JP2022534026A5 - - Google Patents

Description

本明細書で、範囲は、「約」（おおよそ）１つの特定の値から、及び／又は「約」（おおよそ）別の特定の値まで、として表記される。このような範囲が表記されている場合、別の実施形態は、その１つの特定の値から、及び／又は他の特定の値まで、を含む。同様に、値が概数として表記されている場合、前に「約」を使用することで、その特定の値が別の実施形態を形成することが理解されるであろう。更に、それぞれの範囲の終点は、他の終点と関係していても、他の終点と無関係でも有意であると理解されたい。
本明細書で使用するとき、方向を示す用語、例えば上、下、右、左、表、裏、上、下は、描かれている図を参照して記載されているにすぎず、絶対的な向きを意味するものではない。
特に明記されていない限り、本明細書に記載の任意の方法について、その工程がある特定の順序で実施されることも、任意の装置を用い、特定の向きが要求されることも、必要であると解釈されることを意図するものではない。従って、その工程が従うべき順序が方法の請求項に実際に記載されていない場合、又は個々の構成要素に対して順序若しくは向きが任意の装置の請求項に実際に記載されていない場合、又はある特定の順序に工程が限定されるべきであることが特許請求の範囲もしくは説明に特に具体的に記載されていない場合、又は器具の構成要素に対してある特定の順序もしくは向きが記載されていない場合、いかなる点においても順序又は向きが推論されることは決して意図されない。本明細書で使用されるとき、単数形「１つの」、「ある」、「その」（「ａ」、「ａｎ」及び「ｔｈｅ」）は、別段の明確な指示がない限り、複数の参照物を包含する。従って、例えば、「１つの」成分への言及は、別段の明確な指示がない限り、２つ以上のそのような成分を有する態様を含む。
開示の趣旨及び範囲から逸脱することなく本開示の実施形態に対して様々な修正及び変形を行うことができることが当業者には明らかであろう。従って、そのような修正及び変形が添付の特許請求の範囲及びその等価物の範囲内であるという条件で、本開示はそれらを包含することを意図する。
本発明のまた別の態様は、以下のとおりであってもよい。
〔１〕厚さを画定する２つの主面と、光源からの光を受け取るように構成された端面とを備えるガラス基板を含む導光板であって、前記ガラス基板は前記光源からの光を分配するように構成され、前記ガラス基板はガラス基板がマイナスと測定された色ずれΔｙを示すような量のＦｅ、Ｃｒ及びＮｉ金属を含有する、導光板。
〔２〕前記ガラス基板は、Ｆｅ ³⁺ 状態をＦｅ ²⁺ 状態よりも多量に含む、前記〔１〕に記載の導光板。
〔３〕４５０ｎｍにおける光透過率Ｔ _450nm 、及び５５０ｎｍにおける光透過率Ｔ _550nm は、次式：Ｔ _450nm －Ｔ _550nm ≧－０．３を満たす、前記〔１〕に記載の導光板。
〔４〕４５０ｎｍにおける光透過率Ｔ _450nm 、及び５５０ｎｍにおける光透過率Ｔ _550nm は、次式：Ｔ _450nm －Ｔ _550nm ≧－０．２を満たす、前記〔１〕に記載の導光板。
〔５〕前記ガラス基板は、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、又はソーダ石灰ガラスを含む、前記〔３〕に記載の導光板。
〔６〕前記ガラス基板は、酸化物のモル％ベースで：
５０～９０モル％のＳｉＯ ₂ 、
０～２０モル％のＡｌ ₂ Ｏ ₃ 、
０～２０モル％のＢ ₂ Ｏ ₃ 、及び
０～２５モル％のＲ _x Ｏ、を含み、
式中、ｘは２であり、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、及びこれらの組み合わせから選択されるか、又はｘは１であり、ＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、及びこれらの組み合わせから選択され、かつ前記ガラス基板は更に、Ｌｉ ₂ Ｏ、Ｎａ ₂ Ｏ、Ｋ ₂ Ｏ、ＣａＯ及びＭｇＯから選択される１つの酸化物を少なくとも０．５モル％含む、
前記〔３〕に記載の導光板。
〔７〕前記ガラス基板は、酸化物のモル％ベースで：
６５～８５モル％のＳｉＯ ₂ ；
０～１３モル％のＡｌ ₂ Ｏ ₃ ；
０～１２モル％のＢ ₂ Ｏ ₃ ；
０～２モル％のＬｉ ₂ Ｏ；
０～１４モル％のＮａ ₂ Ｏ；
０～１２モル％のＫ ₂ Ｏ；
０～４モル％のＺｎＯ；
０～１２モル％のＭｇＯ；
０～５モル％のＣａＯ；
０～７モル％のＳｒＯ；
０～５モル％のＢａＯ；及び
０．０１～１モル％のＳｎＯ ₂
を含む、前記〔３〕に記載の導光板。
〔８〕光源と、
反射体と、
前記〔１〕に記載の導光板と、
を含む、ディスプレイ製品。
〔９〕
光源と、
反射体と、
前記〔３〕に記載の導光板と、
を含む、ディスプレイ製品。
〔１０〕前記光源は、前記ガラス基板の前記端面と光学的に結合した発光ダイオードを備える、前記〔９〕に記載のディスプレイ製品。
〔１１〕導光板として使用するためのガラス基板を加工する方法であって、
ガラスバッチの原材料を選択し、前記原材料を加工してガラス組成物を提供する工程と、
前記ガラス組成物から、厚さを画定する２つの主面と端面とを備える前記ガラス基板を形成する工程であって、前記ガラス組成物は、Ｆｅ、Ｃｒ及びＮｉ金属を、前記ガラス基板がマイナスの色ずれΔｙの測定値を示す量で含有する、工程と、
を含む、方法。
〔１２〕前記ガラス基板は、Ｆｅ ³⁺ 状態をＦｅ ²⁺ 状態よりも多量に含む、前記〔１１〕に記載の方法。
〔１３〕前記ガラス基板を通る４５０ｎｍにおける光透過率Ｔ _450nm 、及び５５０ｎｍにおける光透過率、Ｔ _550nm は次式：
を満たす、前記〔１1〕に記載の方法。
〔１４〕ガラス基板を通る４５０ｎｍにおける光透過率Ｔ _450nm 、及び５５０ｎｍにおける光透過率Ｔ _550nm は、次式：Ｔ _450nm －Ｔ _550nm ≧－０．２を満たす、前記〔１１〕に記載の方法。
〔１５〕前記ガラス基板は、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、及びソーダ石灰ガラスを含む、前記〔１３〕に記載の方法。
〔１６〕前記ガラス基板は、酸化物のモル％ベースで：
５０～９０モル％のＳｉＯ ₂ 、
０～２０モル％のＡｌ ₂ Ｏ ₃ 、
０～２０モル％のＢ２Ｏ３、及び
０～２５モル％のＲ _x Ｏ、を含み、
式中、ｘは２であり、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、及びこれらの組み合わせから選択されるか、又はｘは１であり、ＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、及びこれらの組み合わせから選択され、かつ前記ガラス基板は更に、Ｌｉ ₂ Ｏ、Ｎａ ₂ Ｏ、Ｋ ₂ Ｏ、ＣａＯ及びＭｇＯから選択される１つの酸化物を少なくとも０．５モル％含む、
前記〔１３〕に記載の方法。
〔１７〕前記ガラス基板は、酸化物のモル％ベースで：
６５～８５モル％のＳｉＯ ₂ ；
０～１３モル％のＡｌ ₂ Ｏ ₃ ；
０～１２モル％のＢ ₂ Ｏ ₃ ；
０～２モル％のＬｉ ₂ Ｏ；
０～１４モル％のＮａ ₂ Ｏ；
０～１２モル％のＫ ₂ Ｏ；
０～４モル％のＺｎＯ；
０～１２モル％のＭｇＯ；
０～５モル％のＣａＯ；
０～７モル％のＳｒＯ；
１～５モル％のＢａＯ；及び
０．０１～１モル％のＳｎＯ ₂
を含む、前記〔１３〕に記載の方法。

Claims (14)

1. 厚さ(T)を画定する２つの主面(30, 32)と、光源(36)からの光を受け取るように構成された端面(34a)とを備えるガラス基板(28)を含む導光板(24)であって、前記ガラス基板(28)は前記光源(36)からの光を分配するように構成され、前記ガラス基板(28)はガラス基板(28)がマイナスと測定された色ずれΔｙを示すような量のＦｅ、Ｃｒ及びＮｉ金属を含有する、導光板(24)。
2. 前記ガラス基板(28)は、Ｆｅ³⁺状態をＦｅ²⁺状態よりも多量に含む、請求項１に記載の導光板(24)。
3. ４５０ｎｍにおける光透過率Ｔ_450nm、及び５５０ｎｍにおける光透過率Ｔ_550nmは、次式：Ｔ_450nm－Ｔ_550nm≧－０．３を満たす、請求項１に記載の導光板(24)。
4. 前記ガラス基板(28)は、酸化物のモル％ベースで：
   ５０～９０モル％のＳｉＯ₂、
   ０～２０モル％のＡｌ₂Ｏ₃、
   ０～２０モル％のＢ₂Ｏ₃、及び
   ０～２５モル％のＲ_xＯ、を含み、
   式中、ｘは２であり、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、及びこれらの組み合わせから選択されるか、又はｘは１であり、ＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、及びこれらの組み合わせから選択され、かつ前記ガラス基板(28)は更に、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、ＣａＯ及びＭｇＯから選択される１つの酸化物を少なくとも０．５モル％含む、
   請求項３に記載の導光板(24)。
5. 前記ガラス基板(28)は、酸化物のモル％ベースで：
   ６５～８５モル％のＳｉＯ₂；
   ０～１３モル％のＡｌ₂Ｏ₃；
   ０～１２モル％のＢ₂Ｏ₃；
   ０～２モル％のＬｉ₂Ｏ；
   ０～１４モル％のＮａ₂Ｏ；
   ０～１２モル％のＫ₂Ｏ；
   ０～４モル％のＺｎＯ；
   ０～１２モル％のＭｇＯ；
   ０～５モル％のＣａＯ；
   ０～７モル％のＳｒＯ；
   ０～５モル％のＢａＯ；及び
   ０．０１～１モル％のＳｎＯ₂
   を含む、請求項３に記載の導光板(24)。
6. 光源(36)と、
   反射体(38)と、
   請求項１又は３に記載の導光板(24)と、
   を含む、ディスプレイ製品。
7. 前記光源(36)は、前記ガラス基板(28)の前記端面(34a)と光学的に結合した発光ダイオードを備える、請求項６に記載のディスプレイ製品。
8. 導光板(24)として使用するためのガラス基板(28)を加工する方法であって、
   ガラスバッチの原材料を選択し、前記原材料を加工してガラス組成物を提供する工程と、
   前記ガラス組成物から、厚さ(T)を画定する２つの主面(30, 32)と端面(34a)とを備える前記ガラス基板(28)を形成する工程であって、前記ガラス組成物は、Ｆｅ、Ｃｒ及びＮｉ金属を、前記ガラス基板(28)がマイナスの色ずれΔｙの測定値を示す量で含有する、工程と、
   を含む、方法。
9. 前記ガラス基板(28)は、Ｆｅ³⁺状態をＦｅ²⁺状態よりも多量に含む、請求項８に記載の方法。
10. 前記ガラス基板(28)を通る４５０ｎｍにおける光透過率Ｔ_450nm、及び５５０ｎｍにおける光透過率、Ｔ_550nmは次式：
    を満たす、請求項８に記載の方法。
11. ガラス基板(28)を通る４５０ｎｍにおける光透過率Ｔ_450nm、及び５５０ｎｍにおける光透過率Ｔ_550nmは、次式：Ｔ_450nm－Ｔ_550nm≧－０．２を満たす、請求項８に記載の方法。
12. 前記ガラス基板(28)は、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、及びソーダ石灰ガラスを含む、請求項１０に記載の方法。
13. 前記ガラス基板(28)は、酸化物のモル％ベースで：
    ５０～９０モル％のＳｉＯ₂、
    ０～２０モル％のＡｌ₂Ｏ₃、
    ０～２０モル％のＢ₂Ｏ₃、及び
    ０～２５モル％のＲ_xＯ、を含み、
    式中、ｘは２であり、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、及びこれらの組み合わせから選択されるか、又はｘは１であり、ＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、及びこれらの組み合わせから選択され、かつ前記ガラス基板(28)は更に、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、ＣａＯ及びＭｇＯから選択される１つの酸化物を少なくとも０．５モル％含む、
    請求項１０に記載の方法。
14. 前記ガラス基板(28)は、酸化物のモル％ベースで：
    ６５～８５モル％のＳｉＯ₂；
    ０～１３モル％のＡｌ₂Ｏ₃；
    ０～１２モル％のＢ₂Ｏ₃；
    ０～２モル％のＬｉ₂Ｏ；
    ０～１４モル％のＮａ₂Ｏ；
    ０～１２モル％のＫ₂Ｏ；
    ０～４モル％のＺｎＯ；
    ０～１２モル％のＭｇＯ；
    ０～５モル％のＣａＯ；
    ０～７モル％のＳｒＯ；
    １～５モル％のＢａＯ；及び
    ０．０１～１モル％のＳｎＯ₂
    を含む、請求項１０に記載の方法。