JP2022149156A - Treatment apparatus and treatment method - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は液体又は気体を処理するための処理装置及び処理方法に関する。 The present disclosure relates to processing apparatus and methods for processing liquids or gases.
空間内に含まれる物質を改質する方法として、電極空間において低温プラズマを発生させる方法などが用いられる(例えば、特許文献1参照)。処理速度を向上させるために、液体をプラズマ中に投入して水素等を生成する方法も試行されている(例えば、特許文献2及び3参照)。
As a method of modifying the substance contained in the space, a method of generating low-temperature plasma in the electrode space is used (see, for example, Patent Document 1). In order to improve the processing speed, a method of introducing a liquid into plasma to generate hydrogen or the like has also been tried (see, for example,
本発明者らは、物質を改質する効率を更に向上させることを課題として認識し、本開示の技術に想到した。 The present inventors have recognized that it is a problem to further improve the efficiency of modifying substances, and have arrived at the technique of the present disclosure.
本開示は、このような課題に鑑みてなされ、その目的は、液体又は気体の処理技術を向上させることである。 The present disclosure has been made in view of such problems, and its purpose is to improve liquid or gas processing technology.
上記課題を解決するために、本開示のある態様の処理装置は、第1電極と、第2電極と、第1電極と第2電極の間にパルス電圧を印加するパルス供給部と、を備える。第1電極の表面に液体が存在し、液体と第2電極との間は気体で隔てられる。 In order to solve the above problems, a processing apparatus according to one aspect of the present disclosure includes a first electrode, a second electrode, and a pulse supply unit that applies a pulse voltage between the first electrode and the second electrode. . A liquid is present on the surface of the first electrode and a gas separates the liquid from the second electrode.
本開示の別の態様は、処理方法である。この方法は、第1電極の表面に液体を存在させるステップと、第1電極と第2電極の間に正パルス電圧を印加することにより、液体に含まれる物質を活性化させるステップと、第1電極と第2電極の間に負パルス電圧を印加することにより、液体中で活性化された物質を第1電極の表面に戻すステップと、を備える。 Another aspect of the present disclosure is a processing method. The method comprises the steps of: presenting a liquid on the surface of a first electrode; applying a positive pulse voltage between the first electrode and the second electrode to activate a substance contained in the liquid; applying a negative pulse voltage between the electrode and the second electrode to return the activated material in the liquid to the surface of the first electrode.
本開示によれば、液体又は気体の処理技術を向上させることができる。 According to the present disclosure, liquid or gas processing techniques can be improved.
図1は、実施の形態に係る処理装置の構成を概略的に示す。処理装置1は、第1(ウェット)電極2と、第2(ドライ)電極3とを含む処理部4と、第1(ウェット)電極2と第2(ドライ)電極3との間に電圧パルスを印加するパルス供給部5とを備える。第1(ウェット)電極2の表面には、改質対象の液体6が存在する。液体6と第2(ドライ)電極3の間は、気体7により隔てられている。本図の例では、第2(ドライ)電極3は接地されており、第1(ウェット)電極2にパルス供給部5から正逆方向の電圧パルスが印加される。なお、第2(ドライ)電極3はパルス供給部5に接続してもよい。この場合、第2(ドライ)電極3に正パルスを印加して、第1(ウェット)電極2に負パルスを印加したのと同じ電位状態を実現してもよい。さらに、第2(ドライ)電極3は第1(ウェット)電極2と同様なウェット電極で構成されていてもよく、第1(ウェット)電極2と気体7により隔てられていればよい。さらに、電圧パルスは電流パルスもしくは電力パルスであってもよい。
FIG. 1 schematically shows the configuration of a processing apparatus according to an embodiment. The
パルス供給部5から電圧パルスが印加されて第1(ウェット)電極2と第2(ドライ)電極3の間に高電界が生じると、第1(ウェット)電極2の表面に存在する液体分子が衝突電離や電界効果により活性化され、イオン、ラジカル、励起分子、励起原子などの活性種が生成される。次に、第1(ウェット)電極2と第2(ドライ)電極3との間で放電が起こり、活性種が元となって気体分子からプラズマが生じる。液体の分子密度は1022個/cm3のレベルであり、大気圧中の気体の分子密度のレベルである1019個/cm3に比べて3桁も高い。まず第1(ウェット)電極2の近傍において液体6の改質により活性種を多量に生成し、それらを元に均一なプラズマを生じさせることにより、気体のみを改質する場合に比べて高い効率で気体7及び液体6の混合物を改質することができる。
When a voltage pulse is applied from the
図2~図4は、処理装置1により液体を処理する方法について説明するための図である。図2は、第1(ウェット)電極2に急峻な高電圧正パルスを印加した後に急峻な負パルスを印加する場合に起こる現象を示す。図3は、第1(ウェット)電極2付近の拡大図である。図4は、第1(ウェット)電極2付近のポテンシャルを示す。第1(ウェット)電極2の表面の液体6は水であり、液体6と第2(ドライ)電極3の間の気体7は空気である。
2 to 4 are diagrams for explaining a method of processing liquid by the
まず、第1(ウェット)電極2に正の急峻な電圧パルスを印加すると、第1(ウェット)電極2側では、水が衝突電離によりラジカル化及びイオン化し、OHラジカル(OH・)が発生するとともに、電極界面近傍の外側に水素イオンH+が、内側に酸素イオンO2-がそれぞれ生成して電気二重層が形成される。その直後に第1(ウェット)電極2に負パルスを印加すると、電極界面近傍の外側に多量に生じていた水素イオンH+が第1(ウェット)電極2の表面に移動して第1(ウェット)電極2から電子を受け取り、水素分子H2が発生する。水素分子H2の発生量は、第1(ウェット)電極2の表面積に比例する。第2(ドライ)電極3側では、空気中の酸素分子O2に第2(ドライ)電極3からの注入電子が衝突して酸素原子Oが生成し、酸素原子Oと励起された酸素分子O2とが結合してオゾンO3が発生する。また、酸素原子O同士が結合して酸素分子O2が発生する。
First, when a steep positive voltage pulse is applied to the first (wet)
従来の電解液を用いた電気分解法では、陽極側の酸化反応により生じた水素イオンH+は、電解液中で陰極側に移動し、陰極で電子を受け取って水素分子H2となる。それに対して、本開示の処理装置1では、第1(ウェット)電極2に印加された正パルスにより第1(ウェット)電極2側に生じた水素イオンH+は、直後に第1(ウェット)電極2に印加された負パルスにより第1(ウェット)電極2に移動し、第1(ウェット)電極2で電子を受け取って水素分子H2となる。このような、従来とは全く技術思想の異なる方法により、水素イオンH+の移動経路を大幅に短くすることができるので、水素イオンH+から水素分子H2が発生する順反応を促進することができるとともに、発生した水素分子H2とOHとの再結合により水H2Oに戻る逆反応の確率を低減させることができる。したがって、水素の発生効率を飛躍的に向上させることができる。また、上記のサイクルを電圧パルスを印加して実現することにより、水から水素イオンH+を発生させ、水素イオンH+から水素分子H2を発生させるサイクルを素早く繰り返すことができるので、短期間に多量の水素H2を効率良く発生させることができる。第2(ドライ)電極3側で発生するオゾンO3及び酸素O2についても同様である。また、改質する液体は電解液である必要はなく、純水などの高抵抗液体も改質可能であることも特徴である。
In the conventional electrolysis method using an electrolytic solution, the hydrogen ions H + generated by the oxidation reaction on the anode side move to the cathode side in the electrolytic solution, receive electrons at the cathode, and become hydrogen molecules H 2 . In contrast, in the
本開示の処理装置1では、第1(ウェット)電極2側で発生した水素イオンを第2(ドライ)電極3側に移動させる必要がないので、第1(ウェット)電極2と第2(ドライ)電極3の間を電解液で満たす必要がない。むしろ、水分子を衝突電離させることが可能な高い電界を第1(ウェット)電極2と第2(ドライ)電極3との間に生じさせる必要があるので、第1(ウェット)電極2と第2(ドライ)電極3との間の抵抗を高くする必要がある。したがって、改質対象の液体6として、電解液ではなく、純水、純エタノール、エタノールと水の混合物などの高抵抗の液体を使用することができる。また、第1(ウェット)電極2と第2(ドライ)電極3との間を、空気などの気体7で隔てるので、第1(ウェット)電極2と第2(ドライ)電極3との間に均質なプラズマを安定的に生じさせることができる。これにより、液体6と気体7の混合物を効率良く改質することができるとともに、水素、酸素、オゾンなどの気体を効率良く発生させることができる。
In the
図5は、処理装置1により液体を処理する方法について説明するための図である。図2では、第2(ドライ)電極3の表面積よりも第1(ウェット)電極2の表面積が広い場合を示したが、図5では、第1(ウェット)電極2の表面積よりも第2(ドライ)電極3の表面積の方が広い場合に、第2(ドライ)電極3に負パルスを印加した後に正パルスを印加する場合を示す。第1(ウェット)電極2に正の急峻な電圧パルスを印加すると、空気中の酸素分子O2に第1(ウェット)電極2からの注入電子が衝突して酸素原子Oが生成し、酸素原子Oと励起された酸素分子O2とが結合してオゾンO3が発生する。オゾンO3の発生量は、第2(ドライ)電極3の表面積に比例する。
FIG. 5 is a diagram for explaining a method of processing liquid by the
パルス供給部5により供給される電圧は、1~50kVであってもよい。パルス供給部5により供給される電圧は、例えば、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13kV以上であってもよい。パルス供給部5により供給される電圧は、例えば、50、45、40、35、30、25、20、15kV以下であってもよい。
The voltage supplied by the
第1(ウェット)電極2と第2(ドライ)電極3との間の距離は、1~50mmであってもよい。電極間の距離は、例えば、1、1.1、1.2、1.3、1.4、1.5、1.6、1.7、1.8、1.9、2mm以上であってもよい。電極間の距離は、例えば、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、4、3、2mm以下であってもよい。
The distance between the first (wet)
第1(ウェット)電極2と第2(ドライ)電極3との間の電界は、104~105V/cmであってもよい。第1(ウェット)電極2と第2(ドライ)電極3との間の電界は、例えば、1×104、2×104、3×104、4×104、5×104V/cm以上であってもよい。第1(ウェット)電極2と第2(ドライ)電極3との間の電界は、例えば、1×105、9×104、8×104、7×104、6×104、5×104以下であってもよい。
The electric field between the first (wet)
パルス供給部5により供給されるパルスの半値幅は、100~1000nsであってもよい。パルス供給部5により供給されるパルスの半値幅は、例えば、100、200、300、400、500ns以上であってもよい。パルス供給部5により供給されるパルスの半値幅は、例えば、1000、900、800、700、600、500ns以下であってもよい。
The half width of the pulse supplied by the
パルス供給部5により供給されるパルスの立ち上がり速度(dV/dt)は、5×1010~5×1011V/sであってもよい。パルス供給部5により供給されるパルスの立ち上がり速度は、例えば、5×1010、6×1010、7×1010、8×1010、9×1010、1×1011以上であってもよい。パルス供給部5により供給されるパルスの立ち上がり速度は、例えば、5×1011、4×1011、3×1011、2×1011、1×1011以下であってもよい。
The rising speed (dV/dt) of the pulse supplied by the
パルス供給部5により供給されるパルスの立ち下がり速度(-dV/dt)は、5×1010~5×1011V/sであってもよい。パルス供給部5により供給されるパルスの立ち下がり速度は、例えば、5×1010、6×1010、7×1010、8×1010、9×1010、1×1011以上であってもよい。パルス供給部5により供給されるパルスの立ち下がり速度は、例えば、5×1011、4×1011、3×1011、2×1011、1×1011以下であってもよい。
The falling speed (-dV/dt) of the pulse supplied by the
パルス供給部5により供給されるパルスの頻度(周波数)は、1~100kppsであってもよい。パルス供給部5により供給されるパルスの頻度は、例えば、1、2、3、4、5kpps以上であってもよい。パルス供給部5により供給されるパルスの頻度は、例えば、100、90、80、70、60、50、40、30、20、10、5kpps以下であってもよい。
The frequency (frequency) of pulses supplied by the
図6(a)(b)は、第1(ウェット)電極2及び第2(ドライ)電極3の構成を概略的に示す。図6(a)に示す例では、第1(ウェット)電極2の表面に改質対象の液体6を存在させるために、第1(ウェット)電極2の表面に噴霧部10から液体を噴霧する。この場合、第2(ドライ)電極3の表面にも液体が噴霧されてもよいし、第2(ドライ)電極3には液体が噴霧されなくてもよい。図6(a)の例では、第2(ドライ)電極3の表面にも液体が噴霧され、第2(ドライ)電極3の表面にも改質対象の液体6が存在する。図6(b)に示す例では、第1(ウェット)電極2の外側を多孔質体11により構成し、多孔質体11の内側に注入部12から液体を注入して、多孔質体11の表面に液体6を浸み出させる。この場合、第2(ドライ)電極3の表面には液体が存在しなくてもよい。
6(a) and 6(b) schematically show the configuration of the first (wet)
[実施例1]
図7(a)(b)は、本開示の実施例1に係る処理装置1の構成を概略的に示す。図7(a)は、1対の電極の構成を示し、図7(b)は、複数の電極を集積させた処理装置1の構成を示す。表面積が大きい方の電極(大電極)は、直径1mmのステンレスワイヤと、直径3mm、厚さ1mmの中空の多孔性セラミックス(SiC)棒とを含み、多孔性セラミックスとステンレスワイヤとの間に改質対象の液体を供給可能に構成される。表面積が小さい方の電極(小電極)は、直径1mmのステンレス棒と、直径2mm、厚さ0.5mmの中空のセラミックス(Al2O3)棒とで構成される。小電極には改質対象の液体は供給されない。大電極のステンレスワイヤの表面と小電極のステンレス棒の表面との間の距離は、5.75mmである。大電極の多孔性セラミックス棒の表面と、小電極のセラミックス棒の表面との間の距離は、4.25mmである。
[Example 1]
FIGS. 7A and 7B schematically show the configuration of the
図8は、実施例1に係る処理装置1においてパルス供給部5により供給される電圧V(1)、処理部4を流れる電流I(2)、及び電力P(3)を示す。このように、期間t1に正パルス電圧が供給され、期間t2に負パルス電圧が供給される。なお、パルス供給部5への入力電力は19Wであり、パルス周波数は1kppsである。
FIG. 8 shows the voltage V(1) supplied by the
図9は、実施例1に係る処理装置1により純水と空気の混合物を処理した結果を示す。図11(a)は、本発明の実施例1である。図11(a)において、左側の電極はウェット電極(純水供給)、右側の電極はドライ電極である。右側の電極を接地し、左側の電極に正→負のパルスを印加したところ、オゾンO3と水素H2が大量に発生した。図11(b)において、左側の電極はウェット電極(純粋供給)、右側の電極はドライ電極である。左側の電極を接地し、右側の電極に正→負のパルスを印加したところ、オゾンO3が大量に発生し、水素H2は発生しなかった。このように、正→負のパルスを印加する電極に純水が無い場合、水素H2は発生しない。図11(c)において、左側の電極はドライ電極、右側の電極もドライ電極である。右側の電極を接地し、左側の電極に正→負のパルスを印加したところ、オゾンO3が少量発生し、水素H2は発生しなかった。このように、正→負のパルスを印加する電極に純水が無い場合、水素H2は発生しない。図11(d)において、左側の電極はドライ電極、右側の電極もドライ電極である。左側の電極を接地し、右側の電極に正→負のパルスを印加したところ、オゾンO3が大量に発生し、水素H2は発生しなかった。このように、正→負のパルスを印加する電極に純水が無い場合、水素H2は発生しない。以上のように、正→負のパルスを印加する電極に純水がある場合に限って、水素H2が発生することが明らかである。
FIG. 9 shows the result of treating a mixture of pure water and air by the
[実施例2]
図10は、本開示の実施例2に係る処理装置1の構成を概略的に示す。実施例2に係る処理装置1は、平面網目状ニッケルで構成される第2(ドライ)電極3と、平面網目状ニッケルと液体を充填可能なハニカム状セラミックから構成される第1(ウェット)電極2とを備える。
[Example 2]
FIG. 10 schematically shows the configuration of a
図11は、実施例2に係る処理装置1により純水、エタノール、95%エタノールを処理した結果を示す。純水を処理した場合は、理論値と同程度の水素を発生させることができた。エタノールは、水よりも多くの水素原子を含むので、エタノールを処理した場合は、純水よりも少ない消費量で純水と同程度の水素を発生させることができた。95%エタノールを処理した場合は、純水を処理した場合、及びエタノールを処理した場合よりも高い効率で多量の水素を発生させることができた。
FIG. 11 shows the results of processing pure water, ethanol, and 95% ethanol by the
図12は、実施例2に係る処理装置1により純水を処理したときのプラズマを示す。図12は、水素の発生効率が高かった場合のプラズマを示す。均一なストリーマ放電により均一なプラズマが発生している。
FIG. 12 shows plasma when pure water is processed by the
[適用例1]
図13(a)(b)は、実施の形態に係る処理装置1を備える内燃機関50の構成を概略的に示す。図13(a)に示すように、内燃機関50は、エアクリーナー21、スロットルボディー22、インジェクター23、第1電極ホルダー24、第2電極ホルダー25、インテークパイプ26、及び内燃機関本体27を備える。
[Application example 1]
13(a) and 13(b) schematically show the configuration of an internal combustion engine 50 provided with the
エアクリーナー21は、吸入空気から塵や埃などの異物を除去する。スロットルボディー22は、インテークパイプ26内に吸入する新気の量を調整するためのスロットルバルブを保持する。インジェクター23は、エタノールを含む燃料をインテークパイプ26内に噴射する。インテークパイプ26は、新気と燃料の混合気を内燃機関本体27に導入する。第1電極ホルダー24及び第2電極ホルダー25は、インテークパイプ26の途中に設けられ、それぞれ、第1(ウェット)電極2及び第2(ドライ)電極3を保持する。
The
内燃機関50の運転時には、スロットルバルブの開度に応じた量の新気がインテークパイプ26に吸引され、インジェクター23から噴射された燃料と混合される。混合気がインテークパイプ26を通過するときに、燃料の一部が第1(ウェット)電極2の表面に付着する。上述したように、第1(ウェット)電極2又は第2(ドライ)電極3にパルス供給部からパルス電圧を印加すると、第1(ウェット)電極2の表面に付着したエタノールから水素が発生する。水素を含む混合気が内燃機関本体27内に導入されるので、混合気の燃焼効率を向上させることができる。
During operation of the internal combustion engine 50 , fresh air is sucked into the
図13(b)は、第1電極ホルダー24及び第2電極ホルダー25に保持された第1(ウェット)電極2及び第2(ドライ)電極3を、インテークパイプ26の上流側から見た図である。第1(ウェット)電極2及び第2(ドライ)電極3は、千鳥形状に配置される。これにより、混合気の流れを大きく阻害することなく、効率良く混合気を改質し、水素を発生させることができる。また、第1(ウェット)電極2の表面積を大きくすることにより、水素の発生効率を向上させることができる。本図の例では、第1(ウェット)電極2を二層構造にし、第2(ドライ)電極3を一層構造にしているが、第1(ウェット)電極2を一層構造又は三層以上の多層構造にしてもよいし、第2(ドライ)電極3を二層以上の多層構造にしてもよい。
FIG. 13(b) is a view of the first (wet)
[適用例2]
図14は、実施の形態に係る処理装置1を備える内燃機関60の構成を概略的に示す。内燃機関60は、4ストロークガソリンエンジンであり、円筒状のシリンダ62aを画成するシリンダブロック62や、シリンダブロック62の上面に接合されたシリンダヘッド63、シリンダ62a内に摺動可能に設けられたピストン64等を備えている。内燃機関60の気筒数や気筒列は任意であってよい。
[Application example 2]
FIG. 14 schematically shows the configuration of an
シリンダヘッド63の下面におけるシリンダ62aに対応する位置には、曲面状の窪みである燃焼室凹部63aが形成されている。燃焼室凹部63a、シリンダ62a及びピストン64の頂面により囲まれる空間により燃焼室65が形成される。つまり、燃焼室凹部63aが燃焼室65の頂部を画定している。
At a position corresponding to the
シリンダヘッド63の略中央には、シリンダヘッド63の上面から燃焼室65に至る点火プラグ挿入孔63bが形成されている。本適用例2では、1つのシリンダ62aに対して1つの点火プラグ挿入孔63bが形成されている。点火プラグ挿入孔63bは、燃焼室凹部63aの中央に開口するようにシリンダ軸線上に形成されている。シリンダヘッド63の点火プラグ挿入孔63bには筒状のプラグガイド66が圧入されており、プラグガイド66によって点火プラグ挿入孔63bが上方に延長されている。
A spark
また、シリンダヘッド63には、左側面に開口すると共に燃焼室凹部63aに開口する吸気ポート63cと、燃焼室凹部63aに開口すると共に右側面に開口する排気ポート63dとが形成されている。本適用例2では、1つのシリンダ62aに対して2つの吸気ポート63cと2つの排気ポート63dとが形成されている。シリンダヘッド63には、各吸気ポート63cを開閉する吸気弁67及び各排気ポート63dを開閉する排気弁68が摺動可能に設けられている。
The
内燃機関60には、吸気ポート63cから燃焼室65に吸入される混合ガスに点火を行う点火装置70が設けられている。点火装置70は、点火プラグ挿入孔63bに挿入され、先端を燃焼室65に吐出或いは突出させるようにシリンダヘッド63に取り付けられた点火プラグ71と、パルス供給部5から点火プラグ71に印加される電圧を制御する図示しない制御装置とを備えている。点火プラグ71は、点火プラグ挿入孔63bの下部に形成された雌ねじに螺着される。
The
点火プラグ71は、プラグキャップ75により基端部を保持されており、点火プラグ挿入孔63bの下部に形成された雌ねじに螺着される。点火プラグ71の基端(上端)にはターミナル部76が形成されている。プラグキャップ75の内部に収容されたコイルスプリングからなる高電圧導電部材77がターミナル部76に弾接することにより、ターミナル部76がパルス供給部5と電気的に接続される。
The ignition plug 71 is held at its proximal end by a
点火プラグ71は、先端(下端)に第1(ウェット)電極2及び第2(ドライ)電極3を有している。点火プラグ71の中心軸線上に配置された第1(ウェット)電極2は、ターミナル部76を介してパルス供給部5と電気的に接続され、高電圧を印加される中心電極である。点火プラグ71の外周部から延出し、中心電極に対向するように屈曲する第2(ドライ)電極3は、シリンダヘッド63と電気的に接続された接地電極である。第1(ウェット)電極2と第2(ドライ)電極3の間には、絶縁性セラミック8が設けられる。
The
このように構成された点火装置70において、制御装置が点火プラグ71の印加電圧や印加電圧のパルス幅等を制御することにより、第1(ウェット)電極2と第2(ドライ)電極3との間でストリーマ放電を生じさせ、吸気ポート63cから燃焼室65に吸入されるエタノールを含む燃料と新気の混合気への点火を行う。このとき、上述したように、パルス供給部5から第1(ウェット)電極2にパルス電圧を印加することにより、第1(ウェット)電極2の表面に付着したエタノールから水素が発生する。これにより、混合気の燃焼効率を向上させることができる。
In the
以上、本開示を実施例をもとに説明した。この実施例は例示であり、それらの各構成要素や各処理プロセスの組合せにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本開示の範囲にあることは当業者に理解されるところである。 The present disclosure has been described above based on the embodiments. It should be understood by those skilled in the art that this embodiment is an example, and that various modifications can be made to combinations of each component and each treatment process, and such modifications are within the scope of the present disclosure. .
1 処理装置、2 第1(ウェット)電極、3 第2(ドライ)電極、4 処理部、5 パルス供給部、6 液体、7 気体、10 噴霧部、11 多孔質体、12 注入部、50 内燃機関、60 内燃機関、70 点火装置。
REFERENCE SIGNS
Claims (2)
第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極の間にパルス電圧を印加するパルス供給部と、
を備え、
前記第1電極の表面にエタノール、又は水とエタノールの混合物が存在し、
前記エタノール、又は水とエタノールの混合物と前記第2電極との間は気体で隔てられており、
前記パルス供給部は、正と負のパルスを連続して供給可能であり、
前記エタノール、又は水とエタノールの混合物を前記第1電極の表面に噴霧する噴霧部を備え、
前記エタノール、又は水とエタノールの混合物から水素を発生する
処理装置。 a first electrode;
a second electrode;
a pulse supply unit that applies a pulse voltage between the first electrode and the second electrode;
with
ethanol or a mixture of water and ethanol is present on the surface of the first electrode;
a gas separates the ethanol or the mixture of water and ethanol from the second electrode;
The pulse supply unit can continuously supply positive and negative pulses,
A spraying unit that sprays the ethanol or a mixture of water and ethanol onto the surface of the first electrode,
A processing device for generating hydrogen from the ethanol or a mixture of water and ethanol.
前記第1電極と前記第2電極の間に正パルス電圧を印加することにより、前記エタノール、又は水とエタノールの混合物に含まれる物質を活性化させるステップと、
前記第1電極と前記第2電極の間に負パルス電圧を印加することにより、前記エタノール、又は水とエタノールの混合物中で活性化された物質を前記第1電極の表面に戻すステップと、
を備えるエタノール、又は水とエタノールの混合物の処理方法。 presenting ethanol or a mixture of water and ethanol on the surface of the first electrode;
activating substances contained in the ethanol or a mixture of water and ethanol by applying a positive pulse voltage between the first electrode and the second electrode;
applying a negative pulse voltage between the first electrode and the second electrode to return material activated in the ethanol or mixture of water and ethanol to the surface of the first electrode;
A method for treating ethanol, or a mixture of water and ethanol, comprising:
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