収波長である390nmの吸収強度変化量から、化合物(G-1)のLa錯体が96%残存していることを確認した。続いて、この溶液中にEDTAを追加し、EDTAの添加量を化合物(G-1)に対して合計10当量とした。紫外可視吸収スペクトル分析を行い、EDTAを1当量添加したときと同様の分析手法によって、化合物(G-1)のLa錯体が91%残存していることを確認した。
Example 8
<Metal Retention Power of La Complex of Compound (G-1)>
To the above solution 1c was added 1 equivalent of ethylenediaminetetraacetic acid (hereinafter referred to as EDTA) relative to compound (G-1), and UV-visible absorption spectrum analysis was performed before and after the addition. From the amount of change in absorption intensity at 390 nm, which is the maximum absorption wavelength, it was confirmed that 96% of the La complex of compound (G-1) remained. Subsequently, EDTA was added to this solution so that the total amount of EDTA added was 10 equivalents relative to compound (G-1). Ultraviolet-visible absorption spectrum analysis was performed, and it was confirmed that 91% of the La complex of compound (G-1) remained by the same analysis method as when 1 equivalent of EDTA was added.
実施例9
<化合物(G-5)のLa錯体合成>
上記実施例7における化合物(G-1)を化合物(G-5)に変更した以外は上記実施例7と同様の操作を行い、LaCl3の添加に伴って400nmに最大吸収波長を示すピークが出現した。このことから、La錯体の形成が確認された。
Example 9
<La complex synthesis of compound (G-5)>
The same operation as in Example 7 was performed except that compound (G-1) in Example 7 was changed to compound (G-5). Appeared. This confirmed the formation of a La complex.
実施例10
<化合物(G-5)のLa錯体の金属保持力>
上記実施例8における化合物(G-1)を化合物(G-5)に変更した以外は上記実施例8と同様の操作を行い、EDTAを化合物(G-5)に対して1当量添加したところ、化合物(G-5)のLa錯体が92%残存していることを確認した。続いて、この溶液中にEDTAを追加し、EDTAの添加量を化合物(G-5)に対して合計10当量としたところ、化合物(G-5)のLa錯体が63%残存していることを確認した。
Example 10
<Metal Retention Power of La Complex of Compound (G-5)>
The same operation as in Example 8 was performed except that compound (G-1) in Example 8 was changed to compound (G-5), and 1 equivalent of EDTA was added to compound (G-5). , confirmed that 92% of the La complex of the compound (G-5) remained. Subsequently, EDTA was added to this solution, and the total amount of EDTA added was 10 equivalents relative to compound (G-5), and 63% of the La complex of compound (G-5) remained. It was confirmed.
実施例11
<化合物(G-6)のLa錯体合成>
上記実施例7における化合物(G-1)を化合物(G-6)に変更した以外は上記実施例7と同様の操作を行い、LaCl3の添加に伴って270nmに最大吸収波長を示すピークが出現した。このことから、La錯体の形成が確認された。
Example 11
<La Complex Synthesis of Compound (G-6)>
The same operation as in Example 7 was performed except that compound (G-1) in Example 7 was changed to compound (G-6). Appeared. This confirmed the formation of a La complex.
実施例12
<化合物(G-6)のLa錯体の金属保持力>
上記実施例8における化合物(G-1)を化合物(G-6)に変更した以外は上記実施例8と同様の操作を行い、EDTAを化合物(G-6)に対して1当量添加したところ、化合物(G-6)のLa錯体が80%残存していることを確認した。続いて、この溶液中にEDTAを追加し、EDTAの添加量を化合物(G-6)に対して合計10当量としたところ、化合物(G-6)のLa錯体が72%残存していることを確認した。
Example 12
<Metal Retention Power of La Complex of Compound (G-6)>
The same operation as in Example 8 was performed except that compound (G-1) in Example 8 was changed to compound (G-6), and 1 equivalent of EDTA was added to compound (G-6). , confirmed that 80% of the La complex of the compound (G-6) remained. Subsequently, EDTA was added to this solution, and the total amount of EDTA added was 10 equivalents relative to compound (G-6), and 72% of the La complex of compound (G-6) remained. It was confirmed.
実施例13
<化合物(G-12)のLa錯体合成>
上記実施例7における化合物(G-1)を化合物(G-12)に変更した以外は上記実施例7と同様の操作を行い、LaCl3の添加に伴って265nmに最大吸収波長を示すピークが出現した。このことから、La錯体の形成が確認された。
Example 13
<La Complex Synthesis of Compound (G-12)>
The same operation as in Example 7 was performed except that compound (G-1) in Example 7 was changed to compound (G-12). Appeared. This confirmed the formation of a La complex.
実施例14
<化合物(G-12)のLa錯体の金属保持力>
上記実施例8における化合物(G-1)を化合物(G-12)に変更した以外は上記実施例8と同様の操作を行い、EDTAを化合物(G-12)に対して1当量添加したところ、化合物(G-12)のLa錯体が89%残存していることを確認した。続いて、この溶液中にEDTAを追加し、EDTAの添加量を化合物(G-12)に対して合計10当量としたところ、化合物(G-12)のLa錯体が45%残存していることを確認した。
Example 14
<Metal Retention Power of La Complex of Compound (G-12)>
The same operation as in Example 8 was performed except that compound (G-1) in Example 8 was changed to compound (G-12), and 1 equivalent of EDTA was added to compound (G-12). , confirmed that 89% of the La complex of the compound (G-12) remained. Subsequently, EDTA was added to this solution, and the total amount of EDTA added was 10 equivalents relative to compound (G-12), and 45% of the La complex of compound (G-12) remained. It was confirmed.
実施例15
<化合物(G-10)のLa錯体合成>
上記実施例7における化合物(G-1)を化合物(G-10)に変更した以外は上記実施例7と同様の操作を行い、LaCl3の添加に伴って250nmの最大吸収波長が顕著に低下した。このことから、La錯体の形成が確認された。
Example 15
<La complex synthesis of compound (G-10)>
The same operation as in Example 7 was performed except that compound (G-1) in Example 7 was changed to compound (G-10), and the maximum absorption wavelength of 250 nm decreased significantly with the addition of LaCl 3 . bottom. This confirmed the formation of a La complex.
実施例16
<化合物(G-10)のLa錯体の金属保持力>
上記実施例8における化合物(G-1)を化合物(G-10)に変更した以外は上記実施例8と同様の操作を行い、EDTAを化合物(G-10)に対して1当量添加したところ、化合物(G-10)のLa錯体が90%残存していることを確認した。続いて、この溶液中にEDTAを追加し、EDTAの添加量を化合物(G-10)に対して合計10当量としたところ、化合物(G-10)のLa錯体が83%残存していることを確認した。
Example 16
<Metal Retention Power of La Complex of Compound (G-10)>
The same operation as in Example 8 was performed except that compound (G-1) in Example 8 was changed to compound (G-10), and 1 equivalent of EDTA was added to compound (G-10). , confirmed that 90% of the La complex of the compound (G-10) remained. Subsequently, EDTA was added to this solution, and the total amount of EDTA added was 10 equivalents relative to compound (G-10), and 83% of the La complex of compound (G-10) remained. It was confirmed.
実施例17
<化合物(G-10)のZr錯体合成>
緩衝液として0.1mol/Lの酢酸ナトリウム水溶液とジメチルスルホキシドの1:1(体積比)混合溶液を調製した(以下、「緩衝液2」という。)。緩衝液2に化合物(G-10)を30μmol/Lの濃度で溶解し、溶液2aとした。別の容器にて、0.1mol/Lの塩酸水溶液にZrCl4を3mmol/Lの濃度で溶解し、溶液2bとした。次いで、溶液2aに、化合物(G-10)とZrCl4が同モル量になるように、溶液2bを添加することによって、溶液2cを得た。溶液2a及び溶液2cの紫外可視吸収スペクトル分析を行ったところ、ZrCl3の添加に伴って272nmに吸収ピークが出現した。このことから、Zr錯体の形成が確認された。続いて、溶液2cに対して化合物(G-10)に対してZrCl4が合計3当量になるように溶液2bを添加し、溶液2dを得た。
Example 17
<Zr Complex Synthesis of Compound (G-10)>
As a buffer solution, a 1:1 (volume ratio) mixed solution of 0.1 mol/L sodium acetate aqueous solution and dimethylsulfoxide was prepared (hereinafter referred to as “buffer solution 2”). Compound (G-10) was dissolved in buffer solution 2 at a concentration of 30 μmol/L to prepare solution 2a. In another container, ZrCl 4 was dissolved in a 0.1 mol/L hydrochloric acid aqueous solution at a concentration of 3 mmol/L to obtain a solution 2b. Next, solution 2c was obtained by adding solution 2b to solution 2a so that the compound (G-10) and ZrCl 4 were in the same molar amount. Ultraviolet-visible absorption spectroscopy of Solution 2a and Solution 2c revealed an absorption peak at 272 nm with the addition of ZrCl3 . This confirmed the formation of a Zr complex. Subsequently, the solution 2b was added so that the total amount of ZrCl 4 to the compound (G-10) was 3 equivalents to the solution 2c, to obtain the solution 2d.
実施例18
<化合物(G-10)のZr錯体の金属保持力>
上記溶液2dに、化合物(G-10)に対して1当量のエチレンジアミン四酢酸(以下、EDTAと記す)を添加し、添加前後で紫外可視吸収スペクトル分析を行った。最大吸収波長である272nmの吸収強度は低下しなかった。続いて、この溶液中にEDTAを追加し、EDTAの添加量を化合物(G-10)に対して合計10当量とした。紫外可視吸収スペクトル分析を行い、EDTAを1当量添加したときと同様に、272nmの吸収強度が低下しなかったことから、化合物(G-10)のZr錯体が100%残存していることを確認した。
Example 18
<Metal Retention Power of Zr Complex of Compound (G-10)>
To the above solution 2d was added 1 equivalent of ethylenediaminetetraacetic acid (hereinafter referred to as EDTA) relative to compound (G-10), and UV-visible absorption spectrum analysis was performed before and after the addition. The absorption intensity at 272 nm, which is the maximum absorption wavelength, did not decrease. Subsequently, EDTA was added to this solution so that the total amount of EDTA added was 10 equivalents relative to compound (G-10). Ultraviolet-visible absorption spectrum analysis was performed, and since the absorption intensity at 272 nm did not decrease as in the case of adding 1 equivalent of EDTA, it was confirmed that 100% of the Zr complex of compound (G-10) remained. bottom.
実施例19
<化合物(G-6)のSr錯体合成>
緩衝液として0.01mol/LのHEPES水溶液、金属塩としてSrCl2を用い、化合物(G-6)の濃度を50μmol/Lとした以外は、実施例7と同様の操作を行い、溶液3aを得た。SrCl2の添加に伴って285nmに顕著な吸光度の低下が観測された。このことから、Sr錯体の形成が確認された。
Example 19
<Sr Complex Synthesis of Compound (G-6)>
The same operation as in Example 7 was performed except that a 0.01 mol/L HEPES aqueous solution was used as the buffer solution, SrCl 2 was used as the metal salt, and the concentration of the compound (G-6) was 50 μmol/L. Obtained. A significant decrease in absorbance at 285 nm was observed with the addition of SrCl2 . This confirmed the formation of an Sr complex.
<化合物(G-6)のSr錯体の金属保持力>
上記溶液3aに、化合物(G-6)に対して1当量のEDTAを添加し、添加前後で紫外可視吸収スペクトル分析を行った。最大吸収波長である285nmの吸収強度変化から、化合物(G-6)のSr錯体が50%残存していることを確認した。
<Metal Retention Power of Sr Complex of Compound (G-6)>
To the above solution 3a was added 1 equivalent of EDTA with respect to compound (G-6), and UV-visible absorption spectrum analysis was performed before and after the addition. From the absorption intensity change at 285 nm, which is the maximum absorption wavelength, it was confirmed that 50% of the Sr complex of compound (G-6) remained.
比較例1
<化合物(a-2)のLa錯体の合成及びその金属保持力>
<Synthesis of La complex of compound (a-2) and its metal retention>
緩衝液として0.1mol/Lの酢酸アンモニウム水溶液を調製した(以下、「緩衝液4」という。)。緩衝液4中に8-ヒドロキシキノリン-2-カルボン酸(化合物(HQA))を30μmol/Lの濃度で溶解し、溶液4aとした。別の容器にて、緩衝液4中にLaCl3を3mmol/Lの濃度で溶解し、溶液4bとした。次いで、溶液4aに、化合物(HQA)とLaCl3とが同モル量になるように、溶液4bを添加することによって、溶液4cを得た。溶液4a及び溶液4cの添加前後で紫外可視吸収スペクトル分析を行ったところ、LaCl3の添加に伴って270nmに最大吸収波長を示すピークが出現した。このことから、La錯体の形成が確認された。 A 0.1 mol/L ammonium acetate aqueous solution was prepared as a buffer (hereinafter referred to as "buffer 4"). 8-Hydroxyquinoline-2-carboxylic acid (compound (HQA)) was dissolved in buffer solution 4 at a concentration of 30 μmol/L to prepare solution 4a. In a separate container, LaCl 3 was dissolved in buffer 4 at a concentration of 3 mmol/L to obtain solution 4b. Solution 4c was then obtained by adding solution 4b to solution 4a so that the compound (HQA) and LaCl 3 were in the same molar amount. Ultraviolet-visible absorption spectroscopy was performed before and after the addition of solution 4a and solution 4c, and a peak with a maximum absorption wavelength at 270 nm appeared with the addition of LaCl3 . This confirmed the formation of a La complex.
上記溶液4cに、化合物(HQA)に対して1当量のEDTAを添加し、添加前後で紫外可視吸収スペクトル分析を行った。最大吸収波長である270nmの吸収強度変化量から、化合物(HQA)のLa錯体が23%しか残存していないことを確認した。続いて、この溶液中にEDTAを追加し、EDTAの添加量を化合物(HQA)に対して合計10当量とした。紫外可視吸収スペクトル分析を行い、EDTAを1当量添加したときと同様の分析手法によって、化合物(HQA)のLa錯体は残存していないことを確認した。 To the above solution 4c, 1 equivalent of EDTA was added to the compound (HQA), and UV-visible absorption spectrum analysis was performed before and after the addition. From the amount of change in absorption intensity at 270 nm, which is the maximum absorption wavelength, it was confirmed that only 23% of the La complex of the compound (HQA) remained. Subsequently, EDTA was added to this solution so that the total amount of EDTA added was 10 equivalents relative to the compound (HQA). Ultraviolet-visible absorption spectrum analysis was performed, and it was confirmed by the same analysis method as when adding 1 equivalent of EDTA that no La complex of the compound (HQA) remained.
比較例2
<化合物(PyDA)のLa錯体の合成及びその金属保持力>
<Synthesis of La complex of compound (PyDA) and its metal retention>
緩衝液として0.01mol/LのHEPES水溶液を用い、化合物として2,6-ピリジンジカルボン酸(化合物(PyDA))を用い、測定時の化合物(PyDA)の濃度として200μmol/Lとした以外は比較例1と同様に、化合物(PyDA)と同モル量のLaCl3とを混合し、化合物(PyDA)のLa錯体を得た。LaCl3の添加に伴って280nmに最大吸収波長を示すピークが出現した。このことから、La錯体の形成が確認された。 A 0.01 mol / L HEPES aqueous solution was used as a buffer solution, 2,6-pyridinedicarboxylic acid (compound (PyDA)) was used as a compound, and the concentration of the compound (PyDA) at the time of measurement was 200 μmol / L. As in Example 1, the compound (PyDA) was mixed with the same molar amount of LaCl 3 to obtain the La complex of the compound (PyDA). A peak with a maximum absorption wavelength at 280 nm appeared with the addition of LaCl 3 . This confirmed the formation of a La complex.
上記溶液に、化合物(PyDA)に対して1当量のEDTAを添加し、添加前後で紫外可視吸収スペクトル分析を行った。最大吸収波長である280nmの吸収強度変化量から、化合物(PyDA)のLa錯体が22%しか残存していないことを確認した。 To the above solution, 1 equivalent of EDTA was added to the compound (PyDA), and UV-visible absorption spectroscopy was performed before and after the addition. From the amount of change in absorption intensity at 280 nm, which is the maximum absorption wavelength, it was confirmed that only 22% of the La complex of the compound (PyDA) remained.
以上の結果により、本発明の化合物は、Laと錯体を形成し、La錯体に対して第三成分としてEDTAを添加しても金属を保持したままであった。EDTAはカルボン酸部位を4個有する強いキレート剤であるため、本発明の金属錯体は、金属と強く相互作用する第三成分が共存していても安定的に金属を保持できることが判明した。また、本発明の化合物は、4価の金属種であるZr4+、3価の金属種であるLa3+、及び2価の金属種であるSr2+を含む複数の価の金属種に対して錯体を形成することが可能であることが確認された。Zr4+、La3+、及びSr2+は、いずれも最外電子殻が閉殻構造をとる金属元素であり、このような閉殻構造の金属元素は一般的に錯体化形成し難いことで知られている。本発明の化合物は、閉殻構造をとる金属元素と錯形成できることから、閉殻構造ではない他の多くの金属元素に対しても同等以上に錯形成が容易であると推測される。 From the above results, the compound of the present invention formed a complex with La and retained the metal even when EDTA was added as the third component to the La complex. Since EDTA is a strong chelating agent having four carboxylic acid moieties, it was found that the metal complex of the present invention can stably retain metals even in the presence of a third component that strongly interacts with metals. In addition, the compounds of the present invention are complexes with multivalent metal species including Zr 4+ which is a tetravalent metal species, La 3+ which is a trivalent metal species, and Sr 2+ which is a divalent metal species. It was confirmed that it is possible to form Zr 4+ , La 3+ , and Sr 2+ are all metal elements whose outermost electron shells have closed-shell structures, and metal elements with such closed-shell structures are generally known to be difficult to form complexes. . Since the compound of the present invention can form a complex with a metal element having a closed-shell structure, it is presumed that it can easily form a complex with many other metal elements that do not have a closed-shell structure.
Claims (6)
[式(1)中、nは、0~6の整数を表す。
Q1、Q2、及びQ3は、それぞれ独立に、水素原子、群Aから選ばれる基、群Bから選ばれる基、群Cから選ばれる基、又は置換基を表す。ただし、Q1、Q2、及びQ3の少なくとも2個は、群A、群B、又は群Cから選ばれる基である。
nが2以上である場合、複数存在するQ3は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
(群A)
群Aは、下記式(A-1)、式(A-2)、式(A-3)、及び式(A-4)で表される基からなる群である。
(式(A-1)、式(A-2)、式(A-3)、及び式(A-4)中、R1a、R2a、R3a、R4a、及びR5aは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。なお、*は、結合手を表す。)
(群B)
群Bは、下記式(B-1)及び式(B-2)で表される基からなる群である。
(式(B-1)及び式(B-2)中、R1b、R2b、及びR3bは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。なお、*は、結合手を表す。)
(群C)
群Cは、下記式(C-1)、式(C-2)、式(C-3)、式(C-4)、式(C-5)、及び式(C-6)で表される基からなる群である。
(式(C-1)、式(C-2)、式(C-3)、式(C-4)、式(C-5)、及び式(C-6)中、R1c、R2c、R3c、R4c、R5c、及びR6cは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。なお、*は、結合手を表す。)
Yは、窒素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
nが2以上である場合、複数存在するYは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Z1は、単結合、-C(=O)-、又は置換基を有していてもよい、メチレン基若しくは少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基を表し、少なくとも2個の-CH2-を有する基中の-CH2-の一部又は全部は、-O-、-C(=O)-、-NHC(=O)-、又は-C(=O)NH-に置換されていてもよい。
Z2及びZ3は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有していてもよい2価の連結基を表す。
Q1、Q2、及びQ3がすべて群Bから選ばれる基である場合、Z1、Z2、及びZ3は、末端に-CH2-C(=O)NH-を有する2価の連結基であり、当該連結基は、-CH2-C(=O)NH-中の窒素原子を介してQ1、Q2、及びQ3とそれぞれ結合している。
nが2以上である場合、複数存在するZ2及びZ3は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、Z1及びZ2は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。] A compound represented by the following formula (1).
[In formula (1), n represents an integer of 0 to 6.
Q 1 , Q 2 and Q 3 each independently represent a hydrogen atom, a group selected from group A, a group selected from group B, a group selected from group C or a substituent. However, at least two of Q 1 , Q 2 and Q 3 are groups selected from group A, group B or group C.
When n is 2 or more, multiple Q3 's may be the same or different.
(Group A)
Group A is a group consisting of groups represented by the following formulas (A-1), (A-2), (A-3), and (A-4).
(In Formula (A-1), Formula (A-2), Formula (A-3), and Formula (A-4), R 1a , R 2a , R 3a , R 4a , and R 5a are each independently represents a hydrogen atom or a substituent.* represents a bond.)
(Group B)
Group B is a group consisting of groups represented by the following formulas (B-1) and (B-2).
(In formulas (B-1) and (B-2), R 1b , R 2b and R 3b each independently represent a hydrogen atom or a substituent. * represents a bond.)
(Group C)
Group C is represented by the following formula (C-1), formula (C-2), formula (C-3), formula (C-4), formula (C-5), and formula (C-6) It is a group consisting of the group
(In formula (C-1), formula (C-2), formula (C-3), formula (C-4), formula (C-5), and formula (C-6), R 1c , R 2c , R 3c , R 4c , R 5c and R 6c each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and * represents a bond.)
Y represents a nitrogen atom or a hydrocarbon group optionally having a substituent.
When n is 2 or more, multiple Y's may be the same or different.
Z 1 represents a single bond, -C(=O)-, or an optionally substituted methylene group or a hydrocarbylene group having at least two -CH 2 -, and at least two Part or all of -CH 2 - in a group having -CH 2 - may be -O-, -C(=O)-, -NHC(=O)-, or -C(=O)NH- may be substituted.
Z 2 and Z 3 each independently represent a single bond or a divalent linking group which may have a substituent.
When Q 1 , Q 2 and Q 3 are all groups selected from Group B, Z 1 , Z 2 and Z 3 are divalent groups having -CH 2 -C(=O)NH- at the ends A linking group, which is linked to Q 1 , Q 2 and Q 3 through the nitrogen atom in -CH 2 -C(=O)NH-.
When n is 2 or more, multiple Z 2 and Z 3 may be the same or different, and Z 1 and Z 2 may combine with each other to form a ring structure. . ]
[式(2)中、Q1、Q2、Q3、Z1、Z2、Z3、及びnは、前記と同義である。] 2. The compound according to claim 1, wherein the compound represented by the formula (1) is a compound represented by the following formula (2).
[In formula (2), Q 1 , Q 2 , Q 3 , Z 1 , Z 2 , Z 3 and n are as defined above. ]
[式(2)中、Q1、Q2、Q3、Z1、Z2、及びZ3は、前記と同義である。
n1は、0又は1を表す。] 3. The compound according to claim 2, wherein the compound represented by the formula (2) is a compound represented by the following formula (3).
[In Formula (2), Q 1 , Q 2 , Q 3 , Z 1 , Z 2 and Z 3 are as defined above.
n1 represents 0 or 1; ]
[式(4)中、Q1、Q2、Q3、及びn1は、前記と同義である。
Z1Aは、単結合又は置換基を有していてもよい、メチレン基若しくは少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基を表し、少なくとも2個の-CH2-を有するヒドロカルビレン基中の-CH2-の一部又は全部は、-O-、-C(=O)-、-NHC(=O)-、又は-C(=O)NH-に置換されていてもよい。
Z2A及びZ3Aは、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、ヒドロカルビレン基中の-CH2-の一部又は全部は、-O-、-C(=O)-、-NHC(=O)-、又は-C(=O)NH-に置換されていてもよい。
Q1、Q2、及びQ3がすべて群Bから選ばれる基である場合、Z1A、Z2A、及びZ3Aは、末端の-CH2-が-CH2-C(=O)NH-に置換されたヒドロカルビレン基であり、当該基は、-CH2-C(=O)NH-中の窒素原子を介してQ1、Q2、及びQ3とそれぞれ結合している。] 4. The compound according to claim 3, wherein the compound represented by the formula (3) is a compound represented by the following formula (4).
[In Formula (4), Q 1 , Q 2 , Q 3 , and n 1 are as defined above.
Z 1A represents a single bond or optionally substituted methylene group or hydrocarbylene group having at least two —CH 2 —, hydrocarbylene having at least two —CH 2 — Part or all of -CH 2 - in the group may be substituted with -O-, -C(=O)-, -NHC(=O)-, or -C(=O)NH- .
Z 2A and Z 3A each independently represent a single bond or an optionally substituted hydrocarbylene group, and part or all of —CH 2 — in the hydrocarbylene group is —O— , -C(=O)-, -NHC(=O)-, or -C(=O)NH-.
When Q 1 , Q 2 and Q 3 are all groups selected from Group B, Z 1A , Z 2A and Z 3A have -CH 2 - at the ends of -CH 2 -C(=O)NH- which is attached to Q 1 , Q 2 and Q 3 respectively through the nitrogen atom in —CH 2 —C(=O)NH—. ]
[式(5A)、式(5B)、及び式(5C)中、R1a、R2a、R4a、R5a、R1b、R3b、R1c、R2c、R4c、R5c、R6c、Z1A、Z2A、Z3A、及びn1は、前記と同義である。
Q2A及びQ3Aは、それぞれ独立に、下記式(A-2a)、式(B-2a)、及び式(C-3a)で表される基からなる群より選ばれる基である。
((A-2a)、式(B-2a)、及び式(C-3a)中、環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子は、置換基によって置換されていてもよい。なお、*は、結合手を表す。)] 5. The compound according to claim 4, wherein the compound represented by formula (4) is a compound represented by formula (5A), formula (5B), or formula (5C) below.
[In Formula (5A), Formula (5B), and Formula (5C), R 1a , R 2a , R 4a , R 5a , R 1b , R 3b , R 1c , R 2c , R 4c , R 5c , R 6c , Z 1A , Z 2A , Z 3A , and n 1 are as defined above.
Q 2A and Q 3A are each independently a group selected from the group consisting of groups represented by the following formulas (A-2a), (B-2a) and (C-3a).
(In (A-2a), formula (B-2a), and formula (C-3a), a hydrogen atom directly bonded to a carbon atom constituting a ring may be substituted by a substituent. Note that * represents a bond.)]
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