JP2022519588A - Uvフィルタリングを備えるフォトポリマーフィルム - Google Patents
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- 238000001914 filtration Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 90
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 87
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 57
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims abstract description 21
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 61
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 32
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 238000009472 formulation Methods 0.000 claims description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 4
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 claims description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 70
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 27
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 11
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 9
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 4
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000005026 oriented polypropylene Substances 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000011111 cardboard Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 206010016256 fatigue Diseases 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000007648 laser printing Methods 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 235000015250 liver sausages Nutrition 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 239000011087 paperboard Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000001044 red dye Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J11/00—Devices or arrangements of selective printing mechanisms, e.g. ink-jet printers or thermal printers, for supporting or handling copy material in sheet or web form
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
- G03F7/2016—Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
- G03F7/202—Masking pattern being obtained by thermal means, e.g. laser ablation
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/201—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by an oblique exposure; characterised by the use of plural sources; characterised by the rotation of the optical device; characterised by a relative movement of the optical device, the light source, the sensitive system or the mask
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2012—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image using liquid photohardening compositions, e.g. for the production of reliefs such as flexographic plates or stamps
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
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-
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Abstract
Description
及びGushへの米国特許第3,597,080号に記載されているように、液体フォトポリマー樹脂から印刷版を生成するために様々なプロセスが開発されており、それらの各々の主題は参照にその全体が本明細書に組み込まれる。
(1) キャスティングと、
(2) 回収と、
(3) 洗浄と、
(4) 後露光と、
(5) 乾燥と、
(6) 不粘着化と、を含む。
a)画像フィルムネガ上の画像のネガを含む画像フィルムネガを提供する工程であって、画像のネガが不透明領域のパターンを含む、提供する工程と、その後、
b)不透明領域のパターンによって被覆されていない画像フィルムネガの部分上にフィルタリング層をインクジェット印刷する工程であって、画像フィルムネガの部分が後続の露光工程において化学線の強度を変調することが望ましい部分を含む、インクジェット印刷する工程と、を含む。
a)画像フィルムネガ上の画像のネガをインクジェット印刷する工程であって、画像のネガが不透明領域のパターンを含む、インクジェット印刷する工程と、
b)不透明領域のパターンによって被覆されていない画像フィルムネガの部分上にフィルタリング層をインクジェット印刷する工程であって、画像フィルムネガの部分が後続の露光工程において化学線の強度を変調することが望ましい部分を含む、インクジェット印刷する工程と、を含む。
a)画像フィルムネガ上の画像のネガを含む画像フィルムネガを提供する工程であって、画像のネガが不透明領域のパターンを含む、提供する工程と、
b)不透明領域のパターンによって被覆されていない画像フィルムネガの部分上にフィルタリング層をインクジェット印刷する工程であって、画像フィルムネガの部分が後続の露光工程において化学線の強度を変調することが望ましい部分を含む、インクジェット印刷する工程と、を含む。
本明細書に記載のプロセスを使用して、高い生産性のために短い露光時間で厚いプレートを作製するために設計されている市販の液体フォトポリマーLTL(MacDermid Printing Solutions,LLCから入手可能)を使用して薄いプレートを作製する試験を実施した。
Claims (28)
- 液体フォトポリマーの1つ以上の層を化学線に画像露光する工程の間、液体フォトポリマーの前記1つ以上の層の非画像領域をマスキングすることができる画像フィルムネガを作り出す方法であって、
a)前記画像フィルムネガ上の画像のネガを含む画像フィルムネガを提供する工程であって、前記画像の前記ネガが不透明領域のパターンを含む、提供する工程と、その後、
b)前記不透明領域のパターンによって被覆されていない前記画像フィルムネガの部分上にフィルタリング層をインクジェット印刷する工程であって、前記画像フィルムネガの前記部分が、後続の露光工程において化学線の強度を変調することが望ましい部分を含む、インクジェット印刷する工程と、を含む、方法。 - 前記画像の前記ネガが、レーザを使用してバッキング層上にコーティングされたUV不透過性材料を選択的に除去することと、直接印刷することと、からなる群から選択される方法によって、又はイメージセッターを使用してハロゲン化銀コーティングされたプラスチックフィルムを露光することによって、作り出される、請求項1に記載の方法。
- 前記画像の前記ネガが、レーザプリンタ又はインクジェットプリンタを使用して直接印刷することによって、作り出される、請求項2に記載の方法。
- a)前記画像フィルムネガを、液体フォトポリマー露光ユニット中に取り付ける工程と、
b)前記画像フィルムネガの上に、液体フォトポリマーの1つ以上の層をキャストする工程と、
c)液体フォトポリマーの前記1つ以上の層の上にバッキング層を置く工程と、
d)液体フォトポリマーの前記1つ以上の層を、前記画像フィルムネガを介して化学線に露光して、前記ネガの前記不透明部分によって被覆されていない液体フォトポリマーの前記1つ以上の層を、選択的に架橋及び硬化させる工程と、を更に含み、
前記フィルタリング層が、前記化学線の強度を変調する、請求項1に記載の方法。 - 前記フィルタリング層が、UV吸収染料インクを含み、前記UV吸収染料インクが、前記後続の露光工程において、化学線源のUV光強度の約10~約80%を吸収することができる配合物を含む、請求項1に記載の方法。
- 液体フォトポリマーの前記1つ以上の層が、約0.15インチ未満の全厚を有する、請求項1に記載の方法。
- 液体フォトポリマーの前記1つ以上の層が、約0.10インチ未満の全厚を有する、請求項6に記載の方法。
- 液体フォトポリマーの前記1つ以上の層が、約0.075インチ未満の全厚を有する、請求項7に記載の方法。
- 化学線の強度を変調することが望ましい前記部分が、小さいドット及び細線を保持するために必要な長い露光の間に過剰露光を受ける部分を含む、請求項1に記載の方法。
- 化学線の強度を変調することが望ましい前記部分が、バンク光システムの中心に見出される全体的な光強度がより高い領域、又は1つ以上の光源からの再現性パターンを含み、前記化学線源からの全体的な光が平衡化される、請求項1に記載の方法。
- 化学線の強度を変調することが望ましい前記部分が、バンク光システムの中心に見出される全体的な光強度がより高い領域、又は1つ以上の光源からの再現性パターンを含み、前記化学線源からの全体的な光が平衡化される、請求項9に記載の方法。
- 工程b)の前に、前記画像フィルムネガの上に固体キャップを適用する工程を更に含む、請求項4に記載の方法。
- 工程d)の前に、前記バッキング層を介して液体フォトポリマーの前記1つ以上の層をバック露光して、前記バッキング層に隣接する液体フォトポリマーの前記1つ以上の層においてフロア層を作り出す工程を更に含む、請求項4に記載の方法。
- 前記バッキング層上にフィルタリング層をインクジェット印刷して、前記バック露光工程で使用される前記1つ以上の化学線源の強度を変調し、それにより一貫したフロア層が作り出される工程を更に含む、請求項13に記載の方法。
- 液体フォトポリマーの1つ以上の層を化学線に画像露光する工程の間、液体フォトポリマーの前記1つ以上の層の非画像領域をマスキングすることができる画像フィルムネガを作り出す方法であって、
a)画像フィルムネガ上の画像のネガをインクジェット印刷する工程であって、前記画像の前記ネガが不透明領域のパターンを含む、インクジェット印刷する工程と、
b)前記不透明領域のパターンによって被覆されていない前記画像フィルムネガの部分上にフィルタリング層をインクジェット印刷する工程であって、前記画像フィルムネガの前記部分が、後続の露光工程において化学線の強度を変調することが望ましい部分を含む、インクジェット印刷する工程と、を含む、方法。 - a)前記画像フィルムネガを、液体フォトポリマー露光ユニット中に取り付ける工程と、
b)前記画像フィルムネガの上に、液体フォトポリマーの1つ以上の層をキャストする工程と、
c)液体フォトポリマーの前記1つ以上の層の上にバッキング層を置く工程と、
d)液体フォトポリマーの前記1つ以上の層を、前記画像フィルムネガを介して化学線に露光して、前記ネガの前記不透明部分によって被覆されていない液体フォトポリマーの前記1つ以上の層を、選択的に架橋及び硬化させる工程と、を更に含み、
前記フィルタリング層が、前記化学線の強度を変調する、請求項15に記載の方法。 - 前記フィルタリング層が、UV吸収染料インクを含み、前記UV吸収染料インクが、前記後続の露光工程において、化学線源のUV光強度の約10~約80%を吸収することができる配合物を含む、請求項15に記載の方法。
- 前記画像の前記ネガを前記画像フィルムネガ上に印刷するために使用される前記インクが、前記フィルタリング層を前記画像フィルムネガ上に印刷するために使用される前記インクとは異なる、請求項17に記載の方法。
- 液体フォトポリマーの前記1つ以上の層が、約0.15インチ未満の全厚を有する、請求項15に記載の方法。
- 液体フォトポリマーの前記1つ以上の層が、約0.10インチ未満の全厚を有する、請求項19に記載の方法。
- 液体フォトポリマーの前記1つ以上の層が、約0.075インチ未満の全厚を有する、請求項20に記載の方法。
- 化学線の強度を変調することが望ましい前記部分が、小さいドット及び細線を保持するために必要な長い露光の間に過剰露光を受ける部分を含む、請求項15に記載の方法。
- 化学線の強度を変調することが望ましい前記部分が、バンク光システムの中心に見出される全体的な光強度がより高い領域、又は1つ以上の光源からの再現性パターンを含み、前記化学線源からの全体的な光が平衡化される、請求項15に記載の方法。
- 化学線の強度を変調することが望ましい前記部分が、バンク光システムの中心に見出される全体的な光強度がより高い領域、又は1つ以上の光源からの再現性パターンを含み、前記化学線源からの全体的な光が平衡化される、請求項22に記載の方法。
- 工程b)の前に、前記画像フィルムネガの上に固体キャップを適用する工程を更に含む、請求項16に記載の方法。
- 工程d)の前に、前記バッキング層を介して液体フォトポリマーの前記1つ以上の層をバック露光して、前記バッキング層に隣接する液体フォトポリマーの前記1つ以上の層においてフロア層を作り出す工程を更に含む、請求項16に記載の方法。
- 前記バッキング層上にフィルタリング層をインクジェット印刷して、前記バック露光工程で使用される前記1つ以上の化学線源の強度を変調し、それにより一貫したフロア層が作り出される工程を更に含む、請求項26に記載の方法。
- 工程b)の前に、前記画像フィルムネガの上に固体キャップを適用する工程を更に含む、請求項16に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/274,920 US11046092B2 (en) | 2019-02-13 | 2019-02-13 | Photopolymer film with UV filtering |
US16/274,920 | 2019-02-13 | ||
PCT/US2020/017629 WO2020167740A1 (en) | 2019-02-13 | 2020-02-11 | Photopolymer film with uv filtering |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022519588A true JP2022519588A (ja) | 2022-03-24 |
JP7256885B2 JP7256885B2 (ja) | 2023-04-12 |
Family
ID=71945825
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021545379A Active JP7256885B2 (ja) | 2019-02-13 | 2020-02-11 | Uvフィルタリングを備えるフォトポリマーフィルム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11046092B2 (ja) |
EP (1) | EP3924188A4 (ja) |
JP (1) | JP7256885B2 (ja) |
CN (1) | CN113365845B (ja) |
WO (1) | WO2020167740A1 (ja) |
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- 2020-02-11 CN CN202080009274.0A patent/CN113365845B/zh active Active
- 2020-02-11 EP EP20755776.0A patent/EP3924188A4/en active Pending
- 2020-02-11 WO PCT/US2020/017629 patent/WO2020167740A1/en unknown
- 2020-02-11 JP JP2021545379A patent/JP7256885B2/ja active Active
Patent Citations (4)
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3924188A1 (en) | 2021-12-22 |
US11046092B2 (en) | 2021-06-29 |
US20200254786A1 (en) | 2020-08-13 |
CN113365845B (zh) | 2023-04-28 |
WO2020167740A1 (en) | 2020-08-20 |
JP7256885B2 (ja) | 2023-04-12 |
CN113365845A (zh) | 2021-09-07 |
EP3924188A4 (en) | 2023-01-11 |
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