JP2022546217A - 誘電ヒーター付きシーシャ装置 - Google Patents

Abstract

エアロゾル形成基体（９２）を加熱してエアロゾルを発生させるためのシーシャ装置（５０）と、シーシャシステムのためのエアロゾル発生物品（９０）と、シーシャ装置（５０）およびエアロゾル発生物品（９０）を備えるシーシャシステムであって、シーシャ装置（５０）は、液体の体積を包含するように構成された液体くぼみ（５４）であって、ヘッドスペース出口（６０）を有する液体くぼみ（５４）と、エアロゾル形成基体（９２）を受容するように構成された物品くぼみ（１４）であって、液体くぼみ（５４）と流体連通している物品くぼみ（１４）と、物品くぼみ（１４）中に無線周波数（ＲＦ）電磁場を発生させるように構成された電磁場発生装置（１１）と、を備える。【選択図】図３

Description

本開示は、エアロゾル形成基体からエアロゾルを発生させるためのシーシャシステムに関する。特に、本開示は、シーシャシステム、シーシャ装置、およびシーシャ装置と共に使用するためのシーシャ物品に関する。

従来のシーシャ装置は、当該技術分野では、時に、水たばこ、カルヤン、ナルギル、または水パイプと呼ばれる。従来のシーシャ装置は、シーシャ装置中の加熱された基体から放出された揮発性化合物が、ユーザーによって吸入される前に液体盤を通して引き出されるという点で、他のエアロゾル発生装置とは異なる。従来のシーシャ装置は、一つの出口を含んでもよく、または２人以上のユーザーが一度に装置を使用することができるように二つ以上の出口を含んでもよい。

従来のシーシャ装置は典型的に、シーシャ基体と組み合わせて使用され、当該技術において、水たばこ、たばこ糖蜜、または単に糖蜜と称されることがある。従来のシーシャ基体は、従来の可燃性紙巻たばこに見られる場合がある約２０パーセントと比較して、糖分が比較的多く、場合によっては、最大約５０パーセントの糖分を含む。

従来のシーシャ装置はまた、木炭を利用して、シーシャ基体を加熱し時には燃焼してユーザーによる吸入のためのエアロゾルを発生させる。シーシャ基体を加熱するために木炭を使用することによって、たばこおよびシーシャ基体中の他の原料を完全にまたは部分的に燃焼させうる。

異なるタイプの電気的に作動するシーシャシステムが提案されている。電気的に作動するシーシャシステムは、従来のシーシャ装置の木炭熱源を電気的に作動するヒーターで置き換えている。ほぼすべての提案された電気的に作動するシーシャシステムは、発熱体からエアロゾル形成基体への熱の伝導、発熱体からエアロゾル形成基体への熱の放射、またはエアロゾル形成基体を通して加熱された空気を引き出すことのうちの一つ以上によって、エアロゾル形成基体を加熱する。最も一般的には、加熱は、電気抵抗性のある発熱体に電流を流し、発熱体のジュール加熱を生じさせることによって達成される。誘導加熱システムも提案されており、ジュール加熱は、サセプタ発熱体に誘導された渦電流の結果として起こる。

以前に提案された電気的に作動するシーシャ装置に関する一つの問題は、エアロゾル形成基体の不均一な加熱を生じさせる場合があることである。発熱体に最も近いエアロゾル形成基体の部分は、発熱体からより離れたエアロゾル形成基体の部分よりも速く、またはより高温に加熱される。

より大きな設計の柔軟性を可能にし、かつ加熱制御を可能にする様式で、エアロゾル形成基体の均一な加熱を提供できることが望ましい。

本開示では、エアロゾル形成基体を加熱してエアロゾルを発生させるためのシーシャ装置が提供されている。シーシャ装置は、液体の体積を包含するように構成された液体くぼみを備えてもよい。液体くぼみは、ヘッドスペース出口を有してもよい。シーシャ装置は、エアロゾル形成基体を受容するように構成された物品くぼみを備えてもよい。物品くぼみは、液体くぼみと流体連通していてもよい。シーシャ装置は、物品くぼみ中に無線周波数（ＲＦ）電磁場を発生させるように構成された電磁場発生装置を含みうる。

特に、本開示では、エアロゾル形成基体を加熱してエアロゾルを発生させるためのシーシャ装置が提供されていて、シーシャ装置は、液体の体積を包含するように構成された液体くぼみであって、ヘッドスペース出口を有する液体くぼみと、エアロゾル形成基体を受容するように構成された物品くぼみであって、液体くぼみと流体連通している物品くぼみと、物品くぼみ中に無線周波数（ＲＦ）電磁場を発生させるように構成された電磁場発生装置とを備える。

こうしたシーシャ装置は、エアロゾル形成基体の誘電加熱を生じるように構成されている。誘電加熱は、ホットスポットの生成なしに、大量のエアロゾル形成基体内で均一でありうる。誘電加熱はまた、発熱体とエアロゾル形成基体の間の接触を必要としない。これは、その上にエアロゾル残渣の蓄積を被りうる電気発熱体の場合の従来の配設と比較して、発熱体を掃除する必要がないことを意味する。シーシャ装置は、エアロゾル形成基体の形状、体積および組成、ならびに相応して物品くぼみの形状および体積に関して、かなりの設計柔軟性を可能にする。

電磁場発生装置は、物品くぼみ中に無線周波数（ＲＦ）電磁場を発生させるように構成された電磁場発生装置の任意の適切なタイプでありうる。

電磁場発生装置は、ソリッドステートＲＦトランジスタを含むことが好ましい。

ソリッドステートＲＦトランジスタを使用することで、シーシャ装置をコンパクトにすることができる。家庭用電子レンジなどの加熱用のＲＦ周波数放射を生成するための従来的な手段は、マグネトロンである。マグネトロンはかさばり、動作には高電圧が必要である。さらに、マグネトロンは比較的不安定な周波数出力を有し、比較的短い寿命を有する。ＲＦトランジスタは、より多くの使用サイクルにわたって一貫した動作を提供し、はるかに低い動作電圧を必要とする。

有利なことに、ソリッドステートＲＦトランジスタは、ＲＦ電磁場を発生および増幅するように構成されうる。単一のトランジスタを使用して、ＲＦ電磁場の発生および増幅の両方を提供することにより、シーシャ装置をコンパクトにすることが可能になる。ソリッドステートＲＦトランジスタは、例えば、ＬＤＭＯＳトランジスタ、ＧａＡｓ ＦＥＴ、ＳｉＣ ＭＥＳＦＥＴ、またはＧａＮ ＨＦＥＴであってもよい。

電磁場発生装置はソリッドステートＲＦトランジスタを含むことが好ましいが、一部の実施形態では、電磁場発生装置は、ＲＦ電磁場を発生させる能力を有するマグネトロンまたは他の適切な電磁場発生装置を含みうることが想定されている。

本明細書で使用される無線周波数（ＲＦ）は、約３ヘルツ（Ｈｚ）～約３テラヘルツ（ＴＨｚ）の周波数を意味する。従って、本明細書で使用されるＲＦ周波数はマイクロ波周波数を含む。ＲＦ電磁場は、約１メガヘルツ（ＭＨｚ）～約５０ギガヘルツ（ＧＨｚ）の周波数を有することが好ましい。ＲＦ電磁場は、約４メガヘルツ（ＭＨｚ）～約３０ギガヘルツ（ＧＨｚ）の周波数を有することがより好ましい。ＲＦ電磁場は、約１００メガヘルツ（ＭＨｚ）～約１０ギガヘルツ（ＧＨｚ）の周波数を有してもよい。一実施形態では、ＲＦ電磁場は約４メガヘルツ（ＭＨｚ）の周波数を有する。一実施形態では、ＲＦ電磁場は約３ギガヘルツ（ＧＨｚ）の周波数を有する。一実施形態では、ＲＦ電磁場は約２．４ギガヘルツ（ＧＨｚ）の周波数を有する。

本明細書で使用される場合、「エアロゾル形成基体」という用語は、エアロゾルを形成することができる揮発性化合物を放出する能力を有する基体に関する。こうした揮発性化合物は、エアロゾル形成基体を加熱することによって放出されてもよい。エアロゾル形成基体は、典型的に、エアロゾル発生物品の一部である。例えば、エアロゾル形成基体は、シーシャエアロゾル形成基体としうる。

シーシャエアロゾル形成基体はまた、当該技術分野では、水たばこ、たばこ糖蜜、または単に糖蜜と称されうる。シーシャエアロゾル形成基体は、従来の可燃性紙巻たばこ、または喫煙の体験を真似るために燃焼することなく加熱されることを意図するたばこベースの消耗品と比較して、比較的高い糖分を有しうる。エアロゾル形成基体は、後でより詳細に記載される。

本明細書で使用される場合、「エアロゾル発生物品」という用語は、エアロゾルを形成することができる揮発性化合物を放出する能力を有するエアロゾル形成基体を含む物品を指す。例えば、エアロゾル発生物品は、シーシャ装置のためのカートリッジであってもよい。シーシャ装置のためのカートリッジは、エアロゾル形成基体を含む。シーシャ装置のためのカートリッジは、シーシャエアロゾル形成基体を含むことが好ましい。シーシャ装置のためのカートリッジは、シーシャ装置によって受容可能であり、ユーザーがシーシャ装置のマウスピースから引き出すかまたは吸煙することによって吸入可能なエアロゾルを発生させるためにシーシャ装置と動作可能である。エアロゾル発生物品は、使い捨てであってもよい。

本明細書で使用される場合、「シーシャ装置」という用語は、エアロゾル形成基体と相互作用してエアロゾルを発生する装置を指す。シーシャ装置は、エアロゾル形成基体から分離している。シーシャ装置は、エアロゾル形成基体を加熱するために、エアロゾル形成基体との組み合わせ用に構成されている。エアロゾル形成基体は、エアロゾル発生物品の一部として提供されてもよい。シーシャ装置は、エアロゾル発生物品から分離している。シーシャ装置は、エアロゾル発生物品のエアロゾル形成基体を加熱するために、エアロゾル発生物品との組み合わせ用に構成されている。シーシャ装置は、少なくとも、加熱された基体から放出された揮発性化合物が、ユーザーによって吸入される前にシーシャ装置の液体盤を通して引き出されるという点で、他のエアロゾル発生装置とは異なる。シーシャ装置は、２人以上のユーザーが一度に装置を使用することができるように２つ以上の出口を含んでもよい。シーシャ装置は、エアロゾル形成基体から放出された揮発性化合物を液体盤に方向付けるための、ステムパイプなどの気流導管を備えてもよい。

本明細書で使用される「シーシャシステム」という用語は、エアロゾル形成基体と、またはエアロゾル形成基体を含むエアロゾル発生物品とシーシャ装置の組み合わせを指す。シーシャシステムでは、エアロゾル形成基体またはエアロゾル形成基体を含むエアロゾル発生物品と、シーシャ装置とが協働してエアロゾルを発生させる。

シーシャ装置は、シーシャ装置によって発生されたエアロゾルが、ユーザーによってエアロゾルが吸入される前に、液体（典型的には水）の体積を通して引き出されるという点で、他のエアロゾル発生装置とは異なる。より詳細には、ユーザーがシーシャ装置を吸う時、加熱されたエアロゾル形成基体から放出された揮発性化合物が、シーシャ装置の気流導管を通して液体の体積の中に引き出される。揮発性化合物は、液体の体積からシーシャ装置のヘッドスペースに引き出され、ここで揮発性化合物はエアロゾルを形成する。次いで、ヘッドスペース中のエアロゾルは、ユーザーによる吸入のためにヘッドスペース出口でヘッドスペースから引き出される。液体（典型的には水）の体積は、揮発性化合物の温度を低下させるように作用し、シーシャ装置のヘッドスペース中に形成されるエアロゾルに追加的な含水量を付与しうる。このプロセスは、シーシャ装置を使用するプロセスに特有の特徴をユーザーに対して加え、シーシャ装置によって発生され、ユーザーによって吸入されるエアロゾルに特有の特徴を付与する。

一部の好ましい実施形態では、シーシャ装置は、加熱されたエアロゾル形成基体から放出された揮発性化合物を、物品くぼみから液体くぼみに搬送するための気流導管を備える。より具体的には、シーシャ装置は、加熱されたエアロゾル形成基体から放出された揮発性化合物を、物品くぼみから液体くぼみ内の液体の体積に搬送するように構成された気流導管を含んでもよい。典型的には、気流導管は、エアロゾルを物品くぼみから液体くぼみの液体充填レベルより下に搬送するように構成されている。液体くぼみの液体充填レベルは、シーシャ装置が最適に動作されうるように、液体くぼみが液体で充填されることが意図されるレベルである。気流導管は、液体くぼみの液体充填レベルより下に、液体くぼみの開口部を有してもよい。

シーシャ装置は、ヘッドスペース出口を備える。ヘッドスペース出口は、それを通してエアロゾルが液体くぼみから引き出されうる出口である。ヘッドスペース出口は、液体くぼみの液体充填レベルより上に配設されてもよい。液体くぼみの液体充填レベルより上の空間は、ヘッドスペースと呼ばれる。液体くぼみのヘッドスペースは、物品くぼみから、液体くぼみ中の液体の体積を通して引き出された揮発性化合物が凝縮して、ユーザーによる吸入に適したエアロゾルを形成しうる空間である。液体くぼみのヘッドスペースは、液体くぼみ中の液体の体積のいずれも含むことを意図していない。従って、ヘッドスペースは、液体くぼみが液体で充填されることを意図したレベルである、液体くぼみの液体充填レベルより上に配設されてもよい。ヘッドスペース出口は、エアロゾルが液体くぼみから引き出されるのを可能にするように配置されてもよい。ヘッドスペース出口は、ヘッドスペースと流体連通していてもよい。

マウスピースは、ヘッドスペース出口に流体接続していてもよい。マウスピースは、ユーザーがシーシャ装置によって発生させられたエアロゾルを吸うために構成されてもよい。一部の実施形態では、マウスピースはヘッドスペース出口に固定されてもよい。言い換えれば、マウスピースは、マウスピースおよびヘッドスペース出口の一方または両方を損傷することなく、ヘッドスペース出口からマウスピースが取り外されないように、ヘッドスペース出口に取り付けられてもよい。マウスピースは、ヘッドスペース出口に取り外し可能なように結合可能でありうる。言い換えれば、マウスピースは、ヘッドスペース出口に取り付けられるように、およびヘッドスペース出口から取り外されるように構成されうる。一部の実施形態では、マウスピースは、取り外し可能な１つの待機空気弁と互換性があってもよい。このようにして、複数のヘッドスペース出口が提供される場合、マウスピースの数は、任意の所与の使用セッションにおけるユーザー数に応じて、装置の引き出し抵抗（ＲＴＤ）に悪影響を与えることなく調整することができる。マウスピースは、ヘッドスペース出口に接続されたホースを備えてもよい。ホースは、可撓性のホースであってもよい。

マウスピースは、起動要素を含んでもよい。起動要素は、ユーザーによって起動可能なスイッチを備えてもよい。マウスピースは、ユーザーがマウスピースを吸煙するのを検出するように配設された吸煙センサーを備えてもよい。起動要素は、ユーザーおよび吸煙センサーによって起動可能なスイッチ両方を備えてもよい。起動要素は、シーシャ装置の制御回路に動作可能に結合されてもよい。起動要素は、シーシャ装置の制御回路に無線で結合されてもよい。起動要素の起動は、電力を発熱体に常に供給するのではなく、シーシャ装置の制御回路に発熱体を起動させるようにしうる。その結果、起動要素の使用は、こうした要素を採用していない装置と比較してエネルギーを節約するよう機能して、一定した加熱ではなく要求に応じた加熱を提供する場合がある。

シーシャ装置は、複数のヘッドスペース出口を備えてもよい。例えば、シーシャ装置は、２つ、３つ、４つ、５つ、または６つのヘッドスペース出口を備えてもよい。複数のヘッドスペース出口を提供することによって、複数のユーザーが一度に液体くぼみからエアロゾルを引き出すことを可能にしうる。言い換えれば、複数のヘッドスペース出口を提供することによって、複数のユーザーが、シーシャ装置を同時に使用することが可能となりうる。

シーシャ装置は、エアロゾル形成基体を含むエアロゾル発生物品を受容するように構成された物品くぼみを備える。

電磁場発生装置によって発生された電磁放射を物品くぼみ内に封じ込めることが望ましい。これは、効率的な加熱を提供し、かつ放射漏れを回避するためである。こうした放射漏れは、電磁場発生装置自体を含め、システムの他の構成要素に損傷を与える可能性がある。また、ＲＦ放射へのユーザーの曝露を最小化することが望ましい。有利なことに、物品くぼみは、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成される一つ以上の外壁を備えうる。物品くぼみの一つ以上の外壁は、アルミニウム、ステンレス鋼、銀、または金などのＲＦ放射を通さない任意の適切な材料を含んでもよい。物品くぼみの一つ以上の外壁は、くぼみ内のＲＦ放射の反射を改善するために研磨された表面を有してもよい。

また、放射が物品くぼみに入ることも許容されなければならない。従って、電磁場の物品くぼみへの進入を可能にするために、一つ以上のスロットが一つ以上の外壁に形成されてもよい。電磁場が通過しうる一つ以上のスロットを提供することにより、電磁場が物品くぼみに入ることが可能になる。一つ以上のスロットは、電磁場が物品くぼみに入ることを可能にする任意の適切な形状およびサイズを有しうる。例えば、一つ以上のスロットのうちの少なくとも一つは、Ｌ字型、Ｓ字型、Ｔ字型、またはＩ字型を有してもよい。

物品くぼみは、ＲＦ電磁場を通す一つ以上の壁を備えてもよい。特に、物品くぼみは、ＲＦ電磁場を通す一つ以上の壁を備えてもよく、ここで、エアロゾル形成基体は、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成されたラッパーまたは容器に包まれている。一つ以上のスロットは、電磁場の進入を可能にするために、エアロゾル形成基体を包むラッパーまたは容器中に形成されてもよい。

物品くぼみは、任意の適切な形状およびサイズを有してもよい。特に、物品くぼみは、エアロゾル発生物品に相補的な形状およびサイズを有してもよい。

物品くぼみは、任意の適切な横断断面を有してもよい。例えば、物品くぼみは、円形、楕円形、長方形、正方形、三角形、または他の多角形横断断面形状を有してもよい。

一部の実施形態では、物品くぼみは実質的に円筒形である。

一部の実施形態では、物品くぼみは、実質的に円錐台状である。一部の実施形態では、物品くぼみの一方の端の幅または直径は、物品くぼみの他方の端の幅または直径よりも大きい。言い換えれば、物品くぼみは、一方の端から他方の端へ先細りしていてもよい。他方の端よりも狭い一方の端を有する物品くぼみを提供することにより、重力のみの影響下で、物品くぼみがエアロゾル発生物品を物品くぼみ中に保持することが可能になりうる。

物品くぼみは、開口部を備えてもよい。物品くぼみは、エアロゾル形成基体を含有するエアロゾル形成物品を、開口部を通して受容するように構成されていてもよい。物品くぼみは、開放端を備えてもよい。物品くぼみは、エアロゾル形成基体を含有するエアロゾル形成物品を、開放端を通して受容するように構成されていてもよい。

一部の実施形態では、物品くぼみは、移動可能な閉鎖部を備えてもよい。移動可能な閉鎖部は、物品くぼみの開放端を実質的に閉じるように構成されてもよい。物品くぼみの開放端を実質的に閉じるように移動可能な閉鎖部が配設されている場合、移動可能な閉鎖部は、エアロゾル形成物品が物品くぼみから取り外し可能であることを実質的に防止しうる。移動可能な閉鎖部は、物品くぼみの開放端を閉じるために回転可能に移動可能であってもよい。移動可能な閉鎖部は、物品くぼみの開放端を閉じるために、摺動可能に移動可能であってもよい。移動可能な閉鎖部は、実質的に物品くぼみの開放端を閉じるために、物品くぼみの開放端に取り外し可能なように結合可能であってもよい。

一部の実施形態では、物品くぼみは、二つの開放端を備えてもよい。例えば、物品くぼみは、開いた第一の端、および第一の端と反対側の開いた第二の端を備えてもよい。有利なことに、物品くぼみに二つの開放端を提供することによって、空気が、物品くぼみを通して開放端部の間に引き出されることを可能にしうる。

一部の実施形態では、物品くぼみは、開放端および閉鎖端を含みうる。閉鎖端は、物品くぼみが、エアロゾル発生物品を物品くぼみ中に保持することを可能にしうる。

一部の特に好ましい実施形態では、物品くぼみは実質的に円錐台状であり、第二の端よりも狭い第一の端を有する。これらの実施形態では、物品くぼみの第一の端は開いていてもよく、物品くぼみの第二の端は開いていてもよい。これによって、空気が、物品くぼみを通して第一の端から第二の端まで引き出されることが可能になりうる。これらの実施形態では、物品くぼみ中に受容されるように構成されたエアロゾル発生物品は、流体透過性の第一の端の外部表面および流体透過性の第二の端の外部表面を備えうる。エアロゾル発生物品の流体透過性の第一の端および第二の端の外部表面は、エアロゾル発生物品が物品のくぼみに受容された時に、第一の端と第二の端の間を、物品くぼみを通って空気が流れることを可能にしうる。これらの実施形態では、エアロゾル発生物品の流体透過性の第一の端および第二の端の外部表面は、ＲＦ電磁場を通さないことが好ましい。例えば、流体透過性の第一の端および第二の端の外部表面は、金属メッシュから形成されてもよい。

物品くぼみは、任意の適切な形状および寸法を有してもよい。物品くぼみは、約１０ミリメートル～約１００ミリメートル、約２０ミリメートル～約９０ミリメートル、または約２５ミリメートル～約８０ミリメートルの長さを有してもよい。一部の好ましい実施形態では、物品くぼみは、約３３ミリメートル、約３４ミリメートル、約３５ミリメートル、約３６ミリメートル、約３７ミリメートル、約３８ミリメートル、３９ミリメートル、約４０ミリメートル、約４１ミリメートル、または約４２ミリメートルの長さを有してもよい。物品くぼみは、約５ミリメートル～約７０ミリメートル、または約１０ミリメートル～約６０ミリメートル、または約１０ミリメートル～約５０ミリメートルの幅または直径を有してもよい。一部の好ましい実施形態では、物品くぼみは、約３５ミリメートル、約３６ミリメートル、約３７ミリメートル、約３８ミリメートル、３９ミリメートル、約４０ミリメートル、約４１ミリメートル、約４２ミリメートル、約４３ミリメートル、約４４ミリメートル、または約４５ミリメートルの幅または直径を有してもよい。

本明細書で使用される「長さ」という用語は、基部または底部端と、シーシャ装置、シーシャ装置の構成要素、エアロゾル発生物品、またはエアロゾル発生物品の構成要素の上部端との間の最大長軸方向寸法を指す。本明細書で使用される「幅」または「直径」という用語は、シーシャ装置、シーシャ装置の構成要素、エアロゾル発生物品、またはエアロゾル発生物品の最大横断方向寸法を指す。例えば、エアロゾル発生物品が円錐台形状を有する場合、エアロゾル発生物品の幅または直径は、円錐台形状の基部の幅または直径であり、これはエアロゾル発生物品の長さに沿った任意の点での、エアロゾル発生物品の最も広い部分である。横断方向寸法は、長軸方向を横断する方向に測定される方向で測定される寸法であり、長軸方向は、長軸方向寸法が測定される方向である。本明細書で使用される「横断断面」という用語は、横断面に沿って切り取られた断面を指す。

本明細書で使用される「上部」および「底部」という用語は、シーシャ装置、シーシャ装置の構成要素、エアロゾル発生物品またはエアロゾル発生物品の構成要素の要素または要素の一部分の相対的な位置を指す。

物品くぼみは、加熱ユニット中に位置してもよい。加熱ユニットは、物品くぼみおよび電磁場発生装置を備えてもよい。加熱ユニットは、以下により詳細に記載するように、制御回路、電源、ならびに導波管およびアンテナなどの電磁場マニピュレータのうちの一つ以上をさらに備えてもよい。加熱ユニットは、制御回路、電源、および電磁場マニピュレータなどの、一つ以上の電気構成要素を加熱ユニットに電気的に接続するための一つ以上の電気コネクタをさらに備えてもよい。

加熱ユニットは、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成された一つ以上の外壁を備えてもよい。加熱ユニットの外壁のすべてが、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成されることが好ましい。加熱ユニットは、エアロゾル発生物品を物品くぼみに挿入することを可能にする開口部を備えてもよい。加熱ユニットは、開位置と閉位置の間を移動可能な、リッドまたはドアなどの移動可能な閉鎖部を備えてもよい。開位置は、エアロゾル発生物品を物品くぼみの中に挿入することを可能にしてもよく、閉位置は、エアロゾル発生物品を物品くぼみから取り外すことを実質的に防止または阻害してもよい。移動可能な閉鎖部は、加熱ユニットの外壁に回転可能に結合されるまたは摺動可能に結合されるなど、移動可能に結合されてもよい。移動可能な閉鎖部は、加熱ユニットの外壁に取り外し可能なように結合可能であってもよい。

エアロゾル発生装置は、物品くぼみと電磁場発生装置の間に共鳴くぼみをさらに備えてもよい。本明細書で使用される「共鳴くぼみ」という用語は、所与の周波数の電磁波を閉じ込めることができる構造を指す。この場合、電磁波の選択周波数は、スペクトルのＲＦ領域に対応する。電磁波を封じ込めるために、共鳴くぼみは、その周波数に対する反射材料（例えば、金属）から作製される。構造は、中空であるかまたは誘電体材料で充填されてもよい。共鳴くぼみの目的は、定在波の形成を強化し、電力損失を最小化するために、電磁波が内部で前後に跳ね返ることを可能にすることである。

共鳴くぼみは、ＲＦ電磁場を共鳴周波数で増幅し、負荷によるエネルギーの吸収を最適化し、負荷からの放射の反射を最小化するために、電磁場発生装置および負荷（この場合は、物品くぼみ中のエアロゾル形成基体）のインピーダンスに合致するように設計されうる。これにより加熱効率が向上し、システムからの放射漏れが最小化される。共鳴くぼみは、電磁場発生装置と物品くぼみの間に位置付けられてもよい。

シーシャ装置は、導波管を備えてもよい。導波管は、物品くぼみに隣接していてもよい。導波管は、ＲＦ電磁場が一つ以上のスロットまたは入口点を通して物品くぼみに入ることを可能にするために提供されてもよい。ＲＦ放射は、導波管内で自由に伝搬しうる。導波管は、ＲＦ電磁放射を通さない外壁を有してもよい。導波管は、電磁場発生装置と物品くぼみの間に配設されてもよい。導波管は、電磁場発生装置と共鳴くぼみの間に配設されてもよい。

エアロゾル発生装置は、電磁場発生装置に接続され、ＲＦ電磁場を方向付けるように構成されたアンテナをさらに備えてもよい。エアロゾル発生装置は、電磁場発生装置に接続され、ＲＦ電磁場を方向付けるように構成された複数のアンテナをさらに備えてもよい。一つ以上のアンテナは、少なくとも部分的に物品くぼみ中に位置付けられてもよい。使用時、一つ以上のアンテナは、少なくとも部分的に物品くぼみ中にエアロゾル形成基体と共に位置付けられてもよい。使用時、一つ以上のアンテナは、エアロゾル形成基体を包む容器またはラッパーを穿刺するように構成されうる。一つ以上のアンテナは、物品くぼみの外壁のスロットを通過しうる。一つ以上のアンテナは、導波管に結合されてもよい。一つ以上のアンテナは、電磁場発生装置に結合された導波管に結合されてもよい。一つ以上のアンテナは、共鳴くぼみ中に少なくとも部分的に配設されてもよい。一つ以上のアンテナは、電磁場発生装置と物品くぼみの間に配設されてもよい。一つ以上のアンテナは、導波管と物品くぼみの間に配設されてもよい。一つ以上のアンテナは、導波管と共鳴くぼみの間に配設されてもよい。

電磁場発生装置によって発生した放射を方向付けるアンテナの提供は、装置の効率を改善しうる。一つ以上のアンテナは、導電性ピンを含んでもよい。

シーシャ装置は、空気吸込み口を備えてもよい。空気吸込み口は、周囲空気がシーシャ装置の中に引き出されることを可能にしうる。シーシャ装置の装置ハウジングは、空気吸込み口を備えてもよい。空気吸込み口は、周囲空気が物品くぼみの中に引き出されることを可能にしうる。物品くぼみの一つ以上の端が、シーシャ装置の外部表面にある実施形態では、物品くぼみは空気吸込み口を備えてもよい。物品くぼみが、エアロゾル発生物品を受容するための開放端を備える実施形態では、開放端は空気吸込み口を形成しうる。

気流経路は、空気吸込み口とヘッドスペース出口の間に画定されてもよい。気流経路は、物品くぼみを通って延びてもよい。気流経路は、物品くぼみから液体くぼみの中に延びてもよい。気流経路は、物品くぼみから、気流導管を介して、液体くぼみの中の液体くぼみの液体充填レベルより下に延びてもよい。気流経路は、液体くぼみの液体充填レベルより下から、液体くぼみのヘッドスペースまで延び、ヘッドスペース出口から出てもよい。

気流経路は、一つ以上の放射遮蔽要素を超えて延びる一つ以上の迷路性の部分を備えてもよい。気流経路が物品くぼみを通過する、または発生したＲＦ電磁場を通過する実施形態では、気流経路は、空気吸込み口または空気出口を通るＲＦ放射の脱出を防止するために、一つ以上の放射遮蔽要素を通り超したところに迷路性の部分を含みうる。一つ以上の流体透過性放射遮蔽要素が、気流経路に提供されてもよい。例えば、金属メッシュが気流経路に提供されてもよい。

一部の実施形態では、物品くぼみは、物品くぼみを通る気流経路が気流導管と整列するように構成されている。一部の実施形態では、物品くぼみは、物品くぼみを通る気流経路が、ＲＦ電磁場がくぼみに入る方向と実質的に整列するよう構成されている。一部の実施形態では、物品くぼみは、物品くぼみを通る気流経路が、ＲＦ電磁場がくぼみに入る方向に対して実質的に横断するよう構成されている。

一部の実施形態では、物品くぼみは、第一の端、第一の端の反対側の第二の端、および第一の端と第二の端の間に延びる側面を備える。これらの実施形態では、物品くぼみは、空気が第一の端と第二の端の間の物品くぼみを通って流れるように構成されてもよい。これらの実施形態では、物品くぼみは、ＲＦ電磁エネルギーが側面で物品くぼみに入ることを可能にするように構成されてもよい。例えば、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成された物品くぼみの側壁に、一つ以上のスロットが提供されてもよい。例えば、くぼみの側壁は、ＲＦ電磁場を実質的に通す材料を含んでもよい。

一部の実施形態では、物品くぼみは、第一の端、第一の端の反対側の第二の端、第一の端と第二の端の間に延びる第一の側面、および第一の端と第二の端の間に延び、第一の側面と反対側の第二の側面を備える。物品くぼみは、空気が第一の側面と第二の側面の間の物品くぼみを通って流れるように構成されてもよい。物品くぼみは、第一の端および第二の端のうちの少なくとも一つで、ＲＦ電磁エネルギーが物品くぼみに入ることを可能にするように構成されうる。

ＲＦ電磁場を発生させるためにＲＦトランジスタを使用することで、閉ループ制御スキームを使用することが可能である。シーシャ装置は、物品くぼみ中のまたは物品くぼみに隣接したセンサーであって、物品くぼみ中の温度を示す信号を提供するセンサーと、センサーからの信号を受信するように接続され、センサーからの信号に依存して電磁場発生装置を制御するように接続されたコントローラとを備えてもよい。

センサーは、温度を直接測定する温度センサーを含みうる。センサーは、物品くぼみ中の温度を示す、物品くぼみ中の電磁場の摂動を検出するように構成された一つのサンプリングアンテナまたは複数のサンプリングアンテナを備えてもよい。エアロゾル形成基体の誘電特性は、温度に依存して変化する。電磁場の周波数もしくは振幅、または周波数および振幅の両方は、装置によって提供される加熱を制御するために、センサーからの信号に基づいてコントローラによって調整されうる。

過熱は、センサーによって検出されてもよく、加熱不足は、センサーによって検出されてもよい。過熱または加熱不足が検出されることによって、電磁場の周波数および振幅がそれに応じて調整されうる。シーシャ装置の制御回路は、過熱がセンサーによって検出されるか、または過熱がセンサーによって検出されるかに基づいて、電磁場の周波数および振幅のうちの少なくとも一つを調整するように構成されうる。

センサーによって誤動作が検出されてもよい。誤動作が検出された場合、シーシャ装置を自動的にオフにしうる。また、物品くぼみ中の不適切な材料の存在を検出することも可能でありうる。物品くぼみ中に不適切な材料が検出された場合、シーシャ装置を自動的にオフにしうる。同様に、センサーの信号が、エアロゾル形成基体が物品くぼみ中に存在しないことを示唆する場合、装置を自動的にオフにしうる。シーシャ装置を自動的にオフにするために、シーシャ装置の制御回路は、電力が電磁場発生装置に供給されるのを防止するように構成されうる。この種の制御は、マグネトロンを使用してＲＦ放射を発生させる場合には不可能である。

物品くぼみ内の温度を所定の温度範囲内に維持することが望ましい場合がある。エアロゾル形成基体の温度を、エアロゾル形成基体燃焼物の温度よりも下に維持することが望まれうる。

フィードバック信号に基づいてシーシャ装置によって提供される加熱量を制御する能力によって、異なるエアロゾル形成基体を使用することも可能になる。異なるエアロゾル形成基体を、異なる温度に加熱することが望ましい場合がある。従って、温度制御のための機構を提供することにより、異なるエアロゾル形成基体またはエアロゾル形成物品の異なる設計に対して最適な条件を達成することが可能になる。

シーシャ装置は、ユーザーがシーシャ装置を吸煙した時を検出するように構成された吸煙検出器を備えてもよい。本明細書で使用される「吸煙」という用語は、ユーザーがシーシャ装置を吸ってエアロゾルを受容することを言及するために使用される。吸煙検出器は温度センサーを備えてもよい。吸煙検出器は圧力センサーを備えてもよい。吸煙検出器は温度センサーおよび圧力センサーの両方を備えてもよい。

シーシャ装置は制御回路を備えてもよい。制御回路は、電磁場発生装置への電力供給を制御するように構成されうる。制御回路はマイクロプロセッサ、プログラマブルマイクロプロセッサ、マイクロコントローラ、および特定用途向け集積回路チップ（ＡＳＩＣ）または制御を提供することができる他の電子回路のうちの一つ以上を含みうる。制御回路はさらなる電子構成要素を備えてもよい。例えば、一部の実施形態では、制御回路は、センサー、スイッチ、およびディスプレイ要素のうちの一つ以上を備えてもよい。制御回路は、ＲＦ電力センサーを含みうる。制御回路は、電力増幅器を含みうる。

一部の実施形態では、シーシャ装置は、外部電源に接続するように構成されている。例えば、シーシャ装置は、主電源に接続するように構成されてもよい。

一部の実施形態では、シーシャ装置は電源を備える。電源は、ＤＣ電源であってもよい。電源は、電池、またはコンデンサなど別の形態の電荷蓄積装置を含みうる。電源は、再充電可能なリチウムイオン電池を含みうる。一部の実施形態では、電源は、再充電可能電源である。シーシャ装置は、再充電可能電源を再充電するために外部電源に接続するように構成されてもよい。

制御回路は、電源から電磁場発生装置への電力供給を制御するように構成されうる。

電源は、約０．５ワット～約５０ワットの電力を提供しうる。一部の実施形態では、電源は、約１ワット～約４０ワット、または約２ワット～約３０ワットの電力を提供しうる。

電磁場発生装置がソリッドステートＲＦトランジスタである場合、電磁場発生装置のインピーダンスは、約１００オーム以下であってもよい。電磁場発生装置のインピーダンスは、７５オーム以下であってもよい。電磁場発生装置のインピーダンスは、約１オームより大きくてもよい。電磁場発生装置のインピーダンスは、約１０オームより大きくてもよい。電磁場発生装置のインピーダンスは、５０～７５オームの間であってもよい。

電磁場発生装置がソリッドステートＲＦトランジスタである場合、電磁場発生装置に渡る順方向電圧は、約１００ボルト以下であってもよい。電磁場発生装置に渡る順方向電圧は、約１ボルト以上であってもよい。電磁場発生装置に渡る順方向電圧は、約１ボルト～約１００ボルトであってもよい。

シーシャ装置は、ベッセルを含んでもよい。液体くぼみは、ベッセルの内部体積であってもよい。ベッセルは、液体を包含するように構成されうる。ベッセルは、液体くぼみを画定してもよい。ベッセルはヘッドスペース出口を備えてもよい。ベッセルは、液体充填レベルを画定してもよい。例えば、ベッセルは、液体充填レベル境界線を含んでもよい。液体充填レベル境界線は、液体くぼみが液体で充填されることが意図される所望のレベルを示すためにベッセル上に提供されるインジケータである。ヘッドスペース出口は、液体充填レベルより上に配設されてもよい。ヘッドスペース出口は、液体充填レベル境界線より上に配設されてもよい。ベッセルは、光学的に透明な部分を含んでもよい。光学的に透明な部分は、ユーザーがベッセルに包含された内容物を観察することを可能にしうる。ベッセルは、任意の適切な材料で形成されてもよい。例えば、ベッセルは、ガラスまたは硬いプラスチック材料から形成されてもよい。一部の実施形態では、ベッセルは、シーシャ組立品の残りの部分から取り外し可能である。一部の実施形態では、ベッセルは、シーシャ組立品のエアロゾル発生部分から取り外し可能である。有利なことに、取り外し可能なベッセルは、ユーザーが液体くぼみを液体で充填し、液体の液体くぼみを空にし、ベッセルを掃除することを可能にする。

ベッセルは、ユーザーによって液体充填レベルまで充填されてもよい。液体は水を含むことが好ましい。液体は、着色剤および風味剤のうちの一つ以上を注入した水を含んでもよい。例えば、水には植物の浸出液と薬草の浸出液のうちの一方または両方が注入されてもよい。

ベッセルは、任意の適切な形状およびサイズを有してもよい。液体くぼみは、任意の適切な形状およびサイズを有してもよい。ヘッドスペースは、任意の適切な形状およびサイズを有してもよい。

典型的には、本開示によるシーシャ装置は、ユーザーによって持ち運ばれるのではなく、使用時に表面上に定置されることが意図されている。よって、本開示によるシーシャ装置は、装置が使用中に配向されることを意図した特定の使用配向、または配向の範囲を有しうる。従って、本明細書で使用される「より上」および「より下」という用語は、シーシャ装置またはシーシャシステムが使用配向に保持された時、シーシャ装置またはシーシャシステムの特徴の相対的位置を指す。

一部の実施形態では、物品くぼみは、液体くぼみより上に配設されている。これらの実施形態では、気流導管は、物品くぼみから液体くぼみの液体充填レベルより下に延びてもよい。有利なことに、これは、物品くぼみ中のエアロゾル形成基体から放出された揮発性化合物が、物品くぼみから、液体くぼみより上のヘッドスペースではなく、液体くぼみ中の液体の体積に送達されることを確実にしうる。これらの実施形態では、気流導管は、エアロゾルくぼみから液体充填レベルより上の液体くぼみのヘッドスペースを通って液体くぼみの中に、そして液体充填レベルより下の液体の体積の中に延びてもよい。気流導管は、液体くぼみの上部または上端を通って液体くぼみの中に延びてもよい。

一部の実施形態では、物品くぼみは、液体くぼみより下に配設されている。これらの実施形態では、一方向弁が、物品くぼみと液体くぼみの間に配設されてもよい。一方向弁は、液体くぼみからの液体が、重力の影響下で物品くぼみに入るのを防止しうる。これらの実施形態では、一方向弁は、物品くぼみから液体くぼみの中に延びる気流導管中に提供されてもよい。これらの実施形態では、気流導管は、液体くぼみの中の液体充填レベルより下に延びてもよい。気流導管は、液体くぼみの底部端を通って液体くぼみの中に延びてもよい。

本開示の一部の特に好ましい実施形態によれば、エアロゾル形成基体を加熱してエアロゾルを発生させるためのシーシャ装置が提供されていて、シーシャ装置は、液体の体積を包含するように構成された液体くぼみであって、ヘッドスペース出口を有する液体くぼみと、エアロゾル形成基体を受容するように構成された物品くぼみであって、液体くぼみと流体連通している物品くぼみと、物品くぼみ中に無線周波数（ＲＦ）電磁場を発生させるように構成された電磁場発生装置であって、ソリッドステートＲＦトランジスタを含む電磁場発生装置と、を備える。

本開示の一部の特に好ましい実施形態によれば、エアロゾル形成基体を加熱してエアロゾルを発生させるためのシーシャ装置が提供されていて、シーシャ装置は、液体の体積を包含するように構成された液体くぼみであって、ヘッドスペース出口を有する液体くぼみと、エアロゾル形成基体を受容するように構成された物品くぼみと、物品くぼみと液体くぼみの間に延びる気流導管であって、物品くぼみと液体くぼみとを流体接続している気流導管と、液体くぼみのヘッドスペース出口に流体接続されたマウスピースと、物品くぼみ中に無線周波数（ＲＦ）電磁場を発生させるように構成された電磁場発生装置と、を備える。

本開示の一部の特に好ましい実施形態によれば、エアロゾル形成基体を加熱してエアロゾルを発生させるためのシーシャ装置が提供されていて、シーシャ装置は、液体の体積を包含するように構成された液体くぼみであって、ヘッドスペース出口を有する液体くぼみと、エアロゾル形成基体を受容するように構成された物品くぼみ、およびＲＦ電磁場を通さない材料から形成された外部ハウジングを備える加熱ユニットと、物品くぼみと液体くぼみの間に延びる気流導管であって、物品くぼみと液体くぼみとを流体接続している気流導管と、液体くぼみのヘッドスペース出口に流体接続されたマウスピースと、物品くぼみ中に無線周波数（ＲＦ）電磁場を発生させるように構成された電磁場発生装置と、を備える。

本開示では、前述したように、シーシャ装置と共に使用するためのエアロゾル発生物品も提供されている。

エアロゾル発生物品は、シーシャ装置と共に使用するための任意の適切なタイプのエアロゾル発生物品であってもよい。シーシャ装置と共に使用するために特別に設計されたエアロゾル発生物品は、シーシャ装置用のカートリッジと呼ばれうる。電磁場発生装置を有するシーシャ装置と共に使用するために特別に設計されたエアロゾル発生物品は、電磁場発生装置を有するシーシャ装置用のカートリッジと呼ばれうる。

エアロゾル発生物品は、任意の適切な形状およびサイズを有してもよい。特に、エアロゾル発生物品は、シーシャ装置の物品くぼみに相補的な形状およびサイズを有してもよい。

エアロゾル発生物品は任意の適切な横断断面を有してもよい。例えば、エアロゾル発生物品は、円形、楕円形、長方形、正方形、三角形、または他の多角形横断断面形状を有してもよい。

一部の実施形態では、エアロゾル発生物品は実質的に円筒形である。

一部の実施形態では、エアロゾル発生物品は実質的に円錐台状である。一部の実施形態では、エアロゾル発生物品の第一の端の幅または直径は、第一の端とは反対側の、エアロゾル発生物品の第二の端の幅または直径よりも大きい。言い換えれば、エアロゾル発生物品は、第一の端から第二の端へ先細りしていてもよい。第一の端よりも狭い第二の端を有するエアロゾル発生物品を提供することにより、重力の影響下で、エアロゾル発生物品を相補的な物品くぼみ中に保持することができる。

エアロゾル発生物品は、約１０ミリメートル～約１００ミリメートル、約２０ミリメートル～約９０ミリメートル、または約２５ミリメートル～約８０ミリメートルの長さを有してもよい。一部の好ましい実施形態では、エアロゾル発生物品は、約３３ミリメートル、約３４ミリメートル、約３５ミリメートル、約３６ミリメートル、約３７ミリメートル、約３８ミリメートル、３９ミリメートル、約４０ミリメートル、約４１ミリメートル、または約４２ミリメートルの長さを有してもよい。エアロゾル発生物品は、約５ミリメートル～約７０ミリメートル、または約１０ミリメートル～約６０ミリメートル、または約１０ミリメートル～約５０ミリメートルの幅または直径を有してもよい。一部の好ましい実施形態では、エアロゾル発生物品は、約３５ミリメートル、約３６ミリメートル、約３７ミリメートル、約３８ミリメートル、３９ミリメートル、約４０ミリメートル、約４１ミリメートル、約４２ミリメートル、約４３ミリメートル、約４４ミリメートル、または約４５ミリメートルの幅または直径を有してもよい。

エアロゾル発生物品はエアロゾル形成基体を含む。エアロゾル形成基体は、ラッパーまたは容器に包まれていてもよい。一部の実施形態では、エアロゾル形成基体は、被覆で完全に被覆されていてもよい。

ラッパーは、基体くぼみを画定してもよい。エアロゾル形成基体は、ラッパー内の基体くぼみ中に位置付けられてもよい。

一部の実施形態では、ラッパーは、ＲＦ電磁場を通さない材料を含んでもよい。一部の実施形態では、ラッパーの少なくとも一部分は、ＲＦ電磁場を通さない材料を含んでもよい。一部の実施形態では、ラッパー全体が、ＲＦ電磁場を通さない材料を含んでもよい。

ＲＦ電磁場のエアロゾル形成基体への進入を可能にするために、一つ以上のスロットがラッパーに形成されてもよい。特に、ラッパー全体がＲＦ電磁場を通さない材料を含む時、電磁場のエアロゾル形成基体への進入を可能にするために、一つ以上のスロットがラッパーに形成されてもよい。

ラッパーの少なくとも一部分は、流体透過性であってもよい。ラッパーの流体透過性部分は、エアロゾル形成基体から放出される揮発性化合物が、エアロゾル発生物品から放出されることを可能にしうる。ＲＦ電磁場を通さない材料を含むラッパーの一部分はまた、流体透過性であってもよい。例えば、ＲＦ電磁場を通さない流体透過性材料は、金属メッシュであってもよい。従って、ラッパーの少なくとも一部分は、金属メッシュから形成されてもよい。一部の実施形態では、ラッパーは金属メッシュから形成されうる。

エアロゾル形成基体は、容器に包まれていてもよい。容器は、基体くぼみを画定しうる。エアロゾル形成基体は、容器内の基体くぼみ中に位置付けられてもよい。

一部の実施形態では、容器は、ＲＦ電磁場を通さない材料を含んでもよい。

一部の実施形態では、容器は一つ以上の壁を備えてもよい。容器の少なくとも一つの壁は、ＲＦ電磁場を通さない材料を含んでもよい。容器の壁のすべてが、ＲＦ電磁場を通さない材料を含んでもよい。

容器は、上部壁、底部壁、および上部壁と底部壁の間に延びる側壁を含んでもよい。上部壁は、ＲＦ電磁場を通さない材料から成ってもよい。底部壁は、ＲＦ電磁場を通さない材料から成ってもよい。側壁は、ＲＦ電磁場を通さない材料から成ってもよい。一部の実施形態では、上部壁、底部壁、および側壁はそれぞれ、ＲＦ電磁場を通さない材料を含む。

ＲＦ電磁場の進入を可能にするために、一つ以上のスロットが容器中に形成されてもよい。特に、容器の上部壁および側壁がそれぞれＲＦ電磁場を通さない材料を含む時、ＲＦ電磁場のエアロゾル形成基体への進入を可能にするために、一つ以上のスロットが容器に形成されてもよい。

容器を備える一部の実施形態では、容器の上部壁および底部壁は、ＲＦ電磁場を通さない材料を含む。これらの実施形態の一部では、側壁でのＲＦ電磁場の進入を可能にするために、側壁はＲＦ電磁場を通さない材料を含まない。

容器を含む一部の実施形態では、容器の側壁は、ＲＦ電磁場を通さない材料を含む。これらの実施形態の一部では、底部壁でのＲＦ電磁場の進入を可能にするために、上部壁はＲＦ電磁場を通さない材料を含み、底部壁はＲＦ電磁場を通さない材料を含まない。これらの実施形態の一部では、上部壁でのＲＦ電磁場の進入を可能にするために、底部壁はＲＦ電磁場を通さない材料を含み、上部壁はＲＦ電磁場を通さない材料を含まない。

上部壁、底部壁および側壁がＲＦ電磁場を通さない材料を含む容器を備える一部の実施形態では、電磁場の進入を可能にするために、一つ以上のスロットが容器の壁に形成されている。これらの実施形態の一部では、一つ以上のスロットが上部壁に形成されている。これらの実施形態の一部では、一つ以上のスロットが底部壁に形成されている。これらの実施形態の一部では、一つ以上のスロットが側壁に形成されている。

容器の少なくとも一部分は、流体浸透性であってもよい。容器の流体透過性部分は、エアロゾル形成基体から放出される揮発性化合物が、エアロゾル発生物品から放出されることを可能にしうる。ＲＦ電磁場を通さない材料を含む容器の壁はまた、流体透過性であってもよい。例えば、ＲＦ電磁場を通さない流体透過性材料は、金属メッシュであってもよい。従って、容器の少なくとも一部分は、金属メッシュから形成されてもよい。一部の実施形態では、容器は金属メッシュから形成されうる。

一部の実施形態では、エアロゾル形成基体の少なくとも一部分は、被覆で被覆されている。本明細書で使用される「被覆」という用語は、エアロゾル形成基体を覆い、それに接着する材料の層を指す。被覆は、吹き付け塗装、蒸着、浸漬、物質移動（例えば、ブラッシングまたは糊付け）、静電沈着またはそれらの任意の組み合わせを含むがこれらに限定されない、当該技術分野で周知の任意の適切な方法によって、エアロゾル形成基体の少なくとも一部分を覆い、それに接着するように適用されうる。

一部の実施形態では、被覆は、ＲＦ電磁場を通さない材料を含んでもよい。

エアロゾル形成基体の外部表面の一つ以上の領域が露出されていてもよい。言い換えれば、エアロゾル形成基体の外部表面の一つ以上の領域は、いかなる被覆も含まない場合がある。これは、エアロゾル形成基体から放出される揮発性化合物が、エアロゾル発生物品から脱出できることを確実にしうる。被覆がＲＦ電磁場を通さない材料を含む場合、これもまた、ＲＦ電磁場のエアロゾル形成基体への進入を可能にしうる。

一部の実施形態では、被覆は、流体透過性材料を含んでもよい。

一部の実施形態では、エアロゾル形成基体の外部表面の一つ以上の領域は、第一の被覆で被覆されてもよく、エアロゾル形成基体の外部表面の一つ以上の領域は、第二の被覆で被覆されてもよい。第一の被覆および第二の被覆のうちの一つは、ＲＦ電磁場を通さない材料を含んでもよい。第一の被覆および第二の被覆のうちの一つは、流体透過性材料を含んでもよい。一部の好ましい実施形態では、第一の被覆および第二の被覆のうちの一方は、ＲＦ電磁場を通さない材料を含み、第一の被覆および第二の被覆のうちの他方は、流体透過性材料を含む。これは、エアロゾル形成基体の一つの領域で、エアロゾル形成基体の中へＲＦ電磁場が進入することを可能にすることができ、その領域でＲＦ電磁場がエアロゾル形成基体から出て行くことを可能にすることなく、エアロゾル形成基体の別の領域で、空気がエアロゾル形成基材を通って引き出されることを可能にしうる。

一部の実施形態では、エアロゾル形成基体を包むラッパーまたは容器の少なくとも一部分は、被覆で被覆されている。被覆は、ＲＦ電磁場を通さない材料を含んでもよい。

エアロゾル形成基体は、加熱時に揮発性化合物を放出する能力を有する任意の適切な基体でありうる。

一部の実施形態において、エアロゾル形成基体は懸濁液の形態である。例えば、エアロゾル形成基体は、糖蜜を含んでもよい。本明細書で使用される「糖蜜」は、少なくとも約２０重量パーセントの糖を有する懸濁液を含むエアロゾル形成基体組成物を意味する。例えば、糖蜜は、少なくとも約３５重量パーセントの糖など、少なくとも約２５重量パーセントの糖を含んでもよい。典型的に、糖蜜は、約５０重量パーセント未満の糖など、約６０重量パーセント未満の糖を含有する。

エアロゾル形成基体はシーシャ基体であることが好ましい。本明細書で使用される「シーシャ基体」は、少なくとも約２０重量パーセントの糖を含むエアロゾル形成基体組成物を指す。シーシャ基体は、糖蜜を含んでもよい。シーシャ基体は、少なくとも約２０重量パーセントの糖を有する懸濁液を含みうる。

エアロゾル形成基体は固体または液体であってもよいか、または固体構成要素と液体構成要素の両方を含んでもよい。

エアロゾル形成基体はニコチンを含んでもよい。ニコチン含有エアロゾル形成基体はニコチン塩マトリクスを含んでもよい。エアロゾル形成基体は植物由来材料を含んでもよい。エアロゾル形成基体は、好ましくはたばこを含む。たばこ含有材料は、加熱に伴いエアロゾル形成基体から放出される揮発性のたばこ風味化合物を含有することが好ましい。エアロゾル形成基体は均質化したたばこ材料を含んでもよい。均質化したたばこ材料は、粒子状のたばこを凝集することによって形成されてもよい。エアロゾル形成基体は、非たばこ含有材料を含んでもよい。エアロゾル形成基体は、均質化した植物由来材料を含んでもよい。

エアロゾル形成基体は、例えば、粉末、顆粒、ペレット、断片、スパゲッティ、細片、またはシートのうちの一つ以上を含みうる。エアロゾル形成基体は、薬草の葉、たばこ葉、たばこの茎の断片、再構成たばこ、均質化したたばこ、押出成形たばこ、膨化たばこのうちの一つ以上を含有してもよい。たばこは、火力乾燥されてもよい。

エアロゾル形成基体は少なくとも一つのエアロゾル形成体を含んでもよい。適切なエアロゾル形成体は、使用時に高密度の安定したエアロゾルの形成を容易にする、かつシーシャ装置の動作温度で熱分解に対して実質的に耐性のある化合物、または化合物の混合物を含む。適切なエアロゾル形成体は当業界で周知であり、これには多価アルコール（トリエチレングリコール、１，３－ブタンジオール、グリセリンなど）、多価アルコールのエステル（グリセロールモノアセテート、ジアセテート、またはトリアセテートなど）、およびモノカルボン酸、ジカルボン酸、またはポリカルボン酸の脂肪族エステル（ドデカン二酸ジメチル、テトラデカン二酸ジメチルなど）が挙げられるが、これらに限定されない。特に好ましいエアロゾル形成体は、多価アルコールまたはその混合物（トリエチレングリコール、１，３－ブタンジオール、最も好ましくはグリセリンなど）である。エアロゾル形成体はプロピレングリコールであってもよい。エアロゾル形成基体は、任意の適切な量のエアロゾル形成体を含んでもよい。例えば、基体のエアロゾル形成体含有量は、乾燥重量基準で５パーセント以上であってもよく、乾燥重量基準で３０重量パーセントより高いことが好ましい。エアロゾル形成体含有量は、乾燥重量基準で約９５パーセント未満であってもよい。エアロゾル形成体含有量は、乾燥重量基準で最大約５５パーセントであることが好ましい。

エアロゾル形成基体は、ニコチンおよび少なくとも一つのエアロゾル形成体を含むことが好ましい。一部の実施形態において、エアロゾル形成体は、グリセリンまたはグリセリンおよび一つ以上の他の適切なエアロゾル形成体（上記のものなど）の混合物である。一部の実施形態において、エアロゾル形成体はプロピレングリコールである。

エアロゾル形成基体は、その他の添加物および成分（風味剤など）を含んでもよい。一部の実施例において、エアロゾル形成基体は、任意の適切な量の一つ以上の糖を含む。エアロゾル形成基体は、転化糖を含むことが好ましい。転化糖は、スクロースを分割することによって得られたグルコースおよびフルクトースの混合物である。エアロゾル形成基体は、約１重量パーセント～約４０重量パーセントの糖（転化糖など）を含むことが好ましい。一部の実施例において、一つ以上の糖は、コーンスターチまたはマルトデキストリンなどの適切な担体と混合されてもよい。

一部の実施例において、エアロゾル形成基体は一つ以上の感覚促進剤を含む。適切な感覚増強剤としては、風味剤および感覚剤（冷感剤など）が挙げられる。適切な風味剤としては、天然または合成のメントール、ペパーミント、スペアミント、コーヒー、茶、スパイス（シナモン、クローブ、ショウガ、またはこれらの組み合わせなど）、ココア、バニラ、果実風味剤、チョコレート、ユーカリ、ゼラニウム、オイゲノール、リュウゼツラン、ビャクシン、アネトール、リナロール、およびこれらの任意の組み合わせが挙げられる。

任意の適切な量のエアロゾル形成基体（例えば、糖蜜またはたばこ基体）が、エアロゾル発生物品中に提供されてもよい。一部の好ましい実施形態では、約３グラム～約２５グラムのエアロゾル形成基体が、エアロゾル発生物品に提供されている。カートリッジは、少なくとも６グラム、少なくとも７グラム、少なくとも８グラム、または少なくとも９グラムのエアロゾル形成基体を含んでもよい。カートリッジは、最大１５グラム、最大１２グラム、最大１１グラム、または最大１０グラムのエアロゾル形成基体を含んでもよい。約７グラム～約１３グラムのエアロゾル形成基体が、エアロゾル発生物品に提供されることが好ましい。

エアロゾル形成基体は、熱的に安定な担体上に提供されてもよく、またはその中に包埋されてもよい。「熱的に安定な」という用語は本明細書において、基体が典型的に加熱される温度（例えば、約１５０℃～約３００℃）で実質的に劣化しない材料を示すために使用される。担体は、第一の主表面上に、または第二の主外表面上に、または第一の主表面と第二の主表面の両方上に基体が堆積された薄層を備えてもよい。担体は、例えば紙もしくは紙様の材料、不織布炭素繊維マット、低質量の目の粗いメッシュ金属スクリーン、または穿孔された金属箔、もしくは任意の他の熱的に安定した高分子マトリクスで形成されてもよい。別の方法として、担体は粉末、顆粒、ペレット、断片、スパゲッティ、細片、またはシートの形態を取ってもよい。担体は、たばこ成分が組み込まれた不織布繊維または繊維束としうる。不織布繊維または繊維の束は、例えば炭素繊維、天然セルロース繊維、またはセルロース誘導体繊維を含みうる。

一部の実施形態において、エアロゾル形成基体はたばこ、糖およびエアロゾル形成体を含んでもよい。これらの実施形態では、エアロゾル形成基体は、１０重量パーセント～４０重量パーセントのたばこを含んでもよい。これらの実施形態では、エアロゾル形成基体は、２０重量パーセント～５０重量パーセントの糖を含んでもよい。これらの実施形態では、エアロゾル形成基体は、２５重量パーセント～５５重量パーセントのエアロゾル形成体を含んでもよい。一部の特に好ましい実施形態では、エアロゾル形成基体は、２０重量パーセント～３０重量パーセントのたばこ、３０重量パーセント～４０重量パーセントの糖、および３５重量パーセント～４５重量パーセントのエアロゾル形成体を含む。一部の特に好ましい実施形態では、エアロゾル形成基体は、約２５重量パーセントのたばこ、約３５重量パーセントの糖、および約４０重量パーセントのエアロゾル形成体を含む。これらの好ましい実施形態では、たばこは火力乾燥たばこ葉であってもよい。これらの好ましい実施形態では、糖はショ糖または転化糖であってもよい。これらの好ましい実施形態では、エアロゾル形成体はプロピレングリコールであってもよい。

本開示の一部の特に好ましい実施形態によると、シーシャシステムのためのエアロゾル発生物品が提供されていて、エアロゾル発生物品は、少なくとも約２０重量パーセントの糖を有する懸濁液を含むエアロゾル形成基体組成物と、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成された一つ以上の外部表面とを備える。

本開示のいくつかの特に好ましい実施形態によると、シーシャシステムのためのエアロゾル発生物品が提供されていて、エアロゾル発生物品は、エアロゾル形成基体と、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成されるエアロゾル形成基体の外部表面の少なくとも一部分に適用された被覆とを備える。

本開示のいくつかの特に好ましい実施形態によると、シーシャシステムのためのエアロゾル発生物品が提供されていて、エアロゾル発生物品は、エアロゾル形成基体と、エアロゾル形成基体を包むラッパーであって、一つ以上の流体透過性領域およびＲＦ電磁場を通さない材料から形成される一つ以上の領域を含むラッパーとを備える。

本開示では、前述のようなシーシャ装置と、エアロゾル形成基体を含むエアロゾル発生物品とを備えるシーシャシステムが提供されている。

特に、本開示では、前述のようなシーシャ装置と、前述のようなエアロゾル発生物品とを備えるシーシャシステムが提供されている。

特に、本開示では、シーシャ装置と、エアロゾル発生物品とを備えるシーシャシステムが提供されている。シーシャ装置は、液体の体積を包含するように構成された液体くぼみであって、ヘッドスペース出口を有する液体くぼみと、エアロゾル形成基体を受容するように構成された物品くぼみであって、液体くぼみと流体連通している物品くぼみと、物品くぼみ中に無線周波数（ＲＦ）電磁場を発生させるように構成された電磁場発生装置とを備える。エアロゾル発生物品はエアロゾル形成基体を含む。

これらの実施形態の一部では、物品くぼみは、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成された一つ以上の壁と、エアロゾル発生物品を物品くぼみに挿入することを可能にする開口部とを含む。これらの実施形態では、エアロゾル発生物品は、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成された外部表面を備えてもよい。エアロゾル発生物品の外部表面は、エアロゾル発生物品が物品くぼみ中に受容された時、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成された物品くぼみの一つ以上の壁は、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成されたエアロゾル発生物品の外部表面と整列して、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成された表面によって囲まれたエアロゾル形成基体の周りの囲いを形成する。

当然のことながら、シーシャ装置またはエアロゾル発生物品に関連して記載された特徴は、本開示によるシーシャシステムにも適用可能でありうる。

また、当然ながら、上記の様々な特徴の特定の組み合わせを独立して実施、供給または使用しうる。

ここで本開示の実施形態を、添付図面を参照しながら、例証としてのみであるが説明する。

図１は、誘電加熱システムの概略図である。 図２は、本開示の実施形態による誘電加熱システムを有するシーシャシステムのための閉ループ制御システムの概略図である。 図３は、誘電加熱システムを有するシーシャシステムの一実施形態の概略図である。 図４は、本開示の実施形態によるシーシャ装置の加熱ユニットと、シーシャ装置と共に使用するために構成されたエアロゾル発生物品の概略図である。 図５は、本開示の実施形態によるシーシャ装置の異なる実施形態の加熱ユニットの概略図である。 図６は、本開示の実施形態によるシーシャ装置の加熱ユニットと、シーシャ装置と共に使用するために構成されたエアロゾル発生物品の概略図である。 図７は、本開示の実施形態によるシーシャ装置の加熱ユニットと、シーシャ装置と共に使用するために構成されたエアロゾル発生物品の概略図である。 図８は、本開示の実施形態によるシーシャ装置の加熱ユニットと、シーシャ装置と共に使用するために構成されたエアロゾル発生物品の概略図である。 図９は、誘電加熱システムを有するシーシャシステムの一実施形態の概略図である。

図１は、誘電加熱と呼ばれる場合もある無線周波数電磁放射（ＲＦ）を使用した加熱システムの概略図である。システムは、無線周波数信号発生器１０と、無線周波数信号を増幅するために信号発生器に接続された電力増幅器１２と、物品くぼみ１４内部に位置付けられたアンテナ１６とを備え、アンテナ１６は電力増幅器１２の出力に接続されている。電力増幅器１２の出力は、閉ループ制御を提供するために信号発生器１０にフィードバックされる。加熱される物品１８は、物品くぼみ１４中に定置され、無線周波電磁放射を受ける。物品１８内の極性分子は、振動電磁場と整列し、振動するにつれて電磁場によって攪拌される。これは、物品１８の温度の上昇を引き起こす。この種類の加熱は、（もし極性分子が均一に分布している場合には）物品全体にわたって均一であるという利点を有する。また、高温発熱体からの熱の伝導または対流を必要としない非接触形態の加熱であるという利点も有する。

図２は、図３～図９に記載された実施形態のいずれかで使用されうる制御スキームを示す。前述したように、システムは、電磁場発生装置のための制御回路を含む。図２の実施例では、電磁場発生装置１１は、ＲＦ信号発生器１０および電力増幅器１２の両方の機能を実行し、発生したＲＦ電磁信号を増幅する、ソリッドステートＲＦ ＬＤＭＯＳトランジスタを含む。ＲＦソリッドステートトランジスタの出力は、物品くぼみ１４中に受容されたエアロゾル発生物品１８内に位置付けられたエアロゾル形成基体２０を放射するように位置付けられた、放射アンテナ１６に渡される。

制御回路は、ＲＦソリッドステートトランジスタの周波数および電力出力の両方を制御できるマイクロコントローラ２６を含む。一つ以上のセンサーがマイクロコントローラ２６に入力を提供する。マイクロコントローラ２６は、センサー入力に基づいて、電磁場発生装置１１の周波数または電力出力、または周波数および電力出力の両方を調整する。図２に示す実施例では、物品くぼみ１４内の温度を感知するように位置付けられた温度センサー２８がある。サンプリングアンテナ３０は、温度センサー２８の代替として、またはそれに加えて、物品くぼみ１４中に提供されてもよい。サンプリングアンテナ３０は受信機として構成され、エアロゾル形成基体２０によるエネルギー吸収の効率の表示である、物品くぼみ１４中の電磁場の摂動を検出することができる。電磁場発生装置１１からの電力出力を検出するために、ＲＦ電力センサー３２も提供される。

マイクロコントローラ２６は、ＲＦ電力センサー３２、温度センサー２８、およびサンプリングアンテナ３０から信号を受信する。信号は、物品くぼみ１４中の温度が低すぎるかどうか、温度が高すぎるかどうか、欠陥がある場合、および基体がない、または不適切な誘電特性を有する基体がある場合のうちの少なくとも一つを、判定するために使用することができる。

マイクロコントローラ２６によってなされた判定に基づいて、ＲＦソリッドステートトランジスタによって発生した電磁場の周波数および電力が調整されるか、または電磁場がオフになる。典型的には、エアロゾルの安定的かつ一貫した体積を提供することが望ましいが、これは、エアロゾル形成基体を特定の温度範囲内に維持することを意味する。しかしながら、所望の目標温度は、エアロゾル形成基体の組成が変化し、周囲のシステムの温度が変化するにつれて、時間と共に変化し得る。また、エアロゾル形成基体の誘電特性は、温度と共に変化するため、温度の上昇または低下に伴い電磁場を調整する必要があり得る。

一実施形態に関して記載される特徴は、その他の実施形態にも適用され得ることは明らかである。記載された実施形態は、特定の望ましいエアロゾル特性を提供するように制御されうる様式で、エアロゾル形成基体の均一な非接触加熱の利点を提供する。マグネトロンを使用する従来のマイクロ波加熱と比較して、ソリッドステートＲＦトランジスタの使用はまた、周波数および電力のより優れた制御、ならびにより長い動作寿命を可能にする。

図３～図８を参照して記載された実施形態は、図１および図２に図示した基本的な加熱および制御原理を使用する。加えて、図３～図８を参照して記載した実施形態は、ソリッドステート無線周波数（ＲＦ）トランジスタを使用して、図１に図示した信号発生関数および電力増幅関数の両方を実行する。しかしながら、信号発生のためにＲＦトランジスタ、および電力増幅を提供するために別個の電子構成要素（複数可）を使用して記載した実施形態を実施することが可能であろう。マグネトロンを使用するシステムなどの、従来のマイクロ波加熱システムを使用して記載した実施形態を実施することもできる。

図３は、本開示の実施形態によるシーシャシステムの概略図である。

シーシャ装置５０は、液体くぼみ５４を画定するベッセル５２を備える。ベッセル５２は、液体くぼみ５４中に液体の体積を保持するように構成され、ガラスなどの硬質で光学的に透明な材料から形成されている。この実施形態では、ベッセル５２は実質的に円錐台形状を有し、テーブルまたは棚などの、平坦で水平な表面上のその広い端で使用時に支持される。液体くぼみ５４は、液体の体積を受容するための液体セクション５６と、液体セクション５８より上のヘッドスペース５８の二つのセクションに分割されている。液体充填レベル６０は、液体セクション５６とヘッドスペース５８の間の境界線に位置付けられ、液体充填レベル６０は、ベッセル５２の外表面上に印された破線によってベッセル５２上に定められている。ヘッドスペース出口６２は、ベッセル５２の側壁上の液体充填レベル６０より上に提供される。ヘッドスペース出口６２は、流体がヘッドスペース５８から液体くぼみ５４の外に引き出されることを可能にする。マウスピース６４は、可撓性のホース６６によってヘッドスペース出口６２に接続されている。ユーザーは、マウスピース６４を吸って、吸入のためにヘッドスペース５８から流体を引き出しうる。

シーシャ装置５０は、本開示による電磁場発生装置を備える加熱ユニット７０をさらに備える。異なる加熱ユニットの実施例は、図４、図５、図６、図７、および図８を参照して以下でより詳細に論じられる。加熱ユニット７０は、気流導管７２によってベッセル５２より上に配設される。この実施形態では、加熱ユニット７０は、気流導管７２によってベッセル５２より上に支持されているが、他の実施形態では、加熱ユニット７０は、シーシャ装置のハウジングまたは別の適切な支持体によって、ベッセル５２より上に支持されてもよいことが理解されよう。気流導管７２は、加熱ユニット７０からベッセル５２の液体くぼみ５４の中に延びる。気流導管７２は、ヘッドスペース５８を通り、液体充填レベル６０より下を通って液体セクション５８の中に延びる。気流導管７２は、液体充填レベル６０より下の液体くぼみ５４の液体セクション５６に出口７４を備える。この配設は、加熱ユニット７０からマウスピース６４に空気を引き出すことを可能にする。空気は、外部環境から装置５０に引き出され、加熱ユニット７０に入り、加熱ユニット７０を通って、気流導管７２を通り、液体くぼみ５４の液体セクション５６中の液体の体積に入り、液体の体積を出てヘッドスペース５８に入り、ヘッドスペース出口６２でヘッドスペース５８からベッセルの外に出て、ホース６６を通り、マウスピース６４に引き出されうる。

使用時に、ユーザーは、シーシャ装置５０のマウスピース６４を吸って、シーシャ装置５０からエアロゾルを受容しうる。より詳細には、エアロゾル形成基体を含むエアロゾル発生物品は、シーシャ装置５０の加熱ユニット７０内の物品くぼみ中に位置付けられうる。加熱ユニット７０は、エアロゾル発生物品内のエアロゾル形成基体を加熱し、加熱されたエアロゾル形成基体から揮発性化合物を放出するように動作されうる。ユーザーがシーシャ装置５０のマウスピース６４を吸うと、シーシャ装置５０内の圧力が低下し、これが、放出された揮発性化合物をエアロゾル形成基体から加熱ユニット７０へと気流導管７２の中に引き出す。揮発性化合物は、出口７４で気流導管７２から、液体くぼみ５４の液体セクション５６の液体の体積の中に引き出される。揮発性化合物は、液体の体積で冷却され、液体充填レベル６０より上のヘッドスペース５８の中に放出される。ヘッドスペース５８中の揮発性化合物は、凝縮してエアロゾルを形成し、これがヘッドスペース出口６２でヘッドスペースから引き出され、ユーザーによる吸入のためにマウスピース６４に引き出される。

図４は、本開示の実施形態によるシーシャシステムを形成する、エアロゾル発生物品９０と組み合わせた図３のシーシャ装置５０の加熱ユニット７０の概略図を示す。図４ａは、エアロゾル発生物品９０を加熱ユニット７０の物品くぼみ１４に挿入する前の、加熱ユニット７０およびエアロゾル発生物品９０を示す。図４ｂは、加熱ユニット７０の物品くぼみ１４に受容されたエアロゾル発生物品９０を示す。

図４ａに示すように、加熱ユニット７０は外部ハウジング７１を備える。外部ハウジング７１は、エアロゾル発生物品９０の挿入のために一方の端で開いていて、反対側の端で実質的に閉じている円筒管を形成する。外部ハウジング７１は、アルミニウムなどの、ＲＦ電磁放射を通さない材料から形成されている。

物品くぼみ１４は、基部７８および側壁７６によって外部ハウジング７１内に画定され、基部７８の周囲と外部ハウジング７１の開放端の間に延びる。物品くぼみ１４は、エアロゾル発生物品９０を受容するように構成されていて、エアロゾル発生物品９０に相補的な形状およびサイズを有する。側壁７６が外部ハウジング７１の円筒形側壁に対して傾斜するように、物品くぼみ１４の基部７８の直径は、外部ハウジング７１の開放端の直径よりも小さい。従って、物品くぼみ１４は、エアロゾル発生物品９０を受容するためにその幅広い端で開いている、実質的に円錐台形状を有する。物品くぼみ１４の側壁７６および基部７８は、アルミニウムなどの、ＲＦ電磁放射を通さない材料から形成されている。しかしながら、物品くぼみ１４の基部７８は、ＲＦ電磁場が基部７８を介して物品くぼみ１４の中に伝播するのを可能にするように構成された複数のスロット７９を備える。

共鳴くぼみ８０は、物品くぼみ１４の基部７８より下に位置する。この実施形態では、共鳴くぼみ８０は、物品くぼみ１４の基部７８、外部ハウジング７１の実質的に閉じた端、および内部壁８２の間に画定される。内部壁８２は、物品くぼみ１４の基部７８の周囲と外部ハウジング７１の実質的に閉じた端の間に延びる。この実施形態では、内部壁８２は、アルミニウムなどの、ＲＦ電磁放射を通さない材料で形成されている。

他の実施形態では、内部壁８２の位置は、共鳴くぼみ８０のサイズおよび形状を変更するために変更されうることが理解されよう。内部壁８２の位置を変更して、特定の周波数の電磁場が共鳴くぼみ８０内で共鳴するのを可能にすることが必要でありうる。

物品くぼみ１４の基部７８および側壁７６、ならびに内部壁８２および外部ハウジング７１は、ＲＦ放射の反射を改善するために研磨された表面を有することが好ましい。

加熱ユニット７０は、電磁場発生装置１１をさらに備える。電磁場発生装置１１は、ＲＦ信号発生器および電力増幅器の両方の機能を実行し、発生したＲＦ電磁信号を増幅する、ソリッドステートＲＦ ＬＤＭＯＳトランジスタを含む。ＲＦソリッドステートトランジスタの出力は、導波管１５に結合される。導波管１５は、外部ハウジング７１の実質的に閉じた端を通って共鳴くぼみ８０の中に延びる。導波管１５はアンテナ１６に結合され、アンテナは共鳴くぼみ８０内に位置付けられて、ＲＦソリッドステートトランジスタによって発生したＲＦ電磁場を共鳴くぼみ８０の中に放射するように構成されている。

電磁場発生装置１１は、シーシャ装置の電源（図示せず）および制御回路（図示せず）に接続され、制御回路は、電源から電磁場発生装置１１への電力供給を制御するように構成されている。この実施形態では、電源は再充電式リチウムイオン電池であり、シーシャ装置５０は、電源を再充電するためにシーシャ装置５０を主電源に接続することを可能にする電力コネクタを備える。シーシャ装置５０に、電池などの電源を提供することにより、シーシャ装置５０をポータブルにし、屋外または主電源が利用できない場所で使用することが可能になる。

加熱ユニット７０は、気流導管７２によって、シーシャ装置５０のベッセル５２より上に配設されている。気流導管７２は、加熱ユニット７０の外部ハウジング７１の実質的に閉じた端に固定的に取り付けられている。他の実施形態では、加熱ユニット７０が必要に応じて、掃除または交換のために取り除かれうるように、加熱ユニット７０は気流導管７２に取り外し可能に取り付けられてもよいことが理解されよう。開口部７３は、共鳴くぼみ８０を気流導管７２に流体接続するために、外部ハウジング７１の実質的に閉じた端に提供されている。金属メッシュの形態の放射遮蔽要素（図示せず）は、外部ハウジング７１の開口部７３の上に提供されていて、共鳴くぼみ８０と気流導管７２の間の流体の流れに実質的に影響することなく、ＲＦ電磁場が、共鳴くぼみ８０内から気流導管７２の中に出ていくのを実質的に防止する。

従って、加熱ユニット７０は、空気が、物品くぼみ１４から共鳴くぼみ８０の中に入り、基部７８のスロット７９を通って、共鳴くぼみ８０から気流導管７２の中に入り、開口部７３および放射遮蔽要素を通って引き出されうるように構成されている。

エアロゾル発生物品９０はエアロゾル形成基体９２を含む。一部の実施形態では、エアロゾル形成基体９２は、糖蜜およびたばこを含むシーシャ基体である。エアロゾル形成基体９２は、容器内に包まれていてもよい。容器は、物品くぼみ１４の容器と相補的な実質的に円錐台形状を有する。容器は、底部壁９４、上部壁９６、および底部壁９４と上部壁９６の間に延びる側壁９８を含んでもよい。容器の底部壁９４および側壁９８は、流体透過性で、かつ穿孔された段ボールまたはプラスチック材料などの、ＲＦ電磁場を実質的に通す材料から形成される。これにより、空気が、底部壁９４および側壁９８を通してエアロゾル発生物品の中に、またはエアロゾル発生物品から外に引き出されることが可能になり、ＲＦ電磁場が、底部壁９４および側壁９８を通してエアロゾル発生物品に進入することが可能になる。上部壁９６は、金属メッシュなどの、ＲＦ電磁場を通さない材料を含む。これにより、空気が、上部壁９６を通してエアロゾル発生物品の中に引き出されることが可能になり、上部壁９６を通して、ＲＦ電磁場がエアロゾル発生物品から出て行くことが防止される。

図４ｂに示すように、エアロゾル発生物品９０が加熱ユニット７０の物品くぼみ１４中に受容されると、エアロゾル発生物品９０の底部壁９４が物品くぼみ１４の底部壁７８に接触し、エアロゾル発生物品９０の側壁９８が物品くぼみ１４の側壁７６に接触する。ＲＦ電磁場を通さない材料から形成された上部壁９６は、これもまたＲＦ電磁場を通さない材料から形成された物品くぼみ１４の側壁７６と整列して、それに接触する。この位置では、エアロゾル形成基体９２は、エアロゾル発生物品９０の上部壁９６、および物品くぼみ１４の側壁７６および基部７８で、ＲＦ電磁場を通さない材料によって囲まれている。物品くぼみ１４の基部７８のスロット７９は、エアロゾル形成基体９２から出入りするＲＦ電磁場の唯一の出入り点である。

ユーザーがシーシャ装置５０のマウスピース６４を吸う時、空気は、エアロゾル発生物品９０の上部壁９６を通してシーシャ装置５０の中に引き出される。エアロゾル発生物品９０および加熱ユニット７０を通る気流経路は、図４ｂの矢印によって示されている。空気は、エアロゾル発生物品９０の上部壁９６を通ってエアロゾル発生物品９０の中に引き出され、エアロゾル形成基体９２を通り、エアロゾル発生物品９０の底部壁９４および物品くぼみ１４の底部壁７８のスロット７９を通って、加熱ユニット７０の共鳴くぼみ８０の中に入る。共鳴くぼみ８０から、空気は、加熱ユニット７０の外部ハウジング７１の開口部７３を通って、気流導管７２の中に引き出される。

使用時に、ユーザーがシーシャ装置５０を起動すると、電源から電磁場発生装置１１に電力が供給される。この実施形態では、シーシャ装置は、加熱ユニット７０の外部表面上に提供された起動ボタン（図示せず）をユーザーが押すことによって起動される。他の実施形態では、シーシャ装置は、マウスピース６４上に提供された吸煙センサーによって、ユーザーがマウスピース６４を吸うことを検出した時など、別の様式で起動されうることが理解されよう。電磁場発生装置１１に電力が供給される時、電磁場発生装置１１は、９００ＭＨｚ～２．４ＧＨｚの周波数でＲＦ電磁場を発生させて増幅する。ＲＦ電磁場は、アンテナ１６によって、導波管１５に沿って、共鳴くぼみ８０の中に方向付けられる。共鳴くぼみ８０から、ＲＦ電磁場は、物品くぼみ１４の底部壁７８のスロット７９およびエアロゾル発生物品９０の底部壁９４を介して、エアロゾル発生物品９０のエアロゾル形成基体９２の中に伝播する。エアロゾル発生物品９０の上部壁９６は、エアロゾル発生物品９０からＲＦ電磁場が出て行くことを防止する。ＲＦ電磁場は、揮発性化合物を放出するエアロゾル形成基体９０を誘電加熱する。上述のように、物品くぼみ１４中の温度は、フィードバック制御機構を使用して調節することができる。シーシャ装置５０の制御回路にフィードバック信号を提供するために、物品くぼみ１４内部の温度を感知することができる、または基体くぼみ内部の温度を示す別のパラメータを感知することができる。制御回路は、物品くぼみ１４内部の温度を所望の温度範囲内に維持するために、ＲＦ電磁場の周波数もしくは振幅、または周波数および振幅の両方を調整するように構成されている。

ユーザーがシーシャ装置５０のマウスピース６４を吸う時、加熱されたエアロゾル形成基体９０から放出される揮発性化合物は、エアロゾル発生物品９０を通る気流に同伴され、エアロゾル発生物品９０から、共鳴くぼみ８０を通って、気流導管７２の中に引き出される。気流導管から、揮発性化合物は、上述のようにマウスピース６６のシーシャ装置５０を通って引き出される。

図５は、本開示の他の実施形態による、シーシャ装置の加熱ユニット７０を示す。図５に示す加熱ユニット７０は、図４に示す加熱ユニット７０と実質的に類似しており、同様の特徴を示すために、同様の参照番号が使用される。

図５ａに示す加熱ユニット７０は、物品くぼみ１４の基部７８がスロット７９を備えないため、ＲＦ電磁放射が共鳴くぼみ８０から物品くぼみ１４の基部７８を通して物品くぼみ１４の中に伝播することができないという点で、図４に示す加熱ユニット７０とは異なる。図５ａの実施形態では、スロット８３は内部壁８２に提供され、スロット７７は物品くぼみ１４の側壁７６に提供されている。従って、ＲＦ電磁場は、内部壁８２のスロット８３を介して、物品くぼみ１４の側壁７６を通して物品くぼみ１４に入ることができる。この配設は、図４の実施形態の共鳴くぼみ８０と比較して、共鳴くぼみ８０のサイズおよび形状が変更する。共鳴くぼみ８０のサイズおよび形状の変更は、ＲＦ電磁場が共鳴くぼみ８０内で共鳴することを確実にするために、異なる周波数のＲＦ電磁場を使用する場合に必要でありうる。

図５ｂに示す加熱ユニット７０は、ＲＦ電磁場が、物品くぼみ１４の基部７８および側壁７６の両方を通して物品くぼみ１４に進入しうるように、スロット７９を備える物品くぼみ１４の基部７８に加えて、内部壁８２もスロット８３を備え、また物品くぼみ１４の側壁７６がスロット７７を備えるという点で、図４に示す加熱ユニット７０とは異なる。この配設は、共鳴くぼみ８０のさらなる代替的なサイズおよび形状を提供し、これは代替周波数のＲＦ電磁場に対して適切な共鳴くぼみを提供しうる。

図６は、本開示の別の実施形態によるシーシャシステムを形成する、シーシャ装置およびエアロゾル発生物品９０のための加熱ユニット７０を示す。図６に示す加熱ユニット７０およびエアロゾル発生物品９０は、図４に示す加熱ユニット７０およびエアロゾル発生物品９０と実質的に類似しており、同様の特徴を示すために、同様の参照番号が使用される。図６ａは、エアロゾル発生物品９０を加熱ユニット７０の物品くぼみ１４の中に挿入する前の、加熱ユニット７０およびエアロゾル発生物品９０を示す。図６ｂは、加熱ユニット７０の物品くぼみ１４の中に受容されたエアロゾル発生物品９０を示す。

図６に示す加熱ユニット７０は、物品くぼみ１４の基部７８、物品くぼみ１４の側壁７６および内部壁８２がすべて、硬質のプラスチック材料、セラミックまたは粘土などの、ＲＦ電磁場を実質的に通す材料から形成されているという点で、図４に示す加熱ユニット７０とは異なる。この実施形態では、物品くぼみ１４の基部７８のそれぞれ、物品くぼみ１４の側壁７６および内部壁８２は、空気がこれらの壁のそれぞれを通して引き出されうるように、それぞれ、流体透過性であるように構成されている。他の実施形態では、物品くぼみ１４の基部７８は流体透過性であってもよく、物品くぼみ１４の側壁７６および内部壁８２は、流体に対して実質的に不透過性であってもよく、または物品くぼみ１４の側壁７６および内部壁８２は、流体透過性であってもよく、くぼみ１４の基部７８は実質的に流体不透過性であってもよいことが理解されよう。

図６に示すエアロゾル発生物品９０は、エアロゾル発生物品の底部壁９４および側壁８０が、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成されているという点で、図４に示すエアロゾル発生物品９０とは異なる。ＲＦ電磁場がエアロゾル発生物品９０に入り、エアロゾル形成基体９２を加熱することを可能にするために、複数のスロット９５が底部壁９４および側壁９０に提供されている。一部の実施形態では、底部壁および上部壁のうちの一つに、一つのスロットのみが提供されることが理解されよう。一つ以上のスロットのサイズおよび形状は、エアロゾル発生物品およびシーシャ装置の幾何学的形状に応じて変化しうることも理解されよう。この実施形態では、空気が、エアロゾル発生物品９０を通って、シーシャ装置５０の加熱ユニット７０の中に引き出されうるように、スロット９５はまた、底部壁９５および側壁９８を流体透過性にする。

エアロゾル発生物品の下部壁および側壁にＲＦ電磁場を通さない材料を提供する利点は、エアロゾル発生物品内に包まれたエアロゾル形成基体に応じて、下部壁および側壁のスロットの数、サイズ、形状および配設を選択しうることである。下部壁および側壁のスロットの数、サイズ、形状、および配設は、エアロゾル発生物品内のＲＦ電磁場に影響を与え、それによって、エアロゾル形成基体の加熱およびエアロゾル形成基体が加熱される温度に影響を与えうる。

図７は、本開示の別の実施形態による、シーシャ装置の加熱ユニット７０およびエアロゾル発生物品９０を示す。図７に示す加熱ユニット７０およびエアロゾル発生物品９０は、図４に示す加熱ユニット７０およびエアロゾル発生物品と実質的に類似しており、同様の特徴を示すために、同様の参照番号が使用される。

図７に示す加熱ユニット７０は、外部ハウジング７１を備え、一方の端で開き、反対側の端で実質的に閉じている円筒管を形成する。外部ハウジング７１は、ＲＦ電磁放射を通さない材料から形成されている。

物品くぼみ１４は、外部ハウジング７１内に画定され、エアロゾル発生物品９０を受容するようにサイズ設定および形状設定されている。加熱ユニットは、気流導管７２によってシーシャ装置５０のベッセル５２より上に配設され、気流導管は加熱ユニット７０の外部ハウジング７１の実質的に閉じた端の中に延び、物品くぼみ１４をシーシャ装置５０のベッセル５２に流体接続する。金属メッシュの形態の放射遮蔽要素（図示せず）が、気流導管７２内に提供され、気流導管７２を通して物品くぼみ１４からＲＦ電磁場が出て行くのを防止する。

図７に示す加熱ユニット７０は、図７に示す加熱ユニット７０が閉鎖部７５を備えるという点で、図４に示す加熱ユニット７０とは異なる。閉鎖部７５は、開放端を実質的に閉じるために、加熱ユニット７０の外部ハウジング７１の開放端の上に移動可能である。閉鎖部７５は、加熱ユニットの外部ハウジング７１と類似の外部ハウジングを備え、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成され、外部ハウジング７１と整列して係合し開放端を閉じるようにサイズ設定および形状設定されている。閉鎖部７５は、ヒンジによって外部ハウジング７１に回転可能に接続されていて、図７ａに示す開位置と図７ｂに示す閉位置の間で回転可能である。閉鎖部７５が開位置にある時、外部ハウジング７１の開放端は、エアロゾル発生物品９０を物品くぼみ１４に挿入するため、およびエアロゾル発生物品９０を物品くぼみ１４から取り外すために開いている。閉鎖部７５が閉位置にある時、物品くぼみ１４は、ＲＦ電磁場が物品くぼみ１４から伝搬できないように、ＲＦ電磁場を通さない材料によって囲まれている。

この実施形態では、閉鎖部７５はまた、ソリッドステートＲＦ ＬＤＭＯＳトランジスタの形態の電磁場発生装置１１と、ソリッドステートトランジスタの出力に結合された導波管１５と、共鳴くぼみ８０と、導波管１６に結合され、共鳴くぼみ８０中に位置付けられたアンテナ１６とを備える。この実施形態では、共鳴くぼみ８０は、金属外側容器に包まれた誘電体材料の実質的に円筒形の本体を含む。共鳴くぼみ８０の金属外側容器は、一対のスロット７９を備え、これは、閉鎖部７５が閉位置にある時に、ＲＦ電磁場が電磁場発生装置１１によって発生され、共鳴くぼみ８０の中に方向付けられて共鳴くぼみ８０から物品くぼみ１４の中に伝播することを可能にするために提供される。制御回路（図示せず）および電池（図示せず）も、電磁場発生装置１１に制御された電力供給を提供するために、閉鎖部７５に含まれている。

一部の実施形態では、シーシャ装置は、電池からの電力または制御回路からの制御を必要とする、ベッセル５０上またはマウスピース６４上の電気的構成要素を含みうることが理解されよう。これらの実施形態では、可撓性の回路またはワイヤが、筐体７５中の制御回路および電池から、ヒンジを介して、シーシャ装置５０上の他の位置に配設された構成要素へ提供されてもよい。

この実施形態では、閉鎖部７５はまた、ＲＦ電磁場を通さない材料の流体透過性領域の形態の空気吸込み口（図示せず）を備える。空気吸込み口は、閉鎖部７５が閉位置にある時に、空気が物品くぼみ１４の中に引き出されることを可能にする。

この実施形態は、製造するのが単純であり、比較的少数の構成要素部品を含むという点で、特に有利な構成を有する。さらに、物品くぼみ１４は、ＲＦ電磁場を通さない材料によって完全に囲まれているため、エアロゾル発生物品９０は、ＲＦ電磁場を通さない材料から形成されたいかなる外部表面も有する必要がない。エアロゾル発生物品９０は、典型的にはシーシャシステムの使い捨て構成要素であるため、これはエアロゾル発生物品９０の製造コストを低減しうる。

図８は、本開示の別の実施形態による、シーシャ装置５０の加熱ユニット７０およびエアロゾル発生物品９０を示す。図８に示す加熱ユニット７０およびエアロゾル発生物品９０は、図７に示す加熱ユニット７０およびエアロゾル発生物品９０と実質的に類似しており、同様の特徴を示すために、同様の参照番号が使用される。図７ａは、エアロゾル発生物品９０を加熱ユニット７０の物品くぼみ１４の中に挿入する前の、加熱ユニット７０およびエアロゾル発生物品９０を示す。図７ｂは、加熱ユニット７０の物品くぼみ１４の中に受容されたエアロゾル発生物品９０を示す。

図８に示す加熱ユニット７０は、図８に示す加熱ユニット７０が、閉鎖部７５中ではなく、外部ハウジング７１中に電磁場発生装置１１と、導波管１５と、アンテナ６０と、共鳴くぼみ８０とを備えるという点で、図７に示す加熱ユニット７０とは異なる。この実施形態では、閉鎖部７５は、物品くぼみ１４からＲＦ電磁場が出て行くことを防止するために、物品くぼみ１４を閉じるための単なるカバーである。

図８に示す加熱ユニット７０の共鳴くぼみ８０は、金属外側容器に包まれた誘電体材料の実質的に環状の本体を含む。共鳴くぼみ８０は、外部ハウジング７１の開放端に向かって広がる先細りした内側通路を備える。この実施形態では、共鳴くぼみ８０の内側通路は、物品くぼみ１４を実質的に画定し、概して円錐台状のエアロゾル発生物品９０を受容するように構成されている。ＲＦ電磁場が物品くぼみ１４の中に伝播するのを可能にするように、複数のスロット７９が、共鳴くぼみ８０の金属外側容器中の内側通路に提供されている。

この実施形態では、加熱ユニット７０を通る気流経路は、気流導管７２の方向に、物品くぼみ１４を通って実質的に長軸方向であり、ＲＦ電磁場は、共鳴くぼみ８０から物品くぼみ１４の中に、気流に対して実質的に横断する方向に伝播する。この配設は、電磁場発生装置が加熱ユニット７０を通して気流経路から取り外されることを確実にする。このタイプの配設は、加熱ユニット７０を通した引き出し抵抗を制御することを容易にしうる。ユーザーが装置上で吸煙して、電磁場発生装置を介して空気を引き出す結果として、電磁場発生装置の温度は使用中に変動する可能性が低いため、このタイプの配設はまた、電磁場発生装置の温度の管理をより単純にしうる。

図９は、本開示の別の実施形態によるシーシャシステムを示す。シーシャシステムは、図３に示すシーシャシステムと類似しており、同様の特徴を表すために、同様の参照番号が使用される。

シーシャ装置５０は、二つのセクションに分割された液体くぼみ５４を画定するベッセル５２と、液体の体積を含む液体セクション５６と、液体セクションより上のヘッドスペース５８とを備える。この実施形態では、ベッセル５２は実質的に円筒形である。液体充填レベル６０は、液体セクション５６とヘッドスペース５８の間の境界線に画定され、ベッセル５２の外部表面上の破線６０によって定められている。ヘッドスペース出口６２は、液体充填レベルより上のベッセル５２の側壁上に提供され、ヘッドスペース５８で液体くぼみから流体が引き出されるのを可能にするように構成されている。マウスピース６４は、可撓性のホース６６によってヘッドスペース出口６２に接続されている。

ベッセル５２は、加熱ユニット７０上に配設されていて、この実施形態では、加熱ユニットは直径がベッセル５２の直径と実質的に等しい円筒形ユニットである。従って、ベッセル５２および加熱ユニット７０が使用のために一緒に配設される場合、シーシャ装置５０は実質的に円筒形のユニットを形成する。

加熱ユニット７０は、図７に示す加熱ユニットと実質的に類似しており、同様の特徴を示すために、同様の参照番号が使用される。

加熱ユニット７０は、ＲＦ電磁放射を通さない材料から形成された外部ハウジング７１を備える。外部ハウジング７１は、両端で実質的に閉じた円筒管を形成する。ドア（図示せず）は、外部ハウジング７１の側壁に形成され、ヒンジによって側壁に結合される。ドアは、開位置と閉位置の間で回転可能であり、エアロゾル発生物品を加熱ユニット７０に挿入し、加熱ユニット７０から取り外すことを可能にする。ドアは閉位置でロック可能であり、シーシャ装置５０の動作時にドアが開いていないことを確実にし、周囲空気が加熱ユニット７０の中に引き出されうるように、ドアはＲＦ電磁放射を通さないが流体透過性である金属メッシュから形成されている。

物品くぼみ１４は、エアロゾル発生物品９０を受容するために加熱ユニット７０中に画定される。この実施形態では、物品くぼみ１４が、実質的に円錐台状のエアロゾル発生物品９０を受容するように構成されるように、物品くぼみ１４は、実質的に円錐台状である。物品くぼみ１４は、共鳴くぼみ８０より上に配設される。この実施形態では、共鳴くぼみ８０は、金属外側容器に包まれた誘電体材料の実質的に円筒形の本体を含む。共鳴くぼみ８０の金属外側容器は、一対のスロット７９を備え、これはＲＦ電磁場が共鳴くぼみ８０から物品くぼみ１４の中に伝播することを可能にするために提供されている。

ソリッドステートＲＦ ＬＤＭＯＳトランジスタの形態の電磁場発生装置１１が、共鳴くぼみ８０より下に提供されている。電磁場発生装置８０の出力は、導波管の形態の導波管１５に結合される。導波管１５は、電磁場発生装置１１によって発生されたＲＦ電磁場をアンテナ１６に方向付けるように配設され、アンテナは共鳴くぼみ８０中に配設されている。この配設では、電磁場発生装置１１によって発生されたＲＦ電磁場は、共鳴くぼみ８０に方向付けられ、共鳴くぼみ８０を出てスロット７９を通り、物品くぼみ１４中に配設されたエアロゾル形成基体を加熱するために物品くぼみ１４中に伝播する。電磁場発生装置１１は、制御回路（図示せず）およびリチウムイオン電池（図示せず）に接続され、電磁場発生装置１１によって発生されるＲＦ電磁場を制御するために、電磁場発生装置１１への電力供給を制御するように配設され構成されている。

気流導管７２は、物品くぼみ１４からベッセル５２の中に入り、液体充填レベル６０より下の液体セクション５６中の位置まで延びる。気流導管７２は、ベッセル５２の液体セクション５６に物品くぼみを流体接続する。重力の影響下で気流導管７２を通って物品くぼみ１４の中に液体セクション５６から液体が流れ込むのを防ぐために、一方向弁（図示せず）が、気流導管７２中の加熱ユニット７０とベッセル５２の間の開口部７３に配設されている。一方向弁は、流体がベッセル５２から加熱ユニット７０の中に流れることを許容せず、また、流体が加熱ユニット７０からベッセル５２に流れることができる前に、最小圧力に達することも要求する。

使用時に、ユーザーがマウスピース６４を吸うと、周囲空気が、メッシュドア（図示せず）を通して、シーシャ装置５０の中に、そして物品くぼみ１４の中に引き出される。物品くぼみ１４中に提供され、制御回路および電池に接続された吸煙センサー（図示せず）は、空気が物品くぼみ１４の中に流れ込むので、ユーザーがマウスピース６４を吸っていることを感知する。ユーザーがマウスピース６４を吸うのを検出すると、制御回路は、電池から電磁場発生装置１１に電力を供給し、ＲＦ電磁場を物品くぼみ１４の中に伝播させ、エアロゾル発生物品９０中のエアロゾル形成基体を加熱する。揮発性化合物が加熱されたエアロゾル形成基体から放出される。物品くぼみ１４の中に引き出される空気は、放出された揮発性化合物を同伴し、同伴された揮発性化合物は、気流導管７２を通り、一方向弁を通って、ベッセル５２の液体セクション５６の中に引き出される。揮発性化合物は、液体セクション５６中の液体の体積で冷却され、液体からヘッドスペース５８の中に放出され、ここで凝縮してエアロゾルを形成する。エアロゾルは、ヘッドスペース出口６２を通ってヘッドスペース５８から引き出され、ホース６６に沿って、ユーザーによる吸入のためにマウスピース６４に引き出される。

上述の実施形態は、例示的実施形態のみであり、本開示による様々な他の実施形態も想定されることが理解されよう。例えば、上述の加熱ユニットの実施形態は、図３および図９に示す装置など、シーシャ装置の任意の適切な設計と共に使用されうることが理解されよう。例えば、本開示によるシーシャシステムのベッセル、エアロゾル形成物品、および任意の他の特徴は、所望される任意の他の形状およびサイズであってもよいことも理解されよう。例えば、シーシャ装置の液体セクション内の液体は、水であることが好ましいが、別の適切な液体であってもよい。

Claims (15)

1. エアロゾル形成基体を加熱してエアロゾルを発生させるためのシーシャ装置であって、
   前記シーシャ装置によって発生されたエアロゾルが、ユーザーによって吸入される前に通って引き出される液体の体積を包含する液体くぼみであって、ヘッドスペース出口を有する液体くぼみと、
   エアロゾル形成基体を受容するように構成された物品くぼみであって、前記液体くぼみと流体連通している物品くぼみと、
   前記物品くぼみ中に無線周波数（ＲＦ）電磁場を発生させるように構成された電磁場発生装置であって、マグネトロンまたはソリッドステートＲＦトランジスタを含む電磁場発生装置と、を備える、シーシャ装置。
2. 前記電磁場発生装置が、ソリッドステートＲＦトランジスタを含み、前記ソリッドステートＲＦトランジスタが、前記ＲＦ電磁場を発生させ増幅するように構成されている、請求項１に記載のシーシャ装置。
3. 前記物品くぼみが、前記ＲＦ電磁場を通さない材料から形成された一つ以上の外壁を備え、一つ以上のスロットが前記一つ以上の外壁に形成されている、請求項１または請求項２に記載のシーシャ装置。
4. 前記物品くぼみが、前記エアロゾル形成基体を含むエアロゾル形成物品を受容するための開放端と、実質的に閉じた端とを備える、請求項１～３のいずれか一項に記載のシーシャ装置。
5. 前記ＲＦ電磁場を方向付けるように構成された前記電磁場発生装置に接続されたアンテナをさらに備える、請求項１～４のいずれか一項に記載のシーシャ装置。
6. 前記アンテナが、前記物品くぼみ中に少なくとも部分的に位置付けられている、請求項５に記載のシーシャ装置。
7. 前記物品くぼみと前記電磁場発生装置の間に共鳴くぼみをさらに備える、請求項１～６のいずれか一項に記載のシーシャ装置。
8. 前記物品くぼみ中のまたは前記くぼみに隣接したセンサーであって、前物品くぼみ中の温度を示す信号を提供するセンサーと、前記センサーからの前記信号を受信するように接続され、前記センサーからの前記信号に依存して前記電磁場発生装置を制御するように接続されたコントローラと、を備える、請求項１～７のいずれか一項に記載のシーシャ装置。
9. 請求項１～８のいずれか一項に記載のシーシャ装置と、エアロゾル形成基体を含むエアロゾル発生物品と、を備える、シーシャシステム。
10. 前記エアロゾル形成基体がたばこを含む、請求項９に記載のシーシャシステム。
11. 前記エアロゾル発生物品が、前記ＲＦ電磁場を通さない材料から形成された一つ以上の外部表面を備える、請求項９または請求項１０に記載のシーシャシステム。
12. 一つ以上のスロットが、前記ＲＦ電磁場を通さない材料から形成された前記一つ以上の外部表面に形成されている、請求項１１に記載のシーシャシステム。
13. 前記ＲＦ電磁場を通さない前記材料が、前記一つ以上の外部表面上の被覆を形成する、請求項１１または請求項１２に記載のシーシャシステム。
14. シーシャシステムのためのエアロゾル発生物品であって、
    エアロゾル形成基体と、
    ＲＦ電磁場を通さない材料から形成された一つ以上の外部表面と、を備え、前記ＲＦ電磁場を通さない前記材料が流体透過性である、エアロゾル発生物品。
15. 前記ＲＦ電磁場を通さない前記材料が金属メッシュである、請求項１４に記載のエアロゾル発生物品。

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