JP2022100128A - ポジ型レジスト組成物の製造方法及びレジストパターン形成方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ポジ型レジストを用いたレジストパターンの形成に際し、レジストパターンに混入する異物の量を低減する新たな技術の提供。【解決手段】下記式（Ｉ）で表される単量体単位（Ａ）と、下記式（ＩＩ）で表される単量体単位（Ｂ）とを有する共重合体、及び溶剤を含む溶液を、除粒子径が２０ｎｍ以下のフィルターを通過させてろ過する工程を含む、ポジ型レジスト組成物の製造方法。【化１】TIFF2022100128000025.tif39170【選択図】なし

Description

本発明は、ポジ型レジスト組成物の製造方法及びレジストパターン形成方法に関するものである。

従来、半導体製造等の分野において、電子線などの電離放射線や紫外線（極端紫外線（ＥＵＶ：Extreme ultraviolet）を含む。）などの短波長の光（以下、電離放射線と短波長の光とを合わせて「電離放射線等」と称することがある。）の照射により主鎖が切断されて現像液に対する溶解性が増大する共重合体が、主鎖切断型のポジ型レジストとして使用されている。

具体的には、例えば特許文献１には、電離放射線等に対する感度及び耐熱性に優れる主鎖切断型のポジ型レジストとして、α－クロロアクリル酸－１－フェニル－１－トリフルオロメチル－２，２，２－トリフルオロエチル単位と、α－メチルスチレン単位とを含有する共重合体よりなるポジ型レジストが開示されている。このような共重合体を溶剤に溶解させて得られるポジ型レジスト組成物からレジスト膜を形成し、得られたレジスト膜を露光し、次いで露光後のレジスト膜を現像することで、レジストパターンを形成することができる。

特開２０１８－１５４７５４号公報

ここで従来、得られるレジストパターンに意図せず混入する金属などの異物の量を低減することが求められている。特に近年、電子線等と比較して露光の際の近接効果が少なく、また、微細なパターン形成を可能にする技術として、ＥＵＶを用いたＥＵＶリソグラフィ技術が注目されている。このような状況の下、ポジ型レジストを用いたレジストパターンの形成に際し、上述した異物の量を低減する要求が一層高まっている。

そこで本発明は、ポジ型レジストを用いたレジストパターンの形成に際し、レジストパターンに混入する異物の量を低減する新たな技術の提供を目的とする。

本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を行った。本発明者は、レジスト膜の形成に用いるポジ型レジスト組成物の製造工程に着目した。その上で本発明者は、所定の単量体を用いて形成した共重合体及び溶剤を含有するポジ型レジスト組成物の調製に際し、共重合体と溶剤を含む溶液を、除粒子径が所定の値以下であるフィルターを通過させて異物を除去することにより、結果として得られるレジストパターンへの異物の混入を有利に抑制できることを見出し、本発明を完成させた。

即ち、この発明は、上記課題を有利に解決することを目的とするものであり、本発明のポジ型レジスト組成物の製造方法は、下記式（Ｉ）：

〔式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ハロゲン原子、シアノ基、アルキルスルホニル基、アルコキシ基、ニトロ基、アシル基、アルキルエステル基又はハロゲン化アルキル基であり、
Ｒ^２は、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又は－Ｌ－Ａｒで表される構造であり、ここで、Ｌは、単結合又は２価の連結基であり、Ａｒは、置換基を有していてもよい芳香環基であり、
Ｒ^３及びＲ^４は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基であり、互いに同一でも異なっていてもよい。〕
で表される単量体単位（Ａ）と、
下記式（ＩＩ）：

〔式（ＩＩ）中、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^８及びＲ^９は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化カルボキシル基、アルキル基、又はハロゲン化アルキル基であり、互いに同一でも異なっていてもよく、
Ｒ^７は、水素原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基であり、ｐ及びｑは、０以上５以下の整数であり、ｐ＋ｑ＝５であり、Ｒ^６が複数存在する場合、それらは互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ^７が複数存在する場合、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。〕
で表される単量体単位（Ｂ）とを有する共重合体、及び溶剤を含む溶液を、除粒子径が２０ｎｍ以下のフィルターを通過させてろ過する工程を含むことを特徴とする。このように、上述した所定の共重合体と溶剤とを含む溶液を、除粒子径が上述した値以下のフィルターを通過させるろ過の操作を経れば、異物の量が十分に低減されたポジ型レジスト組成物を得ることができる。
なお、本発明において、フィルターの「除粒子径」とは、当該フィルターが除去可能な粒子の最小サイズを意味する。例えば、フィルターの除粒子径が２０ｎｍである場合には、直径（粒子径）が２０ｎｍ以上の粒子を除去可能である。
また、本発明において、「置換基を有していてもよい」とは、「無置換の、又は、置換基を有する」を意味する。

ここで、本発明のポジ型レジスト組成物の製造方法は、前記共重合体の重量平均分子量が３０，０００超であることが好ましい。共重合体の重量平均分子量が３０，０００超であれば、ポジ型レジスト組成物を用いて得られるレジストパターンの明瞭性を確保することができる。

そして、本発明のポジ型レジスト組成物の製造方法は、前記単量体単位（Ａ）が有するフッ素原子の数と、前記単量体単位（Ｂ）が有するフッ素原子の数の合計が１個以上であることが好ましい。単量体単位（Ａ）及び単量体単位（Ｂ）中のフッ素原子の数の合計が１個以上であれば、当該共重合体を含む溶液のフィルター通液性を向上させることができる。

また、この発明は、上記課題を有利に解決することを目的とするものであり、本発明のレジストパターン形成方法は、上述した何れかのポジ型レジスト組成物の製造方法により得られたポジ型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜を露光する工程と、前記露光後のレジスト膜を現像する工程とを含むことを特徴とする。上述した何れかのポジ型レジスト組成物の製造方法により得られたポジ型レジスト組成物を用いてレジストパターンを形成すれば、得られるレジストパターンに混入する異物の量を十分に低減することができる。

本発明のポジ型レジスト組成物の製造方法によれば、異物の量が十分に低減されたポジ型レジスト組成物を製造することができる。
また、本発明のレジストパターン形成方法によれば、異物の量が十分に低減されたレジストパターンを形成することができる。

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
本発明のポジ型レジスト組成物の製造方法は、電離放射線等の照射により主鎖が切断されて低分子量化する、主鎖切断型のポジ型レジストを含むポジ型レジスト組成物を製造する方法である。
そして、本発明のレジストパターン形成方法は、本発明のポジ型レジスト組成物の製造方法により得られたポジ型レジスト組成物を用いてレジストパターンを形成する方法である。
また、本発明のレジストパターン形成方法で形成したレジストパターンは、当該レジストパターンをマスクとして被加工物をエッチングし、被加工物にパターンを形成するエッチング方法に用いることができる。
このようなポジ型レジスト組成物の製造方法、レジストパターン形成方法及びエッチング方法は、例えばビルドアップ基板などのプリント基板を製造する際などに好適に用いることができる。

（ポジ型レジスト組成物の製造方法）
本発明のポジ型レジスト組成物の製造方法では、主鎖切断型のポジ型レジストとしての共重合体及び溶剤を含む溶液を除粒子径が２０ｎｍ以下のフィルターを通過させてろ過する。

上述した共重合体は、電離放射線等（例えば、電子線、ＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、ＥＵＶレーザーなど）が照射された際に主鎖が容易に切断されて低分子量化する。そして、本発明のポジ型レジスト組成物の製造方法では、上述したろ過を経てポジ型レジスト組成物を製造するため、異物の量が十分に低減されたポジ型レジスト組成物を得ることができる。

＜溶液＞
溶液は、ポジ型レジストとして以下に詳述する所定の共重合体を含み、溶剤を更に含有する。また、ポジ型レジスト組成物は、任意に、レジスト組成物に配合され得る既知の添加剤を更に含有する。
なお、溶液は、ポジ型レジストとして所定の共重合体以外の重合体を含有していてもよいが、通常、所定の共重合体のみをポジ型レジストとして含有している。

＜＜共重合体＞＞
溶液に含まれる共重合体は、所定の単量体単位（Ａ）及び単量体単位（Ｂ）を有する。
なお、共重合体は、単量体単位（Ａ）及び単量体単位（Ｂ）以外の任意の単量体単位を含んでいてもよいが、共重合体を構成する全単量体単位中で単量体単位（Ａ）及び単量体単位（Ｂ）が占める割合は、合計で９０モル％以上であることが好ましく、１００モル％である（即ち、共重合体は単量体単位（Ａ）及び単量体単位（Ｂ）のみを含む）ことがより好ましい。

［単量体単位（Ａ）］
単量体単位（Ａ）は、下記式（Ｉ）：

〔式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ハロゲン原子、シアノ基、アルキルスルホニル基、アルコキシ基、ニトロ基、アシル基、アルキルエステル基又はハロゲン化アルキル基であり、
Ｒ^２は、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又は－Ｌ－Ａｒで表される構造であり、ここで、Ｌは、単結合または２価の連結基であり、Ａｒは、置換基を有していてもよい芳香環基であり、
Ｒ^３及びＲ^４は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基であり、互いに同一でも異なっていてもよい。〕
で表され、下記式（ＩＩＩ）：

（式（ＩＩＩ）中、Ｒ^１～Ｒ^４は、式（Ｉ）と同様である。）で表される単量体（ａ）に由来する構造単位である。

ここで、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）中のＲ^１を構成し得るハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子、及びアスタチン原子が挙げられる。
また、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）中のＲ^１を構成し得るアルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基及びエチルスルホニル基が挙げられる。
更に、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）中のＲ^１を構成し得るアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、及びプロポキシ基が挙げられる。
また、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）中のＲ^１を構成し得るアシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、及びプロピオニル基が挙げられる。
更に、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）中のＲ^１を構成し得るアルキルエステル基としては、例えば、メチルエステル基及びエチルエステル基が挙げられる。
そして、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）中のＲ^１を構成し得るハロゲン化アルキル基としては、例えば、ハロゲン原子の数が１個以上３個以下のハロゲン化メチル基が挙げられる。
中でも、主鎖切断型のポジ型レジストとして有用な共重合体を効率的に得る観点からは、Ｒ^１は、ハロゲン原子であることが好ましく、塩素原子であることがより好ましい。

ここで、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）中のＲ^２を構成し得るアルキル基としては、例えば、非置換の炭素数１以上１０以下のアルキル基が挙げられる。
また、式（Ｉ）及び（ＩＩＩ）中のＲ^２を構成し得るハロゲン化アルキル基としては、例えば、フッ素原子で置換されたアルキル基が挙げられる。フッ素原子で置換されたアルキル基としては、２，２，２－トリフルオロエチル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、２－（パーフルオロブチル）エチル基、２－（パーフルオロヘキシル）エチル基、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－テトラフルオロプロピル基、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチル基、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ－ドデカフルオロヘプチル基、１Ｈ－１－（トリフルオロメチル）トリフルオロエチル基、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－ヘキサフルオロブチル基又は１，２，２，２－テトラフルオロ－１－（トリフルオロメチル）エチル基が挙げられる。中でも、ハロゲン化アルキル基としては、２，２，２－トリフルオロエチル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基が好ましい。

また、式（Ｉ）及び（ＩＩＩ）中のＲ^２が－Ｌ－Ａｒで表される構造である場合、Ｌを構成し得る２価の連結基としては、特に限定されることなく、例えば、置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアルケニレン基などが挙げられる。
そして、置換基を有していてもよいアルキレン基のアルキレン基としては、特に限定されることなく、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基などの鎖状アルキレン基、及び、１，４－シクロヘキシレン基などの環状アルキレン基が挙げられる。中でも、アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基などの炭素数１～６の鎖状アルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ｎ－ブチレン基などの炭素数１～６の直鎖状アルキレン基がより好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などの炭素数１～３の直鎖状アルキレン基が更に好ましい。
また、置換基を有していてもよいアルケニレン基のアルケニレン基としては、特に限定されることなく、例えば、エテニレン基、２－プロペニレン基、２－ブテニレン基、３－ブテニレン基などの鎖状アルケニレン基、及び、シクロヘキセニレン基などの環状アルケニレン基が挙げられる。中でも、アルケニレン基としては、エテニレン基、２－プロペニレン基、２－ブテニレン基、３－ブテニレン基などの炭素数２～６の直鎖状アルケニレン基が好ましい。
上述した中でも、電離照射線等に対する感度を十分に向上させる観点からは、２価の連結基としては、置換基を有していてもよいアルキレン基が好ましく、置換基を有していてもよい炭素数１～６の鎖状アルキレン基がより好ましく、置換基を有していてもよい炭素数１～６の直鎖状アルキレン基が更に好ましく、置換基を有していてもよい炭素数１～３の直鎖状アルキレン基が特に好ましい。
また、電離照射線等に対する感度を更に向上させる観点からは、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）中のＬを構成し得る２価の連結基は、電子吸引性基を１つ以上有することが好ましい。中でも、２価の連結基が置換基として電子吸引性基を有するアルキレン基又は置換基として電子吸引性基を有するアルケニレン基である場合、電子吸引性基は、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）中のカルボニル炭素に隣接するＯと結合する炭素に結合していることが好ましい。

なお、電離照射線等に対する感度を十分に向上させ得る電子吸引性基としては、特に限定されることなく、例えば、フッ素原子、フルオロアルキル基、シアノ基及びニトロ基からなる群より選択される少なくとも１種が挙げられる。また、フルオロアルキル基としては、特に限定されることなく、例えば、炭素数１～５のフルオロアルキル基が挙げられる。中でも、フルオロアルキル基としては、炭素数１～５のパーフルオロアルキル基が好ましく、トリフルオロメチル基がより好ましい。
そして、電離照射線等に対する感度を十分に向上させる観点からは、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）中のＬとしては、メチレン基、シアノメチレン基、トリフルオロメチルメチレン基又はビス（トリフルオロメチル）メチレン基が好ましく、ビス（トリフルオロメチル）メチレン基がより好ましい。

また、式（Ｉ）及び（ＩＩＩ）中のＲ^２が－Ｌ－Ａｒで表される構造である場合、Ａｒとしては、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環基及び置換基を有していてもよい芳香族複素環基が挙げられる。

そして、芳香族炭化水素環基としては、特に限定されることなく、例えば、ベンゼン環基、ビフェニル環基、ナフタレン環基、アズレン環基、アントラセン環基、フェナントレン環基、ピレン環基、クリセン環基、ナフタセン環基、トリフェニレン環基、ｏ－テルフェニル環基、ｍ－テルフェニル環基、ｐ－テルフェニル環基、アセナフテン環基、コロネン環基、フルオレン環基、フルオラントレン環基、ペンタセン環基、ペリレン環基、ペンタフェン環基、ピセン環基、ピラントレン環基などが挙げられる。

また、芳香族複素環基としては、特に限定されることなく、例えば、フラン環基、チオフェン環基、ピリジン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、トリアジン環基、オキサジアゾール環基、トリアゾール環基、イミダゾール環基、ピラゾール環基、チアゾール環基、インドール環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、キノキサリン環基、キナゾリン環基、フタラジン環基、ベンゾフラン環基、ジベンゾフラン環基、ベンゾチオフェン環基、ジベンゾチオフェン環基、カルバゾール環基等が挙げられる。

更に、Ａｒが有し得る置換基としては、特に限定されることなく、例えば、アルキル基、フッ素原子及びフルオロアルキル基が挙げられる。そして、Ａｒが有し得る置換基としてのアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの炭素数１～６の鎖状アルキル基が挙げられる。また、Ａｒが有し得る置換基としてのフルオロアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロプロピル基などの炭素数１～５のフルオロアルキル基が挙げられる。

中でも、電離照射線等に対する感度を十分に向上させる観点からは、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）中のＡｒとしては、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環基が好ましく、非置換の芳香族炭化水素環基がより好ましく、ベンゼン環基（フェニル基）が更に好ましい。

ここで、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）中のＲ^３及びＲ^４を構成し得るハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子及びアスタチン原子が挙げられる。
また、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）中のＲ^３及びＲ^４を構成し得るアルキル基としては、例えば、非置換の炭素数１以上１０以下のアルキル基が挙げられる。
更に、式（Ｉ）及び（ＩＩＩ）中のＲ^３及びＲ^４を構成し得るハロゲン化アルキル基としては、例えば、フッ素原子で置換されたアルキル基が挙げられる。フッ素原子で置換されたアルキル基としては、「式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）中のＲ^１を構成し得るハロゲン化アルキル基」として例示したものと同様のものが挙げられる。
中でも、主鎖切断型のポジ型レジストとして有用な共重合体を効率的に得る観点からは、Ｒ^３及びＲ^４は、水素原子であることが好ましい。

そして、上述した式（Ｉ）で表される単量体単位（Ａ）を形成し得る、上述した式（ＩＩＩ）で表される単量体（ａ）としては、例えば、α－クロロアクリル酸メチル、α－クロロアクリル酸２，２，２－トリフルオロエチル、α－クロロアクリル酸２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル、α－クロロアクリル酸２－（パーフルオロブチル）エチル、α－クロロアクリル酸２－（パーフルオロヘキシル）エチル、α－クロロアクリル酸１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－テトラフルオロプロピル、α－クロロアクリル酸１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチル、α－クロロアクリル酸１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ－ドデカフルオロヘプチル、α－クロロアクリル酸１Ｈ－１－（トリフルオロメチル）トリフルオロエチル、α－クロロアクリル酸１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－ヘキサフルオロブチル、α－クロロアクリル酸１，２，２，２－テトラフルオロ－１－（トリフルオロメチル）エチルなどのα－クロロアクリル酸フルオロアルキルエステル；α－フルオロアクリル酸メチル、α－フルオロアクリル酸エチルなどのα－フルオロアクリル酸アルキルエステル；α－トリフルオロメチルアクリル酸メチル、α－トリフルオロメチルアクリル酸エチルなどのα－フルオロアルキルアクリル酸アルキルエステル；α－フルオロアクリル酸２，２，２－トリフルオロエチル、α－フルオロアクリル酸２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル、α－フルオロアクリル酸２－（パーフルオロブチル）エチル、α－フルオロアクリル酸２－（パーフルオロヘキシル）エチル、α－フルオロアクリル酸１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－テトラフルオロプロピル、α－フルオロアクリル酸１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチル、α－フルオロアクリル酸１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ－ドデカフルオロヘプチル、α－フルオロアクリル酸１Ｈ－１－（トリフルオロメチル）トリフルオロエチル、α－フルオロアクリル酸１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－ヘキサフルオロブチル、α－フルオロアクリル酸１，２，２，２－テトラフルオロ－１－（トリフルオロメチル）エチルなどのα－フルオロアクリル酸フルオロアルキルエステル；α－クロロアクリル酸ベンジル；α－クロロアクリル酸－１－フェニル－１－トリフルオロメチル－２，２，２－トリフルオロエチル；が挙げられる。

なお、共重合体を構成する全単量体単位中の単量体単位（Ａ）の割合は、特に限定されることなく、例えば３０モル％以上７０モル％以下とすることができる。中でも、単量体単位（Ａ）の割合は、５０モル％以上であることが好ましく、５０モル％超であることがより好ましく、５２モル％以上であることが更に好ましく、６０モル％以下であることが好ましく、５５モル％以下であることがより好ましく、５４モル％以下であることが更に好ましい。単量体単位（Ａ）の割合が上記範囲内であれば、微細なレジストパターンを高解像度で効率的に形成することができる。

［単量体単位（Ｂ）］
単量体単位（Ｂ）は、下記式（ＩＩ）：

〔式（ＩＩ）中、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^８及びＲ^９は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化カルボキシル基、アルキル基、又はハロゲン化アルキル基であり、互いに同一でも異なっていてもよく、
Ｒ^７は、水素原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基であり、ｐおよびｑは、０以上５以下の整数であり、ｐ＋ｑ＝５であり、Ｒ^６が複数存在する場合、それらは互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ^７が複数存在する場合、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。〕
で表され、下記式（ＩＶ）：

〔式（ＩＶ）中、Ｒ^５～Ｒ^９、並びに、ｐ及びｑは、式（ＩＩ）と同様である。〕で表される単量体（ｂ）に由来する構造単位である。

ここで、式（ＩＩ）及び式（ＩＶ）中のＲ^５、Ｒ^６、Ｒ^８及びＲ^９を構成し得るハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子及びアスタチン原子が挙げられる。中でも、ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
また、式（ＩＩ）及び式（ＩＶ）中のＲ^５、Ｒ^６、Ｒ^８及びＲ^９を構成し得るハロゲン化カルボキシル基（－Ｃ（＝Ｏ）－Ｘ；Ｘはハロゲン原子）としては、例えば、例えば塩化カルボキシル基（－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃｌ）、フッ化カルボキシル基（－Ｃ（＝Ｏ）－Ｆ）、臭化カルボキシル基（－Ｃ（＝Ｏ）－Ｂｒ）が挙げられる。
更に、式（ＩＩ）及び式（ＩＶ）中のＲ^５～Ｒ^９を構成し得るアルキル基としては、例えば、非置換の炭素数１以上５以下のアルキル基が挙げられる。中でも、アルキル基としては、メチル基及びエチル基が好ましい。
また、式（ＩＩ）及び式（ＩＶ）中のＲ^５～Ｒ^９を構成し得るハロゲン化アルキル基としては、例えば、フッ素原子で置換されたアルキル基が挙げられ、炭素数１以上５以下のパーフルオロアルキル基が好ましく、トリフルオロメチル基がより好ましい。

そして、共重合体の調製の容易性及び電離放射線等を照射した際の主鎖の切断性を向上させる観点からは、式（ＩＩ）及び式（ＩＶ）中のＲ^５は、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、非置換の炭素数１以上５以下のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが更に好ましい。

また、共重合体の調製の容易性及び電離放射線等を照射した際の主鎖の切断性を向上させる観点からは、式（ＩＩ）及び式（ＩＶ）中に複数存在するＲ^６及び／又はＲ^７は、全て、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数１以上５以下のアルキル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。
なお、共重合体の調製の容易性及び電離放射線等を照射した際の主鎖の切断性を向上させる観点からは、式（ＩＩ）及び式（ＩＶ）中のｐが５であり、ｑが０であり、５つあるＲ^６の全てが水素原子又はアルキル基であることが好ましく、５つあるＲ^６の全てが水素原子又は非置換の炭素数１以上５以下のアルキル基であることがより好ましく、５つあるＲ^６の全てが水素原子であることが更に好ましい。

更に、共重合体の調製の容易性及び電離放射線等を照射した際の主鎖の切断性を向上させる観点からは、式（ＩＩ）及び式（ＩＶ）中のＲ^８及びＲ^９は、それぞれ、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、水素原子又は非置換の炭素数１以上５以下のアルキル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。

そして、上述した式（ＩＩ）で表される単量体単位（Ｂ）を形成し得る、上述した式（ＩＶ）で表される単量体（ｂ）としては、特に限定されることなく、例えば、以下の（ｂ－１）～（ｂ－１８）等のα－メチルスチレン及びその誘導体が挙げられる。

なお、共重合体の調製の容易性及び電離照射線等を照射した際の主鎖の切断性を向上させる観点からは、単量体単位（Ｂ）は、α－メチルスチレン又は４－メチル－α－メチルスチレンに由来する構造単位であることが好ましい。即ち、共重合体は、α－メチルスチレン単位又は４－メチル－α－メチルスチレン単位を有することが好ましい。

そして、共重合体を構成する全単量体単位中の単量体単位（Ｂ）の割合は、特に限定されることなく、例えば３０モル％以上７０モル％以下とすることができる。中でも、単量体単位（Ｂ）の割合は、４０モル％以上であることが好ましく、４５モル％以上であることがより好ましく、４６モル％以上であることが更に好ましく、５０モル％以下であることが好ましく、５０モル％未満であることがより好ましく、４８モル％以下であることが更に好ましい。単量体単位（Ｂ）の割合が上記範囲内であれば、微細なレジストパターンを高解像度で効率的に形成することができる。

［単量体単位（Ａ）及び単量体単位（Ｂ）中のフッ素原子の数の合計］
ここで、共重合体は、一つの単量体単位（Ａ）が有するフッ素原子の数と、一つの単量体単位（Ｂ）が有するフッ素原子の数の合計が、１個以上であることが好ましく、３個以上であることがより好ましく、５個以上であることが更に好ましい。単量体単位（Ａ）及び単量体単位（Ｂ）中のフッ素原子の数の合計が１個以上であれば、共重合体を構成する高分子鎖同士の過度な絡み合いが抑制されるためと推察されるが、共重合体を含む溶液のフィルター通液性を向上させることができる。なお、単量体単位（Ａ）及び単量体単位（Ｂ）中のフッ素原子の数の合計の上限値は特に限定されないが、例えば６個以下とすることができる。

［共重合体の性状］
そして、共重合体は、重量平均分子量（Ｍｗ）が、３０，０００超であることが好ましく、１００，０００超であることがより好ましく、１１０，０００以上であることが更に好ましく、１５０，０００以上であることが特に好ましく、５００，０００以下であることが好ましい。共重合体の重量平均分子量が３０，０００超であれば、ポジ型レジスト組成物を用いて得られるレジストパターンの明瞭性を確保することができ、５００，０００以下であれば、共重合体を含む溶液のフィルター通液性を向上させることができる。

また、共重合体は、数平均分子量（Ｍｎ）が、２０，０００以上であることが好ましく、７０，０００以上であることがより好ましく、１１０，０００以上であることが更に好ましく、４００，０００以下であることが好ましく、３００，０００以下であることがより好ましい。共重合体の数平均分子量が２０，０００以上であれば、ポジ型レジスト組成物を用いて得られるレジストパターンの明瞭性を確保することができ、４００，０００以下であれば、共重合体を含む溶液のフィルター通液性を向上させることができる。

そして、共重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．２０以上であることが好ましく、１．３０以上であることがより好ましく、１．４０以上であることが更に好ましく、１．５０以上であることが特に好ましく、２．００以下であることが好ましく、１．９０以下であることがより好ましい。

ここで、本発明において、「重量平均分子量」及び「数平均分子量」は、ゲル浸透クロマトグラフィーを使用し、標準ポリスチレン換算値として測定することができ、「分子量分布」は、数平均分子量に対する重量平均分子量の比（重量平均分子量／数平均分子量）を算出して求めることができる。

［共重合体の調製方法］
そして、上述した単量体単位（Ａ）及び単量体単位（Ｂ）を有する共重合体は、例えば、単量体（ａ）と単量体（ｂ）とを含む単量体組成物を重合させた後、得られた共重合体を回収し、任意に精製することにより調製することができる。
なお、共重合体の組成、分子量分布、重量平均分子量及び数平均分子量は、重合条件（例えば、重合温度、重合時間、並びに、重合開始剤の種類及び量など）及び精製条件を変更することにより調整することができる。具体的には、例えば、重量平均分子量及び数平均分子量は、重合温度を低くすれば、大きくすることができる。また、重量平均分子量及び数平均分子量は、重合時間を短くすれば、大きくすることができる。更に、精製を行えば、分子量分布を小さくすることができる。

ここで、共重合体の調製に用いる単量体組成物としては、単量体（ａ）及び単量体（ｂ）を含む単量体成分と、任意で使用可能な溶媒と、任意で使用可能な重合開始剤と、任意に添加される添加剤との混合物を用いることができる。そして、単量体組成物の重合は、溶液重合や乳化重合など、既知の方法を用いて行うことができる。中でも、溶媒としては、シクロペンタノン、水などを用いることが好ましい。
なお、乳化重合にて用いる界面活性剤としては、半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸等の、高級脂肪酸のアルカリ塩よりなる陰イオン性界面活性剤を好適に用いることができる。また、乳化重合に際して用いる重合開始剤としては、過硫酸カリウムなどの水溶性開始剤を好適に用いることができる。さらに、乳化重合に際して、炭酸ナトリウムなどの緩衝剤を任意で用いることができる。くわえて、乳化重合に際しては、亜二チオン酸ナトリウム、エチレンジアミン四酢酸鉄ナトリウム三水和物、エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム四水和物、及びナトリウルムアルデヒドスルホキシレートなどの酸化還元剤を任意で用いることができる。

また、単量体組成物を重合して得られた重合物は、そのまま共重合体として使用してもよいが、特に限定されることなく、重合物を含む溶液にテトラヒドロフラン等の良溶媒を添加した後、良溶媒を添加した溶液をメタノール等の貧溶媒中に滴下して重合物を凝固させることにより回収することができる。

なお、得られた重合物を精製する場合に用いる精製方法としては、特に限定されることなく、再沈殿法やカラムクロマトグラフィー法などの既知の精製方法が挙げられる。中でも、精製方法としては、再沈殿法を用いることが好ましい。
なお、重合物の精製は、複数回繰り返して実施してもよい。

そして、再沈殿法による重合物の精製は、例えば、得られた重合物をテトラヒドロフラン等の良溶媒に溶解した後、得られた溶液を、テトラヒドロフラン等の良溶媒とメタノール等の貧溶媒との混合溶媒に滴下し、重合物の一部を析出させることにより行うことが好ましい。このように、良溶媒と貧溶媒との混合溶媒中に重合物の溶液を滴下して精製を行えば、良溶媒及び貧溶媒の種類や混合比率を変更することにより、得られる共重合体の分子量分布、重量平均分子量及び数平均分子量を容易に調整することができる。具体的には、例えば、混合溶媒中の良溶媒の割合を高めるほど、混合溶媒中で析出する共重合体の分子量を大きくすることができる。

なお、再沈殿法により重合物を精製する場合、共重合体としては、所望の性状を満たせば、良溶媒と貧溶媒との混合溶媒中で析出した重合物を用いてもよいし、混合溶媒中で析出しなかった重合物（即ち、混合溶媒中に溶解している重合物）を用いてもよい。ここで、混合溶媒中で析出しなかった重合物は、濃縮乾固などの既知の手法を用いて混合溶媒中から回収することができる。

＜＜溶剤＞＞
溶剤としては、上述した共重合体を溶解可能な溶剤であれば特に限定されることはなく、例えば特許第５９３８５３６号公報に記載の溶剤などの既知の溶剤を用いることができる。中でも、適度な粘度のポジ型レジスト組成物を得てポジ型レジスト組成物の塗工性を向上させる観点からは、溶剤としては、アニソール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、シクロペンタノン、シクロヘキサノン又は酢酸イソアミルを用いることが好ましい。

＜＜溶液の調製＞＞
溶液は、上述した共重合体、溶剤、及び任意に用い得る既知の添加剤を混合することにより調製することができる。その際、混合方法は特に限定されず、公知の方法により混合すればよい。

＜ろ過＞
本発明のポジ型レジスト組成物の製造方法においては、上述した溶液を、フィルターを用いてろ過する。
フィルターとしては特に限定されず、例えば、フルオロカーボン系、セルロース系、ナイロン系、ポリエステル系、炭化水素系等のろ過膜が挙げられる。中でも、共重合体の調製時に使用することのある金属配管等から金属等の異物がポジ型レジスト組成物中に混入するのを効果的に防ぐ観点からは、フィルターを構成する材料として、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、テフロン（登録商標）等のポリフルオロカーボン、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、ポリイミド、ナイロン、及びポリエチレンとナイロンとの複合膜等が好ましい。フィルターとして、例えば、米国特許第６１０３１２２号に開示されているものを使用してもよい。また、フィルターは、CUNO Incorporated製のZeta Plus（登録商標）４０Ｑ、Entegris製のImpact（登録商標）８Ｇ ディスポーザブル フィルター及びOptimizer（登録商標） AT フォトケミカルフィルター等として市販されている。さらに、フィルターは、強カチオン性もしくは弱カチオン性のイオン交換樹脂を含むものであってもよい。ここで、イオン交換樹脂の平均粒度は、特に限定されないが、好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下である。カチオン交換樹脂としては、例えば、スルホン化されたフェノール－ホルムアルデヒド縮合物、スルホン化されたフェノール－ベンズアルデヒド縮合物、スルホン化されたスチレン－ジビニルベンゼンコポリマー、スルホン化されたメタクリル酸－ジビニルベンゼンコポリマー、及び他のタイプのスルホン酸もしくはカルボン酸基含有ポリマー等が挙げられる。カチオン交換樹脂には、Ｈ^＋対イオン、ＮＨ_４ ^＋対イオン又はアルカリ金属対イオン、例えばＫ^＋及びＮａ^＋対イオンが供される。そして、カチオン交換樹脂は、水素対イオンを有することが好ましい。このようなカチオン交換樹脂としては、Ｈ^＋対イオンを有するスルホン化されたスチレン－ジビニルベンゼンコポリマーであって、Purolite社のMicrolite（登録商標）ＰｒＣＨが挙げられる。このようなカチオン交換樹脂は、Rohm and Haas社のAMBERLYST（登録商標）として市販されている。

ここで、フィルターの除粒子径は、２０ｎｍ以下であることが必要である。フィルターの除粒子径を２０ｎｍ以下とすることで、異物の除去を十分に行うことができる。
なお、フィルターの除粒子径は、２０ｎｍ以下であれば特に限定されず、異物除去と溶液のフィルター通液性を考慮して適宜決定すればよい。フィルターの除粒子径は、例えば、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下、１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下、３ｎｍ以上１０ｎｍ以下、５ｎｍ以上１０ｎｍ以下、１ｎｍ以上５ｎｍ以下、３ｎｍ以上５ｎｍ以下、又は１ｎｍ以上３ｎｍ以下の範囲内で適宜設定することができる。

上述のフィルターを通過して得られたろ液を、ポジ型レジスト組成物として用いることができる。

（レジストパターン形成方法）
本発明のレジストパターン形成方法では、上述した本発明のポジ型レジスト組成物の製造方法により得られたポジ型レジスト組成物を用いてレジストパターンを形成する。具体的に、本発明のレジストパターン形成方法は、ポジ型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程（レジスト膜形成工程）と、レジスト膜を露光する工程（露光工程）と、露光されたレジスト膜を現像する工程（現像工程）とを少なくとも含む。なお、本発明のレジストパターン形成方法は、上述したレジスト膜形成工程、露光工程、及び現像工程以外の工程（その他の工程）を備えていてもよい。
そして、本発明のレジストパターン形成方法は、上述した本発明のポジ型レジスト組成物の製造方法により得られたポジ型レジスト組成物を用いているため、異物の量が十分に低減されたレジストパターンを形成することができる。

＜レジスト膜形成工程＞
レジスト膜形成工程では、レジストパターンを利用して加工される基板などの被加工物の上に、本発明のポジ型レジスト組成物を塗布し、塗布したポジ型レジスト組成物を乾燥させてレジスト膜を形成する。塗布方法及び乾燥方法は特に限定されることなく、既知の塗布方法及び乾燥方法にて行うことができる。

＜露光工程＞
露光工程では、レジスト膜形成工程で形成したレジスト膜に対し、電離放射線等を照射して、所望のパターンを描画する。
なお、電離放射線等の照射には、電子線描画装置やレーザー描画装置などの既知の描画装置を用いることができる。例えばＥＵＶの照射には、ＥＱ－１０Ｍ（ＥＮＥＲＧＥＴＩＱ社製）、ＮＸＥ（ＡＳＭＬ社製）などの既知の露光装置を用いることができる。

＜現像工程＞
現像工程では、パターンを描写したレジスト膜を現像液と接触させてレジスト膜を現像し、被加工物上にレジストパターンを形成する。ここで、レジスト膜と現像液とを接触させる方法は、特に限定されることなく、現像液中へのレジスト膜の浸漬やレジスト膜への現像液の塗布等の既知の手法を用いることができる。
なお、現像液の種類は、上述した共重合体の性状等に応じて適宜選定することができる。具体的に、現像液の選定に際しては、露光工程を実施する前のレジスト膜を溶解しない一方で、露光工程を経たレジスト膜の露光部を溶解しうる現像液を選択することが好ましい。また、現像液は１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の比率で混合して用いてもよい。

そして、現像液としては、例えば、１，１，１，２，３，４，４，５，５，５－デカフルオロペンタン（ＣＦ_３ＣＦＨＣＦＨＣＦ_２ＣＦ_３）、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロヘキサン、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロペンタン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４－ノナフルオロヘキサン等のハイドロフルオロカーボン、２，２－ジクロロ－１，１，１－トリフルオロエタン、１，１－ジクロロ－１－フルオロエタン、１，１－ジクロロ－２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨＣｌ_２）、１，３－ジクロロ－１，１，２，２，３－ペンタフルオロプロパン（ＣＣｌＦ_２ＣＦ_２ＣＨＣｌＦ）等のハイドロクロロフルオロカーボン、メチルノナフルオロブチルエーテル（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＨ_３）、メチルノナフルオロイソブチルエーテル、エチルノナフルオロブチルエーテル（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣ_２Ｈ_５）、エチルノナフルオロイソブチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）等のハイドロフルオロエーテル、及び、ＣＦ_４、Ｃ_２Ｆ_６、Ｃ_３Ｆ_８、Ｃ_４Ｆ_８、Ｃ_４Ｆ_１０、Ｃ_５Ｆ_１２、Ｃ_６Ｆ_１２、Ｃ_６Ｆ_１４、Ｃ_７Ｆ_１４、Ｃ_７Ｆ_１６、Ｃ_８Ｆ_１８、Ｃ_９Ｆ_２０等のパーフルオロカーボンなどのフッ素系溶剤；メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール（イソプロピルアルコール）、１－ブタノール、２－ブタノール、１－ペンタノール、２－ペンタノール、３－ペンタノール、１－ヘキサノール等のアルコール；酢酸アミル、酢酸ヘキシルなどのアルキル基を有する酢酸エステル；フッ素系溶剤とアルコールとの混合物；フッ素系溶剤とアルキル基を有する酢酸エステルとの混合物；アルコールとアルキル基を有する酢酸エステルとの混合物；フッ素系溶剤とアルコールとアルキル基を有する酢酸エステルとの混合物；などを用いることができる。

＜その他の工程＞
本発明のレジストパターン形成方法が任意に含むその他の工程としては、特に限定されないが、例えば、レジスト膜形成工程の前に、基板上に無機系又は有機系の下層膜を設ける工程（下層膜形成工程）、露光工程と現像工程の間に、露光したレジスト膜を加熱する工程（ポスト露光ベーク工程）、現像工程の後に、窒素などの気体を用いたエアブロー及び／又はリンス液を用いたリンス処理により現像液の除去を行う工程（現像液除去工程）などが挙げられる。

（エッチング方法）
上述したレジストパターンの形成方法で得られたレジストパターンをマスクとして被加工物（例えば、下層膜及び／又は基板）をエッチングし、被加工物にパターンを形成することができる。
エッチング回数は特にされず、１回でも複数回であってもよい。また、エッチングは、ドライエッチングでもウェットエッチングでもよいが、ドライエッチングが好ましい。ドライエッチングは、公知のドライエッチング装置を用いて行うことができる。ドライエッチングに使用するエッチングガスとしては、エッチングされる下層膜や基板の元素組成等により適宜選択することができる。エッチングガスとして、例えばＣＨＦ_３、ＣＦ_４、Ｃ_２Ｆ_６、Ｃ_３Ｆ_８、ＳＦ_６等のフッ素系ガス；Ｃｌ_２、ＢＣｌ_３等の塩素系ガス；Ｏ_２、Ｏ_３、Ｈ_２Ｏ等の酸素系ガス；Ｈ_２、ＮＨ_３、ＣＯ、ＣＯ_２、ＣＨ_４、Ｃ_２Ｈ_２、Ｃ_２Ｈ_４、Ｃ_２Ｈ_６、Ｃ_３Ｈ_４、Ｃ_３Ｈ_６、Ｃ_３Ｈ_８、ＨＦ、ＨＩ、ＨＢｒ、ＨＣｌ、ＮＯ、ＮＨ_３、ＢＣｌ_３等の還元性ガス；Ｈｅ、Ｎ_２、Ａｒ等の不活性ガスなどが挙げられる。これらのガスは１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。なお、無機系の下層膜のドライエッチングには、通常、酸素系ガスが用いられる。また、基板のドライエッチングには、通常、フッ素系ガスが用いられ、フッ素系ガスと不活性ガスとを混合したものが好適に用いられる。

さらに、必要に応じて、基板をエッチングする前、又は、基板をエッチングした後に、基板上に残存する下層膜を除去してもよい。基板をエッチングする前に下層膜を除去する場合、下層膜はパターンが形成された下層膜であってもよく、パターンが形成されていない下層膜であってもよい。

ここで、下層膜を除去する方法としては、例えば上述したドライエッチング等が挙げられる。また、無機系の下層膜の場合には、塩基性液又は酸性液等の液体、好ましくは塩基性の液体を下層膜に接触させて下層膜を除去してもよい。ここで、塩基性液としては、特に限定されず、例えば、アルカリ性過酸化水素水等が挙げられる。アルカリ性過酸化水素水を用いてウェット剥離により下層膜を除去する方法としては、下層膜とアルカリ性過酸化水素水とが加熱条件下で一定時間接触できる方法であれば特に限定されず、例えば下層膜を加熱したアルカリ性過酸化水素水に浸漬する方法、加熱環境下で下層膜にアルカリ性過酸化水素水を吹き付ける方法、加熱したアルカリ性過酸化水素水を下層膜に塗工する方法等が挙げられる。これらのうちのいずれかの方法を行った後、基板を水洗し、乾燥させることで、下層膜が除去された基板を得ることができる。

以下、本発明について実施例に基づき具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、特に断らない限り、質量基準である。
また、実施例及び比較例において、共重合体の重量平均分子量、数平均分子量及び分子量分布、共重合体中の各分子量の成分の割合は、下記の方法で測定した。また、溶液をろ過してポジ型レジスト組成物を得る際のフィルター通液性及び異物除去は、下記の方法で評価した。結果は何れも後述の表に示す。

＜重量平均分子量、数平均分子量及び分子量分布＞
調製例で得られた各共重合体についてゲル浸透クロマトグラフィーを用いて重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）を測定し、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を算出した。具体的には、ゲル浸透クロマトグラフ（東ソー社製、ＨＬＣ－８２２０）を使用し、展開溶媒としてテトラヒドロフランを用いて、重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）を標準ポリスチレン換算値として求めた。そして、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を算出した。
＜共重合体中の各分子量の成分の割合＞
ゲル浸透クロマトグラフィー（東ソー社製、ＨＬＣ－８２２０）を使用し、展開溶媒としてテトラヒドロフランを用いて、調整例で得られた各共重合体のクロマトグラムを得た。そして、得られたクロマトグラムから、ピークの総面積（Ａ）と、分子量がＭ超の成分のピークの面積の合計（Ｂ）を求め、下記式から分子量がＭ超の成分の割合を求めた。
分子量がＭ超の成分の割合（％）＝（Ｂ／Ａ）×１００
（なおＭは、１０，０００、２０，０００、３０，０００、４０，０００、５０，０００、６０，０００、７０，０００、８０，０００、９０，０００、１００，０００、２００，０００、３００，０００、４００，０００、５００，０００、６００，０００、７００，０００、８００，０００、９００，０００、１，０００，０００、１，５００，０００、２，０００，０００、２，５００，０００、３，０００，０００、３，５００，０００、４，０００，０００、４，５００，０００、又は５，０００，０００である。）
＜フィルター通液性－目詰まり－＞
評価用溶液１リットルを同じフィルターに繰り返し１０回通過させ、１０回通過後にフィルターの目詰まりを確認し、以下の基準で評価を行った。
Ａ：１０回通過後も目詰まりがなく、通液に問題なし。
Ｂ：１０回通過後に目詰まりが確認され、通液が困難である。
＜フィルター通液性－重量平均分子量（Ｍｗ）変化－＞
評価用溶液１リットル（共重合体の重量平均分子量：Ｍｗ１）を同じフィルターに繰り返し１０回通過させ、得られるポジ型レジスト組成物に含まれる共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ２）を測定し、重量平均分子量減少率（％）＝（Ｍｗ１－Ｍｗ２）／Ｍｗ１×１００を算出し、以下の基準で評価を行った。
Ａ：重量平均分子量減少率が３％以下
Ｂ：重量平均分子量減少率が３％超５％以下
Ｃ：重量平均分子量減少率が５％超
＜フィルター通液性－固形分濃度（ＴＳ）変化－＞
評価用溶液１リットル（固形分濃度：Ｓ１％）を同じフィルターに繰り返し１０回通過させ、得られるポジ型レジスト組成物の固形分濃度（Ｓ２％）を測定し、固形分濃度減少率（％）＝（Ｓ１－Ｓ２）／Ｓ１×１００％を算出し、以下の基準で評価を行った。
Ａ：固形分濃度減少率が３％以下
Ｂ：固形分濃度減少率が３％超５％以下
Ｃ：固形分濃度減少率が５％超
＜異物除去＞
評価用溶液１リットルをフィルターに１回通過させ、得られるポジ型レジスト組成物１ミリリットル当たりに含まれる粒子径が０．２μｍ以上の異物の数を数え、以下の基準で評価を行った。
Ａ：異物の数が５個以下
Ｂ：異物の数が５個超１０個以下
Ｃ：異物の数が１０個超

＜調製例１：共重合体Ａ－１＞
＜＜半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の水溶液の調製＞＞
イオン交換水１００ｇを用意し、撹拌しながら７０℃まで昇温して、水酸化カリウム(４９％水溶液)を８．４０ｇ添加した。次に、牛脂４５°硬化脂肪酸ＨＦＡ（日油社製）１９．６ｇを１．２８ｇ／分の添加速度で添加して、その後、ケイ酸カリウムを０．１２６ｇ添加した。そして８０℃で２時間以上撹拌して、半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液を得た。
＜＜重合物の合成＞＞
撹拌子を入れたガラス製のアンプルに、単量体（ａ）としてのα－クロロアクリル酸メチル３．０００ｇと、単量体（ｂ）としての４－フルオロ－α－メチルスチレン８．６５６ｇとを加えた。さらに、同じアンプルに、上記で調製した半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液０．５４６３ｇ、イオン交換水６．７７１g、並びに、酸化還元剤としての亜二チオン酸ナトリウム０．００２７ｇ、エチレンジアミン四酢酸鉄ナトリウム三水和物０．００１０ｇ、エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム四水和物０．００２５ｇ及びナトリウルムアルデヒドスルホキシレート０．００１５ｇを添加して、単量体組成物としてからアンプルを密封し、窒素ガスで加圧及び脱圧を１０回繰り返して系内の酸素を除去した。
そして系内を５℃に冷却し、４８時間重合反応を行った。次に、系内にテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１０ｇを加え、得られた溶液をメタノール（ＭｅＯＨ）４００ｇ中に滴下して重合物を析出させた。その後、析出した重合物（共重合体Ａ－１）をろ過で回収した。
得られた共重合体Ａ－１は、α－クロロアクリル酸メチル単位（ＡＣＡＭ単位）と４－フルオロ－α－メチルスチレン（ＦＡＭＳ単位）とを５０モル％ずつ含む共重合体（下記の式のｍ：ｎ＝５０：５０）であった。

＜調製例２：共重合体Ａ－２＞
＜＜半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の水溶液、及び重合物の調製＞＞
調製例１と同様にして、半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液及び重合物を調製した。
＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝６６：３４）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＭ単位とＦＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ａ－２を得た。

＜調製例３：共重合体Ｂ－３＞
＜＜半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の水溶液の調製＞＞
調製例１と同様にして、半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液を調製した。
＜＜重合物の合成＞＞
撹拌子を入れたガラス製のアンプルに、単量体（ａ）としてのα－クロロアクリル酸２，２，２－トリフルオロエチル３．０００ｇと、単量体（ｂ）としてのα－メチルスチレン４．７８５ｇとを加えた。さらに、同じアンプルに、上記で調製した半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液０．５４６３ｇ及びイオン交換水６．７７１gを添加して、単量体組成物としてからアンプルを密封し、窒素ガスで加圧及び脱圧を１０回繰り返して系内の酸素を除去した。
そして系内を７０℃に加温し、６時間重合反応を行った。次に、系内にＴＨＦ１０ｇを加え、得られた溶液をＭｅＯＨ４００ｇ中に滴下して重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。
なお、得られた重合物は、α－クロロアクリル酸２，２，２－トリフルオロエチル単位（ＡＣＡＴＦＥ単位）とα－メチルスチレン（ＡＭＳ単位）とを５０モル％ずつ含む共重合体（下記の式のｍ：ｎ＝５０：５０）であった。

＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３０：７０）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＴＦＥ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｂ－３を得た。

＜調製例４：共重合体Ｂ－４＞
重合物の合成に際し、重合反応の温度を６０℃に変更し、重合物の精製に際し、ＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒の溶媒比をＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３２：６８に変更した以外は、調製例３と同様の操作を行い、ＡＣＡＴＦＥ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｂ－４を得た。

＜調製例５：共重合体Ｂ－５＞
重合物の合成に際し、重合反応の温度を５０℃に変更し、重合物の精製に際し、ＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒の溶媒比をＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３３：６７に変更した以外は、調製例３と同様の操作を行い、ＡＣＡＴＦＥ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｂ－５を得た。

＜調製例６：共重合体Ｂ－６＞
重合物の合成に際し、重合反応の時間を１１時間に、温度を４０℃にそれぞれ変更し、重合物の精製に際し、ＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒の溶媒比をＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３４：６６に変更した以外は、調製例３と同様の操作を行い、ＡＣＡＴＦＥ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｂ－６を得た。

＜調製例７：共重合体Ｃ－７＞
＜＜半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の水溶液の調製＞＞
調製例１と同様にして、半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液を調製した。
＜＜重合物の合成＞＞
撹拌子を入れたガラス製のアンプルに、単量体（ａ）としてのα－クロロアクリル酸２，２，２－トリフルオロエチル３．０００ｇと、単量体（ｂ）としての４－フルオロ－α－メチルスチレン５．５２５ｇとを加えた。さらに、同じアンプルに、上記で調製した半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液０．５４６３ｇ、イオン交換水６．７７１gを添加して、単量体組成物としてからアンプルを密封し、窒素ガスで加圧及び脱圧を１０回繰り返して系内の酸素を除去した。
そして系内を７０℃に加温し、６時間重合反応を行った。次に、系内にＴＨＦ１０ｇを加え、得られた溶液をＭｅＯＨ４００ｇ中に滴下して重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。
なお、得られた重合物は、α－クロロアクリル酸２，２，２－トリフルオロエチル単位（ＡＣＡＴＦＥ単位）と４－フルオロ－α－メチルスチレン（ＦＡＭＳ単位）とを５０モル％ずつ含む共重合体（下記の式のｍ：ｎ＝５０：５０）であった。

＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝２８：７２）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＴＦＥ単位とＦＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｃ－７を得た。

＜調製例８：共重合体Ｃ－８＞
重合物の合成に際し、重合反応の温度を６０℃に変更し、そして重合物の精製に際し、ＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒の溶媒比をＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３０：７０に変更した以外は、調製例７と同様の操作を行い、ＡＣＡＴＦＥ単位とＦＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｃ－８を得た。

＜調製例９：共重合体Ｃ－９＞
重合物の合成に際し、重合反応の温度を５０℃に変更し、重合物の精製に際し、ＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒の溶媒比をＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３１：６９に変更した以外は、調製例７と同様の操作を行い、ＡＣＡＴＦＥ単位とＦＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｃ－９を得た。

＜調製例１０：共重合体Ｃ－１０＞
重合物の合成に際し、重合反応の時間を１１時間に、温度を４０℃にそれぞれ変更し、重合物の精製に際し、ＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒の溶媒比をＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３３：６７に変更した以外は、調製例７と同様の操作を行い、ＡＣＡＴＦＥ単位とＦＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｃ－１０を得た。

＜調製例１１：共重合体Ｄ－１１＞
＜＜重合物の合成＞＞
単量体（ａ）としてのα－クロロアクリル酸２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル３．０００ｇ及び単量体（ｂ）としてのα－メチルスチレン３．４７６ｇと、溶媒としてのシクロペンタノン１．６２０ｇと、重合開始剤としてのアゾビスイソブチロニトリル０．００５５１２ｇとを含む単量体組成物をガラス容器に入れ、ガラス容器を密閉及び窒素置換して、窒素雰囲気下、７８℃の恒温槽内で６時間撹拌して重合反応を行った。その後、室温に戻し、ガラス容器内を大気解放した後、得られた溶液にＴＨＦ１０ｇを加えた。そして、ＴＨＦを加えた溶液をＭｅＯＨ３００ｇ中に滴下し、重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。
なお、得られた重合物は、α－クロロアクリル酸２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル単位（ＡＣＡＰＦＰ単位）とα－メチルスチレン（ＡＭＳ単位）とを５０モル％ずつ含む共重合体（下記の式のｍ：ｎ＝５０：５０）であった。

＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝１５：８５）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＰＦＰ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｄ－１１を得た。

＜調製例１２：共重合体Ｄ－１２＞
単量体（ｂ）としてのα－メチルスチレンの量を３．２８３ｇに変更し、溶媒としてのシクロペンタノンの量を１．５７１ｇに変更し、重合開始剤としてのアゾビスイソブチロニトリルの量を０．０００５２０７ｇに変更し、そして重合反応の時間を２時間に変更した以外は、調製例１１と同様の操作で重合反応を行った。その後、室温に戻し、ガラス容器内を大気解放した後、得られた溶液にＴＨＦ１０ｇを加えた。そして、ＴＨＦを加えた溶液をＭｅＯＨ３００ｇ中に滴下し、重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。さらに、ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、ＴＨＦを加えて得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝２１：７９）に滴下し、重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。得られた重合物を、ＡＣＡＰＦＰ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｄ－１２とした。

＜調製例１３：共重合体Ｄ－１３＞
単量体（ｂ）としてのα－メチルスチレンの量を３．４６８ｇに変更し、溶媒としてのシクロペンタノンの量を６．４６６ｇに変更し、重合開始剤としてのアゾビスイソブチロニトリルの量を０．００２０６５ｇに変更し、そして重合反応の温度を５３℃に変更し、時間を５０時間に変更した以外は、調製例１１と同様の操作で重合反応を行った。その後、室温に戻し、ガラス容器内を大気解放した後、得られた溶液にＴＨＦ１０ｇを加えた。そして、ＴＨＦを加えた溶液をＭｅＯＨ３００ｇ中に滴下し、重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。さらに、ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、ＴＨＦを加えて得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝２４：７６）に滴下し、重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。得られた重合物を、ＡＣＡＰＦＰ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｄ－１３とした。

＜調製例１４：共重合体Ｄ－１４＞
単量体（ｂ）としてのα－メチルスチレンの量を３．４６８ｇに変更し、溶媒としてのシクロペンタノンの量を６．４６７ｇに変更し、重合開始剤としてのアゾビスイソブチロニトリルの量を０．００１３７７ｇに変更し、そして重合反応の温度を４０℃に変更し、時間を５０時間に変更した以外は、調製例１１と同様の操作で重合反応を行った。その後、室温に戻し、ガラス容器内を大気解放した後、得られた溶液にＴＨＦ１０ｇを加えた。そして、ＴＨＦを加えた溶液をＭｅＯＨ３００ｇ中に滴下し、重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。さらに、ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、ＴＨＦを加えて得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝２６：７４）に滴下し、重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。得られた重合物を、ＡＣＡＰＦＰ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｄ－１４とした。

＜調製例１５：共重合体Ｄ－１５＞
＜＜半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の水溶液の調製＞＞
調製例１と同様にして、半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液を調製した。
＜＜重合物の合成＞＞
撹拌子を入れたガラス製のアンプルに、単量体（ａ）としてのα－クロロアクリル酸２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル３．０００ｇと、単量体（ｂ）としてのα－メチルスチレン３．７８２ｇとを加えた。さらに、同じアンプルに、上記で調製した半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液０．５４６３ｇ及びイオン交換水６．７７１gを添加して、単量体組成物としてからアンプルを密封し、窒素ガスで加圧及び脱圧を１０回繰り返して系内の酸素を除去した。
そして系内を７０℃に加温し、６時間重合反応を行った。次に、系内にＴＨＦ１０ｇを加え、得られた溶液をＭｅＯＨ４００ｇ中に滴下して重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。
なお、得られた重合物は、ＡＣＡＰＦＰ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体であった。
＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝２９：７１）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＰＦＰ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｄ－１５を得た。

＜調製例１６：共重合体Ｄ－１６＞
重合物の合成に際し、重合反応の温度を６０℃に変更し、重合物の精製に際し、ＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒の溶媒比をＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３１：６９に変更した以外は、調製例１５と同様の操作を行い、ＡＣＡＰＦＰ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｄ－１６を得た。

＜調製例１７：共重合体Ｄ－１７＞
重合物の合成に際し、重合反応の温度を５０℃に変更し、重合物の精製に際し、ＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒の溶媒比をＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３２：６８に変更した以外は、調製例１５と同様の操作を行い、ＡＣＡＰＦＰ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｄ－１７を得た。

＜調製例１８：共重合体Ｄ－１８＞
重合物の合成に際し、重合反応の時間を１１時間に、温度を４０℃にそれぞれ変更し、重合物の精製に際し、ＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒の溶媒比をＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３４：６６に変更した以外は、調製例１５と同様の操作を行い、ＡＣＡＰＦＰ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｄ－１８を得た。

＜調製例１９：共重合体Ｅ－１９＞
＜＜重合物の合成＞＞
単量体（ａ）としてのα－クロロアクリル酸－１－フェニル－１－トリフルオロメチル－２，２，２－トリフルオロエチル３．０００ｇ及び単量体（ｂ）としてのα－メチルスチレン２．４９３ｇと、重合開始剤としてのアゾビスイソブチロニトリル０．００３９５３ｇとを含む単量体組成物をガラス容器に入れ、ガラス容器を密閉及び窒素置換して、窒素雰囲気下、７８℃の恒温槽内で３．５時間撹拌して重合反応を行った。その後、室温に戻し、ガラス容器内を大気解放した後、得られた溶液にＴＨＦ１０ｇを加えた。そして、ＴＨＦを加えた溶液をＭｅＯＨ３００ｇ中に滴下し、重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。
なお、得られた重合物は、α－クロロアクリル酸－１－フェニル－１－トリフルオロメチル－２，２，２－トリフルオロエチル単位（ＡＣＡＦＰｈ単位）とα－メチルスチレン（ＡＭＳ単位）とを５０モル％ずつ含む共重合体（下記の式のｍ：ｎ＝５０：５０）であった。

＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝２０：８０）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｅ－１９を得た。

＜調製例２０：共重合体Ｅ－２０＞
＜＜重合物の合成＞＞
重合物の合成に際し、重合開始剤としてのアゾビスイソブチロニトリルに代えて溶媒としてのシクロペンタノン２．８３３ｇをガラス容器に入れ、そして反応の温度を５０℃に変更し、時間を２５時間に変更した以外は、調製例１９と同様の操作で重合反応を行い、ろ過により重合物を回収した。なお、得られた重合物は、ＡＣＡＦＰｈ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体であった。
＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝２７：７３）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｅ－２０を得た。

＜調製例２１：共重合体Ｅ－２１＞
＜＜重合物の合成＞＞
重合物の合成に際し、重合開始剤としてのアゾビスイソブチロニトリルに代えて溶媒としてのシクロペンタノン２．８３３ｇをガラス容器に入れ、そして反応の温度を３０℃に変更し、時間を８０時間に変更した以外は、調製例１９と同様の操作で重合反応を行い、ろ過により重合物を回収した。なお、得られた重合物は、ＡＣＡＦＰｈ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体であった。
＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝２９：７１）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｅ－２１を得た。

＜調製例２２：共重合体Ｅ－２２＞
＜＜半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の水溶液の調製＞＞
調製例１と同様にして、半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液を調製した。
＜＜重合物の合成＞＞
撹拌子を入れたガラス製のアンプルに、単量体（ａ）としてのα－クロロアクリル酸－１－フェニル－１－トリフルオロメチル－２，２，２－トリフルオロエチル３．０００ｇと、単量体（ｂ）としてのα－メチルスチレン２．７１２ｇとを加えた。さらに、同じアンプルに、上記で調製した半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液０．５４６３ｇ及びイオン交換水６．７７１gを添加して、単量体組成物としてからアンプルを密封し、窒素ガスで加圧及び脱圧を１０回繰り返して系内の酸素を除去した。
そして系内を４０℃に加温し、１１時間重合反応を行った。次に、系内にＴＨＦ１０ｇを加え、得られた溶液をＭｅＯＨ４００ｇ中に滴下して重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。
なお、得られた重合物は、ＡＣＡＦＰｈ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体であった。
＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３５：６５）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｅ－２２を得た。

＜調製例２３：共重合体Ｅ－２３＞
＜＜重合物の合成＞＞
重合物の合成に際し、単量体（ｂ）としてのα－メチルスチレンの量を１．０６６ｇに変更し、重合開始剤としてのアゾビスイソブチロニトリルに代えて溶媒としてのシクロペンタノン１．７４３ｇをガラス容器に入れ、そして反応温度を３０℃に変更し、反応時間を５０時間に変更した以外は、調製例１９と同様の操作で重合反応を行い、ろ過により重合物を回収した。なお、得られた重合物は、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体であった。
＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３０：７０）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体Ｅ－２３を得た。

＜調製例２４：共重合体Ｅ－２４＞
＜＜重合物の合成＞＞
重合物の合成に際し、単量体（ｂ）としてのα－メチルスチレンの量を１．０６６ｇに変更し、そして重合反応の温度を７０℃に変更し、時間を６時間に変更した以外は、調製例２２と同様の操作で重合反応を行い、ろ過により重合物を回収した。なお、得られた重合物は、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体であった。
＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３０：７０）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体Ｅ－２４を得た。

＜調製例２５：共重合体Ｅ－２５＞
重合物の合成に際し、重合反応の温度を６０℃に変更し、重合物の精製に際しＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒の溶媒比をＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３２：６８に変更した以外は、調製例２４と同様の操作を行い、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体Ｅ－２５を得た。

＜調製例２６：共重合体Ｅ－２６＞
重合物の合成に際し、重合反応の温度を５０℃に変更し、重合物の精製に際しＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒の溶媒比をＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３４：６６に変更した以外は、調製例２４と同様の操作を行い、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体Ｅ－２６を得た。

＜調製例２７：共重合体Ｅ－２７＞
重合物の合成に際し、重合反応の時間を１１時間に、温度を４０℃にそれぞれ変更し、重合物の精製に際しＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒の溶媒比をＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３４：６６に変更した以外は、調製例２４と同様の操作を行い、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体Ｅ－２７を得た。

＜調製例２８：共重合体Ｅ－２８＞
＜＜半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の水溶液の調製＞＞
調製例１と同様にして、半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液を調製した。
＜＜重合物の合成＞＞
撹拌子を入れたガラス製のアンプルに、単量体（ａ）としてのα－クロロアクリル酸－１－フェニル－１－トリフルオロメチル－２，２，２－トリフルオロエチル３．０００ｇと、単量体（ｂ）としてのα－メチルスチレン１．０６６ｇとを加えた。さらに、同じアンプルに、上記で調製した半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液０．５４６３ｇ及びイオン交換水６．７７１gを添加して、単量体組成物としてからアンプルを密封し、窒素ガスで加圧及び脱圧を１０回繰り返して系内の酸素を除去した。
そして系内を７５℃に加温し、１時間重合反応を行った。次に、系内にＴＨＦ１０ｇを加え、得られた溶液をＭｅＯＨ４００ｇ中に滴下して重合物を析出させた。その後、析出した重合物（共重合体Ｅ－２８）をろ過で回収した。
なお、得られた共重合体Ｅ－２８は、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体であった。

＜調製例２９：共重合体Ｅ－２９＞
＜＜半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の水溶液、及び重合物の調製＞＞
上記調製例２８と同様にして、半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液、及び重合物を調製した。
＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３０：７０）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体Ｅ－２９を得た。

＜調製例３０：共重合体Ｅ－３０＞
調製例２９と同様の操作で得られた共重合体Ｅ－２９を再度１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３０：７０）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体Ｅ－３０を得た。

＜調製例３１：共重合体Ｅ－３１＞
調製例２９と同様の操作で得られた共重合体Ｅ－２９を再度１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３１：６９）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体Ｅ－３１を得た。

＜調製例３２：共重合体Ｅ－３２＞
調製例２９と同様の操作で得られた共重合体Ｅ－２９を再度１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３２：６８）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体Ｅ－３２を得た。

＜調製例３３：共重合体Ｅ－３３＞
調製例２９と同様の操作で得られた共重合体Ｅ－２９を再度１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３３：６７）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体Ｅ－３３を得た。

＜調製例３４：共重合体Ｅ－３４＞
調製例２９と同様の操作で得られた共重合体Ｅ－２９を再度１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３４：６６）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体Ｅ－３４を得た。

＜調製例３５：共重合体Ｅ－３５＞
調製例３３と同様の操作で得られた共重合体Ｅ－３３を再度１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３３：６７）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位を５４モル％含み、ＡＭＳ単位を４６モル％含む共重合体Ｅ－３５を得た。

＜調製例３６：共重合体Ｆ－３６＞
＜＜半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の水溶液の調製＞＞
調製例１と同様にして、半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液を調製した。
＜＜重合物の合成＞＞
撹拌子を入れたガラス製のアンプルに、単量体（ａ）としてのα－クロロアクリル酸－１－フェニル－１－トリフルオロメチル－２，２，２－トリフルオロエチル３．０００ｇと、単量体（ｂ）としての４－イソプロペニルトルエン３．０３４ｇとを加えた。さらに、同じアンプルに、上記で調製した半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液０．５４６３ｇ及びイオン交換水６．７７１gを添加して、単量体組成物としてからアンプルを密封し、窒素ガスで加圧及び脱圧を１０回繰り返して系内の酸素を除去した。
そして系内を５０℃に加温し、６時間重合反応を行った。次に、系内にＴＨＦ１０ｇを加え、得られた溶液をＭｅＯＨ４００ｇ中に滴下して重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。
なお、得られた重合物は、α－クロロアクリル酸－１－フェニル－１－トリフルオロメチル－２，２，２－トリフルオロエチル単位（ＡＣＡＦＰｈ単位）と４－イソプロペニルトルエン（ＩＰＴ単位）とを５０モル％ずつ含む共重合体（下記の式のｍ：ｎ＝５０：５０）であった。

＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３０：７０）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位とＩＰＴ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｆ－３６を得た。

＜調製例３７：共重合体Ｆ－３７＞
＜＜半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の水溶液の調製＞＞
調製例１と同様にして、半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液を調製した。
＜＜重合物の合成＞＞
撹拌子を入れたガラス製のアンプルに、単量体（ａ）としてのα－クロロアクリル酸－１－フェニル－１－トリフルオロメチル－２，２，２－トリフルオロエチル３．０００ｇと、単量体（ｂ）としての４－イソプロペニルトルエン３．０３４ｇとを加えた。さらに、同じアンプルに、上記で調製した半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液０．５４６３ｇ及びイオン交換水６．７７１gを添加して、単量体組成物としてからアンプルを密封し、窒素ガスで加圧及び脱圧を１０回繰り返して系内の酸素を除去した。
そして系内を４０℃に加温し、１１時間重合反応を行った。次に、系内にＴＨＦ１０ｇを加え、得られた溶液をＭｅＯＨ４００ｇ中に滴下して重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。
なお、得られた重合物は、ＡＣＡＦＰｈ単位とＩＰＴ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体であった。
＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝３３：６７）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＦＰｈ単位とＩＰＴ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｆ－３７を得た。

＜調製例３８：共重合体Ｇ－３８＞
＜＜重合物の合成＞＞
単量体（ａ）としてのα－クロロアクリル酸メチル３．０００ｇ及び単量体（ｂ）としてのα－メチルスチレン６．８８０ｇと、溶媒としてのシクロペンタノン２．４７３ｇと、重合開始剤としてのアゾビスイソブチロニトリル０．０１０９１ｇとを含む単量体組成物をガラス容器に入れ、ガラス容器を密閉及び窒素置換して、窒素雰囲気下、７５℃の恒温槽内で４８時間撹拌して重合反応を行った。その後、室温に戻し、ガラス容器内を大気解放した後、得られた溶液にＴＨＦ１０ｇを加えた。そして、ＴＨＦを加えた溶液をＭｅＯＨ３００ｇ中に滴下し、重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。
なお、得られた重合物は、α－クロロアクリル酸アクリル酸メチル単位（ＡＣＡＭ単位）とα－メチルスチレン（ＡＭＳ単位）とを５０モル％ずつ含む共重合体（下記の式のｍ：ｎ＝５０：５０）であった。

＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝６０：４０）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＭ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｇ－３８を得た。

＜調製例３９：共重合体Ｇ－３９＞
＜＜重合物の合成＞＞
単量体（ａ）としてのα－クロロアクリル酸メチル３．０００ｇ及び単量体（ｂ）としてのα－メチルスチレン６．８８０ｇと、重合開始剤としてのアゾビスイソブチロニトリル０．００８１８２ｇとを含む単量体組成物をガラス容器に入れ、ガラス容器を密閉及び窒素置換して、窒素雰囲気下、７８℃の恒温槽内で８時間撹拌して重合反応を行った。その後、室温に戻し、ガラス容器内を大気解放した後、得られた溶液にＴＨＦ１０ｇを加えた。そして、ＴＨＦを加えた溶液をＭｅＯＨ３００ｇ中に滴下し、重合物を析出させた。その後、析出した重合物をろ過で回収した。
なお、得られた重合物は、ＡＣＡＭ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体であった。
＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝６３．５：３６．５）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＭ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｇ－３９を得た。

＜調製例４０：共重合体Ｇ－４０＞
重合物の精製に際し、ＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒の溶媒比をＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝６５．５：３４．５に変更した以外は、調製例３９と同様の操作を行い、ＡＣＡＭ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｇ－４０を得た。

＜調製例４１：共重合体Ｇ－４１＞
重合物の精製に際しＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒の溶媒比をＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝６６：３４に変更した以外は、調製例３９と同様の操作を行い、ＡＣＡＭ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｇ－４１を得た。

＜調製例４２：共重合体Ｇ－４２＞
＜＜半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の水溶液の調製＞＞
調製例１と同様にして、半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液を調製した。
＜＜重合物の合成＞＞
撹拌子を入れたガラス製のアンプルに、単量体（ａ）としてのα－クロロアクリル酸メチル３．０００ｇと、単量体（ｂ）としてのα－メチルスチレン７．２２７ｇとを加えた。さらに、同じアンプルに、上記で調製した半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液０．５４６３ｇ、イオン交換水６．７７１g、重合開始剤としてのクメンハイドロパーオキサイド０．００５２４ｇ、酸化還元剤としての亜二チオン酸ナトリウム０．００２７ｇ、エチレンジアミン四酢酸鉄ナトリウム三水和物０．００１０ｇ、エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム四水和物０．００２５ｇ、及びナトリウルムアルデヒドスルホキシレート０．００１５ｇを添加して、単量体組成物としてからアンプルを密封し、窒素ガスで加圧及び脱圧を１０回繰り返して系内の酸素を除去した。
そして系内を５℃に冷却し、４８時間重合反応を行った。次に、系内にＴＨＦ１０ｇを加え、得られた溶液をＭｅＯＨ４００ｇ中に滴下して重合物を析出させた。その後、析出した重合物（共重合体Ｆ―４２）をろ過で回収した。
なお、得られた共重合体Ｇ―４２は、ＡＣＡＭ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体であった。

＜調製例４３：共重合体Ｇ－４３＞
＜＜半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の水溶液、及び重合物の調製＞＞
調製例１と同様にして、半硬化牛脂脂肪酸カリ石鹸の固形分１８％の水溶液、及び重合物を調製した。
＜＜重合物の精製＞＞
ろ過により回収した重合物を１０ｇのＴＨＦに溶解させ、得られた溶液をＴＨＦとＭｅＯＨとの混合溶媒１００ｇ（ＴＨＦ：ＭｅＯＨ（質量比）＝６８．５：３１．５）に滴下し、凝固物を析出させた。その後、析出した凝固物を含む溶液をキリヤマ漏斗によりろ過し、ＡＣＡＭ単位とＡＭＳ単位とを５０モル％ずつ含む共重合体Ｇ－４３を得た。

（実施例１～２、５～６、９～１０、１８、２２、３７、４０～４３）
調製例１～２、５～６、９～１０、１８、２２、３７、４０～４１で得られた共重合体を、それぞれ溶剤としての酢酸イソアミルに溶解させ、評価用溶液（共重合体の濃度：１質量％）を得た。得られた評価用溶液を、除粒子径が２０ｎｍのフィルター（Entegris製、Impact（登録商標）８Ｇ ディスポーザブル フィルター。材料：ＵＰＥ（超高分子量ポリエチレン））を通過させることでろ過し、各種評価を行った。なお実施例４２及び４３については、「フィルター通液性－目詰まり－」と「異物除去」の評価のみを行った。

（実施例４、８、１７、２７、３６、３９）
調製例４、８、１７、２７、３６、３９で得られた各共重合体を、溶剤としての酢酸イソアミルに溶解させ、評価用溶液（共重合体の濃度：１質量％）を得た。
得られた評価用溶液を、除粒子径が２０ｎｍのフィルター（Entegris製、Impact（登録商標）８Ｇ ディスポーザブル フィルター。材料：ＵＰＥ（超高分子量ポリエチレン））を通過させることでろ過し、各種評価を行った。
また、得られた評価用溶液を、除粒子径が１０ｎｍのフィルター（Entegris製、Impact（登録商標）８Ｇ ディスポーザブル フィルター。材料：ＵＰＥ（超高分子量ポリエチレン））を通過させることでろ過し、各種評価を行った。

（実施例３、７、１６、２５、２６、３４、３８）
調製例３、７、１６、２５、２６、３４、３８で得られた各共重合体を、溶剤としての酢酸イソアミルに溶解させ、評価用溶液（共重合体の濃度：１質量％）を得た。
得られた評価用溶液を、除粒子径が２０ｎｍのフィルター（Entegris製、「Impact（登録商標）８Ｇ ディスポーザブル フィルター」。材料：ＵＰＥ（超高分子量ポリエチレン））を通過させることでろ過し、各種評価を行った。
また、得られた評価用溶液を、除粒子径が１０ｎｍのフィルター（Entegris製、「Impact（登録商標）８Ｇ ディスポーザブル フィルター」。材料：ＵＰＥ（超高分子量ポリエチレン））を通過させることでろ過し、各種評価を行った。
さらに、得られた評価用溶液を、除粒子径が５ｎｍのフィルター（Entegris製、「Impact（登録商標）８Ｇ ディスポーザブル フィルター」。材料：ＵＰＥ（超高分子量ポリエチレン））を通過させることでろ過し、各種評価を行った。

（実施例１１～１５、１９～２１、２３～２４、２８～３３、３５）
調製例１１～１５、１９～２１、２３～２４、２８～３３、３５で得られた各共重合体を、溶剤としての酢酸イソアミルに溶解させ、評価用溶液（共重合体の濃度：１質量％）を得た。
得られた評価用溶液を、除粒子径が２０ｎｍのフィルター（Entegris製、「Impact（登録商標）８Ｇ ディスポーザブル フィルター」。材料：ＵＰＥ（超高分子量ポリエチレン））を通過させることでろ過し、各種評価を行った。
また、得られた評価用溶液を、除粒子径が１０ｎｍのフィルター（Entegris製、「Impact（登録商標）８Ｇ ディスポーザブル フィルター」。材料：ＵＰＥ（超高分子量ポリエチレン））を通過させることでろ過し、各種評価を行った。
さらに、得られた評価用溶液を、除粒子径が５ｎｍのフィルター（Entegris製、「Impact（登録商標）８Ｇ ディスポーザブル フィルター」。材料：ＵＰＥ（超高分子量ポリエチレン））を通過させることでろ過し、各種評価を行った。
そして、得られた評価用溶液を、除粒子径が３ｎｍのフィルター（Entegris製、「Impact（登録商標）８Ｇ ディスポーザブル フィルター」。材料：ＵＰＥ（超高分子量ポリエチレン））を通過させることでろ過し、各種評価を行った。

（比較例１～４３）
調製例１～４３で得られた各共重合体を、それぞれ溶剤としての酢酸イソアミルに溶解させ、評価用溶液（共重合体の濃度：１質量％）を得た。
得られた評価用溶液を、除粒子径が２００ｎｍのフィルター（Entegris製、「Optimizer（登録商標）ST」。材料：ＵＰＥ（超高分子量ポリエチレン））を通過させることでろ過し、各種評価を行った。

表３～５より、共重合体を含む溶液を、除粒子径２０ｎｍ以下のフィルターに通過させた実施例１～４３では、異物が十分に除去されたポジ型レジスト組成物を調製できていることが分かる。

本発明のポジ型レジスト組成物の製造方法によれば、異物の量が十分に低減されたポジ型レジスト組成物を製造することができる。
また、本発明のレジストパターン形成方法によれば、異物の量が十分に低減されたレジストパターンを形成することができる。

Claims (4)

1. 下記式（Ｉ）：
   

   

   〔式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ハロゲン原子、シアノ基、アルキルスルホニル基、アルコキシ基、ニトロ基、アシル基、アルキルエステル基又はハロゲン化アルキル基であり、
   Ｒ^２は、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又は－Ｌ－Ａｒで表される構造であり、ここで、Ｌは、単結合または２価の連結基であり、Ａｒは、置換基を有していてもよい芳香環基であり、
   Ｒ^３及びＲ^４は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基であり、互いに同一でも異なっていてもよい。〕
   で表される単量体単位（Ａ）と、
   下記式（ＩＩ）：
   

   

   〔式（ＩＩ）中、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^８及びＲ^９は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化カルボキシル基、アルキル基、又はハロゲン化アルキル基であり、互いに同一でも異なっていてもよく、
   Ｒ^７は、水素原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基であり、ｐおよびｑは、０以上５以下の整数であり、ｐ＋ｑ＝５であり、Ｒ^６が複数存在する場合、それらは互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ^７が複数存在する場合、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。〕
   で表される単量体単位（Ｂ）とを有する共重合体、及び溶剤を含む溶液を、除粒子径が２０ｎｍ以下のフィルターを通過させてろ過する工程を含む、ポジ型レジスト組成物の製造方法。
2. 前記共重合体の重量平均分子量が３０，０００超である、請求項１に記載のポジ型レジスト組成物の製造方法。
3. 前記単量体単位（Ａ）が有するフッ素原子の数と、前記単量体単位（Ｂ）が有するフッ素原子の数の合計が１個以上である、請求項１又は２に記載のポジ型レジスト組成物の製造方法。
4. 請求項１～３の何れかに記載のポジ型レジスト組成物の製造方法により得られたポジ型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程と、
   前記レジスト膜を露光する工程と、
   前記露光後のレジスト膜を現像する工程と、
   を含む、レジストパターン形成方法。