JP2022142730A - Photosensitive composition and use of the same - Google Patents

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Abstract

To achieve stable supply of a low-resistant electronic component having a dense and thick conductive layer.SOLUTION: A photosensitive composition disclosed herein contains an inorganic component, an organic component and an organic-based dispersion medium. The inorganic component contains conductive powder, and the organic component contains an organic binder and a photocurable resin. A content of the conductive powder in the photosensitive composition disclosed herein is 74 mass% or more, and a content of the organic component is 7 mass% or more and 10 mass% or less. A weight average molecular weight Mw of th organic component is 10,000 or more and 32,000 or less, and the photocurable resin contains an urethane (meth)acrylate polymer having a weight average molecular weight of 6,000 or more and an urethane (meth)acrylate oligomer having a weight average molecular weight of less than 6,000. The photosensitive composition can dissolve the adverse effect by containing conductive powder having high concentration, and accordingly a low-resistant electronic component having a dense and thick conductive layer can be stably manufactured.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、感光性組成物とその利用に関する。 The present invention relates to a photosensitive composition and its use.

従来、導電性粉末と光硬化性樹脂を含有する感光性組成物を用いて、電子部品の導電層を形成する手法が知られている(特許文献1~3参照)。かかる手法の一例として、フォトリソグラフィ法が挙げられる。このフォトリソグラフィ法では、まず、感光性組成物を基材上に塗布(印刷)した後に、当該組成物を乾燥させて膜状体を成形する(成形工程)。次に、所定パターンの開口部を有するフォトマスクを膜状体に被せ、開口部から露出した膜状体の一部に光を照射する(露光工程)。これによって、膜状体の露光部分が光硬化して硬化膜が形成される。次に、フォトマスクで遮光されていた未露光部分(未硬化の膜状体)を現像液で除去する(現像工程)。これによって、所望のパターンの硬化膜が基材上に残留する。そして、この硬化膜を基材と共に焼成する(焼成工程)。これによって、光硬化性樹脂などの有機成分が焼失すると共に導電性粉末が焼結し、導電層が形成される。かかる手法によれば、精密なパターンの導電層が基材上に形成された電子部品を製造できる。 Conventionally, a method of forming a conductive layer of an electronic component using a photosensitive composition containing a conductive powder and a photocurable resin is known (see Patent Documents 1 to 3). An example of such a technique is photolithography. In this photolithography method, first, a photosensitive composition is applied (printed) onto a substrate, and then the composition is dried to form a film (forming step). Next, the filmy body is covered with a photomask having openings of a predetermined pattern, and light is irradiated to a part of the filmy body exposed from the openings (exposure step). As a result, the exposed portion of the film is photocured to form a cured film. Next, the unexposed portion (uncured film-like body) shielded by the photomask is removed with a developer (development step). This leaves a cured film in the desired pattern on the substrate. Then, this cured film is baked together with the substrate (baking step). As a result, the organic components such as the photocurable resin are burned off and the conductive powder is sintered to form a conductive layer. According to such a method, an electronic component can be manufactured in which a conductive layer having a precise pattern is formed on a base material.

特開2000-199954号公報JP-A-2000-199954 特開2019-168575号公報JP 2019-168575 A 特許第6662491号Patent No. 6662491

ところで、近年では、電子機器の更なる小型化や高性能化を実現するために、電子部品の性能に対する要求が高まっている。例えば、近年では、低抵抗の電子部品を実現するために、緻密かつ厚膜な導電層を形成するための技術が求められている。このような導電層を形成するための手法の一例として、感光性組成物中の導電性粉末の濃度を増加させるという手法が考えられる。しかしながら、本発明者らの検討によれば、高濃度の導電性粉末を含む感光性組成物は、導電性粉末の遮光性による光透過性の低下が大きくなるため、フォトリソグラフィ法の露光工程で充分に光硬化しない可能性がある。この場合、現像工程において膜状体の露光部分が除去されてしまうアンダーカットが生じる可能性がある。さらには、高濃度の導電性粉末を含むゆえの感光性組成物の粘度上昇による印刷不良が発生し得る。このため、所望のパターンの導電層が正確に形成された電子部品の安定供給が困難になる。 By the way, in recent years, in order to realize further miniaturization and higher performance of electronic devices, there is an increasing demand for the performance of electronic components. For example, in recent years, in order to realize low-resistance electronic components, there is a demand for a technique for forming a dense and thick conductive layer. An example of a method for forming such a conductive layer is to increase the concentration of the conductive powder in the photosensitive composition. However, according to the study of the present inventors, a photosensitive composition containing a high concentration of conductive powder has a large decrease in light transmittance due to the light shielding property of the conductive powder. May not be fully photocured. In this case, an undercut may occur in which the exposed portion of the film is removed in the developing process. Furthermore, printing defects may occur due to an increase in the viscosity of the photosensitive composition due to the high concentration of the conductive powder contained therein. For this reason, it becomes difficult to stably supply electronic components in which a conductive layer having a desired pattern is accurately formed.

本発明は、かかる課題を解決するためになされたものであり、その目的は、緻密かつ厚膜な導電層が正確に形成された低抵抗の電子部品の安定供給を実現する技術を提供することである。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such problems, and an object thereof is to provide a technique for realizing a stable supply of low-resistance electronic components in which dense and thick conductive layers are accurately formed. is.

上記目的を実現するべく、ここに開示される技術によって、下記構成の感光性組成物が提供される。 In order to achieve the above object, the technology disclosed herein provides a photosensitive composition having the following constitution.

ここに開示される感光性組成物は、無機成分と有機成分と有機系分散媒とを含み、導電層の形成に用いられる。かかる感光性組成物の無機成分は、導電性粉末を含み、有機成分は、有機バインダと、光硬化性樹脂と、を含み、有機系分散媒は、グリコールエーテル系溶剤とアルコール系溶剤との混合溶媒を含む。そして、ここに開示される感光性組成物では、感光性組成物の総重量を100質量%としたときの導電性粉末の含有量が74質量%以上であり、かつ、有機成分の含有量が7質量%以上10質量%以下である。また、有機成分の重量平均分子量Mwが10000以上32000以下であり、光硬化性樹脂は、(メタ)アクリロイル基とウレタン結合を有し、重量平均分子量が6000以上であるウレタン(メタ)アクリレートポリマーと、(メタ)アクリロイル基とウレタン結合を有し、重量平均分子量が6000未満であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーと、を含有する。 The photosensitive composition disclosed herein contains an inorganic component, an organic component, and an organic dispersion medium, and is used to form a conductive layer. The inorganic component of the photosensitive composition contains a conductive powder, the organic component contains an organic binder and a photocurable resin, and the organic dispersion medium is a mixture of a glycol ether solvent and an alcohol solvent. Contains solvent. In the photosensitive composition disclosed herein, the content of the conductive powder is 74% by mass or more when the total weight of the photosensitive composition is 100% by mass, and the content of the organic component is It is 7 mass % or more and 10 mass % or less. Further, the weight average molecular weight Mw of the organic component is 10000 or more and 32000 or less, and the photocurable resin is a urethane (meth)acrylate polymer having a (meth)acryloyl group and a urethane bond and having a weight average molecular weight of 6000 or more. , and a urethane (meth)acrylate oligomer having a (meth)acryloyl group and a urethane bond and having a weight average molecular weight of less than 6,000.

なお、上記構成における「有機成分の平均重量分子量Mw」は、感光性組成物に含まれる有機成分の平均重量分子量である。詳しくは後述するが、ここに開示される感光性組成物の有機成分は、有機バインダや光硬化性樹脂以外の有機成分(但し、室温において液体のものは除く)を含み得る。すなわち、上記「有機成分の平均重量分子量Mw」は、これらの有機成分の総量(重量)に対する各有機成分の分子量の合計値の割合を示すものである。一例として、n種類の有機成分を含む感光性組成物における「有機成分の平均重量分子量Mw」は、以下の式(1)によって算出される。なお、式(1)中の「M~M」は、第1の有機成分~第nの有機成分の各々の重量平均分子量を示す。また、「W~W」は、第1の有機成分~第nの有機成分の各々に対応した重量を示す。なお、各成分の「重量平均分子量」は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC:Gel Permeation Chromatography)によって測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて換算した重量基準の平均分子量である。 The "average weight molecular weight Mw of the organic component" in the above configuration is the average weight molecular weight of the organic component contained in the photosensitive composition. Although details will be described later, the organic component of the photosensitive composition disclosed herein may contain an organic component other than an organic binder and a photocurable resin (excluding those that are liquid at room temperature). That is, the "average weight molecular weight Mw of the organic components" indicates the ratio of the total value of the molecular weights of the respective organic components to the total amount (weight) of these organic components. As an example, the “average weight molecular weight Mw of organic components” in a photosensitive composition containing n types of organic components is calculated by the following formula (1). “M 1 to M n ” in formula (1) indicate the weight average molecular weights of the first to n-th organic components. “W 1 to W n ” indicate the weight corresponding to each of the first organic component to the n-th organic component. The "weight average molecular weight" of each component is the weight-based average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC) and converted using a standard polystyrene calibration curve.

Figure 2022142730000001
Figure 2022142730000001

まず、上記構成の感光性組成物には、緻密かつ厚膜な導電層を形成するために、74質量%以上という高濃度の導電性粉末が含まれている。上記した通り、かかる高濃度の導電性粉末を含む感光性組成物は、光透過性が非常に低いため、所望のパターンの導電層を正確に形成することが困難である。これに対して、ここに開示される感光性組成物は、高い光硬化性を発揮するウレタン(メタ)アクリレート系樹脂を用いている。さらに、かかるウレタン(メタ)アクリレート樹脂について、ウレタン(メタ)アクリレートポリマーと、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとの混合物を使用し、反応点の多いネットワーク状の架橋構造が光硬化後に構築されるようにしている。これによって、74質量%以上という高濃度の導電性粉末を含んでいるにもかかわらず、硬化不良によるアンダーカットを防止できるため、所望のパターンの導電層が正確に形成できる。一方で、ウレタン(メタ)アクリレートポリマーとウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとを混合した光硬化性樹脂では、高濃度の導電性粉末を含むことによる粘度上昇を抑制できず、印刷不良を改善することが困難であった。そこで、さらに検討を重ねた結果、上記構成の感光性組成物において有機成分の平均重量分子量Mwを32000以下に低下させることを見出した。これによって、感光性組成物の粘度の増大を抑制し、印刷不良の発生を防止できる。以上の通り、ここに開示される感光性組成物によると、高濃度の導電性粉末を含んでいるにも関わらず、印刷性と光硬化性を高いレベルで両立させることができるため、緻密かつ厚膜な導電層が正確に形成された低抵抗の電子部品の安定供給を実現することができる。 First, the photosensitive composition having the above structure contains conductive powder at a high concentration of 74% by mass or more in order to form a dense and thick conductive layer. As described above, a photosensitive composition containing such a high-concentration conductive powder has very low light transmittance, making it difficult to accurately form a conductive layer with a desired pattern. In contrast, the photosensitive composition disclosed herein uses a urethane (meth)acrylate resin that exhibits high photocurability. Furthermore, for such urethane (meth)acrylate resin, a mixture of urethane (meth)acrylate polymer and urethane (meth)acrylate oligomer is used so that a network-like crosslinked structure with many reaction points is constructed after photocuring. ing. As a result, undercuts due to poor curing can be prevented even though the conductive powder is contained at a high concentration of 74% by mass or more, so that a conductive layer having a desired pattern can be accurately formed. On the other hand, a photocurable resin that is a mixture of a urethane (meth)acrylate polymer and a urethane (meth)acrylate oligomer cannot suppress the increase in viscosity due to the inclusion of a high concentration of conductive powder, and it is possible to improve printing defects. It was difficult. Therefore, as a result of further studies, it was found that the average weight molecular weight Mw of the organic component in the photosensitive composition having the above-mentioned structure can be reduced to 32000 or less. As a result, an increase in the viscosity of the photosensitive composition can be suppressed, and the occurrence of printing defects can be prevented. As described above, according to the photosensitive composition disclosed herein, although it contains a high concentration of conductive powder, it is possible to achieve both printability and photocurability at a high level. It is possible to realize a stable supply of low-resistance electronic components in which a thick conductive layer is accurately formed.

ここで開示される感光性組成物の好ましい一態様では、上記導電性粉末が、銀系粒子を含む。これによって、コストと電気抵抗とのバランスに優れた導電層を形成できる。 In a preferred embodiment of the photosensitive composition disclosed herein, the conductive powder contains silver-based particles. This makes it possible to form a conductive layer with an excellent balance between cost and electrical resistance.

ここで開示される感光性組成物の好ましい一態様では、感光性組成物の総重量を100質量%としたとき、導電性粉末の含有量が79質量%以上である。これによって、さらに低抵抗の電子部品を得ることができる。なお、ここに開示される技術によると、79質量%以上の導電性粉末を含有する感光性組成物を用いた場合でも、印刷性と光硬化性を高いレベルで両立できる。 In a preferred embodiment of the photosensitive composition disclosed herein, the content of the conductive powder is 79% by mass or more when the total weight of the photosensitive composition is 100% by mass. This makes it possible to obtain an electronic component with even lower resistance. According to the technology disclosed herein, even when a photosensitive composition containing 79% by mass or more of conductive powder is used, both printability and photocurability can be achieved at a high level.

ここで開示される感光性組成物の好ましい一態様では、有機成分の重量平均分子量Mwが25000以下である。これによって、感光性組成物の粘度増大を好適に抑制し、印刷不良をより好適に防止できる。 In one preferred embodiment of the photosensitive composition disclosed herein, the organic component has a weight average molecular weight Mw of 25,000 or less. By this, the increase in the viscosity of the photosensitive composition can be suitably suppressed, and printing defects can be more suitably prevented.

ここで開示される感光性組成物の好ましい一態様では、有機バインダは、セルロース系化合物を含む。これによって、膜状体(感光性組成物)の基材表面への定着性を向上できる。 In one preferred embodiment of the photosensitive composition disclosed herein, the organic binder contains a cellulosic compound. This can improve the fixability of the film-like body (photosensitive composition) to the substrate surface.

ここで開示される感光性組成物の好ましい一態様では、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの平均重量分子量Mwが500以上5000以下である。これによって、光硬化性と印刷性を更に高いレベルで両立できる。 In a preferred embodiment of the photosensitive composition disclosed here, the average weight molecular weight Mw of the urethane (meth)acrylate oligomer is 500 or more and 5000 or less. This makes it possible to achieve both photocurability and printability at a higher level.

ここで開示される感光性組成物の好ましい一態様では、有機バインダの平均重量分子量が20000以上60000以下である。これによって、膜状体の基材表面への定着性と印刷性を高いレベルで両立できる。 In a preferred embodiment of the photosensitive composition disclosed here, the average weight molecular weight of the organic binder is 20,000 or more and 60,000 or less. As a result, both fixability and printability of the film on the substrate surface can be achieved at a high level.

ここで開示される感光性組成物の好ましい一態様では、有機成分は、光重合開始剤をさらに含む。これによって、光硬化性樹脂の光硬化性が好適に発揮される。 In one preferred embodiment of the photosensitive composition disclosed herein, the organic component further comprises a photoinitiator. As a result, the photocurability of the photocurable resin is favorably exhibited.

また、ここに開示される技術の他の側面として、感光性組成物を製造する方法が提供される。ここに開示される製造方法は、導電性粉末を含む無機成分を計量する無機成分計量工程と、有機バインダと光硬化性樹脂を含む有機成分を計量する有機成分計量工程と、無機成分と、有機成分と、グリコールエーテル系溶剤とアルコール系溶剤との混合溶媒を含む有機系分散媒とを混合する混合工程とを備えている。そして、ここに開示される製造方法では、無機成分計量工程において、感光性組成物の総重量を100質量%としたときの導電性粉末の含有量が74質量%以上となるように導電性粉末を計量し、有機成分計量工程において感光性組成物の総重量を100質量%としたときの有機成分の含有量が7質量%以上10質量%以下となり、かつ、有機成分の重量平均分子量Mwが10000以上32000以下となるように有機成分を計量する。また、この有機成分計量工程では、光硬化性樹脂として、(メタ)アクリロイル基とウレタン結合を有し、重量平均分子量Mwが6000以上であるウレタン(メタ)アクリレートポリマーと、(メタ)アクリロイル基とウレタン結合を有し、重量平均分子量Mwが6000未満であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する光硬化性樹脂を使用する。 Also, as another aspect of the technology disclosed herein, a method for producing a photosensitive composition is provided. The manufacturing method disclosed herein comprises an inorganic component weighing step of weighing an inorganic component containing a conductive powder, an organic component weighing step of weighing an organic component containing an organic binder and a photocurable resin, an inorganic component and an organic A mixing step of mixing the components with an organic dispersion medium containing a mixed solvent of a glycol ether solvent and an alcohol solvent. In the manufacturing method disclosed herein, in the inorganic component weighing step, the conductive powder is added so that the content of the conductive powder is 74% by mass or more when the total weight of the photosensitive composition is 100% by mass. is weighed, and in the organic component weighing step, the content of the organic component is 7% by mass or more and 10% by mass or less when the total weight of the photosensitive composition is 100% by mass, and the weight average molecular weight Mw of the organic component is The organic component is weighed so as to be between 10,000 and 32,000. Further, in this organic component weighing step, a urethane (meth)acrylate polymer having a (meth)acryloyl group and a urethane bond and having a weight-average molecular weight Mw of 6000 or more and a (meth)acryloyl group are used as photocurable resins. A photocurable resin containing a urethane (meth)acrylate oligomer having a urethane bond and a weight average molecular weight Mw of less than 6,000 is used.

上記構成の製造方法によると、高濃度(74質量%以上)の導電性粉末を含む感光性組成物が製造される。かかる感光性組成物は、ウレタン(メタ)アクリレートポリマーとウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する光硬化性樹脂を使用しているため、高濃度の導電性粉末を含んでいるにもかかわらず、高い光硬化性を発揮して所望のパターンの導電層が正確に形成できる。さらに、上記構成の感光性組成物において有機成分の重量平均分子量Mwが32000以下に低下されているため、感光性組成物の粘度上昇を抑制し、高い印刷性を維持できる。このため、上記構成の製造方法によると、低抵抗の電子部品の安定供給を実現する感光性組成物を製造できる。 According to the manufacturing method having the above configuration, a photosensitive composition containing a high concentration (74% by mass or more) of conductive powder is manufactured. Such a photosensitive composition uses a photocurable resin containing a urethane (meth)acrylate polymer and a urethane (meth)acrylate oligomer. A conductive layer having a desired pattern can be accurately formed by exhibiting photocurability. Furthermore, since the weight-average molecular weight Mw of the organic component in the photosensitive composition having the above structure is reduced to 32000 or less, the increase in viscosity of the photosensitive composition can be suppressed and high printability can be maintained. Therefore, according to the manufacturing method having the above configuration, it is possible to manufacture a photosensitive composition that realizes a stable supply of low-resistance electronic components.

また、ここに開示される技術によると、グリーンシートと、グリーンシート上に配置され、上記感光性組成物を光硬化させた硬化膜と、を備える、複合体が提供される。また、ここに開示される技術によると、上記感光性組成物の焼成体からなる導電層を備える電子部品が提供される。上記感光性組成物によれば、緻密かつ厚膜の導電層を安定的に形成できるため、低抵抗の導電層の安定供給を実現できる。 Further, according to the technology disclosed herein, a composite is provided that includes a green sheet and a cured film that is disposed on the green sheet and that is obtained by photocuring the photosensitive composition. Further, according to the technology disclosed herein, there is provided an electronic component having a conductive layer made of the fired body of the photosensitive composition. According to the above photosensitive composition, a dense and thick conductive layer can be stably formed, so that a stable supply of a low-resistance conductive layer can be achieved.

また、ここに開示される技術の他の側面として電子部品の製造方法が提供される。かかる電子部品の製造方法は、上記感光性組成物を基材上に付与して、露光、現像した後、焼成して、上記感光性組成物の焼成体からなる導電層を形成する工程を含む。これによって、緻密かつ厚膜の導電層を有した電子部品を安定的に製造できる。 Also, as another aspect of the technology disclosed herein, a method for manufacturing an electronic component is provided. Such a method for producing an electronic component includes a step of applying the photosensitive composition onto a substrate, exposing, developing, and then baking to form a conductive layer composed of a baked body of the photosensitive composition. . This makes it possible to stably manufacture an electronic component having a dense and thick conductive layer.

一実施形態に係る積層チップインダクタの構造を模式的に示す断面図である。1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a multilayer chip inductor according to one embodiment; FIG. 試験例における印刷性評価の評価基準を説明する光学顕微鏡画像である。It is an optical microscope image explaining the evaluation criteria of printability evaluation in a test example. 試験例における印刷性評価の評価基準を説明する光学顕微鏡画像である。It is an optical microscope image explaining the evaluation criteria of printability evaluation in a test example.

以下、ここに開示される技術の好適な実施形態を説明する。なお、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって、ここに開示される技術の実施に必要な事柄は、本明細書により教示されている技術内容と、当該分野における当業者の一般的な技術常識とに基づいて理解することができる。ここに開示される技術は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施できる。また、本明細書において範囲を示す「A~B」(A,Bは任意の数字)の表記は、A以上B以下の意と共に、「好ましくはAより大きい」および「好ましくはBより小さい」の意を包含するものとする。 Preferred embodiments of the technology disclosed herein are described below. Matters other than those specifically mentioned in this specification, which are necessary for the implementation of the technology disclosed herein, are based on the technical content taught by this specification and those skilled in the art. can be understood based on general technical common sense. The technology disclosed herein can be implemented based on the content disclosed in this specification and common general technical knowledge in the field. In addition, the notation of "A to B" (A and B are arbitrary numbers) indicating the range in this specification means "preferably larger than A" and "preferably smaller than B" along with the meaning of A or more and B or less. shall include the meaning of

なお、本明細書では、有機成分の沸点以下の温度(具体的には、概ね200℃以下、例えば100℃以下)で乾燥させた感光性組成物を「膜状体」という。さらに、当該膜状体を露光させて光硬化させたものを「硬化膜」という。そして、導電性粉末の焼結温度以上の温度で「硬化膜」を焼成した焼結体を「導電層」という。なお、導電層の形状は、特に限定されず、線状や層状などを包含する。また、本明細書における「ペースト」とは、インクやスラリーを包含する用語である。 In this specification, the photosensitive composition dried at a temperature below the boiling point of the organic component (specifically, approximately 200° C. or below, for example, 100° C. or below) is referred to as a “film-like body”. Further, a film obtained by exposing and photocuring the filmy body is referred to as a “cured film”. A sintered body obtained by firing the "cured film" at a temperature equal to or higher than the sintering temperature of the conductive powder is called a "conductive layer". The shape of the conductive layer is not particularly limited, and may be linear or layered. Also, the term "paste" used herein is a term that includes ink and slurry.

≪感光性組成物≫
まず、ここに開示される感光性組成物の組成について説明する。ここに開示される感光性組成物は、電子部品の製造(導電層の形成)に使用されるペースト状の組成物である。かかる感光性組成物は、(A)無機成分と、(B)有機成分と、(C)有機系分散媒とを含む。以下、各成分について説明する。
<<Photosensitive composition>>
First, the composition of the photosensitive composition disclosed herein will be described. The photosensitive composition disclosed herein is a paste-like composition used for manufacturing electronic parts (forming a conductive layer). Such photosensitive compositions comprise (A) an inorganic component, (B) an organic component, and (C) an organic dispersion medium. Each component will be described below.

(A)無機成分
無機成分は、焼成処理の際に焼失せずに残存し、導電層の主成分となる材料である。この無機成分は、少なくとも(A-1)導電性粉末を含む。以下、ここに開示される感光性組成物に含まれ得る無機成分について説明する。
(A) Inorganic Component The inorganic component is a material that remains without being burned off during the firing treatment and becomes the main component of the conductive layer. This inorganic component contains at least (A-1) a conductive powder. Inorganic components that may be included in the photosensitive composition disclosed herein are described below.

(A-1)導電性粉末
導電性粉末は、焼成後の導電層に電気伝導性を付与する無機成分である。導電性粉末の種類は、特に限定されず、従来公知の金属材料の中から用途等に応じて1種を単独でまたは2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。この導電性粉末の好適例として、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、タングステン(W)、イリジウム(Ir)、オスミウム(Os)等の金属の単体、およびこれらの混合物や合金等が挙げられる。なお、これらの好適例の中でも銀系粒子がより好適である。「銀系粒子」とは、銀(Ag)元素を含む粒子状の材料全般を包含するものである。かかる銀系粒子の一例として、銀の単体、銀合金、銀成分を含むコアシェル粒子等が挙げられる。銀合金としては、例えば、銀-パラジウム(Ag-Pd)、銀-白金(Ag-Pt)、銀-銅(Ag-Cu)等が挙げられる。また、コアシェル粒子としては、銀元素を含むコア粒子と、当該コア粒子を被覆するセラミック製のシェルとを備えた銀-セラミックのコアシェル粒子などが挙げられる。これらの銀系粒子は、コストが比較的に安く、かつ電気伝導度が高いため、コストと低抵抗とのバランスに優れた電子部品を製造できる。
(A-1) Conductive Powder The conductive powder is an inorganic component that imparts electrical conductivity to the conductive layer after firing. The type of the conductive powder is not particularly limited, and one of conventionally known metal materials can be used alone or two or more of them can be used in appropriate combination according to the application. Preferred examples of this conductive powder include gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), platinum (Pt), palladium (Pd), aluminum (Al), nickel (Ni), ruthenium (Ru), rhodium (Rh), tungsten (W), iridium (Ir), osmium (Os), and the like, as well as mixtures and alloys thereof. Among these preferred examples, silver-based particles are more preferred. The term “silver-based particles” encompasses all particulate materials containing elemental silver (Ag). Examples of such silver-based particles include simple silver particles, silver alloys, core-shell particles containing a silver component, and the like. Examples of silver alloys include silver-palladium (Ag-Pd), silver-platinum (Ag-Pt), silver-copper (Ag-Cu), and the like. Examples of the core-shell particles include silver-ceramic core-shell particles having a core particle containing elemental silver and a ceramic shell covering the core particle. Since these silver-based particles are relatively inexpensive and have high electrical conductivity, electronic components can be manufactured with an excellent balance between cost and low resistance.

特に限定されるものではないが、導電性粉末のD50粒径は、0.1μm以上が好ましく、0.5μm以上がより好ましく、1μm以上が特に好ましい。これによって、ペースト中での導電性粉末の凝集を抑制し、基材への印刷性を向上できる。一方、導電性粉末のD50粒径の上限値は、5μm以下が好ましく、4.5μm以下がより好ましく、4μm以下が特に好ましい。これによって、焼成後の導電層がさらに緻密化するため、さらに低抵抗の電子部品を製造できる。また、上述のような粒径の小さな導電性粉末を使用すると、基材表面への印刷、露光および現像後の各々における配線パターンの解像度を向上させ、より精密なパターンの形成にも貢献できる。なお、本明細書における「D50粒径」は、レーザ回折・散乱法に基づく体積基準の粒度分布において、粒径の小さい側から積算値50%に相当する粒径である。 Although not particularly limited, the D50 particle size of the conductive powder is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.5 μm or more, and particularly preferably 1 μm or more. As a result, aggregation of the conductive powder in the paste can be suppressed, and printability onto the substrate can be improved. On the other hand, the upper limit of the D50 particle size of the conductive powder is preferably 5 μm or less, more preferably 4.5 μm or less, and particularly preferably 4 μm or less. As a result, the conductive layer after sintering becomes even more dense, so that an electronic component with even lower resistance can be manufactured. In addition, the use of the conductive powder having a small particle size as described above can improve the resolution of the wiring pattern after printing, exposure and development on the surface of the base material, contributing to the formation of more precise patterns. The " D50 particle size" in this specification is a particle size corresponding to an integrated value of 50% from the smaller particle size side in the volume-based particle size distribution based on the laser diffraction/scattering method.

また、特に限定されるものではないが、導電性粉末の全体は、JIS Z 8781:2013年に基づくL表色系において、明度Lが50以上であるとよい。これによって、未硬化の膜状体の深部まで安定して照射光が透過しやすくなる。このため、膜厚が厚い導電層(膜厚:5μm以上、さらには10μm以上)の安定的な形成に貢献することができる。上記観点からは、導電性粉末の明度Lが、概ね55以上、例えば60以上であってもよい。明度L*は、例えば上記した導電性粉末の種類やD50粒径によって調整することができる。なお、明度Lの測定は、例えばJIS Z 8722:2009年に準拠する分光測色計で行うことができる。 Although not particularly limited, the entire conductive powder preferably has a lightness L * of 50 or more in the L * a * b * color system based on JIS Z 8781:2013. This makes it easier for the irradiation light to stably penetrate deep into the uncured film-like body. Therefore, it can contribute to stable formation of a thick conductive layer (thickness: 5 μm or more, further 10 μm or more). From the above viewpoint, the lightness L * of the conductive powder may be approximately 55 or more, for example 60 or more. The lightness L* can be adjusted, for example, by the type of the conductive powder and the D50 particle size described above. The lightness L * can be measured with a spectrophotometer that complies with JIS Z 8722:2009, for example.

そして、ここに開示される感光性組成物は、高濃度の導電性粉末を含有することを特徴としている。具体的には、ここに開示される感光性組成物は、当該感光性組成物の総重量を100質量%としたときに導電性粉末を74質量%以上含有している。これによって、緻密かつ厚膜な導電層の形成が可能になり、低抵抗の電子部品を製造できる。また、電子部品の抵抗をさらに低減するという観点から、導電性粉末の含有量は、78質量%以上が好ましく、79質量%以上がより好ましく、80質量%以上がさらに好ましく、81質量%以上が特に好ましい。なお、一般的な感光性組成物では、このように導電性粉末の含有量を増加させるにつれて、印刷性や光透過性が低下するため、電子部品の安定供給が困難になるという傾向がある。しかしながら、ここに開示される感光性組成物によると、導電性粉末の含有量を増加させた場合であっても、充分な印刷性を確保し、適切な光硬化性を発揮できるため、電子部品を安定的に製造できる。一方、ここに開示される技術では、導電性粉末の含有量の上限が特に限定されない。例えば、導電性粉末の含有量は、95質量%以下であってもよく、90質量%以下であってもよく、85質量%以下であってもよい。 The photosensitive composition disclosed herein is characterized by containing a high concentration of conductive powder. Specifically, the photosensitive composition disclosed herein contains 74% by mass or more of the conductive powder when the total weight of the photosensitive composition is 100% by mass. As a result, a dense and thick conductive layer can be formed, and low-resistance electronic components can be manufactured. In addition, from the viewpoint of further reducing the resistance of the electronic component, the content of the conductive powder is preferably 78% by mass or more, more preferably 79% by mass or more, further preferably 80% by mass or more, and 81% by mass or more. Especially preferred. In addition, in general photosensitive compositions, as the content of the conductive powder is increased in this way, the printability and light transmittance decrease, so there is a tendency that stable supply of electronic parts tends to become difficult. However, according to the photosensitive composition disclosed herein, even when the content of the conductive powder is increased, sufficient printability can be ensured and appropriate photocurability can be exhibited. can be stably manufactured. On the other hand, the technique disclosed herein does not particularly limit the upper limit of the content of the conductive powder. For example, the content of the conductive powder may be 95% by mass or less, 90% by mass or less, or 85% by mass or less.

(A-2)無機添加剤
ここに開示される感光性組成物の無機成分は、導電性粉末のみで構成されていてもよいし、導電性粉末以外の無機添加剤を含んでいてもよい。かかる導電性粉末以外の無機添加剤は、ここに開示される技術の効果を著しく損なわない限りにおいて、導電層形成用の感光性組成物に含まれ得るものを特に制限なく使用できる。かかる無機添加剤の一例としては、誘電体粉末、焼結助剤、無機フィラー等のセラミック粉末などが挙げられる。
(A-2) Inorganic Additive The inorganic component of the photosensitive composition disclosed herein may be composed of only the conductive powder, or may contain inorganic additives other than the conductive powder. Inorganic additives other than such conductive powders that can be contained in a photosensitive composition for forming a conductive layer can be used without particular limitation as long as they do not significantly impair the effects of the technology disclosed herein. Examples of such inorganic additives include dielectric powders, sintering aids, and ceramic powders such as inorganic fillers.

(B)有機成分
有機成分は、焼成前の膜状体(硬化膜)の形状維持のために添加される成分であり、焼成工程(例えば、酸化雰囲気中において概ね250℃以上、例えば500℃以上の温度での加熱処理)において焼失する。換言すると、「有機成分」は、上記無機成分の焼結温度よりも低い温度で焼失(気化)し、後述する有機系分散媒に溶解する有機化合物である。ここに開示される感光性組成物の有機成分は、少なくとも、(B-1)有機バインダと、(B-2)光硬化性樹脂とを含む。なお、有機成分の含有量(上記固形の有機化合物の総量)は、感光性組成物の粘度に影響し得る。このため、粘度上昇による印刷不良を抑制するという観点から、感光性組成物の総量(100質量%)に対する有機成分の含有量は、7質量%以上10質量%以下(好適には8質量%以上10質量%以下、例えば9質量%)に設定される。
(B) Organic component The organic component is a component added to maintain the shape of the film-like body (cured film) before firing, and is used in the firing process (for example, in an oxidizing atmosphere at approximately 250°C or higher, for example, 500°C or higher). heat treatment at a temperature of ). In other words, the "organic component" is an organic compound that burns out (vaporizes) at a temperature lower than the sintering temperature of the inorganic component and dissolves in an organic dispersion medium, which will be described later. The organic components of the photosensitive composition disclosed herein include at least (B-1) an organic binder and (B-2) a photocurable resin. In addition, the content of the organic component (total amount of the solid organic compound) can affect the viscosity of the photosensitive composition. Therefore, from the viewpoint of suppressing printing defects due to an increase in viscosity, the content of the organic component with respect to the total amount (100% by mass) of the photosensitive composition is 7% by mass or more and 10% by mass or less (preferably 8% by mass or more). 10% by mass or less, for example, 9% by mass).

以下、有機成分に含まれる各成分ついて詳細に説明する。 Each component contained in the organic component will be described in detail below.

(B-1)有機バインダ
有機バインダは、光硬化前の膜状体と基材との接着性(基材への定着性)を高める有機化合物である。なお、後述する光硬化性樹脂とは異なり、有機バインダは、感光性(例えば光硬化性)を有しない。また、有機バインダは水溶性の有機化合物であることが好ましい。これによって、現像工程において未硬化の膜状体を容易に除去できる。かかる有機バインダの好適な一例として、セルロース系化合物が挙げられる。かかるセルロース系化合物は、セルロースの繰り返し構成単位であるグルコース環を有している。当該セルロース系化合物を添加することによって、無機成分と光硬化性樹脂とが馴染み易くなるため、感光性組成物の保存安定性を向上することができる。また、セルロース系化合物は、グルコース環に複数の水酸基が存在しているため良好な水溶性を示す。かかるセルロース系化合物を含む感光性組成物は、水系現像液で容易に除去できるため、現像工程の作業効率を向上できる。なお、セルロース系化合物は、セルロース、セルロースの誘導体、およびこれらの塩を包含する。セルロース系化合物としては、従来公知のもののなかから1種を単独で、または2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。セルロース系化合物の一好適例として、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等のヒドロキシアルキルセルロース;メチルセルロース、エチルセルロース等のアルキルセルロース;カルボキシメチルセルロース等のカルボキシアルキルセルロース;等が挙げられる。また、上記セルロース系化合物の酸価は、概ね10~300mgKOH/g、例えば20~200mgKOH/gであってもよい。なお、本明細書における「酸価(mgKOH/g)」は、単位試料(1g)中に含まれる遊離脂肪酸を中和するのに必要な水酸化カリウム(KOH)の含量(mg)である。
(B-1) Organic Binder The organic binder is an organic compound that enhances the adhesiveness (fixability to the substrate) between the film-like material before photocuring and the substrate. In addition, unlike the photocurable resin described later, the organic binder does not have photosensitivity (for example, photocurable). Also, the organic binder is preferably a water-soluble organic compound. As a result, the uncured film-like body can be easily removed in the developing step. Suitable examples of such organic binders include cellulosic compounds. Such cellulosic compounds have glucose rings, which are repeating units of cellulose. By adding the cellulose-based compound, the inorganic component and the photocurable resin become more compatible with each other, so that the storage stability of the photosensitive composition can be improved. In addition, cellulose-based compounds exhibit good water solubility due to the presence of a plurality of hydroxyl groups in the glucose ring. Since the photosensitive composition containing such a cellulose compound can be easily removed with an aqueous developer, the working efficiency of the developing process can be improved. Cellulose-based compounds include cellulose, cellulose derivatives, and salts thereof. As the cellulosic compound, one of conventionally known compounds can be used alone, or two or more of them can be used in appropriate combination. Preferred examples of cellulosic compounds include hydroxyalkylcelluloses such as hydroxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose and hydroxypropylmethylcellulose; alkylcelluloses such as methylcellulose and ethylcellulose; carboxyalkylcelluloses such as carboxymethylcellulose; Further, the acid value of the cellulose-based compound may be approximately 10 to 300 mgKOH/g, for example 20 to 200 mgKOH/g. The "acid value (mgKOH/g)" used herein is the content (mg) of potassium hydroxide (KOH) required to neutralize free fatty acids contained in a unit sample (1 g).

また、有機バインダは、上述のセルロース系化合物のみで構成されていてもよいし、他の有機化合物を含んでいてもよい。有機バインダの他の例として、(メタ)アクリル系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が挙げられる。 Further, the organic binder may be composed only of the cellulose-based compound described above, or may contain other organic compounds. Other examples of organic binders include (meth)acrylic resins, phenolic resins, epoxy resins, polyester resins, polyamide resins, polycarbonate resins, and the like.

上述したセルロース系化合物以外の有機バインダの中では、感光性を有さない(メタ)アクリル樹脂が好適である。この(メタ)アクリル樹脂の一例として、アルキル(メタ)アクリレートの単独重合体や、アルキル(メタ)アクリレートを主モノマーとして当該主モノマーに共重合性を有する副モノマーを含む共重合体、およびそれらの変性物が挙げられる。(メタ)アクリル系樹脂は、アルカリ可溶性の高い構造部分、例えば、フェノール性水酸基、カルボキシル基、エステル結合基、スルホ基、ホスホノ基、ボロン酸基のような酸性基を有していてもよい。これらのアルカリ可溶性の高い構造部分を含むことにより、現像工程における未露光部分をアルカリ性の水系現像液で好適に除去できる。また、(メタ)アクリル系樹脂を含むことで、導電層の柔軟性や基材に対する追従性を向上することができ、剥離や断線の発生をより良く抑制することができる。さらに、導電層の耐久性を向上することができる。 Among the organic binders other than the cellulose compounds described above, (meth)acrylic resins having no photosensitivity are suitable. Examples of this (meth)acrylic resin include homopolymers of alkyl (meth)acrylates, copolymers containing alkyl (meth)acrylate as a main monomer and a sub-monomer having copolymerizability with the main monomer, and their Modified products are mentioned. The (meth)acrylic resin may have a highly alkali-soluble structural moiety such as a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, an ester bond group, a sulfo group, a phosphono group, and an acidic group such as a boronic acid group. By containing these highly alkali-soluble structural parts, the unexposed parts in the development process can be removed favorably with an alkaline aqueous developer. In addition, by including a (meth)acrylic resin, the flexibility of the conductive layer and followability to the base material can be improved, and the occurrence of peeling and disconnection can be better suppressed. Furthermore, the durability of the conductive layer can be improved.

上記(メタ)アクリル系樹脂の具体例としては、例えば、以下の構造を備えるアクリル系樹脂が挙げられる。

Figure 2022142730000002
ここで、上記式において、
は、水素(H)原子またはメチル基(-CH)であり、
は、水素(H)原子またはメチル基(-CH)であり、
Xは、水素(H)原子、または以下に示される有機官能基であり、
Yは、水素(H)原子、または以下に示される有機官能基であり、
aおよびbは、独立して0以上の整数である。 Specific examples of the (meth)acrylic resin include acrylic resins having the following structures.
Figure 2022142730000002
Here, in the above formula,
R 1 is a hydrogen (H) atom or a methyl group (--CH 3 );
R 2 is a hydrogen (H) atom or a methyl group (—CH 3 );
X is a hydrogen (H) atom or an organic functional group shown below,
Y is a hydrogen (H) atom or an organic functional group shown below,
a and b are independently integers of 0 or greater.

上記XまたはYの有機官能基としては、メチル(-CH)、エチル(-CHCH)、n-ブチル(-CHCHCHCH)、iso-ブチル(-CHCH(CH)、およびtert-ブチル(-C(CH)、ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシプロピル基等のアルキル基;シクロヘキシル、

Figure 2022142730000003
および、
Figure 2022142730000004
に示されるような環状アルキル基;フェニルメチル(-CH-Ph)、フェノキシエチル(-CHCH-O-Ph)等の芳香環含有基;等が挙げられる。なお、上記式(2)におけるR,R,XおよびYを適宜設定することによって、(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移点を調節することができる。そして、上記(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移点は、50℃以上100℃以下が好ましく、55℃以上80℃以下が好ましく、55℃以上75℃以下が好ましく、55℃以上70℃以下が好ましい。これによって、感光性組成物の解像性を向上させ、現像マージンを長くすることができる。また、(メタ)アクリル樹脂の酸価は、(メタ)アクリル系樹脂中のカルボキシ基に応じて変動する。かかる(メタ)アクリル樹脂の酸価は、10~300mgKOH/gでもよく、20~200mgKOH/gでもよく、50~150mgKOH/gでもよい。また、本明細書において「ガラス転移点」とは、示差走査熱量分析(Differential Scanning Calorimetry:DSC)に基づくガラス転移温度(Tg)をいう。 Examples of the organic functional group for X or Y include methyl (--CH 3 ), ethyl (--CH 2 CH 3 ), n-butyl (--CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ), iso-butyl (--CH 2 CH (CH 3 ) 2 ), and alkyl groups such as tert-butyl (—C(CH 3 ) 3 ), hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group; cyclohexyl,
Figure 2022142730000003
and,
Figure 2022142730000004
aromatic ring-containing groups such as phenylmethyl (--CH 2 --Ph) and phenoxyethyl (--CH 2 CH 2 --O--Ph); and the like. By appropriately setting R 1 , R 2 , X and Y in the above formula (2), the glass transition point of the (meth)acrylic resin can be adjusted. The glass transition point of the (meth)acrylic resin is preferably 50° C. or higher and 100° C. or lower, preferably 55° C. or higher and 80° C. or lower, preferably 55° C. or higher and 75° C. or lower, and preferably 55° C. or higher and 70° C. or lower. . This can improve the resolution of the photosensitive composition and lengthen the development margin. Also, the acid value of the (meth)acrylic resin varies depending on the carboxy groups in the (meth)acrylic resin. The (meth)acrylic resin may have an acid value of 10 to 300 mgKOH/g, 20 to 200 mgKOH/g, or 50 to 150 mgKOH/g. In addition, the term "glass transition point" as used herein refers to the glass transition temperature (Tg) based on differential scanning calorimetry (DSC).

なお、有機成分として添加される成分の各々の重量平均分子量は、「有機成分の重量平均分子量Mw」が所定の値を満たしている限り、特に限定されない。すなわち、後述する光硬化性樹脂の重量平均分子量を増加させた場合には、有機バインダの重量平均分子量を低下させることによって、有機成分の重量平均分子量Mwを調節できる。但し、光硬化前の膜状体の粘着性(タック性)を一定以上確保して、光硬化前の膜状体の剥離を抑制する等の観点から、有機バインダの重量平均分子量は、5000以上が好ましく、10000以上がより好ましく、15000以上がさらに好ましく、20000以上が特に好ましい。一方、ここに開示される技術の構成上、有機バインダの重量平均分子量を増加させ過ぎると、光硬化性樹脂の重量平均分子量を大きく低下させることが求められる。このため、充分な光硬化性を確保するという観点から、有機バインダの重量平均分子量は、100000以下に抑えることが好ましく、80000以下に抑えることがより好ましく、60000以下に抑えることが特に好ましい。 The weight average molecular weight of each component added as an organic component is not particularly limited as long as the "weight average molecular weight Mw of the organic component" satisfies a predetermined value. That is, when the weight-average molecular weight of the photocurable resin described later is increased, the weight-average molecular weight Mw of the organic component can be adjusted by decreasing the weight-average molecular weight of the organic binder. However, the weight average molecular weight of the organic binder is 5000 or more from the viewpoint of ensuring a certain or more adhesiveness (tackiness) of the film before photocuring and suppressing peeling of the film before photocuring. is preferred, 10,000 or more is more preferred, 15,000 or more is even more preferred, and 20,000 or more is particularly preferred. On the other hand, due to the configuration of the technique disclosed herein, if the weight average molecular weight of the organic binder is excessively increased, it is required that the weight average molecular weight of the photocurable resin is greatly reduced. Therefore, from the viewpoint of ensuring sufficient photocurability, the weight average molecular weight of the organic binder is preferably suppressed to 100,000 or less, more preferably 80,000 or less, and particularly preferably 60,000 or less.

また、特に限定されるものではないが、感光性組成物の総量(100質量%)に対する有機バインダの含有量は、概ね0.1~9質量%、典型的には1~7質量%、例えば2.5~5質量%であるとよい。有機バインダの含有量を所定値以上とすることで、現像工程において未硬化の膜状体を容易に除去できるため、現像時間を短縮できる。また、光硬化前の膜状体の基材に対する定着性が高められるため、導電層の剥離や断線をより好適に抑制できる。一方、有機バインダの含有量を所定値以下とすることで、後述の光硬化性樹脂の割合が相対的に向上するため、より好適な光硬化性を得ることができる。 Further, although not particularly limited, the content of the organic binder with respect to the total amount (100% by mass) of the photosensitive composition is generally 0.1 to 9% by mass, typically 1 to 7% by mass, for example It is preferably 2.5 to 5% by mass. By setting the content of the organic binder to a predetermined value or more, the uncured film-like body can be easily removed in the developing step, so that the developing time can be shortened. In addition, since the fixability of the filmy body to the base material before photocuring is enhanced, peeling and disconnection of the conductive layer can be more suitably suppressed. On the other hand, by setting the content of the organic binder to a predetermined value or less, the ratio of the photocurable resin described later is relatively improved, so that more suitable photocurability can be obtained.

(B-2)光硬化性樹脂
光硬化性樹脂は、露光した際に重合反応や架橋反応等によって硬化する有機化合物である。なお、上記「重合反応」とは、例えば付加重合であってもよいし、開環重合であってもよい。また、特に限定されるものではないが、感光性組成物の総量(100質量%)に対する光硬化性樹脂の含有量は、概ね0.1~9質量%、典型的には1~7質量%、例えば3~6質量%、好適には3~5質量%であるとよい。光硬化性樹脂の割合を所定値以上とすることで、露光工程において膜状体を深部まで硬化できるため、導電層の剥離や断線を好適に抑制できる。一方、光硬化性樹脂の割合を所定値以下とすることで、感光性組成物の粘度上昇を抑制できるため、好適な印刷性を維持しやすくなる。
(B-2) Photocurable resin A photocurable resin is an organic compound that is cured by a polymerization reaction, a cross-linking reaction, or the like when exposed to light. The "polymerization reaction" may be, for example, addition polymerization or ring-opening polymerization. Although not particularly limited, the content of the photocurable resin relative to the total amount of the photosensitive composition (100% by mass) is generally 0.1 to 9% by mass, typically 1 to 7% by mass. , for example, 3 to 6% by mass, preferably 3 to 5% by mass. By setting the ratio of the photocurable resin to a predetermined value or more, the film-like body can be hardened to a deep portion in the exposure process, so peeling and disconnection of the conductive layer can be suitably suppressed. On the other hand, by setting the ratio of the photocurable resin to a predetermined value or less, it is possible to suppress an increase in the viscosity of the photosensitive composition, thereby making it easier to maintain suitable printability.

そして、ここに開示される感光性組成物の光硬化性樹脂は、(a)ウレタン(メタ)アクリレートポリマーと、(b)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する。以下、各々について説明する。 The photocurable resin of the photosensitive composition disclosed herein contains (a) a urethane (meth)acrylate polymer and (b) a urethane (meth)acrylate oligomer. Each will be described below.

(a)ウレタン(メタ)アクリレートポリマー
ウレタン(メタ)アクリレートポリマーは、ウレタン(メタ)アクリレート系樹脂のうち、重量平均分子量が大きいものをいう。ここで、本明細書における「ウレタン(メタ)アクリレート系樹脂」とは、(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系の光硬化性樹脂であって、ウレタン結合(-NH-C(=O)-O-)を有するものをいう。ここで、上記「(メタ)アクリロイル基」とは、「メタクリロイル基(-C(=O)-C(CH)=CH)」および「アクリロイル基(-C(=O)-CH=CH)」を包含する。そして、「(メタ)アクリレート」とは、「メタクリレート」および「アクリレート」を包含する用語である。かかるウレタン(メタ)アクリレート系樹脂は、(メタ)アクリロイル基を含むため、光硬化後の硬化膜の柔軟性や基材に対する追従性に優れており、硬化膜の剥離や断線を好適に抑制できる。さらに、ウレタン(メタ)アクリレート系樹脂は、ウレタン結合を含むため、高い光硬化性を発揮できる。
(a) Urethane (meth)acrylate polymer A urethane (meth)acrylate polymer is a urethane (meth)acrylate resin having a large weight average molecular weight. Here, the “urethane (meth)acrylate resin” in this specification is a (meth)acrylic photocurable resin having a (meth)acryloyl group, and a urethane bond (—NH—C (=O )-O-). Here, the above-mentioned "(meth)acryloyl group" means "methacryloyl group (-C(=O)-C(CH 3 )=CH 2 )" and "acryloyl group (-C(=O)-CH=CH 2 )”. And "(meth)acrylate" is a term including "methacrylate" and "acrylate". Since such a urethane (meth)acrylate resin contains a (meth)acryloyl group, the flexibility of the cured film after photocuring and the followability to the base material are excellent, and peeling and disconnection of the cured film can be suitably suppressed. . Furthermore, since the urethane (meth)acrylate resin contains a urethane bond, it can exhibit high photocurability.

そして、上述の通り、本明細書では、重量平均分子量が大きいウレタン(メタ)アクリレート系樹脂を「ウレタン(メタ)アクリレートポリマー」と称する。このウレタン(メタ)アクリレートポリマーは、重量平均分子量が6000以上のウレタン(メタ)アクリレート系樹脂である。なお、「重量平均分子量が6000以上のウレタン(メタ)アクリレート系樹脂」とは、上記ゲル浸透クロマトグラフィーによって測定された重量平均分子量が6000以上であることを示すことを意図したものであり、ウレタン(メタ)アクリレートポリマーに含まれる樹脂材料の全ての分子量が6000以上であることを意図するものではない。詳しくは後述するが、このウレタン(メタ)アクリレートポリマーは、感光性組成物(膜状体)を光硬化させた際に、ネットワーク状の架橋構造の幹部分として機能する。なお、光硬化するモノマー、オリゴマーを膜中の広い範囲に程よく存在させるという観点から、ウレタン(メタ)アクリレートポリマーの重量平均分子量は、7000以上が好ましく、8000以上がより好ましく、10000以上が特に好ましい。一方、ウレタン(メタ)アクリレートポリマーの重量平均分子量を低下させるにつれて、有機バインダの重量平均分子量が相対的に増加するため、膜状体の基材への定着性を向上できる。かかる観点から、ウレタン(メタ)アクリレートポリマーの重量平均分子量は、60000以下が好ましく、50000以下がより好ましく、40000以下がさらに好ましく、30000以下が特に好ましい。 As described above, in this specification, a urethane (meth)acrylate resin having a large weight average molecular weight is referred to as a "urethane (meth)acrylate polymer". This urethane (meth)acrylate polymer is a urethane (meth)acrylate resin having a weight average molecular weight of 6000 or more. The term "urethane (meth)acrylate resin having a weight-average molecular weight of 6000 or more" is intended to indicate that the weight-average molecular weight measured by gel permeation chromatography is 6000 or more. It is not intended that all of the resin materials contained in the (meth)acrylate polymer have a molecular weight of 6000 or more. Although details will be described later, this urethane (meth)acrylate polymer functions as a trunk portion of a network-like crosslinked structure when the photosensitive composition (film-like body) is photocured. From the viewpoint of allowing photocurable monomers and oligomers to exist in a wide range in the film, the weight average molecular weight of the urethane (meth)acrylate polymer is preferably 7000 or more, more preferably 8000 or more, and particularly preferably 10000 or more. . On the other hand, as the weight-average molecular weight of the urethane (meth)acrylate polymer is decreased, the weight-average molecular weight of the organic binder relatively increases. From this point of view, the weight average molecular weight of the urethane (meth)acrylate polymer is preferably 60,000 or less, more preferably 50,000 or less, even more preferably 40,000 or less, and particularly preferably 30,000 or less.

また、特に限定されるものではないが、感光性組成物の総量(100質量%)に対するウレタン(メタ)アクリレートポリマーの含有量は、概ね0.1~8質量%、典型的には0.5~5質量%、例えば1~2質量%であるとよい。ウレタン(メタ)アクリレートポリマーの含有量を所定値以上とすることで、感光性組成物の光硬化性をさらに向上できる。一方、ウレタン(メタ)アクリレートポリマーの割合を所定値以下とすることで、感光性組成物の粘度が増大することによる印刷性の低下を抑制できる。 Although not particularly limited, the content of the urethane (meth)acrylate polymer relative to the total amount (100% by mass) of the photosensitive composition is generally 0.1 to 8% by mass, typically 0.5%. It may be up to 5% by weight, for example 1 to 2% by weight. By setting the content of the urethane (meth)acrylate polymer to a predetermined value or more, the photocurability of the photosensitive composition can be further improved. On the other hand, by setting the ratio of the urethane (meth)acrylate polymer to a predetermined value or less, it is possible to suppress deterioration in printability due to an increase in the viscosity of the photosensitive composition.

(b)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー
ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、上述したウレタン(メタ)アクリレート系樹脂のうち、重量平均分子量が小さいものをいう。このウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、重量平均分子量が6000未満のウレタン(メタ)アクリレート系樹脂である。なお、「重量平均分子量が6000未満のウレタン(メタ)アクリレート系樹脂」とは、上記ゲル浸透クロマトグラフィーによって測定された重量平均分子量が6000未満であることを示すことを意図したものであり、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーに含まれる樹脂材料の全ての分子量が6000未満であることを意図するものではない。このような低分子のウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーと、上述した高分子のウレタン(メタ)アクリレートポリマーとを混合した光硬化性樹脂は、高い光硬化性を発揮するため、高濃度の導電性粉末の添加によって感光性組成物の光透過性が低下した場合でも硬化不良の発生を好適に防止できる。このような高い光硬化性が発揮される理由は、高分子のウレタン(メタ)アクリレートポリマーを幹部分として、複数のウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーが樹枝状に架橋した結果、ネットワーク状の架橋構造が構築されるためと推測される。なお、上述のネットワーク状の架橋構造を好適に構築するという観点から、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの重量平均分子量は、4000以下が好ましく、3500以下がより好ましく、3000以下が特に好ましい。一方、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの重量平均分子量の下限は、特に限定されず、500以上であってもよく、750以上であってもよく、1000以上であってもよく、1500以上であってもよい。
(b) Urethane (meth)acrylate oligomer The urethane (meth)acrylate oligomer is a urethane (meth)acrylate-based resin having a small weight average molecular weight. This urethane (meth)acrylate oligomer is a urethane (meth)acrylate resin having a weight average molecular weight of less than 6,000. The term "urethane (meth)acrylate resin having a weight average molecular weight of less than 6,000" is intended to indicate that the weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography is less than 6,000. It is not intended that all of the resin materials contained in the (meth)acrylate oligomer have a molecular weight of less than 6000. A photocurable resin obtained by mixing such a low-molecular-weight urethane (meth)acrylate oligomer and the above-described high-molecular-weight urethane (meth)acrylate polymer exhibits high photocurability. Even when the light transmittance of the photosensitive composition is lowered by the addition of, the occurrence of poor curing can be suitably prevented. The reason why such high photocurability is exhibited is that a network-like crosslinked structure is formed as a result of dendritic cross-linking of multiple urethane (meth) acrylate oligomers with a high-molecular urethane (meth) acrylate polymer as a backbone. presumed to be constructed. From the viewpoint of suitably constructing the network-like crosslinked structure described above, the weight average molecular weight of the urethane (meth)acrylate oligomer is preferably 4000 or less, more preferably 3500 or less, and particularly preferably 3000 or less. On the other hand, the lower limit of the weight average molecular weight of the urethane (meth)acrylate oligomer is not particularly limited, and may be 500 or more, 750 or more, 1000 or more, or 1500 or more. good too.

また、感光性組成物の総量に対するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの含有量は、特に限定されるものではなく、0.1~8質量%でもよく、0.5~5質量%でもよく、1~4質量%でもよく、1.5~3.5質量%でもよい。ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの含有量を所定値以上とすることで、感光性組成物をさらに強固に光硬化させることができる。一方、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの割合を所定値以下とすることで、感光性組成物の粘度上昇による印刷性低下を抑制できる。 Further, the content of the urethane (meth)acrylate oligomer with respect to the total amount of the photosensitive composition is not particularly limited, and may be 0.1 to 8% by mass, 0.5 to 5% by mass, or 1 to 8% by mass. It may be 4% by mass, or 1.5 to 3.5% by mass. By setting the content of the urethane (meth)acrylate oligomer to a predetermined value or more, the photosensitive composition can be further strongly photocured. On the other hand, by setting the ratio of the urethane (meth)acrylate oligomer to a predetermined value or less, it is possible to suppress deterioration in printability due to an increase in the viscosity of the photosensitive composition.

また、ここに開示される感光性組成物では、上述したネットワーク状の架橋構造をより好適に構築するという観点の下で、光硬化性樹脂におけるウレタン(メタ)アクリレートポリマーとウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとの混合比率を調節することが好ましい。例えば、ウレタン(メタ)アクリレートポリマーの含有量に対するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの含有量の割合は、0.5倍以上10倍以下が適当であり、0.75倍以上8倍以下が好ましく、1.5倍以上3倍以下がより好ましく、1.6倍以上2.5倍以下がさらに好ましく、1.7倍以上2.3倍以下が特に好ましい。これによって、ネットワーク状の架橋構造をより好適に構築し、さらに好適な光硬化性を発揮できる。 Further, in the photosensitive composition disclosed herein, from the viewpoint of more preferably constructing the network-like crosslinked structure described above, the urethane (meth)acrylate polymer and the urethane (meth)acrylate oligomer in the photocurable resin It is preferable to adjust the mixing ratio with For example, the ratio of the content of the urethane (meth)acrylate oligomer to the content of the urethane (meth)acrylate polymer is suitably 0.5 times or more and 10 times or less, preferably 0.75 times or more and 8 times or less. 0.5 times or more and 3 times or less is more preferable, 1.6 times or more and 2.5 times or less is more preferable, and 1.7 times or more and 2.3 times or less is particularly preferable. Thereby, a network-like crosslinked structure can be constructed more preferably, and more suitable photocurability can be exhibited.

(c)他の光硬化性樹脂
また、光硬化性樹脂は、ここに開示される技術の効果を著しく阻害しない限りにおいて、ウレタン(メタ)アクリレート系樹脂以外の光硬化性樹脂(他の光硬化性樹脂)を含んでいてもよい。かかる光硬化性樹脂としては、(メタ)アクリル系樹脂が挙げられる。本明細書における「(メタ)アクリル系樹脂」は、(メタ)アクリロイル基を有するモノマーを含む(メタ)アクリル系の光硬化性樹脂であって、ウレタン結合(-NH-C(=O)-O-)を有さないものである。かかる(メタ)アクリル系樹脂としては、従来公知のもののなかから1種を単独で、または2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。(メタ)アクリル系樹脂の一好適例として、アルキル(メタ)アクリレートの単独重合体や、アルキル(メタ)アクリレートを主モノマーとして、当該主モノマーに共重合性を有する副モノマーを含む共重合体が挙げられる。なかでも、光硬化性を向上する観点から、側鎖に(メタ)アクリロイル基(好ましくはアクリロイル基)を有する(メタ)アクリル系樹脂が好ましい。なお、ここに開示される技術の効果をより好適に発揮させるという観点から、光硬化性樹脂の総量を100質量%としたときの上記「他の光硬化性樹脂」の含有量は、10質量%以下が好ましく、5質量%以下がより好ましく、3質量%以下が好ましく、2質量%以下が特に好ましい。
(c) Other photo-curing resins In addition, photo-curing resins other than urethane (meth)acrylate resins (other photo-curing resin) may be included. (Meth)acrylic resins can be mentioned as such photocurable resins. "(Meth)acrylic resin" in the present specification is a (meth)acrylic photocurable resin containing a monomer having a (meth)acryloyl group, and a urethane bond (-NH-C (=O)- O-). As such a (meth)acrylic resin, one of conventionally known resins can be used alone, or two or more of them can be used in appropriate combination. Preferred examples of (meth)acrylic resins include homopolymers of alkyl (meth)acrylates and copolymers containing alkyl (meth)acrylates as main monomers and copolymerizable sub-monomers in the main monomers. mentioned. Among them, a (meth)acrylic resin having a (meth)acryloyl group (preferably an acryloyl group) in a side chain is preferable from the viewpoint of improving photocurability. In addition, from the viewpoint of more preferably exhibiting the effect of the technology disclosed herein, the content of the above "other photocurable resin" when the total amount of the photocurable resin is 100% by mass is 10% by mass. % or less is preferable, 5 mass % or less is more preferable, 3 mass % or less is preferable, and 2 mass % or less is particularly preferable.

(B-3)他の有機成分
上述の通り、ここに開示される感光性組成物の有機成分は、(B-1)有機バインダと、(B-2)光硬化性樹脂を含んでいる。但し、感光性組成物に含まれる有機成分は、これらに限定されない。すなわち、ここに開示される技術の効果が著しく阻害されない限りにおいて、有機成分は、有機バインダや光硬化性樹脂の何れにも該当しない有機成分(他の有機成分)を含んでいてもよい。かかる他の有機成分には、この種の感光性組成物において使用され得る有機化合物を特に制限なく使用できる。例えば、有機成分は、光重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤は、紫外線等の光エネルギーの照射によって分解し、ラジカルや陽イオン等の活性種を発生させて、光硬化性樹脂の重合反応を開始させる成分である。光重合開始剤としては、従来公知のものの中から、光硬化性樹脂の種類等に応じて、1種を単独でまたは2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。光重合開始剤の一好適例として、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,4-ジエチルチオキサントン、ベンゾフェノン等が挙げられる。
(B-3) Other Organic Components As described above, the organic components of the photosensitive composition disclosed herein include (B-1) an organic binder and (B-2) a photocurable resin. However, the organic components contained in the photosensitive composition are not limited to these. That is, the organic component may include an organic component (another organic component) that does not fall under either the organic binder or the photocurable resin, as long as the effects of the technology disclosed herein are not significantly impaired. Any organic compound that can be used in this type of photosensitive composition can be used as such other organic component without any particular limitation. For example, the organic component may include a photoinitiator. The photopolymerization initiator is a component that is decomposed by irradiation with light energy such as ultraviolet rays to generate active species such as radicals and cations, thereby initiating the polymerization reaction of the photocurable resin. As the photopolymerization initiator, one type can be used alone or two or more types can be used in appropriate combination from among conventionally known ones depending on the type of the photocurable resin and the like. Preferred examples of photopolymerization initiators include 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morphol linophenyl)-butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4-diethylthioxanthone, benzophenone and the like. be done.

特に限定されるものではないが、上記光重合開始剤の含有割合は、概ね0.01~5質量%、典型的には0.05~3質量%、例えば0.1~2質量%であるとよい。このことにより、感光性組成物の光硬化性が十分に発揮され、より安定的に導電層を形成できる。また、光重合開始剤の重量平均分子量は、概ね100~500、典型的には100~300である。 Although not particularly limited, the content of the photopolymerization initiator is generally 0.01 to 5% by mass, typically 0.05 to 3% by mass, for example 0.1 to 2% by mass. Good. As a result, the photocurability of the photosensitive composition can be fully exhibited, and the conductive layer can be formed more stably. Further, the weight average molecular weight of the photopolymerization initiator is approximately 100-500, typically 100-300.

(B-4)全有機成分の重量平均分子量Mw
そして、ここに開示される感光性組成物では、有機成分の重量平均分子量Mwが32000以下である。このように有機成分の重量平均分子量Mwを低く抑えることによって、高濃度(例えば74質量%以上)の導電性粉末を含有しているにも関わらず、粘度の急激な増大を抑制できる。このため、ここに開示される感光性組成物では、好適な印刷性を維持することができる。なお、感光性組成物の印刷性を更に向上させるという観点から、有機成分の重量平均分子量Mwの上限値は、31500以下が適当であり、31000以下が好ましく、30000以下がより好ましく、29000以下がさらに好ましく、27000以下が特に好ましく、例えば25000以下にも設定され得る。一方、上述したウレタン(メタ)アクリレート系樹脂を使用した場合であっても、有機成分の重量平均分子量Mwが10000未満になると、基材表面への定着性が著しく損なわれ、充分な印刷性が確保できないおそれがある。このため、ここに開示される感光性組成物では、有機成分の重量平均分子量Mwが10000以上に規定されている。なお、より確実に充分な印刷性を確保するという観点から、有機成分の重量平均分子量Mwの下限値は、11000以上が好ましく、13000以上がより好ましく、16000以上がさらに好ましく、18000以上が特に好ましい。
(B-4) Weight average molecular weight Mw of all organic components
In the photosensitive composition disclosed herein, the organic component has a weight-average molecular weight Mw of 32,000 or less. By keeping the weight average molecular weight Mw of the organic component low in this way, it is possible to suppress a rapid increase in viscosity even though the conductive powder is contained at a high concentration (for example, 74% by mass or more). Therefore, the photosensitive composition disclosed herein can maintain favorable printability. From the viewpoint of further improving the printability of the photosensitive composition, the upper limit of the weight average molecular weight Mw of the organic component is appropriately 31,500 or less, preferably 31,000 or less, more preferably 30,000 or less, and 29,000 or less. More preferably, 27,000 or less is particularly preferable, and for example, it can be set to 25,000 or less. On the other hand, even when the urethane (meth)acrylate resin described above is used, if the weight-average molecular weight Mw of the organic component is less than 10000, the fixability to the substrate surface is significantly impaired, resulting in insufficient printability. It may not be guaranteed. Therefore, in the photosensitive composition disclosed herein, the weight average molecular weight Mw of the organic component is specified to be 10,000 or more. From the viewpoint of ensuring sufficient printability more reliably, the lower limit of the weight-average molecular weight Mw of the organic component is preferably 11,000 or more, more preferably 13,000 or more, further preferably 16,000 or more, and particularly preferably 18,000 or more. .

(C)有機系分散媒
ここに開示される感光性組成物は、上記した各成分を分散させる有機系分散媒を含有している。有機系分散媒は、感光性組成物に適度な粘性や流動性を付与し、感光性組成物の取扱性や印刷時の作業性等を向上する液状成分である。有機系分散媒としては、下記のグリコールエーテル系溶剤とアルコール系溶剤とを混合した混合溶媒が用いられる。グリコールエーテル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル(メチルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチルエーテル(セロソルブ)、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルカルビトール)、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、3-メチル-3-メトキシブタノール等が挙げられる。また、アルコール系溶剤としては、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピニルプロピオネート、ベンジルアルコール等が挙げられる。上述した種々の溶媒の中でも、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートとジヒドロターピネオールとの混合溶媒や、プロピレングリコールフェニルエーテルとターピネオールの混合溶媒などが特に好適に使用できる。なお、グリコールエーテル系溶剤とアルコール系溶剤との混合比率は、95:5~50:50が好適である。また、ここに開示される技術の効果を著しく阻害しない限りにおいて、有機系分散媒は、グリコールエーテル系溶剤とアルコール系溶剤との混合溶媒以外の溶剤を微量に含有していてもよい。例えば、有機系分散媒の総重量に対する混合溶媒の含有量は、80質量%以上でもよく、85質量%以上でもよく、90質量%以上でもよく、95質量%以上でもよく、100質量%でもよい。なお、混合溶媒以外の溶剤の一例として、1,7,7-トリメチル-2-アセトキシ-ビシクロ-[2,2,1]-ヘプタン、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタジオールモノイソブチレート等のエステル系溶剤;トルエン、キシレン等の炭化水素系溶剤;エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール等のグリコール系溶剤;トルエン、キシレン、ナフサ、ソルベントナフサ、ミネラルスピリット、石油系炭化水素等の石油系溶剤等が挙げられる。また、特に限定されるものではないが、感光性組成物全体に占める有機系分散媒の含有割合は、概ね1~50質量%、典型的には3~30質量%、例えば4~20質量%であってもよい。なお、これらの有機系分散媒の分子量は、上記「有機成分の重量平均分子量Mw」の算出において加算されない。これは、有機系分散媒は、室温(例えば23℃)において液体であり、その分子量は、感光性組成物の印刷性を充分に確保し、緻密かつ厚膜な導電層を正確に形成するという目的の下で無視できるためである。
(C) Organic Dispersion Medium The photosensitive composition disclosed herein contains an organic dispersion medium for dispersing the components described above. The organic dispersion medium is a liquid component that imparts appropriate viscosity and fluidity to the photosensitive composition and improves the handling properties of the photosensitive composition, workability during printing, and the like. As the organic dispersion medium, a mixed solvent obtained by mixing the following glycol ether solvent and alcohol solvent is used. Examples of glycol ether solvents include ethylene glycol monomethyl ether (methyl cellosolve), ethylene glycol monoethyl ether (cellosolve), diethylene glycol monobutyl ether (butyl carbitol), diethylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether, and dipropylene glycol. Methyl ether acetate, propylene glycol phenyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol and the like. Examples of alcohol solvents include terpineol, dihydroterpineol, dihydroterpinylpropionate, and benzyl alcohol. Among the various solvents described above, a mixed solvent of dipropylene glycol methyl ether acetate and dihydroterpineol, a mixed solvent of propylene glycol phenyl ether and terpineol, and the like can be particularly suitably used. The mixing ratio of the glycol ether solvent and the alcohol solvent is preferably 95:5 to 50:50. In addition, the organic dispersion medium may contain a small amount of a solvent other than the mixed solvent of the glycol ether solvent and the alcohol solvent as long as the effect of the technology disclosed herein is not significantly impaired. For example, the content of the mixed solvent with respect to the total weight of the organic dispersion medium may be 80% by mass or more, 85% by mass or more, 90% by mass or more, 95% by mass or more, or 100% by mass. . Examples of solvents other than the mixed solvent include 1,7,7-trimethyl-2-acetoxy-bicyclo-[2,2,1]-heptane, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentadiol mono ester solvents such as isobutyrate; hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; glycol solvents such as ethylene glycol, propylene glycol and diethylene glycol; toluene, xylene, naphtha, solvent naphtha, mineral spirits, petroleum hydrocarbons petroleum-based solvents and the like. Although not particularly limited, the content of the organic dispersion medium in the entire photosensitive composition is generally 1 to 50% by mass, typically 3 to 30% by mass, for example 4 to 20% by mass. may be The molecular weights of these organic dispersion media are not added in the calculation of the "weight average molecular weight Mw of the organic component". This is because the organic dispersion medium is a liquid at room temperature (for example, 23° C.), and its molecular weight ensures sufficient printability of the photosensitive composition and accurately forms a dense and thick conductive layer. because it can be ignored for our purposes.

(D)その他の添加成分
感光性組成物は、ここに開示される技術の効果を著しく損なわない限りにおいて、上記した成分に加えて、さらに必要に応じて種々の添加成分を含有することができる。添加成分としては、従来公知のものの中から1種を単独で、または2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。添加成分の一例としては、例えば、光増感剤、重合禁止剤、ラジカル捕捉剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、界面活性剤、レベリング剤、増粘剤、分散剤、消泡剤、ゲル化防止剤、安定化剤、防腐剤、顔料等が挙げられる。また、これらの添加成分は、感光性組成物のペースト中に添加してもよいし、無機成分の表面に付着していてもよい。具体的には、ここでの添加成分は、無機成分(導電性粉末等)の分散性改善のために、当該無機成分の表面に付着させる表面処理剤等も包含する。なお、特に限定されるものではないが、感光性組成物全体に占める添加成分の割合は、概ね5質量%以下、典型的には3質量%以下、例えば2質量%以下、好ましくは1質量%以下とするとよい。なお、上述の添加成分のうち、室温(例えば23℃)において固形の有機化合物である添加成分の分子量は、感光性組成物の印刷性に影響し得るため、ここに開示される技術における「有機成分の重量平均分子量Mw」の算出時に加算される。
(D) Other additive components In addition to the components described above, the photosensitive composition may contain various additive components as necessary, as long as the effects of the technology disclosed herein are not significantly impaired. . As the additive component, one of conventionally known components can be used alone, or two or more can be used in appropriate combination. Examples of additive components include photosensitizers, polymerization inhibitors, radical scavengers, antioxidants, UV absorbers, plasticizers, surfactants, leveling agents, thickeners, dispersants, and antifoaming agents. , anti-gelling agents, stabilizers, preservatives, pigments and the like. Moreover, these additive components may be added in the paste of the photosensitive composition, or may adhere to the surface of the inorganic component. Specifically, the additive component here also includes a surface treatment agent or the like that is adhered to the surface of the inorganic component (conductive powder, etc.) in order to improve the dispersibility of the inorganic component. Although not particularly limited, the proportion of the additive component in the entire photosensitive composition is generally 5% by mass or less, typically 3% by mass or less, for example 2% by mass or less, preferably 1% by mass. It should be: Among the additive components described above, the molecular weight of the additive component, which is an organic compound that is solid at room temperature (for example, 23 ° C.), can affect the printability of the photosensitive composition. It is added when calculating the weight average molecular weight Mw of the component.

(E)感光性組成物のまとめ
上述した通り、電子部品の作製において緻密かつ厚膜な導電層を形成するには、高濃度の導電性粉末を含む感光性組成物を使用することが求められる。これに対して、ここに開示される感光性組成物では、ウレタン(メタ)アクリレートポリマーと、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとを混合したウレタン(メタ)アクリレート系樹脂を使用している。これによって、紫外線を照射した際に反応点の多いネットワーク状の架橋構造が形成されるため高い光硬化性を発揮できる。この結果、多量の導電性粉末の添加による光透過性の低下が生じているにも関わらず、精密なパターンの導電層を安定的に形成できる。さらに、ここに開示される技術では、上記構成の感光性組成物において有機成分の平均重量分子量Mwを32000以下に抑えることによって、高濃度の導電性粉末を用いているにも関わらず、粘度増大を抑制し、印刷不良の発生を防止できる。以上の通り、ここに開示される感光性組成物によると、緻密かつ厚膜な導電層が正確に形成された電子部品の安定供給を実現できる。
(E) Summary of photosensitive composition As described above, in order to form a dense and thick conductive layer in the production of electronic components, it is required to use a photosensitive composition containing a high concentration of conductive powder. . In contrast, the photosensitive composition disclosed herein uses a urethane (meth)acrylate resin in which a urethane (meth)acrylate polymer and a urethane (meth)acrylate oligomer are mixed. As a result, a network-like crosslinked structure having many reaction points is formed when irradiated with ultraviolet rays, so that high photocurability can be exhibited. As a result, a conductive layer having a precise pattern can be stably formed even though the light transmittance is lowered due to the addition of a large amount of conductive powder. Furthermore, in the technology disclosed herein, by suppressing the average weight molecular weight Mw of the organic component in the photosensitive composition having the above structure to 32000 or less, the viscosity is increased despite the use of a highly concentrated conductive powder. can be suppressed, and the occurrence of printing defects can be prevented. As described above, according to the photosensitive composition disclosed herein, it is possible to stably supply electronic components in which dense and thick conductive layers are accurately formed.

≪感光性組成物の製造方法≫
次に、ここに開示される感光性組成物を製造する方法について説明する。ここに開示される製造方法は、無機成分計量工程と、有機成分計量工程と、混合工程とを備えている。以下、各工程について説明する。
<<Method for producing photosensitive composition>>
Next, a method for producing the photosensitive composition disclosed herein will be described. The production method disclosed herein includes an inorganic component weighing step, an organic component weighing step, and a mixing step. Each step will be described below.

1.無機成分計量工程
まず、本工程では、導電性粉末を含む無機成分を計量する。ここに開示される製造方法では、導電性粉末の含有量が74質量%以上(好適には78質量%以上、より好適には79質量%以上、さらに好適には80質量%以上、特に好適には81質量%以上)となるように計量する。これによって、緻密かつ厚膜の導電層を形成可能な感光性組成物を得ることができる。また、既に説明したため重複した説明を省略するが、ここに開示される感光性組成物は、導電性粉末以外の無機成分である無機添加剤(誘電体粉末、焼結助剤、無機フィラー等)を含有し得る。本工程では、これらの無機添加剤を計量してもよい。なお、本明細書では、説明の便宜上、本工程の名称を「無機成分計量工程」としているが、この工程の名称は、本工程での計量対象を無機成分に限定することを意図したものではない。例えば、有機系の表面処理剤が付着した導電性粉末を使用する場合には、本工程において有機成分の一部が計量されることになる。この場合、この有機系表面処理剤も有機成分の一部とみなした上で、次工程における有機成分の重量平均分子量Mwの調節を行う。
1. Inorganic Component Weighing Step First, in this step, the inorganic component including the conductive powder is weighed. In the manufacturing method disclosed herein, the content of the conductive powder is 74% by mass or more (preferably 78% by mass or more, more preferably 79% by mass or more, further preferably 80% by mass or more, particularly preferably is 81% by mass or more). This makes it possible to obtain a photosensitive composition capable of forming a dense and thick conductive layer. In addition, since it has already been described, redundant description is omitted, but the photosensitive composition disclosed herein contains inorganic additives (dielectric powder, sintering aid, inorganic filler, etc.) that are inorganic components other than the conductive powder. can contain In this step, these inorganic additives may be weighed. In this specification, for convenience of explanation, the name of this step is "inorganic component weighing step", but the name of this step is not intended to limit the weighing object in this step to inorganic components. do not have. For example, when using a conductive powder to which an organic surface treatment agent is attached, a part of the organic component is weighed in this step. In this case, the organic surface treatment agent is also regarded as part of the organic component, and the weight average molecular weight Mw of the organic component is adjusted in the next step.

2.有機成分計量工程
本工程では、有機バインダと光硬化性樹脂を含む有機成分を計量する。そして、ここに開示される製造方法では、本工程において、有機成分の含有量が7質量%以上10質量%以下となり、かつ、有機成分の重量平均分子量Mwが10000以上32000以下となるように有機成分を計量する。具体的には、n種類の有機成分を添加する場合には、有機成分の総量を7~10質量%の範囲内にするという前提の下で、第1の有機成分~第nの有機成分の各々の重量平均分子量(M~M)と下記式(1)とに基づいて、有機成分の重量平均分子量Mwが上記範囲を満たすように各々の有機成分の重量(W~W)を調節する。このように、有機成分の重量平均分子量Mwを32000以下に抑えることによって、製造後の感光性組成物の大幅な粘度上昇による印刷性の低下を抑制できる。
2. Organic Component Weighing Step In this step, the organic components including the organic binder and the photocurable resin are weighed. In the production method disclosed herein, in this step, the content of the organic component is 7% by mass or more and 10% by mass or less, and the weight average molecular weight Mw of the organic component is 10000 or more and 32000 or less. Weigh the ingredients. Specifically, when n types of organic components are added, under the premise that the total amount of the organic components is within the range of 7 to 10% by mass, the first organic component to the nth organic component Based on each weight average molecular weight (M 1 to M n ) and the following formula (1), the weight of each organic component (W 1 to W n ) so that the weight average molecular weight Mw of the organic component satisfies the above range adjust the Thus, by suppressing the weight-average molecular weight Mw of the organic component to 32,000 or less, it is possible to suppress deterioration in printability due to a significant increase in viscosity of the photosensitive composition after production.

Figure 2022142730000005
Figure 2022142730000005

さらに、ここに開示される製造方法では、光硬化性樹脂として、ウレタン(メタ)アクリレートポリマーとウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとを混合したウレタン(メタ)アクリレート樹脂を使用する。これによって、導電性粉末の濃度増加に伴う光透過性の低下が生じたとしても、感光性組成物の光硬化性を充分に確保できる。この結果、硬化不良による膜状体(硬化膜)のアンダーカットの発生を充分に防止し、所望のパターンの導電層を正確に形成できるようになる。 Furthermore, in the production method disclosed herein, a urethane (meth)acrylate resin obtained by mixing a urethane (meth)acrylate polymer and a urethane (meth)acrylate oligomer is used as the photocurable resin. As a result, the photocurability of the photosensitive composition can be sufficiently ensured even if the light transmittance is lowered due to the increase in the concentration of the conductive powder. As a result, undercutting of the film-like body (cured film) due to poor curing can be sufficiently prevented, and the conductive layer can be accurately formed in a desired pattern.

3.混合工程
そして、ここに開示される製造方法では、上述の各工程で計量した有機成分と無機成分を混合し、感光性組成物を調製する。なお、各成分を混合する手段は、特に限定されず、従来公知の手段を特に制限なく採用できる。例えば、各成分の混合には、ロールミル、マグネティックスターラー、プラネタリーミキサー、ディスパー等の従来公知の撹拌混合装置を適宜用いることができる。また、有機成分を有機系分散媒と混合した有機ビヒクルを予め調製し、当該有機ビヒクルと無機成分とを混合してもよい。この場合には、ミキサーや撹拌翼を用いた撹拌機等の従来公知の各種の攪拌装置を用いることができる。また、上記有機ビヒクルの調製では、50℃~120℃に加温して混合するという手段を採用することもできる。そして、上述の工程を経て調製された感光性組成物は、ウレタン(メタ)アクリレートポリマーとウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとを混合したウレタン(メタ)アクリレート樹脂を含んでいるため、高濃度の導電性粉末を含んでいるにも関わらず、光硬化性の低下による膜状体(硬化膜)のアンダーカットの発生を好適に防止できる。さらに、急激な粘度上昇による印刷不良(基材の露出、導電層表面の段差等)を防止できるように、有機成分の重量平均分子量Mwが制御されている。すなわち、ここに開示される製造方法で製造された感光性組成物を用いることによって、低抵抗の電子部品の安定的に製造できる。
3. Mixing Step In the manufacturing method disclosed herein, the organic component and the inorganic component weighed in each step described above are mixed to prepare a photosensitive composition. The means for mixing each component is not particularly limited, and conventionally known means can be employed without particular limitations. For example, for mixing each component, a conventionally known stirring and mixing device such as a roll mill, magnetic stirrer, planetary mixer, disper, etc. can be used as appropriate. Alternatively, an organic vehicle in which an organic component is mixed with an organic dispersion medium may be prepared in advance, and the organic vehicle and the inorganic component may be mixed. In this case, various conventionally known stirring devices such as mixers and stirrers using stirring blades can be used. Also, in the preparation of the organic vehicle, a means of heating to 50° C. to 120° C. and mixing can be employed. Since the photosensitive composition prepared through the above steps contains a urethane (meth)acrylate resin obtained by mixing a urethane (meth)acrylate polymer and a urethane (meth)acrylate oligomer, it has a high concentration of conductivity. In spite of containing the powder, it is possible to suitably prevent the occurrence of undercuts in the film-like body (cured film) due to deterioration in photocurability. Furthermore, the weight-average molecular weight Mw of the organic component is controlled so as to prevent printing defects (exposed base material, steps on the surface of the conductive layer, etc.) due to rapid viscosity increase. That is, by using the photosensitive composition produced by the production method disclosed herein, low-resistance electronic components can be stably produced.

≪感光性組成物の用途≫
上述の通り、ここに開示される感光性組成物によれば、緻密かつ膜厚の導電層を安定的に形成できるため、インダクタンス部品やコンデンサ部品、多層回路基板等の様々な電子部品の性能向上(低抵抗化)に貢献できる。
<<Use of photosensitive composition>>
As described above, according to the photosensitive composition disclosed herein, a dense and thick conductive layer can be stably formed, so that the performance of various electronic parts such as inductance parts, capacitor parts, and multilayer circuit boards can be improved. (lower resistance).

なお、ここに開示される感光性組成物の使用対象である電子部品は、表面実装タイプやスルーホール実装タイプ等、各種の実装形態のものであってよい。電子部品は、積層型であってもよいし、巻線型であってもよいし、薄膜型であってもよい。インダクタンス部品の典型例としては、高周波フィルタ、コモンモードフィルタ、高周波回路用インダクタ(コイル)、一般回路用インダクタ(コイル)、高周波フィルタ、チョークコイル、トランス等が挙げられる。 Electronic components for which the photosensitive composition disclosed herein is used may be of various mounting forms such as surface mounting type and through-hole mounting type. The electronic component may be a laminated type, a wound type, or a thin film type. Typical examples of inductance components include high frequency filters, common mode filters, inductors (coils) for high frequency circuits, inductors (coils) for general circuits, high frequency filters, choke coils, and transformers.

電子部品の一例として、セラミック電子部品が挙げられる。なお、本明細書において、「セラミック電子部品」とは、セラミック材料を用いてなる電子部品全般をいい、非晶質のセラミック基材(ガラスセラミック基材)あるいは結晶質(すなわち非ガラス)のセラミック基材の表面に導電層が形成された電子部品全般を包含する。セラミック電子部品の典型例として、セラミック基材を有する高周波フィルタ、セラミックインダクタ(コイル)、セラミックコンデンサ、低温焼成積層セラミック基材(Low Temperature Co-fired Ceramics Substrate:LTCC基材)、高温焼成積層セラミック基材(High Temperature Co-fired Ceramics Substrate:HTCC基材)等が挙げられる。 Ceramic electronic components are one example of electronic components. In this specification, the term "ceramic electronic component" refers to electronic components in general that use ceramic materials, and includes amorphous ceramic substrates (glass-ceramic substrates) or crystalline (i.e., non-glass) ceramics. It includes general electronic parts having a conductive layer formed on the surface of a base material. Typical examples of ceramic electronic components include high-frequency filters with ceramic substrates, ceramic inductors (coils), ceramic capacitors, low temperature co-fired ceramic substrates (LTCC substrates), and high-temperature fired multilayer ceramic substrates. material (High Temperature Co-fired Ceramics Substrate: HTCC base material) and the like.

なお、上記基材を構成するセラミック材料としては、特に限定されるものではないが、例えば、酸化ジルコニウム(ジルコニア)、酸化マグネシウム(マグネシア)、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化ケイ素(シリカ)、酸化チタン(チタニア)、酸化セリウム(セリア)、酸化イットリウム(イットリア)、チタン酸バリウム等の酸化物系材料;コーディエライト、ムライト、フォルステライト、ステアタイト、サイアロン、ジルコン、フェライト等の複合酸化物系材料;窒化ケイ素(シリコンナイトライド)、窒化アルミニウム(アルミナイトライド)等の窒化物系材料;炭化ケイ素(シリコンカーバイド)等の炭化物系材料;ハイドロキシアパタイト等の水酸化物系材料;等が挙げられる。 The ceramic material constituting the substrate is not particularly limited, but examples include zirconium oxide (zirconia), magnesium oxide (magnesia), aluminum oxide (alumina), silicon oxide (silica), and titanium oxide. (titania), cerium oxide (ceria), yttrium oxide (yttria), barium titanate, and other oxide materials; cordierite, mullite, forsterite, steatite, sialon, zircon, ferrite, and other composite oxide materials nitride materials such as silicon nitride and aluminum nitride; carbide materials such as silicon carbide; hydroxide materials such as hydroxyapatite;

以下、ここに開示される感光性組成物を用いて積層チップインダクタを製造する手順について説明する。図1は、積層チップインダクタの構造を模式的に示した断面図である。なお、図1における寸法関係(長さ、幅、厚み等)は必ずしも実際の寸法関係を反映するものではない。また、図面中の符号Xは「左右方向」を示し、符号Yは「上下方向」を表す。ただし、これらの方向は説明の便宜上で定めたものであり、積層チップインダクタ1の製造中や使用中の設置態様を限定することを意図したものではない。 A procedure for manufacturing a multilayer chip inductor using the photosensitive composition disclosed herein will be described below. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a multilayer chip inductor. Note that the dimensional relationships (length, width, thickness, etc.) in FIG. 1 do not necessarily reflect the actual dimensional relationships. Further, the symbol X in the drawings indicates the "horizontal direction" and the symbol Y indicates the "vertical direction". However, these directions are determined for convenience of explanation, and are not intended to limit the manner of installation during manufacture or use of the multilayer chip inductor 1 .

図1に示すように、積層チップインダクタ1は、本体部10と、本体部10の左右方向Xの両側面部分に設けられた外部電極20とを備えている。かかる積層チップインダクタ1のサイズは、例えば、0806形状(0.8mm×0.6mm)、1608形状(1.6mm×0.8mm)、2520形状(2.5mm×2.0mm)等が挙げられる。 As shown in FIG. 1, the multilayer chip inductor 1 includes a body portion 10 and external electrodes 20 provided on both lateral side portions of the body portion 10 in the horizontal direction X. As shown in FIG. Examples of the size of the multilayer chip inductor 1 include 0806 shape (0.8 mm×0.6 mm), 1608 shape (1.6 mm×0.8 mm), and 2520 shape (2.5 mm×2.0 mm). .

本体部10は、セラミック層(誘電体層)12と内部電極層14とが一体化された構造を有する。セラミック層12は、セラミック材料で構成されている。上下方向Yにおいて、セラミック層12の間には、内部電極層14が配置されている。ここに開示される電子部品の製造方法では、上述の感光性組成物を用いて、内部電極層14を形成する。また、セラミック層12を挟んで上下方向Yに隣り合う内部電極層14は、セラミック層12を貫通するビア16を介して導通している。このことにより、内部電極層14は、3次元的な渦巻き形状(螺旋状)に構成されている。内部電極層14の両端はそれぞれ外部電極20と接続されている。 The body portion 10 has a structure in which a ceramic layer (dielectric layer) 12 and an internal electrode layer 14 are integrated. The ceramic layer 12 is made of a ceramic material. Internal electrode layers 14 are arranged between the ceramic layers 12 in the vertical direction Y. As shown in FIG. In the electronic component manufacturing method disclosed herein, the internal electrode layers 14 are formed using the photosensitive composition described above. The internal electrode layers 14 adjacent in the vertical direction Y with the ceramic layer 12 interposed therebetween are electrically connected through vias 16 penetrating the ceramic layer 12 . As a result, the internal electrode layers 14 are configured in a three-dimensional spiral shape (helical shape). Both ends of the internal electrode layer 14 are connected to the external electrodes 20 respectively.

このような積層チップインダクタ1は、例えば、次の通りに製造できる。まず、セラミック材料とバインダ樹脂と有機溶剤とを含むペーストを調製し、これをキャリアシート上に供給して、セラミックグリーンシートを形成する。次いで、このセラミックグリーンシートを圧延後、所望のサイズにカットして、複数のセラミック層形成用グリーンシートを得る。次いで、複数のセラミック層形成用グリーンシートの所定の位置に、穿孔機等を用いて適宜ビアホールを形成する。 Such a multilayer chip inductor 1 can be manufactured, for example, as follows. First, a paste containing a ceramic material, a binder resin and an organic solvent is prepared and supplied onto a carrier sheet to form a ceramic green sheet. Next, the ceramic green sheets are rolled and cut into desired sizes to obtain a plurality of ceramic layer-forming green sheets. Next, via holes are appropriately formed at predetermined positions of the plurality of ceramic layer forming green sheets using a drilling machine or the like.

次いで、上述した感光性組成物を用いて、複数のセラミック層形成用グリーンシートの所定の位置に、所定のコイルパターンの硬化膜を形成する。一例として、以下の工程を包含する製造方法を実施する。これによって、セラミック層形成用グリーンシートの表面に、所定のパターンの硬化膜を形成できる。
成形工程:感光性組成物をセラミック層形成用グリーンシート上に付与(印刷)して乾燥することにより、感光性組成物の乾燥体である膜状体を成形する。
露光工程:膜状体に所定のパターンの開口部を有したフォトマスクを被せ、開口部から露出した膜状体の一部を露光し、膜状体の一部を硬化膜にする。
現像工程:現像液を用いて未硬化の膜状体を除去する。
Next, using the photosensitive composition described above, a cured film having a predetermined coil pattern is formed on predetermined positions of the plurality of ceramic layer-forming green sheets. As an example, a manufacturing method including the following steps is carried out. Thereby, a cured film having a predetermined pattern can be formed on the surface of the ceramic layer forming green sheet.
Forming step: The photosensitive composition is applied (printed) onto the ceramic layer-forming green sheet and dried to form a film-like body, which is a dried body of the photosensitive composition.
Exposure step: The filmy body is covered with a photomask having openings of a predetermined pattern, and the part of the filmy body exposed from the openings is exposed to form a cured film on the part of the filmy body.
Development step: The uncured film-like body is removed using a developer.

なお、上記硬化膜の形成に際しては、従来公知の手法を適宜用いることができる。例えば、上記成形工程における感光性組成物の付与は、スクリーン印刷等の各種印刷法や、バーコータ等を用いて行うことができる。また、感光性組成物の乾燥は、有機バインダおよび光硬化性樹脂の沸点以下の温度(典型的には50~100℃)で実施することが好ましい。次に、露光工程では、例えば10~500nmの波長範囲の光線を発する露光機、例えば高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等の紫外線照射灯を用いることができる。そして、現像工程における現像液には、アルカリ性の水系現像液を使用できる。かかる水系現像液の一例として、水酸化ナトリウム水溶液や炭酸ナトリウム水溶液などを使用できる。なお、これらの水系現像液のアルカリ濃度は、例えば、0.01~0.5質量%に調整するとよい。 In forming the cured film, a conventionally known method can be appropriately used. For example, application of the photosensitive composition in the molding step can be performed using various printing methods such as screen printing, a bar coater, and the like. Moreover, drying of the photosensitive composition is preferably carried out at a temperature (typically 50 to 100° C.) below the boiling point of the organic binder and the photocurable resin. Next, in the exposure step, an exposure machine that emits light in a wavelength range of 10 to 500 nm, for example, an ultraviolet irradiation lamp such as a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or a xenon lamp can be used. An alkaline aqueous developer can be used as the developer in the development process. As an example of such an aqueous developer, an aqueous sodium hydroxide solution, an aqueous sodium carbonate solution, or the like can be used. The alkali concentration of these water-based developers may be adjusted to, for example, 0.01 to 0.5% by mass.

次に、積層チップインダクタ1の製造では、上記現像工程を実施した後に焼成工程を実施する。具体的には、硬化膜が形成されたセラミック層形成用グリーンシートを複数枚積層して圧着することによって、セラミックグリーンシートの積層体を作製する。そして、この積層体をまとめて焼成することによって、複数のセラミックグリーンシートが一体的に焼結される。これによって、図1に示すように、セラミック層12と、硬化膜が焼結した導電層(内部電極層14)とが一体化した本体部10が形成される。なお、本工程における焼成温度(焼成処理における最高温度)は、例えば600~1000℃程度が好ましい。 Next, in manufacturing the multilayer chip inductor 1, the baking process is performed after the developing process. Specifically, a laminate of ceramic green sheets is manufactured by laminating and pressing a plurality of green sheets for forming a ceramic layer on which a cured film is formed. Then, by collectively firing this laminate, the plurality of ceramic green sheets are integrally sintered. As a result, as shown in FIG. 1, the body portion 10 is formed in which the ceramic layer 12 and the conductive layer (the internal electrode layer 14) formed by sintering the cured film are integrated. The sintering temperature (maximum temperature in the sintering treatment) in this step is preferably about 600 to 1000° C., for example.

そして、積層チップインダクタ1の製造では、焼成後の本体部10の左右方向Xにおける両端に外部電極形成用ペーストを付与した後に所定の条件で焼成する。これによって、本体部10の両端部に外部電極20を有する積層チップインダクタ1が製造される。かかる積層チップインダクタ1の製造では、内部電極層14の形成に上記構成の感光性組成物が用いられているため、緻密かつ厚膜の内部電極層14が適切に形成される。このため、製造後の積層チップインダクタ1は、電気抵抗が低く、高性能の電子機器の構築に好適に使用できる。 In manufacturing the multilayer chip inductor 1, the external electrode forming paste is applied to both ends in the left-right direction X of the fired main body 10, and then fired under predetermined conditions. As a result, the multilayer chip inductor 1 having the external electrodes 20 on both ends of the main body 10 is manufactured. In the manufacture of the multilayer chip inductor 1, the photosensitive composition having the structure described above is used to form the internal electrode layers 14, so that the dense and thick internal electrode layers 14 are appropriately formed. Therefore, the manufactured multilayer chip inductor 1 has a low electric resistance and can be suitably used for constructing a high-performance electronic device.

[試験例]
以下、ここに開示される技術に関する試験例を説明する。なお、以下の説明は、ここに開示される技術を試験例に示されるものに限定することを意図したものではない。
[Test example]
Test examples relating to the technology disclosed herein will be described below. It should be noted that the following description is not intended to limit the technology disclosed herein to those shown in the test examples.

<第1の試験>
1.感光性組成物の調製
(1)サンプル1
本サンプルでは、導電性粉末と、有機バインダと、光硬化性樹脂と、有機系分散媒とを混合した感光性組成物を調製した。また、本サンプルでは、これらの主成分の他に光重合開始剤も添加した。まず、導電性粉末として、銀粉末(D50粒径:2μm)を用意した。
<First test>
1. Preparation of photosensitive composition (1) Sample 1
For this sample, a photosensitive composition was prepared by mixing a conductive powder, an organic binder, a photocurable resin, and an organic dispersion medium. In this sample, a photopolymerization initiator was also added in addition to these main components. First, silver powder ( D50 particle size: 2 μm) was prepared as a conductive powder.

また、有機バインダとして、セルロース系水溶性樹脂と、2種類のアクリル系水溶性樹脂を用意した。なお、セルロース系水溶性樹脂の重量平均分子量は110000である。また、1つ目のアクリル系水溶性樹脂の重量平均分子量は35000であり、2つ目のアクリル系水溶性樹脂の重量平均分子量は8000である。なお、本試験では、カルボキシ基を有するセルロース系水溶性樹脂を使用した。また、重量平均分子量が35000のアクリル系水溶性樹脂には、上記化1の式で示され、ガラス転移点が90℃を示し、酸価が100mgKOH/gを示すように構成されたアクリル系水溶性樹脂を使用した。一方、重量平均分子量が8000のアクリル系水溶性樹脂には、上記化1の式で示され、ガラス転移点が60℃を示し、酸価が95mgKOH/gを示すように構成されたアクリル系水溶性樹脂を使用した。 As organic binders, a cellulose-based water-soluble resin and two types of acrylic water-soluble resins were prepared. The weight average molecular weight of the cellulose-based water-soluble resin is 110,000. The weight average molecular weight of the first acrylic water-soluble resin is 35,000, and the weight average molecular weight of the second acrylic water-soluble resin is 8,000. In addition, in this test, a cellulose-based water-soluble resin having a carboxy group was used. Further, the acrylic water-soluble resin having a weight average molecular weight of 35,000 is represented by the formula of Chemical Formula 1, and has a glass transition point of 90 ° C. and an acid value of 100 mgKOH / g. soft resin was used. On the other hand, for the acrylic water-soluble resin having a weight average molecular weight of 8000, an acrylic water-soluble resin having a glass transition point of 60° C. and an acid value of 95 mgKOH/g represented by the above formula 1 soft resin was used.

また、光硬化性樹脂として、ウレタンアクリレートポリマー(重量平均分子量:9000)と、ウレタンアクリレートオリゴマー(重量平均分子量:2000)を用意した。また、光重合開始剤には、2-ベンジル-2-(ジメチルアミノ)-1-(4-モルフォリノフェニル)-1-ブタノンと、2,4-ジエチルチオキサントンとを重量平均分子量が300になるように混合したものを使用した。また、有機系分散媒には、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートとジヒドロターピネオールの混合溶媒を使用した。 Moreover, a urethane acrylate polymer (weight average molecular weight: 9000) and a urethane acrylate oligomer (weight average molecular weight: 2000) were prepared as photocurable resins. In addition, 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)-1-butanone and 2,4-diethylthioxanthone are used as the photopolymerization initiator so that the weight average molecular weight becomes 300. I used a mixture of A mixed solvent of dipropylene glycol methyl ether acetate and dihydroterpineol was used as the organic dispersion medium.

そして、上述の各成分を計量した後に混合することによって、サンプル1の感光性組成物を調製した。具体的には、まず、各々の有機成分(セルロース系水溶性樹脂、アクリル系水溶性樹脂、ウレタンアクリレートポリマー、ウレタンアクリレートオリゴマー、光重合開始剤)を、表1に示す含有割合になるように秤量して、有機系分散媒に溶解させ、ベヒクルを調製した。そして、上記用意した銀粉末と、上記調製したベヒクルとを81:19の質量比で混合した。これによって、81wt%の銀粉末を含み、有機成分の重量平均分子量Mwが44067となる感光性組成物(サンプル1)を調製した。なお、表1に示す質量比は、感光性組成物の全体を100質量%としたときのものであり、表1に示す質量比の合計が100質量%に満たない場合は、その他の添加成分(例えば、重合禁止剤、増感剤、ゲル化防止剤、紫外線吸収剤)を微量に含んでいることを意味する。 Then, a photosensitive composition of Sample 1 was prepared by weighing and then mixing the above components. Specifically, first, each organic component (cellulosic water-soluble resin, acrylic water-soluble resin, urethane acrylate polymer, urethane acrylate oligomer, photopolymerization initiator) is weighed so as to have the content ratio shown in Table 1. and dissolved in an organic dispersion medium to prepare a vehicle. Then, the silver powder prepared above and the vehicle prepared above were mixed at a mass ratio of 81:19. As a result, a photosensitive composition (Sample 1) containing 81 wt % silver powder and having a weight average molecular weight Mw of the organic component of 44,067 was prepared. In addition, the mass ratio shown in Table 1 is when the entire photosensitive composition is 100% by mass, and when the total mass ratio shown in Table 1 is less than 100% by mass, other additive components (For example, a polymerization inhibitor, a sensitizer, an anti-gelling agent, an ultraviolet absorber) is contained in a trace amount.

(2)サンプル2~9
有機成分の総量を9wt%に維持した状態で各々の有機成分の含有量を調節し、有機成分の重量平均分子量Mwを変化させた点を除いて、サンプル1と同じ条件で感光性組成物を調製した(サンプル2~9)。サンプル2~9の各々における各成分の添加量を表1に示す。
(2) Samples 2-9
A photosensitive composition was prepared under the same conditions as in Sample 1, except that the content of each organic component was adjusted while the total amount of the organic component was maintained at 9 wt%, and the weight average molecular weight Mw of the organic component was changed. prepared (samples 2-9). Table 1 shows the amount of each component added in each of Samples 2-9.

(3)サンプル10~12
銀粉末の添加量を79wt%~85wt%の範囲内で変化させた点を除いて、サンプル6と同じ条件で各成分を混合して感光性組成物を調製した(サンプル10~12)。サンプル10~12の各々における各成分の添加量を表1または表2に示す。
(3) Samples 10-12
A photosensitive composition was prepared by mixing each component under the same conditions as for sample 6 (samples 10 to 12), except that the amount of silver powder added was varied within the range of 79 wt % to 85 wt %. Table 1 or Table 2 shows the amount of each component added in each of Samples 10-12.

(4)サンプル13
重量平均分子量が異なるウレタンアクリレートポリマーを使用した点を除いて、サンプル6と同じ条件で感光性組成物を調製した(サンプル13)。サンプル13における各成分の添加量を表2に示す。なお、サンプル13で使用したウレタンアクリレートポリマーの重量平均分子量は30000である。
(4) Sample 13
A photosensitive composition was prepared under the same conditions as Sample 6, except that a urethane acrylate polymer with a different weight average molecular weight was used (Sample 13). Table 2 shows the amount of each component added in Sample 13. The weight average molecular weight of the urethane acrylate polymer used in Sample 13 is 30,000.

(5)サンプル14
重量平均分子量が異なるウレタンアクリレートポリマーを使用し、かつ、ウレタンアクリレートオリゴマー(重量平均分子量:2000)の添加量を変化させた点を除いて、サンプル6と同じ条件で感光性組成物を調製した(サンプル14)。サンプル14における各成分の添加量を表2に示す。なお、サンプル14で使用したウレタンアクリレートポリマーの重量平均分子量は60000である。
(5) Sample 14
A photosensitive composition was prepared under the same conditions as Sample 6, except that urethane acrylate polymers with different weight average molecular weights were used and the amount of urethane acrylate oligomer (weight average molecular weight: 2000) added was changed ( Sample 14). Table 2 shows the amount of each component added in Sample 14. The weight average molecular weight of the urethane acrylate polymer used in sample 14 is 60,000.

(6)サンプル15~24
有機成分の総量が7wt%~10wt%の範囲で変化するように各々の有機成分の含有量を調節して10種類の感光性組成物を調製した(サンプル15~24)。サンプル15~24の各々における各成分の添加量を表2及び表3に示す。
(6) Samples 15-24
Ten kinds of photosensitive compositions were prepared by adjusting the content of each organic component so that the total amount of the organic component varied in the range of 7 wt % to 10 wt % (Samples 15 to 24). Tables 2 and 3 show the amount of each component added in each of Samples 15-24.

2.評価試験
本試験では、上記サンプル1~24の感光性組成物を用いて、グリーンシート上に硬化膜が形成された複合体を作製し、印刷性評価と残渣評価と剥離性評価を行った。以下、各評価の手順について説明する。
2. Evaluation test In this test, composites in which a cured film was formed on a green sheet were produced using the photosensitive compositions of Samples 1 to 24, and printability evaluation, residue evaluation, and peelability evaluation were performed. The procedure for each evaluation will be described below.

(1)複合体の作製
まず、スクリーン印刷を用いて、感光性組成物(サンプル1~24)を市販のセラミックグリーンシート上に4cm×4cmの大きさで塗布した。次に、これを60℃で15分間乾燥させて、グリーンシート上に膜状体(ベタ膜)を成形した(成形工程)。次に、所定のパターンの開口部を有するフォトマスクを膜状体の上に被せた後に、露光機により、照度50mW/cm、露光量200mJ/cmの条件で光を照射し、露光部分を硬化させた(露光工程)。このとき、フォトマスクに形成された開口部のパターンは、線状の開口部が所定の間隔を空けて平行に形成されたものである。そして、この開口部の幅(硬化膜の幅)と、隣接する開口部の間隔の幅(硬化膜の間隔)との比L/S(ライン/スペース)が20μm/20μmに設定されたフォトマスクを使用した。
(1) Fabrication of Composite First, the photosensitive compositions (Samples 1 to 24) were applied to commercially available ceramic green sheets in a size of 4 cm×4 cm using screen printing. Next, this was dried at 60° C. for 15 minutes to form a film-like body (solid film) on the green sheet (forming step). Next, after covering the filmy body with a photomask having openings in a predetermined pattern, light is irradiated with an exposure machine under the conditions of an illuminance of 50 mW/cm 2 and an exposure amount of 200 mJ/cm 2 to expose the exposed portion. was cured (exposure step). At this time, the pattern of openings formed in the photomask is such that linear openings are formed in parallel at predetermined intervals. A photomask in which the ratio L/S (line/space) of the width of the opening (the width of the cured film) and the width of the interval between the adjacent openings (the interval of the cured film) is set to 20 μm/20 μm. It was used.

次いで、セラミックグリーンシートの表面に、0.1質量%のアルカリ性のNaCO水溶液(現像液)を、ブレイクポイント(B.P.)+5秒に到達するまで吹き付けた(現像工程)。なお、B.P.としては、0.1質量%のアルカリ性の現像液によって未露光の膜状体が除去され、目視で膜状体が除去されたと確認できるまでの時間とした。そして、未露光の膜状体が除去された後のセラミックグリーンシートを純水で洗浄し、室温で乾燥させた。これによって、L/S=20μm/20μmの配線パターンでセラミックグリーンシート上に硬化膜が形成された複合体を得た。 Next, a 0.1% by mass alkaline Na 2 CO 3 aqueous solution (developer) was sprayed onto the surface of the ceramic green sheet until the breaking point (BP) +5 seconds was reached (development step). In addition, B. P. was the time until the unexposed film-like material was removed with a 0.1% by mass alkaline developer and the removal of the film-like material could be visually confirmed. Then, the ceramic green sheet from which the unexposed film-like body was removed was washed with pure water and dried at room temperature. As a result, a composite was obtained in which a cured film was formed on the ceramic green sheet with a wiring pattern of L/S=20 μm/20 μm.

(2)印刷性評価
成形工程で成膜した膜状体(ベタ膜)に対して光学顕微鏡で合計20視野の目視観察を行った。そして、膜表面の段差や基材の露出が生じているか否かを調べることによって各サンプルの印刷性を評価した。なお、「膜表面の段差」とは、図2のような光学顕微鏡観察において白色で観察される部分である。この段差の凹部が光硬化後の硬化膜に配置されると、膜厚の不足による抵抗増大や断線の原因になり得る。また、好適な印刷性を有する感光性組成物を用いた場合には、図3のように全ての領域において均一な厚みの膜状体が形成される。かかる目視観察の結果を、表1中の「印刷性評価」の欄に示す。なお、本評価における評価基準は下記の通りである。
「◎」:全ての視野において、膜表面の段差や基材の露出が全く確認されなかった。
「○」:1つの視野において、膜表面の段差が確認された。
「△」:2つ以上の視野において、膜表面の段差が確認された。
「×」:1つ以上の視野において、基材の露出が確認された。
(2) Printability Evaluation Visual observation of a total of 20 fields of view was performed with an optical microscope on the film-like body (solid film) formed in the molding process. Then, the printability of each sample was evaluated by examining whether or not there was a step on the film surface and whether or not the base material was exposed. In addition, the “step on the film surface” is a portion observed in white when observed with an optical microscope as shown in FIG. 2 . If the concave portion of the step is arranged in the cured film after photocuring, it may cause an increase in resistance or disconnection due to insufficient film thickness. Moreover, when a photosensitive composition having suitable printability is used, a filmy body having a uniform thickness is formed in all regions as shown in FIG. The results of such visual observation are shown in the column of "printability evaluation" in Table 1. In addition, the evaluation criteria in this evaluation are as follows.
"A": No step on the film surface or exposure of the base material was observed in any field of view.
"◯": Steps on the film surface were observed in one field of view.
“Δ”: Steps on the film surface were observed in two or more fields of view.
"X": Exposure of the substrate was confirmed in one or more fields of view.

(3)残渣評価
現像工程後に形成された硬化膜の配線パターンの間隔を光学顕微鏡で合計20視野の目視観察を行った。そして、除去されなかった膜状体の一部が残留しているか否か(残渣の有無)を確認した。結果を表1中の「残渣評価」の欄に示す。本評価における評価基準は下記の通りである。
「◎」:20視野中、残渣が全く確認されなかった。
「○」:1つの視野において残渣が確認された。
「△」:2つ以上4つ以下の視野において残渣が確認された。
「×」:5つ以下の視野において残渣が確認された。
(3) Evaluation of Residue After the development step, the intervals between the wiring patterns of the cured film formed were visually observed with an optical microscope for a total of 20 fields. Then, it was confirmed whether or not a part of the film-like body which was not removed remained (whether or not there was a residue). The results are shown in the column of "Residue evaluation" in Table 1. The evaluation criteria in this evaluation are as follows.
"A": No residue was observed in 20 visual fields.
"◯": A residue was confirmed in one field of view.
"Δ": Residues were observed in 2 or more and 4 or less visual fields.
"x": Residue was confirmed in five or less visual fields.

(4)剥離性評価
印刷性評価において一応の硬化膜が形成できると評価されたサンプル(印刷性評価が「○」以上のサンプル)を対象に剥離性評価を行った。具体的には、配線パターンのL/Sが異なる3種類のフォトマスク(L/S=15μm/15μm、20μm/20μm、25μm/25μm)を準備し、各々のフォトマスクを使用して、所定の配線パターンを有する硬化膜をセラミックグリーンシート上に形成した。なお、本評価における現像工程は、現像マージンを考慮し、現像する時間を上記ブレイクポイント(B.P.)+5秒の時間とした。この点を除いて、上記「(1)複合体の作製」と同じ手順で複合体を作製した。
(4) Evaluation of Peelability Samples evaluated to be able to form a cured film to some extent in the evaluation of printability (samples with a printability evaluation of "O" or higher) were subjected to peelability evaluation. Specifically, three types of photomasks (L/S=15 μm/15 μm, 20 μm/20 μm, 25 μm/25 μm) with different wiring pattern L/S are prepared, and each photomask is used to obtain a predetermined A cured film having a wiring pattern was formed on the ceramic green sheet. In the development process in this evaluation, the development time was set to the break point (B.P.) + 5 seconds in consideration of the development margin. Except for this point, the composite was produced in the same procedure as in "(1) Preparation of composite" above.

次に、上記作製した各配線パターンについて、光学顕微鏡で合計10視野観察し、得られた観察画像から剥離の有無を確認した。そして、剥離が確認されなかった最も小さなL/Sを調べた。また、この結果に基づき、下記の指標で評価を行った。結果を、表1中の「剥離性評価」の欄に示す。なお、評価基準は以下の通りである。
「◎」:剥離が確認されなかった最小のL/Sが15μm/15μmである。
「○」:剥離が確認されなかった最小のL/Sが20μm/20μmである。
「×」:L/Sが25μm/25μmの場合でも剥離が確認された。
Next, each wiring pattern prepared above was observed with an optical microscope for a total of 10 fields of view, and the presence or absence of peeling was confirmed from the obtained observation images. Then, the smallest L/S where peeling was not confirmed was examined. Moreover, based on this result, the following index evaluated. The results are shown in the column of "Peelability Evaluation" in Table 1. In addition, the evaluation criteria are as follows.
"A": The minimum L/S at which peeling was not confirmed was 15 µm/15 µm.
"◯": The minimum L/S at which peeling was not confirmed was 20 μm/20 μm.
"Poor": Peeling was confirmed even when L/S was 25 μm/25 μm.

Figure 2022142730000006
Figure 2022142730000006

Figure 2022142730000007
Figure 2022142730000007

Figure 2022142730000008
Figure 2022142730000008

表1中の残渣評価および剥離性評価に示すように、サンプル3~8、10~24では、未露光の膜状体が適切に除去されており、かつ、露光した膜状体が適切に光効果して剥離することなく精密なパターンを形成していた。さらに、印刷性評価に示すように、サンプル3~8、10~24の何れにおいても、好適な印刷性が確認された。これらの実験結果から、ウレタンアクリレートポリマーとウレタンアクリレートオリゴマーとを混合したウレタンアクリレート系樹脂を光硬化性樹脂として使用し、かつ、有機成分の重量平均分子量Mwを10000以上32000以下に調節すれば、高濃度の導電性粉末を含有させた場合でも安定的に電子部品を製造できることがわかった。 As shown in the residue evaluation and peelability evaluation in Table 1, in Samples 3 to 8 and 10 to 24, the unexposed filmy material was properly removed, and the exposed filmy material was properly exposed to light. A precise pattern was formed effectively without peeling. Furthermore, as shown in the evaluation of printability, suitable printability was confirmed in all of Samples 3-8 and 10-24. From these experimental results, if a urethane acrylate resin obtained by mixing a urethane acrylate polymer and a urethane acrylate oligomer is used as a photocurable resin and the weight average molecular weight Mw of the organic component is adjusted to 10,000 or more and 32,000 or less, high It has been found that electronic parts can be stably produced even when a concentration of conductive powder is contained.

また、上述したサンプル3~8の中でも、サンプル5~7では、特に好適な印刷性が確認された。このことから、印刷性改善の観点から、有機成分の重量平均分子量Mwは、18000以上25000以下が好適であることがわかった。また、サンプル6、10~12に示すように、導電性粉末の濃度を85質量%まで増加させた場合であっても、低抵抗の電子部品を充分に製造できることがわかった。但し、より好適な印刷性を確保するという観点からは、導電性粉末の濃度は81質量%以下が好適であることがわかった。さらに、サンプル13に示すように、重量平均分子量が30000という高分子量のウレタンアクリレートポリマーを使用した場合であっても、有機成分全体として重量平均分子量Mwを32000以下に調節すれば、適切な印刷性を確保できることがわかった。 Moreover, among the samples 3 to 8 described above, samples 5 to 7 were confirmed to have particularly favorable printability. From this, it was found that the weight average molecular weight Mw of the organic component is preferably 18,000 or more and 25,000 or less from the viewpoint of improving printability. Moreover, as shown in samples 6 and 10 to 12, it was found that even when the concentration of the conductive powder was increased to 85% by mass, low-resistance electronic components could be sufficiently manufactured. However, from the viewpoint of ensuring more suitable printability, it was found that the concentration of the conductive powder is preferably 81% by mass or less. Furthermore, as shown in Sample 13, even when a high molecular weight urethane acrylate polymer having a weight average molecular weight of 30,000 is used, appropriate printability can be obtained by adjusting the weight average molecular weight Mw of the entire organic component to 32,000 or less. was found to be able to ensure

<第2の試験>
1.感光性組成物の調製
本試験では、有機系分散媒の成分を異ならせた点を除いて、上記サンプル5と同じ条件で感光性組成物を調製した。以下、各サンプルで使用した有機系分散媒を説明する。
<Second test>
1. Preparation of Photosensitive Composition In this test, a photosensitive composition was prepared under the same conditions as for Sample 5 above, except that the components of the organic dispersion medium were changed. The organic dispersion medium used in each sample is described below.

(1)サンプル25
本サンプルでは、最初に、上記サンプル5と同様に、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート(DPMA)とジヒドロターピネオール(DHT)の混合溶媒を準備した。そして、この混合溶媒にベンジルアルコール(アルコール系溶剤)を添加し、サンプル5で使用した有機系分散媒の10%をベンジルアルコールで置換した有機系分散媒を調製した。
(1) Sample 25
In this sample, a mixed solvent of dipropylene glycol methyl ether acetate (DPMA) and dihydroterpineol (DHT) was first prepared as in sample 5 above. Then, benzyl alcohol (alcohol-based solvent) was added to this mixed solvent to prepare an organic dispersion medium in which 10% of the organic dispersion medium used in sample 5 was replaced with benzyl alcohol.

(2)サンプル26
本サンプルでは、ベンジルアルコール(アルコール系溶剤)を、プロピレングリコールフェニルエーテル(グリコールエーテル系溶剤)に変更した点を除いて、サンプル25と同じ手順で有機系分散媒を調製した。すなわち、サンプル26で使用した有機分散媒は、サンプル5で使用した有機系分散媒の10%をプロピレングリコールフェニルエーテルで置換したものである。
(2) Sample 26
In this sample, an organic dispersion medium was prepared in the same manner as for sample 25, except that benzyl alcohol (alcohol-based solvent) was changed to propylene glycol phenyl ether (glycol ether-based solvent). That is, the organic dispersion medium used in sample 26 was obtained by substituting 10% of the organic dispersion medium used in sample 5 with propylene glycol phenyl ether.

(3)サンプル27
本サンプルでは、ベンジルアルコール(アルコール系溶剤)を、ソルベントナフサ(石油系溶剤)に変更した点を除いて、サンプル25と同じ手順で有機系分散媒を調製した。すなわち、サンプル27で使用した有機分散媒は、サンプル5で使用した有機系分散媒の10%をソルベントナフサで置換したものである。
(3) Sample 27
In this sample, an organic dispersion medium was prepared in the same manner as for sample 25, except that benzyl alcohol (alcohol-based solvent) was changed to solvent naphtha (petroleum-based solvent). That is, the organic dispersion medium used in sample 27 was obtained by substituting 10% of the organic dispersion medium used in sample 5 with solvent naphtha.

(4)サンプル28
本サンプルでは、ベンジルアルコール(アルコール系溶剤)を、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタジオールモノイソブチレート(エステル系溶剤)に変更した点を除いて、サンプル25と同じ手順で有機系分散媒を調製した。すなわち、サンプル27で使用した有機分散媒は、サンプル5で使用した有機系分散媒の10%を2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタジオールモノイソブチレートで置換したものである。
(4) Sample 28
In this sample, the procedure was the same as for sample 25, except that benzyl alcohol (alcohol solvent) was changed to 2,2,4-trimethyl-1,3-pentadiol monoisobutyrate (ester solvent). An organic dispersion medium was prepared. That is, the organic dispersion medium used in sample 27 was obtained by substituting 10% of the organic dispersion medium used in sample 5 with 2,2,4-trimethyl-1,3-pentadiol monoisobutyrate.

(5)サンプル29
本サンプルでは、サンプル5で使用した「DPMAとDHTの混合溶媒」の代わりに、「プロピレングリコールフェニルエーテルとターピネオールの混合溶媒」を有機分散媒として使用した。
(5) Sample 29
In this sample, instead of the "mixed solvent of DPMA and DHT" used in sample 5, a "mixed solvent of propylene glycol phenyl ether and terpineol" was used as the organic dispersion medium.

なお、サンプル25~29は、有機分散媒を変更した点を除いて、サンプル5と同じ手順で調製した感光性組成物である。 Samples 25 to 29 are photosensitive compositions prepared in the same manner as Sample 5, except that the organic dispersion medium was changed.

2.評価試験
上記サンプル25~29の感光性組成物について、第1の試験と同じ手順に従って印刷性評価と残渣評価と剥離性評価を行った。各々の評価試験の結果を表4に記載する。
2. Evaluation Test The photosensitive compositions of Samples 25 to 29 were subjected to printability evaluation, residue evaluation, and peelability evaluation according to the same procedures as in the first test. Table 4 lists the results of each evaluation test.

Figure 2022142730000009
Figure 2022142730000009

まず、表4に示すように、サンプル25~28は、サンプル5(表1参照)と同様に、印刷性評価と残渣評価と剥離性評価の各々について好適な結果を示すことが確認された。この実験結果から、ここに開示される感光性組成物における有機系分散媒は、当該有機系分散媒の総量に対して10質量%以下の範囲内であれば、グリコールエーテル系溶剤とアルコール系溶剤との混合溶媒以外の溶媒を含んでもよいことが確認された。また、サンプル29に示すように、DPMAとDHTの混合溶媒ではなく、プロピレングリコールフェニルエーテルとターピネオールの混合溶媒を使用した場合でも、印刷性評価と残渣評価と剥離性評価の各々について好適な結果を示すことが確認された。このことから、ここに開示される感光性組成物における有機系分散媒には、グリコールエーテル系溶剤とアルコール系溶剤との混合溶媒を広く使用できることが分かった。 First, as shown in Table 4, it was confirmed that Samples 25 to 28, like Sample 5 (see Table 1), showed favorable results in each of printability evaluation, residue evaluation, and peelability evaluation. From this experimental result, the organic dispersion medium in the photosensitive composition disclosed herein is within a range of 10% by mass or less with respect to the total amount of the organic dispersion medium, glycol ether solvent and alcohol solvent. It was confirmed that a solvent other than the mixed solvent with may also be included. Moreover, as shown in Sample 29, even when a mixed solvent of propylene glycol phenyl ether and terpineol was used instead of a mixed solvent of DPMA and DHT, favorable results were obtained for each of printability evaluation, residue evaluation, and peelability evaluation. It was confirmed that From this, it was found that a mixed solvent of a glycol ether solvent and an alcohol solvent can be widely used as the organic dispersion medium in the photosensitive composition disclosed herein.

以上、本発明を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、本発明はその主旨を逸脱しない範囲で種々変更を加え得るものである。 Although the present invention has been described in detail above, these are merely examples, and the present invention can be modified in various ways without departing from the scope of the invention.

1 積層チップインダクタ
10 本体部
12 セラミック層
14 内部電極層
20 外部電極
REFERENCE SIGNS LIST 1 multilayer chip inductor 10 main body 12 ceramic layer 14 internal electrode layer 20 external electrode

Claims (12)

無機成分と有機成分と有機系分散媒とを含み、導電層の形成に用いられる感光性組成物であって、
前記無機成分は、導電性粉末を含み、
前記有機成分は、有機バインダと、光硬化性樹脂と、を含み、
前記有機系分散媒は、グリコールエーテル系溶剤とアルコール系溶剤との混合溶媒を含み、
前記感光性組成物の総重量を100質量%としたときの前記導電性粉末の含有量が74質量%以上であり、かつ、前記有機成分の含有量が7質量%以上10質量%以下であり、
前記有機成分の重量平均分子量Mwが10000以上32000以下であり、
前記光硬化性樹脂は、
(メタ)アクリロイル基とウレタン結合を有し、重量平均分子量が6000以上であるウレタン(メタ)アクリレートポリマーと、(メタ)アクリロイル基とウレタン結合を有し、重量平均分子量が6000未満であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーと、を含有する、感光性組成物。
A photosensitive composition containing an inorganic component, an organic component and an organic dispersion medium and used for forming a conductive layer,
The inorganic component includes a conductive powder,
The organic component includes an organic binder and a photocurable resin,
The organic dispersion medium contains a mixed solvent of a glycol ether solvent and an alcohol solvent,
When the total weight of the photosensitive composition is 100% by mass, the content of the conductive powder is 74% by mass or more, and the content of the organic component is 7% by mass or more and 10% by mass or less. ,
The weight average molecular weight Mw of the organic component is 10000 or more and 32000 or less,
The photocurable resin is
A urethane (meth)acrylate polymer having a (meth)acryloyl group and a urethane bond and having a weight average molecular weight of 6000 or more, and a urethane (meth)acryloyl group and a urethane bond having a weight average molecular weight of less than 6000 ( and a meth)acrylate oligomer.
前記導電性粉末が銀系粒子を含む、請求項1に記載の感光性組成物。 2. The photosensitive composition of claim 1, wherein said conductive powder comprises silver-based particles. 感光性組成物の総重量を100質量%としたとき、前記導電性粉末の含有量が79質量%以上である、請求項1または2に記載の感光性組成物。 3. The photosensitive composition according to claim 1, wherein the content of said conductive powder is 79% by mass or more when the total weight of said photosensitive composition is 100% by mass. 前記有機成分の重量平均分子量Mwが25000以下である、請求項1~3のいずれか一項に記載の感光性組成物。 4. The photosensitive composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the organic component has a weight average molecular weight Mw of 25,000 or less. 前記有機バインダは、セルロース系化合物を含む、請求項1~4のいずれか一項に記載の感光性組成物。 The photosensitive composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the organic binder comprises a cellulosic compound. 前記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの平均重量分子量Mwが500以上5000以下である、請求項1~5のいずれか一項に記載の感光性組成物。 The photosensitive composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the urethane (meth)acrylate oligomer has an average weight molecular weight Mw of 500 or more and 5000 or less. 前記有機バインダの平均重量分子量Mwが20000以上60000以下である、請求項1~6のいずれか一項に記載の感光性組成物。 7. The photosensitive composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the organic binder has an average weight molecular weight Mw of 20,000 or more and 60,000 or less. 前記有機成分は、光重合開始剤をさらに含む請求項1~7のいずれか一項に記載の感光性組成物。 The photosensitive composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the organic component further comprises a photopolymerization initiator. 導電層の形成に用いられる感光性組成物を製造する方法であって、
導電性粉末を含む無機成分を計量する無機成分計量工程と、
有機バインダと光硬化性樹脂を含む有機成分を計量する有機成分計量工程と、
前記無機成分と、前記有機成分と、グリコールエーテル系溶剤とアルコール系溶剤との混合溶媒を含む有機系分散媒とを混合する混合工程と
を備え、
前記無機成分計量工程において、前記感光性組成物の総重量を100質量%としたときの前記導電性粉末の含有量が74質量%以上となるように前記導電性粉末を計量し、
前記有機成分計量工程において、前記感光性組成物の総重量を100質量%としたときの前記有機成分の含有量が7質量%以上10質量%以下となり、かつ、前記有機成分の重量平均分子量Mwが10000以上32000以下となるように前記有機成分を計量し、前記光硬化性樹脂として、(メタ)アクリロイル基とウレタン結合を有し、重量平均分子量Mwが6000以上であるウレタン(メタ)アクリレートポリマーと、(メタ)アクリロイル基とウレタン結合を有し、重量平均分子量Mwが6000未満であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する光硬化性樹脂を使用する、感光性組成物の製造方法。
A method for producing a photosensitive composition used to form a conductive layer, comprising:
an inorganic component weighing step of weighing an inorganic component containing a conductive powder;
an organic component weighing step of weighing an organic component including an organic binder and a photocurable resin;
A mixing step of mixing the inorganic component, the organic component, and an organic dispersion medium containing a mixed solvent of a glycol ether solvent and an alcohol solvent,
In the inorganic component weighing step, weighing the conductive powder so that the content of the conductive powder is 74% by mass or more when the total weight of the photosensitive composition is 100% by mass;
In the organic component weighing step, the content of the organic component is 7% by mass or more and 10% by mass or less when the total weight of the photosensitive composition is 100% by mass, and the weight average molecular weight Mw of the organic component is 10000 or more and 32000 or less, and the photocurable resin is a urethane (meth)acrylate polymer having a (meth)acryloyl group and a urethane bond and having a weight average molecular weight Mw of 6000 or more. and a photocurable resin containing a urethane (meth)acrylate oligomer having a (meth)acryloyl group and a urethane bond and having a weight average molecular weight Mw of less than 6,000.
グリーンシートと、
前記グリーンシート上に配置され、請求項1~8の何れか一項に記載の感光性組成物が光硬化された硬化膜と、
を備える、複合体。
green sheet and
A cured film disposed on the green sheet and photocured from the photosensitive composition according to any one of claims 1 to 8;
A complex comprising:
請求項1~8の何れか一項に記載の感光性組成物の焼成体からなる導電層を備える、電子部品。 An electronic component comprising a conductive layer comprising a fired body of the photosensitive composition according to any one of claims 1 to 8. 請求項1~8の何れか一項に記載の感光性組成物を基材上に付与して、露光、現像した後、焼成して、前記感光性組成物の焼成体からなる導電層を形成する工程を含む、電子部品の製造方法。 The photosensitive composition according to any one of claims 1 to 8 is applied onto a substrate, exposed, developed, and then baked to form a conductive layer composed of a baked body of the photosensitive composition. A method of manufacturing an electronic component, comprising the step of
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