JP2022515822A - 二量体ナフタルイミドを作製する方法及びその固体状態形態 - Google Patents
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Abstract
本開示は、式(I)の化合物、その固体状態形態及びそれを含む組成物を調製する方法を提供する。式(I)の化合物のジアセテート塩及びそれを含む医薬組成物を調製する方法も本明細書において開示されている。TIFF2022515822000064.tif78133【選択図】なし
Description
本開示は、二量体ナフタルイミドを作製する新規な方法、それを含む組成物、その固体状態形態、それを使用する方法、二量体ナフタルイミドの合成収率を改善する方法、二量体ナフタルイミドを含む組成物における不純物を低減する方法を提供する。
ある特定の二量体ナフタルイミド化合物は、以前に開示されている。例えば、米国特許第6,410,505号B2を参照されたい。例えば、10-8-10二量体、6-[2-[2-(2-アミノエトキシ)エトキシ]エチルアミノ]-2-[2-[2-[2-[6-[2-[2-(2-アミノエトキシ)エトキシ]エチルアミノ]-1,3-ジオキソベンゾ[de]イソキノリン-2-イル]エトキシ]エトキシ]エチル]ベンゾ[de]イソキノリン-1,3-ジオン; 2,2'-[1,2-エタンジイルビス(オキシ-2,1-エタンジイル)]ビス[6-({2-[2-(2-アミノエトキシ)エトキシ]エチル}アミノ)-1H-ベンゾ[de]イソキノリン-1,3(2H)-ジオン];及び1H-ベンズ[de]イソキノリン-1,3(2H)-ジオン、2,2'-[1,2-エタンジイルビス(オキシ-2,1-エタンジイル)]ビス[6-[[2-[2-(2-アミノエトキシ)エトキシ]エチル]アミノ]-(9Cl)としても知られており、本明細書において式(I)の化合物と称される、二量体ナフタルイミド化合物、2,2'-((エタン-1,2-ジイルビス(オキシ))ビス(エタン-2,1-ジイル))ビス(6-((2-(2-(2-アミノエトキシ)エトキシ)エチル)アミノ)-1H-ベンゾ[de]イソキノリン-1,3(2H)-ジオン)が開示されている。同上。
本開示は、式(I)の化合物の固体状態形態(即ち、形態1、形態2及び非結晶性)を提供する:
驚くべきことに且つ予測不可能に、式(I)の化合物は、複数の固体状態形態で存在することが発見された。驚くべきことに且つ予測不可能に、本明細書において開示されている通りの結晶化以外に少なくとも1つの結晶化及び/又は少なくとも1つの精製を含む、式(I)の化合物を作製する方法は、少なくとも1つの結晶化及び/又は結晶化以外に少なくとも1つの精製を含まない合成方法によって調製される式(I)の化合物と比べて、改善された純度の式(I)の化合物をもたらすことができることも発見された。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から形態1を単離することを含む、2,2'-((エタン-1,2-ジイルビス(オキシ))ビス(エタン-2,1-ジイル))ビス(6-((2-(2-(2-アミノエトキシ)エトキシ)エチル)アミノ)-1H-ベンゾ[de]イソキノリン-1,3(2H)-ジオン) (「式(I)の化合物」)の形態1を作製する方法である。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、アセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含む、式(I)の化合物を作製する方法である。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、アセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含む、式(I)の化合物の合成収率を改善する方法である。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、アセトニトリル、エタノール、メチルエチルケトン及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含む、式(I)の化合物を含む組成物におけるプロセス不純物を低減する方法である。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物のジアセテート塩、活性化炭素及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から式(I)の化合物のジアセテート塩を単離することを含む、式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法である。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、本明細書に記載されている方法に従って生成される式(I)の化合物のジアセテート塩又は本明細書に記載されている通りの式(I)の化合物のジアセテート塩、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物のジアセテート塩を含む医薬組成物である。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物の形態2である。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物及び少なくとも1種の第1の溶媒を含む混合物から形態2を単離することを含む、式(I)の化合物の形態2を作製する方法である。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、アセトン及び水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含む、式(I)の化合物の形態2を作製する方法である。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、本明細書に記載されている通りの式(I)の化合物の形態2、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物を含む医薬組成物である。
本明細書で使用される場合、別段に表示されていない限り以下の定義が当てはまる。
本明細書で使用される場合、「a」、「an」及び「the」という単数用語は、別段に文脈が明らかに示していない限り、複数形の参照を含む。
「及び/又は」という成句は、本明細書で使用される場合、そのように等位接続された要素、即ち、一部の場合において接続的に存在するとともに他の場合において離接的に存在する要素の「いずれか又は両方」を意味する。したがって、非限定的な例として、「A及び/又はB」は、「含む(comprising)」などのオープンエンド言語と連動して使用される場合、一部の実施形態において、Aのみ(場合により、B以外の要素を含める);他の実施形態において、Bのみ(場合により、A以外の要素を含める);なお他の実施形態において、A及びBの両方(場合により、他の要素を含める);などを指すことができる。
本明細書で使用される場合、「式(I)の化合物」は、1つ以上の該化合物の立体配座形態を含む。別段に明記されていない限り、互変異性体形態と共存する、本明細書において図示されている化合物は、本開示の範囲内である。追加として、別段に明記されていない限り、本明細書において図示されている構造は、1個以上の同位体濃縮原子の存在下でのみ異なる化合物を含むことも意味する。例えば、重水素若しくはトリチウムによる水素の置き換え又は13C-若しくは14C-富化炭素原子による炭素原子の置き換えを除いて、図示されている構造を有する化合物は、この開示の範囲内である。
式(I)の化合物は、構造:
によって、化学名2,2'-((エタン-1,2-ジイルビス(オキシ))ビス(エタン-2,1-ジイル))ビス(6-((2-(2-(2-アミノエトキシ)エトキシ)エチル)アミノ)-1H-ベンゾ[de]イソキノリン-1,3(2H)-ジオン); 6-[2-[2-(2-アミノエトキシ)エトキシ]エチルアミノ]-2-[2-[2-[2-[6-[2-[2-(2-アミノエトキシ)エトキシ]エチルアミノ]-1,3-ジオキソベンゾ[de]イソキノリン-2-イル]エトキシ]エトキシ]エチル]ベンゾ[de]イソキノリン-1,3-ジオン; 2,2'-[1,2-エタンジイルビス(オキシ-2,1-エタンジイル)]ビス[6-({2-[2-(2-アミノエトキシ)エトキシ]エチル}アミノ)-1H-ベンゾ[de]イソキノリン-1,3(2H)-ジオン];若しくは1H-ベンズ[de]イソキノリン-1,3(2H)-ジオン、2,2'-[1,2-エタンジイルビス(オキシ-2,1-エタンジイル)]ビス[6-[[2-[2-(2-アミノエトキシ)エトキシ]エチル]アミノ]-(9Cl)によって、又は化学情報検索サービス(CAS)登録番号438200-66-9によって記載することができる。
「固体状態形態」は、本明細書で使用される場合、非結晶性、低結晶性及び結晶性形態を包含する。一部の実施形態において、式(I)の化合物の固体状態形態は、形態1である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の固体状態形態は、形態2である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の固体状態形態は、非結晶性である。固体状態形態は、1つ以上の分析試験及び/又は物理的特性、例えば、X線粉末回折(XRPD)ディフラクトグラム、単結晶構造、示差走査熱量測定(DSC)からの熱流量情報、動的蒸気収着(DVS)からの吸収-脱着プロット、及び/又は熱力学的安定性などによって、同定するとともに互いに区別することができる。当業者は、しかしながら、こうした分析技術からの結果は、実験エラーにより、例えば、±10%変動し得ることを理解されよう。例えば、同じ結晶性形態についてさえ、XRPDディフラクトグラムにおける強度及び/又はピーク位置に変動があり得る。したがって、当業者は、本明細書において参照されるXRPDディフラクトグラム(度2シータで)におけるシグナル最大値は、一般に、技術認識されている変動である、報告された値の±0.2度2シータで報告されている値を意味することを理解されよう。
「シグナル」は、本明細書で使用される場合、XRPDパターンにおけるポイントを指し、ここで、強度は、カウントで測定される場合に極大である。当業者は、XRPDパターンにおける1つ以上のシグナルが重複することがあり、例えば裸眼では明らかでないことがあると認識されよう。実際に、当業者は、一部の技術認識されている方法、例えば、リートベルト法は、シグナルがパターンに存在するかどうかを決定することができ、それに適当であると認識されよう。
本明細書で使用される場合、「...度2シータでのシグナル」、「...の[a]2シータ値[]でのシグナル」及び/又は「...から選択される少なくとも...2シータ値でのシグナル」は、X線粉末回折実験(度2シータ)において測定及び観察された場合のX線反射位置を指す。
本明細書で使用される場合、「溶媒和物」という用語は、本開示の化合物の1つ以上の分子、及び結晶格子に組み込まれて、化学量論量又は非化学量論量における溶媒(単数)又は溶媒(複数)の1つ以上の分子を含む固体状態形態を指す。式(I)の化合物の形態2は、アセトン溶媒和物である。
「プロセス不純物」は、本明細書で使用される場合、例えば、所望されない反応経路に起因する所望されない化学実体を指す。一部の実施形態において、プロセス不純物の存在及び量は、LCによって決定される。
「単離すること」又は「単離」は、本明細書における場合、第1の構成成分(例えば、形態1)を他の構成成分から分離させることを指す。これらの用語は、部分的分離を包含し、即ち、ここで、第1の構成成分は、他の構成成分の全てからでなく一部から分離される。言い換えると、他の構成成分と比べた第1の構成成分の濃度は、部分的に分離される場合に増加する。
本明細書で使用される場合、「合成収率の増加」は、例えば、異なる反応における同じ化合物の合成収率と比較して所望の化合物のより高い収率を指す。反応順序の特別な生成物の収率は、得られた材料の量を特別な生成物の理論収率で割ることによって決定することができる。
「薬学的に許容される」は、担体、ビヒクル及び/又は賦形剤を修飾するために本明細書で使用される場合、製剤化される化合物の薬理活性を破壊しない非毒性担体、ビヒクル及び/又は賦形剤をそれぞれ指す。
本明細書で使用される場合、X線粉末ディフラクトグラムは、それが、実験的分散により、又用いられる測定条件によりピーク位置における可能な変動を考慮に入れるがピークの大きさ(定量的又は相対的)強度を考慮に入れない図におけるものと同じである場合、本明細書における図の1つ以上において「実質的に示されている通り」である。
本明細書で使用される場合、「LC」という用語は、液体クロマトグラフィーを意味し、高速液体クロマトグラフィー及び超高速液体クロマトグラフィーをそれぞれ指す「HPLC」及び「UPLC」を含む。
式(I)の化合物の形態1
一部の実施形態において、本明細書において開示されている式(I)の化合物は、本明細書において「形態1」と称される低結晶性固体である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、実質的に純粋である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、実質的に図2、図4、図6、図7、図11、図13、図14、図16、図17、図18、図19、図20、図21、図22、図23、図25、図26、図28、図29、図30、図31、図32、図33、図34、図35、図36、図37、図38、図39、図40、図41、図42、図43、図44、図45、図46、図47、図48、図50、図51、図52、図53、図56、図57、図58、図59、図63、図72及び/又は図75に示されている通り、X線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、本明細書において開示されている式(I)の化合物は、本明細書において「形態1」と称される低結晶性固体である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、実質的に純粋である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、実質的に図2、図4、図6、図7、図11、図13、図14、図16、図17、図18、図19、図20、図21、図22、図23、図25、図26、図28、図29、図30、図31、図32、図33、図34、図35、図36、図37、図38、図39、図40、図41、図42、図43、図44、図45、図46、図47、図48、図50、図51、図52、図53、図56、図57、図58、図59、図63、図72及び/又は図75に示されている通り、X線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、少なくとも75%純粋、少なくとも80%純粋、少なくとも85%純粋、少なくとも90%純粋、少なくとも91%純粋、少なくとも92%純粋、少なくとも93%純粋、少なくとも94%純粋、少なくとも95%純粋、少なくとも96%純粋、少なくとも97%純粋、少なくとも98%純粋、又は少なくとも99%純粋である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、少なくとも95%純粋である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、少なくとも98%純粋である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、75%純粋、80%純粋、85%純粋、90%純粋、91%純粋、92%純粋、93%純粋、94%純粋、95%純粋、96%純粋、97%純粋、98%純粋、又は99%純粋である。一部の実施形態において、形態1の純度は、LCによって決定される。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される、少なくとも1個、少なくとも2個、少なくとも3個、少なくとも4個、少なくとも5個、少なくとも6個、少なくとも7個、少なくとも8個、少なくとも9個、少なくとも10個、少なくとも11個、少なくとも12個、少なくとも13個、少なくとも14個、又は少なくとも15個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される少なくとも1個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される少なくとも2個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される少なくとも3個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される少なくとも4個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される少なくとも5個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される少なくとも6個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される少なくとも7個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される少なくとも8個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される少なくとも9個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される少なくとも10個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される少なくとも11個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される少なくとも12個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される少なくとも13個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2から選択される少なくとも14個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.2、11.1、12.5、13.6、15.3、18.5、19.3、19.8、20.9、22.1、24.4、25.0、27.2、27.8及び31.2を含む15個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、3.6、6.1、10.9、12.5、19.3、20.8、24.5及び27.3から選択される少なくとも1個、少なくとも2個、少なくとも3個、少なくとも4個、少なくとも5個、少なくとも6個、少なくとも7個、又は少なくとも8個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、3.6、6.1、10.9、12.5、19.3、20.8、24.5及び27.3から選択される少なくとも1個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、3.6、6.1、10.9、12.5、19.3、20.8、24.5及び27.3から選択される少なくとも2個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、3.6、6.1、10.9、12.5、19.3、20.8、24.5及び27.3から選択される少なくとも3個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、3.6、6.1、10.9、12.5、19.3、20.8、24.5及び27.3から選択される少なくとも4個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、3.6、6.1、10.9、12.5、19.3、20.8、24.5及び27.3から選択される少なくとも5個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、3.6、6.1、10.9、12.5、19.3、20.8、24.5及び27.3から選択される少なくとも6個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、3.6、6.1、10.9、12.5、19.3、20.8、24.5及び27.3から選択される少なくとも7個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、3.6、6.1、10.9、12.5、19.3、20.8、24.5及び27.3を含む8個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.1、11.4、12.4、19.8、21.3、22.8、25.1及び28.4から選択される少なくとも1個、少なくとも2個、少なくとも3個、少なくとも4個、少なくとも5個、少なくとも6個、少なくとも7個、又は少なくとも8個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.1、11.4、12.4、19.8、21.3、22.8、25.1及び28.4から選択される少なくとも1個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.1、11.4、12.4、19.8、21.3、22.8、25.1及び28.4から選択される少なくとも2個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.1、11.4、12.4、19.8、21.3、22.8、25.1及び28.4から選択される少なくとも3個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.1、11.4、12.4、19.8、21.3、22.8、25.1及び28.4から選択される少なくとも4個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.1、11.4、12.4、19.8、21.3、22.8、25.1及び28.4から選択される少なくとも5個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.1、11.4、12.4、19.8、21.3、22.8、25.1及び28.4から選択される少なくとも6個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.1、11.4、12.4、19.8、21.3、22.8、25.1及び28.4から選択される少なくとも7個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.1、11.4、12.4、19.8、21.3、22.8、25.1及び28.4を含む8個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.1、21.3及び22.8から選択される少なくとも1個、少なくとも2個又は少なくとも3個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.1、21.3及び22.8から選択される少なくとも1個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.1、21.3及び22.8から選択される少なくとも2個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、6.1、21.3及び22.8を含む3個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、少なくとも1種の溶媒、少なくとも1種の抗溶媒及び式(I)の化合物の混合物を冷却することによって生成することができる。一部の実施形態において、混合物は、60℃から-15℃に冷却される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の抗溶媒は、アセトン、アセトニトリル、エタノール、酢酸エチル、メタノール、メチルエチルケトン、2-メチルテトラヒドロフラン、2-プロパノール、テトラヒドロフラン及びトルエンから選択される。
一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、アセトニトリルである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、エタノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、メタノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、メチルエチルケトンである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、トルエンである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、アセトンである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、アセトニトリルである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、エタノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、酢酸エチルである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、メタノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、メチルエチルケトンである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、2-メチルテトラヒドロフランである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、2-プロパノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、テトラヒドロフランである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールであり、少なくとも1種の抗溶媒は、トルエンである。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、少なくとも1種の溶媒を蒸発させることによって生成される。一部の実施形態において、蒸発は、室温である。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールである。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、少なくとも1種の溶媒及び式(I)の化合物の混合物をスラリー化することによって生成される。一部の実施形態において、混合物は、室温でスラリー化される。一部の実施形態において、混合物は、55℃でスラリー化される。一部の実施形態において、混合物は、7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、アセトン、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジオキサン、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エタノール、酢酸エチル、ジエチルエーテル、メタノール、メチルエチルケトン、2-メチルテトラヒドロフラン、2-プロパノール、テトラヒドロフラン、トルエン、水、アセトン/水(95/5、v/v)、エタノール/水(95/5、v/v)、及びTHF/水(95/5、v/v)から選択される。
一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、アセトンであり、混合物は、55℃で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、アセトニトリルであり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、アセトニトリルであり、混合物は、55℃で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、クロロホルムであり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、ジクロロメタンであり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、ジオキサンであり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、N,N-ジメチルホルムアミドであり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、N,N-ジメチルホルムアミドであり、混合物は、55℃で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、ジメチルスルホキシドであり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、エタノールであり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、エタノールであり、混合物は、55℃で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、酢酸エチルであり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、酢酸エチルであり、混合物は、55℃で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、ジエチルエーテルであり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、ジエチルエーテルであり、混合物は、55℃で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、メタノールであり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、メタノールであり、混合物は、55℃で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、メチルエチルケトンであり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、メチルエチルケトンであり、混合物は、55℃で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、2-メチルテトラヒドロフランであり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、2-プロパノールであり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、テトラヒドロフランであり、混合物は、55℃で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、トルエンであり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、水であり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、水であり、混合物は、55℃で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、アセトニトリル/水(95/5、v/v)であり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、エタノール/水(95/5、v/v)であり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、テトラヒドロフラン/水(95/5、v/v)であり、混合物は、室温で7日間スラリー化される。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態1は、式(I)の化合物を加熱することによって生成される。一部の実施形態において、式(I)の化合物は、少なくとも100℃、少なくとも110℃、少なくとも120℃、少なくとも130℃、少なくとも140℃、少なくとも150℃、又は少なくとも160℃から250℃未満に加熱される。一部の実施形態において、式(I)の化合物は、100℃で、110℃で、120℃で、130℃で、140℃で、150℃で、又は160℃で加熱される。一部の実施形態において、式(I)の化合物は、145℃で加熱される。一部の実施形態において、式(I)の化合物は、少なくとも10秒、少なくとも20秒、少なくとも30秒、少なくとも40秒、少なくとも50秒、少なくとも60秒、少なくとも70秒、少なくとも80秒、少なくとも90秒、少なくとも100秒、少なくとも110秒、少なくとも120秒、少なくとも150秒、少なくとも180秒、少なくとも210秒、少なくとも240秒、少なくとも270秒、少なくとも5分、少なくとも6分、少なくとも7分、少なくとも8分、少なくとも9分、又は少なくとも10分から15分未満の間加熱される。一部の実施形態において、式(I)の化合物は、10秒、20秒、30秒、40秒、50秒、60秒、70秒、80秒、90秒、100秒、110秒、120秒、150秒、180秒、210秒、240秒、270秒、5分、6分、7分、8分、9分又は10分の間加熱される。一部の実施形態において、式(I)の化合物は、1分間加熱される。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物の形態1、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物を含む医薬組成物である。一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物の形態1、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物からなる医薬組成物である。一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物の形態1、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物から本質的になる医薬組成物である。
式(I)の化合物の形態2
一部の実施形態において、本明細書において開示されている式(I)の化合物は、結晶性固体の形態である。一部の実施形態において、本明細書において開示されている式(I)の化合物は、形態2の形態である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、実質的に図54、図55、図68及び/又は図69に示されている通り、X線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、本明細書において開示されている式(I)の化合物は、結晶性固体の形態である。一部の実施形態において、本明細書において開示されている式(I)の化合物は、形態2の形態である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、実質的に図54、図55、図68及び/又は図69に示されている通り、X線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、少なくとも75%純粋、少なくとも80%純粋、少なくとも85%純粋、少なくとも90%純粋、少なくとも91%純粋、少なくとも92%純粋、少なくとも93%純粋、少なくとも94%純粋、少なくとも95%純粋、少なくとも96%純粋、少なくとも97%純粋、少なくとも98%純粋、又は少なくとも99%純粋である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、少なくとも95%純粋である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、少なくとも98%純粋である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、75%純粋、80%純粋、85%純粋、90%純粋、91%純粋、92%純粋、93%純粋、94%純粋、95%純粋、96%純粋、97%純粋、98%純粋、又は99%純粋である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、95%純粋である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、98%純粋である。一部の実施形態において、形態2の純度は、LCによって決定される。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも1個、少なくとも2個、少なくとも3個、少なくとも4個、少なくとも5個、少なくとも6個、少なくとも7個、少なくとも8個、少なくとも9個、少なくとも10個、少なくとも11個、少なくとも12個、少なくとも13個、少なくとも14個、少なくとも15個、少なくとも16個、少なくとも17個、少なくとも18個、又は19個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも1個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも2個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも3個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも4個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも5個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも6個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも7個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも8個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも9個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも10個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも11個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも12個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも13個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも14個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも15個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも16個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも17個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4から選択される少なくとも18個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、11.3、12.4、13.2、15.1、17.0、17.7、19.0、19.8、20.4、22.3、23.3、24.9、26.1、27.4及び28.4を含む19個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7から選択される少なくとも1個、少なくとも2個、少なくとも3個、少なくとも4個、少なくとも5個、少なくとも6個、少なくとも7個、又は8個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7から選択される少なくとも1個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7から選択される少なくとも2個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7から選択される少なくとも3個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7から選択される少なくとも4個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7から選択される少なくとも5個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7から選択される少なくとも6個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7から選択される少なくとも7個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7を含む8個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1及び17.7から選択される少なくとも1個、少なくとも2個、少なくとも3個、少なくとも4個、少なくとも5個、少なくとも6個、又は7個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1及び17.7から選択される少なくとも1個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1及び17.7から選択される少なくとも2個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1及び17.7から選択される少なくとも3個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1及び17.7から選択される少なくとも4個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1及び17.7から選択される少なくとも5個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1及び17.7から選択される少なくとも6個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1及び17.7を含む7個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6及び12.4から選択される少なくとも1個、少なくとも2個、少なくとも3個、少なくとも4個、又は5個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6及び12.4から選択される少なくとも1個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6及び12.4から選択される少なくとも2個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6及び12.4から選択される少なくとも3個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6及び12.4から選択される少なくとも4個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6、10.2、10.6及び12.4を含む5個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は5.6、7.6及び12.4から選択される、少なくとも1個、少なくとも2個、少なくとも3個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6及び12.4から選択される少なくとも1個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6及び12.4から選択される少なくとも2個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、5.6、7.6及び12.4を含む3個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の形態2は、少なくとも1種の溶媒及び式(I)の化合物を含む混合物をスラリー化することによって生成される。一部の実施形態において、混合物は、室温でスラリー化される。一部の実施形態において、混合物は、少なくとも10℃、少なくとも20℃、少なくとも30℃、少なくとも40℃、少なくとも50℃、又は少なくとも60℃から250℃未満でスラリー化される。一部の実施形態において、混合物は、10℃で、20℃で、30℃で、40℃で、50℃で、又は60℃でスラリー化される。一部の実施形態において、混合物は、55℃でスラリー化される。一部の実施形態において、混合物は、少なくとも15分、少なくとも30分、少なくとも45分、少なくとも1時間、少なくとも2時間、少なくとも3時間、少なくとも4時間、少なくとも5時間、少なくとも6時間、少なくとも7時間、少なくとも8時間、少なくとも12時間、少なくとも16時間、少なくとも1日、少なくとも2日、少なくとも3日、少なくとも4日、少なくとも5日、少なくとも6日、少なくとも7日、少なくとも8日、少なくとも9日、少なくとも10日、少なくとも15日、又は少なくとも1カ月から6カ月未満の間スラリー化される。一部の実施形態において、混合物は、7日間スラリー化される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、アセトンである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、アセトンであり、混合物は、7日間室温でスラリー化される。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物の形態2、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物を含む医薬組成物である。一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物の形態2、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物からなる医薬組成物である。一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物の形態2、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物から本質的になる医薬組成物である。
式(I)の化合物の非結晶性固体形態
一部の実施形態において、本明細書において開示されている式(I)の化合物は、非結晶性固体の形態である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の非結晶性固体形態は、実質的に純粋である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の非結晶性固体形態の純度は、LCによって決定される。一部の実施形態において、式(I)の化合物の非結晶性固体形態は、実質的に図1、図3、図5、図8、図9、図10、図12、図15、図24、図27及び/又は図49に示されている通り、X線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、本明細書において開示されている式(I)の化合物は、非結晶性固体の形態である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の非結晶性固体形態は、実質的に純粋である。一部の実施形態において、式(I)の化合物の非結晶性固体形態の純度は、LCによって決定される。一部の実施形態において、式(I)の化合物の非結晶性固体形態は、実質的に図1、図3、図5、図8、図9、図10、図12、図15、図24、図27及び/又は図49に示されている通り、X線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の非結晶性固体形態は、溶媒、抗溶媒及び式(I)の化合物の加熱混合物を冷却することによって生成される。一部の実施形態において、混合物は、60℃から-15℃に冷却される。一部の実施形態において、溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールである。一部の実施形態において、溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールである。一部の実施形態において、抗溶媒は、アセトン、ジオキサン、酢酸エチル、2-メチルテトラヒドロフラン、2-プロパノール、テトラヒドロフラン、水、及びその混合物から選択される。一部の実施形態において、溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールであり、及び抗溶媒は、アセトンである。一部の実施形態において、溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールであり、抗溶媒は、ジオキサンである。一部の実施形態において、溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールであり、抗溶媒は、酢酸エチルである。一部の実施形態において、溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールであり、抗溶媒は、2-メチルテトラヒドロフランである。一部の実施形態において、溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールであり、抗溶媒は、2-プロパノールである。一部の実施形態において、溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールであり、抗溶媒は、テトラヒドロフランである。一部の実施形態において、溶媒は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールであり、抗溶媒は、水である。一部の実施形態において、溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールであり、抗溶媒は、ジオキサンである。一部の実施形態において、溶媒は、2,2,2-トリフルオルエタノールであり、抗溶媒は、水である。
一部の実施形態において、式(I)の化合物の非結晶性固体形態は、少なくとも1種の溶媒及び式(I)の化合物の混合物をスラリー化することによって生成される。一部の実施形態において、混合物は、室温でスラリー化される。一部の実施形態において、混合物は、7日間スラリー化される。一部の実施形態において、溶媒は、アセトニトリルである。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、テトラヒドロフランである。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物の非結晶性固体形態、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物を含む医薬組成物である。一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物の非結晶性固体形態、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物からなる医薬組成物である。一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物の非結晶性固体形態、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物から本質的になる医薬組成物である。
式(I)の化合物を作製する方法
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含む、式(I)の化合物を作製する方法である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、アセトニトリルである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、エタノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、テトラヒドロフランである。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含む、式(I)の化合物を作製する方法である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、アセトニトリルである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、エタノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、テトラヒドロフランである。
一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、99/1から1/99の範囲である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、1/1である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、95/5である。
一部の実施形態において、方法は、式Int-3:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2:
の化合物を組み合わせて、式(I)の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、式Int-3の化合及び式Int-2の化合物を組み合わせることは、ベンゼン、キシレン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、トルエン及び/又はピリジン中で実施される。一部の実施形態において、式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることは、トルエン中で実施される。
の化合物及び式Int-2:
一部の実施形態において、方法は、式Int-1:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、方法は、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される。
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、方法は、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される。
一部の実施形態において、式Int-1の化合物は、式Int-1の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせる前に再結晶化される。
一部の実施形態において、該方法は、少なくとも1種の第1の溶媒及び水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、収率の増加をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも1種の第1の溶媒及び水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、式(I)の化合物の組成物中のプロセス不純物の減少をもたらす。
一部の実施形態において、該方法は、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、式(I)の化合物を含む組成物中のより少ない数のプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも1種少ないプロセス不純物、少なくとも2種少ないプロセス不純物、少なくとも3種少ないプロセス不純物、少なくとも4種少ないプロセス不純物、少なくとも5種少ないプロセス不純物、少なくとも6種少ないプロセス不純物、少なくとも7種少ないプロセス不純物、少なくとも8種少ないプロセス不純物、少なくとも9種少ないプロセス不純物、少なくとも10種少ないプロセス不純物、少なくとも11種少ないプロセス不純物、少なくとも12種少ないプロセス不純物、少なくとも13種少ないプロセス不純物、少なくとも14種少ないプロセス不純物、又は少なくとも15種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、1種少ないプロセス不純物、2種少ないプロセス不純物、3種少ないプロセス不純物、4種少ないプロセス不純物、5種少ないプロセス不純物、6種少ないプロセス不純物、7種少ないプロセス不純物、8種少ないプロセス不純物、9種少ないプロセス不純物、10種少ないプロセス不純物、11種少ないプロセス不純物、12種少ないプロセス不純物、13種少ないプロセス不純物、14種少ないプロセス不純物、又は15種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも1種少ないプロセス不純物、少なくとも2種少ないプロセス不純物、少なくとも3種少ないプロセス不純物、少なくとも4種少ないプロセス不純物、又は少なくとも5種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも1種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも2種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも3種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも4種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも5種少ないプロセス不純物をもたらす。
一部の実施形態において、該方法は、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、式(I)の化合物を含む組成物におけるプロセス不純物の濃度の減少をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、25%未満、22.5%未満、20%未満、17.5%未満、15%未満、14%未満、13%未満、12%未満、11%未満、10%未満、9.5%未満、9%未満、8.5%未満、8%未満、7.5%未満、7%未満、6.5%未満、6%未満、5.5%未満、5%未満、4.75%未満、4.5%未満、4.25%未満、4%未満、3.75%未満、3.5%未満、3.25%未満、3%未満、2.9%未満、2.8%未満、2.7%未満、2.6%未満、2.5%未満、2.4%未満、2.3%未満、2.2%未満、2.1%未満、2%未満、1.9%未満、1.8%未満、1.7%未満、1.6%未満、1.5%未満、1.4%未満、1.3%未満、1.2%未満、1.1%未満、1%未満、0.9%未満、0.8%未満、0.75%未満、0.7%未満、0.65%未満、0.6%未満、0.55%未満、0.5%未満、0.45%未満、0.4%未満、0.35%未満、0.3%未満、0.25%未満、0.2%未満、0.15%未満、0.1%未満、又は0.05%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、プロセス不純物の濃度は、LCによって決定される。
一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に15%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に12.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に10%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に7.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に4%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に3%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に2%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に1.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.75%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法はLCによって決定された場合に0.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.35%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.25%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.15%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.05%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。
式(I)の化合物の合成収率を改善する方法
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含む、式(I)の化合物の合成収率を改善する方法である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、アセトニトリルである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、エタノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、テトラヒドロフランである。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含む、式(I)の化合物の合成収率を改善する方法である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、アセトニトリルである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、エタノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、テトラヒドロフランである。
一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、99/1から1/99の範囲である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、1/1である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、95/5である。
一部の実施形態において、該方法は、式Int-3:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2:
の化合物を組み合わせて、式(I)の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、式Int-3の化合及び式Int-2の化合物を組み合わせることは、ベンゼン、キシレン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、トルエン及び/又はピリジン中で実施される。一部の実施形態において、式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることは、トルエン中で実施される。
の化合物及び式Int-2:
一部の実施形態において、該方法は、式Int-1:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、該方法は、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される。
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、該方法は、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される。
一部の実施形態において、式Int-1の化合物は、式Int-1の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせる前に再結晶化される。
一部の実施形態において、該方法は、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、式(I)の化合物を含む組成物中のより少ない数のプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも1種少ないプロセス不純物、少なくとも2種少ないプロセス不純物、少なくとも3種少ないプロセス不純物、少なくとも4種少ないプロセス不純物、少なくとも5種少ないプロセス不純物、少なくとも6種少ないプロセス不純物、少なくとも7種少ないプロセス不純物、少なくとも8種少ないプロセス不純物、少なくとも9種少ないプロセス不純物、少なくとも10種少ないプロセス不純物、少なくとも11種少ないプロセス不純物、少なくとも12種少ないプロセス不純物、少なくとも13種少ないプロセス不純物、少なくとも14種少ないプロセス不純物、又は少なくとも15種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、1種少ないプロセス不純物、2種少ないプロセス不純物、3種少ないプロセス不純物、4種少ないプロセス不純物、5種少ないプロセス不純物、6種少ないプロセス不純物、7種少ないプロセス不純物、8種少ないプロセス不純物、9種少ないプロセス不純物、10種少ないプロセス不純物、11種少ないプロセス不純物、12種少ないプロセス不純物、13種少ないプロセス不純物、14種少ないプロセス不純物、又は15種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも1種少ないプロセス不純物、少なくとも2種少ないプロセス不純物、少なくとも3種少ないプロセス不純物、少なくとも4種少ないプロセス不純物、又は少なくとも5種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも1種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも2種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも3種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも4種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも5種少ないプロセス不純物をもたらす。
一部の実施形態において、該方法は、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、式(I)の化合物を含む組成物におけるプロセス不純物の濃度の減少をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、25%未満、22.5%未満、20%未満、17.5%未満、15%未満、14%未満、13%未満、12%未満、11%未満、10%未満、9.5%未満、9%未満、8.5%未満、8%未満、7.5%未満、7%未満、6.5%未満、6%未満、5.5%未満、5%未満、4.75%未満、4.5%未満、4.25%未満、4%未満、3.75%未満、3.5%未満、3.25%未満、3%未満、2.9%未満、2.8%未満、2.7%未満、2.6%未満、2.5%未満、2.4%未満、2.3%未満、2.2%未満、2.1%未満、2%未満、1.9%未満、1.8%未満、1.7%未満、1.6%未満、1.5%未満、1.4%未満、1.3%未満、1.2%未満、1.1%未満、1%未満、0.9%未満、0.8%未満、0.75%未満、0.7%未満、0.65%未満、0.6%未満、0.55%未満、0.5%未満、0.45%未満、0.4%未満、0.35%未満、0.3%未満、0.25%未満、0.2%未満、0.15%未満、0.1%未満、又は0.05%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、プロセス不純物の濃度は、LCによって決定される。
一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に15%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に12.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に10%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に7.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に4%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に3%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に2%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に1.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.75%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。
式(I)の化合物を含む組成物におけるプロセス不純物を低減する方法
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含む、式(I)の化合物を含む組成物中におけるプロセス不純物を低減する方法である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、アセトニトリルである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、エタノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、テトラヒドロフランである。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含む、式(I)の化合物を含む組成物中におけるプロセス不純物を低減する方法である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、アセトニトリルである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、エタノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、テトラヒドロフランである。
一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、99/1から1/99の範囲である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、1/1である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、95/5である。
一部の実施形態において、該方法は、式Int-3:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2:
の化合物を組み合わせて、式(I)の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることは、ベンゼン、キシレン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、トルエン及び/又はピリジン中で実施される。一部の実施形態において、式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることは、トルエン中で実施される。
の化合物及び式Int-2:
一部の実施形態において、該方法は、式Int-1:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、該方法は、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される。
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、該方法は、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される。
一部の実施形態において、式Int-1の化合物は、式Int-1の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせる前に再結晶化される。
一部の実施形態において、該方法は、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、式(I)の化合物を含む組成物中のより少ない数のプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも1種少ないプロセス不純物、少なくとも2種少ないプロセス不純物、少なくとも3種少ないプロセス不純物、少なくとも4種少ないプロセス不純物、少なくとも5種少ないプロセス不純物、少なくとも6種少ないプロセス不純物、少なくとも7種少ないプロセス不純物、少なくとも8種少ないプロセス不純物、少なくとも9種少ないプロセス不純物、少なくとも10種少ないプロセス不純物、少なくとも11種少ないプロセス不純物、少なくとも12種少ないプロセス不純物、少なくとも13種少ないプロセス不純物、少なくとも14種少ないプロセス不純物、又は少なくとも15種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、1種少ないプロセス不純物、2種少ないプロセス不純物、3種少ないプロセス不純物、4種少ないプロセス不純物、5種少ないプロセス不純物、6種少ないプロセス不純物、7種少ないプロセス不純物、8種少ないプロセス不純物、9種少ないプロセス不純物、10種少ないプロセス不純物、11種少ないプロセス不純物、12種少ないプロセス不純物、13種少ないプロセス不純物、14種少ないプロセス不純物、又は15種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも1種少ないプロセス不純物、少なくとも2種少ないプロセス不純物、少なくとも3種少ないプロセス不純物、少なくとも4種少ないプロセス不純物、又は少なくとも5種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも1種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも2種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも3種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも4種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも5種少ないプロセス不純物をもたらす。
一部の実施形態において、該方法は、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、式(I)の化合物を含む組成物におけるプロセス不純物の濃度の減少をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、25%未満、22.5%未満、20%未満、17.5%未満、15%未満、14%未満、13%未満、12%未満、11%未満、10%未満、9.5%未満、9%未満、8.5%未満、8%未満、7.5%未満、7%未満、6.5%未満、6%未満、5.5%未満、5%未満、4.75%未満、4.5%未満、4.25%未満、4%未満、3.75%未満、3.5%未満、3.25%未満、3%未満、2.9%未満、2.8%未満、2.7%未満、2.6%未満、2.5%未満、2.4%未満、2.3%未満、2.2%未満、2.1%未満、2%未満、1.9%未満、1.8%未満、1.7%未満、1.6%未満、1.5%未満、1.4%未満、1.3%未満、1.2%未満、1.1%未満、1%未満、0.9%未満、0.8%未満、0.75%未満、0.7%未満、0.65%未満、0.6%未満、0.55%未満、0.5%未満、0.45%未満、0.4%未満、0.35%未満、0.3%未満、0.25%未満、0.2%未満、0.15%未満、0.1%未満、又は0.05%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、プロセス不純物の濃度は、LCによって決定される。
一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に15%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に12.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に10%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に7.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に4%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に3%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に2%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に1.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.75%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.35%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.25%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.15%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.05%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。
式(I)の化合物の形態1を作製する方法
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から形態1を単離することを含む、式(I)の化合物の形態1を作製する方法である。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロメタン、1,4-ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エタノール、酢酸エチル、ジエチルエーテル、メタノール、メチルエチルケトン、2-メチル-テトラヒドロフラン、2-プロパノール、テトラヒドロフラン、トルエン及び水から選択される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、アセトニトリル、エタノール、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン及び水から選択される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、第1の溶媒及び少なくとも1種の第2の溶媒を含む。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、アセトニトリルであり、少なくとも1種の第2の溶媒は、水である。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から形態1を単離することを含む、式(I)の化合物の形態1を作製する方法である。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロメタン、1,4-ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エタノール、酢酸エチル、ジエチルエーテル、メタノール、メチルエチルケトン、2-メチル-テトラヒドロフラン、2-プロパノール、テトラヒドロフラン、トルエン及び水から選択される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、アセトニトリル、エタノール、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン及び水から選択される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、第1の溶媒及び少なくとも1種の第2の溶媒を含む。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、アセトニトリルであり、少なくとも1種の第2の溶媒は、水である。
一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比は、99/1から1/99の範囲である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比は、50/1から1/50の範囲である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比は、25/1から1/25の範囲である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比は、15/1から1/15の範囲である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比は、10/1から1/10の範囲である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比は、5/1から1/5の範囲である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比は、1/1である。
式(I)の化合物の形態2を作製する方法
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物及び少なくとも1種の第1の溶媒の混合物から形態2を単離することを含む、式(I)の化合物の形態2を作製する方法である。一部の実施形態において、混合物は、少なくとも1種の第2の溶媒をさらに含む。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、アセトンである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第2の溶媒は、水である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、アセトンであり、少なくとも1種の第2の溶媒は、水である。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物及び少なくとも1種の第1の溶媒の混合物から形態2を単離することを含む、式(I)の化合物の形態2を作製する方法である。一部の実施形態において、混合物は、少なくとも1種の第2の溶媒をさらに含む。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、アセトンである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第2の溶媒は、水である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、アセトンであり、少なくとも1種の第2の溶媒は、水である。
一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比は、99/1から1/99の範囲である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比は、95/5である。
式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法である。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法である。
一部の実施形態において、該方法は、式Int-1:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物を、溶媒、例えば、ジメチルアセトアミドから再結晶化させることを含む。
の化合物を、溶媒、例えば、ジメチルアセトアミドから再結晶化させることを含む。
一部の実施形態において、該方法は、式Int-1:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の場合により再結晶化させた化合物及び式Int-2:
の化合物を組み合わせて、式Int-3:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、式Int-1の場合により再結晶化させた化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることは、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される。
の場合により再結晶化させた化合物及び式Int-2:
の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、式Int-1の場合により再結晶化させた化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることは、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される。
一部の実施形態において、該方法は、式Int-3:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2:
の化合物を組み合わせて、式(I):
の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることは、ベンゼン、キシレン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、トルエン及び/又はピリジン中で実施される。一部の実施形態において、式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることは、トルエン中で実施される。
の化合物及び式Int-2:
一部の実施形態において、該方法は、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することをさらに含む。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、アセトニトリルである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、エタノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、テトラヒドロフランである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、99/1から1/99の範囲である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、1/1である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、95/5である。
一部の実施形態において、該方法は、式(I)の化合物を少なくとも1種の酸と組み合わせることをさらに含む。一部の実施形態において、少なくとも1種の酸は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、硝酸、酢酸、シュウ酸、酒石酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルコン酸、クエン酸、リンゴ酸、アスコルビン酸、安息香酸、タンニン酸、パルミチン酸、アルギン酸、ポリグルタミン酸、ナフタレンスルホン酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸及びポリガラクツロン酸から選択される。一部の実施形態において、少なくとも1種の酸は、酢酸である。
一部の実施形態において、該方法は、式(I)の化合物のジアセテート塩、活性化炭素及び少なくとも1種の溶媒を組み合わせることをさらに含む。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、アセトニトリル、エタノール、テトラヒドロフラン及び水から選択される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、水及びアセトニトリルを含む。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、99/1から1/99の範囲である。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、75/1から1/75の範囲である。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、50/1から1/50の範囲である。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、25/1から1/25の範囲である。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、15/1から1/15の範囲である。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、10/1から1/10の範囲である。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、5/1から1/5の範囲である。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、1/1である。
一部の実施形態において、該方法は、式(I)の化合物のジアセテート塩、活性化炭素及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から式(I)の化合物のジアセテート塩を単離することをさらに含む。一部の実施形態において、単離することは、少なくとも1種の濾過助剤を介して混合物を濾過することを含む。一部の実施形態において、少なくとも1種の濾過助剤は、珪藻土及び少なくとも1種のメンブランフィルターから選択される。一部の実施形態において、少なくとも1種のメンブランフィルターは、0.1μmから1μmの範囲である厚さを有する。一部の実施形態において、少なくとも1種のメンブランフィルターは、0.1μm、0.2μm、0.3μm、0.4μm、0.5μm、0.6μm、0.7μm、0.8μm、0.9μm又は1μmの厚さを有する。一部の実施形態において、少なくとも1種のメンブランフィルターは、0.2μm厚である。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、式(I)の化合物のジアセテート塩、活性化炭素及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から式(I)の化合物のジアセテート塩を単離することを含む、式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法である。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、アセトニトリル、エタノール、テトラヒドロフラン及び水から選択される。一部の実施形態において、少なくとも1種の溶媒は、水及びアセトニトリルを含む。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、99/1から1/99の範囲である。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、75/1から1/75の範囲である。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、50/1から1/50の範囲である。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、25/1から1/25の範囲である。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、15/1から1/15の範囲である。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、10/1から1/10の範囲である。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、5/1から1/5の範囲である。一部の実施形態において、アセトニトリルの体積と水の体積との比は、1/1である。
一部の実施形態において、単離することは、少なくとも1種の濾過助剤を介して混合物を濾過することを含む。一部の実施形態において、少なくとも1種の濾過助剤は、珪藻土及び少なくとも1種のメンブランフィルターから選択される。一部の実施形態において、少なくとも1種のメンブランフィルターは、0.1μmから1μmの範囲である厚さを有する。一部の実施形態において、少なくとも1種のメンブランフィルターは、0.1μm、0.2μm、0.3μm、0.4μm、0.5μm、0.6μm、0.7μm、0.8μm、0.9μm又は1μmの厚さを有する。一部の実施形態において、メンブランフィルターは、0.2μm厚である。
一部の実施形態において、該方法は、式(I)の化合物を少なくとも1種の酸と組み合わせることをさらに含む。一部の実施形態において、少なくとも1種の酸は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、硝酸、酢酸、シュウ酸、酒石酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルコン酸、クエン酸、リンゴ酸、アスコルビン酸、安息香酸、タンニン酸、パルミチン酸、アルギン酸、ポリグルタミン酸、ナフタレンスルホン酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸及びポリガラクツロン酸から選択される。一部の実施形態において、少なくとも1種の酸は、酢酸である。
一部の実施形態において、該方法は、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することをさらに含む。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、アセトニトリルである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、エタノールである。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒は、テトラヒドロフランである。
一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、99/1から1/99の範囲である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、1/1である。一部の実施形態において、少なくとも1種の第1の溶媒の体積と水の体積との比は、95/5である。
一部の実施形態において、該方法は、式Int-3:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2:
の化合物を組み合わせて、式(I)の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることは、ベンゼン、キシレン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、トルエン及び/又はピリジン中で実施される。一部の実施形態において、式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることは、トルエン中で実施される。
の化合物及び式Int-2:
一部の実施形態において、該方法は、式Int-1:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、式Int-1の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることは、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される。
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成することをさらに含む。一部の実施形態において、式Int-1の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることは、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される。
一部の実施形態において、式Int-1の化合物は、式Int-1の化合物及び式Int-3の化合物を組み合わせることを実施する前に再結晶化される。
一部の実施形態において、該方法は、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化すること並びに/又は式(I)の化合物のジアセテート塩、活性化炭素及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から式(I)の化合物のジアセテート塩を単離することを含まない式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法と比べて、収率の増加をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化すること並びに/又は式(I)の化合物のジアセテート塩、活性化炭素及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から式(I)の化合物のジアセテート塩を単離することを含まない式(I)の化合物のジアセテート塩を含む組成物中のプロセス不純物の型の減少をもたらす。
一部の実施形態において、該方法は、式(I)の化合物のジアセテート塩、活性化炭素及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から式(I)の化合物のジアセテート塩を単離することを含まない式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法と比べて、式(I)の化合物のジアセテート塩を含む組成物中のより少ない数のプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも1種少ないプロセス不純物、少なくとも2種少ないプロセス不純物、少なくとも3種少ないプロセス不純物、少なくとも4種少ないプロセス不純物、少なくとも5種少ないプロセス不純物、少なくとも6種少ないプロセス不純物、少なくとも7種少ないプロセス不純物、少なくとも8種少ないプロセス不純物、少なくとも9種少ないプロセス不純物、少なくとも10種少ないプロセス不純物、少なくとも11種少ないプロセス不純物、少なくとも12種少ないプロセス不純物、少なくとも13種少ないプロセス不純物、少なくとも14種少ないプロセス不純物、又は少なくとも15種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、水並びにアセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される第1の溶媒を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、1種少ないプロセス不純物、2種少ないプロセス不純物、3種少ないプロセス不純物、4種少ないプロセス不純物、5種少ないプロセス不純物、6種少ないプロセス不純物、7種少ないプロセス不純物、8種少ないプロセス不純物、9種少ないプロセス不純物、10種少ないプロセス不純物、11種少ないプロセス不純物、12種少ないプロセス不純物、13種少ないプロセス不純物、14種少ないプロセス不純物、又は15種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも1種少ないプロセス不純物、少なくとも2種少ないプロセス不純物、少なくとも3種少ないプロセス不純物、少なくとも4種少ないプロセス不純物、又は少なくとも5種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも1種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも2種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも3種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも4種少ないプロセス不純物をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、少なくとも5種少ないプロセス不純物をもたらす。
一部の実施形態において、該方法は、式(I)の化合物のジアセテート塩、活性化炭素及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から式(I)の化合物のジアセテート塩を単離することを含まない式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法と比べて、式(I)の化合物のジアセテート塩を含む組成物中のプロセス不純物の濃度の減少をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、25%未満、22.5%未満、20%未満、17.5%未満、15%未満、14%未満、13%未満、12%未満、11%未満、10%未満、9.5%未満、9%未満、8.5%未満、8%未満、7.5%未満、7%未満、6.5%未満、6%未満、5.5%未満、5%未満、4.75%未満、4.5%未満、4.25%未満、4%未満、3.75%未満、3.5%未満、3.25%未満、3%未満、2.9%未満、2.8%未満、2.7%未満、2.6%未満、2.5%未満、2.4%未満、2.3%未満、2.2%未満、2.1%未満、2%未満、1.9%未満、1.8%未満、1.7%未満、1.6%未満、1.5%未満、1.4%未満、1.3%未満、1.2%未満、1.1%未満、1%未満、0.9%未満、0.8%未満、0.75%未満、0.7%未満、0.65%未満、0.6%未満、0.55%未満、0.5%未満、0.45%未満、0.4%未満、0.35%未満、0.3%未満、0.25%未満、0.2%未満、0.15%未満、0.1%未満、又は0.05%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、プロセス不純物の濃度は、LCによって決定される。
一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に15%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に12.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に10%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に7.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に4%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に3%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に2%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に1.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.75%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.5%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.35%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.25%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.15%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。一部の実施形態において、該方法は、LCによって決定された場合に0.05%未満のプロセス不純物濃度をもたらす。
一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、本明細書に記載されている方法のいずれかに従って生成される式(I)の化合物のジアセテート塩、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を含む医薬組成物である。一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、本明細書に記載されている方法のいずれかに従って生成される式(I)の化合物のジアセテート塩、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分からなる医薬組成物である。一部の実施形態において、本明細書において提供されているのは、本明細書に記載されている方法のいずれかに従って生成される式(I)の化合物のジアセテート塩、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分から本質的になる医薬組成物である。
追加の実施形態
実施形態1.2,2'-((エタン-1,2-ジイルビス(オキシ))ビス(エタン-2,1-ジイル))ビス(6-((2-(2-(2-アミノエトキシ)エトキシ)エチル)アミノ)-1H-ベンゾ[de]イソキノリン-1,3(2H)-ジオン)(「式(I)の化合物」)の形態1を作製する方法であって、式(I)の化合物及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から形態1を単離することを含む方法。
実施形態1.2,2'-((エタン-1,2-ジイルビス(オキシ))ビス(エタン-2,1-ジイル))ビス(6-((2-(2-(2-アミノエトキシ)エトキシ)エチル)アミノ)-1H-ベンゾ[de]イソキノリン-1,3(2H)-ジオン)(「式(I)の化合物」)の形態1を作製する方法であって、式(I)の化合物及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から形態1を単離することを含む方法。
実施形態2.少なくとも1種の溶媒が、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロメタン、1,4-ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エタノール、酢酸エチル、ジエチルエーテル、メタノール、メチルエチルケトン、2-メチル-テトラヒドロフラン、2-プロパノール、テトラヒドロフラン、トルエン及び水から選択される、実施形態1による方法。
実施形態3.少なくとも1種の溶媒が、アセトニトリル、エタノール、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン及び水から選択される、実施形態2による方法。
実施形態4.少なくとも1種の溶媒が、第1の溶媒及び第2の溶媒を含む、実施形態1から3のいずれか1つによる方法。
実施形態5.少なくとも1種の第1の溶媒がアセトニトリルであり、少なくとも1種の第2の溶媒が水である、実施形態2から4のいずれかによる方法。
実施形態6.少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比が、99/1から1/99の範囲である、実施形態4又は5による方法。
実施形態7.少なくとも1種の第1の溶媒の量と少なくとも1種の第2の溶媒の量との比が、5/1から1/5の範囲である、実施形態6による方法。
実施形態8.少なくとも1種の第1の溶媒の量と少なくとも1種の第2の溶媒の量との比が、1/1である、実施形態7による方法。
実施形態9.アセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化すること
を含む、式(I)の化合物を作製する方法。
を含む、式(I)の化合物を作製する方法。
実施形態10.少なくとも1種の第1の溶媒が、アセトニトリルである、実施形態9による方法。
実施形態11.式Int-3:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される
の化合物及び式Int-2:
の化合物を組み合わせて、式(I)の化合物を形成すること
をさらに含む、実施形態9による方法。
の化合物及び式Int-2:
をさらに含む、実施形態9による方法。
実施形態12.式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、トルエン中で実施される、実施形態11による方法。
実施形態13.式Int-1:
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成すること
をさらに含む、実施形態11による方法。
をさらに含む、実施形態11による方法。
実施形態14.式Int-1の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される、実施形態13による方法。
実施形態15.式Int-1の化合物が、式Int-2の化合物と組み合わせる前に再結晶化される、実施形態13による方法。
実施形態16.アセトニトリルと水との比が、約99/1から約1/99である、実施形態9から15のいずれか1つによる方法。
実施形態17.アセトニトリルと水との比が、約1/1である、実施形態9から16のいずれか1つによる方法。
実施形態18.第1の溶媒及び水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、合成収率の増加をもたらす、実施形態9から17のいずれか1つによる方法。
実施形態19.第1の溶媒及び水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、式(I)の化合物の組成物中のプロセス不純物の減少をもたらす、実施形態9から17のいずれか1つによる方法。
実施形態20.プロセス不純物の濃度の減少をもたらす、実施形態19による方法。
実施形態21.LCによって決定された場合に1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす、実施形態19による方法。
実施形態22.より少ない数のプロセス不純物をもたらす、実施形態19による方法。
実施形態23.少なくとも3種少ないプロセス不純物をもたらす、実施形態19による方法。
実施形態24.アセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化すること
を含む、式(I)の化合物の合成収率を改善する方法。
を含む、式(I)の化合物の合成収率を改善する方法。
実施形態25.式Int-3:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2:
の化合物を組み合わせて、式(I)の化合物を形成すること
をさらに含む、実施形態24による方法。
の化合物及び式Int-2:
をさらに含む、実施形態24による方法。
実施形態26.式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、トルエン中で実施される、実施形態25による方法。
実施形態27.式Int-1:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成すること
をさらに含む、実施形態25による方法。
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成すること
をさらに含む、実施形態25による方法。
実施形態28.式Int-1の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される、実施形態27による方法。
実施形態29.式Int-1の化合物が、式Int-2の化合物を組み合わせる前に再結晶化される、実施形態27による方法。
実施形態30.アセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、合成収率の増加をもたらす、実施形態24から29のいずれか1つによる方法。
実施形態31.アセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、式(I)の化合物の組成物中のプロセス不純物の減少をもたらす、実施形態24から29のいずれか1つによる方法。
実施形態32.プロセス不純物の濃度の減少をもたらす、実施形態31による方法。
実施形態33.LCによって決定された場合に1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす、実施形態31による方法。
実施形態34.より少ない数のプロセス不純物をもたらす、実施形態31による方法。
実施形態35.少なくとも3種少ないプロセス不純物をもたらす、実施形態31による方法。
実施形態36.アセトニトリル、エタノール、メチルエチルケトン及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化すること
を含む、式(I)の化合物を含む組成物中のプロセス不純物を低減する方法。
を含む、式(I)の化合物を含む組成物中のプロセス不純物を低減する方法。
実施形態37.式Int-3:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2:
の化合物を組み合わせて、式(I)の化合物を形成すること
をさらに含む、実施形態36による方法。
の化合物及び式Int-2:
をさらに含む、実施形態36による方法。
実施形態38.式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、トルエン中で実施される、実施形態37による方法。
実施形態39.式Int-1:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成すること
をさらに含む、実施形態37による方法。
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成すること
をさらに含む、実施形態37による方法。
実施形態40.式Int-1の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される、実施形態39による方法。
実施形態41.式Int-1の化合物が、式Int-2の化合物と組み合わせる前に再結晶化される、実施形態39による方法。
実施形態42.アセトニトリル、エタノール、メチルエチルケトン及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、合成収率の増加をもたらす、実施形態36から41のいずれか1つによる方法。
実施形態43.アセトニトリル、エタノール、メチルエチルケトン及びテトラヒドロフランから選択される第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、式(I)の化合物の組成物中のプロセス不純物の減少をもたらす、実施形態36から41のいずれか1つによる方法。
実施形態44.プロセス不純物の濃度の減少をもたらす、実施形態43による方法。
実施形態45.LCによって決定された場合に1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす、実施形態43による方法。
実施形態46.より少ない数のプロセス不純物をもたらす、実施形態43による方法。
実施形態47.3種少ないプロセス不純物をもたらす、実施形態43による方法。
実施形態48.式(I)の化合物のジアセテート塩、活性化炭素及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から式(I)の化合物のジアセテート塩を単離すること
を含む、式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法。
を含む、式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法。
実施形態49.少なくとも1種の溶媒が、アセトニトリル、エタノール、テトラヒドロフラン及び水から選択される、実施形態48による方法。
実施形態50.少なくとも1種の溶媒が、水及びアセトニトリルを含む、実施形態48による方法。
実施形態51.アセトニトリルの体積と水の体積との比が、99/1から1/99の範囲である、実施形態50による方法。
実施形態52.アセトニトリルの体積と水の体積との比が、1/1である、実施形態51による方法。
実施形態53.式(I)の化合物のジアセテート塩を単離することが、少なくとも1種の濾過助剤を介して混合物を濾過することを含む、実施形態48による方法。
実施形態54.少なくとも1種の濾過助剤が、珪藻土及び少なくとも1種のメンブランフィルターから選択される、実施形態53による方法。
実施形態55.式(I)の化合物を少なくとも1種の酸と組み合わせること
をさらに含む、実施形態48による方法。
をさらに含む、実施形態48による方法。
実施形態56.少なくとも1種の酸が、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、硝酸、酢酸、シュウ酸、酒石酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルコン酸、クエン酸、リンゴ酸、アスコルビン酸、安息香酸、タンニン酸、パルミチン酸、アルギン酸、ポリグルタミン酸、ナフタレンスルホン酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸及びポリガラクツロン酸から選択される、実施形態55による方法。
実施形態57.少なくとも1種の酸が、酢酸である、実施形態55又は56による方法。
実施形態58.アセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化すること
をさらに含む、実施形態48による方法。
をさらに含む、実施形態48による方法。
実施形態59.第1の溶媒が、アセトニトリルである、実施形態58による方法。
実施形態60.アセトニトリルの体積と水の体積との比が、10/1から1/10の範囲である、実施形態58又は59による方法。
実施形態61.アセトニトリルの体積と水の体積との比が、1/1である、実施形態58又は59による方法。
実施形態62.式Int-3:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2:
の化合物を組み合わせて、式(I)の化合物を形成すること
をさらに含む、実施形態48による方法。
の化合物及び式Int-2:
をさらに含む、実施形態48による方法。
実施形態63.式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、トルエン中で実施される、実施形態62による方法。
実施形態64.式Int-1:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成すること
をさらに含む、実施形態58による方法。
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成すること
をさらに含む、実施形態58による方法。
実施形態65.式Int-1の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される、実施形態64による方法。
実施形態66.式Int-1の化合物が、式Int-2の化合物と組み合わせる前に再結晶化される、実施形態64による方法。
実施形態67.式(I)の化合物をスラリー化すること及び/又は式(I)の化合物のジアセテート塩を単離することを含まない式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法と比べて、合成収率の増加をもたらす、実施形態48から66のいずれか1つによる方法。
実施形態68.式(I)の化合物をスラリー化すること及び/又は式(I)の化合物のジアセテート塩を単離することを含まない式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法と比べて、式(I)の化合物のジアセテート塩を含む組成物中のプロセス不純物の減少をもたらす、実施形態48から66のいずれか1つによる方法。
実施形態69.プロセス不純物の濃度の減少をもたらす、実施形態68による方法。
実施形態70.LCによって決定された場合に1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす、実施形態68による方法。
実施形態71.より少ない数のプロセス不純物をもたらす、実施形態68による方法。
実施形態72.3種少ないプロセス不純物をもたらす、実施形態68による方法。
実施形態73.実施形態48から72のいずれか1つに従った方法によって得られた式(I)の化合物のジアセテート塩。
実施形態74.実施形態48から72のいずれか1つの方法に従って生成される式(I)の化合物のジアセテート塩又は実施形態73による式(I)の化合物のジアセテート塩、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物のジアセテート塩を含む医薬組成物。
実施形態75.実施形態48から72のいずれか1つの方法に従って生成される式(I)の化合物のジアセテート塩又は実施形態73による式(I)の化合物のジアセテート塩、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物のジアセテート塩からなる医薬組成物。
実施形態76.実施形態48から72のいずれか1つの方法に従って生成される式(I)の化合物のジアセテート塩又は実施形態73による式(I)の化合物のジアセテート塩、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物のジアセテート塩から本質的になる医薬組成物。
実施形態77.式(I)の化合物の形態2。
実施形態78.実施形態77による式(I)の化合物の実質的に純粋な形態2。
実施形態79.形態2が、LCによって決定された場合に少なくとも98%純粋である、実施形態77又は78による式(I)の化合物の形態2。
実施形態80.実質的に図54に示されている通りのX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる実施形態77から79のいずれか1つによる式(I)の化合物の形態2。
実施形態81.5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7から選択される少なくとも3個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる、実施形態77から80のいずれか1つによる式(I)の化合物の形態2。
実施形態82.5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7から選択される少なくとも5個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる、実施形態77から81のいずれか1つによる式(I)の化合物の形態2。
実施形態83.5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7から選択される少なくとも7個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる、実施形態77から82のいずれか1つによる式(I)の化合物の形態2。
実施形態84.式(I)の化合物及び少なくとも1種の第1の溶媒を含む混合物から形態2を単離することを含む、式(I)の化合物の形態2を作製する方法。
実施形態85.混合物が、少なくとも1種の第2の溶媒をさらに含む、実施形態84による方法。
実施形態86.少なくとも1種の第1の溶媒が、アセトンである、実施形態84又は85による方法。
実施形態87.少なくとも1種の第2の溶媒が、水である、実施形態84から86のいずれか1つによる方法。
実施形態88.少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比が、1/1から99/1の範囲である、実施形態85から87のいずれか1つによる方法。
実施形態89.少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比が、95/5である、実施形態85から88のいずれか1つによる方法。
実施形態90.アセトン及び水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化すること
を含む、式(I)の化合物の形態2を作製する方法。
を含む、式(I)の化合物の形態2を作製する方法。
実施形態91.式Int-3:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2:
の化合物を組み合わせて、式(I)の化合物を形成すること
をさらに含む、実施形態90による方法。
の化合物及び式Int-2:
をさらに含む、実施形態90による方法。
実施形態92.式Int-1:
(式中、Xは、F、Cl、Br及びIから選択される)
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成すること
をさらに含む、実施形態91による方法。
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成すること
をさらに含む、実施形態91による方法。
実施形態93.アセトンの体積と水の体積との比が、99/1から1/99の範囲である、実施形態90から92のいずれか1つによる方法。
実施形態94.アセトンの体積と水の体積との比が、95/5である、実施形態93による方法。
実施形態95.実施形態84から94のいずれか1つによる方法によって得られる式(I)の化合物の形態2。
実施形態96.実施形態77から83又は95のいずれか1つによる式(I)の化合物の形態2を組み合わせることから形成された式(I)の化合物、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を含む医薬組成物。
実施形態97.実施形態77から83又は95のいずれか1つによる式(I)の化合物の形態2を組み合わせることから形成された式(I)の化合物、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分からなる医薬組成物。
実施形態98.実施形態77から83又は95のいずれか1つによる式(I)の化合物の形態2を組み合わせることから形成された式(I)の化合物、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分から本質的になる医薬組成物。
本明細書における本開示が、より完全に理解され得るために、以下の実施例が説明されている。これらの実施例は、例示的な目的だけのためであり、いかなる方式においてもこの開示を限定すると解釈されるべきでないと理解されるべきである。
略語
以下の略語が本明細書において使用されている:
ACN: アセトニトリル
DCM: ジクロロメタン
DMF: N,N-ジメチルホルムアミド
DMSO: ジメチルスルホキシド
DSC: 示差走査熱量測定
DVS: 動的蒸気収着
EtOH: エタノール
EtOAc: 酢酸エチル
Et2O: ジエチルエーテル
HFIPA: 1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノール
HPLC: 高速液体クロマトグラフィー
MeOH: メタノール
MEK: メチルエチルケトン
2-MeTHF: 2-メチルテトラヒドロフラン
NMR: 核磁気共鳴
2-PrOH: 2-プロパノール
TG: 熱重量
THF: テトラヒドロフラン
TFE: 2,2,2-トリフルオロエタノール
UPLC: 超高速液体クロマトグラフィー
XRPD: X線粉末回折
以下の略語が本明細書において使用されている:
ACN: アセトニトリル
DCM: ジクロロメタン
DMF: N,N-ジメチルホルムアミド
DMSO: ジメチルスルホキシド
DSC: 示差走査熱量測定
DVS: 動的蒸気収着
EtOH: エタノール
EtOAc: 酢酸エチル
Et2O: ジエチルエーテル
HFIPA: 1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノール
HPLC: 高速液体クロマトグラフィー
MeOH: メタノール
MEK: メチルエチルケトン
2-MeTHF: 2-メチルテトラヒドロフラン
NMR: 核磁気共鳴
2-PrOH: 2-プロパノール
TG: 熱重量
THF: テトラヒドロフラン
TFE: 2,2,2-トリフルオロエタノール
UPLC: 超高速液体クロマトグラフィー
XRPD: X線粉末回折
本開示の式(I)の化合物を調製する一般的方法及び実験詳細は、下記に説明されている。
X線粉末回折
Rigaku Smart-Lab X線回折システムを、線供給源X線ビームを使用する反射Bragg-Brentanoジオメトリー用に構成した。X線供給源は、40kV及び44maで作動するCu Long Fine Focusチューブであった。その供給源は、高角度での狭い線から低角度での広い長方形に変化する入射ビームプロファイル(試料で)を提供した。ビームコンディショニングスリットをX線供給源上で使用して、最大ビームサイズが、系統に沿って及び系統に垂直の両方で10mm未満であることを確実にした。Rigaku Smart-Labは、0.1度2シータ以下のピーク幅を与えるように作動させた。X線ビームの軸発散を、入射及び回折ビーム進路の両方において5.0度のソーラースリットによって制御した。
Rigaku Smart-Lab X線回折システムを、線供給源X線ビームを使用する反射Bragg-Brentanoジオメトリー用に構成した。X線供給源は、40kV及び44maで作動するCu Long Fine Focusチューブであった。その供給源は、高角度での狭い線から低角度での広い長方形に変化する入射ビームプロファイル(試料で)を提供した。ビームコンディショニングスリットをX線供給源上で使用して、最大ビームサイズが、系統に沿って及び系統に垂直の両方で10mm未満であることを確実にした。Rigaku Smart-Labは、0.1度2シータ以下のピーク幅を与えるように作動させた。X線ビームの軸発散を、入射及び回折ビーム進路の両方において5.0度のソーラースリットによって制御した。
試料表面を平らに且つ試料ホルダーの参照表面と同じレベルに保持するために軽い手動圧力を使用して、粉末試料を低バックグラウンドSi保持器中で調製した。0.02度2シータの有効ステップサイズで、1分当たり6度2シータの連続走査を使用して、各試料を2度から40度2シータで分析した。
示差走査熱量測定
TA Instruments Q2000機器を用いて、DSC分析を実施した。インジウム試料を使用して、機器温度較正を行った。DSC細胞を、各分析中、約50mL/分の窒素パージ下で保持した。試料を標準的な圧着アルミニウムパンに入れ、10℃/分の速度で25℃から350℃に加熱した。
TA Instruments Q2000機器を用いて、DSC分析を実施した。インジウム試料を使用して、機器温度較正を行った。DSC細胞を、各分析中、約50mL/分の窒素パージ下で保持した。試料を標準的な圧着アルミニウムパンに入れ、10℃/分の速度で25℃から350℃に加熱した。
熱重量分析
TA Instruments Q50機器を使用して、熱重量分析を実施した。クラスM重量を使用して、機器バランスを較正し、アルメルを使用して、温度較正を行った。窒素パージは、該バランスで約40mL/分及び炉で約60mL/分であった。各試料を事前計量された白金パンに入れ、10℃/分の速度で20℃から350℃に加熱した。
TA Instruments Q50機器を使用して、熱重量分析を実施した。クラスM重量を使用して、機器バランスを較正し、アルメルを使用して、温度較正を行った。窒素パージは、該バランスで約40mL/分及び炉で約60mL/分であった。各試料を事前計量された白金パンに入れ、10℃/分の速度で20℃から350℃に加熱した。
動的蒸気収着分析
TA Instruments Q5000動的蒸気収着分析器を使用して、DVS分析を実施した。標準重量及び湿度用の臭化ナトリウム標準を用いて、機器を較正した。およそ10～25mgの試料を、分析のために、金属コーティングされた石英パン中に充填した。5%から95% RH (吸着サイクル)及び95%から5% RH (脱着サイクル)の10%相対湿度(RH)ステップにおいて、試料を1時間の最大平衡時間にて25℃で分析した。0.01%重量変化の平衡判断基準を満たした後又は平衡判断基準を満たなかったならば1時間後のいずれかで、1つのステップから次のステップへの移動が起こった。Microsoft Excel(登録商標)を使用して、パーセント重量変化値を算出した。
TA Instruments Q5000動的蒸気収着分析器を使用して、DVS分析を実施した。標準重量及び湿度用の臭化ナトリウム標準を用いて、機器を較正した。およそ10～25mgの試料を、分析のために、金属コーティングされた石英パン中に充填した。5%から95% RH (吸着サイクル)及び95%から5% RH (脱着サイクル)の10%相対湿度(RH)ステップにおいて、試料を1時間の最大平衡時間にて25℃で分析した。0.01%重量変化の平衡判断基準を満たした後又は平衡判断基準を満たなかったならば1時間後のいずれかで、1つのステップから次のステップへの移動が起こった。Microsoft Excel(登録商標)を使用して、パーセント重量変化値を算出した。
光学顕微鏡法
Leica DM 2500 P複合顕微鏡を用いて、光学顕微鏡法実験を実施した。試料をスライドガラス上に置き、QImaging MicroPublisher 3.3 RTVカメラを使用して、画像を捕捉した。画像を10x倍率で収集した。
Leica DM 2500 P複合顕微鏡を用いて、光学顕微鏡法実験を実施した。試料をスライドガラス上に置き、QImaging MicroPublisher 3.3 RTVカメラを使用して、画像を捕捉した。画像を10x倍率で収集した。
核磁気共鳴分光法
溶液相プロトンNMR (1H-NMR)スペクトルをBruker DRX-500分光計上で獲得した。材料をDMSO-d6中に溶解させること、濾過すること、及び後続のスペクトル獲得のために試料を個々の5mmのNMRチューブに入れることによって、試料を調製した。温度を298Kで維持した。499.89MHzの観測周波数で作動する5mmクライオプローブを使用した。
溶液相プロトンNMR (1H-NMR)スペクトルをBruker DRX-500分光計上で獲得した。材料をDMSO-d6中に溶解させること、濾過すること、及び後続のスペクトル獲得のために試料を個々の5mmのNMRチューブに入れることによって、試料を調製した。温度を298Kで維持した。499.89MHzの観測周波数で作動する5mmクライオプローブを使用した。
超高速液体クロマトグラフィー
式(I)の化合物又は式(I)の化合物のジアセテート塩の純度を、超高速液体クロマトグラフィーを使用して決定した。機器及びカラムについての明細は、表1に示されている。
式(I)の化合物又は式(I)の化合物のジアセテート塩の純度を、超高速液体クロマトグラフィーを使用して決定した。機器及びカラムについての明細は、表1に示されている。
移動相Aは、トリフルオロ酢酸の0.1% (v:v)水溶液である。移動相Bは、90体積%のアセトニトリル及び10体積%の移動相Aの混合物である。以下の式を使用して、式(I)の化合物の純度及び不純物の量を算出した:
a.純度
以下の式を使用して、各試料における式(I)の化合物のパーセントを算出した:
a.純度
以下の式を使用して、各試料における式(I)の化合物のパーセントを算出した:
As=試験された試料のピーク面積
Aw=作業標準の全ての注入の平均ピーク面積
Cw=作業標準の濃度(μg/mL)
Cs=試験された試料の濃度(μg/mL)
b.不純物
以下の式を使用して、各試料における各不純物のパーセントを算出した:
As=試験された試料における不純物のピーク面積
Aw=作業標準の全ての注入の平均ピーク面積
Cw=作業標準の濃度(μg/mL)
Cs=試験された試料の濃度(μg/mL)
[実施例1]
多形スクリーニング
式(I)の化合物を、表1に示されている通り、様々な溶媒及び条件に曝露して、式(I)の化合物の任意の多形特性を検出及び決定した。各実験から得られた試料をXRPDによって分析し、結果及び対応する図は、表2の右手欄にリストされている。
多形スクリーニング
式(I)の化合物を、表1に示されている通り、様々な溶媒及び条件に曝露して、式(I)の化合物の任意の多形特性を検出及び決定した。各実験から得られた試料をXRPDによって分析し、結果及び対応する図は、表2の右手欄にリストされている。
式(I)の化合物は、驚くべきことに且つ予想外にも、3つの固体形態:形態1(低結晶性)、形態2(結晶性)及び非結晶性で存在することが見出された。図60は、以下から得られた式(I)の化合物の試料のXRPDパターンのオーバーレイ比較を示す:アセトン/水スラリー(トレースA;形態2);アセトニトリルスラリー(トレースB;形態1);エーテルスラリー(トレースC;形態1); 2,2,2-トリフルオロエタノール蒸発(トレースD;形態1);及び実施例4(トレースE;形態1)の方法と同様の合成方法。
[実施例2]
固体形態の特徴付け
実施例1に考察されている通り、驚くべきことに且つ予想外にも、式(I)の化合物は、3つの固体状態形態:形態1(低結晶性)、形態2(結晶性)及び非結晶性で存在することができることが発見された。形態1及び形態2を本明細書に記載されている分析方法に従って特徴付けた。
固体形態の特徴付け
実施例1に考察されている通り、驚くべきことに且つ予想外にも、式(I)の化合物は、3つの固体状態形態:形態1(低結晶性)、形態2(結晶性)及び非結晶性で存在することができることが発見された。形態1及び形態2を本明細書に記載されている分析方法に従って特徴付けた。
式(I)の化合物の形態1
7日間55℃でアセトニトリル及び式(I)の化合物のスラリーを撹拌することから、形態1を得た。
7日間55℃でアセトニトリル及び式(I)の化合物のスラリーを撹拌することから、形態1を得た。
X線粉末回折
生成物を、X線粉末回折を使用して分析した。図30は、この試料についてのXRPDパターンを示す。XRPDパターンに基づき、この試料を形態1であると決定した。形態1のこの試料についてのXRPディフラクトグラムにおけるシグナルの位置及び相対強度のリストは、下記、表3にある。
生成物を、X線粉末回折を使用して分析した。図30は、この試料についてのXRPDパターンを示す。XRPDパターンに基づき、この試料を形態1であると決定した。形態1のこの試料についてのXRPディフラクトグラムにおけるシグナルの位置及び相対強度のリストは、下記、表3にある。
示差走査熱量測定
形態1を示差走査熱量測定にかけた。図61は、この形態についてのDSCトレースを示す。吸熱は、187.4℃でのショルダーと一緒に、139.1℃及び191.6℃で観察された。
形態1を示差走査熱量測定にかけた。図61は、この形態についてのDSCトレースを示す。吸熱は、187.4℃でのショルダーと一緒に、139.1℃及び191.6℃で観察された。
動的蒸気収着
形態1を動的蒸気収着によって分析した。図62は、形態1のこの試料についてのDVSトレースを示す。以下の重量変化が観察された: 5%相対湿度での乾燥で0.6%重量損失; 5%から95%相対湿度で循環させた場合に13.04%重量増加;及び95%から5%相対湿度で循環させた場合に13.12%重量損失。
形態1を動的蒸気収着によって分析した。図62は、形態1のこの試料についてのDVSトレースを示す。以下の重量変化が観察された: 5%相対湿度での乾燥で0.6%重量損失; 5%から95%相対湿度で循環させた場合に13.04%重量増加;及び95%から5%相対湿度で循環させた場合に13.12%重量損失。
DVS後のX線粉末回折分析
形態1をDVS循環にかけた後、X線粉末回折を使用してそれを分析した。図63は、この試料についてのXRPDパターンを示す。それは、DVS分析の前の同じ試料のXRPD分析と比べて変化していないことが見出された(図30を参照されたい)。
形態1をDVS循環にかけた後、X線粉末回折を使用してそれを分析した。図63は、この試料についてのXRPDパターンを示す。それは、DVS分析の前の同じ試料のXRPD分析と比べて変化していないことが見出された(図30を参照されたい)。
1H核磁気共鳴分光法
形態1を1H-NMR分光法によって分析した。図64及び65は、得られたスペクトルを示す。1H-NMRスペクトルは、式(I)の化合物の構造と一致した(2.5ppm未満の一部の不純物からのシグナルが存在した)。
形態1を1H-NMR分光法によって分析した。図64及び65は、得られたスペクトルを示す。1H-NMRスペクトルは、式(I)の化合物の構造と一致した(2.5ppm未満の一部の不純物からのシグナルが存在した)。
式(I)の化合物の形態2
室温で7日間、アセトン/水(95/5、v/v)及び式(I)の化合物のスラリーを撹拌することから、式(I)の化合物の形態2を得た。
室温で7日間、アセトン/水(95/5、v/v)及び式(I)の化合物のスラリーを撹拌することから、式(I)の化合物の形態2を得た。
X線粉末回折
生成物を、X線粉末回折を使用して分析した。図54は、この試料についてのXRPDパターンを示す。XRPDパターンに基づき、この試料を形態2であると決定した。形態2のこの試料についてのXRPディフラクトグラムにおけるシグナルの位置及び相対強度のリストは、下記、表4にある。
生成物を、X線粉末回折を使用して分析した。図54は、この試料についてのXRPDパターンを示す。XRPDパターンに基づき、この試料を形態2であると決定した。形態2のこの試料についてのXRPディフラクトグラムにおけるシグナルの位置及び相対強度のリストは、下記、表4にある。
示差走査熱量測定
形態2を示差走査熱量測定によって分析した。図66は、この試料についてのDSCトレースを示す。吸熱は、75.4℃及び181.3℃で観察された。
形態2を示差走査熱量測定によって分析した。図66は、この試料についてのDSCトレースを示す。吸熱は、75.4℃及び181.3℃で観察された。
熱重量分析
形態2を熱重量分析によって分析した。図66は、この試料についてのTGAトレースを示す。室温から100℃に加熱した場合に9.2%の重量損失が観察され、これは、4.5モルの水又は1.4モルのアセトンの損失を示すことができる。
形態2を熱重量分析によって分析した。図66は、この試料についてのTGAトレースを示す。室温から100℃に加熱した場合に9.2%の重量損失が観察され、これは、4.5モルの水又は1.4モルのアセトンの損失を示すことができる。
動的蒸気収着
形態2を動的蒸気収着によって分析した。図67は、この試料についてのDVSトレースを示す。以下の重量変化が観察された: 5%相対湿度での乾燥で1.44%重量損失; 5%から95%相対湿度で循環させた場合に7.2%重量増加;及び95%から5%相対湿度で循環させた場合に14.63%重量損失。
形態2を動的蒸気収着によって分析した。図67は、この試料についてのDVSトレースを示す。以下の重量変化が観察された: 5%相対湿度での乾燥で1.44%重量損失; 5%から95%相対湿度で循環させた場合に7.2%重量増加;及び95%から5%相対湿度で循環させた場合に14.63%重量損失。
DVS後のX線粉末回折分析
形態2の試料をDVS循環にかけた後、X線粉末回折を使用してそれを分析した。図68は、この試料についてのXRPDパターンを示す。試料は、DVS分析の前の同じ試料のXRPD分析と比べて、結晶性でないことが見出された(図54を参照されたい)。
形態2の試料をDVS循環にかけた後、X線粉末回折を使用してそれを分析した。図68は、この試料についてのXRPDパターンを示す。試料は、DVS分析の前の同じ試料のXRPD分析と比べて、結晶性でないことが見出された(図54を参照されたい)。
加熱後のX線粉末回折分析
形態2の試料を80℃で20分間加熱した。冷却した後、X線粉末回折を使用して試料を分析した。図69は、この試料についてのXRPDパターンを示す。試料は、DVS分析の前の同じ試料よりも結晶性でないことが見出された(図54を参照されたい)。
形態2の試料を80℃で20分間加熱した。冷却した後、X線粉末回折を使用して試料を分析した。図69は、この試料についてのXRPDパターンを示す。試料は、DVS分析の前の同じ試料よりも結晶性でないことが見出された(図54を参照されたい)。
1H核磁気共鳴分光法
形態2を1H-NMR分光法によって分析した。図70及び71は、得られたスペクトルを示す。1H-NMRスペクトルは、式(I)の化合物の構造と一致する(不純物からの一部のシグナルは、2.5ppm未満で存在する)。1H-NMRスペクトルは、1.3モルのアセトンの存在も示し、形態2がアセトン溶媒和物であることを示唆している。
形態2を1H-NMR分光法によって分析した。図70及び71は、得られたスペクトルを示す。1H-NMRスペクトルは、式(I)の化合物の構造と一致する(不純物からの一部のシグナルは、2.5ppm未満で存在する)。1H-NMRスペクトルは、1.3モルのアセトンの存在も示し、形態2がアセトン溶媒和物であることを示唆している。
[実施例3]
式(I)の化合物の特徴付け
実施例4の方法と同様の方法によって合成された式(I)の化合物の単離された試料を、本明細書に記載されている方法によって分析した。
式(I)の化合物の特徴付け
実施例4の方法と同様の方法によって合成された式(I)の化合物の単離された試料を、本明細書に記載されている方法によって分析した。
X線粉末回折
X線粉末回折を使用して、式(I)の化合物を分析した。図72は、この試料についてのXRPDパターンを示す。XRPDパターンに基づき、この試料を形態1であると決定した。ピークリスティングは、下記、表5に示されている。
X線粉末回折を使用して、式(I)の化合物を分析した。図72は、この試料についてのXRPDパターンを示す。XRPDパターンに基づき、この試料を形態1であると決定した。ピークリスティングは、下記、表5に示されている。
示差走査熱量測定
式(I)の化合物を示差走査熱量測定にかけた。図73は、この試料についてのDSCトレースを示す。吸熱は、140.8℃及び192.0℃で観察された。
式(I)の化合物を示差走査熱量測定にかけた。図73は、この試料についてのDSCトレースを示す。吸熱は、140.8℃及び192.0℃で観察された。
熱重量分析
式(I)の化合物を熱重量分析にかけた。図73は、この試料についてのTGAトレースを示す。室温から180℃に加熱した場合に、1.2%の重量損失が観察された。
式(I)の化合物を熱重量分析にかけた。図73は、この試料についてのTGAトレースを示す。室温から180℃に加熱した場合に、1.2%の重量損失が観察された。
動的蒸気収着
式(I)の化合物を動的蒸気収着分析にかけた。図74は、この試料についてのDVSトレースを示す。以下の重量変化が観察された: 5%相対湿度での乾燥で0.66%重量損失; 5%から95%相対湿度で循環させた場合に16.36%重量増加;及び95%から5%相対湿度で循環させた場合に15.51%重量損失。
式(I)の化合物を動的蒸気収着分析にかけた。図74は、この試料についてのDVSトレースを示す。以下の重量変化が観察された: 5%相対湿度での乾燥で0.66%重量損失; 5%から95%相対湿度で循環させた場合に16.36%重量増加;及び95%から5%相対湿度で循環させた場合に15.51%重量損失。
DVS後のX線粉末回折分析
式(I)の化合物をDVS循環にかけた後、X線粉末回折を使用して、それを分析した。図75は、この試料についてのXRPDパターンを示す。それは、DVS分析の前の同じ試料のXRPD分析と比べて変化していないことが見出された(図72を参照されたい)。
式(I)の化合物をDVS循環にかけた後、X線粉末回折を使用して、それを分析した。図75は、この試料についてのXRPDパターンを示す。それは、DVS分析の前の同じ試料のXRPD分析と比べて変化していないことが見出された(図72を参照されたい)。
光学顕微鏡法
顕微鏡を10x倍率で使用して、式(I)の化合物を検査した。図76A、76B、77A及び77Bは、単離された固体を示す。
顕微鏡を10x倍率で使用して、式(I)の化合物を検査した。図76A、76B、77A及び77Bは、単離された固体を示す。
1H核磁気共鳴分光法
式(I)の化合物を1H-NMR分光法によって分析した。図78及び79は、得られたスペクトルを示す。1H-NMRスペクトルは、式(I)の化合物の構造と一致する(一部の不純物からのシグナルが、2.5ppm未満で出現する)。
式(I)の化合物を1H-NMR分光法によって分析した。図78及び79は、得られたスペクトルを示す。1H-NMRスペクトルは、式(I)の化合物の構造と一致する(一部の不純物からのシグナルが、2.5ppm未満で出現する)。
可溶性測定
式(I)の化合物の試料の質量を決定し、その試料に、表5に示されている通り溶媒のアリコートを添加した。視覚検査を使用して、溶解が起こったかどうかを決定した。試料の重量を、試料を溶解するために使用された溶媒の総量で割ることによって、各溶媒における式(I)の化合物の可溶性を算出した。表6は、各溶媒における式(I)の化合物の可溶性をリストしている。
式(I)の化合物の試料の質量を決定し、その試料に、表5に示されている通り溶媒のアリコートを添加した。視覚検査を使用して、溶解が起こったかどうかを決定した。試料の重量を、試料を溶解するために使用された溶媒の総量で割ることによって、各溶媒における式(I)の化合物の可溶性を算出した。表6は、各溶媒における式(I)の化合物の可溶性をリストしている。
[実施例4]
式(I)の化合物の合成
下記のスキーム1は、式(I)の化合物の合成を図示している。
式(I)の化合物の合成
下記のスキーム1は、式(I)の化合物の合成を図示している。
4-ブロモ-1,8-ナフタル酸無水物の調製
ジメチルアセトアミド(5体積)及び4-ブロモ-1,8-ナフタル酸無水物(1当量)を合わせ、およそ1時間の間、70℃に加熱しながら撹拌した。加熱した後、混合物を室温に冷却させ、終夜撹拌した。結果として得られた混合物を濾過し、フィルターケーキをジメチルアセトアミド(1.5体積)、続いて、tert-ブチルメチルエーテル(4体積)で洗浄した。回収された固体材料を次いで、真空オーブン内にて65℃で一定重量に乾燥させて、標題化合物を得た。
ジメチルアセトアミド(5体積)及び4-ブロモ-1,8-ナフタル酸無水物(1当量)を合わせ、およそ1時間の間、70℃に加熱しながら撹拌した。加熱した後、混合物を室温に冷却させ、終夜撹拌した。結果として得られた混合物を濾過し、フィルターケーキをジメチルアセトアミド(1.5体積)、続いて、tert-ブチルメチルエーテル(4体積)で洗浄した。回収された固体材料を次いで、真空オーブン内にて65℃で一定重量に乾燥させて、標題化合物を得た。
2,2'-((エタン-1,2-ジイルビス(オキシ))ビス(エタン-2,1-ジイル))ビス(6-ブロモ-1H-ベンゾ[de]イソキノリン-1,3(2H)-ジオン)の調製
4-ブロモ-1,8-ナフタル酸無水物(2.5当量)及びジメチルアセトアミド(8体積)の混合物に、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(2.5当量)を添加した。混合物を次いで、5±5℃に冷却した。2,2'(エチレンジオキシ)-ビス(エチルアミン)(1当量)及びジメチルアセトアミド(3体積)の混合物を次いで、4-ブロモ-1,8-ナフタル酸無水物の予冷混合物に、合わせた混合物の温度を25℃以下に維持する速度で添加した。添加を完了させた後、結果として得られた混合物を終夜(少なくとも12時間)室温で撹拌した。混合物を次いで、80℃で6時間の間撹拌した。結果として得られたスラリーを熱濾過し、フィルターケーキをジメチルアセトアミド(各々3体積で4回の洗浄)、及び次いでtert-ブチルメチルエーテル(各々3体積で4回の洗浄)で洗浄した。回収された材料を次いで、真空オーブン内にて45℃で一定重量に乾燥させて、標題化合物を得た。
式(I)の化合物の調製
ステップ3
2,2'-((エタン-1,2-ジイルビス(オキシ))ビス(エタン-2,1-ジイル))ビス(6-ブロモ-1H-ベンゾ[de]イソキノリン-1,3(2H)-ジオン)(ステップ2から使用された材料)、トルエン(20体積)及び2,2'(エチレンジオキシ)ビス(エチルアミン)(20体積)の混合物を、80℃で少なくとも24時間の間撹拌した。冷却してすぐに、混合物を少なくとも48時間の間撹拌した。結果として得られたスラリーを次いで濾過し、トルエン(各々7体積で3回の洗浄)及び次いでアセトニトリル(7体積で4回の洗浄)で洗浄した。フィルター上にある間窒素流でブローされることによって、単離されたケーキを乾燥させ、材料を周囲光から遮蔽した。単離された材料のアセトニトリル含有量を、ガスクロマトグラフィーを介して決定した。全体的収率(即ち、ステップ1～3)は、約40.5%から約44.5%の範囲であった。対照的に、式(I)の化合物の他の合成は、ずっと低い収率で所望の材料を与えた。例えば、米国特許第6,410,505号のコラム9～10を参照されたい(ワンポット方法で達成された23%の収率を報告している)。
ステップ3
2,2'-((エタン-1,2-ジイルビス(オキシ))ビス(エタン-2,1-ジイル))ビス(6-ブロモ-1H-ベンゾ[de]イソキノリン-1,3(2H)-ジオン)(ステップ2から使用された材料)、トルエン(20体積)及び2,2'(エチレンジオキシ)ビス(エチルアミン)(20体積)の混合物を、80℃で少なくとも24時間の間撹拌した。冷却してすぐに、混合物を少なくとも48時間の間撹拌した。結果として得られたスラリーを次いで濾過し、トルエン(各々7体積で3回の洗浄)及び次いでアセトニトリル(7体積で4回の洗浄)で洗浄した。フィルター上にある間窒素流でブローされることによって、単離されたケーキを乾燥させ、材料を周囲光から遮蔽した。単離された材料のアセトニトリル含有量を、ガスクロマトグラフィーを介して決定した。全体的収率(即ち、ステップ1～3)は、約40.5%から約44.5%の範囲であった。対照的に、式(I)の化合物の他の合成は、ずっと低い収率で所望の材料を与えた。例えば、米国特許第6,410,505号のコラム9～10を参照されたい(ワンポット方法で達成された23%の収率を報告している)。
ステップ4
ステップ3の生成物を水(10体積)及びアセトニトリルと組み合わせた(ステップ3の生成物に存在すると決定された量と組み合わされた場合に10体積のアセトニトリルの合計をもたらすために、十分な追加のアセトニトリルを添加した)。混合物を次いで加熱して、還流させ(およそ80℃)、その温度で15～20分間維持した。加熱及びかき混ぜを停止し、混合物を室温に40時間かけて冷却した。スラリーを窒素下で濾過し、光から遮蔽した。フィルターケーキを次いで、アセトニトリル/水混合物(3体積、1/1)で3回洗浄した。洗浄及び濾過の後、材料の収率をUPLCによって約92.7%の純度で約59%であると決定した。ESI m/z: 401.4 [M+H]+。図80は、単離された材料の1H-NMRスペクトルを示す。
ステップ3の生成物を水(10体積)及びアセトニトリルと組み合わせた(ステップ3の生成物に存在すると決定された量と組み合わされた場合に10体積のアセトニトリルの合計をもたらすために、十分な追加のアセトニトリルを添加した)。混合物を次いで加熱して、還流させ(およそ80℃)、その温度で15～20分間維持した。加熱及びかき混ぜを停止し、混合物を室温に40時間かけて冷却した。スラリーを窒素下で濾過し、光から遮蔽した。フィルターケーキを次いで、アセトニトリル/水混合物(3体積、1/1)で3回洗浄した。洗浄及び濾過の後、材料の収率をUPLCによって約92.7%の純度で約59%であると決定した。ESI m/z: 401.4 [M+H]+。図80は、単離された材料の1H-NMRスペクトルを示す。
[実施例5]
式(I)の化合物のジアセテート塩の合成
実施例4の方法から得られた式(I)の化合物(1当量)、水(20体積)及び酢酸(2当量)の混合物を室温で少なくとも5時間の間撹拌した。結果として得られたスラリーをセライトパッドに通して濾過し、セライトパッドを水(約0.5～1体積)で洗浄した。UPLCを使用して、濾液の純度を判定し、約90%であると決定した。
式(I)の化合物のジアセテート塩の合成
実施例4の方法から得られた式(I)の化合物(1当量)、水(20体積)及び酢酸(2当量)の混合物を室温で少なくとも5時間の間撹拌した。結果として得られたスラリーをセライトパッドに通して濾過し、セライトパッドを水(約0.5～1体積)で洗浄した。UPLCを使用して、濾液の純度を判定し、約90%であると決定した。
濾液を別のフラスコに移し、そのフラスコに、活性化炭素(当初添加された式(I)の化合物の量に対して0.1質量当量)を添加した。結果として得られた混合物を室温で少なくとも8時間の間撹拌した。撹拌が完了した後、混合物の純度をUPLCによって判定し、次いで、混合物をセライト(登録商標)パッドに通して、及び次いで0.2μmメンブランフィルターに通して濾過した。フィルターケーキを水(2体積)で洗浄した。
結果として得られた濾液を次いで凍結乾燥させて、標題化合物を黄色/オレンジ色の粉末として約70%の収率で得た。UPLCを使用して、純度を98%超であると決定した。図81は、単離された材料の1H-NMRスペクトルを示している。
[実施例6]
式(I)の化合物のジアセテート塩の精製
実施例5に従って生成された式(I)の化合物のジアセテート塩(活性化炭素を用いる処理の前)を、様々な量の活性化炭素に通す濾過にかけて、プロセス不純物の最小化及び/又は除去を研究した。表5は、様々な精製条件及び時間ポイントを提示しており、活性化炭素の変動する量を用いた式(I)の化合物のジアセテート塩の処理後に同定された様々な不純物の量を示している。驚くべきことに、活性化炭素の漸増量を用いた単離材料の処理は、不純物の総量の減少、及び一部の場合において、一部の不純物の排除に至ったことが見出された。純度を、本明細書に記載されている通りのUPLCを使用して判定した。この実施例の方法は、実施例7の方法よりも高い純度の、式(I)の化合物のジアセテート塩をもたらした。
式(I)の化合物のジアセテート塩の精製
実施例5に従って生成された式(I)の化合物のジアセテート塩(活性化炭素を用いる処理の前)を、様々な量の活性化炭素に通す濾過にかけて、プロセス不純物の最小化及び/又は除去を研究した。表5は、様々な精製条件及び時間ポイントを提示しており、活性化炭素の変動する量を用いた式(I)の化合物のジアセテート塩の処理後に同定された様々な不純物の量を示している。驚くべきことに、活性化炭素の漸増量を用いた単離材料の処理は、不純物の総量の減少、及び一部の場合において、一部の不純物の排除に至ったことが見出された。純度を、本明細書に記載されている通りのUPLCを使用して判定した。この実施例の方法は、実施例7の方法よりも高い純度の、式(I)の化合物のジアセテート塩をもたらした。
Claims (98)
- 2,2'-((エタン-1,2-ジイルビス(オキシ))ビス(エタン-2,1-ジイル))ビス(6-((2-(2-(2-アミノエトキシ)エトキシ)エチル)アミノ)-1H-ベンゾ[de]イソキノリン-1,3(2H)-ジオン)(「式(I)の化合物」)の形態1を作製する方法であって、式(I)の化合物及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から形態1を単離することを含む方法。
- 少なくとも1種の溶媒が、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロメタン、1,4-ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エタノール、酢酸エチル、ジエチルエーテル、メタノール、メチルエチルケトン、2-メチル-テトラヒドロフラン、2-プロパノール、テトラヒドロフラン、トルエン及び水から選択される、請求項1に記載の方法。
- 少なくとも1種の溶媒が、アセトニトリル、エタノール、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン及び水から選択される、請求項2に記載の方法。
- 少なくとも1種の溶媒が、第1の溶媒及び第2の溶媒を含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 少なくとも1種の第1の溶媒が、アセトニトリルであり、少なくとも1種の第2の溶媒が、水である、請求項2から4のいずれか一項に記載の方法。
- 少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比が、99/1から1/99の範囲である、請求項4又は5に記載の方法。
- 少なくとも1種の第1の溶媒の量と少なくとも1種の第2の溶媒の量との比が、5/1から1/5の範囲である、請求項6に記載の方法。
- 少なくとも1種の第1の溶媒の量と少なくとも1種の第2の溶媒の量との比が、1/1である、請求項7に記載の方法。
- 式(I)の化合物を作製する方法であって:
アセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化すること
を含む方法。 - 少なくとも1種の第1の溶媒が、アセトニトリルである、請求項9に記載の方法。
- 式Int-3:
の化合物及び式Int-2:
をさらに含む、請求項9に記載の方法。 - 式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、トルエン中で実施される、請求項11に記載の方法。
- 式Int-1:
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成すること
をさらに含む、請求項11に記載の方法。 - 式Int-1の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される、請求項13に記載の方法。
- 式Int-1の化合物が、式Int-2の化合物と組み合わせる前に再結晶化される、請求項13に記載の方法。
- アセトニトリルと水との比が、約99/1から約1/99である、請求項9から15のいずれか一項に記載の方法。
- アセトニトリルと水との比が、約1/1である、請求項9から16のいずれか一項に記載の方法。
- 第1の溶媒及び水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、合成収率の増加をもたらす、請求項9から17のいずれか一項に記載の方法。
- 第1の溶媒及び水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、式(I)の化合物の組成物中のプロセス不純物の減少をもたらす、請求項9から17のいずれか一項に記載の方法。
- プロセス不純物の濃度の減少をもたらす、請求項19に記載の方法。
- LCによって決定された場合に1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす、請求項19に記載の方法。
- より少ない数のプロセス不純物をもたらす、請求項19に記載の方法。
- 少なくとも3種少ないプロセス不純物をもたらす、請求項19に記載の方法。
- 式(I)の化合物の合成収率を改善する方法であって:
アセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化すること
を含む方法。 - 式Int-3:
の化合物及び式Int-2:
をさらに含む、請求項24に記載の方法。 - 式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、トルエン中で実施される、請求項25に記載の方法。
- 式Int-1:
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成すること
をさらに含む、請求項25に記載の方法。 - 式Int-1の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される、請求項27に記載の方法。
- 式Int-1の化合物が、式Int-2の化合物と組み合わせる前に再結晶化される、請求項27に記載の方法。
- アセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、合成収率の増加をもたらす、請求項24から29のいずれか一項に記載の方法。
- アセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、式(I)の化合物の組成物中のプロセス不純物の減少をもたらす、請求項24から29のいずれか一項に記載の方法。
- プロセス不純物の濃度の減少をもたらす、請求項31に記載の方法。
- LCによって決定された場合に1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす、請求項31に記載の方法。
- より少ない数のプロセス不純物をもたらす、請求項31に記載の方法。
- 少なくとも3種少ないプロセス不純物をもたらす、請求項31に記載の方法。
- 式(I)の化合物を含む組成物中のプロセス不純物を低減する方法であって:
アセトニトリル、エタノール、メチルエチルケトン及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化すること
を含む方法。 - 式Int-3:
の化合物及び式Int-2:
をさらに含む、請求項36に記載の方法。 - 式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、トルエン中で実施される、請求項37に記載の方法。
- 式Int-1:
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成すること
をさらに含む、請求項37に記載の方法。 - 式Int-1の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される、請求項39に記載の方法。
- 式Int-1の化合物が、式Int-2の化合物と組み合わせる前に再結晶化される、請求項39に記載の方法。
- アセトニトリル、エタノール、メチルエチルケトン及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、合成収率の増加をもたらす、請求項36から41のいずれか一項に記載の方法。
- アセトニトリル、エタノール、メチルエチルケトン及びテトラヒドロフランから選択される第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化することを含まない式(I)の化合物を作製する方法と比べて、式(I)の化合物の組成物中のプロセス不純物の減少をもたらす、請求項36から41のいずれか一項に記載の方法。
- プロセス不純物の濃度の減少をもたらす、請求項43に記載の方法。
- LCによって決定された場合に1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす、請求項43に記載の方法。
- より少ない数のプロセス不純物をもたらす、請求項43に記載の方法。
- 3種少ないプロセス不純物をもたらす、請求項43に記載の方法。
- 式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法であって:
式(I)の化合物のジアセテート塩、活性化炭素及び少なくとも1種の溶媒を含む混合物から式(I)の化合物のジアセテート塩を単離すること
を含む方法。 - 少なくとも1種の溶媒が、アセトニトリル、エタノール、テトラヒドロフラン及び水から選択される、請求項48に記載の方法。
- 少なくとも1種の溶媒が、水及びアセトニトリルを含む、請求項48に記載の方法。
- アセトニトリルの体積と水の体積との比が、99/1から1/99の範囲である、請求項50に記載の方法。
- アセトニトリルの体積と水の体積との比が、1/1である、請求項51に記載の方法。
- 式(I)の化合物のジアセテート塩を単離することが、少なくとも1種の濾過助剤を介して混合物を濾過することを含む、請求項48に記載の方法。
- 少なくとも1種の濾過助剤が、珪藻土及び少なくとも1種のメンブランフィルターから選択される、請求項53に記載の方法。
- 式(I)の化合物を少なくとも1種の酸と組み合わせること
をさらに含む、請求項48に記載の方法。 - 少なくとも1種の酸が、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、硝酸、酢酸、シュウ酸、酒石酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルコン酸、クエン酸、リンゴ酸、アスコルビン酸、安息香酸、タンニン酸、パルミチン酸、アルギン酸、ポリグルタミン酸、ナフタレンスルホン酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸及びポリガラクツロン酸から選択される、請求項55に記載の方法。
- 少なくとも1種の酸が、酢酸である、請求項55又は56に記載の方法。
- アセトニトリル、イソプロパノール、アセトン、エタノール及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1種の第1の溶媒並びに水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化すること
をさらに含む、請求項48に記載の方法。 - 第1の溶媒が、アセトニトリルである、請求項58に記載の方法。
- アセトニトリルの体積と水の体積との比が、10/1から1/10の範囲である、請求項58又は59に記載の方法。
- アセトニトリルの体積と水の体積との比が、1/1である、請求項58又は59に記載の方法。
- 式Int-3:
の化合物及び式Int-2:
をさらに含む、請求項48に記載の方法。 - 式Int-3の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、トルエン中で実施される、請求項62に記載の方法。
- 式Int-1:
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成すること
をさらに含む、請求項58に記載の方法。 - 式Int-1の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせることが、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、トリエチルアミン及び/又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン中で実施される、請求項64に記載の方法。
- 式Int-1の化合物が、式Int-2の化合物と組み合わせる前に再結晶化される、請求項64に記載の方法。
- 式(I)の化合物をスラリー化すること及び/又は式(I)の化合物のジアセテート塩を単離することを含まない式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法と比べて、合成収率の増加をもたらす、請求項48から66のいずれか一項に記載の方法。
- 式(I)の化合物をスラリー化すること及び/又は式(I)の化合物のジアセテート塩を単離することを含まない式(I)の化合物のジアセテート塩を作製する方法と比べて、式(I)の化合物のジアセテート塩を含む組成物中のプロセス不純物の減少をもたらす、請求項48から66のいずれか一項に記載の方法。
- プロセス不純物の濃度の減少をもたらす、請求項68に記載の方法。
- LCによって決定された場合に1%未満のプロセス不純物濃度をもたらす、請求項68に記載の方法。
- より少ない数のプロセス不純物をもたらす、請求項68に記載の方法。
- 3種少ないプロセス不純物をもたらす、請求項68に記載の方法。
- 請求項48から72のいずれか一項に記載の方法によって得られる式(I)の化合物のジアセテート塩。
- 請求項48から72のいずれか一項に記載の方法に従って生成される式(I)の化合物のジアセテート塩又は請求項73に記載の式(I)の化合物のジアセテート塩、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物のジアセテート塩を含む医薬組成物。
- 請求項48から72のいずれか一項に記載の方法に従って生成される式(I)の化合物のジアセテート塩又は請求項73に記載の式(I)の化合物のジアセテート塩、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物のジアセテート塩からなる医薬組成物。
- 請求項48から72のいずれか一項に記載の方法に従って生成される式(I)の化合物のジアセテート塩又は請求項73に記載の式(I)の化合物のジアセテート塩、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物のジアセテート塩から本質的になる医薬組成物。
- 式(I)の化合物の形態2。
- 請求項77に記載の式(I)の化合物の実質的に純粋な形態2。
- LCによって決定された場合に少なくとも98%純粋である、請求項77又は78に記載の式(I)の化合物の形態2。
- 実質的に図54に示されている通りのX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる、請求項77から79のいずれか一項に記載の式(I)の化合物の形態2。
- 5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7から選択される少なくとも3個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる、請求項77から80のいずれか一項に記載の式(I)の化合物の形態2。
- 5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7から選択される少なくとも5個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる、請求項77から81のいずれか一項に記載の式(I)の化合物の形態2。
- 5.6、7.6、10.2、10.6、12.4、15.1、17.0及び17.7から選択される少なくとも7個の2シータ値±0.2でシグナルを有するX線粉末ディフラクトグラムによって特徴付けられる、請求項77から82のいずれか一項に記載の式(I)の化合物の形態2。
- 式(I)の化合物の形態2を作製する方法であって、式(I)の化合物及び少なくとも1種の第1の溶媒を含む混合物から形態2を単離することを含む方法。
- 混合物が、少なくとも1種の第2の溶媒をさらに含む、請求項84に記載の方法。
- 少なくとも1種の第1の溶媒が、アセトンである、請求項84又は85に記載の方法。
- 少なくとも1種の第2の溶媒が、水である、請求項84から86のいずれか一項に記載の方法。
- 少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比が、1/1から99/1の範囲である、請求項85から87のいずれか一項に記載の方法。
- 少なくとも1種の第1の溶媒の体積と少なくとも1種の第2の溶媒の体積との比が、95/5である、請求項85から88のいずれか一項に記載の方法。
- 式(I)の化合物の形態2を作製する方法であって:
アセトン及び水を含む溶媒混合物中で式(I)の化合物をスラリー化すること
を含む方法。 - 式Int-3:
の化合物及び式Int-2:
をさらに含む、請求項90に記載の方法。 - 式Int-1:
の化合物及び式Int-2の化合物を組み合わせて、式Int-3の化合物を形成すること
をさらに含む、請求項91に記載の方法。 - アセトンの体積と水の体積との比が、99/1から1/99の範囲である、請求項90から92のいずれか一項に記載の方法。
- アセトンの体積と水の体積との比が、95/5である、請求項93に記載の方法。
- 請求項84から94のいずれか一項に記載の方法によって得られる式(I)の化合物の形態2。
- 請求項77から83又は95のいずれか一項に記載の式(I)の化合物の形態2、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物を含む医薬組成物。
- 請求項77から83又は95のいずれか一項に記載の式(I)の化合物の形態2、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物からなる医薬組成物。
- 請求項77から83又は95のいずれか一項に記載の式(I)の化合物の形態2、並びに薬学的に許容される担体、薬学的に許容されるビヒクル及び薬学的に許容される賦形剤から選択される少なくとも1つの追加構成成分を組み合わせることから形成される、式(I)の化合物から本質的になる医薬組成物。
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