JP2022507821A - 溶媒フリーの製剤およびナノコンポジット - Google Patents
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Abstract
Description
1. 少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶の分散物と、少なくとも1つのモノマー、オリゴマー、またはポリマーを含むマトリックスとを含む製剤であって、随意に、硬化剤、界面活性剤、湿潤剤、酸化防止剤、接着促進剤、レベリング剤、分散剤(dispersing agent)、可塑剤、強靭剤、増粘剤、希釈剤、分散剤(dispersant)、または柔軟剤、または有機ドーパント、または他の機能性添加剤をさらに含む製剤。
2. マトリックスが、1つまたは複数のアクリラートおよび/またはメタクリラートのモノマーと、反応性希釈剤と、硬化剤と、随意に、少なくとも1つの界面活性剤または湿潤剤とを含む、実施形態1に記載の製剤。
3. 前記金属酸化物ナノ結晶が、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ハフニウム、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化ニオブ、または前記酸化物の少なくとも2つの混合物である、実施形態1~2に記載の製剤。
4. 少なくとも部分的にキャップされたナノ結晶の平均粒径が、DLSまたはTEMで測定して、1~30nmの範囲、好ましくは20nm未満である、実施形態1~2のいずれか1つに記載の製剤。
5. 前記ナノ結晶が、メチルトリメトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、n-オクチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、m,p-エチルフェニルトリメトキシシラン、2-[メトキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]トリメトキシシラン、メトキシ(トリエチレンオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-(アクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、およびグリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、1-ヘキセニルトリメトキシシラン、1-オクテニルトリメトキシシラン、ヘプタノール、ヘキサノール、オクタノール、ベンジルアルコール、フェノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、オレイルアルコール、ドデシルアルコール、オクタデカノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、オクタン酸、酢酸、プロピオン酸、2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸、オレイン酸、安息香酸、ステアリン酸、トリフルオロ酢酸、ビフェニル-4-カルボン酸、2-(2-メトキシエトキシ)酢酸、メタクリル酸、コハク酸モノ-2-(メタクリロイルオキシ)エチル、またはそれらのいずれかの組み合わせからなる群から選択される少なくとも1つのキャップ剤を用いて少なくとも部分的にキャップされた、実施形態1~4に記載の製剤。
6. 実施形態1~5の製剤は、製剤の20から80wt%の範囲にある金属酸化物ナノ結晶の配合量を含む。
7. 前記金属酸化物ナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされた、実施形態1~6に記載の製剤であって、高屈折率の単官能性のアクリラートおよび/またはメタクリラートのモノマー、例えば、ベンジル(メト)アクリラート(BAおよびBMA)、エチレングリコールフェニルエーテル(メト)アクリラート(PEAおよびPEMA)、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メト)アクリラート(HPPAおよびHPPMA)、2-フェノキシベンジルアクリラート(PBA)、ビフェニルメタクリラート(BPMA)、2-フェニルフェノールメタクリラート(PPMA)、イソブチルアクリラート(IBA)、2-フェニルエチルアクリラート(2-PEA)、2-(フェニルチオ)エチルアクリラート(PTEA)、またはこれらの組み合わせをさらに含む製剤。
8. 金属酸化物ナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされた、実施形態1~7に記載の製剤であって、二、三、四、および五官能性のアクリラートおよび/またはメタシレートのモノマー、例えば、1,6-ヘキサンジオールジ(メト)アクリラート(HDDAおよびHDDMA)、ジ(エチレングリコール)ジ(メト)アクリラート(DEGDAおよびDEGDMA)、エチレングリコールジアクリラート、グリセロール1,3-ジグリセロラートジアクリラート、トリ(プロピレングリコール)ジアクリラート、トリメチロールプロパントリ(メト)アクリラート(TMPTA、TMPTMA)、トリメチロールプロパンエトキシラートトリ(メト)アクリラート(EOTMPTAおよびEOTMPTMA)、1,6-ヘキサンジオールエトキシラートジアクリラート、ペンタエリスリトールテトラアクリラート(PETA)、およびジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリラート(DPHA)をさらに含む製剤。
9. 金属酸化物ナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされた、実施形態1~8に記載の製剤であって、反応性希釈剤、例えば、1-ビニル-2-ピロリドン(NVP)、N-ビニルカプロラクタム、2-(2-ビニルオキシエトキシ)エチル(メト)アクリラート、イソブチルアクリラート、スチレン(STY)、4-メチルスチレン(4MS)、4-ビニルアニソール(4VA)、およびジビニルベンゼン(DVB)をさらに含む製剤。例えば、1-ビニル-2-ピロリドンが、表面硬化または粘着度を改善するために、実施形態1~8の製剤に添加される。反応性希釈剤の重量パーセントは、全モノマー含有量に対して10~80wt%である。反応性希釈剤の好ましい重量パーセントは、全モノマー含有量に対して25~70wt%である。
10. 金属酸化物ナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされた、実施形態1~9に記載の製剤であって、二、三、四官能性のチオール架橋剤、例えばトリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオナート)をさらに含む製剤。
11. 金属酸化物ナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされた、実施形態1~10に記載の製剤であって、硫黄含有性の市販の樹脂および接着剤、例えば#18109、#18165、および#6205(NTT-AT);ならびにルミプラス(LumipluS) LP-1100、LPB-1102、LPJ-1102、およびLPS-1130(三菱ガス化学(Mitsubishi Gas Chemical Company))をさらに含む製剤。
12. 金属酸化物ナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされた、実施形態1~11に記載の製剤であって、反応性有機ドーパント、例えばフェナントレン(PhA)、または9-ビニルカルバゾール(NVCb)をさらに含む製剤。有機ドーパントの濃度は1から50wt%の範囲である。
13. 金属酸化物ナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされた、実施形態1~12に記載の製剤であって、アクリラートモノマー系において非反応性または反応性のいずれかである、界面活性剤または界面活性剤の組み合わせ、例えばポリエーテル変性シロキサン、フッ素系界面活性剤、をさらに含む製剤。全製剤内の前記界面活性剤の濃度は、0.1~2.0wt%の範囲内である。前記界面活性剤の好ましい濃度は、0.5~1.0wt%の範囲内である。
14. 金属酸化物ナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされた、実施形態1~13に記載の製剤であって、随意に、散乱粒子、例えば二酸化チタン、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素と、低屈折率および高屈折率のポリマー粒子とをさらに含む製剤。散乱体粒子のサイズは、100~400nmの範囲である。全製剤中の前記散乱体の濃度は、0.1~30.0wt%の範囲である。前記散乱剤の好ましい濃度は、0.5~17.0wt%の範囲である。
15. 硬化剤または光開始剤、例えば、イルガキュア184(Irgacure 184)、イルガキュア819、TPO、エベルクリルP39(Ebercryl P39)、およびエベルクリルP115をさらに含む、実施形態1~14に記載の製剤。全製剤中の前記光開始剤の濃度は、モノマー含有量に対して0.1~20wt%の範囲内である。前記光開始剤の好ましい濃度は、モノマー含有量に対して1.0~4.0wt%の範囲内である。
16. 前記分散物が、ベンジルメタクリラート(BMA)またはトリメチロールプロパントリアクリラート(TMPTA)を含まない、実施形態1~15のいずれか1つに記載の製剤。
17. 前記製剤が溶媒不使用または溶媒フリーのものである、実施形態1~16のいずれか1つに記載の製剤。
18. 製剤の粘度が、ブルックフィールドRVDV II+(Brookfield RVDV II+)コーンプレート型粘度計を用いて25℃で測定した場合に、5~100cPの範囲内である、実施形態17に記載の溶媒フリーおよび/または溶媒不使用の製剤。25℃でインクジェット印刷にとって好ましい粘度は、5~20cPである。カートリッジ加熱が適用できる場合には、カートリッジ温度が35~100℃の場合、25℃での粘度は、15~100cPである。あるいは、製剤の粘度は、25℃で測定する場合には、5cP~10cP、または10cP~15cP、15cP~20cP、20cP~30cP、30cP~50cP、または50cP~100cPである。インクジェット印刷以外の堆積方法の場合には、粘度は、100cP~1,000cP、1,000cP~5,000cP、5,000cP~12,000cPの範囲である。
19. ナノ結晶配合量が、35~40重量%、40~45重量%、45~50重量%、50~55重量%、55~60重量%、60~65重量%、65~70重量%である、実施形態17~18のいずれか1つに記載の溶媒フリーおよび/または溶媒不使用の製剤。
20. 屈折率が、アッベ屈折計で測定して、589nmで1.52~1.56、1.56~1.58、1.58~1.60、1.60~1.62、または1.62~1.64、1.64~1.66、または1.66~1.68、または1.68~1.70、または1.70~1.72、または1.72~1.74、または1.76~1.78、または1.78~1.80、または1.80~1.82、または1.82~1.84、または1.84~1.86、または1.86~1.88、または1.88~1.90、または1.90~1.92、または1.92~1.94である、実施形態17~19のいずれか1つに記載の溶媒フリーおよび/または溶媒不使用の製剤。
21. 製剤の表面張力が、ラメ・ハート(Rame-Hart)表面張力計を用いて25℃で測定した場合に、20~25ダイン/cm、25~30ダイン/cm、30~35ダイン/cm、および35~40ダイン/cmの範囲内である、実施形態17~20のいずれか1つに記載の溶媒フリーおよび/または溶媒不使用の製剤。
22. 製剤の%Tが、可視波長(400~700nm)で99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である、実施形態17~21のいずれか1つに記載の溶媒フリーおよび/または溶媒不使用の製剤。
23. 製剤極性が少なくとも4.0~8.0%であることで、充分に高い濃度での適切な界面活性剤を用いたインクジェット印刷ヘッドのノズルプレートの濡れが、わずかまたはまったくないことを確実なものとする、実施形態1~22のいずれか1つに記載の製剤。良好なインクジェット品質にとっての最小極性値に関する同様の観察結果は、英国特許第GB2517592A号(Sericol Ltd,A.Runacre,M.Pemble,G.Osborne,25.02.2015)において言及された。極性は、表面張力の極性成分を製剤の全表面張力で割った比であると定義される。表面張力の極性成分は、オーウェンス、ウェント、ラベル、およびケーベルの方法(Owens,Wendt,Rabel and Kaelble method)(参照:https://www.kruss-scientific.com/services/education-theory/glossary/owens-wendt-rabel-and-kaelble-owrk-method/)の下でラメ・ハートゴニオメーターおよび表面張力計を用い、テフロン(登録商標)基材上で製剤の接触角と表面張力を測定することにより、決定される。表1に、様々なモノマーおよび製剤について、テフロン(登録商標)基材上の接触角、表面張力、および極性の測定値を表示する。
24. 実施形態1~23に記載の製剤は、ジマトリクスDMC(Dimatix DMC)、富士フィルムSG1024/MA(Fujifilm SG1024/MA)、コニカミノルタKM1024i(Konica Minolta KM1024i)などの印刷ヘッドタイプから、小液滴を、3~9m/sの滴下速度、6~40pLの小液滴体積で吐出することができるという点で、インクジェット印刷可能である。本発明に記載のものなどのインクジェット印刷可能な製剤の用途は、ブランケット・フィルム、特定のパターン、およびミクロンからミリメートルサイズのレンズを含む。
25. 実施形態1~24の製剤は、スピン塗布、スロットダイ塗布、スクリーン印刷、インクジェット印刷、ナノインプリント、フォトパターニング、3D印刷、浸漬塗布、ドロー・バー塗布、ロール・ツー・ロール印刷、噴霧塗布、分注、ボリューム・キャスティング(volume casting)、スクリーン印刷、およびそれらのいずれかの組み合わせを通じて堆積されてフィルムになる。
27. フィルム厚さが50ナノメートルから100マイクロメートルの範囲である、実施形態26に記載のナノコンポジット。好ましいフィルム厚さの値は、0.5~20マイクロメートルの範囲である。
28. 少なくとも1μmのフィルムが、5~4nm、または4~3nm、または3~2nm、または2~1nm、または1~0.5nm、または0.5~0.1nmの表面粗さを有する、実施形態26~27のいずれか1つに記載のナノコンポジット。
29. 塗膜またはフィルムが、端から中央まで高いフィルム均一性(または低いフィルム不均一性)を有する、実施形態26~28のいずれか1つに記載のナノコンポジット。フィルム不均一性は以下のように定義され:
30. 光学的に透明な親水性基材、例えば、溶融シリカ、ソーダライム、ホウケイ酸ガラス、ケイ酸アルミニウム、窒化ケイ素、酸化インジウムスズ基材などに、1~25に記載の製剤を塗布すること。逆に、ポリエチレンテレフタラート、ポリイミド、アクリルポリマー、環状オレフィンコポリマー、ポリカーボネート、ポリスチレン、シリコーンなどの光学的に透明な疎水性基材上に、1~25に記載の製剤を塗布すること。
31. 10ミクロン未満の厚さにおける硬化したナノコンポジットの%Tが、可視波長で99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である、実施形態26~29のいずれか1つに記載のナノコンポジット。
32. 硬化したナノコンポジットの屈折率が、550nmで1.54~1.56、1.56~1.58、1.58~1.60、1.60~1.62、または1.62~1.64、1.64~1.66、または1.66~1.68、または1.68~1.70、または1.70~1.72、または1.72~1.74、または1.76~1.78、または1.78~1.80、または1.80~1.82、または1.82~1.84、または1.84~1.86、または1.86~1.88、または1.88~1.90、または1.90~1.92、または1.92~1.94、または1.94~1.96、または1.96~1.98、または1.98~2.00である、実施形態26~29、および31のいずれか1つに記載のナノコンポジット。
ナノコンポジット製剤
ナノコンポジット
[1] 少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶と、少なくとも1つのモノマー、オリゴマー、またはポリマーを含むマトリックスとを含む製剤であって、例えば、少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶がマトリックス中に分散されており、金属酸化物が、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ハフニウム、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化ニオブ、または前記酸化物のうちの少なくとも2つの混合物である、5wt%未満の溶媒を含む製剤;
[2] 硬化剤、界面活性剤、湿潤剤、酸化防止剤、接着促進剤、レベリング剤、分散剤(dispersing agent)、可塑剤、強靭剤、増粘剤、希釈剤、分散剤(dispersant)、柔軟剤、有機ドーパント、およびその他の機能性添加剤から独立に選択される1つまたは複数の薬剤を随意にさらに含む、[1]に記載の製剤;
[3] マトリックスが、アクリラートおよび/またはメタクリラートのモノマーから独立に選択される1つまたは複数の薬剤と、反応性希釈剤と、硬化剤と、随意に、少なくとも1つの界面活性剤または少なくとも1つの湿潤剤とを含む、[1]に記載の製剤;
[4] 少なくとも部分的にキャップされたナノ結晶の平均粒径が、DLSまたはTEMで測定して、1~40nmの範囲、好ましくは30nm未満である、[1]~[3]のいずれか1つに記載の製剤;
[5] 前記ナノ結晶が、メチルトリメトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、n-オクチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、m,p-エチルフェニルトリメトキシシラン、2-[メトキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]トリメトキシシラン、メトキシ(トリエチレンオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-(アクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、およびグリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、1-ヘキセニルトリメトキシシラン、1-オクテニルトリメトキシシラン、ヘプタノール、ヘキサノール、オクタノール、ベンジルアルコール、フェノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、オレイルアルコール、ドデシルアルコール、オクタデカノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、オクタン酸、酢酸、プロピオン酸、2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸、オレイン酸、安息香酸、ステアリン酸、トリフルオロ酢酸、ビフェニル-4-カルボン酸、2-(2-メトキシエトキシ)酢酸、メタクリル酸、コハク酸モノ-2-(メタクリロイルオキシ)エチル、またはそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも1つのキャップ剤を用いて少なくとも部分的にキャップされた、[1]~[4]のいずれか1つに記載の製剤;
[6] 製剤の20wt%~80wt%の範囲にある金属酸化物ナノ結晶の配合量を有する、[1]~[5]のいずれか1つに記載の製剤;
[7] 高屈折率を有する単官能性のアクリラートおよび/またはメタクリラートのモノマー、例えば、ベンジルアクリラート、ベンジルメタクリラート(BAおよびBMA)、エチレングリコールフェニルエーテルアクリラート、エチレングリコールフェニルエーテルメタクリラート(PEAおよびPEMA)、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリラート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタクリラート(HPPAおよびHPPMA)、2-フェノキシベンジルアクリラート(PBA)、ビフェニルメタクリラート(BPMA)、2-フェニルフェノールメタクリラート(PPMA)、イソブチルアクリラート(IBA)、2-フェニルエチルアクリラート(2-PEA)、2-(フェニルチオ)エチルアクリラート(PTEA)、またはこれらの組み合わせをさらに含む、[1]~[6]のいずれか1つに記載の製剤;
[8] 二、三、四、および/または五官能性のアクリラートおよび/またはメタクリラートのモノマー、例えば、1,6-ヘキサンジオールジアクリラート、1,6-ヘキサンジオールジ-メタクリラート(HDDAおよびHDDMA)、ジ(エチレングリコール)ジアクリラート、ジ(エチレングリコール)ジメタクリラート(DEGDAおよびDEGDMA)、エチレングリコールジアクリラート、グリセロール1,3-ジグリセロラートジアクリラート、トリ(プロピレングリコール)ジアクリラート、トリ(プロピレングリコール)ジアクリラート、トリ(プロピレングリコール)ジアクリラート、トリメチロールプロパントリアクリラート、トリメチロールプロパントリ-メタクリラート(TMPTAおよびTMPTMA)、トリメチロールプロパンエトキシラートトリアクリラート、トリメチロールプロパンエトキシラートトリ-メタクリラート(EOTMPTAおよびEOTMPTMA)、1,6-ヘキサンジオールエトキシラートジアクリラート、ペンタエリスリトールテトラアクリラート(PETA)、ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリラート(DPHA)、またはこれらの組み合わせをさらに含む、[1]~[7]のいずれか1つに記載の製剤;
[9] 反応性希釈剤、例えば、1-ビニル-2-ピロリドン(NVP)、N-ビニルカプロラクタム、2-(2-ビニルオキシエトキシ)エチルアクリラート、2-(2-ビニルオキシエトキシ)エチルメタクリラート、イソブチルアクリラート、スチレン(STY)、4-メチルスチレン(4MS)、4-ビニルアニソール(4VA)、およびジビニルベンゼン(DVB)をさらに含む、[1]~[8]のいずれか1つに記載の製剤であって、反応性希釈剤の重量パーセントが、全モノマー含有量に対して25~70wt%である製剤;
[10] 二、三、および/または四官能性のチオール架橋剤、例えばトリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオナート)をさらに含む、[1]~[9]のいずれか1つに記載の製剤;
[11] 硫黄含有性の樹脂および/または接着剤、例えば硫黄含有性の市販の樹脂および/または接着剤、例えば#18109、#18165、#6205(NTT-AT)、ルミプラスLP-1100、LPB-1102、LPJ-1102、LPS-1130(三菱ガス化学)、またはそれらの組み合わせをさらに含む、[1]~[10]のいずれか1つに記載の製剤;
[12] 反応性有機ドーパント、例えばフェナントレン(PhA)または9-ビニルカルバゾール(NVCb)を、例えば1~50wt%の濃度範囲でさらに含む、[1]~[11]のいずれか1つに記載の製剤;
[13] アクリラートモノマー系において非反応性または反応性のいずれかである、界面活性剤または界面活性剤の組み合わせ、例えばポリエーテル変性シロキサン、フッ素系界面活性剤、をさらに含む、[1]~[12]のいずれか1つに記載の製剤であって、全製剤中の前記界面活性剤の濃度が、0.1~2.0wt%の範囲、または0.5~1.0wt%の範囲である製剤;
[14] 散乱粒子、例えば二酸化チタン、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、ならびに/または低いおよび高い屈折率のポリマー粒子を随意にさらに含む、[1]~[13]のいずれか1つに記載の製剤であって、散乱粒子サイズが100~400nmの範囲であり、全製剤中の前記散乱粒子の濃度が0.1~30.0wt%または0.5~17.0wt%の範囲である製剤;
[15] 硬化剤または光開始剤、例えばイルガキュア184、イルガキュア819、TPO、エベルクリルP39(Ebercryl P39)、および/またはエベルクリルP115をさらに含む、[1]~[14]のいずれか1つに記載の製剤であって、全製剤中の前記硬化剤または光開始剤の濃度が、モノマー含有量に対して0.1~20wt%または1.0~4.0wt%の範囲である製剤;
[16] ベンジルメタクリラート(BMA)またはトリメチロールプロパントリアクリラート(TMPTA)を含まない、[1]~[15]のいずれか1つに記載の製剤;
[17] 製剤の粘度が、ブルックフィールドRVDV II+(Brookfield RVDV II+)コーンプレート型粘度計を用いて25℃で測定した場合に、5~100cPの範囲内であり、25℃でインクジェット印刷向けに好ましい粘度が、5~20cPであり、カートリッジ加熱が適用できる場合には、カートリッジ温度が35~100℃の場合に、25℃での粘度が、15~100cPのものとすることができる、または製剤の粘度が、5cP~10cP、または10cP~15cP、15cP~20cP、20cP~30cP、30cP~50cP、または50cP~100cPであり、25℃で測定した場合に、インクジェット印刷以外の堆積方法向けには、粘度が、100cP~1,000cP、1,000cP~5,000cP、5,000cP~12,000cPの範囲のものとすることができる、[16]に記載の製剤;
[18] ナノ結晶配合量が、35~40重量%、40~45重量%、45~50重量%、50~55重量%、55~60重量%、60~65重量%、65~70重量%である、[17]に記載の製剤;
[19] 製剤の屈折率が、アッベ屈折計で測定して、589nmで1.52~1.56、1.56~1.58、1.58~1.60、1.60~1.62、または1.62~1.64、1.64~1.66、または1.66~1.68、または1.68~1.70、または1.70~1.72、または1.72~1.74、または1.76~1.78、または1.78~1.80、または1.80~1.82、または1.82~1.84、または1.84~1.86、または1.86~1.88、または1.88~1.90、または1.90~1.92、または1.92~1.94である、[17]~[18]のいずれか1つに記載の製剤;
[20] 製剤の表面張力が、ラメ・ハート(Rame-Hart)表面張力計を用いて25℃で測定した場合に、20~25ダイン/cm、25~30ダイン/cm、30~35ダイン/cm、または35~40ダイン/cmの範囲内である、[17]~[19]のいずれか1つに記載の製剤;
[21] 製剤の%Tが、可視波長(400~700nm)で99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である、[17]~[20]のいずれか1つに記載の製剤;
[22] ジマトリクスDMC、富士フィルムSG1024/MA、コニカミノルタKM1024iなどの印刷ヘッドタイプから、3~9m/sの滴下速度、6~40pLの小液滴体積で吐出することができる、インクジェット印刷可能な、例えば製剤の小液滴である、[1]~[21]のいずれか1つに記載の製剤;
[23] スピン塗布、スロットダイ塗布、スクリーン印刷、インクジェット印刷、ナノインプリント、フォトパターニング、3D印刷、浸漬塗布、ドロー・バー塗布、ロール・ツー・ロール印刷、噴霧塗布、分注、ボリューム・キャスティング、スクリーン印刷、またはそれらのいずれかの組み合わせを通じて、[1]~[22]のいずれか1つに記載の製剤を表面に塗布して、塗布された製剤を随意に硬化させることを含む工程から準備されたナノコンポジットフィルム;
[24] 製剤が、365nm、385nm、395nm、または405nmの波長を有するUVのLED源の下で、または水銀「D」、「H」、および/または「V」ランプを通じて、0.1~10J/cm2、または0.5~2J/cm2の範囲のUV照射量でのUV照射を通じて硬化または部分的に硬化する、[1]~[23]のいずれか1つに記載の硬化したまたは部分的に硬化した製剤を含むナノコンポジット;
[25] 50ナノメートルから100マイクロメートル、または0.5マイクロメートルから20マイクロメートルの範囲の厚さを有するフィルムである、[24]に記載のナノコンポジット;
[26] 10ミクロン未満の厚さにおける硬化した、または部分的に硬化したナノコンポジットの%Tが、400nm~700nmの可視波長で99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である、[23]~[25]のいずれか1つに記載のナノコンポジット;または
[27] 硬化した、または部分的に硬化したナノコンポジットが、550nmで1.54~1.56、1.56~1.58、1.58~1.60、1.60~1.62、または1.62~1.64、1.64~1.66、または1.66~1.68、または1.68~1.70、または1.70~1.72、または1.72~1.74、または1.76~1.78、または1.78~1.80、または1.80~1.82、または1.82~1.84、または1.84~1.86、または1.86~1.88、または1.88~1.90、または1.90~1.92、または1.92~1.94、または1.94~1.96、または1.96~1.98、または1.98~2.00の屈折率を有する、[23]~[26]のいずれか1つに記載のナノコンポジット。
表1には、様々なモノマーおよび製剤について25℃でのテフロン(登録商標)表面上の接触角と静的表面張力値、および表面張力の計算された極性成分と分散性成分、および極性(静的表面張力の極性成分を全静的表面張力で割った比として定義されるものを示す。
いくつかの実施形態では、本開示の製剤をTAインスツルメントQ500(TA instrument Q500)熱重量分析装置(thermal gravimetric analyzer(TGA))を用いて分析し、無機固形分含有量を決定する。TGAは、沸点<200℃の溶媒中のナノ結晶分散物を用いて実行して、キャップされたナノ結晶の有機含有量を決定する。初期質量に対する200℃でのパーセント質量を、キャップされたナノ結晶とみなし、初期質量に対する700℃でのパーセント質量を、キャップされたナノ結晶の無機部分、すなわち無機固形分含有量とみなす。キャップされたナノ結晶のパーセント有機物(%Org)は、200℃の質量(M200C)と700℃の質量(M700C)の差を200℃でのパーセント質量で割ったものとして定義される。
本開示は、モノマー、オリゴマー、ポリマー、またはそれらの混合物中に分散された、少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を含む、溶媒フリー、低粘度、高透明、高RIを提供する。また前記製剤は、硬化剤、接着促進剤、湿潤剤、レベリング剤、分散剤、粘度調整剤、有機ドーパント、および酸化防止剤を含む。これらの製剤により、高屈折率で光透明度の高いナノコンポジットや薄膜塗膜が可能になる。これらの製剤は、インクジェット印刷用途に特化しており、インクジェットノズルの面板濡れへの強い抵抗性と、所望の基材への適切な濡れ性を有することが望ましい。液体は特定の固体表面に対し濡れ性を示し、液体が平衡状態に達すると接触角が形成される。接触角の低い値は、典型的には10°未満であり、この液体は、前記表面に対する高い濡れ性を有する。濡れ性が高いと、均一な塗膜が実現される。45°より大きい接触角は、部分的に濡れている、または濡れていない場合を示唆する。そのような場合には、不規則な表面や考えられるレンズ印刷が、結果として考えられ、低表面エネルギーの表面上の高表面張力の液体を示すことが多い。
溶媒フリーまたは溶媒不使用の製剤の製造方法
ナノコンポジット特性
本発明のナノコンポジットの作製方法
装置
実施形態で上に記載されたキャップされたZrO2ナノ結晶を、所望のモノマー、例えばBAまたはPEAに直接分散(溶媒フリーまたは溶媒不使用の製剤の製造方法の段落1を見られたい)を通じて分散させ、架橋剤、例えばTMPTA、HDDA、およびTMPMPで希釈して、製剤中、35wt%~70wt%の範囲の所望のジルコニア配合量、4~20wt%の範囲のBA重量パーセント、20~40wt%の範囲のPEA重量パーセント、2~5wt%の範囲のTMPTA重量パーセント、3~5wt%の範囲のTMPMPパーセント、1~3wt%の範囲のHDDA重量パーセント、0.5~1.0wt%の範囲のBYK378重量パーセントにした。実施例1の代表的な製剤は、以下の表1に従って製剤A1~A10と表示する。
27.6wt%のBA、27.6wt%のPEA、4.9wt%のTMPTA、および4.9wt%のTMPMPからなるアクリラート類のブレンド中、35wt%のキャップされたZrO2ナノ結晶を有し、11.5cPの粘度を示す製剤A10に、光開始剤(イルガキュア(登録商標)819光開始剤)を、モノマー含有量に対して4wt%の量で加えた。光開始剤を加えた製剤A10を、ガラス基材上に10ミクロンの厚さを有するフィルムとして堆積させた。フィルムを1J/cm2の385nmのUV光のもとで硬化させた結果、550nmで1.58の屈折率を有する硬化したフィルムが得られた。
実施例1で使用したZrO2のキャップされたナノ結晶を、先に記載のものと同じやり方でベンジルアクリラート(BA)モノマーに分散させて、数重量パーセントのナノ結晶配合量(NC wt%)を達成し、ナノコンポジットを形成した。シロキサン界面活性剤(ビックケミー有限会社から購入可能なBYK 378)を1.0wt%の量で加えて、その他のものを形成した。全製剤に対して、キャップされたナノ結晶の重量パーセントは、35~70wt%の範囲であり、BAの重量パーセントは35~70wt%の範囲であり、BYK 378の重量パーセントは0.5~1.0wt%の範囲であった。
実施例1で使用したZrO2のキャップされたナノ結晶を、所望のモノマーブレンド、例えばBA、NVP、およびPBAに、界面活性剤、例えばBYK378と一緒に分散させて、製剤中、30~70wt%の範囲の所望のジルコニア配合量にした。全製剤に対して、好ましいキャップされたナノ結晶重量パーセントは、35~60wt%の範囲であり、BAの重量パーセントは、15~30wt%の範囲であり、NVPの重量パーセントは、5~20wt%の範囲であり、PBAの重量パーセントは、5~20wt%の範囲であり、BYK378の重量パーセントは、0.5~1.0wt%の範囲である。PBAとBYK378の組み合わせの結果、特定のインクジェット印刷ヘッド、例えばジマトリクスDMCやKM1024i HEシリーズの場合では、ノズルプレートの濡れがほとんどなくなるかまったくなくなる。図4に、重度の濡れ(上)から、中程度(中)、無し(下)までのノズルプレートの濡れの例として、3枚の写真を例示する。
具体的な例が、30.0wt%のBA、30.0wt%のPBA、BYK 378からなるアクリラート類のブレンド中、40wt%のキャップされたナノ結晶を有する製剤であり(ナノコンポジットC1-BYK 378なし;ナノコンポジットC2-1.0wt%のBYK 378あり(全製剤に関して)、ナノコンポジットC2は、25℃で14.2cPの粘度と、22.0dyne/cmの表面張力とを有する。イルガキュア819光開始剤を、4wt%(モノマー含有量に関して)で、C2製剤に加えて、フィルムとして堆積させる。各製剤の10ミクロンのフィルムは、ガラス基材上に塗膜し、これは、1J/cm2の385nmUVのもとで硬化させて、550nmで1.64の屈折率を有する。得られたフィルムは、ナノコンポジットC1およびC2である。ナノコンポジットC1とC2の製剤の場合の、粘度対温度の関係を図3に示す。ナノコンポジットB1およびB2の粘度は、25℃で近似的に12.5~14cPから、50℃で6.1~7.02cPに低下する。
別の例が、27.5wt%のBA、16.5wt%のNVP、11.0wt%のPBA、BYK 378からなるアクリラート類のブレンド中、45wt%のキャップされたナノ結晶を有する製剤であり(ナノコンポジットD1-BYK 378なし;ナノコンポジットD2-全製剤に関して1.0wt%のBYK 378あり、ナノコンポジットD2は、25℃で10.1cPの粘度と、22.0ダイン/cmの表面張力とを有する。
実施例1で使用したZrO2のキャップされたナノ結晶を、所望のモノマーブレンド、例えばBA、NVP、PBAおよびBPMAに、界面活性剤、例えばBYK378と一緒に、先に記載したものと同じやり方で分散させて、製剤中、30~70wt%の範囲の所望のジルコニア配合量にした。好ましいキャップされたナノ結晶重量パーセントは、35~60wt%の範囲であり、BAの重量パーセントは、15~30wt%の範囲であり、NVPの重量パーセントは、5~20wt%の範囲であり、PBAの重量パーセントは、5~20wt%の範囲であり、BPMAの重量パーセントは、10~30wt%の範囲であり、BYK 378の重量パーセントは、0.5~1.0wt%の範囲である。表3は、本実施例のナノコンポジットE1~E6の場合の組成、粘度、硬化したフィルムのRI、およびノズルプレートの濡れの観察結果を含む。
具体的な例が、18.0wt%のBA、12.0wt%のNVP、18.0wt%のPBA、12.0wt%のBPMA、および1.0wt%のBYK 378からなるアクリラート類のブレンド中、40wt%のキャップされたナノ結晶を有する製剤であるナノコンポジットE6であり、25℃で17.6cPの粘度と、22.0ダイン/cmの表面張力とを有する。
実施例1で使用したキャップされたZrO2ナノ結晶を、先に記載したのと同じやり方で、所望のモノマーブレンド、例えばBA、NVP、PBA、およびBPMAに、界面活性剤、例えばBYK 378と一緒に分散させて、製剤中、所望のジルコニア配合量にし、粘度を下げるために、溶媒、例えばPGMEAを加えた。PGMEAの好ましい少量の添加量は、本発明に記載の溶媒フリーおよび溶媒不使用の製剤を提供するには、全製剤の1~10wt%である。
2つの具体的な例が、20wt%のPEA中、80wt%のキャップされたナノ結晶を有する、25℃で5,755cPの初期粘度のナノコンポジットF1、および25wt%のBA中、75wt%のキャップされたナノ結晶を有する、25℃で140.6cPの初期粘度のナノコンポジットF2である。図9は、ナノコンポジットF1およびF2に、全製剤に関してPGMEAを加えるにつれ、粘度が、10%希釈時にそれぞれ約100cPおよび30cPまで低下するのを示している。
実施例1で使用したキャップされたZrO2ナノ結晶を、先に記載したのと同じやり方で、所望のモノマーブレンド、例えばBA、NVP、PBA、およびBPMAに、界面活性剤、例えばBYK 378と一緒に分散させて、製剤中、所望のジルコニア配合量にし、有機ドーパント、例えばフェナントレン(PhA)を加えた。好ましいキャップされたナノ結晶重量パーセントは、モノマー含有量に対して、35~60wt%の範囲であり、BAの重量パーセントは、15~30wt%の範囲であり、NVPの重量パーセントは、5~20wt%の範囲であり、PBAの重量パーセントは、5~15wt%の範囲であり、BPMAの重量パーセントは、10~30wt%の範囲であり、PhAの重量パーセントは、10~20wt%の範囲であり、BYK 378の重量パーセントは、全製剤に対して0.5~1.0wt%の範囲である。表4に、PhAを加えた場合と加えない場合の様々な材料の場合の組成、製剤粘度、ナノコンポジットフィルムRIを示す。表4に、ナノコンポジットD3、D4、D5、G1、およびG2の例を示す。
具体的な例、ナノコンポジットG1は、20.3wt%のBA、12.2wt%のNVP、8.2wt%のPBA、および9.3wt%のPhAからなるアクリラート類のブレンド中、50wt%のキャップされたナノ結晶を有する製剤であり、25℃で18.1cPの粘度を有する。
実施例1で使用したキャップされたZrO2ナノ結晶を、先に述べたのと同じやり方で、所望のモノマーブレンド、例えばBA、NVP、PBA、STY、ならびに/または4-メチルスチレン(4MS)、ジビニルベンゼン(DVB)、および4-ビニルアニソール(4VA)に分散させ、有機ドーパント、例えば9-ビニルカルバゾール(NVCb)を加えて、ナノコンポジットH1~H5を形成した。界面活性剤、例えばBYK 333、および分散剤、例えばフローレンG-700(FLOWLEN G-700)を随意に加えて、インクジェット性能を向上させた。好ましいキャップされたナノ結晶重量パーセントは、35~60wt%の範囲であり、BAの重量パーセントは、15~30wt%の範囲であり、NVPの重量パーセントは5~20wt%の範囲であり、PBAの重量パーセントは、5~15wt%の範囲であり、STYの重量パーセントは、10~20wt%の範囲であり、DVBの重量パーセントは、10~20wt%の範囲であり、2-PEAの重量パーセントは、2~30wt%の範囲であり、モノマー含有量に関してNVCbの重量パーセントは、5~35wt%の範囲であり、BYK333の重量パーセントは、0.01~1.0wt%の範囲であり、フローレンG-700(FLOWLen G-700)分散剤の重量パーセントは、0.01~1.0wt%の範囲である。表5に、STY、4MS、DVB、4VA、2-PEA、NVCbを加えた場合と加えない場合の様々な材料の組成、製剤粘度、ナノコンポジットRIを示す。
具体的な例、ナノコンポジットH1は、13.0wt%のBA、7.9wt%のNVP、5.2wt%のPBA、4.8wt%のSTY、および16.0wt%のNVCbからなる、アクリラート類およびビニルモノマーのブレンド中、47.5wt%のキャップされたナノ結晶を有する製剤であり、25℃で21.3cPの粘度を有する。
実施形態で上に記載したDLS強度で測定した約10nmの平均粒子サイズを有するキャップされたTiO2ナノ結晶を、直接分散を通じて、所望のモノマー、例えばBAまたはPBAに分散させて、製剤中、35wt%~70wt%の範囲である所望のジルコニア配合量、30~65wt%の範囲であるBAまたはPBAの重量パーセントにした。
実施形態で上に記載したDLS強度で測定した約30nmの平均粒子サイズ(コアサイズ約12~18nm)のキャップされたTiO2ナノ結晶を、直接分散を通じて、所望のモノマー、例えばBAまたはPBAに分散させて、製剤中、35wt%~70wt%の範囲である所望のジルコニア配合量、30~65wt%の範囲であるBAまたはPBAの重量パーセントにした。
実施形態で上に記載したキャップされたTiO2ナノ結晶を、直接分散を通じて、所望のモノマー、例えばBA、NVP、およびPBAに分散させて、27.5wt%BA、16.5wt%NVP、および11wt%PBAの製剤中、約30nmのTiO2を45wt%の配合量にし、インクジェット印刷可能なTiO2インクの例示とした。17.4cPのインクは、ジマトリクスのインクジェットプリンタを使用して、30℃、18Vの電圧で印刷可能であったが、ノズルプレートの明らかな濡れは観察されなかった。図15に、インクジェット印刷された12ミクロンのフィルムの%Tが、400nm以上の波長で90%以上であることを示す。このフィルムの場合の550nmでのフィルムRIは、1.683であると測定された。
ともに約10nmの粒子サイズのZrO2とTiO2の両方を含むキャップされたナノ結晶を、先に記載されたのと同じやり方、異なる比率で、所望のモノマーに一緒に分散させた。表8に、ナノコンポジットK1からK6の組成、粘度、およびフィルムRI(550nm)データを示し、これは50wt%配合量の混合されたZrO2とTiO2のナノコンポジットから得れた結果を含む。ZrO2のみのフィルム(実施例2に記載のナノコンポジットB1)は、それぞれ1.639と9.6cPの最も低いRIと粘度を有する。ナノコンポジットK3(実施例8に記載されたナノコンポジットI2に類似のもの)は、比較のためのTiO2のみのフィルムを表し、それぞれ1.695と18.7cPのフィルムRIと粘度を有する。混合ZrO2/TiO2ナノコンポジットのさらなる例が、選択されたモノマーおよび特定の比率で1.70より大きいフィルムRI値を有すると同時に、30cP未満の粘度を維持していることが示される。
ZrO2とTiO2両方の、キャップされたナノ結晶を、PGMEAにおいて先に記載されたのと同じやり方で、NTT-ATにより販売される所望の硫黄含有性の樹脂に別々に分散させた。ナノコンポジットL4からL6のTiO2は、約30nmの粒子サイズである。表9に、ナノコンポジットL1からL6の組成およびフィルムRI(550nm)のデータを示し、ZrO2およびTiO2ナノ結晶から得られた結果を比較する。ナノコンポジットL4~L6は、1.82より大きい顕著に高いフィルムRI値を有する。
ZrO2とTiO2の両方のキャップされたナノ結晶を、PGMEAで以前に説明したのと同じやり方で、三菱ガス化学により販売される所望の硫黄含有ルミプラス(登録商標)樹脂に別個に分散させた。ナノコンポジットL4からL6中のTiO2は、10nm前後の粒子サイズである。表10に、ナノコンポジットM1からM10の組成とフィルムRI(550nm)のデータを示し、ZrO2とTiO2から得られた結果を比較する。ナノコンポジットM7およびM8は、1.90より大きいフィルムRI値を有する実施例を特に際立たせている。
Claims (27)
- 少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶と、少なくとも1つのモノマー、オリゴマー、またはポリマーを含むマトリックスとを含む製剤であって、例えば、少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶がマトリックス中に分散されており、金属酸化物が、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ハフニウム、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化ニオブ、または前記酸化物のうちの少なくとも2つの混合物である、5wt%未満の溶媒を含む製剤。
- 硬化剤、界面活性剤、湿潤剤、酸化防止剤、接着促進剤、レベリング剤、分散剤(surfactant)、可塑剤、強靭剤、増粘剤、希釈剤、分散剤(dispersing agent)、柔軟剤、有機ドーパント、およびその他の機能性添加剤から独立に選択される1つまたは複数の薬剤を随意にさらに含む、請求項1に記載の製剤。
- マトリックスが、アクリラートおよび/またはメタクリラートのモノマーから独立に選択される1つまたは複数の薬剤と、反応性希釈剤と、硬化剤と、随意に、少なくとも1つの界面活性剤または少なくとも1つの湿潤剤とを含む、請求項1に記載の製剤。
- 少なくとも部分的にキャップされたナノ結晶の平均粒径が、DLSまたはTEMで測定して、1~40nmの範囲、好ましくは30nm未満である、請求項1~3のいずれか1項に記載の製剤。
- 前記ナノ結晶が、メチルトリメトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、n-オクチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、m,p-エチルフェニルトリメトキシシラン、2-[メトキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]トリメトキシシラン、メトキシ(トリエチレンオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-(アクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、およびグリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、1-ヘキセニルトリメトキシシラン、1-オクテニルトリメトキシシラン、ヘプタノール、ヘキサノール、オクタノール、ベンジルアルコール、フェノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、オレイルアルコール、ドデシルアルコール、オクタデカノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、オクタン酸、酢酸、プロピオン酸、2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸、オレイン酸、安息香酸、ステアリン酸、トリフルオロ酢酸、ビフェニル-4-カルボン酸、2-(2-メトキシエトキシ)酢酸、メタクリル酸、コハク酸モノ-2-(メタクリロイルオキシ)エチル、またはそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも1つのキャップ剤を用いて少なくとも部分的にキャップされた、請求項1~4のいずれか一項に記載の製剤。
- 製剤の20wt%~80wt%の範囲にある金属酸化物ナノ結晶の配合量を有する、請求項1~5のいずれか一項に記載の製剤。
- 高屈折率を有する単官能性のアクリラートおよび/またはメタクリラートのモノマー、例えば、ベンジルアクリラート、ベンジルメタクリラート(BAおよびBMA)、エチレングリコールフェニルエーテルアクリラート、エチレングリコールフェニルエーテルメタクリラート(PEAおよびPEMA)、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリラート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタクリラート(HPPAおよびHPPMA)、2-フェノキシベンジルアクリラート(PBA)、ビフェニルメタクリラート(BPMA)、2-フェニルフェノールメタクリラート(PPMA)、イソブチルアクリラート(IBA)、2-フェニルエチルアクリラート(2-PEA)、2-(フェニルチオ)エチルアクリラート(PTEA)、またはこれらの組み合わせをさらに含む、請求項1~6のいずれか一項に記載の製剤。
- 二、三、四、および/または五官能性のアクリラートおよび/またはメタクリラートのモノマー、例えば、1,6-ヘキサンジオールジアクリラート、1,6-ヘキサンジオールジ-メタクリラート(HDDAおよびHDDMA)、ジ(エチレングリコール)ジアクリラート、ジ(エチレングリコール)ジメタクリラート(DEGDAおよびDEGDMA)、エチレングリコールジアクリラート、グリセロール1,3-ジグリセロラートジアクリラート、トリ(プロピレングリコール)ジアクリラート、トリ(プロピレングリコール)ジアクリラート、トリ(プロピレングリコール)ジアクリラート、トリメチロールプロパントリアクリラート、トリメチロールプロパントリ-メタクリラート(TMPTAおよびTMPTMA)、トリメチロールプロパンエトキシラートトリアクリラート、トリメチロールプロパンエトキシラートトリ-メタクリラート(EOTMPTAおよびEOTMPTMA)、1,6-ヘキサンジオールエトキシラートジアクリラート、ペンタエリスリトールテトラアクリラート(PETA)、ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリラート(DPHA)、またはこれらの組み合わせをさらに含む、請求項1~7のいずれか一項に記載の製剤。
- 反応性希釈剤、例えば、1-ビニル-2-ピロリドン(NVP)、N-ビニルカプロラクタム、2-(2-ビニルオキシエトキシ)エチルアクリラート、2-(2-ビニルオキシエトキシ)エチルメタクリラート、イソブチルアクリラート、スチレン(STY)、4-メチルスチレン(4MS)、4-ビニルアニソール(4VA)、およびジビニルベンゼン(DVB)をさらに含む、請求項1~8のいずれか一項に記載の製剤であって、反応性希釈剤の重量パーセントが、全モノマー含有量に対して25~70wt%である製剤。
- 二、三、および/または四官能性のチオール架橋剤、例えばトリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオナート)をさらに含む、請求項1~9のいずれか一項に記載の製剤。
- 硫黄含有性の樹脂および/または接着剤、例えば硫黄含有性の市販の樹脂および/または接着剤、例えば#18109、#18165、#6205(NTT-AT)、ルミプラスLP-1100(LumipluS LP-1100)、LPB-1102、LPJ-1102、LPS-1130(三菱ガス化学(Mitsubishi Gas Chemical Company))、またはそれらの組み合わせをさらに含む、請求項1~10のいずれか一項に記載の製剤。
- 反応性有機ドーパント、例えばフェナントレン(PhA)または9-ビニルカルバゾール(NVCb)を、例えば1~50wt%の濃度範囲でさらに含む、請求項1~11のいずれか一項に記載の製剤。
- アクリラートモノマー系において非反応性または反応性のいずれかである、界面活性剤または界面活性剤の組み合わせ、例えばポリエーテル変性シロキサン、フッ素系界面活性剤、をさらに含む、請求項1~12のいずれか一項に記載の製剤であって、全製剤中の前記界面活性剤の濃度が、0.1~2.0wt%の範囲、または0.5~1.0wt%の範囲である製剤。
- 散乱粒子、例えば二酸化チタン、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、ならびに/または低いおよび高い屈折率のポリマー粒子を随意にさらに含み、散乱粒子サイズが100~400nmの範囲であり、全製剤中の前記散乱粒子の濃度が0.1~30.0wt%または0.5~17.0wt%の範囲である、請求項1~13のいずれか1項に記載の製剤。
- 硬化剤または光開始剤、例えばIrgacure 184(イルガキュア184)、イルガキュア819、TPO、エベルクリルP39(Ebercryl P39)、および/またはエベルクリルP115をさらに含む、請求項1~14のいずれか一項に記載の製剤であって、全製剤中の前記硬化剤または光開始剤の濃度が、モノマー含有量に対して0.1~20wt%または1.0~4.0wt%の範囲である製剤。
- ベンジルメタクリラート(BMA)またはトリメチロールプロパントリアクリラート(TMPTA)を含まない、請求項1~15のいずれか一項に記載の製剤。
- 製剤の粘度が、ブルックフィールドRVDV II+(Brookfield RVDV II+)コーンプレート型粘度計を用いて25℃で測定した場合に、5~100cPの範囲内であり、25℃でインクジェット印刷向けに好ましい粘度が、5~20cPであり、カートリッジ加熱が適用できる場合には、カートリッジ温度が35~100℃の場合に、25℃での粘度が、15~100cPのものとすることができる、または製剤の粘度が、5cP~10cP、または10cP~15cP、15cP~20cP、20cP~30cP、30cP~50cP、または50cP~100cPであり、25℃で測定した場合に、インクジェット印刷以外の堆積方法向けには、粘度が、100cP~1,000cP、1,000cP~5,000cP、5,000cP~12,000cPの範囲のものとすることができる、請求項16に記載の製剤。
- ナノ結晶配合量が、35~40重量%、40~45重量%、45~50重量%、50~55重量%、55~60重量%、60~65重量%、65~70重量%である、請求項17に記載の製剤。
- 製剤の屈折率が、アッベ屈折計で測定して、589nmで1.52~1.56、1.56~1.58、1.58~1.60、1.60~1.62、または1.62~1.64、1.64~1.66、または1.66~1.68、または1.68~1.70、または1.70~1.72、または1.72~1.74、または1.76~1.78、または1.78~1.80、または1.80~1.82、または1.82~1.84、または1.84~1.86、または1.86~1.88、または1.88~1.90、または1.90~1.92、または1.92~1.94である、請求項17~18のいずれか一項に記載の製剤。
- 製剤の表面張力が、ラメ・ハート(Rame-Hart)表面張力計を用いて25℃で測定した場合に、20~25ダイン/cm、25~30ダイン/cm、30~35ダイン/cm、または35~40ダイン/cmの範囲内である、請求項17~19のいずれか一項に記載の製剤。
- 製剤の%Tが、可視波長(400~700nm)で99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である、請求項17~20のいずれか一項に記載の製剤。
- ジマトリクスDMC(Dimatix DMC)、富士フィルムSG1024/MA(Fujifilm SG1024/MA)、コニカミノルタKM1024i(Konica Minolta KM1024i)などの印刷ヘッドタイプから、3~9m/sの滴下速度、6~40pLの小液滴体積で吐出することができる、インクジェット印刷可能な、例えば製剤の小液滴である、請求項1~21のいずれか一項に記載の製剤。
- スピン塗布、スロットダイ塗布、スクリーン印刷、インクジェット印刷、ナノインプリント、フォトパターニング、3D印刷、浸漬塗布、ドロー・バー(draw-bar)塗布、ロール・ツー・ロール(roll-to-roll)印刷、噴霧塗布、分注、ボリューム・キャスティング(volume casting)、スクリーン印刷、またはそれらのいずれかの組み合わせを通じて、請求項1~22のいずれか一項に記載の製剤を表面に塗布して、塗布された製剤を随意に硬化させることを含む工程から準備されたナノコンポジットフィルム。
- 製剤が、365nm、385nm、395nm、または405nmの波長を有するUVのLED源の下で、または水銀「D」、「H」、および/または「V」ランプを通じて、0.1~10J/cm2、または0.5~2J/cm2の範囲のUV照射量でのUV照射を通じて硬化または部分的に硬化する、請求項1~23のいずれか一項に記載の硬化したまたは部分的に硬化した製剤を含むナノコンポジット。
- 50ナノメートルから100マイクロメートル、または0.5マイクロメートルから20マイクロメートルの範囲の厚さを有するフィルムである、請求項24に記載のナノコンポジット。
- 10ミクロン未満の厚さにおける硬化した、または部分的に硬化したナノコンポジットの%Tが、400nm~700nmの可視波長で99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である、実施形態23~25のいずれか一項に記載のナノコンポジット。
- 硬化した、または部分的に硬化したナノコンポジットが、550nmで1.54~1.56、1.56~1.58、1.58~1.60、1.60~1.62、または1.62~1.64、1.64~1.66、または1.66~1.68、または1.68~1.70、または1.70~1.72、または1.72~1.74、または1.76~1.78、または1.78~1.80、または1.80~1.82、または1.82~1.84、または1.84~1.86、または1.86~1.88、または1.88~1.90、または1.90~1.92、または1.92~1.94、または1.94~1.96、または1.96~1.98、または1.98~2.00の屈折率を有する、実施形態23~26のいずれか一項に記載のナノコンポジット。
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Cited By (1)
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Families Citing this family (6)
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