JP2022182409A - Resin film for terminal, and power storage device using the same - Google Patents

Resin film for terminal, and power storage device using the same Download PDF

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Abstract

To provide a resin film for a terminal which has excellent adhesion to a terminal under a room temperature environment and a high temperature environment after having been brought into contact with an electrolytic solution even when thickened.SOLUTION: A resin film for a terminal is arranged so as to cover a partial outer peripheral surface of a metal terminal electrically connected to a power storage device body constituting a power storage device, wherein the resin film for the terminal has a following A layer and a lamination structure, and the lamination structure is formed by laminating a following B layer, a following C layer and the following B layer in this order. A layer: layer formed using a resin composition containing an acid-modified polyolefin resin having a melting point of 100°C or higher and 170°C or lower. B layer: layer formed using a resin composition containing a first polyolefin resin having a melting point of 100°C or higher and lower than 160°C, and a second polyolefin resin having a melting point of 160°C or higher and 170°C or less. C layer: layer formed using a resin composition containing a polyolefin resin having a melting point of 160°C or higher and 170°C or lower.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、端子用樹脂フィルム、及びそれを用いた蓄電デバイスに関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a terminal resin film and an electric storage device using the same.

近年、携帯機器の小型化や自然発電エネルギーの有効活用の要求が増しており、より高い電圧が得られ、エネルギー密度が高いリチウムイオン二次電池(蓄電デバイスの一種)の研究開発が行われている。 In recent years, there have been increasing demands for the miniaturization of mobile devices and the effective use of naturally generated energy, and research and development of lithium-ion secondary batteries (a type of electricity storage device) with higher voltage and higher energy density is being conducted. there is

上記リチウムイオン二次電池に用いられる包装材として、従来は金属製の缶が多く用いられてきたが、適用する製品の薄型化や多様化等の要求に対し、製造コストが低いという理由から、金属層(例えば、アルミニウム箔)と樹脂フィルムとを積層した積層体を袋状にした包装材が多く用いられるようになってきている。 Conventionally, many metal cans have been used as packaging materials for lithium ion secondary batteries. BACKGROUND ART Packaging materials in which a laminated body obtained by laminating a metal layer (for example, aluminum foil) and a resin film in the form of a bag have come to be used in many cases.

上記包装材の内部に電池本体を収容して密封したラミネート型リチウムイオン二次電池には、タブと呼ばれる電流取り出し端子が備えられている。タブは、電池本体の負極または正極に接続され、包装材(外装材)の外側に延在する金属端子(「タブリード」と呼ばれることもある)と、金属端子の一部の外周面をそれぞれ覆う端子用樹脂フィルム(「タブシーラント」と呼ばれることもある)と、を有する(例えば、特許文献1~2参照)。通常、端子用樹脂フィルムは金属端子に融着されている。 A laminate-type lithium ion secondary battery in which the battery body is housed and sealed inside the packaging material is provided with a current extraction terminal called a tab. The tab is connected to the negative electrode or positive electrode of the battery body and covers the metal terminal (sometimes called "tab lead") extending outside the packaging material (exterior material) and the outer peripheral surface of a part of the metal terminal. and a terminal resin film (sometimes called “tab sealant”) (see, for example, Patent Documents 1 and 2). Generally, the terminal resin film is fused to the metal terminal.

特許第6706014号公報Japanese Patent No. 6706014 特許第6402844号公報Japanese Patent No. 6402844

ところで、近年電池の大容量化に伴い金属端子が厚膜化しつつあるため、端子用樹脂フィルムにも厚膜化が求められる傾向にある。しかし、従来の薄膜の端子用樹脂フィルムをそのまま厚膜化した場合、電解液に接触した後、室温環境下又は高温環境下での金属端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性の低下が生じ易く、剥離の原因となり易い。 In recent years, as the capacity of batteries has increased, the thickness of metal terminals has been increasing, so there is a tendency to demand thicker resin films for terminals. However, when a conventional thin terminal resin film is made thick as it is, the adhesion of the terminal resin film to the metal terminal tends to decrease in a room temperature environment or a high temperature environment after coming into contact with the electrolytic solution. Easy to cause peeling.

本開示は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、厚膜化した場合であっても、電解液に接触した後、室温環境下及び高温環境下において端子に対して優れた密着性を有する端子用樹脂フィルム、及び、それを用いた蓄電デバイスを提供することを目的とする。 The present disclosure has been made in view of the problems of the above-described conventional technology, and even when the film is thickened, it is excellent for terminals in room temperature and high temperature environments after contact with an electrolytic solution. An object of the present invention is to provide a terminal resin film having adhesiveness and an electric storage device using the same.

上記目的を達成するために、本開示は、蓄電デバイスを構成する蓄電デバイス本体と電気的に接続される金属端子の一部の外周面を覆うように配置される端子用樹脂フィルムであって、前記端子用樹脂フィルムが、下記A層と、積層構造とを有し、前記積層構造が、下記B層、下記C層、及び下記B層をこの順で積層してなる、端子用樹脂フィルムを提供する。
A層:100℃以上170℃以下の融点を有する酸変性ポリオレフィン樹脂を含む樹脂組成物を用いて形成された層。
B層:100℃以上160℃未満の融点を有する第1ポリオレフィン樹脂、及び、160℃以上170℃以下の融点を有する第2ポリオレフィン樹脂を含む樹脂組成物を用いて形成された層。
C層:160℃以上170℃以下の融点を有するポリオレフィン樹脂を含む樹脂組成物を用いて形成された層。
In order to achieve the above object, the present disclosure provides a terminal resin film arranged so as to cover a part of the outer peripheral surface of a metal terminal electrically connected to an electricity storage device main body that constitutes an electricity storage device, A resin film for terminals, wherein the resin film for terminals has the following layer A and a laminated structure, and the laminated structure comprises the following layer B, the following C layer, and the following B layer laminated in this order. offer.
Layer A: A layer formed using a resin composition containing an acid-modified polyolefin resin having a melting point of 100°C or higher and 170°C or lower.
Layer B: A layer formed using a resin composition containing a first polyolefin resin having a melting point of 100°C or higher and lower than 160°C and a second polyolefin resin having a melting point of 160°C or higher and 170°C or lower.
Layer C: A layer formed using a resin composition containing a polyolefin resin having a melting point of 160°C or higher and 170°C or lower.

上記端子用樹脂フィルムによれば、当該端子用樹脂フィルムが、上記A層と、上記積層構造とを有することで、厚膜化した場合であっても、電解液に接触した後、室温環境下及び高温環境下において端子に対して優れた密着性を有することが可能となる。 According to the resin film for terminals, even if the resin film for terminals has the layer A and the laminated structure, even if the film is thickened, after contact with the electrolytic solution, And it becomes possible to have excellent adhesion to the terminal in a high-temperature environment.

上記端子用樹脂フィルムにおいては、前記B層において、前記第2ポリオレフィン樹脂に対する前記第1ポリオレフィン樹脂の質量比Rが0.1~9であることが好ましい。質量比Rが0.1以上であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。また、質量比Rが9以下であることで、電解液に接触した後、高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。 In the terminal resin film, it is preferable that the B layer has a mass ratio R of the first polyolefin resin to the second polyolefin resin of 0.1 to 9. When the mass ratio R is 0.1 or more, the adhesiveness of the resin film for terminals to the terminals under a room temperature environment can be further improved after coming into contact with the electrolytic solution. Further, when the mass ratio R is 9 or less, the adhesiveness of the resin film for terminals to the terminals under high temperature environment can be further improved after coming into contact with the electrolytic solution.

上記端子用樹脂フィルムにおいては、前記B層において、前記第1ポリオレフィン樹脂が550MPa以上1000MPa未満の引張弾性率、及び、15MPa以上23MPa未満の引張降伏応力を有し、前記第2ポリオレフィン樹脂が、1000MPa以上1500MPa以下の引張弾性率、及び、23MPa以上35MPa以下の引張降伏応力を有することが好ましい。第1ポリオレフィン樹脂及び第2ポリオレフィン樹脂の引張弾性率がそれぞれ上記下限値以上であることで、電解液に接触した後、高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。第1ポリオレフィン樹脂及び第2ポリオレフィン樹脂の引張降伏応力がそれぞれ上記下限値以上であることで、電解液に接触した後、高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。また、第1ポリオレフィン樹脂の引張弾性率が1000MPa未満であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。第2ポリオレフィン樹脂の引張弾性率が1500MPa以下であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。第1ポリオレフィン樹脂の引張降伏応力が23MPa未満であることで、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。第2ポリオレフィン樹脂の引張降伏応力が35MPa以下であることで、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。 In the terminal resin film, in the layer B, the first polyolefin resin has a tensile elastic modulus of 550 MPa or more and less than 1000 MPa and a tensile yield stress of 15 MPa or more and less than 23 MPa, and the second polyolefin resin has a tensile yield stress of 1000 MPa. It preferably has a tensile elastic modulus of 1500 MPa or more and a tensile yield stress of 23 MPa or more and 35 MPa or less. When the tensile elastic moduli of the first polyolefin resin and the second polyolefin resin are each equal to or higher than the above lower limit, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminals in a high-temperature environment can be further improved after coming into contact with the electrolytic solution. When the tensile yield stresses of the first polyolefin resin and the second polyolefin resin are equal to or higher than the above lower limit values, the adhesion of the terminal resin film to the terminals in a high-temperature environment after contact with the electrolytic solution can be further improved. Moreover, since the tensile elastic modulus of the first polyolefin resin is less than 1000 MPa, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminal under room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. When the tensile elastic modulus of the second polyolefin resin is 1500 MPa or less, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminals under room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. When the tensile yield stress of the first polyolefin resin is less than 23 MPa, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminal under room temperature can be further improved. When the tensile yield stress of the second polyolefin resin is 35 MPa or less, the adhesion of the terminal resin film to the terminal under room temperature can be further improved.

上記端子用樹脂フィルムにおいては、前記B層において、前記第1ポリオレフィン樹脂が885kg/m以上895kg/m未満の密度を有し、前記第2ポリオレフィン樹脂が、895kg/m以上910kg/m以下の密度を有することが好ましい。第1ポリオレフィン樹脂及び第2ポリオレフィン樹脂の密度がそれぞれ上記下限値以上であることで、電解液に接触した後、高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。第1ポリオレフィン樹脂の密度が上記上限値未満であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。第2ポリオレフィン樹脂の密度が上記上限値以下であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。 In the terminal resin film, in the layer B, the first polyolefin resin has a density of 885 kg/ m3 or more and less than 895 kg/m3, and the second polyolefin resin has a density of 895 kg/ m3 or more and 910 kg/m3. It preferably has a density of 3 or less. When the densities of the first polyolefin resin and the second polyolefin resin are equal to or higher than the above lower limit values, the adhesion of the terminal resin film to the terminals in a high-temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. When the density of the first polyolefin resin is less than the above upper limit, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminal under room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. When the density of the second polyolefin resin is equal to or less than the above upper limit, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminal under room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution.

上記端子用樹脂フィルムにおいては、前記B層において、前記第1ポリオレフィン樹脂の230℃におけるMFRが、1.0~10.0g/10minであり、前記第2ポリオレフィン樹脂のMFRが0.05g/10min以上1.0g/10min未満であることが好ましい。第1ポリオレフィン樹脂の230℃におけるMFRが1.0g/10min以上であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。また、第1ポリオレフィン樹脂の230℃におけるMFRが10.0g/10min以下であることで、電解液に接触した後、高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。第2ポリオレフィン樹脂の230℃におけるMFRが0.05g/10min以上であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。また、第2ポリオレフィン樹脂の230℃におけるMFRが1.0g/10min未満であることで、電解液に接触した後、高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。 In the terminal resin film, in the layer B, the first polyolefin resin has an MFR at 230° C. of 1.0 to 10.0 g/10 min, and the second polyolefin resin has an MFR of 0.05 g/10 min. It is preferably more than or equal to less than 1.0 g/10 min. When the MFR at 230° C. of the first polyolefin resin is 1.0 g/10 min or more, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminal under room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. Further, when the MFR at 230° C. of the first polyolefin resin is 10.0 g/10 min or less, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminals in a high-temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. When the MFR at 230° C. of the second polyolefin resin is 0.05 g/10 min or more, the adhesion of the terminal resin film to the terminal under room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. Further, when the MFR at 230° C. of the second polyolefin resin is less than 1.0 g/10 min, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminals in a high-temperature environment can be further improved after coming into contact with the electrolytic solution.

上記端子用樹脂フィルムが、前記A層、前記積層構造及び前記A層をこの順に積層してなることが好ましい。この場合、A層が酸変性ポリオレフィン樹脂を含む樹脂組成物を用いて形成されているため、金属端子と端子用樹脂フィルムとの密着性がより向上する。 It is preferable that the terminal resin film is formed by laminating the layer A, the laminated structure, and the layer A in this order. In this case, since the layer A is formed using a resin composition containing an acid-modified polyolefin resin, the adhesion between the metal terminal and the terminal resin film is further improved.

上記端子用樹脂フィルムは、160μm以上の厚さを有していてもよい。 The terminal resin film may have a thickness of 160 μm or more.

本開示はまた、蓄電デバイス本体と、前記蓄電デバイス本体と電気的に接続された金属端子と、前記金属端子を挟持し且つ前記蓄電デバイス本体を収容する外装材と、前記金属端子の一部の外周面を覆って、前記金属端子と前記外装材との間に配置された、上記本開示の端子用樹脂フィルムと、を備える、蓄電デバイスを提供する。 The present disclosure also includes an electricity storage device body, a metal terminal electrically connected to the electricity storage device body, an exterior material that sandwiches the metal terminal and accommodates the electricity storage device body, and a part of the metal terminal. An electricity storage device is provided, comprising: the terminal resin film of the present disclosure, which covers an outer peripheral surface and is arranged between the metal terminal and the exterior material.

この蓄電デバイスによれば、端子用樹脂フィルムが、厚膜化した場合であっても、電解液に接触した後、室温環境下及び高温環境下において端子に対して優れた密着性を有するため、室温環境下及び高温環境下において電解液の漏洩を抑制できる。 According to this electricity storage device, even when the resin film for terminals is thickened, it has excellent adhesion to the terminals in a room temperature environment and a high temperature environment after coming into contact with the electrolytic solution. Leakage of electrolyte can be suppressed under room temperature environment and high temperature environment.

本開示によれば、厚膜化した場合であっても、電解液に接触した後、室温環境下及び高温環境下において端子に対して優れた密着性を有する端子用樹脂フィルム、及び、それを用いた蓄電デバイスを提供することができる。 According to the present disclosure, a resin film for terminals that has excellent adhesion to terminals in a room temperature environment and a high temperature environment after contact with an electrolytic solution even when the film is thickened; It is possible to provide an electricity storage device using the power storage device.

本実施形態に係る蓄電デバイスの概略構成を示す斜視図である。1 is a perspective view showing a schematic configuration of an electricity storage device according to this embodiment; FIG. 図1に示す外装材の切断面の一例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a cut surface of the exterior material shown in FIG. 1; 図1に示す端子用樹脂フィルム及び金属端子のA-A線方向の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the terminal resin film and the metal terminal shown in FIG. 1 taken along the line AA. 端子用樹脂フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a terminal resin film; FIG. 実施例における対アルミニウム箔ヒートシール強度測定用サンプルの作製方法を説明する模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a method for preparing a sample for measuring heat seal strength against aluminum foil in Examples.

以下、図面を参照しながら本開示の好適な実施形態について説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。 Preferred embodiments of the present disclosure will be described below with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant explanations are omitted. Also, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the illustrated ratios.

[蓄電デバイス]
図1は、本実施形態に係る蓄電デバイスの概略構成を示す斜視図である。図1では、蓄電デバイス10の一例として、リチウムイオン二次電池を例に挙げて図示し、以下の説明を行う。なお、図1に示す構成とされたリチウムイオン二次電池は、電池パック、電池セル等と呼ばれることがある。
[Power storage device]
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of an electricity storage device according to this embodiment. In FIG. 1, a lithium ion secondary battery is illustrated as an example of the electricity storage device 10, and the following description will be given. Note that the lithium ion secondary battery configured as shown in FIG. 1 is sometimes called a battery pack, a battery cell, or the like.

図1に示した蓄電デバイス10は、リチウムイオン二次電池であり、蓄電デバイス本体11と、外装材13と、一対の金属端子14(タブリード)と、端子用樹脂フィルム16(タブシーラント)と、を有する。 The electricity storage device 10 shown in FIG. 1 is a lithium ion secondary battery, and includes an electricity storage device body 11, an exterior material 13, a pair of metal terminals 14 (tab leads), a terminal resin film 16 (tab sealant), have

蓄電デバイス本体11は、充放電を行う電池本体である。外装材13は、蓄電デバイス本体11の表面を覆うとともに、端子用樹脂フィルム16の一部と接触するように配置されている。 The power storage device main body 11 is a battery main body that charges and discharges. The exterior material 13 covers the surface of the electricity storage device main body 11 and is arranged so as to be in contact with a portion of the terminal resin film 16 .

図2は、図1に示す外装材の切断面の一例を示す断面図である。図2において、図1に示す構造体と同一構成部分には、同一符号を付す。 2 is a cross-sectional view showing an example of a cut surface of the exterior material shown in FIG. 1. FIG. In FIG. 2, the same components as those of the structure shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.

図2を参照して、外装材13の構成の一例について説明する。外装材13は、蓄電デバイス本体11に接触する内側から、内層21と、内層側接着剤層22と、腐食防止処理層23-1と、バリア層24と、腐食防止処理層23-2と、外層側接着剤層25と、外層26と、が順次積層された7層構造である。 An example of the configuration of the exterior material 13 will be described with reference to FIG. 2 . The exterior material 13 includes an inner layer 21, an inner layer side adhesive layer 22, a corrosion prevention treatment layer 23-1, a barrier layer 24, a corrosion prevention treatment layer 23-2, from the inside in contact with the electricity storage device body 11, It has a seven-layer structure in which an outer layer side adhesive layer 25 and an outer layer 26 are sequentially laminated.

内層21は、外装材13に対し、ヒートシールによる封止性を付与するシーラント層であり、蓄電デバイス10の組み立て時に内側に配置されてヒートシール(熱融着)される層である。内層(シーラント層)21の母材としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、ポリオレフィン樹脂に無水マレイン酸等をグラフト変性させた酸変性ポリオレフィン樹脂を用いることができる。上記ポリオレフィン樹脂としては、低密度、中密度、高密度のポリエチレン;エチレン-αオレフィン共重合体;ホモ、ブロック、又はランダムポリプロピレン;プロピレン-αオレフィン共重合体等を用いることができる。これらの中でも上記ポリオレフィン樹脂は、ポリプロピレンを含むことが好ましい。これらポリオレフィン樹脂は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 The inner layer 21 is a sealant layer that imparts heat-sealing properties to the exterior material 13 , and is a layer that is heat-sealed (heat-sealed) inside the power storage device 10 when the power storage device 10 is assembled. As the base material of the inner layer (sealant layer) 21, for example, a polyolefin resin or an acid-modified polyolefin resin obtained by graft-modifying a polyolefin resin with maleic anhydride or the like can be used. As the polyolefin resin, low-density, medium-density and high-density polyethylene; ethylene-α-olefin copolymer; homo, block or random polypropylene; propylene-α-olefin copolymer and the like can be used. Among these, the polyolefin resin preferably contains polypropylene. These polyolefin resins can be used singly or in combination of two or more.

内層21は、必要とされる機能に応じて、単層フィルム、又は複数の層を積層させた多層フィルムであってよい。具体的には、防湿性を付与するために、エチレン-環状オレフィン共重合体、ポリメチルペンテン等の樹脂を介在させた多層フィルムであってよい。内層21は、各種添加剤(難燃剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、酸化防止剤、光安定剤、粘着付与剤等)を含んでよい。 The inner layer 21 may be a single layer film or a multi-layer film with multiple layers laminated together, depending on the function required. Specifically, it may be a multi-layer film in which a resin such as an ethylene-cyclic olefin copolymer or polymethylpentene is interposed in order to impart moisture resistance. The inner layer 21 may contain various additives (flame retardants, slip agents, antiblocking agents, antioxidants, light stabilizers, tackifiers, etc.).

内層21の厚さは、10~150μmが好ましく、30~80μmがより好ましい。内層21の厚さが10μm以上であることで、外装材13同士の充分なヒートシール密着性、端子用樹脂フィルム16との充分な密着性を有する。また、内層21の厚さが150μm以下であることで、外装材13のコストを抑えることができる。 The thickness of the inner layer 21 is preferably 10-150 μm, more preferably 30-80 μm. When the thickness of the inner layer 21 is 10 μm or more, sufficient heat-sealing adhesion between the exterior materials 13 and sufficient adhesion with the terminal resin film 16 can be obtained. Moreover, since the thickness of the inner layer 21 is 150 μm or less, the cost of the exterior material 13 can be suppressed.

内層側接着剤層22としては、ドライラミネーション用接着剤、酸変性された熱融着性樹脂等の公知の接着剤を適宜選択して用いることができる。 As the inner layer side adhesive layer 22, a known adhesive such as a dry lamination adhesive or an acid-modified heat-sealable resin can be appropriately selected and used.

図2に示すように、腐食防止処理層23-1、23-2は、バリア層24の両面に形成することが性能上好ましいが、コストを抑える観点から、内層側接着剤層22側に位置するバリア層24の面のみに腐食防止処理層23-1を配置してよい。 As shown in FIG. 2, the corrosion prevention treatment layers 23-1 and 23-2 are preferably formed on both sides of the barrier layer 24 in terms of performance. The corrosion prevention treatment layer 23-1 may be arranged only on the surface of the barrier layer 24 that is to be exposed.

バリア層24は、導電性を有する金属層であってよい。バリア層24の材料としては、アルミニウム、ステンレス鋼等が挙げられ、コスト、質量(密度)等の観点から、アルミニウムが好ましい。 The barrier layer 24 may be a metal layer having electrical conductivity. Materials for the barrier layer 24 include aluminum, stainless steel, and the like, and aluminum is preferable from the viewpoint of cost, mass (density), and the like.

外層側接着剤層25としては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、アクリルポリオール等を主剤としたポリウレタン系の接着剤を用いることができる。 As the outer layer side adhesive layer 25, a polyurethane-based adhesive containing polyester polyol, polyether polyol, acrylic polyol, or the like as a main component can be used.

外層26としては、ナイロン、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の単層膜、及び多層膜であってよい。外層26は、内層21と同様に、各種添加剤(難燃剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、酸化防止剤、光安定剤、粘着付与剤等)を含んでよい。外層26は、電解液の液漏れに備えて電解液に不溶な樹脂をラミネートしたり、電解液に不溶な樹脂成分をコーティングしたりすることで形成される保護層を有してよい。 The outer layer 26 may be a single layer film such as nylon or polyethylene terephthalate (PET), or a multilayer film. Like the inner layer 21, the outer layer 26 may contain various additives (flame retardants, slip agents, antiblocking agents, antioxidants, light stabilizers, tackifiers, etc.). The outer layer 26 may have a protective layer formed by laminating an electrolyte-insoluble resin or coating an electrolyte-insoluble resin component in preparation for leakage of the electrolyte.

図3は、図1に示す端子用樹脂フィルム及び金属端子のA-A線方向の断面図である。図3において、図1に示す構造体と同一構成部分には、同一符号を付す。 FIG. 3 is a cross-sectional view of the terminal resin film and the metal terminal shown in FIG. 1 taken along the line AA. In FIG. 3, the same components as those of the structure shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.

図1及び図3に示すように、一対(図1の場合、2つ)の金属端子14は、金属端子本体14-1と、腐食防止層14-2と、を有する。一対の金属端子本体14-1のうち、一方の金属端子本体14-1は、蓄電デバイス本体11の正極と電気的に接続されており、他方の金属端子本体14-1は、蓄電デバイス本体11の負極と電気的に接続されている。一対の金属端子本体14-1は、蓄電デバイス本体11から離間する方向に延在しており、その一部が外装材13から露出されている。一対の金属端子本体14-1の形状は、例えば、平板形状とすることができる。 As shown in FIGS. 1 and 3, a pair (two in the case of FIG. 1) of metal terminals 14 has a metal terminal body 14-1 and a corrosion prevention layer 14-2. Of the pair of metal terminal bodies 14-1, one metal terminal body 14-1 is electrically connected to the positive electrode of the power storage device body 11, and the other metal terminal body 14-1 is connected to the power storage device body 11. is electrically connected to the negative electrode of The pair of metal terminal bodies 14 - 1 extend in a direction away from the power storage device body 11 and partially exposed from the exterior material 13 . The shape of the pair of metal terminal bodies 14-1 can be, for example, a flat plate shape.

金属端子本体14-1の材料としては、金属を用いることができる。金属端子本体14-1の材料となる金属は、蓄電デバイス本体11の構造や蓄電デバイス本体11の各構成要素の材料等を考慮して決めることができる。 Metal can be used as the material of the metal terminal body 14-1. The metal used as the material for the metal terminal main body 14-1 can be determined in consideration of the structure of the electricity storage device main body 11, the material of each component of the electricity storage device main body 11, and the like.

蓄電デバイス10がリチウムイオン二次電池である場合、正極用集電体としてアルミニウムを用いることができ、負極用集電体として銅を用いることができる。蓄電デバイス10がリチウムイオン二次電池である場合、蓄電デバイス本体11の正極と接続される金属端子本体14-1の材料は、アルミニウムであることが好ましい。また、電解液への耐食性の観点から、蓄電デバイス本体11の正極と接続される金属端子本体14-1の材料は、1N30等の純度97%以上のアルミニウム素材であることがより好ましい。さらに、金属端子本体14-1を屈曲させる場合には、柔軟性を付加する目的で十分な焼鈍により調質したO材を用いることが好ましい。蓄電デバイス本体11の負極と接続される金属端子本体14-1の材料は、表面にニッケルめっき層が形成された銅、又はニッケルであることが好ましい。 When the electricity storage device 10 is a lithium ion secondary battery, aluminum can be used as the positive electrode current collector, and copper can be used as the negative electrode current collector. When the electricity storage device 10 is a lithium ion secondary battery, the material of the metal terminal body 14-1 connected to the positive electrode of the electricity storage device body 11 is preferably aluminum. Further, from the viewpoint of corrosion resistance to the electrolytic solution, the material of the metal terminal main body 14-1 connected to the positive electrode of the electricity storage device main body 11 is more preferably an aluminum material with a purity of 97% or higher, such as 1N30. Furthermore, when bending the metal terminal main body 14-1, it is preferable to use an O material that has been tempered by sufficient annealing for the purpose of adding flexibility. The material of the metal terminal main body 14-1 connected to the negative electrode of the electricity storage device main body 11 is preferably copper or nickel with a nickel plating layer formed on the surface.

金属端子本体14-1の厚さは、リチウムイオン二次電池のサイズや容量に応じて決めることができる。リチウムイオン二次電池が小型である場合、金属端子本体14-1の厚さは、50μm以上であってよい。蓄電、車載用途等の大型のリチウムイオン二次電池の場合、金属端子本体14-1の厚さは、100~500μmの範囲内で適宜設定することができる。 The thickness of the metal terminal body 14-1 can be determined according to the size and capacity of the lithium ion secondary battery. If the lithium ion secondary battery is small, the thickness of the metal terminal main body 14-1 may be 50 μm or more. In the case of a large-sized lithium ion secondary battery for power storage, in-vehicle use, etc., the thickness of the metal terminal main body 14-1 can be appropriately set within the range of 100 to 500 μm.

腐食防止層14-2は、金属端子本体14-1の表面を覆うように配置されている。リチウムイオン二次電池の場合、電解液にLiPF等の腐食成分が含まれる。腐食防止層14-2は、電解液に含まれるLiPF等の腐食成分から金属端子本体14-1が腐食されることを抑制するための層である。 The corrosion prevention layer 14-2 is arranged to cover the surface of the metal terminal body 14-1. In the case of lithium ion secondary batteries, the electrolyte contains corrosive components such as LiPF6 . The corrosion prevention layer 14-2 is a layer for suppressing corrosion of the metal terminal body 14-1 by corrosive components such as LiPF 6 contained in the electrolyte.

[端子用樹脂フィルム]
図3に示すように、本実施形態に係る端子用樹脂フィルム16は、金属端子14の一部の外周面を覆うように配置されている。端子用樹脂フィルム16は、下記A層と、積層構造とを有し、積層構造が、下記B層、下記C層及び下記B層をこの順に積層してなる。
A層:100℃以上170℃以下の融点を有する酸変性ポリオレフィン樹脂を含む樹脂組成物を用いて形成された層。
B層:100℃以上160℃未満の融点を有する第1ポリオレフィン樹脂、及び、160℃以上170℃以下の融点を有する第2ポリオレフィン樹脂を含む樹脂組成物を用いて形成された層。
C層:160℃以上170℃以下の融点を有するポリオレフィン樹脂を含む樹脂組成物を用いて形成された層。
[Resin film for terminals]
As shown in FIG. 3 , the terminal resin film 16 according to the present embodiment is arranged so as to partially cover the outer peripheral surface of the metal terminal 14 . The terminal resin film 16 has a layer A and a laminated structure, and the laminated structure is formed by laminating a layer B, a layer C, and a layer B in this order.
Layer A: A layer formed using a resin composition containing an acid-modified polyolefin resin having a melting point of 100°C or higher and 170°C or lower.
Layer B: A layer formed using a resin composition containing a first polyolefin resin having a melting point of 100°C or higher and lower than 160°C and a second polyolefin resin having a melting point of 160°C or higher and 170°C or lower.
Layer C: A layer formed using a resin composition containing a polyolefin resin having a melting point of 160°C or higher and 170°C or lower.

A層、B層及びC層の融点は、ASTM D2117に準じて示差走査熱量計(DSC)にて測定された値であり、溶解熱量の一番大きいピークをメインピークとして、そのピークトップの温度を読み取ることで求めることができる。複数の融解ピークが存在する場合には、溶解熱量の多い方のピークにおける温度をいう。 The melting points of the A layer, B layer and C layer are the values measured by a differential scanning calorimeter (DSC) according to ASTM D2117, and the peak top temperature with the peak having the largest heat of dissolution as the main peak can be obtained by reading When there are multiple melting peaks, the temperature at the peak with the greater heat of fusion.

図4は、本実施形態に係る端子用樹脂フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。図4に示す端子用樹脂フィルム16は、A層1、積層構造8及びA層7をこの順に積層してなり、積層構造8は、A層1側から、B層2、C層4及びB層6をこの順で積層してなる。すなわち、端子用樹脂フィルム16は、A層1、B層2、C層4、B層6及びA層7をこの順で積層してなる構造を有する。以下、A層、B層及びC層の各々について説明する。 FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of the terminal resin film according to the present embodiment. The terminal resin film 16 shown in FIG. 4 is formed by laminating an A layer 1, a laminated structure 8 and an A layer 7 in this order. Layers 6 are laminated in this order. That is, the terminal resin film 16 has a structure in which an A layer 1, a B layer 2, a C layer 4, a B layer 6 and an A layer 7 are laminated in this order. Each of the A layer, the B layer, and the C layer will be described below.

A層は、酸変性ポリオレフィン樹脂を含む樹脂組成物を用いて形成される。酸変性ポリオレフィン樹脂としては、ポリオレフィン樹脂に無水マレイン酸、カルボン酸、スルホン酸及びそれらの誘導体等をグラフト変性させたグラフト変性樹脂、オレフィンと無水マレイン酸、カルボン酸、スルホン酸及びそれらの誘導体等とを共重合させた共重合樹脂が挙げられる。中でも、金属端子との接着性の観点から、グラフト変性樹脂が好ましい。酸変性ポリオレフィン樹脂は、無水マレイン酸変性であることが、他の変性基の場合よりもヒートシール強度が向上する傾向にあるため好ましい。上記ポリオレフィン樹脂としては、例えば、低密度、中密度、高密度のポリエチレン;エチレン-αオレフィン共重合体;ホモ、ブロック、またはランダムポリプロピレン;プロピレン-αオレフィン共重合体;ポリブテン;ポリメチルペンテン;ポリノルボルネン等が挙げられる。これらの中でも上記ポリオレフィン樹脂は、耐熱性、加工性及び外装材との密着性の観点から、ポリプロピレンを含むことが好ましい。酸変性ポリオレフィン樹脂としては、酸変性ランダムポリプロピレン共重合体が好ましい。これらポリオレフィン樹脂は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、A層の形成に用いられる樹脂組成物は、酸変性ポリオレフィン樹脂以外の他の樹脂を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。 The A layer is formed using a resin composition containing an acid-modified polyolefin resin. Examples of acid-modified polyolefin resins include graft-modified resins obtained by graft-modifying maleic anhydride, carboxylic acid, sulfonic acid and their derivatives to polyolefin resins, olefins and maleic anhydride, carboxylic acids, sulfonic acids and their derivatives A copolymer resin obtained by copolymerizing is mentioned. Among them, a graft-modified resin is preferable from the viewpoint of adhesiveness to a metal terminal. The acid-modified polyolefin resin is preferably modified with maleic anhydride because it tends to improve the heat seal strength more than other modified groups. Examples of the polyolefin resins include low-density, medium-density, and high-density polyethylene; ethylene-α-olefin copolymers; homo, block, or random polypropylene; propylene-α-olefin copolymers; and norbornene. Among these, the polyolefin resin preferably contains polypropylene from the viewpoint of heat resistance, workability, and adhesion to the exterior material. As the acid-modified polyolefin resin, an acid-modified random polypropylene copolymer is preferred. These polyolefin resins may be used singly or in combination of two or more. Moreover, the resin composition used for forming the A layer may or may not contain other resins than the acid-modified polyolefin resin.

ポリオレフィン樹脂の酸による変性率(例えば、無水マレイン酸変性ポリプロピレンの総質量に対する無水マレイン酸に由来する部分の質量)は、ヒートシール強度向上の観点から、0.1~20質量%であることが好ましく、0.3~5質量%であることがより好ましい。 The acid modification rate of the polyolefin resin (for example, the mass of the portion derived from maleic anhydride with respect to the total mass of the maleic anhydride-modified polypropylene) is 0.1 to 20% by mass from the viewpoint of improving the heat seal strength. It is preferably 0.3 to 5% by mass, and more preferably 0.3 to 5% by mass.

A層に用いられる酸変性ポリオレフィン樹脂の融点は、100~170℃であり、120~160℃であることがより好ましく、130~150℃であることが更に好ましい。酸変性ポリオレフィン樹脂の融点が100℃以上であることで、電解液に接触した後、高温環境下での金属端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。また、酸変性ポリオレフィン樹脂の融点が170℃未満であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。 The melting point of the acid-modified polyolefin resin used for the A layer is 100 to 170°C, preferably 120 to 160°C, even more preferably 130 to 150°C. By setting the melting point of the acid-modified polyolefin resin to 100° C. or higher, the adhesiveness of the terminal resin film to the metal terminal can be further improved in a high-temperature environment after contact with the electrolytic solution. Moreover, since the melting point of the acid-modified polyolefin resin is less than 170° C., the adhesiveness of the terminal resin film to the terminal under room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution.

A層の形成に用いられる樹脂組成物は、酸化防止剤、スリップ剤、難燃剤、光安定剤、脱水剤、着色顔料、粘着付与剤、フィラー、結晶核剤などの樹脂添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は、複数の種類がブレンドされていてもよい。特に、端子用樹脂フィルムの視認性の向上の観点から、上記樹脂組成物には着色顔料やフィラーが含まれていてもよい。 The resin composition used to form the A layer contains resin additives such as antioxidants, slip agents, flame retardants, light stabilizers, dehydrating agents, coloring pigments, tackifiers, fillers, and crystal nucleating agents. good too. A plurality of types of these additives may be blended. In particular, from the viewpoint of improving the visibility of the terminal resin film, the resin composition may contain a coloring pigment or a filler.

着色顔料としては、カーボンブラック、キナクリドン系顔料、ポリアゾ系顔料、イソインドリノン系顔料などが挙げられる。 Examples of coloring pigments include carbon black, quinacridone-based pigments, polyazo-based pigments, isoindolinone-based pigments, and the like.

フィラーとしては、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、珪酸ジルコニウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、酸化銅、酸化コバルト、酸化チタン、酸化スズ、酸化鉄、酸化アンチモン、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素などの無機フィラーが挙げられる。 Fillers include aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, zirconium silicate, zinc oxide, barium sulfate, copper oxide, cobalt oxide, titanium oxide, tin oxide, iron oxide, antimony oxide, boron nitride, nitride Inorganic fillers such as aluminum and silicon nitride are included.

A層の厚さ(1層当たりの厚さ)は、10~150μmであることが好ましく、15~100μmであることがより好ましく、20~50μmであることが更に好ましい。A層の厚さが10μm以上であることで、電解液に接触した後、金属端子又は外装材と端子用樹脂フィルムとの高温環境下での密着性をより向上できる。また、加工性やフィルムの破断強度の観点からA層の厚さが150μm以下であることが好ましい。 The thickness of layer A (thickness per layer) is preferably 10 to 150 μm, more preferably 15 to 100 μm, even more preferably 20 to 50 μm. When the thickness of the layer A is 10 µm or more, the adhesion between the metal terminal or the exterior material and the terminal resin film can be further improved in a high-temperature environment after contact with the electrolytic solution. In addition, the thickness of the layer A is preferably 150 μm or less from the viewpoint of workability and breaking strength of the film.

A層の230℃におけるMFRは、2.0~50g/10minであり、3.0~25g/10minであることが好ましく、5.0~15g/10minであることがより好ましい。A層のMFRが2.0g/10min以上であることで、端子用樹脂フィルムの破断伸度を向上できる。また、A層のMFRが50g/10min以下であることで、端子用樹脂フィルムの破断強度を向上できる。 The MFR of the A layer at 230° C. is 2.0 to 50 g/10 min, preferably 3.0 to 25 g/10 min, more preferably 5.0 to 15 g/10 min. When the MFR of the layer A is 2.0 g/10 min or more, the elongation at break of the terminal resin film can be improved. Further, when the MFR of the layer A is 50 g/10 min or less, the breaking strength of the terminal resin film can be improved.

B層は、第1ポリオレフィン樹脂及び第2ポリオレフィン樹脂を含む樹脂組成物を用いて形成される。上記第1ポリオレフィン樹脂及び第2ポリオレフィン樹脂としては、例えば、低密度、中密度、高密度のポリエチレン;エチレン-αオレフィン共重合体;ホモ、ブロック、またはランダムポリプロピレン;プロピレン-αオレフィン共重合体;ポリブテン;ポリメチルペンテン;ポリノルボルネン等が挙げられる。これらの中でも上記第1ポリオレフィン樹脂及び第2ポリオレフィン樹脂は、ヒートシール強度及び加工性の観点から、ポリプロピレンを含むことが好ましい。B層に用いられる第1ポリオレフィン樹脂及び第2ポリオレフィン樹脂は、酸変性ポリオレフィン樹脂であってもよく、未変性ポリオレフィン樹脂であってもよいが、絶縁性の観点から、未変性ポリオレフィン樹脂であることが好ましい。第1ポリオレフィン樹脂としては、ランダムポリプロピレン共重合体が好ましく、第2ポリオレフィン樹脂としては、ブロックポリプロピレン共重合体が好ましい。第1ポリオレフィン樹脂及び第2ポリオレフィン樹脂はそれぞれ、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、B層の形成に用いられる樹脂組成物は、第1ポリオレフィン樹脂及び第2ポリオレフィン樹脂以外の他の樹脂を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。 Layer B is formed using a resin composition containing a first polyolefin resin and a second polyolefin resin. Examples of the first polyolefin resin and the second polyolefin resin include low-, medium-, and high-density polyethylenes; ethylene-α-olefin copolymers; homo, block, or random polypropylenes; propylene-α-olefin copolymers; polybutene; polymethylpentene; polynorbornene; Among these, the first polyolefin resin and the second polyolefin resin preferably contain polypropylene from the viewpoint of heat seal strength and workability. The first polyolefin resin and the second polyolefin resin used in the B layer may be an acid-modified polyolefin resin or an unmodified polyolefin resin, but from the viewpoint of insulation, they should be unmodified polyolefin resin. is preferred. A random polypropylene copolymer is preferable as the first polyolefin resin, and a block polypropylene copolymer is preferable as the second polyolefin resin. Each of the first polyolefin resin and the second polyolefin resin may be used singly or in combination of two or more. Moreover, the resin composition used for forming the B layer may or may not contain resins other than the first polyolefin resin and the second polyolefin resin.

B層に用いられる第1ポリオレフィン樹脂の融点は、100℃以上160℃未満であり、110~150℃であることが好ましく、120~140℃であることがより好ましい。第1ポリオレフィン樹脂の融点が100℃以上であることで、電解液に接触した後、高温環境下での金属端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。また、第1ポリオレフィン樹脂の融点が160℃以下であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。 The melting point of the first polyolefin resin used in layer B is 100°C or higher and lower than 160°C, preferably 110 to 150°C, more preferably 120 to 140°C. When the melting point of the first polyolefin resin is 100° C. or higher, the adhesiveness of the terminal resin film to the metal terminal can be further improved in a high-temperature environment after contact with the electrolytic solution. Moreover, since the melting point of the first polyolefin resin is 160° C. or less, the adhesiveness of the resin film for terminals to the terminals under room temperature environment can be further improved after coming into contact with the electrolytic solution.

B層に用いられる第2ポリオレフィン樹脂の融点は、160℃以上170℃以下であり、162℃以上168℃以下であることが好ましく、163℃以上166℃であることがより好ましい。第2ポリオレフィン樹脂の融点が160℃以上であることで、電解液に接触した後、高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。また、第2ポリオレフィン樹脂の融点が170℃以下であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。 The melting point of the second polyolefin resin used in layer B is 160°C or higher and 170°C or lower, preferably 162°C or higher and 168°C or lower, and more preferably 163°C or higher and 166°C. When the melting point of the second polyolefin resin is 160° C. or higher, the adhesiveness of the resin film for terminals to the terminals in a high-temperature environment after contact with the electrolytic solution can be further improved. In addition, since the second polyolefin resin has a melting point of 170° C. or less, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminals under room temperature can be further improved after contact with the electrolytic solution.

B層の形成に用いられる樹脂組成物は、酸化防止剤、スリップ剤、難燃剤、光安定剤、脱水剤、着色顔料、粘着付与剤、フィラー、結晶核剤などの樹脂添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は、複数の種類がブレンドされていてもよい。特に、端子用樹脂フィルムの視認性の向上の観点から、上記樹脂組成物には着色顔料やフィラーが含まれていてもよい。着色顔料及びフィラーとしては、A層と同様のものが挙げられる。 The resin composition used to form the B layer contains resin additives such as antioxidants, slip agents, flame retardants, light stabilizers, dehydrating agents, coloring pigments, tackifiers, fillers, and crystal nucleating agents. good too. A plurality of types of these additives may be blended. In particular, from the viewpoint of improving the visibility of the terminal resin film, the resin composition may contain a coloring pigment or a filler. As the coloring pigment and filler, the same ones as in the A layer can be used.

B層の厚さ(1層当たりの厚さ)は、10~150μmであることが好ましく、15~100μmであることがより好ましく、20~50μmであることが更に好ましい。B層の厚さが10μm以上であることで、外装材と端子用樹脂フィルムとの高温環境下での密着性をより向上できる。また、加工性やフィルムの破断伸度の観点からB層の厚さが150μm以下であることが好ましい。 The thickness of the B layer (thickness per layer) is preferably 10 to 150 μm, more preferably 15 to 100 μm, even more preferably 20 to 50 μm. When the thickness of the layer B is 10 µm or more, the adhesion between the exterior material and the terminal resin film can be further improved in a high-temperature environment. From the standpoint of workability and breaking elongation of the film, the thickness of the B layer is preferably 150 μm or less.

B層において、第2ポリオレフィン樹脂に対する第1ポリオレフィン樹脂の質量比Rは0.1~9であることが好ましく、0.3~8であることがより好ましく、0.5~7であることが更に好ましい。Rが0.1以上であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。また、Rが9以下であることで、電解液に接触した後、高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。 In layer B, the mass ratio R of the first polyolefin resin to the second polyolefin resin is preferably 0.1 to 9, more preferably 0.3 to 8, and more preferably 0.5 to 7. More preferred. When R is 0.1 or more, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminal under room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. In addition, when R is 9 or less, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminals in a high-temperature environment after contact with the electrolytic solution can be further improved.

B層において、第1ポリオレフィン樹脂が550MPa以上1000MPa未満の引張弾性率、及び、15MPa以上23MPa未満の引張降伏応力を有し、第2ポリオレフィン樹脂が、1000MPa以上1500MPa以下の引張弾性率、及び、23MPa以上35MPa以下の引張降伏応力を有することが好ましい。第1ポリオレフィン樹脂及び第2ポリオレフィン樹脂の引張弾性率がそれぞれ上記下限値以上であることで、電解液に接触した後、高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。第1ポリオレフィン樹脂及び第2ポリオレフィン樹脂の引張降伏応力がそれぞれ上記下限値以上であることで、電解液に接触した後、高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。また、第1ポリオレフィン樹脂の引張弾性率が1000MPa未満であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。第2ポリオレフィン樹脂の引張弾性率が1500MPa以下であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。第1ポリオレフィン樹脂の引張降伏応力が23MPa未満であることで、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。第2ポリオレフィン樹脂の引張降伏応力が35MPa以下であることで、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。 In layer B, the first polyolefin resin has a tensile modulus of 550 MPa or more and less than 1000 MPa and a tensile yield stress of 15 MPa or more and less than 23 MPa, and the second polyolefin resin has a tensile modulus of 1000 MPa or more and 1500 MPa or less and 23 MPa. It is preferable to have a tensile yield stress of 35 MPa or more. When the tensile elastic moduli of the first polyolefin resin and the second polyolefin resin are each equal to or higher than the above lower limit, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminals in a high-temperature environment can be further improved after coming into contact with the electrolytic solution. When the tensile yield stresses of the first polyolefin resin and the second polyolefin resin are equal to or higher than the above lower limit values, the adhesion of the terminal resin film to the terminals in a high-temperature environment after contact with the electrolytic solution can be further improved. Moreover, since the tensile elastic modulus of the first polyolefin resin is less than 1000 MPa, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminal under room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. When the tensile elastic modulus of the second polyolefin resin is 1500 MPa or less, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminals under room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. When the tensile yield stress of the first polyolefin resin is less than 23 MPa, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminal under room temperature can be further improved. When the tensile yield stress of the second polyolefin resin is 35 MPa or less, the adhesion of the terminal resin film to the terminal under room temperature can be further improved.

第1ポリオレフィン樹脂の引張弾性率は、570~750MPaであることがより好ましく、600~700MPaであることが更に好ましい。第1ポリオレフィン樹脂の引張降伏応力は16MPa以上22MPa以下であることがより好ましく、17~21MPaであることが更に好ましい。 The tensile elastic modulus of the first polyolefin resin is more preferably 570-750 MPa, even more preferably 600-700 MPa. The tensile yield stress of the first polyolefin resin is more preferably 16 MPa or more and 22 MPa or less, and even more preferably 17 to 21 MPa.

第2ポリオレフィン樹脂の引張弾性率は、1100~1450MPaであることがより好ましく、1300~1400MPaであることが更に好ましい。第2ポリオレフィン樹脂の引張降伏応力は23~32MPaであることがより好ましく、25~30MPaであることが更に好ましい。 The tensile elastic modulus of the second polyolefin resin is more preferably 1100-1450 MPa, even more preferably 1300-1400 MPa. The tensile yield stress of the second polyolefin resin is more preferably 23-32 MPa, even more preferably 25-30 MPa.

B層においては、第1ポリオレフィン樹脂が885kg/m以上895kg/m未満の密度を有し、第2ポリオレフィン樹脂が、895kg/m以上910kg/m以下の密度を有することが好ましい。第1ポリオレフィン樹脂及び第2ポリオレフィン樹脂の密度がそれぞれ上記下限値以上であることで、電解液に接触した後、高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。第1ポリオレフィン樹脂の密度が895kg/m未満であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。第2ポリオレフィン樹脂の密度が910kg/m以下であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。 In layer B, the first polyolefin resin preferably has a density of 885 kg/m 3 or more and less than 895 kg/m 3 , and the second polyolefin resin preferably has a density of 895 kg/m 3 or more and 910 kg/m 3 or less. When the densities of the first polyolefin resin and the second polyolefin resin are equal to or higher than the above lower limit values, the adhesion of the terminal resin film to the terminals in a high-temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. When the density of the first polyolefin resin is less than 895 kg/m 3 , the adhesiveness of the resin film for terminals to the terminals under room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. When the density of the second polyolefin resin is 910 kg/m 3 or less, the adhesion of the resin film for terminals to the terminals under room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution.

第1ポリオレフィン樹脂の密度は885~893kg/mであることがより好ましく、887~891kg/mであることが更に好ましい。第2ポリオレフィン樹脂の密度は、897~905kg/mであることがより好ましい。 The density of the first polyolefin resin is more preferably 885-893 kg/m 3 , still more preferably 887-891 kg/m 3 . More preferably, the density of the second polyolefin resin is 897-905 kg/m 3 .

B層の第1ポリオレフィン樹脂の230℃におけるMFRが、1.0~10.0g/10minであり、B層の第2ポリオレフィン樹脂のMFRが、0.05g/10min以上1.0g/10min未満であることが好ましい。第1ポリオレフィン樹脂の230℃におけるMFRが1.0g/10min以上であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。また、第1ポリオレフィン樹脂の230℃におけるMFRが10.0g/10min以下であることで、電解液に接触した後、高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。第2ポリオレフィン樹脂の230℃におけるMFRが0.05g/10min以上であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。また、第2ポリオレフィン樹脂の230℃におけるMFRが1.0g/10min未満であることで、電解液に接触した後、高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。 The MFR of the first polyolefin resin of the B layer at 230° C. is 1.0 to 10.0 g/10 min, and the MFR of the second polyolefin resin of the B layer is 0.05 g/10 min or more and less than 1.0 g/10 min. Preferably. When the MFR at 230° C. of the first polyolefin resin is 1.0 g/10 min or more, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminal under room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. Further, when the MFR at 230° C. of the first polyolefin resin is 10.0 g/10 min or less, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminals in a high-temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. When the MFR at 230° C. of the second polyolefin resin is 0.05 g/10 min or more, the adhesion of the terminal resin film to the terminal under room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. Further, when the MFR at 230° C. of the second polyolefin resin is less than 1.0 g/10 min, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminals in a high-temperature environment can be further improved after coming into contact with the electrolytic solution.

B層の第1ポリオレフィン樹脂の230℃におけるMFRは、1.0~3.0g/10minであることがより好ましく、1.2~2.0g/10minであることが更に好ましい。B層の第2ポリオレフィン樹脂のMFRは、0.1g/10min以上1.0g/10min未満であることがより好ましく、0.3~0.8g/10minであることが更に好ましい。 The MFR at 230° C. of the first polyolefin resin of layer B is more preferably 1.0 to 3.0 g/10 min, still more preferably 1.2 to 2.0 g/10 min. The MFR of the second polyolefin resin of layer B is more preferably 0.1 g/10 min or more and less than 1.0 g/10 min, and even more preferably 0.3 to 0.8 g/10 min.

C層は、ポリオレフィン樹脂を含む樹脂組成物を用いて形成される。上記未変性ポリオレフィン樹脂としては、例えば、低密度、中密度、高密度のポリエチレン;エチレン-αオレフィン共重合体;ホモ、ブロック、またはランダムポリプロピレン;プロピレン-αオレフィン共重合体;ポリブテン;ポリメチルペンテン;ポリノルボルネン等が挙げられる。これらの中でも上記ポリオレフィン樹脂は、ヒートシール強度及び加工性の観点から、ポリプロピレンを含むことが好ましい。C層に用いられるポリオレフィン樹脂は、酸変性ポリオレフィン樹脂であってもよく、未変性ポリオレフィン樹脂であってもよいが、絶縁性の観点から、未変性ポリオレフィン樹脂であることが好ましい。ポリオレフィン樹脂としては、ブロックポリプロピレン共重合体が好ましい。これらポリオレフィン樹脂は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、C層に用いられるポリオレフィン樹脂は、C層とB層との層間密着性の観点から、B層に用いられる第2ポリオレフィン樹脂と同一であることが好ましい。さらに、C層の形成に用いられる樹脂組成物は、ポリオレフィン樹脂以外の他の樹脂を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。また、C層の形成に用いられる樹脂組成物は、ポリオレフィン樹脂として未変性ポリオレフィン樹脂のみを含み、酸変性ポリオレフィン樹脂を含まないことが、電解液に接触した後、高温環境下での金属端子と端子用樹脂フィルムとの密着性の観点から好ましい。 The C layer is formed using a resin composition containing polyolefin resin. Examples of the unmodified polyolefin resin include low-density, medium-density, and high-density polyethylene; ethylene-α-olefin copolymer; homo, block, or random polypropylene; propylene-α-olefin copolymer; ; and polynorbornene. Among these, the polyolefin resin preferably contains polypropylene from the viewpoint of heat seal strength and workability. The polyolefin resin used for the C layer may be an acid-modified polyolefin resin or an unmodified polyolefin resin, but from the viewpoint of insulation, the unmodified polyolefin resin is preferable. A block polypropylene copolymer is preferable as the polyolefin resin. These polyolefin resins may be used singly or in combination of two or more. Moreover, the polyolefin resin used for the C layer is preferably the same as the second polyolefin resin used for the B layer from the viewpoint of interlayer adhesion between the C layer and the B layer. Furthermore, the resin composition used for forming the C layer may or may not contain other resins than the polyolefin resin. In addition, the resin composition used for forming the C layer contains only an unmodified polyolefin resin as a polyolefin resin and does not contain an acid-modified polyolefin resin. It is preferable from the viewpoint of adhesion with the terminal resin film.

C層に用いられるポリオレフィン樹脂の融点は、160~170℃であり、160~165℃であることがより好ましい。ポリオレフィン樹脂の融点が160℃以上であることで、電解液に接触した後、高温環境下での金属端子14に対する密着性をより向上できる。また、ポリオレフィン樹脂の融点が170℃以下であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。 The melting point of the polyolefin resin used for the C layer is 160 to 170°C, more preferably 160 to 165°C. By setting the melting point of the polyolefin resin to 160° C. or higher, it is possible to further improve the adhesion to the metal terminal 14 in a high-temperature environment after contact with the electrolytic solution. In addition, since the polyolefin resin has a melting point of 170° C. or less, the adhesiveness of the terminal resin film to the terminal can be further improved in a room temperature environment after contact with the electrolytic solution.

C層に用いられるポリオレフィン樹脂の融点をTm(℃)、B層に用いられるポリオレフィン樹脂の融点をTm(℃)とした場合、Tm≧Tmの条件を満たすことが好ましい。また、Tm-Tmの値は1~25(℃)であることがより好ましく、2~15(℃)であることが更に好ましい。Tm≧Tmの条件を満たすことで、電解液に接触した後、高温環境下でのヒートシール強度の低下をより抑制できる。また、Tm-Tmの値が25(℃)以下であることで、端子用樹脂フィルムの加工性を向上させることができる。 Assuming that the melting point of the polyolefin resin used for the C layer is Tm C (°C) and the melting point of the polyolefin resin used for the B layer is Tm B (°C), it is preferable to satisfy the condition of Tm C ≧Tm B. Further, the value of Tm C −Tm B is more preferably 1 to 25 (° C.), even more preferably 2 to 15 (° C.). By satisfying the condition of Tm C ≧Tm B , it is possible to further suppress a decrease in heat seal strength in a high-temperature environment after contact with the electrolytic solution. Further, when the value of Tm C −Tm B is 25 (° C.) or less, the workability of the terminal resin film can be improved.

C層の形成に用いられる樹脂組成物は、酸化防止剤、スリップ剤、難燃剤、光安定剤、脱水剤、着色顔料、粘着付与剤、フィラー、結晶核剤などの樹脂添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は、複数の種類がブレンドされていてもよい。特に、端子用樹脂フィルムの視認性の向上の観点から、上記樹脂組成物には着色顔料やフィラーが含まれていてもよい。着色顔料及びフィラーとしては、A層と同様のものが挙げられる。 The resin composition used to form the C layer contains resin additives such as antioxidants, slip agents, flame retardants, light stabilizers, dehydrating agents, coloring pigments, tackifiers, fillers, and crystal nucleating agents. good too. A plurality of types of these additives may be blended. In particular, from the viewpoint of improving the visibility of the terminal resin film, the resin composition may contain a coloring pigment or a filler. As the coloring pigment and filler, the same ones as in the A layer can be used.

C層の厚さ(1層当たりの厚さ)は、2~150μmであることが好ましく、3~100μmであることがより好ましく、4~50μmであることが更に好ましい。C層の厚さが2μm以上であることで、電解液に接触した後、高温環境下での外装材と端子用樹脂フィルムとの密着性を向上させることができる。また、加工性やフィルムの破断伸度の観点からC層の厚さが150μm以下であることが好ましい。 The thickness of the C layer (thickness per layer) is preferably 2 to 150 μm, more preferably 3 to 100 μm, even more preferably 4 to 50 μm. When the thickness of the C layer is 2 μm or more, it is possible to improve the adhesion between the exterior material and the terminal resin film in a high-temperature environment after contact with the electrolytic solution. In addition, the thickness of the C layer is preferably 150 μm or less from the viewpoint of processability and breaking elongation of the film.

C層の230℃におけるMFRは、0.05~50g/10minであることが好ましく、1.0~25g/10minであることがより好ましく、2.0~15g/10minであることが更に好ましい。C層のMFRが0.05g/10min以上であることで、端子用樹脂フィルムの破断伸度を向上できる。また、C層のMFRが50g/10min以下であることで、端子用樹脂フィルムの破断強度を向上できる。 The MFR of the C layer at 230° C. is preferably 0.05 to 50 g/10 min, more preferably 1.0 to 25 g/10 min, even more preferably 2.0 to 15 g/10 min. When the C layer has an MFR of 0.05 g/10 min or more, the elongation at break of the terminal resin film can be improved. Moreover, since the MFR of the C layer is 50 g/10 min or less, the breaking strength of the terminal resin film can be improved.

端子用樹脂フィルムの総厚は、160μm以上であってもよく、175μm以上であってもよく、200μm以上であってもよい。端子用樹脂フィルムの総厚の上限は特に限定されないが、例えば1000μm以下であってよい。 The total thickness of the terminal resin film may be 160 μm or more, 175 μm or more, or 200 μm or more. Although the upper limit of the total thickness of the terminal resin film is not particularly limited, it may be, for example, 1000 μm or less.

端子用樹脂フィルムを構成する層のうち、A層に該当する層の合計の厚さをT(μm)、B層に該当する層の合計の厚さをT(μm)とした場合、T≧Tの条件を満たすことが好ましい。また、T/Tの値は1.0~1.5であることがより好ましい。T/Tの値が上記範囲内であることで、ヒートシール強度をより向上させることができる。 Among the layers constituting the terminal resin film, when the total thickness of the layers corresponding to the A layers is T A (μm) and the total thickness of the layers corresponding to the B layers is T B (μm), It is preferable to satisfy the condition T A ≧T B. Further, the value of T A /T B is more preferably 1.0 to 1.5. When the value of T A /T B is within the above range, the heat seal strength can be further improved.

端子用樹脂フィルムの総厚中の上記積層構造(B層/C層/B層)の厚さの割合が25~75%であることが好ましく、35~65%であることがより好ましい。上記積層構造の厚さの割合が25%以上であることで、電解液に接触した後、室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。上記積層構造の厚さの割合が75%以下であることで、電解液に接触した後、高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。 The ratio of the thickness of the laminated structure (layer B/layer C/layer B) to the total thickness of the terminal resin film is preferably 25 to 75%, more preferably 35 to 65%. When the thickness ratio of the laminated structure is 25% or more, the adhesiveness of the resin film for terminals to the terminals under room temperature environment can be further improved after coming into contact with the electrolytic solution. When the thickness ratio of the laminated structure is 75% or less, the adhesiveness of the resin film for terminals to the terminals in a high-temperature environment can be further improved after coming into contact with the electrolytic solution.

上記積層構造中のB層の厚さの合計の割合は、30~80%であることが好ましく、40~70%であることがより好ましい。上記積層構造中のB層の厚さの合計の割合が30%以上であることで、電解液に接触した後、室温環境下における金属端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。上記積層構造中のB層の厚さの合計の割合が80%以下であることで、電解液に接触した後、高温環境下における金属端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性をより向上できる。 The ratio of the total thickness of the B layers in the laminated structure is preferably 30 to 80%, more preferably 40 to 70%. When the ratio of the total thickness of the layer B in the laminated structure is 30% or more, the adhesion of the terminal resin film to the metal terminal under a room temperature environment can be further improved after contact with the electrolytic solution. When the ratio of the total thickness of the layer B in the laminated structure is 80% or less, the adhesion of the terminal resin film to the metal terminal in a high-temperature environment after contact with the electrolytic solution can be further improved.

本実施形態の端子用樹脂フィルムにおいて、複数のA層はそれぞれ同一の樹脂を用いて形成された層であってもよく、異なる樹脂を用いて形成された層であってもよい。また、複数のA層はそれぞれ同一の樹脂組成物を用いて形成された層であってもよく、異なる樹脂組成物を用いて形成された層であってもよい。更に、複数のA層の厚さ、融点及びMFRは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。端子用樹脂フィルムの加工性及びカール抑制の観点からは、複数のA層の上述した各構成は全て同一であることが好ましい。 In the terminal resin film of the present embodiment, the plurality of A layers may be layers formed using the same resin or layers formed using different resins. Further, the plurality of A layers may be layers formed using the same resin composition, respectively, or layers formed using different resin compositions. Furthermore, the thickness, melting point and MFR of the multiple A layers may be the same or different. From the viewpoint of workability and curl suppression of the terminal resin film, it is preferable that all of the above-described configurations of the plurality of A layers are the same.

本実施形態の端子用樹脂フィルムにおいて、複数のB層はそれぞれ同一の樹脂を用いて形成された層であってもよく、異なる樹脂を用いて形成された層であってもよい。また、複数のB層はそれぞれ同一の樹脂組成物を用いて形成された層であってもよく、異なる樹脂組成物を用いて形成された層であってもよい。更に、複数のB層の厚さ、融点及びMFRは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。端子用樹脂フィルムの加工性及びカール抑制の観点からは、複数のB層の上述した各構成は全て同一であることが好ましい。 In the terminal resin film of the present embodiment, the plurality of B layers may be layers formed using the same resin or layers formed using different resins. Further, the plurality of B layers may be layers formed using the same resin composition, respectively, or layers formed using different resin compositions. Furthermore, the thickness, melting point and MFR of the multiple B layers may be the same or different. From the viewpoint of workability of the terminal resin film and curbing of curling, it is preferable that all of the above-described configurations of the plurality of B layers are the same.

本実施形態の端子用樹脂フィルムにおいて、C層が複数存在する場合、複数のC層はそれぞれ同一の樹脂を用いて形成された層であってもよく、異なる樹脂を用いて形成された層であってもよい。また、複数のC層はそれぞれ同一の樹脂組成物を用いて形成された層であってもよく、異なる樹脂組成物を用いて形成された層であってもよい。更に、複数のC層の厚さ、融点及びMFRは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。端子用樹脂フィルムの加工性及びカール抑制の観点からは、複数のC層の上述した各構成は全て同一であることが好ましい。 In the terminal resin film of the present embodiment, when there are a plurality of C layers, the plurality of C layers may be layers formed using the same resin, or layers formed using different resins. There may be. Moreover, the plurality of C layers may be layers formed using the same resin composition, respectively, or layers formed using different resin compositions. Furthermore, the thickness, melting point and MFR of the multiple C layers may be the same or different. From the viewpoint of workability and curl suppression of the terminal resin film, it is preferable that all of the above-described configurations of the plurality of C layers are the same.

本実施形態の端子用樹脂フィルムがA層/B層/C層/B層/A層の積層構造を有する場合、各層が同一厚さであってもよく、異なる厚さであってもよい。上記積層構造における各層の厚さの比は、例えば2:1:1:1:24:2:1:2:4などのようにA層がB層及びC層に比べて厚くなってもよい。上記積層構造における各層の厚さの比は、金属端子と端子用樹脂フィルムとの間の隙間の埋込性の観点からは、例えば1:1:1:1:3のように、片方のA層(金属端子側のA層)の厚さをより厚くしてもよい。C層はA層及びB層よりも厚さが薄い方が好ましい。 When the terminal resin film of the present embodiment has a laminated structure of A layer/B layer/C layer/B layer/A layer, each layer may have the same thickness or different thicknesses. The thickness ratio of each layer in the laminated structure may be such that the A layer is thicker than the B and C layers, such as 2:1:1:1:24:2:1:2:4. . The thickness ratio of each layer in the laminated structure is, for example, 1:1:1:1:3, from the viewpoint of filling the gap between the metal terminal and the terminal resin film. The thickness of the layer (A layer on the metal terminal side) may be made thicker. The C layer is preferably thinner than the A and B layers.

本実施形態の端子用樹脂フィルムは、A層、B層及びC層以外の他の層(A層、B層及びC層のいずれにも該当しない層)を含んでいてもよいが、他の層を含まない方が好ましい。すなわち、端子用樹脂フィルムを構成する層の全てが、A層、B層及びC層からなる群より選ばれる少なくとも一つの層に該当することが好ましい。 The terminal resin film of the present embodiment may contain layers other than the A layer, the B layer, and the C layer (layers that do not correspond to any of the A layer, the B layer, and the C layer). Preferably no layer is included. That is, it is preferable that all of the layers constituting the terminal resin film correspond to at least one layer selected from the group consisting of the A layer, the B layer and the C layer.

本実施形態の端子用樹脂フィルムにおいて、少なくとも金属端子側の最外層は、密着性の観点からA層であることが好ましい。一方、外装材側の最外層は、A層でなくてもよく、例えば未変性ポリオレフィン樹脂を用いた層であってもよいが、端子用樹脂フィルムの取り扱い性及びカール抑制の観点から、両面の最外層はいずれもA層であることが好ましい。 In the terminal resin film of the present embodiment, at least the outermost layer on the metal terminal side is preferably layer A from the viewpoint of adhesion. On the other hand, the outermost layer on the exterior material side may not be the A layer, and may be a layer using, for example, an unmodified polyolefin resin. All of the outermost layers are preferably A layers.

以上、本開示の好ましい実施形態について詳述したが、本開示は特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本開示の要旨の範囲内において、種々の変形又は変更が可能である。 Although the preferred embodiments of the present disclosure have been described in detail above, the present disclosure is not limited to specific embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present disclosure described in the claims. Or change is possible.

[端子用樹脂フィルムの製造方法]
次に、本実施形態に係る端子用樹脂フィルム16の製造方法について説明する。端子用樹脂フィルム16の製造方法は、下記に限定されない。
[Method for producing terminal resin film]
Next, a method for manufacturing the terminal resin film 16 according to this embodiment will be described. The method for manufacturing the terminal resin film 16 is not limited to the following.

端子用樹脂フィルム16がA層/B層/C層/B層/A層の5層構造を有する場合、上記5層を共押出法により積層してもよく、一部を事前に製膜した後、サンドイッチラミネート法により積層してもよい。例えば、A層/B層/C層からなる3層フィルム及びA層を事前に製膜した後、B層を構成する樹脂組成物を用いて3層フィルムとA層とをサンドイッチラミネート法により積層してもよく、A層/B層/C層からなる3層フィルムを事前に製膜し、その上にB層/A層からなる2層フィルムを押し出すことにより積層してもよい。 When the terminal resin film 16 has a five-layer structure of A layer/B layer/C layer/B layer/A layer, the five layers may be laminated by a coextrusion method, and a part of the layers may be formed in advance. After that, it may be laminated by a sandwich lamination method. For example, after forming a three-layer film consisting of A layer / B layer / C layer and A layer in advance, the three-layer film and A layer are laminated by a sandwich lamination method using a resin composition that constitutes B layer. Alternatively, a three-layer film consisting of A layer/B layer/C layer may be formed in advance, and a two-layer film consisting of B layer/A layer may be extruded thereon for lamination.

また、A層/B層/C層からなる3層フィルムを事前に製膜し、接着剤組成物を用いて2枚の3層フィルムをドライラミネート法により積層してもよい。接着剤組成物としては、3層フィルムのC層同士間の層間密着性の観点からは、C層を構成する樹脂組成物中のポリオレフィン樹脂と同系統の樹脂を含むものを用いることが好ましい。同系統の樹脂とは、C層を構成する樹脂組成物中のポリオレフィン樹脂が未変性ポリオレフィン樹脂である場合には、未変性ポリオレフィン樹脂であり、ポリオレフィン樹脂が酸変性ポリオレフィン樹脂である場合には、酸変性ポリオレフィン樹脂である。 Alternatively, a three-layer film consisting of A layer/B layer/C layer may be formed in advance, and two three-layer films may be laminated by a dry lamination method using an adhesive composition. As the adhesive composition, from the viewpoint of interlayer adhesion between the C layers of the three-layer film, it is preferable to use one containing a resin of the same type as the polyolefin resin in the resin composition constituting the C layers. The resin of the same type is an unmodified polyolefin resin when the polyolefin resin in the resin composition constituting the C layer is an unmodified polyolefin resin, and when the polyolefin resin is an acid-modified polyolefin resin, It is an acid-modified polyolefin resin.

事前に製膜する3層フィルム等は、Tダイ押出法やインフレーション法などの共押出法を用いて製造することができるが、膜厚安定性の観点から、インフレーション法を用いて製造することが好ましい。 A three-layer film or the like that is formed in advance can be produced using a co-extrusion method such as a T-die extrusion method or an inflation method, but from the viewpoint of film thickness stability, it is possible to produce using an inflation method. preferable.

端子用樹脂フィルム16を構成する層の数が6層以上である場合も、上述した製造方法を適宜用いて製造することができる。 Even when the number of layers constituting the terminal resin film 16 is six or more, it can be manufactured by appropriately using the manufacturing method described above.

端子用樹脂フィルム16の製造方法の一例として、インフレーション法により5層フィルムを製造する方法について説明する。 As an example of the method of manufacturing the terminal resin film 16, a method of manufacturing a five-layer film by the inflation method will be described.

まず、A層、B層、C層、B層及びA層の母材を準備する。次いで、A層、B層、C層、B層及びA層の母材をインフレーション成型装置に供給する。次いで、インフレーション成型装置の押し出し部から5層構造(A層、B層、C層、B層、及びA層が積層された構造)となるように、上記5つの母材を押し出しながら、押し出された5層構造の積層体の内側からエア(空気)を供給する。 First, base materials for the A layer, the B layer, the C layer, the B layer, and the A layer are prepared. Next, the base materials for the A layer, B layer, C layer, B layer and A layer are supplied to an inflation molding device. Next, while extruding the five base materials from the extrusion section of the inflation molding device, the five base materials are extruded so as to form a five-layer structure (a structure in which layers A, B, C, B, and A are laminated). Air is supplied from the inside of the laminate having a five-layer structure.

そして、円筒形状にインフレートされた円筒状の5層フィルムを搬送しながら、ガイド部により扁平状に変形させた後、一対のピンチロールにより5層フィルムをシート状に折り畳む。折り畳んだチューブの両端部をスリットし、1対(2条)のフィルムを巻き取りコアにロール状に巻き取ることで、ロール状とされた5層フィルムが製造される。こうして、端子用樹脂フィルム16が製造される。 Then, while conveying the inflated cylindrical five-layer film, the five-layer film is flattened by the guide portion and then folded into a sheet by a pair of pinch rolls. Both ends of the folded tube are slit, and a pair (two strips) of the film is wound around a winding core to produce a roll-shaped five-layer film. Thus, the terminal resin film 16 is manufactured.

押し出し温度は、130~300℃の範囲内が好ましく、130~250℃がより好ましい。押し出し温度が130℃以上である場合、各層を構成する樹脂が充分に溶融することで、溶融粘度が小さくなるため、スクリューからの押し出しが安定する。押し出し温度が300℃以下である場合、各層を構成する樹脂の酸化や劣化を抑制し、5層フィルムの品質の低下を防ぐことができる。 The extrusion temperature is preferably in the range of 130-300°C, more preferably 130-250°C. When the extrusion temperature is 130° C. or higher, the resin constituting each layer is sufficiently melted to reduce the melt viscosity, thereby stabilizing the extrusion from the screw. When the extrusion temperature is 300° C. or lower, it is possible to suppress oxidation and deterioration of the resin constituting each layer and prevent deterioration of the quality of the five-layer film.

スクリューの回転数、ブロー比、引き取り速度等は、膜厚を考慮して適宜設定することができる。5層フィルムの各層の膜厚比は、各スクリューの回転数を変更する事で調整することができる。 The number of revolutions of the screw, the blow ratio, the take-up speed, etc. can be appropriately set in consideration of the film thickness. The film thickness ratio of each layer of the five-layer film can be adjusted by changing the number of rotations of each screw.

[端子用樹脂フィルムの融着方法]
図4に示した端子用樹脂フィルム16と外装材13とを溶融接着する融着処理について説明する。以下では、図4に示した端子用樹脂フィルム16のA層1を金属端子側に向け、A層7を外装材側に向けて配置する場合について説明する。
[Method of fusion-bonding resin film for terminals]
A fusion bonding process for fusion-bonding the terminal resin film 16 and the exterior material 13 shown in FIG. 4 will be described. A case will be described below in which the A layer 1 of the terminal resin film 16 shown in FIG. 4 faces the metal terminal side and the A layer 7 faces the exterior material side.

融着処理では、加熱によるA層7の溶融と、加圧によるA層7と外装材13との密着とを同時に行いながら、端子用樹脂フィルム16と外装材13とを熱融着させる。 In the fusion process, the terminal resin film 16 and the exterior material 13 are thermally fused while simultaneously melting the A layer 7 by heating and adhering the A layer 7 to the exterior material 13 by pressure.

融着処理では、端子用樹脂フィルム16と外装材13との充分な密着性及び封止性を得る観点から、A層7を構成する樹脂の融点以上の温度に加熱することが好ましい。 In the fusion bonding process, from the viewpoint of obtaining sufficient adhesion and sealing between the terminal resin film 16 and the exterior material 13, it is preferable to heat to a temperature equal to or higher than the melting point of the resin forming the A layer 7.

端子用樹脂フィルム16の加熱温度は、例えば、140~170℃であってよい。処理時間(加熱時間及び加圧時間の合計の時間)は、外装材との密着性、及び生産性を考慮して決定することができる。処理時間は、例えば、1~60秒の範囲内で適宜設定することができる。 The temperature for heating the terminal resin film 16 may be, for example, 140 to 170.degree. The treatment time (the total time of heating time and pressurizing time) can be determined in consideration of adhesion to the exterior material and productivity. The processing time can be appropriately set within a range of 1 to 60 seconds, for example.

端子用樹脂フィルム16の生産タクト(生産性)を向上させる観点から、170℃を超える温度で加圧時間を短くして熱融着してよい。この場合、加熱温度としては、例えば、170℃超230℃以下とすることができ、加圧時間としては、例えば、3~20秒とすることができる。 From the viewpoint of improving the production tact (productivity) of the resin film 16 for terminals, the heat-sealing may be performed at a temperature exceeding 170° C. for a short pressing time. In this case, the heating temperature can be, for example, higher than 170° C. and not higher than 230° C., and the pressing time can be, for example, 3 to 20 seconds.

また、図3を参照して、本実施形態に係る端子用樹脂フィルム16と金属端子14とを溶融接着する融着処理について説明する。融着処理では、加熱によるA層1の溶融と、加圧によるA層1と金属端子14との密着とを同時に行いながら、端子用樹脂フィルム16と金属端子14とを熱融着させる。 Further, a fusion bonding process for fusion-bonding the terminal resin film 16 and the metal terminal 14 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. In the fusion process, the terminal resin film 16 and the metal terminal 14 are thermally fused while simultaneously melting the A layer 1 by heating and adhering the A layer 1 to the metal terminal 14 by pressure.

融着処理では、端子用樹脂フィルム16と金属端子14との充分な密着性及び封止性を得る観点から、A層1を構成する樹脂の融点以上の温度に加熱することが好ましい。 In the fusion bonding process, it is preferable to heat the terminal resin film 16 and the metal terminal 14 to a temperature equal to or higher than the melting point of the resin forming the A layer 1 from the viewpoint of obtaining sufficient adhesion and sealing properties.

端子用樹脂フィルム16の加熱温度は、例えば、140~170℃であってよい。また、処理時間(加熱時間及び加圧時間の合計の時間)は、金属端子との密着性、及び生産性を考慮して決定することができる。処理時間は、例えば、1~60秒の範囲内で適宜設定することができる。 The temperature for heating the terminal resin film 16 may be, for example, 140 to 170.degree. Also, the treatment time (the total time of the heating time and the pressurizing time) can be determined in consideration of the adhesion to the metal terminal and productivity. The processing time can be appropriately set within a range of 1 to 60 seconds, for example.

端子用樹脂フィルム16の生産タクト(生産性)を向上させる観点から、170℃を超える温度で加圧時間を短時間にして熱融着してよい。この場合、加熱温度としては、例えば、170超230℃以下とすることができ、加圧時間としては、例えば、3~20秒とすることができる。 From the viewpoint of improving the production tact (productivity) of the resin film 16 for terminals, heat sealing may be performed at a temperature exceeding 170° C. with a short pressing time. In this case, the heating temperature can be, for example, higher than 170° C. and not higher than 230° C., and the pressing time can be, for example, 3 to 20 seconds.

以下、実施例及び比較例に基づいて本開示を具体的に説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present disclosure will be specifically described below based on examples and comparative examples, but the present disclosure is not limited to the following examples.

[使用材料]
実施例及び比較例で使用した材料を表1に示す。表1において、PPはポリプロピレンを意味し、酸変性は無水マレイン酸変性を意味し、融点は各層に用いた樹脂の融点を意味する。融点は、ASTM D2117に準じて測定された値であり、複数の融解ピークが存在する場合には、溶解熱量の多い方のピークにおける温度をいう。引張弾性率及び引張降伏応力は、端子用樹脂フィルムについて、JIS K7162に準拠した引張試験(試験片:JIS K7162に規定される5B型試験片、引張速度:50mm/min)により測定した結果である。密度は、ISO 1183に準じて測定した結果である。MFRは、各材料を用いて形成された各層のメルトフローレートを、メルトフローレート測定器(東洋精機製作所社製、測定温度:230℃)によりJIS K7210に準じて測定した結果である。なお、表1において、B1-1~B1-10については、これらをまとめて「B1」と呼ぶことがある。B2-1~B2-10については、これらをまとめて「B2」と呼ぶことがある。
[Materials used]
Table 1 shows materials used in Examples and Comparative Examples. In Table 1, PP means polypropylene, acid-modified means maleic anhydride-modified, and melting point means the melting point of the resin used for each layer. The melting point is a value measured according to ASTM D2117, and when there are multiple melting peaks, the temperature at the peak with the greater heat of fusion. The tensile modulus and tensile yield stress are the results of measuring the terminal resin film by a tensile test conforming to JIS K7162 (specimen: 5B type specimen specified in JIS K7162, tensile speed: 50 mm / min). . Density is the result of measurement according to ISO 1183. MFR is the result of measuring the melt flow rate of each layer formed using each material with a melt flow rate measuring instrument (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd., measurement temperature: 230° C.) according to JIS K7210. In Table 1, B1-1 to B1-10 are collectively referred to as "B1" in some cases. B2-1 to B2-10 may be collectively referred to as "B2".

Figure 2022182409000002
Figure 2022182409000002

[端子用樹脂フィルムの作製]
表2~表5に示した各材料を用いて、同表に示す厚さを有する各層を同表に示す順に積層し、端子用樹脂フィルムを作製した。具体的な作製方法は以下の通りである。なお、表2~5においては、酸変性の有無、又は融点の点で本開示のA層、B層又はC層の条件を満たさない層についても、比較のため便宜的にA層、B層又はC層に分類した。また、各実施例及び各比較例において、上段は構成材料を示し、下段は各層の厚さを示す。B層については、構成材料が第1ポリオレフィン樹脂及び第2ポリオレフィン樹脂を含む場合には、第1ポリオレフィン樹脂及び第2ポリオレフィン樹脂の質量含有率を上段の下における括弧内に併記してある。
[Production of terminal resin film]
Using the materials shown in Tables 2 to 5, each layer having the thickness shown in the table was laminated in the order shown in the table to prepare a terminal resin film. A specific manufacturing method is as follows. In Tables 2 to 5, even for layers that do not satisfy the conditions of the A layer, B layer, or C layer of the present disclosure in terms of the presence or absence of acid modification or the melting point, the A layer and B layer are shown for convenience of comparison. Or classified into C layer. Moreover, in each example and each comparative example, the upper part indicates the constituent material, and the lower part indicates the thickness of each layer. As for the B layer, when the constituent material contains the first polyolefin resin and the second polyolefin resin, the mass content of the first polyolefin resin and the second polyolefin resin is also written in parentheses below the upper row.

(実施例1~23)
A層/B層/C層/B層/A層の5層をインフレーション法により共押出して積層し、A層/B層/C層/B層/A層の5層構造の端子用樹脂フィルムを得た。このとき、押し出し温度は、220℃とした。
(Examples 1 to 23)
Five layers of A layer/B layer/C layer/B layer/A layer are co-extruded and laminated by an inflation method, and a resin film for terminals having a five-layer structure of A layer/B layer/C layer/B layer/A layer got At this time, the extrusion temperature was 220°C.

(比較例1)
インフレーション法により共押出を行う際に、B層を、B1-1のみからなる層に変更したこと以外は実施例1と同様にして、A層/B層/C層/B層/A層の5層構造の端子用樹脂フィルムを得た。
(Comparative example 1)
A layer / B layer / C layer / B layer / A layer in the same manner as in Example 1 except that the B layer was changed to a layer consisting only of B1-1 when coextrusion was performed by the inflation method. A terminal resin film having a five-layer structure was obtained.

(比較例2)
インフレーション法により共押出を行う際に、B層/C層/B層の3層を、B1-1からなる単一の層に変更したこと以外は実施例1と同様にして、A層/B層/A層の3層構造の端子用樹脂フィルムを得た。
(Comparative example 2)
In the same manner as in Example 1, except that the three layers of B layer / C layer / B layer were changed to a single layer consisting of B1-1 when coextrusion was performed by the inflation method, A layer / B A terminal resin film having a three-layer structure of Layer/A layer was obtained.

(比較例3)
インフレーション法により共押出を行う際に、B層/C層/B層の3層を、B2-1からなる単一の層に変更したこと以外は実施例1と同様にしてA層/B層/A層の3層構造の端子用樹脂フィルムを得た。
(Comparative Example 3)
A layer / B layer in the same manner as in Example 1 except that the three layers of B layer / C layer / B layer were changed to a single layer consisting of B2-1 when coextrusion was performed by the inflation method. A terminal resin film having a three-layer structure of A layers was obtained.

(比較例4)
インフレーション法により共押出を行う際に、A層を、A6からなる層に変更したこと以外は実施例1と同様にしてA層/B層/C層/B層/A層の5層構造の端子用樹脂フィルムを得た。
(Comparative Example 4)
A five-layer structure of A layer / B layer / C layer / B layer / A layer in the same manner as in Example 1 except that the A layer was changed to a layer made of A6 when coextrusion was performed by the inflation method. A terminal resin film was obtained.

(比較例5)
インフレーション法により共押出を行う際に、A層を、A7からなる層に変更したこと以外は実施例1と同様にしてA層/B層/C層/B層/A層の5層構造の端子用樹脂フィルムを得た。
(Comparative Example 5)
A five-layer structure of A layer / B layer / C layer / B layer / A layer in the same manner as in Example 1 except that the A layer was changed to a layer made of A7 when coextrusion was performed by the inflation method. A terminal resin film was obtained.

(比較例6)
インフレーション法により共押出を行う際に、B層において、B1-1をB1-10に変更したこと以外は実施例1と同様にしてA層/B層/C層/B層/A層の5層構造の端子用樹脂フィルムを得た。
(Comparative Example 6)
In the same manner as in Example 1 except that B1-1 was changed to B1-10 in the B layer when coextrusion was performed by the inflation method, 5 of A layer / B layer / C layer / B layer / A layer A terminal resin film having a layered structure was obtained.

(比較例7)
インフレーション法により共押出を行う際に、2つのB層のうち一方のB層において、B2-1をB1-10に変更し、もう一方のB層においてB2-1をB2-2に変更したこと以外は実施例1と同様にしてA層/B層/C層/B層/A層の5層構造の端子用樹脂フィルムを得た。
(Comparative Example 7)
B2-1 was changed to B1-10 in one of the two B layers when coextrusion was performed by the inflation method, and B2-1 was changed to B2-2 in the other B layer. A terminal resin film having a five-layer structure of A layer/B layer/C layer/B layer/A layer was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.

(比較例8)
インフレーション法により共押出を行う際に、C層をB2-1からB1-5に変更したこと以外は実施例1と同様にしてA層/B層/C層/B層/A層の5層構造の端子用樹脂フィルムを得た。
(Comparative Example 8)
Five layers of A layer / B layer / C layer / B layer / A layer in the same manner as in Example 1 except that the C layer was changed from B2-1 to B1-5 when coextrusion was performed by the inflation method A terminal resin film having a structure was obtained.

(比較例9)
インフレーション法により共押出を行う際に、C層をB2-1からB2-10に変更したこと以外は実施例1と同様にしてA層/B層/C層/B層/A層の5層構造の端子用樹脂フィルムを得た。
(Comparative Example 9)
Five layers of A layer / B layer / C layer / B layer / A layer in the same manner as in Example 1 except that the C layer was changed from B2-1 to B2-10 when coextrusion was performed by the inflation method A terminal resin film having a structure was obtained.

[電解液接触後の室温環境下でのアルミニウム箔に対する密着性]
端子用樹脂フィルムを50mm(TD)×100mm(MD)のサイズにカットしたサンプルを、50mm×50mmのサイズにカットした化成処理済みアルミニウム箔を挟み込むように2つに折りたたみ、折り目とは反対側の端部を185℃/0.6MPa/10秒で幅10mmにわたってヒートシールした。その後、ヒートシール部の長手方向中央部を15mm幅で切り出し(図5を参照)、ヒートシール強度測定用サンプルを作製した。本評価において、図5中の積層体100は、端子用樹脂フィルム/アルミニウム箔/端子用樹脂フィルムからなる積層体である。このサンプルを、電解液に浸漬させ、85℃の環境下で一週間エージングを行った。電解液としては、エチレンカーボネート/ジエチルカーボネート/ジメチルカーボネート=1/1/1(質量比)の混合溶液にLiPFを1Mの濃度を有するように調整したものを用いた。その後、室温(25℃)環境下、引張速度50mm/minの条件にて、引張試験機(株式会社島津製作所社製)を用いて、アルミニウム箔と端子用樹脂フィルムとの間のT字剥離試験を行った。得られた結果から、下記評価基準に基づいて、アルミニウム箔(AL箔)に対するヒートシール強度(バースト強度)を評価した。この評価結果を、電解液に接触した後における室温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性の指標とした。評価がA、B又はCの場合は合格、Dの場合は不合格である。結果を表2~表5に示す。
A:ヒートシール強度が30N/15mm以上
B:ヒートシール強度が20N/15mm以上、30N/15mm未満
C:ヒートシール強度が15N/15mm以上、20N/15mm未満
D:ヒートシール強度が15N/15mm未満
[Adhesion to aluminum foil under room temperature environment after contact with electrolyte]
A sample of a terminal resin film cut to a size of 50 mm (TD) x 100 mm (MD) was folded in two so as to sandwich a chemically treated aluminum foil cut to a size of 50 mm x 50 mm. The ends were heat-sealed at 185°C/0.6 MPa/10 sec over a width of 10 mm. After that, the central portion in the longitudinal direction of the heat-sealed portion was cut out with a width of 15 mm (see FIG. 5) to prepare a sample for heat-sealing strength measurement. In this evaluation, the layered product 100 in FIG. 5 is a layered product composed of terminal resin film/aluminum foil/terminal resin film. This sample was immersed in the electrolytic solution and aged in an environment of 85° C. for one week. As the electrolytic solution, a mixed solution of ethylene carbonate/diethyl carbonate/dimethyl carbonate=1/1/1 (mass ratio) was adjusted to have a concentration of 1M with LiPF 6 . After that, a T-peel test between the aluminum foil and the terminal resin film was performed using a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation) under the conditions of a room temperature (25°C) environment and a tensile speed of 50 mm/min. did Based on the obtained results, the heat seal strength (burst strength) to aluminum foil (AL foil) was evaluated based on the following evaluation criteria. This evaluation result was used as an index of the adhesiveness of the terminal resin film to the terminal under the room temperature environment after contact with the electrolytic solution. If the evaluation is A, B or C, it is acceptable, and if it is D, it is unacceptable. The results are shown in Tables 2-5.
A: Heat seal strength is 30 N/15 mm or more B: Heat seal strength is 20 N/15 mm or more and less than 30 N/15 mm C: Heat seal strength is 15 N/15 mm or more and less than 20 N/15 mm D: Heat seal strength is less than 15 N/15 mm

[電解液接触後の高温環境下でのアルミニウム箔に対する密着性]
端子用樹脂フィルムを50mm(TD)×100mm(MD)のサイズにカットしたサンプルを、50mm×50mmのサイズにカットした化成処理済みアルミニウム箔を挟み込むように2つに折りたたみ、折り目とは反対側の端部を185/0.6MPa/10秒で幅10mmにわたってヒートシールした。その後、ヒートシール部の長手方向中央部を15mm幅で切り出し(図5を参照)、ヒートシール強度測定用サンプルを作製した。本評価において、図5中の積層体100は、端子用樹脂フィルム/アルミニウム箔/端子用樹脂フィルムからなる積層体である。このサンプルを、電解液に浸漬させ、85℃の環境下で一週間エージングを行った。電解液としては、エチレンカーボネート/ジエチルカーボネート/ジメチルカーボネート=1/1/1(質量比)の混合溶液にLiPFを1Mの濃度を有するように調整したものを用いた。その後、80℃環境下、引張速度50mm/minの条件にて、引張試験機(株式会社島津製作所社製)を用いて、アルミニウム箔と端子用樹脂フィルムとの間のT字剥離試験を行った。得られた結果から、下記評価基準に基づいて、アルミニウム箔(AL箔)に対するヒートシール強度(バースト強度)を評価した。この評価結果を、電解液に接触した後における高温環境下での端子に対する端子用樹脂フィルムの密着性の指標とした。評価がA、B又はCの場合は合格、Dの場合は不合格である。結果を表2~表5に示す。
A:ヒートシール強度が15N/15mm以上
B:ヒートシール強度が12.5N/15mm以上、15N/15mm未満
C:ヒートシール強度が7N/15mm以上、12.5N/15mm未満
D:ヒートシール強度が7N/15mm未満
[Adhesion to aluminum foil under high temperature environment after contact with electrolyte]
A sample of a terminal resin film cut to a size of 50 mm (TD) x 100 mm (MD) was folded in two so as to sandwich a chemically treated aluminum foil cut to a size of 50 mm x 50 mm. The ends were heat sealed at 185/0.6 MPa/10 sec over a width of 10 mm. After that, the central portion in the longitudinal direction of the heat-sealed portion was cut out with a width of 15 mm (see FIG. 5) to prepare a sample for heat-sealing strength measurement. In this evaluation, the layered product 100 in FIG. 5 is a layered product composed of terminal resin film/aluminum foil/terminal resin film. This sample was immersed in the electrolytic solution and aged in an environment of 85° C. for one week. As the electrolytic solution, a mixed solution of ethylene carbonate/diethyl carbonate/dimethyl carbonate=1/1/1 (mass ratio) was adjusted to have a concentration of 1M with LiPF 6 . Thereafter, a T-peel test between the aluminum foil and the terminal resin film was performed using a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation) under the conditions of a tension speed of 50 mm/min in an environment of 80°C. . Based on the obtained results, the heat seal strength (burst strength) to aluminum foil (AL foil) was evaluated based on the following evaluation criteria. This evaluation result was used as an index of adhesion of the terminal resin film to the terminal in a high-temperature environment after contact with the electrolytic solution. If the evaluation is A, B or C, it is acceptable, and if it is D, it is unacceptable. The results are shown in Tables 2-5.
A: Heat seal strength is 15 N/15 mm or more B: Heat seal strength is 12.5 N/15 mm or more and less than 15 N/15 mm C: Heat seal strength is 7 N/15 mm or more and less than 12.5 N/15 mm D: Heat seal strength is Less than 7N/15mm

Figure 2022182409000003
Figure 2022182409000003

Figure 2022182409000004
Figure 2022182409000004

Figure 2022182409000005
Figure 2022182409000005

Figure 2022182409000006
Figure 2022182409000006

1,7…A層、2,6…B層、4…C層、8…積層構造、10…蓄電デバイス、11…蓄電デバイス本体、13…外装材、14…金属端子、14-1…金属端子本体、14-2…腐食防止層、16…端子用樹脂フィルム、21…内層、22…内層側接着剤層、23-1,23-2…腐食防止処理層、24…バリア層、25…外層側接着剤層、26…外層。 1, 7... A layer, 2, 6... B layer, 4... C layer, 8... Laminated structure, 10... Power storage device, 11... Power storage device body, 13... Exterior material, 14... Metal terminal, 14-1... Metal Terminal body 14-2 Corrosion prevention layer 16 Terminal resin film 21 Inner layer 22 Inner layer side adhesive layer 23-1, 23-2 Corrosion prevention treatment layer 24 Barrier layer 25 Outer layer side adhesive layer, 26... Outer layer.

Claims (8)

蓄電デバイスを構成する蓄電デバイス本体と電気的に接続される金属端子の一部の外周面を覆うように配置される端子用樹脂フィルムであって、
前記端子用樹脂フィルムが、下記A層と、積層構造とを有し、
前記積層構造が、下記B層、下記C層及び下記B層をこの順で積層してなる、端子用樹脂フィルム。
A層:100℃以上170℃以下の融点を有する酸変性ポリオレフィン樹脂を含む樹脂組成物を用いて形成された層。
B層:100℃以上160℃未満の融点を有する第1ポリオレフィン樹脂、及び、160℃以上170℃以下の融点を有する第2ポリオレフィン樹脂を含む樹脂組成物を用いて形成された層。
C層:160℃以上170℃以下の融点を有するポリオレフィン樹脂を含む樹脂組成物を用いて形成された層。
A resin film for terminals disposed so as to cover a part of the outer peripheral surface of a metal terminal electrically connected to an electricity storage device main body constituting the electricity storage device,
The terminal resin film has the following layer A and a laminated structure,
The resin film for a terminal, wherein the laminated structure is formed by laminating the following layer B, the following layer C and the following layer B in this order.
Layer A: A layer formed using a resin composition containing an acid-modified polyolefin resin having a melting point of 100°C or higher and 170°C or lower.
Layer B: A layer formed using a resin composition containing a first polyolefin resin having a melting point of 100°C or higher and lower than 160°C and a second polyolefin resin having a melting point of 160°C or higher and 170°C or lower.
Layer C: A layer formed using a resin composition containing a polyolefin resin having a melting point of 160°C or higher and 170°C or lower.
前記B層において、前記第2ポリオレフィン樹脂に対する前記第1ポリオレフィン樹脂の質量比が0.1~9である、請求項1に記載の端子用樹脂フィルム。 2. The terminal resin film according to claim 1, wherein in said layer B, the mass ratio of said first polyolefin resin to said second polyolefin resin is 0.1-9. 前記B層において、前記第1ポリオレフィン樹脂が550MPa以上1000MPa未満の引張弾性率、及び、15MPa以上23MPa未満の引張降伏応力を有し、
前記第2ポリオレフィン樹脂が、1000MPa以上1500MPa以下の引張弾性率、及び、23MPa以上35MPa以下の引張降伏応力を有する、請求項1又は2に記載の端子用樹脂フィルム。
In the B layer, the first polyolefin resin has a tensile modulus of 550 MPa or more and less than 1000 MPa and a tensile yield stress of 15 MPa or more and less than 23 MPa,
The resin film for terminals according to claim 1 or 2, wherein the second polyolefin resin has a tensile elastic modulus of 1000 MPa or more and 1500 MPa or less and a tensile yield stress of 23 MPa or more and 35 MPa or less.
前記B層において、前記第1ポリオレフィン樹脂が885kg/m以上895kg/m未満の密度を有し、
前記第2ポリオレフィン樹脂が、895kg/m以上910kg/m以下の密度を有する、請求項1~3のいずれか一項に記載の端子用樹脂フィルム。
In the B layer, the first polyolefin resin has a density of 885 kg/m 3 or more and less than 895 kg/m 3 ,
The resin film for terminals according to any one of claims 1 to 3, wherein the second polyolefin resin has a density of 895 kg/m 3 or more and 910 kg/m 3 or less.
前記B層において、前記第1ポリオレフィン樹脂の230℃におけるMFRが、1.0~10.0g/10minであり、
前記第2ポリオレフィン樹脂のMFRが0.05g/10min以上1.0g/10min未満である、請求項1~4のいずれか一項に記載の端子用樹脂フィルム。
In the layer B, the first polyolefin resin has an MFR at 230° C. of 1.0 to 10.0 g/10 min,
5. The terminal resin film according to claim 1, wherein the second polyolefin resin has an MFR of 0.05 g/10 min or more and less than 1.0 g/10 min.
前記A層、前記積層構造及び前記A層をこの順に積層してなる、請求項1~5のいずれか一項に記載の端子用樹脂フィルム。 6. The terminal resin film according to claim 1, wherein the layer A, the laminated structure and the layer A are laminated in this order. 160μm以上の厚さを有する、請求項1~6のいずれか一項に記載の端子用樹脂フィルム。 7. The terminal resin film according to claim 1, having a thickness of 160 μm or more. 蓄電デバイス本体と、
前記蓄電デバイス本体と電気的に接続された金属端子と、
前記金属端子を挟持し且つ前記蓄電デバイス本体を収容する外装材と、
前記金属端子の一部の外周面を覆って、前記金属端子と前記外装材との間に配置された、請求項1~7のいずれか一項に記載の端子用樹脂フィルムと、を備える、蓄電デバイス。

an electricity storage device main body;
a metal terminal electrically connected to the electricity storage device main body;
an exterior material that sandwiches the metal terminal and accommodates the power storage device main body;
The resin film for terminals according to any one of claims 1 to 7, which covers a part of the outer peripheral surface of the metal terminal and is arranged between the metal terminal and the exterior material, storage device.

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