JP2022088777A - Thermally conductive resin composition, thermally conductive sheet, and metal-based substrate - Google Patents
Thermally conductive resin composition, thermally conductive sheet, and metal-based substrate Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022088777A JP2022088777A JP2020200798A JP2020200798A JP2022088777A JP 2022088777 A JP2022088777 A JP 2022088777A JP 2020200798 A JP2020200798 A JP 2020200798A JP 2020200798 A JP2020200798 A JP 2020200798A JP 2022088777 A JP2022088777 A JP 2022088777A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- heat conductive
- thermally conductive
- resin
- conductive resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 79
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 43
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 43
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 40
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 60
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 60
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 claims description 59
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 47
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 47
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 29
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 18
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 claims description 15
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 8
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims description 3
- CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 2h-1,2-benzoxazine Chemical compound C1=CC=C2C=CNOC2=C1 CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 claims description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims description 2
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 2
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 claims description 2
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 11
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 239000004927 clay Substances 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 13
- 206010042674 Swelling Diseases 0.000 description 12
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 12
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 11
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 8
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 8
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 5
- -1 naphthylene ether Chemical compound 0.000 description 5
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 4
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)ethane Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)C1=CC=C(O)C=C1 HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVFQHGDIOXNKIC-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[3-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenyl]propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=CC(C(C)(C)C=2C=CC(O)=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 PVFQHGDIOXNKIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 1
- GIXXQTYGFOHYPT-UHFFFAOYSA-N Bisphenol P Chemical compound C=1C=C(C(C)(C)C=2C=CC(O)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 GIXXQTYGFOHYPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001021 Ferroalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004637 bakelite Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N binaphthyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000009775 high-speed stirring Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 229940094522 laponite Drugs 0.000 description 1
- XCOBTUNSZUJCDH-UHFFFAOYSA-B lithium magnesium sodium silicate Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Na+].[Na+].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3 XCOBTUNSZUJCDH-UHFFFAOYSA-B 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229910000275 saponite Inorganic materials 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYMSIPPWHNIMGE-UHFFFAOYSA-N silylurea Chemical compound NC(=O)N[SiH3] IYMSIPPWHNIMGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
Images
Abstract
Description
本発明は、熱伝導性樹脂組成物、熱伝導性シート、および金属ベース基板に関する。 The present invention relates to a thermally conductive resin composition, a thermally conductive sheet, and a metal-based substrate.
電気・電子機器等を構成する絶縁材料に対して、放熱性が要求されている。絶縁材料の放熱性について様々な開発がなされてきた。この種の技術として、例えば、特許文献1に開示されているものがある。
Insulating materials that make up electrical and electronic equipment are required to have heat dissipation. Various developments have been made on the heat dissipation of insulating materials. As this kind of technique, for example, there is one disclosed in
しかし、放熱絶縁樹脂シートおよび放熱絶縁樹脂基板でよく用いられる、熱硬化性樹脂と窒化ホウ素(BN)の樹脂硬化物複合材は、BNの持つ平板結晶構造のうち、端面以外に官能基を持たないことから、樹脂とBNの密着性に課題を有していた。
具体的には、樹脂硬化物を吸湿状態で半田槽投入時に、ある温度、時間で樹脂層が膨れ上がる等、吸湿半田耐性等の信頼性の観点の課題を有していた。
However, the thermosetting resin and boron nitride (BN) resin-cured composite material, which is often used in heat-dissipating insulating resin sheets and heat-dissipating insulating resin substrates, has a functional group other than the end face in the flat plate crystal structure of BN. Therefore, there was a problem in the adhesion between the resin and the BN.
Specifically, when the cured resin is put into a solder bath in a moisture-absorbing state, the resin layer swells at a certain temperature and time, and there is a problem in terms of reliability such as moisture-absorbing solder resistance.
本発明は上記課題を鑑みなされたものであって、熱硬化性樹脂-粘土鉱物の密着性、BN-粘土鉱物の密着性により、密着助剤効果および構造材のような働きから、吸湿半田耐性の信頼性が向上した熱伝導性シートを形成できる、熱伝導性樹脂組成物を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems, and due to the adhesiveness of the heat-curable resin-clay mineral and the adhesiveness of BN-clay mineral, it has an adhesive agent effect and acts like a structural material, and thus has moisture absorption solder resistance. It is an object of the present invention to provide a heat conductive resin composition capable of forming a heat conductive sheet having improved reliability.
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、熱硬化性樹脂と窒化ホウ素の複合材に粘土鉱物を加えることで、樹脂とこの粘土鉱物の密着により複合材全体の密着性を向上させることができることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventor added a clay mineral to the composite material of the thermosetting resin and boron nitride, and the resin and the clay mineral adhere to each other to adhere the entire composite material. The present invention has been completed by finding that it is possible to improve the properties.
本発明によれば、熱硬化性樹脂、窒化ホウ素粒子、および粘土鉱物を含む、熱伝導性樹脂組成物が提供される。 According to the present invention, there is provided a thermally conductive resin composition containing a thermosetting resin, boron nitride particles, and a clay mineral.
本発明によれば、上記熱伝導性樹脂組成物の半硬化物である、熱伝導性シートが提供される。 According to the present invention, there is provided a heat conductive sheet which is a semi-cured product of the above heat conductive resin composition.
また、本発明によれば、金属基板と、
絶縁層と、
金属層と、
をこの順に備え、
上記絶縁層が上記熱伝導性シートの硬化物である、金属ベース基板が提供される。
Further, according to the present invention, a metal substrate and
Insulation layer and
With a metal layer,
In this order,
A metal base substrate is provided in which the insulating layer is a cured product of the heat conductive sheet.
本発明によれば、熱硬化性樹脂、窒化ホウ素粒子、粘土鉱物の複合材全体の密着性が向上し、吸湿半田耐性等の信頼性が向上した熱伝導性シートを形成できる、熱伝導性樹脂組成物が提供される。このような熱伝導性樹脂組成物からなる熱伝導性シートであれば、吸湿状態で半田槽投入しても、膨れ上がりを抑制することができる。 According to the present invention, a thermally conductive resin capable of forming a thermally conductive sheet having improved adhesion of the entire composite material of a thermosetting resin, boron nitride particles, and clay minerals and improved reliability such as moisture absorption solder resistance. The composition is provided. A heat conductive sheet made of such a heat conductive resin composition can suppress swelling even if it is put into a solder bath in a hygroscopic state.
以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。
本明細書中、数値範囲の説明における「X~Y」との表記は、特に断らない限り、X以上Y以下のことを表す。例えば、「1~5質量%」とは「1質量%以上5質量%以下」を意味する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
In the present specification, the notation "XY" in the description of the numerical range indicates X or more and Y or less unless otherwise specified. For example, "1 to 5% by mass" means "1% by mass or more and 5% by mass or less".
<熱伝導性樹脂組成物>
本実施形態において、熱伝導性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂、窒化ホウ素粒子、および粘土鉱物を含む組成物である。熱伝導性樹脂組成物が粘土鉱物を含むことにより、熱硬化性樹脂、窒化ホウ素粒子、粘土鉱物の複合材全体の密着性を向上させる効果を奏するものである。
従来、熱伝導性フィラーに対し、非熱伝導性フィラーである粘土鉱物を添加することは、熱伝導性樹脂組成物の熱伝導性を低下させる恐れがあることから、想到されなかった。
本発明者は鋭意検討を重ねた結果、非熱伝導性フィラーで粘土鉱物を含む樹脂組成物であっても、高い熱伝導性を有する組成物ができることを見出し、本発明を完成させた。
かかるメカニズムの詳細は明らかではないが、吸湿分の加熱膨張時において、粘土鉱物が樹脂-BNの密着助剤となること、および粘土鉱物が樹脂層に存在することにより構造材として働き、加熱膨張に耐えられるものと考えられる。
<Thermal conductive resin composition>
In the present embodiment, the thermally conductive resin composition is a composition containing a thermosetting resin, boron nitride particles, and a clay mineral. When the heat conductive resin composition contains a clay mineral, it has the effect of improving the adhesion of the entire composite material of the heat-curable resin, boron nitride particles, and clay mineral.
Conventionally, the addition of clay mineral, which is a non-thermally conductive filler, to the thermally conductive filler has not been conceived because it may reduce the thermal conductivity of the thermally conductive resin composition.
As a result of diligent studies, the present inventor has found that a composition having high thermal conductivity can be obtained even with a resin composition containing clay minerals with a non-thermally conductive filler, and completed the present invention.
Although the details of such a mechanism are not clear, the clay mineral acts as a structural material due to the fact that the clay mineral acts as an adhesion aid for the resin-BN and the clay mineral acts as a structural material during the heating expansion of the moisture-absorbing component, resulting in heating expansion. It is considered that it can withstand.
[熱硬化性樹脂]
熱硬化性樹脂は、加熱により硬化する樹脂であれば特に限定されないが、エポキシ樹脂、シアネート樹脂、ポリイミド樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、ビスマレイミド樹脂、およびアクリル樹脂が好ましい。これらの中の1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。
これらの中でも、高い絶縁性を有する観点から、熱硬化性樹脂としてはエポキシ樹脂、フェノール樹脂が好ましい。
[Thermosetting resin]
The thermosetting resin is not particularly limited as long as it is a resin that can be cured by heating, but is not particularly limited, but is an epoxy resin, a cyanate resin, a polyimide resin, a benzoxazine resin, an unsaturated polyester resin, a phenol resin, a phenoxy resin, a melamine resin, a silicone resin, and a screw. Maleimide resin and acrylic resin are preferable. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
Among these, epoxy resin and phenol resin are preferable as the thermosetting resin from the viewpoint of having high insulating property.
エポキシ樹脂としては、たとえば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールM型エポキシ樹脂(4,4’-(1,3-フェニレンジイソプリジエン)ビスフェノール型エポキシ樹脂)、ビスフェノールP型エポキシ樹脂(4,4’-(1,4-フェニレンジイソプリジエン)ビスフェノール型エポキシ樹脂)、ビスフェノールZ型エポキシ樹脂(4,4’-シクロヘキシジエンビスフェノール型エポキシ樹脂)等のビスフェノール型エポキシ樹脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノール基メタン型ノボラック型エポキシ樹脂、テトラフェノール基エタン型ノボラック型エポキシ樹脂、縮合環芳香族炭化水素構造を有するノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂;ビフェニル型エポキシ樹脂;キシリレン型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂等のアリールアルキレン型エポキシ樹脂;ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレンジオール型エポキシ樹脂、2官能乃至4官能ナフタレン型エポキシ樹脂、ビナフチル型エポキシ樹脂、ナフタレンアラルキル型エポキシ樹脂等のナフタレン型エポキシ樹脂;アントラセン型エポキシ樹脂;フェノキシ型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;ノルボルネン型エポキシ樹脂;アダマンタン型エポキシ樹脂;フルオレン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中の1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。 Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol E type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, and bisphenol M type epoxy resin (4,4'-(1,3-phenylenediiso). Pridiene) bisphenol type epoxy resin), bisphenol P type epoxy resin (4,4'-(1,4-phenylenediisopridiene) bisphenol type epoxy resin), bisphenol Z type epoxy resin (4,4'-cyclohexy) Bisphenol type epoxy resin such as dienbisphenol type epoxy resin); phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, trisphenol group methane type novolak type epoxy resin, tetraphenol group ethane type novolak type epoxy resin, condensed ring aromatic carbonization Novolak type epoxy resin such as novolak type epoxy resin having a hydrogen structure; biphenyl type epoxy resin; arylalkylene type epoxy resin such as xylylene type epoxy resin and biphenyl aralkyl type epoxy resin; naphthylene ether type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, Naphthalene type epoxy resin such as naphthalenediol type epoxy resin, bifunctional to tetrafunctional naphthalene type epoxy resin, binaphthyl type epoxy resin, naphthalene aralkyl type epoxy resin; anthracene type epoxy resin; phenoxy type epoxy resin; dicyclopentadiene type epoxy resin; Norbornen type epoxy resin; Adamantane type epoxy resin; Fluorene type epoxy resin and the like can be mentioned. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
エポキシ樹脂の中でも、耐熱性および絶縁信頼性をより一層向上できる観点から、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、アリールアルキレン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂からなる群から選択される1種または2種以上であることが好ましい。 Among the epoxy resins, bisphenol type epoxy resin, novolak type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, arylalkylene type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, anthracene type epoxy resin, from the viewpoint of further improving heat resistance and insulation reliability, It is preferably one or more selected from the group consisting of dicyclopentadiene type epoxy resins.
フェノール樹脂としては、たとえば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂等のノボラック型フェノール樹脂、およびレゾール型フェノール樹脂等が挙げられる。これらの中の1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。
フェノール樹脂の中でも、フェノールノボラック樹脂であることが好ましい。
Examples of the phenol resin include novolak-type phenol resins such as phenol novolac resin, cresol novolak resin, and bisphenol A novolak resin, and resol-type phenol resins. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
Among the phenolic resins, phenol novolac resin is preferable.
また、熱伝導性樹脂組成物は、フェノキシ樹脂を含んでもよい。フェノキシ樹脂を用いることにより、熱伝導性樹脂組成の半硬化物である熱伝導性シートの弾性率を低下させることが可能となる。その結果、熱伝導性シートの耐屈曲性を向上させることができる。また、熱伝導性樹脂組成物中にフェノキシ樹脂を含有させた場合、熱伝導性シートの応力緩和力を向上させることができる。また、熱伝導性樹脂組成にフェノキシ樹脂を含有させた場合、粘土上昇により流動性が低減できるため、ボイド等の空隙が発生することができる。また、熱伝導性シートと放熱部材との密着性を向上させることもできる。これらの相乗効果により、本実施形態に係る熱伝導性シートを備えた金属ベース基板の絶縁安定性をより一層高めることができる。 Further, the heat conductive resin composition may contain a phenoxy resin. By using the phenoxy resin, it is possible to reduce the elastic modulus of the heat conductive sheet which is a semi-cured product having a heat conductive resin composition. As a result, the bending resistance of the heat conductive sheet can be improved. Further, when the phenoxy resin is contained in the heat conductive resin composition, the stress relaxation force of the heat conductive sheet can be improved. Further, when the phenoxy resin is contained in the heat conductive resin composition, the fluidity can be reduced by increasing the clay, so that voids and the like can be generated. In addition, the adhesion between the heat conductive sheet and the heat radiating member can be improved. Due to these synergistic effects, the insulation stability of the metal base substrate provided with the heat conductive sheet according to the present embodiment can be further enhanced.
フェノキシ樹脂の具体例としては、例えば、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂等のビスフェノール骨格を有するフェノキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するフェノキシ樹脂、アントラセン骨格を有するフェノキシ樹脂、ビフェニル骨格を有するフェノキシ樹脂等が挙げられる。また、これらの骨格を複数有した構造のフェノキシ樹脂を用いることもできる。
フェノキシ樹脂の含有量は、樹脂組成物の固形分全量に対して、例えば、1質量%以上10質量%以下とすることができる。
Specific examples of the phenoxy resin include phenoxy resins having a bisphenol skeleton such as bisphenol A type phenoxy resin, phenoxy resins having a naphthalene skeleton, phenoxy resins having an anthracene skeleton, and phenoxy resins having a biphenyl skeleton. Further, a phenoxy resin having a structure having a plurality of these skeletons can also be used.
The content of the phenoxy resin can be, for example, 1% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the total solid content of the resin composition.
熱硬化性樹脂の含有量は、熱伝導性樹脂組成物の不揮発分100質量%に対し、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましい。また、35質量%以下が好ましく、30質量%以下がより好ましい。
熱硬化性樹脂の含有量が上記上限値以下であると、熱伝導性樹脂組成物のハンドリング性が向上し、熱伝導性シートを形成するのが容易になるとともに、熱伝導性シートの強度が向上する。また、熱硬化性樹脂の含有量が上記下限値以上であると、弾性率がより一層向上したり、熱伝導性がより一層向上したりする。
The content of the thermosetting resin is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, based on 100% by mass of the non-volatile content of the heat conductive resin composition. Further, 35% by mass or less is preferable, and 30% by mass or less is more preferable.
When the content of the heat-curable resin is not more than the above upper limit, the handleability of the heat-conducting resin composition is improved, it becomes easy to form the heat-conducting sheet, and the strength of the heat-conducting sheet is increased. improves. Further, when the content of the thermosetting resin is at least the above lower limit value, the elastic modulus is further improved and the thermal conductivity is further improved.
[窒化ホウ素粒子]
窒化ホウ素(BN)粒子は、熱伝導性と電気絶縁性を付与する熱伝導性フィラーである。本実施形態に係る熱伝導性樹脂組成物は、本実施形態に係る窒化ホウ素粒子を後に詳述する粘土鉱物と共に用いることにより、熱硬化性樹脂、窒化ホウ素粒子、粘土鉱物の複合材全体の密着性が向上した熱伝導性シートを形成できる、熱伝導性樹脂組成物となる。
[Boron Nitride Particles]
Boron nitride (BN) particles are thermally conductive fillers that impart thermal conductivity and electrical insulation. In the thermally conductive resin composition according to the present embodiment, by using the boron nitride particles according to the present embodiment together with the clay mineral described in detail later, the heat-curable resin, the boron nitride particles, and the clay mineral composite material adhere to the entire composite material. It is a heat conductive resin composition capable of forming a heat conductive sheet having improved properties.
窒化ホウ素粒子は、鱗片状窒化ホウ素の一次粒子を凝集させることにより形成される二次凝集粒子を含むことが好ましい。このようにすれば、放熱特性および絶縁特性のバランスに優れる。
鱗片状窒化ホウ素の一次粒子を焼結、凝集させることにより形成される二次凝集粒子は、例えば、国際公報2018/056205号等に開示されている方法で製造することができる。
The boron nitride particles preferably include secondary aggregated particles formed by aggregating the primary particles of scaly boron nitride. By doing so, the balance between the heat dissipation characteristic and the insulation characteristic is excellent.
The secondary aggregated particles formed by sintering and aggregating the primary particles of scaly boron nitride can be produced, for example, by the method disclosed in International Publication No. 2018/056205.
窒化ホウ素粒子の含有量は、熱伝導性樹脂組成物の不揮発成分100質量%に対し、85質量%以下が好ましく、80質量%以下がより好ましい。一方、熱伝導性の観点から、当該含有量は、熱伝導性樹脂組成物の不揮発分100質量%に対し、50質量%以上が好ましく、65質量%以上がより好ましい。 The content of the boron nitride particles is preferably 85% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, based on 100% by mass of the non-volatile component of the heat conductive resin composition. On the other hand, from the viewpoint of thermal conductivity, the content is preferably 50% by mass or more, more preferably 65% by mass or more, based on 100% by mass of the non-volatile content of the thermally conductive resin composition.
[粘土鉱物]
本実施形態に係る熱伝導性樹脂組成物は、粘土鉱物を含むことにより、熱硬化性樹脂、窒化ホウ素粒子、粘土鉱物の複合材全体の密着性が向上した熱伝導性シートを形成できる、熱伝導性樹脂組成物とすることができる。詳細なメカニズムは明らかではないが、粘土鉱物が構造材のように働き、吸湿分の加熱膨張に耐えうるようになると推定される。
粘土鉱物は、特に限定されないが、OH基等により官能基を多量に有する表面修飾された粘土鉱物が好ましく、OH基を含む有機変性粘土鉱物が特に好ましい。このような粘土鉱物であれば、熱硬化性樹脂、窒化ホウ素粒子、粘土鉱物の複合材全体の密着性をより向上した熱伝導性シートを形成できる、熱伝導性樹脂組成物とすることができる。表面修飾粘土鉱物は例えば、ベントナイトが挙げられる。ベントナイトとしては、例えば、オルガナイト、ベンゲル、エスベン((株)ホージュン社、登録商標)、やGARAMITE、CLYTONE、LAPONITE、POTIBENTシリーズ(ビックケミージャパン社製、登録商標)が挙げられる。本実施形態では、ベントナイトを変性したものの一種であり、円盤状のケイ酸塩に、棒状のサポナイトを混合したものであるGARAMITE(ビックケミージャパン社製、登録商標)が特に好ましい。
[Clay minerals]
By containing the clay mineral, the heat conductive resin composition according to the present embodiment can form a heat conductive sheet having improved adhesion of the entire composite material of the heat curable resin, boron nitride particles, and clay mineral. It can be a conductive resin composition. Although the detailed mechanism is not clear, it is presumed that clay minerals act like structural materials and can withstand the heat expansion of moisture absorption.
The clay mineral is not particularly limited, but is preferably a surface-modified clay mineral having a large amount of functional groups such as OH groups, and particularly preferably an organically modified clay mineral containing an OH group. Such a clay mineral can be used as a heat conductive resin composition capable of forming a heat conductive sheet having further improved adhesion of the entire composite material of the heat curable resin, boron nitride particles, and clay mineral. .. Examples of surface-modified clay minerals include bentonite. Examples of bentonite include organite, Wenger, Esben (registered trademark of Hojun Co., Ltd.), GARAMITE, CLYTONE, LAPONITE, and POTIBENT series (registered trademark of Big Chemie Japan). In the present embodiment, GARAMITE (manufactured by Big Chemy Japan, registered trademark), which is a kind of modified bentonite and is a mixture of a disk-shaped silicate and a rod-shaped saponite, is particularly preferable.
ここで本実施形態に係る粘土鉱物の一例を、図1を用いて説明する。粘土鉱物1は、層状鉱物2と棒状鉱物3との混合物である。層状鉱物2および棒状鉱物3の表面は、表面修飾されていることが好ましく、図1に示す例では、有機変性基4が層状鉱物2と棒状鉱物3の表面に変性している例である。
本実施形態に係る粘土鉱物は、上述のように、層状鉱物と棒状鉱物との混合物であることが好ましい。このような粘土鉱物を用いた熱伝導性樹脂組成物であれば、シート状に半硬化した際に、後述するカードハウス構造を形成しやすくなる。
Here, an example of the clay mineral according to the present embodiment will be described with reference to FIG. The
As described above, the clay mineral according to the present embodiment is preferably a mixture of layered minerals and rod-shaped minerals. With such a thermally conductive resin composition using clay minerals, when the sheet is semi-cured, it becomes easy to form a card house structure described later.
粘土鉱物は、図1に示したように、負電荷を帯びた層状鉱物と、正電荷を帯びた棒状鉱物がお互いに引き合い、層状鉱物と棒状鉱物の立体的な会合構造を形成する。この構造をカードハウス構造と呼ぶ。カードハウス構造は、例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)などで観察することができる。 In the clay mineral, as shown in FIG. 1, a negatively charged layered mineral and a positively charged rod-shaped mineral attract each other to form a three-dimensional association structure of the layered mineral and the rod-shaped mineral. This structure is called a card house structure. The card house structure can be observed with, for example, a scanning electron microscope (SEM).
本実施形態に係る熱伝導性樹脂組成物の半硬化物である、熱伝導性シートにおいて、粘土鉱物がカードハウス構造を形成することが好ましい。粘土鉱物と窒化ホウ素、および熱硬化性樹脂が一体となり、より一層密着性を向上させることができる。熱硬化性樹脂と粘土鉱物との密着性の方が、粘土鉱物と窒化ホウ素との密着性より高いものと推定される。このメカニズムは定かではないが、以下のメカニズムが推定される。熱伝導性シートにおいて粘土鉱物がカードハウス構造を形成することにより、端面以外に官能基を有さない窒化ホウ素がカードハウス構造を有する粘土鉱物と相互作用することが可能となると推定される。 It is preferable that the clay mineral forms a curd house structure in the heat conductive sheet, which is a semi-cured product of the heat conductive resin composition according to the present embodiment. The clay mineral, boron nitride, and the thermosetting resin are integrated to further improve the adhesion. It is presumed that the adhesion between the thermosetting resin and the clay mineral is higher than the adhesion between the clay mineral and boron nitride. This mechanism is not clear, but the following mechanism is presumed. It is presumed that the clay mineral forming the curdhouse structure in the heat conductive sheet enables boron nitride having no functional group other than the end face to interact with the clay mineral having the curdhouse structure.
本実施形態に係る熱伝導性樹脂組成物に含まれる粘土鉱物の含有量は、熱伝導性樹脂組成物の不揮発分100質量%に対し、0.05質量%以上が好ましく、より好ましくは0.1質量%以上、最も好ましくは0.2質量%以上である。また、粘土鉱物の含有量は、10質量%以下が好ましく、より好ましくは7質量%以下、より好ましくは5質量%以下である。
粘土鉱物の含有量が上記範囲にあれば、熱硬化性樹脂、窒化ホウ素粒子、粘土鉱物の複合材全体の密着性が向上した熱伝導性シートを形成できる、熱伝導性樹脂組成物とすることができる。
The content of the clay mineral contained in the thermally conductive resin composition according to the present embodiment is preferably 0.05% by mass or more, more preferably 0% by mass, based on 100% by mass of the non-volatile content of the thermally conductive resin composition. It is 1% by mass or more, most preferably 0.2% by mass or more. The content of the clay mineral is preferably 10% by mass or less, more preferably 7% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.
When the content of the clay mineral is within the above range, the heat conductive resin composition can form a heat conductive sheet having improved adhesion of the entire composite material of the heat curable resin, boron nitride particles, and clay mineral. Can be done.
[カップリング剤]
本実施形態に係る熱伝導性樹脂組成物は、カップリング剤を含んでもよい。カップリング剤は熱硬化性樹脂と窒化ホウ素との界面の濡れ性を向上させることができる。
[Coupling agent]
The thermally conductive resin composition according to this embodiment may contain a coupling agent. The coupling agent can improve the wettability of the interface between the thermosetting resin and boron nitride.
カップリング剤としては、特に限定されないが、シランカップリング剤が好ましい。シランカップリング剤は、例えば、エポキシシランカップリング剤、カチオニックシランカップリング剤、アミノシランカップリング剤、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン、メタクリルシラン等の各種シランカップリング剤が好ましい。カップリング剤は単独で用いても、2種以上を用いてもよい。 The coupling agent is not particularly limited, but a silane coupling agent is preferable. As the silane coupling agent, for example, various silane coupling agents such as epoxysilane coupling agent, cationic silane coupling agent, aminosilane coupling agent, alkylsilane, ureidosilane, vinylsilane, and methacrylicsilane are preferable. The coupling agent may be used alone or in combination of two or more.
カップリング剤の含有量は、特に限定されないが、熱伝導性樹脂組成物の不揮発成分100質量%に対し、0.1質量%以上が好ましく、0.2質量%以上がより好ましい。また、5質量%以下が好ましく、3質量%以下がより好ましい。 The content of the coupling agent is not particularly limited, but is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.2% by mass or more, based on 100% by mass of the non-volatile component of the heat conductive resin composition. Further, 5% by mass or less is preferable, and 3% by mass or less is more preferable.
[その他成分]
熱伝導性樹脂組成物には、本実施形態の目的を損なわない範囲で、その他成分として、例えば酸化防止剤、レベリング材等を含むことができる。
[Other ingredients]
The heat conductive resin composition may contain, for example, an antioxidant, a leveling material, or the like as other components as long as the object of the present embodiment is not impaired.
次に、熱伝導性樹脂組成物の製造方法について説明する。
熱伝導性樹脂組成物は、例えば、上述した各成分を溶媒へ添加して、ワニス状のシート用樹脂組成物を得る。本実施形態においては、たとえば溶媒中に熱硬化性樹脂、窒化ホウ素粒子、粘土鉱物等を添加して樹脂ワニスを作成した後、当該樹脂ワニスを高速撹拌装置等を用いて撹拌することにより、熱伝導性樹脂組成物を得ることができる。これにより、窒化ホウ素粒子をより均一に樹脂組成物に分散させることができる。
上記溶媒としては特に限定されないが、アセトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、セルソルブ系、カルビトール系、アニソール、およびN-メチルピロリドン等が挙げられる。
このとき、ワニスの混錬時の温度を40℃以下とすることが好ましい。これにより、熱伝導性樹脂組成物中における窒化ホウ素の分散性を良好にし、分散状態をより安定的に保持できるようになる。その結果、熱伝導性樹脂組成物の半硬化物である熱伝導性シートの硬化特性が保持されやすくなり、保存安定性を向上できる。
Next, a method for producing the thermally conductive resin composition will be described.
As the heat conductive resin composition, for example, each of the above-mentioned components is added to a solvent to obtain a varnish-like resin composition for a sheet. In the present embodiment, for example, a thermosetting resin, boron nitride particles, clay minerals, etc. are added to a solvent to prepare a resin varnish, and then the resin varnish is stirred by using a high-speed stirring device or the like to heat the resin varnish. A conductive resin composition can be obtained. Thereby, the boron nitride particles can be more uniformly dispersed in the resin composition.
The solvent is not particularly limited, but is limited to acetone, methyl isobutyl ketone, toluene, ethyl acetate, cyclohexane, heptane, cyclohexane, cyclohexanone, tetrahydrofuran, dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, ethylene glycol, cellsolve, carbitol, anisole, and N. -Methylpyrrolidone and the like can be mentioned.
At this time, the temperature at the time of kneading the varnish is preferably 40 ° C. or lower. As a result, the dispersibility of boron nitride in the thermally conductive resin composition is improved, and the dispersed state can be maintained more stably. As a result, the curing characteristics of the thermally conductive sheet, which is a semi-cured product of the thermally conductive resin composition, can be easily maintained, and the storage stability can be improved.
[熱伝導性シート]
本実施形態に係る熱伝導性樹脂組成物は、半硬化物である熱伝導性シートとすることができる。即ち、熱伝導性樹脂組成物の半硬化物である熱伝導性シートとすることが好ましい。このようなシートであれば、熱硬化性樹脂と窒化ホウ素粒子の複合材の密着性が向上した熱伝導性シートとすることができる。半硬化物とは、B-ステージ状態のことを意味する。
[Thermal Conductive Sheet]
The heat conductive resin composition according to the present embodiment can be a heat conductive sheet which is a semi-cured product. That is, it is preferable to use a heat conductive sheet which is a semi-cured product of the heat conductive resin composition. Such a sheet can be a heat conductive sheet having improved adhesion between the thermosetting resin and the composite material of the boron nitride particles. The semi-cured product means a B-stage state.
熱伝導性シートは、例えば、以下のようにして製造することができる。
上記の方法で得た熱伝導性樹脂組成物をシート状に成形する。本実施形態では、例えば基材上にワニス状の上記熱伝導性樹脂組成物を塗布した後、これを加熱して乾燥させる。この乾燥処理により熱伝導性樹脂組成物からなる樹脂膜はBステージ化され、基材上に形成された熱伝導性シートを得ることができる。
基材としては、例えば、剥離可能なキャリア材等を構成する金属箔や高分子フィルムが挙げられる。当該高分子フィルムとしては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリカーボネート、シリコーンシート等の離型紙、フッ素系樹脂、ポリイミド樹脂などの耐熱性を有した熱可塑性樹脂シート等が挙げられる。当該金属箔としては、特に限定されないが、例えば、銅および/または銅系合金、アルミおよび/またはアルミ系合金、鉄および/または鉄系合金、銀および/または銀系合金、金および金系合金、亜鉛および亜鉛系合金、ニッケルおよびニッケル系合金、錫および錫系合金などが挙げられる。また、熱伝導性樹脂組成物の乾燥時間は、例えば80℃以上200℃以下、1分以上1時間以下の条件とすることができる。また、膜厚は典型的には50μm以上500μm以下とすることができる。
The heat conductive sheet can be manufactured, for example, as follows.
The heat conductive resin composition obtained by the above method is molded into a sheet. In the present embodiment, for example, a varnish-like heat conductive resin composition is applied onto a base material, and then the heat conductive resin composition is heated and dried. By this drying treatment, the resin film made of the heat conductive resin composition is B-staged, and a heat conductive sheet formed on the substrate can be obtained.
Examples of the base material include a metal foil and a polymer film constituting a peelable carrier material and the like. The polymer film is not particularly limited, but is, for example, heat resistant to polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, release papers such as polycarbonate and silicone sheets, fluororesins and polyimide resins. Examples thereof include a thermoplastic resin sheet having the above. The metal foil is not particularly limited, and is, for example, copper and / or copper-based alloy, aluminum and / or aluminum-based alloy, iron and / or iron-based alloy, silver and / or silver-based alloy, gold and gold-based alloy. , Zinc and zinc-based alloys, nickel and nickel-based alloys, tin and tin-based alloys and the like. The drying time of the heat conductive resin composition can be, for example, 80 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, and 1 minute or longer and 1 hour or shorter. The film thickness can typically be 50 μm or more and 500 μm or less.
また、乾燥処理の後に、上記基材付き樹脂膜をプレス機で圧縮することにより熱伝導性シート内の気泡を除去することが好ましい。
本実施形態においては、基材付き熱伝導性シートを加圧加温を用いて気泡を除去する工程を含むことにより、熱伝導性シートの熱伝導率および絶縁性を向上させることができる。これは、気泡を除去することにより、熱伝導性シート内における樹脂成分の密度が上昇すること等が要因として推定される。
ここで、圧縮圧力は、例えば、1MPa以上20MPa以下とすることができる。
Further, it is preferable to remove air bubbles in the heat conductive sheet by compressing the resin film with a substrate with a press after the drying treatment.
In the present embodiment, the thermal conductivity and the insulating property of the heat conductive sheet can be improved by including the step of removing air bubbles from the heat conductive sheet with a base material by pressurizing and heating. It is presumed that this is because the density of the resin component in the heat conductive sheet increases by removing the bubbles.
Here, the compression pressure can be, for example, 1 MPa or more and 20 MPa or less.
本実施形態に係る熱伝導性シートは高い熱伝導率と絶縁性を有している。そのため、LED、パワーモジュールなどの電子部品を搭載するためのプリント基板の材料として用いることができる。
熱伝導性シートの熱伝導率は以下のようにして測定することができる。
The thermally conductive sheet according to this embodiment has high thermal conductivity and insulating properties. Therefore, it can be used as a material for a printed circuit board for mounting electronic components such as LEDs and power modules.
The thermal conductivity of the heat conductive sheet can be measured as follows.
<熱伝導率試験>
上記熱伝導性樹脂組成物を100℃、30分間熱処理することにより膜厚が400μmのBステージ状の熱伝導性シートを作製する。次いで、上記熱伝導性シートを200℃、90分間熱処理して熱伝導性シート硬化物を得る。次いで、レーザーフラッシュ法を用いて上記熱伝導性シート硬化物の厚み方向の熱伝導率を測定する。
<Thermal conductivity test>
The heat conductive resin composition is heat-treated at 100 ° C. for 30 minutes to prepare a B-stage heat conductive sheet having a film thickness of 400 μm. Next, the heat conductive sheet is heat-treated at 200 ° C. for 90 minutes to obtain a cured product of the heat conductive sheet. Then, the thermal conductivity in the thickness direction of the cured product of the heat conductive sheet is measured by using a laser flash method.
このとき、上記試験方法で測定した上記熱伝導性シートの熱伝導率は、好ましくは、6.0W/(K・m)以上20.0W/(K・m)以下、より好ましくは8.0W/(K・m)以上19.5W/(K・m)以下、さらに好ましくは10.0W/(K・m)以上19.0W/(K・m)以下であることが好ましい。このような熱伝導性シートであれば、高い熱伝導率を有するため、金属ベース基板等の放熱シートに好適に用いることができる。 At this time, the thermal conductivity of the heat conductive sheet measured by the test method is preferably 6.0 W / (Km) or more and 20.0 W / (Km) or less, more preferably 8.0 W. / (K ・ m) or more and 19.5 W / (K ・ m) or less, more preferably 10.0 W / (K ・ m) or more and 19.0 W / (K ・ m) or less. Since such a heat conductive sheet has high thermal conductivity, it can be suitably used for a heat dissipation sheet such as a metal base substrate.
上記熱伝導性シートは、熱硬化性樹脂と窒化ホウ素粒子との密着性が高い。そのため、樹脂硬化物を吸湿状態で半田槽投入時に、高い熱伝導率を維持したまま、樹脂層の膨れ上がりが抑制される。 The heat conductive sheet has high adhesion between the thermosetting resin and the boron nitride particles. Therefore, when the cured resin is put into the solder bath in a hygroscopic state, the swelling of the resin layer is suppressed while maintaining high thermal conductivity.
本実施形態の樹脂基板は、上記熱硬化性樹脂組成物の硬化物で構成された絶縁層を備えるものである。この樹脂基板は、LED、パワーモジュールなどの電子部品を搭載するためのプリント基板の材料として用いることができる。 The resin substrate of the present embodiment includes an insulating layer made of a cured product of the thermosetting resin composition. This resin substrate can be used as a material for a printed circuit board for mounting electronic components such as LEDs and power modules.
即ち、本実施形態では、金属基板と、絶縁層と、金属層と、をこの順に備え、上記熱伝導性シートの硬化物である、金属ベース基板とすることができる。 That is, in the present embodiment, a metal substrate, an insulating layer, and a metal layer are provided in this order, and a metal base substrate which is a cured product of the heat conductive sheet can be obtained.
(金属ベース基板)
本実施形態の金属ベース基板100について図2に基づいて説明する。図2は、金属ベース基板100の構成の一例を示す概略断面図である。
(Metal base substrate)
The
上記金属ベース基板100は、図2に示すように、金属基板101と、金属基板101上に設けられた絶縁層102と、絶縁層102上に設けられた金属層103と、を備えることができる。この絶縁層102は、上記の熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂層、熱硬化性樹脂組成物の硬化物および積層板からなる群から選択される一種で構成することが可能である。これらの樹脂層、積層板のそれぞれは、金属層103の回路加工の前では、Bステージ状態の熱硬化性樹脂組成物で構成されていてもよく、回路加工の後では、それを硬化処理されてなる硬化体であってもよい。
As shown in FIG. 2, the
金属層103は絶縁層102上に設けられ、回路加工されるものである。この金属層103を構成する金属としては、例えば、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、鉄、錫等から選択される一種または二種以上が挙げられる。
金属基板103の厚さは、本実施形態の目的が損なわれない限り、適宜設定できる。
The
The thickness of the
金属基板101は、金属ベース基板100に蓄積された熱を放熱する役割を有する。金属基板101は、放熱性の金属基板であれば特に限定されないが、例えば、銅基板、銅合金基板、アルミニウム基板、アルミニウム合金基板から選択される一種または二種以上が挙げられる。
金属基板101の厚さは、本実施形態の目的が損なわれない限り、適宜設定できる。
The
The thickness of the
本実施形態において、金属ベース基板100は、各種の基板用途に用いることが可能であるが、熱伝導性及び耐熱性に優れることから、LEDやパワーモジュールを用いるプリント基板として用いることが可能である。
In the present embodiment, the
金属ベース基板100は、パターンにエッチング等することによって回路加工された金属層103を有することができる。この金属ベース基板100において、最外層にソルダーレジスト(不図示)を形成し、露光・現像により電子部品が実装できるよう接続用電極部が露出されていてもよい。
The
なお、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、本実施形態の目的を達成できる範囲での変形、改良等も本発明に含まれるものである。 The present invention is not limited to the above embodiment, and the present invention also includes modifications, improvements, and the like to the extent that the object of the present embodiment can be achieved.
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。 Although the embodiments of the present invention have been described above with reference to the drawings, these are examples of the present invention, and various configurations other than the above can be adopted.
以下、本発明の実施態様を、実施例及び比較例に基づき詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto.
(実施例1~3、比較例1)
以下の手順で、熱伝導性樹脂組成物を調製した。表1に示す配合に従い、熱硬化性樹脂、粘土鉱物等、硬化剤等を、シクロヘキサノンに添加し、これを撹拌することにより熱硬化性樹脂組成物の溶液を得た。
次いで、この溶液に窒化ホウ素粒子を混合することにより、窒化ホウ素粒子を均一に分散させたワニス状の熱硬化性樹脂組成物を得た。
次に、ワニス状の樹脂組成物をPETフィルム上に塗布し、100℃で30分熱処理することにより、膜厚が400μm(0.4mm)のBステージ状(半硬化状態)の熱伝導性シートを作製した。これをPETフィルムからはがして200℃で90分間熱処理をして熱伝導性シート硬化物を得た。
(Examples 1 to 3, Comparative Example 1)
A thermally conductive resin composition was prepared by the following procedure. According to the formulation shown in Table 1, a thermosetting resin, clay mineral, etc., a curing agent, etc. were added to cyclohexanone, and the mixture was stirred to obtain a solution of the thermosetting resin composition.
Then, the boron nitride particles were mixed with this solution to obtain a varnish-like thermosetting resin composition in which the boron nitride particles were uniformly dispersed.
Next, a varnish-like resin composition is applied onto a PET film and heat-treated at 100 ° C. for 30 minutes to obtain a B-stage (semi-cured) heat conductive sheet having a film thickness of 400 μm (0.4 mm). Was produced. This was peeled off from the PET film and heat-treated at 200 ° C. for 90 minutes to obtain a cured heat conductive sheet.
(熱硬化性樹脂)
・エポキシ樹脂:HP-4710(DIC社製)
・フェノール樹脂:PR-51470(住友ベークライト社製)
・フェノキシ樹脂:YP-55(日鉄ケミカル&マテリアルズ社製)
・シアネート樹脂:PT-30(ロンザ社製)
(Thermosetting resin)
-Epoxy resin: HP-4710 (manufactured by DIC)
-Phenol resin: PR-15470 (manufactured by Sumitomo Bakelite)
・ Phenoxy resin: YP-55 (manufactured by Nittetsu Chemical & Materials Co., Ltd.)
-Cyanate resin: PT-30 (manufactured by Lonza)
(窒化ホウ素粒子)
・熱伝導フィラー:凝集窒化ホウ素(水島合金鉄社製、HP-40)
(Boron nitride particles)
-Heat conductive filler: Coagulated boron nitride (manufactured by Mizushima Ferroalloy Co., Ltd., HP-40)
(粘土鉱物)
・表面修飾粘土鉱物:GARAMITE7305(ビックケミージャパン社製)
(Clay mineral)
・ Surface-modified clay mineral: GARAMITE7305 (manufactured by Big Chemie Japan)
(シランカップリング剤)
・シランカップリング剤:A-187(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製)
(Silane coupling agent)
-Silane coupling agent: A-187 (manufactured by Momentive Performance Materials)
(評価方法)
・熱伝導率試験
実施例1~3、比較例1の熱伝導性樹脂組成物を100℃、30分間熱処理することにより膜厚が400μmのBステージ状の熱伝導性シートを作製した。次いで、上記熱伝導性シートを200℃、90分間熱処理して熱伝導性シート硬化物を得た。次いで、レーザーフラッシュ法を用いて上記熱伝導性シート硬化物の厚み方向の熱伝導率を測定した。結果を表2に示す。
(Evaluation method)
-Thermal conductivity test The heat-conducting resin compositions of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were heat-treated at 100 ° C. for 30 minutes to prepare a B-stage-shaped heat-conducting sheet having a film thickness of 400 μm. Next, the heat conductive sheet was heat-treated at 200 ° C. for 90 minutes to obtain a cured heat conductive sheet. Then, the thermal conductivity in the thickness direction of the cured product of the heat conductive sheet was measured by using a laser flash method. The results are shown in Table 2.
・密着性評価(膨れ数)
縦×横×厚み=5cm×5cm×約400μmの実施例1~3、比較例1の熱伝導性樹脂組成物を用いて熱伝導性シートを作製した。これを30℃湿度90%で48時間吸湿した後、半田槽275℃に1分間浸漬させた。浸漬後の膨れ数を2回数えた。結果を表2に示す。表2において、〇は膨れ上がりが0個を表し、×は1つ以上の膨れがあった場合を表す。
・ Adhesion evaluation (number of swelling)
A heat conductive sheet was prepared using the heat conductive resin compositions of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 having a length × width × thickness = 5 cm × 5 cm × about 400 μm. This was absorbed at 30 ° C. and 90% humidity for 48 hours, and then immersed in a solder bath at 275 ° C. for 1 minute. The number of swellings after immersion was counted twice. The results are shown in Table 2. In Table 2, 〇 represents 0 swellings, and × represents the case where there is one or more swellings.
実施例1は、熱伝導率10.3W/(m・K)と高い熱伝導性を維持したまま、膨れ数は1回目、2回目ともに0個に抑えることができた。また、実施例2では、熱伝導率10.8W/(m・K)と実施例1より高い熱伝導性で、膨れ数を0個に抑えることができた。また、実施例3では、熱伝導率が11.2W/(m・K)とより一層高い熱伝導率を示し、膨れ数を0個に抑えることができた。以上のことから、実施例1~3は、熱硬化性樹脂、窒化ホウ素粒子、粘土鉱物の複合材全体の密着性を向上させることができ、吸湿状態で半田槽に浸漬させても膨れを抑えることができた。 In Example 1, the number of swellings could be suppressed to 0 in both the first and second times while maintaining a high thermal conductivity of 10.3 W / (m · K). Further, in Example 2, the thermal conductivity was 10.8 W / (m · K), which was higher than that in Example 1, and the number of swellings could be suppressed to 0. Further, in Example 3, the thermal conductivity was 11.2 W / (m · K), which was even higher, and the number of swellings could be suppressed to zero. From the above, in Examples 1 to 3, it is possible to improve the adhesion of the entire composite material of the thermosetting resin, boron nitride particles, and clay mineral, and suppress swelling even when immersed in a solder bath in a moisture-absorbing state. I was able to.
一方、比較例1は、熱伝導率が12.0W/(K・m)と高い値であったが、膨れ数が1回目、2回目のどちらとも1個以上となってしまった。従って、熱硬化性樹脂と窒化ホウ素粒子の密着性は低かった。 On the other hand, in Comparative Example 1, the thermal conductivity was as high as 12.0 W / (Km), but the number of swellings was one or more in both the first and second swellings. Therefore, the adhesion between the thermosetting resin and the boron nitride particles was low.
以上のように本発明に係る樹脂組成物によれば、粘土鉱物を含むことにより、熱硬化性樹脂、窒化ホウ素粒子、粘土鉱物の複合材全体の密着性を向上させることができる、熱伝導シートを得ることができた。 As described above, according to the resin composition according to the present invention, the heat conductive sheet can improve the adhesion of the entire composite material of the thermosetting resin, boron nitride particles, and clay mineral by containing the clay mineral. I was able to get.
1…粘土鉱物
2…層状鉱物
3…棒状鉱物
4…有機変性基
100…金属ベース基板
101…金属基板
102…絶縁層
103…金属層
1 ...
Claims (13)
前記粘土鉱物が、表面修飾粘土鉱物である、熱伝導性樹脂組成物。 The heat conductive resin composition according to claim 1.
A thermally conductive resin composition in which the clay mineral is a surface-modified clay mineral.
前記粘土鉱物が、有機変性粘土鉱物である、熱伝導性樹脂組成物。 The heat conductive resin composition according to claim 1 or 2.
A thermally conductive resin composition in which the clay mineral is an organically modified clay mineral.
前記粘土鉱物が、GARAMITE(登録商標)である、熱伝導性樹脂組成物。 The thermally conductive resin composition according to any one of claims 1 to 3.
A thermally conductive resin composition in which the clay mineral is GARAMITE (registered trademark).
前記熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂、シアネート樹脂、ポリイミド樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、ビスマレイミド樹脂、およびアクリル樹脂の中から選ばれる1種または2種以上を含む、熱伝導性樹脂組成物。 The thermally conductive resin composition according to any one of claims 1 to 4.
The thermosetting resin is selected from among epoxy resin, cyanate resin, polyimide resin, benzoxazine resin, unsaturated polyester resin, phenol resin, phenoxy resin, melamine resin, silicone resin, bismaleimide resin, and acrylic resin. A thermally conductive resin composition comprising a species or two or more.
さらにシランカップリング剤を含む、熱伝導性樹脂組成物。 The thermally conductive resin composition according to any one of claims 1 to 5.
A thermally conductive resin composition further comprising a silane coupling agent.
前記粘土鉱物が棒状鉱物と層状鉱物との混合物である、熱伝導性樹脂組成物。 The thermally conductive resin composition according to any one of claims 1 to 6.
A thermally conductive resin composition in which the clay mineral is a mixture of a rod-shaped mineral and a layered mineral.
前記粘土鉱物の含有量が、前記熱伝導性樹脂組成物の不揮発分100質量%に対して、0.05質量%以上5.0質量%以下である、熱伝導性樹脂組成物。 The thermally conductive resin composition according to any one of claims 1 to 7.
A heat conductive resin composition having a clay mineral content of 0.05% by mass or more and 5.0% by mass or less with respect to 100% by mass of the non-volatile content of the heat conductive resin composition.
以下の熱伝導率試験により測定される、前記熱伝導性シートの熱伝導率が6.0W/(K・m)以上20.0W/(K・m)以下である、熱伝導性シート。
<熱伝導率試験>
前記熱伝導性樹脂組成物を100℃、30分間熱処理することにより膜厚が400μmのBステージ状の熱伝導性シートを作製する。次いで、前記熱伝導性シートを200℃で90分間熱処理して熱伝導性シート硬化物を得る。次いで、レーザーフラッシュ法を用いて前記熱伝導性シート硬化物の厚み方向の熱伝導率を測定する。 The heat conductive sheet according to claim 9.
A thermal conductivity sheet having a thermal conductivity of 6.0 W / (Km) or more and 20.0 W / (Km) or less, as measured by the following thermal conductivity test.
<Thermal conductivity test>
The heat conductive resin composition is heat-treated at 100 ° C. for 30 minutes to prepare a B-stage heat conductive sheet having a film thickness of 400 μm. Next, the heat conductive sheet is heat-treated at 200 ° C. for 90 minutes to obtain a cured product of the heat conductive sheet. Next, the thermal conductivity in the thickness direction of the cured heat conductive sheet is measured by using a laser flash method.
絶縁層と、
金属層と、
をこの順に備え、
前記絶縁層が請求項9乃至12のいずれか1項に記載の熱伝導性シートの硬化物である、金属ベース基板。 With a metal substrate
Insulation layer and
With a metal layer,
In this order,
A metal-based substrate in which the insulating layer is a cured product of the heat conductive sheet according to any one of claims 9 to 12.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020200798A JP2022088777A (en) | 2020-12-03 | 2020-12-03 | Thermally conductive resin composition, thermally conductive sheet, and metal-based substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020200798A JP2022088777A (en) | 2020-12-03 | 2020-12-03 | Thermally conductive resin composition, thermally conductive sheet, and metal-based substrate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022088777A true JP2022088777A (en) | 2022-06-15 |
Family
ID=81988097
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020200798A Pending JP2022088777A (en) | 2020-12-03 | 2020-12-03 | Thermally conductive resin composition, thermally conductive sheet, and metal-based substrate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2022088777A (en) |
-
2020
- 2020-12-03 JP JP2020200798A patent/JP2022088777A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102051272B1 (en) | Multilayer resin sheet, resin sheet laminate, cured multilayer resin sheet and method for producing same, multilayer resin sheet with metal foil, and semiconductor device | |
JP6023474B2 (en) | Thermally conductive insulating sheet, metal base substrate and circuit board, and manufacturing method thereof | |
JP7271176B2 (en) | RESIN MATERIAL, RESIN MATERIAL MANUFACTURING METHOD AND LAMINATED PRODUCT | |
KR102476070B1 (en) | Heat radiation sheet, manufacturing method of heat radiation sheet, and laminate | |
JP6627303B2 (en) | Thermal conductive resin composition, laminate for circuit board, circuit board and semiconductor device | |
JP2012253167A (en) | Thermally conductive insulation sheet, metal base substrate and circuit board | |
WO2013061981A1 (en) | Laminate and method for producing component for power semiconductor modules | |
US20200216659A1 (en) | Resin material, method for producing resin material, and laminate | |
KR102524428B1 (en) | Insulation Sheets and Laminates | |
JPWO2019112048A1 (en) | Laminates and electronic devices | |
KR102463282B1 (en) | Insulating Sheets and Laminates | |
WO2018056205A1 (en) | Method for producing heat dissipation structure | |
JP2022088777A (en) | Thermally conductive resin composition, thermally conductive sheet, and metal-based substrate | |
JP4075268B2 (en) | Circuit board manufacturing method | |
KR102524427B1 (en) | Insulation Sheets and Laminates | |
JP2012188632A (en) | Insulating material, and layered structure | |
JP2012144687A (en) | Resin sheet, metallic foil with resin, substrate material, and component-mounting substrate | |
CN109415570A (en) | Resin material and laminated body | |
WO2024063088A1 (en) | Heat sink-attached circuit board and method for manufacturing heatsink-attached circuit board | |
WO2023002789A1 (en) | Thermosetting resin composition, substrate for power modules, printed wiring board and heat dissipation sheet | |
JP2023048546A (en) | Thermally conductive adhesive sheet |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20231102 |