JP2022536456A - エステティック治療システムおよび方法 - Google Patents

Abstract

【解決手段】多機能エステティックシステムが本明細書で提供され、前記多機能エステティックシステムは、ハウジングと、ハウジングに位置し、１つ以上の電磁放射線（ＥＭＲ）源を有する電磁石アレイと、アレイと電子通信状態にあり、ＥＭＲビームを治療範囲に向けるために１つ以上のＥＭＲ源を操作する制御装置と、定められたパラメータに基づいて制御装置にフィードバックをもたらし、制御装置がフィードバックに対して多機能システムの少なくとも１つの操作条件を調整することができるように制御装置と電子通信状態にある１つ以上のセンサと、を含む。【選択図】図２０

Description

関連出願の相互参照
本出願は、双方の出願に共通のすべての主題について、２０１９年６月１３日に出願された同時継続出願中の米国仮特許出願第６２／８６１，２９３号の優先権およびその利益を主張するものである。該仮特許出願の開示は、全体が参照により本明細書に組み込まれる。

本開示は概して、エステティック治療システムに関し、特に、多機能エステティック治療システムに関する。

レーザは、１９７０年代に市販されてから、医療処置に応用されてきた。概して、エステティックレーザは、例えば、皮膚の治療やボディスカルピングなどの侵襲的エステティック治療、低侵襲的エステティック治療および非侵襲的エステティック治療に使用される。しかし、広範囲の波長および出力レベルによって、５０を超える異なる治療プロトコルが普及している。従来、単一のレーザシステムは、単一の医療装置にパッケージングされている。よって、従来、エステティック治療者は、様々な処置を行うために多数のレーザエスティック治療システムを必要とする場合がある。例えば、一部の医師は、例えば、スキンアブレーション／スキンピーリング、しわ減少、色素沈着過剰、酒さ、にきび、ほくろ除去、スキントーニング、静脈治療、ボディスカルピング、脱毛、刺青除去などの異なる治療プロトコルを必要とする処置を行うために４、５、６、７または１５以上のレーザエステティックシステムを必要とする場合がある。

従来のエステティックレーザシステムは低性能で、大型電源および冷却システムを必要とする。例えば、いくつかの従来のレーザエステティックシステムは、しばしば重さが１００ポンド超である大型フラッシュランプ励起レーザを内蔵している。ダイオード励起固体レーザはより高効率かつ幾分小型であるが、高価であり、保守点検面の課題を有している。ダイレクトダイオードレーザは高性能かつ潜在的に低コストであるが、高アンペア数の電源の必要、冷却、およびビーム品質の悪さにより、その応用に制限がある。

一実施形態では、多機能エステティックシステムが提供される。システムは、ハウジングを含む。システムはまた、電磁石アレイを含み、電磁石アレイは、ハウジングの中に位置し、１つ以上の電磁放射線（ＥＭＲ）源を有し、各ＥＭＲ源は、別のＥＭＲ源が存在する場合は別のＥＭＲ源によって生成されるＥＭＲビームのものと異なる波長を有するＥＭＲビームを生成するように構成される。システムはまた、制御装置を含み、制御装置は、アレイと電子通信状態にあり、ＥＭＲビームを治療範囲に向けるために１つ以上のＥＭＲ源を操作する。システムはまた、１つ以上のセンサを含み、センサは、制御装置と電子通信状態にあり、定められたパラメータに基づいて制御装置にフィードバックをもたらし、制御装置は、フィードバックに応じて多機能システムの少なくとも１つの操作条件を調整することができる。

いくつかの実施形態では、ハウジングは、持ち運び可能に設計される。いくつかの実施形態では、１つ以上のＥＭＲ源は、アレイ内でモジュール式に交換可能であり、１つ以上のＥＭＲ源によって生成される波長のカスタマイズまたは組み合わせをもたらす。いくつかの実施形態では、１つ以上のＥＭＲ源の各々は、赤外線の波長、可視光の波長または紫外線の波長のうちの１つを有するＥＭＲビームを生成するように構成される。いくつかの実施形態では、２つ以上のＥＭＲ源からＥＭＲビームを放射するために、制御装置は、２つ以上のＥＭＲ源を同時、順次、または交互のパターンで操作するように構成される。いくつかの実施形態では、制御装置は、少なくとも１つの操作条件を調整するように構成される。いくつかの実施形態では、制御装置は、治療範囲に当たる冷却用気流の流量、治療範囲に当たる冷却用気流の温度、治療範囲と治療範囲に冷却用気流を向ける機器との間の間隔、ＥＭＲビームの出力、治療範囲に対するＥＭＲビームの走査速度、またはそれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを調整するように構成される。いくつかの実施形態では、１つ以上のセンサは、温度センサを含み、フィードバックは、治療範囲の皮膚（もしくは治療表面）の温度または治療範囲の近くの皮膚（もしくは治療表面）の温度を示す温度データを含み、ここで、少なくとも１つの調整される操作条件は、放射されるＥＭＲビーム出力である。いくつかの実施形態では、センサは、温度センサを含み、フィードバックは、治療範囲の温度または治療範囲の近くの温度を示す温度データを含み、ここで、少なくとも１つの調整される操作条件は、治療範囲に向けられる冷却用気流の流量である。いくつかの実施形態では、センサは、温度センサを含み、フィードバックは、治療範囲の温度を示す温度データを含み、ここで、少なくとも１つの調整される操作条件は、治療範囲と治療範囲に冷却用気流を向ける機器との間の間隔である。いくつかの実施形態では、センサは、治療範囲に接触することなくフィードバックをもたらすように構成される。いくつかの実施形態では、センサは、近接センサを含み、フィードバックは、治療範囲からのヘッドの距離を含み、ここで、調整される操作条件は、治療範囲とヘッドとの間の間隔である。いくつかの実施形態では、皮膚温度は、皮膚を通る熱流束などの情報を含むモデルを使用して、皮下領域の温度を計算するために使用される。

いくつかの実施形態では、システムはまた、ＥＭＲを治療範囲に向けるＥＭＲ経路を含む。いくつかの実施形態では、経路はまた、２つ以上の光学的に分離した出力ファイバを含み、２つ以上の異なる波長によって同時または順次に目的とする範囲を照らすことが可能になる。いくつかの実施形態では、システムはまた、経路に光学的に係合した装置を含み、ＥＭＲビームを治療範囲に向けるために、経路から受光されるＥＭＲビームを変更する。いくつかの実施形態では、装置はまた、光学素子を含み、ＥＭＲビームを拡大した治療範囲に向けるために、ＥＭＲビームを拡大する。いくつかの実施形態では、装置はまた、拡大されたビームの焦点を合わせるフレネルレンズまたは同様のレンズを含み、それによって、治療範囲の下にある表面下の治療領域でＥＭＲビームが拡大されるのを防ぐか、あるいは最小限に抑える。いくつかの実施形態では、装置はまた、経路と複数の出力ビームを生成する装置との間に光学的に係合したビームスプリッタを含み、ここで、複数の出力ビームは、装置によって放射されて、治療範囲に別々に入射し、そして、治療範囲の下で予め定められた距離で完全にまたは部分的に重ね合わせて、あるいは重ね合わせずに、表面下の治療領域を治療する。いくつかの実施形態では、装置は、ＥＭＲ経路の複数の光学的に別々の部分に光学的に係合して、複数の出力ビームを生成し、ここで、複数の出力ビームは、装置によって放射され、治療範囲に別々に入射するか、あるいは、治療範囲の下で予め定められた距離で部分的にまたは完全に重ね合わさって、表面下の治療領域を治療する。いくつかの実施形態では、アレイはまた、少なくとも２つのＥＭＲ源を含み、各ＥＭＲ源は、同じ波長を有するＥＭＲビームを生成するように構成され、ＥＭＲビームは、経路の光学的に別々の部分によって装置に向けられる。いくつかの実施形態では、装置は、治療範囲に関連したフィードバックをもたらす１つ以上のセンサに係合する。いくつかの実施形態では、装置は、ＥＭＲビームを妨げることなく、冷却用気流を治療範囲に向けるように構成される。いくつかの実施形態では、装置は、ＥＭＲビームを治療範囲に向け、冷却用気流を治療範囲に向け、そして、治療範囲に接触することなく、センサによる治療範囲に関連したフィードバックをもたらすように構成される。いくつかの実施形態では、システムはまた、第１の端部がハウジングに係合され、第２の端部が装置に係合された機器を含み、ＥＭＲビームを治療範囲に向けるように装置を位置決めする。いくつかの実施形態では、機器はまた、装置を位置決めするために関節式のアームを含む。いくつかの実施形態では、機器は、機器の移動を指示する信号を制御装置から受信して、治療範囲に対して装置を位置決めするように構成される。いくつかの実施形態では、機器は、制御装置で１つ以上のセンサから受信されたフィードバックに応じて、制御装置から信号を受信するように構成され、ここで、センサは、位置センサを含んでもよく、フィードバックは、治療範囲に対する装置の位置を示す位置データを含み、ここで、少なくとも１つの調整される操作条件は、装置の位置である。いくつかの実施形態では、システムはまた、操作中に、ＥＭＲ源のうちの少なくとも１つまたは冷却用気流を冷やす冷却装置を含む。いくつかの実施形態では、システムはまた、操作中に、ＥＭＲ源のうちの少なくとも１つまたは冷却用気流のうちの他方を冷やす第２の冷却装置を含む。

別の実施形態では、多機能システムを使用したエステティック治療の方法が提供される。方法は、ハウジングに位置した電磁石アレイと電子通信状態にある制御装置によって、アレイの２つ以上の電磁放射線（ＥＭＲ）源を操作して、各ＥＭＲ源によって生成されるＥＭＲビームを治療範囲に向ける工程であって、各ＥＭＲ源は、別のＥＭＲ源によって生成されるＥＭＲビームのものと異なる波長を有するＥＭＲビームを生成するように構成される、工程を含む。方法はまた、制御装置と電子通信状態にある１つ以上のセンサによって、定められたパラメータに基づいて制御装置にフィードバックをもたらす工程を含む。方法はまた、制御装置によって、フィードバックに応じて多機能システムの少なくとも１つの操作条件を調整する工程を含んでもよい。

いくつかの実施形態では、各ＥＭＲ源は、赤外線の波長、可視光の波長または紫外線の波長のうちの１つを有するＥＭＲビームを生成するように構成される。いくつかの実施形態では、操作する工程は、２つ以上のＥＭＲ源を同時、順次、または交互のパターンで操作して、２つ以上のＥＭＲ源からＥＭＲビームを放射する工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、調整する工程は、治療範囲を治療上許容可能な温度に保つことをさらに含む。いくつかの実施形態では、治療範囲を治療上許容可能な温度に保つことは、治療範囲に当たる冷却用気流の流量、治療範囲に当たる冷却用気流の温度、治療範囲と治療範囲に冷却用気流を向ける機器との間の間隔、ＥＭＲビームの出力、治療範囲に対するＥＭＲビームの走査速度、またはそれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを調整することを含む。

いくつかの実施形態では、方法はまた、ＥＭＲビームをＥＭＲ経路に沿って治療範囲に向ける工程を含む。いくつかの実施形態では、方法はまた、ＥＭＲビームを治療範囲に向けるために、経路に光学的に係合した装置でＥＭＲビームを変更する工程を含む。いくつかの実施形態では、変更する工程はまた、装置の光学素子によって、ＥＭＲビームを拡大して、ＥＭＲビームを、拡大した治療範囲に向けることを含む。いくつかの実施形態では、変更する工程はまた、フレネルレンズまたは同様のレンズによって、拡大されたビームの焦点を合わせて、治療範囲の下にある表面下の治療領域でＥＭＲビームが拡大されるのを防ぐか、あるいは最小限に抑えることを含む。いくつかの実施形態では、変更する工程はまた、経路と装置との間に光学的に係合したビームスプリッタによって、ＥＭＲビームを分岐して、複数の出力ビームを生成することを含む。いくつかの実施形態では、変更する工程はまた、装置によって、複数の出力ビームを放射して、治療範囲に別々に入射させ、表面下の治療領域を治療するために治療範囲の下で予め定められた距離で重なり合わせることを含む。いくつかの実施形態では、変更する工程はまた、装置を、ＥＭＲ経路における複数の光学的に別々の部分に光学的に係合し、複数の出力ビームを生成することを含む。いくつかの実施形態では、変更する工程はまた、装置によって、複数の出力ビームを放射して、治療範囲に別々に入射させ、表面下の治療領域を治療するために治療範囲の下で予め定められた距離で重なり合わせることを含む。

いくつかの実施形態では、方法はまた、経路における複数の光学的に別々の部分によって、同じ波長を有する少なくとも２つのＥＭＲビームを装置に向ける工程を含み、ここで、アレイは、少なくとも２つのＥＭＲ源を含み、各ＥＭＲ源は、同じ波長を有するＥＭＲビームを生成するように構成される。いくつかの実施形態では、方法はまた、装置を介して、ＥＭＲビームを妨げることなく冷却用気流を治療範囲に向ける工程を含む。いくつかの実施形態では、装置によって、ＥＭＲビームを治療範囲に向ける工程、装置を介して、冷却用気流を治療範囲に向ける工程、および、１つ以上のセンサによって、制御装置にフィードバックをもたらす工程は、装置またはセンサを治療範囲に接触させることなく行われる。いくつかの実施形態では、調整する工程はまた、制御装置によって、ハウジングに係合した機器の移動を制御し、治療範囲に対してＥＭＲビームを位置決めすることを含む。いくつかの実施形態では、調整する工程はまた、フィードバックに応じて機器を移動し、ＥＭＲビームを再位置決めすることを含む。

本発明の例示的実施形態によれば、エステティック治療を提供するための方法が提供される。方法は、複数のマーキングを設けて、治療範囲の境界を識別する工程と、エステティック治療装置によって、複数のマーキングを登録して、治療範囲をマッピングする工程であって、エステティック治療装置は、電磁放射線（ＥＭＲ）ビームを向けるためにビーム源を有する、工程と、ビーム源を起動させて、マッピングされた治療範囲でＥＭＲビームを生成する工程と、を含む。

本発明の態様によれば、エステティック治療装置は、ハウジングと、２つの端部を有し、一方の端部がハウジングに接続された治療アームと、治療アームの他方の端部に接続された治療ヘッドと、制御装置と、ＥＭＲビームを治療ヘッドに向けるシステムと、使用者がデータを入力することができるユーザインタフェースと、をさらに含む。治療ヘッドは、ＥＭＲを送る間に治療範囲の表面に接触しなくてもよい。治療ヘッドは、ＥＭＲビームを、縦横を有する長方形の形状に変換するレンズを含んでもよい。エステティック治療装置は、治療範囲に送る空気を治療ヘッドにもたらすシステムをさらに含んでもよい。治療区域は、縦横を有してもよく、縦は、ＥＭＲビームの縦のおよそ整数倍であり、横は、ＥＭＲビームの横のおよそ整数倍である。

本発明の態様によれば、治療範囲は、長方形の形状である。治療範囲は、治療ヘッドを治療範囲の第１の隅に移動して第１の隅を登録し、治療ヘッドを治療範囲の第２の隅に移動して第２の隅を登録し、治療ヘッドを治療範囲の第３の隅に移動して第３の隅を登録し、そして、治療ヘッドを治療範囲の第４の隅に移動して第４の隅を登録することによって設定される。方法は、エステティック治療装置のアライメント光を複数のマーキングのうちの１つと位置合わせして、治療範囲の登録を開始する工程をさらに含んでもよい。方法は、ジョイスティックおよびユーザインタフェースのうちの少なくとも１つの入力に応じて治療ヘッドを移動させる工程をさらに含んでもよい。

本発明の例示的実施形態によれば、皮下脂肪組織に温熱アポトーシスを引き起こすための多機能エステティックシステムが提供される。システムは、エネルギービームを生成する電磁放射線（ＥＭＲ）源と、電磁放射線（ＥＭＲ）源を、皮下組織が目的とする温度範囲に達することができる速度で治療区域内を移動させながら、エネルギービームを、治療範囲の第１の治療区域にわたって向けるエネルギー送出装置と、を含む。エネルギー送出装置は、皮下組織を目的とする温度範囲内に保ちながら、第１の治療区域へのエネルギービーム照射を続け、エネルギー送出装置は、目的とする治療時間にわたって目的とする温度範囲にあった第１の治療区域の皮下組織のいずれにもエネルギービーム照射を止める。

本発明の態様によれば、皮下組織の目的とする温度範囲は、４２℃～５１℃である。エネルギービーム照射は、第１の治療区域の面積より小さい面積に照射されてもよい。エネルギー送出装置は、皮下組織が目的とする温度範囲に達した後は、皮下組織が目的とする温度範囲に達する前に照射されたエネルギー照射より少ないエネルギーを照射してもよい。治療区域の表面温度が、最大限の表面温度より高いときは、第１の治療区域へのエネルギー照射が停止されてもよく、治療区域の表面温度が、最大限の表面温度より低いときは、第１の治療区域へのエネルギー照射が再開されてもよい。エネルギー送出装置は、皮下組織の温度を目的とする温度範囲まで上昇させるために、第１の治療範囲内で電磁放射線（ＥＭＲ）源を移動させながら、第１の治療範囲にエネルギービーム照射および冷却用空気を当ててもよく、エネルギー送出装置は、第１の治療範囲内で電磁放射線（ＥＭＲ）源を移動させながら、冷却用空気を保ちつつ、第１の治療範囲へのエネルギービーム照射を停止してもよい。

本発明の例示的実施形態によれば、エステティック機器が提供される。エステティック機器装置は、電磁放射線（ＥＭＲ）ビームを発生するように構成された電磁放射線（ＥＭＲ）源と、治療範囲にＥＭＲビームおよび気流を向ける装置と、ＥＭＲビームを平行化するレンズと、平行化したＥＭＲビームを正方形のＥＭＲビームに変形し、組織を均一に加熱するために均一なエネルギー配分を生成する屈折型拡散素子と、を含む。

本発明の態様によれば、機器は、空気源を有する空気システムと、組織表面に衝突冷却をもたらすのに十分な目的とする速度で空気源から治療範囲に空気量を向ける冷却システムと、をさらに含む。機器は、皮膚温度センサ、冷却用空気温度センサ、気流センサ、レーザ出力センサ、位置センサおよび近接センサのうちの少なくとも１つを有するセンサアレイをさらに含んでもよい。エネルギー送出装置は、近接センサに達する光をフィルタリングする遮光フィルタをさらに含んでもよく、機器が皮膚の表面に近接していることをレーザ検出する精度を向上してもよい。

例証的かつ非限定的な例示的実施形態は、添付の図面を参照しながら行われる以下の詳細な説明から、より明確に理解されるであろう。
本発明の一実施形態による、多機能システムを示すブロック図である。 本発明の一実施形態による、多機能システムの電磁放射の放射構成要素の斜視図である。 本発明の一実施形態による、多機能システムのビーム結合器の内観図である。 本発明の一実施形態による、複数のＥＭＲドライバを含む多機能システムの電源および制御電子機器の概略図である。 本発明の一実施形態による、多機能システムの冷却システムの斜視図である。 本発明の一実施形態による、多機能システムの冷却用取付具の斜視図である。 本発明の一実施形態による、多機能システムの冷却システムの冷蔵ユニットの斜視図である。 本発明の一実施形態による、２自由度の位置決め機器の斜視図である。 本発明の一実施形態による、６自由度の位置決め機器の斜視図である。 本発明の一実施形態による、皮下温度予測システムの概略図である。 本発明の一実施形態による、様々なＥＭＲ波長の想定される浸透深さを示すヒト組織プロファイルである。 本発明の一実施形態による、スイッチング装置を含む多機能システムの概略図である。 本発明の一実施形態による、スイッチング装置を含むＦＥＴ回路の概略図である。 本発明の一実施形態による、２つの別々の出力経路を設けるファイバ結合器の斜視図である。 本発明の一実施形態による、図１４Ａのファイバ結合器の詳細図である。 本発明の一実施形態による、分岐されて角度を付けられたＥＭＲビームを送る装置の断面図である。 本発明の一実施形態による、ビーム整形光学系を有する装置の断面図である。 本発明の一実施形態による、調整可能な光学素子を有する図１６Ａの装置の断面図である。 本発明の一実施形態による、さらなる光学素子を有する図１６Ａの装置の断面図である。 本発明の一実施形態による、非接触センサを有する装置の斜視図である。 本発明の一実施形態による、治療領域の図である。 本発明の一実施形態による、エステティック治療方法のブロック図である。 本発明の一実施形態による、治療システムの一実施形態である。 本発明の一実施形態による、治療装置のいくつかの構成要素の分解図である。 本発明の一実施形態による、治療装置のいくつかの構成要素の図である。 本発明の一実施形態による、空気冷却システムの一実施形態の概略である。 本発明の一実施形態による、レーザ冷却システムの一実施形態の概略である。 本発明の一実施形態による、治療装置の図である。 本発明の一実施形態による、治療範囲をマーキングするために使用される様々な型を示す。 本発明の一実施形態による、治療範囲をマーキングするために使用される様々な型を示す。 本発明の一実施形態による、治療範囲をマーキングするために使用される様々な型を示す。

以下、様々な例示的実施形態について、いくつかの例示的実施形態が示されている添付の図面を参照しながらより完全に説明する。しかし、本開示は、多数の異なる形態で実施されてもよく、本明細書に示す例示的実施形態のみに限定解釈されるべきではない。むしろ、これらの例示的実施形態は、本開示を徹底的かつ完全なものにして、本開示の範囲を当業者に十分に伝えるように提示されるものである。図面では、層および領域の大きさおよび相対寸法は、わかりやすくするために誇張している場合がある。類似の参照符号は、全体を通して類似の要素を指す。

特に定義されていない限り、本明細書で使用されている、専門用語および科学用語を含むすべての用語は、本開示が属する技術分野における当業者によって一般に理解される意味と同じ意味を有する。例えば、ある要素が別の要素に「作動的に係合されている」と言うときは、２つの要素が、一方から他方まで電気的および／または光学的に通信できるように係合されている。

本開示の実施形態は概して、多機能エステティックシステムを提供する。特に、いくつかの実施形態では、本開示のシステムは、１つ以上の電磁放射線（ＥＭＲ）源と、随意に、２つのＥＭＲ源によって放射される電磁放射線ビームを結合するために、ビーム結合器とを含んでもよい。このように、いくつかの実施形態では、多機能エステティックシステムは、単一の出力装置を通って複数の波長の電磁放射線を放射してもよい。いくつかの実施形態では、複数の波長が同時に、交番パルスで、および／または順次に放射されてもよく、それによって、同じ多機能エステティックシステムによって複数の治療が行なわれることが可能になる。いくつかの実施形態では、複数の治療が順次に、同時に、または交互の方法で行われてもよい。

本明細書で使用される場合、ＥＭＲは、任意の所望の波長を有する電磁放射線を指す場合がある。特に、本開示の実施形態によって発生および／または放射されるＥＭＲは、任意の好適な波長であってもよく、これには、例えば、可視光線、紫外線、Ｘ線放射、赤外放射、マイクロ波放射、電波、またはそれらの組み合わせが含まれる。

ここで図１を参照すると、多機能エステティックシステム（１０）は、単一の医療装置で様々なエステティック処置を行なうために提供されてもよい。システム（１０）は、システム（１０）の構成要素を収容、保持、取り付けまたは係合するハウジング（１００）を含んでもよい。いくつかの実施形態では、ハウジング（１０）は、ハウジング（１００）内、ハウジング（１００）上、またはハウジング（１００）に収容、保持、取り付けまたは係合される構成要素に構造面で支持と防護を提供するのに好適な任意の材料で構成されてもよく、これには、例えば、プラスチック、ポリマー、金属または任意の他の医療に適格な材料が含まれる。例えば、システム（１０）をある診察室または手術室から別の診察室または手術室に移動させることが望まれる場合に限り、システム（１０）に機動性を与えるために、ハウジング（１００）は、１つ以上の車輪（１０５）を含んでもよい。システム（１０）に電力が送られる必要がある場合に限り、ハウジング（１００）は、例えば、壁のコンセントなどのＡＣ電源に係合する１つ以上の電源コード（１０３）を含んでもよい。

いくつかの実施形態では、システム（１０）は、使用者による入力を受信するために、ハウジング（１００）に電子的に接続されているユーザインタフェース（１０１）を含んでもよい。ユーザインタフェース（１０１）は、例えば、電子ディスプレイ、タッチスクリーンモニタ、キーボード、マウス、使用者による入力を受信することが可能な任意の他の装置（複数可）、またはそれらの組み合わせを含んでもよい。使用者による入力は、例えば、身長、体重、肌タイプ、年齢などの患者のデータ、ならびに、所望のビーム出力、処置の種類、照射される波長（複数可）、パルス持続時間、治療持続時間、ビームパターン、治療範囲の温度の限界などの処置パラメータを含んでもよい。

いくつかの実施形態では、システム（１０）はまた、ユーザインタフェース（１０１）から使用者による入力を受信して記憶し、使用者による入力に従って適切な処置プロトコルを記憶して実行し、システム（１０）の様々な構成要素に制御指示をもたらし、システム（１０）の様々な構成要素からフィードバックを受信するために、演算装置（１０７）を含んでもよい。演算装置（１０１）は、例えば、ノートパソコン、デスクトップ、サーバ、スマートフォン、タブレット、携帯情報端末などの任意の好適な演算装置であるか、あるいはメモリ（１０９）およびプロセッサ（１１１）を有する任意の他の好適な演算装置であってもよい。メモリ（１０９）は、いくつかの実施形態では、電子データを記憶するのに適した任意のメモリ（１０９）であってもよく、電子データには、使用者による入力データ、および、システム（１０）の１つ以上の構成要素に関連した操作データが含まれる。メモリ（１０９）には、例えば、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、フラッシュメモリ、ソリッドステートメモリ、ハードディスク、非一時的なコンピュータ可読媒体、任意の他の形態の電子メモリ、またはそれらの組み合わせが含まれてもよい。プロセッサ（１１１）は、いくつかの実施形態では、ユーザインタフェース（１０１）から使用者による入力を受信するか、システム（１０）の１つ以上の構成要素を操作するための指令を発生するか、メモリ（１０９）に記憶されているいずれかのソフトウェアを実行するか、あるいはそれらの組み合わせに適した任意のプロセッサであってもよい。いくつかの実施形態では、プロセッサには、１つ以上のマイクロプロセッサ、集積回路、特定用途向け集積回路、マイクロコントローラ、フィールドプログラマブルゲートアレイ、任意の他の好適な処理装置、またはそれらの組み合わせが含まれてもよい。

図１に示されているように、システム（１０）はまた、電磁石アレイ（２００）を含んでもよい。ここで図２を参照すると、電磁石アレイ（２００）は、その上に複数の電磁放射線（ＥＭＲ）源を取り付ける取付具（２０１）を含んでもよい。例えば、図２に示されているように、取付具（２０１）は、その上に取り付けられる１つ以上のレーザ源（２０３）を含む。取付具（２０１）は、いくつかの実施形態では、そこに１つ以上のレーザ源（２０３）を取り付ける任意のプレート、ハウジング、ブラケットまたは他の構造を含んでもよい。図２に示されているように、いくつかの実施形態では、取付具（２０１）は、そこに取り付けられたレーザ源（２０３）に冷却をもたらすコールドプレートであってもよい。例えば、図２によって示されているように、取付具（２０１）は、取付具（２０１）を通って冷却液を循環させるために、第１の冷却口および第２の冷却口（２０１ａ）、（２０１ｂ）を設けてもよい。冷却液は、その後、取付具（２０１）を冷やしてもよく、それによって、取付具（２０１）に取り付けられた１つ以上のレーザ源（２０３）を冷却するヒートシンクをもたらす。

いくつかの実施形態では、各レーザ源（２０３）は、ＥＭＲを特定の波長で放射するように構成されてもよい。例えば、いくつかの実施形態では、各レーザ源（２０３）は、ＥＭＲを約２００ｎｍ～約４５００ｎｍの間の波長で放射してもよい。しかし、様々な実施形態によれば、各レーザ源（２０３）がＥＭＲを任意の所望の波長で放射してもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。さらに、様々な実施形態によれば、レーザ源（２０３）に加えて、任意の波長を有する任意の他の電磁放射線源が使用されてもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。例えば、いくつかの実施形態では、システム（２００）のＥＭＲ源は、例えば、可視光、紫外線、Ｘ線放射、赤外線、マイクロ波放射または電波を含む、任意の好適な波長を有する電磁放射線を放射してもよい。よって、各レーザ源（２０３）は異なる特定の波長を放射するように構成されてもよいので、単に１つのシステム（１０）によって、ＥＭＲビームを、本質的に異なる治療プロトコルの要件を有する複数の処置のうちのいずれか１つにおいて必要とされる波長または波長の組み合わせで生成してもよい。したがって、いくつかの実施形態では、システムは、例えば、脂肪減少、身体のスキンタイトニング、顔のスキンタイトニング、スキンリサーフェーシング、スキンリモデリング、静脈縮小または静脈除去、顔の色素除去または色素低減、脱毛、にきび治療、瘢痕縮小および瘢痕除去、乾癬治療、皮膚線条除去、爪水虫治療、白斑治療、刺青除去、またはそれらの組み合わせが含まれるがこれらに限定されない１つ以上の処置を行なうのに適した波長を放射するレーザ源（２０３）を含んでもよい。

いくつかのエステティック処置は、単一の波長しか必要としない場合がある。例えば、いくつかの脂肪減少処置においては、ＥＭＲを約１０６４ｎｍ（例えば、約４００ｎｍ～約３０００ｎｍ、または、約９００ｎｍ～約１１００ｎｍ）の波長で放射することが可能なレーザ源（２０３）が設けられてもよく、肌、表皮および真皮に良好に伝播することを示し、脂肪細胞内にエネルギーを付与するので、脂肪組織の温熱療法またはアポトーシスにおいて選択されてもよい。一方、スキンタイトニングは概して、コラーゲンが存在する表皮および真皮でより高い吸収を示す他の波長を必要とする。よって、いくつかの身体のスキンタイトニング処置においては、例えば、約１３２０ｎｍの波長（例えば、約４００ｎｍ～約３０００ｎｍ、または、約１３００ｎｍ～約１５００ｎｍ）が使用されてもよい。これらのＥＭＲビームの波長は、コラーゲンにより多くのエネルギーを付与し、アポトーシスまたはネクローシスを引き起こし、最終的には、新しいコラーゲンの増生によりスキンタイトニングを引き起こす。

他の例では、いくつかの顔の色素低減処置または色素除去処置、ならびに、いくつかの静脈縮小処置または静脈除去処置などにおいては、例えば、ＥＭＲを約５３２ｎｍ（例えば、約５００ｎｍ～約６５０ｎｍ）で放射することが可能なレーザ源が設けられてもよい。

さらに、いくつかのエステティック処置または複数の処置の組み合わせは、２つ以上の波長を必要としてもよい。例えば、以上に述べられている脂肪減少処置および身体のスキンタイトニング処置を併用するために、ＥＭＲを１０６４ｎｍで放射することが可能な第１のレーザ源（２０３）と、ＥＭＲを１３２０ｎｍで放射することが可能な第２のレーザ源（２０３）とが設けられてもよい。別の例では、いくつかの顔のスキンタイトニング処置は、例えば、ＥＭＲを約１３２０ｎｍ（例えば、４００ｎｍ～約３０００ｎｍ、または、約１３００ｎｍ～約１５００ｎｍ）で放射することが可能な第１のレーザ源（２０３）と、ＥＭＲを約１４７０ｎｍ（例えば、約４００ｎｍ～約３０００ｎｍ、または、約１３００ｎｍ～約１５００ｎｍ）で放射することが可能な第２のレーザ源（２０３）とが設けられてもよい。

いくつかの実施形態では、さらなる機能性をもたらすとともに、保守点検のしやすさを図るために、レーザ源（２０３）のモジュールを取り替えることが可能なように、１つ以上のレーザ源（２０３）が取り外し可能に取付具（２０１）に取り付けられてもよい。よって、そのようなモジュールの構成では、例えば、特定の処置に必要とされるようなさらなる波長もしくは異なる波長、または、波長の組み合わせをもたらすために、個々のレーザ源（２０３）が取り替えられてもよい。しかし、いくつかの実施形態では、１つ以上のレーザ源（２０３）が、取付具（２０１）に恒久的に取り付けられてもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。

１つ以上のレーザ源（２０３）は、いくつかの実施形態では、１つ以上のファイバ結合型レーザを含んでもよい。例えば、様々な実施形態によれば、レーザ源（２０３）は、Ｅｒ：ＹＡＧ、Ｅｒ，Ｃｒ：ＹＳＧＧ、Ｎｄ：ＹＡＧ、Ｎｄ：ガラス、Ｅｒ：ガラスなどの１つ以上のファイバ結合型ダイオードレーザおよび／またはフラッシュランプまたはダイオード励起レーザ、または任意の他の好適なファイバ結合型ＥＭＲ源を含んでもよい。いくつかの実施形態では、ファイバ結合型レーザ源（２０３）は、５０Ｗ、１００Ｗなどで操作される連続発振（ＣＷ）装置とみなされてもよい。このようなＣＷ装置は、パルスエネルギーがパルス持続時間と出力の積に等しいゲートモードで操作されてもよい。したがって、５ミリ秒間操作されるようにゲート制御された１００Ｗのダイオードレーザは、５００ｍＪのパルスエネルギーを有する。より多くのパルスエネルギーが必要とされているが、例えば、電源または冷却能力によって平均出力が限定されている場合は、ファイバ結合型レーザ源（２０３）は、疑似ＣＷ装置として構成されてもよい。このような疑似ＣＷ装置は、より低いパルス周波数レートで操作することによって、同じ平均消費電力でより高出力のパルスを生成することができる。いくつかの実施形態では、疑似ＣＷ装置は、最大で平均消費電力の１０倍を有するパルスを生成することができる。よって、例えば、１０００Ｗ／１００Ｗの疑似ＣＷダイオードは、１パルス当たり５ジュールで５ミリ秒のパルス運転を行うことが可能であるが、ＣＷレーザのパルス周波数の１０分の１に限定される。

いくつかの実施形態では、レーザ源（２０３）のうちの少なくとも１つは、ファイバ結合型ダイオードレーザを含んでもよい。このようなレーザシステムは、５０％を超える効率で有利に操作されることができ、大きさが比較的小さく、電力消費が比較的低く、幅広い波長の多様性を示す。１０ｋＷ以上の出力を生成するために、ファイバ結合型ダイオードレーザを、例えば、２．０ボルト未満のＤＣで駆動してもよい。さらに、このようなレーザ源（２０３）は、小型かつ軽量で、モジュールは、重さが１ｋＷ当たり約５００グラムであってもよい。一実施形態では、レーザ源（２０３）のうちの少なくとも１つは、大きさが約８×４×３ｃｍ（１００ｃｍ^３未満）である７５Ｗのファイバ結合型ダイオードであってもよい。いくつかの実施形態では、このようなレーザ源（２０３）は、１００ワット未満の電力を消費しながら、エステティック処置を行なうために使用されてもよい。このように消費電力が低いことによって、いくつかの実施形態では、必要とされる冷却量を減らすことができ、より小型、より静音、より高効率の冷却システムが可能になる。

対象となるほぼすべてのダイオードにおいて、コンプライアンス電圧は、２．０ＶＤＣよりわずかに低い。バイアス電圧構成のパッケージングや差別化を施して、共通の高電圧をもたらすことができ、その後、より低い駆動電流にすることができる。例えば、２．０ＶＤＣで駆動する典型的な５０Ｗのダイオードは、８アンペア～１２アンペアの閾値電流を最小限必要としてもよく、所望の出力レベルを生成するために６０～７０アンペア超を必要としてもよい。電圧低下を回避し、システムの信頼性を維持し、ジュール熱を最小限に抑えるために、このような高電流は、＃６または＃８のゲージ線などの太いゲージ配線を必要とする。必要とされる電流供給および配線寸法を減らすために、いくつかの実施形態では、各ファイバ結合型ダイオードレーザ源（２０３）のダイオードは、例えば、２０ＶＤＣまたは２５ＶＤＣなどの共通のコンプライアンス電圧で、選択されるレーザや必要とされる出力に合うように制御した駆動電流で操作されるように構成されてもよい。ほとんどのエステティック処置においては、共通のコンプライアンス電圧を２０または２５ＶＤＣに増やすことによって、各レーザ源（２０３）を操作するのに必要な最大駆動電流を、約１０アンペア以下に限定することができる。必要な電流を減らすことによって、より細いゲージ配線を使用して、信頼性を向上させることができる。いくつかの実施形態では、このような手法によって、電源を１つ以上のＥＭＲ源の接続部にマニホールド化することによって、単一の電源を使用して、１つ以上のレーザ源（２０３）を駆動することが可能になる。よって、例えば、１度に１つのレーザしか操作されない実施形態では、システム（１０）に、１つの電源しか設けなくてもよい。

典型的には、ダイオードのパッケージングには、閾値電流が８～１２アンペア数範囲である、約２．０ＶＤＣのコンプライアンス電圧で半導体バーを採用する。このようなダイオードは、大きい出力レベルに達すると、７０アンペアで操作されてもよい。これらの電圧低下やジュール熱（Ｉ^２＊Ｒ）に関連した問題によって、信頼性に関する懸念が募る。しかし、部分ダイオードバー（すなわち、２．０ＶＤＣの標準ダイオードバーより短い長さのダイオードバー）は典型的には、バーの割合に比例してより低い電流を必要とする。よって、直列に接続した部分ダイオードバーを使用し、部分ダイオードの各々を起動させるためにより高い電圧でより低い電流を送ることによって、出力を保ちつつ、必要な電流を減らすことができる。

いくつかの実施形態では、レーザ源（２０３）のうちの少なくとも１つは、フラシュラムプまたはダイオード励起レーザを含んでもよい。例えば、多数の皮膚のエステティック治療は、ほぼ３０００ｎｍの波長、例えば、２５００ｎｍ超の波長を有するＥＭＲ照射を必要とする。このような波長は典型的には、約２９４０ｎｍの波長を有するＥＭＲを生成するＥｒ：ＹＡＧ、または約２７９０ｎｍの波長を有するＥＭＲを生成するＥｒ：ＹＳＧＧなどの、フラッシュランプまたはダイオード励起固体レーザ装置によって生成される。しかし、ファイバ結合型ダイオードレーザおよびフラッシュランプまたはダイオード励起レーザを参照しながら本明細書に示され説明されているが、様々な実施形態によれば、光ファイバ出力ケーブルに結合することが可能な任意の好適な種類のＥＭＲ源が使用されてもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。ファイバ結合型ダイオードレーザを参照しながら以上に説明したように、いくつかの実施形態では、フラッシュランプまたはダイオード励起固体レーザ装置を含むレーザ源（２０３）はまた、共通のコンプライアンス電圧で操作されるように構成されてもよい。よって、ファイバ結合型ダイオードレーザを参照しながら以上に述べたように、いくつかの実施形態では、システム（１０）は、共通の電源を使用してもよい。

なお図２を参照すると、それぞれのレーザ源（２０３）によって放射されるＥＭＲ（「ＥＭＲエネルギー」または「ビーム」とも呼ばれる）を伝播または中継するために、電磁石アレイ（２００）はまた、１つ以上のレーザ源（２０３）の各々に結合した光ファイバリレーケーブル（２０５）を含んでもよい。本開示は、ＥＭＲ、エネルギー、ビームまたはレーザについて説明全体を通して置き換え可能に言及する。概して、各光ファイバリレーケーブル（２０５）は、各それぞれのレーザ源（２０３）によって放射される波長を有するＥＭＲを伝播することが可能な任意の光ファイバ材料で構成されてもよい。いくつかの実施形態では、各光ファイバリレーケーブル（２０５）は、例えば、約２００ｎｍ～約２４００ｎｍの範囲内の波長を伝播する低ＯＨシリカファイバコアケーブル、約２８５ｎｍ～約４５００ｎｍの範囲内の波長を伝播するフッ化ジルコニウム（ＺｒＦ４）および／または高純度カルコゲナイドガラスケーブル、または、約１７０ｎｍ～約５５００ｎｍの範囲内の波長を伝播するサファイアケーブルで構成されてもよい。

いくつかの実施形態では、光ファイバリレーケーブル（２０５）は、例えば、ＳＭＡ９０５コネクタまたは任意の他の好適なコネクタなどの光ファイバコネクタによってレーザ源（２０３）に嵌合させてもよい。光ファイバリレーケーブルの各々においては、ファイバコア直径は、ダイオードドライバの結合効率や必要とされる出力によって決定されてもよい。例えば、ＣＷ運転では、一実施形態では、近赤外線の波長範囲において、信頼性のある中継をもたらすために、コア直径は、約１．４ＭＷ／ｃｍ^２のケーブルのエネルギー密度の限界値によって定められてもよい。このファイバの信頼限界によって、１００ミクロンのコア直径は、最大８５Ｗまで対応することができ、４００ミクロンのコア直径は、最大１３００Ｗまで使用されることが予測される。より短い波長は典型的には、出力の下限値に合わせて調節される。さらに、パルス持続時間が１マイクロ秒（１×１０^－６秒）未満であるパルス運転においては、ファイバの損傷は、熱ではなく絶縁破壊によって引き起こされ、パルス持続時間に比例してより低いレベルで生じる。すなわち、平均電力は、ファイバの過熱を防ぐのに十分低いものであるが、１マイクロ秒未満のパルス持続時間中に送られる電力によって、ファイバの誘電材料の破損を引き起こす場合がある。さらに概して、適切なファイバコア直径、および、想定される最大電力負荷に対応することが可能なコネクタを選択することによって、レーザ源（２０３）によって発生されるＥＭＲ出力を、安全かつ信頼性をもって引き回すことが可能になる。

なお図２を参照すると、システムはまた、各レーザ源（２０３）によって生成されて、各リレーケーブル（２０５）によって伝播されるＥＭＲビームを結合して単一の出力にするために、ビーム結合器（２０７）を含んでもよい。概して、ビーム結合器（２０７）は、異なる波長のいくつかのＥＭＲビームを結合して１つの出力にすることが可能な任意の装置またはシステムであってもよい。例えば、いくつかの実施形態では、ビーム結合器は、例えば、ファイバスイッチング装置、フリースペース型ファイバ結合器、突合せ結合した結合器、テーパファイバ、バンドルファイバ、および融着型ファイバを含んでもよい。

例えば、フリースペース型結合器は、別々のビームを折り返して１つのファイバにするために、ミラーと回折格子と共にパッケージングされることができる。突合せ結合したファイバ結合器は、より小さいコアファイバをより大きいコア出力ケーブルに嵌合することができる。突合せ結合したファイバ結合器においては、より小さいファイバは、そのクラッドまで剥ぎ取られ、例えば、円形のフットプリントに互いに可能な限り近くなるようにパッケージングされる。研磨されたファイバの端部は、直径が複数のファイバフットプリントより大きいファイバコアに嵌合（突合せ結合）させてもよい。テーパファイバは、結合したファイバのコア直径を減らすために使用されることができる。すなわち、テーパファイバは、各テーパファイバ直径を減らして、ファイバの結合のより高い密度のパッケージングを可能にするように延伸されることができる。融着型ファイバは、ファイバを剥ぎ取って、断面が最密になるようにバンドルすることによって、複数のファイバを一緒に嵌合するのに使用されることができる。ファイバは、その後、加熱され溶融されて、単一の出力ファイバになるように融着されることができる。バンドルファイバケーブルはまた、複数の供給源を１つの出力経路に回すのに使用されることができる。バンドルファイバは、概して、ケーブル内で細密状態である多数の小さい個々のファイバから形成される、直径がより大きいファイバケーブルであってもよい。１つのレーザ源（２０３）しか存在しない実施形態では、ビーム結合器（２０７）の必要がない場合は、共通の出力ケーブル（２０９）は、リレーケーブル（２０５）の継続部または延長部であってもよい。

さらに、図３に示されているように、いくつかの実施形態では、ビーム結合器（２０７）は、ＮＡＳＡ ＳＢＩＲプログラム０５－ＩＩ Ｓ６．０２－８６１９の下でｎＬｉｇｈｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ用に製造された装置などの、高輝度／低コストのファイバ結合のパッケージを含んでもよい。装置は、すべて単一のコアファイバ出力口（３０５）に結合した複数のダイオード（３０１）を含んでもよい。ビーム結合光学系（３０３）は、個々のダイオード（３０１）の出力の各々を共通の経路に集光するように構成されてもよい。ビーム結合器は、その後、集光された出力を出力口（３０５）（例えば、ＳＭＡ９０５コネクタ）に回してもよい。ビーム結合器（２０７）は、いくつかの実施形態では、数ワットから１０ｋＷ超に及ぶビーム出力のために、種々のビーム波長を結合するように構成されてもよい。

このような実施形態では、所望の波長を生成するレーザ源（２０３）しかあらゆる場合に起動されないので、ビーム結合器（２０７）は、能動型ファイバスイッチではなく、受動型装置であってもよい。受動型装置を有することはまた、ファイバの出力の限界値を定めるのに役立ち、ファイバのワットの限界値は、各レーザ源（２０３）の合計ではなく、一度に単一のレーザ源（２０３）しか作動していない場合に利用可能なレーザ源（２０３）の最大出力に合わされてもよい。複数のレーザ源（２０３）が同時に起動される場合に限り、結合したファイバの出力の限界値は、作動中の各レーザ源（２０３）を操作するために必要な少なくとも電力の合計と同等でなければならない。あるいは、いくつかの実施形態では、ビーム結合器（２０７）は、特定の波長を選択的に出力するために、１つ以上のファイバスイッチを含んでもよい。

ビーム結合器（２０７）は、その後、ビーム結合器（２０７）で結合したＥＭＲ（「治療エネルギー」または「ビーム」とも呼ばれる）を伝播または中継するために、結合ビームを、ビーム結合器（２０７）に結合した共通の出力ケーブル（２０９）に出力してもよい。有利には、共通の出力ケーブル（２０９）によって、レーザ源（２０３）によって生成される異なるビームを、単一の光学装置を通って放射することが可能になる。特に、ビーム結合器（２０７）でビームを結合するか、あるいはビームを共通の出力ケーブル（２０９）に向けることによって、システム（１０）の単一の光学装置は、異なる波長のビームを同時、順次、または交互のパルス状のパターンで放射してもよい。よって、有利には、いくつかの実施形態では、２つ以上の治療処置が同時に、同時期に、または直ちに順次に行われてもよく、それによって、患者の転帰を向上させ、そして、患者の経過観察にかかる処置の数を減らす。

いくつかの実施形態では、光ファイバ出力ケーブル（２０９）は、光ファイバリレーケーブル（２０５）に実質的に同様であってもよいが、これに限定されない。１つのレーザ源しか存在せず、ビーム結合器（２０７）が必要でないいくつかの実施形態では、出力ケーブル（２０９）は、リレーケーブル（２０５）と同じケーブルであってもよい。さらに概して、光ファイバ出力ケーブル（２０９）は、ビーム結合器（２０７）によって放射された結合ビームを光ファイバ出力に伝播することが可能な任意の光ファイバケーブルであってもよい。様々な実施形態によれば、出力ケーブル（２０９）は、単一のファイバとして形成されてもよく、複数のより小さいバンドルファイバとして形成されてもよく、あるいは、異なる波長を有する２つ以上の別個のビームを別々に伝播するために、２つ以上の細密状態である個々のファイバとして形成されてもよい。

さらに概して、リレーケーブル（２０５）および出力ケーブル（２０９）が、光ファイバケーブルとして本明細書に示されているが、様々な実施形態によれば、１つ以上のＥＭＲ源からビーム結合器（２０７）に、そしてビーム結合器（２０７）から治療範囲にＥＭＲを向けることが可能な、あるいは伝播することが可能な任意の経路が使用されてもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。例えば、いくつかの実施形態では、経路は、ＥＭＲビームを向けるために、一連のミラーで構成されてもよい。

例えば、図１４Ａで示されているように、２つの別々のビームを、２つの個別のＥＭＲ源から単一の送出装置（例えば、ハンドピース、ロボットヘッド、ビーム整形光学系）（１４０３）に回すために、２つの個々のファイバコア（１４０１ａ）、（１４０１ｂ）を結合して、共通の出力ケーブル（２０９）を形成し、ビームを、作動中の各レーザ源（２０３）から単一の出力ファイバコネクタ（２１１）に向けてもよい。ここで図１４Ｂを参照すると、共通の出力ケーブル（２０９）のファイバコア（１４０１ａ）、（１４０１ｂ）は、隣接しており、１つ以上のビーム成形構成要素（１４０３）の光軸の中心近くに位置しているので、ビーム成形構成要素（１４０３）は、レーザ源（２０３）のいずれかまたは両方からＥＭＲビーム出力を生成してもよく、ＥＭＲビーム出力には、真の光軸からわずかな角度ずれしかなく、このずれによるビームの形状および方向への影響は、ごくわずかである。

いくつかの実施形態では、光ファイバ出力ケーブル（２０９）はまた、ハンドピース、ロボットヘッド、または他のエミッタなどの装置に係合させるために、その一方の端部に位置した嵌合具（２１１）を含んでもよい。

図１に示されているように、いくつかの実施形態では、システム（１０）は、システム（１０）の様々な構成要素に電力を供給して制御するために、電源および制御電子機器（４００）を含んでもよい。ここで図４を参照すると、いくつかの実施形態では、電源および制御電子機器（４００）は、システム（１０）を操作するために必要とされるように、ＡＣ電力を電源コード（１０３）から受電して、ＡＣ電力を様々な構成要素に分配するために、スイッチおよび電源ボックス（４０１）を含んでもよい。

電源および制御電子機器（４００）はまた、演算装置（１０７）と電子通信状態にあり、ＡＣ電力（例えば、２２０ＶＡＣ）によって電力が供給される制御装置（４０３）を含んでもよく、それによって、構成要素に向けられた１つ以上の操作を行うように、システム（４００）の１つ以上のさらなる構成要素に指令して、エステティック処置を実行する。

電源および制御電子機器（４００）はまた、電源および制御電子機器（４００）の１つ以上のさらなる構成要素を操作するために、電源ボックス（４０１）からのＡＣ電力を高電圧ＤＣ電力または低電圧ＤＣ電力に変換する低電圧ＡＤＣ（４０５）を含んでもよい。低電圧ＡＤＣ（４０５）は、例えば、直接変換型ＡＤＣ、逐次比較型ＡＤＣ、ランプ比較型ＡＤＣ、ウィルキンソン型ＡＤＣ、積分型ＡＤＣ、デルタ符号化ＡＤＣ、パイプライン型ＡＤＣ、シグマデルタ型ＡＤＣ、タイムインターリーブ型ＡＤＣ、中間ＦＭ段階ＡＤＣ、任意の他の好適なＡＤＣ、またはそれらの組み合わせを含む、任意の好適なＡＤＣを含んでもよい。

システムはまた、電源および制御電子機器（４００）の１つ以上のさらなる構成要素を操作するために、電源ボックス（４０１）からのＡＣ電力を高電圧ＤＣ電力または低電圧ＤＣ電力に変換する高電圧ＡＤＣ（４０７）を含んでもよい。高電圧ＡＤＣ（４０７）は、例えば、直接変換型ＡＤＣ、逐次比較型ＡＤＣ、ランプ比較型ＡＤＣ、ウィルキンソン型ＡＤＣ、積分型ＡＤＣ、デルタ符号化ＡＤＣ、パイプライン型ＡＤＣ、シグマデルタ型ＡＤＣ、タイムインターリーブ型ＡＤＣ、中間ＦＭ段階ＡＤＣ、任意の他の好適なＡＤＣ、またはそれらの組み合わせを含む、任意の好適なＡＤＣを含んでもよい。

電源および制御電子機器（４００）はまた、１つ以上のレーザ源（２０３）に駆動電流を送るために、複数のダイオードドライバ（４０９）を含んでもよい。ダイオードドライバ（４０９）は、いくつかの実施形態では、例えば、ｎ型半導体とｐ型半導体との間の接合領域を通って電流を渡すように構成された半導体装置であってもよい。このような構成では、ＤＣ電源（４０７）などの電流源の存在下でｎ型半導体によって生成される電子は、ｐ型半導体の正孔と遭遇すると、結果として光子を生成することができる。光子は、接合領域内で発振することができ、結果として接合領域で光利得が得られる。半導体装置に送られる電流が閾値電流を超えると、光利得が閾値強度を超えて、レーザ光ビームとして光子を接合領域から出す。概して、閾値電流に達した後に、レーザ出力の出力密度（強度）は、入力電流の増加に比例して直線的に増える。さらに、いくつかの実施形態では、ダイオードドライバ（４０９）はまた、電流入力を制御するレギュレータと、例えば、逆流阻止機能部および電気ノイズ抑制機能部などの１つ以上の保護機能部とを含んでもよい。

いくつかの実施形態では、各ドライバ（４０９）／レーザ源（２０３）の対に必要なコンプライアンス電圧が同じであり、選択したダイオードドライバの限界値内にある場合は、単一のＤＣ電源（４０７）または（４０５）が、複数のダイオードドライバに使用されてもよい。ＤＣ電源（４０７）または（４０５）は、同時に駆動したドライバ（４０９）／レーザ源（２０３）の対の数を操作するのに十分な電流耐量が必要とされる。有利には、ＤＣ電源（４０７）または（４０５）と、ドライバ（４０９）またはドライバ（４０９）およびレーザ源（２０３）との間では、特別な切替は必要とされない。ＤＣ電源（４０７）または（４０５）は、いくつかの実施形態では、各ドライバ（４０９）に並列接続されてもよい。これにより、複数のレーザ源（２０３）に主電源を多重化するという選択肢が提示される。

このような実施形態では、図２を参照しながら以上で述べたように、ダイオードドライバ（４０９）の各々は、起動されると、単一のレーザ源（２０３）を直接駆動して、特定の波長を有するビームを生成してもよい。よって、いくつかの実施形態では、治療のために単一の波長のＥＭＲビームを必要とするエステティック処置においては、ドライバ（４０９）／レーザ源（２０３）の１つの対が起動されてもよい。あるいは、いくつかの実施形態では、特定の治療において必要とされるように、および／または、複数の治療を併用もしくは促進するために必要とされるように、２つ以上の波長を実現するために、ドライバ（４０９）／レーザ源（２０３）の複数の対が同時、順次、または交互のパルス状のパターンのうちのいずれか１つで起動されてもよい。

図１を再び参照すると、システム（１０）はまた、電磁石アレイ（２００）ならびに電源および制御電子機器（４００）によって生成される熱を取り除くために、そして、処置中に患者の皮膚を冷却する冷却用空気を送るために、１つ以上の冷却システム（５００）を含んでもよい。概して、冷却要件は主に、電磁石アレイ（２００）によって発生する熱に左右される。例えば、効率が約５０％である、小さなパッケージ内にある１００ＷのＥＭＲ源を操作するシステムにおいては、冷却能力は、２００ワットしかなくてもよい。

このような熱は典型的には、強制空気（例えばファン）冷却、熱電冷却、電磁気アレイ（２００）を直接通って流れる冷却液、または冷却プレートのうちの１つ以上によって放熱される。いくつかの冷却システムは欠点を有するが、ベースプレートをコールドプレートにする冷却が、高効率、安全、静音かつ小型である。大きなコールドプレートは、複数のＥＭＲ源のヘッドを乗せて、電子機器を駆動することができる。いくつかの実施形態では、いくつかのコールドプレートが、親機である循環冷却装置に直列に接続されてもよい。いくつかの実施形態では、異なる冷却温度の要件を適応するのに必要とされるような、親機である１つ以上のさらなる循環冷却装置が設けられてもよい。

図５に示されているように、冷却システム（５００）は、冷蔵熱交換器、熱電冷却器、冷水熱交換器、任意の他の好適な冷却装置、またはそれらの組み合わせなどの冷蔵ユニット（５０１）を含んでもよい。いくつかの実施形態では、冷却液出力（５０１ａ）は、冷蔵ユニット（５０１）から冷やした冷却液を出すことができる。その後、冷却液は、１つまたは複数の装置を通って回わり、冷却を行い、熱を取り除いてから、さらなる冷却のために冷却液戻り（５０１ｂ）に向かうことができる。本明細書では単一の冷蔵ユニット（５０１）を有するように示されているが、いくつかの実施形態では、冷却システム（５００）が、異なる温度で様々な構成要素を冷却するために、１つ以上のさらなる独立した冷蔵ユニット（５０１）を含んでもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。例えば、いくつかの実施形態では、第１の冷蔵ユニットは、処置中に患者に衝突させる（５０３）ための冷却用空気を冷やすために、約０℃～約５℃の温度で冷却液をもたらしてもよく、第２の冷蔵ユニットは、レーザ源（２０３）に損傷を与え得る結露を発生させることなく電磁石アレイ（２００）を冷却するために、約２０℃～約２５℃の温度で冷却液をもたらしてもよく、および／または、第３の冷蔵ユニットは、電源（４０５）または（４０７）を冷却するために、約１０℃～約３０℃の温度で冷却液をもたらしてもよい。さらに、いくつかの実施形態では、冷蔵ユニット（５０１）および／または冷却システム（５００）には、処置要件に一致して治療範囲で治療上許容可能な温度に保ち、そして、機械要件に一致してシステム（１０）内で操作上許容可能な温度を保つのに必要とされるような操作条件および／またはセンサからのフィードバックに応じて、応答して冷却液の温度を調整することが可能な温度調整機能部が設けられることは、本開示を考慮すれば明らかであろう。

ここで図７を参照すると、冷蔵ユニット（５０１）はまた、コンプレッサ（７０１）、コンデンサ（７０３）およびエバポレータ（図示せず）を含んでもよい。冷蔵ユニット（５０１）は、ファン（７０７）を使用して、プレナム（７０５）を通る、コンデンサ（７０３）の強制対流冷却をもたらしてもよい。いくつかの実施形態では、空気質を向上するために、プレナム（７０５）およびファン（７０７）は、粒子、細菌およびウイルスを捕捉するためのＨＥＰＡフィルタ（７０９）を含んでもよく、それによって、このような粒子、細菌およびウイルスがシステム（１０）の周りの空気を通って循環するのを防ぐ。

図５に示されているように、いくつかの実施形態では、冷却液は、熱交換器（５０３）の冷却液入口（５０３ａ）に向けられ、熱交換器（５０３）を通って流され、そして、冷却液出口（５０３ｂ）を介して熱交換器（５０３）から出されてもよい。熱交換器（５０３）は、ガス入口（５０５ａ）を介して熱交換器（５０３）を通って運ばれ、ガス出口（５０５ｂ）を介して出される空気または他のガスを冷却する任意の好適な装置であってもよい。熱交換器（５０３）を流れる空気またはガスは、いくつかの実施形態では、処置中に患者の皮膚を冷却するために使用されてもよい。例えば、いくつかの実施形態では、空気またはガスは、治療上許容可能な温度範囲を保つために、治療中に患者の皮膚に対するガス衝突冷却を介して、患者の皮膚を０～２０℃の範囲内の目的とする温度に冷却してもよい。

いくつかの実施形態では、空気またはガスは、ポンプ（５０７）によって熱交換器（５０３）を通って運ばれてもよい。ポンプ（５０７）は、いくつかの実施形態では、熱交換器（５０３）を通って、噴流衝突型ノズル（図示せず）に向かってガスを運ぶことが可能な任意の好適な装置であってもよい。いくつかの実施形態では、治療範囲（例えば患者の皮膚）で治療上許容可能温度を保つために、ポンプ（５０７）は、制御装置（４０３）と電子通信状態にあり、治療範囲をモニタリングする１つ以上の温度センサからのフィードバックに応じて、冷却用空気またはガスの流量を調整するように、制御装置から指示を受信することができる。

冷却システム（５００）は、いくつかの実施形態では、図２を参照しながら以上に述べられているように、熱交換器（５０３）の冷却液出口（５０３ｂ）から、または、冷蔵ユニットの熱交換器（５０３）の出口（５０１ａ）から直接、取付具（２０１）の第１の冷却液口（２０１ａ）まで冷却液を回してもよい。冷却液は、取付具（２０１）を冷やしてもよく、それによって、取付具（２０１）に取り付けられる１つ以上のレーザ源（２０３）を冷却するヒートシンクをもたらす。図６でより詳細に示されているように、いくつかの実施形態では、取付具（２０１）は、それに取り付けられるレーザ源（２０３）を冷却するコールドプレートであってもよい。いくつかの実施形態では、取付具（２０１）はまた、それに取り付けられる１つ以上のダイオードドライバ（４０９）を含んでもよい。いくつかの実施形態では、コールドプレートの取付具（２０１）は、単一の冷却機構を用いて、ダイオードドライバ（４０９）およびレーザ源（２０３）の両方を有利に冷却してもよい。コールドプレートの取付具（２０１）は、５つのレーザ源（２０３）および２つのダイオードドライバ（４０９）用の大きさであるように本明細書に示されているが、取付具（２０１）が、任意の数または任意の組み合わせのレーザ源（２０３）およびダイオードドライバ（４０９）を乗せるような大きさであってもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。

図５を再び参照すると、冷却液は、第２の冷却液口（２０１ｂ）を介して取付具（２０１）から、または冷蔵ユニットの口（５０１ａ）から直接出されて、そして、ＤＣ電源（４０７）または（４０５）のベースプレート（５０９）の冷却液入口（５０９ａ）に回されてもよく、それによって、電源（４０７）または（４０５）に冷却をもたらす。冷却液は、ベースプレート（５０９）から、ベースプレート（５０９）の冷却液出力（５０９ｂ）を介して出されて、そして、冷蔵ユニット（５０１）の冷却液戻り（５０１ｂ）に回されてもよい。

図１を再び参照すると、システム（１０）はさらに、出力ケーブル（２０９）に結合した装置（９５０）（本明細書では、治療ヘッドとも呼ばれる）の移動、制御および位置決めが可能なように、様々な実施形態による１つ以上の位置決め機器（９００）を含んでもよい。いくつかの先行技術のエステティックＥＭＲ装置では、固定型装置または手動操作型装置を用いてＥＭＲエネルギーを照射する。よって、固定型装置の場合、熱エネルギー照射は典型的には、小さい固定された領域に制限されるか、あるいは、手動操作型装置の場合、全エネルギーが比較的制御されず均一でない用量のものに制限される。したがって、いつかの実施形態では、治療のためにＥＭＲの放射するために使用される装置（９５０）の制御された移動、方向および位置決めを行うために、位置決め機器（９００）によって、複数軸を有する、コンピュータ制御化された機構がもたらされてもよい。いくつかの実施形態では、このような位置決め機器（９００）によって、予め定められた治療区域の上の移動がもたらされてもよい。いくつかの実施形態では、コンピュータ制御によって、固定型システムまたは手動操作型システムに対して、制御および移動の向上をもたらす。特に、治療中に大きな面積にわたって装置（９５０）を走査して、目的とする治療範囲に均一な熱をもたらすコンピュータ制御がもたらされてもよい。本発明を説明する目的で、走査には、治療範囲にわたって制御された装置（例えば、装置（９５０）または別の装置）の移動が含まれてもよい。走査操作中に、装置は、例えば、エネルギーを向けること、範囲の視認を行うこと、視覚表示を向けること、冷却を当てることなどの異なる操作を行ってもよい。さらに、治療パターンは、治療において所望される任意の形状に変更されてもよい。例えば、治療パターンは、既存の瘢痕組織またはへその範囲を回避するようにプログラムされてもよい。

治療される範囲の所望の適用範囲を設け、そして、装置（９５０）を適切に位置決めするために、位置決め機器（９００）には、装置（９５０）の移動のための任意の数の自由度が設けられてもよい。例えば、場合によっては、治療プロセスは、１つのＤＯＦしか採用せず、治療範囲にわたって装置（９５０）を前後に移動させてもよい。図８に示されているように、実質的に平面である目的とする治療範囲を有するいつかの実施形態では、位置決め機器は、装置（８００）のｘ軸に沿った移動をもたらす第１のレール（８０３）と、装置（８００）のｙ軸に沿った移動をもたらす第２のレール（８０５）とを有する２自由度の制御装置（８００）であってもよい。

ここで図９を参照すると、いくつかの実施形態では、位置決め機器（９００）は、６自由度のロボットアームであってもよい。位置決め機器（９００）は、例えば、回転可能なベース（９０１）を含んでもよく、それによって、位置決め機器（９００）の回転の第１の自由度を設ける。回転可能なベース（９０１）は、第１の部分（９０３）に旋回可能に係合されてもよく、それによって、第２の自由度を設ける。第１の部分（９０３）は、第２の部分（９０５）に旋回可能に係合されてもよく、それによって、第３の自由度を設ける。第２の部分（９０５）は、第３の部分（９０７）に旋回可能に係合されてもよく、それによって、第４の自由度を設ける。第３の部分（９０７）は、第４の部分（９０９）に旋回可能に係合されてもよく、それによって、第５の自由度を設ける。第４の部分（９０９）は、装置（９５０）を回転させる回転可能な部分（９１１）を含む。概して、回転可能なベース（９０１）は、システム（１０）のハウジング（１００）に係合されてもよく、あるいは目的とする治療範囲のさらに近くに位置決めするために、別のプラットフォームに取り付けられてもよい。位置決め機器（９００）の６自由度は、目的とする患者の体形に従って、所望の治療区域に合わせるために有利に使用されてもよい。

このような位置決め機器（９００）は、例えば、皮下脂肪減少の場合などの様々な処置で重要であってもよく、皮下脂肪減少の場合、皮下脂肪に熱を付与するのに、一定時間にわたって、例えば、約４０℃～約４８℃などの治療上許容可能な温度範囲に達し、これを保つことが必要とされる。特に、いくつかの実施形態では、これより低い温度は、脂肪減少の効果を有さず、これより高い温度は、重度のネクローシス、細胞傷害および瘢痕を引き起こす場合がある。従来の装置は、電源のオフとオンを調節またはサイクルさせて、この温度範囲を保っている。しかし、脂肪の熱伝導率が低いことで、ＥＭＲ源のオン／オフのサイクル時間が、治療中に装置を走査または移動させるのに適合しており、それによって、より大きい治療範囲を覆い、そして、治療される組織の過熱を回避する。よって、位置決め機器（９００）は、目的とする患者の体形に従って、所望の治療区域に合わせるために、装置（９５０）を制御するようにプログラムされてもよい。このような実施形態では、送られる熱エネルギー、治療範囲、エネルギーをオンにするドウェル時間、および、目的とする温度を保つための熱源復帰時間は、全体的な治療プロトコルを判断するために使用できる要素である。患者の情報、センサおよびフィードバックはまた、部位全体を覆うような方法でエネルギー送出モジュールを走査することによって、治療部位全体にわたって均一な熱を保つためにすべて使用できる。しかし、いくつかの実施形態では、システム（１０）は、位置決め機器（９００）を含んでなくてもよく、装置（９５０）は代わりに、手動操作および位置決めを行うために、ファイバ出力（２０９）によってハウジングに接続されても、および／または、冷却用空気源に接続されてもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。さらに、いくつかの実施形態では、システム（１０）は、位置決め機器（９００）を用いて使用するための装置（９５０）と、特定の処置によって必要とされて使用するための、手動操作されて位置決めされる装置（９５０）の両方を含んでもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。例えば、手動操作されて位置決めされる装置（９５０）は、所望の場所で使用されてもよい。

さらに、センサ（１０００）および対応するセンサによるフィードバックは、演算装置（１０７）によってリアルタイムでモニタリングされてもよく、それによって、演算装置（１０７）は反応して、装置（９５０）を再位置決めするように（例えば、制御装置（４０３）を介して）位置決め機器（９００）に指示することが可能になる。例えば、いくつかの実施形態では、センサ（１０００）が、皮膚温度が高すぎることを検知した場合は、演算システム（１０７）は、治療中に装置（９５０）を新しい場所に移動させるように、および／または、走査を速めるように、位置決め機器（９００）に指示してもよく、それによって、１つの範囲のドウェル時間を減らし、過熱を防ぐ。いくつかの実施形態では、センサ（１０００）が、皮膚温度が低すぎることを検知した場合は、演算システム（１０７）は、装置（９５０）と目的とする表面との間の距離または間隔を増やすように位置決め機器（９００）に指示してもよく、それによって、装置（９５０）を通って流れる冷却用空気の効果を減らす。さらに、センサ（１０００）は、治療される表面に対する装置（９５０）の位置を検知するために含まれてもよい。このような実施形態では、センサ（１０００）からのフィードバックに従って、位置決め機器（９００）は反応して、治療される表面に対する装置（９５０）の位置または方向を調整してもよい。例えば、いくつかの実施形態では、位置決め機器（９００）は、装置（９５０）と治療される表面との間の予め設定された離れている高さを保ってもよい。

近赤外線のＥＭＲ源で、皮下脂肪への伝播が達成されることをモデル化した数値シミュレーションでは、２×２インチの範囲にわたって１平方ｃｍ当たり１．５ワットをかけた場合、深さ１２ｍｍにある脂肪組織が、５０秒以内に４７℃に達することを示している。このサンプルモデルはまた、皮膚を３０℃にする制御式冷却を含んでいた。シミュレーションでは、冷却なしでは、皮膚表面が５７℃超の許容不可能な温度に達し得ることを示している。この場合、モデルではまた、時間と共に脂肪組織の温度がどのように減衰するかを示している。このモデルでは、患者は、５０秒間にわたって１つの区域を治療されてもよいが、その後、別の５０秒間は、ロボット制御によってエネルギー源を次の区域に移動させることを示している。これが複数の区域で繰り返されてもよいが、効率的に温熱アポトーシスを行うために、最初の区域の温度が、４０～５２℃の目的とする温度範囲より大幅に下がる前に最初の区域に戻ることのみが必要とされる。さらなるモデル研究では、５２℃の温度に達するのに第２の治療持続時間ではより少ない時間を必要とし、必要とされる再加熱時間の減少は漸近的であることを示している。いくつかの事例では、治療ヘッドがパターンループの周りを走査しているときは、組織が目的とする温度（５２℃）に達するまで特定の出力レベルで走査して、その後、減衰が出力レベルに合う停滞期に入るまで出力を下げてもよく、停滞期に入ると出力をさらに減らす必要はなくてもよい。

本発明のいくつかの実施形態では、制御システムは、治療範囲の温度をモニタリングしてもよく、その後、治療範囲の近接内の皮膚をモニタリングしてもよく、そして、皮膚または治療範囲の温度が高すぎるときは、ＥＭＲを送るのを停止してもよい。例えば、ある範囲の温度が、予め定められた温度範囲外であるときは、制御装置は、デューティサイクルのオフ期間を開始して、その範囲を冷却させてもよい。デューティサイクルのオフ期間の間は、影響を受けた範囲は、自然に冷却されるか、あるいはシステムによって冷却用気流がその範囲に当てられてもよい。いくつかの実施形態では、短時間にわたってＥＭＲを送るのを停止し、同時に、皮膚温度が所望のレベルに下がるまで冷却用空気を当てて走査することによって、皮膚が冷却されてもよい。いくつかの実施形態では、レーザヘッドは、第１の治療場所に留まって、皮膚または治療範囲の温度が許容可能な範囲またはレベルに戻るのを待つ代わりに、第２の治療場所に移動させて、デューティサイクルのオフ期間中に、第２の治療場所の治療を開始してもよく、それによって、全体的な処置時間を減らす。

このモデルは、定められた組織の特徴に基づいた例であることに留意することが重要である。しかし、ドウェル時間および再加熱サイクルは、例えば、患者の肌タイプ、患者の特徴、波長、冷却の特徴などに基づいてケースバイケースで調整される必要があってもよい。さらに、治療が、５２℃を目的とする必要はなく、代わりに、処置特異的な範囲内でより低い温度を目的としてもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。例えば、治療は、４４℃などのより低い目的とする温度で上手くいく場合がある。各場合では、患者のタイプおよび治療時間は、目的とする温度範囲に応じて調整されてもよい。さらに、いくつかの実施形態では、温度が、短時間にわたって４０℃の最小限の有効温度より下げられることが可能であってもよく、温度を、温熱アポトーシスの目的とする範囲まで再び上昇させるために、再加熱が施されることは、本開示を考慮すれば明らかであろう。適切な入力パラメータを用いてコンピュータ制御を施すことで、高効率の最適化された治療プロトコルが可能になる。

いくつかの実施形態では、想定される温度の減衰期間と等しい時間で、エネルギー源が最初の治療部位に戻るというパターンの走査が行われてもよい。目的とする温度まで再加熱するのに、第２の通過ではより少ない時間が必要とされるので、エネルギー源は、第２の通過では組織の上をより速い速度で移動させられてもよい。エネルギー源の走査パターンは、最小限の時間で最大限の面積を治療するために最適化されてもよく、患者の生体構造および組織パラメータに左右される。走査速度および治療パターンは、測定される皮膚温度および熱流束ならびに予測される皮下組織の温度に基づき、リアルタイムで変更されてもよい。エネルギー源の出力は、さらに治療を最適化するために、エネルギー源の移動中に調節されてもよい。

図１８を参照すると、いくつかの実施形態では、レーザヘッドは、レーザビーム自体の断面積（１８０２）より大きい面積を有する、目的とする組織の領域または治療区域（１８００）にわたって走査され続けてもよい。このような事例では、レーザビーム（またはＥＭＲビーム）の断面積（１８０２）が、重なり合わない方法で照射されるように、走査パターン（１８０４）が形成されてもよい。例えば、ビームは、ビームが開始点に戻るパターン（１８０４）で、目的とする領域にわたってさっと通過させてもよい。いくつかの実施形態では、走査パターン（１８０４）は、アポトーシスを行うために十分な時間にわたって組織が治療温度範囲内にあるまで、繰り返されてもよい。このような実施形態では、レーザ出力は、組織で見られる（ビームからの）平均出力密度が、レーザビームが固定であるときにアポトーシスを行うために必要な出力密度より大きく保つレベルに上げられてもよい。

例えば、レーザビームの断面積は、４．３ｃｍ対４．３ｃｍ、あるいは約１８．２ｃｍ^２であってもよく、この正方形の断面は、１４８ｃｍ^２の走査領域における組織の合計面積のために、４×２のパターン、あるいは４×４．３ｃｍ対２×４．３ｃｍであってもよい。この例を続けると、いくつかの実施形態では、ビームは、２つの列の組織にわたって走査してもよく、列間の遷移中はオフにされてもよい。ビームが領域にわたって繰り返し走査する場合は、所与の１８．５ｃｍ^２の組織がビームにあるわずかな時間は、１８．５／１４８＝１／８＝０．１２５である。最初の走査中にレーザ出力が１５０ワットであると仮定すると、瞬時出力密度は、１５０／１８．５＝８．１ワット／ｃｍ^２である。そして、目的とする組織領域にわたる最初の走査中にいずれの組織にも送られるレーザの平均出力密度は、８．１／８ワット／ｃｍ^２＝１．０１ワット／ｃｍ^２である。固定ビーム用である１．０１ワット／ｃｍ^２の治療レベルから、移動ビーム用である１．０１／．１２５＝８．１ワット／ｃｍ^２に上げることによって、走査される領域のいかなる部分でも平均出力が１．０１ワット／ｃｍ^２に保たれる。この例では、治療範囲内の任意の所与の組織は、１２．５％の時間は８．１ワット／ｃｍ^２のレーザビーム中にあり、８７．５％の時間はビーム外にある（すなわち、１２．５％のデューティサイクル）。組織がビーム外にある時間中に、その温度は低下するが、治療範囲に留まる。この実施形態では、レーザは、常にオンであり、所望のデューティサイクルは、特定の速度および／またはパターンでビームを走査することによって達成されてもよい。平均出力密度は、約１．５ワット／ｃｍ^２の臨界安全値を決して越えないものとする。いくつかの実施形態では、臨界安全値は、５ワット／ｃｍ^２より大きい。

いくつかの実施形態では、図１８に描かれているように、長方形の治療区域（１８００）または治療範囲を形成するために、パターン（１８０４）が形成されてもよい。治療区域（１８００）は、縦横を有してもよく、縦は、レーザビームの縦のおよそ整数倍であり、ビームの断面積（１８０２）の横は、レーザビームの横のおよそ整数倍である。例えば、図１８に描かれているように、走査線の周囲は、正方形のレーザビームの辺の寸法の８倍に等しくてもよい。この例を続けると、レーザビームの断面の辺の寸法が４．３ｃｍである場合は、走査の周囲は３４．４ｃｍである。当業者であれば理解されるように、治療範囲内でレーザビームを重なり合わせずに照射することを実現するために、治療区域（１８００）は、大きさ、形状およびパターンの任意の組み合わせを含んでもよい。例えば、治療範囲は、正方形のレーザビームの辺の寸法の４倍の外周を有してもよい。代わりの実施形態では、治療区域（１８００）の大きさ、形状およびパターンは、治療範囲を通して一定した目的とする温度範囲を保ちながら、重複を有するように具体的に設計されてもよい。同様に、治療区域（１８００）の大きさ、形状およびパターンは、正方形ではないレーザビーム、例えば、円形のレーザビームを用いて操作を容易にするように具体的に設計されてもよい。

図１８を続けると、いくつかの実施形態では、走査モードで、組織を、治療区域（１８００）全体を目的とする温度範囲まで加熱するデューティサイクルにさらす。上記の例を続けると、１回の走査すべては、約４秒で完了してもよく、それによって、レーザ走査速度は、８．６ｃｍ／秒であり、組織は、目的とする組織の各走査において１／８のデューティサイクルまたは０．５秒間にわたってレーザビーム経路内にある。脂肪組織の熱伝導率が低いことで、走査中に目的とする温度範囲を保つのに役立つ。所与のレーザの出力密度においては、いくつかの実施形態では、レーザが所与の組織の上にある時間中に達する最大限の温度と、レーザが所与の組織の上にない間に達する最小限の温度とを予測するために、組織モデルが使用されてもよい。例えば、モデルは、レーザビームから出るワット数／出力、および、任意の冷却用空気の温度／流量を測定して、皮下温度を計算して、皮膚温度が何であるかを判断してもよい。モデルはまた、時間とともに相殺補償して、レーザビームのワット数／出力を調整して、皮下組織の適切な温度区域を保ってもよい。最大ドウェル時間またはレーザビームの寸法を考慮して、最小走査速度は、組織の過熱を防ぐ必要があり、そして、最小走査速度は、レーザビームが所与の組織に向けられていない時間中の過度の冷却を防ぐ必要がある。いくつかの例では、最大ドウェル時間は、０．２５～１．０秒の範囲内であり、４．３ｃｍの正方形のレーザビームと仮定すると、最小走査速度は、８．１ワット／ｃｍ^２のレーザの出力密度において４．３ｃｍ／秒～１７ｃｍ／秒の範囲内である。いくつかの実施形態では、モデルを確認し、何らかの修正のための入力を提供するために、１つ以上のセンサが使用されてもよい。確実に所定の温度を超えないように、１つ以上のセンサが、安全目的のためにも使用されてもよい。

確実に目的とする領域のすべての組織がアポトーシスをするように、組織は、細胞を変性させるのに十分な時間にわたって目的とする温度範囲内に保持されなければならない。１５分間の露光時間は、４０～５２℃の目的とする範囲内に保持される組織のアポトーシスを引き起こすのに十分であると判断される。目的とする領域で熱が保持されるので、温度を目的とする範囲内に保つのに必要な平均出力は、時間とともに下がる。いくつかの実施形態では、治療持続時間にわたってレーザの出力密度を下げることによって、平均出力の低下が達成できる。例えば、組織モデル化は、レーザ出力を１５０ワットに設定して、正方形のレーザビームの断面積の辺を４．３ｃｍに設定して、図１８の組織領域を約５０回走査することで、２００秒または３と３分の１分以内で組織を目的とする温度範囲の最大値にすることができることを示している。その後、１５分間の総治療時間に対して、１５回の走査または１分間にわたってレーザ出力が１３０ワットに下げられ、その後、１５回の走査または１分間にわたって１１５ワットに下げられ、その後、１分間にわたって１００ワットに下げられ、そして最後に、１３０回の走査または８と３分の２分間にわたって８５ワットに下げられると、組織が目的とする温度範囲内に保たれる。

いくつかの実施形態では、目的とする組織（例えば、脂肪減少処置においては脂肪層）の温度を４２℃～５１℃の範囲より高くまで上昇させることが可能であってもよい。一部の患者においては、皮膚温度を、一部の患者が痛みを感じる温度である４０～４３℃未満に保つために、この範囲が選択される。いくつかの実施形態では、患者に痛みを引き起こすことなく、目的とする組織の温度を約５０℃または約５５℃のより高い温度まで上昇させることが可能である。治療組織から皮膚への熱伝導率が低いときに、このより高い温度が使用されてもよく、および／または、より積極的な皮膚の冷却と共にこのより高い温度が使用されてもよい。これらのより高い温度が使用される場合は、治療時間は、１５分から約１０分または約５分に減らされてもよい。

いくつかの実施形態では、レーザビーム（またはＥＭＲビーム）を発生するために、１５０Ｗのレーザが使用されてもよい。この実施形態では、治療区域（１８００）を、患者の皮膚が許容可能な範囲内にあるような温度まで加熱するために、レーザが使用されてもよい。その後、一定時間にわたって、例えば、約５秒間、約１０秒間、約１５秒間、あるいは皮下治療範囲の温度を許容可能なレベルに保ちながら、皮膚温度が許容可能なレベルを超えていくのを防ぐことができるようにするために必要な長さの時間にわたって、レーザが停止されてもよい。いくつかのさらなる実施形態では、使用者／医師が第１の治療範囲が冷却するのを待つ間に、レーザを新しい治療範囲に移動させてもよい。このような実施形態では、より高いレーザ出力は、より低いレーザ出力より速く皮下組織を加熱し、そして、レーザがオフである時間または別の治療範囲に移動させられる時間によって、治療範囲で高い温度を保ちながら、表面の組織を冷却することができる。

いくつかの実施形態では、治療区域、治療範囲または目的とする組織領域は、部分的に型を使用することによって形成されてもよい。例えば、図２６Ａ、２６Ｂまたは２６Ｃに示されているような型は、図１８に示されている形状の治療区域（１８００）をマーキングするために使用されてもよい。型は、例えば、紙、プラスチックなどの任意の組み合わせの材料であってもよい。型は、治療装置によって使用されるように、患者上の治療範囲を登録またはマッピングするのを補助するために、医師または他の使用者によって使用されてもよい。型の形状および寸法は、本明細書でより詳細に述べられているように、システムに対して治療範囲の境界を示すために使用されてもよい。医師には、予め設定された形状、大きさなどを有する、異なる予め定められた型が提供されてもよく、医師は、所望の治療のために適切な型を選択することができる。医師は、患者上の所望の治療範囲に十分に合ってこれを覆う型を選択してもよい。患者は、治療システムに隣接した位置に配置され、医師は、治療される患者の身体の範囲に選択した型を配置してもよい。選択された型は、異なる方向に配置されてもよく、所望の治療範囲に合うように回転させられてもよい。いくつかの実施形態では、医師は、特定の治療範囲に合うようにカスタムの型を形成してもよい。

いくつかの実施形態では、型は、治療装置の治療ヘッド、アームなどを位置合わせするために、システムによって入力として可読な識別可能なマーキングを形成するのを補助するために提供されてもよい。マーキングは、治療範囲の境界がどこにあるべきかを示すために使用されてもよく、治療装置は、それらの境界に基づいて治療パターンを形成してもよい。いくつかの実施形態では、所定の位置にある型を用いて、医師は、患者の身体上にある型によって示されるようにマーキングを配置してもよい。例えば、図２６Ａ、２６Ｂまたは２６Ｃに示されている型（２６１０）、（２６２０）または（２６３０）を使用して、所与の型（２６１０）、（２６２０）または（２６３０）の４つの隅の各々にマーキングが形成されてもよい。マーキングは、機械判読可能な任意の組み合わせの方法を使用して形成されてもよい。例えば、黒いマーカ、ＵＶマーカなどを用いて、カメラ認識、画像法などの任意の組み合わせを使用して機械検知可能／機械判読可能なマーキングが皮膚上につけられてもよい。所定の位置にあるマーキングを用いて、医師は、型を取り除き、マーキングされた範囲にわたってアームを（手動または自動で）移動させることができる。例えば、医師は、ユーザインタフェース（図１の（１０１））上の機械または電子ユーザインタフェースボタンを使用して、アームを手動で移動させるか、あるいは、治療アームを手動で移動させるために、ジョイスティックまたは他の装置が使用されてもよい。アームが、提案されている治療範囲の上にくると、治療中にシステムによって使用されるように、マーキングの場所が識別、設定および／または保存されてもよい。いくつかの実施形態では、治療範囲は、エステティック治療装置をマーキングの各々の上に移動させることによって登録されてもよく、マーキングは、識別されると、データとしてシステムによって登録されてもよい。記録されたマーキングは、その後、外枠を形成するために、あるいは治療範囲をマッピングするために、システムによって使用されてもよい。例えば、システムは、装置を用いてマーカが登録された順（例えば、使用者が、マーキングの上に装置を移動させることによって指定した順）に、マーキングの各々の間に境界線を形成し、最後のマーキングと最初のマーキングを繋げて連続した外枠を形成してもよいいくつかの実施形態では、外枠は、例えば、使用者が型のコードを入力するか、または走査することを介して、特定の型と関連させてもよく、それによって、マーキングが、型によって指定された本外枠の方向付けをもたらす。外枠の形成にかかわらず、外枠は、治療範囲をマッピングし、レーザビーム（またはＥＭＲビーム）を治療範囲にわたって向けるパターンを形成するために使用されてもよい。いくつかの実施形態では、レーザ（１０７）は、治療範囲の隅または境界をマーキングするために、医師である使用者によって使用されてもよい。例えば、医師は、レーザの可視ビームによって反射されるように、治療ヘッドをマーキングの上に移動させ、その後、システムを用いてマーキングを登録して（例えば、ボタンを押して）境界を形成してもよい。いくつかの実施形態では、レーザ（１０７）によってまた、機械が、使用者が治療を望んでいる範囲を治療していることについて目視確認を行ってもよい。

ここで図１９を参照すると、患者の組織の領域のエステティック治療のための例示的なプロセス（１９００）が示されている。プロセス（１９００）は、図１～１７および２０～２５に関して述べられている装置およびシステムの任意の組み合わせを使用して実施されてもよい。工程（１９０２）では、患者のデータが入力でき、適切な走査パターンおよび治療プロトコルが選択される。患者のデータには、治療プロセスに関し得る任意の組み合わせのデータが含まれてもよい。例えば、患者のデータには、年齢、人種、性別、体重、体格指数（ＢＭＩ）、スキントーンなどが含まれてもよい。適切な走査パターンおよび治療プロトコルは、任意の組み合わせの情報に基づいてシステムによって提供されてもよい。例えば、適切な走査パターンおよび治療プロトコルは、使用者による入力データに基づいて利用可能な選択肢の一覧から選択されてもよい。治療プロトコルの入力の例には、所望のビーム出力、処置の種類、照射される波長（複数可）、パルス持続時間、治療持続時間、ビームパターン、治療範囲の温度、療法パラメータ、皮膚温度のデータ（汎用的または患者特異的）、皮膚温度と熱流束のデータ（汎用的または患者特異的）、タイミングデータなどが含まれてもよい。その後、安全な走査速度が入力されてもよく、安全な走査速度は、以上の入力データに基づくものであってもよい。いくつかの他の入力には、治療の範囲を覆うために、あるいは治療されない範囲をマーキングまたは変更するために医師が選ぶ型が含まれてもよい。例えば、治療範囲が、他の組織より速く熱を吸収し得る瘢痕を含む場合は、医師は、瘢痕の上にブロックを配置して、レーザビームを反射し、過熱を回避してもよい。いくつかの実施形態では、使用者は、所望の処置または結果に基づいて出力レベル（例えば、フル出力または弱出力）を選択することができる。例えば、フル出力は、より多くの脂肪減少のために使用されてもよく、弱出力は、より少ない脂肪減少のために使用されてもよい。

工程（１９０４）では、治療の平均出力密度を予め定められた安全レベルより下に保ちながら、組織を治療の温度範囲内に保つエネルギー源の出力密度が選択される。エネルギー源の出力密度は、総治療時間にわたって平均された出力密度を臨界値未満に保つレベルに設定されてもよい。エネルギー源の出力密度についての選択肢は、工程（１９０２）の入力に基づいてシステムによって推奨されてもよい。いくつかの実施形態では、レーザビームは常に移動しているので、処置中により高いレーザの出力密度が使用されてもよく、それによって、各組織はより低いエネルギー量にさらされてもよい。たとえば、４．３×４．３ｃｍの範囲にわたって１５０ワットのレーザを照射すると、８．１Ｗ／ｃｍ^２になり、これは、固定型の場合は高すぎる場合がある。しかし、８．６×１７．２ｃｍの範囲にわたって走査することによって、平均出力は１Ｗ／ｃｍ^２になり、 そして、快適かつ安全な皮膚温度を保ちつつ、目的とする高い脂肪温度に達するのに適切な高効率の皮膚の冷却が伴われる。これらの値は、同等の平均出力密度を得るために調整されてもよい。

工程（１９０２）および（１９０４）の入力は、使用者によって入力されても、あるいは治療システムによって記憶または計算されてもよい。例えば、医師は、システム（２０００）または同様のものを使用して、レーザの走査パターンおよび走査速度を判断するために使用される入力を提供してもよい。システムはまた、使用者にフィードバックをもたらすために使用されてもよく、例えば、ロボットアームがレーザヘッドを走査すると、レーザ出力および温度測定値がディスプレイ上に示されてもよい。

工程（１９０６）では、エネルギー源は、第１の治療範囲の上を走査パターンに従って移動させられ、エネルギー源が走査すると、治療が開始する。例えば、エネルギー源は、図１８の治療区域（１８００）の上を移動させられてもよい。走査パターンが完了すると、エネルギー源は、その開始点に戻る。

工程（１９０８）では、システムは、総治療時間に達したかを判定するために確認してもよい。総治療時間は、予め定められた値に基づいたもので、１５～２５分間、平均２０分間であってもよく、あるいは装置から受信されたフィードバックに基づいたものであってもよい。より高い脂肪温度であれば、より有効である場合があり、２０分間にわたる治療が、漸近的なレベルに近い。いくつかの実施形態では、総治療時間を通して目的とする温度を保つために、エネルギーを徐々に減らしてもよい。操作者は、より低いレベルを選択してもよく、また、短期間のサイクルにわたってレーザがオフであるが冷却がオンである、手動選択の手軽な冷却という選択肢も有している。総治療時間に達した場合は、プロセス（１９００）は、工程（１９１０）に進む。

工程（１９１０）では、総治療時間に達したときに、エネルギー源がオフになり、治療が完了する。いくつかの実施形態では、第１の範囲で治療が完了すると、エネルギー源は、次の治療範囲に移動させられてもよい。総治療時間に達していない場合は、プロセス（１９００）は、工程（１９１２）に進む。工程（１９１２）では、エネルギー源が工程（１９０２）に戻り、予め定められたパターンに従って組織にわたって走査し続ける。いくつかの実施形態では、制御装置は、印加電力、所要時間、治療ヘッドの移動速度などの組み合わせに基づいて、レーザビームによって当てられるエネルギーを自動調整してもよい。いくつかの実施形態では、使用者はまた、手動介入して、エネルギーレベルの調整をもたらしてもよい。例えば、使用者は、患者が快適でない場合は、冷却を当てながら、レーザビームをオフにしてもよい。

いくつかの実施形態では、エネルギー源は、断面積を有するレーザビームであってもよい。いくつかの実施形態では、レーザの出力密度は、５～１０ワット／ｃｍ^２の範囲内であってもよい。いくつかの実施形態では、治療される領域の総面積は、２０ｃｍ^２～２００ｃｍ^２の範囲内である。治療領域全体にわたって平均されたレーザの出力密度は、臨界値未満に保持されてもよい。いくつかの実施形態では、レーザの臨界平均出力密度は、１．５ワット／ｃｍ^２であってもよい。

図１に戻って参照すると、装置（９５０）は、いくつかの実施形態では、患者の治療のために、ビーム結合器（２０７）によって放射され、ファイバ出力（２０９）を介して受光される結合ビームを放射するように構成されてもよい。いくつかの実施形態では、１つ以上の装置（９５０）は、光ファイバ出力ケーブル（２０９）の嵌合具（２１１）に置き換え可能に係合されてもよい。概して、装置（９５０）は、ミラー、ビーム整形光学系または任意の他の適切な光学素子を含んでもよい。例えば、ファイバ出力は、患者上に直接放射されるか、あるいは平行化装置に嵌合されてもよい。同様の方法で、２つ以上のＥＭＲビームは、ミラーおよびビーム分岐光学系を使用して、空間で結合してもよい。患者上の所望のビーム形状またはパターンは、光学素子を用いて変更されてもよく、光学素子は、レンズ、レンズアレイ、回折型または屈折型ビームシェイパまたは任意の工学拡散装置であってもよい。結果として得られるビーム形状は、所望の治療パターンと合うものであってもよい。いくつかの実施形態では、出力ビームは、所望のビーム直径、出力レベルと合うように調整され、そして、平行化、分岐または集光されてもよい。以上で述べられているように、１つ以上のレーザ源（２０３）は、同時、交互、または順次に操作されてもよい。これは、ファイバケーブルおよび引き回し光学系が受動型装置なので、各レーザ源（２０３）への入力によって制御されてもよい。安全および規制コンプライアンスのために必要とされるように、ＥＭＲビームのスイッチおよびインターロックが含まれてもよい。いくつかの実施形態では、装置（９５０）はまた、位置決め機器（９００）によって位置決めを調整するために、コンピュータ（１０７）にフィードバックをもたらす距離センサを含んでもよい。

さらに、装置（９５０）が位置決め機器（９００）に取り付けられるように、および／または、結合されているように図１に示され、本明細書で説明されているが、いくつかの実施形態では、装置（９５０）が、いくつかの実施形態では、手動ハンドピースとして使用されてもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。このような実施形態では、装置（９５０）は、いずれの位置決め機器にも結合されていなくてもよく、代わりに、装置（９５０）の手動操作および位置決めを可能にするために、ファイバ出力（２０９）のみによってハウジング（１００）に結合されているか、および／または、冷却用空気供給部に結合されていてもよい。

ここで図１７を参照すると、装置（１７００）は、治療範囲に接触することなく患者の治療を行うために、ファイバ出力（２０９）を介して受光したＥＭＲビームを放射するように構成される。特に、装置（１７００）は、装置（１７００）またはシステムの他の構成要素を治療範囲の表面に接触させることなく、ＥＭＲビームを治療範囲に向け、冷却用気流を治療範囲に向け、そして、センサによる治療範囲に関連したフィードバックを制御装置（４０３）にもたらすように構成されてもよい。

そのため、装置（１７００）は、治療範囲で向けられる表面（１７０３）を有するハウジング（１７０１）を含んでもよい。気流を制御するのに適切な形状を保持し、操作に関連した圧力および力に耐えるために、ハウジング（１７０１）は、いくつかの実施形態では、金属、プラスチック、透明プラスチック、ガラス、ポリカーボネート、ポリマー、サファイア、任意の他の好適な材料、またはそれらの組み合わせなどの任意の好適な材料で構成されてもよい。ＥＭＲがハウジング（１７０１）を通って伝播されて、治療範囲に向けられることを可能にするのに望ましい場合に限り、ハウジング（１７０１）の少なくとも一部、特に表面（１７０３）の少なくとも一部を光学的に透明な材料から形成することが有利であってもよい。いくつかの実施形態では、ハウジング（１７０１）全体が光学的に透明であってもよい。図１７に示されているように、いくつかの実施形態では、表面（１７０３）が透明でありながら、ハウジング（１７０１）が光学的に透明でなくてもよい。しかし、概して、ＥＭＲビームに近接した表面、あるいはそれと同一空間を占める表面（１７０３）の部分は概して随意に、ＥＭＲの伝播を妨げないように、光学的に透明であるべきである。

ハウジング（１７０１）はまた、そこを通るＥＭＲビームの伝播を容易にするために、ＥＭＲビームを、表面（１７０３）を含むハウジング（１７０１）を通して、治療範囲に向けるために、ファイバ出力（２０９）に係合するＥＭＲ口（１７０７）を含んでもよい。様々な実施形態によれば、ＥＭＲ口（１７０７）は、例えば、ルアースリップ、ルアーロック、嵌合具、ファイバ結合器または任意の他の好適な嵌合具などの、ファイバ出力（２０９）に係合することが可能な任意の嵌合具を含んでもよい。さらに概して、ＥＭＲ口（１７０７）は、ファイバ出力（２０９）によって発生されるＥＭＲビームを、ハウジングを通して治療範囲に向けるのに適した任意の構成を含んでもよい。

いくつかの実施形態では、装置（１７００）は、特定のビーム形状を生成するために、ビーム整形光学系（図示せず）を含んでもよい。例えば、図１７に示されているように、ビーム形状は、拡大した正方形のビームであってもよい。しかし、ＥＭＲは拡大した正方形のビームとして図１７で示されているが、例えば、様々な実施形態によれば、任意の他のビーム形状が使用されてもよく、これには、例えば、拡大した、集光した、直進した、均一化した、平行化した、円形、正方形、長方形、五角形、六角形、楕円形、任意の他の好適な形状、またはこれらの組み合わせが含まれることは、本開示を考慮すれば明らかであろう。

図１７に示されているように、装置（１７００）はまた、治療範囲を冷却する空気冷却機器としての役割を果たしてもよい。そのため、装置（１７００）は、ハウジング（１７０１）に気流を受け入れる１つ以上の冷却用空気口（１７０９）を含んでもよい。各冷却用空気口（１７０９）は、気流源に接続するために、任意の好適な設計、大きさまたは形状のものであってもよく、これには、例えば、ハウジング（１７０１）の開口部、ハウジングと流体連通したチューブ、ルアーロックコネクタ、ルアースリップコネクタ、嵌合具、任意の他の好適な設計、またはこれらの組み合わせが含まれる。いくつかの実施形態では、冷却用空気口（１７０９）は、ハウジング（１７０１）と一体に形成されてもよい。いくつかの実施形態では、冷却用空気口（１７０９）は、ハウジング（１７０１）に取り付けられるか、固定されるか、あるいはそうでなければ流体連通した別の要素であってもよい。

冷却用空気口（１７０９）を介してハウジング（１７０１）の中に受け入れられる気流は、治療範囲を冷却する空気を向けるために、表面（１７０３）を通って治療範囲に向かって向けられてもよい。特に、表面（１７０３）は、治療範囲に気流を向けるために、表面（１７０３）に形成される複数の開口部（１７０５）を含んでもよい。いくつかの実施形態では、開口部（１７０５）は、ＥＭＲが治療範囲に向けられる妨げとなることを回避しつつ、治療範囲を治療上許容可能な温度範囲に保つのに適した温度、流量および出流速度で、気流を治療範囲に向けるように位置していてもよい。そのため、ＥＭＲが伝播される表面（１７０３）（ＥＭＲ伝播領域）の一部分と同一空間を占める開口部、あるいはそれに近接した開口部（１７０５）は、光学的に透明な材料から形成されてもよい。他の開口部（１７０５）がＥＭＲ伝播領域と位置合わせされない場合に限り、それらの開口部は透明である必要がなくてもよい。

いくつかの実施形態では、複数の開口部（１７０５）は、少なくともＥＭＲによって照らされる治療範囲にわたって、実質的に均一な冷却をもたらすことができるパターンに配置されてもよい。いくつかの実施形態では、実質的に均一な冷却は、治療範囲より大きな面積にわたって広げられてもよい。このような実施形態では、手動、あるいは処置において目的とする温度範囲を保つために適切なエネルギーを送るようにプログラムされる制御装置（４０３）による自動制御による位置決め機器（９００）によって、装置（１７００）が１つの治療範囲から別の治療範囲に移動させられると、その前またはその後に治療範囲を冷却することが可能になる。

均一な流れを促し、使用中に所望の冷却速度を保つために、開口部（１７０５）は、目的とする表面から離されてもよく、それによって、実質的に均一な冷却を保ち、高効率の噴流衝突冷却を促す。例えば、いくつかの実施形態では、開口部（１７０５）の出口面と目的とする面との間の間隔は、０インチ～１インチ超の間で保たれてもよい。いくつかの実施形態では、間隔は約０．５インチであってもよい。さらに概して、治療上許容可能な温度範囲を保つために、実質的に均一な冷却が治療範囲にもたらされることができる限り、開口部（１７０５）と目的とする面の間の任意の間隔が使用されてもよい。概して、噴流衝突冷却または衝突冷却では、治療表面または皮膚から効率よく熱を抽出する非常に薄い境界層を確立するために、高速度の冷却用空気または冷たくされた空気が使用されてもよい。すなわち、目的とする速度は、薄い境界層によって熱抽出を確立する組織表面の衝突冷却において十分に速いものであってもよく、衝突冷却は、強制対流のものより３～４倍大きくてもよい。これにより、装置（９５０）は、より高いレーザ出力を照射することが可能になる。高速の空気は、装置の治療ヘッド内にある複数の開口部（例えば、開口部（１７０５））を通って大量の空気を強制することによってもたらされる。例えば、速度範囲は、５０ｍ／秒より大きくてもよい。確実に衝突冷却を生じさせるために、適切な空気速度、および、治療表面上の装置（９５０）の適切な距離が選択され、保たれなければならない。

装置（１７００）の間隔および位置決めは、概して、図９を参照して述べられているように位置決め機器（９００）を調整することによって保たれることができる。位置決め機器（９００）によって装置（１７００）の位置決めを容易にするために、装置（１７００）は、いくつかの実施形態では、装置（１７００）を位置決め機器（９００）（図１７に図示せず）に作動的に係合させるために、装置取付具（１７１５）を含んでもよい。例えば、図１７に示されているように、装置取付具（１７１５）は、位置決め機器（９００）に取り外し可能に係合されるフランジを含んでもよい。しかし、様々な実施形態によれば、位置決め機器（９００）に取り外し可能な係合をもたらすことが可能である任意の装置取付具（１７１５）が使用されてもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。

装置（１７００）が、装置取付具（１７１５）を含むように、および、位置決め機器（９００）に取り付けられるように図１７に示され、本明細書で説明されているが、いくつかの実施形態では、装置（１７００）が、いくつかの実施形態では、手動ハンドピースとして使用されてもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。このような実施形態では、装置（１７００）は、装置取付具（１７１５）を含まなくてもよく、代わりに、装置（１７００）の手動操作および位置決めを可能にするために、ＥＭＲ口のファイバ出力（２０９）のみによってハウジング（１００）に結合されているか、および／または、冷却用空気口（１７０９）の冷却用空気供給部に結合されていてもよい。

特に、ハウジング（１７０１）に取り付けられ、治療範囲に向かって向けられる１つ以上の位置センサ（１７１１）からのリアルタイムのフィードバックに応じて位置決め機器（９００）を操作するために、演算装置（１０７）および制御装置（４０３）に対するプログラム指示を与えることによって、間隔が保たれてもよい。位置センサ（１７１１）は、装置（１７００）と目的とする範囲との間の距離、目的とする範囲に対する装置（１７００）の方向、および、目的とする範囲上の装置（１７００）の位置のうちの１つ以上を検知するように構成されてもよい。位置センサ（１７１１）は概して、目的とする範囲に対する装置（１７００）の位置の非接触検知をもたらすのに任意の好適なセンサであってもよい。例えば、図１７に示されているように、位置センサ（１７１１）は、赤外線位置センサであってもよい。

処置要件を満たすのを助けるために、いくつかの実施形態では、装置（１７００）は、治療範囲の温度のリアルタイムのモニタリングをもたらすために、１つ以上の温度センサ（１７１３）を含んでもよい。特に、図１７に示されているように、温度センサ（１７１３）は、治療範囲の非接触の温度モニタリングをもたらすために、１つ以上の非接触高温計を含んでもよい。いくつかの実施形態では、温度センサ（１７１３）は、コンピュータ（１０７）および／または制御装置（４０３）にリアルタイムの温度フィードバックをもたらすように構成されてもよい。コンピュータ（１０７）および／または制御装置（４０３）は、その後、目的とする範囲を治療上許容可能な温度に保つために、反応して、システム（１０）の１つ以上の操作パラメータを調整してもよい。例えば、いくつかの実施形態では、温度センサ（１７１３）によってもたらされる温度フィードバックに応じて、制御装置（４０３）は、治療範囲と装置（１７００）との間の間隔を調整するように位置決め機器（９００）に指示すること、治療範囲に対して放射されるＥＭＲビームの走査速度を調整するように位置決め機器（９００）に指示すること、冷却用空気またはガスの流量を調整するようにポンプ（５０７）に指示すること、冷却液の温度を調整し、それによって、冷却用空気またはガスの温度を調整するように冷蔵ユニット（５０１）に指示すること、放射されるＥＭＲビームの出力を調整し、レーザ源（２０３）の１つ以上を停止するか、または起動させるようにレーザ源（２０３）に指示すること、放射されるＥＭＲビームのビーム形状を変えるためにビーム整形光学系を調整するように装置（１７００）に指示すること、またはそれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを行ってもよい。

図１７および本明細書で述べられている他の実施形態は、空気をもたらすことができる開口部（１７０５）を有する表面（１７０３）を有するが、いくつかの実施形態は、表面（１７０３）を有さない。これらの実施形態では、気流は、ノズル、または、気流を向ける他の機構を介して、治療範囲に向けられてもよい。本発明は、本発明の範囲を逸脱することなく、冷却源と出力の任意の組み合わせを使用してもよい。

ここで図１５を参照すると、装置（１５００）が示され、ここで、共通の出力ケーブル（２０９）は、２つ以上のビームを放射するために、ビームスプリッタ（図示せず）によって分岐されて、２つ以上の出力ケーブル（１５０１ａ）、（１５０１ｂ）を設け、各々は、共通の出力ケーブル（２０９）によって伝播される全ＥＭＲ出力の一部のみを送る。あるいは、いくつかの実施形態では、共通の出力ケーブル（２０９）を分岐させるのではなく、２つ以上の出力ケーブル（１５０１ａ）、（１５０１ｂ）は各々、それぞれ単一のレーザ源（２０３）および／または結合器（２０７）に直接接続された、別々の、分岐されない出力ケーブルであってもよい。このような実施形態では、アレイ（２００）は、エミッタケーブル（１５０１ａ）、（１５０１ｂ）の各々を介して同じ波長を有するビームを送るために、同じ波長を有する、対応する数のレーザ源（２０３）を含んでもよい。有利には、このような実施形態では、各エミッタケーブル（１５０１ａ）、（１５０１ｂ）は、治療範囲の治療において使用される全ＥＭＲ出力の一部を送ることしか必要とされていないので、より小型、より低出力、より低価格のレーザ源（２０３）の使用が可能になってもよい。

装置（１５００）は、出力ケーブル（１５０１ａ）、（１５０１ｂ）から放射されるビームを、ビームが照らされる表面Ｓに別々に入射して、表面Ｓの下にある、治療される表面下の組織Ｔで重なり合うような角度で向けるように構成される。このような実施形態は概して、表面Ｓの入射点ではより低い出力密度をもたらし、そして、組織Ｔの重複領域ではより高い出力密度をもたらすことができる。特に、重複領域での出力密度は、ＥＭＲ出力ケーブル（１５０１ａ）、（１５０１ｂ）の数、各ＥＭＲビームの出力、および重複領域での各ビームのビームの大きさに比例して調節される。したがって、様々な実施形態によれば、表面Ｓおよび組織Ｔの重複領域で所望の出力密度をもたらすために望まれるように、任意の数のＥＭＲビームを生成する任意の数の出力ケーブルが使用されてもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。例えば、いくつかの実施形態では、４つのビームがもたらされてもよく、ここで、２つの対の対向するビームが、正方形の配置で構成されてもよく、斜め角でビームを放射して、長方形のパターンを表面Ｓおよび組織Ｔに投影する。いくつかの実施形態では、対向するが直交する場所からの２つ以上のＥＭＲビームを重ね合わせるために、各ビームフットプリントは、長方形であってもよく、それによって、治療面で同様の投影されたビームフットプリントを形成する。さらに概して、いくつかの実施形態では、各ＥＭＲビームのビーム形状は、例えば、分岐した、平行化した、集光した、円形、正方形、長方形、任意の他の好適な形状、またはこれらの組み合わせであってもよい。

このような構成は、例えば、アポトーシスを引き起こすための脂肪組織の温熱療法処置中に、脂肪（脂肪性の）組織の温度を、およそ４０℃～５２℃に達させることが目的であるので、有利である。脂肪組織が皮膚および表皮のおよそ２．８ｍｍ下に位置しているこのプロセス中に、その中の作動性神経の末端を含む皮膚は、患者にとって暖かく、または熱くさえ感じる温度に達してもよい。冷却用空気あるいは極低温冷却が典型的にはもたらされるが、それにも関わらず、ＥＭＲのより高い出力密度によって、皮膚温度を快適でない温度まで上昇させる場合がある。このような場合は、ＥＭＲ出力を、皮膚の表面に別々に入射する２つ以上のビームに分岐することにより、局所的な皮膚の加熱を減らすことができる。一方、すべての重なり合うビームの合計出力は、ＥＭＲビームが重なり合う場所に集中する。最大出力は重複領域で達成されるので、より効率的にアポトーシスを引き起こすために、より高い温度が重複領域で達成されてもよい。反対に、皮膚、表皮および真皮でのより低い出力密度によって、結果としてそれらの領域でより低い温度が得られる。いくつかの実施形態では、このようなより低い出力密度によって、治療中に患者の快適さおよび安全性を保つための皮膚の冷却要件を減らすことができる。

さらに、出力ケーブル（１５０１ａ）、（１５０１ｂ）によって放射されるビームのビーム入射角を設定または調整することによって、組織の治療の深さが制御できる。特に、垂直に対する多数のビームの角度を減らすことによって、重複領域が、組織のより深くに形成されるか、および／または、組織のより深くに広がってもよい。有利には、ビームを組織Ｔのより深くで重なり合わせることによって、治療中により多くの組織Ｔが治療できる。さらに、より深くの治療範囲は、シングルビーム方式または浅くに重複領域を有する方式とは異なった、より深くの組織Ｔを目的としてもよい。よって、例えば、約３度～約７５度を含む、特定の斜め入射角を選択または調整することによって、入射表面Ｓを過熱することなく、所望の組織Ｔの所望の深さを目的とした高いＥＭＲ出力がもたらされてもよい。

ここで図１６Ａを参照すると、いくつかの実施形態では、装置（１６００）は、治療を助けるために、ＥＭＲエネルギーを拡大し、均一化し、そして、再び焦点を合わせるために、１つ以上の光学素子を含んでもよい。特に、照らされる表面Ｓに向けられる直進ビームは、小さい治療範囲にＥＭＲ出力を集中させ、温度管理を困難なものにし、目的とする組織Ｔを処理するために、さらなる移動および時間が必要となる。よって、いくつかの実施形態では、装置（１６００）は、共通の出力ケーブル（２０９）によって放射されるビームの大きさを拡大するために、ビームエキスパンダ（１６０１）を含んでもよい。特に、図１６のビームエクスパンダ（１６０１）は、回折光学素子（ＤＯＥ）であるビームエクスパンダ（１６０１）として示されている。しかし、様々な実施形態によれば、任意のビームホモジナイザ、ビームエキスパンダ、またはそれらの組み合わせが使用できることは、本開示を考慮すれば明らかであろう。

目的とする組織Ｔが、照らされる表面Ｓの下にある応用（例えば、脂肪組織のアポトーシスが望まれる場合）については、ビームエキスパンダ（１６０１）は単独で、目的とする組織Ｔでビーム出力を最も拡散させる。皮膚の表面Ｓが、より集中したビーム出力にさらされて、それによって、目的とする組織Ｔより速く加熱するので、このような構成は、照らされる皮膚の熱管理をより困難なものにする。したがって、いくつかの実施形態では、装置（１６００）はまた、拡大されたビームの焦点を再び合わせるために、フレネル対物レンズ（１６０３）を含んでもよい。図１６Ｂに示されているように、いくつかの実施形態では、ＤＯＥビームエキスパンダ（１６０１）とフレネル対物レンズ（１６０３）との間の間隔を調整することで、焦点を調整してもよい。よって、いくつかの実施形態では、皮膚の表面Ｓが、目的とする組織Ｔよりゆっくり加熱するように、ビームは、目的とする組織Ｔでより狭くなり（より集中し）、表面Ｓでより拡散するように調整することができる。ここで図１６Ｃを参照すると、いくつかの実施形態では、負のフレネルレンズ（１６０５）は、さらなるビーム整形が可能になるように、ビームエキスパンダ（１６０１）とフレネルレンズ（１６０３）との間に位置していてもよい。

図１を再び参照すると、システム（１０）は、いくつかの実施形態では、治療範囲の温度などの操作条件をモニタリングするために、１つ以上のセンサ（１０００）を含んでもよい。いくつかの実施形態では、センサ（１０００）は、演算装置（１０７）にリアルタイムのフィードバックをもたらすように構成されてもよく、それによって、望ましい場合は、演算装置（１０７）が、フィードバックに応じて、システム（１０）の１つ以上の操作特性を変えるように、システム（１０）の１つ以上の構成要素に指示をもたらすことができる。例えば、いくつかの実施形態では、位置決め機器（９００）は、ドウェル時間を減らすか、またはこれを増やすために、目的とする範囲をより速くまたはより遅く走査するように指示されるか、目的とする表面のより近くまたはより遠くに装置（９５０）を移動するように指示されるか、装置（９５０）を再位置決めするように指示されるか、一時的に治療を中止するように指示されるか、治療を停止するように指示されるか、あるいは患者冷却システムを通る冷却流量を増やすか、またはこれを減らすように指示されてもよい。

いくつかの実施形態では、治療上許容可能な温度範囲を保つために患者の温度データが必要とされる場合に限り、皮下温度予測センサ（１０００）が設けられてもよい。いくつかのものは、マイクロ波領域で黒体放出線信号に依存している。他のものは、推測された皮膚および組織の熱伝導率と組み合わせて、温度センサを採用して、核心温を予測する。いくつかの装置は、皮膚に、温度センサと共に加熱センサを取り付けて、核心温を予測した。他の手法では、皮膚の表面温度およびエネルギー入力をモニタリングした。

侵襲的温度測定は可能なものの、関連したリスクと、完全に非侵襲的温熱治療に対する要望に起因して、好まれていない。ＭＲＩ（核磁気共鳴画像法）または高度な超音波装置などの精巧な計器は、これらの測定が可能であるものの、多数の治療中に容易に使用されない、高価かつ大型の装置を必要とする。

図１０を参照すると、いくつかの実施形態では、患者の体脂肪の核心温を測定するために、非侵襲的センサ（１０００）が使用されてもよい。センサ（１０００）は、皮膚の表面温度を測定する温度センサ（１００１）と、治療部位を出入りする熱流量を測定する熱流束センサ（１００３）を含んでもよい。いくつかの実施形態では、温度センサ（１００１）は、例えば、熱電対または非接触高温計を含んでもよい。いくつかの実施形態では、熱流束センサ（１００３）は、例えば、サーモパイルまたはゼーベック効果のセンサを含んでもよい。

その後、センサ（１０００）は、治療中に患者の体温および熱流束をモニタリングし続け、処理するために、演算装置（１０７）にそのデータのフィードバックをもたらすことができる。体温および熱流束のデータは、目的とする皮下脂肪温度を推測するために、患者の肌タイプ、年齢、大きさ、体脂肪率などのような使用者による入力データと共に、アルゴリズムで合成されてもよい。コンピュータシステム（１０７）は、その後、センサ（１０００）からのフィードバックに応じて温度を管理するために、パルス長、ＥＭＲ源の起動、ＥＭＲ源の出力、治療持続時間、冷却用気流、位置決め機器の走査速度などの１つ以上の操作パラメータを調整することができる。温度センサ（１００１）と熱流束センサ（１００３）の両方を含むように示されているが、いくつかの実施形態では、センサ（１０００）が、温度センサ（１００１）のみ、あるいは熱流束センサ（１００３）のみを含んでもよいことは、本開示を考慮すれば明らかであろう。

いくつかの実施形態では、温度をモニタリングし続けることで、経時的な温度およびＥＭＲ源の変調を予測するために、ＥＭＲ照射下の脂肪領域を加熱する数値有限要素のシミュレーションを開始してもよい。特に、ＥＭＲ源の加熱は、時間的に異なる変調で施され、浸透の深さとともに減衰する。処置が進むにつれて、温度センサ（１００１）および熱流束センサ（１００３）を使用して、患者の皮膚温度および皮膚熱流束が測定される。その後、温度および熱流束のデータ、患者特有のデータ、ならびに有限要素モデルが入力されて、全体的なアルゴリズムで組み合わされ、それによって、放射線入力を能動的に制御して、脂肪温度を有効範囲に保つ。

冷却された領域で測定された、患者の皮膚温度および皮膚熱流束のパラメータは、いくつかの方法で測定されてもよい。皮膚の表面温度は、放射される領域で非接触光学式高温計の記録によって、あるいはサーミスタまたは熱電対パッケージによって得られてもよい。温度は、ＥＭＲ源照射前、照射中および照射後にモニタリングされる。皮膚温度の変化率は、アルゴリズムでモニタリングされる。皮膚熱流束は、能動的にモニタリングされた冷却流量と組み合わせて表面温度測定値を使用して、非接触法で導き出される。２つの測定値が熱伝達アルゴリズムに含まれているときは、皮膚熱流束の計算は可能である。あるいは、表面熱流束センサによって、熱流束データを提供してもよい。

このアルゴリズムで使用される患者のデータは、肌タイプおよび色素、性別、年齢、大きさ、体重、体格指数、および、可能であれば前治療歴および皮膚の特徴を含む。利用可能であれば、組織のさらに詳細なデータが入力されてもよい。ＭＲＩまたは超音波装置から集められた組織プロファイリングはまた、組織モデルに組み込まれる厳密なパラメータをもたらすことができる。マイクロ波領域で黒体放射線を使用する非侵襲的核心温測定計器などの他の技術が、適用されてもよい。皮膚色素の特性などの患者要因は、予期されるＥＭＲの伝播および吸収値を推測するために重要である。

フルエンスとして知られる、治療範囲に送られる１平方センチメートル当たりのワット数のＥＭＲエネルギー、ならびに、露光持続時間を制御するために、アルゴリズムが使用される。いくつかの実施形態では、温熱療法による脂肪減少は、オン・オフの変更、および、有効な温度範囲を保つために戻って領域を再加熱する、可能なビームの場所の移動によって行われる。皮膚の冷却は、快適なレベル（例えば、３０℃）および最大限の安全温度（例えば、４３℃）のために、皮膚の表面温度のフィードバックに基づいて制御されることが想定される。総治療時間は、数分～３０分超にわたって続いてもよい。

さらに図１２を参照すると、単一のダイオードドライバを有する多機能エステティックシステムの電子機器および制御について、システム（１２００）の概略図が提供されている。特に、ＡＤＣ（４１１）（アナログーデジタル変換）は、共有されるダイオードドライバモジュールからの１つ以上のレーザ源（２０３）を操作することができる。この場合、１つ以上のレーザ源（２０３）は、同じ電圧／電流要件を有し、単一のダイオードドライバから操作される。いくつかの実施形態では、システム（１２００）は、図４のシステム（４００）に実質的に同様である。しかし、図１２のシステム（１２００）は、単一のダイオードドライバ（１２０１）および、ダイオードドライバ（１２０１）とレーザ源（２０３）との間に挿入されたスイッチング装置（１２０３）を含み、それによって、ダイオードドライバ（１２０１）は選択的に、（２つ以上が存在する場合）レーザ源（２０３）のうちの所望の１つを駆動することが可能になる。

ダイオードドライバ（１２０１）は、いくつかの実施形態では、図４に関して以上に述べられているダイオードドライバ（４０９）に実質的に同様のものであってもよい。スイッチング装置（１２０３）は、いくつかの実施形態では、必要であれば／必要とされるように、ドライバ（１２０１）を、各レーザ源（２０３）のダイオード負荷間で切り替えるように構成されてもよい。いくつかの実施形態では、スイッチング装置（１２０１）は、１つ以上の高電流のメカニカルリレー、１つ以上のソリッドステートリレー（ＳＳＲ）、またはそれらの両方を含んでもよい。

スイッチング装置（１２０３）は、ダイオードドライバの「高い側」に配置されてもよく、リレーは、特定のレーザ源（２０３）を駆動するために一度に１つずつ選択されてもよい。リレーは、選択されたレーザ源（２０３）に運ばれる電流に対応することが可能でなければならない。リレーまたはＳＳＲはまた、安全インターロック（非常電源切断）としてレーザ源（２０３）に使用されてもよい。しかし、図１２の構成では、複数のレーザ源（２０３）は、一度に２つ以上のリレーを選択することによって駆動することはできない。このような構成では、レーザ源（２０３）を、互いに平行に、かつ、ドライバ（１２０１）に並行に配置する。ドライバ（１２０１）は十分な電流が可能であったとしても、２つのレーザ源（２０３）の間で受動負荷分担または能動負荷分担が行われることはない。ダイオードのうちの１つは低抵抗を有するので、その素子は、電流を「独占」し、過電流を流し、焼損して、第２のチャネルも同じことになる。このような焼損は、非常に早く（数秒で）起こり得るので、スイッチング装置（１２０３）は、一度に１つのダイオードしか選択しないように構成されなければならない。さらに、ダイオードのチャネルの切り替えは、ドライバがオフであるときに生じなければならない。特に、ダイオードのレーザ源（２０３）は、ニアショートで動作する（ダイオードバーの場合は約３ミリオーム）。したがって、動作中のドライバの出力が、開負荷からダイオード負荷に切り替えられる場合は、大過電流のスパイクが生じ、ダイオードを損傷または破壊する可能性が高い。

ＳＳＲとメカニカルリレーの間のどちらかに決めるときは、ＳＳＲの方が、より高速度で信頼性に優れているという傾向があり、かつ、典型的には、電気的に分離した制御回線を必要としない。しかし、分離しているＳＳＲの入力によって、いくつかのダイオードに対して単一のドライバを使用することができるようになり、グラウンドループの問題についての懸念は少ない。さらに、故障の際には、分離しているＳＳＲの入力によって、高感度の制御回路にバッファを設ける。

さらに図１３を参照すると、いくつかの実施形態では、スイッチング装置は、１つ以上のＥＭＲ源（１３０３）に電力を供給するために単一のダイオードドライバ用プリント回路（ＤＰＣ）（１３０１）を採用してもよいことが示されている。選択されたＥＭＲ源を起動させ、電力を供給するために、スイッチング装置として高電流容量のＦＥＴが使用されてもよい。例えば、ＦＥＴは、定格３０Ｖ、３２０ＡのＥｎｆｉｎｅｏｎ ＥＰＴ００４Ｎ０３_１であってもよく、抵抗は．０００４．オームである。７０Ａでは、ＦＥＴは、約３０ｍＶ低下し、約２Ｗ放熱できる。図示されているように、ＦＥＴは、１２Ｖの制御信号で作動することができる。図１３の図は、２つのドライバ（ＬＤ１およびＬＤ２）のみを示しているが、複数のＥＭＲ源を駆動するのに同様の考え方が適用できる。制御入力は、プロセッサ（１３０５）からスイッチングＦＥＴに回される。この設計手法は、切替リレーの必要をなくし、指令信号によって、選択されたドライバのみを駆動して、それによって、そのＥＭＲ源を起動させる。

場合によっては治療ヘッドと呼ばれ、いくつかの実施形態で使用される装置（９５０）は、図２１で分解図で示されている。いくつかの実施形態では、空気冷却装置から、冷却用空気供給（２１０１）を受けることができる。空気供給部（２１０１）は好ましくは、断熱材（２１０２）に囲まれている。いくつかの実施形態では、出力ケーブル（２０９）は、少なくとも１つのＥＭＲ源（２０３）からＥＭＲを送ることができる。出力ケーブル（２０９）は、１つまたは２つ以上の光ファイバを含んでもよく、光ファイバコネクタ（２１０３）を介して装置（９５０）に接続されてもよい。装置（９５０）の移動を容易にするのを補助するために、図示されていないが、位置決め機器（９００）（またはアームハウジング）は、装置（９５０）に接続されてもよい。いくつかの実施形態では、空気供給部（２１０１）は、便宜上、チューブまたはメッシュ（図示せず）に含まれていてもよく、また、位置決め機器（９００）と装置（９５０）との間の接続を強固にするために、１つ以上のロッド（２１０４）を含んでもよい。ロッド（２１０４）は、ガラス繊維、鋼、ステンレス鋼、ニチノールなどの金属、ポリマーまたは強化ポリマーから製造されていてもよい。空気供給部（２１０１）は、接続部（２１０９）を介してプレナム（２１１０）に接続されてもよい。以下で示して、述べられているように、出力ケーブル（２０９）からのＥＭＲは最初に、ビームを平行化して円柱にするレンズを通過する。ＥＭＲは、その後、拡散素子を通過し、いくつかの実施形態では、分岐した正方形のビームを生成する。いくつかの実施形態では、１つ以上のセンサ（図示せず）を含む回路基板（２１１１）は、プレナム（２１１０）に接して配置され、プレート（２１１２）によって所定の位置に保持されてもよい。ウィンドウ（２１１３）は、プレート（２１１２）の開口部に配置され、ベース（２１１４）によって所定の位置で保持されてもよい。プレナムアセンブリの気密性を高めるために、シールを採用してもよい。ウィンドウ（２１１３）とプレート（２１１２）との間、および、プレート（２１１２）とプレナム（２１１０）との間にあるこれらのシールは、Ｏリングまたは他の同様の材料であってもよい。冷却用空気の衝突流を形成するために、ウィンドウ（２１１３）は、空気の流れを可能にする１つ以上の開口部（２１０５）を有する。好ましくは、開口部（２１０５）以外のプレナムやシステムは、気密性が高くてもよい。いくつかの実施形態では、（プレナム（２１１０）本体と共に）拡散素子（２２０２）およびウィンドウ（２１１３）は、冷気のための、気密空間を形成してもよい。

図２２を参照すると、図２１の装置（９５０）の構成要素のいくつかの断面図が描かれている。図２１と同様に、冷気供給部（２１０１）は、断熱材（２１０２）によって囲まれ、接続部（２１０９）を介してプレナム（２１１０）に接続される。いくつかの実施形態では、温度センサ（２２０５）は、冷気（２１０１）の空気温度を測定するために、冷気供給経路内に配置されてもよい。温度センサ（２２０５）は、例えば、熱電対または同様の計器などのセンサの任意の組み合わせであってもよい。温度センサ（２２０５）からの出力は、演算装置（１０７）（図１）にフィードバックされて、処理されてもよい。出力ケーブル（２０９）は、コネクタ（２１０３）を介して接続される。いくつかの実施形態では、接続部（２１０３）のファイバコアから放射されるＥＭＲビーム（２２００）は、ファイバコアの端部から離れるにつれて拡大してもよい。レンズ（２２０１）は、拡大した円柱形のビームを円筒形のビームに変更するために使用されてもよい。レンズ（２２０１）は、任意の組み合わせのレンズの種類であってもよく、例えば、レンズ（２２０１）は、フレネルレンズであってもよい。

いくつかの実施形態では、ＥＭＲビームを円柱形から正方形のビームに変換するために、拡散素子（２２０２）が使用されてもよい。結果として得られるビームは、正方形、分岐した正方形、集光した正方形、長方形、分岐した長方形、または集光した長方形であってもよい。いくつかの実施形態では、ビームパターンを作成するために、屈折型拡散素子である光学素子、あるいはエッチング加工マイクロレンズおよびプリズムが使用されてもよい。いくつかの実施形態では、所望のＥＭＲビーム形状を生成するために、拡散素子（２２０２）は、マイクロレンズアレイおよびプリズムを用いた屈折を利用した屈折型拡散素子（ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ ｄｉｆｆｕｓｅｒ）であってもよい。拡散素子（２２０２）は、ビームを均一なビームに変換することができ、ビームの断面の辺の寸法内で均一な治療をなす。これらの屈折型拡散素子は、波長に左右されず、高性能であり、均一な出力密度を有する「トップハット」のビームを生成することができる。「トップハット」のビームとは、ビーム全体にわたってほぼ均一なフルエンス（エネルギー密度）を有するＥＭＲビームのことである。いくつかの実施形態では、結果として得られるビームは、２０°の分岐した正方形のビームであり、すなわち、ビームの４つの辺すべてが、角度１０°で広がることを意味する。さらなる実施形態では、ビームは、装置（９５０）から放射されるときに、４．３ｃｍ×４．３ｃｍと測定される。

いくつかの実施形態では、装置（９５０）は、解釈されるべきでない光源から反射された光をフィルタリングする遮光フィルタ（図示せず）を含んでもよい。例えば、遮光フィルタは、装置（９５０）と皮膚の表面との間の距離を確立するために飛行時間測定に依存する近接センサの精度を上げるために、使用されてもよい。この例では、遮光フィルタは、近接センサに達する光をフィルタリングする。いくつかの実施形態では、遮光フィルタはまた、１つ以上のセンサを粉塵から防護することができる。装置（９５０）はまた、複数の他のセンサ、または複数のセンサを有するセンサアレイを含んでもよい。例えば、装置（９５０）は、皮膚温度センサ、冷却用空気温度センサ、気流センサ、レーザ出力センサ、位置センサおよび近接センサのうちの少なくとも１つを有するセンサアレイを含んでもよい。回路基板（２１１１）にも示されているように、２つの皮膚温度センサ（２２０３）を有してもよい。ＥＭＲビームは、拡散素子（２２０２）を通過した後に、１つ以上の開口部（２１０５）を有するウィンドウ（２１１３）を通過する。

図２３を参照すると、いくつかの実施形態では、装置（９５０）の部分を冷却するために、および／または、装置（９５０）によって目的とされる治療範囲を冷却するために、空気冷却装置システム（２３００）が使用されてもよい。空気冷却装置システム（２３００）は、冷却される装置に冷却用流体を循環しないことを除けば、図５および７に示されている実施形態で説明されている冷却装置と同様であってもよい。冷却をもたらすためには、コールドプレートではなく、熱交換器が使用される。冷蔵ユニット（２３０１）は、コンプレッサ、コンデンサ、エバポレータおよびファンユニットを含んでもよい。いくつかの実施形態では、空気質を向上するために、ファンは、粒子、細菌およびウイルスを捕捉するためのフィルタを含んでもよく、それによって、このような粒子、細菌およびウイルスがシステムの周りの空気を通って循環するのを防ぐ。冷媒は、チューブ（２３０３）のエバポレータ（２３０２）へと循環されてもよい。これによって、システムに冷却をもたらす。空気システムは、図２３に示されている。サーマルパッド（２３０４）は、エバポレータ（２３０２）に接触する。サーマルパッド（２３０４）は随意であってもよいが、熱伝導を向上するので、ここでは示されている。いくつかの実施形態では、熱交換器（２３０５）は、サーマルパッド（２３０４）に接していてもよい。空気プレナム（２３０６）の開いている片面は、熱交換器（２３０５）によって閉じられる。プレナム（２３０６）内にある、熱交換器（２３０５）の側面は、随意に、熱交換を促すためにフィン（２３１０）または他の構造を含む。空気ポンプ（２３０７）は、空気をホース（２３１１）を通して空気プレナム（２３０６）に送り込み、空気プレナム（２３０６）で空気が冷却される。冷気は、空気プレナム（２３０６）から出て、チューブ（２３１２）を介して封水トラップ（２３０９）に向かい、封水トラップ（２３０９）で液体水が取り除かれる。その後、気流センサ（２３０８）に流れる。この流量信号は、演算装置（１０７）に送信されてもよく（例えば、図１に示されているように）、その後、装置（９５０）に流れる。

図２４を参照すると、いくつかの実施形態では、装置（９５０）の部分を冷却するために、および／または、装置（９５０）によって目的とされる治療範囲を冷却するために、レーザ冷却システム（２４００）が使用されてもよい。レーザ冷却システム（２４００）に冷蔵をもたらすために、本明細書で述べられてきたように、冷蔵ユニット（２４０１）が使用されてもよい。冷却された冷媒は、チューブ（２４０３）を介してエバポレータ（２４０２）へと循環されてもよい。いくつかの実施形態では、図２４に示されているように、２つ以上のレーザユニット（２０３）に対して二元冷却システムが使用されてもよい（ここでは（２３０７Ａ）および（２３０７Ｂ）で示されている）。２つのシステムが示されているが、単一のシステムも考えられる。１つのレーザユニット（２０３）しか、サーマルパッド（２３０６Ａ）および（２３０６Ｂ）の各々に示されていないが、１つ以上のレーザユニット（２０３）が、一方または両方のいずれかに取り付けられてもよい。いくつかの実施形態では、サーマルパッド（２３０４Ａ）および（２３０４Ｂ）、その次に、コールドプレート（２３０５Ａ）および（２３０５Ｂ）がそれぞれ、エバポレータ（２４０２）に隣接してもよい。レーザ（２３０７Ａ）は、コールドプレート（２３０５Ａ）に接するように保持されたサーマルパッド（２３０６Ａ）を有する。同様に、レーザ（２３０７Ｂ）は、コールドプレート（２３０６Ｂ）に接するサーマルパッド（２３０６Ｂ）に接する。サーマルパッド（２３０６Ａ）および／または（２３０６Ｂ）は随意であってもよいが、熱伝導を向上するので、ここでは示されている。

図２５を参照すると、装置（９５０）の例示的な描写が示されている。いくつかの実施形態では、断熱材（２１０２）内の空気供給、および出力ケーブル（２０９）内のＥＭＲが、装置（９５０）に送られてもよい。保護シース（図示せず）は、歪み取りをもたらすロッド（２１０４）と共に空気供給部を囲んでいてもよい。冷気は、ウィンドウ（２１１３）にある開口部（２１０５）を除いて気密性が高いプレナム（２１１０）に供給される。回路基板（２１１１）は、２つの皮膚温度センサ（２２０３）および４つの近接センサ（２５０１）と共に示されている。６つのセンサが示されているが、任意の数および任意の組み合わせの温度センサおよび近接センサが使用されてもよい。近接センサは、装置（９５０）の治療ヘッドと治療表面との間の距離を判断することが可能な、任意の組み合わせのセンサを含んでもよい。例えば、近接センサは、光ダイオードの時間、反響定位、超音波などを含んでもよい。いくつかの実施形態では、近接センサは、装置（９５０）と治療表面との間の離れている高さを一定に保つために、装置（９５０）の高さを調整することができる制御装置にフィードバックをもたらすことによって、前記一定の高さを保つために使用されてもよい。いくつかの実施形態では、治療ヘッドの外周に複数の皮膚温度センサが位置していてもよい。センサ出力は、演算装置（１０７）にフィードされる。センサ（２２０３）および（２５０１）のために、ベース（２１１４）に開口部が設けられる。レーザビーム（２２００）は、ウィンドウ（２１１３）を通って治療範囲に送られる。

装置（９５０）を位置決め機器（９００）に接続するために、コネクタ（２５０２）が使用されてもよい。いくつかの実施形態では、ビーム（２２００）が治療ヘッドの中心にあってもよい。いくつかの実施形態では、ビーム（２２００）は、冷気流と同軸であってもよく、それによって、ビーム（２２００）を受光する治療区域の一部が冷却される。本明細書で述べられているように、冷気流は、任意の組み合わせの装置（９５０）と患者の皮膚を冷却するためにもたらされてもよいが、しかし、冷気流は、いずれかの空気温度に限定されるようには意図されていない。例えば、冷気流は、冷やされた空気に限定されず、これには、冷却をもたらすことができる気流、空気速度、空気量、空気温度の任意の組み合わせが含まれてもよい。いくつかの実施形態では、装置（９５０）は、装置（９５０）を出た気流の近位に１つ以上の空気冷却温度センサを含んでもよい。装置（９５０）からの気流をモニタリングするために、他の種類の空気センサも使用されてもよい。例えば、装置（９５０）は、気流センサ、空気流量センサ、空気速度センサなどの任意の組み合わせを含んでもよい。

図２０を参照すると、治療システム（２０００）の例示的実施形態が描かれている。システム（２０００）は、本明細書で述べられている治療システムの様々な構成要素を含んでもよい。構成要素のいくつかは、ＤＣ電源（２００８）を含んでもよく、ＤＣ電源（２００８）は、いくつかの実施形態では、ＡＣ電源をＤＣに変換して、レーザドライバ（２００６）および１つ以上のレーザ（２０１４）に電力を供給する。システム（２０００）はまた、空気ポンプ（２０１６）を含んでもよく、空気ポンプ（２０１６）は、システムが使用されているときに、治療範囲を冷却するために空気をもたらす。いくつかの実施形態では、システム（２０００）は、１つ以上のレーザ（２０１４）、および、任意にレーザドライバ（２００６）および／またはＤＣ電源（２００８）に冷却をもたらすために、レーザ冷却装置（２０１２）を含む。システム（２０００）はまた、使用者／医師がシステムにデータを入力し、システム（２０００）の特定の要素を制御することができるユーザインターフェース（２００４）を含んでもよい。いくつかの実施形態では、システムは、移動可能なロボットアーム（２００２）を含んでもよく、ロボットアーム（２００２）は、システム（２０００）が使用されているときに、治療ヘッド（２０１８）を治療範囲に近接するように移動させる。システム（２０００）全体は、キャスタまたは車輪（２０１０）を使用して持ち運び可能または移動可能にしてもよい。いくつかの実施形態では、これらの構成要素は、フレーム（２０２０）上に取り付けられるか、フレーム（２０２０）に乗せられて運ばれる。フレーム（２０２０）は図示されていないが、内部構成要素を保護するために、金属またはプラスチックの外板または覆いで覆われていてもよい。

いくつかの実施形態では、操作中、システム（２０００）は、正方形または長方形のＥＭＲビームを発生するように設計されてもよく、正方形または長方形のＥＭＲビームは、円形または丸みを帯びたＥＭＲビームよりも好ましい場合がある。正方形または長方形のビームが治療表面にわたって移動すると、ビームは一定の縦横を有するので、ビーム内にある治療表面はすべて、およそ同じ量のエネルギーを受けることになる。円形または丸みを帯びたビームが使用される場合は、ビームの（進行方向と平行である）軸または直径にある治療区域の部分は、最大限のエネルギーを受けることになり、ＥＭＲビームの端（進行方向と垂直である、直径の両端）にある治療区域の部分は、最小限のエネルギーを受けることになる。

いくつかの実施形態では、ウィンドウ（２１１３）は、およそ２．５インチ×２．５インチと測定されてもよく、そして、９つの穴を有してもよく、各々、直径およそ０．０９０インチであり、およそ０．８インチずつ離されている。ウィンドウ（２１１３）は、任意の組み合わせの寸法の、任意の数の穴を含んでもよく、冷却するために、そこを通して大量の気流をもたらす。例えば、７～８立方フィート／分（ＣＦＭ）（２００リットル／分（ＬＰＭ））の気流を装置（９５０）に供給することによって、冷気の噴流衝突出力は、６０メートル／秒超の速度を有する。この構成は、ほぼ３インチ×３インチの冷却範囲を作り出して、効率よく治療表面を冷却する。本明細書で述べられているように、空気は、ＥＭＲが送られる妨げとならないので、有用な冷却用流体である。

いくつかの実施形態では、装置（９５０）はまた、１つ以上の表示を含む。表示は、ＥＭＲが放射されている場合はいつでも使用者に警告することができる。例えば、１つ以上の表示は、ＥＭＲが放射されているときに点灯するレーザまたはＬＥＤであってもよい。これによって、ＥＭＲビーム自体が視認不可能であったとしても、治療が継続中であることを患者および使用者／医師に警告する。いくつかの実施形態では、１つ以上の指標には、例えば、治療範囲の登録を開始するために複数のマーキングのうちの１つを登録またはマッピングするときに、使用者がエステティック治療装置を位置合わせするのを補助するためのアライメント光が含まれてもよい。

いくつかの実施形態では、コンピュータ制御システムまたは演算装置（図１の（１０７））が、本明細書で述べられている治療システムの多数の部分を制御することができる。治療システムの多数の部分を制御するために、例えば、ユーザインタフェースおよびユーザコントロール（例えば、ジョイスティック、ボタン、スイッチ、トラックボールなど）のいくつかの組み合わせが設けられてもよい。ユーザインタフェース（１０１）（図１）は、タッチスクリーンであってもよい。いくつかの実施形態では、システムが開始されると、ＥＭＲ源が作動したときに、皮膚などの治療表面を冷却するために冷気システムが操作可能である必要があるので、冷蔵ユニットが起動されてもよい。起動時に、使用者／医師は、特定のデータを入力するように求められるようにしてもよく、これには、例えば、身長、体重、皮膚タイプ、年齢、身体等高線マップ、身体位置検出データなどの患者のデータ、ならびに、所望のビーム出力、処置の種類、照射される波長（複数可）、パルス持続時間、治療持続時間、ビームパターン、治療範囲の温度、療法パラメータ、皮膚温度のデータ（汎用的または患者特異的）、皮膚温度と熱流束のデータ（汎用的または患者特異的）、タイミングデータなどの操作パラメータが含まれてもよい。いくつかの実施形態では、男性または女性などのデータ、ならびに、脂肪減少またはしわ減少などの治療選択肢は、システムに必要となり、他の態様は、制御システムに予めプログラムされている。

いくつかの実施形態では、使用者／医師は、治療範囲を制御システムに入力してもよい。これは、治療ヘッドを治療範囲の１つの隅に移動させて、そして、ユーザインタフェースのボタンまたはボックスを押して制御システムに示すことによって、達成することができる。いくつかの実施形態では、装置（９５０）は、使用者／医師が、制御システムと通信状態にあるジョイスティックを有することによって、あるいはタッチスクリーン上の矢印ボタンなどを使用することによって、手動で移動させられる。使用者／医師は、その後、同じ方法で治療範囲の他の隅を制御システムに示す。制御範囲はいかなる形状であってもよいが、少なくとも３つの隅が示されなければならない。この時点で、使用者／医師は、ユーザインタフェース上の開始ボタンまたはボックスを押すことによってシステムを起動させてもよい。治療では、レーザなどのＥＭＲを使用するので、システムは、使用者／医師に対して、治療室のすべての人が目を保護する適切なものを有していることを確認するように求めてもよい。いくつかの実施形態では、使用者／医師は、治療範囲のマーキングするのを補助するために、本明細書でより詳細に述べられているように、型を使用してもよい。

開始されると、制御システムは、治療範囲に１つ以上の治療区域を作り出してもよい。制御システムは、ロボットアームおよび装置（９５０）を第１の治療区域の上の位置に移動させてもよく、そして、いくつかの実施形態では、冷却用気流およびＥＭＲを開始してもよい。操作中、近接センサは、確実に装置（９５０）の面が治療表面から適切な距離だけ離れた状態に留まるように、情報を制御ユニットに送信してもよい。いくつかの実施形態では、装置の面は、治療表面からおよそ０．７＋／－０．２５インチ離して保たれる。確実に空気冷却システムが適切に機能するように、ＥＭＲビームが適切な大きさのものになるように、そして、確実に治療範囲内をたどるビームの大きさが、（例えば、図１８に示されているように）指定されたパターンに従うものであるように、この距離が選択される。空気衝突システムでは、装置（９５０）の面にある穴から皮膚までの距離が冷却速度に影響を及ぼす。分岐したＥＭＲビームが使用されるいくつかの実施形態では、表面に近すぎると、結果としてエネルギーの過剰集中をもたらし、治療表面から遠すぎると、結果として、ビームが広がりすぎ、これによって、ビームが、選択された治療を提供するには小さすぎるエネルギーを有してしまう場合や、ビームの一部が、冷却範囲外になってしまう場合がある。

ＥＭＲビームが作動している間は、いくつかの安全システムが作動していてもよい。以上で述べられているように、近接センサは、装置（９５０）を治療表面から適切な距離だけ離れた状態に保つ。確実に表面が特定温度を越えないように、温度センサが治療範囲の表面温度を測定する。制御システムは、皮下治療区域の温度を計算するために、表面温度を使用してもよい。いくつかの実施形態では、確実に冷気の温度が適切な範囲内であるように、空気温度センサが冷気の温度を測定してもよい。確実にＥＭＲ出力が特定範囲内であるように、ＥＭＲシステムは、ＥＭＲ出力を検知するセンサを有してもよい。確実に過熱しないように、ＥＭＲ発生器および／または電源に温度センサがあってもよい。測定値のいずれかが特定区域外である場合は、制御システムは、医師／使用者に通知するか、ＥＭＲを送るのを停止するか、システムの操作部分を変更してずれを修正するか、あるいは装置を操作するのを止めてもよい。例えば、いくつかの実施形態では、治療範囲の表面温度が高すぎる場合は、システムは、レーザをオフにするか、レーザを別の治療区域に移動させるか、冷却速度を上げるか、および／または、送られているＥＭＲの出力を下げてもよい。いくつかの実施形態では、治療区域の表面温度が、最大限の表面温度より低いときは、治療区域へのエネルギー照射が再開されてもよい。

いくつかの実施形態では、治療区域は、ＥＭＲビームの縦のおよそ倍数である縦と、ＥＭＲビームの横のおよそ倍数である横とを有する長方形であってもよい。倍数は、整数または他の数であってもよい。いくつかの実施形態では、治療区域は、ＥＭＲビームの縦の４倍および横の２倍である。システムを起動させた後に、装置（９５０）は、第１の治療区域に移動させられ、治療が開始する。制御システムは、治療区域で予め定められたパターンで、かつ、予め定められた速度でＥＭＲビームを移動させる。いくつかの実施形態では、１回の走査すべて（治療区域全体にわたる経路）は、約５秒または約１０秒である。治療時間が完了すると、制御システムは、装置（９５０）を次の治療区域に移動させるか、あるいは治療範囲全体が治療された場合は、ＥＭＲは停止され、装置（９５０）は定位置に戻される。治療時間は固定分数として設定されるか、治療範囲または皮下治療区域が特定治療温度内にある分数として設定されるか、あるいは治療区域にわたる走査の設定回数として設定されてもよい。いくつかの実施形態では、全体的な治療時間を加速するために、第１の治療区域が熱くなりすぎると（単にＥＭＲを停止するのではなく）、制御システムは、装置（９５０）をその次の治療区域に移動させてもよい。

いくつかの実施形態では、装置（９５０）は、可視レーザ、ＬＥＤ、あるいは位置合わせ用ビームの役目を果たす光源をもたらす他の表示を有してもよい。装置（９５０）が起動しているときは、位置合わせ用ビームは、治療区域に合うパターンを作り出してもよい。いくつかの実施形態では、作り出されるパターンは、例えば、図１８のパターンによって示されているように、ビームが、以前に治療された範囲と重なりを有することなく移動して、治療範囲の範囲全体を覆うように作り出される。アライメントビームはまた、治療がどこで行われているかを使用者に示すことができる。位置合わせ用ビームはまた、ＥＭＲビームがオンでないときに、使用者が治療範囲を設定するのを補助するために使用されてもよい。いくつかの実施形態では、位置合わせ用ビームは、赤または緑の光を放射する。いくつかの実施形態では、別のアライメントビームは、可視レーザ、ＬＥＤ、あるいは治療範囲またはパターンを示すために投影される他の光源の任意の組み合わせを含んでもよい。

図２６Ａ、２６Ｂおよび２６Ｃを参照すると、治療範囲を示すために使用される例示的な型（２６１０）、（２６２０）または（２６３０）が描かれている。治療範囲を示すために、適切な型（２６１０）、（２６２０）または（２６３０）が患者の皮膚上に配置されてもよい。型（２６１０）、（２６２０）または（２６３０）あるいは他の型設計は、１回または複数回の使用のいずれかとして作られてもよく、紙、プラスチックまたは金属で作られてもよい。型（２６１０）、（２６２０）または（２６３０）は、いくつかの数の隅穴、例えば、隅穴（２６１１）、（２６２１）または（２６３１）、および／または、中央穴（２６１２）、（２６２２）または（２６３２）を有してもよい。隅穴および中央穴は、本明細書で非常に詳細に述べられているように、使用者が患者の皮膚上にマーキングを付けることができるようにして、治療範囲をマーキングするのを補助するために設けられてもよい。例えば、型（２６１０）、（２６２０）または（２６３０）のうちの１つが治療部位の上に配置されてもよく、患者の皮膚上に２つ以上の穴がマーキングされてもよい。患者上のマーキングは、治療範囲をマッピングするために、装置によって使用されてもよい。例えば、図２６Ｃを参照すると、治療範囲は、治療ヘッドを治療範囲の第１の隅（２６３１）に移動して第１の隅（２６３１）を登録し、治療ヘッドを治療範囲の第２の隅（２６３１）に移動して第２の隅（２６３１）を登録し、治療ヘッドを治療範囲の第３の隅（２６３１）に移動して第３の隅（２６３１）を登録し、そして、治療ヘッドを治療範囲の第４の隅（２６３１）に移動して第４の隅（２６３１）を登録することによって設定されてもよい。登録された４つの隅は、その後、治療範囲または治療区域の境界または外周を作り出すために使用されてもよい。

操作中、治療を行うために、治療プラットフォーム上に配置される患者は、本明細書で説明されているように、治療システムの近くに配置される。システム、例えば、図２０のシステム（２０００）であるときは、システムは、患者に隣接した位置に転がされていってもよい。治療範囲は、以上で説明されているようにマーキングされる。使用者／医師は、ユーザインタフェースを通してシステムを起動させ、治療ヘッドは、治療範囲に隣接した位置に移動させられる。治療ヘッドは、治療範囲全体の外枠の形状または治療範囲全体の形状、あるいは単一の点の形状のいずれの可視光、例えば、位置合わせ用光を含んでもよい。治療ヘッドの光が治療範囲の外枠または治療範囲の範囲全体の形状である場合は、治療ヘッドは、外枠の形をした光の隅が皮膚上のマーキングに合うように位置合わせさせられ、使用者は、システムが治療範囲を把握するようにユーザインタフェースを通して場所を選択または保存する。治療ヘッドの光が点の形状である場合は、使用者は光の点を、患者の皮膚上の隅および／または中央のマーキングのうちの２つ以上に配置し、そして、ユーザインタフェースを通して、点を保存または点を示して、それによって、システムのコンピュータが治療範囲を判断してもよい。治療範囲がマーキングされると、使用者は治療を開始してもよい。

型は、異なる治療において、そして、異なる患者において、異なる方向で配置されてもよい。例えば、腹脂肪の治療を受けている一部の患者では、型は、患者の長手方向軸に垂直な方向に配置されてもよい。一部の女性などの一部の患者においては、へそから最も離れている型の端部は、垂直軸の１０°～２０°下になる。本明細書の実施形態のいくつかは、腹脂肪の治療のために説明されてきたが、本明細書に記載されている装置およびシステムは、脇腹、脚、腕、背中または他の脂肪のために使用されてもよい。

図２６Ａを参照すると、２×４の治療範囲用型（２６１０）が示されている。この実施形態では、治療ビームは、長方形または正方形の形状である。治療ビームが治療表面から適切な距離にあるときは、治療範囲の縦は、治療ビームの縦の４倍であり、治療範囲の横は、治療ビームの横の２倍である。図２６Ｂを参照すると、３×２の治療範囲用型（２６２０）が示されており、図２６Ｃを参照すると、２×２の治療範囲用型（２６３０）が示されている。これら３つの例では、治療ビームは、正方形またはほぼ正方形であってもよい。いくつかの実施形態では、治療ビームは、長方形であってもよい。ビームは、縦がビームの横の２倍、３倍、４倍、あるいは他のある整数倍または非整数倍であるような形をしてもよい。治療ビームの縦が治療ビームの横の２倍であるいくつかの実施形態では、図２６Ｃに示されているような型が使用されてもよい。ビームは、治療範囲を進んで回る代わりに、ビームは、単に前後に移動し、１つの位置から２つ目の位置に、その後、１つ目の位置に戻る。２×２、３×２、および４×２の治療範囲が示されているが、３×３、４×３、または５×２などの他の大きさの治療範囲が使用されてもよい。いくつかの実施形態では、治療範囲の大きさを決めるために、ビームの横および／または縦の非整数倍が使用されてもよい。

いくつかの実施形態は、型の使用を示しているが、他の実施形態では、医師は、型の使用の有無にかかわらず、患者の皮膚上に治療範囲の境界を描いてもよい。例えば、医師は、マーキング装置（暗いインク、紫外線反射インクなど）、あるいはシステムが確認できる表示を使用することによって、カスタマイズした型を形成してもよく、治療ヘッド（９５０）は、マーキングを認識して、描かれたパターンに従って治療範囲を登録またはマーキングするセンサを含んでもよい。いくつかの実施形態では、医師はまた、何らかのマーキングを使用することなくカスタムの型を形成してもよい。例えば、可視アライメント光による補助を受けながら、医師は、治療ヘッドをある場所に移動させて、ボタンまたはその他をクリックして、装置を用いて場所を登録してもよい。治療範囲を形成するために十分な点が登録されるまで、例えば、３つ以上の点が登録されるまで、これが繰り返されてもよい。

以上で説明されているいくつかの実施形態では、治療中のＥＭＲビーム出力を低下させることによって、皮下治療範囲の温度を治療上許容可能な温度まで上昇させつつ、皮膚温度を許容可能なレベルに保つのに役立つことができる。他の実施形態では、治療中に間欠的に冷却サイクルを実施することによって、皮膚温度は、許容可能なレベルに保たれることができる。出願人は、例えば、脂肪減少の治療では、いくつかの冷却サイクルがある限りは、治療全体にわたってＥＭＲビームが１５０Ｗの出力レベルに保たれることができることを見出した。いくつかの実施形態では、冷却サイクルを、１０秒間にわたって実行してもよく、治療ヘッドが治療範囲を走査または移動し続ける間、ＥＭＲビームなしで冷却用気流を実行することを含んでもよい。例示的実施形態では、脂肪減少治療は、（ｉ）６分間にわたって１５０ＷのＥＭＲ出力レベルで治療範囲を走査する工程と、（ｉｉ）１０秒間にわたって冷却サイクルを実行する工程と、（ｉｉｉ）１分間にわたって１５０ＷのＥＭＲ出力レベルで治療範囲を走査する工程と、（ｉｖ）目的とする時間にわたって皮下組織が治療温度範囲にあるまで工程（ｉｉ）および（ｉｉｉ）を繰り返す工程と、を含んでもよい。このプロセスを使用することによって、深くの脂肪組織はより高い温度に保たれつつ、皮膚および表皮は共に十分に低いレベルに保たれることが判断される。これによって、治療時間を保ちつつ、または治療時間を減らしても、処置の有効性を上げた。

例示的実施形態
一実施形態では、皮下脂肪減少およびスキンタイトニングを同時に行うことが望ましい場合がある。しかし、図１１のヒト組織プロファイルに示されているように、異なるＥＭＲ波長は、想定される異なる浸透深さを有する。特に、図１１は、各波長ごとに、様々な深さに浸透するＥＭＲエネルギーのパーセンテージをパーセンテージで示す。さらに概して、脂肪は典型的には、皮膚の表面から５ｍｍ超にある。よって、例えば、約１０６４ｎｍ（例えば、４００ｎｍ～３０００ｎｍ、または、９００ｎｍ～１１００ｎｍ）の波長が、皮膚、表皮および真皮に良好に伝播することを示し、脂肪細胞内にエネルギーを付与するので、脂肪組織の温熱療法において選択されてもよい。一方、スキンタイトニングは概して、コラーゲンが存在する表皮および真皮でより高い吸収を示す他の波長を必要とする。よって、例えば、約４００ｎｍ～約３０００ｎｍ、または、約１３００ｎｍ～約１４００ｎｍの波長である。これらのＥＭＲビームの波長は、コラーゲンにより多くのエネルギーを付与し、ネクローシスを引き起こし、最終的には、新しいコラーゲンの増生によりスキンタイトニングを引き起こす。

このような実施形態では、本明細書に説明されている多機能エステティックシステム（１０）の電源および制御電子機器（４００）の制御装置（４０３）は、皮下脂肪減少に適した波長を有するＥＭＲビームを生成するドライバ（４０９）／レーザ源（２０３）の第１の対を起動させながら、同時にスキンタイトニングに適した波長を有するＥＭＲビームを生成するドライバ（４０９）／レーザ源（２０３）の第２の対を起動させてもよい。いくつかの実施形態では、このような処置はまた、ＲＦ（電波周波数）、ＭＷ（マイクロ波）、超音波またはクライオ（凍結療法）脂肪減少方法を使用する処置などの他の脂肪減少技術と共に使用されてもよい。

さらなる例において、いくつかの実施形態では、以上に説明されている方法は、例えば、以上に述べられているように脂肪の除去、身体のスキンタイトニング、顔のスキンタイトニング、スキンリサーフェーシング、スキンリモデリング、静脈縮小または静脈除去、顔の色素除去または色素低減、脱毛、にきび治療、瘢痕縮小および瘢痕除去、乾癬治療、皮膚線条除去、爪水虫治療、白斑治療、刺青除去、またはそれらの組み合わせが含まれるがこれらに限定されない任意の他の処置または処置の組み合わせを行うのに適した波長を放射するドライバ（４０９）／レーザ源（２０３）の対を起動させるのに使用されてもよい。

例示的な操作では、図１に示されているような装置（１０）が使用されてもよい。医師または使用者は、患者に関する情報をユーザインタフェース（１０１）に入力する。いくつかの実施形態では、男性または女性などのデータ、ならびに、脂肪減少またはしわ減少などの治療選択肢は、システムに必要となり、他の態様は、制御システムに予めプログラムされている。患者は、システム（１０）に隣接した位置に配置され、計算装置が起動させられる。使用者／医師は、位置決め機器（９００）および装置（９５０）を治療範囲の上の位置に移動させ、治療範囲を設定する。装置（９５０）は、所望の治療範囲を走査し、データを装置（１０７）に返信する。例えば、装置（９５０）は、以下の情報をシステムに返信してもよいが、これには、皮膚温度、ヘッドの場所、ヘッドの高さ、治療レーザがオンであるか、またはオフであるか、冷却用空気が流れているか、または流れていないか、ならびに、冷却用空気温度が含まれる。皮膚温度は、皮膚温度の最大値の設定に達した場合に、治療レーザを停止すべきかを判断するために使用されてもよい。ヘッドの場所とヘッドの高さは、確実に治療が「型」内にあるようにするために、そして、ヘッドの高さが適切であるようにするために、ヘッドの制御システムによって使用されてもよい。流量が低すぎる場合、あるいは空気温度が高くなりすぎる場合（両方の場合で、空気冷却システムは機能すべきように機能していない）、システムが停止するので、冷却気流および温度は、安全測定値となってもよい。

医師／使用者がすべてのパラメータが設定されていることを確認すると、治療が開始する。治療中に、装置（９５０）の近接センサ（２５０１）が、データを装置（１０７）に送信し、それによって、位置決め機器（９００）が、装置（９５０）を治療範囲から適切な距離に保つ。いくつかの処置においては、これは０．５と１．０インチの間であり、好ましくは０．７５インチである。

脂肪減少またはスキンタイトニングなどの治療においては、装置（１０７）は、治療範囲を、図１８に示されているように、より小さい治療領域に分ける。いくつかの実施形態では、ビームは、治療領域が、ビームの縦の４倍の縦（いくつかの実施形態では、ビームの横がビームの縦と等しいように正方形のビームが使用される）と、ビームの横の２倍の横を有するような大きさと形状のものである。レーザビームが治療区域の１つの隅に位置付けられて、レーザが起動させられる。いくつかの実施形態では、温度センサは、ビームの進行方向に位置付けられ、それによって、１つがビームの前方の皮膚温度を感知し、１つがビームの後方の温度を測定する。ビームは、皮膚が快適な温度（４０～４３℃を超えないもの）に留まり、そして、治療範囲が治療温度内に留まるような速度で移動することができる。脂肪減少療法では、皮下脂肪組織が４０℃と５２℃との間の温度まで加熱されることが望ましい。脂肪を加熱しながら皮膚を冷たく保つために、５℃の冷気が、加圧されて装置（９５０）にもたらされて、開口部（２１０５）を通過する。冷気は、気流によって皮膚が許容可能な温度に保たれる限りは、５℃より高温または低温であってもよい。

空気圧／空気量および皮膚からの装置（９５０）の距離は、衝突冷却に影響を及ぼすように制御されてもよい。空気はＥＭＲを妨げないので、ＥＭＲビームの範囲内および範囲外の両方に複数の開口部が設けられてもよい。ビームが、図１８に示されている経路を通って移動すると、最初の走査が次の走査より大きいエネルギーを要し、これは、脂肪が前の走査からの熱を保持するからである。いくつかの実施形態では、アームは、脂肪組織が４０℃未満にまで冷却することができない速度で装置（９５０）を移動させる。いくつかの実施形態では、装置（１０７）は、最初の走査の後にレーザにもたらされる出力を下げ、次の走査の後にさらに下げる。いくつかの実施形態では、装置（１０７）は、皮膚温度を制御するために、皮膚に対する装置（９５０）の距離または空気流量または空気温度を制御する。いくつかの実施形態では、皮膚温度が予め設定された最大値を超える場合は、ＥＭＲビームが停止してもよく、温度が許容可能なレベルにまで下がると、再びオンにされる。いくつかの実施形態では、第１の領域が予め定められた時間にわたって治療される（予め定められた温度を越えて保たれる）と、装置（１０７）が位置決め機器（９００）を使用して、装置（９５０）を第２の治療領域に移動させる。この操作は、治療全体が治療されるまで続いてもよい。

いくつかの実施形態では、本開示のシステムおよび装置は、皮下脂肪組織で温熱アポトーシスを引き起こすために使用されてもよい。このプロセスは、皮下エネルギー送出装置を治療範囲の第１の治療区域に移動させることと、皮下組織が目的とする温度範囲に達することができる速度で治療区域内のエネルギー送出装置を移動させながら、第１の区域にエネルギーを照射することと、皮下組織を目的とする温度範囲内に保ちながら、治療区域の表面を有する治療区域へのエネルギー照射を続けることと、そして、目的とする治療時間にわたって目的とする温度範囲にある第１の治療区域の組織のいずれにもエネルギー照射を止めることと、を含んでもよい。

いくつかの実施形態では、前の走査と比較して、より少ないエネルギーが走査で送られてもよい。プロセスはまた、治療区域の表面温度のときに第１の治療区域の組織のいずれにもエネルギー照射を止めることを含んでもよい。プロセス中に目的とする温度範囲は、４２～５１℃であってもよく、そして、エネルギーは、治療区域の面積より小さい面積に照射されてもよい。いくつかの実施形態では、エネルギー送出装置は、エネルギーを治療区域の範囲全体に照射することによって走査を完了してもよい。皮下組織の温度を目的とする温度範囲まで上昇させるために、複数の走査が必要とされてもよい。いくつかの事例では、皮下組織が目的とする温度範囲に達した後は、皮下組織が目的とする温度範囲に達する前より少ないエネルギーがエネルギー送出装置によって送られてもよい。エネルギー送出装置はまた、治療区域の表面温度を感知するために温度センサを含んでもよい。いくつかの実施形態では、治療区域の表面温度が、最大限の表面温度より高いときは、治療区域へのエネルギー照射が停止されてもよい。治療区域の表面温度が、最大限の表面温度より低いときは、治療区域へのエネルギー照射が再開されてもよい。最大限の表面温度は４２℃であり、そして、皮下組織の温度は、治療表面温度の温度から計算されてもよい。

いくつかの実施形態では、本開示のシステムおよび装置は、皮下脂肪組織で温熱アポトーシスを引き起こすために使用されてもよい。プロセスは、（ｉ）皮下エネルギー送出装置を治療範囲に移動させる工程と、（ｉｉ）皮下脂肪組織の温度を治療上許容可能な範囲まで上昇させるために、エネルギー送出装置を治療範囲内で移動させながら、治療範囲にエネルギーおよび冷却用空気を当てる工程と、（ｉｉｉ）エネルギー送出装置を治療範囲内で移動させながら、冷却用空気を当てるのを保ちながら、治療範囲へのエネルギー照射を止める工程と、そして、（ｉｖ）エネルギー送出装置を治療範囲内で移動させながら、治療範囲へのエネルギーおよび冷却用空気を当てる工程と、を含んでもよい。脂肪組織の温度は、治療中に治療上許容可能な範囲に保たれてもよい。脂肪組織は、４２℃超に保たれ、エネルギー照射は、５～１５秒間にわたって止められてもよい。また、脂肪組織が予め定められた時間にわたって治療上許容可能な範囲内に保たれるまで工程（ｉｉｉ）および（ｉｖ）を繰り返す工程を含んでもよい。

本開示は、本明細書の特定の実施形態を参照しながら説明されてきたが、当業者であれば、本開示の真の趣旨および範囲から逸脱することなく様々な変更がなされてもよく、等価物が代わりに用いられてもよいことが理解されるであろう。加えて、本開示の真の趣旨および範囲から逸脱することなく、特定の状況、兆候、材料および構成、プロセスの工程（複数可）に適応させるために、多くの修正がなされてもよい。このような修正はすべて、本明細書に添付されている請求項の範囲内で行われるように意図されている。

本明細書で利用される場合、用語「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅ）」および「含んでいる（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、排他的ではなく包括的であるものとして解釈されるように意図されている。本明細書で利用される場合、用語「例示的」、「例」および「例証的」は、「例、事例、または例証としての役割を果たす」ことを意味するように意図されており、他の構成に対して好ましいもしくは有利な構成を示す、または示さないものとして解釈されるべきではない。本明細書で利用される場合、用語「約」、「概して」および「およそ」は、特性、パラメータ、大きさおよび寸法の変動などの主観的または客観的値の範囲の上限および下限に存在し得る変動を網羅するように意図されている。非限定的な一例では、用語「約」、「概して」および「およそ」は、１０パーセントまたは＋１０パーセント以下または－１０パーセント以下を意味する。非限定的な一例では、用語「約」、「概して」および「およそ」は、関連分野における当業者によって含まれると見なされるのに十分に近いことを意味する。明細書で利用される場合、用語「略」は、当業者によって理解されるであろうように、作用、特徴、特性、状態、構造、項目または結果の完全もしくはほぼ完全な範囲または程度を指す。例えば、「略」円形である物体は、物体が数学的に判断可能な限界まで完全に円形であるか、あるいは当業者によって認識または理解されるであろうようなほぼ円形のいずれかであることを意味することになる。絶対的な完全性からの許容可能な厳密の逸脱程度は、一部の事例では、特定の状況に依存し得る。しかし、概して、完全性に近いことは、絶対的または総合的な完全性が達成または取得されたかのように、全体では同じ結果を有することになる。「略」の使用は、当業者によって理解されるであろうように、作用、特徴、特性、状態、構造、項目または結果の完全またはほぼ完全な欠如を指すために否定的な意味合いで利用されるときに、等しく適用可能である。

前述の説明を考慮すれば、本発明の多数の修正および代替実施形態が当業者に明らかであろう。したがって、本説明は、例証的にすぎないものとして解釈され、当業者に本発明を実施するための最良形態を教示する目的のためのものである。構造の詳細は、本発明の精神から逸脱することなく、実質的に変動し得、添付されている請求項の範囲内に入るすべての修正の独占的な使用が留保されるものとする。本明細書内では、実施形態は、明確かつ簡潔な明細書が書かれることを可能にするように説明されているが、実施形態は、本発明から逸脱することなく、多様に組み合わせられ、または分離され得ることが意図されており、そのように理解されるであろう。本発明は、添付されている請求項および法律の適用可能な規則によって要求される程度にしか限定されないように意図される。

後に続く請求項は、本明細書で説明されている本発明の包括的特徴および具体的特徴のすべてを網羅するものであり、本発明の範囲の記述はすべて、言い方の問題として、それらの間に存在すると言ってもよいことも理解される。

Claims (20)

1. エステティック治療を提供する方法であって、該方法は、
   複数のマーキングを設けて、治療範囲の境界を識別する工程と、
   エステティック治療装置によって、前記複数のマーキングを登録して、前記治療範囲をマッピングする工程であって、前記エステティック治療装置は、電磁放射線（ＥＭＲ）ビームを向けるためにビーム源を有する、工程と、
   前記ビーム源を作動して、マッピングされた前記治療範囲で前記ＥＭＲビームを生成する工程と、を含む、方法。
2. 前記エステティック治療装置は、
   ハウジングと、
   ２つの端部を有し、一方の端部が前記ハウジングに接続された治療アームと、
   前記治療アームの他方の端部に接続された治療ヘッドと、
   制御装置と、
   前記ＥＭＲビームを前記治療ヘッドに向けるシステムと、
   使用者がデータを入力することができるユーザインタフェースと、をさらに含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記治療ヘッドは、前記ＥＭＲビームを送る間に前記治療範囲の表面に接触しない、請求項２に記載の方法。
4. 前記治療ヘッドは、前記ＥＭＲビームを、縦横を有する長方形の形状に変換するレンズを含む、請求項３に記載の方法。
5. 前記エステティック治療装置は、前記治療範囲に送る空気を前記治療ヘッドにもたらすシステムをさらに含む、請求項４に記載の方法。
6. 治療区域は、縦横を有し、前記縦は、前記ＥＭＲビームの縦のおよそ整数倍であり、前記横は、前記ＥＭＲビームの横のおよそ整数倍である、請求項１に記載の方法。
7. 前記治療範囲は、長方形の形状である、請求項１に記載の方法。
8. 前記治療範囲は、治療ヘッドを前記治療範囲の第１の隅に移動して前記第１の隅を登録し、前記治療ヘッドを前記治療範囲の第２の隅に移動して前記第２の隅を登録し、前記治療ヘッドを前記治療範囲の第３の隅に移動して前記第３の隅を登録し、そして、前記治療ヘッドを前記治療範囲の第４の隅に移動して前記第４の隅を登録することによって設定される、請求項７に記載の方法。
9. 前記エステティック治療装置のアライメント光を前記複数のマーキングのうちの１つと位置合わせして、前記治療範囲の登録を開始する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
10. ジョイスティックおよび前記ユーザインタフェースのうちの少なくとも１つの入力に応じて前記治療ヘッドを移動させる工程をさらに含む、請求項２に記載の方法。
11. 皮下脂肪組織に温熱アポトーシスを引き起こすための多機能エステティックシステムであって、該多機能エステティックシステムは、
    エネルギービームを生成する電磁放射線（ＥＭＲ）源と、
    前記電磁放射線（ＥＭＲ）源を、皮下組織が目的とする温度範囲に達することができる速度で治療範囲の第１の治療区域内を移動させながら、前記エネルギービームを、前記治療範囲の前記第１の治療区域の上に向けるエネルギー送出装置と、を含み、
    前記エネルギー送出装置は、前記皮下組織を目的とする温度範囲内に保ちながら、前記第１の治療区域への前記エネルギービームの照射を続け、
    前記エネルギー送出装置は、目的とする治療時間にわたって前記目的とする温度範囲にあった前記第１の治療区域の前記皮下組織のいずれにも、前記エネルギービームの照射を止める、多機能エステティックシステム。
12. 前記皮下組織の前記目的とする温度範囲は、４２℃～５１℃である、請求項１１に記載の多機能エステティックシステム。
13. 前記エネルギービームの照射は、前記第１の治療区域の面積より小さい面積に照射される、請求項１１に記載の多機能エステティックシステム。
14. 前記エネルギー送出装置は、前記皮下組織が前記目的とする温度範囲に達した後は、前記皮下組織が前記目的とする温度範囲に達する前に照射されたエネルギーの照射より少ないエネルギーを照射する、請求項１３に記載の多機能エステティックシステム。
15. 前記第１の治療区域の表面温度が、最大限の表面温度より高いときは、前記第１の治療区域へのエネルギーの照射が停止され、
    前記第１の治療区域の表面温度が、最大限の表面温度より低いときは、前記第１の治療区域へのエネルギーの照射が再開される、請求項１１に記載の多機能エステティックシステム。
16. 前記エネルギー送出装置は、前記皮下組織の温度を前記目的とする温度範囲まで上昇させるために、第１の治療範囲内で前記電磁放射線（ＥＭＲ）源を移動させながら、前記第１の治療範囲に前記エネルギービームの照射と冷却用空気を当て、および、
    前記エネルギー送出装置は、前記第１の治療範囲内で前記電磁放射線（ＥＭＲ）源を移動させながら、前記冷却用空気を保ちつつ、前記第１の治療範囲への前記エネルギービームの照射を停止する、請求項１１に記載の多機能エステティックシステム。
17. エステティック機器であって、該エステティック機器は、
    電磁放射線（ＥＭＲ）ビームを生成するように構成された電磁放射線（ＥＭＲ）源と、
    治療範囲に前記ＥＭＲビームおよび気流を向ける装置と、
    前記ＥＭＲビームを平行化するレンズと、
    平行化した前記ＥＭＲビームを正方形のＥＭＲビームに変形し、組織を均一に加熱するために均一なエネルギー配分を生成する屈折型拡散板と、を含む、エステティック機器。
18. 空気源を有する空気システムと、組織表面に衝突冷却をもたらすのに十分な目的とする速度で前記空気源から治療範囲に空気量を向ける冷却システムと、をさらに含む、請求項１７に記載のエステティック機器。
19. 皮膚温度センサ、冷却用空気温度センサ、気流センサ、レーザ出力センサ、位置センサおよび近接センサのうちの少なくとも１つを有するセンサアレイをさらに含む、請求項１７に記載のエステティック機器。
20. エネルギー送出装置は、近接センサに達する光をフィルタリングする遮光フィルタを含み、前記エステティック機器が皮膚の表面に近接していることをレーザ検出する精度を向上する、請求項１７に記載のエステティック機器。

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