JP2022551101A - 薄層エレメントとして形成された光学効果層を備えたセキュリティエレメント - Google Patents

薄層エレメントとして形成された光学効果層を備えたセキュリティエレメント Download PDF

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Abstract

本発明は、セキュリティエレメントが、構造体（４）を備えた少なくとも１つの第１領域（２）を有する、偽造に対する安全性が高められたセキュリティエレメント（１）に関する。そして光源（６）の相応の移動時及び／又は観察角度の変更時に観察者に対して移動像が生じるように、構造体（４）は像モチーフ（５）を種々異なる空間領域内へ反射させるようになっている。光源（６）の移動時及び／又は観察角度の変更時に同時に像モチーフ（５）の移動が生じるようになっている。さらに、光学効果層（７）が設けられており、光学効果層（７）は第２領域（３）を画定している。光学効果層（７）が薄層エレメントとして形成されており、構造体（４）は全面的又は部分的に光学効果層（７）によって覆われている。

Description

本発明は、セキュリティエレメントに関し、特に、有価証券、セキュリティペーパー（Sicherheitspapiere）、又は、紙幣、証明書、クレジットカード、キャッシュカード、チケット等の保証対象用のセキュリティエレメントに関する。
冒頭で述べた形式のセキュリティエレメントは通常の場合、有価証券又はセキュリティペーパー、例えば紙幣、身分証明書、クレジットカード、キャッシュカード、チケットなどの偽造に対する安全性を高めるために使用される。
欧州特許第２７８２７６５号明細書 欧州特許第２８８５１３５号明細書 国際公開第２０１５／１０７３４７号 米国特許出願公開第１０１８９２９４号明細書 欧州特許出願公開第３３６２８２７号明細書 欧州特許出願公開第２６３２７３９号明細書
本発明の課題は、偽造に対する安全性が高められたセキュリティエレメントを提供することである。
このような課題は、冒頭で述べた本発明に係る種類のセキュリティエレメントによって解決され、本発明に係るセキュリティエレメントは、構造体を備えた少なくとも１つの第１領域を有しており、前記構造体は、光源の移動時及び／又は観察角度の変更時に、対応する移動像が観察者に見えるように、像モチーフを種々異なる空間領域内へ反射させ、光源の移動時及び／又は観察角度の変更時に、同時に像モチーフの移動及び色変化効果が生じ、そしてさらに、
－ 光学効果層が設けられており、前記光学効果層が第２領域を画定しており、
－ 前記光学効果層が薄層エレメントとして形成されており、そして
－ 前記構造が全面的又は部分的に前記光学効果層によって覆われている、
ことによって解決される。
これにより達成される利点は、移動像として形成された像モチーフを形成するための第１領域の位置と、少なくとも１つの光学的外観又は光学的効果を形成するための第２領域の位置とを、互いにオーバーラップすることによって、組み合わせ・構成の高い多様性が形成されることにある。これにより、こうして形成されたセキュリティエレメントの偽造に対する安全性がさらに高められる。このように、構造体によって形成された移動像は、光学効果層によって生じさせられるか又は引き起こされた光学効果と直接に組み合わされて全体像になる。セキュリティエレメントの観察者はこれにより補助手段の補助なしに、純粋に視覚的な検査によって迅速且つ確実に真偽を確認することができる。
さらに、薄層エレメントとして形成された光学効果層が、少なくとも１つの吸収層と少なくとも１つのスペーサ層とを有していると有利であり得る。
考えられ得るさらなる実施形態の特徴は、前記少なくとも１つのスペーサ層が前記構造体上に被着され、特に、印刷且つ／又は蒸着されていることである。ここで念のために述べておくならば、層が何かに被着されるという概念は、層が直接に被着されていてよいこと、又は被着された層と、層がその上に被着されているものとの間になおも１つ又は２つ以上の中間層が位置し得ることを意味する。
さらに、前記吸収層が前記構造体上に被着され、特に、印刷且つ／又は蒸着されていてよい。
本発明の有利なさらなる構成によれば、前記スペーサ層及び前記吸収層とが、吸収層－スペーサ層、又はスペーサ層－吸収層の順序で前記構造体上に被着されていてよい。
さらなる構成では、前記少なくとも１つのスペーサ層の両側に、それぞれ少なくとも１つの吸収層が配置されており、そして前記少なくとも１つの吸収層が前記構造体上に被着され、特に、印刷且つ／又は蒸着されている。別の実施形態は、前記薄層エレメントとして形成された光学効果層がさらに少なくとも１つの反射層を有しており、前記少なくとも１つのスペーサ層が、前記少なくとも１つの吸収層と前記少なくとも１つの反射層との間に配置されていることを特徴とする。
さらなる有利な実施形態は、前記反射層が前記構造体上に被着され、特に、印刷且つ／又は蒸着されていることを特徴としている。
さらに、前記少なくとも１つの吸収層が前記構造体上に被着され、特に、印刷且つ／又は蒸着されていると有利であり得る。
さらなる実施形態では、前記光源の移動時及び／又は前記観察角度の変更時に、前記色変化層として形成された光学効果層内で、又は多層構造の色変化層内で、色変化効果が生じる。
別の実施形態は、前記セキュリティエレメントが薄層エレメントに加えて、金属顔料及び／又は磁性顔料及び／又は蛍光顔料及び／又は蛍光素材及び／又は色顔料及び／又は色素を含んでいることを特徴とする。
さらなる有利な実施形態は、セキュリティエレメントが、プラスチックから成る支持層を有しており、特に、前記プラスチックが光透過性及び／又は熱可塑性プラスチックから形成されており、そして前記支持層が、好ましくは、ポリイミド（ＰＩ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、一軸延伸ポリプロピレン（ＭＯＰＰ）、二軸延伸ポリプロピレン（ＢＯＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエチレンイミド（ＰＥＩ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、液晶ポリマー（ＬＣＰ）、ポリエステル、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）、アクリルニトリル－ブタジエン－スチロール（ＡＢＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、エチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）及びエチレン－テトラフルオロエチレン－ヘキサフルオロプロピレン－フルオロターポリマー（ＥＦＥＰ）、及び／又は前記材料の混合物及び／又はコポリマーの群から成る材料のうちの少なくとも１種を含み、あるいは前記材料のうちの少なくとも１種から製造されていることを特徴とする。
さらに、前記支持層が、下限が５μｍ、好ましくは１０μｍであり、且つ上限が１０００μｍ、好ましくは５０μｍである厚さ値範囲に由来する厚さ値の厚さを有していると有利であり得る。
別の実施形態は、前記少なくとも１つの吸収層が、少なくとも１種の金属材料、特に、ニッケル、チタン、バナジウム、クロム、コバルト、パラジウム、鉄、タングステン、モリブデン、ニオブ、アルミニウム、銀、銅、及び／又は前記材料の合金の群から選択された少なくとも１種の金属材料を含み、又は前記材料のうちの少なくとも１種から製造されていることを特徴とする。
別の実施形態は、前記少なくとも１つのスペーサ層が誘電性の材料から形成されていることを特徴とする。
考えられ得るさらなる実施形態の特徴は、前記少なくとも１つのスペーサ層が、屈折率が１．６５以下の少なくとも１種の低屈折率誘電材料、特に、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、金属フッ化物、例えばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ3）、酸化ケイ素（ＳＩＯx）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）、フッ化セリウム（ＣｅＦ3）、フッ化アルミニウムナトリウム（例えばＮａ3ＡｌＦ6又はＮａ5Ａｌ3Ｆ14）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ3）、フッ化ランタン（ＬａＦ3）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ3）、フッ化バリウム（ＢａＦ2）、フッ化カルシウム（ＣａＦ2）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、低屈折率有機モノマー及び／又は低屈折率有機ポリマーの群から選択された、屈折率が１．６５以下の少なくとも１種の低屈折率誘電材料、又は、屈折率が１．６５超の少なくとも１種の高屈折率誘電材料、特に、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化チタン（ＴｉＯ2）、炭素（Ｃ）、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、五酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）、酸化ユーロピウム（Ｅｕ2Ｏ3）、酸化鉄、例えば酸化鉄（ＩＩ，ＩＩＩ）（Ｆｅ3Ｏ4）及び酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ2Ｏ3）、窒化ハフニウム（ＨｆＮ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）、酸化ランタン（Ｌａ2Ｏ3）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化ネオジム（Ｎｄ2Ｏ3）、酸化プラセオジム（Ｐｒ6Ｏ11）、酸化サマリウム（Ｓｍ2Ｏ3）、三酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ3）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、窒化ケイ素（Ｓｉ3Ｎ4）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、三酸化セレン（Ｓｅ2Ｏ3）、酸化亜鉛（ＳｎＯ2）、三酸化タングステン（ＷＯ3）、高屈折率有機モノマー及び／又は高屈折率有機ポリマーの群から選択された、屈折率が１．６５超の少なくとも１種の高屈折率誘電材料を含み、又は前記材料のうちの少なくとも１種から製造されていることである。
さらなる構成では、前記少なくとも１つの反射層が、少なくとも１種の金属材料、特に、銀、銅、金、白金、アルミニウム、ニオブ、スズ、又はニッケル、チタン、バナジウム、クロム、コバルト、及びパラジウム、又は前記材料の合金、特に、コバルト－ニッケル合金の群から選択された少なくとも１種の金属材料、又は、屈折率が１．６５超の少なくとも１種の高屈折率誘電材料、特に、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化チタン（ＴｉＯ2）、炭素（Ｃ）、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、五酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）、酸化ユーロピウム（Ｅｕ2Ｏ3）、酸化鉄、例えば酸化鉄（ＩＩ，ＩＩＩ）（Ｆｅ3Ｏ4）及び酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ2Ｏ3）、窒化ハフニウム（ＨｆＮ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）、酸化ランタン（Ｌａ2Ｏ3）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化ネオジム（Ｎｄ2Ｏ3）、酸化プラセオジム（Ｐｒ6Ｏ11）、酸化サマリウム（Ｓｍ2Ｏ3）、三酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ3）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、窒化ケイ素（Ｓｉ3Ｎ4）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、三酸化セレン（Ｓｅ2Ｏ3）、酸化亜鉛（ＳｎＯ2）、三酸化タングステン（ＷＯ3）、高屈折率有機モノマー及び／又は高屈折率有機ポリマー、の群から選択された、屈折率が１．６５超の少なくとも１種の高屈折率誘電材料を含み、又は前記材料のうちの少なくとも１種から製造されている。
別の実施形態は、前記構造体が回折構造体として、マイクロミラーとして、放射光学的（strahlenoptisch）に有効なファセットとして、又は無彩色反射型構造体として形成されていることを特徴とする。
さらなる有利な実施形態は、前記構造体が前記支持層内に、成形装置を用いて、特に、エンボス加工によって形成されていることを特徴としており、又は、前記構造体が、前記支持層上に直接に、又は少なくとも１つの中間層の介在下で被着された層、特に、エンボス加工されたラッカー層内に成形されており、特に、成形装置によってエンボス加工されていることを特徴とする。
最後に、前記構造体が成形された追加の層が、下限が０．５μｍ、特に、０．８μｍ、有利には１μｍであり、且つ上限が３００μｍ、特に、５０μｍ、有利には１０μｍである層厚値の範囲に由来する層厚値を有する層厚を有していると有利であり得る。
さらなる構成によれば、前記セキュリティエレメントが、追加の色変化層、特に、色変化顔料又は液晶を有する層、及び／又は機械可読なフィーチャを備えており、前記機械可読なフィーチャが、特に、磁気コード、導電層、電磁波吸収性素材及び／又は電磁波再放射性素材であることが可能である。
さらに、前記セキュリティエレメントが付加的な層を有してもよく、前記付加的な層が、特に、着色ラッカー、保護ラッカー、接着剤、プライマー、及び／又は金属箔を含むと目的にかなうことがある。
本発明のよりよい理解のために、下記図面に基づき本発明を詳述する。
図面はそれぞれ著しく簡略化された概略図である。
図１は、本発明によるセキュリティエレメントの考えられ得る１実施形態を示す断面図である。 図２は、本発明によるセキュリティエレメントの別の実施形態を示す断面図である。 図３は、セキュリティエレメントの考えられ得る第１の層構造及び／又は重層構造を見た様子を図案化して示す図である。 図４は、セキュリティエレメントの考えられ得る第２の層構造及び／又は重層構造を見た様子を図案化して示す図である。 図５は、セキュリティエレメントの考えられ得る第３の層構造及び／又は重層構造を見た様子を図案化して示す図である。 図６は、セキュリティエレメントの考えられ得る第４の層構造及び／又は重層構造を見た様子を図案化して示す図である。 図７は、光学効果層の考えられ得る追加の層構造を見た様子を図案化して示す図である。
最初に書き留めておくが、種々異なるものとして記載される実施形態において、同一部分には同一参照符号もしくは同一構成部分符号を付す。説明全体に含まれる開示内容は、同一参照符号もしくは同一構成部分符号を有する同一部分に相応して転用することができる。また、説明において選択された位置に関する記述、例えば上、下、側方などは、直接に説明され図示された図面に関するものであり、そして位置が変化したときには、これらの位置に関する記述は相応して新しい位置に転用することができる。
「特に」（insbesondere）という概念は、対象物又は方法工程の考えられ得る特定の構成又は詳細な仕様ではあり得るが、しかしこれが必須の、有利な実施形態又は必須の実施態様である必要は必ずしもないと理解される。
図面について総合的に説明する。常に同じ構成部材又は同じ構成部分は同じ符号を有する。さらに、「層」という概念は、基本的に、重層（mehrlagigen）、関連のある構成部材複合体に対して用いられる。したがって、後述される層のそれぞれの層は、複数の層、好ましくは互いに接続された、又は互いに付着させられた重層を含むこともあり得る。
図１は、特に、有価証券、紙幣、カード用途、又はセキュリティペーパー用のセキュリティエレメント１を、著しく図案化された、原寸に比例していない図として示している。
セキュリティエレメント１は、少なくとも１つの第１領域２と、第１領域を少なくとも部分的に覆う少なくとも１つの第２領域３とを有している。前記少なくとも１つの第１領域２は、セキュリティエレメント１の図示された位置もしくは場所において、第２領域３の下側に配置されている。両領域２，３もしくはこれらの領域を形成する層又は重層は、互いに種々異なる形で形成されており、これについて以下に詳述する。
前記少なくとも１つの第１領域２は構造体４を有するか、又は構造体４によって形成されている。第１領域２の構造体４によって像モチーフ５が種々異なる空間領域内へ反射させられるので、光源６の移動時及び／又は観察角度の変更時には、観察者に対していわゆる移動像（Bewegungsbild）が相応に生じる。
このような実施形態において、前記第１領域２に少なくとも部分的にオーバーラップするか又は重なる第２領域３は、光学効果層７によって形成されている。この光学効果層７は光学可変層として形成されていてよく、あるいは光学可変層と呼ぶこともできる。
光学効果層７は、観察角度及び／又は照明角度及び／又は照明の種類に応じた光学可変効果を有し、あるいはこれを形成することができる。光学可変効果は、例えばトップビュー（Aufsicht）／シースルー（Durchsicht）効果及び／又は色変化効果及び／又は蛍光効果又はこれに類するものであってよい。
なお、構造体４は、表面上に部分的に又は全表面上に亘って設けられていてよい。このことは光学効果層７にも当てはまる。光学効果層も、表面上に部分的又は全表面上に設けられていてよい。光学効果層７は、複数の重層で形成されていてもよく、あるいはこれらの重層を有することもできる。
セキュリティエレメント１は、さらに支持層８を有することもできる。支持層８は、プラスチック材料から形成されていてよい。さらに、複数の重層が支持層８を形成することもできる。プラスチックは光透過性及び／又は熱可塑性プラスチックから形成されていてよい。支持層８用の材料としては、ポリイミド（ＰＩ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、一軸延伸ポリプロピレン（ＭＯＰＰ）、二軸延伸ポリプロピレン（ＢＯＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエチレンイミド（ＰＥＩ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、液晶ポリマー（ＬＣＰ）、ポリエステル、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）、アクリルニトリル－ブタジエン－スチロール（ＡＢＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、エチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）及びエチレン－テトラフルオロエチレン－ヘキサフルオロプロピレン－フルオロターポリマー（ＥＦＥＰ）、及び／又は前記材料の混合物及び／又はコポリマーの群から成る材料のうちの少なくとも１種を含み、あるいは前記材料のうちの少なくとも１種から製造されていてよい。
支持層８は、下限が５μｍ、有利には１０μｍであり、且つ上限が１０００μｍ、好ましくは５０μｍである厚さ値範囲に由来する厚さ値の層厚を有することができる。
前述の構造体４は、例えば回折構造体として、マイクロミラーとして、放射光学的に有効なファセットとして、又は無彩色反射型構造体として形成されていてよい。回折構造体としての構造体４の形成は、例えば特許文献１及び特許文献２並びに特許文献３に基づいて公知である。これに対して、マイクロミラーとしての構造体４の形成は、例えば、特許文献４並びに特許文献５から当業者に周知である。構造体４のファセット状の成形は、例えば特許文献６から明らかになる。さらに、構造体４は支持層８内に、成形装置を用いて、特に、エンボス加工によって形成されていてよく、又は形成されてよい。
さらなる代替として、構造体４を形成するために、別個の追加の層９を設けることが可能である。前記追加の層９は、支持層８上に直接に被着されていてよい。前記追加の層９は、支持層８上に直接に被着されていてよい。前記追加の層９は、破線で示唆されている。例えば、前記追加の層９は、ラッカーをエンボス加工することによって形成されていてよく、エンボス加工されたラッカーは、構造体４を形成するように相応に変形させられている。このことは成形装置又は成形要素を用いて、エンボス加工で行うことができる。これにより、構造体４を成形することができる。構造体４が成形された前記追加の層９は、下限が０．５μｍ、特に、０．８μｍ、有利には１μｍであり、且つ上限が３００μｍ、特に、５０μｍ、有利には２０μｍである層厚値の範囲に由来する層厚を有することができる。
図２にさらに示されているように、構造体４は、前記追加の第２層９によって形成されてはいるものの、前記追加の層９は支持層８上に直接には被着されていない。このために中間層１０が設けられていてよい。中間層は例えば接着促進剤、プライマー、接着剤、又はこれに類するものによって形成されていてよい。
構造体４は、例えば回折構造体として、マイクロミラーとして、放射光学的に有効なファセットとして、又は無彩色反射型構造体として形成されていてよい。構造体４を支持層８内に直接に形成もしくは導入することは、例えば成形装置を用いて、特に、エンボス加工によって行うことができる。
前述の追加の層９が構造体４を形成するために設けられる場合には、構造体は、支持層８上に被着された追加の層９内に成形されていてよい。前記追加の層９は、特に、エンボス加工されたラッカー層によって形成されていてよい。構造体４の導入又は成形は、例えば成形装置を用いて、特に、エンボス加工によって行うことができる。
図示の実施形態の場合、構造体４は、セキュリティエレメント１の少なくとも１つの第１領域２を形成している。前記少なくとも１つの第１領域２は少なくとも部分的に、少なくとも１つの第２領域３によって覆われるか又は重ねられている。前記少なくとも１つの第２領域３は、光学効果層７によって形成されている。光学効果層７は、全ての実施形態において、いわゆる薄層エレメントとして形成されている。薄層エレメントは薄層構造を有するか、又はそれ自体薄層構造と呼ぶことができる。薄層エレメントを形成する個々の層又は重層の層厚は著しく誇張されて、原寸に比例しない状態で図示されている。したがって、構造体４は全表面に亘って又は部分的に光学効果層７によって覆われていてよい。
薄層エレメントとして形成された光学効果層７は、少なくとも１つの吸収層１１と少なくとも１つのスペーサ層１２とを有している。光学効果層７の追加可能な層又は重層について、後続の図面においてさらに説明する。
少なくとも１つの吸収層１１は、少なくとも１種の金属材料を含み、特に、ニッケル、チタン、バナジウム、クロム、コバルト、パラジウム、鉄、タングステン、モリブデン、ニオブ、アルミニウム、銀、銅、及び／又は前記材料の合金の群から選択された少なくとも１種の金属材料を含み、又は前記材料のうちの少なくとも１種から製造されていてよい。
前記少なくとも１つのスペーサ層１２は、例えば誘電性の材料から形成されていてよい。さらに、前記少なくとも１つのスペーサ層１２は、屈折率が１．６５以下の少なくとも１種の低屈折率誘電材料、特に、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、金属フッ化物、例えばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ3）、酸化ケイ素（ＳＩＯx）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）、フッ化セリウム（ＣｅＦ3）、フッ化アルミニウムナトリウム（例えばＮａ3ＡｌＦ6又はＮａ5Ａｌ3Ｆ14）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ3）、フッ化ランタン（ＬａＦ3）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ3）、フッ化バリウム（ＢａＦ2）、フッ化カルシウム（ＣａＦ2）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、低屈折率有機モノマー及び／又は低屈折率有機ポリマーの群から選択された、屈折率が１．６５以下の少なくとも１種の低屈折率誘電材料、又は屈折率が１．６５超の少なくとも１種の高屈折率誘電材料、特に、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化チタン（ＴｉＯ2）、炭素（Ｃ）、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、五酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）、酸化ユーロピウム（Ｅｕ2Ｏ3）、酸化鉄、例えば酸化鉄（ＩＩ，ＩＩＩ）（Ｆｅ3Ｏ4）及び酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ2Ｏ3）、窒化ハフニウム（ＨｆＮ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）、酸化ランタン（Ｌａ2Ｏ3）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化ネオジム（Ｎｄ2Ｏ3）、酸化プラセオジム（Ｐｒ6Ｏ11）、酸化サマリウム（Ｓｍ2Ｏ3）、三酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ3）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、窒化ケイ素（Ｓｉ3Ｎ4）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、三酸化セレン（Ｓｅ2Ｏ3）、酸化亜鉛（ＳｎＯ2）、三酸化タングステン（ＷＯ3）、高屈折率有機モノマー及び／又は高屈折率有機ポリマーの群から選択された、屈折率が１．６５超の少なくとも１種の高屈折率誘電材料を含み、又は前記材料のうちの少なくとも１種から製造されていてよい。
薄層エレメントとして形成された光学効果層７は常に構造体４上に配置又は被着されている。薄層エレメント全体を光学効果層７として構造体４上に被着することができる。しかし、光学効果層７の個々の層又は重層を順々に又はグループ毎に被着することもできる。光学効果層７又は光学効果層の個々の層又は重層は、選択された材料に応じて種々異なる方法で被着することができる。考えられる例としては、印刷及び／又は蒸着及び／又はラッカー塗布が挙げられる。
加えて、別個の中間層１０、例えば、接着促進層又は接着促進重層、プライマー層又はプライマー重層、又はこれに類するものを、第１領域２を形成する構造体４と、第２領域３を有する光学効果層７との間に設けることも可能である。これにより、光学効果層７は、構造体４上に直接に、且つ／又は別個の追加の中間層１０の介在下で配置又は被着することができる。
薄層エレメントとして形成された光学効果層７に加えて、追加の層、例えば光学的非線形層又は光学的非線形重層が設けられていてよい。このような層又はこの層を形成するこのような材料又は重層は、ＩＲアップコンバーター又はＵＶダウンコンバーターとも呼ばれる。これは、光の可視波長領域外の電磁放射線の影響下で可視色を有する材料であってよい。このような材料は、このような条件下で、例えば赤外線（ＩＲ）（λ＞７８０ｎｍ）及び／又は紫外線（ＵＶ）光（λ＜３８０）の入射時に、可視光を発光するように励起させることができる。
さらに、薄層エレメントとして形成された光学効果層７は、色変化層として形成されていてもよく、又は色変化重層を含んでもよい。種々異なる層又は重層を相応に組み合わせることによって、任意の変更を光学効果に加えることもできる。これにより、例えば、光源６の移動時及び／又は観察角度の変更時に、色変化層として形成された光学効果層７内で、又は色変化重層内で、色変化効果が生じることが可能になる。
さらに、光学効果層７に加えて、金属顔料及び／又は磁性顔料及び／又は蛍光顔料及び／又は蛍光素材及び／又は色顔料及び／又は色素を含むことも可能である。
図１に示された実施形態の場合、前記少なくとも１つのスペーサ層１２は、構造体４に被着され、特に、印刷且つ／又は蒸着されている。前述のように、前記少なくとも１つのスペーサ層１２は構造体４に直接に且つ介在物なしに被着されてよく、あるいは別個の中間層１０が介在していてもよい。
最も上側又は最も外側の重層又は層として、光学効果層７上に保護層１３が被着されていてよい。保護層１３は設けられていても、設けられていなくてもよい。図１に破線で示唆されているように、保護層１３によって、セキュリティエレメント１の平面状の構成を得ることもできる。
図３には、セキュリティエレメント１の前述の構成が簡略化されて示されている。セキュリティエレメント１に向いた観察方向は矢印によって示唆されており、光学効果層７を通って構造体４へ延びる。
第１領域２を画定する構造体４は、光学効果層７の第２領域３によって覆われている。薄層エレメントとして形成された光学効果層７は、構造体４に向いたスペーサ層１２と、その上側に吸収層１１とを有している。可能な付加的な層又は重層として、吸収層１１の、構造体４とは反対の側に、保護層１３が輪郭で示されている。保護層１３は設けられていてよいが、しかし設けられていなくてもよい。さらに、支持層８が示唆されている。構造体４は支持層８に直接的に形成されていてよく、又は前述の追加の層９が設けられていてよく、そしてこの追加の層に構造体４が形成されていてよい。
図４は、セキュリティエレメント１の可能なさらなる実施形態を示している。セキュリティエレメント１の層構造は、図３において説明したセキュリティエレメント１と同様である。セキュリティエレメント１に向いた観察方向は、やはり矢印によって示唆されており、光学効果層７を通って構造体４へ延びる。
第１領域２を画定する構造体４は、光学効果層７の第２領域３によって覆われている。薄層エレメントとして形成された光学効果層７は、構造体４に向いた吸収層１１と、これに続いてスペーサ層１２と、更にその上側に位置する吸収層１１とを有している。したがって、スペーサ層１２の両側には、それぞれ少なくとも１つの吸収層１１が配置されるか又は設けられている。構造体４の近くに位置する吸収層１１は、これにより構造体４上に被着されるか又は構造体上に配置されている。この吸収層１１は、直接的に設けられてもよく、しかし別個の中間層１０の介在下に設けられてもよい。
可能な付加的な層又は重層として、外側の吸収層１１の、構造体４とは反対の側には、さらに保護層１３が輪郭で示されている。保護層１３は設けられていてよいが、しかし設けられていなくてもよい。さらに、支持層８が輪郭で示されている。構造体４は、支持層８に直接に形成されていてよく、又は前述の追加の層９が設けられていてよく、そしてこの追加の層上に構造体４が形成されていてよい。
図５には、セキュリティエレメント１のさらなる可能な実施形態が、その光学効果層７とともに示されている。セキュリティエレメント１に向いた観察方向はやはり矢印によって示唆されており、光学効果層７を通って構造体４へ延びる。
セキュリティエレメント１の基本構造は、図１及び３に示され説明されたものに相当する。付加的な層として、光学効果層７は少なくとも１つの反射層１４を有している。少なくとも１つのスペーサ層１２は少なくとも１つの吸収層１１と少なくとも１つの反射層１４との間に配置されている。反射層１４は、ここでは構造体４上に被着又は配置されており、特に、構造体４上に印刷且つ／又は蒸着される。
前記少なくとも１つの反射層１４は、特に、銀、銅、金、白金、アルミニウム、ニオブ、スズ、又はニッケル、チタン、バナジウム、クロム、コバルト、及びパラジウム、又は前記材料の合金、特に、コバルト－ニッケル合金の群から選択された少なくとも１種の金属材料、又は、屈折率が１．６５超の少なくとも１種の高屈折率誘電材料、特に、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化チタン（ＴｉＯ2）、炭素（Ｃ）、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、五酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）、酸化ユーロピウム（Ｅｕ2Ｏ3）、酸化鉄、例えば酸化鉄（ＩＩ，ＩＩＩ）（Ｆｅ3Ｏ4）及び酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ2Ｏ3）、窒化ハフニウム（ＨｆＮ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）、酸化ランタン（Ｌａ2Ｏ3）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化ネオジム（Ｎｄ2Ｏ3）、酸化プラセオジム（Ｐｒ6Ｏ11）、酸化サマリウム（Ｓｍ2Ｏ3）、三酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ3）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、窒化ケイ素（Ｓｉ3Ｎ4）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、三酸化セレン（Ｓｅ2Ｏ3）、酸化亜鉛（ＳｎＯ2）、三酸化タングステン（ＷＯ3）、高屈折率有機モノマー及び／又は高屈折率有機ポリマー、の群から選択された、屈折率が１．６５超の少なくとも１種の高屈折率誘電材料を含み、又は前記材料のうちの少なくとも１種から製造されていてよい。このことは、実施形態に記載された全ての反射層１４に当てはまる。
第１領域２を画定する構造体４は、光学効果層７の第２領域３によって覆われている。薄層エレメントとして形成された光学効果層７は、構造体４に向いた反射層１４と、これに続いてスペーサ層１２と、その上側に位置する吸収層１１とを有している。反射層１４を構造体４上に配置又は被着することによって、反射層は構造体４の空間形状を観察時に再現することができる。反射層１４は、直接に、又は別個の中間層１０の介在下でも、構造体４上に被着し配置することができる。
可能な付加的な層又は重層として、外側の吸収層１１の、構造体４とは反対の側には、さらに保護層１３の輪郭が示されている。保護層１３は設けられていてよいが、しかし設けられていなくてもよい。さらに、支持層８が示唆されている。構造体４は、支持層８上に直接に形成されていてよく、又は前述の追加の層９が設けられていてよく、そしてこの追加の層上に構造体４が形成されていてよい。
図６には、セキュリティエレメント１のさらなる可能な実施形態が、その光学効果層７とともに示されている。セキュリティエレメント１に向いた観察方向はやはり矢印によって示唆されており、そして前述の例とは異なり、構造体４を通って光学効果層７へ延びている。
薄層エレメントとして形成された光学効果層７は、構造体４に対して反対側から出発して構造体４へ向かって、少なくとも反射層１４と、スペーサ層１２と、続いて吸収層１１とを有している。構造体４の近くに位置する吸収層１１は、構造体４上に被着されるか又は構造体上に配置されている。このような被着又は配置は、直接的に行われてよく、又は、別個の中間層１０の介在下で行われてもよい。
可能な付加的な層又は重層として、ここでは外側の反射層１４の、構造体４に対して反対側には、さらに保護層１３が示唆されている。保護層１３は、設けられていてよいが、しかし設けられていなくてもよい。さらに、支持層８が示唆されている。構造体４は、支持層８に直接に形成されていてよく、又は前述の追加の層９が設けられていてよく、そして、構造体４がこの追加の層上に形成されていてよい。
図７は、薄層構造として形成された光学効果層７のただ１つの可能な層構造を示している。この実施形態の場合、図５のものと同様の光学効果層７の層構造が選択されている。
光学効果層７は少なくとも吸収層１１と、スペーサ層１２と、反射層１４と、追加のスペーサ層１２と、これに続いて追加の吸収層１１とを有している。両吸収層１１は、光学効果層７の互いに反対側に配置されている。反射層１４は、両スペーサ層１２の間に配置されている。両吸収層１１のうちの一方は構造体４上に配置又は被着されている。構造体４並びに追加可能な層又は重層は、よりよい見やすさのために詳細には示されておらず、あるいは示唆しかされていないが、しかし以下にさらに説明する。
可能な付加的な層又は重層として、外側の吸収層１１の、構造体４に対して反対側には、さらに保護層１３が配置され、もしくは設けられていてよい。保護層１３は設けられていてよいが、しかし設けられていなくてもよい。構造体４は、支持層８上に直接に形成されていてよく、又は前述の追加の層９が設けられていてよく、そしてこの追加の層に、構造体４が形成されていてよい。
光学効果層７を構造体４と結合するために、前述の中間層１０が設けられていてもよい。中間層は破線で示唆されている。ここに示された薄層エレメントとして形成された光学効果層７によって、構造体４との組み合わせにおいて、セキュリティエレメント１を形成することができる。
これらの実施形態は、考えられ得る実施変更形を示す。ここで念のため述べておくと、本発明は具体的に示された実施変更形に限定されることはなく、むしろ個々の実施変更形の交互の種々の組み合わせも可能であり、そしてこのような変更は、この技術分野の当業者の能力範囲内で、当該発明による技術的行為のための教示内容に基づいて可能である。
保護範囲は請求項によって規定される。しかしながら、明細書及び図面は請求項を解釈するために利用することができる。図示され説明された種々異なる実施形態の個々の特徴又は特徴の組み合わせは、それ自体独立した、本発明の解決手段であり得る。本発明の独立した解決手段の根底を成す課題は、明細書から明らかである。
当該記述における値範囲に関する全ての数値は、これらの任意の、及び全ての部分範囲を含むことを意味する。例えば、数値１～１０は、下限値１及び上限値１０から出発する全ての部分範囲が一緒に含まれる、すなわち、全ての部分範囲が下限値１以上で始まり、そして上限値１０以下で終わる、例えば１～１．７、又は３．２～８．１、又は５．５～１０であることを意味する。
なお最後に形式的なことであるが、構造をより良く理解するために、エレメントは部分的に一定の尺度でなく、且つ／又は拡大し、且つ／又は縮小して示したことを指摘しておく。
１ セキュリティエレメント
２ 第１領域
３ 第２領域
４ 構造体
５ 像モチーフ
６ 光源
７ 光学効果層
８ 支持層
９ 追加の層
１０ 中間層
１１ 吸収層
１２ スペーサ層
１３ 保護層
１４ 反射層

Claims (22)

  1. 特に、有価証券、セキュリティペーパー、又は、紙幣、証明書、クレジットカード、キャッシュカード、チケット等の保証対象用のセキュリティエレメント（１）であって、前記セキュリティエレメント（１）が、構造体（４）を備えた少なくとも１つの第１領域（２）を有しており、そして光源（６）の相応の移動時及び／又は観察角度の変更時に観察者に対して移動像が生じるように、前記構造体（４）が像モチーフ（５）を種々異なる空間領域内へ反射させるようになっており、光源（６）の移動時及び／又は観察角度の変更時に同時に像モチーフ（５）の移動が生じるようになっている形式のものにおいて、
    － 光学効果層（７）が設けられており、前記光学効果層（７）が少なくとも１つの第２領域（３）を画定し、
    － 前記光学効果層（７）が薄層エレメントとして形成され、
    － 前記構造体（４）が全面的又は部分的に前記光学効果層（７）によって覆われていること、
    を特徴とする、セキュリティエレメント（１）。
  2. 薄層エレメントとして形成された光学効果層（７）が、少なくとも１つの吸収層（１１）と少なくとも１つのスペーサ層（１２）とを有していることを特徴とする、請求項１に記載のセキュリティエレメント（１）。
  3. 構造体（４）－スペーサ層－吸収層の順序、又は構造体（４）－吸収層－スペーサ層の順序になるように、少なくとも１つのスペーサ層（１２）及び／又は少なくとも１つの吸収層とが前記構造体（４）上に被着され、特に、印刷且つ／又は蒸着されていることを特徴とする、請求項２に記載のセキュリティエレメント（１）。
  4. 前記少なくとも１つのスペーサ層（１２）の両側に、それぞれ少なくとも１つの吸収層（１１）が配置されており、そして前記少なくとも１つの吸収層（１１）が前記構造体（４）上に被着され、特に、印刷且つ／又は蒸着されていることを特徴とする、請求項２に記載のセキュリティエレメント（１）。
  5. 前記薄層エレメントとして形成された光学効果層（７）がさらに少なくとも１つの反射層（１４）を有しており、前記少なくとも１つのスペーサ層（１２）が、前記少なくとも１つの吸収層（１１）と前記少なくとも１つの反射層（１４）との間に配置されていることを特徴とする、請求項２に記載のセキュリティエレメント（１）。
  6. 前記反射層（１４）が前記構造体（４）上に被着され、特に、印刷且つ／又は蒸着されていることを特徴とする、請求項５に記載のセキュリティエレメント（１）。
  7. 前記少なくとも１つの吸収層（１１）が前記構造体（４）上に被着され、特に、印刷且つ／又は蒸着されていることを特徴とする、請求項５に記載のセキュリティエレメント（１）。
  8. 前記薄層エレメントとして形成された光学効果層（７）に加えて、光学的非線形層又は光学的非線形重層が設けられていることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項に記載のセキュリティエレメント（１）。
  9. 前記薄層エレメントとして形成された光学効果層（７）が色変化層として形成されているか、又は色変化重層を有していることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項に記載のセキュリティエレメント（１）。
  10. 前記光源（６）の移動時及び／又は前記観察角度の変更時に、前記色変化層として形成された光学効果層（７）内で、又は色変化重層内で、色変化効果が生じることを特徴とする、請求項９に記載のセキュリティエレメント（１）。
  11. 前記セキュリティエレメントが光学効果層（７）に加えて、金属顔料及び／又は磁性顔料及び／又は蛍光顔料及び／又は蛍光素材及び／又は色顔料及び／又は色素を含んでいることを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１項に記載のセキュリティエレメント（１）。
  12. 前記セキュリティエレメント（１）が、プラスチックから成る支持層（８）を有しており、特に、前記プラスチックが光透過性及び／又は熱可塑性プラスチックから形成されており、そして前記支持層（８）が有利には、ポリイミド（ＰＩ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、一軸延伸ポリプロピレン（ＭＯＰＰ）、二軸延伸ポリプロピレン（ＢＯＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエチレンイミド（ＰＥＩ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、液晶ポリマー（ＬＣＰ）、ポリエステル、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）、アクリルニトリル－ブタジエン－スチロール（ＡＢＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、エチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）及びエチレン－テトラフルオロエチレン－ヘキサフルオロプロピレン－フルオロターポリマー（ＥＦＥＰ）、及び／又は前記材料の混合物及び／又はコポリマーの群から成る材料のうちの少なくとも１種を含み、あるいは前記材料のうちの少なくとも１種から製造されていることを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか１項に記載のセキュリティエレメント（１）。
  13. 支持層（８）が、下限が５μｍ、好ましくは１０μｍであり、且つ上限が１０００μｍ、好ましくは５０μｍである厚さ値範囲に由来する厚さ値を有していることを特徴とする、請求項１２に記載のセキュリティエレメント（１）。
  14. 少なくとも１つの吸収層（１１）が、少なくとも１種の金属材料、特に、ニッケル、チタン、バナジウム、クロム、コバルト、パラジウム、鉄、タングステン、モリブデン、ニオブ、アルミニウム、銀、銅からなる群、及び／又は前記材料の合金の群から選択された少なくとも１種の金属材料を含み、又は前記材料のうちの少なくとも１種から製造されていることを特徴とする、請求項２から１３までのいずれか１項に記載のセキュリティエレメント（１）。
  15. 前記少なくとも１つのスペーサ層（１２）が誘電性の材料から形成されていることを特徴とする、請求項２から１４までのいずれか１項に記載のセキュリティエレメント（１）。
  16. 少なくとも１つのスペーサ層（１２）が、屈折率が１．６５以下の少なくとも１種の低屈折率誘電材料を含み、特に、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、金属フッ化物、例えばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ3）、酸化ケイ素（ＳＩＯx）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）、フッ化セリウム（ＣｅＦ3）、フッ化アルミニウムナトリウム（例えばＮａ3ＡｌＦ6又はＮａ5Ａｌ3Ｆ14）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ3）、フッ化ランタン（ＬａＦ3）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ3）、フッ化バリウム（ＢａＦ2）、フッ化カルシウム（ＣａＦ2）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、低屈折率有機モノマー及び／又は低屈折率有機ポリマーの群から選択された、屈折率が１．６５以下の少なくとも１種の低屈折率誘電材料、又は、屈折率が１．６５超の少なくとも１種の高屈折率誘電材料を含み、特に、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化チタン（ＴｉＯ2）、炭素（Ｃ）、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、五酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）、酸化ユーロピウム（Ｅｕ2Ｏ3）、酸化鉄、例えば酸化鉄（ＩＩ，ＩＩＩ）（Ｆｅ3Ｏ4）及び酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ2Ｏ3）、窒化ハフニウム（ＨｆＮ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）、酸化ランタン（Ｌａ2Ｏ3）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化ネオジム（Ｎｄ2Ｏ3）、酸化プラセオジム（Ｐｒ6Ｏ11）、酸化サマリウム（Ｓｍ2Ｏ3）、三酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ3）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、窒化ケイ素（Ｓｉ3Ｎ4）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、三酸化セレン（Ｓｅ2Ｏ3）、酸化亜鉛（ＳｎＯ2）、三酸化タングステン（ＷＯ3）、高屈折率有機モノマー及び／又は高屈折率有機ポリマーの群から選択された、屈折率が１．６５超の少なくとも１種の高屈折率誘電材料を含み、又は前記材料のうちの少なくとも１種から製造されていることを特徴とする、請求項２から１５までのいずれか１項に記載のセキュリティエレメント（１）。
  17. 少なくとも１つの反射層（１４）が、少なくとも１種の金属材料を含み、特に、銀、銅、アルミニウム、金、白金、ニオブ、スズ、又はニッケル、チタン、バナジウム、クロム、コバルト、及びパラジウム、又は前記材料の合金、特に、コバルト－ニッケル合金の群から選択された少なくとも１種の金属材料、又は、屈折率が１．６５超の少なくとも１種の高屈折率誘電材料を含み、特に、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化チタン（ＴｉＯ2）、炭素（Ｃ）、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、五酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）、酸化ユーロピウム（Ｅｕ2Ｏ3）、酸化鉄、例えば酸化鉄（ＩＩ，ＩＩＩ）（Ｆｅ3Ｏ4）及び酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ2Ｏ3）、窒化ハフニウム（ＨｆＮ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）、酸化ランタン（Ｌａ2Ｏ3）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化ネオジム（Ｎｄ2Ｏ3）、酸化プラセオジム（Ｐｒ6Ｏ11）、酸化サマリウム（Ｓｍ2Ｏ3）、三酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ3）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、窒化ケイ素（Ｓｉ3Ｎ4）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、三酸化セレン（Ｓｅ2Ｏ3）、酸化亜鉛（ＳｎＯ2）、三酸化タングステン（ＷＯ3）、高屈折率有機モノマー及び／又は高屈折率有機ポリマー、の群から選択された、屈折率が１．６５超の少なくとも１種の高屈折率誘電材料を含み、又は前記材料のうちの少なくとも１種から製造されていることを特徴とする、請求項６から１６までのいずれか１項に記載のセキュリティエレメント（１）。
  18. 前記構造体（４）が、回折構造体として、マイクロミラーとして、放射光学的に有効なファセットとして、又は無彩色反射型構造体として形成されていることを特徴とする、請求項１から１７までのいずれか１項に記載のセキュリティエレメント（１）。
  19. 前記構造体（４）が、支持層（８）内に、成形装置を用いて、特に、エンボス加工によって形成されており、又は、前記構造体（４）が、前記支持層（８）上に直接に、又は少なくとも１つの中間層（１０）の介在下で被着された層（９）、特に、エンボス加工されたラッカー層内に成形されており、特に、成形装置によってエンボス加工されていることを特徴とする、請求項１３から１８までのいずれか１項に記載のセキュリティエレメント（１）。
  20. 前記構造体（４）が成形された前記追加の層（９）が、下限が０．５μｍ、特に、０．８μｍ、好ましくは１μｍであり、且つ上限が３００μｍ、特に、５０μｍ、好ましくは２０μｍである層厚値範囲に由来する層厚値の層厚を有していることを特徴とする、請求項１９に記載のセキュリティエレメント（１）。
  21. 前記セキュリティエレメント（１）が、追加の色変化層、特に、色変化顔料又は液晶を有する層、及び／又は機械可読なフィーチャを備えており、前記機械可読なフィーチャが、特に、磁気コード、導電層、電磁波吸収性素材及び／又は電磁波再放射性素材であることを特徴とする、請求項１から２０までのいずれか１項に記載のセキュリティエレメント（１）。
  22. 前記セキュリティエレメント（１）が付加的な層を有しており、前記付加的な層が、特に、保護ラッカー、熱シールラッカー、接着剤、プライマー、及び／又は金属箔を含むことを特徴とする、請求項１から２１までのいずれか１項に記載のセキュリティエレメント（１）。
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