JP2022121150A - Light extraction substrate, organic el panel containing them, and manufacturing method of them - Google Patents

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淳平 鈴木
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Abstract

To provide a high performance organic EL panel.SOLUTION: An organic EL panel 10 of the present invention, is the organic EL panel 10 containing an organic EL element 1 and a sealing film 9 in order on an element formation surface of a light extraction substrate 20 containing a glass substrate 21, a light extraction film 23, and a flatness film 24. The element formation surface is formed by: an element formation region 20A containing a light emission area 1A corresponded to the organic EL element 1 in a flat view; and a frame edge region 20G surrounding them that includes an absence continuous peripheral 20GL without having the sealing film 9. The organic EL element 1 contains: a light transmissivity conductive layer 6; an organic functional layer 7; and a reactive conductive layer 8. The flatness film 24 contains an organic binder, and its whole circumference is surrounded by the light extraction film 23 and the sealing film 9 without being exposed to an external part.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光取り出し基板、及びこれを含む有機ELパネル、並びに、その製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a light extraction substrate, an organic EL panel including the same, and a manufacturing method thereof.

有機EL素子は、物質に電界を印加した際に発光を生じる現象を利用した面発光素子である。そして基板上に有機EL素子を形成した有機ELパネルは、自発光型、薄型にできるなどの特徴を生かし、平面状光源やディスプレイ等への応用展開が図られている。 An organic EL element is a surface emitting element that utilizes a phenomenon in which light is emitted when an electric field is applied to a substance. Organic EL panels, in which organic EL elements are formed on a substrate, are being developed for application to flat light sources, displays, etc., taking advantage of their characteristics such as being self-luminous and capable of being made thin.

ここで、有機EL素子の発光層などに使用される有機機能性材料は水分や酸素によって劣化しやすく、ダークスポットの生成や発光効率の低下を引き起こしてしまうため、基板には素子外部から侵入する酸素や水分に対して高いバリア性を有することが必要となる。 Here, the organic functional materials used in the light-emitting layer of the organic EL element are easily degraded by moisture and oxygen, causing the generation of dark spots and a decrease in luminous efficiency. It is necessary to have high barrier properties against oxygen and moisture.

また、光取り出し基板は、発光部の光を外部に効率よく取り出す役割がある。光取り出し基板の、有機EL素子、特にその有機機能層、と接する表面に凹凸が存在すると、有機ELパネルの電力発光効率は低下、漏れ電流は増加するため、光取り出し基板には表面平滑性が要求される。 Further, the light extraction substrate has a role of efficiently extracting the light from the light emitting portion to the outside. If there is unevenness on the surface of the light extraction substrate that is in contact with the organic EL element, especially its organic functional layer, the power luminous efficiency of the organic EL panel will decrease and the leakage current will increase. requested.

特許文献1は、このような光取り出し基板に関し、アルカリバリア膜を備えた化学強化薄板ガラス基板では、そのアルカリバリア膜自体の光吸収や光散乱の性質により光取出し効率が低下したり、そのアルカリバリア膜の表面の平坦性が不足していた場合には、それに起因して有機EL素子のリーク電流が大きくなり信頼性が低下したりする懸念に対応し、そのようなアルカリバリア膜に代えて、特定のバリア膜を備え、かつ、特定の平滑領域を含む一主面を有する化学強化薄板ガラス基材上に特定の光取出し構造を介し有機EL素子を備えた有機ELパネルとすることで、有機EL特性を損なうことなく高性能の有機ELパネルを得ることを開示する。 Patent Document 1 relates to such a light extraction substrate. In a chemically strengthened thin glass substrate provided with an alkali barrier film, the light extraction efficiency is reduced due to the light absorption and light scattering properties of the alkali barrier film itself, and the alkali In response to the concern that the lack of flatness of the surface of the barrier film causes the leakage current of the organic EL element to increase and the reliability to decrease, the alkali barrier film is replaced with , An organic EL panel comprising an organic EL element via a specific light extraction structure on a chemically strengthened thin glass substrate having a main surface including a specific barrier film and a specific smooth region, Disclosed is to obtain a high-performance organic EL panel without impairing organic EL characteristics.

特許文献2は、このような光取り出し基板である、表面平滑性に優れた透光性電極層を形成でき、かつ、より大きな散乱性を有する散乱層付きの透光性基板として、ガラス基材、及び散乱層を含み、該散乱層の該ガラス基材側とは反対側の面を透光性電極層形成用面とする、透光性電極層形成用の散乱層付き透光性基板であって、該散乱層が、第一のガラス材の非晶質マトリクス、該非晶質マトリクス中に分散してなり、かつ、該第一のガラス材の結晶子を含む結晶子粒子、及び、該非晶質マトリクス中に分散してなり、かつ、該第一のガラス材より高融点の第二のガラス材のガラス粒子を含む、透光性電極層形成用の散乱層付き透光性基板を開示する。 Patent Document 2 describes a light extraction substrate, which is a light-transmitting substrate capable of forming a light-transmitting electrode layer with excellent surface smoothness and having a scattering layer with greater scattering properties, as a light-transmitting substrate with a glass base material. , and a light-transmitting substrate with a scattering layer for forming a light-transmitting electrode layer, wherein the surface of the scattering layer opposite to the glass substrate side is the surface for forming the light-transmitting electrode layer. wherein the scattering layer comprises an amorphous matrix of a first glass material, crystallite particles dispersed in the amorphous matrix and comprising crystallites of the first glass material, and Disclosed is a light-transmitting substrate with a scattering layer for forming a light-transmitting electrode layer, comprising glass particles of a second glass material having a melting point higher than that of the first glass material dispersed in a crystalline matrix. do.

国際公開WO2019/004061号パンフレットInternational publication WO2019/004061 pamphlet 特開2019-175693号公報JP 2019-175693 A

この様な光取り出し基板を用いることで、有機ELパネルは、その性能、特に発光効率が向上するが、光取り出し基板に形成される光取り出し膜には、信頼性、特に長寿命化の観点から、より優れた特性、特に、より高い表面平滑性が望まれる。 By using such a light extraction substrate, the performance of the organic EL panel, especially the luminous efficiency, is improved. , better properties, especially higher surface smoothness, are desired.

例えば、特許文献1には、上記平滑性を改善するカバー層の形成方法について記述されているが、この方法で作製される有機ELパネルは、陽極・陰極の電気回路形成に困難性を伴う場合もあり、適切に設計しなければ、それに起因した発光ムラが生じる等の課題が想定される場合もあり、改善の余地がある。 For example, Patent Literature 1 describes a method for forming a cover layer that improves the smoothness. However, if the design is not properly designed, problems such as uneven light emission may occur due to this, and there is room for improvement.

例えば、特許文献2には、高性能かつ比較的平滑性の良好な光取り出し膜の形成方法について記述されているが、この方法では、光取り出し膜の表面に発生する可能性ある気泡により、当該平滑性が阻害される課題が発生する場合もあり、改善の余地がある For example, Patent Document 2 describes a method for forming a high-performance and relatively smooth light extraction film. In some cases, problems that hinder smoothness may occur, and there is room for improvement

本発明者は、このような従来技術の課題に鑑みて、1枚の原料ガラス基材から、所望のサイズの有機ELパネルを複数取り出す製造方法において、この様な課題を解決し、長寿命かつ高性能の有機ELパネルを、効率よく生産する方法につき検討し、本発明を為すに至った。 In view of such problems of the prior art, the present inventors have solved such problems in a manufacturing method for extracting a plurality of organic EL panels of a desired size from one raw material glass substrate, and have a long life and long life. The inventors have investigated a method for efficiently producing a high-performance organic EL panel, and have completed the present invention.

即ち、本発明は、発光面側から順に、ガラス基材、光取り出し膜、及び平坦化膜を含む光取り出し基板の素子形成面上に順に、有機EL素子、及び封止膜を含む有機ELパネルであって、
該素子形成面は平面視、該有機EL素子に対応する発光エリアを含む素子形成領域、及び、これを取り囲む額縁領域からなり、
該有機EL素子は、透光性導電層、有機機能層、及び反射性導電層の重畳部分であり、
該平坦化膜層は、有機バインダーを含み、かつ、その全周が、該光取り出し膜、該封止膜、及び該透光性導電層によって、外部に露出することなく、取り囲まれていることを特徴とする有機ELパネルに関する。
That is, the present invention provides an organic EL panel including an organic EL element and a sealing film in this order on the element forming surface of a light extraction substrate including a glass substrate, a light extraction film, and a planarizing film in this order from the light emitting surface side. and
The element formation surface consists of an element formation area including a light emitting area corresponding to the organic EL element and a frame area surrounding it in plan view,
The organic EL element is a superimposed portion of a translucent conductive layer, an organic functional layer, and a reflective conductive layer,
The planarizing film layer contains an organic binder, and is surrounded by the light extraction film, the sealing film, and the translucent conductive layer without being exposed to the outside. It relates to an organic EL panel characterized by

このような本発明の有機ELパネルは、平面視、光取り出し膜の範囲内に平坦化膜が含まれるので、陽極・陰極に係る有機EL素子に給電する為の給電経路中の電極部等の電気回路形成が容易となり、これに伴って、発光ムラが生じる等の課題を解消できることもあり、高性能の有機ELパネルなる。 In such an organic EL panel of the present invention, since the flattening film is included in the range of the light extraction film in plan view, the electrodes and the like in the power supply path for supplying power to the organic EL elements related to the anode and cathode are not included. It becomes easy to form an electric circuit, and along with this, problems such as uneven light emission can be solved, resulting in a high-performance organic EL panel.

また、上記額縁領域は、**
後述する有機ELパネル切り出し工程を容易にする観点から、封止膜が存在しない不存在連続周を有することが好ましく、上記光取り出し膜は、有機EL素子の性能の劣化を抑制する観点から、水分透過特性のない無機成分のみから成ることが好ましく、十分な光取り出し性能を確保する観点から、その平均膜厚は、10μm以上であることが好ましい。
In addition, the above picture frame area is **
From the viewpoint of facilitating the organic EL panel cutting process, which will be described later, it is preferable to have a non-existent continuous circumference without a sealing film. It is preferably composed of only an inorganic component that does not transmit light, and from the viewpoint of ensuring sufficient light extraction performance, the average film thickness is preferably 10 μm or more.

また、上記平坦化膜は、十分な平坦性を確保する観点から、その平均膜厚が5μm以下であることが好ましく、有機EL素子をより高発光効率とする観点から、その屈折率が1.8以上であることが好ましい。 From the viewpoint of ensuring sufficient flatness, the planarizing film preferably has an average film thickness of 5 μm or less. 8 or more is preferable.

また、上記発光エリアは、より高信頼性かつ高性能の有機ELパネルとする観点から、少なくとも一方向に2mm以上の大きさを有することが好ましく、上記素子形成領域は、複数の上記発光エリアを、平坦化膜の封止幅に相当する分離幅であって、少なくとも0.5mm以上の幅の分離帯の幅の間隔で含むことが好ましい。 In addition, the light-emitting area preferably has a size of 2 mm or more in at least one direction from the viewpoint of obtaining a highly reliable and high-performance organic EL panel, and the element formation region includes a plurality of the light-emitting areas. , the separation width corresponding to the sealing width of the flattening film, and is preferably included at intervals of the width of the separation band having a width of at least 0.5 mm.

さらに、本発明は、本発明の有機ELパネルの製造方法であって、
原料ガラス基材であって、前記ガラス基材を含む
1枚の原料ガラス基材から、少なくとも2枚以上の上記有機ELパネルを切り出す、
切り出し工程を含む、有機ELパネルの製造方法に関し、長寿命かつ高性能の有機ELパネルを、効率よく生産できる。
Furthermore, the present invention is a method for manufacturing the organic EL panel of the present invention,
At least two or more of the organic EL panels are cut out from one raw glass substrate including the raw glass substrate,
A long-life and high-performance organic EL panel can be efficiently produced with respect to an organic EL panel manufacturing method including a cutting step.

また、このような本発明の有機ELパネルの製造方法では、連続光取り出し膜形成工程を含むことが好ましく、より効率よく本発明の有機ELパネルを生産でき、
当該連続光取り出し膜形成工程では、
上記光取り出し膜を、上記原料ガラス基材上に、
上記有機EL素子に給電する為の給電経路中の
電極部、及び
複数の上記額縁領域を含み、かつ、
連続する
連続光取り出し膜形成領域に、光取り出し膜を形成する。
In addition, such a method for manufacturing the organic EL panel of the present invention preferably includes a continuous light extraction film forming step, so that the organic EL panel of the present invention can be produced more efficiently.
In the continuous light extraction film forming step,
The light extraction film is placed on the raw material glass substrate,
an electrode part in a power feeding path for feeding power to the organic EL element, and a plurality of the frame regions, and
A light-outcoupling film is formed in a continuous light-outcoupling film-forming region.

またさらに、本発明は、このような本発明の有機ELパネルに好適な光取り出し基板に関し、当該取り出し基板は、ガラス基材、光取り出し膜、及び平坦化膜を含む光取り出し基板であって、
該光取り出し膜が、無機成分のみから成り、かつ、その平均膜厚が10μm以上であり、
該平坦化膜が、
有機バインダーを含み、
平面視、その存在する領域である、平坦化膜存在領域が、該光取り出し膜の存在する領域である、光取り出し膜存在領域に含まれ、
その平均膜厚が5μm以下であり、かつ、
その屈折率が1.8以上である。
Furthermore, the present invention relates to a light extraction substrate suitable for such an organic EL panel of the present invention, wherein the extraction substrate is a light extraction substrate including a glass base material, a light extraction film, and a planarizing film,
the light extraction film is composed only of an inorganic component and has an average film thickness of 10 μm or more;
The planarizing film is
containing an organic binder,
In a plan view, a flattening film presence region, which is the region in which it exists, is included in the light extraction film presence region, which is the region in which the light extraction film exists,
The average film thickness is 5 μm or less, and
Its refractive index is 1.8 or more.

本発明によって、高信頼性、高機械的強度、高発光効率の有機ELパネルを実現することができる。 According to the present invention, an organic EL panel with high reliability, high mechanical strength, and high luminous efficiency can be realized.

本発明の有機ELパネル10の一実施形態の一断面の概念図である。1 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of an organic EL panel 10 of the present invention; FIG. 図1の有機ELパネル10の他断面の概念図である。2 is a conceptual diagram of another cross section of the organic EL panel 10 of FIG. 1. FIG. 本発明の光取り出し基板20の一実施形態の断面概念図であり、形成予定の有機EL素子1の一実施形態が、破線で描かれている。1 is a conceptual cross-sectional view of an embodiment of a light extraction substrate 20 of the present invention, in which an embodiment of an organic EL element 1 to be formed is drawn with a dashed line; FIG. 図3の光取り出し基板20を含む有機ELパネル10の一実施形態の断面概念図である。4 is a conceptual cross-sectional view of an embodiment of an organic EL panel 10 including the light extraction substrate 20 of FIG. 3. FIG. 実施例1の有機ELパネル10の断面の概念図である。1 is a conceptual diagram of a cross section of an organic EL panel 10 of Example 1. FIG. 比較例1の有機ELパネルの断面の概念図である。2 is a conceptual diagram of a cross section of an organic EL panel of Comparative Example 1. FIG. 比較例2の有機ELパネルの発光エリア1Aにおける光取り出し膜23から封止膜9までの断面概念図である。10 is a conceptual cross-sectional view from the light extraction film 23 to the sealing film 9 in the light emitting area 1A of the organic EL panel of Comparative Example 2. FIG. 実施例2の、切り出し工程前の有機ELパネル10を複数枚含む、原料ガラス基材200に形成する膜、層、素子等の形成位置を概念的に示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view conceptually showing formation positions of films, layers, elements, and the like formed on a raw glass substrate 200 including a plurality of organic EL panels 10 before a cutting step in Example 2;

上述したように、本発明は、光取り出し基板、及びこれを含む有機ELパネル、並びに、その製造方法に関し、光取り出し基板の製造方法にも関し、以下、本発明の実施態様について説明する。 As described above, the present invention relates to a light-outcoupling substrate, an organic EL panel including the same, a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing the light-outcoupling substrate. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.

[有機ELパネル10]
図1は、本発明の有機ELパネル10の一実施形態の一の断面の概念図であり、図2は、図1の有機ELパネル10の他の断面の概念図である。
[Organic EL panel 10]
FIG. 1 is a conceptual diagram of one cross section of an embodiment of an organic EL panel 10 of the present invention, and FIG. 2 is a conceptual diagram of another cross section of the organic EL panel 10 of FIG.

本発明の有機ELパネル10は、有機EL素子1に対応する発光エリア1Aを含む発光面、及び、当該有機EL素子1への水分の浸入を防ぐ為に形成される封止膜9が配された封止面、を両方の主面とし、光取り出し基板20の素子形成面上に有機EL素子1が形成された、板状の光源部材であり、当該素子形成面は、有機ELパネル10の前記封止面側の面である。ここで、前記発光エリア1Aは、有機EL素子信頼性の観点から、好ましくは、少なくとも一方向に、2mm以上の大きさを有する。 The organic EL panel 10 of the present invention has a light emitting surface including a light emitting area 1A corresponding to the organic EL element 1, and a sealing film 9 formed to prevent moisture from entering the organic EL element 1. A plate-shaped light source member in which the sealing surfaces are both main surfaces, and the organic EL element 1 is formed on the element forming surface of the light extraction substrate 20, and the element forming surface is the organic EL panel 10. It is the surface on the side of the sealing surface. Here, from the viewpoint of reliability of the organic EL element, the light emitting area 1A preferably has a size of 2 mm or more in at least one direction.

図2に示す様に、本発明の有機ELパネル10は、有機EL素子1に給電する為の給電経路中の電極部10Gを含み、図2では、透光性導電層6の、有機EL素子1に含まれない、本発明に係る重畳部分以外の、非重畳部分の上に、具体的には、その左側に、素子の陽極側に正電位を印加する電極部10Gが描かれ、その右側に、素子の陰極側に負電位を印加する電極部10Gが描かれている。 As shown in FIG. 2, the organic EL panel 10 of the present invention includes an electrode portion 10G in a power supply path for supplying power to the organic EL element 1. In FIG. On the non-overlapping portion other than the overlapping portion according to the present invention, which is not included in 1, specifically on the left side thereof, an electrode portion 10G for applying a positive potential to the anode side of the element is drawn, and on the right side thereof. 2, an electrode portion 10G for applying a negative potential to the cathode side of the element is drawn.

図1及び図2に示す様に、透光性導電層6、有機機能層7、及び反射性導電層8の重畳部分である、有機EL素子1は、本発明に係る平坦化膜24上に、好ましくは、これと接して、形成されており、そのような平坦化膜24が、光取り出し膜23、封止膜9、及び透光性導電層6によって、外部に露出することなく、取り囲まれていることが、本発明の特徴の一つであり、これにより本発明の効果である、高信頼性、高機械的強度、高発光効率の有機ELパネルとなる。 As shown in FIGS. 1 and 2, the organic EL element 1, which is the overlapping portion of the translucent conductive layer 6, the organic functional layer 7, and the reflective conductive layer 8, is formed on the planarizing film 24 according to the present invention. , preferably in contact therewith, and such a planarization film 24 is surrounded by the light extraction film 23, the sealing film 9, and the translucent conductive layer 6 without being exposed to the outside. It is one of the features of the present invention that the organic EL panel has high reliability, high mechanical strength, and high luminous efficiency, which are the effects of the present invention.

[光取り出し基板20]
図3は、本発明の光取り出し基板20の一実施形態の断面概念図であり、形成予定の有機EL素子1の一実施形態が、破線で描かれている。
[Light extraction substrate 20]
FIG. 3 is a conceptual cross-sectional view of one embodiment of the light-outcoupling substrate 20 of the present invention, in which one embodiment of the organic EL element 1 to be formed is drawn with broken lines.

本発明に係る光取り出し基板20は、前記発光面となる場合もある一方の主面、及び、他方の素子形成面を両主面とする板状の透光性部材であり、一方の主面から素子形成面に向かい順に、ガラス基材21、光取り出し膜23、及び平坦化膜24を含み、平坦化膜24の表面は、素子形成面の少なくとも一部を構成し、この素子形成面の平坦化膜24の表面は、平面視で、光取り出し膜23の平坦化膜存在領域24Aに相当する。 The light-outcoupling substrate 20 according to the present invention is a plate-shaped light-transmitting member whose main surfaces are one main surface that may be the light-emitting surface and the other element formation surface. A glass substrate 21, a light extraction film 23, and a planarizing film 24 are included in this order from to the element forming surface, and the surface of the planarizing film 24 constitutes at least a part of the element forming surface. The surface of the planarizing film 24 corresponds to the planarizing film existing region 24A of the light extraction film 23 in plan view.

前記素子形成面は、その全面が、平面視で発光エリア1Aを含む、素子形成領域20A、及び、当該素子形成領域20Aを取り囲む、額縁領域20Gのみから構成される。 The entire surface of the element formation surface is composed only of an element formation region 20A including the light emitting area 1A in plan view and a frame region 20G surrounding the element formation region 20A.

前記素子形成領域20Aは、上述したように、平面視で、有機EL素子1に対応する、発光エリア1Aを含むが、好ましくは、複数の発光エリア1Aを、後述する分離帯1Bの幅の間隔で含む。 As described above, the element forming region 20A includes the light-emitting areas 1A corresponding to the organic EL elements 1 in plan view. Including in

ここで、分離帯1Bは、例えば、図1に示す、平坦化膜24の表面であって、封止膜9と直接接する表面であり、後述するように、水分を透過する特性を有する、本発明に係る平坦化膜24を封止膜9で保護することで、素子への水分侵入を防止する為の、平坦化膜24の封止幅に相当する、少なくとも0.5mm以上の幅の帯状の領域である。 Here, the separation band 1B is, for example, the surface of the planarizing film 24 shown in FIG. By protecting the flattening film 24 according to the invention with the sealing film 9, a strip having a width of at least 0.5 mm or more corresponding to the sealing width of the flattening film 24 for preventing moisture from entering the device. is the area of

ここで、このような分離帯1Bにおいては、平坦化膜24の表面は、封止膜9と直接接するが、分離帯1Bの全領域における平坦化膜24の表面が、封止膜9と直接接する必要は無く、前記非重畳部分の、透光性導電層6や有機機能層7、反射性導電層8を介して、封止膜9に覆われていれば良く、本発明の有機ELパネル10が複数の有機EL素子1を含む場合には、好ましくは、そのような非重畳部分の透光性導電層6及び反射性導電層8からなる群から選ばれる1以上を介して、平面視で、素子形成領域20A内の複数の有機EL素子1は、直列、及び並列からなる群から選ばれる1以上の方法で、電気接続されている。 Here, in such a separation band 1B, the surface of the planarizing film 24 is in direct contact with the sealing film 9, but the surface of the planarizing film 24 in the entire region of the separation band 1B is directly in contact with the sealing film 9. There is no need to contact, and it is sufficient if the non-overlapping portion is covered with the sealing film 9 via the translucent conductive layer 6, the organic functional layer 7, and the reflective conductive layer 8, and the organic EL panel of the present invention. 10 includes a plurality of organic EL elements 1, preferably through one or more selected from the group consisting of the translucent conductive layer 6 and the reflective conductive layer 8 in such a non-overlapping portion, in plan view The plurality of organic EL elements 1 in the element formation region 20A are electrically connected by one or more methods selected from the group consisting of series and parallel.

図4は、図3の光取り出し基板20を含む有機ELパネル10の一実施形態の断面概念図である。 FIG. 4 is a conceptual cross-sectional view of an embodiment of the organic EL panel 10 including the light extraction substrate 20 of FIG.

前記額縁領域20Gは、図4に示す様に、平面視で、本発明に係る封止膜9が存在しない、封止膜不存在領域20GGを含み、当該封止膜不存在領域20GGは、有機EL素子1に給電する為の給電経路中の電極部10Gを含み、図4では、左側に、素子の陽極側に正電位を印加する電極部10Gが描かれ、右側に、素子の陰極側に負電位を印可する電極部10Gが描かれている。 As shown in FIG. 4, the frame region 20G includes a sealing film absent region 20GG in which the sealing film 9 according to the present invention does not exist in plan view. In FIG. 4, the electrode portion 10G for applying a positive potential to the anode side of the element is drawn on the left side, and the electrode portion 10G for applying a positive potential to the anode side of the element is drawn on the right side in FIG. An electrode portion 10G to which a negative potential is applied is drawn.

また、封止膜不存在領域20GGは、好ましくは、連続して素子形成領域20Aを取り囲む領域である、不存在連続周20GLである。なお、図4では、その左右の端部各々に、1枚の有機ELパネル10の中に、封止膜不存在領域20GGを挟んで左右に、封止膜9が形成されているように描かれている。このような左右の封止膜9について、各々パネル端部側の封止膜9は形成されていなくても良く、その場合でも、連続する封止膜不存在領域20GGは、不存在連続周20GLに該当する。 Also, the sealing film non-existing region 20GG is preferably a non-existing continuous circumference 20GL that is a region that continuously surrounds the element formation region 20A. In FIG. 4, the left and right ends of the single organic EL panel 10 are depicted as if the sealing films 9 are formed on the left and right sides of the sealing film absent region 20GG. is Regarding such left and right sealing films 9, the sealing film 9 on the panel edge side may not be formed. correspond to

このような光取り出し基板20は、本発明の有機ELパネル10を、薄く軽いパネルとしつつ、さらにはベンダブル又はフレキシブルの特性をパネルに付与せしめる観点から、その平均厚みが、8mm以下であることが好ましく、より好ましくは4mm以下、さらに好ましくは2mm以下であり、ハンドリング可能とする観点から、0.1mm以上であることが好ましく、より好ましくは0.2mm以上、更に好ましくは0.4mm以上である。 Such a light extraction substrate 20 should have an average thickness of 8 mm or less from the viewpoint of making the organic EL panel 10 of the present invention thin and light and imparting bendable or flexible characteristics to the panel. It is preferably 4 mm or less, still more preferably 2 mm or less, and from the viewpoint of handling, it is preferably 0.1 mm or more, more preferably 0.2 mm or more, and still more preferably 0.4 mm or more. .

本発明に係る光取り出し基板20は、ガラス基材21に含まれている場合があるアルカリ成分が、有機EL素子1へ侵入することを防ぐ機能を有するアルカリバリア層を含んでいても良く、このようなアルカリバリア層は、プラスの荷電を有するアルカリイオンを捕獲せしめる観点からマイナス荷電を有する酸素の結合乖離点を含む酸化物であることが好ましく、さらには無色透明であることが好ましく、光取り出し効率の観点から、屈折率はガラス基材21同等以上の1.5~2.0程度であることが望ましく、また、ひび割れ等が発生せず、かつ、十分な強度で光取り出し基板20に含まれている必要があり、さらに、簡便な方法で全体に連続かつ隙間無く製膜できるものであることが望ましく、このような観点から、非晶質シリカ系膜を含む層が好ましい。 The light-outcoupling substrate 20 according to the present invention may contain an alkali barrier layer having a function of preventing alkali components that may be contained in the glass substrate 21 from penetrating into the organic EL element 1. From the viewpoint of capturing positively charged alkali ions, such an alkali barrier layer is preferably an oxide containing a bond dissociation point of negatively charged oxygen, and is preferably colorless and transparent. From the viewpoint of efficiency, the refractive index is desirably about 1.5 to 2.0, which is equal to or higher than that of the glass substrate 21. In addition, cracks do not occur and the light extraction substrate 20 has sufficient strength. Furthermore, it is desirable that the film can be formed continuously and without gaps by a simple method. From this point of view, a layer containing an amorphous silica-based film is preferable.

[ガラス基材21]
本発明に係るガラス基材21は、光取り出し基板20を構成する主な部材であり、好ましくは、原料ガラス基材200に複数枚含まれ、上述したのと同様の理由で、その平均厚みが、8mm以下であることが好ましく、より好ましくは4mm以下、さらに好ましくは2mm以下であり、ハンドリング可能とする観点から、0.1mm以上であることが好ましく、より好ましくは0.2mm以上、更に好ましくは0.4mm以上である。
[Glass substrate 21]
The glass substrate 21 according to the present invention is a main member constituting the light extraction substrate 20. Preferably, a plurality of glass substrates 21 are included in the raw glass substrate 200, and for the same reason as described above, the average thickness of the glass substrate 21 is , preferably 8 mm or less, more preferably 4 mm or less, still more preferably 2 mm or less, and from the viewpoint of handling, it is preferably 0.1 mm or more, more preferably 0.2 mm or more, and still more preferably is 0.4 mm or more.

このようなガラス基材21は、ガラスを薄くした場合の割れに対し強度を向上せしめ、実容に耐えるパネルとする観点から化学強化されていても良く、十分な強度の基材とする観点から端面処理が施されていることが好ましく、その構成としては、単層のみならず、複層であってもなんら問題はなく、耐摩耗性や平滑性、割れに対する強度向上のために、いずれかの面に処理層や被覆膜が形成されていても良い。 Such a glass substrate 21 may be chemically strengthened from the viewpoint of improving the strength against cracking when the glass is made thin and making it a panel that can withstand practical use. It is preferable that the end face is treated, and as for the structure, there is no problem not only with a single layer but also with a multi-layer. A treatment layer or a coating film may be formed on the surface of .

前記原料ガラス基材200は、上述したように、本発明に係るガラス基材21を、複数含み、即ち、1枚の原料ガラス基材200を原料として、複数枚の本発明の有機ELパネル10を製造でき、好ましくは、後述する切り出し工程により、複数枚の有機ELパネル10が切り出される。このような切り出しは、原料ガラス基材200に、光取り出し膜23、平坦化膜24、透光性導電層6、有機機能層7、反射性導電層8、封止膜9、本発明に係る給電経路に含まれる構成を順に形成したり、OC層を形成したりする、いかなる工程間、工程後でも可能であるが、多数の有機ELパネル10を簡便かつ安価に製造する観点から、好ましくは、光取り出し膜23形成後、より好ましくは、原料ガラス基材200の一主面全面に光取り出し膜23形成後、さらに好ましくは、平坦化膜24形成後、特に好ましくは、光取り出し膜23と平坦化膜24との線膨張係数差異に基づく温度変化に伴う応力発生起因の信頼性低下抑制の観点から、複数の互いに分離された平坦化膜24を形成後、最も好ましくは、封止膜9形成後に、後述する本発明に係る切り出し工程として、複数枚の有機ELパネル10を切り出すことであり、その後に、各有機ELパネル10に個別にOC層を形成することが好ましく、より好ましくは、後述するOCFを、貼付フィルム層としてOC層を形成することである。 As described above, the raw glass substrate 200 includes a plurality of the glass substrates 21 according to the present invention. can be manufactured, and preferably, a plurality of organic EL panels 10 are cut out by a cutting process described later. Such cutting is carried out on the raw material glass substrate 200, the light extraction film 23, the planarizing film 24, the translucent conductive layer 6, the organic functional layer 7, the reflective conductive layer 8, the sealing film 9, and the film according to the present invention. It is possible between and after any steps such as sequentially forming the components included in the power supply path and forming the OC layer, but from the viewpoint of easily and inexpensively manufacturing a large number of organic EL panels 10, preferably , after forming the light-outcoupling film 23, more preferably after forming the light-outcoupling film 23 on the entire one main surface of the raw glass substrate 200, still more preferably after forming the flattening film 24, particularly preferably after forming the light-outcoupling film 23 and From the viewpoint of suppressing reliability deterioration due to stress generated due to temperature change based on the difference in coefficient of linear expansion from the planarizing film 24, after forming a plurality of planarizing films 24 separated from each other, the sealing film 9 is most preferable. After the formation, a plurality of organic EL panels 10 are cut out as a cutting step according to the present invention, which will be described later. After that, it is preferable to individually form an OC layer on each organic EL panel 10, and more preferably, It is to form an OC layer by using an OCF, which will be described later, as an adhesive film layer.

[光取り出し膜23]
本発明に係る光取り出し膜23は、単独で、又は、これと隣接する膜や層と共同して、屈折率の異なる界面で光の出射方向を変えて、光取り出し効率を向上させる機能を有する、光取出し構造を構成する膜であり、ガラス基材21の素子形成面側の光取り出し膜存在領域23Aに、好ましくは、無機成分のみから成る材料により、例えば、ガラスフリットにより、好ましくは、平均膜厚が10μm以上の膜として形成される。
[Light extraction film 23]
The light-outcoupling film 23 according to the present invention has a function of improving the light-outcoupling efficiency by changing the light-outgoing direction at interfaces with different refractive indices, either alone or in combination with films or layers adjacent thereto. , which is a film that constitutes a light extraction structure, and is preferably applied to the light extraction film existing region 23A on the element formation surface side of the glass substrate 21 with a material consisting only of an inorganic component, for example, glass frit, preferably with an average It is formed as a film having a film thickness of 10 μm or more.

ここで、前述の光取出し構造は、有機EL素子1内部、特にその後述の有機機能層7内部で、発生した光を、発光面の発光エリア1Aから外界に放射するにあたり、発生した光に対する放射する光の割合を1に近付ける、即ち、取り出される光の割合を大きくすること、即ち、「光取出し」効率を高めることで、高輝度、即ち、高発光効率のパネルとするための構造であり、具体的には、高屈折率媒体(例えば、有機EL素子1内部)から低屈折率媒体(例えば、通常のガラス板)に光が入る際、当該屈折率が異なる界面で生じる全反射を、光の出射角度を変えることで低減せしめる為の構造等である。 Here, the light extraction structure described above is used to radiate the light generated inside the organic EL element 1, particularly inside the organic functional layer 7, which will be described later, from the light emitting area 1A of the light emitting surface to the outside. It is a structure for making a panel with high luminance, that is, a panel with high luminous efficiency by bringing the ratio of the light emitted to close to 1, that is, by increasing the ratio of extracted light, that is, by increasing the “light extraction” efficiency. Specifically, when light enters a low refractive index medium (for example, a normal glass plate) from a high refractive index medium (for example, the inside of the organic EL element 1), the total reflection that occurs at the interface with the different refractive index is It is a structure or the like for reducing by changing the emission angle of light.

また、このような「光取出し構造」は、本発明に係る光取り出し膜23に由来するものだけでなく、光取り出し基板20の一方の主面に配される、いわゆるOCF(out coupling film)を含む、OC層が活用されていることが好ましく、例えば、貼付フィルム層、及び樹脂コーティング層からなる群から選ばれる1層以上を含むように活用することが、より好ましい。 In addition, such a "light extraction structure" is not only derived from the light extraction film 23 according to the present invention, but also includes a so-called OCF (out coupling film) disposed on one main surface of the light extraction substrate 20. It is preferable to utilize an OC layer including, for example, one or more layers selected from the group consisting of an adhesive film layer and a resin coating layer.

このような光取り出し膜23は、光の出射角度を変えることで全反射を低減せしめる観点から、ピラミッド形状やマイクロレンズ形状、モスアイ形状等の凹凸形状を、そのガラス基材とは反対側に有するものとすることもできるが、本発明に係る平坦化膜24による表面平滑性を、簡便、安価、かつ、確実に確保しつつ、本発明に係る信頼性、及び波高効率をより高める観点から、比較的表面が平滑な、屈折率が異なる微細な粒子状部分を含んだり、光散乱効果が大きい結晶粒界面を含んだりする、例えば、屈折率が実質的に0となる空隙を含む、屈折率が1以上、3以下の無機ガラスの膜とすることが好ましく、第1のガラス材、及び当該第一のガラス材中に分散され、前記第一のガラス材と異なる屈折率を有する第二のガラス材を含む膜とすることも好ましく、マトリックスとなる第一のガラス材に、前記第一のガラス材より高融点となる第二のガラス材を添加し、散乱効果を付与し、同時に、高融点材料粒子界面のマトリックス材料結晶化抑制効果によりマトリックスの結晶化温度を上げて、500℃以下で焼成することにより平滑性を維持しつつ、マトリックスの結晶子を微少量形成した膜とすることも好ましい。 Such a light extraction film 23 has an uneven shape such as a pyramid shape, a microlens shape, or a moth-eye shape on the side opposite to the glass substrate from the viewpoint of reducing total reflection by changing the light emission angle. However, from the viewpoint of improving the reliability and crest efficiency of the present invention while ensuring the surface smoothness of the planarizing film 24 of the present invention simply, inexpensively, and reliably, Contains fine particulate portions with relatively smooth surfaces and different refractive indices, or contains crystal grain boundaries with a large light scattering effect, for example, contains voids where the refractive index is substantially 0, refractive index is preferably 1 or more and 3 or less, a first glass material and a second glass material dispersed in the first glass material and having a different refractive index It is also preferable to use a film containing a glass material. A second glass material having a higher melting point than the first glass material is added to the first glass material as a matrix to impart a scattering effect and at the same time, a high It is also possible to raise the crystallization temperature of the matrix due to the effect of suppressing crystallization of the matrix material at the interface of the melting point material particles and bake it at 500 ° C. or less to maintain smoothness and form a film in which a small amount of matrix crystallites is formed. preferable.

このような場合は、例えば、前記第一のガラス材、及び前記第二のガラス材の両方が、Bi-B-SiO-ZnO系ガラスであることが好ましく、安価かつ透明性に優れ、より好ましくは、このようなガラス組成について、前記第二のガラス材のSiO及びBの合計割合を前記第一ガラス材の該合計割合よりも大きくし、かつ、前記第二のガラス材のBiの割合を前記第一ガラス材の該割合よりも小さくすることであり、簡便かつ安価に第二のガラス材を第一のガラス材より高融点な材料とすることができる。 In such a case, for example, both the first glass material and the second glass material are preferably Bi 2 O 3 —B 2 O 3 —SiO 2 —ZnO based glass, which is inexpensive and Excellent transparency, and more preferably, with such a glass composition, the total proportion of SiO 2 and B 2 O 3 in the second glass material is greater than the total proportion in the first glass material, and The ratio of Bi 2 O 3 in the second glass material is made smaller than the ratio in the first glass material, and the second glass material is simply and inexpensively made of a material having a melting point higher than that of the first glass material. can be

さらに好ましくは、前記Bi-B-SiO-ZnO系ガラスの組成について、全体を100wt%として、SiOを0~15wt%、Bを0~15wt%、Biを65~90wt%、ZnOを0~20wt%、Al、BaO、及びZrOの各々を0~10wt%の範囲内とすることであり、より安価かつ簡便に、より光取出し効率に優れ、光学的特性に優れた光取り出し膜23となる。 More preferably, the composition of the Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 -ZnO-based glass is 0 to 15 wt % SiO 2 , 0 to 15 wt % B 2 O 3 , and 0 to 15 wt % Bi 2 O 3 is 65 to 90 wt %, ZnO is 0 to 20 wt %, and each of Al 2 O 3 , BaO, and ZrO is in the range of 0 to 10 wt %. The light extraction film 23 is excellent in efficiency and optical properties.

[平坦化膜24]
本発明に係る平坦化膜24は、その表面である平滑表面が、素子形成面の少なくとも一部を構成し、かつ、当該平滑表面の上に、好ましくは、これと接して、本発明に係る有機EL素子1を形成することで、当該素子の、そして、パネルの特性、特に発光効率や信頼性を担保する機能を有する膜であり、光取り出し膜23の素子形成面側の平坦化膜存在領域24Aに、簡便に形成可能であり、かつ、前記平滑表面の表面平滑性を十分に確保可能な有機バインダー含有の平坦化膜構成材料であって、当該有機バインダーを含むことで水分を透過する特性を有する、有機バインダー含有平坦化膜構成材料により、好ましくは、当該平坦化膜24単独で光散乱性を有する、光散乱性平坦化膜24として、十分な表面平滑性を担保しつつ材料費を抑える観点から、好ましくは、平均膜厚が、1μm以上、5μm以下の膜として形成され、より好ましくは、3μm以下である。
[Planarization film 24]
The flattening film 24 according to the present invention has a smooth surface that constitutes at least a part of the element forming surface, and the planarizing film 24 according to the present invention is formed on, preferably in contact with, the smooth surface. By forming the organic EL element 1, it is a film that has a function of securing the characteristics of the element and the panel, especially the luminous efficiency and reliability, and the presence of a planarizing film on the element formation surface side of the light extraction film 23 A flattening film constituent material containing an organic binder that can be easily formed in the region 24A and that can sufficiently ensure the surface smoothness of the smooth surface, and that contains the organic binder to allow moisture to permeate. Preferably, the planarizing film 24 alone has a light scattering property by using a planarizing film constituent material containing an organic binder having properties, and the material cost is reduced while ensuring sufficient surface smoothness as the light scattering planarizing film 24. from the viewpoint of suppressing the average film thickness, the film is preferably formed as a film having an average film thickness of 1 μm or more and 5 μm or less, more preferably 3 μm or less.

このような平坦化膜24は、その全周、即ち、例えば、その両主面や4側面の如きの、全面が、光取り出し膜23、封止膜9、及び透光性導電層8によって、外部に露出することなく、取り囲まれていること、即ち、これらの光取り出し膜23、封止膜9、及び透光性導電層8以外に接触していないことが、本発明の特徴の一つであり、この特徴により、本発明に係る、高発光効率の効果を担保しつつ、高信頼性の効果を、効果的に奏さしめることができることとなる。 The flattening film 24 has its entire periphery, that is, its entire surfaces such as both main surfaces and four side surfaces thereof, by the light extraction film 23 , the sealing film 9 , and the translucent conductive layer 8 . One of the characteristics of the present invention is that it is surrounded without being exposed to the outside, that is, it is not in contact with anything other than the light extraction film 23, the sealing film 9, and the translucent conductive layer 8. With this feature, it is possible to effectively achieve the effect of high reliability while ensuring the effect of high luminous efficiency according to the present invention.

このような平坦化膜24の前記表面平滑性は、好ましくは5nm以下であり、より好ましくは1nm以下である。 The surface smoothness of such a planarizing film 24 is preferably 5 nm or less, more preferably 1 nm or less.

前記平坦化膜存在領域24Aは、前述の本発明の特徴に基づき、平面視で前記光取り出し膜存在領域23Aに含まれ、その領域内に、有機EL素子1と接する領域でもある発光エリア1Aを含む、素子形成領域20Aを含む。 The flattening film presence region 24A is included in the light extraction film presence region 23A in a plan view based on the features of the present invention described above, and the light emitting area 1A, which is also a region in contact with the organic EL element 1, is included in the planarization film presence region 24A. including the element forming region 20A.

前記有機バインダーを構成する有機材料としては、前記表面平滑性を容易に確保可能とする観点、及び、本発明に係る高信頼性をより優れたものとする観点から、好ましくは、比較的低粘度の液体として塗布した後、硬化させることで良好な表面平滑性が容易に得られる、光硬化性樹脂であり、これを含む平坦化膜構成材料に光を照射することで、平坦化膜24を形成することが、好ましい。 The organic material constituting the organic binder preferably has a relatively low viscosity from the viewpoint of easily ensuring the surface smoothness and from the viewpoint of further improving the high reliability of the present invention. It is a photocurable resin that can easily obtain good surface smoothness by being applied as a liquid of and then cured. Forming is preferred.

平坦化膜24を、前記光散乱性平坦化膜24とする場合には、平坦化膜構成材料は、好ましくは、数平均粒径が0.05μm~3μm、かつ、屈折率が1.8以上の透明金属酸化物の微粒子を含有する。 When the planarizing film 24 is the light-scattering planarizing film 24, the material constituting the planarizing film preferably has a number average particle diameter of 0.05 μm to 3 μm and a refractive index of 1.8 or more. of transparent metal oxide particles.

このような透明金属酸化物の微粒子について、その好ましい数平均粒径は、好ましい光散乱性を発揮せしめる観点から、0.05μm~3μmであり、その材料としては、Ti、Zr、In、Zn、Se、及びWからなる群から選ばれる1種以上の金属酸化物、又は、複合金属酸化物が好ましい。 The number average particle diameter of such transparent metal oxide fine particles is preferably 0.05 μm to 3 μm from the viewpoint of exhibiting preferable light scattering properties, and the materials thereof include Ti, Zr, In, Zn, One or more metal oxides selected from the group consisting of Se and W, or composite metal oxides are preferred.

[有機EL素子1]
本発明に係る有機EL素子1は、透光性導電層6、有機機能層7、及び反射性導電層8を含み、透光性導電層6、及び反射性導電層8の間に、有機化合物を含む発光層を含む有機機能層7が挟持されてなる発光デバイスであり、これらの層の重畳部分が当該素子であり、外部から、透光性導電層6及び反射性導電層8に給電することで、発光する。
[Organic EL element 1]
The organic EL device 1 according to the present invention includes a translucent conductive layer 6, an organic functional layer 7, and a reflective conductive layer 8. Between the translucent conductive layer 6 and the reflective conductive layer 8, an organic compound It is a light-emitting device in which an organic functional layer 7 containing a light-emitting layer containing By doing so, it emits light.

そして、本発明に係る光取り出し基板20の素子形成面上に順に、このような有機EL素子1、及び封止膜9が形成されたものが、本発明の有機ELパネル10である。 The organic EL panel 10 of the present invention is obtained by sequentially forming such an organic EL element 1 and a sealing film 9 on the element forming surface of the light extraction substrate 20 of the present invention.

前記透光性導電層6を形成する材料としては、高い透光性及び電気伝導性を有していれば使用可能であるが、信頼性及び発光効率の観点から透明導電性金属酸化物が好ましく、当該透光性導電層6への前記給電に係る透光性導電層6側給電部を含む当該材料の膜に含まれる透光性導電層6として形成されていることが、より好ましい。 As a material for forming the translucent conductive layer 6, any material having high translucency and electrical conductivity can be used, but transparent conductive metal oxides are preferable from the viewpoint of reliability and luminous efficiency. , the light-transmitting conductive layer 6 is preferably formed as a light-transmitting conductive layer 6 included in the film of the material including a light-transmitting conductive layer 6-side power supply portion related to the power supply to the light-transmitting conductive layer 6 .

このような透明導電性金属酸化物としては、ITOやIZOを例示することができ、その平均厚みとしては1μm以下が好ましく、このような材料の薄板は、CVD法やPVD法などの真空蒸着法によって形成することができる。 As such a transparent conductive metal oxide, ITO and IZO can be exemplified, and the average thickness thereof is preferably 1 μm or less. can be formed by

前記有機機能層7は一般的に、例えば、当該透光性導電層6側から、正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層といった多層構造を有し、これらの層以外にも、電荷発生層を含む接続層や、電荷ブロック層等が含まれていても良い。 The organic functional layer 7 generally has a multilayer structure of, for example, a hole injection layer/hole transport layer/light emitting layer/electron transport layer/electron injection layer from the translucent conductive layer 6 side. A connection layer including a charge generation layer, a charge blocking layer, and the like may be included in addition to the layer of (1).

前記反射性導電層8を形成する材料としては、大きな反射率を有し輝度向上に有効なAl、又はAgが好ましく、その製膜方法としては、高純度な膜が製膜でき材料本来の物性が得易い真空蒸着法が好ましく、当該反射性導電層8への前記給電に係る反射性導電層8側給電部を含む当該材料の膜に含まれる透光性導電層6として形成されていることが、より好ましい。 The material for forming the reflective conductive layer 8 is preferably Al or Ag, which has a high reflectance and is effective in improving brightness. is preferably formed by a vacuum vapor deposition method in which the is more preferred.

[封止膜9]
本発明に係る封止膜9は、有機機能層7や反射性導電層8が大気に触れることで、これらの層を含む有機EL素子1が劣化しないように、有機EL素子1の反射性導電層8側全面、即ち、前記発光面側から観察して発光エリア1Aとなる全領域を含み、その周囲に亘り形成される膜である。
[Sealing film 9]
The sealing film 9 according to the present invention prevents the organic EL element 1 including the organic functional layer 7 and the reflective conductive layer 8 from deteriorating when the organic functional layer 7 and the reflective conductive layer 8 come into contact with the atmosphere. It is a film formed over the entire surface of the layer 8 side, ie, including the entire region that becomes the light emitting area 1A when observed from the light emitting surface side, and covering the periphery thereof.

このような封止膜9の材料としては、十分な水蒸気バリア性を当該層に付与せしめる観点から、無機物を例示することができ、好ましくは、酸化、及び/又は、窒化珪素であり、平均膜みとしては、0.5μm以上、5μm以下であることが好ましい。 From the viewpoint of imparting sufficient water vapor barrier properties to the layer, examples of the material for such a sealing film 9 include inorganic substances, preferably oxide and/or silicon nitride. The thickness is preferably 0.5 μm or more and 5 μm or less.

[有機ELパネル10の製造方法]
本発明の有機ELパネル10の製造方法は、ガラス基材21を含む原料ガラス基材200について、1枚の原料ガラス基材200から、少なくとも2枚以上の有機ELパネル10を切り出す、切り出し工程を含み、好ましくは、後述する連続光取り出し膜形成工程を含む。
[Manufacturing method of organic EL panel 10]
The method for manufacturing the organic EL panel 10 of the present invention includes a step of cutting out at least two or more organic EL panels 10 from one raw glass substrate 200 with respect to the raw glass substrate 200 including the glass substrate 21. Preferably, it includes a continuous light extraction film forming step, which will be described later.

前記連続光取り出し膜形成工程は、複数の額縁領域20Gを含んで、即ち、原料ガラス基材200から切り出される、隣接する有機ELパネル10の額縁領域20Gを含み、かつ、これらに亘って連続する、連続光取り出し膜形成領域223Aに、光取り出し膜23を形成する工程である。 The continuous light-outcoupling film forming step includes a plurality of frame regions 20G, that is, the frame regions 20G of adjacent organic EL panels 10 cut out from the raw glass substrate 200, and continuous across them. , forming the light-outcoupling film 23 in the continuous light-outcoupling film forming region 223A.

また、本発明の有機ELパネル10の製造方法は順に、本発明に係る光取り出し基板20の素子形成面上に有機EL素子1を形成する工程、封止膜9を形成する工程を含み、前記切り出し工程は、好ましくは、有機EL素子1を形成する工程の後、より好ましくは、封止膜9を形成する工程の後に実施する。 Further, the method for manufacturing the organic EL panel 10 of the present invention includes, in order, the step of forming the organic EL element 1 on the element forming surface of the light extraction substrate 20 according to the present invention, the step of forming the sealing film 9, and The cutting step is preferably performed after the step of forming the organic EL element 1 , more preferably after the step of forming the sealing film 9 .

以下、実施例と比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below by way of Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

(実施例1)
図5は、実施例1の有機ELパネル10の断面の概念図であり、このような実施例1の有機ELパネル10を作製し評価する。
(Example 1)
FIG. 5 is a conceptual diagram of a cross section of the organic EL panel 10 of Example 1, and the organic EL panel 10 of Example 1 is produced and evaluated.

まず、ガラス基材21として、屈折率が1.5でサイズが10cm×10cmで厚みが0.7mmのガラス板21、第一のガラス材としてBi-B-SiO-ZnO系ガラスフリット、第二のガラス材としてBi-B-SiO-ZnO系ガラスフリットを準備する。 First, as the glass substrate 21, a glass plate 21 having a refractive index of 1.5, a size of 10 cm×10 cm, and a thickness of 0.7 mm, and a first glass material of Bi 2 O 3 —B 2 O 3 —SiO 2 —. A ZnO-based glass frit and a Bi 2 O 3 —B 2 O 3 —SiO 2 —ZnO-based glass frit as a second glass material are prepared.

次に、第一のガラス材:第二のガラス材が、重量基準で、37.5:62.5となるように混合し、実施例1のガラスペーストを調製する。 Next, the first glass material and the second glass material are mixed at a weight ratio of 37.5:62.5 to prepare the glass paste of Example 1.

次に、このガラス板21の一主面の全面に、調製したガラスペーストを、スクリーン印刷機と孔版を使用し、20μmの平均厚みとなるよう塗布し、ガラスペースト層を形成したガラス板21を作成する。 Next, the prepared glass paste was applied to the entire surface of one main surface of this glass plate 21 using a screen printer and a stencil so as to have an average thickness of 20 μm. create.

次に、このガラスペースト層を形成したガラス板21を、120℃で60分間保持することでガラスペーストを乾燥させ後、これを大気中420℃で60分間焼成し、光取り出し膜23付きガラス板21を作製する。 Next, the glass plate 21 having the glass paste layer formed thereon is held at 120° C. for 60 minutes to dry the glass paste, and then fired in the atmosphere at 420° C. for 60 minutes to obtain a glass plate with the light extraction film 23 attached. 21 is produced.

次に、この光取り出し膜23付きガラス板21の、光取り出し膜23の中央の8.5cm×8.5cmの平坦化膜存在領域24Aとなる領域上に、光散乱性平坦化膜24を形成する為に、TiO微粒子(数平均粒径0.1μm)を含むアクリル系感光性樹脂(屈折率1.9)を塗布・乾燥・UV硬化することで平均層厚み2μmの透光性の光散乱性平坦化膜4を形成する。 Next, a light-scattering flattening film 24 is formed on the area of the glass plate 21 with the light-outcoupling film 23, which will be the flattening-film-existing region 24A of 8.5 cm×8.5 cm in the center of the light-outcoupling film 23. For this purpose, an acrylic photosensitive resin (refractive index 1.9) containing TiO2 fine particles (number average particle diameter 0.1 μm) was applied, dried, and UV-cured to form a translucent light with an average layer thickness of 2 μm. A scattering planarization film 4 is formed.

このようにして実施例1の光取り出し基板20を作製する。なお、この実施例1の光取り出し基板20の平坦化膜存在領域24Aの表面は、Ra1.5nmの表面平滑性を有する。 Thus, the light extraction substrate 20 of Example 1 is produced. The surface of the flattening film existing region 24A of the light extraction substrate 20 of Example 1 has surface smoothness of Ra 1.5 nm.

続いて、図5に示す透光性導電層6存在断面となるようにシャドーマスクを用いて、180℃とした実施例1の光取り出し基板20の上に、平均層厚み120nmのITO層6をRPD法で形成する。このITO層6は、有機EL素子1に給電する為の給電経路中の電極部10Gを各々その上に形成可能な、図5左側に描かれた素子の陽極側に正電位を印加する給電経路に含まれる陽極側給電経路ITO層6として、本発明に係る重畳部分のITO層6に連続しない陽極側給電経路ITO層6、及び、図5右側に描かれた素子の陰極側に負電位を印加する給電経路に含まれる陰極側給電経路ITO層6として、本発明に係る重畳部分のITO層6に連続する陰極側給電経路ITO層6を含む。 Subsequently, an ITO layer 6 having an average layer thickness of 120 nm was formed on the light extraction substrate 20 of Example 1 which was heated to 180° C. using a shadow mask so as to have a cross section where the translucent conductive layer 6 exists as shown in FIG. It is formed by the RPD method. This ITO layer 6 is a power supply path for applying a positive potential to the anode side of the element drawn on the left side of FIG. As the anode-side power supply path ITO layer 6 included in , the anode-side power supply path ITO layer 6 that is not continuous with the ITO layer 6 of the overlapped portion according to the present invention, and the negative potential on the cathode side of the element drawn on the right side of FIG. The cathode-side power supply path ITO layer 6 included in the power supply path to be applied includes the cathode-side power supply path ITO layer 6 continuous to the ITO layer 6 of the overlapping portion according to the present invention.

次に、このITO層6形成後の光取り出し基板20を、真空加熱蒸着装置に導入し、図5に示す断面となるようにシャドーマスクを用いて、有機機能層7及び反射性導電層8の形成工程を実施する。 Next, the light extraction substrate 20 after the formation of the ITO layer 6 is introduced into a vacuum heating vapor deposition apparatus, and a shadow mask is used to form the cross section shown in FIG. A forming step is performed.

具体的には、順に、有機機能層7として、正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層を製膜し、さらにその上に、本発明に係る重畳部分の反射性導電層8、及び、これと連続し、前述の陰極側給電経路ITO層6の上に至る、反射性導電層8として平均層厚み120nmのAl層8を形成する。 Specifically, as the organic functional layer 7, a hole injection layer/hole transport layer/light-emitting layer/electron transport layer/electron injection layer are formed in this order, and further the overlapping portion according to the present invention is formed thereon. A reflective conductive layer 8 and an Al layer 8 having an average layer thickness of 120 nm are formed as the reflective conductive layer 8 continuously on the cathode-side feed path ITO layer 6 described above.

このようにして実施例1の有機EL素子1を作製する。なお、実施例1の有機EL素子1には、実施例1の光取り出し基板20の中央に8cm×8cmの有機EL素子1が形成されている。 Thus, the organic EL element 1 of Example 1 is produced. In the organic EL element 1 of Example 1, the organic EL element 1 of 8 cm×8 cm is formed in the center of the light extraction substrate 20 of Example 1. FIG.

最後に、当該有機EL素子1の全面を覆い、かつ、前記陽極側給電経路ITO層6、及び、前記陰極側給電経路ITO層6に至る封止膜9を形成する。 Finally, a sealing film 9 covering the entire surface of the organic EL element 1 and extending to the anode-side power supply path ITO layer 6 and the cathode-side power supply path ITO layer 6 is formed.

具体的には、連続する無機封止膜9として、反射性導電層8側から順に、CVD法にて酸窒化珪素層(平均厚み2μm)、及びポリシラザン転化シリカ層(平均厚み2μm)を形成する。 Specifically, as the continuous inorganic sealing film 9, a silicon oxynitride layer (average thickness: 2 μm) and a polysilazane-converted silica layer (average thickness: 2 μm) are sequentially formed by the CVD method from the reflective conductive layer 8 side. .

このようにして、実施例1の有機ELパネル10を作製する。 Thus, the organic EL panel 10 of Example 1 is produced.

このようにして作製する実施例1の有機ELパネル10の有機EL素子1に、封止面の無機封止膜9が製膜されておらず剥き出しとなっている、前記陽極側給電経路ITO層6、及び、前記陰極側給電経路ITO層6の間に外部から、3mA/cm2の定電流を給電し、積分球を備えた全光束測定装置により有機EL素子1の全光束を測定することによって、電力発光効率(lm/W)を算出し、その電力発光効率を規格化し1として、後述する比較例1、比較例2、実施例2の電力発光効率と比較する。 In the organic EL element 1 of the organic EL panel 10 of Example 1 manufactured in this way, the inorganic sealing film 9 on the sealing surface is not formed and is exposed, and the anode-side power supply path ITO layer. 6, and a constant current of 3 mA/cm2 is supplied from the outside between the cathode side power supply path ITO layer 6, and the total luminous flux of the organic EL element 1 is measured by a total luminous flux measuring device equipped with an integrating sphere. , the power luminous efficiency (lm/W) is calculated, normalized to 1, and compared with the power luminous efficiencies of Comparative Example 1, Comparative Example 2, and Example 2, which will be described later.

さらに、実施例1の有機ELパネル10の有機EL素子1に、発光開始前の電圧2Vを印加した際の漏れ電流値(A)を測定し、その漏れ電流値を規格化し1として、後述する比較例1、比較例2、実施例2の漏れ電流値と比較する。 Furthermore, the leakage current value (A) was measured when a voltage of 2 V was applied to the organic EL element 1 of the organic EL panel 10 of Example 1, and the leakage current value was normalized as 1, which will be described later. The leakage current values of Comparative Example 1, Comparative Example 2, and Example 2 are compared.

(比較例1)
図6は、比較例1の有機ELパネルの断面の概念図であり、このような比較例1の有機ELパネルを作製し評価する。
(Comparative example 1)
FIG. 6 is a conceptual diagram of the cross section of the organic EL panel of Comparative Example 1, and the organic EL panel of Comparative Example 1 was produced and evaluated.

比較例1として、実施例1におけるガラス板21の一主面の全面に形成するガラスペースト層を、実施例1の平坦化膜存在領域24Aとなる領域上にガラスペースト層を形成すること以外は、実施例1と同様にして、比較例1の有機ELパネルを作製する。 As Comparative Example 1, the glass paste layer formed on the entire surface of one main surface of the glass plate 21 in Example 1 was replaced with the glass paste layer formed on the region to be the flattening film existing region 24A in Example 1. An organic EL panel of Comparative Example 1 is produced in the same manner as in Example 1.

このようにして作製する比較例1の有機ELパネルの有機EL素子1の規格化電力発光効率は、0.6であり、規格化漏れ電流値は、100である。 The normalized power luminous efficiency of the organic EL element 1 of the organic EL panel of Comparative Example 1 manufactured in this manner is 0.6, and the normalized leakage current value is 100.

(比較例2)
図7は、比較例2の有機ELパネルの発光エリア1Aにおける光取り出し膜23から封止膜9までの断面概念図であり、このような比較例2の有機ELパネルを作製し評価する。
(Comparative example 2)
FIG. 7 is a conceptual cross-sectional view from the light extraction film 23 to the sealing film 9 in the light emitting area 1A of the organic EL panel of Comparative Example 2, and the organic EL panel of Comparative Example 2 was produced and evaluated.

比較例2として、実施例1における第二のガラス材の代わりに発泡剤として無機炭酸塩用い、また、実施例1における光散乱性平坦化膜24を形成しないこと以外は、実施例1と同様にして、比較例2の、図7の如く、光取り出し膜23中に気泡を含む、有機ELパネルを作製する。 Comparative Example 2 is the same as Example 1, except that an inorganic carbonate is used as a foaming agent instead of the second glass material in Example 1, and the light-scattering flattening film 24 in Example 1 is not formed. Then, as shown in FIG. 7, an organic EL panel of Comparative Example 2 is manufactured in which air bubbles are contained in the light extraction film 23 .

このようにして作製する比較例2の有機ELパネルの有機EL素子1の規格化電力発光効率は、0.2であり、規格化漏れ電流値は、10000である。 The normalized power luminous efficiency of the organic EL element 1 of the organic EL panel of Comparative Example 2 manufactured in this manner is 0.2, and the normalized leakage current value is 10,000.

(実施例2)
図8は、実施例2の、切り出し工程前の有機ELパネル10を20枚含む、原料ガラス基材200に形成する膜、層、素子等の形成位置を概念的に示す斜視図であり、このような実施例2の有機ELパネル10を作製し評価する。
(Example 2)
FIG. 8 is a perspective view conceptually showing the formation positions of films, layers, elements, etc. formed on a raw glass substrate 200 including 20 organic EL panels 10 before the cutting step in Example 2. The organic EL panel 10 of Example 2 is produced and evaluated.

実施例2として、実施例1におけるガラス基材21の代わりに、実施例1におけるガラス基材21を20枚切り出し可能な原料ガラス基材200として、屈折率が1.5でサイズが40cm×50cmで厚みが0.7mmのガラス板200を用い、また、実施例1において光取り出し膜23付きガラス板21の光取り出し膜23の中央の8.5cm×8.5cmの平坦化膜存在領域24Aとなる領域上に形成する光散乱性平坦化膜24の代わりに、実施例1の有機ELパネル10と同形態の有機ELパネル10が切り出し可能となるように、20箇所の平坦化膜存在領域24Aとなる領域上に、20個の光散乱性平坦化膜24を形成し、さらに、ITO層6、有機機能層7、反射性導電層8、及び封止膜9を形成し、またさらに、本発明に係る切り出し工程を、封止膜9形成後に実施すること以外は、実施例1と同様にして、実施例2の有機ELパネル20枚を作製する。 As Example 2, instead of the glass substrate 21 in Example 1, 20 glass substrates 21 in Example 1 were used as raw glass substrates 200, which had a refractive index of 1.5 and a size of 40 cm×50 cm. In Example 1, the glass plate 200 with a thickness of 0.7 mm is used. Instead of the light-scattering planarizing film 24 formed on the region where the planarizing film exists, 20 planarizing film existing regions 24A are formed so that the organic EL panel 10 having the same shape as the organic EL panel 10 of Example 1 can be cut out. 20 light-scattering planarization films 24 are formed on the region, and the ITO layer 6, the organic functional layer 7, the reflective conductive layer 8, and the sealing film 9 are formed, and furthermore, the present Twenty organic EL panels of Example 2 are produced in the same manner as in Example 1, except that the cutting process according to the invention is performed after the sealing film 9 is formed.

このようにして作製する実施例2の有機ELパネルの有機EL素子1の規格化電力発光効率は、0.95であり、規格化漏れ電流値は、2である。 The normalized power luminous efficiency of the organic EL element 1 of the organic EL panel of Example 2 manufactured in this manner is 0.95, and the normalized leakage current value is 2.

(まとめ)
実施例1の有機EL素子1は、比較例1及び2の有機EL素子1に比べ、規格化電力発光効率において、本発明の効果により大きく、規格化漏れ電流値において、本発明の効果により小さい。
(summary)
Compared to the organic EL devices 1 of Comparative Examples 1 and 2, the organic EL device 1 of Example 1 has a larger normalized power luminous efficiency due to the effects of the present invention, and a normalized leakage current value smaller than the effects of the present invention. .

これは、比較例1の有機EL素子1では、図6の×で描かれた、透光性導電層6の薄い部分がある為に、給電経路の電気抵抗増加に伴う発光ムラや素子の熱劣化に起因するものと考えられ、実施例1の有機EL素子1では、図5に示す様に、透光性導電層6の厚さが保たれており、給電経路の電気抵抗が低くなることに起因するものと考えられる。 This is because the organic EL element 1 of Comparative Example 1 has a thin portion of the light-transmitting conductive layer 6, which is depicted by x in FIG. As shown in FIG. 5, in the organic EL element 1 of Example 1, the thickness of the translucent conductive layer 6 is maintained, and the electrical resistance of the power feed path is reduced. This is thought to be caused by

また、比較例2の有機EL素子1では、図7に描かれているように、光取り出し膜23の素子形成面上に、透光性導電層6、有機機能層7、反射性導電層8が、気泡由来の凹みに沿って形成される為に、透光性導電層6と反射性導電層8が近接し、漏れ電流の発生並びにダークスポットが生じることに起因するものと考えられ、実施例1の有機EL素子1では、図5に示す様に、光取り出し膜23の素子形成面上に平坦化膜24を形成することによって透光性導電層6、有機機能層7、反射性導電層8が平滑になっており、漏れ電流並びにダークスポットが抑制されることに起因するものと考えられる。 In addition, in the organic EL device 1 of Comparative Example 2, as shown in FIG. However, since it is formed along the depressions derived from bubbles, the light-transmitting conductive layer 6 and the reflective conductive layer 8 are close to each other, which is considered to be caused by the occurrence of leakage current and dark spots. In the organic EL element 1 of Example 1, as shown in FIG. It is believed that this is because the layer 8 is smooth, which suppresses leakage current and dark spots.

実施例2の有機EL素子1は、実施例1の有機EL素子1と、規格化電力発光効、及び規格化漏れ電流値がほぼ同等であり、実施例2では、実施例1と同様に優れた特性の有機ELパネル10が、多数、効率的に製造可能である。 The organic EL element 1 of Example 2 has substantially the same normalized power luminous efficiency and normalized leakage current value as the organic EL element 1 of Example 1, and Example 2 is as excellent as Example 1. A large number of organic EL panels 10 having such characteristics can be efficiently manufactured.

10 .有機ELパネル
10G .電極部
1 .有機EL素子
1A .発光エリア
1B .分離帯
6 .透光性導電層
7 .有機機能層
8 .反射性導電層
9 .封止膜
200 .原料ガラス基材
223A.連続光取り出し膜形成領域
20 光取り出し基板
20A .素子形成領域
20G .額縁領域
20GG.封止膜不存在領域
20GL.不存在連続周
21 .ガラス基材
23 .光取り出し膜
23A .光取り出し膜存在領域
24 .平坦化膜
24A .平坦化膜存在領域
10. Organic EL panel 10G. electrode part 1 . Organic EL element 1A. Light emitting area 1B. Divider 6 . translucent conductive layer 7 . organic functional layer 8 . reflective conductive layer 9 . Sealing film 200 . Raw glass substrate 223A. Continuous light extraction film formation region 20 Light extraction substrate 20A . Element formation region 20G. Frame area 20GG. Sealing film absent region 20GL. Nonexistent continuous lap 21 . glass substrate 23 . Light extraction film 23A . Light extraction film existing region 24 . The planarizing film 24A. Area where planarization film exists

Claims (7)

発光面側から順に、ガラス基材、光取り出し膜、及び平坦化膜を含む光取り出し基板の素子形成面上に順に、有機EL素子、及び封止膜を含む有機ELパネルであって、
該素子形成面は平面視、該有機EL素子に対応する発光エリアを含む素子形成領域、及び、これを取り囲む額縁領域からなり、
該有機EL素子は、透光性導電層、有機機能層、及び反射性導電層の重畳部分であり、
該平坦化膜は、有機バインダーを含み、かつ、その全周が、該光取り出し膜、該封止膜、及び該透光性導電層によって、外部に露出することなく、取り囲まれていることを特徴とする有機ELパネル。
An organic EL panel comprising an organic EL element and a sealing film in order on an element formation surface of a light extraction substrate including a glass substrate, a light extraction film, and a planarizing film in order from the light emitting surface side,
The element formation surface consists of an element formation area including a light emitting area corresponding to the organic EL element and a frame area surrounding it in plan view,
The organic EL element is a superimposed portion of a translucent conductive layer, an organic functional layer, and a reflective conductive layer,
The planarizing film contains an organic binder, and is surrounded by the light extraction film, the sealing film, and the translucent conductive layer without being exposed to the outside. Characteristic organic EL panel.
上記額縁領域が、封止膜が存在しない不存在連続周を有し、かつ、
上記光取り出し膜が、無機成分のみから成り、かつ、
その平均膜厚が10μm以上である、請求項1に記載の有機ELパネル。
the frame region has a non-existent continuous circumference where no sealing film exists, and
wherein the light extraction film is composed only of an inorganic component, and
2. The organic EL panel according to claim 1, wherein the average film thickness is 10 [mu]m or more.
上記平坦化膜について、
その平均膜厚が5μm以下であり、かつ、
その屈折率が1.8以上である、請求項1、又は2に記載の有機ELパネル。
Regarding the planarization film,
The average film thickness is 5 μm or less, and
3. The organic EL panel according to claim 1, which has a refractive index of 1.8 or more.
請求項1~3のいずれかに記載の有機ELパネルであって、
上記発光エリアが、少なくとも一方向に2mm以上の大きさを有し、かつ、
上記素子形成領域が、複数の上記発光エリアを、少なくとも0.5mm以上の幅の分離帯の幅の間隔で含む、有機ELパネル。
The organic EL panel according to any one of claims 1 to 3,
The light emitting area has a size of 2 mm or more in at least one direction, and
The organic EL panel, wherein the element formation region includes the plurality of light emitting areas at intervals equal to the width of a separation band having a width of at least 0.5 mm.
請求項1~4のいずれかに記載の有機ELパネルの製造方法であって、
原料ガラス基材であって、前記ガラス基材を含む
1枚の原料ガラス基材から、少なくとも2枚以上の上記有機ELパネルを切り出す、
切り出し工程を含む、有機ELパネルの製造方法。
A method for manufacturing an organic EL panel according to any one of claims 1 to 4,
At least two or more of the organic EL panels are cut out from one raw glass substrate including the raw glass substrate,
A method for manufacturing an organic EL panel, including a cutting step.
上記光取り出し膜を、上記原料ガラス基材上に、
上記有機EL素子に給電する為の給電経路中の
電極部、及び
複数の上記額縁領域を含み、かつ、
連続する
連続光取り出し膜形成領域に、光取り出し膜を形成する、
連続光取り出し膜形成工程を含む、
請求項5に記載の有機ELパネルの製造方法。
The light extraction film is placed on the raw material glass substrate,
an electrode part in a power feeding path for feeding power to the organic EL element, and a plurality of the frame regions, and
forming a light-outcoupling film in a continuous light-outcoupling film-forming region;
including a continuous light extraction film forming step;
A method for manufacturing an organic EL panel according to claim 5 .
ガラス基材、光取り出し膜、及び平坦化膜を含む光取り出し基板であって、
該光取り出し膜が、無機成分のみから成り、かつ、その平均膜厚が10μm以上であり、
該平坦化膜が、
有機バインダーを含み、
平面視、その存在する領域である、平坦化膜存在領域が、該光取り出し膜の存在する領域である、光取り出し膜存在領域に含まれ、
その平均膜厚が5μm以下であり、かつ、
その屈折率が1.8以上である、光取り出し基板。
A light extraction substrate comprising a glass substrate, a light extraction film, and a planarizing film,
the light extraction film is composed only of an inorganic component and has an average film thickness of 10 μm or more;
The planarizing film is
containing an organic binder,
In a plan view, a flattening film presence region, which is the region in which it exists, is included in the light extraction film presence region, which is the region in which the light extraction film exists,
The average film thickness is 5 μm or less, and
A light extraction substrate having a refractive index of 1.8 or more.
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