JP2022546084A - アーク経路形成部及びそれを含む直流リレー - Google Patents

Abstract

アーク経路形成部及びそれを含む直流リレーを開示する。本発明の実施形態によるアーク経路形成部は、複数の磁石部を含む。
複数の磁石部のいずれかは、磁石フレームの一面に配置される。複数の磁石部のうち他の磁石部は、磁石フレームの他の面にそれぞれ配置される。前記一面に配置される磁石部は、他の磁石部より長く形成される。また、他の面にそれぞれ配置される磁石部は、互いに最大限離隔されて配置される。
よって、各磁石部間に形成される磁場により、各固定接触子から発生する電磁力が中心部から遠ざかる方向に発生する。その結果、中心部に配置される構成要素の損傷が防止される。

Description

本発明は、アーク経路形成部及びそれを含む直流リレー（Direct current relay）に関し、より具体的には、電磁力を用いてアーク（arc）の放出経路を形成すると共に、直流リレーの損傷を防止する構造のアーク経路形成部及びそれを含む直流リレーに関する。

直流リレーは、電磁石の原理を用いて機械的な駆動又は電流信号を伝達する装置である。直流リレーは、電磁開閉器（Magnetic switch）ともいい、通常、電気回路開閉装置に分類される。

直流リレーは、固定接点と、可動接点とを含む。固定接点は、外部の電源及び負荷に通電可能に接続される。固定接点と可動接点は接離する。

固定接点と可動接点の接離により、直流リレーを介した通電が許容又は遮断される。前記移動は、可動接点に駆動力を供給する駆動部により達成される。

固定接点と可動接点が離隔されると、固定接点と可動接点間にはアークが発生する。アークは、高圧、高温の電流の流れである。よって、発生したアークは、所定の経路を介して直流リレーから迅速に放出されなければならない。

アークの放出経路は、直流リレーに備えられる磁石により形成される。前記磁石は、固定接点と可動接点が接触する空間内に磁場を形成する。形成される磁場及び電流の流れに応じて発生する電磁力により、アークの放出経路が形成される。

図１には、従来技術による直流リレー１０００に備えられる固定接点１１００と可動接点１２００が接触する空間を示す。前述したように、前記空間には、永久磁石１３００が備えられる。

永久磁石１３００は、上側に位置する第１永久磁石１３１０と、下側に位置する第２永久磁石１３２０とを含む。第１永久磁石１３１０の下側はＮ極に、第２永久磁石１３２０の上側はＳ極に磁化（magnetize）される。よって、磁場は、上側から下側に向かう方向に形成される。

図１の（ａ）には、電流が左側の固定接点１１００から流入し、右側の固定接点１１００から流出する状態を示す。フレミングの左手の法則（Fleming's left hand rule）により、電磁力は、斜線の矢印のように外側を向くように形成される。よって、発生したアークは、電磁力の方向に沿って外側に放出される。

それに対して、図１の（ｂ）には、電流が右側の固定接点１１００から流入し、左側の固定接点１１００から流出する状態を示す。フレミングの左手の法則により、電磁力は、斜線の矢印のように内側を向くように形成される。よって、発生したアークは、電磁力の方向に沿って内側に移動する。

直流リレー１０００の中央部分、すなわち各固定接点１１００間の空間には、可動接点１２００を上下方向に駆動させるための様々な部材が備えられる。例えば、シャフト、シャフトに貫挿されるスプリング部材などが前述した位置に備えられる。

よって、図１の（ｂ）に示すように、発生したアークが中央部分に向かって移動すると、前述した位置に備えられる様々な部材がアークのエネルギーにより損傷する恐れがある。

また、図１に示すように、従来技術による直流リレー１０００の内部で形成される電磁力の方向は、固定接点１２００に流れる電流の方向に依存する。よって、固定接点１１００には、所定の方向、すなわち図１の（ａ）に示す方向にのみ電流が流れることが好ましい。

すなわち、ユーザは、直流リレーを使用する度に電流の方向を考慮しなければならない。これは、直流リレーの使用に不便をもたらす。また、ユーザの意図とは関係なく、操作未熟などにより、直流リレーに供給される電流の方向が変わる状況もあり得る。

その場合、発生したアークにより、直流リレーの中央部分に備えられる部材が損傷することがある。よって、直流リレーの耐用年数が短縮されるだけでなく、事故が発生する恐れもある。

特許文献１（２０１７年１月１６日）には、直流リレーが開示されている。具体的には、複数の永久磁石を用いて、可動接点の移動を防止する構造の直流リレーが開示されている。

しかし、上記構造の直流リレーは、複数の永久磁石を用いて可動接点の移動を防止することはできるが、アークの放出経路の方向を制御する方法についての考察がないという限界がある。

特許文献２（２０１２年１２月２８日）には、直流リレーが開示されている。具体的には、減衰磁石を用いて、可動接点と固定接点間の任意の離隔を防止する構造の直流リレーが開示されている。

しかし、上記構造の直流リレーは、可動接点と固定接点の接触状態を維持する方法のみ提示している。すなわち、可動接点と固定接点が離隔されると発生するアークの放出経路を形成する方法を提示していないという限界がある。

韓国登録特許第１０－１６９６９５２号 韓国登録特許第１０－１２１６８２４号

本発明は、上記問題を解決できる構造のアーク経路形成部及びそれを含む直流リレーを提供することを目的とする。

まず、発生したアークが中央部分まで伸びない構造のアーク経路形成部及びそれを含む直流リレーを提供することを目的とする。

また、固定接点に供給される電流の方向とは関係なく、アークの放出経路が外側を向くように形成される構造のアーク経路形成部及びそれを含む直流リレーを提供することを目的とする。

さらに、発生したアークにより中央部分に位置する部材が損傷することを最小限に抑えることのできる構造のアーク経路形成部及びそれを含む直流リレーを提供することを目的とする。

さらに、発生したアークが移動し、十分に消弧（extinguish）される構造のアーク経路形成部及びそれを含む直流リレーを提供することを目的とする。

さらに、アークの放出経路を形成するための磁場の強度を強化できる構造のアーク経路形成部及びそれを含む直流リレーを提供することを目的とする。

さらに、構造の過大な変更を伴うことなく、アークの放出経路を変更できる構造のアーク経路形成部及びそれを含む直流リレーを提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明は、内部に空間が形成され、前記空間を囲む複数の面を有する磁石フレームと、前記複数の面に結合され、前記空間に磁場を形成するように構成される磁石部とを含み、前記複数の面は、一方向に延設される第１面と、前記第１面に対向するように配置され、前記一方向に延設される第２面と、前記第１面及び前記第２面の前記延設方向の各一端部と各他端部間でそれぞれ前記第１面及び前記第２面と所定の角度をなして延び、互いに対向するように配置される第３面及び第４面とを含み、前記磁石部は、前記第１面及び前記第２面のいずれか一方の面に位置する第１磁石部と、前記第３面及び前記第４面のいずれか一方の面に位置する第２磁石部と、前記第１面及び前記第２面の他方の面、又は前記第３面及び前記第４面の他方の面に位置する第３磁石部とを含み、前記第１面及び前記第２面の前記他方の面に対向する前記第１磁石部の第１対向面は、前記第１面及び前記第２面の前記いずれか一方の面に対向する前記第２磁石部の第２対向面、及び前記第３磁石部の第３対向面の少なくとも１つの面とは異なる極性（polarity）になるように構成されるアーク経路形成部を提供する。

また、前記アーク経路形成部の前記第１磁石部、前記第２磁石部及び前記第３磁石部は、それぞれ一方向に延設され、前記第１磁石部の前記延設長さは、前記第２磁石部や前記第３磁石部の延設長さより長く形成されてもよい。

さらに、前記アーク経路形成部の前記第２磁石部と前記第３磁石部間の最短距離は、前記第１磁石部と前記第２磁石部間の最短距離や前記第１磁石部と前記第３磁石部間の最短距離より長く形成されてもよい。

さらに、前記アーク経路形成部の前記第１磁石部は、前記第１面に配置され、前記第２磁石部は、前記第３面及び前記第４面のいずれか一方の面に配置され、前記第３磁石部は、前記第２面に配置されてもよい。

さらに、前記アーク経路形成部の前記第２磁石部は、前記第３面に配置され、前記第３磁石部は、前記第４面に隣接して配置され、前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の前記第３対向面は、Ｓ極になるように構成されてもよい。

さらに、前記アーク経路形成部の前記第２磁石部は、前記第４面に配置され、前記第３磁石部は、前記第３面に隣接して配置され、前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の前記第３対向面は、Ｓ極になるように構成されてもよい。

さらに、前記アーク経路形成部の前記第１磁石部は、前記第１面に配置され、前記第２磁石部は、前記第３面及び前記第４面のいずれか一方の面に配置され、前記第３磁石部は、前記第３面及び前記第４面の他方の面に配置されてもよい。

さらに、前記アーク経路形成部の前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の第３対向面のいずれか一方はＮ極になり、他方はＳ極になるように構成されてもよい。

さらに、前記アーク経路形成部の前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の第３対向面は、Ｓ極になるように構成されてもよい。

また、本発明は、一方向に延設される固定接触子と、前記固定接触子に接離するように構成される可動接触子と、内部に前記固定接触子及び前記可動接触子が収容される空間が形成され、前記空間に磁場が形成され、前記固定接触子と前記可動接触子が離隔されることにより発生するアークの放出経路を形成するように構成されるアーク経路形成部とを含み、前記アーク経路形成部は、内部に空間が形成され、前記空間を囲む複数の面を有する磁石フレームと、前記複数の面に結合され、前記空間に磁場を形成するように構成される磁石部とを含み、前記複数の面は、一方向に延設される第１面と、前記第１面に対向するように配置され、前記一方向に延設される第２面と、前記第１面及び前記第２面の前記延設方向の各一端部と各他端部間でそれぞれ前記第１面及び前記第２面と所定の角度をなして延び、互いに対向する第３面及び第４面とを含み、前記磁石部は、前記第１面及び前記第２面のいずれか一方の面に位置する第１磁石部と、前記第３面及び前記第４面のいずれか一方の面に位置する第２磁石部と、前記第１面及び前記第２面の他方の面、又は前記第３面及び前記第４面の他方の面に位置する第３磁石部とを含み、前記第１面及び前記第２面の前記他方の面に対向する前記第１磁石部の第１対向面は、前記第１面及び前記第２面の前記いずれか一方の面に対向する前記第２磁石部の第２対向面、及び前記第３磁石部の第３対向面の少なくとも１つの面とは異なる極性になるように構成される直流リレーを提供する。

さらに、前記直流リレーの前記第１磁石部、前記第２磁石部及び前記第３磁石部は、それぞれ一方向に延設され、前記第１磁石部の前記延設長さは、前記第２磁石部や前記第３磁石部の延設長さより長く形成され、前記第２磁石部と前記第３磁石部間の最短距離は、前記第１磁石部と前記第２磁石部間の最短距離や前記第１磁石部と前記第３磁石部間の最短距離より長く形成されてもよい。

さらに、前記直流リレーの前記第１磁石部は、前記第１面に配置され、前記第２磁石部は、前記第３面に配置され、前記第３磁石部は、前記第４面に隣接して配置され、前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の前記第３対向面は、Ｓ極になるように構成されてもよい。

さらに、前記直流リレーの前記第１磁石部は、前記第１面に配置され、前記第２磁石部は、前記第４面に配置され、前記第３磁石部は、前記第３面に隣接して配置され、前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の前記第３対向面は、Ｓ極になるように構成されてもよい。

さらに、前記直流リレーの前記第１磁石部は、前記第１面に配置され、前記第２磁石部は、前記第３面及び前記第４面のいずれか一方の面に配置され、前記第３磁石部は、前記第３面及び前記第４面の他方の面に配置され、前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の第３対向面のいずれか一方はＮ極になり、他方はＳ極になるように構成されてもよい。

さらに、前記直流リレーの前記第１磁石部は、前記第１面に配置され、前記第２磁石部は、前記第３面及び前記第４面のいずれか一方の面に配置され、前記第３磁石部は、前記第３面及び前記第４面の他方の面に配置され、前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の第３対向面は、Ｓ極になるように構成されてもよい。

本発明によれば、次の効果が得られる。

まず、アーク経路形成部は、アークチャンバの内部に磁場を形成する。磁場は、固定接触子及び可動接触子に流れる電流と共に電磁力を形成する。前記電磁力は、アークチャンバの中心から遠ざかる方向に形成される。

よって、発生したアークは、電磁力の方向と同じく、アークチャンバの中心から遠ざかる方向に移動する。よって、発生したアークがアークチャンバの中心部分に向かって移動しなくなる。

また、対向する磁石部は、対向する一側が異なる極性を有するように構成される。

すなわち、各固定接触子の近傍に形成される電磁力は、電流の方向に関係なく、中心部から遠ざかる方向に形成される。

よって、ユーザは、アークが移動する方向を考慮して直流リレーに電源を接続する必要がない。よって、ユーザの利便性が向上される。

また、いずれかの磁石部より短く形成される他の複数の磁石部は、互いに離隔されて配置される。前記複数の磁石部は、同じ極性又は異なる極性になるが、複数の磁石部の少なくとも１つは、前記いずれかの磁石部と同じ極性になるように構成される。

よって、前記磁場により形成されるアークの経路は、発生したアークがアークチャンバの中心部から遠ざかる方向に移動するように形成される。よって、発生したアークにより中心部に位置する様々な構成要素が損傷することが防止される。

また、発生したアークは、狭い空間である磁石フレームの中心、すなわち固定接触子間ではなく、より広い空間、すなわち固定接触子の外側に向かって伸びる。

よって、アークが長い経路を移動し、十分に消弧される。

また、アーク経路形成部は、複数の磁石部を含む。各磁石部は、互いの間に主磁場を形成する。各磁石部は、それら自体が副磁場を形成する。副磁場は、主磁場の強度を強化するように構成される。

よって、主磁場により形成される電磁力の強度が強化される。よって、アークの放出経路が効果的に形成される。

また、各磁石部は、配置方法や極性を変更するだけでも、様々な方向に電磁力を形成することができる。ここで、各磁石部が備えられる磁石フレームは、構造や形状を変更する必要がない。

よって、アーク経路形成部の全体構造を大きく変更しなくても、アークの放出方向を容易に変更することができる。よって、ユーザの利便性が向上する。

従来技術による直流リレーにおいてアークの移動経路が形成される過程を示す概念図である。 本発明の実施形態による直流リレーの斜視図である。 図２の直流リレーの断面図である。 図２の直流リレーの部分開放斜視図である。 図２の直流リレーの部分開放斜視図である。 本発明の一実施形態によるアーク経路形成部の概念図である。 図６の実施形態の変形例によるアーク経路形成部の概念図である。 本発明の他の実施形態によるアーク経路形成部の概念図である。 図８の実施形態の変形例によるアーク経路形成部の概念図である。 本発明のさらに他の実施形態によるアーク経路形成部の概念図である。 図１０の実施形態の変形例によるアーク経路形成部の概念図である。 本発明のさらに他の実施形態によるアーク経路形成部の概念図である。 図１２の実施形態の変形例によるアーク経路形成部の概念図である。 図６の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図６の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図７の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図７の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図８の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図８の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図９の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図９の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図１０の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図１０の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図１１の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図１１の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図１２の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図１２の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図１３の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。 図１３の実施形態によるアーク経路形成部によりアークの経路が形成された状態を示す概念図である。

以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態によるアーク経路形成部及びそれを含む直流リレーについて詳細に説明する。

以下の説明において、本発明の特徴を明確にするために一部の構成要素についての説明を省略することもある。

１．用語の定義
ある構成要素が他の構成要素に「連結されている」又は「接続されている」と言及される場合、他の構成要素に直接連結又は接続されていることもあり、中間にさらに他の構成要素が存在することもあるものと解すべきである。

それに対して、ある構成要素が他の構成要素に「直接連結されている」又は「直接接続されている」と言及される場合、中間にさらに他の構成要素が存在しないものと解すべきである。

本明細書において用いられる単数表現には、特に断らない限り複数表現が含まれる。

以下の説明における「磁化（magnetize）」とは、磁場内で物体が磁性を有するようになる現象を意味する。

以下の説明における「極性（polarity）」とは、電極の陽極や陰極などが有する異なる性質を意味する。一実施形態において、極性は、Ｎ極とＳ極に分けられる。

以下の説明における「通電（electric current）」とは、少なくとも２つの部材が電気的に接続される状態を意味する。

以下の説明における「アーク経路（arc path）」とは、発生したアークが移動するか、又は消弧されて移動する経路を意味する。

以下の説明における「左側」、「右側」、「上側」、「下側」、「前方」及び「後方」については、図２に示す座標系を参照されたい。

２．本発明の実施形態による直流リレー１０の構成についての説明
図２及び図３に示すように、本発明の実施形態による直流リレー１０は、フレーム部１００と、開閉部２００と、コア部３００と、可動接触子部４００とを含む。

また、図４～図１３に示すように、本発明の実施形態による直流リレー１０は、アーク経路形成部５００、６００、７００、８００を含む。アーク経路形成部５００、６００、７００、８００は、発生したアークの放出経路を形成する。

以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態による直流リレー１０の各構成について説明するが、アーク経路形成部５００、６００、７００、８００については別項で説明する。

（１）フレーム部１００についての説明
フレーム部１００は、直流リレー１０の外形を形成する。フレーム部１００の内部には、所定の空間が形成される。前記空間には、直流リレー１０が外部からの電流を供給又は遮断する機能を実現する様々な装置が収容される。

すなわち、フレーム部１００は、一種のハウジングとして機能する。

フレーム部１００は、合成樹脂などの絶縁性素材で形成される。フレーム部１００の内部と外部が任意に通電するのを防止するためである。

フレーム部１００は、上部フレーム１１０と、下部フレーム１２０と、絶縁プレート１３０と、支持プレート１４０とを含む。

上部フレーム１１０は、フレーム部１００の上部を形成する。上部フレーム１１０の内部には、所定の空間が形成される。

上部フレーム１１０の内部空間には、開閉部２００及び可動接触子部４００が収容される。また、上部フレーム１１０の内部空間には、アーク経路形成部５００、６００、７００、８００が収容される。

上部フレーム１１０は、下部フレーム１２０に結合される。上部フレーム１１０と下部フレーム１２０間の空間には、絶縁プレート１３０及び支持プレート１４０が備えられる。

上部フレーム１１０の一側、すなわち同図に示す実施形態における上側には、開閉部２００の固定接触子２２０が位置する。固定接触子２２０は、上部フレーム１１０の上側に一部が露出し、外部の電源又は負荷に通電可能に接続される。

そのために、上部フレーム１１０の上側には、固定接触子２２０が貫通して結合される貫通孔が形成される。

下部フレーム１２０は、フレーム部１００の下部を形成する。下部フレーム１２０の内部には、所定の空間が形成される。下部フレーム１２０の内部空間には、コア部３００が収容される。

下部フレーム１２０は、上部フレーム１１０に結合される。下部フレーム１２０と上部フレーム１１０間の空間には、絶縁プレート１３０及び支持プレート１４０が備えられる。

絶縁プレート１３０及び支持プレート１４０は、上部フレーム１１０の内部空間と下部フレーム１２０の内部空間を電気的及び物理的に分離するように構成される。

絶縁プレート１３０は、上部フレーム１１０と下部フレーム１２０間に位置する。絶縁プレート１３０は、上部フレーム１１０と下部フレーム１２０を電気的に離隔するように構成される。そのために、絶縁プレート１３０は、合成樹脂などの絶縁性素材で形成される。

絶縁プレート１３０により、上部フレーム１１０の内部に収容される開閉部２００、可動接触子部４００及びアーク経路形成部５００、６００、７００、８００と、下部フレーム１２０の内部に収容されるコア部３００間の任意の通電が防止される。

絶縁プレート１３０の中心部には、貫通孔（図示せず）が形成される。前記貫通孔（図示せず）には、可動接触子部４００のシャフト４４０が上下方向に移動可能に貫通して結合される。

絶縁プレート１３０の下側には、支持プレート１４０が位置する。絶縁プレート１３０は、支持プレート１４０により支持される。

支持プレート１４０は、上部フレーム１１０と下部フレーム１２０間に位置する。

支持プレート１４０は、上部フレーム１１０と下部フレーム１２０を物理的に離隔するように構成される。また、支持プレート１４０は、絶縁プレート１３０を支持するように構成される。

支持プレート１４０は、磁性体で形成される。よって、支持プレート１４０は、コア部３００のヨーク３３０と共に磁路（magnetic circuit）を形成する。前記磁路により、コア部３００の可動コア３２０が固定コア３１０に近づくように移動するための駆動力が形成される。

支持プレート１４０の中心部には、貫通孔（図示せず）が形成される。前記貫通孔（図示せず）には、シャフト４４０が上下方向に移動可能に貫通して結合される。

よって、可動コア３２０が固定コア３１０に近づく方向、又は固定コア３１０から遠ざかる方向に移動すると、シャフト４４０及びシャフト４４０に連結された可動接触子４３０も、同じ方向に共に移動する。

（２）開閉部２００についての説明
開閉部２００は、コア部３００の動作により、電流の通電を許容又は遮断するように構成される。具体的には、開閉部２００は、固定接触子２２０と可動接触子４３０が接離することにより、電流の通電を許容又は遮断する。

開閉部２００は、上部フレーム１１０の内部空間に収容される。開閉部２００は、絶縁プレート１３０及び支持プレート１４０により、コア部３００から電気的及び物理的に離隔される。

開閉部２００は、アークチャンバ２１０と、固定接触子２２０と、シール（sealing）部材２３０とを含む。

また、アークチャンバ２１０の外側には、アーク経路形成部５００、６００、７００、８００が備えられる。アーク経路形成部５００、６００、７００、８００は、アークチャンバ２１０の内部で発生したアークの経路Ａ．Ｐを形成するための磁場を形成する。その詳細については後述する。

アークチャンバ２１０は、固定接触子２２０と可動接触子４３０が離隔されることにより発生するアークを内部空間で消弧するよう構成される。よって、アークチャンバ２１０を「アーク消弧部」ともいう。

アークチャンバ２１０は、固定接触子２２０及び可動接触子４３０を密閉して収容するように構成される。すなわち、固定接触子２２０及び可動接触子４３０は、アークチャンバ２１０の内部に収容される。よって、固定接触子２２０と可動接触子４３０が離隔されることにより発生するアークは、外部に任意に放出されない。

アークチャンバ２１０の内部には、消弧用ガスが充填される。消弧用ガスは、発生したアークを消弧し、所定の経路を介して直流リレー１０の外部に放出されるようにする。そのために、アークチャンバ２１０の内部空間を囲む壁体には、連通孔（図示せず）が貫通して形成される。

アークチャンバ２１０は、絶縁性素材で形成される。また、アークチャンバ２１０は、耐圧性及び耐熱性が高い素材で形成される。これは、発生するアークが高温、高圧の電子の流れであることに起因する。一実施形態において、アークチャンバ２１０は、セラミック（ceramic）素材で形成される。

アークチャンバ２１０の上側には、複数の貫通孔が形成される。前記貫通孔のそれぞれには、固定接触子２２０が貫通して結合される。

同図に示す実施形態において、固定接触子２２０は、第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂを含むように２つ備えられる。よって、アークチャンバ２１０の上側に形成される貫通孔も２つ形成される。

前記貫通孔に固定接触子２２０が貫通して結合されると、前記貫通孔は密閉される。すなわち、固定接触子２２０は、前記貫通孔に密閉して結合される。よって、発生したアークは、前記貫通孔から外部に放出されない。

アークチャンバ２１０の下側は開放される。アークチャンバ２１０の下側には、絶縁プレート１３０及びシール部材２３０が接触する。すなわち、アークチャンバ２１０の下側は、絶縁プレート１３０及びシール部材２３０により密閉される。

よって、アークチャンバ２１０は、上部フレーム１１０の外側の空間から電気的、物理的に離隔される。

アークチャンバ２１０において消弧されたアークは、所定の経路を介して直流リレー１０の外部に放出される。一実施形態において、消弧されたアークは、前記連通孔（図示せず）からアークチャンバ２１０の外部に放出される。

固定接触子２２０は、可動接触子４３０に接離し、直流リレー１０の内部と外部の通電を許容又は遮断するように構成される。

具体的には、固定接触子２２０が可動接触子４３０に接触すると、直流リレー１０の内部と外部が通電する。それに対して、固定接触子２２０が可動接触子４３０から離隔されると、直流リレー１０の内部と外部の通電が遮断される。

名称から分かるように、固定接触子２２０は移動しない。すなわち、固定接触子２２０は、上部フレーム１１０及びアークチャンバ２１０に固定結合される。よって、固定接触子２２０と可動接触子４３０の接離は、可動接触子４３０の移動により達成される。

固定接触子２２０の一端部、すなわち同図に示す実施形態における上端部は、上部フレーム１１０の外側に露出する。前記一端部には、電源又は負荷がそれぞれ通電可能に接続される。

固定接触子２２０は、複数備えられる。同図に示す実施形態において、固定接触子２２０は、左側の第１固定接触子２２０ａ、及び右側の第２固定接触子２２０ｂを含むように、計２つ備えられる。

第１固定接触子２２０ａは、可動接触子４３０の長さ方向の中心から一側寄り、すなわち同図に示す実施形態における左寄りに位置する。また、第２固定接触子２２０ｂは、可動接触子４３０の長さ方向の中心から他側寄り、すなわち同図に示す実施形態における右寄りに位置する。

第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂのいずれか一方には、電源が通電可能に接続される。また、第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂの他方には、負荷が通電可能に接続される。

本発明の実施形態による直流リレー１０は、固定接触子２２０に接続される電源又は負荷の方向とは関係なく、アークの経路Ａ．Ｐを形成する。これは、アーク経路形成部５００、６００、７００、８００により達成されるが、その詳細については後述する。

固定接触子２２０の他端部、すなわち同図に示す実施形態における下端部は、可動接触子４３０に向かって延びる。

可動接触子４３０が固定接触子２２０に近づく方向、すなわち同図に示す実施形態における上方に移動すると、前記下端部は、可動接触子４３０に接触する。よって、直流リレー１０の外部と内部が通電する。

固定接触子２２０の前記下端部は、アークチャンバ２１０の内部に位置する。

制御電源が遮断されると、可動接触子４３０は、復帰スプリング３６０の付勢力により固定接触子２２０から離隔される。

ここで、固定接触子２２０と可動接触子４３０が離隔されることにより、固定接触子２２０と可動接触子４３０間にはアークが発生する。発生したアークは、アークチャンバ２１０の内部の消弧用ガスにより消弧され、アーク経路形成部５００、６００、７００、８００により形成される経路に沿って外部に放出される。

シール部材２３０は、アークチャンバ２１０と上部フレーム１１０の内部空間の任意の連通を遮断するように構成される。シール部材２３０は、絶縁プレート１３０及び支持プレート１４０と共にアークチャンバ２１０の下側を密閉する。

具体的には、シール部材２３０の上側は、アークチャンバ２１０の下側に結合される。また、シール部材２３０の放射方向内側は、絶縁プレート１３０の外周に結合され、シール部材２３０の下側は、支持プレート１４０に結合される。

よって、アークチャンバ２１０で発生したアーク、及び消弧用ガスにより消弧されたアークは、上部フレーム１１０の内部空間に任意に流入しない。

また、シール部材２３０は、シリンダ３７０の内部空間とフレーム部１００の内部空間の任意の連通を遮断するように構成される。

（３）コア部３００についての説明
コア部３００は、制御電源の供給により可動接触子部４００を上方に移動させるように構成される。また、制御電源の供給が解除されると、コア部３００は、可動接触子部４００を再び下方に移動させるように構成される。

コア部３００は、外部の制御電源（図示せず）に通電可能に接続されることにより、制御電源が供給される。

コア部３００は、開閉部２００の下側に位置する。また、コア部３００は、下部フレーム１２０の内部に収容される。コア部３００と開閉部２００は、絶縁プレート１３０及び支持プレート１４０により電気的、物理的に離隔される。

コア部３００と開閉部２００間には、可動接触子部４００が位置する。コア部３００が印加する駆動力により、可動接触子部４００が移動する。よって、可動接触子４３０と固定接触子２２０が接触して直流リレー１０が通電する。

コア部３００は、固定コア３１０と、可動コア３２０と、ヨーク３３０と、ボビン３４０と、コイル３５０と、復帰スプリング３６０と、シリンダ３７０とを含む。

固定コア３１０は、コイル３５０から発生する磁場により磁化され、電磁引力を発生させる。前記電磁引力により、可動コア３２０が固定コア３１０に近づくように移動する（図３における上方）。

固定コア３１０は移動しない。すなわち、固定コア３１０は、支持プレート１４０及びシリンダ３７０に固定結合される。

固定コア３１０は、磁場により磁化されて電磁力を発生する任意の形態で構成される。一実施形態において、固定コア３１０は、永久磁石や電磁石などで構成される。

固定コア３１０は、シリンダ３７０の内部の上側空間に部分的に収容される。また、固定コア３１０の外周は、シリンダ３７０の内周に接触するように構成される。

固定コア３１０は、支持プレート１４０と可動コア３２０間に位置する。

固定コア３１０の中心部には、貫通孔（図示せず）が形成される。前記貫通孔（図示せず）には、シャフト４４０が上下移動可能に貫通して結合される。

固定コア３１０は、可動コア３２０から所定距離だけ離隔されるように位置する。よって、可動コア３２０が固定コア３１０に近づくように移動できる距離は、前記所定距離に制限される。よって、前記所定距離は、「可動コア３２０の移動距離」と定義される。

固定コア３１０の下側には、復帰スプリング３６０の一端部、すなわち同図に示す実施形態における上端部が接触する。固定コア３１０が磁化されることにより可動コア３２０が上方に移動すると、復帰スプリング３６０が圧縮されて復元力を蓄える。

よって、制御電源の供給が解除されて固定コア３１０の磁化が終了すると、可動コア３２０が前記復元力により再び下方に復帰する。

可動コア３２０は、制御電源が供給されると、固定コア３１０が生成する電磁引力により固定コア３１０に近づく方向に移動するように構成される。

可動コア３２０の移動により、可動コア３２０に結合されたシャフト４４０が固定コア３１０に近づく方向、すなわち同図に示す実施形態における上方に移動する。また、シャフト４４０が移動することにより、シャフト４４０に結合された可動接触子部４００が上方に移動する。

よって、固定接触子２２０と可動接触子４３０が接触して直流リレー１０が外部の電源又は負荷に通電する。

可動コア３２０は、電磁力による引力を受ける任意の形態で構成される。一実施形態において、可動コア３２０は、磁性体素材で形成されるか、永久磁石や電磁石などで構成される。

可動コア３２０は、シリンダ３７０の内部に収容される。また、可動コア３２０は、シリンダ３７０の内部において、シリンダ３７０の長さ方向、すなわち同図に示す実施形態における上下方向に移動する。

具体的には、可動コア３２０は、固定コア３１０に近づく方向、及び固定コア３１０から遠ざかる方向に移動する。

可動コア３２０は、シャフト４４０に結合される。可動コア３２０は、シャフト４４０と一体に移動する。可動コア３２０が上方又は下方に移動すると、シャフト４４０も上方又は下方に移動する。よって、可動接触子４３０も上方又は下方に移動する。

可動コア３２０は、固定コア３１０の下側に位置する。可動コア３２０は、固定コア３１０から所定距離だけ離隔される。前記所定距離が可動コア３２０の上下方向の移動距離であることについては前述した通りである。

可動コア３２０は、長さ方向に延設される。可動コア３２０の内部には、長さ方向に延びる中空部が所定距離だけ陥没して形成される。前記中空部には、復帰スプリング３６０及び復帰スプリング３６０を貫通して結合されるシャフト４４０の下部が部分的に収容される。

前記中空部の下側には、貫通孔が長さ方向に貫通して形成される。前記中空部と前記貫通孔は連通する。前記中空部に挿入されるシャフト４４０の下端部は、前記貫通孔に近づく方向に進む。

可動コア３２０の下端部には、空間部が所定距離だけ陥没して形成される。前記空間部は、前記貫通孔に連通する。前記空間部には、シャフト４４０の下側ヘッド部が位置する。

ヨーク３３０は、制御電源が供給されると磁路を形成する。ヨーク３３０が形成する磁路は、コイル３５０が形成する磁場の方向を調節するように構成される。

よって、制御電源が供給されると、コイル３５０は、可動コア３２０が固定コア３１０に近づくように移動する方向に磁場を生成する。ヨーク３３０は、通電可能な導電性素材で形成される。

ヨーク３３０は、下部フレーム１２０の内部に収容される。ヨーク３３０は、コイル３５０を囲むように構成される。コイル３５０は、ヨーク３３０の内周面から所定距離だけ離隔されてヨーク３３０の内部に収容される。

ヨーク３３０の内部には、ボビン３４０が収容される。すなわち、下部フレーム１２０の外周から放射方向内側に向かって、ヨーク３３０、コイル３５０、コイル３５０が巻回されるボビン３４０が順に配置される。

ヨーク３３０の上側は、支持プレート１４０に接触する。また、ヨーク３３０の外周は、下部フレーム１２０の内周に接触するか、下部フレーム１２０の内周から所定距離だけ離隔されるように位置する。

ボビン３４０には、コイル３５０が巻回される。ボビン３４０は、ヨーク３３０の内部に収容される。

ボビン３４０は、平板状の上部及び下部と、長さ方向に延設されて前記上部及び前記下部を連結する円筒形の柱部とを含む。すなわち、ボビン３４０は、糸巻き（bobbin）状である。

ボビン３４０の上部は、支持プレート１４０の下側に接触する。ボビン３４０の柱部には、コイル３５０が巻回される。コイル３５０が巻回される厚さは、ボビン３４０の上部及び下部の直径と同じになるように構成されるか、又はボビン３４０の上部及び下部の直径より小さく構成される。

ボビン３４０の柱部には、長さ方向に延びる中空部が貫通して形成される。前記中空部には、シリンダ３７０が収容される。ボビン３４０の柱部は、固定コア３１０、可動コア３２０及びシャフト４４０と同じ中心軸を有するように配置される。

コイル３５０は、供給される制御電源により磁場を発生させる。コイル３５０が発生させる磁場により固定コア３１０が磁化され、可動コア３２０に電磁引力が印加される。

コイル３５０は、ボビン３４０に巻回される。具体的には、コイル３５０は、ボビン３４０の柱部に巻回され、前記柱部の放射方向外側に積層される。コイル３５０は、ヨーク３３０の内部に収容される。

制御電源が供給されると、コイル３５０は磁場を生成する。ここで、ヨーク３３０により、コイル３５０が生成する磁場の強度や方向などが制御される。コイル３５０が生成する磁場により、固定コア３１０が磁化される。

固定コア３１０が磁化されると、可動コア３２０は、固定コア３１０に近づく方向への電磁力、すなわち引力を受ける。よって、可動コア３２０は、固定コア３１０に近づく方向、すなわち同図に示す実施形態における上方に移動する。

復帰スプリング３６０は、可動コア３２０が固定コア３１０に近づくように移動し、その後制御電源の供給が解除されると、可動コア３２０が原位置に復帰するための復元力を供給する。

復帰スプリング３６０は、可動コア３２０が固定コア３１０に近づくように移動することにより、圧縮されて復元力を蓄える。ここで、蓄えられる復元力は、固定コア３１０が磁化されて可動コア３２０に及ぼす電磁引力より小さいことが好ましい。制御電源が供給されている間は、可動コア３２０が復帰スプリング３６０により任意に原位置に復帰することを防止するためである。

制御電源の供給が解除されると、可動コア３２０は、復帰スプリング３６０による復元力を受ける。当然ながら、可動コア３２０の自重（empty weight）による重力も可動コア３２０に作用する。よって、可動コア３２０は、固定コア３１０から遠ざかる方向に移動して原位置に復帰する。

復帰スプリング３６０は、形状が変形することにより復元力を蓄え、元の形状に復帰することにより復元力を外部に伝達することのできる任意の形態で構成される。一実施形態において、復帰スプリング３６０は、コイルばね（coil spring）で構成される。

復帰スプリング３６０には、シャフト４４０が貫通して結合される。シャフト４４０は、復帰スプリング３６０に結合された状態で復帰スプリング３６０の形状変形とは関係なく上下方向に移動する。

復帰スプリング３６０は、可動コア３２０の上部に陥没して形成される中空部に収容される。また、固定コア３１０に対向する復帰スプリング３６０の一端部、すなわち同図に示す実施形態における上端部は、固定コア３１０の下部に陥没して形成される中空部に収容される。

シリンダ３７０は、固定コア３１０、可動コア３２０、復帰スプリング３６０及びシャフト４４０を収容する。可動コア３２０及びシャフト４４０は、シリンダ３７０の内部において上方及び下方に移動する。

シリンダ３７０は、ボビン３４０の柱部に形成される中空部に位置する。シリンダ３７０の上端部は、支持プレート１４０の下面に接触する。

シリンダ３７０の側面は、ボビン３４０の柱部の内周面に接触する。シリンダ３７０の上側開口部は、固定コア３１０により密閉される。シリンダ３７０の下面は、下部フレーム１２０の内面に接触する。

（４）可動接触子部４００についての説明
可動接触子部４００は、可動接触子４３０と、可動接触子４３０を移動させるための構成とを含む。可動接触子部４００により、直流リレー１０は、外部の電源又は負荷に通電する。

可動接触子部４００は、上部フレーム１１０の内部空間に収容される。また、可動接触子部４００は、アークチャンバ２１０の内部に上下移動可能に収容される。

可動接触子部４００の上側には、固定接触子２２０が位置する。可動接触子部４００は、固定接触子２２０に近づく方向及び固定接触子２２０から遠ざかる方向に移動可能にアークチャンバ２１０の内部に収容される。

可動接触子部４００の下側には、コア部３００が位置する。可動接触子部４００の前記移動は、可動コア３２０の移動により達成される。

可動接触子部４００は、ハウジング４１０と、カバー４２０と、可動接触子４３０と、シャフト４４０と、弾性部４５０とを含む。

ハウジング４１０は、可動接触子４３０及び可動接触子４３０を付勢する弾性部４５０を収容する。

同図に示す実施形態において、ハウジング４１０は、一側及びそれに対向する他側が開放される（図５参照）。その開放された部分には、可動接触子４３０が貫挿される。

ハウジング４１０の開放されていない側面は、収容される可動接触子４３０を覆うように構成される。

ハウジング４１０の上側には、カバー４２０が備えられる。カバー４２０は、ハウジング４１０に収容される可動接触子４３０の上面を覆うように構成される。

ハウジング４１０及びカバー４２０は、意図しない通電が防止されるように、絶縁性素材で形成されることが好ましい。一実施形態において、ハウジング４１０及びカバー４２０は、合成樹脂などで形成される。

ハウジング４１０の下部は、シャフト４４０に連結される。シャフト４４０に連結された可動コア３２０が上方又は下方に移動すると、ハウジング４１０及びそれに収容される可動接触子４３０も上方又は下方に移動する。

ハウジング４１０とカバー４２０は、任意の部材により結合される。一実施形態において、ハウジング４１０とカバー４２０は、ボルト、ナットなどの締結部材（図示せず）により結合される。

可動接触子４３０は、制御電源の供給により固定接触子２２０に接触し、直流リレー１０が外部の電源及び負荷に通電するようにする。また、可動接触子４３０は、制御電源の供給が解除されると固定接触子２２０から離隔され、直流リレー１０が外部の電源及び負荷に通電しないようにする。

可動接触子４３０は、固定接触子２２０に隣接するように位置する。

可動接触子４３０の上側は、カバー４２０により部分的に覆われる。一実施形態において、可動接触子４３０の上面の一部は、カバー４２０の下面に接触する。

可動接触子４３０の下側は、弾性部４５０により付勢される。可動接触子４３０が任意に下方に移動しないように、弾性部４５０は、所定距離だけ圧縮された状態で可動接触子４３０を付勢する。

可動接触子４３０は、長さ方向、すなわち同図に示す実施形態における左右方向に延設される。すなわち、可動接触子４３０の長さは、幅より長く形成される。よって、ハウジング４１０に収容される可動接触子４３０の長さ方向の両端部は、ハウジング４１０の外側に露出する。

前記両端部には、所定距離だけ上側に突出する接触突出部が形成される。前記接触突出部には、固定接触子２２０が接触する。

前記接触突出部は、各固定接触子２２０ａ、２２０ｂに対応する位置に形成される。よって、可動接触子４３０の移動距離が減少し、固定接触子２２０と可動接触子４３０の接触信頼性が向上する。

可動接触子４３０の幅は、ハウジング４１０の各側面が互いに離隔された距離と同じになる。すなわち、可動接触子４３０がハウジング４１０に収容されると、可動接触子４３０の幅方向に対向する両側面がハウジング４１０の各側面の内面に接触する。

よって、可動接触子４３０がハウジング４１０に収容された状態が安定して維持される。

シャフト４４０は、コア部３００の作動により発生する駆動力を可動接触子部４００に伝達する。具体的には、シャフト４４０は、可動コア３２０及び可動接触子４３０に連結される。可動コア３２０が上方又は下方に移動すると、シャフト４４０により可動接触子４３０も上方又は下方に移動する。

シャフト４４０は、長さ方向、すなわち同図に示す実施形態における上下方向に延設される。

シャフト４４０の下端部は、可動コア３２０に挿入結合される。可動コア３２０が上下方向に移動すると、シャフト４４０が可動コア３２０と共に上下方向に移動する。

シャフト４４０の本体部は、固定コア３１０に上下移動可能に貫通して結合される。シャフト４４０の本体部は、復帰スプリング３６０を貫通して結合される。

シャフト４４０の上端部は、ハウジング４１０に結合される。可動コア３２０が移動すると、シャフト４４０及びハウジング４１０が共に移動する。

シャフト４４０の上端部及び下端部は、シャフトの本体部より大きい直径を有するように形成される。よって、シャフト４４０は、ハウジング４１０及び可動コア３２０との安定した結合状態を維持することができる。

弾性部４５０は、可動接触子４３０を付勢する。可動接触子４３０が固定接触子２２０に接触すると、電磁反発力により可動接触子４３０が固定接触子２２０から離隔されやすくなる。

ここで、弾性部４５０は、可動接触子４３０を付勢し、可動接触子４３０が固定接触子２２０から任意に離隔されることを防止するように構成される。

弾性部４５０は、形状の変形により復元力を蓄え、蓄えられた復元力を他の部材に供給することのできる任意の形態で構成される。一実施形態において、弾性部４５０は、コイルばねで構成される。

可動接触子４３０に対向する弾性部４５０の一端部は、可動接触子４３０の下側に接触する。また、前記一端部とは反対側の他端部は、ハウジング４１０の上側に接触する。

弾性部４５０は、所定距離だけ圧縮されて復元力を蓄えた状態で可動接触子４３０を付勢する。よって、可動接触子４３０と固定接触子２２０間に電磁反発力が発生しても、可動接触子４３０が任意に移動することはない。

弾性部４５０の安定した結合のために、可動接触子４３０の下側には、弾性部４５０に挿入される突出部（図示せず）が突設される。同様に、ハウジング４１０の上側にも、弾性部４５０に挿入される突出部（図示せず）が突設される。

３．本発明の実施形態によるアーク経路形成部５００、６００、７００、８００についての説明
本発明の実施形態による直流リレー１０は、アーク経路形成部５００、６００、７００、８００を含む。アーク経路形成部５００、６００、７００、８００は、アークチャンバ２１０の内部で固定接触子２２０と可動接触子４３０が離隔されることにより発生するアークを放出するための経路を形成するように構成される。

以下、図４～図１３を参照して、各実施形態によるアーク経路形成部５００、６００、７００、８００について詳細に説明する。

図４及び図５に示す実施形態において、アーク経路形成部５００、６００、７００、８００は、アークチャンバ２１０の外側に位置する。アーク経路形成部５００、６００、７００、８００は、アークチャンバ２１０を囲むように構成される。図６～図１３に示す実施形態において、アークチャンバ２１０の図示が省略されていることが理解されるであろう。

アーク経路形成部５００、６００、７００、８００は、アークチャンバ２１０の内部に磁路を形成する。前記磁路により、アークの経路Ａ．Ｐが形成される。

（１）本発明の一実施形態によるアーク経路形成部５００についての説明
以下、図６及び図７を参照して、本発明の一実施形態によるアーク経路形成部５００について詳細に説明する。

同図に示す実施形態において、アーク経路形成部５００は、磁石フレーム５１０と、磁石部５２０とを含む。

磁石フレーム５１０は、アーク経路形成部５００の骨格を形成する。磁石フレーム５１０には、磁石部５２０が配置される。一実施形態において、磁石部５２０は、磁石フレーム５１０に結合される。

磁石フレーム５１０は、長さ方向、すなわち同図に示す実施形態における左右方向に延設され、長方形の断面を有する。磁石フレーム５１０の形状は、上部フレーム１１０及びアークチャンバ２１０の形状に応じて変更される。

磁石フレーム５１０は、第１面５１１と、第２面５１２と、第３面５１３と、第４面５１４と、アーク放出孔５１５と、空間部５１６とを含む。

第１面５１１、第２面５１２、第３面５１３及び第４面５１４は、磁石フレーム５１０の外周面を形成する。すなわち、第１面５１１、第２面５１２、第３面５１３及び第４面５１４は、磁石フレーム５１０の壁として機能する。

第１面５１１、第２面５１２、第３面５１３及び第４面５１４の外側は、上部フレーム１１０の内面に接触又は固定結合される。また、第１面５１１、第２面５１２、第３面５１３及び第４面５１４の内側には、磁石部５２０が位置する。

同図に示す実施形態において、第１面５１１は、背面を形成する。第２面５１２は、前面を形成し、第１面５１１に対向する。

また、第３面５１３は、左側面を形成する。第４面５１４は、右側面を形成し、第３面５１３に対向する。

第１面５１１は、第３面５１３及び第４面５１４につながる。第１面５１１は、第３面５１３及び第４面５１４と所定の角度をなして結合される。一実施形態において、前記所定の角度は直角である。

第２面５１２は、第３面５１３及び第４面５１４につながる。第２面５１２は、第３面５１３及び第４面５１４と所定の角度をなして結合される。一実施形態において、前記所定の角度は直角である。

第１面５１１～第４面５１４が互いにつながる各角部は面取りされる。

第１面５１１の内側、すなわち第２面５１２に対向する第１面５１１の一側には、第１磁石部５２１が結合される。また、第２面５１２の内側、すなわち第１面５１１に対向する第２面５１２の一側には、第３磁石部５２３が結合される。

さらに、第３面５１３の内側、すなわち第４面５１４に対向する第３面５１３の一側、又は第４面５１４の内側、すなわち第３面５１３に対向する第４面５１４の一側には、第３磁石部５２３が結合される。

各面５１１、５１２、５１３、５１４と磁石部５２０の結合のために、締結部材（図示せず）が備えられる。

第１面５１１及び第２面５１２の少なくとも一方には、アーク放出孔５１５が貫通して形成される。

アーク放出孔５１５は、アークチャンバ２１０で消弧されて放出されるアークが上部フレーム１１０の内部空間に放出される通路である。アーク放出孔５１５は、磁石フレーム５１０の空間部５１６と上部フレーム１１０の空間を連通させる。

同図に示す実施形態において、アーク放出孔５１５は、第１面５１１及び第２面５１２にそれぞれ形成される。また、アーク放出孔５１５は、第１面５１１及び第２面５１２の長さ方向の中間部分に形成される。

第１面５１１～第４面５１４により囲まれる空間は、空間部５１６と定義される。

空間部５１６には、固定接触子２２０及び可動接触子４３０が収容される。また、図４に示すように、空間部５１６には、アークチャンバ２１０が収容される。

空間部５１６において、可動接触子４３０は、固定接触子２２０に近づく方向又は固定接触子２２０から遠ざかる方向に移動する。

また、空間部５１６には、アークチャンバ２１０で発生したアークの経路Ａ．Ｐが形成される。これは、磁石部５２０が形成する磁場により達成される。

空間部５１６の中央部分は、中心部Ｃと定義される。第１面～第４面５１１、５１２、５１３、５１４が互いにつながる各角部から中心部Ｃまでの直線距離は、同一になるように形成される。

中心部Ｃは、第１固定接触子２２０ａと第２固定接触子２２０ｂ間に位置する。また、中心部Ｃの垂直下方には、可動接触子部４００の中心部分が位置する。すなわち、中心部Ｃの垂直下方には、ハウジング４１０、カバー４２０、可動接触子４３０、シャフト４４０、弾性部４５０などの中心部分が位置する。

よって、発生したアークが中心部Ｃに向かって移動すると、上記構成の損傷が発生する。これを防止するために、本実施形態によるアーク経路形成部５００は、磁石部５２０を含む。

磁石部５２０は、空間部５１６内に磁場を形成する。磁石部５２０が形成する磁場は、固定接触子２２０及び可動接触子４３０に沿って流れる電流と共に電磁力を生成する。よって、アークの経路Ａ．Ｐが電磁力の方向に応じて形成される。

磁石部５２０は、隣接する磁石部５２０間に磁場を形成するか、又は各磁石部５２０自体が磁場を形成する。

磁石部５２０は、それ自体が磁性を帯びるか、電流の供給などにより磁性を帯びる任意の形態で構成される。一実施形態において、磁石部５２０は、永久磁石や電磁石などで構成される。

磁石部５２０は、磁石フレーム５１０に結合される。磁石部５２０と磁石フレーム５１０の結合のために、締結部材（図示せず）が備えられる。

同図に示す実施形態において、磁石部５２０は、長さ方向に延び、長方形の断面を有する直方体の形状である。磁石部５２０は、磁場を形成することのできる任意の形状で構成される。

磁石部５２０は、複数備えられる。同図に示す実施形態において、磁石部５２０は３つ備えられるが、その数は変更してもよい。

磁石部５２０は、第１磁石部５２１と、第２磁石部５２２と、第３磁石部５２３とを含む。

第１磁石部５２１は、第２磁石部５２２及び第３磁石部５２３と共に磁場を形成する。また、第１磁石部５２１は、それ自体でも磁場を形成する。

図６に示す実施形態において、第１磁石部５２１は、第１面５１１の内側に位置する。また、第１磁石部５２１は、第１面５１１の中間部分に位置する。

また、図７に示す実施形態において、第１磁石部５２１は、第２面５１２の内側に位置する。さらに、第１磁石部５２１は、第２面５１２の中間部分に位置する。

第１磁石部５２１は、長さ方向、すなわち同図に示す実施形態における左右方向に所定距離だけ延設される。第１磁石部５２１は、その延設長さが第２磁石部５２２の延設長さや第３磁石部５２３の延設長さより長く形成される。

第１磁石部５２１は、第２磁石部５２２に対して垂直になるように配置される。具体的には、第１磁石部５２１は、長さ方向に延ばした仮想の線が、第２磁石部５２２の長さ方向に延ばした仮想の線と直交するように配置される。

第１磁石部５２１は、第３磁石部５２３に対向するように配置される。具体的には、第１磁石部５２１は、空間部５１６を介して対角線方向となるように第３磁石部５２３に対向するように構成される。

第１磁石部５２１と第３磁石部５２３とは、前後方向に部分的に重なる。すなわち、第１磁石部５２１の一側、すなわち同図に示す実施形態における左側端部は、前後方向における第３磁石部５２３上に位置する。同様に、第３磁石部５２３の一側、すなわち同図に示す実施形態における右側端部は、前後方向における第１磁石部５２１上に位置する。

第１磁石部５２１は、第１対向面５２１ａと、第１反対面５２１ｂとを含む。

第１対向面５２１ａは、空間部５１６に対向する第１磁石部５２１の一側面と定義される。言い換えれば、第１対向面５２１ａは、第３磁石部５２３に対向する第１磁石部５２１の一側面と定義される。

第１反対面５２１ｂは、第１面５１１又は第２面５１２に対向する第１磁石部５２１の他の側面と定義される。言い換えれば、第１反対面５２１ｂは、第１対向面５２１ａとは反対側の第１磁石部５２１の他の側面と定義される。

第１対向面５２１ａと第１反対面５２１ｂは、異なる極性になるように構成される。すなわち、第１対向面５２１ａは、Ｎ極とＳ極のいずれか一方に磁化され、第１反対面５２１ｂは、Ｎ極とＳ極の他方に磁化される。

よって、第１対向面５２１ａ及び第１反対面５２１ｂのいずれか一方から他方に向かう磁場が第１磁石部５２１自体により形成される。

同図に示す実施形態において、第１対向面５２１ａの極性は、第２磁石部５２２の第２対向面５２２ａ、及び第３磁石部５２３の第３対向面５２３ａとは異なる極性になるように構成される。

よって、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間、又は第１磁石部５２１と第３磁石部５２３間には、いずれか一方の磁石部から他方の磁石部に向かう方向の磁場が形成される。

第２磁石部５２２は、第１磁石部５２１と共に磁場を形成する。また、第２磁石部５２２は、それ自体でも磁場を形成する。

第２磁石部５２２は、長さ方向、すなわち同図に示す実施形態における前後方向に所定距離だけ延設される。第２磁石部５２２は、その延設長さが第１磁石部５２１の延設長さより短く形成される。

同図に示す実施形態において、第２磁石部５２２は、第４面５１４の内側に位置する。第２磁石部５２２は、第４面５１４の長さ方向の中心部分に位置する。

あるいは、第２磁石部５２２は、第３面５１３の内側に位置するようにしてもよい。

第２磁石部５２２は、第１磁石部５２１から所定距離（Ｄ１）離隔されて位置する。また、第２磁石部５２２は、第３磁石部５２３から所定距離（Ｄ３）離隔されて位置する。第２磁石部５２２と第３磁石部５２３間の離隔距離Ｄ３は、第２磁石部５２２と第１磁石部５２１間の離隔距離Ｄ１より長く形成される。

第２磁石部５２２は、第２対向面５２２ａと、第２反対面５２２ｂとを含む。

第２対向面５２２ａは、空間部５１６に対向する第２磁石部５２２の一側面と定義される。言い換えれば、第２対向面５２２ａは、第１磁石部５２１に対向する第２磁石部５２２の一側面と定義される。

第２反対面５２２ｂは、第４面５１４に対向する第２磁石部５２２の他の側面と定義される。言い換えれば、第２反対面５２２ｂは、第２対向面５２２ａとは反対側の第２磁石部５２２の他の側面と定義される。

第２対向面５２２ａと第２反対面５２２ｂは、異なる極性になるように構成される。すなわち、第２対向面５２２ａは、Ｎ極とＳ極のいずれか一方に磁化され、第２反対面５２２ｂは、Ｎ極とＳ極の他方に磁化される。

よって、第２対向面５２２ａ及び第２反対面５２２ｂのいずれか一方から他方に向かう磁場が第２磁石部５２２自体により形成される。

同図に示す実施形態において、第２対向面５２２ａの極性は、第１磁石部５２１の第１対向面５２１ａとは異なる極性になるように構成される。

よって、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間には、いずれか一方の磁石部から他方の磁石部に向かう方向の磁場が形成される。

また、第２対向面５２２ａの極性は、第３磁石部５２３の第３対向面５２３ａと同じ極性になるように形成される。

よって、第２対向面５２２ａと第３対向面５２３ａ間には、互いに押し合う方向の磁場が形成される。

第３磁石部５２３は、第１磁石部５２１と共に磁場を形成する。また、第３磁石部５２３は、それ自体でも磁場を形成する。

図６に示す実施形態において、第３磁石部５２３は、第２面５１２の内側左寄りに位置する。すなわち、第３磁石部５２３は、アーク放出孔５１５より左側に位置する。

図７に示す実施形態において、第３磁石部５２３は、第１面５１１の内側左寄りに位置する。すなわち、第３磁石部５２３は、アーク放出孔５１５より左側に位置する。

すなわち、第３磁石部５２３は、第２磁石部５２２からの離隔距離Ｄ３が最大となるように、第２磁石部５２２が配置される第４面５１４に対向する第３面５１３に隣接して配置される。

第３磁石部５２３は、長さ方向、すなわち同図に示す実施形態における左右方向に所定距離だけ延設される。第３磁石部５２３は、その延設長さが第１磁石部５２１の延設長さより短く形成される。一実施形態において、第３磁石部５２３の延設長さは、第２磁石部５２２の延設長さと同じ長さになるように形成される。

第３磁石部５２３は、第１磁石部５２１に対向するように配置される。具体的には、第３磁石部５２３は、空間部５１６を介して左の対角線方向となるように第１磁石部５２１に対向するように構成される。

第３磁石部５２３は、第２磁石部５２２から所定距離（Ｄ３）離隔されて位置する。また、第３磁石部５２３は、第１磁石部５２１から所定距離（Ｄ２）離隔されて位置する。

第３磁石部５２３は、第３対向面５２３ａと、第３反対面５２３ｂとを含む。

第３対向面５２３ａは、空間部５１６に対向する第３磁石部５２３の一側面と定義される。言い換えれば、第３対向面５２３ａは、第１磁石部５２１に対向する第３磁石部５２３の一側面と定義される。

第３反対面５２３ｂは、第１面５１１又は第２面５１２に対向する第３磁石部５２３の他の側面と定義される。言い換えれば、第３反対面５２３ｂは、第３対向面５２３ａとは反対側の第３磁石部５２３の他の側面と定義される。

第３対向面５２３ａと第３反対面５２３ｂは、異なる極性になるように構成される。すなわち、第３対向面５２３ａは、Ｎ極とＳ極のいずれか一方に磁化され、第３反対面５２３ｂは、Ｎ極とＳ極の他方に磁化される。

よって、第３対向面５２３ａ及び第３反対面５２３ｂのいずれか一方から他方に向かう磁場が第３磁石部５２３自体により形成される。

同図に示す実施形態において、第３対向面５２３ａの極性は、第１磁石部５２１の第１対向面５２１ａとは異なる極性になるように構成される。

よって、第１磁石部５２１と第３磁石部５２３間には、いずれか一方の磁石部から他方の磁石部に向かう方向の磁場が形成される。

また、第３対向面５２３ａの極性は、第２磁石部５２２の第２対向面５２２ａと同じ極性になるように形成される。

よって、第２対向面５２２ａと第３対向面５２３ａ間には、互いに押し合う方向の磁場が形成される。

本実施形態において、第１磁石部５２１は、第２磁石部５２２や第３磁石部５２３より長く延設される。また、第２磁石部５２２と第３磁石部５２３は、所定距離（Ｄ３）だけ離隔されて配置される。

第２磁石部５２２と第３磁石部５２３の離隔距離Ｄ３は、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２の離隔距離Ｄ１や第１磁石部５２１と第３磁石部５２３の離隔距離Ｄ２より長く形成される。

すなわち、第２磁石部５２２と第３磁石部５２３は、その離隔距離Ｄ３が最大となるように配置される。

よって、第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂの近傍に形成される磁場は、第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂに対してより大きい傾斜を有するように形成される。

その結果、これらの磁場により各固定接触子２２０ａ、２２０ｂの近傍に発生する電磁力は、中心部Ｃから遠ざかる方向に形成される。よって、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

（２）本発明の他の実施形態によるアーク経路形成部６００についての説明
以下、図８及び図９を参照して、本発明の他の実施形態によるアーク経路形成部６００について詳細に説明する。

同図に示す実施形態において、アーク経路形成部６００は、磁石フレーム６１０と、磁石部６２０とを含む。

本実施形態による磁石フレーム６１０は、前述した実施形態の磁石フレーム５１０と構造及び機能が同一である。よって、前述した磁石フレーム５１０についての説明を援用して磁石フレーム６１０についての説明に代える。

本実施形態による磁石部６２０は、前述した実施形態の磁石部５２０と構造及び機能が概して同様である。しかし、本実施形態による磁石部６２０は、前述した実施形態の磁石部５２０と配置方法において差異がある。

よって、以下では、本実施形態による磁石部６２０と前述した実施形態による磁石部５２０の差異を中心に説明する。

磁石部６２０は、第１磁石部６２１と、第２磁石部６２２と、第３磁石部６２３とを含む。

第１磁石部６２１は、第２磁石部６２２及び第３磁石部６２３と共に磁場を形成する。また、第１磁石部６２１は、それ自体でも磁場を形成する。

第２磁石部６２２は、第１磁石部６２１と共に磁場を形成する。また、第２磁石部６２２は、それ自体でも磁場を形成する。

第２磁石部６２２は、第３面６１３の内側に配置される。第２磁石部６２２は、第３面６１３の中間部分に位置する。

第３磁石部６２３は、第１磁石部６２１と共に磁場を形成する。また、第３磁石部６２３は、それ自体でも磁場を形成する。

第３磁石部６２３は、第２面６１２の内側に配置される。第３磁石部６２３は、第２面６１２の右寄りに位置する。すなわち、第３磁石部６２３は、第２磁石部６２２からの離隔距離Ｄ３が最大となるように、第２磁石部６２２が配置される第３面６１３に対向する第４面６１４に隣接して配置される。

本実施形態において、第１磁石部６２１は、第２磁石部６２２や第３磁石部６２３より長く延設される。また、第２磁石部６２２と第３磁石部６２３は、所定距離（Ｄ３）だけ離隔されて配置される。

第２磁石部６２２と第３磁石部６２３の離隔距離Ｄ３は、第１磁石部６２１と第２磁石部６２２の離隔距離Ｄ１や第１磁石部６２１と第３磁石部６２３の離隔距離Ｄ２より長く形成される。

すなわち、第２磁石部６２２と第３磁石部６２３は、その離隔距離Ｄ３が最大となるように配置される。

よって、第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂの近傍に形成される磁場は、第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂに対してより大きい傾斜を有するように形成される。

その結果、これらの磁場により各固定接触子２２０ａ、２２０ｂの近傍に発生する電磁力は、中心部Ｃから遠ざかる方向に形成される。よって、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

（３）本発明のさらに他の実施形態によるアーク経路形成部７００についての説明
以下、図１０及び図１１を参照して、本発明のさらに他の実施形態によるアーク経路形成部７００について詳細に説明する。

同図に示す実施形態において、アーク経路形成部７００は、磁石フレーム７１０と、磁石部７２０とを含む。

本実施形態による磁石フレーム７１０は、前述した実施形態の磁石フレーム５１０、６１０と構造及び機能が同一である。よって、前述した磁石フレーム５１０、６１０についての説明を援用して磁石フレーム７１０についての説明に代える。

本実施形態による磁石部７２０は、前述した実施形態の磁石部５２０、６２０と構造及び機能が概して同様である。

よって、以下では、本実施形態による磁石部７２０と前述した実施形態による磁石部５２０、６２０の差異を中心に説明する。

磁石部７２０は、第１磁石部７２１と、第２磁石部７２２と、第３磁石部７２３とを含む。

第１磁石部７２１は、第２磁石部７２２又は第３磁石部７２３と共に磁場を形成する。また、第１磁石部７２１は、それ自体でも磁場を形成する。

第１磁石部７２１は、前述した実施形態の第１磁石部５２１、６２１と構造及び機能が同一である。

しかし、第１対向面７２１ａは、第２磁石部７２２の第２対向面７２２ａと同じ極性になるように構成される。また、第１対向面７２１ａは、第３磁石部７２３の第３対向面７２３ａとは異なる極性になるように構成される。

よって、第１磁石部７２１と第２磁石部７２２間には、互いに押し合う方向の磁場が形成される。また、第１磁石部７２１と第３磁石部７２３間には、いずれか一方の磁石部から他方の磁石部に向かう方向の磁場が形成される。

第２磁石部７２２は、第１磁石部７２１又は第３磁石部７２３と共に磁場を形成する。また、第２磁石部７２２は、それ自体でも磁場を形成する。

本実施形態において、第２磁石部７２２は、第３面７１３の内側に配置される。第２磁石部７２２は、第３面７１３の中間部分に位置する。

第２磁石部７２２は、第３磁石部７２３との離隔距離Ｄ３が最大となるように配置される。

第２磁石部７２２は、前述した実施形態の第２磁石部５２２、６２２と構造及び機能が同一である。

しかし、第２対向面７２２ａは、第１磁石部７２１の第１対向面７２１ａと同じ極性になるように構成される。また、第２対向面７２２ａは、第３磁石部７２３の第３対向面７２３ａとは異なる極性になるように構成される。

よって、第２磁石部７２２と第１磁石部７２１間には、互いに押し合う方向の磁場が形成される。また、第２磁石部７２２と第３磁石部７２３間には、いずれか一方の磁石部から他方の磁石部に向かう方向の磁場が形成される。

第３磁石部７２３は、第１磁石部７２１又は第２磁石部７２２と共に磁場を形成する。また、第３磁石部７２３は、それ自体でも磁場を形成する。

本実施形態において、第３磁石部７２３は、第４面７１４の内側に配置される。第３磁石部７２３は、第４面７１４の中間部分に位置する。

第３磁石部７２３は、第２磁石部７２２との離隔距離Ｄ３が最大となるように配置される。すなわち、第２磁石部７２２が第３面７２３に配置されるので、第３磁石部７２３は、その離隔距離Ｄ３が最大となる第４面７２４に配置される。

第３磁石部７２３は、前述した実施形態の第３磁石部５２３、６２３と構造及び機能が同一である。

しかし、第３対向面７２３ａは、第１磁石部７２１の第１対向面７２１ａ、及び第２磁石部７２２の第２対向面７２２ａとは異なる極性になるように構成される。

よって、第３磁石部７２３と第１磁石部７２１間、及び第３磁石部７２３と第２磁石部７２２間には、いずれか一方の磁石部から他方の磁石部に向かう方向の磁場が形成される。

本実施形態において、第１磁石部７２１は、第２磁石部７２２や第３磁石部７２３より長く延設される。また、第２磁石部７２２と第３磁石部７２３は、所定距離（Ｄ３）だけ離隔されて配置される。

第２磁石部７２２と第３磁石部７２３の離隔距離Ｄ３は、第１磁石部７２１と第２磁石部７２２の離隔距離Ｄ１や第１磁石部７２１と第３磁石部７２３の離隔距離Ｄ２より長く形成される。

また、第１磁石部７２１と第２磁石部７２２の離隔距離Ｄ１と、第１磁石部７２１と第３磁石部７２３の離隔距離Ｄ２とは、同一である。

すなわち、第２磁石部７２２と第３磁石部７２３は、その離隔距離Ｄ３が最大となるように配置される。

また、第３対向面７２３ａは、第１対向面７２１ａ及び第２対向面７２２ａとは異なる極性になるように構成される。よって、磁場は、第１磁石部７２１及び第２磁石部７２２から第３磁石部７２３に向かう方向又はその逆方向に形成される。

よって、第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂの近傍に形成される磁場は、左右方向又は左右の対角線方向に形成される。

その結果、これらの磁場により各固定接触子２２０ａ、２２０ｂの近傍に発生する電磁力は、中心部Ｃから遠ざかる方向に形成される。よって、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

（４）本発明のさらに他の実施形態によるアーク経路形成部８００についての説明
以下、図１２及び図１３を参照して、本発明のさらに他の実施形態によるアーク経路形成部８００について詳細に説明する。

同図に示す実施形態において、アーク経路形成部８００は、磁石フレーム８１０と、磁石部８２０とを含む。

本実施形態による磁石フレーム８１０は、前述した実施形態の磁石フレーム５１０、６１０、７１０と構造及び機能が同一である。よって、前述した磁石フレーム５１０、６１０、７１０についての説明を援用して磁石フレーム８１０についての説明に代える。

本実施形態による磁石部８２０は、前述した実施形態の磁石部５２０、６２０、７２０と構造及び機能が概して同様である。

よって、以下では、本実施形態による磁石部８２０と前述した実施形態による磁石部５２０、６２０、７２０の差異を中心に説明する。

磁石部８２０は、第１磁石部８２１と、第２磁石部８２２と、第３磁石部８２３とを含む。

第１磁石部８２１は、第２磁石部８２２又は第３磁石部８２３と共に磁場を形成する。また、第１磁石部８２１は、それ自体でも磁場を形成する。

第１磁石部８２１は、前述した実施形態の第１磁石部５２１、６２１、７２１と構造及び機能が同一である。

しかし、第１対向面８２１ａは、第２磁石部８２２の第２対向面８２２ａ、及び第３磁石部８２３の第３対向面８２３ａとは異なる極性になるように構成される。

よって、第１磁石部８２１と第２磁石部８２２間、及び第１磁石部８２１と第３磁石部８２３間には、いずれか一方の磁石部から他方の磁石部に向かう方向の磁場が形成される。

第２磁石部８２２は、第１磁石部８２１又は第３磁石部８２３と共に磁場を形成する。また、第２磁石部８２２は、それ自体でも磁場を形成する。

第２磁石部８２２は、前述した実施形態の第２磁石部５２２、６２２、７２２と構造及び機能が同一である。また、第２磁石部８２２は、前述した実施形態の第２磁石部７２２と配置方法が同一である。

しかし、第２対向面８２２ａは、第１磁石部８２１の第１対向面８２１ａとは異なる極性になるように構成される。また、第２対向面８２２ａは、第３磁石部８２３の第３対向面８２３ａと同じ極性になるように構成される。

よって、第２磁石部８２２と第１磁石部８２１間には、いずれか一方の磁石部から他方の磁石部に向かう方向の磁場が形成される。また、第２磁石部８２２と第３磁石部８２３間には、互いに押し合う方向の磁場が形成される。

第３磁石部８２３は、第１磁石部８２１又は第２磁石部８２２と共に磁場を形成する。また、第３磁石部８２３は、それ自体でも磁場を形成する。

第３磁石部８２３は、前述した実施形態の第３磁石部５２３、６２３、７２３と構造及び機能が同一である。また、第３磁石部８２３は、前述した実施形態の第３磁石部７２３と配置方法が同一である。

しかし、第３対向面８２３ａは、第１磁石部８２１の第１対向面８２１ａとは異なる極性になるように構成される。また、第３対向面８２３ａは、第２磁石部８２２の第２対向面８２３ａと同じ極性になるように構成される。

よって、第３磁石部８２３と第１磁石部８２１間には、いずれか一方の磁石部から他方の磁石部に向かう方向の磁場が形成される。また、第３磁石部８２３と第２磁石部８２２間には、互いに押し合う方向の磁場が形成される。

本実施形態において、第１磁石部８２１は、第２磁石部８２２や第３磁石部８２３より長く延設される。また、第２磁石部８２２と第３磁石部８２３は、所定距離（Ｄ３）だけ離隔されて配置される。

第２磁石部８２２と第３磁石部８２３の離隔距離Ｄ３は、第１磁石部８２１と第２磁石部８２２の離隔距離Ｄ１や第１磁石部８２１と第３磁石部８２３の離隔距離Ｄ２より長く形成される。

また、第１磁石部８２１と第２磁石部８２２の離隔距離Ｄ１と、第１磁石部８２１と第３磁石部８２３の離隔距離Ｄ２とは、同一である。

すなわち、第２磁石部８２２と第３磁石部８２３は、その離隔距離Ｄ３が最大となるように配置される。

また、第１対向面８２１ａは、第２対向面８２２ａ及び第３対向面８２３ａとは異なる極性になるように構成される。よって、磁場は、第１磁石部８２１から第２磁石部８２２及び第３磁石部８２３に向かう方向又はその逆方向に形成される。

よって、第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂの近傍に形成される磁場は、左右の対角線方向に形成される。

その結果、これらの磁場により各固定接触子２２０ａ、２２０ｂの近傍に発生する電磁力は、中心部Ｃから遠ざかる方向に形成される。よって、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

４．本発明の実施形態によるアーク経路形成部５００、６００、７００、８００により形成されるアークの経路Ａ．Ｐについての説明
本発明の実施形態による直流リレー１０は、アーク経路形成部５００、６００、７００、８００を含む。アーク経路形成部５００、６００、７００、８００は、アークチャンバ２１０の内部に磁場を形成する。

前記磁場が形成された状態において、固定接触子２２０と可動接触子４３０が接触して電流が流れると、フレミングの左手の法則に従って電磁力が発生する。

前記電磁力により、固定接触子２２０と可動接触子４３０が離隔されることにより発生するアークが移動するアークの経路Ａ．Ｐが形成される。

以下、図１４～図２９を参照して、本発明の実施形態による直流リレー１０においてアークの経路Ａ．Ｐが形成される過程について詳細に説明する。

以下の説明においては、固定接触子２２０と可動接触子４３０が離隔された直後に、固定接触子２２０と可動接触子４３０が接触していた部分からアークが発生することを前提とする。

また、以下の説明において、各磁石部５２０、６２０、７２０、８２０同士が影響を及ぼす磁場を「主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ（Main Magnetic Field）」といい、各磁石部５２０、６２０、７２０、８２０自体により形成される磁場を「副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆ（Sub Magnetic Field）」という。

（１）本発明の一実施形態によるアーク経路形成部５００により形成されるアークの経路Ａ．Ｐについての説明
図１４～図１７には、本発明の一実施形態によるアーク経路形成部５００においてアークの経路Ａ．Ｐが形成された状態を示す。

図１４の（ａ）、図１５の（ａ）、図１６の（ａ）及び図１７の（ａ）における電流の通電方向は、電流が第２固定接触子２２０ｂに流入し、可動接触子４３０を経て、第１固定接触子２２０ａから流出する方向である。

また、図１４の（ｂ）、図１５の（ｂ）、図１６の（ｂ）及び図１７の（ｂ）における電流の通電方向は、電流が第１固定接触子２２０ａに流入し、可動接触子４３０を経て、第２固定接触子２２０ｂから流出する方向である。

図１４に示すように、第１対向面５２１ａは、Ｎ極に磁化される。また、第２対向面５２２ａ及び第３対向面５２３ａは、Ｓ極に磁化される。

周知の通り、磁場は、Ｎ極から発散してＳ極に収束する方向に形成される。

よって、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、第１対向面５２１ａから第２対向面５２２ａに向かう方向に形成される。

ここで、第１磁石部５２１は、第１対向面５２１ａから第１反対面５２１ｂに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。また、第２磁石部５２２は、第２反対面５２２ｂから第２対向面５２２ａに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。

これらの副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆは、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆと同じ方向に形成される。よって、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆの強度が強化される。

よって、図１４の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方右側に向かうように形成される。

同様に、図１４の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方左側に向かうように形成される。

また、第１磁石部５２１と第３磁石部５２３間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、第１対向面５２１ａから第３対向面５２３ａに向かう方向に形成される。

ここで、第１磁石部５２１は、第１対向面５２１ａから第１反対面５２１ｂに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。また、第３磁石部５２３は、第３反対面５２３ｂから第３対向面５２３ａに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。

これらの副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆは、第１磁石部５２１と第３磁石部５２３間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆと同じ方向に形成される。よって、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆの強度が強化される。

よって、図１４の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方左側に向かうように形成される。

同様に、図１４の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方右側に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

図１５に示すように、第１対向面５２１ａは、Ｓ極に磁化される。また、第２対向面５２２ａ及び第３対向面５２３ａは、Ｎ極に磁化される。

よって、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、第２対向面５２２ａから第１対向面５２１ａに向かう方向に形成される。

ここで、第１磁石部５２１は、第１反対面５２１ｂから第１対向面５２１ａに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。また、第２磁石部５２２は、第２対向面５２２ａから第２反対面５２２ｂに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。

これらの副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆは、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆと同じ方向に形成される。よって、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆの強度が強化される。

よって、図１５の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方左側に向かうように形成される。

同様に、図１５の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方右側に向かうように形成される。

また、第１磁石部５２１と第３磁石部５２３間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、第３対向面５２３ａから第１対向面５２１ａに向かう方向に形成される。

ここで、第１磁石部５２１は、第１反対面５２１ｂから第１対向面５２１ａに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。また、第３磁石部５２３は、第３対向面５２３ａから第３反対面５２３ｂに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。

これらの副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆは、第１磁石部５２１と第３磁石部５２３間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆと同じ方向に形成される。よって、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆの強度が強化される。

よって、図１５の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方右側に向かうように形成される。

同様に、図１５の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方左側に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

図１６に示すように、第１対向面５２１ａは、Ｎ極に磁化される。また、第２対向面５２２ａ及び第３対向面５２３ａは、Ｓ極に磁化される。

よって、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、第１対向面５２１ａから第２対向面５２２ａに向かう方向に形成される。

ここで、第１磁石部５２１は、第１対向面５２１ａから第１反対面５２１ｂに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。また、第２磁石部５２２は、第２反対面５２２ｂから第２対向面５２２ａに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。

これらの副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆは、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆと同じ方向に形成される。よって、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆの強度が強化される。

よって、図１６の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方左側に向かうように形成される。

同様に、図１６の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方右側に向かうように形成される。

また、第１磁石部５２１と第３磁石部５２３間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、第１対向面５２１ａから第３対向面５２３ａに向かう方向に形成される。

ここで、第１磁石部５２１は、第１対向面５２１ａから第１反対面５２１ｂに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。また、第３磁石部５２３は、第３反対面５２３ｂから第３対向面５２３ａに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。

これらの副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆは、第１磁石部５２１と第３磁石部５２３間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆと同じ方向に形成される。よって、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆの強度が強化される。

よって、図１６の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方右側に向かうように形成される。

同様に、図１６の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方左側に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

図１７に示すように、第１対向面５２１ａは、Ｓ極に磁化される。また、第２対向面５２２ａ及び第３対向面５２３ａは、Ｎ極に磁化される。

よって、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、第２対向面５２２ａから第１対向面５２１ａに向かう方向に形成される。

ここで、第１磁石部５２１は、第１反対面５２１ｂから第１対向面５２１ａに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。また、第２磁石部５２２は、第２対向面５２２ａから第２反対面５２２ｂに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。

これらの副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆは、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆと同じ方向に形成される。よって、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆの強度が強化される。

よって、図１７の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方右側に向かうように形成される。

同様に、図１７の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方左側に向かうように形成される。

また、第１磁石部５２１と第３磁石部５２３間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、第３対向面５２３ａから第１対向面５２１ａに向かう方向に形成される。

ここで、第１磁石部５２１は、第１反対面５２１ｂから第１対向面５２１ａに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。また、第３磁石部５２３は、第３対向面５２３ａから第３反対面５２３ｂに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。

これらの副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆは、第１磁石部５２１と第３磁石部５２３間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆと同じ方向に形成される。よって、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆの強度が強化される。

よって、図１７の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方左側に向かうように形成される。

同様に、図１７の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方右側に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

本実施形態において、第１磁石部５２１は、第２磁石部５２２や第３磁石部５２３より長く延設される。また、第２磁石部５２２と第３磁石部５２３は、所定距離（Ｄ３）だけ離隔されて配置される。

第２磁石部５２２と第３磁石部５２３の離隔距離Ｄ３は、第１磁石部５２１と第２磁石部５２２の離隔距離Ｄ１や第１磁石部５２１と第３磁石部５２３の離隔距離Ｄ２より長く形成される。

すなわち、第２磁石部５２２と第３磁石部５２３は、その離隔距離Ｄ３が最大となるように配置される。

よって、第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂの近傍に形成される磁場は、第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂに対してより大きい傾斜を有するように形成される。

その結果、これらの磁場により各固定接触子２２０ａ、２２０ｂの近傍に発生する電磁力は、中心部Ｃから遠ざかる方向に形成される。よって、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

（２）本発明の他の実施形態によるアーク経路形成部６００により形成されるアークの経路Ａ．Ｐについての説明
図１８～図２１には、本発明の他の実施形態によるアーク経路形成部６００においてアークの経路Ａ．Ｐが形成された状態を示す。

図１８の（ａ）、図１９の（ａ）、図２０の（ａ）及び図２１の（ａ）における電流の通電方向は、電流が第２固定接触子２２０ｂに流入し、可動接触子４３０を経て、第１固定接触子２２０ａから流出する方向である。

また、図１８の（ｂ）、図１９の（ｂ）、図２０の（ｂ）及び図２１の（ｂ）における電流の通電方向は、電流が第１固定接触子２２０ａに流入し、可動接触子４３０を経て、第２固定接触子２２０ｂから流出する方向である。

図１８に示すように、第１対向面６２１ａは、Ｎ極に磁化される。また、第２対向面６２２ａ及び第３対向面６２３ａは、Ｓ極に磁化される。

第１磁石部６２１及び第２磁石部６２２により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１４の実施形態と同様である。

よって、図１８の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方右側に向かうように形成される。

同様に、図１８の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方左側に向かうように形成される。

第１磁石部６２１及び第３磁石部６２３により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１４の実施形態と同様である。

よって、図１８の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方左側に向かうように形成される。

同様に、図１８の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方右側に向かうように形成される。

図１９に示すように、第１対向面６２１ａは、Ｓ極に磁化される。また、第２対向面６２２ａ及び第３対向面６２３ａは、Ｎ極に磁化される。

第１磁石部６２１及び第２磁石部６２２により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１５の実施形態と同様である。

よって、図１９の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方左側に向かうように形成される。

同様に、図１９の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方右側に向かうように形成される。

第１磁石部６２１及び第３磁石部６２３により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１５の実施形態と同様である。

よって、図１９の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方右側に向かうように形成される。

同様に、図１９の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方左側に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

図２０に示すように、第１対向面６２１ａは、Ｎ極に磁化される。また、第２対向面６２２ａ及び第３対向面６２３ａは、Ｓ極に磁化される。

第１磁石部６２１及び第２磁石部６２２により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１６の実施形態と同様である。

よって、図２０の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方左側に向かうように形成される。

同様に、図２０の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方右側に向かうように形成される。

第１磁石部６２１及び第３磁石部６２３により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１６の実施形態と同様である。

よって、図２０の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方右側に向かうように形成される。

同様に、図２０の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方左側に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

図２１に示すように、第１対向面６２１ａは、Ｓ極に磁化される。また、第２対向面６２２ａ及び第３対向面６２３ａは、Ｎ極に磁化される。

第１磁石部６２１及び第２磁石部６２２により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１７の実施形態と同様である。

よって、図２１の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方右側に向かうように形成される。

同様に、図２１の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方左側に向かうように形成される。

第１磁石部６２１及び第３磁石部６２３により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１７の実施形態と同様である。

よって、図２１の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方左側に向かうように形成される。

同様に、図２１の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方右側に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

本実施形態において、第１磁石部６２１は、第２磁石部６２２や第３磁石部６２３より長く延設される。また、第２磁石部６２２と第３磁石部６２３は、所定距離（Ｄ３）だけ離隔されて配置される。

第２磁石部６２２と第３磁石部６２３の離隔距離Ｄ３は、第１磁石部６２１と第２磁石部６２２の離隔距離Ｄ１や第１磁石部６２１と第３磁石部６２３の離隔距離Ｄ２より長く形成される。

すなわち、第２磁石部６２２と第３磁石部６２３は、その離隔距離Ｄ３が最大となるように配置される。

よって、第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂの近傍に形成される磁場は、第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂに対してより大きい傾斜を有するように形成される。

その結果、これらの磁場により各固定接触子２２０ａ、２２０ｂの近傍に発生する電磁力は、中心部Ｃから遠ざかる方向に形成される。よって、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

（３）本発明のさらに他の実施形態によるアーク経路形成部７００により形成されるアークの経路Ａ．Ｐについての説明
図２２～図２５には、本発明のさらに他の実施形態によるアーク経路形成部７００においてアークの経路Ａ．Ｐが形成された状態を示す。

図２２の（ａ）、図２３の（ａ）、図２４の（ａ）及び図２５の（ａ）における電流の通電方向は、電流が第２固定接触子２２０ｂに流入し、可動接触子４３０を経て、第１固定接触子２２０ａから流出する方向である。

また、図２２の（ｂ）、図２３の（ｂ）、図２４の（ｂ）及び図２５の（ｂ）における電流の通電方向は、電流が第１固定接触子２２０ａに流入し、可動接触子４３０を経て、第２固定接触子２２０ｂから流出する方向である。

図２２に示すように、第１対向面７２１ａ及び第２対向面７２２ａは、Ｎ極に磁化される。また、第２対向面７２２ａ及び第３対向面７２３ａは、Ｓ極に磁化される。

よって、第１磁石部７２１と第２磁石部７２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、互いに押し合う方向に形成される。

すなわち、第１対向面７２１ａから発散した主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、第２対向面７２２ａから遠ざかる方向に形成される。また、第２対向面７２２ａから発散した主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆも、第１対向面７２１ａから遠ざかる方向に形成される。

それと同時に、第１磁石部７２１と第３磁石部７２３間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、第１対向面７２１ａから第３対向面７２３ａに向かう方向に形成される。

同様に、第２磁石部７２２と第３磁石部７２３間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、第２対向面７２２ａから第３対向面７２３ａに向かう方向に形成される。

ここで、第１磁石部７２１は、第１対向面７２１ａから第１反対面７２１ｂに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。また、第２磁石部７２２は、第２対向面７２２ａから第２反対面７２２ｂに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。同様に、第３磁石部７２３は、第３反対面７２３ｂから第３対向面７２３ｂに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。

これらの副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆは、第１磁石部７２１及び第２磁石部７２２と第３磁石部７２３間に形成される各主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆと同じ方向に形成される。よって、第１磁石部７２１及び第２磁石部７２２と第３磁石部７２３間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆの強度が強化される。

よって、図２２の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方に向かうように形成される。

同様に、図２２の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方に向かうように形成される。

また、図２２の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方に向かうように形成される。

同様に、図２２の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

図２３に示すように、第１対向面７２１ａ及び第２対向面７２２ａは、Ｓ極に磁化される。また、第３対向面７２３ａは、Ｎ極に磁化される。

よって、第１磁石部７２１と第２磁石部７２２間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、互いに押し合う方向に形成される。

すなわち、第１対向面７２１ａから発散した主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、第２対向面７２２ａから遠ざかる方向に形成される。また、第２対向面７２２ａから発散した主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆも、第１対向面７２１ａから遠ざかる方向に形成される。

それと同時に、第１磁石部７２１と第３磁石部７２３間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、第３対向面７２３ａから第１対向面７２１ａに向かう方向に形成される。

同様に、第２磁石部７２２と第３磁石部７２３間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆは、第３対向面７２３ａから第２対向面７２２ａに向かう方向に形成される。

ここで、第１磁石部７２１は、第１反対面７２１ｂから第１対向面７２１ａに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。また、第２磁石部７２２は、第２反対面７２２ｂから第２対向面７２２ａに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。同様に、第３磁石部７２３は、第３対向面７２３ａから第３反対面７２３ａに向かう方向の副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆを形成する。

これらの副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆは、第１磁石部７２１及び第２磁石部７２２と第３磁石部７２３間に形成される各主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆと同じ方向に形成される。よって、第１磁石部７２１及び第２磁石部７２２と第３磁石部７２３間に形成される主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆの強度が強化される。

よって、図２３の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方に向かうように形成される。

同様に、図２３の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方に向かうように形成される。

また、図２３の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方に向かうように形成される。

同様に、図２３の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

図２４に示すように、第１対向面７２１ａ及び第２対向面７２２ａは、Ｎ極に磁化される。また、第２対向面７２２ａ及び第３対向面７２３ａは、Ｓ極に磁化される。

第１磁石部７２１、第２磁石部７２２及び第３磁石部７２３により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図２２の実施形態と同様である。

よって、図２４の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方に向かうように形成される。

同様に、図２４の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方に向かうように形成される。

また、図２４の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方に向かうように形成される。

同様に、図２４の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

図２５に示すように、第１対向面７２１ａ及び第２対向面７２２ａは、Ｓ極に磁化される。また、第３対向面７２３ａは、Ｎ極に磁化される。

第１磁石部７２１、第２磁石部７２２及び第３磁石部７２３により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図２３の実施形態と同様である。

よって、図２５の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方に向かうように形成される。

同様に、図２５の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方に向かうように形成される。

また、図２５の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方に向かうように形成される。

同様に、図２５の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

本実施形態において、第１磁石部７２１は、第２磁石部７２２や第３磁石部７２３より長く延設される。また、第２磁石部７２２と第３磁石部７２３は、所定距離（Ｄ３）だけ離隔されて配置される。

第２磁石部７２２と第３磁石部７２３の離隔距離Ｄ３は、第１磁石部７２１と第２磁石部７２２の離隔距離Ｄ１や第１磁石部７２１と第３磁石部７２３の離隔距離Ｄ２より長く形成される。

また、第１磁石部７２１と第２磁石部７２２の離隔距離Ｄ１と、第１磁石部７２１と第３磁石部７２３の離隔距離Ｄ２とは、同一である。

すなわち、第２磁石部７２２と第３磁石部７２３は、その離隔距離Ｄ３が最大となるように配置される。

また、第３対向面７２３ａは、第１対向面７２１ａ及び第２対向面７２２ａとは異なる極性になるように構成される。よって、磁場は、第１磁石部７２１及び第２磁石部７２２から第３磁石部７２３に向かう方向又はその逆方向に形成される。

よって、第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂの近傍に形成される磁場は、左右方向又は左右の対角線方向に形成される。

その結果、これらの磁場により各固定接触子２２０ａ、２２０ｂの近傍に発生する電磁力は、中心部Ｃから遠ざかる方向に形成される。よって、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

（４）本発明のさらに他の実施形態によるアーク経路形成部８００により形成されるアークの経路Ａ．Ｐについての説明
図２６～図２９には、本発明のさらに他の実施形態によるアーク経路形成部８００においてアークの経路Ａ．Ｐが形成された状態を示す。

図２６の（ａ）、図２７の（ａ）、図２８の（ａ）及び図２９の（ａ）における電流の通電方向は、電流が第２固定接触子２２０ｂに流入し、可動接触子４３０を経て、第１固定接触子２２０ａから流出する方向である。

また、図２６の（ｂ）、図２７の（ｂ）、図２８の（ｂ）及び図２９の（ｂ）における電流の通電方向は、電流が第１固定接触子２２０ａに流入し、可動接触子４３０を経て、第２固定接触子２２０ｂから流出する方向である。

図２６に示すように、第１対向面８２１ａは、Ｎ極に磁化される。また、第２対向面８２２ａ及び第３対向面８２３ａは、Ｓ極に磁化される。

第１磁石部８２１及び第２磁石部８２２により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１４の実施形態と同様である。

よって、図２６の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方右側に向かうように形成される。

同様に、図２６の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方左側に向かうように形成される。

第１磁石部８２１及び第３磁石部８２３により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１４の実施形態と同様である。

よって、図２６の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方左側に向かうように形成される。

同様に、図２６の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方右側に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

図２７に示すように、第１対向面８２１ａは、Ｓ極に磁化される。また、第２対向面８２２ａ及び第３対向面８２３ａは、Ｎ極に磁化される。

第１磁石部８２１及び第２磁石部８２２により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１５の実施形態と同様である。

よって、図２７の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方左側に向かうように形成される。

同様に、図２７の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方右側に向かうように形成される。

第１磁石部８２１及び第３磁石部８２３により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１５の実施形態と同様である。

よって、図２７の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方右側に向かうように形成される。

同様に、図２７の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方左側に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

図２８に示すように、第１対向面８２１ａは、Ｎ極に磁化される。また、第２対向面８２２ａ及び第３対向面８２３ａは、Ｓ極に磁化される。

第１磁石部８２１及び第２磁石部８２２により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１６の実施形態と同様である。

よって、図２８の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方左側に向かうように形成される。

同様に、図２８の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方右側に向かうように形成される。

第１磁石部８２１及び第３磁石部８２３により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１６の実施形態と同様である。

よって、図２８の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方右側に向かうように形成される。

同様に、図２８の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方左側に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

図２９に示すように、第１対向面８２１ａは、Ｓ極に磁化される。また、第２対向面８２２ａ及び第３対向面８２３ａは、Ｎ極に磁化される。

第１磁石部８２１及び第２磁石部８２２により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１７の実施形態と同様である。

よって、図２９の（ａ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に後方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方右側に向かうように形成される。

同様に、図２９の（ｂ）に示す実施形態において、第１固定接触子２２０ａの近傍に前方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方左側に向かうように形成される。

第１磁石部８２１及び第３磁石部８２３により主磁場Ｍ．Ｍ．Ｆ及び副磁場Ｓ．Ｍ．Ｆが形成される過程及び方向は、前述した図１７の実施形態と同様である。

よって、図２９の（ａ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に後方左側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って後方左側に向かうように形成される。

同様に、図２９の（ｂ）に示す実施形態において、第２固定接触子２２０ｂの近傍に前方右側に向かう方向の電磁力が発生する。アークの経路Ａ．Ｐは、前記電磁力の方向に沿って前方右側に向かうように形成される。

よって、発生したアークの経路Ａ．Ｐは、中心部Ｃに向かわない。その結果、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

本実施形態において、第１磁石部８２１は、第２磁石部８２２や第３磁石部８２３より長く延設される。また、第２磁石部８２２と第３磁石部８２３は、所定距離（Ｄ３）だけ離隔されて配置される。

第２磁石部８２２と第３磁石部８２３の離隔距離Ｄ３は、第１磁石部８２１と第２磁石部８２２の離隔距離Ｄ１や第１磁石部８２１と第３磁石部８２３の離隔距離Ｄ２より長く形成される。

また、第１磁石部８２１と第２磁石部８２２の離隔距離Ｄ１と、第１磁石部８２１と第３磁石部８２３の離隔距離Ｄ２とは、同一である。

すなわち、第２磁石部８２２と第３磁石部８２３は、その離隔距離Ｄ３が最大となるように配置される。

また、第１対向面８２１ａは、第２対向面８２２ａ及び第３対向面８２３ａとは異なる極性になるように構成される。よって、磁場は、第１磁石部８２１から第２磁石部８２２及び第３磁石部８２３に向かう方向又はその逆方向に形成される。

よって、第１固定接触子２２０ａ及び第２固定接触子２２０ｂの近傍に形成される磁場は、左右の対角線方向に形成される。

その結果、これらの磁場により各固定接触子２２０ａ、２２０ｂの近傍に発生する電磁力は、中心部Ｃから遠ざかる方向に形成される。よって、中心部Ｃに配置される構成要素の損傷が防止される。

前述した本発明の各実施形態によるアーク経路形成部５００、６００、７００、８００は、磁場を形成する。前記磁場により、電磁力は、中心部Ｃから遠ざかる方向に形成される。

固定接触子２２０と可動接触子４３０が離隔されることにより発生したアークは、前記電磁力により形成されるアークの経路Ａ．Ｐに沿って移動する。よって、発生したアークは、中心部Ｃから遠ざかる方向に移動する。

よって、中心部Ｃに配置される直流リレー１０の様々な構成要素が発生したアークにより損傷することが防止される。

以上、本発明の好ましい実施形態を挙げて説明したが、当該技術分野における通常の知識を有する者であれば、請求の範囲に記載される本発明の思想及び領域から逸脱しない範囲で本発明の様々な修正及び変更が可能であることを理解するであろう。

１０ 直流リレー
１００ フレーム部
１１０ 上部フレーム
１２０ 下部フレーム
１３０ 絶縁プレート
１４０ 支持プレート
２００ 開閉部
２１０ アークチャンバ
２２０ 固定接触子
２２０ａ 第１固定接触子
２２０ｂ 第２固定接触子
２３０ シール部材
３００ コア部
３１０ 固定コア
３２０ 可動コア
３３０ ヨーク
３４０ ボビン
３５０ コイル
３６０ 復帰スプリング
３７０ シリンダ
４００ 可動接触子部
４１０ ハウジング
４２０ カバー
４３０ 可動接触子
４４０ シャフト
４５０ 弾性部
５００ 本発明の一実施形態によるアーク経路形成部
５１０ 磁石フレーム
５１１ 第１面
５１２ 第２面
５１３ 第３面
５１４ 第４面
５１５ アーク放出孔
５１６ 空間部
５２０ 磁石部
５２１ 第１磁石部
５２１ａ 第１対向面
５２１ｂ 第１反対面
５２２ 第２磁石部
５２２ａ 第２対向面
５２２ｂ 第２反対面
５２３ 第３磁石部
５２３ａ 第３対向面
５２３ｂ 第３反対面
６００ 本発明の他の実施形態によるアーク経路形成部
６１０ 磁石フレーム
６１１ 第１面
６１２ 第２面
６１３ 第３面
６１４ 第４面
６１５ アーク放出孔
６１６ 空間部
６２０ 磁石部
６２１ 第１磁石部
６２１ａ 第１対向面
６２１ｂ 第１反対面
６２２ 第２磁石部
６２２ａ 第２対向面
６２２ｂ 第２反対面
６２３ 第３磁石部
６２３ａ 第３対向面
６２３ｂ 第３反対面
７００ 本発明のさらに他の実施形態によるアーク経路形成部
７１０ 磁石フレーム
７１１ 第１面
７１２ 第２面
７１３ 第３面
７１４ 第４面
７１５ アーク放出孔
７１６ 空間部
７２０ 磁石部
７２１ 第１磁石部
７２１ａ 第１対向面
７２１ｂ 第１反対面
７２２ 第２磁石部
７２２ａ 第２対向面
７２２ｂ 第２反対面
７２３ 第３磁石部
７２３ａ 第３対向面
７２３ｂ 第３反対面
８００ 本発明のさらに他の実施形態によるアーク経路形成部
８１０ 磁石フレーム
８１１ 第１面
８１２ 第２面
８１３ 第３面
８１４ 第４面
８１５ アーク放出孔
８１６ 空間部
８２０ 磁石部
８２１ 第１磁石部
８２１ａ 第１対向面
８２１ｂ 第１反対面
８２２ 第２磁石部
８２２ａ 第２対向面
８２２ｂ 第２反対面
８２３ 第３磁石部
８２３ａ 第３対向面
８２３ｂ 第３反対面
１０００ 従来技術による直流リレー
１１００ 従来技術による固定接点
１２００ 従来技術による可動接点
１３００ 従来技術による永久磁石
１３１０ 従来技術による第１永久磁石
１３２０ 従来技術による第２永久磁石
Ｃ 空間部５１６、６１６、７１６、８１６の中心部
Ｍ．Ｍ．Ｆ 主磁場
Ｓ．Ｍ．Ｆ 副磁場
Ａ．Ｐ アークの経路
Ｄ１ 第１磁石部と第２磁石部間の最短距離
Ｄ２ 第１磁石部と第３磁石部間の最短距離
Ｄ３ 第２磁石部と第３磁石部間の最短距離

Claims (15)

1. 内部に空間が形成され、前記空間を囲む複数の面を有する磁石フレームと、
   前記複数の面に結合され、前記空間に磁場を形成するように構成される磁石部とを含み、
   前記複数の面は、
   一方向に延設される第１面と、
   前記第１面に対向するように配置され、前記一方向に延設される第２面と、
   前記第１面及び前記第２面の前記延設方向の各一端部と各他端部間でそれぞれ前記第１面及び前記第２面と所定の角度をなして延び、互いに対向するように配置される第３面及び第４面とを含み、
   前記磁石部は、
   前記第１面及び前記第２面のいずれか一方の面に位置する第１磁石部と、
   前記第３面及び前記第４面のいずれか一方の面に位置する第２磁石部と、
   前記第１面及び前記第２面の他方の面、又は前記第３面及び前記第４面の他方の面に位置する第３磁石部とを含み、
   前記第１面及び前記第２面の前記他方の面に対向する前記第１磁石部の第１対向面は、
   前記第１面及び前記第２面の前記いずれか一方の面に対向する前記第２磁石部の第２対向面、及び前記第３磁石部の第３対向面の少なくとも１つの面とは異なる極性（polarity）になるように構成される、
   アーク経路形成部。
2. 前記第１磁石部、前記第２磁石部及び前記第３磁石部は、それぞれ一方向に延設され、
   前記第１磁石部の前記延設長さは、前記第２磁石部や前記第３磁石部の延設長さより長く形成される、
   請求項１に記載のアーク経路形成部。
3. 前記第２磁石部と前記第３磁石部間の最短距離は、
   前記第１磁石部と前記第２磁石部間の最短距離や前記第１磁石部と前記第３磁石部間の最短距離より長く形成される、
   請求項２に記載のアーク経路形成部。
4. 前記第１磁石部は、前記第１面に配置され、
   前記第２磁石部は、前記第３面及び前記第４面のいずれか一方の面に配置され、
   前記第３磁石部は、前記第２面に配置される、
   請求項２に記載のアーク経路形成部。
5. 前記第２磁石部は、前記第３面に配置され、
   前記第３磁石部は、前記第４面に隣接して配置され、
   前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、
   前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の前記第３対向面は、Ｓ極になるように構成される、
   請求項４に記載のアーク経路形成部。
6. 前記第２磁石部は、前記第４面に配置され、
   前記第３磁石部は、前記第３面に隣接して配置され、
   前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、
   前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の前記第３対向面は、Ｓ極になるように構成される、
   請求項４に記載のアーク経路形成部。
7. 前記第１磁石部は、前記第１面に配置され、
   前記第２磁石部は、前記第３面及び前記第４面のいずれか一方の面に配置され、
   前記第３磁石部は、前記第３面及び前記第４面の他方の面に配置される、
   請求項２に記載のアーク経路形成部。
8. 前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、
   前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の第３対向面のいずれか一方はＮ極になり、他方はＳ極になるように構成される、
   請求項７に記載のアーク経路形成部。
9. 前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、
   前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の第３対向面は、Ｓ極になるように構成される、
   請求項７に記載のアーク経路形成部。
10. 一方向に延設される固定接触子と、
    前記固定接触子に接離するように構成される可動接触子と、
    内部に前記固定接触子及び前記可動接触子が収容される空間が形成され、前記空間に磁場が形成され、前記固定接触子と前記可動接触子が離隔されることにより発生するアークの放出経路を形成するように構成されるアーク経路形成部とを含み、
    前記アーク経路形成部は、
    内部に空間が形成され、前記空間を囲む複数の面を有する磁石フレームと、
    前記複数の面に結合され、前記空間に磁場を形成するように構成される磁石部とを含み、
    前記複数の面は、
    一方向に延設される第１面と、
    前記第１面に対向するように配置され、前記一方向に延設される第２面と、
    前記第１面及び前記第２面の前記延設方向の各一端部と各他端部間でそれぞれ前記第１面及び前記第２面と所定の角度をなして延び、互いに対向する第３面及び第４面とを含み、
    前記磁石部は、
    前記第１面及び前記第２面のいずれか一方の面に位置する第１磁石部と、
    前記第３面及び前記第４面のいずれか一方の面に位置する第２磁石部と、
    前記第１面及び前記第２面の他方の面、又は前記第３面及び前記第４面の他方の面に位置する第３磁石部とを含み、
    前記第１面及び前記第２面の前記他方の面に対向する前記第１磁石部の第１対向面は、
    前記第１面及び前記第２面の前記いずれか一方の面に対向する前記第２磁石部の第２対向面、及び前記第３磁石部の第３対向面の少なくとも１つの面とは異なる極性になるように構成される、
    直流リレー。
11. 前記第１磁石部、前記第２磁石部及び前記第３磁石部は、それぞれ一方向に延設され、
    前記第１磁石部の前記延設長さは、前記第２磁石部や前記第３磁石部の延設長さより長く形成され、
    前記第２磁石部と前記第３磁石部間の最短距離は、
    前記第１磁石部と前記第２磁石部間の最短距離や前記第１磁石部と前記第３磁石部間の最短距離より長く形成される、
    請求項１０に記載の直流リレー。
12. 前記第１磁石部は、前記第１面に配置され、
    前記第２磁石部は、前記第３面に配置され、
    前記第３磁石部は、前記第４面に隣接して配置され、
    前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、
    前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の前記第３対向面は、Ｓ極になるように構成される、
    請求項１１に記載の直流リレー。
13. 前記第１磁石部は、前記第１面に配置され、
    前記第２磁石部は、前記第４面に配置され、
    前記第３磁石部は、前記第３面に隣接して配置され、
    前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、
    前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の前記第３対向面は、Ｓ極になるように構成される、
    請求項１２に記載の直流リレー。
14. 前記第１磁石部は、前記第１面に配置され、
    前記第２磁石部は、前記第３面及び前記第４面のいずれか一方の面に配置され、
    前記第３磁石部は、前記第３面及び前記第４面の他方の面に配置され、
    前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、
    前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の第３対向面のいずれか一方はＮ極になり、他方はＳ極になるように構成される、
    請求項１２に記載の直流リレー。
15. 前記第１磁石部は、前記第１面に配置され、
    前記第２磁石部は、前記第３面及び前記第４面のいずれか一方の面に配置され、
    前記第３磁石部は、前記第３面及び前記第４面の他方の面に配置され、
    前記第１磁石部の前記第１対向面は、Ｎ極になるように構成され、
    前記第２磁石部の前記第２対向面、及び前記第３磁石部の第３対向面は、Ｓ極になるように構成される、
    請求項１２に記載の直流リレー。
    

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