JP2022540691A - 回折格子を加工する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、その内容が、参照することによってその全体として本明細書に組み込まれる、2019年7月19日に出願され、「METHOD OF FABRICATING DIFFRACTION GRATINGS」と題された、米国仮出願第62/876,241号の優先権の利益を主張する。
(参照による組み込み)
現代のコンピューティングおよびディスプレイ技術は、いわゆる「仮想現実」または「拡張現実」体験のためのシステムの開発を促進しており、デジタル的に再現された画像またはその一部が、現実であるように見える、またはそのように知覚され得る様式で、ユーザに提示される。仮想現実、すなわち、「VR」シナリオは、典型的には、他の実際の実世界の視覚的入力に対する透過性を伴わずに、デジタルまたは仮想画像情報の提示を伴い、拡張現実、すなわち、「AR」シナリオは、典型的には、ユーザの周囲の実際の世界の可視化に対する拡張としてのデジタルまたは仮想画像情報の提示を伴う。複合現実、すなわち、「MR」シナリオは、あるタイプのARシナリオであり、典型的には、自然世界の中に統合され、それに応答する、仮想オブジェクトを伴う。例えば、MRシナリオでは、AR画像コンテンツが、実世界内のオブジェクトによって遮断される、または別様にそれと相互作用するものとして知覚され得る。
ARシステムは、依然として、ユーザにその周囲の世界が見えることを可能にしながら、仮想コンテンツをユーザまたは視認者に表示し得る。好ましくは、本コンテンツは、例えば、画像情報をユーザの眼に投影する、アイウェアの一部としての、頭部搭載型ディスプレイ上に表示される。加えて、ディスプレイはまた、周囲環境からの光をユーザの眼に透過させ、その周囲環境のビューを可能にし得る。本明細書で使用されるように、「頭部搭載型」または「頭部搭載可能」ディスプレイは、視認者またはユーザの頭部上に搭載され得る、ディスプレイであることを理解されたい。
(ブレーズド格子を備える光学要素と統合された導波管)
(マスタテンプレートを使用したブレーズド格子構造の加工)
(ブレーズドパターンをマスタテンプレート基板上にインプリントするための一次マスタテンプレートの加工)
(インプリントされたブレーズド回折パターンを部分的ドライエッチングマスクとして使用して、デバイスマスタテンプレート基板エッチングする、デバイスマスタテンプレートの加工)
(インプリントされたブレーズド回折パターンをコーティングすることによる、デバイスマスタテンプレートの加工)
(インプリントすることによって加工されるデバイスマスタテンプレートを使用して加工される、ブレーズド回折格子構造)
(付加的実施例)
(実施例1)
ブレーズド回折格子を加工する方法であって、
マスタテンプレート基板を提供するステップと、
周期的に繰り返される線を複数のマスタテンプレート領域内においてマスタテンプレート基板上にインプリントするステップであって、マスタテンプレート領域の異なるもの内の周期的に繰り返される線は、異なる方向に延在する、ステップと、
マスタテンプレート領域のうちの少なくとも1つをマスタテンプレートとして使用して、少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンを格子基板上にインプリントするステップと、
を含む、方法。
(実施例2)
マスタテンプレート領域の異なるもの内の周期的に繰り返される線は、非直交方向に延在する、実施例1に記載の方法。
(実施例3)
マスタテンプレート領域の隣接するもの内の周期的に繰り返される線は、ゼロ~90度の角度を形成する、方向に延在する、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例4)
マスタテンプレート領域の異なるもの内の周期的に繰り返される線は、マスタテンプレート基板の中心軸に対して異なる半径方向に延在する、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例5)
周期的に繰り返される線をマスタテンプレート基板上にインプリントするステップは、少なくとも4つのマスタテンプレート領域内にインプリントするステップを含む、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例6)
周期的に繰り返される線をインプリントするステップは、マスタテンプレート基板のシリコン表面にわたってインプリントするステップを含む、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例7)
周期的に繰り返される線をインプリントするステップは、マスタテンプレート基板の酸化ケイ素表面にわたってインプリントするステップを含む、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例8)
周期的に繰り返される線をマスタテンプレート基板上にインプリントするステップは、同一一次マスタテンプレートを使用して、複数のマスタテンプレート領域の異なるもの内に順次インプリントするステップを含む、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例9)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、鋸歯プロファイルを有する、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例10)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、マスタテンプレート基板の平面に対して類似角度を形成する、対称対向側表面を備える、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例11)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、マスタテンプレート基板の平面に対して異なる角度を形成する、非対称対向側表面を備える、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例12)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、マスタテンプレート基板の主要表面平面に対して異なる傾きを有する、対向側表面を備える、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例13)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、段状構造を有する、側表面を備える、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例14)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、ポリマー材料を含む、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例15)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、誘電材料を含む、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例16)
マスタテンプレート基板上に形成される周期的に繰り返される線を誘電材料でコーティングするステップをさらに含む、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例17)
マスタテンプレート基板上に形成される周期的に繰り返される線を金属酸化物または金属窒化物でコーティングするステップをさらに含む、実施例1-15のいずれか1項に記載の方法。
(実施例18)
マスタテンプレート基板上に形成される周期的に繰り返される線を金属または金属合金でコーティングするステップをさらに含む、実施例1-15のいずれか1項に記載の方法。
(実施例19)
周期的に繰り返される線に対応するパターンをマスタテンプレート基板の中に転写するステップをさらに含む、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例20)
パターンを転写するステップは、周期的に繰り返される線を部分的マスクとして使用して、マスタテンプレート基板をドライエッチングするステップを含む、実施例19に記載の方法。
(実施例21)
ドライエッチングするステップは、マスタテンプレート領域を局所的にドライエッチングするステップを含む、実施例20に記載の方法。
(実施例22)
周期的に繰り返される線をインプリントするステップは、一次マスタ基板上に形成される、周期的に繰り返される線を備える、一次マスタテンプレートを使用して、インプリントするステップを含む、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例23)
一次マスタ基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、鋸歯プロファイルを有する、実施例22に記載の方法。
(実施例24)
一次マスタ基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、非対称的に配向される側表面を備える、実施例22または23に記載の方法。
(実施例25)
一次マスタ基板は、シリコン基板を備える、実施例22または24に記載の方法。
(実施例26)
一次マスタ基板は、(311)結晶配向を有する、主要表面を備える、シリコン基板である、実施例22-25のいずれか1項に記載の方法。
(実施例27)
一次マスタ基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、(111)結晶配向を有する、ファセットを備える、実施例26に記載の方法。
(実施例28)
シリコン基板をリソグラフィ的にパターン化およびエッチングすることによって、一次マスタテンプレートを形成するステップをさらに含む、実施例25-27のいずれか1項に記載の方法。
(実施例29)
シリコン基板をエッチングするステップは、ウェットエッチングを含む、実施例28に記載の方法。
(実施例30)
一次マスタ基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、誘電材料でコーティングされたポリマー材料を含む、実施例22または23に記載の方法。
(実施例31)
格子基板は、透明基板である、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例32)
格子基板は、約1.4を上回る屈折率を有する、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例33)
格子基板は、導波管を備える、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例34)
ブレーズド回折格子は、光を導波管の中に内部結合するように構成される、内部結合格子を備える、実施例33に記載の方法。
(実施例35)
ブレーズド回折格子は、光を導波管から外部結合するように構成される、外部結合格子を備える、実施例33に記載の方法。
(実施例36)
ブレーズド回折格子は、光を分散させ、導波管内で外部結合要素に向かって伝搬するように構成される、光分散要素を備える、実施例33に記載の方法。
(実施例37)
ブレーズド回折格子は、光を分散させ、導波管内で伝搬するように構成され、さらに、光を導波管から外部結合するように構成される、組み合わせられた外部結合格子および光分散要素としての役割を果たす、実施例33に記載の方法。
(実施例38)
ブレーズド回折格子パターンは、光の少なくとも1つの偏光のために50%を上回る一次回折効率を有するように構成される、幾何学形状を有する、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例39)
少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンをインプリントするステップは、同時に、2つ以上のブレーズド回折格子パターンをインプリントするステップを含む、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例40)
少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンは、複数の直線を備える、先行実施例のいずれか1項に記載の方法。
(実施例41)
少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンは、複数の不連続的な線を備える、実施例1-39のいずれか1項に記載の方法。
(実施例42)
少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンは、格子基板の表面から突出する、複数の柱を備える、実施例1-39のいずれか1項に記載の方法。
(実施例43)
少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンは、複数の直線を備え、直線のうちの少なくともいくつかは、異なる幅を有する、実施例1-39のいずれか1項に記載の方法。
(実施例44)
少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンは、1つの側方方向に周期性を有する1次元(1D)アレイとして配列される、回折特徴を備える、実施例1-39のいずれか1項に記載の方法。
(実施例45)
1Dアレイは、光を優先的に1つの方向に回折するように構成される、1D格子としての役割を果たす、実施例44に記載の方法。
(実施例46)
少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンは、2つの側方方向に周期性を有する2次元(2D)アレイとして配列される、回折特徴を備える、実施例1-39のいずれか1項に記載の方法。
(実施例47)
2Dアレイは、光を優先的に2つの方向に回折するように構成される、2D格子としての役割を果たす、実施例46に記載の方法。
(実施例48)
2Dアレイは、同一数の回折特徴を2つの異なる側方方向に備える、実施例46に記載の方法。
(実施例49)
ブレーズド回折格子をインプリントするためのマスタテンプレートを加工する方法であって、
マスタテンプレート基板を提供するステップと、
一次マスタ基板上に形成される、周期的に繰り返される線を備える、一次マスタテンプレートを提供するステップと、
複数のマスタテンプレート領域内において一次マスタテンプレートを使用して、周期的に繰り返される線をマスタテンプレート基板上にインプリントするステップであって、マスタテンプレート領域の異なるもの内の周期的に繰り返される線は、異なる方向に延在する、ステップと、
を含む、方法。
(実施例50)
一次マスタ基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、鋸歯プロファイルを有する、実施例40に記載の方法。
(実施例51)
一次マスタ基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、非対称的に配向される側表面を備える、実施例40または50に記載の方法。
(実施例52)
一次マスタ基板は、(311)結晶配向を有する、主要表面を備える、シリコン基板である、実施例40-51のいずれか1項に記載の方法。
(実施例53)
一次マスタ基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、(111)結晶配向を有する、ファセットを備える、実施例52に記載の方法。
(実施例54)
一次マスタテンプレートを提供するステップは、周期的に繰り返される線をシリコン基板内にリソグラフィ的にパターン化およびエッチングするステップを含む、実施例40-53のいずれか1項に記載の方法。
(実施例55)
シリコン基板をエッチングするステップは、ウェットエッチングを含む、実施例54に記載の方法。
(実施例56)
一次マスタテンプレートを提供するステップは、ポリマー材料を含む、周期的に繰り返される線を形成するステップと、周期的に繰り返される線を誘電材料でコーティングするステップとを含む、実施例40-51のいずれか1項に記載の方法。
(実施例57)
マスタテンプレート領域の異なるもの内の周期的に繰り返される線は、非直交方向に延在する、実施例40-56のいずれか1項に記載の方法。
(実施例58)
マスタテンプレート領域の異なるもの内の周期的に繰り返される線は、マスタテンプレート基板の中心軸に対して半径方向に対称方向に延在する、実施例40-57のいずれか1項に記載の方法。
(実施例59)
周期的に繰り返される線をマスタテンプレート基板上にインプリントするステップは、少なくとも4つのマスタテンプレート領域内にインプリントするステップを含む、実施例40-58のいずれか1項に記載の方法。
(実施例60)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、鋸歯プロファイルを有する、実施例40-59のいずれか1項に記載の方法。
(実施例61)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、マスタテンプレート基板の平面に対して類似角度を形成する、対称対向側表面を備える、実施例49-60のいずれか1項に記載の方法。
(実施例62)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、マスタテンプレート基板の平面に対して異なる角度を形成する、非対称対向側表面を備える、実施例40-60のいずれか1項に記載の方法。
(実施例63)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、マスタテンプレート基板の主要表面平面に対して異なる傾きを有する、対向側表面を備える、実施例40-61のいずれか1項に記載の方法。
(実施例64)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、段状構造を有する、側表面を備える、実施例40-63のいずれか1項に記載の方法。
(実施例65)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、ポリマー材料を含む、実施例40-64のいずれか1項に記載の方法。
(実施例66)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、誘電材料を含む、実施例40-65のいずれか1項に記載の方法。
(実施例67)
マスタテンプレート基板上に形成される周期的に繰り返される線を誘電材料でコーティングするステップをさらに含む、実施例40-66のいずれか1項に記載の方法。
(実施例68)
マスタテンプレート基板上に形成される周期的に繰り返される線を金属酸化物または金属窒化物でコーティングするステップをさらに含む、実施例40-66のいずれか1項に記載の方法。
(実施例69)
マスタテンプレート基板上に形成される周期的に繰り返される線を金属または金属合金でコーティングするステップをさらに含む、実施例40-66のいずれか1項に記載の方法。
(実施例70)
周期的に繰り返される線に対応するパターンをマスタテンプレート基板の中に転写するステップをさらに含む、実施例49-69のいずれか1項に記載の方法。
(実施例71)
パターンを転写するステップは、マスタテンプレート基板をドライエッチングするステップを含む、実施例70に記載の方法。
(実施例72)
ドライエッチングするステップは、マスタテンプレート領域を局所的にドライエッチングするステップを含む、実施例71に記載の方法。
(実施例73)
マスタテンプレート領域は、光を導波管の中に内部結合するように構成される、内部結合格子を備える、ブレーズド回折格子をインプリントするために構成される、実施例49-72のいずれか1項に記載の方法。
(実施例74)
マスタテンプレート領域は、光を導波管から外部結合するように構成される、外部結合格子を備える、ブレーズド回折格子をインプリントするために構成される、実施例49-72のいずれか1項に記載の方法。
(実施例75)
マスタテンプレート領域は、光を分散させ、導波管内で外部結合要素に向かって伝搬するように構成される、光分散要素を備える、ブレーズド回折格子をインプリントするために構成される、実施例49-72のいずれか1項に記載の方法。
(実施例76)
マスタテンプレート領域は、光を分散させ、導波管内で伝搬するように構成され、さらに、光を導波管から外部結合するように構成される、組み合わせられた外部結合格子および光分散要素としての役割を果たす、ブレーズド回折格子をインプリントするために構成される、実施例49-72のいずれか1項に記載の方法。
(実施例77)
マスタテンプレート領域は、複数の直線を備える、ブレーズド回折格子をインプリントするために構成される、実施例49-72のいずれか1項に記載の方法。
(実施例78)
マスタテンプレート領域は、複数の不連続的な線を備える、ブレーズド回折格子をインプリントするために構成される、実施例49-72のいずれか1項に記載の方法。
(実施例79)
マスタテンプレート領域は、格子基板の表面から突出する、複数の柱を備える、ブレーズド回折格子をインプリントするために構成される、実施例49-72のいずれか1項に記載の方法。
(実施例80)
マスタテンプレート領域は、複数の直線を備える、ブレーズド回折格子をインプリントするために構成され、直線のうちの少なくともいくつかは、異なる幅を有する、実施例49-72のいずれか1項に記載の方法。
(実施例81)
マスタテンプレート領域は、1つの側方方向に周期性を有する1次元(1D)アレイとして配列される、回折特徴を備える、ブレーズド回折格子をインプリントするために構成される、実施例49-72のいずれか1項に記載の方法。
(実施例82)
1Dアレイは、光を優先的に1つの方向に回折するように構成される、1D格子としての役割を果たす、実施例81に記載の方法。
(実施例83)
マスタテンプレート領域は、2つの側方方向に周期性を有する2次元(2D)アレイとして配列される、回折特徴を備える、ブレーズド回折格子をインプリントするために構成される、実施例49-72のいずれか1項に記載の方法。
(実施例84)
2Dアレイは、光を優先的に2つの方向に回折するように構成される、2D格子としての役割を果たす、実施例83に記載の方法。
(実施例85)
2Dアレイは、同一数の回折特徴を2つの異なる側方方向に備える、実施例83に記載の方法。
(実施例86)
回折格子を加工する方法であって、
マスタテンプレート基板を提供するステップと、
周期的に繰り返される線をマスタテンプレート基板上に1つ以上のマスタテンプレート領域内においてインプリントするステップであって、周期的に繰り返される線は、第1の材料から形成される、ステップと、
周期的に繰り返される線を、第1の材料を上回る硬度を有する、第2の材料でコーティングするステップと、
1つ以上のマスタテンプレート領域をマスタテンプレートとして使用して、1つ以上のブレーズド回折格子パターンを格子基板上にインプリントするステップと、
を含む、方法。
(実施例87)
周期的に繰り返される線をインプリントするステップは、複数のマスタテンプレート領域内にインプリントするステップであって、マスタテンプレート領域の異なるもの内の周期的に繰り返される線は、異なる方向に延在する、ステップを含む、実施例86に記載の方法。
(実施例88)
マスタテンプレート領域の異なるもの内の周期的に繰り返される線は、マスタテンプレート基板の中心軸に対して異なる半径方向に延在する、実施例86または87に記載の方法。
(実施例89)
周期的に繰り返される線をマスタテンプレート基板上にインプリントするステップは、少なくとも4つのマスタテンプレート領域内にインプリントするステップを含む、実施例86-88のいずれか1項に記載の方法。
(実施例90)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、マスタテンプレート基板の平面に対して類似角度を形成する、対称対向側表面を備える、実施例86-89のいずれか1項に記載の方法。
(実施例91)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、マスタテンプレート基板の平面に対して異なる角度を形成する、非対称対向側表面を備える、実施例86-89のいずれか1項に記載の方法。
(実施例92)
マスタテンプレート上に形成される、周期的に繰り返される線は、ポリマー材料を含む、実施例86-91のいずれか1項に記載の方法。
(実施例93)
マスタテンプレート基板上に形成される、周期的に繰り返される線は、誘電材料を含む、実施例86-91のいずれか1項に記載の方法。
(実施例94)
マスタテンプレート基板上に形成される周期的に繰り返される線を誘電材料でコーティングするステップをさらに含む、実施例86-91のいずれか1項に記載の方法。
(実施例95)
マスタテンプレート基板上に形成される周期的に繰り返される線を金属酸化物または金属窒化物でコーティングするステップをさらに含む、実施例86-91のいずれか1項に記載の方法。
(実施例96)
マスタテンプレート基板上に形成される周期的に繰り返される線を金属または金属合金でコーティングするステップをさらに含む、実施例86-91のいずれか1項に記載の方法。
(実施例97)
ブレーズド回折格子は、光を導波管から外部結合するように構成される、外部結合格子を備える、実施例86-96のいずれか1項に記載の方法。
(実施例98)
ブレーズド回折格子は、光を分散させ、導波管内で外部結合要素に向かって伝搬するように構成される、光分散要素を備える、実施例86-96のいずれか1項に記載の方法。
(実施例99)
ブレーズド回折格子は、光を分散させ、導波管内で伝搬するように構成され、さらに、光を導波管から外部結合するように構成される、組み合わせられた外部結合格子および光分散要素としての役割を果たす、実施例86-96のいずれか1項に記載の方法。
(実施例100)
1つ以上のブレーズド回折格子パターンは、複数の直線を備える、実施例86-99のいずれか1項に記載の方法。
(実施例101)
1つ以上のブレーズド回折格子パターンは、複数の不連続的な線を備える、実施例86-99のいずれか1項に記載の方法。
(実施例102)
1つ以上のブレーズド回折格子パターンは、格子基板の表面から突出する、複数の柱を備える、実施例86-99のいずれか1項に記載の方法。
(実施例103)
1つ以上のブレーズド回折格子パターンは、複数の直線を備え、直線のうちの少なくともいくつかは、異なる幅を有する、実施例86-99のいずれか1項に記載の方法。
(実施例104)
1つ以上のブレーズド回折格子パターンは、1つの側方方向に周期性を有する1次元(1D)アレイとして配列される、回折特徴を備える、実施例86-99のいずれか1項に記載の方法。
(実施例105)
1Dアレイは、光を優先的に1つの方向に回折するように構成される、1D格子としての役割を果たす、実施例104に記載の方法。
(実施例106)
1つ以上のブレーズド回折格子パターンは、2つの側方方向に周期性を有する2次元(2D)アレイとして配列される、回折特徴を備える、実施例86-99のいずれか1項に記載の方法。
(実施例107)
2Dアレイは、光を優先的に2つの方向に回折するように構成される、2D格子としての役割を果たす、実施例106に記載の方法。
(実施例108)
2Dアレイは、同一数の回折特徴を2つの異なる側方方向に備える、実施例106に記載の方法。
(実施例109)
格子基板は、1.9を上回る屈折率を有する、実施例1-48のいずれか1項に記載の方法。
(実施例110)
格子基板は、ZrO2、TiO2、SiC、またはLiベースの酸化物から形成される、実施例1-48のいずれか1項に記載の方法。
(実施例111)
格子基板は、1.9を上回る屈折率を有する、実施例86-108のいずれか1項に記載の方法。
(実施例112)
格子基板は、ZrO2、TiO2、SiC、またはLiベースの酸化物から形成される、実施例86-108のいずれか1項に記載の方法。
(付加的考慮点)
Claims (85)
- ブレーズド回折格子を加工する方法であって、前記方法は、
マスタテンプレート基板を提供することと、
周期的に繰り返される線を複数のマスタテンプレート領域内において前記マスタテンプレート基板上にインプリントすることであって、前記マスタテンプレート領域の異なるもの内の前記周期的に繰り返される線は、異なる方向に延在する、ことと、
前記マスタテンプレート領域のうちの少なくとも1つをマスタテンプレートとして使用して、少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンを格子基板上にインプリントすることと
を含む、方法。 - 前記マスタテンプレート領域の異なるもの内の前記周期的に繰り返される線は、非直交方向に延在する、請求項1に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート領域の隣接するもの内の前記周期的に繰り返される線は、ゼロ~90度の角度を形成する方向に延在する、請求項1に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート領域の異なるもの内の前記周期的に繰り返される線は、前記マスタテンプレート基板の中心軸に対して異なる半径方向に延在する、請求項1に記載の方法。
- 周期的に繰り返される線を前記マスタテンプレート基板上にインプリントすることは、少なくとも4つのマスタテンプレート領域内にインプリントすることを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記周期的に繰り返される線をインプリントすることは、前記マスタテンプレート基板のシリコン表面にわたってインプリントすることを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記周期的に繰り返される線をインプリントすることは、前記マスタテンプレート基板の酸化ケイ素表面にわたってインプリントすることを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記周期的に繰り返される線を前記マスタテンプレート基板上にインプリントすることは、同一一次マスタテンプレートを使用して、前記複数のマスタテンプレート領域の異なるもの内に順次インプリントすることを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、鋸歯プロファイルを有する、請求項1に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、前記マスタテンプレート基板の平面に対して類似角度を形成する対称対向側表面を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、前記マスタテンプレート基板の平面に対して異なる角度を形成する非対称対向側表面を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、前記マスタテンプレート基板の主要表面平面に対して異なる傾きを有する対向側表面を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、段状構造を有する側表面を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、ポリマー材料を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、誘電材料を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線を誘電材料でコーティングすることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線を金属酸化物または金属窒化物でコーティングすることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線を金属または金属合金でコーティングすることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記周期的に繰り返される線に対応するパターンを前記マスタテンプレート基板の中に転写することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記パターンを転写することは、前記周期的に繰り返される線を部分的マスクとして使用して、前記マスタテンプレート基板をドライエッチングすることを含む、請求項19に記載の方法。
- 前記ドライエッチングすることは、前記マスタテンプレート領域を局所的にドライエッチングすることを含む、請求項20に記載の方法。
- 前記周期的に繰り返される線をインプリントすることは、一次マスタ基板上に形成される周期的に繰り返される線を備える一次マスタテンプレートを使用して、インプリントすることを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記一次マスタ基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、鋸歯プロファイルを有する、請求項22に記載の方法。
- 前記一次マスタ基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、非対称的に配向される側表面を備える、請求項22に記載の方法。
- 前記一次マスタ基板は、シリコン基板を備える、請求項22に記載の方法。
- 前記一次マスタ基板は、(311)結晶配向を有する主要表面を備えるシリコン基板である、請求項22に記載の方法。
- 前記一次マスタ基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、(111)結晶配向を有するファセットを備える、請求項26に記載の方法。
- 前記シリコン基板をリソグラフィ的にパターン化およびエッチングすることによって、前記一次マスタテンプレートを形成することをさらに含む、請求項25に記載の方法。
- 前記シリコン基板をエッチングすることは、ウェットエッチングを含む、請求項28に記載の方法。
- 前記一次マスタ基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、誘電材料でコーティングされたポリマー材料を含む、請求項22に記載の方法。
- 前記格子基板は、透明基板である、請求項1に記載の方法。
- 前記格子基板は、約1.4を上回る屈折率を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記格子基板は、導波管を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記ブレーズド回折格子は、光を前記導波管の中に内部結合するように構成される内部結合格子を備える、請求項33に記載の方法。
- 前記ブレーズド回折格子は、光を前記導波管から外部結合するように構成される外部結合格子を備える、請求項33に記載の方法。
- 前記ブレーズド回折格子は、光を分散させ、前記導波管内で外部結合要素に向かって伝搬するように構成される光分散要素を備える、請求項33に記載の方法。
- 前記ブレーズド回折格子は、光を分散させ、前記導波管内で伝搬するように構成され、さらに、光を前記導波管から外部結合するように構成される組み合わせられた外部結合格子および光分散要素としての役割を果たす、請求項33に記載の方法。
- 前記ブレーズド回折格子パターンは、光の少なくとも1つの偏光のために50%を上回る一次回折効率を有するように構成される幾何学形状を有する、請求項1に記載の方法。
- 少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンをインプリントすることは、同時に、2つ以上のブレーズド回折格子パターンをインプリントすることを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記格子基板は、1.9を上回る屈折率を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記格子基板は、ZrO2、TiO2、SiC、またはLiベースの酸化物から形成される、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンは、複数の直線を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンは、複数の不連続的な線を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンは、前記格子基板の表面から突出する複数の柱を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンは、複数の直線を備え、前記直線のうちの少なくともいくつかは、異なる幅を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンは、1つの側方方向に周期性を有する1次元(1D)アレイとして配列される回折特徴を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記1Dアレイは、光を優先的に1つの方向に回折するように構成される1D格子としての役割を果たす、請求項46に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのブレーズド回折格子パターンは、2つの側方方向に周期性を有する2次元(2D)アレイとして配列される回折特徴を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記2Dアレイは、光を優先的に2つの方向に回折するように構成される2D格子としての役割を果たす、請求項48に記載の方法。
- 前記2Dアレイは、同一数の回折特徴を2つの異なる側方方向に備える、請求項48に記載の方法。
- ブレーズド回折格子をインプリントするためのマスタテンプレートを加工する方法であって、前記方法は、
マスタテンプレート基板を提供することと、
一次マスタ基板上に形成される周期的に繰り返される線を備える一次マスタテンプレートを提供することと、
複数のマスタテンプレート領域内において前記一次マスタテンプレートを使用して、周期的に繰り返される線を前記マスタテンプレート基板上にインプリントすることであって、前記マスタテンプレート領域の異なるもの内の前記周期的に繰り返される線は、異なる方向に延在する、ことと
を含む、方法。 - 前記一次マスタ基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、鋸歯プロファイルを有する、請求項51に記載の方法。
- 前記一次マスタ基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、非対称的に配向される側表面を備える、請求項51に記載の方法。
- 前記一次マスタ基板は、(311)結晶配向を有する主要表面を備えるシリコン基板である、請求項51に記載の方法。
- 前記一次マスタ基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、(111)結晶配向を有するファセットを備える、請求項54に記載の方法。
- 前記一次マスタテンプレートを提供することは、前記周期的に繰り返される線をシリコン基板内にリソグラフィ的にパターン化およびエッチングすることを含む、請求項51に記載の方法。
- 前記シリコン基板をエッチングすることは、ウェットエッチングを含む、請求項56に記載の方法。
- 前記一次マスタテンプレートを提供することは、ポリマー材料を含む前記周期的に繰り返される線を形成することと、前記周期的に繰り返される線を誘電材料でコーティングすることとを含む、請求項51に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート領域の異なるもの内の前記周期的に繰り返される線は、非直交方向に延在する、請求項51に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート領域の異なるもの内の前記周期的に繰り返される線は、前記マスタテンプレート基板の中心軸に対して半径方向に対称方向に延在する、請求項51に記載の方法。
- 周期的に繰り返される線を前記マスタテンプレート基板上にインプリントすることは、少なくとも4つのマスタテンプレート領域内にインプリントすることを含む、請求項51に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、鋸歯プロファイルを有する、請求項51に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、非対称側表面を備える、請求項51に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、前記マスタテンプレート基板の主要表面平面に対して異なる傾きを有する対向側表面を備える、請求項51に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、段状構造を有する側表面を備える、請求項51に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、ポリマー材料を含む、請求項51に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、誘電材料を含む、請求項51に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線を誘電材料でコーティングすることをさらに含む、請求項51に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線を金属酸化物または金属窒化物でコーティングすることをさらに含む、請求項51に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線を金属または金属合金でコーティングすることをさらに含む、請求項51に記載の方法。
- 前記周期的に繰り返される線に対応するパターンを前記マスタテンプレート基板の中に転写することをさらに含む、請求項51に記載の方法。
- 前記パターンを転写することは、前記マスタテンプレート基板をドライエッチングすることを含む、請求項71に記載の方法。
- 前記ドライエッチングすることは、前記マスタテンプレート領域を局所的にドライエッチングすることを含む、請求項72に記載の方法。
- 回折格子を加工する方法であって、前記方法は、
マスタテンプレート基板を提供することと、
周期的に繰り返される線を前記マスタテンプレート基板上に1つ以上のマスタテンプレート領域内においてインプリントすることであって、前記周期的に繰り返される線は、第1の材料から形成される、ことと、
前記周期的に繰り返される線を、前記第1の材料を上回る硬度を有する第2の材料でコーティングすることと、
1つ以上のマスタテンプレート領域をマスタテンプレートとして使用して、1つ以上のブレーズド回折格子パターンを格子基板上にインプリントすることと
を含む、方法。 - 前記周期的に繰り返される線をインプリントすることは、複数のマスタテンプレート領域内にインプリントすることを含み、前記マスタテンプレート領域の異なるもの内の前記周期的に繰り返される線は、異なる方向に延在する、請求項74に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート領域の異なるもの内の前記周期的に繰り返される線は、前記マスタテンプレート基板の中心軸に対して異なる半径方向に延在する、請求項74に記載の方法。
- 周期的に繰り返される線を前記マスタテンプレート基板上にインプリントすることは、少なくとも4つのマスタテンプレート領域内にインプリントすることを含む、請求項74に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、非対称側表面を備える、請求項74に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、ポリマー材料を含む、請求項74に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線は、誘電材料を含む、請求項74に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線を誘電材料でコーティングすることをさらに含む、請求項74に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線を金属酸化物または金属窒化物でコーティングすることをさらに含む、請求項74に記載の方法。
- 前記マスタテンプレート基板上に形成される前記周期的に繰り返される線を金属または金属合金でコーティングすることをさらに含む、請求項74に記載の方法。
- 前記格子基板は、1.9を上回る屈折率を有する、請求項74に記載の方法。
- 前記格子基板は、ZrO2、TiO2、SiC、またはLiベースの酸化物から形成される、請求項74に記載の方法。
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