JP2022505202A - Vacuum pump temperature control method, as well as related vacuum pumps and their equipment - Google Patents

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Abstract

Figure 2022505202000001

【課題】乾式真空ポンプ型の真空ポンプと、特に隙間の消失および焼き付きを防止することを可能にする真空ポンプの温度制御方法とを提案する。
【解決手段】本発明は、吸排気負荷の変動にさらされる乾式真空ポンプ型の真空ポンプ(2)の温度制御方法(100)に関し、真空ポンプ(2)の温度は、設定温度およびステータ(5)の温度の測定に基づいて、ステータ(5)に結合された少なくとも1つの冷却要素(11a、11b)によって制御される乾式真空ポンプ型の真空ポンプ(2)の温度制御方法(100)において、モニタリングは、前記真空ポンプ(2)によって誘起される電流または消費される電力のいずれかから選択される前記吸排気負荷を示すパラメータの値が、負荷閾値を下回っているかどうかを監視し、前記吸排気負荷を示す前記パラメータの値が、前記負荷閾値を下回っている場合、前記設定温度を上昇させることを特徴とする。
本発明は、前記乾式真空ポンプタイプ型の真空ポンプおよびその設備にも関する。
【選択図】図1

Figure 2022505202000001

PROBLEM TO BE SOLVED: To propose a dry vacuum pump type vacuum pump and a temperature control method of a vacuum pump capable of preventing disappearance and seizure of a gap in particular.
The present invention relates to a temperature control method (100) for a dry vacuum pump type vacuum pump (2) exposed to fluctuations in intake / exhaust load, wherein the temperature of the vacuum pump (2) is a set temperature and a stator (5). ), In the temperature control method (100) of the dry vacuum pump type vacuum pump (2) controlled by at least one cooling element (11a, 11b) coupled to the stator (5). Monitoring monitors whether the value of the parameter indicating the intake / exhaust load selected from either the current induced by the vacuum pump (2) or the power consumed is below the load threshold, and monitors the intake / exhaust load. When the value of the parameter indicating the exhaust load is lower than the load threshold value, the set temperature is raised.
The present invention also relates to the dry vacuum pump type vacuum pump and its equipment.
[Selection diagram] Fig. 1

Description

本発明は、乾式真空ポンプ型の真空ポンプの温度制御方法に関する。本発明は、この温度制御方法を実施するための手段を備える乾式真空ポンプ型の真空ポンプにも関する。本発明は、この乾式真空ポンプを備える設備にも関する。 The present invention relates to a temperature control method for a dry vacuum pump type vacuum pump. The present invention also relates to a dry vacuum pump type vacuum pump provided with means for carrying out this temperature control method. The present invention also relates to equipment provided with this dry vacuum pump.

乾式真空ポンプ型の低真空ポンプは、直列のいくつかの吸排気段を備えており、この吸排気段を介して、吸排気されるガスが吸気口と排気口との間で循環する。公知の低真空ポンプの中で、「ルーツ」ポンプの名前でも知られている回転ローブを有するものと、「クロー」ポンプおよびスクリューポンプとして知られているポンプで、2つ以上のローブを有するものとに区別されている。非常に大流量の条件下で吸排気能力を高めるために、低真空ポンプの上流で使用される、1段または2段のルーツコンプレッサー(またはより一般的には「ルーツブロワ」)型の真空ポンプも知られている。 The dry vacuum pump type low vacuum pump is provided with several intake / exhaust stages in series, through which the intake / exhaust gas circulates between the intake port and the exhaust port. Among the known low vacuum pumps, those with a rotary lobe, also known as the "roots" pump, and those with two or more lobes, also known as "claw" pumps and screw pumps. It is distinguished from. Also, one-stage or two-stage roots compressor (or more generally "roots blower") type vacuum pumps used upstream of low vacuum pumps to increase intake and exhaust capacity under very high flow conditions. Are known.

これらの真空ポンプは、運転中に、ロータが相互に、またはステータと機械的に接触することなく、ステータ内で回転し、吸排気段でオイルを使用しないことが可能になるため、「ドライ」と呼ばれている。 These vacuum pumps are "dry" because during operation, the rotors rotate within the stator without mutual or mechanical contact with the stator, allowing no oil to be used in the intake and exhaust stages. is called.

ますます多くの応用例が、一方では、真空ポンプが数slm(標準リットル/分)または数十slm程度の大量のガスを循環させる必要がある処理工程と、他方では、真空ポンプが吸排気するガスの流量がゼロまたは非常に少ない「最終真空圧」と呼ばれる圧力で作動するアイドル(またはスタンバイ)工程との間で、大流量でかつ迅速に吸排気するガスの流れを変化させる機能を必要としている。 More and more applications are, on the one hand, a processing process in which a vacuum pump needs to circulate a large amount of gas, on the one hand, a few slm (standard liter / min) or a few tens of slm, and on the other hand, a vacuum pump sucks and exhausts. Needs the ability to change the flow of gas to be taken in and out quickly at high flow rates between an idle (or standby) process that operates at a pressure called "final vacuum pressure" where the gas flow is zero or very low. There is.

大流量のガスを吸排気すると、圧縮によって真空ポンプが大きく加熱される。この温度上昇により、真空ポンプ内における汚染ガス状物質の凝縮、または粉末状の固化を回避することができる。しかし、何らかの誤作動を防止するために、真空ポンプの軸受を冷却することが必要となる。さらに、特定の応用例では、ステータの温度を制御して、予め定めた最大値を超えないように制御することが必要である。この最大値を超えると、吸排気される汚染ガス状物質が真空ポンプ内で凝集し、真空ポンプが焼き付く原因となる。 When a large flow rate of gas is sucked in and exhausted, the vacuum pump is greatly heated by compression. Due to this temperature rise, it is possible to avoid the condensation of the contaminated gaseous substance or the solidification of the powder in the vacuum pump. However, it is necessary to cool the bearings of the vacuum pump to prevent any malfunction. Further, in a specific application example, it is necessary to control the temperature of the stator so as not to exceed a predetermined maximum value. If this maximum value is exceeded, the contaminated gaseous substances that are taken in and out will aggregate in the vacuum pump, causing the vacuum pump to seize.

ステータの冷却は、通常、ステータと熱的に接触している冷却回路を通して、外気温度の水を循環することによって行われる。 Cooling of the stator is usually done by circulating water at outside air temperature through a cooling circuit that is in thermal contact with the stator.

しかし、吸排気されるガスの流れが急激に低下する上記の状況では、真空ポンプは、それ自体の加熱源がなく、急激に冷却されてしまう。そのため、冷却回路と接触しているステータの温度は、低下してしまい、一方、直接冷却されていないロータは、高温のままである。 However, in the above situation where the flow of the gas to be sucked and exhausted drops sharply, the vacuum pump has no heating source of its own and is cooled rapidly. Therefore, the temperature of the stator in contact with the cooling circuit drops, while the rotor that is not directly cooled remains at a high temperature.

冷却回路を制御するための温度の測定位置が、吸排気負荷の変動による温度の急激な変化を検出することができる適切な場所に、必ずしもあるとは限らないという事実によって、ロータとステータとの間の温度差が大きくなってしまう恐れがある。このため、測定温度が誤って評価され、例えば軸受の温度がすでに大幅に低下しているにもかかわらず、ステータの冷却コマンドが継続されてしまう恐れがある。ステータの温度低下を実際に認識するために必要な応答時間が相対的に長くなってしまい、これにより、ロータとステータとの温度差が拡大してしまう恐れがある。 Due to the fact that the temperature measurement position for controlling the cooling circuit is not always in the proper place where sudden changes in temperature due to fluctuations in intake and exhaust loads can be detected, the rotor and stator There is a risk that the temperature difference between them will increase. Therefore, the measured temperature may be erroneously evaluated, for example, the stator cooling command may continue even though the bearing temperature has already dropped significantly. The response time required to actually recognize the temperature drop of the stator becomes relatively long, which may increase the temperature difference between the rotor and the stator.

この温度差は、さまざまな熱機械的挙動によるステータとロータとの間の隙間の消失を引き起こす恐れがある。特に、冷却回路は、通常、軸受領域における真空ポンプの各軸方向端部に配置されているため、軸方向の隙間の消失を引き起こし、シャフト支持部の収縮による軸間距離の減少を引き起こす恐れがある。これらの隙間の消失は、ポンプの焼き付き、およびロータ同士の接触の原因となる恐れがある。 This temperature difference can cause the disappearance of the gap between the stator and rotor due to various thermomechanical behaviors. In particular, since the cooling circuit is usually located at each axial end of the vacuum pump in the bearing region, it may cause the disappearance of the axial gap and reduce the interaxial distance due to the contraction of the shaft support. be. The disappearance of these gaps can cause seizure of the pump and contact between the rotors.

本発明の目的の1つは、乾式真空ポンプ型の真空ポンプと、特に隙間の消失および焼き付きを防止することによって、前述の欠点の少なくとも1つを是正することを可能にする真空ポンプの温度制御方法とを提案することである。 One of the objects of the present invention is temperature control of a dry vacuum pump type vacuum pump and a vacuum pump which makes it possible to correct at least one of the above-mentioned drawbacks by preventing the disappearance and seizure of a gap in particular. It is to propose a method.

この目的のために、本発明の1つの主題は、吸排気負荷の変動にさらされる乾式真空ポンプ型の真空ポンプの温度制御方法であって、この真空ポンプは、
- ステータと、
- 少なくとも1つの吸排気段と、
- 少なくとも1つの吸排気段内に延在し、かつ、真空ポンプの吸気口から排気口に吸排気されるガスを駆動するために、ステータ内で反対方向に同期して回転するようになっている少なくとも1つのロータをそれぞれ支えている2つのシャフトと、
- ステータに結合された少なくとも1つの冷却要素と、
- ステータの温度を測定するようになっている少なくとも1つの温度センサと、
- 少なくとも1つの冷却要素および少なくとも1つの温度センサによってステータの温度を制御するようになっている制御ユニットとを備えており、
真空ポンプの温度は、設定温度およびステータの温度の測定に基づいて、ステータに結合された少なくとも1つの冷却要素によって制御される乾式真空ポンプ型の真空ポンプの温度制御方法において、
モニタリングは、真空ポンプによって誘起される電流または消費される電力のいずれかから選択される吸排気負荷を示すパラメータの値が、負荷閾値を下回っているかどうかを監視し、吸排気負荷を示すパラメータの値が、負荷閾値を下回っている場合、設定温度を上昇させることを特徴としている。
For this purpose, one subject of the present invention is a method for controlling the temperature of a dry vacuum pump type vacuum pump exposed to fluctuations in intake and exhaust loads, and the vacuum pump is a method of controlling the temperature of the dry vacuum pump type vacuum pump.
-The stator and
-At least one intake / exhaust stage and
-It extends in at least one intake / exhaust stage and rotates synchronously in the stator in the opposite direction in order to drive the gas that is taken in and out from the intake port of the vacuum pump to the exhaust port. Two shafts that each support at least one rotor,
-With at least one cooling element coupled to the stator,
-At least one temperature sensor that is designed to measure the temperature of the stator,
-Equipped with at least one cooling element and a control unit designed to control the temperature of the stator by at least one temperature sensor.
In a method of controlling the temperature of a dry vacuum pump type vacuum pump, the temperature of the vacuum pump is controlled by at least one cooling element coupled to the stator based on the set temperature and the measurement of the temperature of the stator.
Monitoring monitors whether the value of the parameter indicating the intake / exhaust load selected from either the current induced by the vacuum pump or the power consumed is below the load threshold, and is a parameter indicating the intake / exhaust load. When the value is below the load threshold value, the set temperature is raised.

したがって、設定温度の変更により、冷却要素によるステータの冷却をより早く遮断し、ステータを冷却要素の近くで暖めることができる。低吸排気負荷工程中に設定温度を上昇させると、ステータを高負荷工程中と同じように高温に保つことができ、これにより、焼き付きまたはロータが互いに接触するリスクを防止することができる。 Therefore, by changing the set temperature, the cooling of the stator by the cooling element can be interrupted more quickly, and the stator can be warmed near the cooling element. Raising the set temperature during the low intake / exhaust load process allows the stator to remain as hot as during the high load process, thereby preventing the risk of seizure or rotor contact with each other.

低負荷工程中に高い温度に保つことにより、凝縮性汚染物質が固化または凝縮する恐れがある低温領域の発生を回避することもできる。 By keeping the temperature high during the low load process, it is also possible to avoid the generation of low temperature regions where condensable contaminants may solidify or condense.

吸排気負荷を監視することによってトリガーされる設定温度の変更により、温度制御方法の応答性を高くすることもできる。 By changing the set temperature triggered by monitoring the intake / exhaust load, the responsiveness of the temperature control method can be improved.

温度センサを追加する必要がなく、チャンバで起きている処理に関する情報を必要とせず、少なくとも1つの温度センサの位置または冷却要素の構造を変更することなく、真空ポンプの熱的挙動を温度制御の判定機構に組み込むことにより、真空ポンプのセンサから入手することができる情報に基づいて、このモニタリングを、さらに行うことができる。 No need to add a temperature sensor, no information about what is happening in the chamber, and control the thermal behavior of the vacuum pump without changing the position of at least one temperature sensor or the structure of the cooling element. By incorporating it into the determination mechanism, this monitoring can be further performed based on the information available from the sensor of the vacuum pump.

温度制御方法は、単独でまたは組み合わせることにより、以下に記載する1つ以上の特徴を含むこともできる。 The temperature control method may also include one or more of the features described below, either alone or in combination.

1つの例示的な実施形態によれば、真空ポンプの低圧吸排気段に結合された冷却要素によって、少なくとも温度を制御するために、設定温度を上昇させる。 According to one exemplary embodiment, a cooling element coupled to the low pressure intake / exhaust stage of the vacuum pump raises the set temperature, at least in order to control the temperature.

1つの例示的な実施形態によれば、設定温度を上昇させた後、モニタリングは、吸排気負荷を示すパラメータの値が負荷閾値を超えているかどうかを監視し、吸排気負荷を示すパラメータの値が負荷閾値を超えている場合には、上昇させた設定温度を、予め定めた追加時間の間維持する。 According to one exemplary embodiment, after raising the set temperature, monitoring monitors whether the value of the parameter indicating the intake / exhaust load exceeds the load threshold, and the value of the parameter indicating the intake / exhaust load. If exceeds the load threshold, the raised set temperature is maintained for a predetermined additional time.

予め定めた追加時間は、たとえば、10分を超える時間である。 The predetermined additional time is, for example, a time exceeding 10 minutes.

設定温度の上昇は、たとえば、3℃を超える温度である。 The increase in the set temperature is, for example, a temperature exceeding 3 ° C.

設定温度の上昇は、たとえば、20℃未満の温度である。 The increase in the set temperature is, for example, a temperature of less than 20 ° C.

本発明の別の主題は、乾式真空ポンプ型の真空ポンプであって、
- ステータと、
- 少なくとも1つの吸排気段と、
- 少なくとも1つの吸排気段内に延在し、かつ、真空ポンプの吸気口から排気口に吸排気されるガスを駆動するために、ステータ内で反対方向に同期して回転するようになっている少なくとも1つのロータをそれぞれ支えている2つのシャフトと、
- ステータに結合された少なくとも1つの冷却要素と、
- ステータの温度を測定するようになっている少なくとも1つの温度センサと、
- 少なくとも1つの冷却要素および少なくとも1つの温度センサによってステータの温度を制御するようになっている制御ユニットとを備える乾式真空ポンプ型の真空ポンプにおいて、
この制御ユニットは、上記のような温度制御方法を実施するようになっていることを特徴としている。
Another subject of the present invention is a dry vacuum pump type vacuum pump.
-The stator and
-At least one intake / exhaust stage and
-It extends in at least one intake / exhaust stage and rotates synchronously in the stator in the opposite direction in order to drive the gas that is taken in and out from the intake port of the vacuum pump to the exhaust port. Two shafts that each support at least one rotor,
-With at least one cooling element coupled to the stator,
-At least one temperature sensor that is designed to measure the temperature of the stator,
-In a dry vacuum pump type vacuum pump equipped with at least one cooling element and a control unit configured to control the temperature of the stator by at least one temperature sensor.
This control unit is characterized in that it implements the temperature control method as described above.

乾式真空ポンプ型の真空ポンプは、多段低真空ポンプとすることができる。これは、直列に取り付けられた少なくとも2つの吸排気段を備えるものを意味する。この真空ポンプは、同様に、直列に取り付けられた1つまたは2つの吸排気段を備えるルーツブロワ型の真空ポンプとすることができる。 The dry vacuum pump type vacuum pump can be a multi-stage low vacuum pump. This means one with at least two intake and exhaust stages mounted in series. The vacuum pump can also be a roots blower type vacuum pump with one or two intake and exhaust stages mounted in series.

1つの例示的な実施形態によれば、乾式真空ポンプ型の真空ポンプは、ステータに結合された2つの冷却要素を備えており、一方の冷却要素は、この真空ポンプの各軸方向端部に配置されている。 According to one exemplary embodiment, a dry vacuum pump type vacuum pump comprises two cooling elements coupled to a stator, one cooling element at each axial end of the vacuum pump. Have been placed.

本発明の別の主題は、チャンバを備える設備において、その設備は、チャンバ内を吸排気するためにチャンバに接続された、上記のような乾式真空ポンプ型の真空ポンプを備えていることを特徴とする。 Another subject of the present invention is in equipment comprising a chamber, wherein the equipment comprises a dry vacuum pump type vacuum pump as described above connected to the chamber for intake and exhaust in the chamber. And.

本発明による設備の模式図である。It is a schematic diagram of the equipment by this invention. 操作に必要な構成要素のみを示している、分解した状態での、図1に示す設備における真空ポンプの部分的および部分的断面の模式図である。FIG. 3 is a schematic view of a partial and partial cross section of a vacuum pump in the equipment shown in FIG. 1 in disassembled state, showing only the components required for operation. 図2に示す真空ポンプの温度制御方法の様々な工程を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows various steps of the temperature control method of the vacuum pump shown in FIG. 以下に示す曲線A~Dは、時間(分単位)の関数として得られた曲線を示している。- 図2の真空ポンプによって消費された電力(ワット単位、右側の縦軸)、(曲線A)。- 真空ポンプの温度センサによって測定されたステータの温度(℃、左側の縦軸)、(曲線B)。- 真空ポンプの冷却要素の中心に固定された2つのテスト温度センサによって測定されたステータの温度、(曲線CおよびD)。The curves A to D shown below show the curves obtained as a function of time (minutes). -Power consumed by the vacuum pump in FIG. 2 (in watts, vertical axis on the right), (Curve A). -The temperature of the stator measured by the temperature sensor of the vacuum pump (° C, vertical axis on the left), (Curve B). -The temperature of the stator as measured by two test temperature sensors fixed in the center of the cooling element of the vacuum pump (curves C and D).

本発明のさらなる特徴および利点は、以下の添付の図面を参照して、非限定的な例として与えられた以下の説明から明らかになるであろう。 Further features and advantages of the invention will be apparent from the following description given as a non-limiting example with reference to the accompanying drawings below.

これらの図では、同一の構成要素には、同じ符号が付されている。以下の実施形態は単なる例示である。本明細書は、1つ以上の実施形態に言及しているけれども、これは、必ずしも各言及が同じ実施形態に関連していること、または特徴が単一の実施形態にのみ適用されることを意味するわけではない。他の実施形態を提供するために、様々な実施形態の単純な特徴を組み合わせたり、交換したりすることもできる。 In these figures, the same components are labeled with the same reference numerals. The following embodiments are merely examples. Although the specification refers to one or more embodiments, this does not necessarily mean that each reference is related to the same embodiment or that the features apply only to a single embodiment. It doesn't mean. The simple features of the various embodiments may be combined or interchanged to provide other embodiments.

図1は、乾式真空ポンプ型の真空ポンプ2と、チャンバ3内の吸排気のために、真空ポンプ2が、例えば弁4を介して接続されているチャンバ3とを備える設備1の第1の実施例を示している。 FIG. 1 is a first of equipment 1 comprising a dry vacuum pump type vacuum pump 2 and a chamber 3 to which the vacuum pump 2 is connected, for example, via a valve 4 for intake and exhaust in the chamber 3. An example is shown.

「処理」工程P1、P2(図3)と呼ばれる工程の間で、数slmまたは数十slm程度の大流量のガスを、例えば周期的に、チャンバ3に導入することができる。これらの処理工程P1、P2は、導入されるガスの流量が少ない、またはゼロである「アイドル」工程Iと呼ばれる工程の前または後に位置することができる。アイドル工程Iの間、真空ポンプ2は、例えば、チャンバ3内が空になるように、数分を超える間、「最終真空圧」として知られている圧力で作動している。この一連の工程は、例えば「HarpXT」プロセスとして公知のプロセスなど、半導体を製造するプロセスで行われている。 During the steps called "treatment" steps P1 and P2 (FIG. 3), a large flow rate gas of about several slm or several tens of slm can be introduced into the chamber 3, for example, periodically. These processing steps P1 and P2 can be located before or after a step called "idle" step I where the flow rate of the introduced gas is low or zero. During idle step I, the vacuum pump 2 operates at a pressure known as the "final vacuum pressure" for more than a few minutes, eg, to empty the chamber 3. This series of steps is carried out in a process for manufacturing a semiconductor, for example, a process known as a "HarpXT" process.

図1および図2に最もよく見られるように、真空ポンプ2は、ステータ5と、少なくとも1つの吸排気段T1-T5と、少なくとも1つの吸排気段T1-T5内に延在し、かつ、それぞれ少なくとも1つのロータ8を支えている2つのシャフト6、7と、ステータ5に連結された少なくとも1つの冷却要素11a、11bと、ステータ5の温度を測定するようになっている少なくとも1つの温度センサ12a、12bと、少なくとも1つの冷却要素11a、11bおよび少なくとも1つの温度センサ12a、12bによってステータ5の温度を制御するようになっている制御ユニット13とを備えている。 As most often seen in FIGS. 1 and 2, the vacuum pump 2 extends within the stator 5, at least one intake / exhaust stage T1-T5, and at least one intake / exhaust stage T1-T5, and Two shafts 6 and 7, respectively supporting at least one rotor 8, at least one cooling element 11a and 11b connected to the stator 5, and at least one temperature adapted to measure the temperature of the stator 5. It includes sensors 12a, 12b and a control unit 13 whose temperature is controlled by at least one cooling element 11a, 11b and at least one temperature sensor 12a, 12b.

ロータ8は、真空ポンプ2の吸気口9から真空ポンプ2の排気口10に吸排気されるガスGを駆動するために、ステータ5内で反対方向に同期して回転するようになっている。 The rotor 8 rotates synchronously in the stator 5 in the stator 5 in order to drive the gas G sucked and exhausted from the intake port 9 of the vacuum pump 2 to the exhaust port 10 of the vacuum pump 2.

ロータ8は、例えば、「ルーツ」式(「数字の8」または「インゲンマメ」の形の断面を有している)のような、または「クロー」式のような同一の輪郭を有するローブを有している。別の例によれば、吸排気ロータ8は、「スクリュー」式である。 The rotor 8 has a lobe having the same contour, for example, such as a "roots" type (having a cross section in the form of "number 8" or "bean bean"), or a "claw" type. is doing. According to another example, the intake / exhaust rotor 8 is a "screw" type.

真空ポンプ2は、例えば、5つの吸排気段などの少なくとも2つの吸排気段を備えている。各吸排気段T1~T5は、それぞれの入口と出口を備えている。連続する吸排気段T1~T5は、前の吸排気段の出口(または排気口)を次の段の入口(または吸気口)に接続するそれぞれの段間ダクト14によって次々に直列に接続している。 The vacuum pump 2 includes at least two intake / exhaust stages, for example, five intake / exhaust stages. Each intake / exhaust stage T1 to T5 has its own inlet and outlet. The continuous intake / exhaust stages T1 to T5 are connected in series one after another by the respective interstage ducts 14 that connect the outlet (or exhaust port) of the previous intake / exhaust stage to the inlet (or intake port) of the next stage. There is.

ロータ8の回転中、入口から吸引されたガスは、ロータ8によって形成された空間に閉じ込められ、次に、ロータ8によって排気口10に向かって押し出される(ガスが循環する方向を、図1および図2の矢印Gで示している)。真空ポンプ2は、運転中、ロータ8同士、またはステータ5と機械的に全く接触することなくステータ5内で回転し、吸排気段T1~T5でオイルを使用しないことを可能にするので、特に「ドライ」と言われる。 During the rotation of the rotor 8, the gas sucked from the inlet is confined in the space formed by the rotor 8 and then pushed out toward the exhaust port 10 by the rotor 8 (the direction in which the gas circulates, FIGS. 1 and 1). (Indicated by arrow G in FIG. 2). In particular, the vacuum pump 2 rotates in the stator 5 without any mechanical contact with the rotors 8 or with the stator 5 during operation, allowing oil to be used in the intake and exhaust stages T1 to T5. It is called "dry".

この例示的な実施形態では、乾式真空ポンプ型の真空ポンプ2は、多段低真空ポンプである。低真空ポンプは、容積式真空ポンプで、大気圧下で吸排気できるように、2つのロータを使用してガスを吸引し、移送し、排気する。別の実施例によれば、真空ポンプ2は、ルーツブロワ型であり、1段または2段の吸排気段を備えている。ルーツブロワ型の真空ポンプは、低真空ポンプの上流に直列に取り付けられている。 In this exemplary embodiment, the dry vacuum pump type vacuum pump 2 is a multi-stage low vacuum pump. The low vacuum pump is a positive displacement vacuum pump that sucks, transfers, and exhausts gas using two rotors so that it can be taken in and out under atmospheric pressure. According to another embodiment, the vacuum pump 2 is of the roots blower type and includes one or two stages of intake and exhaust. The roots blower type vacuum pump is installed in series upstream of the low vacuum pump.

1つの例示的な実施形態によれば、冷却要素11a、11bは、例えば外気温度の水の循環を可能にするための流体圧回路16を備えている(図2)。 According to one exemplary embodiment, the cooling elements 11a, 11b include, for example, a fluid pressure circuit 16 for allowing circulation of water at outside air temperature (FIG. 2).

流体圧回路16は、例えば、ステータ5に組み込まれている。例えば、シャフト6、7の軸受を冷却するために、軸受を取り囲む「U」字状である。 The fluid pressure circuit 16 is incorporated in the stator 5, for example. For example, in order to cool the bearings of the shafts 6 and 7, it has a "U" shape surrounding the bearings.

冷却要素11a、11bは、例えば、水の循環を可能にするか、または遮断するために操作することができる弁17をさらに備えている(「オールオアナッシング」制御)。 The cooling elements 11a, 11b further include, for example, a valve 17 that can be operated to allow or shut off the circulation of water (“all or nothing” control).

真空ポンプ2は、例えば、ステータ5に結合された2つの冷却要素11a、11bを備えており、一方の冷却要素11a、11bは、真空ポンプ2の各軸方向端部に配置されている(図2)。冷却要素11aは、低圧吸排気段と呼ばれる吸排気段T1に結合されており、吸排気段T1の入口は、真空ポンプ2の吸気口9に通じている。冷却要素11bは、高圧吸排気段と呼ばれる吸排気段T5に結合されており、吸排気段T5の出口は、真空ポンプ2の排気口10に通じている。 The vacuum pump 2 includes, for example, two cooling elements 11a and 11b coupled to the stator 5, one cooling element 11a and 11b being arranged at each axial end of the vacuum pump 2 (FIG. FIG. 2). The cooling element 11a is coupled to an intake / exhaust stage T1 called a low-pressure intake / exhaust stage, and the inlet of the intake / exhaust stage T1 leads to an intake port 9 of the vacuum pump 2. The cooling element 11b is coupled to an intake / exhaust stage T5 called a high-pressure intake / exhaust stage, and the outlet of the intake / exhaust stage T5 leads to the exhaust port 10 of the vacuum pump 2.

真空ポンプ2は、例えば、ステータ5に配置され、互いに離間している2つの温度センサ12a、12bを備えている。温度センサ12aは、例えば、吸気口9の側部に配置された冷却要素11aに関連付けられている。温度センサ12aは、例えば、低圧吸排気段T1の領域(吸気口9の側部)のステータ5に取り付けられている。温度センサ12bは、例えば、排気口10の側部に配置された冷却要素11bに関連付けられている。温度センサ12bは、例えば、高圧吸排気段T5の領域(排気口10の側部)のステータ5に取り付けられている。 The vacuum pump 2 is provided with, for example, two temperature sensors 12a and 12b arranged on the stator 5 and separated from each other. The temperature sensor 12a is associated with, for example, a cooling element 11a arranged on the side of the intake port 9. The temperature sensor 12a is attached to the stator 5 in the region of the low pressure intake / exhaust stage T1 (side of the intake port 9), for example. The temperature sensor 12b is associated with, for example, a cooling element 11b located on the side of the exhaust port 10. The temperature sensor 12b is attached to the stator 5 in the region of the high-pressure intake / exhaust stage T5 (side of the exhaust port 10), for example.

温度センサ12a、12bは、例えば、2つのシャフト6、7の間の中間点でステータ5上に、かつ、シャフト6、7の軸に平行な直線上に配置されている(図1)。 The temperature sensors 12a and 12b are arranged, for example, on the stator 5 at an intermediate point between the two shafts 6 and 7 and on a straight line parallel to the axes of the shafts 6 and 7 (FIG. 1).

制御ユニット13は、1つ以上のコントローラまたはマイクロコントローラまたはプロセッサと、真空ポンプ2の温度制御方法100を実現する一連のプログラム命令を実行するためのメモリとを備えている。この方法では、吸排気負荷の変動にさらされる真空ポンプ2の温度を、設定温度およびステータ5の温度測定に基づいて、ステータ5に結合された少なくとも1つの冷却要素11a、11bによって制御している。 The control unit 13 includes one or more controllers or microcontrollers or processors and a memory for executing a series of program instructions that implement the temperature control method 100 of the vacuum pump 2. In this method, the temperature of the vacuum pump 2 exposed to fluctuations in the intake / exhaust load is controlled by at least one cooling element 11a, 11b coupled to the stator 5 based on the set temperature and the temperature measurement of the stator 5. ..

これを行うために、制御ユニット13は、ステータ5の温度の測定値を受信するために、少なくとも1つの温度センサ12a、12bに接続され、かつ、例えば、流体圧回路16の関連する弁17の開閉を操作するために、少なくとも1つの冷却要素11a、11bに接続されている。温度制御は、それ自体の設定温度および関連する個々の測定温度によって、各冷却要素11a、11bで独立して行うことができる。 To do this, the control unit 13 is connected to at least one temperature sensor 12a, 12b to receive a temperature measurement of the stator 5, and for example, the associated valve 17 of the fluid pressure circuit 16. It is connected to at least one cooling element 11a, 11b for manipulating opening and closing. Temperature control can be performed independently on each cooling element 11a, 11b, depending on its own set temperature and the associated individual measured temperatures.

運転中、真空ポンプ2は、大流量または小流量のガスの間で変化する、吸排気負荷の変動にさらされることになる。 During operation, the vacuum pump 2 will be exposed to fluctuations in intake and exhaust loads that vary between high and low flow gases.

制御ユニット13は、吸排気負荷を示すパラメータの値が、負荷閾値Sを下回っているかどうかを監視する(診断工程101、図3)。 The control unit 13 monitors whether or not the value of the parameter indicating the intake / exhaust load is below the load threshold value S (diagnosis step 101, FIG. 3).

吸排気負荷を示すパラメータは、例えば、真空ポンプ2によって誘起される電流または真空ポンプ2によって消費される電力である。制御ユニット13は、例えば、処理工程P1、P2の周期の持続時間以上の時間にわたって誘起される電流、または消費される電力の平均値を計算する。これを行うために、制御ユニット13は、例えば、真空ポンプ2のモータ速度を変化させるバリエータの出力に接続している。 The parameter indicating the intake / exhaust load is, for example, the current induced by the vacuum pump 2 or the electric power consumed by the vacuum pump 2. The control unit 13 calculates, for example, the average value of the current induced or the power consumed over a time equal to or longer than the duration of the cycle of the processing steps P1 and P2. To do this, the control unit 13 is connected, for example, to the output of a variator that changes the motor speed of the vacuum pump 2.

吸排気負荷を示すパラメータの値が負荷閾値Sを超えている限り、処理工程P1、P2がチャンバ3で起きていると見なされる。 As long as the value of the parameter indicating the intake / exhaust load exceeds the load threshold value S, the processing steps P1 and P2 are considered to occur in the chamber 3.

この場合、例えば測定温度が設定温度を下回ったときに、水の循環を遮断するためにバルブ17を閉じることによって、測定温度が設定温度以上であるときに、水が循環できるようにバルブ17を開けることによって、制御ユニット13は、冷却要素11a、11bを使用して、設定温度を達成するために真空ポンプ2の温度を制御する(処理フェーズ調整工程102)。 In this case, for example, when the measured temperature falls below the set temperature, the valve 17 is closed to block the circulation of water so that the valve 17 can circulate when the measured temperature is equal to or higher than the set temperature. By opening, the control unit 13 uses the cooling elements 11a, 11b to control the temperature of the vacuum pump 2 in order to achieve the set temperature (processing phase adjusting step 102).

設定温度は、例えば70℃より高くなっている。 The set temperature is, for example, higher than 70 ° C.

吸排気負荷を示すパラメータの値が負荷閾値Sを下回っている限り、チャンバ3でアイドル工程Iが起きていると見なされる。この場合、制御ユニット13は、少なくとも1つの冷却要素11aによって真空ポンプ2の温度を制御するために、設定温度を上昇させる(アイドルフェーズ調整工程103)。 As long as the value of the parameter indicating the intake / exhaust load is lower than the load threshold value S, it is considered that the idle step I is occurring in the chamber 3. In this case, the control unit 13 raises the set temperature in order to control the temperature of the vacuum pump 2 by at least one cooling element 11a (idle phase adjusting step 103).

設定温度は、冷却要素11a、11bの両方、またはそれらの一方のみによって温度を制御するために上昇させることができる。しかし、少なくとも低圧吸排気段T1に結合された冷却要素11aによることが好ましい。これは、ロータ8とステータ5との間の熱交換能力が低圧ではあまり良くないため、温度調整がより困難であることによる。 The set temperature can be raised to control the temperature by both or only one of the cooling elements 11a, 11b. However, at least the cooling element 11a coupled to the low pressure intake / exhaust stage T1 is preferable. This is because the heat exchange capacity between the rotor 8 and the stator 5 is not so good at low pressure, which makes temperature adjustment more difficult.

上昇させる設定温度は、例えば、3℃を超えるなど、設定温度の少なくとも3%に相当する。上昇させる設定温度は、例えば、20℃未満など、設定温度の最大20%に相当する。上昇させる設定温度は、例えば、5℃など、設定温度の6%程度である。 The set temperature to be raised corresponds to at least 3% of the set temperature, for example, exceeding 3 ° C. The set temperature to be raised corresponds to a maximum of 20% of the set temperature, for example, less than 20 ° C. The set temperature to be raised is about 6% of the set temperature, for example, 5 ° C.

制御ユニット13は、処理工程P1、P2の間で設定温度を上昇させるために、例えば、水循環弁17を作動させる冷却要素11a、11bによって、真空ポンプ2の温度を制御する。 The control unit 13 controls the temperature of the vacuum pump 2 by, for example, cooling elements 11a and 11b that operate the water circulation valve 17 in order to raise the set temperature between the processing steps P1 and P2.

吸排気負荷を示すパラメータが負荷閾値Sを超えて増加したとき、さらなる処理工程P1、P2がチャンバ3で起きていると考えられる。 When the parameter indicating the intake / exhaust load increases beyond the load threshold value S, it is considered that further processing steps P1 and P2 are occurring in the chamber 3.

次に、上昇させた設定温度を初期設定温度に戻す前に、予め定めた追加時間の間、上昇させた設定温度を維持するための準備を行うことができる(再調整工程104)。 Next, preparations can be made to maintain the raised set temperature for a predetermined additional time before returning the raised set temperature to the initial set temperature (readjustment step 104).

追加時間は、予め定められており、センサを省くことができる。例えば、15分などのように10分より長く定めている。この再調整工程104は、処理工程P1、P2がより大きい吸排気負荷を処理した結果として、ステータ5にウォームアップする時間を与えることができる。これにより、初期設定温度に戻るときに、ロータ8とステータ5との温度差がさらに大きくなることを回避することができる。 The additional time is predetermined and the sensor can be omitted. For example, it is set longer than 10 minutes, such as 15 minutes. The readjustment step 104 can give the stator 5 time to warm up as a result of the treatment steps P1 and P2 processing a larger intake / exhaust load. As a result, it is possible to prevent the temperature difference between the rotor 8 and the stator 5 from becoming larger when the temperature returns to the initial set temperature.

これをよりよく理解するには、図4のグラフを参照することにより可能となる。これらのグラフは、一例として、吸排気負荷変動を受けた真空ポンプ2の消費電力曲線(曲線A)と、低圧吸排気段T1の近くで温度センサ12aによって測定されたステータ5の温度曲線(曲線B)と、本発明の理解の助けとして、低圧吸排気段T1のステータ5に結合された冷却要素11aの中心で、指示値として測定されたステータ5の2つの温度曲線(曲線CおよびD)とを示している。 A better understanding of this is possible by referring to the graph in FIG. As an example, these graphs show the power consumption curve (curve A) of the vacuum pump 2 subjected to the intake / exhaust load fluctuation and the temperature curve (curve) of the stator 5 measured by the temperature sensor 12a near the low pressure intake / exhaust stage T1. B) and two temperature curves (curves C and D) of the stator 5 measured as indicated values at the center of the cooling element 11a coupled to the stator 5 of the low pressure intake / exhaust stage T1 to aid in understanding the invention. It shows that.

最初の2時間は、80slm(135.12Pa.m/s)のガス流れがチャンバ3に周期的に導入されている。そのため、ガスは、80slmで5分間および0slmで3分間の流れを交互に繰り返す。したがって、吸排気負荷を示す消費電力は、3分(処理工程の無流量フェーズに等しい時間)を超える時間で、例えば600Wの負荷閾値を超える500~2000Wの方形波パターンで変化する(曲線A)。 For the first 2 hours, a gas stream of 80 slm (135.12 Pa. M 3 / s) is periodically introduced into chamber 3. Therefore, the gas alternately repeats the flow at 80 slm for 5 minutes and at 0 slm for 3 minutes. Therefore, the power consumption indicating the intake / exhaust load changes in a square wave pattern of 500 to 2000 W exceeding a load threshold of 600 W, for example, in a time exceeding 3 minutes (a time equal to the no flow rate phase of the processing step) (Curve A). ..

制御ユニット13は、冷却要素11a、11bによって83℃の設定温度を達成するために、真空ポンプ2の温度を制御する(処理フェーズ調整工程102)。したがって、温度センサ12aによって測定されるステータ5の温度は、オールオアナッシング調整モード(曲線B)のために、設定温度のまわりで81℃~86℃の間で変動することが分かるであろう。冷却要素11aの中心で(指示値として)測定された温度が84℃~87℃の間で変動することも分かるであろう(曲線CおよびD)。 The control unit 13 controls the temperature of the vacuum pump 2 in order to achieve the set temperature of 83 ° C. by the cooling elements 11a and 11b (processing phase adjusting step 102). Therefore, it will be seen that the temperature of the stator 5 measured by the temperature sensor 12a fluctuates between 81 ° C and 86 ° C around the set temperature due to the all-or-nothing adjustment mode (curve B). It will also be seen that the temperature measured (as an indication) at the center of the cooling element 11a varies between 84 ° C and 87 ° C (curves C and D).

次に、消費電力が負荷閾値S以下に低下する。これから、制御ユニット13は、アイドル工程Iがチャンバ3で起きていると結論付ける。したがって、制御ユニット13は、設定温度を5℃上昇させ(アイドルフェーズ調整工程103)、低圧吸排気段T1の冷却要素11aによって真空ポンプ2の温度を88℃に制御し、かつ高圧吸排気段T5の冷却要素11bによって真空ポンプ2の温度を83℃または88℃に制御する。 Next, the power consumption drops below the load threshold S. From this, the control unit 13 concludes that idle step I is occurring in chamber 3. Therefore, the control unit 13 raises the set temperature by 5 ° C. (idle phase adjusting step 103), controls the temperature of the vacuum pump 2 to 88 ° C. by the cooling element 11a of the low pressure intake / exhaust stage T1, and controls the temperature of the vacuum pump 2 to 88 ° C. The temperature of the vacuum pump 2 is controlled to 83 ° C. or 88 ° C. by the cooling element 11b of the above.

冷却要素11aに関連する温度センサ12aによって測定されるステータ5の温度は、約5℃上昇して、86℃~90℃の間で変動することに留意されたい(曲線B)。 It should be noted that the temperature of the stator 5 measured by the temperature sensor 12a associated with the cooling element 11a rises by about 5 ° C and fluctuates between 86 ° C and 90 ° C (curve B).

冷却要素11aの中心で測定された温度は、設定温度の上昇のために急速に上昇し、その後、吸排気負荷の減少により、処理工程P1の温度近くで安定する傾向になるまで低下することも見ることができる(曲線CおよびD)。 The temperature measured at the center of the cooling element 11a rises rapidly due to the rise in set temperature and then drops due to the decrease in intake and exhaust load until it tends to stabilize near the temperature in process P1. Can be seen (curves C and D).

そのため、設定温度の変更は、冷却要素11aによるステータ5の冷却をより早く遮断することを可能にし、ステータ5が冷却要素11aの近くで温まるようにしている。温度の低下にもかかわらず、冷却要素11aで測定されたステータ5の温度は、たとえあったとしても、処理工程P1の温度よりわずかに低下するだけである。したがって、ステータ5とロータ8との温度差は、ロータ8が高温のままであるとすると、処理工程P1とアイドル工程Iとでほぼ同じである。 Therefore, changing the set temperature makes it possible to shut off the cooling of the stator 5 by the cooling element 11a earlier, so that the stator 5 warms up near the cooling element 11a. Despite the decrease in temperature, the temperature of the stator 5 measured by the cooling element 11a, if any, is only slightly lower than the temperature of the processing step P1. Therefore, the temperature difference between the stator 5 and the rotor 8 is substantially the same in the processing step P1 and the idle step I, assuming that the rotor 8 remains at a high temperature.

次に、消費される電力は、負荷閾値S(曲線A)を超えて増加し、さらなる処理工程P2がチャンバ3で起きていることを示している。設定温度は、15分間、88℃まで上昇したままである(再調整工程104)。真空ポンプ2が加熱されると、冷却要素11aの領域内のステータ5の温度が再び上昇し始めることが分かるであろう(曲線CおよびD)。 Next, the power consumed increases beyond the load threshold S (curve A), indicating that further processing step P2 is occurring in chamber 3. The set temperature remains elevated to 88 ° C. for 15 minutes (readjustment step 104). It will be found that as the vacuum pump 2 is heated, the temperature of the stator 5 in the region of the cooling element 11a begins to rise again (curves C and D).

予め定めた追加の時間が経過した後、冷却要素11aの中心の温度がほぼ処理工程P1の前の値に戻ったので、制御ユニット13は、83℃に戻るように設定温度を下げる(処理フェーズ調整工程102)。冷却要素11aの中心の温度は、設定温度の違いによって低下し、その後、設定値が83℃になると再びゆっくりと上昇する。アイドル工程Iおよびそれに続く処理工程P2の間、温度は、冷却要素11aに近いステータ5の領域において83℃を超えたままであった。 After a predetermined additional time has elapsed, the temperature at the center of the cooling element 11a has almost returned to the value before the processing step P1, so that the control unit 13 lowers the set temperature so as to return to 83 ° C. (processing phase). Adjustment step 102). The temperature at the center of the cooling element 11a decreases due to the difference in the set temperature, and then slowly increases again when the set value reaches 83 ° C. During the idle step I and the subsequent processing step P2, the temperature remained above 83 ° C. in the region of the stator 5 near the cooling element 11a.

低吸排気負荷であるアイドル工程Iにおいて、設定温度を上げることで、ステータ5を、処理工程P1、P2におけると同じように、冷却要素11aの中心で高い温度に保つことができる。これにより、アイドル工程Iにおいて、ロータ8とステータ5との熱膨張の違いに起因する焼き付きまたはロータ8が互いに接触するリスクを防止することができる。 By raising the set temperature in the idle step I, which has a low intake / exhaust load, the stator 5 can be kept at a high temperature at the center of the cooling element 11a, as in the processing steps P1 and P2. This makes it possible to prevent the risk of seizure or contact between the rotors 8 due to the difference in thermal expansion between the rotor 8 and the stator 5 in the idle step I.

アイドル工程Iにおいて、高い温度に保つことにより、凝縮性汚染物質が固化または凝縮する恐れがある低温領域の発生を回避することもできる。 By keeping the temperature high in the idle step I, it is possible to avoid the generation of low temperature regions where condensable contaminants may solidify or condense.

吸排気負荷のモニタリングによってトリガーされる設定温度の変更により、温度制御方法の応答性を向上することができる。 By changing the set temperature triggered by monitoring the intake / exhaust load, the responsiveness of the temperature control method can be improved.

温度センサを追加する必要がなく、チャンバ3で起きている処理に関する情報を必要とせず、少なくとも1つの温度センサ12a、12bの位置または冷却要素11a、11bの構造を変更することなく、真空ポンプ2の熱的挙動を温度制御の判定機構に組み込むことにより、真空ポンプ2のセンサからすでに入手することができる情報に基づいて、このモニタリングを、さらに行うことができる。 The vacuum pump 2 does not require the addition of temperature sensors, does not require information about the processing occurring in the chamber 3, and does not change the position of at least one temperature sensor 12a, 12b or the structure of the cooling elements 11a, 11b. By incorporating the thermal behavior of the above into the temperature control determination mechanism, this monitoring can be further performed based on the information already available from the sensor of the vacuum pump 2.

1 設備
2 真空ポンプ
3 チャンバ
4 弁
5 ステータ
6、7 シャフト
8 ロータ
9 吸気口
10 排気口
11a、11b 冷却要素
12a、12b 温度センサ
13 制御ユニット
14 段間ダクト
16 流体圧回路
17 弁
100 温度制御方法
101 診断工程
102 処理フェーズ調整工程
103 アイドルフェーズ調整工程
104 再調整工程
G ガス
I アイドル工程
P1、P2 処理工程
T1-T5 吸排気段
S 負荷閾値
1 Equipment 2 Vacuum pump 3 Chamber 4 Valve 5 Stator 6, 7 Shaft 8 Rotor 9 Intake port 10 Exhaust port 11a, 11b Cooling element 12a, 12b Temperature sensor 13 Control unit 14 Interstage duct 16 Fluid pressure circuit 17 Valve 100 Temperature control method 101 Diagnostic process 102 Processing phase adjustment process 103 Idle phase adjustment process 104 Readjustment process G Gas I Idle process P1, P2 Processing process T1-T5 Intake / exhaust stage S Load threshold

Claims (10)

吸排気負荷の変動にさらされる乾式真空ポンプ型の真空ポンプ(2)の温度制御方法(100)であって、前記真空ポンプ(2)は、
○ ステータ(5)と、
○ 少なくとも1つの吸排気段(T1-T5)と、
○ 前記少なくとも1つの吸排気段(T1-T5)内に延在し、かつ、前記真空ポンプ(2)の吸気口(9)から排気口(10)に吸排気されるガス(G)を駆動するために、前記ステータ(5)内で反対方向に同期して回転するようになっている少なくとも1つのロータ(8)をそれぞれ支えている2つのシャフト(6、7)と、
○ 前記ステータ(5)に結合された少なくとも1つの冷却要素(11a、11b)と、
○ 前記ステータ(5)の温度を測定するようになっている少なくとも1つの温度センサ(12a、12b)と、
○ 前記少なくとも1つの冷却要素(11a、11b)および前記少なくとも1つの温度センサ(12a、12b)によって前記ステータ(5)の温度を制御するようになっている制御ユニット(13)とを備えており、
前記真空ポンプ(2)の温度は、設定温度および前記ステータ(5)の温度の測定に基づいて、前記ステータ(5)に結合された前記少なくとも1つの冷却要素(11a、11b)によって制御される乾式真空ポンプ型の真空ポンプ(2)の温度制御方法(100)において、
モニタリングは、前記真空ポンプ(2)によって誘起される電流または消費される電力のいずれかから選択される前記吸排気負荷を示すパラメータの値が、負荷閾値(S)を下回っているかどうかを監視し、前記吸排気負荷を示す前記パラメータの値が、前記負荷閾値(S)を下回っている場合、前記設定温度を上昇させることを特徴とする真空ポンプ(2)の温度制御方法(100)。
A temperature control method (100) for a dry vacuum pump type vacuum pump (2) exposed to fluctuations in intake / exhaust load, wherein the vacuum pump (2) is a method.
○ With the stator (5)
○ At least one intake / exhaust stage (T1-T5) and
○ Drives gas (G) that extends into at least one intake / exhaust stage (T1-T5) and is intake / exhaust from the intake port (9) of the vacuum pump (2) to the exhaust port (10). In order to do so, the two shafts (6, 7) supporting at least one rotor (8) that rotates synchronously in the opposite direction in the stator (5), respectively.
○ With at least one cooling element (11a, 11b) coupled to the stator (5),
○ At least one temperature sensor (12a, 12b) designed to measure the temperature of the stator (5), and
○ It is provided with a control unit (13) that controls the temperature of the stator (5) by the at least one cooling element (11a, 11b) and the at least one temperature sensor (12a, 12b). ,
The temperature of the vacuum pump (2) is controlled by the at least one cooling element (11a, 11b) coupled to the stator (5) based on the set temperature and the measurement of the temperature of the stator (5). In the temperature control method (100) of the dry vacuum pump type vacuum pump (2),
Monitoring monitors whether the value of the parameter indicating the intake / exhaust load selected from either the current induced by the vacuum pump (2) or the power consumed is below the load threshold (S). The temperature control method (100) of the vacuum pump (2), characterized in that the set temperature is raised when the value of the parameter indicating the intake / exhaust load is lower than the load threshold value (S).
前記真空ポンプの低圧吸排気段(T1)に結合された冷却要素(11a)によって、少なくとも温度を制御するために、前記設定温度を上昇させることを特徴とする請求項1に記載の真空ポンプ(2)の温度制御方法(100)。 The vacuum pump according to claim 1, wherein the set temperature is raised at least in order to control the temperature by a cooling element (11a) coupled to the low pressure intake / exhaust stage (T1) of the vacuum pump. 2) Temperature control method (100). 前記設定温度を上昇させた後、前記モニタリングは、前記吸排気負荷を示す前記パラメータの値が前記負荷閾値(S)を超えているかどうかを監視し、前記吸排気負荷を示す前記パラメータの値が前記負荷閾値(S)を超えている場合には、上昇させた設定温度を予め定めた追加時間の間維持することを特徴とする請求項1または2に記載の真空ポンプ(2)の温度制御方法(100)。 After raising the set temperature, the monitoring monitors whether the value of the parameter indicating the intake / exhaust load exceeds the load threshold value (S), and the value of the parameter indicating the intake / exhaust load is The temperature control of the vacuum pump (2) according to claim 1 or 2, wherein when the load threshold value (S) is exceeded, the raised set temperature is maintained for a predetermined additional time. Method (100). 前記予め定めた追加時間は、10分を超える時間であることを特徴とする請求項3に記載の真空ポンプ(2)の温度制御方法(100)。 The temperature control method (100) of the vacuum pump (2) according to claim 3, wherein the predetermined additional time is a time exceeding 10 minutes. 前記設定温度の上昇は、3℃を超える温度であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の真空ポンプ(2)の温度制御方法(100)。 The temperature control method (100) for the vacuum pump (2) according to any one of claims 1 to 4, wherein the increase in the set temperature is a temperature exceeding 3 ° C. 前記設定温度の上昇は、20℃未満の温度であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の真空ポンプ(2)の温度制御方法(100)。 The temperature control method (100) for the vacuum pump (2) according to any one of claims 1 to 5, wherein the increase in the set temperature is a temperature of less than 20 ° C. 乾式真空ポンプ型の真空ポンプ(2)であって、
- ステータ(5)と、
- 少なくとも1つの吸排気段(T1-T5)と、
- 前記少なくとも1つの吸排気段(T1-T5)内に延在し、かつ、前記真空ポンプ(2)の吸気口(9)から排気口(10)に吸排気されるガス(G)を駆動するために、前記ステータ(5)内で反対方向に同期して回転するようになっている少なくとも1つのロータ(8)をそれぞれ支えている2つのシャフト(6、7)と、
- 前記ステータ(5)に結合された少なくとも1つの冷却要素(11a、11b)と、
- 前記ステータ(5)の温度を測定するようになっている少なくとも1つの温度センサ(12a、12b)と、
- 前記少なくとも1つの冷却要素および前記少なくとも1つの温度センサによって前記ステータの温度を制御するようになっている制御ユニット(13)とを備える前記真空ポンプ(2)において、
前記制御ユニット(13)は、請求項1から6のいずれか1項に記載の温度制御方法(100)を実施するようになっていることを特徴とする乾式真空ポンプ型の真空ポンプ(2)。
It is a dry vacuum pump type vacuum pump (2).
-The stator (5) and
-At least one intake / exhaust stage (T1-T5) and
-Drives a gas (G) that extends into at least one intake / exhaust stage (T1-T5) and is sucked / exhausted from the intake port (9) of the vacuum pump (2) to the exhaust port (10). In order to do so, the two shafts (6, 7) supporting at least one rotor (8) that rotates synchronously in the opposite direction in the stator (5), respectively.
-With at least one cooling element (11a, 11b) coupled to the stator (5),
-At least one temperature sensor (12a, 12b) designed to measure the temperature of the stator (5), and
-In the vacuum pump (2) including the at least one cooling element and a control unit (13) configured to control the temperature of the stator by the at least one temperature sensor.
The dry vacuum pump type vacuum pump (2) is characterized in that the control unit (13) implements the temperature control method (100) according to any one of claims 1 to 6. ..
前記真空ポンプ(2)は、低真空ポンプであることを特徴とする請求項7に記載の乾式真空ポンプ型の真空ポンプ(2)。 The dry vacuum pump type vacuum pump (2) according to claim 7, wherein the vacuum pump (2) is a low vacuum pump. 前記真空ポンプ(2)は、前記ステータに結合された2つの冷却要素(11a、11b)を備えており、一方の冷却要素(11a、11b)は、前記真空ポンプの各軸方向端部に配置されていることを特徴とする請求項7または8に記載の乾式真空ポンプ型の真空ポンプ(2)。 The vacuum pump (2) comprises two cooling elements (11a, 11b) coupled to the stator, one cooling element (11a, 11b) located at each axial end of the vacuum pump. The dry vacuum pump type vacuum pump (2) according to claim 7 or 8, wherein the vacuum pump is of the dry type vacuum pump type. チャンバ(3)を備える設備において、前記チャンバ(3)内を吸排気するために前記チャンバ(3)に接続された、請求項7から9のいずれか1項に記載の前記乾式真空ポンプ型の真空ポンプ(2)を備えていることを特徴とする設備(1)。 The dry vacuum pump type according to any one of claims 7 to 9, which is connected to the chamber (3) in order to inhale and exhaust the inside of the chamber (3) in the equipment provided with the chamber (3). Equipment (1) characterized by being equipped with a vacuum pump (2).
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