JP2022535096A - シリルヒドリドとエポキシドとの熱開始酸触媒反応 - Google Patents

シリルヒドリドとエポキシドとの熱開始酸触媒反応 Download PDF

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Abstract

【解決手段】 組成物は、シリルヒドリド、エポキシド、ルイス酸触媒、及び以下の式:R1R2R3N [式中、窒素(N)は、N=C-N結合の員ではなく、R1、R2、及びR3の各々は、独立して、水素、アルキル、置換アルキル、及び共役部分からなる群から選択され、エポキシドが直鎖状である場合、R1、R2、及びR3の少なくとも1つは、共役炭素によって窒素に接続している共役部分であり、エポキシドが環状エポキシドである場合、R1、R2、及びR3はいずれも、共役炭素を有するアミン窒素に接続していない]を有するアミンの混合物を含む。【選択図】なし

Description

発明の分野
本発明は、シリルヒドリド、エポキシド、ルイス酸触媒、及びルイス酸触媒のためのアミン遮断剤を含む組成物に関する。組成物を加熱することにより、アミン遮断剤からルイス酸触媒が放出され、それがシリルヒドリドとエポキシドとの反応を触媒することができる。
序論
強ルイス酸は、多数の反応のための既知の触媒である。例えば、シリルヒドリドとシリルエーテルとのPiers-Rubinsztajn(PR)反応は、強ルイス酸、特にトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン(「BCF」)によって触媒される周知の反応である。同様のルイス酸触媒反応としては、シリルヒドリドとポリシロキサンとの転位反応、及びシリルヒドリドとシラノールとの転位反応が挙げられる。例えば、Chem.Eur.J.2018,24,8458-8469を参照されたい。
PR反応などのルイス酸触媒反応は、摂氏23度(℃)でさえも急速反応する傾向がある。これらの反応系は反応性が高いため、それらの用途は制限される。この反応は、コーティング及び接着剤などの用途において望ましい場合があるが、反応系は、適用前に反応を排除するために、多元系内で保管されなければならない。それでも、成分が組み合わされるとすぐに反応が非常に急速に起こり得るため、反応系を適用する時間がほとんどない。ルイス酸触媒反応を制御する方法を特定し、理想的には、23℃で貯蔵安定性であるが、所望に応じて反応するように誘発され得る形態で、反応物及びルイス酸触媒を含む一元系としてそれらを提供することが望ましい。
紫外線(UV)感光性遮断剤は、UV光に曝露するとルイス酸を放出する遮断されたルイス酸を形成するために、ルイス酸と組み合わされる。UV光に曝露すると、遮断剤はルイス酸から解離し、ルイス酸を遊離して反応を触媒する。これらの遮断されたルイス酸を含む系による課題は、安定性を維持するために暗所に保持する必要があることである。更に、反応を開始するためにUV光に曝露する必要があり、厚い組成物では、組成物全体を通して急速に硬化を開始するためにUV光透過を得ることが困難であり得る。
特に、アミンは、PR反応型の系ではルイス酸との組み合わせにおいて注目されている。しかしながら、アミンは、反応を完全に抑制することが報告されている。例えば、Chem.Comm.2010,46,4988-4990 at 4988を参照されたい。ほとんどのアミンは、ルイス酸触媒と本質的に不可逆的に錯体化(complex)するが、トリアリールアミンは例外であることが分かり、PR反応を触媒する際にルイス酸を損なうことがないと後に特定された。Chem.Eur.J.2018,24,8458-8469 at 8461及び8463を参照されたい。
UV光に曝露しても23℃で貯蔵安定性であるが、所望に応じて反応するように誘発され得る、ルイス酸触媒反応のための一元系を調製する方法を特定することが望ましい。
本発明は、UV光に曝露しても23℃で貯蔵安定性であるが、所望に応じて反応するように誘発され得る、ルイス酸触媒反応のための一元系を調製する方法を特定する問題に対する解決策を提供する。特に、本発明は、シリルヒドリドとエポキシドとの反応におけるこのような問題に対する解決策を提供する。更に、本発明は、望ましい95℃硬化速度、すなわち、10分以下、好ましくは5分以下、その上更により好ましくは1分以下、かつ最も好ましくは30秒以下の95℃硬化速度、を有するように加熱すると反応するように誘発されるこのような溶液を提供する。
本発明は、ルイス酸がシリルヒドリドとエポキシドとの反応を触媒し、このような反応が数秒で起こり得ることを発見したことから生じる。炭素が環状基の一部であるエポキシド官能基は、驚くべきことに、ルイス酸の存在下で特に反応性があり、シリルヒドリドと特に急速に反応することが見出されている。
本発明は、23℃でルイス酸触媒と錯体化し、ルイス酸触媒の活性を遮断するが、加熱するとルイス酸触媒を放出する特定のアミンを驚くことにかつ予想外に発見した結果である。結果として、特定のアミンは、23℃でルイス酸触媒を遮断するが、ルイス酸触媒を放出し、80℃以上、95℃以上、又は100℃以上などの高温で反応を触媒するルイス酸触媒のための熱により誘発され得る遮断剤である。これは、当該技術分野における以前の理解を考慮すると驚くべきことである。上述したように、現在の理解では、アミンは、ルイス酸触媒と不可逆的に錯体化するか、又はトリアリールアミンの場合、ルイス酸触媒反応においてルイス酸触媒を損なうことができないかのいずれかである。Chem.Comm.2010,46,4988-4990 at 4988並びにChem.Eur.J.2018,24,8458-8469 at 8461及び8463を参照されたい。
ルイス酸触媒のための熱により誘発される遮断剤として働くアミンの発見により、アミン遮断剤に加えて、ルイス酸触媒、シリルヒドリド、及びエポキシドを含む一成分反応系(one-component reaction systems)として機能する本発明の組成物を利用可能にする。
第1の態様では、本発明は、シリルヒドリド、エポキシド、ルイス酸触媒、及び以下の式:RNを有するアミンの混合物を含む組成物であって、式中、窒素(N)は、N=C-N結合の員ではなく、R、R、及びRの各々は、独立して、水素、アルキル、置換アルキル、及び共役部分からなる群から選択され、(a)エポキシド炭素が直鎖状構造の一部である場合では、R、R、及びRの少なくとも1つは、共役炭素によって窒素に接続している共役部分であり、(b)エポキシド炭素が環状構造の一部である場合では、R、R、及びRの各々は、非共役炭素によって窒素に接続している。
第2の態様では、本発明は、(a)第1の態様の組成物を提供するステップと、(b)組成物を、アミンからルイス酸触媒を解離するのに十分な温度に加熱するステップと、を含むプロセスである。
本発明の組成物は、例えば、コーティング及び接着剤のための一成分系として適している。
試験方法は、日付が試験方法番号と共に示されていない場合、本文書の優先日現在での直近の試験方法を指す。試験方法への言及は、試験の協会及び試験方法番号への参照の両方を含む。本明細書では、以下の試験方法の略語及び識別子が適用される。ASTMは、ASTMインターナショナル(ASTM International)を指し、ENは欧州規格(European Norm)を指し、DINは、ドイツ規格協会(Deutsches Institut fuer Normung)を指し、ISOは国際標準化機構(International Organization for Standardization)を指す。
「複数の」とは、2つ以上を意味する。「及び/又は」とは、「及び、又は代替として」を意味する。全ての範囲は、特に指示がない限り、端点を含む。商品名で識別される製品は、本明細書に別途記載のない限り、本文書の優先日において、それらの商品名でサプライヤーから入手可能な組成物を指す。
本発明の組成物は、シラノール及び/又はシリルエーテル、シリルヒドリド、ルイス酸、並びにアミンの混合物を含む。本組成物は、貯蔵安定性の熱誘因反応性混合物として有用である。
「シロキサン」は、少なくとも1つのシロキサン(Si-O-Si)結合を含有する分子を指す。「ポリシロキサン」は、複数のSi-O-Si結合を含有する分子である。ポリシロキサンは、典型的には、M、D、T、又はQ単位と呼ばれるシロキサン単位を含む。標準M単位は、式(CHSiO1/2を有する。標準D単位は、式(CHSiO2/2を有する。標準T単位は、式(CH)SiO3/2を有する。標準Q単位は、式SiO4/2を有する。M型、D型、及びT型単位は、水素、又はいくつかの他の部分で置き換えられる1つ以上のメチル基を有することができる。
「シリルヒドリド」は、ケイ素-水素(Si-H)結合を含有する分子であり、複数のSi-H結合を含有することができる。
「エポキシド」は、エポキシド官能基を含有する分子を指す。「エポキシド官能基」は、2つの炭素原子及び酸素原子からなる3員環である。「エポキシド炭素」は、1つのエポキシド官能基の2つの炭素原子である。
「アルキル」は、水素原子を除去することによってアルカンから誘導される炭化水素基である。「置換アルキル」は、少なくとも1つの炭素又は水素の代わりに炭素及び水素以外の原子、又は化学的部分を有するアルキルである。
「アリール」は、水素原子を除去することによって芳香族炭化水素から誘導される基である。「置換アリール」は、少なくとも1つの炭素又は水素の代わりに炭素及び水素以外の原子、又は化学的部分を有するアリールである。
「共役」は、一連の交互に連なる炭素-炭素の単結合及び二重結合及び/又は三重結合を指し、そのp-軌道は、炭素結合間で非局在化電子を可能にするように接続されている。「共役炭素」は、共役される一連の交互に連なる炭素-炭素の単結合及び二重結合の炭素を指す。「非共役」は、共役系の一部ではない炭素を指す。「芳香族」は、環状平面共役分子を指す。
「遮断剤」は、いくつかの方法で第2の成分の活性を防止するために、第2の成分に結合する成分である。例えば、触媒上の遮断剤は、触媒を触媒活性から排除し、遮断剤と錯体化する。
ルイス酸は、一般に以下に示されるように、シリルヒドリドとエポキシドとの開環付加反応を触媒する。
Figure 2022535096000001
この反応は、新たなシリルエーテル結合を形成し、架橋ポリシロキサン系を形成するのに有用である。Piers-Rubinsztajn(PR)反応などの他のルイス酸触媒反応に勝るこの反応の特に望ましい特性は、この反応が典型的に、反応を使用してシロキサンポリマーを硬化させるときに気泡を生成する可能性のある揮発性の副生成物を生成しないことである。したがって、反応は、透明な硬化組成物及びフィルムを作製するのに理想的である。
本発明は、シリルヒドリド、エポキシド、ルイス酸触媒、及び特定のアミンの混合物を含む組成物を含む。本発明の特定のアミンは、23℃でルイス酸触媒のための遮断剤として作用するが、高温(例えば95℃)でルイス酸触媒を放出することが発見された。結果として、本発明の組成物は、23℃で貯蔵安定性であるが、高温でルイス酸触媒反応を起こすように熱により誘発される。このような組成物は、ルイス酸触媒反応のための「貯蔵安定性」である一元系を提供するという本発明の目的を達成する。「貯蔵安定性」とは、反応系が、23℃で、6時間以下、更により好ましくは12時間以下、更により好ましくは24時間以下、かつ更により好ましくは2日以下でゲル化しないことを意味する。以下の実施例セクションにおける「23℃貯蔵寿命」試験を使用して貯蔵安定性を評価する。本発明の組成物は更に、23℃で貯蔵安定性であるが、所望に応じて加熱によって誘発されるルイス酸触媒反応のための一元系を提供する。特に、本発明の組成物は、95℃で30分以下、好ましくは15分以下、より好ましくは10分以下、更により好ましくは5分以下、かつ更により好ましくは1分以下、かつ最も好ましくは30秒以下でゲル化する。以下の実施例セクションにおける「95℃での硬化速度」試験を使用して、95℃での硬化速度を決定する。
エポキシド
エポキシドは、1つ又は2つ以上のエポキシド官能基を有する任意の化合物であってもよいエポキシドは、例えば、1つ又は2つ以上のシロキサン(Si-O-Si)結合の形態のケイ素原子を含むことができる。エポキシドは、複数のシロキサン結合を有し、1つ又は2つ以上のエポキシド官能基を有するポリシロキサンであってもよい。
ポリシロキサンは、複数のシロキサン結合を含有し、ポリシロキサンを構成するシロキシ(SiO)基によって特徴付けられてもよい。シロキシ基は、M型、D型、T型、又はQ型である。M型シロキシ基は、シロキシ基に結合した別の原子と共有される酸素原子に加えて、ケイ素原子に結合した3つの基が存在する≡SiO1/2として記載されてもよい。D型シロキシ基は、シロキシ基に結合した他の原子と共有される2つの酸素原子に加えて、ケイ素原子に結合した2つの基が存在する=SiO2/2として記載されてもよい。T型シロキシ基は、シロキシ基に結合した他の原子と共有される3つの酸素原子に加えて、1つの基がケイ素原子に結合している-SiO3/2として記載されてもよい。Q型シロキシ基は、ケイ素原子が、シロキシ基に結合した他の原子と共有される4つの酸素原子に結合しているSiO4/2として記載されてもよい。ケイ素原子に結合した基は、特に指定されない限り、メチル基とみなされる。例えば、「M」基は、トリメチルシロキシと同じである。「M」基は、2つのメチル基及びシロキサン基に結合した水素を有する。エポキシ官能性ポリシロキサンは、一般に、ポリシロキサンのケイ素原子に結合したエポキシ官能基を含有する有機基を有する。
本発明に使用する好適なポリシロキサンエポキシドの例としては、以下の任意の1つ又は任意の組み合わせ又は2つ以上が挙げられる。
MDCEP M、式中、下付き文字aは、Dシロキシ単位の平均数であり、典型的には、20以上、30以上、40以上、50以上、60以上、70以上、80以上90以上100以上110以上の値であり、同時に、一般に150以下、140以下、130以下、120以下であり、110以下、100以下、90以下、80以下、及び更には70以下であってもよく、下付き文字bは、1分子当たりのDCEPシロキシ単位の平均数であり、典型的には、1以上、2以上、3以上、4以上、5以上、6以上、7以上、8以上、9以上、又は10以上の値であり、同時に、典型的には20以下、19以下、18以下、17以下、16以下、15以下、14以下、13以下、12以下、11以下、10以下、9以下、又は更に8以下であり、DCEPは、Dシロキシ単位であり、メチル基のうちの1つは、環状エポキシド基、好ましくは末端環状エポキシド基を有するペンダント構造で置き換えられる。例えば、DHEPは、Dシロキシ単位であるDCEPであり、メチル基のうちの1つは、エチル-シクロヘキセンオキシドで置き換えられる。
Figure 2022535096000002
MDEP b’M、式中、下付き文字aは、1分子当たりのDシロキシ単位の平均数であり、上記で定義したとおりであり、下付き文字b’は、1分子当たりのDEPシロキシ単位の平均数であり、典型的には、1以上、2以上、3以上、4以上、5以上、6以上、7以上、8以上、9以上、又は10以上の値であり、同時に、典型的には20以下、19以下、18以下、17以下、16以下、15以下、14以下、13以下、12以下、11以下、10以下、9以下、又は更に8以下であり、DEPは、Dシロキシ単位であり、メチル基のうちの1つは、直鎖状エポキシド基、好ましくは末端エポキシド基を有するペンダント構造で置き換えられる。DEP単位の例を以下に示す。
Figure 2022535096000003
CEPCEP、式中、下付き文字cは、1分子当たりのDシロキシ単位の平均数であり、典型的には5以上、10以上、15以上、20以上、25以上、30以上、35以上、40以上、45以上、50以上、55以上、又は60以上の値を有し、同時に、典型的には100以下、90以下、80以下、70以下、65以下、又は60以下の値を有し、MCEPは、Mシロキシ単位であり、メチル基のうちの1つは、環状エポキシド基、好ましくは末端環状エポキシド基で置き換えられる。例えば、MHEPは、Mシロキシ単位であり、メチル基のうちの1つは、エチル-シクロヘキセンオキシドで置き換えられる。
Figure 2022535096000004
EP 、式中、下付き文字x及びcは、1分子当たりの対応するシロキシ単位の平均モル数に対応し、下付き文字xは、典型的には6以上、7以上8以上9以上、及び更に10以上の値を有するが、同時に、典型的には20以下、19以下、18以下、17以下、16以下、15以下、14以下、13以下、12以下、11以下、10以下、9以下、又は更に8以下の値を有し、下付き文字cは、典型的には、MHEPHEPについて上記下付き文字cに定義した値を有し、DEPは、上記で定義したとおりであり、T末端基を有する環状の環を形成する。
エポキシドは、直鎖状エポキシド基を含有することを意味する「直鎖状エポキシド」であってもよく、又はエポキシドが環状エポキシド基を含有することを意味する「環状エポキシド」であってもよい。考えられるところでは、エポキシドは、直鎖状及び環状エポキシド基の両方を含有してもよく、その場合、エポキシドは、「組み合わせエポキシド」である。好ましくは、エポキシドは、直鎖状エポキシド(直鎖状エポキシド基のみを含有する)又は環状エポキシド(環状エポキシド基のみを含有する)である。直鎖状エポキシド基は、互いに直接結合して3員環状エポキシド官能基を形成するエポキシド官能基の炭素原子を含有し、任意の他の方法で互いに直接的又は間接的に接続していない。「環状エポキシド」基は、エポキシド官能基の炭素原子を含有しており、これらの炭素原子は、両方が互いに直接結合して3員環状エポキシド官能基を形成しており、また、直接又はより典型的には、他の原子を介して間接的に、第2の結合又は結合鎖内で互いに結合している。例えば、上記で特定されたDHEP単位のシクロヘキセンオキシド基は、2つのエポキシド官能基の炭素が互いに直接結合し、また、6員環の4つの他の炭素を介して間接的にも結合するため、「環状」エポキシドである。対照的に、上記で特定されたDEP単位は、2つのエポキシド官能基の炭素がエポキシド官能基中で直接にしか互いに結合しないため、「直鎖状」エポキシドを含有する。
典型的には、組成物中のエポキシドの濃度は、組成物中のシリルヒドリド、エポキシド、ルイス酸触媒、及びアミンの総合重量に基づいて、70重量パーセント(重量%)以上、75重量%以上、80重量%以上、85重量%以上、更には90重量%以上であるが、同時に、典型的には90重量%以下、85重量%以下、80重量%以下、又は更には75重量%以下である。
シリルヒドリド
シリルヒドリドは、1つ、好ましくは2つ以上のSi-H結合を含有する。Si-H結合は、典型的には、ポリシラン(複数のSi-H結合を含有する分子)又はポリシロキサンの一部である。複数のSi-H結合を含有するシリルヒドリドは、複数のエポキシド基と反応可能であるため、本発明の組成物中の架橋剤として望ましい。
本発明のシリルヒドリドは、ポリマーであってもよい。シリルヒドリドは、直鎖状、分枝状であってもよく、又は直鎖状及び分枝状シリルヒドリドの組み合わせを含有してもよい。シリルヒドリドは、ポリシラン、ポリシロキサン、又はポリシランとポリシロキサンとの組み合わせであってもよい。
望ましくは、シリルヒドリドは、1つのSi-H結合又は2つ以上のSi-H結合を有するポリシロキサン分子である。シリルヒドリドがポリシロキサンである場合、Si-H結合は、M型又はD型シロキサン単位のケイ素原子上にある。ポリシロキサンは、直鎖状であってもよく、M型及びD型単位のみを含んでもよい。あるいは、ポリシロキサンは、分枝状であってもよく、T(-SiO3/2)型及び/又はQ(SiO4/2)型単位を含有してもよい。
好適なシリルヒドリドの例としては、商品名DMS-HM15、DMS-H03、DMS-H25、DMS-H31、及びDMS-H41でGelestから入手可能なものなどの、ペンタメチルジシロキサン、ビス(トリメチルシロキシ)メチル-シラン、テトラメチルジシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、D含有ポリ(ジメチルシロキサン)(例えば、MD 65M)、及びヒドリド末端ポリ(ジメチルシロキサン)が挙げられる。
シリルヒドリドの濃度は、典型的には、0.2以上、0.5以上、0.7以上、0.8以上、0.9以上、1.0以上、1.2以上、1.4以上、1.6以上、1.8以上、2.0以上、2.2以上、更には2.5以上である、Si-H基のエポキシド基に対するモル比を提供するのに十分であるが、同時に、典型的には5.0以下、4.5以下、4.0以下、3.5以下、3.0以下、2.8以下、2.5以下、2.3以下、2.0以下、1.8以下、1.6以下、1.4以下、1.2以下、又は更には1.0以下である。
エポキシド又はシリルヒドリド(又はその両方)は、反応において架橋剤として機能することができる。架橋剤は、1分子中に少なくとも2つの反応性基を有し、これらの反応性基を介して2つの異なる分子と反応して、それらの分子を一緒に架橋する。架橋剤中の反応性基間の直鎖の長さを増加させることは、得られた架橋物の可撓性を増加させる傾向がある。対照的に、架橋剤中の反応性基間の直鎖の長さを短くすることは、得られた架橋物の可撓性を低減させる傾向がある。一般に、より高い可撓性の架橋物を得るためには、直鎖状架橋剤が所望され、反応性部位間の長さは、所望の可撓性を得るように選択される。より低い可撓性の架橋物を得るためには、架橋分子間の可撓性を低減させるのにより短い直鎖状架橋剤又は更には分枝状架橋剤が所望される。
シリルヒドリドは、エポキシドと同じ分子であってもよく、すなわち、エポキシド及びシリルヒドリド官能基の両方を含有する単一分子は、シリルヒドリド及びエポキシドの両方としてロールを提供することができる。あるいは、シリルヒドリドは、エポキシドとは異なる分子であってもよい。シリルヒドリドは、エポキシド官能基を含まなくてもよい。エポキシドは、シリルヒドリド基を含まなくてもよい。
本発明の組成物(及び反応プロセス)は、2つ以上のシリルヒドリド、2つ以上のエポキシド、並びに/又はシリルヒドリド及びシロキサンの両方として機能する2つ以上の成分を含むことができる。
典型的には、組成物中のシリルヒドリドの濃度は、組成物中のシリルヒドリド、エポキシド、ルイス酸触媒、及びアミンの総合重量に基づいて、5重量%以上、10重量%以上、15重量%以上、20重量%以上、更には25重量%以上であるが、同時に、典型的には30重量%以下、25重量%以下、20重量%以下、15重量%以下、又は更には5重量%以下である。
ルイス酸触媒
ルイス酸触媒は、望ましくはアルミニウムアルキル、アルミニウムアリール、アリールボラン、トリアリールボランを含むアリールボラン(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボランなどの置換アリール及びトリアリールボランを含む)、ハロゲン化ホウ素、ハロゲン化アルミニウム、ガリウムアルキル、ガリウムアリール、ハロゲン化ガリウム、シリウムカチオン、及びホスホニウムカチオンからなる群から選択される。好適なアルミニウムアルキルの例としては、トリメチルアルミニウム及びトリエチルアルミニウムが挙げられる。好適なアルミニウムアリールの例としては、トリフェニルアルミニウム及びトリス-ペンタフルオロフェニルアルミニウムが挙げられる。トリアリールボランの例としては、以下の式:
Figure 2022535096000005
(式中、Rは、各出現において独立して、H、F、Cl、及びCFから選択される)を有するものが挙げられる。好適なハロゲン化ホウ素の例としては、(CHCHBCl及びボロントリフルオリドが挙げられる。好適なハロゲン化アルミニウムの例としては、三塩化アルミニウムが挙げられる。好適なガリウムアルキルの例としては、トリメチルガリウムが挙げられる。好適なガリウムアリールの例としては、テトラフェニルガリウムが挙げられる。好適なハロゲン化ガリウムの例としては、トリクロロガリウムが挙げられる。好適なシリウムカチオンの例としては、(CHCHSi及びPhSiが挙げられる。好適なホスホニウムカチオンの例としては、F-P(C が挙げられる。
ルイス酸は、典型的には、エポキシド及びシリルヒドリドの総合重量に対して、10重量百万分率(ppm)以上、50ppm以上、150ppm以上、200ppm以上、250ppm以上、300ppm以上、350ppm以上400ppm以上、450ppm以上、500ppm以上、550ppm以上、600ppm以上、70ppm以上750ppm以上、1000ppm以上1500ppm以上、2000ppm以上、4000ppm以上、5000ppm以上、更に7500ppm以上であるが、同時に、典型的には10,000以下、7500ppm以下、5000ppm以下、1500ppm以下、1000ppm以下、又は750ppm以下の濃度で組成物中に存在する。
アミン
アミンの選択は、23℃でルイス酸と錯体化し、その温度で反応組成物中のルイス酸の触媒活性を阻害しなければならず、更に、反応組成物を90℃で急速に(10分以内、好ましくは5分以内、より好ましくは1分以内)ゲル化するような高温でルイス酸を放出しなければならないため重要である。反応組成物を23℃及び90℃で監視して、ゲル化時間を決定することができる(以下の実施例セクションを参照)。あるいは、又は追加的に、示差走査熱量測定によって、硬化反応発熱が起こる温度を特徴付けることができる(Tpeak、手順については以下の実施例セクションを参照)。組成物のTpeak値は、適切なアミンが存在する場合、同一のアミンを含まない組成物のTpeakに対して増加すべきであるが、望ましくは、90℃で急速に硬化するのに十分な解離を反映するように、130℃未満、好ましくは120℃未満、より好ましくは110℃未満のままである。
アミンは、ルイス酸触媒を損なわないことが報告されているトリアリールアミンを除いて、ルイス酸触媒と不可逆的に錯体化すると報告されている。理論に束縛されるものではないが、本発明は、部分的には、共役炭素を介してアミンの窒素に結合している1つ以上の共役部分を有することによって、共役部分がアミンの自由電子を非局在化させ、ルイス塩基として弱めるのを助けることを発見した結果であるように思われる。結果として、共役炭素を介してアミンの窒素に結合している少なくとも1つの共役部分を有するアミンは、23℃で4時間以下、好ましくは8時間以下、より好ましくは10時間以下、更により好ましくは12時間未満に反応組成物のゲル化を損なうように、23℃でルイス酸触媒と錯体化し、遮断するが、同時に90℃で加熱するとルイス酸触媒を放出し、10分以下、好ましくは5分以下、より好ましくは1分以下に組成物をゲル化するのに十分な弱さで錯体化することが発見された。
本発明は、アミンが23℃でルイス酸触媒を阻害するが、加熱するとルイス酸触媒を放出し、エポキシドとの反応を触媒することができるだけでなく、エポキシドが直鎖状エポキシド又は環状エポキシドであるかに応じて、アミンに必要な特性が異なるということを驚くことに発見した結果である。しかしながら、各場合において、アミンの窒素は、アミジン、グアニジン、及びN-メチルイミダゾールなどのN=C-N結合の員であってはならないことが発見された。望ましくは、組成物は、N=C-N結合を有するアミンを含まない。例えば、組成物は、アミジン及びグアニジンを含まなくてもよい。
直鎖状エポキシドと共に使用するためのアミン.直鎖エポキシドは、環状エポキシドよりも反応性が低い。したがって、エポキシドが直鎖状エポキシドであるときに使用するためのアミンは、以下の式RN[式中、窒素(N)は、N=C-N結合の員ではなく、R、R、及びRの各々は、独立して、水素、アルキル、置換アルキル、及び共役部分からなる群から選択され、ただし、R、R、及びRの少なくとも1つは、共役炭素によって窒素に接続している共役部分である]を有する。
直鎖状エポキシドと共に使用するための十分に弱いルイス塩基であるため、直鎖状エポキシドと共に使用するためのアミンは、少なくとも1つ、好ましくは少なくとも2つの共役部分を有し、窒素上の自由電子対が共役部分と解離し、ルイス塩基としてアミンを弱めることができるように、共役炭素を介してアミンの窒素に結合している3つの共役部分を有してもよい。好ましくは、共役部分は、芳香族部分である。
トリアリールアミンは、各々共役炭素を介してアミン窒素に結合している3つの芳香族共役部分を有する。結果として、トリアリールアミンは、窒素自由電子を最適に非局在化して弱ルイス塩基を生成するアミンの例である。これは、トリアリールアミンがルイス酸触媒を損なわないことを報告している先行技術と一致する。それにもかかわらず、トリアリールアミンは、驚くべきことに、23℃でルイス酸触媒に対する遮断効果を有し、23℃でルイス酸触媒反応を阻害することが発見されており、本発明での使用に適したアミンの最も広い範囲の範囲内である。望ましくは、本発明のアミンは、23℃でより大きな遮断効果(したがって、より長い貯蔵安定性)を達成するために、トリアリールアミンよりも強ルイス塩基である。その点に関して、本発明のアミンは、共役炭素を介してアミンの窒素に結合している1つ、2つ、又は3つの共役部分を有してもよいが、アミンはトリアリールアミン以外であることが望ましい。本発明の組成物は、トリアリールアミンを含まなくてもよい。
本発明の組成物中の直鎖状エポキシドと共に使用するための好適なアミンの例としては、アニリン、4-メチルアニリン、4-フルオロアニリン、2-クロロ-4-フルオロアニリン、ジフェニルアミン、ジフェニルメチルアミン、トリフェニルアミン、1-ナフチルアミン、2-ナフチルアミン、1-アミノアントラセン、2-アミノアントラセン、9-アミノアントラセン、β-アミノスチレン、1,3,5-ヘキサトリエン-1-アミン、N,N-ジメチル-1,3,5-ヘキサトリエン-1-アミン、3-アミノ-2-プロペナール、及び4-アミノ-3-ブテン-2-オンからなる群から選択される任意の1つのアミン又は2つ以上のアミンの任意の組み合わせが挙げられる。
ルイス塩基としてのアミンの強度を弱める共役部分の能力は、共役部分に結合することができる置換基で更に調整可能である。共役部分上の電子求引基(ハロゲンなど)を含むことにより、窒素電子が非局在化共役系に更に引き込まれ、ルイス塩基としてアミンの強度を弱める。共役部分上の電子供与基を含むことにより、逆の効果を有し、電子供与基(複数可)を有さない共役部分を持つ同じアミンと比較して、得られるアミン強度をルイス塩基として増加させる。アミンは、貯蔵安定性を達成するために、23℃でルイス酸触媒に結合し、遮断するのに十分な強さである必要がある。アミンは、強ルイス塩基である場合よりも弱ルイス塩基である場合、より低い温度で酸を放出する。したがって、アミンの窒素に結合している部分の選択は、所望の温度で、貯蔵安定性及び反応性を達成するように選択されてもよい。
環状エポキシドと共に使用するためのアミン.環状エポキシドは、直鎖状エポキシドよりも反応性が高い。したがって、アミンは、直鎖状エポキシドに必要なアミンよりも23℃で貯蔵安定性を達成するために、より強塩基でなければならない。エポキシドが環状エポキシドであるときに使用するためのアミンは、以下の式RN[式中、窒素(N)は、N=C-N結合の員ではなく、R、R、及びRの各々は、独立して、水素、アルキル、置換アルキル、及び共役部分からなる群から選択され、ただし、R、R、及びRの各々は、非共役炭素によって窒素に接続している]を有する。直鎖状エポキシドと共に使用するための好適なアミンの例としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプタールアミン、トリオクチルアミン、及びトリニオニルアミンからなる群から選択される任意の1つ又は2つ以上の組み合わせなどのトリアルキルアミンが挙げられる。
エポキシドが直鎖状エポキシドと環状エポキシドとの組み合わせである場合、又はエポキシドが組み合わせエポキシドである場合には、アミンは、環状エポキシドに好適であることが望ましい。好ましくは、エポキシドは、直鎖状エポキシド又は環状エポキシドのいずれかである。
本発明の組成物中のアミンの濃度は、23℃で全てのルイス酸触媒と錯体化し、遮断することができるように、ルイス酸触媒の濃度と少なくともモル当量である。アミンの濃度は、ルイス酸触媒のモル濃度を超えてもよいが、好ましくは、ルイス酸触媒の総モルに対して、110モルパーセント(mol%)以下、105mol%以下を好み、より好ましくは103mol%以下、かつ最も好ましくは101mol%以下の濃度で存在するが、100mol%以上でも存在する。
アミン及びルイス酸は、組成物中に錯体を形成し、他の組成物成分との反応を触媒することをルイス酸が十分に遮断して、23℃で貯蔵安定性となる。加熱すると、アミンはルイス酸を放出して、ルイス酸が反応を触媒することができる。
任意選択成分
本発明の組成物は、シリルヒドリド、エポキシド、ルイス酸触媒、及びアミンからなることができる。あるいは、本発明の組成物は、1つの任意選択成分又は2つ以上の任意選択成分の組み合わせを更に含むことができる。任意選択成分は、組成物の重量に基づいて、望ましくは50重量%以下、40重量%以下、30重量%以下、20重量%以下、10重量%以下、5重量%以下、又は更には1重量%以下の濃度で存在する。
可能な任意選択成分の例としては、ヒドロカルビル溶媒(典型的には、組成物重量に基づいて10重量%以下、5重量%以下、更には1重量%以下の濃度で)、カーボンブラック又は二酸化チタンなどの顔料、SiO2を含む金属酸化物などの充填剤(典型的には、組成物重量に基づいて50重量%以下の濃度で)、水分捕捉剤(moisture scavengers)、蛍光増白剤、安定剤(酸化防止剤及び紫外線安定剤など)、及び腐食防止剤からなる群から選択される1つの成分又は2つ以上の成分の組み合わせが挙げられる。本発明の組成物はまた、このような追加成分を1つ又は2つ以上の組み合わせを含まなくてもよい。
特に、本発明の組成物は、組成物重量に対して1重量%以下、0.5重量%以下の水を含有することができる。望ましくは、組成物は、水を含まない。
反応プロセス
本発明は、(a)本発明の組成物を提供するステップと、(b)組成物を、アミンからルイス酸触媒を解離するのに十分な温度に加熱するステップと、を含む化学反応プロセスを含む。
ステップ(a)は、アミン、ルイス酸触媒、シリルヒドリド、及びエポキシドを一緒に混合することを含んでもよい。しかしながら、ルイス酸触媒及びアミンは、シリルヒドリド及びエポキシドの両方と組み合わせる前に、アミンがルイス酸の触媒活性と錯体化し、遮断することができるように組み合わせる。ルイス酸が一方の反応物質との反応を触媒しなければ、反応物のうちの1つ(すなわち、シリルヒドリド又はエポキシド)の存在下でルイス酸/アミン錯体を調製することが可能である。アミン及びルイス酸は、トルエンなどの溶媒中で組み合わせて、遮断されたルイス酸錯体を形成してもよく、次いでその錯体をシリルヒドリド及びシロキサンと組み合わせてもよい。
ステップ(b)は、一般に、組成物を80℃以上、好ましくは90℃以上の温度に加熱することを必要とするが、同時に、一般に300℃以下、250℃以下、200℃以下、150℃以下の温度に加熱することによって達成してもよく、100℃以下であってもよい。
本発明の組成物は、コーティングとして特に有用である。組成物はまた、成形物品を形成する有用な形態であり得る。このような用途において、本発明のプロセスは、ステップ(a)の後、及びステップ(b)の前又はステップ(b)中に、組成物を基材に適用することを更に含むことができる。
反応物
MD 65Mシリルヒドリド.三ツ口フラスコにメカニカルスターラーを取り付け、40グラム(g)の脱イオン水、10gのヘプタン、及び0.05gのトシル酸を添加する。200gのメチルジクロロシラン及び10gのトリメチルクロロシランの混合物を30分かけて撹拌しながらこれに滴下する。23℃で更に60分間撹拌する。反応溶液を毎回50ミリリットル(mL)の脱イオン水で3回洗浄する。溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、活性炭で濾過する。ロータリーエバポレータ(Rotovap)によって揮発物を除去して、MD 65Mシリルヒドリドを得る。
MD60.5 7.5Mの合成:メカニカルスターラーを取り付けた三ツ口フラスコに、60グラムの脱イオン水、15グラムのヘプタン、及び0.075グラムのトシル酸を添加する。270グラムのジメチルジクロロシラン、28グラムのメチルジクロロシラン、及び15グラムのトリメチルクロロシランの混合物を、30分かけて撹拌しながら、反応溶液に滴下する。23℃で1時間撹拌した後、反応溶液を80ミリリットルの脱イオン水で3回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、活性炭層を通して濾過する。ロータリーエバポレータによって揮発物を除去して、重合生成物MD60.5 7.5Mを得る。
MD60.5EP 7.5Mの合成.500mLの3N乾燥フラスコに、80g(0.118mol SiH)のMD60.5 7.6M、MD60.5 7.6Mの重量に対して2重量百万分率(ppm)のPt(Karstedt触媒)、及び70gのトルエンを添加し、続いて80℃に加熱する。20.2g(0.177mol)のAGE(アリルグリシジルエーテル)を30gのトルエン中に80℃で30分以内に滴下し、次いで反応混合物を加熱して(約110℃で)6時間還流する。29Si NMRによって経時的にサンプルを監視すると、反応物がなくなり、反応が完了したときが明らかになる。反応が完了すると、ロータリーエバポレータによって溶媒及び過剰なAGEを除去して、90gの生成物MD60.5EP 7.5Mを収率96%で得る。
MD60.5HEP7.5Mの合成:500mLの3N乾燥フラスコに、110.7g(0.163mol SiH)のMD60.5 7.6M、MD60.5 7.6Mの重量に対して2ppmのPt(Karstedt触媒)、及び80gのトルエンを添加し、続いて80℃に加熱する。30.4g(0.245mol)の4-ビニル-シクロヘキセンオキシドを30gのトルエン中に80℃で30分以内に滴下し、次いで反応混合物を加熱して(約110℃で)6時間還流する。29Si NMRによって経時的にサンプルを監視すると、反応物がなくなり、反応が完了したときが明らかになる。反応が完了すると、ロータリーエバポレータによって溶媒及び過剰なAGEを除去して、127gの生成物MD60.5HEP 7.5Mを収率90%で得る。
MD117HEP 11.8M.本材料は、GelestからECMS-924として市販されている。
HEP40HEPの合成:500mLの3N乾燥フラスコに、100g(0.6464mol)のM40(GelestからDMS-HM15として市販)、MD60.5 7.6Mの重量に対して2ppmのPt(Karstedt触媒)、及び80mLのトルエンを添加し、続いて80℃に加熱する。12g(0.0.097mol)の4-ビニルシクロヘキセンエポキシドを20mLのトルエン中に80℃で25分以内に滴下し、次いで反応混合物を加熱して(約110℃で)6時間還流する。29Si NMRによって経時的にサンプルを監視すると、反応物がなくなり、反応が完了したときが明らかになる。反応が完了すると、ロータリーエバポレータによって溶媒及び過剰なAGEを除去して、103gの生成物MHEP40HEPを収率95%で得る。
触媒溶液.
当モル量のBCF及びアミン(1:1モル比)並びに約12グラムの最終溶液を提供するのに十分な量で、トルエン中の5重量%のBCFをトルエン中の5重量%の特定アミン(以下を参照)と組み合わせることによって触媒溶液を調製する。最終溶液を30秒間超音波処理し、23℃で12時間静置する。0.5~1.0グラムのテトラヒドロフランを最終溶液に添加して、BCF-アミン錯体の溶解を助け、実施例の組成物に使用するために触媒溶液を形成する。
試験方法
23℃ゲル化時間.組成物を調製し、バイアル瓶に入れ、バイアル瓶を封止して、23℃で保管する。最初の10分間は1分毎に、次いで最初の1時間は10分毎に、次いで最初の8時間は1時間毎に、次いで24時間毎に、バイアル瓶を反転させる。23℃でのゲル化時間とは、バイアルを反転させる1~2以内に組成物が流動しなくなるほど十分に粘性を帯びるために必要な時間である。組成物は、23℃ゲル化時間試験中に周囲光(紫外線を含む)に曝露される。
熱硬化時間.組成物を調製し、グラシン紙上に125マイクロメートルの厚フィルムとしてコーティングする。フィルムを指定された温度でオーブンに入れ、最初の1分間は10秒毎に、次いで最初の10分間は1分毎に、次いでその後は10分毎に監視し、フィルムの粘着性がなくなるときを判定する。粘着性がなくなるのに必要な時間は、加熱されている温度の硬化時間である。
Tpeak.Tpeakは、反応系中に最大反応発熱が存在する温度である。サンプル組成物の示差走査熱量測定(DSC)によってTpeakを決定する。組成物の10ミリグラムのサンプルをDSCパンに充填し、10℃~250℃の温度ランプを使用して、毎分10℃の速度でDSCを実施することによってDSCによる特徴付けをする。Tpeakは、DSC曲線における最大発熱の温度である。
直鎖状エポキシド組成物
以下の比較例(Comp Ex)及び実施例(Ex)は、直鎖状エポキシドを有する本発明の実施形態を示す。サンプルのデータを表1に示す。
比較例A:阻害剤なし
歯科用カップ中で、10グラムのMD60.5EP 7.5M及び1.185グラムのMD 65Mシリルヒドリドを、組成物百万重量部当たり500重量部のBCFを提供するのに十分な触媒溶液(トルエン中の5重量%のBCF)と組み合わせて、SpeedMixerを使用して混合することによって組成物を調製する。[SiH]の[エポキシド基]に対するモル比は、1.5:1である。上記の試験方法に従って、23℃ゲル化時間及び95℃硬化速度を測定する。反応性混合物は、23℃で貯蔵安定性ではなく、45分でゲル化する。
比較例B~E:脂肪族アミン阻害剤及びN=C-Nアミン阻害剤
表1に示すようにアミンを用いて上記のように調製した触媒溶液を使用して比較例Aを繰り返す。比較例B及びCは、トリアルキルアミン(トリメチルアミン(TEA)及びトリブチルアミン(TBA)それぞれ)を使用する。比較例D及びEは、N=C-N結合(1-メチルイミダゾール(IMD)及び1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン(DBU)それぞれ)を含有するアミン使用する。
比較例B~Eは、23℃で貯蔵安定性であるが、95℃で2時間以内であっても硬化することができず、アミンがルイス酸に強く結合し過ぎるために、95℃に加熱しても、ルイス酸が硬化を触媒することを妨げることを示している。
実施例1及び実施例2:共役炭素を含むアミン阻害剤
実施例1及び2について表1に示すようにアミンを用いて上記のように調製した触媒溶液を使用して比較例Aを繰り返し、1:1ではなく2:1であるアミンのルイス酸に対するモル比も有する。実施例1及び2は、共役アミン(トリフェニルアミン(TPA)及びジフェニルメチルアミン(DPMA)それぞれ)を使用する。実施例1及び2は、23℃で貯蔵安定性であるが、95℃で急速に硬化する。これらの結果は、共役アミンが、ルイス酸を十分に遮断し、23℃での直鎖状エポキシドとの反応を触媒するのを排除するが、加熱すると放出する程度に弱く結合し、反応を急速に触媒することを示す。
Figure 2022535096000006
環状エポキシド組成物
以下の比較例(Comp Ex)及び実施例(Ex)は、環状エポキシドを有する本発明の実施形態を示す。サンプルのデータを表2に示す。
比較例F:阻害剤なし
[SiH]の[エポキシド基]に対するモル比を1.5:1で維持しながら、MD60.5EP 7.5Mの代わりにMD60.5HEP 7.5Mを使用して、比較例Aを繰り返す。上記の試験方法に従って、23℃ゲル化時間及び95℃硬化速度を測定する。反応性混合物は、23℃で貯蔵安定性ではなく、1分でゲル化する。
比較例G:共役炭素アミン
BCFのTPAに対するモル比が1:1である、トリフェニルアミン(TPA)で阻害されたBCFを含有する触媒溶液を使用することを除いて、比較例Fを繰り返す。歯科用カップ中で、組成物百万重量部当たり500重量部のBCFを提供するのに十分な触媒溶液を使用して、SpeedMixerを使用して混合する。23℃ゲル化時間は3分であるため、反応性組成物は23℃で貯蔵安定性ではない。直鎖状エポキシドとは対照的に、アミン窒素に結合した共役炭素を有するアミンは、23℃でのシリルヒドリドと環状エポキシドとの反応をルイス酸が触媒するのを十分に阻害せず、23℃での反応組成物の貯蔵安定性を達成しない。
比較例H及びI:N=C-Nアミン阻害剤
表2に示すように、IMD又はDBUで阻害されたBCFを含有する触媒溶液を使用することを除いて、比較例Fを繰り返す。歯科用カップ中で、組成物百万重量部当たり500重量部のBCFを提供するのに十分な触媒溶液を使用して、SpeedMixerを使用して混合する。23℃ゲル化時間は、比較例H及びIの両方で5日間を超え、95℃硬化時間は、30分を超える。比較例H及びIは、23℃で貯蔵安定性であるが、95℃で30分以内に硬化することができず、アミンがルイス酸に強く結合し過ぎるために、95℃に加熱しても、ルイス酸が急速に硬化を触媒することを妨げることを示している。
実施例3~5:脂肪族アミン阻害剤
脂肪族アミンTEA、TBA、及びトリヘキシルアミン(THA)それぞれで阻害されたBCFを含有する触媒溶液を使用することを除いて、比較例Fと同様の方法で実施例3~5の組成物を調製する。歯科用カップ中で、組成物百万重量部当たり500重量部のBCFを提供するのに十分な触媒溶液を使用して、SpeedMixerを使用して混合する。実施例の23℃ゲル化時間及び95℃硬化時間を表2に示し、実施例が貯蔵安定性(36時間23℃ゲル化時間)であり、更に95℃で急速に(10秒)硬化することを明らかにする。
実施例6及び7:脂肪族アミン阻害剤
実施例6についてはMD60.5HEP 7.5Mの代わりにMD117HEP 11.8M、及び実施例7についてはMD60.5HEP 7.5Mの代わりにMHEP40HEPを使用することを除いて、実施例3と同様の方法で実施例6及び7の組成物を調製する。表2の結果は、実施例6及び7が23℃で貯蔵安定性であるが、95℃で急速に(10秒)反応することを明らかにする。
Figure 2022535096000007

Claims (11)

  1. シリルヒドリド、エポキシド、ルイス酸触媒、及び以下の式:RN[式中、窒素が、N=C-N結合の員ではなく、R、R、及びRの各々が、独立して、水素、アルキル、置換アルキル、及び共役部分からなる群から選択され、
    (a)前記エポキシドが直鎖状エポキシドである場合、すなわち、エポキシド炭素が直鎖状構造の一部である場合では、R、R、及びRの少なくとも1つが、共役炭素によって前記窒素に接続している共役部分であり、
    (b)前記エポキシドが環状エポキシドである場合、すなわち、前記エポキシド炭素が環状構造の一部である場合では、R、R、及びRの各々は、非共役炭素によって前記窒素に接続している]を有するアミンの混合物を含む、組成物。
  2. 前記共役炭素が、芳香族部分の一部である、請求項1に記載の組成物。
  3. 前記エポキシド炭素が、環状構造の一部である、請求項1に記載の組成物。
  4. 前記エポキシドが、ポリシロキサンのケイ素原子に結合している部分にエポキシド官能基を有するポリシロキサンである、請求項1~3のいずれか一項に記載の組成物。
  5. 前記ルイス酸触媒が、アルミニウムアルキル、アルミニウムアリール、アリールボラン、フッ素化アリールボラン、ハロゲン化ホウ素、ハロゲン化アルミニウム、ガリウムアルキル、ガリウムアリール、ハロゲン化ガリウム、シリウムカチオン、及びホスホニウムカチオンからなる群から選択される、請求項1~4のいずれか一項に記載の組成物。
  6. 前記ルイス酸触媒が、フッ素化アリールボランである、請求項5に記載の組成物。
  7. 前記シリルヒドリド及び前記エポキシドが、同じ分子である、請求項1~6のいずれか一項に記載の組成物。
  8. 前記組成物が、前記ルイス酸触媒のためのUV感光性遮断剤を含まない、請求項1~7のいずれか一項に記載の組成物。
  9. (a)請求項1~8のいずれか一項に記載の組成物を提供するステップと、
    (b)前記組成物を、前記アミンから前記ルイス酸触媒を解離するのに十分な温度に加熱するステップと、を含む、プロセス。
  10. ステップ(a)が、アミン、ルイス酸触媒、シリルヒドリド、及びエポキシドを一緒に混合することを含み、ただし、前記ルイス酸触媒及びアミンが、シリルヒドリド及びエポキシドの両方と組み合わせる前に、前記アミンがルイス酸の触媒活性と錯体化し、遮断することができるように組み合わせる、請求項9に記載のプロセス。
  11. 前記プロセスが、ステップ(a)の後、及びステップ(b)の前又はステップ(b)中に、前記組成物を基材に適用するステップ、又は前記組成物を成形型に配置するステップを更に含む、請求項9又は請求項10に記載のプロセス。

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