JP2022121145A - Optical unit, branch unit and laser processing device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、レーザービームを分岐させて集光させる光学ユニット及び分岐ユニット、並びに、該光学ユニット又は該分岐ユニットを備えるレーザー加工装置に関する。 The present invention relates to an optical unit and a branching unit for branching and condensing a laser beam, and a laser processing apparatus provided with the optical unit or the branching unit.
デバイスチップの製造工程では、格子状に配列された複数のストリート(分割予定ライン)によって区画された複数の領域にそれぞれデバイスが形成されたウェーハが用いられる。このウェーハをストリートに沿って分割することにより、デバイスをそれぞれ備える複数のデバイスチップが得られる。デバイスチップは、携帯電話、パーソナルコンピュータ等の様々な電子機器に組み込まれる。 In the process of manufacturing device chips, a wafer is used in which devices are formed in a plurality of areas partitioned by a plurality of streets (dividing lines) arranged in a grid pattern. A plurality of device chips each having a device is obtained by dividing the wafer along the streets. Device chips are incorporated into various electronic devices such as mobile phones and personal computers.
ウェーハの分割には、主に切削装置が用いられる。切削装置は、被加工物を保持するチャックテーブルと、被加工物を切削する環状の切削ブレードが装着される切削ユニットとを備えている。被加工物をチャックテーブルによって保持し、切削ブレードを回転させて被加工物に切り込ませることにより、ウェーハが切削、分割される。 A cutting device is mainly used for dividing the wafer. A cutting device includes a chuck table that holds a workpiece, and a cutting unit to which an annular cutting blade that cuts the workpiece is mounted. The wafer is cut and divided by holding the workpiece by a chuck table and rotating the cutting blade to cut into the workpiece.
一方、近年では、レーザー加工によってウェーハを分割するプロセスの開発も進められている。ウェーハのレーザー加工には、レーザー加工装置が用いられる。レーザー加工装置は、被加工物を保持するチャックテーブルと、被加工物にレーザービームを照射するレーザービーム照射ユニットとを備えている(特許文献1、2参照)。 On the other hand, in recent years, the development of a process for dividing wafers by laser processing is also underway. A laser processing apparatus is used for laser processing of the wafer. A laser processing apparatus includes a chuck table that holds a workpiece, and a laser beam irradiation unit that irradiates the workpiece with a laser beam (see Patent Documents 1 and 2).
例えば、レーザー加工装置によってウェーハにアブレーション加工が施される。具体的には、チャックテーブルによって保持されたウェーハの表面又は内部でレーザービームを集光させつつ、レーザービームをストリートに沿って走査することにより、ウェーハがストリートに沿って加工される。そして、ウェーハの表面から裏面に至るレーザー加工溝をストリートに沿って形成することにより、ウェーハが切断、分割される。また、ウェーハにレーザービームをストリートに沿って照射した後、ウェーハに外力を付与することにより、レーザー加工が施された領域を分割起点としてウェーハをストリートに沿って破断させることもできる。 For example, the wafer is ablated by a laser processing device. Specifically, the wafer is processed along the streets by scanning the laser beam along the streets while focusing the laser beam on or inside the wafer held by the chuck table. Then, the wafer is cut and divided by forming laser-processed grooves along the streets from the front surface to the back surface of the wafer. Further, by applying an external force to the wafer after irradiating the wafer with a laser beam along the streets, it is possible to break the wafer along the streets with the laser-processed region as the starting point of division.
レーザー加工装置に搭載されるレーザービーム照射ユニットは、レーザー発振器と、レーザー発振器から出射したレーザービームを被加工物へと導く光学系とを備えている。そして、レーザービームが被加工物に所望の条件で照射されるように、光学系に含まれる光学素子(レンズ、ミラー等)の種類が選択され、各光学素子の配置や角度が調節される。 A laser beam irradiation unit installed in a laser processing apparatus includes a laser oscillator and an optical system for guiding a laser beam emitted from the laser oscillator to a workpiece. Then, the types of optical elements (lenses, mirrors, etc.) included in the optical system are selected, and the arrangement and angle of each optical element are adjusted so that the laser beam is applied to the workpiece under desired conditions.
ここで、レーザー加工装置によって被加工物を加工する際、レーザービームが意図した条件で被加工物に照射されないと、被加工物の加工に不都合が生じる。例えば、何らかの原因でレーザービームが意図せず被加工物の表面に対して斜めに入射すると(入射角≠0°)、レーザービームの照射によって形成されるレーザー加工溝が被加工物の表面に対して傾斜し、後の工程において被加工物が適切に分割されにくくなる。また、レーザービームの照射によって生成された加工屑(デブリ)が、レーザー加工溝の片側に集中的に飛散して堆積し、被加工物を洗浄しても被加工物から加工屑が除去されにくくなる。 Here, when a workpiece is processed by a laser processing apparatus, if the laser beam is not irradiated onto the workpiece under the intended conditions, problems occur in processing the workpiece. For example, if the laser beam is incident obliquely on the surface of the workpiece for some reason (incident angle ≠ 0°), the laser-processed groove formed by the irradiation of the laser beam will not be visible on the surface of the workpiece. , making it difficult to properly divide the workpiece in subsequent steps. In addition, debris generated by laser beam irradiation scatters and accumulates intensively on one side of the laser processing groove, making it difficult to remove the debris from the workpiece even when the workpiece is washed. Become.
そのため、レーザー加工装置で被加工物を加工する際には、レーザービームの照射状態が予め検査される。具体的には、レーザービーム照射ユニットから照射されるレーザービームによって、テスト用の被加工物が実際に加工される。そして、テスト用の被加工物に形成されたレーザー加工溝の状態(形状、サイズ、角度等)を観察することにより、レーザービームが意図した通りの条件で照射されているか否かが判断される。 Therefore, when processing a workpiece with a laser processing apparatus, the irradiation state of the laser beam is inspected in advance. Specifically, a test workpiece is actually processed by a laser beam emitted from a laser beam irradiation unit. Then, by observing the state (shape, size, angle, etc.) of the laser-processed groove formed in the test workpiece, it is determined whether the laser beam is being irradiated under the intended conditions. .
しかしながら、上記の検査を行うためには、消耗品であるテスト用の被加工物を準備する必要がある。また、実際に検査を実施する際には、レーザー加工装置内でテスト用の被加工物の搬送、保持、加工、洗浄等を行った後、テスト用の被加工物に形成されたレーザー加工溝を観察する作業が必要となる。そのため、テスト用の被加工物を用いたレーザービームの照射状態の検査には、手間とコストがかかる。 However, in order to perform the above inspection, it is necessary to prepare a test workpiece, which is a consumable item. In addition, when actually performing the inspection, after carrying, holding, processing, cleaning, etc. of the test workpiece in the laser processing device, the laser processing groove formed in the test workpiece It is necessary to observe the Therefore, the inspection of the irradiation state of the laser beam using the test workpiece is troublesome and costly.
本発明は、かかる問題に鑑みてなされたものであり、テスト用の被加工物を用いることなくレーザービームの照射状態を確認することを可能とする光学ユニット、分岐ユニット、又はレーザー加工装置の提供を目的とする。 The present invention has been made in view of such problems, and provides an optical unit, a branching unit, or a laser processing apparatus that makes it possible to check the irradiation state of a laser beam without using a test workpiece. With the goal.
本発明の一態様によれば、第1レーザービームを分岐させて複数の第2レーザービームを形成する分岐ユニットと、複数の該第2レーザービームを、光軸と垂直な方向及び平行な方向において異なる位置で集光させる分岐ビーム集光レンズと、を備える光学ユニットが提供される。 According to one aspect of the present invention, a splitting unit that splits a first laser beam to form a plurality of second laser beams, and splits the plurality of second laser beams in directions perpendicular and parallel to the optical axis. and a diverging beam focusing lens for focusing at different positions.
また、本発明の他の一態様によれば、第1レーザービームを分岐させて複数の第2レーザービームを形成するとともに、複数の該第2レーザービームを光軸と垂直な方向及び平行な方向において異なる位置で集光させる分岐ユニットが提供される。 Further, according to another aspect of the present invention, a first laser beam is branched to form a plurality of second laser beams, and the plurality of second laser beams are split in directions perpendicular to and parallel to the optical axis. A branching unit is provided to focus light at different positions in the .
また、本発明の他の一態様によれば、被加工物を加工するレーザー加工装置であって、該被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルによって保持された該被加工物にレーザービームを照射するレーザービーム照射ユニットと、該チャックテーブルと該レーザービーム照射ユニットから照射された該レーザービームの集光位置とを相対的に移動させる移動ユニットと、該レーザービームを検出する検出ユニットと、を備え、該レーザービーム照射ユニットは、レーザー発振器を備え、該検出ユニットは、該レーザー発振器から出射した第1レーザービームを分岐させて複数の第2レーザービームを形成する分岐ユニットと、複数の該第2レーザービームを、光軸と垂直な方向及び平行な方向において異なる位置で集光させる分岐ビーム集光レンズと、該分岐ビーム集光レンズによって集光された複数の該第2レーザービームを撮像して撮像画像を生成する撮像ユニットと、を備えるレーザー加工装置が提供される。 According to another aspect of the present invention, there is provided a laser processing apparatus for processing a work piece, comprising: a chuck table holding the work piece; a laser beam irradiation unit that irradiates a beam, a movement unit that relatively moves the chuck table and a focus position of the laser beam irradiated from the laser beam irradiation unit, and a detection unit that detects the laser beam. , wherein the laser beam irradiation unit comprises a laser oscillator, the detection unit comprises a splitting unit for splitting a first laser beam emitted from the laser oscillator to form a plurality of second laser beams; a branch beam condensing lens that condenses the second laser beam at different positions in a direction perpendicular and parallel to the optical axis; and a plurality of the second laser beams condensed by the branch beam condensing lens. and an imaging unit that captures an image to generate a captured image.
また、本発明の他の一態様によれば、被加工物を加工するレーザー加工装置であって、該被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルによって保持された該被加工物にレーザービームを照射するレーザービーム照射ユニットと、該チャックテーブルと該レーザービーム照射ユニットから照射された該レーザービームの集光位置とを相対的に移動させる移動ユニットと、該レーザービームを検出する検出ユニットと、を備え、該レーザービーム照射ユニットは、レーザー発振器を備え、該検出ユニットは、該レーザー発振器から出射した第1レーザービームを分岐させて複数の第2レーザービームを形成するとともに、複数の該第2レーザービームを光軸と垂直な方向及び平行な方向において異なる位置で集光させる分岐ユニットと、該分岐ユニットによって集光された複数の該第2レーザービームを撮像して撮像画像を生成する撮像ユニットと、を備えるレーザー加工装置が提供される。 According to another aspect of the present invention, there is provided a laser processing apparatus for processing a work piece, comprising: a chuck table holding the work piece; a laser beam irradiation unit that irradiates a beam, a movement unit that relatively moves the chuck table and a focus position of the laser beam irradiated from the laser beam irradiation unit, and a detection unit that detects the laser beam. , wherein the laser beam irradiation unit includes a laser oscillator, the detection unit splits a first laser beam emitted from the laser oscillator to form a plurality of second laser beams, and a plurality of the second laser beams. A branching unit that converges two laser beams at different positions in directions perpendicular to and parallel to the optical axis; A laser processing apparatus is provided comprising:
なお、好ましくは、該レーザー加工装置は、該撮像ユニットによって生成された該撮像画像に基づいて、該被加工物に照射される該レーザービームの照射状態を判定する判定部を更に備える。また、好ましくは、該検出ユニットは、該チャックテーブルに隣接して設けられている。 In addition, preferably, the laser processing apparatus further includes a determination unit that determines an irradiation state of the laser beam applied to the workpiece based on the captured image generated by the imaging unit. Also, preferably, the detection unit is provided adjacent to the chuck table.
本発明の一態様に係る光学ユニット及び分岐ユニットは、第1レーザービームを分岐させて複数の第2レーザービームを形成し、複数の第2レーザービームを、光学ユニットの光軸と垂直な方向及び平行な方向において異なる位置で集光させる。そして、分岐ビーム集光レンズによって集光された複数の第2レーザービームを撮像ユニットによって撮像し、複数の第2レーザービームのパターンを確認することにより、第1レーザービームの照射状態の適否を判定できる。 The optical unit and the splitter unit according to one aspect of the present invention split a first laser beam to form a plurality of second laser beams, and split the plurality of second laser beams in a direction perpendicular to the optical axis of the optical unit and Focus the light at different positions in parallel directions. Then, the plurality of second laser beams condensed by the branched beam condensing lens are imaged by the imaging unit, and the pattern of the plurality of second laser beams is checked to determine whether the irradiation state of the first laser beam is appropriate. can.
上記の判定は、テスト用の被加工物にレーザー加工を施すことなく実施できる。これにより、テスト用の被加工物の調達や、レーザー加工装置を用いてテスト用の被加工物を加工する工程を省略でき、レーザービームの照射状態の検査に要する手間とコストが削減される。 The above determination can be made without subjecting the test workpiece to laser processing. As a result, it is possible to omit the process of procuring a test workpiece and processing the test workpiece using a laser processing apparatus, thereby reducing the labor and cost required for inspecting the irradiation state of the laser beam.
以下、添付図面を参照して本発明の一態様に係る実施形態を説明する。まず、本実施形態に係る光学ユニット及び検査ユニットを搭載可能なレーザー加工装置の構成例について説明する。図1は、レーザー加工装置2を示す斜視図である。なお、図1において、X軸方向(加工送り方向、第1水平方向)とY軸方向(割り出し送り方向、第2水平方向)とは、互いに垂直な方向である。また、Z軸方向(鉛直方向、上下方向、高さ方向)は、X軸方向及びY軸方向と垂直な方向である。
An embodiment according to one aspect of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. First, a configuration example of a laser processing apparatus capable of mounting an optical unit and an inspection unit according to this embodiment will be described. FIG. 1 is a perspective view showing a
レーザー加工装置2は、レーザー加工装置2を構成する各構成要素を支持する基台4を備える。基台4の上面は水平方向(XY平面方向)と概ね平行であり、基台4の上面上には移動ユニット(移動機構)6が設けられている。移動ユニット6は、Y軸移動ユニット(Y軸移動機構)8と、X軸移動ユニット(X軸移動機構)18と、Z軸移動ユニット(Z軸移動機構)32とを備える。
The
Y軸移動ユニット8は、基台4の上面上にY軸方向に沿って配置された一対のY軸ガイドレール10を備える。一対のY軸ガイドレール10には、平板状のY軸移動テーブル12が、Y軸ガイドレール10に沿ってスライド可能な状態で装着されている。 The Y-axis movement unit 8 includes a pair of Y-axis guide rails 10 arranged on the upper surface of the base 4 along the Y-axis direction. A flat Y-axis moving table 12 is attached to the pair of Y-axis guide rails 10 so as to be slidable along the Y-axis guide rails 10 .
Y軸移動テーブル12の裏面(下面)側にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、一対のY軸ガイドレール10の間にY軸方向に沿って配置されたY軸ボールねじ14が螺合されている。また、Y軸ボールねじ14の端部には、Y軸ボールねじ14を回転させるY軸パルスモータ16が連結されている。Y軸パルスモータ16でY軸ボールねじ14を回転させると、Y軸移動テーブル12が一対のY軸ガイドレール10に沿ってY軸方向に移動する。
A nut portion (not shown) is provided on the back surface (lower surface) side of the Y-axis moving table 12, and the nut portion is arranged between the pair of Y-axis guide rails 10 along the Y-axis direction. A Y-axis ball screw 14 is screwed thereon. A Y-
X軸移動ユニット18は、Y軸移動テーブル12の表面(上面)側にX軸方向に沿って配置された一対のX軸ガイドレール20を備える。一対のX軸ガイドレール20には、板状のX軸移動テーブル22が、X軸ガイドレール20に沿ってスライド可能な状態で装着されている。
The
X軸移動テーブル22の裏面(下面)側にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、一対のX軸ガイドレール20の間にX軸方向に沿って配置されたX軸ボールねじ24が螺合されている。また、X軸ボールねじ24の端部には、X軸ボールねじ24を回転させるX軸パルスモータ26が連結されている。X軸パルスモータ26でX軸ボールねじ24を回転させると、X軸移動テーブル22が一対のX軸ガイドレール20に沿ってX軸方向に移動する。
A nut portion (not shown) is provided on the rear surface (lower surface) side of the X-axis moving table 22, and the nut portion is arranged between the pair of
X軸移動テーブル22の表面(上面)上には、レーザー加工装置2による加工の対象となる被加工物11(図2参照)を保持するチャックテーブル(保持テーブル)28が設けられている。また、チャックテーブル28の周囲には、被加工物11を支持する環状のフレーム19(図2参照)を把持して固定する複数のクランプ30が設けられている。
A chuck table (holding table) 28 for holding a workpiece 11 (see FIG. 2) to be processed by the
チャックテーブル28の上面は、水平方向(XY平面方向)に沿って形成された平坦面であり、被加工物11を保持する保持面28aを構成している。保持面28aは、チャックテーブル28の内部に形成された流路(不図示)、バルブ(不図示)等を介して、エジェクタ等の吸引源(不図示)に接続されている。
The upper surface of the chuck table 28 is a flat surface formed along the horizontal direction (XY plane direction), and constitutes a holding
Y軸移動テーブル12をY軸方向に沿って移動させると、チャックテーブル28がY軸方向に沿って移動する。また、X軸移動テーブル22をX軸方向に沿って移動させると、チャックテーブル28がX軸方向に沿って移動する。さらに、チャックテーブル28にはモータ等の回転駆動源(不図示)が連結されており、この回転駆動源はチャックテーブル28をZ軸方向に概ね平行な回転軸の周りで回転させる。 When the Y-axis moving table 12 is moved along the Y-axis direction, the chuck table 28 is moved along the Y-axis direction. Further, when the X-axis moving table 22 is moved along the X-axis direction, the chuck table 28 is moved along the X-axis direction. Further, a rotary drive source (not shown) such as a motor is connected to the chuck table 28, and this rotary drive source rotates the chuck table 28 around a rotary shaft substantially parallel to the Z-axis direction.
基台4の後端部(Y軸移動ユニット8、X軸移動ユニット18、チャックテーブル28の後方)には、Z軸移動ユニット32が設けられている。Z軸移動ユニット32は、基台4の上面上に配置された支持構造34を備える。支持構造34は、基台4に固定された直方体状の基部34aと、基部34aの端部から上方に突出する柱状の支持部34bとを含む。支持部34bの表面(側面)は、Z軸方向に沿って平面状に形成されている。
A Z-
支持部34bの表面には、一対のZ軸ガイドレール36がZ軸方向に沿って設けられている。一対のZ軸ガイドレール36には、平板状のZ軸移動テーブル38が、Z軸ガイドレール36に沿ってスライド可能な状態で装着されている。
A pair of Z-axis guide rails 36 are provided along the Z-axis direction on the surface of the
Z軸移動テーブル38の裏面側にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、一対のZ軸ガイドレール36の間にZ軸方向に沿って配置されたZ軸ボールねじ(不図示)が螺合されている。また、Z軸ボールねじの端部には、Z軸ボールねじを回転させるZ軸パルスモータ40が連結されている。Z軸パルスモータ40でZ軸ボールねじを回転させると、Z軸移動テーブル38が一対のZ軸ガイドレール36に沿ってZ軸方向に移動する。
A nut portion (not shown) is provided on the back side of the Z-axis moving table 38, and this nut portion has a Z-axis ball arranged between a pair of Z-axis guide rails 36 along the Z-axis direction. Screws (not shown) are screwed together. A Z-
Z軸移動テーブル38の表面側には、支持部材42が固定されている。支持部材42は、レーザービーム照射ユニット44の少なくとも一部の構成要素を支持している。レーザービーム照射ユニット44は、チャックテーブル28によって保持された被加工物11にレーザービームを照射することにより、被加工物11にレーザー加工を施す。
A
レーザービーム照射ユニット44の先端部には、チャックテーブル28によって保持された被加工物11等を撮像する撮像ユニット46が設けられている。撮像ユニット46としては、可視光を受光して電気信号に変換する撮像素子を備える可視光カメラや、赤外線を受光して電気信号に変換する撮像素子を備える赤外線カメラ等を用いることができる。撮像ユニット46で被加工物11を撮像することによって取得された画像に基づいて、チャックテーブル28とレーザービーム照射ユニット44との位置合わせ等が行われる。
An
Z軸移動テーブル38をZ軸方向に沿って移動させると、レーザービーム照射ユニット44及び撮像ユニット46がZ軸方向に移動する。これにより、レーザービーム照射ユニット44から照射されるレーザービームのZ軸方向における集光位置の調節や、撮像ユニット46のピント合わせ等が行われる。
When the Z-axis moving table 38 is moved along the Z-axis direction, the laser
Y軸移動ユニット8、X軸移動ユニット18、及びZ軸移動ユニット32によって、移動ユニット6が構成される。そして、移動ユニット6は、チャックテーブル28と、レーザービーム照射ユニット44から照射されたレーザービームの集光位置とを、相対的に移動させる。また、移動ユニット6は、チャックテーブル28と撮像ユニット46とを相対的に移動させる。
A moving
レーザー加工装置2には、レーザービーム照射ユニット44から照射されたレーザービームを検出する検出ユニット48が搭載されている。例えば検出ユニット48は、チャックテーブル28に隣接するように、X軸移動テーブル22上に設置される。この場合、Y軸移動ユニット8及びX軸移動ユニット18によって検出ユニット48のX軸方向及びY軸方向における位置を調節できる。なお、検出ユニット48の構成及び機能の詳細については後述する。
The
また、レーザー加工装置2は、レーザー加工装置2に関する各種の情報を表示する表示部(表示ユニット、表示装置)50を備える。例えば、表示部50としてタッチパネル式のディスプレイが用いられる。この場合、レーザー加工装置2のオペレーターは、表示部50のタッチ操作によってレーザー加工装置2に情報を入力できる。すなわち、表示部50は、レーザー加工装置2に各種の情報を入力するための入力部(入力ユニット、入力装置)としても機能し、ユーザーインターフェースとして用いられる。ただし、入力部は、表示部50とは別途独立して設けられたマウス、キーボード等であってもよい。
The
さらに、レーザー加工装置2は、レーザー加工装置2を制御する制御部(制御ユニット、制御装置)52を備える。制御部52は、レーザー加工装置2を構成する各構成要素(移動ユニット6、チャックテーブル28、クランプ30、レーザービーム照射ユニット44、撮像ユニット46、検出ユニット48、表示部50等)に接続されている。制御部52は、レーザー加工装置2の構成要素の動作を制御する制御信号を生成し、レーザー加工装置2を稼働させる。
Furthermore, the
例えば、制御部52はコンピュータによって構成され、レーザー加工装置2の稼働に必要な各種の演算を行う演算部と、レーザー加工装置2の稼働に用いられる各種の情報(データ、プログラム等)が記憶される記憶部とを含む。演算部は、CPU(Central Processing Unit)等のプロセッサを含んで構成される。また、記憶部は、主記憶装置、補助記憶装置等を構成する各種のメモリを含んで構成される。
For example, the
レーザー加工装置2によって、被加工物11にレーザー加工が施される。図2は、被加工物11を示す斜視図である。例えば被加工物11は、シリコン等の半導体材料でなる円盤状のウェーハであり、互いに概ね平行な表面11a及び裏面11bを備える。被加工物11は、互いに交差するように格子状に配列された複数のストリート(分割予定ライン)13によって、複数の矩形状の領域に区画されている。
A
ストリート13によって区画された複数の領域の表面11aにはそれぞれ、IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)、LED(Light Emitting Diode)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)デバイス等のデバイス15が形成されている。被加工物11をストリート13に沿って分割することにより、デバイス15をそれぞれ備える複数のデバイスチップが得られる。
なお、被加工物11の種類、材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。例えば被加工物11は、シリコン以外の半導体(GaAs、InP、GaN、SiC等)、サファイア、ガラス、セラミックス、樹脂、金属等でなる任意の形状及び大きさのウェーハであってもよい。また、デバイス15の種類、数量、形状、構造、大きさ、配置等にも制限はなく、被加工物11にはデバイス15が形成されていなくてもよい。
The type, material, shape, structure, size, etc. of the
被加工物11の裏面11b側には、被加工物11よりも直径が大きい円形のテープ17が貼付される。例えばテープ17は、円形に形成されたフィルム状の基材と、基材上に設けられた粘着層(糊層)とを含む。基材は、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタラート等の樹脂でなる。また、粘着層は、エポキシ系、アクリル系、又はゴム系の接着剤等でなる。なお、粘着層には、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化型の樹脂を用いてもよい。
A
テープ17の外周部は、SUS(ステンレス鋼)等の金属でなる環状のフレーム19に貼付される。フレーム19の中央部には、被加工物11よりも直径が大きい円形の開口19aが設けられている。被加工物11を開口19aの内側に配置した状態で、テープ17の中央部を被加工物11の裏面11b側に貼付するとともに、テープ17の外周部をフレーム19に貼付することにより、被加工物11がテープ17を介してフレーム19によって支持される。
The outer peripheral portion of the
図3(A)は、被加工物11を加工するレーザー加工装置2を示す一部断面正面図である。レーザー加工装置2によって被加工物11を加工する際には、まず、被加工物11がチャックテーブル28によって保持される。具体的には、被加工物11は、裏面11b側(テープ17側)が保持面28aに対面するように、チャックテーブル28上に配置される。また、フレーム19が複数のクランプ30によって固定される。この状態で、保持面28aに吸引源の吸引力(負圧)を作用させると、被加工物11がテープ17を介してチャックテーブル28によって吸引保持される。
FIG. 3A is a partially cross-sectional front view showing a
次に、レーザービーム照射ユニット44から被加工物11に向かってレーザービーム60が照射され、被加工物11にレーザー加工が施される。例えば、レーザービーム60の照射条件(波長、パワー、スポット径、繰り返し周波数等)は、被加工物11のレーザービーム60が照射された領域にアブレーション加工が施されるように設定される。
Next, a
レーザービーム60を被加工物11の表面11a又は内部で集光させた状態で、チャックテーブル28をX軸方向に沿って移動させると、レーザービーム60がX軸方向に沿って走査される。その結果、被加工物11にアブレーション加工が施され、線状の溝(レーザー加工溝)が形成される。
When the chuck table 28 is moved along the X-axis direction while the
例えば、全てのストリート13に沿って被加工物11の表面11aから裏面11bに至る溝を形成することにより、被加工物11がストリート13に沿って分割される。また、全てのストリート13に沿って深さが被加工物11の厚さ未満の溝を被加工物11の表面11a側に形成した後、被加工物11の裏面11b側を研削して溝を被加工物11の裏面11bに露出させることにより、被加工物11がストリート13に沿って分割される。これにより、デバイス15をそれぞれ備える複数のデバイスチップが製造される。
For example, the
なお、レーザー加工装置2で被加工物11を加工する際には、事前にレーザービーム60の照射状態が検査され、レーザービーム照射ユニット44からレーザービーム60が被加工物11の加工に適した条件で照射されているか否かが確認される。本実施形態においては、レーザー加工装置2に搭載された検出ユニット48を用いてレーザービーム60の照射状態が検査される。
When the
図3(B)は、レーザービーム60の照射状態を検査するレーザー加工装置2を示す一部断面正面図である。レーザービーム60の照射状態を検査する際は、まず、レーザービーム照射ユニット44と検出ユニット48とが互いに重なるように配置される。具体的には、X軸移動テーブル22を移動させ、検出ユニット48をレーザービーム照射ユニット44の直下に位置付ける。その後、レーザービーム照射ユニット44から検出ユニット48にレーザービーム60が照射され、レーザービーム60が検出ユニット48によって検出される。
FIG. 3B is a partially cross-sectional front view showing the
図4は、レーザービーム照射ユニット44及び検出ユニット48を示す模式図である。レーザービーム照射ユニット44は、YAGレーザー、YVO4レーザー等のレーザー発振器70と、レーザー発振器70から出射したレーザービーム(第1レーザービーム)62Aをチャックテーブル28によって保持された被加工物11(図3(A)参照)又は検出ユニット48へと導く光学系72とを備える。光学系72は、複数の光学素子(レンズ、ミラー等)を含んで構成され、レーザービーム62Aの進行方向、形状等を制御する。
FIG. 4 is a schematic diagram showing the laser
光学系72は、レーザービーム62Aを所定の位置で集光させる集光器74を含む。例えば、集光器74として凸レンズ等の集光レンズが用いられる。レーザー発振器70から出射したレーザービーム62Aは、集光器74によって所定の位置で集光される。集光器74から出射したレーザービーム62Aが、被加工物11の加工に用いられるレーザービーム60(図3(A)参照)に相当する。
検出ユニット48は、レーザービーム照射ユニット44から照射されたレーザービーム62Aを分岐、集光させる光学ユニット80を備える。例えば光学ユニット80は、コリメートレンズ82と、レーザービームを分岐させる分岐ユニット84と、分岐ユニット84によって分岐されたレーザービームを集光させる分岐ビーム集光レンズ86とを含む。
The
レーザービーム照射ユニット44から検出ユニット48にレーザービーム62Aが照射されると、レーザービーム62Aはコリメートレンズ82によってコリメート光に変換された後、分岐ユニット84に入射する。そして、分岐ユニット84によってレーザービーム62Aが分岐され、複数のレーザービーム(第2レーザービーム)62Bが形成される。
When the
なお、図4(B)では説明の便宜上、レーザービーム62Aの分岐によって形成された複数のレーザービーム62Bを、それぞれ独立した直線で模式的に図示している(後述の図5、図8、図9(B)も同様)。そして、複数のレーザービーム62Bはそれぞれ、分岐ビーム集光レンズ86に入射し、所定の位置で集光される。
In FIG. 4B, for convenience of explanation, a plurality of
分岐ユニット84としては、例えば回折光学素子(DOE:Diffractive Optical Element)が用いられる。図5は、光学ユニット80を示す斜視図である。図5では、分岐ユニット84(図4参照)として回折光学素子90が用いられる例を示している。
As the branching
回折光学素子90は、互いに概ね平行な第1面90aと第2面90bとを含み、第1面90a及び第2面90bが光学ユニット80の光軸(回折光学素子90の光軸)と垂直になるように配置される。また、回折光学素子90の第1面90a側には、レーザービーム62Aを分岐させるための周期的な凹凸パターン(回折格子)90cが形成されている。なお、凹凸パターン90cは、回折光学素子90の第2面90b側に形成することもできる。
The diffractive
レーザービーム62Aが回折光学素子90の第1面90a側に入射すると、凹凸パターン90cが形成された領域においてレーザービーム62Aの回折が生じ、レーザービーム62Aが分岐される。その結果、複数のレーザービーム62Bが生成され、回折光学素子90の第2面90b側から出射する。なお、以下では一例として、レーザービーム62Aが9本のレーザービーム62Bに分岐される場合について説明する。
When the
回折光学素子90の第2面90b側から出射した複数のレーザービーム62Bは、分岐ビーム集光レンズ86に入射する。そして、分岐ビーム集光レンズ86によって、複数のレーザービーム62Bがそれぞれ集光される。
A plurality of
ここで、回折光学素子90及び分岐ビーム集光レンズ86は、複数のレーザービーム62Bが光学ユニット80の光軸と垂直な方向(XY平面方向)及び平行な方向(Z軸方向)においてそれぞれ異なる位置で集光されるように設計、配置される。具体的には、回折光学素子90の凹凸パターン90cは、レーザービーム62Aが所望の本数のレーザービーム62Bに分岐されるように適宜設計される。また、複数のレーザービーム62Bが所定の範囲内で集光されるように、分岐ビーム集光レンズ86のサイズ、開口数(NA)等が適宜設定される。そのため、複数のレーザービーム62Bの集光位置64A~64Iは、XY平面方向において異なる位置に位置付けられるとともに、Z軸方向において異なる位置に位置付けられる。
Here, the diffractive
例えば、集光位置64A~64Iは、X軸方向及びY軸方向に沿って所定の間隔で配列される。また、集光位置64EのZ軸方向における位置を基準位置(0μm)とすると、集光位置64A~64D,64F~64IのZ軸方向における位置はそれぞれ、400μm、300μm、200μm、100μm、-100μm、-200μm、-300μm、-400μmに設定できる。
For example, the condensing
なお、上記ではレーザービーム62Aを分岐させる分岐ユニット84の例として回折光学素子90について説明したが、分岐ユニット84の種類に制限はない。例えば、分岐ユニット84として、空間光変調器(SLM:Spatial Light Modulator)、屈折率分布型(GRIN:Gradient Index)レンズ等を用いることもできる。この場合にも、複数のレーザービーム62Bが光学ユニット80の光軸と垂直な方向及び平行な方向において異なる位置で集光されるように、分岐ユニット84及び分岐ビーム集光レンズ86が設計、配置される。
Although the diffractive
また、分岐ユニット84は、レーザービーム62Aを分岐させて複数のレーザービーム62Bを形成する機能に加えて、さらに、複数のレーザービーム62Bを光学ユニット80の光軸(分岐ユニット84の光軸、分岐ビーム集光レンズ86の光軸)と垂直な方向及び平行な方向において異なる位置で集光させる機能を有していてもよい。例えば、回折光学素子90の凹凸パターン90cは、レーザービーム62Aが所望の本数のレーザービーム62Bに分岐され、且つ、複数のレーザービーム62Bが回折光学素子90の光軸と垂直な方向及び平行な方向において異なる位置で集光するように適宜設計される。
In addition to the function of branching the
上記の場合、分岐ビーム集光レンズ86を省略して、光学ユニット80のサイズの縮小及び軽量化、並びにコストの削減を図ることができる。また、分岐ユニット84によって所定の範囲内に集光された複数のレーザービーム62Bを、さらに分岐ビーム集光レンズ86で集光させてもよい。これにより、レーザービーム62Bの集光位置における径(スポット径)をより小さく制御することができる。
In the above case, the branched
また、図4に示すように、検出ユニット48は、光学ユニット80によって形成された複数のレーザービーム62Bを撮像して撮像画像を生成する撮像ユニット88を備える。例えば撮像ユニット88として、レーザービーム62Bを受光して電気信号に変換する撮像素子を備えるカメラが用いられる。分岐ビーム集光レンズ86を通過した複数のレーザービーム62Bは、撮像ユニット88の受光面に到達し、撮像ユニット88によって撮像される。これにより、撮像ユニット88の受光面における複数のレーザービーム62Bのパターンを示す撮像画像が生成される。
As shown in FIG. 4, the
なお、撮像ユニット88に到達する複数のレーザービーム62Bのパターンは、レーザービーム照射ユニット44の光学系72の配置に依存する。具体的には、光学系72に含まれる光学素子(レンズ、ミラー等)の位置や傾きに応じて、撮像ユニット88の受光面における複数のレーザービーム62Bの位置や形状が変化する。そのため、光学系72の配置が適切である場合と不適切である場合とでは、異なる撮像画像が取得される。
The pattern of the plurality of
図6(A)は、光学系72の配置が適切である場合に生成される撮像画像(第1撮像画像)100Aを示す画像図である。撮像画像100Aには、撮像ユニット88の受光面における複数のレーザービーム62Bの形状に対応するパターン102A~102Iが含まれる。
FIG. 6A is an image diagram showing a captured image (first captured image) 100A generated when the arrangement of the
前述の通り、光学ユニット80の光軸と平行な方向(Z軸方向)におけるレーザービーム62Bの集光位置64A~64I(図5参照)はそれぞれ異なる。そのため、撮像画像100Aには、大きさが異なるパターン102A~102Iが表される。例えば、光学系72(図4参照)に含まれる各種の光学素子が正しく配置されている場合には、大きさが異なり概ね等間隔に配列された円形のパターン102A~102Iが撮像画像100Aに表される。
As described above, the condensing
図6(B)は、光学系72の配置が不適切である場合に生成される撮像画像(第2撮像画像)100Bを示す画像図である。光学系72(図4参照)に含まれる各種の光学素子の位置や角度にずれがあると、光学系72から検出ユニット48に入射するレーザービーム62Aの照射状態が変化し、撮像ユニット88の受光面に入射するレーザービーム62Bの照射状態も変化する。例えば、レーザービーム62Bの入射角が増大したり、レーザービーム62Bの収差が発生したりする。
FIG. 6B is an image diagram showing a captured image (second captured image) 100B generated when the arrangement of the
その結果、撮像画像100Bには、撮像画像100Aとは異なるパターン102A~102Iが表される。例えば、図6(B)に示すように、中心位置がずれ、形状が楕円形に変化したパターン102A~102D,102F~102Iが撮像画像100Bに表される。
As a result, the captured
ここで、被加工物11に照射されるレーザービーム60(図3(A)参照)は、レーザービーム照射ユニット44の光学系72(図4参照)から照射されるレーザービーム62Aに相当する。そして、レーザービーム62Aの照射状態は、レーザービーム62Aの分岐によって形成された複数のレーザービーム62Bを撮像ユニット88で撮像することによって生成された撮像画像100A,100Bに反映される。そのため、レーザービーム60を検出ユニット48に照射し(図3(B)参照)、撮像ユニット88によって生成された撮像画像を確認することにより、被加工物11の加工に用いられるレーザービーム60の照射状態が適切か否かを把握することができる。
Here, the laser beam 60 (see FIG. 3A) irradiated to the
また、撮像ユニット88は、撮像ユニット88の受光面に照射されている複数のレーザービーム62Bを同時に撮像することにより、複数のレーザービーム62Bに対応するパターン102A~102Dを含む撮像画像を生成する。そのため、複数のレーザービーム62Bが撮像されるタイミングにずれがなく、ある時点におけるレーザービーム62Aの照射状態を複数のパターン102A~102Dによって表す撮像画像が得られる。これにより、例えば、レーザー発振器70(図4参照)によるレーザーの発振が開始して間もない時間帯(過渡期)におけるレーザービーム62Aの照射状態の変化等も、撮像画像を観察することによってリアルタイムで確認できる。
Further, the
撮像ユニット88によって生成された撮像画像は、図1に示す制御部52に入力される。また、制御部52は、表示部50に制御信号を出力し、表示部50に撮像画像を表示させる。そして、レーザービーム60の照射状態の確認を担当するオペレーターは、表示部50に表示された撮像画像を目視し、撮像画像に含まれるパターンに基づいてレーザービーム60が適切に照射されているか否かを判定する。
A captured image generated by the
ただし、レーザービーム60の照射状態は、制御部52によって判定されてもよい。例えば制御部52は、レーザービーム60の照射状態を判定する判定部54と、判定に用いられる情報(データ)を記憶する記憶部56とを含む。例えば記憶部56には、レーザービーム照射ユニット44から検出ユニット48にレーザービーム60(図3(B)参照)が適切な照射状態で照射された場合に、撮像ユニット88によって生成される撮像画像(図6(A)参照)が、参照用画像として予め記憶されている。
However, the irradiation state of the
レーザービーム60の検査の際には、レーザービーム照射ユニット44から検出ユニット48にレーザービーム60が照射され(図3(B)参照)、撮像ユニット88(図4参照)によって撮像画像が生成される。そして、撮像ユニット88から判定部54に撮像画像が出力される。
When inspecting the
判定部54に撮像画像が入力されると、判定部54は記憶部56から参照用画像を読み出し、撮像画像と参照用画像とを比較する。例えば判定部54は、撮像画像及び参照用画像を用いたパターンマッチング等の画像処理を行い、撮像画像と参照用画像との類似度を算出する。
When the captured image is input to the
そして、判定部54は、算出された類似度を予め設定された基準値と比較することにより、レーザービーム60の照射状態の適否を判定する。例えば判定部54は、類似度が基準値以上である場合(又は基準値を超える場合)には、レーザービーム60の照射状態が適切であると判定する。一方、判定部54は、類似度が基準値未満である場合(又は基準値以下である場合)には、レーザービーム60の照射状態が不適切であると判定する。
Then, the
上記のように、判定部54は、撮像ユニット88によって生成された撮像画像に基づいて、被加工物11に照射されるレーザービーム60の照射状態を判定する。そして、判定部54による判定の結果に対応するメッセージ等が表示部50に表示され、オペレーターに報知される。
As described above, the
なお、撮像画像と参照用画像との比較方法に制限はない。例えば判定部54は、撮像画像に表されている複数のパターンを直線で繋ぎ合わせることによって、パターンの配列が反映された図形を生成してもよい。図7(A)は撮像画像(第1撮像画像)100A及び図形(第1図形)104Aを示す画像図であり、図7(B)は撮像画像(第2撮像画像)100B及び図形(第2図形)104Bを示す画像図である。
Note that there is no limitation on the method of comparing the captured image and the reference image. For example, the
例えば判定部54は、撮像画像100A,100Bの四隅近傍に示されている4つのパターン102A,102C,102G,102Iの中心座標を画像処理によって特定する。次に、判定部54は、パターン102A,102C,102G,102Iの中心同士を結ぶ直線を生成する。これにより、撮像画像100A,100Bに含まれるパターンの配列に対応する四角形状の図形104A,104Bが生成される。
For example, the
また、記憶部56(図1参照)には、参照用画像に含まれるパターンの配列が反映された図形(参照用図形)が予め記憶されている。そして、判定部54は、撮像画像100A,100Bから抽出された図形104A,104Bと参照用図形とをパターンマッチング等の画像処理によって比較し、図形104A,104Bと参照用図形との類似度を算出する。その後、判定部54は、算出された類似度を予め設定された基準値と比較することにより、レーザービーム60の照射状態の適否を判定する。
Further, in the storage unit 56 (see FIG. 1), a figure (reference figure) reflecting the arrangement of patterns included in the reference image is stored in advance. Then, the
また、例えば判定部54は、撮像画像に含まれるパターンの形状と、予め記憶部56に記憶されている理想的なパターン(参照用パターン)の形状とを比較してもよい。この場合には、撮像画像に含まれる特定のパターンと参照用パターンとが比較されてもよいし、撮像画像に含まれる複数のパターンの形状がそれぞれ対応する参照用パターンと比較されてもよい。
Further, for example, the
以上の通り、本実施形態に係る光学ユニット80は、レーザービーム62Aを分岐させて複数のレーザービーム62Bを形成する分岐ユニット84と、複数のレーザービーム62Bを、光学ユニット80の光軸と垂直な方向及び平行な方向において異なる位置で集光させる分岐ビーム集光レンズ86とを備える。そして、分岐ビーム集光レンズ86によって集光された複数のレーザービーム62Bを撮像ユニット88によって撮像し、複数のレーザービーム62Bのパターンを確認することにより、レーザービーム62Aの照射状態の適否を判定できる。
As described above, the
上記の判定は、テスト用の被加工物にレーザー加工を施すことなく実施できる。これにより、テスト用の被加工物の調達や、レーザー加工装置2を用いてテスト用の被加工物を加工する工程を省略でき、レーザービームの照射状態の検査に要する手間とコストが削減される。
The above determination can be made without subjecting the test workpiece to laser processing. As a result, the process of procuring a test workpiece and processing the test workpiece using the
なお、本実施形態で説明したレーザービーム照射ユニット44及び検出ユニット48の構成は、レーザービーム60の検査(図3(B)参照)が可能な範囲内で、適宜変更できる。図8は、第1の変形例に係るレーザービーム照射ユニット44及び検出ユニット48を示す模式図である。
Note that the configurations of the laser
図8に示すレーザービーム照射ユニット44の光学系72は、集光器74に加えて、ミラー110,112,114を含む。レーザー発振器70から出射したレーザービーム62Aは、ミラー110,112,114で順に反射し、集光器74に導かれる。そして、集光器74によって集光されたレーザービーム62Aがチャックテーブル28によって保持された被加工物11に照射され、被加工物11が加工される。
また、ミラー112とミラー114とを結ぶ直線の延長線上に、検出ユニット48の分岐ユニット84、分岐ビーム集光レンズ86、撮像ユニット88が配置されている。そして、ミラー114に到達したレーザービーム62Aの一部は、ミラー114を透過し、漏れ光として検出ユニット48に到達する。
A branching
ミラー114から検出ユニット48に入射したレーザービーム62Aは、分岐ユニット84によって複数のレーザービーム62Bに変換される。そして、複数のレーザービーム62Bは、分岐ビーム集光レンズ86によって検出ユニット48(光学ユニット80)の光軸と垂直な方向(YZ平面方向)及び平行な方向(X軸方向)においてそれぞれ異なる位置で集光され、撮像ユニット88によって撮像される。
A
上記の検出ユニット48は、レーザービーム62Aによって被加工物11が加工されている間に、レーザービーム62Aを検出ユニット48によって検出できる。これにより、被加工物11の加工とレーザービーム62Aの検査とを同時進行で実施することが可能となる。
The
また、光学系72の集光器74と検出ユニット48の分岐ビーム集光レンズ86とは、兼用することもできる。図9(A)及び図9(B)は、第2の変形例に係るレーザービーム照射ユニット44及び検出ユニット48を示す模式図である。
Also, the
図9(A)及び図9(B)において、分岐ユニット84は、集光器74の上方、且つ、ミラー114の下方に配置される。なお、分岐ユニット84には、分岐ユニット84を水平方向(XY平面方向)に沿って移動させる移動機構(不図示)が連結されている。この移動機構によって、分岐ユニット84は、集光器74及びミラー114と重ならない位置(退避位置、図9(A)参照)と、集光器74及びミラー114と重なる位置(分岐位置、図9(B)参照)とに位置付けられる。また、撮像ユニット88は、チャックテーブル28と隣接する位置(例えば、X軸移動テーブル22(図1参照)の上)に設けられている。
9A and 9B, the branching
図9(A)は、分岐ユニット84が退避位置に配置された状態のレーザービーム照射ユニット44及び検出ユニット48を示す模式図である。被加工物11にレーザー加工を施す際には、分岐ユニット84が退避位置に配置される。そして、レーザー発振器70から出射したレーザービーム62Aが、ミラー114で反射して集光器74によって集光され、被加工物11に照射される。
FIG. 9A is a schematic diagram showing the laser
図9(B)は、分岐ユニット84が分岐位置に配置された状態のレーザービーム照射ユニット44及び検出ユニット48を示す模式図である。レーザービーム62Aの照射状態を検査する際には、分岐ユニット84が集光器74とミラー114との間に挿入され、分岐位置に配置される。また、撮像ユニット88が集光器74及び分岐ユニット84と重なる位置に配置される。
FIG. 9B is a schematic diagram showing the laser
レーザー発振器70から出射したレーザービーム62Aは、ミラー114で反射して分岐ユニット84に入射し、複数のレーザービーム62Bに変換される。そして、複数のレーザービーム62Bは、集光器74によって検出ユニット48(光学ユニット80)の光軸と垂直な方向(XY平面方向)及び平行な方向(Z軸方向)においてそれぞれ異なる位置で集光され、撮像ユニット88によって撮像される。すなわち、集光器74が検出ユニット48の分岐ビーム集光レンズ86としても機能する。このように、集光器74と分岐ビーム集光レンズ86とを兼用することにより、検出ユニット48に含まれる光学素子の数を減らすことができる。
A
また、上記では、レーザー発振器70から出射したレーザービーム62Aが検出ユニット48によって検出される形態について説明したが(図4、図8、図9(B)参照)、検出ユニット48はレーザー発振器70の内部に設けられていてもよい。この場合、レーザー発振器70によって発振されたレーザーの状態を、検出ユニット48を用いて確認することができる。
In the above description, the
その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structures, methods, and the like according to the above-described embodiments can be modified as appropriate without departing from the scope of the present invention.
11 被加工物
11a 表面
11b 裏面
13 ストリート(分割予定ライン)
15 デバイス
17 テープ
19 フレーム
19a 開口
2 レーザー加工装置
4 基台
6 移動ユニット(移動機構)
8 Y軸移動ユニット(Y軸移動機構)
10 Y軸ガイドレール
12 Y軸移動テーブル
14 Y軸ボールねじ
16 Y軸パルスモータ
18 X軸移動ユニット(X軸移動機構)
20 X軸ガイドレール
22 X軸移動テーブル
24 X軸ボールねじ
26 X軸パルスモータ
28 チャックテーブル(保持テーブル)
28a 保持面
30 クランプ
32 Z軸移動ユニット(Z軸移動機構)
34 支持構造
34a 基部
34b 支持部
36 Z軸ガイドレール
38 Z軸移動テーブル
40 Z軸パルスモータ
42 支持部材
44 レーザービーム照射ユニット
46 撮像ユニット
48 検出ユニット
50 表示部(表示ユニット、表示装置)
52 制御部(制御ユニット、制御装置)
54 判定部
56 記憶部
60 レーザービーム
62A レーザービーム(第1レーザービーム)
62B レーザービーム(第2レーザービーム)
64A~64I 集光位置
70 レーザー発振器
72 光学系
74 集光器
80 光学ユニット
82 コリメートレンズ
84 分岐ユニット
86 分岐ビーム集光レンズ
88 撮像ユニット
90 回折光学素子
90a 第1面
90b 第2面
90c 凹凸パターン(回折格子)
100A 撮像画像(第1撮像画像)
100B 撮像画像(第2撮像画像)
102A~102I パターン
104A 図形(第1図形)
104B 図形(第2図形)
110,112,114 ミラー
REFERENCE SIGNS
REFERENCE SIGNS
8 Y-axis movement unit (Y-axis movement mechanism)
10 Y-axis guide rail 12 Y-axis movement table 14 Y-axis ball screw 16 Y-
20
34
52 control unit (control unit, control device)
54
62B laser beam (second laser beam)
64A to
100A captured image (first captured image)
100B captured image (second captured image)
102A to
104B figure (second figure)
110, 112, 114 Mirror
Claims (6)
複数の該第2レーザービームを、光軸と垂直な方向及び平行な方向において異なる位置で集光させる分岐ビーム集光レンズと、を備えることを特徴とする光学ユニット。 a branching unit for branching the first laser beam to form a plurality of second laser beams;
an optical unit, comprising: a branch beam condensing lens for condensing the plurality of second laser beams at different positions in directions perpendicular to and parallel to the optical axis.
該被加工物を保持するチャックテーブルと、
該チャックテーブルによって保持された該被加工物にレーザービームを照射するレーザービーム照射ユニットと、
該チャックテーブルと該レーザービーム照射ユニットから照射された該レーザービームの集光位置とを相対的に移動させる移動ユニットと、
該レーザービームを検出する検出ユニットと、を備え、
該レーザービーム照射ユニットは、レーザー発振器を備え、
該検出ユニットは、
該レーザー発振器から出射した第1レーザービームを分岐させて複数の第2レーザービームを形成する分岐ユニットと、
複数の該第2レーザービームを、光軸と垂直な方向及び平行な方向において異なる位置で集光させる分岐ビーム集光レンズと、
該分岐ビーム集光レンズによって集光された複数の該第2レーザービームを撮像して撮像画像を生成する撮像ユニットと、を備えることを特徴とするレーザー加工装置。 A laser processing device for processing a workpiece,
a chuck table that holds the workpiece;
a laser beam irradiation unit for irradiating the workpiece held by the chuck table with a laser beam;
a moving unit that relatively moves the chuck table and a focus position of the laser beam emitted from the laser beam irradiation unit;
a detection unit for detecting the laser beam;
The laser beam irradiation unit includes a laser oscillator,
The detection unit is
a branching unit that branches a first laser beam emitted from the laser oscillator to form a plurality of second laser beams;
a branching beam condensing lens for condensing the plurality of second laser beams at different positions in directions perpendicular to and parallel to the optical axis;
and an imaging unit that captures the plurality of second laser beams condensed by the branched beam condensing lens to generate a captured image.
該被加工物を保持するチャックテーブルと、
該チャックテーブルによって保持された該被加工物にレーザービームを照射するレーザービーム照射ユニットと、
該チャックテーブルと該レーザービーム照射ユニットから照射された該レーザービームの集光位置とを相対的に移動させる移動ユニットと、
該レーザービームを検出する検出ユニットと、を備え、
該レーザービーム照射ユニットは、レーザー発振器を備え、
該検出ユニットは、
該レーザー発振器から出射した第1レーザービームを分岐させて複数の第2レーザービームを形成するとともに、複数の該第2レーザービームを光軸と垂直な方向及び平行な方向において異なる位置で集光させる分岐ユニットと、
該分岐ユニットによって集光された複数の該第2レーザービームを撮像して撮像画像を生成する撮像ユニットと、を備えることを特徴とするレーザー加工装置。 A laser processing device for processing a workpiece,
a chuck table that holds the workpiece;
a laser beam irradiation unit for irradiating the workpiece held by the chuck table with a laser beam;
a moving unit that relatively moves the chuck table and a focus position of the laser beam emitted from the laser beam irradiation unit;
a detection unit for detecting the laser beam;
The laser beam irradiation unit includes a laser oscillator,
The detection unit is
A first laser beam emitted from the laser oscillator is split to form a plurality of second laser beams, and the plurality of second laser beams are focused at different positions in directions perpendicular to and parallel to the optical axis. a branching unit;
and an imaging unit configured to generate an imaged image by imaging the plurality of second laser beams condensed by the branching unit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021018329A JP2022121145A (en) | 2021-02-08 | 2021-02-08 | Optical unit, branch unit and laser processing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021018329A JP2022121145A (en) | 2021-02-08 | 2021-02-08 | Optical unit, branch unit and laser processing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022121145A true JP2022121145A (en) | 2022-08-19 |
Family
ID=82849470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021018329A Pending JP2022121145A (en) | 2021-02-08 | 2021-02-08 | Optical unit, branch unit and laser processing device |
Country Status (1)
Country | Link |
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-
2021
- 2021-02-08 JP JP2021018329A patent/JP2022121145A/en active Pending
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