JP2022182674A - Pattern film, roll film, and manufacturing method of pattern film - Google Patents

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Abstract

To provide a pattern film capable of preventing dielectric breakdown due to potential differences between wires in the manufacturing process.SOLUTION: The pattern film includes: a film substrate 10; and a conductive pattern 20 arranged on the surface of the film substrate 10. The conductive pattern 20 includes: a Y-direction electrode 21; a first wiring 23a; a second wiring 24 connected to the Y-direction electrode 21; and a third wiring 25 connected to the first wiring 23a. Each of the second wiring 24 and the third wiring 25 extends to downstream of the first wiring 23a in a carrying direction, and the position of the downstream end of the second wiring 24 and the third wiring 25 in the carrying direction is aligned.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本開示は、各種電子機器の入力操作等に用いられるタッチセンサ用のパターンフィルム、パターンフィルムを巻回したロールフィルム及びパターンフィルムの製造方法に関するものである。 The present disclosure relates to a pattern film for a touch sensor used for input operations of various electronic devices, a roll film obtained by winding the pattern film, and a method for manufacturing the pattern film.

従来から、液晶表示ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)等の表示装置等に適用されるタッチセンサに関し、例えば特許文献1,2に示されるものが知られている。 2. Description of the Related Art Conventionally, touch sensors applied to display devices such as liquid crystal displays (LCDs) are known, for example, as disclosed in Patent Documents 1 and 2.

また、特許文献3には、導電性パターンを有するロールフィルムの製造方法として、ロールトゥロールでの無電解めっき処理を用いた方法が開示されている。特許文献3の技術では、その図1及び図4に示されるように、複数のタッチセンサが支持体の搬送方向及びその直交方向に対して行列状に並べて配置されている。 Further, Patent Document 3 discloses a method using roll-to-roll electroless plating as a method for producing a roll film having a conductive pattern. In the technique disclosed in Patent Document 3, as shown in FIGS. 1 and 4, a plurality of touch sensors are arranged in rows and columns in the direction in which the support is conveyed and in the direction perpendicular thereto.

特開2017-151575号公報JP 2017-151575 A 特開2020-021184号公報JP 2020-021184 A 特開2021-055162号公報JP 2021-055162 A

ここで、ロールトゥロール方式の製造装置では、フィルムの搬送過程において、搬送ローラ等の設備に対して、基材フィルム(特許文献3では支持体に相当)の表面に形成された電極(特許文献3では機能性パターン部に相当)等の導電性パターンが接触する場合がある。 Here, in the roll-to-roll type manufacturing apparatus, in the process of transporting the film, an electrode (Patent Document 3 corresponds to the functional pattern portion) may come into contact with the conductive pattern.

そうすると、例えば、特許文献3のように、フィルムの搬送方向と直交する方向に複数の電極が延伸している場合、複数の電極が順番に設備に接触することになる。 Then, for example, as in Patent Document 3, when a plurality of electrodes are extended in a direction perpendicular to the transport direction of the film, the plurality of electrodes come into contact with the equipment in order.

電極同士は、互いに電気的に絶縁され、かつ、搬送ローラ等の設備は接地されている。したがって、設備に触れた配線は、設備を介してグランドに接続される一方で、隣接する配線は、設備に触れておらずフローティング状態ということが発生する。そうすると、グランドに接続された配線と、帯電が残っている配線とが隣接することで、配線間に電位差が発生し、配線間隔が狭い位置において絶縁破壊が生じる恐れがある。 The electrodes are electrically insulated from each other, and equipment such as the transport rollers is grounded. Therefore, the wiring that touches the equipment is connected to the ground through the equipment, while the adjacent wiring does not touch the equipment and is in a floating state. In this case, the wiring connected to the ground and the wiring with remaining charge are adjacent to each other, so that a potential difference occurs between the wirings, and there is a possibility that dielectric breakdown occurs at a position where the wiring spacing is narrow.

本開示は斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、パターンフィルムの製造工程において、配線間の電位差による絶縁破壊を回避することにある。 The present disclosure has been made in view of such points, and an object thereof is to avoid dielectric breakdown due to a potential difference between wirings in the manufacturing process of the pattern film.

上記の目的を達成するために、本開示の一実施形態に係るパターンフィルムは、フィルム基板と、前記フィルム基板の表面に配置された導電性パターンとを備え、前記導電性パターンは、前記フィルム基板の搬送方向と直交する直交方向に延びる電極と、前記電極よりも前記搬送方向の下流側において、前記直交方向に延びる第1配線と、前記電極に接続された第2配線と、前記第1配線に接続された第3配線とを備え、前記第2配線及び前記第3配線は、前記第1配線よりも前記搬送方向の下流側まで延び、かつ、前記第2配線及び前記第3配線の前記搬送方向の下流端の位置が揃っている。 To achieve the above object, a patterned film according to one embodiment of the present disclosure includes a film substrate and a conductive pattern disposed on a surface of the film substrate, the conductive pattern being formed on the film substrate. a first wiring extending in the orthogonal direction downstream of the electrode in the conveying direction; a second wiring connected to the electrode; and the first wiring and a third wiring connected to the second wiring and the third wiring, wherein the second wiring and the third wiring extend to a downstream side in the conveying direction from the first wiring, and the second wiring and the third wiring are connected to the The positions of the downstream ends in the transport direction are aligned.

本開示によると、パターンフィルムの製造工程において、配線間の電位差による絶縁破壊を回避することができる。 According to the present disclosure, it is possible to avoid dielectric breakdown due to a potential difference between wirings in the process of manufacturing a patterned film.

図1は、ロールトゥロール方式の製造装置でフィルムを搬送している状態を示す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram showing a state in which a film is transported in a roll-to-roll manufacturing apparatus. 図2は、第1実施形態において、第1電極面に配置された導電性パターンを、第1電極面側から見て示した概略図である。FIG. 2 is a schematic view showing the conductive pattern arranged on the first electrode surface as viewed from the first electrode surface side in the first embodiment. 図3は、図2の追加パターン周辺を拡大した部分拡大図である。3 is a partially enlarged view enlarging the periphery of the additional pattern in FIG. 2. FIG. 図4は、第1実施形態において、第2電極面に配置された導電性パターンを、第1電極面側から見て概略的に示した透視図である。FIG. 4 is a schematic perspective view of the conductive pattern arranged on the second electrode surface, viewed from the first electrode surface side, in the first embodiment. 図5は、第1実施形態において、フィルム基板に設けられた各構成を、第1電極面側から見て概略的に示した透視図である。FIG. 5 is a perspective view schematically showing each configuration provided on the film substrate in the first embodiment, viewed from the first electrode surface side. 図6は、図5のVI-VI線断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along line VI-VI of FIG. 図7は、第1実施形態に係るパターンフィルムの生産工程について説明するための図である。FIG. 7 is a diagram for explaining the production process of the pattern film according to the first embodiment. 図8は、第2実施形態において、第1電極面に配置された導電性パターンを、第1電極面側から見て示した概略図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing the conductive pattern arranged on the first electrode surface as viewed from the first electrode surface side in the second embodiment. 図9は、第2実施形態において、第2電極面に配置された導電性パターンを、第1電極面側から見て概略的に示した透視図である。FIG. 9 is a perspective view schematically showing the conductive pattern arranged on the second electrode surface, viewed from the first electrode surface side, in the second embodiment. 図10は、第2実施形態において、フィルム基板に設けられた各構成を、第1電極面側から見て概略的に示した透視図である。FIG. 10 is a perspective view schematically showing each configuration provided on the film substrate in the second embodiment, viewed from the first electrode surface side. 図11は、ロールフィルムの構成例を示した斜視図である。FIG. 11 is a perspective view showing a configuration example of a roll film. 図12は、図2の導電性パターンの他の例を示した図である。12 is a diagram showing another example of the conductive pattern of FIG. 2. FIG.

以下、本開示の各実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。以下の各実施形態の説明は、本質的に例示に過ぎず、本開示、その適用物或いはその用途を制限することを意図するものではない。 Hereinafter, each embodiment of the present disclosure will be described in detail based on the drawings. The description of each embodiment below is merely illustrative in nature, and is not intended to limit the present disclosure, its applications, or its uses.

[第1実施形態]
図1には、ロールトゥロール方式の製造装置60でフィルムが搬送されている状態を示す。製造装置60は、繰出しローラー62と、搬送路に設けられた搬送ローラー63と、巻取りローラー64とを備える。
[First embodiment]
FIG. 1 shows a state in which a film is transported in a roll-to-roll manufacturing apparatus 60 . The manufacturing device 60 includes a delivery roller 62 , a transport roller 63 provided on a transport path, and a winding roller 64 .

本開示では、製造装置60において、フィルム基板10が搬送される方向を、搬送方向またはX方向と称する。そして、フィルム基板10の搬送先側を「搬送方向の下流側」と称する。 In the present disclosure, the direction in which the film substrate 10 is transported in the manufacturing apparatus 60 is referred to as the transport direction or the X direction. The destination side of the film substrate 10 is referred to as the "downstream side in the transport direction".

また、フィルム基板10の表面において搬送方向と直交する方向を、直交方向またはY方向と称する。なお、本開示における「直交方向」とは、実質的な方向が直交していることを指すものとする。すなわち、「直交方向」とは、フィルム基板10の搬送方向に直交する場合に加えて、直交に対して角度が多少ずれている範囲を含むものとする。上記の多少のずれは、例えば、パターンの製造誤差、搬送時におけるフィルムのたわみや傾き等により生じ得る。 Also, the direction orthogonal to the transport direction on the surface of the film substrate 10 is called the orthogonal direction or the Y direction. It should be noted that the “perpendicular direction” in the present disclosure means that the substantial directions are perpendicular to each other. In other words, the "perpendicular direction" includes a range in which the angle is slightly deviated from the perpendicular direction in addition to the case in which the direction is perpendicular to the conveying direction of the film substrate 10 . The above-described slight deviation may occur due to, for example, manufacturing errors in the pattern, bending or tilting of the film during transport, or the like.

また、X方向及びY方向に直交する方向をZ方向と称する。Z方向は、フィルム基板10の厚さ方向に相当する。 A direction orthogonal to the X direction and the Y direction is called a Z direction. The Z direction corresponds to the thickness direction of the film substrate 10 .

製造装置60では、ロール状に巻き取られたフィルム基板10を繰出しローラー62と巻取りローラー64との間で、ロールトゥロールで引き伸ばしながら搬送する。 In the manufacturing apparatus 60 , the film substrate 10 wound into a roll is conveyed between a delivery roller 62 and a winding roller 64 while being stretched by roll-to-roll.

搬送ローラー63は、繰出しローラー62と巻取りローラー64との間の搬送路に設けられる。搬送ローラー63は、搬送路においてフィルム基板10の表面に当接され、搬送方向に沿って回転することにより、フィルム基板10を搬送方向に送り出す。搬送ローラー63は、グランド電位に接地されている。 The transport roller 63 is provided on the transport path between the delivery roller 62 and the take-up roller 64 . The transport roller 63 is brought into contact with the surface of the film substrate 10 in the transport path, and rotates along the transport direction to feed the film substrate 10 in the transport direction. The transport roller 63 is grounded to the ground potential.

本開示では、後述するタッチセンサ用の導電性パターン20,30が形成された状態のフィルムを「パターンフィルム」と称する。また、パターンフィルム1が巻き芯18に巻回されて構成されたロール状のフィルムを「ロールフィルム」と称する。図11には、ロールフィルムRFの構成例を示す。なお、製造装置60を用いたパターンフィルム1及びロールフィルムRFの製造方法については、後ほど説明する。 In the present disclosure, a film on which conductive patterns 20 and 30 for touch sensors, which will be described later, are formed is referred to as a "pattern film". A roll-shaped film formed by winding the pattern film 1 around the core 18 is called a "roll film". FIG. 11 shows a configuration example of the roll film RF. A method of manufacturing the pattern film 1 and the roll film RF using the manufacturing apparatus 60 will be described later.

(パターンフィルム)
図1~図6に示すように、パターンフィルム1は、フィルム基板10と、フィルム基板10の表面に配置された導電性パターン20,30とを備える。具体的には、フィルム基板10には、所定の間隔Pでパターン形成領域2が設けられている。パターン形成領域2には、タッチセンサ3が行列状に配置されている。各タッチセンサ3は、X方向が長辺方向、Y方向が短辺方向となるように配置される。
(pattern film)
As shown in FIGS. 1 to 6, the pattern film 1 includes a film substrate 10 and conductive patterns 20 and 30 arranged on the surface of the film substrate 10. FIG. Specifically, the film substrate 10 is provided with the pattern forming regions 2 at a predetermined interval P. As shown in FIG. Touch sensors 3 are arranged in a matrix in the pattern formation region 2 . Each touch sensor 3 is arranged so that the X direction is the long side direction and the Y direction is the short side direction.

図1では、パターン形成領域2に、X方向に3列、Y方向に3列のタッチセンサが設けられた例を示す。図1において、X1は、パターン形成領域2のX方向の長さであり、Y1は、パターン形成領域2のY方向の長さである。また、TDは、パターンフィルム1の短辺方向の幅である。なお、間隔P、長さX1,Y1及び各パターン形成領域2のタッチセンサ3の数は、図1の構成に限定されず、任意に設定することができる。 FIG. 1 shows an example in which the pattern formation region 2 is provided with three rows of touch sensors in the X direction and three rows in the Y direction. In FIG. 1, X1 is the length of the pattern formation region 2 in the X direction, and Y1 is the length of the pattern formation region 2 in the Y direction. TD is the width of the pattern film 1 in the short side direction. Note that the interval P, the lengths X1 and Y1, and the number of touch sensors 3 in each pattern forming region 2 are not limited to the configuration shown in FIG. 1, and can be set arbitrarily.

-タッチセンサ-
図5は、フィルム基板10に設けられた各構成を、後述する第1電極面12a側から見て概略的に示した透視図である。
-Touch sensor-
FIG. 5 is a perspective view schematically showing each configuration provided on the film substrate 10 as viewed from the side of a first electrode surface 12a, which will be described later.

図5に示すように、受信電極としての複数のY方向電極21及び送信電極としての複数のX方向電極31が、平面視において互いに交差(直交)するように配置されている。そして、各Y方向電極21と各X方向電極31とが重なり合う領域には、ノードが形成されている。このノードは、静電容量を生成可能な領域として構成されている。 As shown in FIG. 5, a plurality of Y-direction electrodes 21 as receiving electrodes and a plurality of X-direction electrodes 31 as transmitting electrodes are arranged so as to intersect (perpendicularly) each other in plan view. A node is formed in a region where each Y-direction electrode 21 and each X-direction electrode 31 overlap. This node is configured as a region capable of generating capacitance.

各送信電極は、例えば、フレキシブル配線板(図示省略)を介して駆動回路(図示省略)に接続されている。各送信電極は、この駆動回路により周囲に電界を放射するように構成されている。一方、各受信電極は、フレキシブル配線板(図示省略)を介して検出回路(図示省略)に接続されている。各受信電極は、各送信電極から放射された電界を受信するように構成されている。 Each transmission electrode is connected to a driving circuit (not shown) via a flexible wiring board (not shown), for example. Each transmitting electrode is configured to radiate an electric field to its surroundings by this drive circuit. On the other hand, each receiving electrode is connected to a detection circuit (not shown) through a flexible wiring board (not shown). Each receiving electrode is configured to receive the electric field radiated from each transmitting electrode.

以下において、各構成について具体的に説明する。 Each configuration will be specifically described below.

-フィルム基板-
図6に示すように、フィルム基板10は、基材フィルム11と、基材フィルム11の両面に配置されたインプリント樹脂層12,13とを備える。
-Film Substrate-
As shown in FIG. 6 , the film substrate 10 includes a base film 11 and imprint resin layers 12 and 13 arranged on both sides of the base film 11 .

基材フィルム11としては、例えば、高分子素材を一軸又は二軸延伸処理することにより成形された延伸フィルム等が挙げられる。基材フィルム11の材料としては、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂等の樹脂材料が挙げられる。基材フィルム11の厚さW1は、特に限定されないが、例えば50μmである。 Examples of the base film 11 include a stretched film formed by uniaxially or biaxially stretching a polymer material. Examples of materials for the base film 11 include resin materials such as cycloolefin resins, polycarbonate resins, and acrylic resins. A thickness W1 of the base film 11 is not particularly limited, but is, for example, 50 μm.

インプリント樹脂層12,13は、後述する複数の溝部12b,13bを形成するための層である。インプリント樹脂層12,13は、絶縁性および透過性を有する樹脂材料により構成されている。インプリント樹脂層12,13の厚さW2,W3は、特に限定されないが、それぞれ、例えば1.8~4.2μmである。 The imprint resin layers 12 and 13 are layers for forming a plurality of grooves 12b and 13b, which will be described later. The imprint resin layers 12 and 13 are made of an insulating and transparent resin material. The thicknesses W2 and W3 of the imprint resin layers 12 and 13 are not particularly limited, but are, for example, 1.8 to 4.2 μm.

一方のインプリント樹脂層12の外表面(以下、第1電極面12aという)には、導電性パターン20が配置されている。他方のインプリント樹脂層13の外表面(以下、第2電極面13aという)には、導電性パターン30が配置されている。インプリント樹脂層12の第1電極面12aには、導電性パターン20を形成するための有底状の溝部12bが形成されている。同様に、インプリント樹脂層13の第2電極面13aには、導電性パターン20を形成するための有底状の溝部13bが形成されている。各溝部12b,13bの深さは、例えば0.5~3.0μmである。 A conductive pattern 20 is arranged on the outer surface of one imprint resin layer 12 (hereinafter referred to as first electrode surface 12a). A conductive pattern 30 is arranged on the outer surface of the other imprint resin layer 13 (hereinafter referred to as a second electrode surface 13a). A bottomed groove portion 12b for forming the conductive pattern 20 is formed in the first electrode surface 12a of the imprint resin layer 12 . Similarly, on the second electrode surface 13a of the imprint resin layer 13, a bottomed groove 13b for forming the conductive pattern 20 is formed. The depth of each groove 12b, 13b is, for example, 0.5 to 3.0 μm.

-導電性パターン-
図2及び図3には、第1電極面12aに配置された導電性パターン20の構成を示している。
-Conductive pattern-
2 and 3 show the configuration of the conductive pattern 20 arranged on the first electrode surface 12a.

導電性パターン20は、複数のY方向電極21と、第1配線23aを含む周囲配線23と、複数の第2配線24と、第3配線25(図3参照)とを備える。複数のY方向電極21及び周囲配線23は、製品外形線15の内側に配置される。製品外形線15は、製品の外形を区画する線であり、パターンフィルム1から製品を切り出す際の切断線である。例えば、液晶表示ディスプレイ等の製品(図示省略)に搭載する場合に、パターンフィルム1から製品外形線15で切り出されて使用される。以下の説明では、製品外形線15で囲まれた領域を「領域MA」という。 The conductive pattern 20 includes a plurality of Y-direction electrodes 21, a peripheral wiring 23 including first wirings 23a, a plurality of second wirings 24, and a third wiring 25 (see FIG. 3). A plurality of Y-direction electrodes 21 and peripheral wiring 23 are arranged inside the product outline 15 . The product contour line 15 is a line that defines the contour of the product, and is a cutting line for cutting out the product from the pattern film 1 . For example, when it is mounted on a product (not shown) such as a liquid crystal display, the pattern film 1 is cut out along the product outline 15 and used. In the following description, the area surrounded by the product outline 15 will be referred to as "area MA".

導電性パターン20に用いる導電材料としては、銅(Cu)または銀(Ag)のような導電金属が適している。なお、上記導電金属に代えて、例えば、導電樹脂材、酸化インジウム錫、酸化錫等の光透過性を有する透明導電材を用いてもよい。導電性パターン30についても同様である。 A suitable conductive material for the conductive pattern 20 is a conductive metal such as copper (Cu) or silver (Ag). In place of the conductive metal, for example, a transparent conductive material having light transmittance such as a conductive resin material, indium tin oxide, or tin oxide may be used. The same applies to the conductive pattern 30 as well.

複数のY方向電極21は、所定のピッチでX方向に並べて配置されている。Y方向電極21の各々は、X方向およびY方向の各々に対して斜め方向に延びる複数の細線22により構成された複数のセルを規則的に並べて形成した網目構造のメッシュパターンを含む。上記複数のセルは、例えば、それぞれが平面視でひし形状であり、互いに同じ大きさに形成されている。なお、Y方向電極21の各々を構成する細線22の線幅は、0.5~2.0μmに設定されるのが好ましい。なお、図6では、細線22の図示を省略し、Y方向電極21が設けられた領域をハッチングで示している。後述する細線32についても同様である。 A plurality of Y-direction electrodes 21 are arranged side by side in the X-direction at a predetermined pitch. Each of the Y-direction electrodes 21 includes a mesh pattern of a mesh structure in which a plurality of cells each having a plurality of fine lines 22 extending obliquely to each of the X and Y directions are regularly arranged. The plurality of cells, for example, each have a rhombus shape in plan view and are formed to have the same size as each other. The line width of the fine lines 22 forming each of the Y-direction electrodes 21 is preferably set to 0.5 to 2.0 μm. In FIG. 6, the illustration of the fine lines 22 is omitted, and the regions where the Y-direction electrodes 21 are provided are indicated by hatching. The same applies to thin wires 32 to be described later.

周囲配線23は、複数のY方向電極21の外周を矩形状に囲むように配置されている。周囲配線23は、Y方向電極21の中で搬送方向の最下流側に位置する電極21aよりもさらに搬送方向の下流側において、Y方向に延びる第1配線23aを含む。なお、周囲配線23の具体的な配線形状は、特に限定されない。例えば、通常の直線状の配線であってもよいし、Y方向電極21のような網目構造のメッシュパターンで構成されていてもよい。 The surrounding wiring 23 is arranged so as to surround the outer periphery of the plurality of Y-direction electrodes 21 in a rectangular shape. The peripheral wiring 23 includes a first wiring 23a extending in the Y direction further downstream in the transport direction than the electrode 21a positioned most downstream in the transport direction among the Y-direction electrodes 21 . A specific wiring shape of the peripheral wiring 23 is not particularly limited. For example, it may be a normal linear wiring, or it may be configured with a mesh pattern of a network structure like the Y-direction electrodes 21 .

各Y方向電極21には、それぞれ、第2配線24が接続されている。周囲配線23には、第3配線25が接続されている。 A second wiring 24 is connected to each Y-direction electrode 21 . A third wiring 25 is connected to the peripheral wiring 23 .

各第2配線24は、Y方向電極21と接続端子26との間を接続する接続配線24aと、Y方向に沿って領域MAの外側に引き出され、領域MAの外側において搬送方向の下流側(X方向)に向かって延びる追加パターン24bとを含む。 Each of the second wirings 24 includes a connection wiring 24a connecting between the Y-direction electrode 21 and the connection terminal 26, and a connection wiring 24a that is drawn out of the area MA along the Y direction, and outside the area MA on the downstream side in the transport direction ( and an additional pattern 24b extending in the X direction).

第3配線25は、周囲配線23と接続端子26との間を接続する接続配線25aと、Y方向に沿って領域MAの外側に引き出され、領域MAの外側において搬送方向の下流側(X方向)に向かって延びる追加パターン25bとを含む。 The third wiring 25 is drawn out of the area MA along the Y direction and the connection wiring 25a connecting between the peripheral wiring 23 and the connection terminal 26, and is located on the downstream side in the transport direction (X direction) outside the area MA. ) and an additional pattern 25b extending toward .

各接続端子26は、Y方向に延び、平面視で接続配線24より幅広の略矩形状の端子である。複数の接続端子26は、領域MAの内側に設けられ、複数のY方向電極21からY方向に所定の間隔をあけて配置されている。複数の接続端子26は、X方向の中央付近に集約され、複数のY方向電極21同士の間隔よりも狭いピッチでX方向に並べて配置されている。接続端子26のうち、X方向の両外側に位置する端子には、第3配線25が接続され、残りの端子には、それぞれ、各接続配線24aが接続されている。 Each connection terminal 26 is a substantially rectangular terminal that extends in the Y direction and is wider than the connection wiring 24 in plan view. The plurality of connection terminals 26 are provided inside the area MA and are arranged at predetermined intervals in the Y direction from the plurality of Y-direction electrodes 21 . The plurality of connection terminals 26 are concentrated near the center in the X direction and arranged side by side in the X direction at a pitch narrower than the interval between the plurality of Y direction electrodes 21 . Of the connection terminals 26, terminals positioned on both outer sides in the X direction are connected to the third wirings 25, and the remaining terminals are connected to respective connection wirings 24a.

各接続配線24aは、Y方向電極21と接続端子26の互いに対向する端部同士を接続する。より詳しくは、各Y方向電極21の端部に接続された接続配線24aは、X方向の中央付近に集約され、それぞれに対応する接続端子26の一端部(Y方向電極21側の端部)に向かってY方向に並行するように延びている。 Each connection wiring 24a connects the ends of the Y-direction electrodes 21 and the connection terminals 26 facing each other. More specifically, the connection wirings 24a connected to the ends of the Y-direction electrodes 21 are concentrated near the center in the X-direction, and one end of the corresponding connection terminal 26 (the end on the Y-direction electrode 21 side) , extending in parallel with the Y direction.

接続配線25aは、X方向の中央に向かって延びた後Y方向に延びるL字状の配線であり、接続端子26の一端部(Y方向電極側の端部)に接続されている。 The connection wiring 25a is an L-shaped wiring extending in the Y direction after extending toward the center in the X direction, and is connected to one end of the connection terminal 26 (the end on the electrode side in the Y direction).

なお、接続端子26は、設けなくてもよい。その場合には、各接続配線24a,25aが、接続端子26の製品外形線15側の端部(以下、他端部という)まで延びるように形成される。 Note that the connection terminal 26 may not be provided. In that case, the connection wires 24a and 25a are formed to extend to the end of the connection terminal 26 on the product outline 15 side (hereinafter referred to as the other end).

図3に示すように、各接続端子26の他端部には、それぞれ、追加パターン24b,25bが接続されている。より詳しくは、各追加パターン24b,25bは、各接続端子26の他端部からY方向に並行するように延びて領域MAの外側まで引き出され、それぞれの線間ピッチSを保ったまま、X方向に折り曲げられ、X方向に沿って並行するように延びている。追加パターン24b,25bは、第1配線23aよりも搬送方向の下流側まで延びている。また、すべての追加パターン24b,25bは、下流端の位置が揃うように配置されている。第2配線24同士及び第2配線24と第3配線25は、互いに離間して配線され、相互間が絶縁されている。 As shown in FIG. 3, additional patterns 24b and 25b are connected to the other end of each connection terminal 26, respectively. More specifically, each of the additional patterns 24b and 25b extends from the other end of each connection terminal 26 so as to be parallel to the Y direction and is pulled out to the outside of the area MA. direction and extends parallel to the X direction. The additional patterns 24b and 25b extend to the downstream side in the transport direction from the first wiring 23a. Further, all the additional patterns 24b and 25b are arranged so that their downstream ends are aligned. The second wirings 24 and the second wirings 24 and the third wirings 25 are laid apart from each other and insulated from each other.

なお、第1配線23aの最も下流側の位置から追加パターン24b,25bの下流端までの距離Aは、1mm以上確保されているのが好ましい。また、製品外形線15と追加パターン24b,25bのうちのX方向に延びる配線パターンとの間の距離Bは、1mm以上確保されているのが好ましい。 A distance A from the most downstream position of the first wiring 23a to the downstream ends of the additional patterns 24b and 25b is preferably 1 mm or more. Moreover, it is preferable that the distance B between the product outline 15 and the wiring pattern extending in the X direction of the additional patterns 24b and 25b is 1 mm or more.

また、例えば、図1に示すように、フィルム基板10に、X方向に沿うように複数の導電性パターン20が行列状に並べて配置されている場合に、Y方向に並ぶ複数の導電性パターン20において、すべての第2配線24及び第3配線25のX方向の下流端の位置が揃っているのが好ましい。具体的には、例えば、図1では、Y方向に3つの導電性パターン20が並べて配置されている。この場合に、その3つの導電性パターン20すべての追加パターン24b,25bの下流端の位置が揃っているのが好ましい。 Further, for example, as shown in FIG. 1, when a plurality of conductive patterns 20 are arranged in a matrix along the X direction on the film substrate 10, the plurality of conductive patterns 20 arranged in the Y direction , the positions of the downstream ends in the X direction of all the second wirings 24 and the third wirings 25 are preferably aligned. Specifically, for example, in FIG. 1, three conductive patterns 20 are arranged side by side in the Y direction. In this case, it is preferable that the positions of the downstream ends of the additional patterns 24b and 25b of all the three conductive patterns 20 are aligned.

図4では、第2電極面13aに配置された導電性パターン30の構成を示している。 FIG. 4 shows the configuration of the conductive pattern 30 arranged on the second electrode surface 13a.

導電性パターン30は、複数のX方向電極31と、周囲配線33と、複数の接続配線34,35と、接続端子36とを備える。複数のX方向電極31及び周囲配線33は、製品外形線15の内側の領域MAに配置される。 The conductive pattern 30 includes a plurality of X-direction electrodes 31 , a peripheral wiring 33 , a plurality of connection wirings 34 and 35 and a connection terminal 36 . A plurality of X-direction electrodes 31 and peripheral wiring 33 are arranged in the area MA inside the product outline 15 .

複数のX方向電極31は、所定のピッチでY方向に並べて配置されている。X方向電極31の各々は、X方向およびY方向の各々に対して斜め方向に延びる複数の細線32により構成された複数のセルを規則的に並べて形成した網目構造のメッシュパターンを含む。上記複数のセルは、例えば、それぞれが平面視でひし形状であり、互いに同じ大きさに形成されている。なお、X方向電極31の各々を構成する細線32の線幅は、0.5~2.0μmに設定されるのが好ましい。 The plurality of X-direction electrodes 31 are arranged side by side in the Y-direction at a predetermined pitch. Each of the X-direction electrodes 31 includes a mesh pattern of a mesh structure in which a plurality of cells each formed by a plurality of fine lines 32 extending obliquely to each of the X-direction and the Y-direction are regularly arranged. The plurality of cells, for example, each have a rhombus shape in plan view and are formed to have the same size as each other. The line width of the fine lines 32 forming each of the X-direction electrodes 31 is preferably set to 0.5 to 2.0 μm.

周囲配線33は、複数のX方向電極31の外周を矩形状に囲むように配置されている。図5に示すように、周囲配線33は、前述の導電性パターン20の周囲配線23と平面視における位置が重なるように配置されている。なお、周囲配線33の具体的な配線形状は、特に限定されない。例えば、通常の直線状の配線であってもよいし、X方向電極31のような網目構造のメッシュパターンで構成されていてもよい。 The surrounding wiring 33 is arranged so as to surround the outer periphery of the plurality of X-direction electrodes 31 in a rectangular shape. As shown in FIG. 5, the peripheral wiring 33 is arranged so as to overlap the peripheral wiring 23 of the conductive pattern 20 described above in plan view. A specific wiring shape of the peripheral wiring 33 is not particularly limited. For example, it may be normal straight wiring, or it may be configured with a mesh pattern of a mesh structure like the X-direction electrodes 31 .

接続端子36は、Y方向に延び、平面視で接続配線34より幅広の略矩形状の端子である。複数の接続端子36は、接続端子26のX方向の両側において、所定のピッチでX方向に並べて配置されている。接続端子36のうち、X方向の両外側に位置する端子には、周囲配線33が接続された接続配線35が接続され、その他の端子には、各X方向電極31に接続された接続配線34がそれぞれ接続される。 The connection terminal 36 is a substantially rectangular terminal that extends in the Y direction and is wider than the connection wiring 34 in plan view. The plurality of connection terminals 36 are arranged side by side in the X direction at a predetermined pitch on both sides of the connection terminal 26 in the X direction. Of the connection terminals 36 , the terminals positioned on both sides in the X direction are connected to the connection wires 35 to which the peripheral wires 33 are connected, and the other terminals are connected to the connection wires 34 connected to the respective X direction electrodes 31 . are connected respectively.

図6に示すように、インプリント樹脂層13の第2電極面13a側の表面には、保護フィルム層14が設けられている。 As shown in FIG. 6, a protective film layer 14 is provided on the surface of the imprint resin layer 13 on the second electrode surface 13a side.

(パターンフィルムの製造方法)
図1及び図7を参照しながら、パターンフィルム1の製造方法について説明する。
(Manufacturing method of pattern film)
A method for manufacturing the pattern film 1 will be described with reference to FIGS. 1 and 7. FIG.

パターンフィルム1の製造方法は、フィルム基板10の表面に導電性パターン20,30を配置するパターン配置工程と、導電性パターン20が形成された面に搬送ローラー63を当接回転させながらパターンフィルム1を前記搬送方向に搬送する工程とを含む。 The method for manufacturing the pattern film 1 comprises a pattern arrangement step of arranging the conductive patterns 20 and 30 on the surface of the film substrate 10, and the pattern film 1 while rotating the transport roller 63 in contact with the surface on which the conductive pattern 20 is formed. is conveyed in the conveying direction.

以下、各工程について具体的に説明する。 Each step will be specifically described below.

-パターン配置工程-
以下において、導電性パターン20のパターン配置工程を説明する。
-Pattern placement process-
The pattern arrangement process of the conductive pattern 20 will be described below.

まず、溝部12bをインプリント樹脂層12の第1電極面12aに形成する。溝部12bの形成工程では、溝部12bにおける側面と底面との隅角部にフィレットを形成してもよい。 First, the groove portion 12b is formed in the first electrode surface 12a of the imprint resin layer 12 . In the step of forming the groove portion 12b, a fillet may be formed at the corner portion between the side surface and the bottom surface of the groove portion 12b.

次に、第1電極面12aに対して、例えば、TiやAL等の金属を含む金属窒化物または金属酸化物により構成される金属層を薄膜状に成膜する。この成膜により、溝部12b内に密着層が形成される。そして、密着層の形成後、第1電極面12aに対して、例えば、CuやAg等の導電金属層を薄膜状に成膜する。この成膜により、溝部12b内に導電層が成膜される。上記の密着層及び導電層の成膜には、例えば、スパッタリング法、蒸着法、メッキ法等が用いられる。導電層を所定量積層した後、第1電極面12a(溝部12b上)に積層した余剰分の導電金属膜が徐去される。 Next, on the first electrode surface 12a, for example, a metal layer composed of a metal nitride or a metal oxide containing a metal such as Ti or Al is formed in a thin film form. By this film formation, an adhesion layer is formed in the groove portion 12b. After the formation of the adhesion layer, a conductive metal layer such as Cu or Ag is formed as a thin film on the first electrode surface 12a. By this film formation, a conductive layer is formed in the groove portion 12b. For example, a sputtering method, a vapor deposition method, a plating method, or the like is used for forming the adhesion layer and the conductive layer. After laminating a predetermined amount of the conductive layer, the surplus conductive metal film laminated on the first electrode surface 12a (on the groove portion 12b) is removed.

以上の工程を経ることにより、導電性パターン20が形成され、配置される。 Through the above steps, the conductive pattern 20 is formed and arranged.

導電性パターン30についても、上記の導電性パターン20と同様にして形成され、配置される。 The conductive pattern 30 is also formed and arranged in the same manner as the conductive pattern 20 described above.

その後、インプリント樹脂層13の第2電極面13a側の表面に、保護フィルム層14が形成される。 After that, the protective film layer 14 is formed on the surface of the imprint resin layer 13 on the second electrode surface 13a side.

-搬送工程-
搬送工程では、製造装置60を用いて、ロール状に巻き取られたフィルム基板10を繰出しローラー62と巻取りローラー64との間で、ロールトゥロールで引き伸ばしながら搬送する。すなわち、フィルム基板10は、長辺方向(X方向)に引き伸ばされながら搬送される。そして、前述のとおり、繰出しローラー62から巻取りローラー64への搬送過程でフィルム基板10の表面に電極や配線等の導電性パターン20が形成されてもよい。
-Conveyance process-
In the transporting step, the manufacturing apparatus 60 is used to transport the film substrate 10 wound into a roll between a feed roller 62 and a take-up roller 64 while being stretched roll-to-roll. That is, the film substrate 10 is conveyed while being stretched in the long side direction (X direction). Then, as described above, the conductive pattern 20 such as electrodes and wiring may be formed on the surface of the film substrate 10 during the transportation process from the delivery roller 62 to the take-up roller 64 .

また、搬送工程は、パターン配置工程においてフィルム基板10に導電性パターン20が配置された後に、導電性パターン20が配置された第1電極面12aに搬送ローラー63を当接回転させながらパターンフィルム1を搬送方向に搬送する工程を含む。巻取りローラー64に巻き取られたパターンフィルム1を巻き芯18とともに抜き出すと、図11に示すロールフィルムRFが完成する。 In the transport step, after the conductive pattern 20 is arranged on the film substrate 10 in the pattern arrangement step, the pattern film 1 is transported while rotating the transport roller 63 in contact with the first electrode surface 12a on which the conductive pattern 20 is arranged. is conveyed in the conveying direction. When the pattern film 1 wound on the winding roller 64 is pulled out together with the winding core 18, the roll film RF shown in FIG. 11 is completed.

図7では、導電性パターン20の配置後におけるフィルム基板10の搬送の様子を示している。 FIG. 7 shows how the film substrate 10 is conveyed after the conductive pattern 20 is arranged.

図7において、X21は、時刻T1における搬送ローラー63と第1電極面12aとの当接位置を示している。換言すると、時刻T1では、フィルム基板10と搬送ローラー63との相対位置が位置X21になるまでフィルム基板10が搬送されている。同様に、X22~X24は、それぞれ時刻T2~T4(T1<T2<T3<T4)における搬送ローラー63と第1電極面12aとの当接位置を示している。 In FIG. 7, X21 indicates the contact position between the transport roller 63 and the first electrode surface 12a at time T1. In other words, at time T1, film substrate 10 is transported until the relative position between film substrate 10 and transport roller 63 reaches position X21. Similarly, X22 to X24 indicate contact positions between the transport roller 63 and the first electrode surface 12a at times T2 to T4 (T1<T2<T3<T4), respectively.

時刻T1において、位置X21までフィルム基板10が搬送されると、搬送ローラー63が、追加パターン24b,25bに接触する。すなわち、搬送ローラー63は、Y方向電極21及び周囲配線23に接触する前に、追加パターン24b,25bに接触される。 At time T1, when the film substrate 10 is transported to the position X21, the transport roller 63 contacts the additional patterns 24b and 25b. That is, the transport roller 63 contacts the additional patterns 24 b and 25 b before contacting the Y-direction electrodes 21 and the peripheral wiring 23 .

前述のとおり、搬送ローラー63は、グランドに接続されており、かつ、追加パターン24b,25bは、搬送方向の下流端の位置が揃っている。したがって、追加パターン24b,25bが同時にグランド電位に接地される。そうすると、追加パターン24b,25bに接続されているY方向電極21及び周囲配線23が同時にグランド電位に接地される。 As described above, the transport roller 63 is grounded, and the downstream ends of the additional patterns 24b and 25b are aligned in the transport direction. Therefore, the additional patterns 24b and 25b are simultaneously grounded to the ground potential. Then, the Y-direction electrodes 21 and the peripheral wiring 23 connected to the additional patterns 24b and 25b are simultaneously grounded to the ground potential.

時刻T2では、位置X22までフィルム基板10が搬送され、搬送ローラー63が周囲配線23に接触し、周囲配線23がグランド電位に接地される。このとき、周囲配線23の第1配線23aに隣接するY方向電極21aは、すでにグランド電位に接地されている。したがって、周囲配線23とY方向電極21aとの間に電位差が発生しない。これにより、例えば、互いに近接する接続配線24aと接続配線25aとの間に絶縁破壊等の不具合が発生するのを回避することができる。 At time T2, the film substrate 10 is transported to the position X22, the transport roller 63 contacts the peripheral wiring 23, and the peripheral wiring 23 is grounded to the ground potential. At this time, the Y direction electrode 21a adjacent to the first wiring 23a of the surrounding wiring 23 is already grounded to the ground potential. Therefore, no potential difference occurs between the peripheral wiring 23 and the Y-direction electrodes 21a. As a result, for example, it is possible to avoid problems such as dielectric breakdown occurring between the connection wiring 24a and the connection wiring 25a that are close to each other.

時刻T3及び時刻T4においても同様である。例えば、それぞれの位置X23、X24までフィルム基板10が搬送されると、搬送ローラー63との接触により、搬送方向下流側から順にY方向電極21がグランド電位に接地される。このとき、互いに隣接するY方向電極21同士が、すでにグランド電位に接地されているので、隣接するY方向電極21の間に電位差が発生しない。これにより、例えば、互いに近接する接続配線24a同士の間に絶縁破壊等の不具合が発生するのを回避することができる。 The same applies to time T3 and time T4. For example, when the film substrate 10 is transported to the respective positions X23 and X24, contact with the transport roller 63 causes the Y-direction electrodes 21 to be grounded to the ground potential in order from the downstream side in the transport direction. At this time, since the Y-direction electrodes 21 adjacent to each other are already grounded to the ground potential, no potential difference occurs between the adjacent Y-direction electrodes 21 . As a result, for example, it is possible to avoid problems such as dielectric breakdown occurring between the connection wirings 24a that are close to each other.

[第1実施形態の作用効果]
以上をまとめると、本実施形態に係るパターンフィルム1は、フィルム基板10と、フィルム基板10の表面に配置された導電性パターン20とを備えている。そして、導電性パターン20は、フィルム基板10の搬送方向(X方向)と直交する直交方向(Y方向)に延びるY方向電極21(電極21aを含む)と、Y方向電極21よりも搬送方向の下流側において、直交方向に延びる第1配線23aと、Y方向電極21に接続された第2配線24と、第1配線23aに接続された第3配線25とを備えている。また、第2配線24及び第3配線25は、第1配線23aよりも搬送方向の下流側まで延びており、第2配線24及び第3配線25の搬送方向の下流端の位置が揃うようにしている。なお、前述のとおり、ここでの直交方向は、実質的な方向が直交していることを指すものとし、フィルム基板の搬送方向に対する角度が直交から多少ずれている範囲を含む。すなわち、直交方向は、略直交方向を含む概念である。
[Action and effect of the first embodiment]
In summary, the pattern film 1 according to this embodiment includes a film substrate 10 and a conductive pattern 20 arranged on the surface of the film substrate 10 . The conductive pattern 20 includes Y-direction electrodes 21 (including electrodes 21a) extending in the orthogonal direction (Y-direction) perpendicular to the conveying direction (X-direction) of the film substrate 10, and Y-direction electrodes 21 extending in the conveying direction from the Y-direction electrodes 21. On the downstream side, there are provided first wirings 23a extending in the orthogonal direction, second wirings 24 connected to the Y-direction electrodes 21, and third wirings 25 connected to the first wirings 23a. The second wiring 24 and the third wiring 25 extend further downstream in the transport direction than the first wiring 23a. ing. As described above, the orthogonal direction here means that the directions are substantially orthogonal, and includes a range in which the angle with respect to the conveying direction of the film substrate is slightly deviated from the orthogonal direction. That is, the orthogonal direction is a concept including substantially orthogonal directions.

これにより、フィルム基板10が搬送方向に搬送される過程において、搬送ローラー63のような製造装置60の一部にフィルム基板10の表面が当接するような場合、すなわち、導電性パターン20が当接するような場合においても、互いに近接する配線間に電位差が発生して絶縁破壊等の不具合が発生するのを回避することができる。 As a result, when the surface of the film substrate 10 comes into contact with a portion of the manufacturing apparatus 60 such as the carrying roller 63 during the process of transporting the film substrate 10 in the transport direction, that is, the conductive pattern 20 comes into contact with the surface of the film substrate 10 . Even in such a case, it is possible to avoid problems such as dielectric breakdown due to the potential difference occurring between adjacent wirings.

例えば、特許文献3のような従来構成において、電極面が露出された状態で、電極面が搬送ローラ等の製造装置60の一部に順次接触すると、隣接する電極間のうちの一方の電極が先にグランド電位に接地される。そうすると、隣接する電極間のうちの他方の電極に電荷が残存していた場合に、電極間や配線間に電位差が生じて絶縁破壊等の不具合が発生する恐れがあるが、本実施形態ではそのようなことが回避できる。 For example, in a conventional configuration such as that disclosed in Patent Document 3, when the electrode surface is in an exposed state and sequentially contacts a portion of the manufacturing apparatus 60 such as a conveying roller, one electrode between the adjacent electrodes is grounded first. In this case, if an electric charge remains in the other of the adjacent electrodes, a potential difference may occur between the electrodes or between the wirings, which may cause problems such as dielectric breakdown. can be avoided.

また、上記第1実施形態において、Y方向電極21及び第1配線23aは、領域MA内に配置されている。そして、第2配線24及び第3配線25は、それぞれ、領域MAの外側に引き出され、領域MAの外側において第1配線23aよりも搬送方向の下流端の位置まで延びる追加パターン24b,25bを含んでいる。 Further, in the first embodiment, the Y-direction electrodes 21 and the first wirings 23a are arranged within the area MA. The second wiring 24 and the third wiring 25 include additional patterns 24b and 25b, respectively, which are pulled out of the area MA and extend to a position downstream of the first wiring 23a in the transport direction outside the area MA. I'm in.

このような構成にすることで、製品の小型化を妨げることなく、互いに近接する配線間に電位差が発生して絶縁破壊等の不具合が発生するのを防ぐという効果を得ることができる。後述するその他の実施形態においても同様である。 By adopting such a configuration, it is possible to obtain the effect of preventing problems such as dielectric breakdown due to the occurrence of a potential difference between mutually adjacent wirings without hindering product miniaturization. The same applies to other embodiments described later.

[第2実施形態]
図8~図10は、第2実施形態に係る導電性パターンの構成を示している。なお、以下の説明では、第1実施形態との相違点を中心に説明するものとする。
[Second embodiment]
8 to 10 show the configuration of the conductive pattern according to the second embodiment. In the following description, differences from the first embodiment will be mainly described.

パターンフィルム1は、フィルム基板10と、フィルム基板10の表面に配置された導電性パターン40,50とを備える。第1実施形態と同様に、所定の間隔Pでパターン形成領域2が設けられ、パターン形成領域2に、導電性パターン40,50で構成されたタッチセンサ3が行列状に配置されている。本実施形態では、各タッチセンサ3は、X方向が短辺方向、Y方向が長辺方向となるように配置される。 The pattern film 1 includes a film substrate 10 and conductive patterns 40 and 50 arranged on the surface of the film substrate 10 . As in the first embodiment, pattern formation regions 2 are provided at predetermined intervals P, and touch sensors 3 configured by conductive patterns 40 and 50 are arranged in a matrix in the pattern formation regions 2 . In this embodiment, each touch sensor 3 is arranged so that the X direction is the short side direction and the Y direction is the long side direction.

-タッチセンサ-
図10は、フィルム基板10に設けられたタッチセンサ3の各構成を、後述する第1電極面12a側から見て概略的に示した透視図である。
-Touch sensor-
FIG. 10 is a perspective view schematically showing each configuration of the touch sensor 3 provided on the film substrate 10, viewed from the side of a first electrode surface 12a, which will be described later.

図10に示すように、送信電極としての複数のY方向電極41及び受信電極としての複数のX方向電極51が、平面視において互いに交差(直交)するように配置されている。そして、各Y方向電極41と各X方向電極51とが重なり合う領域には、ノードが形成されている。このノードは、静電容量を生成可能な領域として構成されている。 As shown in FIG. 10, a plurality of Y-direction electrodes 41 as transmitting electrodes and a plurality of X-direction electrodes 51 as receiving electrodes are arranged so as to intersect (perpendicularly) each other in plan view. A node is formed in a region where each Y-direction electrode 41 and each X-direction electrode 51 overlap. This node is configured as a region capable of generating capacitance.

以下において、各構成について第1実施形態との相違点を中心に、より具体的に説明する。フィルム基板10の構成は、第1実施形態と同様なので、ここでの説明を省略する。 In the following, each configuration will be described more specifically, focusing on differences from the first embodiment. Since the configuration of the film substrate 10 is the same as that of the first embodiment, description thereof is omitted here.

-導電性パターン-
図8には、パターンフィルム1を第1電極面12a側から見た平面視での構成を示す。換言すると、図8には、第1電極面12aに配置された導電性パターン40の構成を示している。
-Conductive pattern-
FIG. 8 shows a plan view of the pattern film 1 from the side of the first electrode surface 12a. In other words, FIG. 8 shows the configuration of the conductive pattern 40 arranged on the first electrode surface 12a.

導電性パターン40は、複数のY方向電極41と、周囲配線43と、複数の接続配線44,45と、接続端子46とを備える。複数のY方向電極41及び周囲配線43は、製品外形線15の内側の領域MAに配置される。 The conductive pattern 40 includes a plurality of Y-direction electrodes 41 , a peripheral wiring 43 , a plurality of connection wirings 44 and 45 and a connection terminal 46 . A plurality of Y-direction electrodes 41 and peripheral wirings 43 are arranged in a region MA inside the product outline 15 .

複数のY方向電極41は、所定のピッチでX方向に並べて配置されている。Y方向電極41の各々は、X方向およびY方向の各々に対して斜め方向に延びる複数の細線42により構成された複数のセルを規則的に並べて形成した網目構造のメッシュパターンを含む。上記複数のセルは、例えば、それぞれが平面視でひし形状であり、互いに同じ大きさに形成されている。 A plurality of Y-direction electrodes 41 are arranged side by side in the X-direction at a predetermined pitch. Each of the Y-direction electrodes 41 includes a mesh pattern of a mesh structure in which a plurality of cells each having a plurality of fine lines 42 extending obliquely to each of the X and Y directions are regularly arranged. The plurality of cells, for example, each have a rhombus shape in plan view and are formed to have the same size as each other.

周囲配線43は、複数のY方向電極41の外周を矩形状に囲むように配置されている。なお、周囲配線33の具体的な配線形状は、特に限定されない。例えば、通常の直線状の配線であってもよいし、Y方向電極41のような網目構造のメッシュパターンで構成されていてもよい。 The surrounding wiring 43 is arranged so as to surround the outer periphery of the plurality of Y-direction electrodes 41 in a rectangular shape. A specific wiring shape of the peripheral wiring 33 is not particularly limited. For example, it may be ordinary straight wiring, or it may be configured with a mesh pattern of a network structure like the Y-direction electrode 41 .

接続端子46は、X方向に延び、平面視で接続配線44より幅広の略矩形状の端子である。複数の接続端子46は、後述する接続端子56のY方向の両側において、所定のピッチでY方向に並べて配置されている。接続端子46のうち、Y方向の両外側に位置する端子は、周囲配線43が接続された接続配線45が接続される端子であり、その内側に位置する端子は、各Y方向電極41に接続された接続配線44が接続される端子である。接続配線45は、すべてのY方向電極41よりも搬送方向(X方向)の下流側においてY方向に延びる第1配線45aを含む。 The connection terminal 46 is a substantially rectangular terminal that extends in the X direction and is wider than the connection wiring 44 in plan view. The plurality of connection terminals 46 are arranged side by side in the Y direction at a predetermined pitch on both sides of the connection terminal 56 described later in the Y direction. Of the connection terminals 46 , the terminals positioned on both outer sides in the Y direction are terminals to which the connection wires 45 to which the peripheral wires 43 are connected are connected, and the terminals positioned on the inner side are connected to the respective Y direction electrodes 41 . It is a terminal to which the connected connection wiring 44 is connected. The connection wiring 45 includes a first wiring 45 a extending in the Y direction downstream of all the Y direction electrodes 41 in the transport direction (X direction).

接続端子46は、第1配線45aよりも搬送方向の下流側まで延びている。また、すべての接続端子46は搬送方向の下流端の位置が揃っている。ここで、接続配線44を介してY方向電極41に接続された接続端子46は、第2配線に相当する。また、接続配線45を介して周囲配線43に接続された接続端子46は、第3配線に相当する。 The connection terminal 46 extends to the downstream side in the transport direction from the first wiring 45a. In addition, all the connection terminals 46 are aligned at the downstream ends in the conveying direction. Here, the connection terminal 46 connected to the Y-direction electrode 41 via the connection wiring 44 corresponds to the second wiring. A connection terminal 46 connected to the peripheral wiring 43 via the connection wiring 45 corresponds to a third wiring.

図9では、第2電極面13aに配置された導電性パターン50の構成を示している。 FIG. 9 shows the configuration of the conductive pattern 50 arranged on the second electrode surface 13a.

導電性パターン50は、複数のX方向電極51と、周囲配線53と、複数の接続配線54,55と、接続端子56とを備える。複数のX方向電極51及び周囲配線53は、製品外形線15の内側の領域MAに配置される。 The conductive pattern 50 includes a plurality of X-direction electrodes 51 , a peripheral wiring 53 , a plurality of connection wirings 54 and 55 and a connection terminal 56 . A plurality of X-direction electrodes 51 and surrounding wiring 53 are arranged in the area MA inside the product outline 15 .

複数のX方向電極51は、所定のピッチでY方向に並べて配置されている。X方向電極51の各々は、X方向およびY方向の各々に対して斜め方向に延びる複数の細線52により構成された複数のセルを規則的に並べて形成した網目構造のメッシュパターンを含む。上記複数のセルは、例えば、それぞれが平面視でひし形状であり、互いに同じ大きさに形成されている。 A plurality of X-direction electrodes 51 are arranged side by side in the Y-direction at a predetermined pitch. Each of the X-direction electrodes 51 includes a mesh pattern of a network structure in which a plurality of cells each formed by a plurality of fine lines 52 extending obliquely to each of the X-direction and the Y-direction are regularly arranged. The plurality of cells, for example, each have a rhombus shape in plan view and are formed to have the same size as each other.

周囲配線53は、複数のX方向電極51の外周を矩形状に囲むように配置されている。図10に示すように、周囲配線53は、前述の導電性パターン40の周囲配線43と平面視における位置が重なるように配置されている。なお、周囲配線53の具体的な配線形状は、特に限定されない。例えば、通常の直線状の配線であってもよいし、X方向電極51のような網目構造のメッシュパターンで構成されていてもよい。 The surrounding wiring 53 is arranged so as to surround the outer periphery of the plurality of X-direction electrodes 51 in a rectangular shape. As shown in FIG. 10, the peripheral wiring 53 is arranged so as to overlap the peripheral wiring 43 of the conductive pattern 40 described above in plan view. A specific wiring shape of the peripheral wiring 53 is not particularly limited. For example, it may be a normal linear wiring, or it may be configured with a mesh pattern of a network structure like the X-direction electrodes 51 .

接続端子56は、X方向に延び、平面視で接続配線54より幅広の略矩形状の端子である。接続端子56のうち、Y方向の両外側に位置する端子には、周囲配線53が接続された接続配線55が接続され、その他の端子には、各X方向電極51に接続された接続配線54が接続される。 The connection terminal 56 is a substantially rectangular terminal that extends in the X direction and is wider than the connection wiring 54 in plan view. Of the connection terminals 56 , the terminals positioned on both outer sides in the Y direction are connected to the connection wirings 55 to which the peripheral wirings 53 are connected, and the other terminals are connected to the connection wirings 54 connected to the respective X-direction electrodes 51 . is connected.

(パターンフィルムの製造方法)
本実施形態のパターニング方法は、第1実施形態と同様に、フィルム基板10の表面に導電性パターン40,50を配置するパターン配置工程と、導電性パターン40が形成された面に搬送ローラー63を当接回転させながらパターンフィルム1を搬送方向に搬送する工程とを含む。なお、パターン配置工程及び搬送工程の基本動作については、第1実施形態と同様であり、ここでの説明を省略する。
(Manufacturing method of pattern film)
As in the first embodiment, the patterning method of the present embodiment includes a pattern arrangement step of arranging the conductive patterns 40 and 50 on the surface of the film substrate 10, and a transport roller 63 on the surface on which the conductive pattern 40 is formed. and a step of conveying the pattern film 1 in the conveying direction while rotating it in contact. Note that the basic operations of the pattern arrangement process and the transport process are the same as those of the first embodiment, and descriptions thereof are omitted here.

搬送工程は、パターン配置工程においてフィルム基板10に導電性パターン40が配置された後に、導電性パターン40が配置された第1電極面12aに搬送ローラー63を当接回転させながらパターンフィルム1を搬送方向に搬送する工程を含む。 In the transport step, after the conductive pattern 40 is arranged on the film substrate 10 in the pattern arrangement step, the pattern film 1 is transported while rotating the transport roller 63 in contact with the first electrode surface 12a on which the conductive pattern 40 is arranged. direction.

本実施形態において、搬送ローラー63は、Y方向電極41、周囲配線43及び接続配線44,45よりも先に、接続端子46の搬送方向の下流端に接触する。 In this embodiment, the transport roller 63 contacts the downstream end of the connection terminal 46 in the transport direction before the Y-direction electrode 41 , the surrounding wiring 43 and the connection wirings 44 and 45 .

前述のとおり、搬送ローラー63は、グランドに接続されており、かつ、接続端子46の搬送方向の下流端の位置が揃っている。したがって、接続端子46が同時にグランド電位に接地される。そうすると、接続端子46に接続されているY方向電極41及び周囲配線43が同時にグランド電位に接地される。そうすると、搬送ローラー63が、Y方向電極41、周囲配線43及び接続配線44,45のいずれかに接触した場合においても、第1電極面12aの他の配線や他のY方向電極41との間に電位差が発生しない。これにより、例えば、互いに近接する接続配線44と接続配線45との間に絶縁破壊等の不具合が発生するのを回避することができる。フィルム基板10が搬送方向に搬送される過程において、搬送ローラー63のような製造装置60の一部にフィルム基板の表面が当接する場合、すなわち、導電性パターン40が当接するような場合においても、互いに近接する配線間に電位差が発生して絶縁破壊等の不具合が発生するのを回避することができる。 As described above, the transport roller 63 is grounded, and the positions of the downstream ends of the connection terminals 46 in the transport direction are aligned. Therefore, the connection terminal 46 is simultaneously grounded to the ground potential. Then, the Y-direction electrode 41 and the peripheral wiring 43 connected to the connection terminal 46 are simultaneously grounded to the ground potential. As a result, even when the conveying roller 63 contacts any one of the Y-direction electrode 41, the surrounding wiring 43, and the connection wirings 44 and 45, there is no contact between the other wiring on the first electrode surface 12a and the other Y-direction electrode 41. no potential difference occurs. As a result, for example, it is possible to avoid problems such as dielectric breakdown occurring between the connection wiring 44 and the connection wiring 45 that are close to each other. In the process of transporting the film substrate 10 in the transport direction, even when the surface of the film substrate abuts against a part of the manufacturing apparatus 60 such as the transport roller 63, that is, when the conductive pattern 40 abuts, It is possible to avoid problems such as dielectric breakdown caused by the potential difference occurring between adjacent wirings.

[第2実施形態の作用効果]
以上をまとめると、本実施形態においても、第1実施形態と同様に、フィルム基板10が搬送方向に搬送される過程において、搬送ローラー63のような製造装置60の一部にフィルム基板10の表面が当接する、すなわち、導電性パターン40が当接するような場合においても、互いに近接する配線間に電位差が発生して絶縁破壊等の不具合が発生するのを回避することができる。
[Action and effect of the second embodiment]
In summary, in the present embodiment, as in the first embodiment, during the process in which the film substrate 10 is conveyed in the conveying direction, a portion of the manufacturing apparatus 60 such as the conveying roller 63 is attached to the surface of the film substrate 10 . Even when the conductive patterns 40 abut against each other, it is possible to avoid problems such as dielectric breakdown caused by a potential difference occurring between adjacent wirings.

[その他の実施形態]
以上のように、本出願において開示する技術の例示として、実施形態について説明した。しかしながら、本開示における技術は、これに限定されず、適宜、変更、置き換え、付加、省略等を行った実施形態にも適用可能である。また、上記実施形態で説明した各構成要素を組み合わせて、新たな実施の形態とすることも可能である。
[Other embodiments]
As described above, the embodiments have been described as examples of the technology disclosed in the present application. However, the technology in the present disclosure is not limited to this, and can be applied to embodiments in which modifications, replacements, additions, omissions, etc. are made as appropriate. Further, it is also possible to combine the components described in the above embodiments to form new embodiments.

例えば、上記第1実施形態において、インプリント樹脂層12の第1電極面12aに周囲配線23を設けなくてもよい。図12では、図2において、周囲配線23を省いた構成例を示しており、ここでは第1実施形態との相違点を中心に説明する。 For example, in the first embodiment described above, the peripheral wiring 23 may not be provided on the first electrode surface 12a of the imprint resin layer 12 . FIG. 12 shows a configuration example in which the peripheral wiring 23 is omitted from FIG. 2. Here, differences from the first embodiment will be mainly described.

図12において、導電性パターン20は、複数のY方向電極21と、複数の第2配線24とを備える。それぞれのY方向電極21及び第2配線24の構成は、第1実施形態と同様である。 In FIG. 12 , the conductive pattern 20 includes a plurality of Y-direction electrodes 21 and a plurality of second wirings 24 . The configurations of the Y-direction electrodes 21 and the second wirings 24 are the same as in the first embodiment.

複数のY方向電極21は、互いに並行してY方向に延びる第1電極及び第2電極を含む。第2電極は、第1電極よりも搬送方向下流側に設けられている。そして、第2配線24は、第1電極に接続された第1配線と、第2電極に接続された第2配線とを含む。 The multiple Y-direction electrodes 21 include first electrodes and second electrodes extending in the Y-direction in parallel with each other. The second electrode is provided downstream of the first electrode in the transport direction. The second wiring 24 includes a first wiring connected to the first electrode and a second wiring connected to the second electrode.

例えば、図12おいて、21cの符号を付したY方向電極21が第1電極に相当し、24cの符号を付した第2配線24が「第1電極に接続された第1配線」に相当する。同様に、21dの符号を付したY方向電極が第2電極に相当し、24dの符号を付した第2配線24が「第2電極に接続された第2配線」に相当する。 For example, in FIG. 12, the Y-direction electrode 21 denoted by 21c corresponds to the first electrode, and the second wiring 24 denoted by 24c corresponds to "the first wiring connected to the first electrode". do. Similarly, the Y direction electrode denoted by 21d corresponds to the second electrode, and the second wiring 24 denoted by 24d corresponds to "the second wiring connected to the second electrode".

図12においても、各第2配線24は、接続配線24aと、追加パターン24bとを含む。第2配線24同士は、互いに離間して配線され、相互間が絶縁されている。 Also in FIG. 12, each second wiring 24 includes a connection wiring 24a and an additional pattern 24b. The second wirings 24 are laid apart from each other and insulated from each other.

接続配線24aは、Y方向電極21と接続端子26の一端部との間を接続する。追加パターン24bは、接続端子26の他端部からY方向に沿って領域MAの外側に引き出され、領域MAの外側において搬送方向の下流側(X方向)に向かって延びている。すべての追加パターン24bは、第1配線23aよりも搬送方向の下流側まで延び、それぞれの下流端の位置が揃うように配置されている。 The connection wiring 24 a connects between the Y-direction electrode 21 and one end of the connection terminal 26 . The additional pattern 24b is pulled out from the other end of the connection terminal 26 along the Y direction to the outside of the area MA, and extends toward the downstream side (X direction) in the transport direction outside the area MA. All the additional patterns 24b extend to the downstream side in the transport direction from the first wirings 23a, and are arranged such that their downstream ends are aligned.

なお、Y方向電極21の中で搬送方向の最下流側に位置する電極21dの下流端から、追加パターン24bの下流端までの距離A1は、1mm以上確保されているのが好ましい。また、製品外形線15と追加パターン24bのうちのX方向に延びる配線パターンとの間の距離B1は、1mm以上確保されているのが好ましい。 A distance A1 from the downstream end of the electrode 21d positioned most downstream in the transport direction among the Y-direction electrodes 21 to the downstream end of the additional pattern 24b is preferably 1 mm or more. Moreover, it is preferable that the distance B1 between the product outline 15 and the wiring pattern extending in the X direction of the additional pattern 24b is 1 mm or more.

「パターンフィルムの製造方法」については、第1実施形態と同様なので、ここではその説明を省略する。 Since the "method for manufacturing a pattern film" is the same as in the first embodiment, the description thereof is omitted here.

以上のように、図2から周囲配線23を省いた構成とした場合においても、第1実施形態と同様の効果が得られる。より詳しくは、図12の構成においても、搬送ローラー63は、Y方向電極21に接触するのに先だってすべての追加パターン24bの先端部に同時に接触される。これにより、それぞれのY方向電極21が同時にグランド電位に接地されるので、互いに近接する配線間に電位差が発生して絶縁破壊等の不具合が発生するのを回避することができる。 As described above, the same effect as in the first embodiment can be obtained even in the case of omitting the peripheral wiring 23 from FIG. More specifically, in the configuration of FIG. 12 as well, the conveying roller 63 simultaneously contacts the tips of all the additional patterns 24b prior to contacting the Y-direction electrodes 21. As shown in FIG. As a result, since the Y-direction electrodes 21 are grounded to the ground potential at the same time, it is possible to avoid problems such as dielectric breakdown caused by the potential difference occurring between adjacent wirings.

なお、図示しないが、前述の第1実施形態のように、フィルム基板10に、X方向に沿うように複数の導電性パターン20が行列状に並べて配置されている場合に、Y方向に並ぶ複数の導電性パターン20において、すべての第2配線24(第1配線及び第2配線に相当)のX方向の下流端の位置が揃っていてもよい。すなわち、Y方向に複数の導電性パターン20が並べられている場合に、その複数の導電性パターン20すべての追加パターン24bの下流端の位置が揃っていてもよい。 Although not shown, when a plurality of conductive patterns 20 are arranged in a matrix along the X direction on the film substrate 10 as in the first embodiment described above, a plurality of conductive patterns 20 arranged in the Y direction are arranged. In the conductive pattern 20, the downstream ends in the X direction of all the second wirings 24 (corresponding to the first wirings and the second wirings) may be aligned. That is, when a plurality of conductive patterns 20 are arranged in the Y direction, the positions of the downstream ends of the additional patterns 24b of all of the plurality of conductive patterns 20 may be aligned.

本開示は、各種電子機器の入力操作等に用いられるタッチセンサ用のパターンフィルムとして産業上の利用が可能である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present disclosure can be industrially applied as a pattern film for touch sensors used for input operations of various electronic devices.

1:パターンフィルム
10:フィルム基板
20:導電性パターン
21a:電極
21c:第1電極
21d:第2電極
23a:第1配線
24:第2配線
25:第3配線
RF:ロールフィルム
MA:領域
1: pattern film 10: film substrate 20: conductive pattern 21a: electrode 21c: first electrode 21d: second electrode 23a: first wiring 24: second wiring 25: third wiring RF: roll film MA: area

Claims (8)

フィルム基板と、
前記フィルム基板の表面に配置された導電性パターンとを備え、
前記導電性パターンは、
前記フィルム基板の搬送方向と直交する直交方向に延びる電極と、
前記電極よりも前記搬送方向の下流側において、前記直交方向に延びる第1配線と、
前記電極に接続された第2配線と、
前記第1配線に接続された第3配線とを備え、
前記第2配線及び前記第3配線は、前記第1配線よりも前記搬送方向の下流側まで延び、かつ、前記第2配線及び前記第3配線の前記搬送方向の下流端の位置が揃っている、パターンフィルム。
a film substrate;
A conductive pattern disposed on the surface of the film substrate,
The conductive pattern is
an electrode extending in an orthogonal direction orthogonal to the transport direction of the film substrate;
a first wiring extending in the orthogonal direction downstream of the electrode in the transport direction;
a second wiring connected to the electrode;
and a third wiring connected to the first wiring,
The second wiring and the third wiring extend further downstream in the transport direction than the first wiring, and downstream ends of the second wiring and the third wiring in the transport direction are aligned. , pattern film.
フィルム基板と、
前記フィルム基板の表面に形成された導電性パターンとを備え、
前記導電性パターンは、
前記フィルム基板の搬送方向と直交する直交方向に延びる第1電極と、
前記第1電極よりも前記搬送方向の下流側において、前記直交方向に延びる第2電極と、
前記第1電極に接続された第1配線と、
前記第2電極に接続された第2配線とを備え、
前記第1配線及び前記第2配線は、前記第2電極よりも前記搬送方向の下流側まで延び、かつ、前記第1配線及び前記第2配線の前記搬送方向の下流端の位置が揃っている、パターンフィルム。
a film substrate;
A conductive pattern formed on the surface of the film substrate,
The conductive pattern is
a first electrode extending in an orthogonal direction perpendicular to the transport direction of the film substrate;
a second electrode extending in the orthogonal direction downstream of the first electrode in the transport direction;
a first wiring connected to the first electrode;
and a second wiring connected to the second electrode,
The first wiring and the second wiring extend further downstream in the transport direction than the second electrode, and downstream ends of the first wiring and the second wiring in the transport direction are aligned. , pattern film.
請求項1に記載のパターンフィルムにおいて、
前記電極及び前記第1配線は、所定の領域内に配置され、
前記第2配線及び前記第3配線は、それぞれ、前記領域の外側に引き出され、前記領域の外側において前記搬送方向の下流端の位置まで延びる追加パターンを含む、パターンフィルム。
In the patterned film according to claim 1,
the electrode and the first wiring are arranged in a predetermined area,
The pattern film, wherein the second wiring and the third wiring each include an additional pattern drawn outside the region and extending to a position of a downstream end in the transport direction outside the region.
請求項2に記載のパターンフィルムにおいて、
前記第1電極及び前記第2電極は、所定の領域内に配置され、
前記第1配線及び前記第2配線は、それぞれ、前記領域の外側に引き出され、前記領域の外側において前記搬送方向の下流端の位置まで延びる追加パターンを含む、パターンフィルム。
In the pattern film according to claim 2,
The first electrode and the second electrode are arranged within a predetermined area,
The pattern film, wherein the first wiring and the second wiring each include an additional pattern drawn outside the region and extending to a position of a downstream end in the transport direction outside the region.
請求項1または3に記載のパターンフィルムにおいて、
前記フィルム基板には、前記搬送方向に沿うように複数の前記導電性パターンが行列状に並べて配置され、
前記直交方向に並ぶ複数の前記導電性パターンにおいて、すべての前記第2配線及び前記第3配線の前記搬送方向の下流端の位置が揃っている、パターンフィルム。
In the pattern film according to claim 1 or 3,
A plurality of the conductive patterns are arranged in a matrix on the film substrate along the transport direction,
The pattern film, wherein in the plurality of conductive patterns arranged in the orthogonal direction, downstream ends of all of the second wirings and the third wirings are aligned in the conveying direction.
請求項2または4に記載のパターンフィルムにおいて、
前記フィルム基板には、前記搬送方向に沿うように複数の前記導電性パターンが行列状に並べて配置され、
前記直交方向に並ぶ複数の前記導電性パターンにおいて、すべての前記第1配線及び前記第2配線の前記搬送方向の下流端の位置が揃っている、パターンフィルム。
In the pattern film according to claim 2 or 4,
A plurality of the conductive patterns are arranged in a matrix on the film substrate along the transport direction,
The pattern film, wherein in the plurality of conductive patterns arranged in the orthogonal direction, positions of downstream ends of all of the first wirings and the second wirings in the conveying direction are aligned.
請求項1~6のいずれか1項に記載のパターンフィルムが巻回されてなるロールフィルム。 A roll film obtained by winding the pattern film according to any one of claims 1 to 6. パターンフィルムの製造方法であって、
前記パターンフィルムは、請求項1に記載の前記フィルム基板及び前記フィルム基板の表面に形成された前記導電性パターンを備え、
前記フィルム基板の表面に前記導電性パターンを配置する工程と、
前記導電性パターンが配置された面に搬送ローラーを当接させながら前記パターンフィルムを前記搬送方向に搬送する工程とを含む、パターンフィルムの製造方法。
A method for manufacturing a pattern film,
The pattern film comprises the film substrate according to claim 1 and the conductive pattern formed on the surface of the film substrate,
disposing the conductive pattern on the surface of the film substrate;
A method for producing a patterned film, comprising a step of conveying the patterned film in the conveying direction while bringing a conveying roller into contact with the surface on which the conductive pattern is arranged.
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