JP2022166116A - 表面署名を生成するための方法およびシステム - Google Patents

Abstract

【課題】デジタル署名を、像の取得平面に対して任意の態様で配置され、かつ、傾斜している表面から、表面の像を用いることによって取り出すシステム及び方法を提供する。【解決手段】材料要素の少なくとも１つの表面である検査表面のデジタル署名を生成する方法であって、各検査表面について、検査表面のオフセット像を得るための獲得工程（Ｅ３０）と、オフセット像と等価領域とをテンプレートマッチングによって照合することで興味領域を得るための獲得工程（Ｅ５０）と、オフセット像を、モデル像と位置合わせした像を獲得する獲得工程（Ｅ７０）と、を備える。位置合わせは、第１透視変換をオフセット像に適用することによって行われ、第１透視変換は、少なくとも１つの興味領域および少なくとも１つの等価領域から得られる。方法はさらに、位置合わせされた像から、検査表面の構造を特徴づけるデジタル署名を生成する生成工程（Ｅ９０）を備える。【選択図】図５

Description

本発明は、材料要素の表面についてのデジタル署名を生成する分野一般に属し、例えば、その表面またはその材料要素を認証するためのものである。

表面のデジタル署名は、その表面の構造的な特徴からアルゴリズムを用いて生成されるコード（例えば、一連の数字および文字）に対応する。

より具体的には、本発明は、材料要素のデジタル署名を取り出すために、材料要素の表面を表す像と基準表面のモデル像との間の遠近補正（correction de perspective）を行
うことに関する。

現在、デジタル署名を、表面から、その表面の構造的な特徴に基づいて取り出すことが可能である。例えば、それらの構造的な特徴は、表面の像において、表面と光源の間の相互作用を検出することによって特定される。例えば、そのような方法は、ＥＰ１７１６５２０に記載されている。

さらに、ＥＰ２０８４８８６Ｂ１に記載されている技術は、センサを含む移動体システムを光モジュールと関連付けることを提案している。移動体システムは、例えば、カメラを含むスマートフォンである。光モジュールは、例えば、電話の筐体内に組み込まれている。

上記の技術は、表面における制御像（image controlee）を取得し（表面は、像におい
て特定の態様で配置されている）、その像から、その表面のデジタル署名を取り出すことを可能にする。

表面の像は、表面とカメラのセンサの間の光学的な距離が制御されるように、電話および筐体でできた組立体を表面に接して配置することによって、取得される。

取得中において、表面が、光源によって、好ましくは表面の法線に対して傾斜した光源によって、照明される。

最後に、取得された像において、表面と光源との間の相互作用を検出することによって、構造的な特徴が得られる。

上記のシステムの欠点は、像において表面が予め定められた態様で配置されるように、表面と像を取得するセンサとの間の距離を制御するための光モジュールの使用をシステムが必要とすることである。

本発明は、上記の欠点を有さない解決策であって、デジタル署名を、表面から、表面の像を用いることによって取り出すこと、ここで表面は像の取得平面に対して任意の態様で配置されかつ傾斜している、を可能にする解決策を提供することを目的とする。

第１の側面において、本発明は、材料要素の表面であって“検査表面（surface examinee）”と称される表面のデジタル署名を生成する方法であって、データ処理システムによって行われ、各検査表面について以下を備える方法を提供する：
-上記検査表面を示す少なくとも一部を有する“オフセット”像を得るための獲得工程；
-オフセット像を、予め定められた“等価（equivalentes）”領域であって“基準”表面
を表す少なくとも一部を有するモデル像に含まれた等価領域と照合する、“テンプレートマッチング”として知られる方法によって、オフセット像における興味領域（zones d'interet）を得るための獲得工程；
-オフセット像をモデル像と位置合わせすることによって“位置合わせされた”像を得る
ための獲得工程であって、位置合わせは、第１透視変換をオフセット像に適用することによって行われ、第１透視変換は、興味領域および等価領域から得られる獲得工程；および-位置合わせされた像からデジタル署名を生成するための生成工程であって、デジタル署
名は、検査表面の構造を特徴づける生成工程。

本発明が意味するところでは、表面は、材料要素（すなわち物体）の可視部（すなわち定義された領域）に対応する。この材料要素または物体は、例えば製品であってもよい。例えば、製品は、販売されるものであってもよく、そのパッケージ内にあってもよい。この材料要素または物体は、例えばアイデンティティドキュメント、パスポート、紙幣等のような、セキュリティドキュメントに対応していてもよい。

“検査”表面は、材料要素／物体の表面に対応する。“検査”表面は、方法で用いられる表面に対応し、従ってオフセット像における可視の表面に対応する。“検査”表面は、材料要素における相対的に大きい表面の一部であってもよい。

“基準”表面は、予め定められた材料要素／物体の表面に対応する。例えば、基準表面は、デジタル署名が取り出されるおよび保持される表面に対応する。

表面のデジタル署名は、表面の構造的な特徴からアルゴリズムを用いて生成されるコード（例えば、一連の数字および文字）に対応する。

表面のデジタル署名は、表面の構造を説明する（すなわち特徴づける）。表面のデジタル署名は、表面の状態、表面の内部および／または外部の形態、表面の化学的または物理化学的な組成、表面の色、または、これらの特徴の任意の組み合わせの変化であって表面におけるそれらの物理的な配置に応じた変化、を特徴づけてもよい。

以下、“デジタル署名”という用語は、“署名”という用語によって、等価な態様で置き換えられることがある。

デジタル署名は、方法によって“生成”されると称されることがある。あるいは、デジタル署名は、方法によって“取り出される”と称されることがある。

方法において、まず、検査表面の“オフセット”像が得られる。この像の一部が、検査表面を示してもよい。あるいは、像の全体が、検査表面を示してもよい。

像は“オフセット”されると称される。なぜなら、像が位置合わせされ、その後、示されている表面についての署名が生成／取り出し可能となることが好ましいためである（L'image est dite decalee en ce qu'il est preferable de la recaler avant de pouvoir
generer/extraire la signature de la surface qu'elle represente）。

例えば、表面を表すオフセット像は、像の取得平面に対して傾斜した平面である平らな表面の像に対応していてもよい。例えば、平らな表面の像がセンサによって取得される場合においては、センサの光軸がその表面の法線に対して非ゼロの角度を形成しているときに、平らな表面の像はオフセットされていると称される。

オフセット像が得られると、像において、１または複数の興味領域が得られる。像における興味領域は、像における近接したまたはさらには隣接した（voisins voire adjacents）一連の点に対応してもよい。例えば、興味領域は、像において特定の四辺形を形成す
る点の全て、または、そのような四辺形に含まれた一連の点を備えていてもよい。

これらの興味領域は、“基準”表面を示す少なくとも一部を有する“モデル”像の内部における、予め定められた“等価”領域に基づいて得られる。

各興味領域は、等価領域をオフセット像と照合する方法によって得られる。照合は、“イメージマッチング”または“テンプレートマッチング”と称されてもよく、例えば最小二乗法または交差相関法等のような種々のイメージ分析法によって行われてもよい。等価領域をオフセット像と照合することは、一般的には、等価領域の特徴に類似したまたは近い特徴を有する領域をオフセット像において特定する役割を担う。典型的には、興味領域およびその等価領域は、異なる画角で取得される２つの像における同じ物体または物体の同じ部分を表していてもよい。

オフセット像における興味領域およびモデル像における等価領域から、モデル像上に得られた像を位置合わせする役割を担う、第１透視変換が推定される。

この位置合わせは、２つの像の間の遠近補正に対応し、モデル像の基準表面を有する平面と同じ平面かつ同じ方向にオフセット像の検査表面を配置しなおす（replacer）という状況を模擬する役割を担う。

上記の透視変換をオフセット像に適用することによって、検査表面の“位置合わせされた”像が得られる。その像から、表面の署名を取り出すことが可能である。

有利には、傾斜した表面を示し任意の態様で配置された像から、その表面が適切な平面に方向付けされた状態を模擬することによって、その表面の署名を生成できる。

具体的な実装例では、オフセット像を得る工程は、“取得”像を取得する工程を含む。オフセット像は、取得像から得られる。

また、取得像は、検査表面の全部または一部を示す。

具体的な実装例、以下では“第１の総合実装例”と称する、では、オフセット像は取得像に対応し、署名は位置合わせされた像を生成工程において分析することによって生成される。

有利には、取得像に対応するオフセット像の位置合わせは、画像処理（透視変換を適用することによる遠近補正）によって行われ、従って、検査表面から署名を取り出すことが可能となるように検査表面の平面を所望の平面に設定するために“取得”像を取得する取得モジュール（本発明が意味するところの第１取得モジュール）と関連付けられた特別な光学システムを使用することを必要としない。検査表面の像は、検査表面に対して任意の距離および任意の方向に設けられた第１取得モジュールを用いて取得できる。

具体的な実装例では、方法は、モデル像において等価領域を定義する事前工程を含む。

具体的な実装例、以下では“第２の総合実装例”と称する、では、方法は、基準表面に対して実質的に垂直に配置された第２取得モジュールを用いて基準表面の“方向付けされた（orientee）”像を取得する事前工程を含む。モデル像は、予め定められた第２透視変換を方向付けされた像に適用することによって得られる。

この実装例では、“方向付けされた”像は、基準表面に対して実質的に垂直に配置された光軸を有する第２取得モジュールを用いて取得される。

典型的には、製造ラインにおいて、製品または製品のパッケージの表面に実質的に垂直な取得が繰り返し用いられる。

方向付けされた像は、方向付けされた像を取得する条件とは異なる条件での基準表面の像の取得を模擬するように、変換される。異なる条件は、例えば、異なる角度、異なる方向、および／または異なる距離である。

この変換は、第２透視変換を、方向付けされた像に適用することに対応する。これにより、オフセット像が位置合わせされるモデル像が得られる。

有利には、上記第２透視変換を適用することは、オフセット像における検査表面の傾斜および位置に近い傾斜および位置を有する基準表面を有するモデル像を得る役割を担う。

この工程は、例えば第１透視変換のよりよい推定値を得ることを可能にすることによってまたは上記透視変換の特異な推定値を得ることを避けることによって、オフセット像をモデル像と位置合わせする工程を最適化する役割を担う。

例えば、製造ラインにおいて取得される基準表面の方向付けされた像は、電話またはタブレットのような移動体システムを用いたこの基準表面の像の取得を模擬するという態様で変換されてもよい。オフセット像が移動体システムを用いて取得され従って検査表面に対する方向および位置が変換後に得られるモデル像の方向および位置に類似するまたは近いという条件で取得される場合、オフセット像とモデル像との間の位置合わせまたは遠近補正は改善される。

（第２透視変換を方向付けされた像に適用することによってモデル像が得られる）第２の総合実装例の具体例な実装例では、デジタル署名を生成する工程は、位置合わせされた像に第２透視変換のインバースを適用することによって、位置合わせされた像を変換することによって、“変換された”像を得るための獲得工程を含み、署名は、変換された像を生成工程において分析することによって生成される。

この実装例では、モデル像は、第２透視変換を方向付けされた像に適用することによって得られ、オフセット像は、位置合わせされた像を得るためにモデル像と位置合わせされる。最後に、変換された像を得るために、上記の第２透視変換のインバースが、位置合わせされた像に適用される。変換された像は、方向付けされた像と位置合わせされる。

署名は、検査表面から、この表面の位置および方向が方向付けされた像に配置される基準表面の位置および方向に類似するという条件の下で、変換された像を用いることによって、取り出される。

この実装例では、オフセット像が位置合わせされ（遠近補正され）、その後、位置合わせされた像を方向付けされた像と位置合わせするために第２透視変換のインバースを適用する。

あるいは、第２の総合実装例において、位置合わせされた像は、第２透視変換のインバース透視変換を取得像に適用することによって得られ、署名は、位置合わせされた像を生成工程において分析することによって生成される。

この実装例では、第２透視変換はまた方向付けされた像に適用され、このことはモデル像を得ることを可能にする。一方、この第２透視変換のインバースがオフセット像を得るために取得像に予め適用され、その後、位置合わせされた像を得るためにオフセット像はモデル像と位置合わせされる。

署名は、検査表面から、位置合わせされた像を用いることによって、この表面の位置および方向が方向付けされた像が配置される基準表面の位置および方向に類似しているという条件で、取り出される。

この実装例では、第２透視変換のインバースが取得像に適用され、その後、その像がモデル像と位置合わせされる（遠近補正される）。

具体的な実装例では、方法は、各検査表面について、検査表面を認証するための認証工程を含む。この認証工程は、生成された署名を認証デジタル署名と比較することによって行われる。認証署名は、基準表面の構造を特徴づける。

上記の認証は、ＥＰ１７４７５４０Ｂ１またはＥＰ１９７１９６０Ｂ１に記載されているような方法に対応していてもよい。

生成された署名を認証署名と比較することによって、検査表面および基準表面が同じ構造的な特徴を有しているかどうかを判定することが可能となる。

このようにして、例えば、検査表面を含む特定の製品が、１または複数の製品に含まれた１または複数の表面について認証署名が予め取り出された製造ラインからのものであるかどうかを評価することが可能となる。

具体的な実装例では、方法は、以下を備える：
-第１の総合実装例において、モデル像からの認証署名の生成であって“第１タイプの生
成”と称される生成を行う事前工程；または
-第２の総合実装例において、方向付けされた像からの認証署名の生成であって“第２タ
イプの生成”と称される生成を行う事前工程。

この例では、第１の総合実装例において、検査表面の署名は、位置合わせされた像から生成され、製品の記録された像（images des produits enregistres）から取り出される
基準表面の署名と比較される。

第２の総合実装例において、検査表面の署名は、変換された像から生成され、または、第２透視変換のインバースを取得像に適用することによってオフセット像が得られる場合には位置合わせされた像から生成され、製品の記録された方向付けされた像（images orientee des produits enregistres）から取り出される基準表面の署名と比較される。

両方の実装例において、署名は、同じ平面および同じ方向に配置された表面を表す像から取り出され、そのため認証工程が有効であることを保証する。

具体的な実装例では、認証署名を生成する工程は、以下を備え：
-第３取得モジュールを用いて基準表面を取得する取得工程；および
-少なくとも取得工程において、第１光源を用いて基準表面を照明する照明工程；
取得工程は、以下に対応する：
-生成が第１タイプのものである場合、モデル像を取得すること；または
-生成が第２タイプのものである場合、方向付けされた像を取得すること。

生成が第２タイプのものである場合、第３取得モジュールは、第２取得モジュールに対応する。

照明が検査表面の照明面積の点で不十分である場合、“オフセット”像を得る複数の工程を行うことによって検査表面および／または興味領域の有効面積を増加するようになっている。より大きい検査表面および／または興味領域を再構築するために、オフセット像を得る種々の工程が、取得モジュールおよび光源を動かして（例えば、平行移動させて）行われる。

具体的な実装例では、第３モジュールの光軸は、基準表面に対して実質的に垂直な方向を向いていてもよい。この基準表面は、照明工程において、第１光源によって、グレージング入射角に対応する基準表面に対する迎え角で、照明される。

具体的な実装例では、迎え角は、好ましくは１６°～４５°の範囲にある。

具体的な実装例では、方法は、少なくとも取得工程、ここで取得工程は第１モジュールによって行われる、において、検査表面が第２光源によって照明される照明工程を含み、署名を生成する工程は、検査表面と第２光源との間の相互作用を検出することによって検査表面の構造的な特徴を得るための獲得工程を含み、相互作用の検出は、
-生成が第１タイプのものである場合、位置合わせされた像を分析することによって；ま
たは
-生成が第２タイプのものである場合、位置合わせされた像から得られる変換された像を
分析することによって、
行われる。

具体的な実装例では、方法は、認証署名の生成であって“第３タイプの生成”と称される生成を行う事前工程を含み、第３タイプの生成の工程は、以下を備える：
-取得モジュールによって第１モデル像を取得する取得工程；
-少なくとも取得工程において、光源を用いて基準表面を照明する照明工程であって、モ
ジュールの光軸および光源の光軸は、基準表面Ｓ＿ＲＥＦに対して実質的に同じ方向、例えば同じ傾斜角β、を有する照明工程；および
-“再方向付けされた（reorientee）”像を分析する分析工程であって、再方向付けされ
た像は、取得モジュールおよび光源の方向の補償、例えばモデル像の角度－βの第１回転、を行う透視変換を適用することによって得られる分析工程；
オフセット像は、取得像に対応し：
方法は、少なくとも取得工程、ここで取得工程は第１モジュールによって行われる、において、検査表面が光源によって照明される照明工程を含み、署名の一連の生成は、検査表面と光源の間の相互作用を検出することによって検査表面の構造的な特徴を得るための獲得工程を含み、モジュールおよび光源の光軸は、検査表面（Ｓ＿１）に対して実質的に同じ方向、例えば同じ傾斜角度β、に向けられており；
相互作用は、“平坦化された像（image remise a plat）”を分析することによって検
出され、平坦化された像は、取得モジュールおよび光源の方向の補償、例えば位置合わせされた像の角度－βの第１回転、を行う透視変換によって得られる。

この実装例では、基準表面の像は、取得モジュールおよび光源を用いて取得される。取得モジュールおよび光源は、例えば、基準表面に対して角度βだけ方向付けられている。モデル像は、こうして得られる。

その後、この例では、基準表面に対して９０°に配置された取得モジュールを用いて取得されたかのように見える再方向付けされた像を得るために、モデル像は、角度－βだけ回転させられる。

その後、基準表面の署名が、この再方向付けされた像から取り出される。この署名は、“認証”署名と称される。

検査表面の像が、検査表面に対してβと実質的に同じ角度だけ方向付けられた取得モジュールおよび光源を用いて取得される。取得像は、こうして得られる。

取得像は、オフセット像に対応し、位置合わせされた像が得られるようにモデル像と位置合わせされる。

その後、検査表面に対して９０°で配置された取得モジュールを用いて取得されたかのように見える平坦化された像が得られるように、位置合わせされた像が角度－βだけ回転させられる。

最後に、基準表面のデジタル署名が、平坦化された像から取り出される。

具体的な実装例では、第１モジュールによって少なくとも２つの像を取得するために、各取得像について、第２光源は、第１モジュールに対して同じ位置および同じ方向に設けられる。

この実装例では、方法が、繰り返しの態様で、異なる検査表面に、単一の移動システムであって該システムに対して固定された位置および方向を有する第１取得モジュールおよび第２光源を有するシステムを用いて、適用されてもよい。

例えば、方法は、電話またはタブレットによって行われてもよい。例えば、電話またはタブレットは、第１取得モジュールとして動作するカメラと、第２光源として動作するフラッシュと、を含む。

この実装例では、単一の移動システムを用いることで方法の再現性が高められる。

具体的な実装例では、方法は、保護された情報を読み取る工程を含む。保護された情報は、デジタル形式で、情報を保護するために用いられる処理のインバースであるデジタル処理に供される。この処理は、生成された署名を利用する。

この実装例では、生成された署名は、保護された情報を読み取ることを可能にするために必要であり、情報を保護するための鍵として用いられ、この点はＥＰ１７１６５２０Ｂ１に記載されているとおりである。

具体的な実装例では、保護された情報は、検査表面、または、検査表面を含む製品もしくはパッケージに設けられた、可視コードに含まれている。

具体的な実装例では、可視コードは、１次元または２次元のバーコードに対応する。

保護された情報はセンサによって読み取られる１次元または２次元のバーコードに含まれていてもよく、この情報を読み取るために生成された署名を利用することは情報が保護されていることを保証する。

具体的な実装例では、方法は、オフセット像において“探索”領域を定義する工程を含む。これらの探索領域は、興味領域を含む。これらの探索領域に基づいて、テンプレートマッチング法が実行される。

例えば、探索領域は、以下のように考えられ（estimees）得る：
-オフセット像において、モデル像における等価領域の位置に近い位置に設けられている
；および
-オフセット像において、興味領域よりもサイズが大きい。

それらの探索領域は、領域であって該領域の内部にテンプレートマッチング法によって興味領域が設けられる領域に対応する。それらの探索領域は、テンプレートマッチング法をより効率的に行うための、オフセット像内の特定の外縁であって該外縁の内部で興味領域がより高い確率で見られる外縁を特定する役割を担う。

具体的な実装例では、テンプレートマッチング法は、探索領域に基づいて、興味領域の予め定められた点を等価領域の対応する予め定められた点に変換するアフィン変換のパラメータの第１の推定値を得る役割を担う。

このテンプレートマッチング法は、オフセット像において定義された各興味領域について実行される。

興味領域および等価領域を備える各ペアに固有のこれらのパラメータは、オフセット像をモデル像に変換する役割を担う第１透視変換のパラメータを推定する役割を担う。

具体的な実装例では、第１の推定値は、等価領域の点の座標と興味領域を含む探索領域の点の座標との間で最小二乗法を用いることによって得られる。

あるいは、第１の推定値は、等価領域の点の座標と探索領域の点の座標との間で交差相関法を用いることによって得られる。

これら２つの方法は、よく知られた“テンプレートマッチング”法に対応し、それらは、類似の他の方法と置き換えられてもよい。

具体的な実装例では、テンプレートマッチング法は、パラメータの第２の推定値を得るための獲得工程を含む。この第２の推定値は、等価領域と探索領域の間の第１の強化された相関係数（premier coefficient de correlation ameliore）を最大化するための反復
アルゴリズムを用いて第１の推定値を最適化することによって得られる。

この最適化は、２００８年１０月にジャーナル"IEEE transactions on pattern analysis and matching intelligence", Vol. 30, No. 10において発行された文書“Parametric
image alignment using enhanced correlation coefficient maximization”（Georgios
D. Evangelidis and Emmanouil Z. Psarakis）に記載された方法に対応する。

上記の最適化は、オフセット像をモデル像と位置合わせするための透視変換のより正確な推定値を得ることを可能にする。具体的には、上記の最適化は、位置合わせの際に像において生じ得る歪み効果を補正することを可能にする。

具体的な実装例では、基準表面は、上記モデル像の取得平面に対する傾斜および位置が既知の表面である。

具体的な実装例では、第１透視変換は、ランダムサンプルコンセンサス（ＲＡＮＳＡＣ）アルゴリズムを用いることによって得られる。例えば、このアルゴリズムは、M.A. FischlerおよびR.C. Bollesによる文書"Random sample consensus: a paradigm for model fitting with applications to image analysis and automated cartography", Communications of the ACM, 24(6), pp. 381-395, 1981.に記載されている。

このアルゴリズムは、第１透視変換のパラメータを推定するための方法において用いられる一連の点から外れ値の点を排除することを可能にする。

こうして、第１透視変換のパラメータのよりよい推定値が得られる。

具体的な実装例では、透視変換は、オフセット像とモデル像との間の第２の強化された相関係数（deuxieme coefficient de correlation ameliore）を最大化するための反復最適化アルゴリズムを用いることによって得られる。

この第２の強化された相関係数を用いるこのアルゴリズムは、上述の第１の係数を用いるアルゴリズムと似ているが、興味領域の等価領域とのテンプレートマッチングを行うときではなく、オフセット像をモデル像と位置合わせする際に適用される。

この第２の強化された相関係数を用いるこのアルゴリズムは、第１透視変換のパラメータについての改善された推定値を得ることを可能にする。

具体的な実装例では、透視変換は、点のペアの座標から得られる。各ペアは、等価領域における１つの点と、等価領域とオフセット像の間のテンプレートマッチング法によって定義される興味領域における別の点と、を備える。

具体的な実装例では、それらの点は、興味領域の中心と、等価領域の中心と、を備える。

この実装例では、第１透視変換は、点の一連のペアから特定される。各ペアは、興味領域の中心と、興味領域とモデル像の間のテンプレートマッチングによって特定される等価領域の中心と、を備える。

例えば、透視変換を特定するための１つの考えられる方法は、文書"Image registration for perspective deformation recovery"（Geaorge WolbergおよびSiavash Zokai）の
４．２部で用いられている方法であり得る。

具体的な実装例では、興味領域は、検査表面における１または複数の図形要素、の近くに、および／または、に関連づけて（autour et/ou par rapport）、定義されている。１または複数の図形要素は、基準表面にもある。

図形要素の存在は、興味領域を定義することと、オフセット像をモデル像と位置合わせする工程と、を容易にする。興味領域を定義することは、例えば、興味領域を定義するためにそれらの記号を認識する方法を用いることによって行われる。具体的には、“イメージマッチング”または照合法を適用する際には、色および／または明るさが急激に（例えば約１０画素程度で）変化する入力像を用いることが好ましい。

好ましくは、これらの図形要素は、検査表面および基準表面においてコントラストをなす態様で見られ、これによりテンプレートマッチング法がさらに容易となる。

具体的な実装例では、デジタル署名は、検査表面の構造的な特徴から生成される。検査表面は、以下の全てまたは一部から選択される材料要素でできている：繊維材料、プラスチック材料、金属材料、皮、木、複合材料、ガラス、または、鉱物であって具体的には結晶構造を有するもの。

具体的な実装例では、本発明の方法は、モデル像において等価領域を定義する事前工程を含む。

具体的な実装例では、検査表面は、記号を含む。検査表面に対する上記の第１取得モジュールの方向の特定に応じて、自動的に、取得像を取得する取得工程が開始される。特定は、上記の記号の像に基づいて行われる。

好ましくは、方法は、上記の少なくとも１つの取得モジュールを含む端末のスクリーンに、上記第１モジュールの取得領域の像であって仮想記号が重畳される像を表示する表示工程を含む。取得像を取得する取得工程は、上記取得領域における上記記号の像の相対的な位置および上記仮想記号の位置に応じて、自動的に開始される。

より好ましくは、取得像を取得するための取得工程は、上記取得領域における上記の記号の像が上記の仮想記号に一致したときに、自動的に開始される。

有利には、この実装例では、これら２つの記号を重畳させることは、第２または第３取得モジュールが特定の態様で方向付けられ第２または第３取得モジュールの方向が制御されることを必要とする。

例えば、記号は、検査表面に対して取得モジュールの光軸が４５°または９０°の方向に向けられるように選択されてもよい。

第２の側面において、本発明は、検査表面のデジタル署名を生成するためのシステムであって、以下を備えるシステムを提供する：
-各検査表面について、上記表面を示す少なくとも一部を有する“オフセット”像を得る
ための獲得モジュール；
-各検査表面について、オフセット像における興味領域を、上記の第１オフセット像（Ｉ
Ｍ＿１）と少なくとも１つの予め定められた“等価”領域（ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３，ＺＥＱ＿４）との間のテンプレートマッチング法によって得る役割を担う獲得モジュールであって、上記の少なくとも１つの等価領域は、基準表面（Ｓ＿ＲＥＦ）を示す少なくとも一部を有する少なくとも１つのモデル像（ＩＭ＿Ｍ）に含まれている獲得モジュール；
-各検査表面について、オフセット像を少なくとも１つのモデル像と位置合わせするため
の位置合わせモジュールであって、この位置合わせは、第１透視変換をオフセット像に適用することによって行われ、この透視変換は、興味領域および等価領域から得られる位置合わせモジュール；および
-各検査表面について、位置合わせされた像からデジタル署名を生成する役割を担う生成
モジュールであって、デジタル署名は、検査表面の構造を特徴づける生成モジュール。

具体的な実装例では、システムは、以下を備える：
-グレージング入射角に対応する基準表面に対する迎え角を形成する第１カメラおよび第
１光源を有する第１モジュールであって、迎え角は、好ましくは１６°～４５°の範囲にあり、より好ましくは１６°～２５°の範囲にあり、さらに好ましくは１６°～２０°の範囲にある第１モジュール；および／または
-通信端末、第２カメラおよび第２光源を有する第２モジュール。

具体的な実装例では、通信端末は携帯電話またはタブレットであり、第２カメラは携帯電話またはタブレットのカメラであり、第２光源は携帯電話またはタブレットのフラッシュである。

第３の側面において、本発明は、検査表面のデジタル署名を生成する、各検査表面について以下を備える第２の方法を提供する：
-一連のオフセット像であって各像の少なくとも一部が検査表面を示す一連のオフセット
像を得るための獲得工程；
-各オフセット像について：
-像における興味領域を、該像を予め定められた“等価”領域とテンプレートマッチ
ングする方法によって得るための獲得工程であって、等価領域は、基準表面を示す少なくとも一部を有するモデル像に含まれている獲得工程；および
-オフセット像をモデル像と位置合わせすることによって、位置合わせされた像を得
るための獲得工程であって、位置合わせは、透視変換をオフセット像に適用することによって行われ、透視変換は、興味領域および等価領域から得られる獲得工程；
-得られた位置合わせされた像を“結合された”像に結合する工程；および
-結合された像からデジタル署名を生成する工程であって、デジタル署名は検査表面の構
造を特徴づける工程。

具体的な実施形態では、検査表面についてのデジタル署名を生成する方法の種々の工程は、コンピュータプログラムの命令によって特定される。よって、本発明は、データ媒体におけるコンピュータプログラムであって、該プログラムはコンピュータによって実行されるように構成されており、該プログラムは上述のように検査表面についての署名を生成する方法を実行するように構成された命令を含む、プログラムを提供する。

プログラムは、いずれのプログラム言語を使用したものであってもよく、ソースコードの形式であってもよく、オブジェクトコードの形式であってもよく、ソースコードとオブジェクトコードの中間のコードの形式、例えば部分的にコンパイルされた形式であってもよく、または別の所望の形式であってもよい。

本発明は、さらに、コンピュータによって読み取り可能なデータ媒体であって、上述したコンピュータプログラムの命令を含むデータ媒体を提供する。

データ媒体は、プログラムを格納可能な任意のエンティティまたはシステムであってもよい。例えば、媒体は、例えばコンパクトディスク（ＣＤ）ＲＯＭまたは超小型電子回路ＲＯＭといったリードオンリーメモリ（ＲＯＭ）等の格納手段、または、例えばハードディスク等の磁気記録手段を備えていてもよい。

さらに、データ媒体は、電気ケーブルもしくは光ケーブルを介して、無線によって、または、その他の手段によって伝送されるように構成された電気信号または光信号等の伝送可能な媒体でもあってもよい。本発明のプログラムは、特に、インターネット方式のネットワークからダウンロードされてもよい。

あるいは、データ媒体は、プログラムが組み込まれた集積回路であって、対象の方法を実行するように、または該方法の実行に用いられるように構成された集積回路でもあってもよい。

本発明のその他の特徴および利点は、添付の図面を参照してなされる以下の説明を読むことで明らかになる。

図１は、本発明に係る、検査表面のデジタル署名を生成するためのシステムを示す。 図２は、本発明に係る、検査表面のデジタル署名を生成するためのシステムに含まれた端末を示す。 図３および４は、本発明に係る、検査表面のデジタル署名を生成するためのシステムを示す。 図３および４は、本発明に係る、検査表面のデジタル署名を生成するためのシステムを示す。 図５～１４は、本発明の第１の総合実装例に係る、検査表面のデジタル署名を生成する方法の工程を示す。 図５～１４は、本発明の第１の総合実装例に係る、検査表面のデジタル署名を生成する方法の工程を示す。 図５～１４は、本発明の第１の総合実装例に係る、検査表面のデジタル署名を生成する方法の工程を示す。 図５～１４は、本発明の第１の総合実装例に係る、検査表面のデジタル署名を生成する方法の工程を示す。 図５～１４は、本発明の第１の総合実装例に係る、検査表面のデジタル署名を生成する方法の工程を示す。 図５～１４は、本発明の第１の総合実装例に係る、検査表面のデジタル署名を生成する方法の工程を示す。 図５～１４は、本発明の第１の総合実装例に係る、検査表面のデジタル署名を生成する方法の工程を示す。 図５～１４は、本発明の第１の総合実装例に係る、検査表面のデジタル署名を生成する方法の工程を示す。 図５～１４は、本発明の第１の総合実装例に係る、検査表面のデジタル署名を生成する方法の工程を示す。 図５～１４は、本発明の第１の総合実装例に係る、検査表面のデジタル署名を生成する方法の工程を示す。 図１５は、本発明に係る、基準表面の“オフセット”像の例を示す。 図１６は、本発明に係る、基準表面の“位置合わせされた”像の例を示す。 図１７は、第１の総合実装例に関与する像に適用される種々の変換をまとめたダイアグラムである。 図１８および１９は、本発明の第２の総合実装例に係る、検査表面のデジタル署名を生成するための方法の工程を示す。 図１８および１９は、本発明の第２の総合実装例に係る、検査表面のデジタル署名を生成するための方法の工程を示す。 図２０および２１は、第２の総合実装例に関与する像に適用される２つの異なる変換の変形例をまとめたダイアグラムである。 図２０および２１は、第２の総合実装例に関与する像に適用される２つの異なる変換の変形例をまとめたダイアグラムである。 図２２～２４は、本発明に係る、検査表面のデジタル署名を生成するためのシステムを示す。 図２２～２４は、本発明に係る、検査表面のデジタル署名を生成するためのシステムを示す。 図２２～２４は、本発明に係る、検査表面のデジタル署名を生成するためのシステムを示す。 図２５は、本発明に係る、検査表面のデジタル署名を生成するためのシステムに含まれた端末を示す。 図２６は、本発明の第４実装例に係る、検査表面のデジタル署名を生成するための方法の工程を示す。

図１、図３および図４に、検査表面Ｓ＿１のデジタル署名を生成するための、本発明に係るシステムＳＹＳを示す。

本実施形態では、システムＳＹＳは、デジタル署名を生成するための、そして、図５～１４，１８および１９を参照して説明する、本発明に係る方法の工程を実行する２つの端末Ｔ１およびＴ２を含んでいてもよい。

この実施形態では、図１に示すように、第１端末Ｔ１は、“適合”製品を製造するための製造ラインに沿って、または、該ラインの近傍に、設けられている。“適合”製品は、例えば、販売される製品である。

図３および４に示すように、端末Ｔ１は、例えば、スマートフォン、電話またはタブレット等の、移動体端末であってもよい。

端末Ｔ１は、適合製品または該製品のパッケージの可視の基準表面Ｓ＿ＲＥＦを照明するための、第１光源ＬＵＭ＿１を有する。この基準表面Ｓ＿ＲＥＦは、以下の全てまたは一部から選択される材料要素でできていてもよい：繊維材料、プラスチック材料、金属材料、皮、木、複合材料、ガラス、または、鉱物であって具体的には結晶構造を有するもの。

この第１光源ＬＵＭ＿１は、（例えば、電話またはタブレットの）白色光および／またはフラッシュであってもよい。フラッシュは、図４に示すようなものであってもよい。

図１に倣い、基準表面Ｓ＿ＲＥＦに対する第１光源ＬＵＭ＿１の入射角を、αと表記する。

具体的な実施形態では、この入射角αは、グレージング入射角（incidence rasante）
に対応する。入射角αは、好ましくは１６°～４５°の範囲にあり、より好ましくは１６°～２５°の範囲にあり、さらに好ましくは１６°～２０°の範囲にある。

変形例では、端末Ｔ１は、光源を有さない。そのような場合、基準表面Ｓ＿ＲＥＦは、端末Ｔ１の外部の光源によって照明されてもよく、システムＳＹＳの外部の光源によって照明されてもよい。

端末Ｔ１は、さらに、取得モジュールを有する。以下、この取得モジュールを、“第３”取得モジュールＣＡＭ＿３と称する。この取得モジュールは、基準表面Ｓ＿ＲＥＦを示す少なくとも一部を有する像を取得する役割を担う。

この像は、基準表面Ｓ＿ＲＥＦが第１光源ＬＵＭ＿１または他の光源によって照明されている間に取得される。

上記の第３取得モジュールＣＡＭ＿３は、静止画カメラ、動画カメラ、または、任意のセンサを備えていてもよい。

具体的な実施形態では、図１に示すように、第３取得モジュールＣＡＭ＿３は、基準表面Ｓ＿ＲＥＦに対して実質的に垂直に配置されている。

具体的な実施形態では、図３に示すように、第３取得モジュールＣＡＭ＿３は、第１光源ＬＵＭ＿１に対して同じ相対位置および同じ相対方向をとる。

典型的には、この実施形態は、図４に示すような、端末Ｔ１が、フラッシュおよびカメラを有する電話またはタブレットである場合に対応する。

端末Ｔ１は、さらに、第３取得モジュールＣＡＭ＿３によって取得された（基準表面Ｓ＿ＲＥＦを表す）像から“認証”署名を取り出すことを可能にするモジュール（図示せず）を含んでいてもよい。この署名は、基準表面Ｓ＿ＲＥＦの構造を特徴づける。

具体的な実施形態では、このモジュールは、基準表面Ｓ＿ＲＥＦと第１光源ＬＵＭ＿１の間の相互作用を検出することによって基準表面Ｓ＿ＲＥＦの１または複数の構造的な特徴を得る役割を担う。

この基準表面Ｓ＿ＲＥＦは、以下の全てまたは一部から選択される材料要素でできていてもよい：繊維材料、プラスチック材料、金属材料、皮、木、複合材料、ガラス、または、鉱物であって具体的には結晶構造を有するもの。

この認証署名の取り出し方は、図５～１４、図１８および図１９を参照して詳細に説明される。

この基準表面Ｓ＿ＲＥＦの認証署名は、より一般的には、この表面Ｓ＿ＲＥＦによって部分的に形成された、適合製品、または、適合製品のパッケージを特徴づける。

あるいは、システムＳＹＳに含まれている上記のモジュールは、端末Ｔ１から分離されている。

システムＳＹＳは、さらに、図１～４に示すように、第１端末Ｔ１とは別のものであってもよい第２端末Ｔ２を有する。

端末Ｔ２は、例えば、スマートフォン、電話またはタブレット等の、移動体システムであってもよい。

この端末Ｔ２は、“検査”表面Ｓ＿１の像を取得するために使用可能な第１取得モジュールＣＡＭ＿１を有する。表面Ｓ＿１は、“候補”製品または候補製品のパッケージに存在する。

基準表面Ｓ＿ＲＥＦと同様、この検査表面Ｓ＿１は、以下の全てまたは一部から選択される材料要素でできていてもよい：繊維材料、プラスチック材料、金属材料、皮、木、複合材料、ガラス、または、鉱物であって具体的には結晶構造を有するもの。

第１取得モジュールＣＡＭ＿１は、静止画カメラ、動画カメラ、または、任意のセンサであってもよい。第１取得モジュールＣＡＭ＿１は、図２および４に示されている。

第２端末Ｔ２は、さらに、図２および４に示されているように、第２光源ＬＵＭ＿２を有していてもよい。

この第２光源ＬＵＭ＿２は、（例えば、電話またはタブレットの）白色光および／またはフラッシュを備えていてもよい。

端末Ｔ２は、さらに、図２５に示すように、スクリーンを含んでいてもよい。このスクリーンは、第１取得モジュールＣＡＭ＿１の取得領域の像を表示する役割を担う。この像には、仮想記号ＳＹＭＢ＿Ｖが重畳される。仮想記号ＳＹＭＢ＿Ｖは、例えば、記号の輪郭に対応する。

具体的な実施形態では、端末Ｔ２は、さらに、“生成された”署名を、第１取得モジュールＣＡＭ＿１によって取得された（検査表面Ｓ＿１を表す）像から取り出す役割を担うモジュール（図示せず）を有する。生成された署名は、検査表面Ｓ＿１の構造を特徴づける。

具体的な実施形態では、このモジュールは、検査表面Ｓ＿１と第２光源ＬＵＭ＿２との間の相互作用を検出することによって検査表面Ｓ＿１の１または複数の構造的な特徴を得る役割を担う。

この署名の生成のされ方は、図５～１４、図１８および図１９を参照して詳細に説明される。

この検査表面Ｓ＿１について生成された署名は、より一般的には、表面Ｓ＿１によって部分的に形成された、候補製品、または、候補製品のパッケージを特徴づける役割を担う。

あるいは、システムＳＹＳに含まれている上記のモジュールは、端末Ｔ２から分離されている。

具体的な実施形態では、認証工程において、候補製品の検査表面Ｓ＿１の生成された署名は、適合製品の基準表面Ｓ＿ＲＥＦの認証署名と比較される。

例えば、この比較は、端末Ｔ１に含まれたモジュールによって、端末Ｔ２に含まれたモジュールによって、または、これら２つの端末とは別の外部モジュールによって、行われてもよい。

そのような場合、例えば、外部モジュールは、生成された署名および認証署名を回復させる（recuperer）ために、外部モジュールが端末Ｔ１およびＴ２と通信することを可能
にする通信サブモジュールを含んでいてもよい。

例えば、上記の比較によって、候補製品の検査表面Ｓ＿１について生成された署名が適合製品の基準表面Ｓ＿ＲＥＦについての認証署名と実質的に同じである場合、候補製品が特定の製造ラインからのものであると推定することが可能である。

具体的な実施形態では、システムＳＹＳは、端末Ｔ２のみを含む。

第１の総合実装例
図５に、本発明の第１の総合実装例に係る、検査表面Ｓ＿１のデジタル署名を生成する方法の主たる工程を示す。

この方法は、図１，３，４および２２～２４に示すように、システムによって実行可能な４つの工程Ｅ３０，Ｅ５０，Ｅ７０およびＥ９０を有する。

工程Ｅ３０において、図２２に示すようなシステムＳＹＳのモジュールＭＯＤ＿ＯＢＴ１によって、“オフセット”像ＩＭ＿１が得られる。

このモジュールＭＯＤ＿ＯＢＴ１は、図２３に示すように、システムＳＹＳの端末Ｔ２に含まれていてもよい。

具体的な実装例では、このオフセット像ＩＭ＿１の一部が、検査表面Ｓ＿１を示す。変形例では、オフセット像ＩＭ＿１の全体が、検査表面Ｓ＿１を示す。

この像ＩＭ＿１は、図１５に示すようなものであってもよい。

具体的な実装例では、図６に従い、オフセット像ＩＭ＿１を得る工程Ｅ３０は、図１～４に示す第１取得モジュールＣＡＭ＿１によって“取得”像ＩＭ＿０を取得する取得工程Ｅ２０を含む。

図２３に示すように、獲得モジュールＭＯＤ＿ＯＢＴ１は、第１取得モジュールＣＡＭ＿１を含む。

この第１の総合実装例では、取得像ＩＭ＿０は、オフセット像ＩＭ＿１に対応する（以下、“オフセット像ＩＭ＿１”と称する）。

上述のように、端末Ｔ２は、図２５に示すように、スクリーンを含んでいてもよい。このスクリーンは、第１取得モジュールＣＡＭ＿１の取得領域の像を表示する役割を担う。この像には、仮想記号ＳＹＭＢ＿Ｖが重畳される。

そのような状況において、表面Ｓ＿１は、記号ＳＹＭＢを含んでいてもよく、取得像ＩＭ＿０を取得する取得工程Ｅ２０は、取得領域における上記の記号ＳＹＭＢの像ＩＭ＿ＳＹＭＢが仮想記号ＳＹＭＢ＿Ｖに一致したときに、自動的に開始されてもよい。

具体的な実装例では、図７に示すように、工程Ｅ３０はまた、第２光源ＬＵＭ＿２を用いて検査表面Ｓ＿１を照明する工程Ｅ１５を含む。この照明は、少なくとも取得工程Ｅ２０において実行される。

獲得モジュールＭＯＤ＿ＯＢＴ１は、図２３に示すように、第２光源ＬＵＭ＿２を有する。

具体的な実装例では、図８に従い、方法は、モデル像ＩＭ＿Ｍにおいて等価領域ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３およびＺＥＱ＿４を定義する工程Ｅ３５を有する。モデル像ＩＭ＿Ｍの少なくとも一部が、基準表面Ｓ＿ＲＥＦを示す。

この工程の後に、図１５に示すような、オフセット像ＩＭ＿１における興味領域ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３およびＺＩ＿４を得る工程Ｅ５０が続く。

これらの興味領域は、テンプレートマッチングを用いることによってオフセット像ＩＭ＿１を予め定められた“等価”領域ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３およびＺＥＱ＿４と照合する方法によって得られる。これらの等価領域は、複数のモデル像ＩＭ＿Ｍのうちの１つに含まれている。

この工程Ｅ５０は、図２２に示すように、システムＳＹＳのモジュールＭＯＤ＿ＤＥＦによって行われてもよい。また、このモジュールＭＯＤ＿ＤＥＦは、図２３に示すように、端末Ｔ２に含まれていてもよい。変形例では、この工程は、端末Ｔ２の外部のモジュールによって実行されてもよい。

具体的な実装例では、例えば図１５に示すように、これらの興味領域ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３およびＺＩ＿４は、検査表面Ｓ＿１における１または複数の図形要素ＴＡＧ＿１，ＴＡＧ＿２，ＴＡＧ＿３およびＴＡＧ＿４、の近くに、および／または、に関連づけて、配置されている。

好ましくは、このまたはこれらの図形要素ＴＡＧ＿１，ＴＡＧ＿２，ＴＡＧ＿３およびＴＡＧ＿４は、検査表面Ｓ＿１の背景色に対してコントラストをなしている。

好ましくは、これらの図形要素ＴＡＧ＿１，ＴＡＧ＿２，ＴＡＧ＿３およびＴＡＧ＿４は、異なる形状を有する。

具体的な実装例では、工程Ｅ５０の前に、オフセット像ＩＭ＿１において“探索”領域を定義する工程（図示せず）が行われる。これらの探索領域は興味領域ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３およびＺＩ＿４を含み、探索領域に基づいてテンプレートマッチング法が行われる。

例えば、これらの探索領域は、以下のように定義されてもよい：
-オフセット像ＩＭ＿１において、これらの興味領域ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３およ
びＺＩ＿４の位置の近くの位置に、設けられており；かつ
-オフセット像ＩＭ＿１において、興味領域ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３およびＺＩ＿
４よりもサイズが大きい。

探索領域は、領域であって該領域の内部にテンプレートマッチング法によって興味領域ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３およびＺＩ＿４が設けられる領域に対応する。探索領域は、テンプレートマッチング法をより効率的に行うための、オフセット像ＩＭ＿１内の特定の外縁であって該外縁の内部で興味領域ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３およびＺＩ＿４がより高い確率で見られる外縁を定義することを可能にする。

工程Ｅ５０の後に、オフセット像ＩＭ＿１を“モデル”像ＩＭ＿Ｍと位置合わせすることによって“位置合わせされた”像ＩＭ＿２を得る工程Ｅ７０が続く。

この位置合わせ工程Ｅ７０は、図２２に示すような、システムＳＹＳのモジュールＭＯＤ＿ＲＥＣＡＬによって行われてもよい。

図２３に示すように、モジュールＭＯＤ＿ＲＥＣＡＬは、端末Ｔ２に含まれていてもよい。変形例では、このモジュールＭＯＤ＿ＲＥＣＡＬは、端末Ｔ２の外部に存在する。

具体的な実装例では、このモデル像ＩＭ＿Ｍの一部が、基準表面Ｓ＿ＲＥＦを示す。変形例では、モデル像ＩＭ＿Ｍの全体が、基準表面Ｓ＿ＲＥＦを示す。

このモデル像ＩＭ＿Ｍは、図１６に示すようなものであってもよい。

この第１の総合実装例では、図９に従い、モデル像ＩＭ＿Ｍは、工程Ｆ２００において第３取得モジュールＣＡＭ＿３によって取得される表面Ｓ＿ＲＥＦの像に対応する。

好ましい実装例では、第３取得モジュールＣＡＭ＿３の光軸は、基準表面Ｓ＿ＲＥＦに対して実質的に垂直な方向に向けられている。

例えば、この実装例では、製品のまたはその製品のパッケージの基準表面Ｓ＿ＲＥＦを、その製品を製造するためのラインに沿って（long d'une ligne）取得可能である。

具体的な実装例では、また、図９を参照すると、表面Ｓ＿ＲＥＦは、工程Ｆ４００において、光源ＬＵＭ＿１によって少なくとも取得工程Ｆ２００において基準表面Ｓ＿ＲＥＦに対して迎え角αで照明される。

具体的な実装例では、この角度αは、グレージング入射角に対応する。

具体的な実装例では、この角度αは、好ましくは１６°～４５°の範囲にあり、より好ましくは１６°～２５°の範囲にあり、さらに好ましくは１６°～２０°の範囲にある。

具体的な実装例では、基準表面Ｓ＿ＲＥＦは、図１６に示すように、図形ＴＡＧ＿１，ＴＡＧ＿２，ＴＡＧ＿３およびＴＡＧ＿４を含む。

オフセット像ＩＭ＿１をモデル像ＩＭ＿Ｍと位置合わせすることは、これら２つの像の間の遠近補正を行うことに対応し、モデル像ＩＭ＿Ｍの基準表面Ｓ＿ＲＥＦが見られる平面と同じ平面および同じ方向にオフセット像ＩＭ＿１の検査表面Ｓ＿１を配置しなおすという状況を模擬する役割を担う。

このような位置合わせまたは位置合わせされた像ＩＭ＿２の獲得は、第１透視変換Ｈ１をオフセット像ＩＭ＿１に適用することによって行われる。

図１６に示すように、第１透視変換Ｈ１は、オフセット像ＩＭ＿１における興味領域ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３およびＺＩ＿４ならびにモデル像ＩＭ＿Ｍにおける等価領域ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３およびＺＥＱ＿４から得られる。

具体的な実装例では、テンプレートマッチング法は、探索領域から、興味領域ＺＩ＿１の予め定められた点を等価領域ＺＥＱ＿１の対応する予め定められた点に変換するアフィン変換Ｔのパラメータの第１の推定値を得る役割を担う。

例えば、この推定値は、等価領域ＺＩ＿１の点の座標と探索領域の点の座標との間で、最小二乗法または交差相関法を用いることによって得られてもよい。

交差相関法は、モデル像ＩＭ＿Ｍの探索領域内における複数の点（ｘ，ｙ）について、以下のように定義される規格化交差相関係数を最大化することを目的としたものとして定義できる：

ここで、

であり：
-Ｉは、オフセット像ＩＭ＿１における探索領域であり；
-Ｔは、モデル像ＩＭ＿Ｍにおける興味領域ＺＩ＿１であり；かつ、
-ｗおよびｈは、Ｔの寸法である。

上記の推定値は、他の公知のイメージマッチング法またはイメージテンプレート法を用いて得られてもよい。

具体的な実装例では、図１０に従い、テンプレートマッチング法は、アフィン変換のパラメータの第２の推定値を得る工程Ｅ７５を有する。この第２の推定値は、等価領域ＺＥＱ＿１と興味領域ＺＩ＿１を含む探索領域の間の第１の強化された相関係数（premier coefficient de correlation ameliore）を最大化するための反復アルゴリズムを用いて第
１の推定値を最適化することによって得られる。

上記の第１の強化された相関係数は、先に引用した文書“Parametric image alignment
using enhanced correlation coefficient maximization”の３．１節と同じ態様で定義されてもよい。

各興味領域ＺＩ＿１を等価領域ＺＥＱ＿１に変換する各アフィン変換のパラメータが推定されると、点の一連のペアが得られる。各ペアは、等価領域ＺＥＱ＿１における１つの点と、等価領域ＺＩ＿１および傾斜した像ＩＭ＿１に適用されるテンプレートマッチング法によって定義される興味領域Ｚ＿Ｉ１における別の点と、を備える。

具体的な実装例では、点のペア（複数形）は、興味領域ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３およびＺＩ＿４の中心（複数形）と、等価領域ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３およびＺＥＱ＿４の中心（複数形）と、を備え、または、に対応する。

オフセット像ＩＭ＿１を位置合わせされた像ＩＭ＿２に変換する第１透視変換Ｈ１のパラメータは、点のそれらのペアから推定できる。

例えば、これらのパラメータは、文書“Image registration for perspective deformation recovery”（Geaorge WolbergおよびSiavash Zokai）の４．２部に記載された方法
のような方法によって推定されてもよい。

具体的な実装例では、第１透視変換Ｈ１は、ランダムサンプルコンセンサス（ＲＡＮＳＡＣ）アルゴリズムを用いることによって得られる。

上記のアルゴリズムは、第１透視変換Ｈ１のパラメータを推定するのに用いられる一連の点または点のペアから外れ値の点を排除する役割を担う。

具体的な実装例では、第１透視変換Ｈ１は、オフセット像ＩＭ＿１とモデル像ＩＭ＿Ｍとの間の第２の強化された相関係数を最大化するための反復最適化アルゴリズムを用いることによって得られる。

上記の第２の強化された相関係数を用いる上記のアルゴリズムは、上述の第１の強化された相関係数を用いるアルゴリズムと似ているが、オフセット像をモデル像に対して位置合わせする際に適用され、等価領域ＺＩ＿１をモデル像ＩＭ＿Ｍと照合するとき（テンプレートマッチング）（lors）には適用されない。

位置合わせされた像ＩＭ＿２を得る工程Ｅ７０の後に、位置合わせされた像ＩＭ＿２からデジタル署名を生成するための生成工程Ｅ９０が続く。デジタル署名は、検査表面Ｓ＿１の構造を特徴づける。

この生成工程Ｅ９０は、モジュールＭＯＤ＿ＧＥＮによって行われる。モジュールＭＯＤ＿ＧＥＮは、例えば、図１４に示すように端末Ｔ２に含まれている、または、端末Ｔ２の外部に存在する。

具体的な実装例では、図１１に従い、デジタル署名を生成する工程Ｅ９０は、検査表面Ｓ＿１と第２光源ＬＵＭ＿２との間の相互作用を検出することによって検査表面Ｓ＿１の構造的な特徴を得る工程Ｅ９５を含む。

この第１の総合実装例では、相互作用は、位置合わせされた像ＩＭ＿２を分析することによって検出される。

具体的な実装例では、図１２に従い、生成された署名の生成工程Ｅ９０の後に、生成された署名と認証デジタル署名とを比較することによって検査表面Ｓ＿１を認証する工程Ｅ１２０が続く。この認証署名は、基準表面Ｓ＿ＲＥＦの構造を特徴づける。

この第１の総合実装例では、認証署名は、図１３に示すように、工程Ｅ５において、モデル像ＩＭ＿Ｍから生成される。

より正確には、この認証署名を生成することは、基準表面Ｓ＿ＲＥＦと第１光源ＬＵＭ＿１との間の相互作用を検出することによって基準表面Ｓ＿ＲＥＦの構造的な特徴を得ることを含む。

具体的な実装例では、図１４に従い、方法は、さらに、保護された情報を読み取る工程Ｅ１３０を含む。保護された情報は、例えば、検査表面、または、検査表面を含む製品もしくはパッケージに設けられた、可視コード（図示せず）に含まれている。

保護された情報を読み取る際に、その情報は、デジタル形式で、情報を保護するために用いられる処理のインバースであるデジタル処理に供される。この処理は、生成された署名を利用する。例えば、保護された情報は、１次元または２次元のバーコードに含まれていてもよい。

図１７では、第１の総合実装例の主たる工程がまとめられている：検査表面Ｓ＿１のオフセット像ＩＭ＿１が得られる、ここで、この像ＩＭ＿１は、取得モジュールＣＡＭ＿３によって取得される像ＩＭ＿０に対応する。その後、位置合わせされた像ＩＭ＿２が得られるように、像ＩＭ＿１が、基準表面Ｓ＿ＲＥＦを示すモデル像ＩＭ＿Ｍに対して位置合わせされる。この位置合わせされた像のデジタル署名が、取り出される。この例では、両矢印は、ともに同じ態様の方向および位置をとる表面を示す２つの像の間のリンクを表す。

第２の総合実装例
図１８および１９に、本発明の第２の総合実装例に係る、検査表面Ｓ＿１のデジタル署名を生成する方法を示す。

これら２つの方法は、第１の総合実装例における４つの主たる工程Ｅ３０，Ｅ５０，Ｅ７０およびＥ９０を再現する。それらは、図１，３，４および２２～２４に示した類のシステムによって同様に良好に実行できる。

それらは、さらに、第１の総合実装例の任意の工程Ｅ１５，Ｅ６０，Ｅ７５，Ｅ９５，Ｅ１２０およびＥ１３０を含む。

第１の総合実装例と同様、オフセット像ＩＭ＿１を得る工程Ｅ３０は、図１～４に示すような第１取得モジュールＣＡＭ＿１を用いることによって“取得”像ＩＭ＿０を取得する工程Ｅ２０を含む。

ただし、この第２の総合実装例では、モデル像ＩＭ＿Ｍは、第２透視変換Ｈ２を、基準表面Ｓ＿ＲＥＦを示す“方向付けされた”像ＩＭ＿Ｍ‘に適用することによって得られる。

図１３を参照すると、この方向付けされた像ＩＭ＿Ｍ‘は、工程Ｅ５’において生成される。

図９を参照すると、この方向付けされた像ＩＭ＿Ｍ‘は、工程Ｆ２００において、基準表面Ｓ＿ＲＥＦに対して実質的に垂直に配置された第２取得モジュールＣＡＭ＿２を用いて取得される。少なくとも取得工程Ｆ２００において、第１の総合実装例に類似した照明工程Ｆ４００が行われる。

第２透視変換Ｈ２は、好ましくは、方向付けされた像ＩＭ＿Ｍ‘を、基準表面Ｓ＿ＲＥＦの像に変換するという態様で選択される。基準表面Ｓ＿ＲＥＦの像は、特定条件の下で、例えば電話またはタブレットによって、取得されるものとして模擬されるものである。

この変換はまた、モデル像ＩＭ＿Ｍにおける基準表面Ｓ＿ＲＥＦを、取得像ＩＭ＿０の位置および方向にできるだけ近い位置および方向に“シフトする”役割を担う。

この第２の総合実装例の第１変形例では、図１８に従い、オフセット像ＩＭ＿１は、取得像ＩＭ＿０に対応する。

工程Ｅ５０では興味領域がオフセット像ＩＭ＿１において得られ、工程Ｅ７０ではこれらの興味領域を用いることによってオフセット像ＩＭ＿１が位置合わせされた像ＩＭ＿２に変換される。

像ＩＭ＿１を位置合わせするための種々の工程が、第１の総合実装例に類似する態様で行われる。

位置合わせされた像ＩＭ＿２が得られると、工程Ｅ８０において、位置合わせされた像ＩＭ＿２が方向付けされた像ＩＭ＿Ｍ‘と位置合わせされるように、第２透視変換Ｈ２のインバース、Ｈ２‘と表記する、が位置合わせされた像ＩＭ＿２に適用される。これにより、“変換された”像ＩＭ＿２’が作られる。

工程Ｅ９０において、表面Ｓ＿１のデジタル署名が、変換された像ＩＭ＿２’から生成される。

第２の総合実装例の第２変形例では、図１９に示すように、まず、透視変換Ｈ２‘を取得像ＩＭ＿０に適用することによってオフセット像ＩＭ＿１が得られ、次に、オフセット像ＩＭ＿１が方向付けされた像ＩＭ＿Ｍ‘に対して位置合わせされる。

この変形例では、後に方向付けされた像ＩＭ＿Ｍ‘に対して位置合わせされる像を得るためにまず取得像ＩＭ＿０＝ＩＭ＿１が位置合わせされる先の変形例とは異なり、後にモデル像ＩＭ＿Ｍと位置合わせされる像を得るためにまず透視変換Ｈ２‘が取得像ＩＭ＿０に適用される。

その後、工程Ｅ９０において、検査表面Ｓ＿１のデジタル署名が、位置合わせされた像ＩＭ＿２から生成される。

図２０では、この第２の総合実装例の第１変形例がまとめられている：検査表面Ｓ＿１のオフセット像ＩＭ＿１が得られる、ここで、この像ＩＭ＿１は、取得モジュールＣＡＭ＿３によって取得される像ＩＭ＿０に対応する。その後、位置合わせされた像ＩＭ＿２が得られるように、像ＩＭ＿１が、基準表面Ｓ＿ＲＥＦを示すモデル像ＩＭ＿Ｍに対して位置合わせされる、ここで、モデル像ＩＭ＿Ｍは、方向付けされた像ＩＭ＿Ｍ‘に透視変換Ｈ２を適用することによって、方向付けされた像ＩＭ＿Ｍ‘を変換した後に、既に得られている。署名が取り出される変換された像ＩＭ＿２’が得られるように、透視変換Ｈ２のインバース、Ｈ２‘と表記する、が位置合わせされた像ＩＭ＿２に適用される。

図２１では、この第２の実装例の第２変形例がまとめられている：取得モジュールＣＡＭ＿３によって取得される像ＩＭ＿０に透視変換Ｈ２‘が適用されることによって検査表面Ｓ＿１のオフセット像ＩＭ＿１が得られる。その後、位置合わせされた像ＩＭ＿２が得られるように、像ＩＭ＿１が、基準表面Ｓ＿ＲＥＦを示す方向付けされた像ＩＭ＿Ｍ‘に対して位置合わせされる、ここで、モデル像ＩＭ＿Ｍは、透視変換Ｈ２を方向付け像ＩＭ＿Ｍ‘に適用することによって、方向付けされた像ＩＭ＿Ｍ‘を変換することによって既に得られている。署名は、位置合わせされた像ＩＭ＿２を分析することによって取り出される。

第３実装例
第３実装例の方法は、第１および第２の総合実装例における４つの主たる工程Ｅ３０，Ｅ５０，Ｅ７０およびＥ９０を再現する。

第１および第２の総合実装例と同様、オフセット像ＩＭ＿１を得る工程Ｅ３０は、取得モジュールによって“取得”像ＩＭ＿０を取得する工程Ｅ２０を含む。

この第３の総合実装例では、取得像ＩＭ＿０は、オフセット像ＩＭ＿１に対応する（以下、“オフセット像ＩＭ＿１”と称する）。

工程Ｅ５０では興味領域がオフセット像ＩＭ＿１において得られ、工程Ｅ７０ではこれらの興味領域に基づいてオフセット像ＩＭ＿１が位置合わせされた像ＩＭ＿２に変換される。

像ＩＭ＿１を位置合わせすることを可能にする種々の工程が、第１の総合実装例に類似する態様で行われる：オフセット像ＩＭ＿１における興味領域の予め定められた点に、モデル像ＩＭ＿Ｍで言及される点に対して適用される、上述のテンプレートマッチング法によって、第１透視変換Ｈ１をオフセット像ＩＭ＿１に適用することによって、位置合わせされた像ＩＭ＿２が得られる。

ただし、この第３実装例は、モデル像およびオフセット像を取得するための取得モジュールの配置、光源の配置および署名の取り出し方の点で、最初の２つとは異なる。

この実装例では、基準表面Ｓ＿ＲＥＦのモデル像ＩＭ＿Ｍは、基準表面Ｓ＿ＲＥＦに対して同じ方向を有する取得モジュールおよび光源によって取得される。同じ方向は、例えば、基準表面に対して９０°ではない同じ傾斜角βである。取得モジュールおよび光源のこの傾斜角は、光のハローが形成されるのを回避する。

この第３実装例は、コントラストを低減させ署名の取り出しに影響する光のハローが９０°の照明によって形成される鏡面表面または光沢表面について、特に有利である。

その後、取得モジュールおよび光源の方向についての補償を行うための第１透視変換が、基準表面Ｓ＿ＲＥＦに対して９０°で配置された取得モジュールを用いて取得されたかのように見える再方向付けされた像が得られるという態様で、行われる。例えば、この透視変換は、モデル像ＩＭ＿Ｍを角度－βだけ回転させることを含み、この回転は、他の実装例で説明したような第１透視変換Ｈ１と組み合わされてもよい。

その後、基準表面Ｓ＿ＲＥＦの認証署名が、再方向付けされた像から取り出される。

さらに、検査表面のオフセット像は、検査表面Ｓ＿１に対して角度β’の方向に向けられた取得モジュールおよび光源を用いて取得される。角度βおよびβ’は、好ましく類似している。

例えば、この角度β’は、図２５を参照して説明した記号ＳＹＭＢ＿ＶおよびＳＹＭＢを一致させることによって、または、取得時において検査表面に対する取得モジュールの方向を保証する役割を担う他の任意の手段を用いることによって、特定される。取得モジュールの方向を保証するためのこのメカニズムは、本発明の他の実装例で用いてもよい。上述のように、位置合わせされた像が得られるように、オフセット像がモデル像と位置合わせされる。

検査表面に対して９０°で配置された取得モジュールを用いて取得されたかのように見えるという態様で平坦化された状態に戻された像が得られるという態様で、透視変換が、取得モジュールおよび光源の方向を補償するように行われる。例えば、この透視変換は、位置合わせされた像を角度－β’だけ回転させることを備え、この回転は、他の実装例で説明したような第１透視変換Ｈ１とともに行われてもよい。

最後に、工程Ｅ９０において、検査表面Ｓ＿１のデジタル署名が、平坦化された像を用いて生成される。

第４実装例
本発明は、以下で図２６を参照しながら説明する第４実装例を提案する。この第４実装例の工程Ｅ２０，Ｅ５０，Ｅ７０およびＥ９０は、第２実装例の第２変形例の工程と同じであり、それらは同じ符号を有している。

第２実装例の第２変形例において、モデル像ＩＭ＿Ｍおよび“方向付けされた”像ＩＭ＿Ｍ‘によって正確に定義される第２透視変換Ｈ２が像に適用されることを思い出されたい。この意味で、この透視変換Ｈ２は、取得像ＩＭ＿０によらず常に同じであり、この点で“静的”と称され得る。ただし、第４実装例には、一定または静的な透視変換Ｈ２が、方向付けされた像ＩＭ＿Ｍ‘に対する取得像ＩＭ＿０に応じて製造工程Ｅ２０の後に動的に計算される第３透視変換Ｈ３によって置き換えられる点で、第２実装例の第２変形例との相違がある。

この第４実装例では、オフセット像ＩＭ＿１は、透視変換Ｈ３を取得像ＩＭ＿０に適用することによって得られる。その後、位置合わせされた像ＩＭ＿２が得られるように、像ＩＭ＿１が、基準表面Ｓ＿ＲＥＦを示す方向付けされた像ＩＭ＿Ｍ‘に対して位置合わせされる。署名は、位置合わせされた像ＩＭ＿２を分析することによって取り出される。

この第４実装例では、動的な計算Ｈ３の主たる利点は、取得モジュールの方向をより“許容範囲のある（tolerante）”ものとすることによって取得モジュールの位置決めが容
易となり、取得の開始を早め、ユーザーエクスペリエンスが向上することにある。より“許容範囲のある”とは、例えば、取得モジュールの光軸の傾斜角に関してより許容範囲があるということである。

これを説明するために、第１に、透視変換Ｈ２（またはＨ２‘）は、取得像ＩＭ＿０の方向にできるだけ近い特定の方向を模擬して、モデル像ＩＭ＿Ｍおよび方向付けされた像ＩＭ＿Ｍ‘から計算されるのに対し、透視変換Ｈ３は、取得時において取得像ＩＭ＿０に応じて計算され、特定の方向に依存しないため、“動的”と称されることを理解されたい。Ｈ２は、“一定”と称される透視変換である。

有利には、Ｈ２のような“一定の”透視変換（第２実装例の第２変形例参照）ではなく“動的な”透視変換Ｈ３を用いることによって、像を取得しつつ像を動的に位置合わせすることが可能になり、取得像ＩＭ＿０の取得について、像を正確に位置合わせするためにモデル像ＩＭ＿Ｍ‘の方向に近い方向を有する必要性、他の実装例ではこの必要性は存在し得る、を回避することが可能になる。

図２２に、本発明の２つの総合実装例のいずれかを行うことによって、少なくとも１つの検査表面から少なくとも１つのデジタル署名を生成するためのシステムＳＹＳを示す。

システムＳＹＳは、各検査表面Ｓ＿１について、検査表面Ｓ＿１を示す少なくとも一部を有する“オフセット”像ＩＭ＿１を得るための獲得モジュールＭＯＤ＿ＯＢＴ１を有する。

システムＳＹＳはまた、各検査表面Ｓ＿１について、オフセット像における興味領域を得る役割を担う定義モジュールＭＯＤ＿ＯＢＴ２を有する。

これらの興味領域は、オフセット像に適用される予め定められた等価領域ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３およびＺＥＱ＿４とのテンプレートマッチング法によって、得られる。これらの等価領域は、基準表面Ｓ＿ＲＥＦを示す少なくとも一部を有するモデル像ＩＭ＿Ｍに含まれている。

システムＳＹＳはまた、各検査表面Ｓ＿１と協働して用いられる、オフセット像ＩＭ＿１をモデル像ＩＭ＿Ｍと位置合わせする位置合わせモジュールＭＯＤ＿ＲＥＣＡＬを有する。この位置合わせは、第１透視変換Ｈ１をオフセット像ＩＭ＿１に適用することによって行われる。透視変換Ｈ１は、興味領域ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３およびＺＩ＿４ならびに等価領域ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３およびＺＥＱ＿４から得られる。

システムＳＹＳはまた、各検査表面について、位置合わせされた像ＩＭ＿２からデジタル署名を生成するための生成モジュールＭＯＤ＿ＧＥＮを有する。このデジタル署名は、検査表面Ｓ＿１の構造を特徴づける。

最後に、システムＳＹＳは、方法を実行するための命令を含むプログラムＰＧを格納する役割を担う格納媒体ＳＵＰを含む。

具体的な実施形態では、図２３に示すように、システムＳＹＳは、以下を備える：
-グレージング入射角に対応する基準表面Ｓ＿ＲＥＦに対する迎え角を形成する第１カメ
ラＣＡＭ＿２および第１光源ＬＵＭ＿１を含む第１端末Ｔ１、ここで、迎え角は、好ましくは１６°～４５°の範囲にあり、より好ましくは１６°～２５°の範囲にあり、さらに好ましくは１６°～２０°の範囲にある；および
-通信端末Ｔ２、第２カメラＣＡＭ＿１および第２光源ＬＵＭ＿２を含む第２製品。

本実施形態では、システムＳＹＳは、図２４に図式的に示すように、コンピュータのハードウェアアーキテクチャを有する。

システムＳＹＳは、プロセッサ１０と、書換え可能な不揮発性メモリ１１と、ＲＯＭ１２と、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）１３と、通信モジュールＣＯＭと、を備える。

システムＳＹＳのＲＯＭ１２は、プロセッサ１０によって読み取り可能であり、検査表面のデジタル署名を生成するための図５～１４，１８および１９を参照して説明した工程を有する本発明の方法の工程を実行するための命令を含む本発明に係るコンピュータプログラムを格納する、本発明に係るデータ媒体である。

Claims (4)

1. 材料要素の少なくとも１つの表面であって“検査表面”（Ｓ＿１）と称される表面の少なくとも１つのデジタル署名を生成する方法であって、前記方法はデータ処理システムによって行われ、前記方法は、各検査表面（Ｓ＿１）について、
   -前記検査表面（Ｓ＿１）を示す少なくとも一部を有する“オフセット”像（ＩＭ＿１）を得るための獲得工程（Ｅ３０）；
   -前記オフセット像（ＩＭ＿１）を、少なくとも１つの予め定められた“等価”領域（ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３，ＺＥＱ＿４）であって“基準”表面（Ｓ＿ＲＥＦ）を表す少なくとも一部を有するモデル像（ＩＭ＿Ｍ）に含まれた少なくとも１つの等価領域と照合する、“テンプレートマッチング”として知られる方法によって、前記オフセット像（ＩＭ＿１）における少なくとも１つの興味領域（ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３，ＺＩ＿４）を得るための獲得工程（Ｅ５０）；
   -前記オフセット像（ＩＭ＿１）を前記モデル像（ＩＭ＿Ｍ）と位置合わせすることによって“位置合わせされた”像（ＩＭ＿２）を得るための獲得工程（Ｅ７０）であって、前記位置合わせは、第１透視変換（Ｈ１）を前記オフセット像（ＩＭ＿１）に適用することによって行われ、前記第１透視変換（Ｈ１）は、前記少なくとも１つの興味領域（ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３，ＺＩ＿４）および前記少なくとも１つの等価領域（ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３，ＺＥＱ＿４）から得られる獲得工程（Ｅ７０）；および
   -前記位置合わせされた像（ＩＭ＿２）から前記デジタル署名を生成するための生成工程（Ｅ９０）であって、前記デジタル署名は、前記検査表面（Ｓ＿１）の構造を特徴づける生成工程（Ｅ９０）；
   を備え、
   前記オフセット像を得る前記工程（Ｅ３０）は、第１取得モジュール（ＣＡＭ＿１）によって“取得”像（ＩＭ＿０）を取得する工程（Ｅ２０）を含み、前記オフセット像（ＩＭ＿１）は、前記取得像（ＩＭ＿０）から得られ、
   前記方法は、前記基準表面（Ｓ＿ＲＥＦ）に対して実質的に垂直に配置された第２取得モジュール（ＣＡＭ＿２）を用いて前記基準表面（Ｓ＿ＲＥＦ）の“方向付けされた”像（ＩＭ＿Ｍ‘）を取得する事前工程（Ｅ１０）を含み、前記モデル像（ＩＭ＿Ｍ）は、予め定められた第２透視変換（Ｈ２）を前記方向付けされた像（ＩＭ＿Ｍ‘）に適用することによって得られ、
   前記方法は、前記位置合わせされた像（ＩＭ＿２）に前記第２透視変換（Ｈ２）のインバース（Ｈ２‘）を適用することによって、前記位置合わせされた像（ＩＭ＿２）を変換することによって、“変換された”像（ＩＭ＿２’）を得るための獲得工程（Ｅ８０）を含み、前記署名は、前記変換された像（ＩＭ＿２‘）を前記生成工程（Ｅ９０）において分析することによって生成される、方法。
2. 材料要素の少なくとも１つの表面であって“検査表面”（Ｓ＿１）と称される表面の少なくとも１つのデジタル署名を生成する方法であって、前記方法はデータ処理システムによって行われ、前記方法は、各検査表面（Ｓ＿１）について、
   -前記検査表面（Ｓ＿１）を示す少なくとも一部を有する“オフセット”像（ＩＭ＿１）を得るための獲得工程（Ｅ３０）；
   -前記オフセット像（ＩＭ＿１）を、少なくとも１つの予め定められた“等価”領域（ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３，ＺＥＱ＿４）であって“基準”表面（Ｓ＿ＲＥＦ）を表す少なくとも一部を有するモデル像（ＩＭ＿Ｍ）に含まれた少なくとも１つの等価領域と照合する、“テンプレートマッチング”として知られる方法によって、前記オフセット像（ＩＭ＿１）における少なくとも１つの興味領域（ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３，ＺＩ＿４）を得るための獲得工程（Ｅ５０）；
   -前記オフセット像（ＩＭ＿１）を前記モデル像（ＩＭ＿Ｍ）と位置合わせすることによって“位置合わせされた”像（ＩＭ＿２）を得るための獲得工程（Ｅ７０）であって、前記位置合わせは、第１透視変換（Ｈ１）を前記オフセット像（ＩＭ＿１）に適用することによって行われ、前記第１透視変換（Ｈ１）は、前記少なくとも１つの興味領域（ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３，ＺＩ＿４）および前記少なくとも１つの等価領域（ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３，ＺＥＱ＿４）から得られる獲得工程（Ｅ７０）；および
   -前記位置合わせされた像（ＩＭ＿２）から前記デジタル署名を生成するための生成工程（Ｅ９０）であって、前記デジタル署名は、前記検査表面（Ｓ＿１）の構造を特徴づける生成工程（Ｅ９０）；
   を備え、
   前記オフセット像を得る前記工程（Ｅ３０）は、第１取得モジュール（ＣＡＭ＿１）によって“取得”像（ＩＭ＿０）を取得する工程（Ｅ２０）を含み、前記オフセット像（ＩＭ＿１）は、前記取得像（ＩＭ＿０）から得られ、
   前記方法は、前記基準表面（Ｓ＿ＲＥＦ）に対して実質的に垂直に配置された第２取得モジュール（ＣＡＭ＿２）を用いて前記基準表面（Ｓ＿ＲＥＦ）の“方向付けされた”像（ＩＭ＿Ｍ‘）を取得する事前工程（Ｅ１０）を含み、前記モデル像（ＩＭ＿Ｍ）は、予め定められた第２透視変換（Ｈ２）を前記方向付けされた像（ＩＭ＿Ｍ‘）に適用することによって得られ、
   前記位置合わせされた像（ＩＭ＿２）は、前記第２透視変換（Ｈ２）のインバース透視変換（Ｈ２‘）を前記取得像（ＩＭ＿０）に適用することによって得られ、前記署名は、前記位置合わせされた像（ＩＭ＿２）を前記生成工程（Ｅ９０）において分析することによって生成される、方法。
3. 材料要素の少なくとも１つの表面であって“検査表面”（Ｓ＿１）と称される表面の少なくとも１つのデジタル署名を生成するためのシステム（ＳＹＳ）であって、
   -各検査表面（Ｓ＿１）について、前記検査表面（Ｓ＿１）を示す少なくとも一部を有する“オフセット”像（ＩＭ＿１）を得るための獲得モジュール（ＭＯＤ＿ＯＢＴ１）；
   -各検査表面（Ｓ＿１）について、前記オフセット像における少なくとも１つの興味領域（ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３，ＺＩ＿４）を、前記オフセット像（ＩＭ＿１）と少なくとも１つの予め定められた“等価”領域（ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３，ＺＥＱ＿４）との間のテンプレートマッチング法によって得る役割を担う獲得モジュール（ＭＯＤ＿ＯＢＴ２）であって、前記少なくとも１つの等価領域は、“基準”表面（Ｓ＿ＲＥＦ）を示す少なくとも一部を有するモデル像（ＩＭ＿Ｍ）に含まれている獲得モジュール（ＭＯＤ＿ＯＢＴ２）；
   -各検査表面（Ｓ＿１）について、前記オフセット像（ＩＭ＿１）を前記モデル像（ＩＭ＿Ｍ）と位置合わせする役割を担う位置合わせモジュール（ＭＯＤ＿ＲＥＣＡＬ）であって、前記位置合わせは、第１透視変換（Ｈ１）を前記オフセット像（ＩＭ＿１）に適用することによって行われ、前記透視変換（Ｈ１）は、前記少なくとも１つの興味領域（ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３，ＺＩ＿４）および前記少なくとも１つの等価領域（ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３，ＺＥＱ＿４）から得られる位置合わせモジュール（ＭＯＤ＿ＲＥＣＡＬ）；および
   -各検査表面について、前記位置合わせされた像（ＩＭ＿２）から前記デジタル署名を生成する役割を担う生成モジュール（ＭＯＤ＿ＧＥＮ）であって、前記デジタル署名は、前記検査表面（Ｓ＿１）の構造を特徴づける生成モジュール（ＭＯＤ＿ＧＥＮ）；
   を備え、
   前記獲得モジュール（ＭＯＤ＿ＯＢＴ１）は、“取得”像（ＩＭ＿０）を取得するための第１取得モジュール（ＣＡＭ＿１）を含み、前記オフセット像（ＩＭ＿１）は、前記取得像（ＩＭ＿０）から得られ、
   前記システム（ＳＹＳ）は、前記基準表面（Ｓ＿ＲＥＦ）に対して実質的に垂直に配置された第２取得モジュール（ＣＡＭ＿２）であって前記基準表面（Ｓ＿ＲＥＦ）の“方向付けされた”像（ＩＭ＿Ｍ‘）を取得するための第２取得モジュール（ＣＡＭ＿２）を備え、前記モデル像（ＩＭ＿Ｍ）は、予め定められた第２透視変換（Ｈ２）を前記方向付けされた像（ＩＭ＿Ｍ‘）に適用することによって得られ、
   前記システム（ＳＹＳ）は、前記位置合わせされた像（ＩＭ＿２）に前記第２透視変換（Ｈ２）のインバース（Ｈ２‘）を適用することによって、前記位置合わせされた像（ＩＭ＿２）を変換することによって、“変換された”像（ＩＭ＿２’）を得るように構成され、前記署名は、前記変換された像（ＩＭ＿２‘）を分析することによって生成される、システム（ＳＹＳ）。
4. 材料要素の少なくとも１つの表面であって“検査表面”（Ｓ＿１）と称される表面の少なくとも１つのデジタル署名を生成するためのシステム（ＳＹＳ）であって、
   -各検査表面（Ｓ＿１）について、前記検査表面（Ｓ＿１）を示す少なくとも一部を有する“オフセット”像（ＩＭ＿１）を得るための獲得モジュール（ＭＯＤ＿ＯＢＴ１）；
   -各検査表面（Ｓ＿１）について、前記オフセット像における少なくとも１つの興味領域（ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３，ＺＩ＿４）を、前記オフセット像（ＩＭ＿１）と少なくとも１つの予め定められた“等価”領域（ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３，ＺＥＱ＿４）との間のテンプレートマッチング法によって得る役割を担う獲得モジュール（ＭＯＤ＿ＯＢＴ２）であって、前記少なくとも１つの等価領域は、“基準”表面（Ｓ＿ＲＥＦ）を示す少なくとも一部を有するモデル像（ＩＭ＿Ｍ）に含まれている獲得モジュール（ＭＯＤ＿ＯＢＴ２）；
   -各検査表面（Ｓ＿１）について、前記オフセット像（ＩＭ＿１）を前記モデル像（ＩＭ＿Ｍ）と位置合わせする役割を担う位置合わせモジュール（ＭＯＤ＿ＲＥＣＡＬ）であって、前記位置合わせは、第１透視変換（Ｈ１）を前記オフセット像（ＩＭ＿１）に適用することによって行われ、前記透視変換（Ｈ１）は、前記少なくとも１つの興味領域（ＺＩ＿１，ＺＩ＿２，ＺＩ＿３，ＺＩ＿４）および前記少なくとも１つの等価領域（ＺＥＱ＿１，ＺＥＱ＿２，ＺＥＱ＿３，ＺＥＱ＿４）から得られる位置合わせモジュール（ＭＯＤ＿ＲＥＣＡＬ）；および
   -各検査表面について、前記位置合わせされた像（ＩＭ＿２）から前記デジタル署名を生成する役割を担う生成モジュール（ＭＯＤ＿ＧＥＮ）であって、前記デジタル署名は、前記検査表面（Ｓ＿１）の構造を特徴づける生成モジュール（ＭＯＤ＿ＧＥＮ）；
   を備え、
   前記獲得モジュール（ＭＯＤ＿ＯＢＴ１）は、“取得”像（ＩＭ＿０）を取得するための第１取得モジュール（ＣＡＭ＿１）を含み、前記オフセット像（ＩＭ＿１）は、前記取得像（ＩＭ＿０）から得られ、
   前記システム（ＳＹＳ）は、前記基準表面（Ｓ＿ＲＥＦ）に対して実質的に垂直に配置された第２取得モジュール（ＣＡＭ＿２）であって前記基準表面（Ｓ＿ＲＥＦ）の“方向付けされた”像（ＩＭ＿Ｍ‘）を取得するための第２取得モジュール（ＣＡＭ＿２）を備え、前記モデル像（ＩＭ＿Ｍ）は、予め定められた第２透視変換（Ｈ２）を前記方向付けされた像（ＩＭ＿Ｍ‘）に適用することによって得られ、
   前記システム（ＳＹＳ）は、前記位置合わせされた像（ＩＭ＿２）が、前記第２透視変換（Ｈ２）のインバース透視変換（Ｈ２‘）を前記取得像（ＩＭ＿０）に適用することによって得られるよう構成され、前記署名は、前記位置合わせされた像（ＩＭ＿２）を分析することによって生成される、システム（ＳＹＳ）。

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