JP2022100697A - Ester compound, polyester resin, curable composition, cured product, prepreg, printed wiring board, build-up film, semiconductor encapsulant, and semiconductor device - Google Patents

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Abstract

To provide an ester compound causing little increase in the dielectric loss tangent when a cured product thereof is subjected to a hot and humid condition, a polyester resin, a curable composition, a cured product, a prepreg, a printed wiring board, a build-up film, a semiconductor encapsulant, and a semiconductor device.SOLUTION: The invention provides an ester compound (A) represented by general formula (1) in the figure. [In general formula (1), each Ar1 is independently an optionally substituted aryl group; each Ar2 is independently an optionally substituted arylene group; and R1 is a C4-20 aliphatic hydrocarbon group.]SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、エステル化合物、ポリエステル樹脂、硬化性組成物、硬化物、プリプレグ、プリント配線基板、ビルドアップフィルム、半導体封止材、及び半導体装置に関する。 The present invention relates to ester compounds, polyester resins, curable compositions, cured products, prepregs, printed wiring boards, build-up films, semiconductor encapsulants, and semiconductor devices.

近年、電子機器の小型化、高性能化が進んでおり、これに伴って使用される各種材料の要求性能が向上している。例えば、半導体パッケージ基板では、信号の高速化、高周波化が進んでおり、電気エネルギー損失の低い材料、つまり、低誘電正接の材料が求められている。 In recent years, the miniaturization and high performance of electronic devices have been progressing, and along with this, the required performance of various materials used has been improved. For example, in a semiconductor package substrate, the speed and frequency of signals are increasing, and a material having a low electrical energy loss, that is, a material having a low dielectric loss tangent is required.

このような低誘電正接の材料として、例えば、活性エステル化合物をエポキシ樹脂の硬化剤として用いる技術が知られている(特許文献1参照)。特許文献1記載のエポキシ樹脂組成物は、フェノール樹脂を硬化剤とする一般的なエポキシ樹脂組成物と比較すると、硬化物における誘電正接が低い特性を有する。しかしながら、耐吸湿性が十分ではなく、湿熱条件下にさらされた場合に、誘電正接値が大幅に上昇してしまうものであった。 As such a material having a low dielectric loss tangent, for example, a technique of using an active ester compound as a curing agent for an epoxy resin is known (see Patent Document 1). The epoxy resin composition described in Patent Document 1 has a characteristic that the dielectric loss tangent in the cured product is lower than that of a general epoxy resin composition using a phenol resin as a curing agent. However, the hygroscopicity is not sufficient, and the dielectric loss tangent value increases significantly when exposed to moist heat conditions.

特開2004-155990号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-155990

従って、本発明が解決しようとする課題は、硬化物において湿熱条件下にさらした場合の誘電正接の上昇が小さい樹脂材料を提供することにある。 Therefore, an object to be solved by the present invention is to provide a resin material in which the increase in dielectric loss tangent is small when the cured product is exposed to moist heat conditions.

本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、特定の分子構造を有するエステル化合物及びこれを含むポリエステル樹脂は、その硬化物を湿熱条件下にさらした場合の誘電正接の上昇が小さいことを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have found that the ester compound having a specific molecular structure and the polyester resin containing the ester compound have a small increase in dielectric tangent when the cured product is exposed to moist heat conditions. This has led to the completion of the present invention.

即ち、本発明は、下記一般式(1)で表されるエステル化合物(A)に関する。 That is, the present invention relates to the ester compound (A) represented by the following general formula (1).

Figure 2022100697000002
[上記一般式(1)中のArはそれぞれ独立して置換基を有していてもよいアリール基である。Arはそれぞれ独立して置換基を有していてもよいアリーレン基である。Rは炭素原子数4~20の脂肪族炭化水素基である。]
Figure 2022100697000002
[Ar 1 in the above general formula (1) is an aryl group which may have an independent substituent. Ar 2 is an arylene group which may have a substituent independently of each other. R 1 is an aliphatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms. ]

本発明は更に、前記エステル化合物(A)を含有するポリエステル樹脂に関する。 The present invention further relates to a polyester resin containing the ester compound (A).

本発明は更に、前記エステル化合物(A)又は前記ポリエステル樹脂を含有する硬化性組成物に関する。 The present invention further relates to a curable composition containing the ester compound (A) or the polyester resin.

本発明は更に、前記硬化性組成物の硬化物に関する。 The present invention further relates to a cured product of the curable composition.

本発明は更に、前記硬化性組成物を用いたプリプレグに関する。 The present invention further relates to a prepreg using the curable composition.

本発明は更に、前記硬化性組成物を用いたプリント配線基板に関する。 The present invention further relates to a printed wiring board using the curable composition.

本発明は更に、前記硬化性組成物を用いたビルドアップフィルムに関する。 The present invention further relates to a build-up film using the curable composition.

本発明は更に、前記硬化性組成物を用いた半導体封止材に関する。 The present invention further relates to a semiconductor encapsulant using the curable composition.

本発明は更に、前記硬化性組成物を用いた半導体封止材を用いた半導体装置に関する。 The present invention further relates to a semiconductor device using a semiconductor encapsulant using the curable composition.

本発明によれば、その硬化物を湿熱条件下にさらした場合の誘電正接の上昇が小さいエステル化合物、ポリエステル樹脂、硬化性組成物、硬化物、プリプレグ、プリント配線基板、ビルドアップフィルム、半導体封止材、及び半導体装置を提供することができる。 According to the present invention, an ester compound, a polyester resin, a curable composition, a cured product, a prepreg, a printed wiring board, a build-up film, and a semiconductor seal, which have a small increase in dielectric adjacency when the cured product is exposed to moist heat conditions. Stopping materials and semiconductor devices can be provided.

図1は、実施例1で得られたポリエステル樹脂(1)のGPCチャートである。FIG. 1 is a GPC chart of the polyester resin (1) obtained in Example 1. 図2は、実施例2で得られたポリエステル樹脂(2)のGPCチャートである。FIG. 2 is a GPC chart of the polyester resin (2) obtained in Example 2. 図3は、実施例3で得られたポリエステル樹脂(3)のGPCチャートである。FIG. 3 is a GPC chart of the polyester resin (3) obtained in Example 3.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
本発明のエステル化合物(A)は、下記一般式(1)で表されることを特徴とする。
Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail.
The ester compound (A) of the present invention is characterized by being represented by the following general formula (1).

Figure 2022100697000003
[上記一般式(1)中のArは、置換基を有していてもよいアリール基である。Arは置換基を有していてもよいアリーレン基である。Rは炭素原子数4~20の脂肪族炭化水素基である。]
Figure 2022100697000003
[Ar 1 in the above general formula (1) is an aryl group which may have a substituent. Ar 2 is an arylene group which may have a substituent. R 1 is an aliphatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms. ]

前記一般式(1)中のArは、置換基を有していてもよいアリール基である。その具体例としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、及びこれらの芳香環上にハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基等の置換基を1つ乃至複数有する構造部位等が挙げられる。 Ar 1 in the general formula (1) is an aryl group which may have a substituent. As a specific example thereof, for example, it has one or more substituents such as a phenyl group, a naphthyl group, and a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, and an alkynyloxy group on these aromatic rings. Structural parts and the like can be mentioned.

前記ハロゲン原子は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。前記脂肪族炭化水素基は、直鎖型及び分岐型のいずれでもよく、構造中に不飽和結合を有していてもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の炭素原子数1~8のアルキル基や、ビニル基、アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基等の炭素原子数2~4のアルケニル基、エチニル基、プロパギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基等の炭素原子数2~4のアルキルニル基等が挙げられる。前記アルコキシ基は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ブチルオキシ基等が挙げられる。前記アルケニルオキシ基は、例えば、ビニルオキシ基、アリルオキシ基、1-ブテニルオキシ基、2-ブテニルオキシ基、3-ブテニルオキシ基等の炭素原子数2~4のアルケニルオキシ基等が挙げられる。前記アルキニルオキシ基は、例えば、エチニルオキシ基、プロパギルオキシ基、1-ブチニルオキシ基、2-ブチニルオキシ基、3-ブチニル基オキシ等の炭素原子数2~4のアルキニルオキシ基等が挙げられる。 Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and the like. The aliphatic hydrocarbon group may be either a linear type or a branched type, and may have an unsaturated bond in the structure. Specifically, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group and an octyl group, a vinyl group, an allyl group and 1-butenyl. An alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms such as a group, a 2-butenyl group and a 3-butenyl group, an ethynyl group, a propagyl group, a 1-butynyl group, a 2-butynyl group and a 3-butenyl group having 2 to 4 carbon atoms. Examples thereof include the alkylnyl group of 4. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, a butyloxy group and the like. Examples of the alkenyloxy group include an alkenyloxy group having 2 to 4 carbon atoms such as a vinyloxy group, an allyloxy group, a 1-butenyloxy group, a 2-butenyloxy group and a 3-butenyloxy group. Examples of the alkynyloxy group include an alkynyloxy group having 2 to 4 carbon atoms such as an ethynyloxy group, a propagyloxy group, a 1-butynyloxy group, a 2-butynyloxy group and a 3-butynyloxy group.

中でも、前記エステル化合物(A)単独で、或いはマレイミド樹脂等の他の重合性不飽和基含有化合物と配合しての硬化反応が可能となることから、前記Arは、少なくとも、前記炭素原子数2~4のアルケニル基、前記炭素原子数2~4のアルキニル基、炭素原子数2~4のアルケニルオキシ基、炭素原子数2~4のアルキニルオキシ基のいずれか一種以上を1~3つ有することが好ましい。この時、前記Arはこれら以外の置換基を有していてもよい。 Above all, since the curing reaction can be carried out by the ester compound (A) alone or in combination with another polymerizable unsaturated group-containing compound such as a maleimide resin, the Ar 1 has at least the number of carbon atoms. It has 1 to 3 alkenyl groups of 2 to 4, the alkynyl group having 2 to 4 carbon atoms, the alkenyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, and the alkynyloxy group having 2 to 4 carbon atoms. Is preferable. At this time, the Ar 1 may have a substituent other than these.

前記一般式(1)中のArは、置換基を有していてもよいアリーレン基である。その具体例としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、及びこれらの芳香環上にハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基等の置換基を1つ乃至複数有する構造部位等が挙げられる。ハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基の具体例としては、前記Ar上の置換基の例として挙げたものと同じものが挙げられる。 Ar 2 in the general formula (1) is an arylene group which may have a substituent. Specific examples thereof include a phenylene group, a naphthylene group, and one or a plurality of substituents such as a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, and an alkynyloxy group on the aromatic ring thereof. Structural parts and the like can be mentioned. Specific examples of the halogen atom, the aliphatic hydrocarbon group, the alkoxy group, the alkenyloxy group, and the alkynyloxy group include the same as those mentioned as examples of the substituent on Ar 1 .

中でも、Arはフェニレン基、ナフチレン基、及びこれらの芳香環上にハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基のいずれか一種以上を1乃至3つ有する構造部位であることが好ましく、フェニレン基又はナフチレン基が好ましい。 Among them, Ar 2 is preferably a structural moiety having one or more of a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, and an alkoxy group on a phenylene group, a naphthylene group, and an aromatic ring thereof, and is preferably a phenylene group. Alternatively, a naphthylene group is preferable.

前記一般式(1)中のRは、炭素原子数4~20の脂肪族炭化水素基である。前記脂肪族炭化水素基は、直鎖型及び分岐型のいずれでもよく、構造中に不飽和結合を有していてもよい。中でも、硬化物における誘電特性に優れる効果が一層顕著となることから、Rは直鎖のアルキレン基であることが好ましく、その炭素原子数は6~14の範囲であることが好ましい。 R 1 in the general formula (1) is an aliphatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms. The aliphatic hydrocarbon group may be either a linear type or a branched type, and may have an unsaturated bond in the structure. Above all, since the effect of excellent dielectric properties in the cured product becomes more remarkable, R 1 is preferably a linear alkylene group, and the number of carbon atoms thereof is preferably in the range of 6 to 14.

前記エステル化合物(A)の製造方法は特に限定されないが、一例としては、例えば、下記構造式(3)で表されるフェノール性水酸基含有化合物(a1)、下記一般式(4)で表される芳香族ジカルボン酸又はその酸ハロゲン化物(a2)、及び下記構造式(5)で表されるジオール化合物(a3)を反応原料とする方法が挙げられる。 The method for producing the ester compound (A) is not particularly limited, but as an example, for example, the phenolic hydroxyl group-containing compound (a1) represented by the following structural formula (3) and the following general formula (4) are represented. Examples thereof include a method using an aromatic dicarboxylic acid or an acid halide (a2) thereof, and a diol compound (a3) represented by the following structural formula (5) as a reaction raw material.

Figure 2022100697000004
[上記一般式(3)中のArは置換基を有していてもよいアリール基である。一般式(4)中のArは置換基を有していてもよいアリーレン基である。一般式(5)中のRは炭素原子数4~20の脂肪族炭化水素基である。]
Figure 2022100697000004
[Ar 1 in the above general formula (3) is an aryl group which may have a substituent. Ar 2 in the general formula (4) is an arylene group which may have a substituent. R 1 in the general formula (5) is an aliphatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms. ]

前記一般式(3)~(5)中のAr、Ar、Rの具体例及び好ましいものは、前記一般式(1)中のものと同様である。 Specific examples and preferred ones of Ar 1 , Ar 2 , and R 1 in the general formulas (3) to (5) are the same as those in the general formula (1).

前記フェノール性水酸基含有化合物(a1)、前記芳香族ジカルボン酸又はその酸ハロゲン化物(a2)、及び前記ジオール化合物(a3)から前記ポエステル化合物(A)を製造する場合、反応生成物中に前記エステル化合物(A)以外の副生成物が生じることがある。本発明においては、反応生成物から前記エステル化合物(A)を単離精製して用いてもよいし、反応生成物を本発明のポリエステル樹脂として用いてもよい。 When the ester compound (A) is produced from the phenolic hydroxyl group-containing compound (a1), the aromatic dicarboxylic acid or its acid halide (a2), and the diol compound (a3), the ester is contained in the reaction product. By-products other than compound (A) may occur. In the present invention, the ester compound (A) may be isolated and purified from the reaction product and used, or the reaction product may be used as the polyester resin of the present invention.

前記フェノール性水酸基含有化合物(a1)、前記芳香族ジカルボン酸又はその酸ハロゲン化物(a2)、及び前記ジオール化合物(a3)の反応生成物をそのまま本発明のポリエステル樹脂とする場合、前記フェノール性水酸基含有化合物(a1)、前記芳香族ジカルボン酸又はその酸ハロゲン化物(a2)、及び前記ジオール化合物(a3)の他、これら以外の反応原料を併用してもよい。その場合、硬化物における誘電特性により優れるポリエステル樹脂となることから、ポリエステル樹脂の反応原料100質量部に占める前記フェノール性水酸基含有化合物(a1)、前記芳香族ジカルボン酸又はその酸ハロゲン化物(a2)、及び前記ジオール化合物(a3)の合計質量が、80質量部以上であることが好ましく、90質量部以上であることがより好ましく、95質量部以上であることが特に好ましい。 When the reaction product of the phenolic hydroxyl group-containing compound (a1), the aromatic dicarboxylic acid or its acid halide (a2), and the diol compound (a3) is used as it is in the polyester resin of the present invention, the phenolic hydroxyl group is used. In addition to the contained compound (a1), the aromatic dicarboxylic acid or its acid halide (a2), and the diol compound (a3), reaction raw materials other than these may be used in combination. In that case, since the polyester resin is superior in dielectric properties in the cured product, the phenolic hydroxyl group-containing compound (a1), the aromatic dicarboxylic acid or the acid halide thereof (a2) occupying 100 parts by mass of the reaction raw material of the polyester resin. The total mass of the diol compound (a3) is preferably 80 parts by mass or more, more preferably 90 parts by mass or more, and particularly preferably 95 parts by mass or more.

前記フェノール性水酸基含有化合物(a1)、前記芳香族ジカルボン酸又はその酸ハロゲン化物(a2)、及び前記ジオール化合物(a3)の反応方法は特に限定されず、例えば、反応原料を一括で反応させる方法で製造してもよいし、反応原料の一部を先に反応させ、追って残りの反応原料を反応させるような多段反応で製造してもよい。特に、前記エステル化合物(A)をより効率的に製造できることから、前記フェノール性水酸基含有化合物(a1)と前記芳香族ジカルボン酸又はその酸ハロゲン化物(a2)とのエステル化物である中間体(M)を予め製造し、これと前記ジオール化合物(a3)とを反応させる方法が好ましい。 The reaction method of the phenolic hydroxyl group-containing compound (a1), the aromatic dicarboxylic acid or its acid halide (a2), and the diol compound (a3) is not particularly limited, and for example, a method of collectively reacting reaction raw materials. It may be produced by a multi-stage reaction in which a part of the reaction raw material is reacted first and the remaining reaction raw material is reacted later. In particular, since the ester compound (A) can be produced more efficiently, an intermediate (M) which is an esterified product of the phenolic hydroxyl group-containing compound (a1) and the aromatic dicarboxylic acid or an acid halide thereof (a2). ) Is produced in advance, and the method of reacting this with the diol compound (a3) is preferable.

前記フェノール性水酸基含有化合物(a1)と前記芳香族ジカルボン酸又はその酸ハロゲン化物(a2)との反応は、例えば、アルカリ触媒の存在下、20~70℃程度の温度条件下で加熱撹拌する方法により行うことができる。反応は必要に応じて有機溶媒中で行っても良い。反応終了後は所望に応じて水洗や再沈殿等により反応生成物を精製してもよい。 The reaction between the phenolic hydroxyl group-containing compound (a1) and the aromatic dicarboxylic acid or its acid halide (a2) is, for example, a method of heating and stirring under a temperature condition of about 20 to 70 ° C. in the presence of an alkaline catalyst. Can be done by. The reaction may be carried out in an organic solvent if necessary. After completion of the reaction, the reaction product may be purified by washing with water, reprecipitation or the like, if desired.

前記アルカリ触媒は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、トリフェニルアミン、ピリジン、イミダゾール、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等が挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。また、3~30質量%の水溶液として用いても良い。中でも、触媒能の高い水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムが好ましい。アルカリ触媒の添加量は、反応原料中の水酸基1モルに対し、0.1~3モルの範囲であることが好ましい。また、反応効率を高めるため、アルキルアンモニウム塩やクラウンエーテル等の層間移動触媒を使用しても良い。これらは、それぞれ単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。送還移動触媒の添加量は、反応原料の総質量に対し、0.01~1質量%の範囲であることが好ましい。 Examples of the alkali catalyst include sodium hydroxide, potassium hydroxide, triethylamine, triphenylamine, pyridine, imidazole, diazabicycloundecene, diazabicyclononene and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Further, it may be used as an aqueous solution of 3 to 30% by mass. Of these, sodium hydroxide or potassium hydroxide having high catalytic ability is preferable. The amount of the alkaline catalyst added is preferably in the range of 0.1 to 3 mol with respect to 1 mol of the hydroxyl group in the reaction raw material. Further, in order to increase the reaction efficiency, a phase transfer catalyst such as an alkylammonium salt or a crown ether may be used. These may be used alone or in combination of two or more. The amount of the phase transfer catalyst added is preferably in the range of 0.01 to 1% by mass with respect to the total mass of the reaction raw materials.

前記有機溶媒は、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル溶媒、セロソルブ、ブチルカルビトール等のカルビトール溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等が挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、2種類以上の混合溶媒としても良い。これら有機溶媒の使用量は、反応原料の総質量に対し、20~300質量%の範囲であることが好ましい。 The organic solvent may be, for example, a ketone solvent such as acetone, methyl ethyl ketone or cyclohexanone, an acetate solvent such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate or carbitol acetate, or carbitol such as cellosolve or butyl carbitol. Examples thereof include a solvent, an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene and xylene, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like. Each of these may be used alone or as a mixed solvent of two or more kinds. The amount of these organic solvents used is preferably in the range of 20 to 300% by mass with respect to the total mass of the reaction raw materials.

前記フェノール性水酸基含有化合物(a1)と前記芳香族ジカルボン酸又はその酸ハロゲン化物(a2)との反応割合は、前記エステル化合物(A)をより高収率で得られることから、前記芳香族ジカルボン酸又はその酸ハロゲン化物(a2)1モルに対し、前記フェノール性水酸基含有化合物(a1)が0.8~3モルとなる範囲であることが好ましく、1.5~2.2モルとなる範囲であることがより好ましい。 The reaction ratio between the phenolic hydroxyl group-containing compound (a1) and the aromatic dicarboxylic acid or the acid halide (a2) thereof is such that the ester compound (A) can be obtained in a higher yield, and thus the aromatic dicarboxylic acid. The amount of the phenolic hydroxyl group-containing compound (a1) is preferably in the range of 0.8 to 3 mol, and preferably in the range of 1.5 to 2.2 mol with respect to 1 mol of the acid or the acid halide (a2) thereof. Is more preferable.

前記フェノール性水酸基含有化合物(a1)と前記芳香族ジカルボン酸又はその酸ハロゲン化物(a2)とのエステル化物である中間体(M)と前記ジオール化合物(a3)との反応は、例えば、アルカリ触媒の存在下、50~250℃程度の温度条件下で加熱撹拌する方法により行うことができる。反応は必要に応じて有機溶媒中で行っても良い。反応終了後は、エステル交換反応の結果生じた前記フェノール性水酸基含有化合物(a1)を留去することが好ましい。また、所望に応じて水洗や再沈殿等により反応生成物を精製してもよい。 The reaction between the intermediate (M), which is an esterified product of the phenolic hydroxyl group-containing compound (a1), the aromatic dicarboxylic acid or the acid halide thereof (a2), and the diol compound (a3) is, for example, an alkali catalyst. It can be carried out by a method of heating and stirring under a temperature condition of about 50 to 250 ° C. in the presence of the above. The reaction may be carried out in an organic solvent if necessary. After completion of the reaction, it is preferable to distill off the phenolic hydroxyl group-containing compound (a1) produced as a result of the transesterification reaction. If desired, the reaction product may be purified by washing with water, reprecipitation, or the like.

前記アルカリ触媒は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、トリフェニルアミン、ピリジン、イミダゾール、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等が挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。また、3.0~30%程度の水溶液として用いても良い。中でも、触媒能の高いジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネンが好ましい。アルカリ触媒の添加量は、反応原料の総質量に対し、0.01~10質量%の範囲であることが好ましい。また、反応効率を高めるため、アルキルアンモニウム塩やクラウンエーテル等の層間移動触媒を使用しても良い。 Examples of the alkali catalyst include sodium hydroxide, potassium hydroxide, triethylamine, triphenylamine, pyridine, imidazole, diazabicycloundecene, diazabicyclononene and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Further, it may be used as an aqueous solution of about 3.0 to 30%. Of these, diazabicycloundecene and diazabicyclononene having high catalytic ability are preferable. The amount of the alkaline catalyst added is preferably in the range of 0.01 to 10% by mass with respect to the total mass of the reaction raw materials. Further, in order to increase the reaction efficiency, a phase transfer catalyst such as an alkylammonium salt or a crown ether may be used.

前記有機溶媒は、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル溶媒、セロソルブ、ブチルカルビトール等のカルビトール溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等が挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、2種類以上の混合溶媒としても良い。 The organic solvent may be, for example, a ketone solvent such as acetone, methyl ethyl ketone or cyclohexanone, an acetate solvent such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate or carbitol acetate, or carbitol such as cellosolve or butyl carbitol. Examples thereof include a solvent, an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene and xylene, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like. Each of these may be used alone or as a mixed solvent of two or more kinds.

前記中間体(M)と前記ジオール化合物(a3)との反応割合は、前記エステル化合物(A)をより高収率で得られることから、前記ジオール化合物(a3)に対し、前記中間体(M)を過剰量用いることが好ましい。具体的には、前記ジオール化合物(a3)1モルに対し、前記中間体(M)を1.1~5モル用いることが好ましく、1.5~4モル用いることがより好ましく、1.8~3モル用いることが更に好ましい。 Since the reaction ratio between the intermediate (M) and the diol compound (a3) is such that the ester compound (A) can be obtained in a higher yield, the intermediate (M) is compared with the diol compound (a3). ) Is preferably used in excess. Specifically, it is preferable to use 1.1 to 5 mol of the intermediate (M), more preferably 1.5 to 4 mol, and 1.8 to 1 mol of the intermediate (M) with respect to 1 mol of the diol compound (a3). It is more preferable to use 3 mol.

本発明のポリエステル樹脂中の前記エステル化合物(A)の含有量は、硬化物における誘電特性に優れる効果がより顕著になることから、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)のチャート図の面積比から算出される値で10%以上であることが好ましく、15%以上であることが好ましい。また、その上限値は、60%以下であることが好ましく、45%以下であることがより好ましい。なお、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)は、実施例に記載の測定条件で測定したものである。 The content of the ester compound (A) in the polyester resin of the present invention is calculated from the area ratio of the gel permeation chromatography (GPC) chart because the effect of excellent dielectric properties in the cured product becomes more remarkable. The value is preferably 10% or more, and preferably 15% or more. The upper limit thereof is preferably 60% or less, more preferably 45% or less. In addition, gel permeation chromatography (GPC) was measured under the measurement conditions described in the examples.

更に、本発明のポリエステル樹脂は、硬化物における誘電特性に優れる効果がより顕著になることから、下記一般式(2)で表されるエステル化合物(B)を含有することが好ましい。ポリエステル樹脂中の前記エステル化合物(B)の含有量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)のチャート図の面積比から算出される値で10%以上であることが好ましく、15%以上であることがより好ましい。また、その上限値は、50%以下であることが好ましく、35%以下であることがより好ましい。なお、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)は、実施例に記載の測定条件で測定したものである。

Figure 2022100697000005
[上記一般式(2)中のArはそれぞれ独立して置換基を有していてもよいアリール基である。Arは置換基を有していてもよいアリーレン基である。] Further, the polyester resin of the present invention preferably contains the ester compound (B) represented by the following general formula (2) because the effect of excellent dielectric properties in the cured product becomes more remarkable. The content of the ester compound (B) in the polyester resin is preferably 10% or more, preferably 15% or more, as a value calculated from the area ratio of the gel permeation chromatography (GPC) chart. More preferred. The upper limit thereof is preferably 50% or less, and more preferably 35% or less. In addition, gel permeation chromatography (GPC) was measured under the measurement conditions described in the examples.
Figure 2022100697000005
[Ar 1 in the above general formula (2) is an aryl group which may have an independent substituent. Ar 2 is an arylene group which may have a substituent. ]

前記一般式(2)中のAr、Arの具体例及び好ましいものは、前記一般式(1)中のものと同様である。 Specific examples and preferred ones of Ar 1 and Ar 2 in the general formula (2) are the same as those in the general formula (1).

本発明のポリエステル樹脂は、前記エステル化合物(A)やエステル化合物(B)の他、下記一般式(6)で表されるエステル化合物(C)を含有していてもよい。 The polyester resin of the present invention may contain the ester compound (C) represented by the following general formula (6) in addition to the ester compound (A) and the ester compound (B).

Figure 2022100697000006
[上記一般式(1)中のArはそれぞれ独立して置換基を有していてもよいアリール基である。Arはそれぞれ独立して置換基を有していてもよいアリーレン基である。Rは炭素原子数4~20の脂肪族炭化水素基である。nは2以上の整数である。]
Figure 2022100697000006
[Ar 1 in the above general formula (1) is an aryl group which may have an independent substituent. Ar 2 is an arylene group which may have a substituent independently of each other. R 1 is an aliphatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms. n is an integer of 2 or more. ]

前記一般式(6)中のAr、Ar、Rの具体例及び好ましいものは、前記一般式(1)中のものと同様である。前記一般式(6)中のnは2以上の整数であり、より好ましくは、2~10の整数である。 Specific examples and preferred ones of Ar 1 , Ar 2 , and R 1 in the general formula (6) are the same as those in the general formula (1). In the general formula (6), n is an integer of 2 or more, and more preferably an integer of 2 to 10.

本発明のポリエステル樹脂の数平均分子量(Mn)は500~5,000の範囲であることが好ましく、600~3,000の範囲であることがより好ましい。また、重量平均分子量(Mw)は700~7,000の範囲であることが好ましく、800~5,000の範囲であることがより好ましい。本明細書においてポリエステル樹脂の数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)を用いて、実施例に記載の測定条件で測定したものである。 The number average molecular weight (Mn) of the polyester resin of the present invention is preferably in the range of 500 to 5,000, more preferably in the range of 600 to 3,000. The weight average molecular weight (Mw) is preferably in the range of 700 to 7,000, more preferably in the range of 800 to 5,000. In the present specification, the number average molecular weight (Mn) and the weight average molecular weight (Mw) of the polyester resin are measured by gel permeation chromatography (GPC) under the measurement conditions described in Examples.

前記一般式(1)中のArやAr上の置換基としてアルケニル基やアルキニル基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基等の重合性不飽和基を有する場合、本発明のエステル化合物(A)又はこれを含有するポリエステル樹脂単独で、或いはマレイミド化合物等、他の重合性不飽和基含有化合物と配合することにより、硬化性組成物として利用することができる。この場合、硬化反応は、一般に光照射や加熱により進行する。加熱硬化時の加熱温度や加熱時間は、硬化性組成物中の配合成分等によって適宜調整されるが、100~300℃で1~24時間程度が好ましい。 When the ester compound (A) of the present invention has a polymerizable unsaturated group such as an alkenyl group, an alkynyl group, an alkenyloxy group, or an alkynyloxy group as a substituent on Ar 1 or Ar 2 in the general formula (1). Alternatively, it can be used as a curable composition by the polyester resin containing it alone or by blending it with another polymerizable unsaturated group-containing compound such as a maleimide compound. In this case, the curing reaction generally proceeds by light irradiation or heating. The heating temperature and heating time at the time of heat curing are appropriately adjusted depending on the compounding components in the curable composition and the like, but are preferably about 1 to 24 hours at 100 to 300 ° C.

前記マレイミド化合物は、例えば、下記一般式(6)~(9)のいずれかで表されるもの等が挙げられる。また、マレイミド樹脂の市販品の例としては、大和化成工業株式会社製「BMI-1000」、「BMI-2000」、「BMI-2300」、「BMI-3000」、「BMI-4000」、「BMI-6000」、「BMI-7000」、「BMI-8000」、「BMI-TMH」等、ケイ・アイ化成株式会社製「BMI」、「BMI-70」、「BMI-80」等、東京化成工業株式会社製「B1109」、「N1971」、「B4807」、「P0778」、「P0976」等が挙げられる。前記マレイミド化合物は一種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。 Examples of the maleimide compound include those represented by any of the following general formulas (6) to (9). Examples of commercially available maleimide resins include "BMI-1000", "BMI-2000", "BMI-2300", "BMI-3000", "BMI-4000", and "BMI" manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. -6000 "," BMI-7000 "," BMI-8000 "," BMI-TMH ", etc.," BMI "," BMI-70 "," BMI-80 ", etc. manufactured by KAI Kasei Co., Ltd., Tokyo Kasei Kogyo Examples thereof include "B1109", "N1971", "B4807", "P0778", and "P0976" manufactured by Co., Ltd. The maleimide compound may be used alone or in combination of two or more.

Figure 2022100697000007
[上記一般式(6)中のRは二価の有機基である。上記一般式(7)~(9)中のRは炭素原子数1~8のアルキル基、ハロゲン原子、炭素原子数1~4のアルコキシ基、アリール基、アラルキル基のいずれかであり、nは0~3の整数である。上記一般式(7)のXは炭素原子数1~6のアルキレン基、炭素原子数6~20のシクロアルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基のいずれかであり、mは1以上の整数である。上記一般式(8)中のRは水素原子、炭素原子数1~4のアルキル基、アリール基のいずれかである。前記一般式(9)中のlは3~6の整数である。]
Figure 2022100697000007
[R 2 in the above general formula (6) is a divalent organic group. R 3 in the above general formulas (7) to (9) is any one of an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, and an aralkyl group, and n Is an integer from 0 to 3. X in the above general formula (7) is any one of an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkylene group having 6 to 20 carbon atoms, an arylene group, an alkylene arylene alkylene group, an oxygen atom, a sulfur atom, and a carbonyl group. Yes, m is an integer of 1 or more. R 4 in the above general formula (8) is any one of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and an aryl group. In the general formula (9), l is an integer of 3 to 6. ]

前記一般式(6)中のRについて、二価の有機基の具体例としては、例えば、炭素原子数1~6のアルキレン基、炭素原子数6~20のシクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、及びこれらの基が2つ以上連結した構造部位等が挙げられる。前記一般式(6)で表される化合物の具体例としては、例えば、N,N’-エチレンビスマレイミド、N,N’-ヘキサメチレンビスマレイミド、N,N’-(1,3-フェニレン)ビスマレイミド、N,N’-〔1,3-(2-メチルフェニレン)〕ビスマレイミド、N,N’-〔1,3-(4-メチルフェニレン)〕ビスマレイミド、N,N’-(1,4-フェニレン)ビスマレイミド、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3-メチル-4-マレイミドフェニル)メタン、3,3-ジメチル-5,5-ジエチル-4,4-ジフェニルメタンビスマレイミド、ビス(4-マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4-マレイミドフェニル)スルホン、ビス(4-マレイミドフェニル)スルフィド、ビス(4-マレイミドフェニル)ケトン、ビス(4-マレイミドシクロヘキシル)メタン、1,4-ビス(4-マレイミドフェニル)シクロヘキサン、1,4-ビス(マレイミドメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(マレイミドメチル)ベンゼン、1,3-ビス(4-マレイミドフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(3-マレイミドフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕メタン、1,1-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、1,1-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、1,2-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、1,2-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、2,2-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕ブタン、2,2-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕ブタン、2,2-ビス〔[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、4,4-ビス(3-マレイミドフェノキシ)ビフェニル、4,4-ビス(4-マレイミドフェノキシ)ビフェニル、ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕ケトン、2,2’-ビス(4-マレイミドフェニル)ジスルフィド、ビス(4-マレイミドフェニル)ジスルフィド、ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕エーテル、ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕エーテル、1,4-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,4-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,4-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,4-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、4-メチル-1,3-フェニレンビスマレイミド、ポリフェニルメタンマレイミドなどが挙げられる。 Regarding R 2 in the general formula (6), specific examples of the divalent organic group include, for example, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkylene group having 6 to 20 carbon atoms, an arylene group, and oxygen. Examples thereof include an atom, a sulfur atom, a carbonyl group, and a structural site in which two or more of these groups are linked. Specific examples of the compound represented by the general formula (6) include, for example, N, N'-ethylenebismaleimide, N, N'-hexamethylenebismaleimide, N, N'-(1,3-phenylene). Bismaleimide, N, N'-[1,3- (2-methylphenylene)] Bismaleimide, N, N'-[1,3- (4-methylphenylene)] Bismaleimide, N, N'-(1) , 4-Phenylene) bismaleimide, bis (4-maleimidephenyl) methane, bis (3-methyl-4-maleimidephenyl) methane, 3,3-dimethyl-5,5-diethyl-4,4-diphenylmethanebismaleimide, Bis (4-maleimidephenyl) ether, bis (4-maleimidephenyl) sulfone, bis (4-maleimidephenyl) sulfide, bis (4-maleimidephenyl) ketone, bis (4-maleimidecyclohexyl) methane, 1,4-bis (4-Maleimidephenyl) cyclohexane, 1,4-bis (maleimidemethyl) cyclohexane, 1,4-bis (maleimidemethyl) benzene, 1,3-bis (4-maleimidephenoxy) benzene, 1,3-bis (3) -Maleimide phenoxy) benzene, bis [4- (3-maleimide phenoxy) phenyl] methane, bis [4- (4-maleimide phenoxy) phenyl] methane, 1,1-bis [4- (3-maleimide phenoxy) phenyl] Etan, 1,1-bis [4- (4-maleimidephenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (3-maleimidephenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (4-maleimide) Phenoxy) phenyl] ethane, 2,2-bis [4- (3-maleimidephenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-maleimidephenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-Maleimidephenoxy) phenyl] butane, 2,2-bis [4- (4-maleimidephenoxy) phenyl] butane, 2,2-bis [[4- (3-maleimidephenoxy) phenyl] -1,1, 1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-maleimidephenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 4,4-bis (3-Maleimide phenoxy) biphenyl, 4,4-bis (4-maleimide phenoxy) biphenyl, bis [4- (3-maleimide phenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (4-maleimide phenoki) Benzene] Benzene, 2,2'-bis (4-maleimidephenyl) disulfide, bis (4-maleimidephenyl) disulfide, bis [4- (3-maleimidephenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (4- (4-) Maleimide phenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (3-maleimide phenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (4-maleimide phenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (3-maleimide phenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-maleimide phenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-maleimide phenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-maleimide phenoxy) phenyl] ether, 1,4-bis [4- (4) 4-Maleimide phenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-maleimide phenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,4-bis [4- (3- (3-) Maleimide phenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-maleimide phenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,4-bis [4- (4-maleimide phenoxy) ) -3,5-dimethyl-α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-maleimidephenoxy) -3,5-dimethyl-α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,4 -Bis [4- (3-maleimide phenoxy) -3,5-dimethyl-α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-maleimide phenoxy) -3,5-dimethyl-α, α-Dimethylbenzyl] benzene, 4-methyl-1,3-phenylene bismaleimide, polyphenylmethanemaleimide and the like can be mentioned.

本発明のエステル化合物(A)又はこれを含有するポリエステル樹脂が重合性不飽和基を有する場合、硬化性組成物中の重合性不飽和基を有する化合物の総質量に対する前記エステル化合物(A)又はこれを含有するポリエステル樹脂の割合は特に限定されず、所望の樹脂性能や用途等に応じて適宜調整される。中でも、硬化性組成物中の重合性不飽和基を有する化合物の総質量100質量部に対する前記エステル化合物(A)又はこれを含有するポリエステル樹脂の割合が20質量%以上であることが好ましく、25~75質量%の範囲であることがより好ましく、30~60質量%の範囲であることが特に好ましい。 When the ester compound (A) of the present invention or the polyester resin containing the same has a polymerizable unsaturated group, the ester compound (A) or the ester compound (A) with respect to the total mass of the compound having a polymerizable unsaturated group in the curable composition. The proportion of the polyester resin containing this is not particularly limited, and is appropriately adjusted according to the desired resin performance, application, and the like. Above all, the ratio of the ester compound (A) or the polyester resin containing the ester compound (A) to 100 parts by mass of the total mass of the compound having a polymerizable unsaturated group in the curable composition is preferably 20% by mass or more, 25. It is more preferably in the range of about 75% by mass, and particularly preferably in the range of 30 to 60% by mass.

本発明のエステル化合物(A)及びこれを含有するポリエステル樹脂は、構造中に芳香環同士のエステル結合を有することから、所謂活性エステル化合物又は樹脂として機能するため、エポキシ樹脂等と配合することにより、硬化性組成物として利用することができる。この場合、硬化反応は、一般に加熱により進行する。加熱温度や加熱時間は硬化性組成物中の配合成分等によって適宜調整されるが、100~300℃で1~24時間程度が好ましい。また、本発明の硬化性組成物は、前記マレイミド化合物等の重合性不飽和基含有化合物と、エポキシ樹脂との両方を含有していてもよい。 Since the ester compound (A) of the present invention and the polyester resin containing the ester compound (A) have an ester bond between aromatic rings in the structure, they function as a so-called active ester compound or resin. , Can be used as a curable composition. In this case, the curing reaction generally proceeds by heating. The heating temperature and the heating time are appropriately adjusted depending on the compounding components in the curable composition and the like, but are preferably about 1 to 24 hours at 100 to 300 ° C. Further, the curable composition of the present invention may contain both a polymerizable unsaturated group-containing compound such as the maleimide compound and an epoxy resin.

前記エポキシ樹脂としては、特に制限されないが、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、α―ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、β―ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂;フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、フェノールビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂等のアラルキル型エポキシ樹脂;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールAP型エポキシ樹脂、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、ビスフェノールB型エポキシ樹脂、ビスフェノールBP型エポキシ樹脂、ビスフェノールC型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂;ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニル骨格およびジグリシジルオキシベンゼン骨格を有するエポキシ樹脂等のビフェニル型エポキシ樹脂;ナフタレン型エポキシ樹脂;ビナフトール型エポキシ樹脂;ビナフチル型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ樹脂等のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン型エポキシ樹脂、トリグリシジル-p-アミノフェノール型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルスルホンのグリシジルアミン型エポキシ樹脂等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂;2,6-ナフタレンジカルボン酸ジグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ヘキサヒドロ無水フタル酸のグリシジルエステル型エポキシ樹脂等のジグリシジルエステル型エポキシ樹脂;ジベンゾピラン、ヘキサメチルジベンゾピラン、7-フェニルヘキサメチルジベンゾピラン等のベンゾピラン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。 The epoxy resin is not particularly limited, but is not particularly limited. Novorak type epoxy resin such as resin; Aralkill type epoxy resin such as phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, phenol biphenyl aralkyl type epoxy resin; bisphenol A type epoxy resin, bisphenol AP type epoxy resin, bisphenol AF type epoxy resin , Bisphenol B type epoxy resin, Bisphenol BP type epoxy resin, Bisphenol C type epoxy resin, Bisphenol E type epoxy resin, Bisphenol F type epoxy resin, Bisphenol S type epoxy resin, Tetrabromo Bisphenol A type epoxy resin, etc. Biphenyl type epoxy resin such as biphenyl type epoxy resin, tetramethyl biphenyl type epoxy resin, biphenyl skeleton and epoxy resin having diglycidyl oxybenzene skeleton; naphthalene type epoxy resin; binaphthol type epoxy resin; binaphthyl type epoxy resin; dicyclopentadiene Dicyclopentadiene type epoxy resin such as phenol type epoxy resin; glycidylamine type epoxy resin such as tetraglycidyldiaminodiphenylmethane type epoxy resin, triglycidyl-p-aminophenol type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin of diaminodiphenylsulfone; 2 , 6-Naphthalenedicarboxylic acid diglycidyl ester type epoxy resin, diglycidyl ester type epoxy resin such as glycidyl ester type epoxy resin of hexahydrohydroan phthalic acid; benzopyran such as dibenzopyran, hexamethyldibenzopyran, 7-phenylhexamethyldibenzopyran Examples include type epoxy resins. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性組成物が前記エポキシ樹脂を含有する場合、本発明のエステル化合物(A)又はポリエステル樹脂以外のエポキシ樹脂用硬化剤を併用してもよい。前記エポキシ樹脂用硬化剤としては、例えば、本発明のエステル化合物(A)又はポリエステル樹脂以外の活性エステル樹脂や、アミン化合物、アミド化合物、酸無水物、フェノール樹脂、シアン酸エステル樹脂、ベンゾオキサジン樹脂等が挙げられる。 When the curable composition of the present invention contains the epoxy resin, a curing agent for an epoxy resin other than the ester compound (A) of the present invention or the polyester resin may be used in combination. Examples of the curing agent for epoxy resin include active ester resins other than the ester compound (A) or polyester resin of the present invention, amine compounds, amide compounds, acid anhydrides, phenolic resins, cyanate ester resins, and benzoxazine resins. And so on.

本発明の硬化性組成物が前記エポキシ樹脂を含有する場合、発明のエステル化合物(A)又はポリエステル樹脂や、これ以外のエポキシ樹脂用硬化剤との配合割合は、硬化性組成物中のエポキシ基の合計1モルに対して、硬化剤中の官能基の合計が0.7~1.5モルとなる割合であることが好ましい。 When the curable composition of the present invention contains the epoxy resin, the blending ratio with the ester compound (A) of the present invention or the polyester resin and other curing agents for epoxy resins is the epoxy group in the curable composition. It is preferable that the total amount of the functional groups in the curing agent is 0.7 to 1.5 mol with respect to the total of 1 mol.

本発明の硬化性組成物は必要に応じて、硬化促進剤、難燃剤、無機質充填材、シランカップリング剤、離型剤、顔料、乳化剤等の各種添加剤を含有しても良い。 The curable composition of the present invention may contain various additives such as a curing accelerator, a flame retardant, an inorganic filler, a silane coupling agent, a mold release agent, a pigment, and an emulsifier, if necessary.

前記硬化促進剤としては、特に制限されないが、リン系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、グアニジン系硬化促進剤、尿素系硬化促進剤、過酸化物、アゾ化合物等が挙げられる。 The curing accelerator is not particularly limited, and examples thereof include phosphorus-based curing accelerators, amine-based curing accelerators, imidazole-based curing accelerators, guanidine-based curing accelerators, urea-based curing accelerators, peroxides, and azo compounds. Can be mentioned.

前記リン系硬化促進剤としては、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリパラトリルホスフィン、ジフェニルシクロヘキシルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン等の有機ホスフィン化合物;トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト等の有機ホスファイト化合物;エチルトリフェニルホスホニウムブロミド、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラ-p-トリルボレート、トリフェニルホスフィントリフェニルボラン、テトラフェニルホスホニウムチオシアネート、テトラフェニルホスホニウムジシアナミド、ブチルフェニルホスホニウムジシアナミド、テトラブチルホスホニウムデカン酸塩等のホスホニウム塩等が挙げられる。 Examples of the phosphorus-based curing accelerator include organic phosphine compounds such as triphenylphosphine, tributylphosphine, triparatrilphosphine, diphenylcyclohexylphosphine and tricyclohexylphosphine; organic phosphite compounds such as trimethylphosphine and triethylphosphine; ethyltriphenyl. Phosphonium bromide, benzyltriphenylphosphonium chloride, butylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium tetra-p-trilborate, triphenylphosphine triphenylboran, tetraphenylphosphonium thiocyanate, tetraphenylphosphonium disianamide, Examples thereof include phosphonium salts such as butylphenylphosphonium dicyanamide and tetrabutylphosphonium decanoate.

アミン系硬化促進剤としては、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン(DMAP)、2,4,6-トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-ウンデセン-7(DBU)、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-ノネン-5(DBN)等が挙げられる。 Amine-based curing accelerators include triethylamine, tributylamine, N, N-dimethyl-4-aminopyridine (DMAP), 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diazabicyclo [5.4]. .0] -Undecene-7 (DBU), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -Nonen-5 (DBN) and the like.

イミダゾール系硬化促進剤としては、2-メチルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール、1,2-ジメチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾリウムトリメリテート、2-フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3-ジヒドロ-1H-ピロロ[1,2-a]ベンズイミダゾール、1-ドデシル-2-メチル-3-ベンジルイミダゾリウムクロライド、2-メチルイミダゾリン等が挙げられる。 Examples of the imidazole-based curing accelerator include 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, and 2-phenyl-. 4-Methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl- 4-Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-Phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5 hydroxymethylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole, 1-dodecyl-2- Examples thereof include methyl-3-benzylimidazolium chloride, 2-methylimidazoline and the like.

グアニジン系硬化促進剤としては、ジシアンジアミド、1-メチルグアニジン、1-エチルグアニジン、1-シクロヘキシルグアニジン、1-フェニルグアニジン、ジメチルグアニジン、ジフェニルグアニジン、トリメチルグアニジン、テトラメチルグアニジン、ペンタメチルグアニジン、1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]デカ-5-エン、7-メチル-1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]デカ-5-エン、1-メチルビグアニド、1-エチルビグアニド、1-ブチルビグアニド、1-シクロヘキシルビグアニド、1-アリルビグアニド、1-フェニルビグアニド等が挙げられる。 Examples of the guanidine-based curing accelerator include dicyandiamide, 1-methylguanidine, 1-ethylguanidine, 1-cyclohexylguanidine, 1-phenylguanidine, dimethylguanidine, diphenylguanidine, trimethylguanidine, tetramethylguanidine, pentamethylguanidine, 1,5. , 7-Triazabicyclo [4.4.0] deca-5-ene, 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] deca-5-ene, 1-methylbiguanide, Examples thereof include 1-ethylbiguanide, 1-butylbiguanide, 1-cyclohexylbiguanide, 1-allylbiguanide, 1-phenylbiguanide and the like.

前記尿素系硬化促進剤としては、3-フェニル-1,1-ジメチル尿素、3-(4-メチルフェニル)-1,1-ジメチル尿素、クロロフェニル尿素、3-(4-クロロフェニル)-1,1-ジメチル尿素、3-(3,4-ジクロルフェニル)-1,1-ジメチル尿素等が挙げられる。 Examples of the urea-based curing accelerator include 3-phenyl-1,1-dimethylurea, 3- (4-methylphenyl) -1,1-dimethylurea, chlorophenylurea, and 3- (4-chlorophenyl) -1,1. -Dimethylurea, 3- (3,4-dichlorophenyl) -1,1-dimethylurea and the like can be mentioned.

前記過酸化物としては、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、p-クロロベンゾイルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ-2-エチルヘキシルパーオキシカーボネート、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。 Examples of the peroxide include dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, dit-butyl peroxide, diisopropyl peroxycarbonate, di-2-ethylhexylperoxycarbonate, and azobisisobutyro. Examples include nitrile.

上述の硬化促進剤のうち、ジクミルパーオキサイド、2-エチル-4-メチルイミダゾール、ジメチルアミノピリジンを用いることが好ましい。 Among the above-mentioned curing accelerators, it is preferable to use dicumyl peroxide, 2-ethyl-4-methylimidazole, and dimethylaminopyridine.

なお、上述の硬化促進剤は、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The above-mentioned curing accelerator may be used alone or in combination of two or more.

硬化促進剤の使用量は、硬化性組成物の樹脂固形分100質量部に対して、0.01~5質量部であることが好ましく、0.1~3であることがさらに好ましい。硬化促進剤の使用量が0.01質量部以上であると、硬化性に優れることから好ましい。一方、硬化促進剤の使用量が5質量部以下であると、成形性に優れることから好ましい。 The amount of the curing accelerator used is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.1 to 3 with respect to 100 parts by mass of the resin solid content of the curable composition. When the amount of the curing accelerator used is 0.01 parts by mass or more, it is preferable because the curing property is excellent. On the other hand, when the amount of the curing accelerator used is 5 parts by mass or less, it is preferable because the moldability is excellent.

前記難燃剤は、例えば、赤リン、リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、リン酸三アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム等のリン酸アンモニウム、リン酸アミド等の無機リン化合物;リン酸エステル化合物、ホスホン酸化合物、ホスフィン酸化合物、ホスフィンオキシド化合物、ホスホラン化合物、有機系含窒素リン化合物、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド、10-(2,5―ジヒドロオキシフェニル)―10H-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド、10―(2,7-ジヒドロオキシナフチル)-10H-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド等の環状有機リン化合物、及びそれをエポキシ樹脂やフェノール樹脂等の化合物と反応させた誘導体等の有機リン化合物;トリアジン化合物、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物、フェノチアジン等の窒素系難燃剤;シリコーンオイル、シリコーンゴム、シリコーン樹脂等のシリコーン系難燃剤;金属水酸化物、金属酸化物、金属炭酸塩化合物、金属粉、ホウ素化合物、低融点ガラス等の無機難燃剤等が挙げられる。これら難燃剤を用いる場合は、硬化性樹脂組成物中0.1~20質量%の範囲であることが好ましい。 The flame retardant may be, for example, red phosphorus, monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate, ammonium phosphate such as ammonium polyphosphate, inorganic phosphorus compounds such as phosphate amide; phosphoric acid ester compounds, phosphonic acid. Compounds, phosphinic acid compounds, phosphin oxide compounds, phosphoran compounds, organonitrous-containing phosphorus compounds, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (2,5-dihydrooxyphenyl) ) -10H-9-Oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (2,7-dihydrooxynaphthyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, etc. Cyclic organic phosphorus Organophosphorus compounds such as compounds and derivatives obtained by reacting them with compounds such as epoxy resins and phenol resins; nitrogen-based flame retardants such as triazine compounds, cyanuric acid compounds, isocyanuric acid compounds and phenothiazine; silicone oils, silicone rubbers and silicones. Silicone-based flame retardants such as resins; examples thereof include metal hydroxides, metal oxides, metal carbonate compounds, metal powders, boron compounds, and inorganic flame retardants such as low melting point glass. When these flame retardants are used, it is preferably in the range of 0.1 to 20% by mass in the curable resin composition.

前記無機質充填材は、例えば、本発明の硬化性樹脂組成物を半導体封止材料用途に用いる場合などに配合される。前記無機質充填材は、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、窒化珪素、水酸化アルミ等が挙げられる。中でも、無機質充填材をより多く配合することが可能となることから、前記溶融シリカが好ましい。前記溶融シリカは破砕状、球状のいずれでも使用可能であるが、溶融シリカの配合量を高め、且つ、硬化性組成物の溶融粘度の上昇を抑制するためには、球状のものを主に用いることが好ましい。更に、球状シリカの配合量を高めるためには、球状シリカの粒度分布を適当に調整することが好ましい。その充填率は硬化性樹脂組成物100質量部中、0.5~95質量部の範囲で配合することが好ましい。 The inorganic filler is blended, for example, when the curable resin composition of the present invention is used for semiconductor encapsulation material applications. Examples of the inorganic filler include fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum hydroxide and the like. Above all, the molten silica is preferable because it is possible to blend a larger amount of the inorganic filler. The fused silica can be used in either a crushed form or a spherical shape, but in order to increase the blending amount of the fused silica and suppress the increase in the melt viscosity of the curable composition, a spherical one is mainly used. Is preferable. Further, in order to increase the blending amount of spherical silica, it is preferable to appropriately adjust the particle size distribution of spherical silica. The filling rate is preferably in the range of 0.5 to 95 parts by mass in 100 parts by mass of the curable resin composition.

この他、本発明の硬化性組成物を導電ペーストなどの用途に使用する場合は、銀粉や銅粉等の導電性充填剤を用いることができる。 In addition, when the curable composition of the present invention is used for applications such as conductive paste, a conductive filler such as silver powder or copper powder can be used.

本発明の硬化性組成物をプリント配線基板用途やビルドアップ接着フィルム用途に用いる場合、一般には有機溶剤を配合して希釈して用いることが好ましい。前記有機溶剤は、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチルケトン、メトキシプロパノール、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、エチルジグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。有機溶剤の種類や配合量は硬化性組成物の使用環境に応じて適宜調整できるが、例えば、プリント配線板用途では、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン等の沸点が160℃以下の極性溶剤であることが好ましく、不揮発分が25~80質量%となる割合で使用することが好ましい。ビルドアップ接着フィルム用途では、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル溶剤、セロソルブ、ブチルカルビトール等のカルビトール溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等を用いることが好ましく、不揮発分が25~60質量%となる割合で使用することが好ましい。 When the curable composition of the present invention is used for a printed wiring board application or a build-up adhesive film application, it is generally preferable to mix and dilute it with an organic solvent. Examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone, acetone, dimethylformamide, methyl isobutyl ketone, methoxypropanol, cyclohexanone, methyl cellosolve, ethyl diglycol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like. The type and amount of the organic solvent can be appropriately adjusted according to the usage environment of the curable composition. For example, in the case of printed wiring board applications, polar solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, dimethylformamide, and cyclohexanone having a boiling point of 160 ° C or less are used. It is preferably present, and it is preferable to use it in a proportion such that the non-volatile content is 25 to 80% by mass. For build-up adhesive film applications, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, acetate solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and carbitol acetate, and carbitol such as cellosolve and butyl carbitol. It is preferable to use a solvent, an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene and xylene, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like, and it is preferable to use the non-volatile content at a ratio of 25 to 60% by mass.

また、本発明の硬化性組成物を用いてプリント配線基板を製造する方法は、例えば、硬化性組成物を補強基材に含浸し硬化させてプリプレグを得、これと銅箔とを重ねて加熱圧着させる方法が挙げられる。前記補強基材は、紙、ガラス布、ガラス不織布、アラミド紙、アラミド布、ガラスマット、ガラスロービング布などが挙げられる。硬化性組成物の含浸量は特に限定されないが、通常、プリプレグ中の樹脂分が20~60質量%となるように調製することが好ましい。 Further, in the method of manufacturing a printed wiring board using the curable composition of the present invention, for example, the curable composition is impregnated into a reinforcing base material and cured to obtain a prepreg, which is then heated by superimposing the copper foil. A method of crimping can be mentioned. Examples of the reinforcing base material include paper, glass cloth, glass non-woven fabric, aramid paper, aramid cloth, glass mat, and glass roving cloth. The impregnation amount of the curable composition is not particularly limited, but it is usually preferable to adjust the resin content in the prepreg to be 20 to 60% by mass.

本発明の硬化性組成物を半導体封止材料用途に用いる場合、一般には無機質充填材を配合することが好ましい。半導体封止材料は、例えば、押出機、ニーダー、ロール等を用いて配合物を混合して調製することができる。得られた半導体封止材料を用いて半導体パッケージを成型する方法は、例えば、該半導体封止材料を注型或いはトランスファー成形機、射出成型機などを用いて成形し、更に50~200℃の温度条件下で2~10時間加熱する方法が挙げられ、このような方法により、成形物である半導体装置を得ることが出来る。 When the curable composition of the present invention is used as a semiconductor encapsulating material, it is generally preferable to add an inorganic filler. The semiconductor encapsulation material can be prepared by mixing the formulations using, for example, an extruder, a kneader, a roll, or the like. As a method of molding a semiconductor package using the obtained semiconductor encapsulating material, for example, the semiconductor encapsulating material is molded by casting or using a transfer molding machine, an injection molding machine, or the like, and further, the temperature is 50 to 200 ° C. A method of heating under the conditions for 2 to 10 hours can be mentioned, and a semiconductor device which is a molded product can be obtained by such a method.

次に本発明を実施例、比較例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto.

<ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)の測定条件>
測定装置 :東ソー株式会社製「HLC-8320 GPC」、
カラム:東ソー株式会社製ガードカラム「HXL-L」
+東ソー株式会社製「TSK-GEL G4000HXL」
+東ソー株式会社製「TSK-GEL G3000HXL」
+東ソー株式会社製「TSK-GEL G2000HXL」
+東ソー株式会社製「TSK-GEL G2000HXL」
検出器: RI(示差屈折計)
データ処理:東ソー株式会社製「GPCワークステーション EcoSEC-WorkStation」
測定条件: カラム温度 40℃
展開溶媒 テトラヒドロフラン
流速 1.0ml/分
標準 : 前記「GPC-8320」の測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の下記の単分散ポリスチレンを用いた。
(使用ポリスチレン)
東ソー株式会社製「A-500」
東ソー株式会社製「A-1000」
東ソー株式会社製「A-2500」
東ソー株式会社製「A-5000」
東ソー株式会社製「F-1」
東ソー株式会社製「F-2」
東ソー株式会社製「F-4」
東ソー株式会社製「F-10」
東ソー株式会社製「F-20」
東ソー株式会社製「F-40」
東ソー株式会社製「F-80」
東ソー株式会社製「F-128」
試料 : 樹脂固形分換算で1.0質量%のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの(50μl)
<Measurement conditions for gel permeation chromatography (GPC)>
Measuring device: "HLC-8320 GPC" manufactured by Tosoh Corporation,
Column: Guard column "HXL-L" manufactured by Tosoh Corporation
+ "TSK-GEL G4000HXL" manufactured by Tosoh Corporation
+ "TSK-GEL G3000HXL" manufactured by Tosoh Corporation
+ "TSK-GEL G2000HXL" manufactured by Tosoh Corporation
+ "TSK-GEL G2000HXL" manufactured by Tosoh Corporation
Detector: RI (Differential Refractometer)
Data processing: "GPC Workstation EcoSEC-WorkStation" manufactured by Tosoh Corporation
Measurement conditions: Column temperature 40 ° C
Developing solvent Tetrahydrofuran
Flow rate 1.0 ml / min Standard: The following monodisperse polystyrene with known molecular weight was used in accordance with the measurement manual of "GPC-8320".
(Polystyrene used)
"A-500" manufactured by Tosoh Corporation
"A-1000" manufactured by Tosoh Corporation
"A-2500" manufactured by Tosoh Corporation
"A-5000" manufactured by Tosoh Corporation
"F-1" manufactured by Tosoh Corporation
"F-2" manufactured by Tosoh Corporation
"F-4" manufactured by Tosoh Corporation
"F-10" manufactured by Tosoh Corporation
"F-20" manufactured by Tosoh Corporation
"F-40" manufactured by Tosoh Corporation
"F-80" manufactured by Tosoh Corporation
"F-128" manufactured by Tosoh Corporation
Sample: Tetrahydrofuran solution of 1.0% by mass in terms of resin solid content filtered with a microfilter (50 μl)

13C-NMRの測定条件>
装置:日本電子株式会社製「JNM-ECA500」
測定モード:逆ゲート付きデカップリング
溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド
パルス角度:30°パルス
試料濃度 :30質量%
積算回数 :4,000回
ケミカルシフトの基準:ジメチルスルホキシドのピーク:39.5ppm
< 13 C-NMR measurement conditions>
Equipment: "JNM-ECA500" manufactured by JEOL Ltd.
Measurement mode: Decoupling with reverse gate Solvent: Deuterated dimethyl sulfoxide Pulse angle: 30 ° pulse Sample concentration: 30% by mass
Number of integrations: 4,000 times Criteria for chemical shift: Peak of dimethyl sulfoxide: 39.5 ppm

<FD-MSの測定>
FD-MSは日本電子株式会社製の二重収束型質量分析装置「AX505H(FD505H)」を用いて測定した。
<Measurement of FD-MS>
FD-MS was measured using a double-focusing mass spectrometer "AX505H (FD505H)" manufactured by JEOL Ltd.

(実施例1:ポリエステル樹脂(1)の製造)
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、攪拌器を取り付けたフラスコにイソフタル酸クロリド101.0gとトルエン397.0gを仕込み、系内を減圧窒素置換し、溶解させた。次いで、2-アリルフェノール134.0gを仕込み、系内を減圧窒素置換し、溶解させた。更にテトラブチルアンモニウムブロマイド0.30gを加えて溶解させた。窒素ガスパージを施しながら、系内を60℃以下に制御して、20%水酸化ナトリウム水溶液206.0gを3時間かけて滴下した。同温度条件下で1.0時間攪拌を続けた。反応終了後、静置して分液し、水層を取り除いた。反応物が溶解しているトルエン層に水を投入して約15分間攪拌混合し、静置分液して水層を取り除いた。水層のpHが7になるまでこの操作を繰り返した。その後、デカンタ脱水で水分とトルエンを除去し、液状の中間体(1)を得た。中間体(1)の13C-NMRチャートを図1に、FD-MSチャートを図2に、GPCチャートを図3に示す。
(Example 1: Production of polyester resin (1))
101.0 g of isophthalic acid chloride and 397.0 g of toluene were charged in a flask equipped with a thermometer, a dropping funnel, a cooling tube, a fractionation tube, and a stirrer, and the inside of the system was replaced with nitrogen under reduced pressure to dissolve the flask. Then, 134.0 g of 2-allylphenol was charged, and the inside of the system was replaced with nitrogen under reduced pressure to dissolve it. Further, 0.30 g of tetrabutylammonium bromide was added and dissolved. While performing a nitrogen gas purge, the temperature inside the system was controlled to 60 ° C. or lower, and 206.0 g of a 20% sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise over 3 hours. Stirring was continued for 1.0 hour under the same temperature conditions. After completion of the reaction, the solution was allowed to stand and separated, and the aqueous layer was removed. Water was added to the toluene layer in which the reaction product was dissolved, and the mixture was stirred and mixed for about 15 minutes, and the solution was allowed to stand and separated to remove the aqueous layer. This operation was repeated until the pH of the aqueous layer reached 7. Then, water and toluene were removed by decanter dehydration to obtain a liquid intermediate (1). The 13 C-NMR chart of the intermediate (1) is shown in FIG. 1, the FD-MS chart is shown in FIG. 2, and the GPC chart is shown in FIG.

温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、攪拌器を取り付けたフラスコに1,9-ノナンジオール60.0g、前記中間体(1)298.4g、ジアザビシクロウンデセン(DBU)1.79gを仕込んだ。系内を減圧窒素置換した後、190℃まで昇温し、同温度で3時間撹拌した。その後、減圧蒸留にて2-アリルフェノールを除去し、ポリエステル樹脂(1)を得た。ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)のチャート図の面積比から算出される、ポリエステル樹脂(1)の重量平均分子量(Mw)は1,848であった。また、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)のチャート図の面積比から算出される、ポリエステル樹脂(1)中のエステル化合物(A)の含有量は29%、エステル化合物(B)の含有量は21%であった。ポリエステル樹脂(1)のGPCチャートを図1に示す。 In a flask equipped with a thermometer, a dropping funnel, a cooling tube, a fractionation tube, and a stirrer, 60.0 g of 1,9-nonanediol, 298.4 g of the intermediate (1), diazabicycloundecene (DBU) 1. I charged 79g. After substituting nitrogen under reduced pressure in the system, the temperature was raised to 190 ° C., and the mixture was stirred at the same temperature for 3 hours. Then, 2-allylphenol was removed by vacuum distillation to obtain a polyester resin (1). The weight average molecular weight (Mw) of the polyester resin (1) calculated from the area ratio of the gel permeation chromatography (GPC) chart was 1,848. Further, the content of the ester compound (A) in the polyester resin (1) calculated from the area ratio of the gel permeation chromatography (GPC) chart is 29%, and the content of the ester compound (B) is 21%. Met. The GPC chart of the polyester resin (1) is shown in FIG.

(実施例2:ポリエステル樹脂(2)の製造)
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、攪拌器を取り付けたフラスコに1,6-ヘキサンジオール40.0g、前記中間体(1)249.5g、ジアザビシクロウンデセン(DBU)1.45gを仕込んだ。系内を減圧窒素置換した後、190℃まで昇温し、同温度で3.5時間撹拌した。その後、減圧蒸留にて2-アリルフェノールを除去し、ポリエステル樹脂(2)を得た。ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)のチャート図の面積比から算出される、ポリエステル樹脂(2)の重量平均分子量(Mw)は1,489であった。また、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)のチャート図の面積比から算出される、ポリエステル樹脂(2)中のエステル化合物(A)の含有量は28%、エステル化合物(B)の含有量は21%であった。ポリエステル樹脂(2)のGPCチャートを図2に示す。
(Example 2: Production of polyester resin (2))
In a flask equipped with a thermometer, a dropping funnel, a cooling tube, a fractionation tube, and a stirrer, 40.0 g of 1,6-hexanediol, 249.5 g of the intermediate (1), and diazabicycloundecene (DBU) 1. I charged 45g. After substituting nitrogen under reduced pressure in the system, the temperature was raised to 190 ° C., and the mixture was stirred at the same temperature for 3.5 hours. Then, 2-allylphenol was removed by vacuum distillation to obtain a polyester resin (2). The weight average molecular weight (Mw) of the polyester resin (2) calculated from the area ratio of the gel permeation chromatography (GPC) chart was 1,489. Further, the content of the ester compound (A) in the polyester resin (2) calculated from the area ratio of the gel permeation chromatography (GPC) chart is 28%, and the content of the ester compound (B) is 21%. Met. The GPC chart of the polyester resin (2) is shown in FIG.

(実施例3:ポリエステル樹脂(3)の製造)
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、攪拌器を取り付けたフラスコに1,12-ドデカンジオール50.0g、前記中間体(1)208.74g、ジアザビシクロウンデセン(DBU)1.29gを仕込んだ。系内を減圧窒素置換した後、190℃まで昇温し、同温度で7時間撹拌した。その後、減圧蒸留にて2-アリルフェノールを除去し、ポリエステル樹脂(2)を得た。ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)のチャート図の面積比から算出される、ポリエステル樹脂(3)の重量平均分子量(Mw)は1,647であった。また、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)のチャート図の面積比から算出される、ポリエステル樹脂(3)中のエステル化合物(A)の含有量は32%、エステル化合物(B)の含有量は26%であった。ポリエステル樹脂(3)のGPCチャートを図3に示す。
(Example 3: Production of polyester resin (3))
In a flask equipped with a thermometer, a dropping funnel, a cooling tube, a fractionation tube, and a stirrer, 50.0 g of 1,12-dodecanediol, 208.74 g of the intermediate (1), and diazabicycloundecene (DBU) 1. I charged 29g. After substituting nitrogen under reduced pressure in the system, the temperature was raised to 190 ° C., and the mixture was stirred at the same temperature for 7 hours. Then, 2-allylphenol was removed by vacuum distillation to obtain a polyester resin (2). The weight average molecular weight (Mw) of the polyester resin (3) calculated from the area ratio of the gel permeation chromatography (GPC) chart was 1,647. Further, the content of the ester compound (A) in the polyester resin (3) calculated from the area ratio of the gel permeation chromatography (GPC) chart is 32%, and the content of the ester compound (B) is 26%. Met. The GPC chart of the polyester resin (3) is shown in FIG.

(実施例4~6及び比較例1)
<硬化性組成物の調製>
表1に示す割合でポリエステル樹脂、マレイミド樹脂、及び触媒を配合して加熱混合し、硬化性組成物を得た。
マレイミド樹脂:大和化成工業株式会社製「BMI-5100」
触媒:ジクミルパーオキシド
(Examples 4 to 6 and Comparative Example 1)
<Preparation of curable composition>
A polyester resin, a maleimide resin, and a catalyst were mixed and mixed by heating at the ratios shown in Table 1 to obtain a curable composition.
Maleimide resin: "BMI-5100" manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.
Catalyst: Dicumylperoxide

<試験片の作成>
先で得た硬化性組成物を、厚さ2mmの型枠内に流し込み、200℃で3時間加熱し、硬化させた。その後、加熱真空乾燥させ、23℃、湿度50%の室内に24時間保存し、試験片を得た。
<Creation of test piece>
The curable composition obtained above was poured into a mold having a thickness of 2 mm and heated at 200 ° C. for 3 hours to be cured. Then, it was vacuum-dried by heating and stored in a room at 23 ° C. and 50% humidity for 24 hours to obtain a test piece.

<誘電正接の測定>
JIS-C-6481に準拠し、アジレント・テクノロジー株式会社製インピーダンス・マテリアル・アナライザ「HP4291B」により、試験片の1GHz、10GHzでの誘電正接を測定した。また、試験片を湿熱条件下(121℃、湿度100%)に6時間放置した後の1GHz、10GHzでの誘電正接を測定した。また、その変化率を計算した。結果を表1に示す。
<Measurement of dielectric loss tangent>
The dielectric loss tangent of the test piece at 1 GHz and 10 GHz was measured by an impedance material analyzer "HP4291B" manufactured by Agilent Technologies, Inc. in accordance with JIS-C-6481. Further, the dielectric loss tangent at 1 GHz and 10 GHz after the test piece was left under moist heat conditions (121 ° C., humidity 100%) for 6 hours was measured. In addition, the rate of change was calculated. The results are shown in Table 1.

Figure 2022100697000008
Figure 2022100697000008

Claims (14)

下記一般式(1)で表されるエステル化合物(A)。
Figure 2022100697000009
[上記一般式(1)中のArはそれぞれ独立して置換基を有していてもよいアリール基である。Arはそれぞれ独立して置換基を有していてもよいアリーレン基である。Rは炭素原子数4~20の脂肪族炭化水素基である。]
The ester compound (A) represented by the following general formula (1).
Figure 2022100697000009
[Ar 1 in the above general formula (1) is an aryl group which may have an independent substituent. Ar 2 is an arylene group which may have a substituent independently of each other. R 1 is an aliphatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms. ]
前記一般式(1)中のArが炭素原子数2~4のアルケニル基、前記炭素原子数2~4のアルキニル基、炭素原子数2~4のアルケニルオキシ基、炭素原子数2~4のアルキニルオキシ基のいずれか一種以上を1~3つ有する請求項1記載のエステル化合物(A)。 Ar 1 in the general formula (1) has an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, and 2 to 4 carbon atoms. The ester compound (A) according to claim 1, which has 1 to 3 of any one or more of alkynyloxy groups. 請求項1又は2記載のエステル化合物(A)を含有するポリエステル樹脂。 A polyester resin containing the ester compound (A) according to claim 1 or 2. 前記エステル化合物(A)の含有量が、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)のチャート図の面積比から算出される値で10~60%の範囲である請求項3記載のポリエステル樹脂。 The polyester resin according to claim 3, wherein the content of the ester compound (A) is in the range of 10 to 60% as a value calculated from the area ratio of the gel permeation chromatography (GPC) chart. 前記エステル化合物(A)と、下記一般式(2)で表されるエステル化合物(B)とを含有する、請求項3又は4記載のポリエステル樹脂。
Figure 2022100697000010
[上記一般式(2)中のArはそれぞれ独立して置換基を有していてもよいアリール基である。Arは置換基を有していてもよいアリーレン基である。]
The polyester resin according to claim 3 or 4, which contains the ester compound (A) and the ester compound (B) represented by the following general formula (2).
Figure 2022100697000010
[Ar 1 in the above general formula (2) is an aryl group which may have an independent substituent. Ar 2 is an arylene group which may have a substituent. ]
前記エステル化合物(B)の含有量が、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)の面積比から算出される値で10~50%の範囲である請求項5記載のポリエステル樹脂。 The polyester resin according to claim 5, wherein the content of the ester compound (B) is in the range of 10 to 50% as a value calculated from the area ratio of gel permeation chromatography (GPC). 請求項1又は2記載のエステル化合物(A)又は請求項3~6のいずれか一つに記載のポリエステル樹脂を含有する硬化性組成物。 A curable composition containing the ester compound (A) according to claim 1 or 2 or the polyester resin according to any one of claims 3 to 6. 更に、マレイミド化合物を含有する、請求項7記載の硬化性組成物。 The curable composition according to claim 7, further comprising a maleimide compound. 請求項7記載の硬化性組成物の硬化物。 A cured product of the curable composition according to claim 7. 請求項7又は8記載の硬化性組成物を用いたプリプレグ。 A prepreg using the curable composition according to claim 7 or 8. 請求項7又は8記載の硬化性組成物を用いたプリント配線基板。 A printed wiring board using the curable composition according to claim 7 or 8. 請求項7又は8記載の硬化性組成物を用いたビルドアップフィルム。 A build-up film using the curable composition according to claim 7 or 8. 請求項7又は8記載の硬化性組成物を用いた半導体封止材。 A semiconductor encapsulant using the curable composition according to claim 7 or 8. 請求項13記載の半導体封止材を用いた半導体装置。 A semiconductor device using the semiconductor encapsulant according to claim 13.
JP2020214823A 2020-12-24 2020-12-24 Ester compound, polyester resin, curable composition, cured product, prepreg, printed wiring board, build-up film, semiconductor encapsulant, and semiconductor device Pending JP2022100697A (en)

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