JP2022112495A - 重荷重アライメント用フラットヘッドユニット - Google Patents

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Abstract

【課題】電子デバイスの製造に関するものである。より具体的には、重荷重アライメント用フラットヘッドユニットに関する。【解決手段】マスクフレーム支持ユニットは、ケースと、ケースの下方に延びる突出体と、ケースの上方に配置されたフラットヘッドを有するステーションとを含む。突出体は、テーパ領域と円筒領域とを含む。テーパ領域は、ケースに結合された第1の直径を有する第1の端部を含み、第1の端部の反対側の第2の直径を有する第2の端部を含む。第2の直径は第1の直径より小さく、テーパ領域は、第2の端部において円筒領域に結合される。ケースは、ステーションに接触する上部受け板と、上部受け板の下に配置された下部受け板と、下部受け板と本体との間に配置されたフラットヘッドユニット移動支持機構と、センタリング部品とを含む幾つかの構成要素を収納する。【選択図】図1

Description

[0001]本明細書は、概して、電子デバイスの製造に関するものである。より具体的には、本明細書は、重荷重アライメント用フラットヘッドユニットに関するものである。
[0002]電子デバイス製造装置は、プロセスチャンバ及びロードロックチャンバ等の複数のチャンバを含み得る。このような電子デバイス製造装置は、複数のチャンバ間で基板を輸送するように構成された移送チャンバに、ロボット装置を採用し得る。幾つかの実施例では、複数の基板が一緒に移送される。
[0003]以下は、本開示の幾つかの態様についての基本的な理解を提供するために、本開示を簡略化した概要である。この概要は、本開示の広範な大要ではない。また、本開示の主要な要素又は重要な要素を特定するものではなく、本開示の特定の実装態様の任意の範囲又は特許請求の範囲の任意の範囲を画定するものでもない。その唯一の目的は、後に提示するより詳細な説明の前置きとして、本開示の幾つかの概念を簡略化した形で提示することである。
[0004]実施形態によれば、マスクフレーム支持ユニットが提供される。マスクフレーム支持ユニットは、ケースと、ケースの下方に延びる突出体と、ケースの上方に配置されたフラットヘッドを有するステーションとを含む。突出体は、テーパ領域と円筒領域とを含む。テーパ領域は、ケースに結合された第1の直径を有する第1の端部を含み、第1の端部の反対側の第2の直径を有する第2の端部を含む。第2の直径は第1の直径より小さく、テーパ領域は、第2の端部において円筒領域に結合される。ケースは、ステーションに接触する上部受け板と、上部受け板の下に配置された下部受け板と、下部受け板と本体との間に配置されたフラットヘッドユニット移動支持機構と、センタリング部品とを含む幾つかの構成要素を収納する。
[0005]別の実施形態によれば、装置が提供される。本装置は、マスクフレームと、開口部を有する中空円筒を含むアライメントシャフトと、フラットヘッドユニットを含む複数のマスクフレーム支持ユニットとを含む。フラットヘッドユニットは、ケースと、ケースの下方に延び、開口部を介してアライメントシャフトに一体化された突出体と、ケースの上方に配置されたフラットヘッドを有するステーションとを含む。ケースは、ステーションに接触する上部受け板と、上部受け板の下に配置された下部受け板と、下部受け板と本体との間に配置されたフラットヘッドユニット移動支持機構と、センタリング部品とを含む複数の構成要素を収納する。
[0006]更に別の実施形態によれば、マスクフレーム支持ユニットの形成方法が提供される。本方法は、ケース内に上部受け板と下部受け板とを挿入することと、ケース内にセンタリング部品を形成することと、ケースの底部に突出体を固定することと、ケースの上部にフラットヘッドを有するステーションを固定することとを含む。突出体は、テーパ領域と円筒領域とを含む。テーパ領域は、ケースに結合された第1の直径を有する第1の端部を含み、第1の端部の反対側の第2の直径を有する第2の端部を含む。第2の直径は第1の直径より小さく、テーパ領域は、第2の端部において円筒領域に結合される。
[0007]本開示の態様及び実装態様は、限定ではなく例として態様及び実装態様を例示することを意図している、以下に記載の詳細な説明及び添付の図面からより完全に理解される。
幾つかの実施形態に係る、フラットヘッドユニットを含む装置の斜視図である。 幾つかの実施形態に係る、フラットヘッドユニットを含む装置の断面図である。 幾つかの実施形態に係る、フラットヘッドユニットの概略図である。 幾つかの実施形態に係る、フラットヘッドユニットの断面図である。 幾つかの実施形態に係る、中立位置からオフセット位置への移動後の、図4Aのフラットヘッドユニットの断面図である。 幾つかの実施形態に係る、フラットヘッドユニットを形成するプロセスフローの一例を示す図である。 幾つかの実施形態に係る、フラットヘッドユニットを形成するプロセスフローの一例を示す図である。 幾つかの実施形態に係る、フラットヘッドユニットを形成するプロセスフローの一例を示す図である。 幾つかの実施形態に係る、フラットヘッドユニットを形成するプロセスフローの一例を示す図である。 幾つかの実施形態に係る、フラットヘッドユニットを形成するプロセスフローの一例を示す図である。 幾つかの実施形態に係る、フラットヘッドユニットを形成するプロセスフローの一例を示す図である。 幾つかの実施形態に係る、フラットヘッドユニットを形成するプロセスフローの一例を示す図である。 幾つかの実施形態に係る、フラットヘッドユニットを形成するプロセスフローの一例を示す図である。 幾つかの実施形態に係る、フラットヘッドユニットを含む装置の形成方法のフロー図である。 幾つかの実施形態に係る、マスクアライメントシステムの上から見た図である。 幾つかの実施形態に係る、マスクアライメントシステムの上から見た図である。 幾つかの実施形態に係る、マスクアライメントシステムの上から見た図である。
[0016]電子デバイス処理システムは、メーカーが、フォトリソグラフィ及び/又はエッチング処理システムを削減又は排除することによって、生産コストを削減することができるビジョンアライメント技術を含み得る。例えば、従来のビジョンシステムは、ビジョンアライメントプロセス中にマスクの支持を提供するために、ビジョンシャフトの上に配置された幾つかのボール移送ユニット(BTU)を含み得る。より具体的には、各BTUは、マスクフレームの多少の動きを許容しながら、マスクフレームの重量を支持する、マスクフレームが位置するボール(例えば、ハウジング内のセラミックボール)を含む。しかし、マスクフレームとBTUのボールとの間の接触点、すなわち接触表面積が小さいため、特にBTUに配置されたマスクフレームが十分に重い場合、接触点における集中圧力によりマスクフレームに望ましくない変形(例えば、へこみ)又はマーク(例えば、傷)が形成されることがある。
[0017]本開示の態様及び実装態様は、(重い)荷重アライメントを提供するためのフラットヘッドユニットを提供することによって、既存の技術のこれらの欠点及び他の欠点に対処する。例えば、本明細書に記載のフラットヘッドユニットは、荷重の変形(例えば、へこみ)又はマーキング(例えば、傷)の発生を低減又は排除しながら、荷重アライメントを提供するように使用され得る。より具体的には、本明細書に記載のフラットヘッドユニットは、マスクフレーム等の荷重とのより大きな接触点、又は増加した接触表面積を提供し、変形(例えば、局所的変形)の低減又は排除を可能にすることができる。本明細書に記載のフラットヘッドユニットは、X-Y平面における荷重の自由な可動域を更に支持し得る。例えば、本明細書に記載のフラットヘッドユニットは、任意のX-Y方向において、例えば、中心から約7.5ミリメートル(mm)移動するように設計することができる。そのような動きを実現するために、本明細書に記載のフラットヘッドユニットは、荷重を支持し、ユニットの移動を可能にするためのフラットヘッド移動支持機構を含み得る。例えば、本明細書に記載のフラットヘッドユニットは、ボールリテーナに配置されたボールのセットを含むフラットヘッドボール(FHB)ユニットとして具現化することができる。本明細書に記載のフラットヘッドユニットは、その上に荷重がないときにフラットヘッドユニットを中心に戻すことができるセンタリング部品又はセンタリング機構を更に含み得る。例えば、センタリング部品は、引張ばねのセットを含み得る。
[0018]簡略化及び例示のために、本明細書に記載の実施形態は、フラットヘッドユニットが円形の表面を有するように具現化される実施形態を参照する。しかしながら、本明細書に記載のフラットヘッドユニットの表面は、本明細書に記載の実施形態に係る荷重アライメントを提供するための任意の適切な形状寸法を有し得る。フラットヘッドユニットの表面についての他の適切な形状寸法の例は、楕円形、多角形(例えば、四角形、六角形、八角形)等を含む。
[0019]幾つかの実施形態では、フラットヘッドユニットは、マスクフレームを含む装置内のマスクフレーム支持ユニットとして実装され得る。上記実施形態では、フラットヘッドユニットは、その上に配置されたマスクシートの重量を支持することができ、それによって、マスクの変形(例えば、へこみ)の発生を低減又は排除することができる。例えば、幾つかのフラットヘッドユニットをビジョンシステム内で利用することができ、各フラットヘッドユニットは、対応するシャフト(例えば、アイドルビジョンシャフト)に関連付けられる。例示的に、本明細書に記載のフラットヘッドユニットは、薄膜カプセル化(TFE)システムを含む電子デバイス処理システム内に実装され得る。TFEシステムは、電子デバイス(例えば、有機発光ダイオード(OLED)デバイス)処理中に薄膜バリアを形成するために使用され得る。例えば、TFEシステムを使用して、(ガラス等の他の材料とは対照的に)基板材料として薄膜バリアを有するフレキシブル有機発光ダイオード(OLED)デバイスの形成を可能にすることができ、これによりコストを削減し、より軽量でより薄いOLEDディスプレイを可能にすることができる。TFEシステムは、例えば、TFE化学気相堆積(CVD)(TFE CVD)システム(例えば、TFEプラズマCVD(TFE PECVD)システム)であってよい。
[0020]本開示の態様及び実装態様は、他のアプローチ以上の技術的な利点をもたらす。例えば、上述したように、本明細書に記載のフラットヘッドユニットは、変形及びマーキングを防止することができ、BTU及び他の同様のユニットに存在し得る接触応力の問題を低減又は排除することができる。更に、本明細書に記載のフラットヘッドユニットは、マスクフレームのアライメント中に必要とされ得るマスクフレームの移動を可能にし得る。本明細書に記載のフラットヘッドユニットのライフサイクルは、他のユニット、例えば、同じ荷重及び試験条件でのBTUよりも長くなり得る。例えば、本明細書に記載のフラットヘッドユニットは、例えば約80℃の温度で、例えば約100キログラム(kg)の荷重に対して設計することができる。したがって、本明細書に記載のフラットヘッドユニットは、マスクフレーム支持ユニットとして実装される場合、他のユニット、例えばBTUと比較して、改善されたマスクフレーム及び/又はビジョンアライメント精度を提供し得る。
[0021]図1は、幾つかの実施形態に係る装置100の斜視図である。幾つかの実施形態では、装置100は、薄膜カプセル化(TFE)システムのビジョンシステム内に含まれる。しかしながら、上記実施形態は、限定的なものと見なすべきではなく、装置100は、本明細書に記載の実施形態に従って、任意の適切なシステム内に実装され得る。
[0022]図示のように、装置100は、フラットヘッドユニット(「ユニット」)110と、サセプタ本体120と、アライメントシャフト130とを含む。より具体的には、本明細書で更に詳細に説明するように、ユニット110は、アライメントシャフト130の開口部を介してアライメントシャフト130に一体化され、又は嵌合され得る。本明細書に記載の実施形態に従って、任意の適切な機構を使用して、ユニット100をアライメントシャフト130に一体化させることができる。
[0023]図2に関して以下に更に詳細に説明するように、ユニット110は、マスクフレームに対する支持を提供し得る。すなわち、ユニット110は、マスクフレーム支持ユニットとして実装され得る。例えば、ユニット110は、TFEマスクフレーム支持ユニットであってよい。本明細書で以下に更に詳細に説明するように、ユニット110は、接触応力を低減し、したがってマスク変形を低減又は排除できる方法でマスクフレーム及びマスクシートを含むマスクの重量を支持するように設計された形状寸法を有する。例えば、この例示的な実施形態では、ユニット110は、円形の表面を有する。ここで、ユニット110に関する更なる詳細について、図2を参照しながら以下に説明する。
[0024]図2は、幾つかの実施形態に係る装置200の断面図である。装置200は、アライメントシャフト210と、アライメントシャフト210に一体化された、又はアライメントシャフト210と嵌合したフラットヘッドユニット(「ユニット」)とを含む。例えば、アライメントシャフト210は、ビジョンシステムのアイドルビジョンシャフトであってよい。ユニット220は、突出体(「本体」)222と、ケース224と、ステーション226とを含む。
[0025]本明細書で更に詳細に説明するように、本体222は、テーパ領域と円筒領域とを含む。テーパ領域は、ケース224に結合された第1の直径を有する第1の端部を含み、第1の端部の反対側の第2の直径を有する第2の端部を含む。第2の直径は第1の直径より小さく、テーパ領域は第2の端部において円筒領域に結合される。
[0026]本明細書で更に詳細に説明するように、ケース230は、ステーションに接触する上部受け板、上部受け板の下に配置された下部受け板、下部受け板と本体との間に配置されたフラットヘッドユニット移動支持機構、及びセンタリング部品を含む幾つかの構成要素を収納する。
[0027]この例示的な実施形態では、ケース230は円形のケースであり、ステーション240は円形のフラットヘッドを有する。ステーション240は、図4A~図4Bを参照して以下に更に詳細に説明するように、ケース230内に形成された構成要素による、中心周りで実質的に自由に移動(例えば、X-Y移動)し得る。更に図示のように、マスクフレーム250の一方の端部は、ステーション240に配置される。装置200は、マスクフレーム250を支持するための1又は複数の他の別のユニット(図示せず)を含み得る。ここで、ユニットに関する更なる詳細について、図3及び図4を参照しながら以下に説明する。
[0028]図3は、幾つかの実施形態に係るフラットヘッドユニット(「ユニット」)300の寸法を示す概略図である。図示したように、ユニット300は、突出体(「本体」)310と、ケース320と、下部332及び上部334を有するステーション330とを含む。本体310は、中空円筒を含むシャフト内の開口部内に一体化され得る、又はそれに嵌合され得る。幾つかの実施形態では、シャフトは、マスクフレームアライメントのためのビジョンシステムのアライメントシャフトである。
[0029]より具体的には、本体310は、円筒領域312とテーパ領域314とを含み得る。テーパ領域314は、ケース320に結合された第1の直径を有する第1の端部317-1を含み、第1の端部の反対側の第2の直径を有する第2の端部317-2を含む。第2の直径は、第1の直径より小さい。テーパ領域314は、第2の端部317-2において円筒領域312に結合される。
[0030]ステーション330は、中心周りを実質的に自由に移動できる可動ステーションであってよい。この例示的な実施形態では、ケース320は円形のケースであり、ステーション330は円形のフラットヘッドを有する。
[0031]下部332の左外側エッジからケース320の左外側エッジまでの距離「L1」は、例えば、約7ミリメートル(mm)から約8mmであってよい。より具体的には、L1は、例えば、約7.5mmであってよい。
[0032]同様に、下部332の右外側エッジからケース320の右外側エッジまでの距離「L2」は、例えば、約7mmから約8mmであってよい。より具体的には、L2は、例えば、約7.5mmであってよい。
[0033]下部332の左右の外側エッジ間の距離「L3」(下部332の長さとステーション330の長さにも対応する)は、例えば、約52mmから約60mmであってよい。より具体的には、L3は、例えば、約56mmであってよい。
[0034]上部334の長さ「L4」は、例えば、約35mmから約45mmであってよい。より具体的には、L4は、例えば、約39mmであってよい。
[0035]ステーション330の高さ「L5」は、例えば、約10mmから約16mmであってよい。より具体的には、L5は、例えば、約13mmであってよい。
[0036]上部334の高さ「L6」は、例えば、約0.5mmから約4mmであってよい。より具体的には、L6は、例えば、約2mmであってよい。したがって、下部332の高さ(L5-L6)は、例えば、約9.5mmから約12mm、より具体的には、例えば、約11mmであってよい。
[0037]ケース320の長さ「L7」は、例えば、約65mmから約75mmであってよい。より具体的には、L7は、例えば、約70mmであってよい。
[0038]ケース320とステーション330とを合わせた高さ「L8」は、例えば、約44mmから約52mmであってよい。より具体的には、L8は、例えば、約47.75mmであってよい。したがって、ケース220の高さ(L8-L5)は、例えば、約34mmから約36mmであってよく、より具体的には、例えば、約34.75mmであってよい。
[0039]テーパ領域314の高さ「L9」は、例えば、約12mmから約22mmであってよい。より具体的には、L9は、例えば、約17.1mmであってよい。
[0040]円筒領域312の高さ「L10」は、例えば、約18mmから約28mmであってよい。より具体的には、L10は、例えば、約23mmであってよい。したがって、本体310の高さ(L9+L10)は、例えば、約30mmから約50mmであってよく、より具体的には、例えば、約40.1mmであってよい。したがって、ユニット300の全高(L8+L9+L10)は、例えば、約74mmから約102mm、より具体的には、例えば、約87.85mmであってよい。
[0041]更に図示したように、円筒領域312は、エッジ316を含む複数のエッジを含む。例えば、エッジ316の寸法は、例えば、約17mmから約27mmの長さと、例えば、約1mmから約4mmの幅とを含み得る。より具体的には、エッジ316の寸法は、例えば、約22mmの長さと、例えば、約2.5mmの幅とを含み得る。
[0042]更に図示したように、テーパ領域314は、第1の上部エッジ318-1及び第2の上部エッジ318-2を含む。第1の上部エッジ318-1と第2の上部エッジ318-2との間の角度「A」は、例えば、約80°から約100°であってよい。より具体的には、Aは、例えば、約90°であってよい。
[0043]第1の上部エッジ318-1のケース320への接触点と第2の上部エッジ318-2のケース320への接触点との間で測定される本体310の長さ「L11」は、例えば、約31.2mmから約41.2mmであってよい。より具体的には、L11は、例えば、約36.2mmであってよい。
[0044]図4Aは、幾つかの実施形態に係るフラットヘッドユニット(「ユニット」)400の断面図である。この例示的な例では、ユニット400は、フラットヘッドユニット移動支持機構がボールのセットを含むフラットヘッドボール(FHB)ユニットとして具現化されている。しかしながら、このような実施形態は、限定的なものと見なすべきではない。
[0045]図示のように、ユニット400は、突出体(「本体」)1、ケース2、及びステーション4を含む。以下で更に詳細に説明するように、ステーション4は、中心周りで実質的に自由に移動(例えば、X-Y移動)するフラットヘッドを有する。この例示的な実施形態では、ケース2は円形のケースであり、ステーション4は円形のフラットヘッドを有する。本体1は、中空円筒を含むシャフト内の開口部内に一体化され得る、又はそれに嵌合され得る。幾つかの実施形態では、シャフトは、マスクフレームアライメントのためのビジョンシステムのアライメントシャフトである。
[0046]ケース2には、幾つかの構成要素が収納される。例えば、ケース2は、下部受け板3、ステーション4、ボールリテーナ5、中央構造6、ばね付きフランジ7、上部受け板8、第1のねじ9、ねじ10を含む幾つかの第2のねじ(断面では見えない)、ねじ11を含む幾つかの第3のねじ、ボール12を含む幾つかのボール及び引張ばね13を含む幾つかの引張ばねを収納する。より具体的には、第2のねじは2つのねじを含んでいてよく、第3のネジは3つのねじを含んでいてよく、ボールは9つのボールを含んでいてよく、引張ばねは3つの引張ばねを含んでいてよい。
[0047]ステーション4は、ねじ10を含む第2のねじで上部受け板8と下部受け板3に取り付けられる。下部受け板3は、組み立て中は上部受け板内のポケットの中に位置し得る。第1のねじ9は、板3、8及び中央構造6を貫通して挿入され、板3、8をユニット400内に固定する。
[0048]ボールは、ユニット400に配置したマスクの荷重を支持し、ユニット400の移動を支持するために使用され、ボールリテーナ5は、あらゆる場面で各ボールの位置を確実なものとするために使用される。ボールの間隔により、ユニット400に配置される荷重をほぼ均等に分散させることができる。より具体的には、図5A~図5Hを参照して以下に更に詳細に説明するように、ボールの各セットは、ケース2の各引張ばね間のそれぞれの領域に配置される。例えば、ボールが9つのボールを含み、引張ばねが3つのばねを含む場合、第1の3つのボールのセットは、第1の引張ばねと第2の引張ばねとの間に画定される第1の領域(例えば、セクタ)に配置されていてよく、第2の3つのボールのセットは、第2の引張ばねと第3の引張ばねとの間に画定される第2の領域に配置されていてよく、第3の3つのボールのセットは、第3の引張ばねと第1の引張ばねとの間に画定される第3の領域に配置されていてよい。したがって、この例示的な実施形態では、ユニット400はフラットヘッドボール(FHB)ユニットであり、フラットヘッドユニット移動支持機構は、ボールのセットを含む。
[0049]引張ばねは、図4Aに示すように、ユニット400に荷重がかかっていないときにステーション4を中央に戻すセンタリング部品又はセンタリング機構の一部である。例えば、図5A~図5Hを参照して以下に更に詳細に説明するように、各引張ばねは、ばね付きフランジ7を使用して中央構造6のセンタリングリングに取り付けられた一方の端部と、ケース2に取り付けられた他方の端部とを有し得る。例えば、3つの引張ばねがある場合、3つの引張ばねのそれぞれは、互いに対して約120°の角度で配置され得る。ユニット400内の引張ばねの構成に関する更なる詳細を、図5A~図5Hを参照しながら以下に説明する。
[0050]この例示的な実施形態では、センタリング部品は、引張ばねを使用して実装される。しかしながら、上記実施形態は、限定的なものと見なすべきではない。例えば、ユニット400に荷重がかかっていないときにステーション4を中央に戻すために、引張ばねの代わりに磁気ベースの機構を使用することが可能である。
[0051]ケース2は、ねじ11を含む複数の第3のねじを用いて本体1に接続される。本体1は、他のマスクフレーム支持ユニット(例えば、BTU)をユニット400と容易に交換するために、適切なねじ特徴を有し得る。
[0052]ユニット400の構成要素は、本明細書に記載の実施形態に従って、任意の適切な材料(複数可)から形成され得る。例えば、構成要素1、3及び4は、例示的に、適切なセラミック材料から形成され得る。幾つかの実施形態では、セラミック材料は、酸化アルミニウム又はアルミナ(Al)であり得る。しかしながら、上記実施形態は、限定的なものと見なすべきではない。
[0053]構成要素2及び5~11は、合金又は他の適切な材料から形成され得る。幾つかの実施形態では、合金はアルミニウム(Al)合金である。例えば、Al合金は、6061Al合金(例えば、6061-T6Al合金)であってよい。
[0054]ボール12を含む複数のボールは、本明細書に記載の実施形態に従って、任意の適切な材料から形成され得る。例えば、複数のボールは、セラミック材料から形成され得る。幾つかの実施形態では、複数のボールは、二酸化ジルコニウム又はジルコニア(ZrO)から形成され得る。複数のボールの各々は、例えば、約4mmから約8.5mmの直径を有していてよい。より具体的には、複数のボールの各々は、例えば、約6.35mm(又は0.25インチ)の直径を有していてよい。複数のボールの構成に関する更なる詳細を、図5A~図5Hを参照しながら以下に説明する。
[0055]複数の引張ばねは、特に高温において優れた機械的強度を有し、腐食作用及び/又は酸化作用に対して高い耐性を有する適切な材料(例えば、合金)から形成され得る。幾つかの実施形態では、複数の引張ばねは、適切なニッケル合金から形成され得る。適切なニッケル合金の一例は、ニッケル-モリブデン合金である。例えば、複数の引張ばねは、適切なニッケル-モリブデン-クロム合金から形成され得る。上記ニッケル-モリブデン-クロム合金は、追加の耐腐食特性を得るために少量のタングステンを含み得る。
[0056]第1のねじ9と、ねじ10を含む第2のねじと、ねじ11を含む第3のねじとはそれぞれ、本明細書に記載の実施形態に係る任意の適切な寸法を有し得る。例えば、第1のねじ9は、例えば約2.5mmから約3.5mmの直径と、例えば約16mmから約20mmの長さ(例えば、M3×18mmのねじ)とを有していてよく、第2のねじ10は、例えば約3.5mmから約4.5mmの直径と、例えば、約13mmから約17mmの長さ(例えば、M4×15mmのねじ)とを有していてよく、第3のねじ11は、例えば、約2.5mmから約3.5mmの直径と、例えば、約4mmから約8mmの長さ(例えば、M3×6mmのねじ)を有していてよい。
[0057]第1のねじ9と、ねじ10を含む第2のねじと、ねじ11を含む第3のねじとは、本明細書に記載の実施形態に係る任意の適切な材料から形成され得る。適切な材料の一例は、陽極酸化されたAlである。しかしながら、他の同様に適切な材料が考えられる。
[0058]図4Aにおいて、ユニット400は、線A-A’で示すステーション4、下部受け板3、上部受け板8等の中心位置が、線B-B’で示す本体1の中心位置とほぼ同一直線上にある中立位置にある。しかし、図4Bを参照して後述するように、線A-A’は、ユニット400に配置される荷重に応じて、中心位置から離れる方向(例えば、任意のX-Y方向)に移動し得る。
[0059]図4Bは、図4Aに示す中立位置からオフセット位置への移動後のユニット400の別の断面図である。より具体的には、この図示した例では、線A-A’は、線B-B’に対して最大距離「L」だけ右に移動している。他の実施形態では、線A-A’は、線B-B’に対して最大距離Lだけ左に移動することができ、他の実施形態では、線A-A’は、線B-B’に対して最大距離Lだけ「前進」又は「後退」し(例えば、ページに向かって又はページから離れ)得る。したがって、線A-A’は、線B-B’から任意の適切なX-Y方向にLの距離だけ離れるように移動し得る。ユニット400上の荷重が取り除かれると、複数の引張ばねを含むセンタリング部品が、ユニット400を図4Bに示すオフセット位置から図4Aに示す中立位置に戻し得る。すなわち、センタリング部品は、線A-A’を線B-B’に自動的に再アライメントし得る。
[0060]最大距離Lは、図3を参照して上で更に詳細に説明したように、ユニット400の寸法によって定義される。例えば、幾つかの実施形態では、最大距離Lは、例えば、ユニット400が任意のX-Y方向において中心位置から最大約7.5mm移動できるように、中心位置から約7.5mmである。
[0061]図5A~図5Hは、幾つかの実施形態に係る、フラットヘッドユニット500を製造するプロセスフローを示す図である。フラットヘッドユニット500は、マスクフレームを支持するためのマスクフレーム支持ユニットであってよい。この例示的な実施形態では、フラットヘッドユニット500は、フラットヘッドボール(FHB)ユニットである。しかしながら、上記実施形態は、限定的なものと見なすべきではない。
[0062]図5Aは、ケース502を含むフラットヘッドユニット500を示す底面図である。ケース502の上部内に画定された領域503内に、上部受け板504が挿入される。ケース502及び上部受け板504は、図面を参照して上述したケース及び上部受け板と同様である。4A~4Bである。
[0063]図5Bは、上部受け板504の挿入、上部受け板504への下部受け板506の挿入、及び上部受け板506に配置されるボールリテーナ508を示す図である。下部受け板506及びボールリテーナ508は、図4A~図4Bを参照して上述した下部受け板及びボールリテーナと同様である。
[0064]図5Cは、上部受け板506へのボールリテーナ508の配置、ボールリテーナ508のそれぞれの間隙の間の引張ばね510を含む引張ばねのセットの配置、及びボールリテーナ508によって画定される領域509に配置されるセンタリングリング512を示す図である。引張ばね510を含む引張ばねのセット及びセンタリングリング512は、図4A~図4Bを参照して上述した引張ばねのセット及びセンタリングリングと同様である。
[0065]図5Dは、領域509内の引張ばねのセットの各引張ばねへのセンタリングリング512の取り付けと、センタリング部品又は機構を形成するためにセンタリングリング512内に配置されるセンタピン514とを示す図である。センタリング部品は、図4A~図4Bを参照して上述したセンタリング部品と同様である。
[0066]図5Eは、センタピン514を固定するためにケース502の上部内に配置された孔519を通して配置されるボルト又はねじ518を示す、フラットヘッドユニット500を示す上面図である。ねじ518は、図4A~図4Bを参照して上述した第1のねじと同様である。
[0067]図5Fは、フラットヘッドユニット500の底面図に戻り、ボールリテーナ508のそれぞれの場所内に各々挿入されたボール520を含むボールのセットを示す図である。この例示的な実施形態では、ボールのセットは、9つのボールを含む。更に図示したように、ねじ518の端部は、センタピン514に対して可視であり、かつ同一平面上にあってよい。ボール520を含むボールのセットは、図4A~図4Bを参照して上述したボールのセットと同様である。
[0068]図5Gは、ボルト又はねじ524を含む複数のボルト又はねじを介してケース502の底部に固定された突出体(「本体」)522を示す図である。本体522及びボルト又はねじ524を含む複数のボルト又はねじは、図4A~図4Bを参照して上述した本体及び複数の第3のねじとそれぞれ同様である。図示したように、本体522は、テーパ領域523と円筒領域525とを含む。
[0069]図5Hは、ねじ528を含むねじでケース502の上部に固定されたステーション526を示す、フラットヘッドユニット500を示す上面図である。ステーション526は、ステーションと同様であり、ねじ528を含むねじは、図4A~図4Bを参照して上述した複数の第2のねじとそれぞれ同様である。
[0070]本体522は、中空円筒内の開口部に一体化され得る、又は嵌合され得る。幾つかの実施形態では、中空円筒は、マスクフレームアライメントのためのビジョンシステムのアライメントシャフトである。この例示的な実施形態では、円筒領域525は、本体522がねじ状ロック機構を使用して中空円筒と一体化され(例えば、中空円筒に「ねじ込まれ」)得るように、ねじ山を有するように設計される。しかしながら、任意の適切な一体化機構を使用して、本明細書に記載の実施形態により、本体522を中空円筒内に一体化させることができる。
[0071]図6は、幾つかの実施形態に係る、マスクアライメントシステム内にマスクフレーム支持ユニットを一体化させる方法600を示すフロー図である。例えば、ユニットアセンブリは、図2~図5を参照して上述したユニットと同様である。
[0072]ブロック602において、フラットヘッドを有するマスクフレーム支持ユニットが形成される。幾つかの実施形態では、マスクフレーム支持ユニットは、フラットヘッドボール(FHB)ユニットである。例えば、マスクフレーム支持ユニットは、図5A~図5Hを参照して上述したプロセスフローに従って形成され得る。
[0073]ブロック604において、マスクアライメントシステム内にマスクフレーム支持ユニットが設置される。マスクフレーム支持ユニットを設置することは、マスクフレーム支持ユニットの突出体を、中空円筒を含むアライメントシャフトの開口部に一体化させることを含み得る。より具体的には、アライメントシャフトは、アイドルビジョンシャフトであってよい。
[0074]ブロック606において、マスクフレーム支持ユニットにマスクフレームが配置される。マスクフレーム支持ユニットは、へこみ又は他の変形を低減又は排除しながら、マスクフレームの重量を支持することができる。マスクフレーム支持ユニットは、マスクフレームの移動を可能にするためのセンタリング部品又は機構を含み得る。例えば、マスクの取り外し時に、センタリング部品がフラットヘッドユニットを再センタリングさせることができる。
[0075]フラットヘッドユニット及びマスクフレームを含む方法600に関する更なる詳細は、図1~図5を参照して上述したものである。
[0076]図7A~図7Cは、幾つかの実施形態に係るマスクアライメントシステム700の上から見た図である。例えば、700は、ビジョンシステムを含み得る。
[0077]図7Aは、システム700の概観を示す図である。図示のように、システム700は、チャンバ本体710と、複数のフラットヘッドユニット720-1~720-6と、複数のボール移送ユニット(BTU)730-1及び730-2と、複数のフラットヘッドユニット720-1~720-6及び複数のBTU730-1及び730-2に配置されたマスクフレーム740とを含む。6つのフラットヘッドユニット及び2つのBTUを図示したが、任意の適切な数のフラットヘッドユニット及び/又はBTUが、本明細書に記載の実施形態に従って使用され得る。幾つかの実施形態では、複数のフラットヘッドユニット720-1~720-6は、フラットヘッドボール(FHB)ユニットを含む。フラットヘッドユニット720-1に対応する領域750、及びBTU730-1に対応する領域760も図示されている。パターニングされたマスクシートを使用して、例えば、コーティングプロセス中に基板の領域を覆うことができる。
[0078]図7Bは、図7Aに示す領域750に対応するシステム700を示す拡大図である。図7Cは、図7Bに示す領域760に対応するシステム700を示す拡大図である。
[0079]先の説明では、本発明の幾つかの実施形態を良く理解できるように、特定のシステム、構成要素、方法等の例等、多数の具体的な詳細を記載している。しかしながら、本発明の少なくとも幾つかの実施形態がこれらの具体的な詳細なしに実施され得ることは、当業者には明らかであろう。他の例では、本発明を不必要に不明瞭にしないように、周知の構成要素又は方法は詳細に説明されない、又は単純なブロック図形式で提示される。したがって、記載された具体的な詳細は、単に例示的なものである。特定の実装態様は、これらの例示的な詳細と異なっていてよく、それでも本発明の範囲内であると見なされる。
[0080]本明細書全体における「一実施形態」又は「ある実施形態」への言及は、実施形態に関連して説明した特定の特徴、構造、又は特性が少なくとも1つの実施形態に含まれることを意味する。したがって、本明細書全体の様々な場所での「一実施形態では」又は「ある実施形態では」等の句の出現が全て、必ずしも同じ実施形態を指すとは限らない。更に、用語「又は」は、排他的な「又は」ではなく、包括的な「又は」を意味することが意図される。本明細書において、「約」又は「ほぼ」という用語が使用される場合、提示された公称値が±10%以内の精度であることを意味することが意図される。
[0081]本明細書の方法の工程を特定の順序で示し、説明したが、各方法の工程の順序は、特定の工程が逆の順序で実行され得る、又は特定の工程が少なくとも部分的に他の工程と同時に実行され得るように、変更することが可能である。別の実施形態では、別個の工程の指示又は副工程は、断続的及び/又は交互の形式であってよい。
[0082]上記の説明は、例示を意図したものであり、限定するものではないことを理解されたい。上記の説明を読み、理解することにより、他の多くの実装例が当業者には明らかになるであろう。本開示は特定の実施例を説明するものであるが、本開示のシステム及び方法は、本明細書に記載の実施例に限定されず、添付の特許請求の範囲内で変更を加えて実施することができることが認識されよう。したがって、本明細書及び図面は、限定的なものではなく、例示的なものと見なされる。したがって、本開示の範囲は、添付の特許請求の範囲を参照し、上記特許請求項の範囲が権利を有する完全な均等物の範囲とともに決定されるべきである。

Claims (20)

  1. マスクフレーム支持ユニットであって、
    ケースと、
    前記ケースの下方に延びる突出体であって、テーパ領域と円筒領域とを含み、前記テーパ領域は、前記ケースに結合された第1の直径を有する第1の端部を含み、前記第1の端部の反対側の第2の直径を有する第2の端部を含み、前記第2の直径は前記第1の直径より小さく、前記テーパ領域は前記第2の端部において前記円筒領域に結合される、突出体と、
    前記ケースの上方に配置されたフラットヘッドを有するステーションと
    を備え、
    前記ケースは、
    前記ステーションに接触する上部受け板と、
    前記上部受け板の下に配置された下部受け板と、
    前記下部受け板と前記突出体との間に配置されたフラットヘッドユニット移動支持機構と、
    センタリング部品と
    を含む複数の構成要素を収納する、マスクフレーム支持ユニット。
  2. 前記フラットヘッド移動支持機構は、ボールリテーナに配置されたボールのセットを含む、請求項1に記載のマスクフレーム支持ユニット。
  3. 前記センタリング部品は、前記ケースに取り付けられた第1の端部と、センタリングリングに取り付けられた第2の端部とをそれぞれ有する、引張ばねのセットを含む、請求項1に記載のマスクフレーム支持ユニット。
  4. 前記ケースは円形のケースであり、前記フラットヘッドは円形のフラットヘッドである、請求項1に記載のマスクフレーム支持ユニット。
  5. 前記センタリング部品は、前記ステーションに配置された荷重の取り外しに応答して、前記ステーションを中立位置にセンタリングする、請求項1に記載のマスクフレーム支持ユニット。
  6. 前記突出体は、約30mmから約50mmの高さと、約31.2mmから約41.2mmの長さとを有し、
    前記ケースは、約34mmから約36mmの高さと、約65mmから約75mmの長さとを有し、
    前記ステーションは、約10mmから約16mmの高さと、約52mmから約60mmの長さとを有する、請求項1に記載のマスクフレーム支持ユニット。
  7. 前記突出体は、約40.1mmの高さと、約36.2mmの長さとを有し、
    前記ケースは、約34.75mmの高さと、約70mmの長さとを有し、
    前記ステーションは、約13mmの高さと、約56mmの長さとを有する、請求項6に記載のマスクフレーム支持ユニット。
  8. システムであって、
    マスクフレームと、
    開口部を有する中空円筒を含むアライメントシャフトと、
    フラットヘッドユニットを含む複数のマスクフレーム支持ユニットと
    を備え、前記フラットヘッドユニットは、
    ケースと、
    前記ケースの下方に延び、前記開口部を介して前記アライメントシャフトに一体化された突出体と、
    前記ケースの上方に配置されたフラットヘッドを有するステーションと
    を含み、
    前記ケースは、
    前記ステーションに接触する上部受け板と、
    前記上部受け板の下に配置された下部受け板と、
    前記下部受け板と前記突出体との間に配置されたフラットヘッドユニット移動支持機構と、
    センタリング部品と
    を含む複数の構成要素を収納する、システム。
  9. 前記フラットヘッド移動支持機構は、ボールリテーナに配置されたボールのセットを含む、請求項8に記載のシステム。
  10. 前記センタリング部品は、前記ケースに取り付けられた第1の端部と、センタリングリングに取り付けられた第2の端部とをそれぞれ有する、引張ばねのセットを含む、請求項8に記載のシステム。
  11. 前記ケースは円形のケースであり、前記フラットヘッドは円形のフラットヘッドである、請求項8に記載のシステム。
  12. 前記複数のマスクフレーム支持ユニットは、6つのフラットヘッド支持ユニットと、2つのボール移送ユニットとを含む、請求項8に記載のシステム。
  13. 前記センタリング部品は、前記ステーションからの前記マスクフレームの取り外しに応答して、前記ステーションを中立位置にセンタリングする、請求項8に記載のシステム。
  14. 前記突出体は、約30mmから約50mmの高さと、約31.2mmから約41.2mmの長さとを有し、
    前記ケースは、約34mmから約36mmの高さと、約65mmから約75mmの長さとを有し、
    前記ステーションは、約10mmから約16mmの高さと、約52mmから約60mmの長さとを有する、請求項8に記載のシステム。
  15. 前記突出体は、テーパ領域と円筒領域とを含み、
    前記テーパ領域は、前記ケースに結合された第1の直径を有する第1の端部を含み、前記第1の端部の反対側の第2の直径を有する第2の端部を含み、
    前記第2の直径は、前記第1の直径より小さく、
    前記テーパ領域は、前記第2の端部において前記円筒領域に結合される、請求項8に記載のシステム。
  16. マスクフレーム支持ユニットを形成する方法であって、
    ケース内に上部受け板と下部受け板とを挿入することと、
    前記ケース内にセンタリング部品を形成することと、
    前記ケースの底部に突出体を固定することであって、前記突出体は、テーパ領域と円筒領域とを含み、前記テーパ領域は、前記ケースに結合された第1の直径を有する第1の端部を含み、前記第1の端部の反対側の第2の直径を有する第2の端部を含み、前記第2の直径は前記第1の直径より小さく、前記テーパ領域は、前記第2の端部において前記円筒領域に結合される、前記ケースの底部に突出体を固定することと、
    前記ケースの上部にフラットヘッドを有するステーションを固定することと
    を含む方法。
  17. 前記センタリング部品を形成することは、
    前記下部受け板に引張ばねのセットを配置することと、
    センタリングリングに前記引張ばねのセットを取り付けることと
    を含む、請求項16に記載の方法。
  18. 前記上部受け板に複数のボール位置を含むボールリテーナを配置することであって、前記引張ばねのセットの各引張ばねは、前記ボールリテーナのそれぞれの間隙の間に配置される、ボールリテーナを配置することと、
    前記複数のボール位置の各ボール位置内にボールを挿入することと
    を更に含む、請求項17に記載の方法。
  19. センタリングリング内にセンタピンを形成することを更に含む、請求項16に記載の方法。
  20. マスクフレームを含むマスクアライメントシステム内にフラットヘッドユニットを設置することを更に含み、前記フラットヘッドユニットを設置することは、前記突出体をアライメントシャフトに一体化させることを含む、請求項16に記載の方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP4428285B2 (ja) * 2005-05-16 2010-03-10 セイコーエプソン株式会社 マスク保持構造、成膜方法、及び電気光学装置の製造方法
JP5551888B2 (ja) * 2009-04-14 2014-07-16 株式会社井口機工製作所 フリーボールベアリング、ベアリング装置、支持テーブル、搬送設備、ターンテーブル
TWI637113B (zh) * 2017-03-09 2018-10-01 恒昌行精密工業有限公司 Offset fixing device

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