JP2022057322A - Vacuum heat-insulating panel - Google Patents

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Abstract

To provide a vacuum heat-insulating panel packaged by a heat-insulating holding packaging material which has a sealant layer having a small amount of gas discharge generated from the sealant layer itself, suppresses rise in an atmospheric pressure in an internal depressurized condition inside a vacuum heat-insulating panel due to degradation with time, and suppresses rise of thermal conductivity in a thickness direction of the vacuum heat-insulating panel.SOLUTION: A vacuum heat-insulating panel is composed of a core material for maintaining a shape and a heat-insulating holding packaging material for packaging the core material, in which heat conductivity in a thickness direction of the vacuum heat-insulating panel is 1 mW/mK or more and 35 mW/mK or less, the outer peripheral part of the vacuum heat-insulating panel is sealed with the heat-insulating holding packaging material 2, the heat-insulating holding packaging material 2 has a gas barrier base material layer 3 and a low gas dischargeable sealant layer 4, the low gas dischargeable sealant layer 4 contains a low gas dischargeable resin having heat sealability, and the low gas dischargeable resin has a density of 0.915 g/cm3 or more and 0.935 g/cm3 or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、シーラント層それ自体から発生するガス放出量が少ないシーラント層を有する真空断熱パネル外包材料を用いて作製した真空断熱パネルに関する。 The present invention relates to a vacuum insulating panel manufactured by using a vacuum insulating panel encapsulating material having a sealant layer having a small amount of gas released from the sealant layer itself.

真空断熱パネルは、芯材が配置された内部構造を外包材によって密封した構成であり、真空断熱パネルの内部は、大気圧よりも圧力が非常に低く、真空に近い減圧状態に保持されている。
真空断熱パネルの内部が減圧状態によって熱対流が抑制されているため、真空断熱パネルは良好な厚み方向の断熱性能を発揮することが可能であり、真空断熱パネルの単位厚み当たりの断熱性能は、一般的な発泡断熱材よりも高い。そして、断熱効率が高いことから、真空断熱パネルは、所望の断熱性を確保しつつ、真空断熱パネルの厚みを薄くすることができる。
したがって、真空断熱パネルを用いて断熱容器を作製することによって、断熱容器の軽量化や省スペース化を図ることが可能になる。
しかしながら、真空断熱パネルは、破損または経時劣化によって内部の気圧が上昇して、減圧状態が損なわれた場合には、断熱性能が急激に低下してしまう。
従来、外包材起因の経時劣化による内部気圧の上昇の理由としては、空気が外包材を透過することによる空気の侵入が挙げられ、外包材のガスバリア性を高める為に、外包材に6~15μm程度の厚さの金属アルミニウム箔をガスバリア層として有する積層フィルムが主として用いられてきたり、各種無機物の蒸着膜や塗布膜からなる層をさらに有する積層フィルムが提案されたりしている(特許文献1)が、長期的に安定した断熱性を維持するという点においては不十分であった。
包装材料のシーラント層に合成ゼオライト等の多孔体を含有させてガス成分を吸着することによって包装体内部の真空度を維持する手法も提案されているが(特許文献2)、吸着するガスの種類が限定的であったり、シーラント層を構成している樹脂の耐熱性が低かったり、アウトガス発生量が多かったりして、長期的に安定した断熱効果を維持するという点においては不十分であった。
真空断熱パネルの外部表面に粒径約50μmのセラミックス製中空バルーンを含有する塗膜層を有することによって、セラミック製バルーンによって放射電磁波(太陽光線等)を反射して外部から真空断熱パネル内に伝達する熱量を低減し、且つ真空断熱パネルからの放熱性を高めて、真空断熱パネルから形成された断熱容器内の温度上昇を低減する手法も提案されているが(特許文献3)、真空断熱パネルの断熱性の低下そのものは向上しないことから、長期的に安定した断熱効果を維持することはできなかった。
真空断熱パネルのエッジ部の畳まれた包装材料を溶着することによって、該エッジ部の包装材料に微小な破損孔が発生して空気が真空断熱パネル内に侵入して断熱性が低下することを抑制する手法が提案されているが(特許文献4)、破損孔以外の要因を解決するものではなく、長期的に安定した断熱効果を維持するという点においては不十分であった。
The vacuum insulation panel has a structure in which the internal structure in which the core material is arranged is sealed with an outer packaging material, and the pressure inside the vacuum insulation panel is much lower than the atmospheric pressure, and is maintained in a reduced pressure state close to vacuum. ..
Since heat convection is suppressed by the decompression state inside the vacuum insulation panel, the vacuum insulation panel can exhibit good insulation performance in the thickness direction, and the insulation performance per unit thickness of the vacuum insulation panel is Higher than general foam insulation. Further, since the heat insulating efficiency is high, the vacuum heat insulating panel can reduce the thickness of the vacuum heat insulating panel while ensuring the desired heat insulating property.
Therefore, by manufacturing the heat insulating container using the vacuum heat insulating panel, it is possible to reduce the weight and space of the heat insulating container.
However, when the internal air pressure of the vacuum heat insulating panel rises due to breakage or deterioration over time and the reduced pressure state is impaired, the heat insulating performance of the vacuum heat insulating panel deteriorates sharply.
Conventionally, the reason for the increase in internal air pressure due to deterioration over time due to the outer packaging material is the intrusion of air due to the permeation of air through the outer packaging material. A laminated film having a metal aluminum foil of a certain thickness as a gas barrier layer has been mainly used, and a laminated film further having a layer composed of a vapor-deposited film or a coating film of various inorganic substances has been proposed (Patent Document 1). However, it was insufficient in terms of maintaining stable heat insulating properties over the long term.
A method of maintaining the degree of vacuum inside the packaging by adsorbing a gas component by containing a porous body such as synthetic zeolite in the sealant layer of the packaging material has also been proposed (Patent Document 2), but the type of gas to be adsorbed. However, it was insufficient in terms of maintaining a stable heat insulating effect for a long period of time due to the limited heat resistance of the resin constituting the sealant layer and the large amount of outgas generated. ..
By having a coating layer containing a ceramic hollow balloon having a particle size of about 50 μm on the outer surface of the vacuum heat insulating panel, the radiated electromagnetic waves (sun rays, etc.) are reflected by the ceramic balloon and transmitted from the outside into the vacuum heat insulating panel. A method has also been proposed in which the amount of heat generated is reduced and the heat dissipation from the vacuum heat insulating panel is improved to reduce the temperature rise in the heat insulating container formed from the vacuum heat insulating panel (Patent Document 3). Since the deterioration of the heat insulating property itself does not improve, it was not possible to maintain a stable heat insulating effect for a long period of time.
By welding the folded packaging material at the edge of the vacuum insulation panel, it is possible that minute break holes are generated in the packaging material at the edge and air enters the vacuum insulation panel to reduce the insulation. Although a method for suppressing it has been proposed (Patent Document 4), it does not solve factors other than the damaged hole and is insufficient in terms of maintaining a stable heat insulating effect for a long period of time.

特開2008-087176号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-08717 特開2018-189220号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-189220 特開2003-106760号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-106760 特開2006-329419号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-329419

本発明は、シーラント層それ自体から発生するガス放出量が少ないシーラント層を有し、経時劣化による真空断熱パネル内部の内部減圧状態の気圧上昇を抑制して、真空断熱パネルの厚さ方向の熱伝導率の上昇を抑制する断熱性保持包装材料によって包装された真空断熱パネルを提供することを課題とする。 The present invention has a sealant layer in which the amount of gas released from the sealant layer itself is small, suppresses an increase in atmospheric pressure in the internal depressurized state inside the vacuum heat insulating panel due to deterioration over time, and heat in the thickness direction of the vacuum heat insulating panel. An object of the present invention is to provide a vacuum heat insulating panel packaged with a heat insulating retaining packaging material that suppresses an increase in conductivity.

本発明者らは、種々検討の結果、少なくとも、ガス放出量が少ない断熱性保持包装材料によって包装された真空断熱パネルが、上記の目的を達成することを見出した。
すなわち、本発明は、以下の点を特徴とする。
1.形状を維持する為の芯材と、該芯材を包装する断熱性保持包装材料とからなる真空断熱パネルであって、
真空断熱パネルの厚さ方向の熱伝導率は、1mW/mK以上、35mW/mK以下であり、
該真空断熱パネルの外周部は該断熱性保持包装材料が封止されており、
該断熱性保持包装材料は、シーラント層それ自体から発生するガス量が少なく、
該ガスは、炭化水素類、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、エステル類、アルコール類、二酸化炭素、水蒸気からなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせであり、
該断熱性保持包装材料は、ガスバリア基材層と、低ガス放出性シーラント層とを有し、
該低ガス放出性シーラント層は、ヒートシール性を有する低ガス放出性樹脂を含有し、
該低ガス放出性樹脂は、密度が0.915g/cm3以上、0.935g/cm3以下であることを特徴とする、真空断熱パネル。
2.前記低ガス放出性樹脂の含有量が、全低ガス放出性シーラント層中に、70質量%以上、99.9質量%以下であることを特徴とする、上記1に記載の真空断熱パネル。
3.前記低ガス放出性樹脂は、ポリエチレン系樹脂であることを特徴とする、上記1又は2に記載の真空断熱パネル。
4.前記低ガス放出性樹脂からなるフィルムに含まれる、溶出性の全有機体炭素(TOC)の濃度は、1.5ppm以上、250ppm以下であることを特徴とする、上記1~3のいずれかに記載の真空断熱パネル。
5.前記低ガス放出性樹脂が、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン及び線状低密度ポリエチレンからなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせであることを特徴とする、上記1~4のいずれかに記載の真空断熱パネル。
6.前記低ガス放出性シーラント層中に、ガス吸着剤をさらに含有し、
前記低ガス放出性シーラント層は、それ自体から発生するガス及び前記低ガス放出性シーラント層が接する空間からのガスを吸着し、
該ガスは、炭化水素類、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、エステル類、アルコール類、二酸化炭素、水蒸気からなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせであることを特徴とする、
上記1~5のいずれかに記載の真空断熱パネル。
7.前記ガス吸着剤が、疎水性ゼオライト、モレキュラーシーブ、金属有機構造体(MOF)、活性炭からなる群から選ばれる1種または2種以上の組み合わせを含むことを特徴とする、上記6に記載の真空断熱パネル。
8.前記低ガス放出性シーラント層が、ガス吸着層と、ヒートシール層とを有し、
該ガス吸着層は、前記低ガス放出性樹脂と、前記ガス吸着剤を含有する層であり、
該ヒートシール層は、前記低ガス放出性樹脂を含有し、ヒートシール性を有する層であり、
該低ガス放出性シーラント層の少なくとも片側の最外層は、ヒートシール層であり、
該ガス吸着層に含有される前記低ガス放出性樹脂と、該ヒートシール層に含有される前記低ガス放出性樹脂とは、同一または異なっていることを特徴とする、
上記1~7のいずれかに記載の真空断熱パネル。
9.前記低ガス放出性シーラント層は、酸化防止剤をさらに含有することを特徴とする、上記1~8のいずれかに記載の真空断熱パネル。
10.前記酸化防止剤の含有量が、全低ガス放出性シーラント層中に、0.005質量%以上、0.5質量%以下であることを特徴とする、上記9に記載の真空断熱パネル。
11.前記酸化防止剤が、前記ガス吸着層及び/または前記ヒートシール層に含有されており、
前記ガス吸着層に含有される前記酸化防止剤と、前記ヒートシール層に含有される前記酸化防止剤とは、同一または異なっていることを特徴とする、
上記9または10に記載の真空断熱パネル。
12.前記真空断熱パネルの、100℃環境下で1000時間保管後の、厚さ方向の熱伝導率の上昇は、0mW/mK以上、7.0mW/mK以下であることを特徴とする、上記1~11のいずれかに記載の真空断熱パネル。
13.前記低ガス放出性シーラント層が、低ガス放出性シーラントフィルムからなる層であることを特徴とする、上記1~12のいずれかに記載の真空断熱パネル。
14.前記低ガス放出性シーラントフィルムは、空気中で90℃60分間加熱した際に放出される炭素数16の有機ガス成分量の、前記低ガス放出性シーラントフィルム単位体積当たりの量が、10μg/cm3以上、1000μg/cm3以下であることを特徴とする、上記13に記載の真空断熱パネル。
15.上記1~14のいずれかに記載の真空断熱パネルを用いて作製した、真空断熱容器。
As a result of various studies, the present inventors have found that at least a vacuum heat insulating panel packaged with a heat insulating retaining packaging material having a low outgassing amount achieves the above-mentioned object.
That is, the present invention is characterized by the following points.
1. 1. A vacuum heat insulating panel composed of a core material for maintaining the shape and a heat insulating holding packaging material for packaging the core material.
The thermal conductivity in the thickness direction of the vacuum insulation panel is 1 mW / mK or more and 35 mW / mK or less.
The outer peripheral portion of the vacuum heat insulating panel is sealed with the heat insulating retaining packaging material.
The heat insulating retaining packaging material has a small amount of gas generated from the sealant layer itself.
The gas is one or a combination of two or more selected from the group consisting of hydrocarbons, aldehydes, ketones, carboxylic acids, esters, alcohols, carbon dioxide, and water vapor.
The heat insulating retaining packaging material has a gas barrier base material layer and an outgassing sealant layer.
The low outgassing sealant layer contains a low outgassing resin having a heat-sealing property.
The low outgassing resin is a vacuum heat insulating panel having a density of 0.915 g / cm 3 or more and 0.935 g / cm 3 or less.
2. 2. The vacuum insulation panel according to 1 above, wherein the content of the low outgassing resin is 70% by mass or more and 99.9% by mass or less in the total low outgassing sealant layer.
3. 3. The vacuum heat insulating panel according to 1 or 2 above, wherein the low outgassing resin is a polyethylene-based resin.
4. Any of the above 1 to 3, wherein the concentration of the elution total organic carbon (TOC) contained in the film made of the low outgassing resin is 1.5 ppm or more and 250 ppm or less. Described vacuum insulation panel.
5. Any of the above 1 to 4, wherein the low gas-releasing resin is one or a combination of two or more selected from the group consisting of medium-density polyethylene, low-density polyethylene, and linear low-density polyethylene. The vacuum insulation panel described in.
6. The low gas-releasing sealant layer further contains a gas adsorbent to further contain the gas adsorbent.
The low outgassing sealant layer adsorbs the gas generated from itself and the gas from the space in contact with the low outgassing sealant layer.
The gas is characterized by being one or a combination of two or more selected from the group consisting of hydrocarbons, aldehydes, ketones, carboxylic acids, esters, alcohols, carbon dioxide and water vapor.
The vacuum insulation panel according to any one of 1 to 5 above.
7. 6. The vacuum according to 6 above, wherein the gas adsorbent comprises one or a combination of two or more selected from the group consisting of hydrophobic zeolites, molecular sieves, metal-organic frameworks (MOFs), and activated carbon. Insulated panel.
8. The low gas-releasing sealant layer has a gas adsorption layer and a heat seal layer.
The gas adsorbent layer is a layer containing the low gas-releasing resin and the gas adsorbent.
The heat-sealing layer is a layer containing the low gas-releasing resin and having a heat-sealing property.
The outermost layer on at least one side of the low outgassing sealant layer is a heat seal layer.
The low gas-releasing resin contained in the gas adsorption layer and the low gas-releasing resin contained in the heat-sealed layer are the same or different.
The vacuum insulation panel according to any one of 1 to 7 above.
9. The vacuum insulation panel according to any one of 1 to 8 above, wherein the low outgassing sealant layer further contains an antioxidant.
10. 9. The vacuum insulation panel according to 9 above, wherein the content of the antioxidant is 0.005% by mass or more and 0.5% by mass or less in the total low gas-releasing sealant layer.
11. The antioxidant is contained in the gas adsorption layer and / or the heat seal layer.
The antioxidant contained in the gas adsorption layer and the antioxidant contained in the heat seal layer are the same or different from each other.
The vacuum insulation panel according to 9 or 10 above.
12. The increase in thermal conductivity in the thickness direction of the vacuum heat insulating panel after storage in an environment of 100 ° C. for 1000 hours is 0 mW / mK or more and 7.0 mW / mK or less. 11. The vacuum insulation panel according to any one of 11.
13. The vacuum insulating panel according to any one of 1 to 12, wherein the low gas-releasing sealant layer is a layer made of a low-gas-releasing sealant film.
14. In the low outgassing sealant film, the amount of the organic gas component having 16 carbon atoms released when heated in air at 90 ° C. for 60 minutes is 10 μg / cm per unit volume of the low outgassing sealant film. 3. The vacuum insulation panel according to 13 above, characterized in that it is 3 or more and 1000 μg / cm 3 or less.
15. A vacuum insulation container manufactured by using the vacuum insulation panel according to any one of 1 to 14 above.

本発明により、シーラント層それ自体から発生するガス放出量が少ないシーラント層を有し、経時劣化による真空断熱パネル内部の内部減圧状態の気圧上昇を抑制して、真空断熱パネルの厚さ方向の熱伝導率の上昇を抑制する真空断熱パネル外包材用の断熱性保持積層体、断熱性保持包装材料、断熱性保持包装体を得ることができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, the sealant layer has a sealant layer in which the amount of gas released from the sealant layer itself is small, and the pressure rise in the internal depressurized state inside the vacuum heat insulating panel due to deterioration over time is suppressed, and heat in the thickness direction of the vacuum heat insulating panel is suppressed. It is possible to obtain a heat insulating holding laminate, a heat insulating holding packaging material, and a heat insulating holding package for a vacuum heat insulating panel outer packaging material that suppresses an increase in conductivity.

本発明の断熱性保持積層体または断熱性保持包装材料の層構成の一例を示す概略的断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the layer structure of the heat insulating holding laminate or the heat insulating holding packaging material of this invention. 本発明の断熱性保持積層体または断熱性保持包装材料の層構成の、別態様の一例を示す概略的断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of another aspect of the layer structure of the heat insulating holding laminate or the heat insulating holding packaging material of this invention. 本発明の断熱性保持積層体または断熱性保持包装材料の層構成の、また別態様の一例を示す概略的断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of another aspect of the layer structure of the heat insulating holding laminate or the heat insulating holding packaging material of this invention. 本発明の断熱性保持包装体(真空断熱パネル)の構成の一例を示す概略的断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the structure of the heat insulating holding package (vacuum heat insulating panel) of this invention.

各図においては、解り易くする為に、部材の大きさや比率を変更または誇張して記載することがある。また、見易さの為に説明上不要な部分や繰り返しとなる符号は省略することがある。
また、各図においては省略されているが、各層の間に接着層を設けることもできる。
さらに、必要に応じて、各層間の接着強度(密着強度)を強固にするために、各層の積層面に、コロナ放電処理、オゾン処理、プラズマ処理、グロー放電処理、サンドブラスト処理等、などの物理的な表面処理や、化学薬品を用いた酸化処理などの化学的な表面処理を予め施しておくこともできる。
In each figure, the size and ratio of the members may be changed or exaggerated for the sake of clarity. In addition, for the sake of readability, unnecessary parts for explanation and repeated codes may be omitted.
Further, although omitted in each figure, an adhesive layer may be provided between the layers.
Furthermore, if necessary, in order to strengthen the adhesive strength (adhesion strength) between the layers, the laminated surface of each layer is physically subjected to corona discharge treatment, ozone treatment, plasma treatment, glow discharge treatment, sandblast treatment, etc. It is also possible to perform a chemical surface treatment such as a specific surface treatment or an oxidation treatment using a chemical in advance.

本発明の真空断熱パネルについて、以下に更に詳しく説明する。具体例を示しながら説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
なお、本発明においては、フィルムとシートとは、同義として扱う。
The vacuum insulation panel of the present invention will be described in more detail below. The present invention will be described with reference to specific examples, but the present invention is not limited thereto.
In the present invention, the film and the sheet are treated as synonymous.

≪真空断熱パネル≫
本発明の真空断熱パネルは、形状を保つための芯材からなる内部構造材を、断熱性保持包装材料によって外包して密封した構造を有しており、板状の形状を有するものが好ましい。
真空断熱パネルの厚さ方向の断熱性能は、真空断熱パネルの内部を真空に近い減圧状態に保持し、気体による伝熱を限りなく抑制することによって高められている。
≪Vacuum insulation panel≫
The vacuum heat insulating panel of the present invention has a structure in which an internal structural material made of a core material for maintaining the shape is enclosed and sealed with a heat insulating holding packaging material, and a plate-shaped panel is preferable.
The heat insulating performance in the thickness direction of the vacuum heat insulating panel is enhanced by keeping the inside of the vacuum heat insulating panel in a reduced pressure state close to vacuum and suppressing heat transfer by gas as much as possible.

真空断熱パネル内部の気圧は、用途にもよるが、0.1Pa以上、100Pa以下が好ましい。上記範囲未満にしても断熱性はさほど向上せず、芯材及び断熱性保持包装材料への負荷が大きい為に実用性に欠け易く、上記範囲よりも大きいと断熱性能が不十分になり易い。長期間に亘って上記範囲に内部気圧が維持されることによって、長期間に亘る厚さ方向の断熱性能の維持が得られる。 The air pressure inside the vacuum insulation panel is preferably 0.1 Pa or more and 100 Pa or less, although it depends on the application. Even if it is less than the above range, the heat insulating property is not improved so much, and the load on the core material and the heat insulating property-retaining packaging material is large, so that it is liable to lack practicality. By maintaining the internal air pressure in the above range for a long period of time, it is possible to maintain the heat insulating performance in the thickness direction for a long period of time.

真空断熱パネル内部に外包材自身から放出されるガスは、外包材のシーラント層から放出される量が多く、外包材のヒートシール等による接合部分界面はヒートシール層が存在し、また、真空断熱パネル内部空間にはシーラント層が接している。
よって、本発明の断熱性保持積層体のシーラント層は、低ガス放出性シーラント層であり、それ自体から発生するガス量が少なく、ヒートシール性に優れ、低ガス放出性シーラント層が接する空間からのガスを吸着することによって、接合部分界面を伝わって真空断熱パネル内部に侵入するガスや、バリア基材層を透過して来たガスを吸着して真空断熱パネル内部への到達を抑制し、また、真空断熱パネル内部に存在するガスを吸着して、真空断熱パネル内部の気圧の上昇を抑制し、減圧状態を維持して、断熱性を維持することができる。
A large amount of gas released from the outer packaging material itself inside the vacuum insulation panel is released from the sealant layer of the outer packaging material, and there is a heat seal layer at the interface of the joint portion due to heat sealing of the outer packaging material, and vacuum insulation is also provided. The sealant layer is in contact with the space inside the panel.
Therefore, the sealant layer of the heat insulating retaining laminate of the present invention is a low outgassing sealant layer, the amount of gas generated from itself is small, the heat sealability is excellent, and the space in contact with the low outgassing sealant layer By adsorbing the gas, the gas that penetrates the inside of the vacuum insulation panel along the interface of the joint and the gas that has penetrated the barrier base material layer is adsorbed to suppress the arrival inside the vacuum insulation panel. Further, it is possible to adsorb the gas existing inside the vacuum heat insulating panel, suppress the rise in the air pressure inside the vacuum heat insulating panel, maintain the reduced pressure state, and maintain the heat insulating property.

真空断熱パネルの厚さ方向の熱伝導率は、用途にもよるが、1mW/mK以上、35mW/mK以下であることが好ましく、1.2mW/mK以上、33mW/mK以下であることがより好ましい。上記範囲未満のものを安定的に得ることは困難であり、上記範囲を超えるものは断熱性能が不十分になり易い。 The thermal conductivity in the thickness direction of the vacuum heat insulating panel is preferably 1 mW / mK or more and 35 mW / mK or less, and more preferably 1.2 mW / mK or more and 33 mW / mK or less, although it depends on the application. preferable. It is difficult to stably obtain a product less than the above range, and a product exceeding the above range tends to have insufficient heat insulating performance.

真空断熱パネルにおける断熱維持性は、例えば、厚さ方向の熱伝導率が15mW/mKである真空断熱パネルの、100℃環境下で1000時間保管した後の熱伝導率の上昇が、0mW/mK以上、7.0mW/mK以下であることが好ましく、0mW/mK以上、6.5mW/mK以下であることがより好ましい。熱伝導率の上昇が無いことが最も好ましく、上記範囲を超えるものは長期間に亘る実用性に劣り易い。 The heat insulation sustainability of the vacuum heat insulating panel is, for example, the increase in the thermal conductivity of the vacuum heat insulating panel having a thermal conductivity of 15 mW / mK in the thickness direction after storage in a 100 ° C. environment for 1000 hours is 0 mW / mK. As mentioned above, it is preferably 7.0 mW / mK or less, and more preferably 0 mW / mK or more and 6.5 mW / mK or less. Most preferably, there is no increase in thermal conductivity, and those exceeding the above range tend to be inferior in practicality over a long period of time.

真空断熱パネル内部の減圧状態及び厚さ方向の断熱性能を維持する為には、真空断熱パネル内部の気体分子の増加を抑制することが必要であり、その為には、真空断熱パネルの外包材である断熱性保持包装材料自体から放出される気体分子の量、大気から断熱性保持包装材料の厚さ方向に透過して真空断熱パネル内部に侵入する気体分子の量、断熱性保持包装材料のヒートシール等による接合部分界面を伝わって真空断熱パネル内部に侵入する大気の気体分子の量等を抑制する必要がある。 In order to maintain the decompression state inside the vacuum insulation panel and the insulation performance in the thickness direction, it is necessary to suppress the increase of gas molecules inside the vacuum insulation panel, and for that purpose, the outer packaging material of the vacuum insulation panel. The amount of gas molecules released from the heat insulating holding packaging material itself, the amount of gas molecules that permeate from the atmosphere in the thickness direction of the heat insulating holding packaging material and invade the inside of the vacuum heat insulating panel, the heat insulating holding packaging material It is necessary to suppress the amount of gas molecules in the atmosphere that invade the inside of the vacuum insulation panel through the interface of the joint portion by heat sealing or the like.

真空断熱パネル内部に断熱性保持包装材料自体から放出されるガスは、断熱性保持包装材料の低ガス放出性シーラント層から放出される量が多く、断熱性保持包装材料のヒートシール等による接合部分界面は低ガス放出性シーラント層が存在し、また、真空断熱パネル内部空間には低ガス放出性シーラント層が接している。
よって、断熱性保持包装材料の低ガス放出性シーラント層は、それ自体から発生するガス量が少なく、ヒートシール性に優れ、低ガス放出性シーラント層が接する空間のガスを吸着し、ヒートシール接合部分界面を伝わって真空断熱パネル内部に侵入するガス及びバリア基材層を透過して来たガスを遮蔽又は吸着して真空断熱パネル内部への到達を抑制し、真空断熱パネル内部の気圧の上昇を抑制し、減圧状態及び厚さ方向の断熱状態を維持することができる。
A large amount of gas released from the heat insulating holding packaging material itself inside the vacuum heat insulating panel is released from the low outgassing sealant layer of the heat insulating holding packaging material, and the joint portion of the heat insulating holding packaging material by heat sealing or the like. A low outgassing sealant layer is present at the interface, and the low outgassing sealant layer is in contact with the internal space of the vacuum insulation panel.
Therefore, the low outgassing sealant layer of the heat insulating retaining packaging material has a small amount of gas generated from itself, has excellent heat sealability, adsorbs gas in the space in contact with the low outgassing sealant layer, and heat seals. The gas that penetrates the inside of the vacuum insulation panel through the partial interface and the gas that has passed through the barrier base material layer are shielded or adsorbed to suppress the arrival inside the vacuum insulation panel, and the pressure inside the vacuum insulation panel rises. Can be suppressed, and the depressurized state and the heat insulating state in the thickness direction can be maintained.

真空断熱パネルの大きさに特に制限は無く、従来の真空断熱パネルと同等の大きさであってよい。例えば、携帯サイズのクーラーボックスや保温ボックス用のものや、建屋サイズの低温コンテナ、保温庫、温室等用のもの、さらにはもっと大きいものにまで適用可能である。 The size of the vacuum heat insulating panel is not particularly limited and may be the same size as the conventional vacuum heat insulating panel. For example, it can be applied to a portable-sized cooler box and a heat insulating box, a building-sized low-temperature container, a heat insulating storage, a greenhouse, and even a larger one.

断熱性保持包装材料による密封は、該断熱性保持包装材料が有する低ガス放出性シーラント層をヒートシールすることによって行われている。
上記において、ヒートシールの方法としては、例えば、バーシール、回転ロールシール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シール、超音波シール等の方法で行うことができる。
Sealing with the heat-insulating retention packaging material is performed by heat-sealing the low outgassing sealant layer contained in the heat-insulating retention packaging material.
In the above, as the heat sealing method, for example, a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, an ultrasonic seal, or the like can be used.

[芯材]
本発明の真空断熱パネルの芯材は、真空断熱パネルが形状を保つための内部構造部材であり、該芯材には、特に限定は無く、一般的な真空断熱パネル用の芯材を用いることができる。
例えば、硬質ポリウレタンフォームや発泡スチロール等の連続気泡硬質プラスチック発泡体、グラスウール等の無機繊維マット等が挙げられる。無機繊維マットは圧縮成形されていてもよい。また、これらを組み合わせた積層体であってもよい。
[Core material]
The core material of the vacuum heat insulating panel of the present invention is an internal structural member for maintaining the shape of the vacuum heat insulating panel, and the core material is not particularly limited, and a core material for a general vacuum heat insulating panel is used. Can be done.
Examples thereof include open cell rigid plastic foams such as rigid polyurethane foam and styrofoam, and inorganic fiber mats such as glass wool. The inorganic fiber mat may be compression molded. Further, it may be a laminated body in which these are combined.

≪断熱性保持積層体≫
本発明の断熱性保持積層体は、真空断熱パネルの外包材に用いられる積層体であり、ガスバリア基材層と、低ガス放出性シーラント層とを有する層構成である。
低ガス放出性シーラント層は、低ガス放出性樹脂を含有し、該低ガス放出性樹脂は、ヒートシール性を有する低ガス放出性樹脂であることが好ましい。
そして、低ガス放出性シーラント層は必要に応じて、ガス吸着剤と、吸湿剤とを更に含有することができる。
≪Heat insulation retaining laminate≫
The heat insulating retaining laminate of the present invention is a laminated body used as an outer packaging material of a vacuum heat insulating panel, and has a layer structure having a gas barrier base material layer and an outgassing sealant layer.
The low outgassing sealant layer contains a low outgassing resin, and the low outgassing resin is preferably a low outgassing resin having a heat seal property.
The low gas-releasing sealant layer can further contain a gas adsorbent and a hygroscopic agent, if necessary.

真空断熱パネル内部は、用途にもよるが、0.1~100Paに減圧されていることが多い。本発明の断熱性保持積層体によって包装された真空断熱パネルは、長期間に亘って、内部の気圧が減圧状態に維持されることによって厚さ方向の断熱性が維持される。
真空断熱パネルにおける断熱維持性は、例えば、真空断熱パネルの100℃環境下で1000時間保管後の熱伝導率の上昇が、0mW/mK以上、7.0mW/mK以下であることが好ましく、0mW/mK以上、6.5mW/mK以下であることがより好ましい。熱伝導率の上昇が無いことが最も好ましく、上記範囲を超えるものは長期間に亘る実用性に劣り易い。
The inside of the vacuum insulation panel is often decompressed to 0.1 to 100 Pa, depending on the application. The vacuum heat insulating panel packaged by the heat insulating holding laminate of the present invention maintains the heat insulating property in the thickness direction by maintaining the internal air pressure in a reduced pressure state for a long period of time.
Regarding the heat insulation sustainability of the vacuum heat insulating panel, for example, the increase in thermal conductivity of the vacuum heat insulating panel after storage in a 100 ° C environment for 1000 hours is preferably 0 mW / mK or more and 7.0 mW / mK or less, preferably 0 mW. It is more preferably / mK or more and 6.5 mW / mK or less. Most preferably, there is no increase in thermal conductivity, and those exceeding the above range tend to be inferior in practicality over a long period of time.

真空断熱パネル内部の減圧状態を維持する為には、真空断熱パネル内部の気体分子の増加を抑制することが必要であり、その為には、真空断熱パネルの外包材自身から放出されるガスの量、外包材の厚さ方向に透過して真空断熱パネル内部に侵入するガスの量、外包材のヒートシール等による接合部分界面を伝わって真空断熱パネル内部に侵入するガスの量等を抑制する必要がある。 In order to maintain the decompression state inside the vacuum insulation panel, it is necessary to suppress the increase of gas molecules inside the vacuum insulation panel, and for that purpose, the gas released from the outer packaging material of the vacuum insulation panel itself. Suppresses the amount of gas that permeates in the thickness direction of the outer packaging material and enters the inside of the vacuum insulation panel, the amount of gas that penetrates the inside of the vacuum insulation panel along the interface of the joint due to heat sealing of the outer packaging material, etc. There is a need.

真空断熱パネル内部に外包材自身から放出されるガスは、外包材のシーラント層から放出される量が多く、外包材のヒートシール等による接合部分界面はヒートシール層が存在し、また、真空断熱パネル内部空間にはシーラント層が接している。
よって、本発明の断熱性保持積層体のシーラント層は、低ガス放出性シーラント層であり、それ自体から発生するガス量が少なく、ヒートシール性に優れる。
シーラント層がガス吸着剤及び/または吸湿剤を含有している場合には、シーラント層が接する空間からのガスを吸着することによって、接合部分界面を伝わって真空断熱パネル内部に侵入するガスや、バリア基材層を透過して来たガスを吸着して真空断熱パネル内部への到達を抑制し、また、真空断熱パネル内部に存在するガスを吸着して、真空断熱パネル内部の気圧の上昇を抑制し、減圧状態を維持して、断熱性を維持することができる。
A large amount of gas released from the outer packaging material itself inside the vacuum insulation panel is released from the sealant layer of the outer packaging material, and there is a heat seal layer at the interface of the joint portion due to heat sealing of the outer packaging material, and vacuum insulation is also provided. The sealant layer is in contact with the space inside the panel.
Therefore, the sealant layer of the heat insulating retaining laminate of the present invention is a low outgassing sealant layer, the amount of gas generated from itself is small, and the heat sealability is excellent.
When the sealant layer contains a gas adsorbent and / or a hygroscopic agent, by adsorbing the gas from the space in contact with the sealant layer, the gas that penetrates the inside of the vacuum heat insulating panel along the interface of the joint portion or Adsorbs the gas that has permeated the barrier base material layer to suppress the arrival inside the vacuum insulation panel, and also adsorbs the gas existing inside the vacuum insulation panel to increase the pressure inside the vacuum insulation panel. It can be suppressed, the decompression state can be maintained, and the heat insulating property can be maintained.

本発明の断熱性保持積層体のガス放出性は、断熱性保持積層体を構成する低ガス放出性シーラント層のガス放出性が支配的要因であり、低ガス放出性シーラント層を形成する低ガス放出性シーラントフィルムのガス放出性を測定することで知ることができる。
例えば、低ガス放出性シーラントフィルムを50mm×10mmにカットして得た2枚の短冊状フィルムを試験管に入れて90℃で60分間加熱し、試験管中の空気を採取して、ガスクロマトグラフィーによって、採取した空気中の各炭素数の有機ガス成分の濃度を測定し、低ガス放出性シーラントフィルムが加熱時に放出した有機ガス成分量を算出することができる。
有機ガス成分の中でも、特にC16ガス成分(炭素数16の有機ガス成分)の量が、低ガス放出性シーラントフィルムから形成されたシーラント層を有する断熱性保持包装材料を用いて作製された真空断熱パネルにおける熱伝導性と相関性が高い。
The outgassing property of the heat insulating retaining laminate of the present invention is dominated by the outgassing property of the low gas releasing sealant layer constituting the heat insulating retaining laminate, and the low gas forming the low gas releasing sealant layer is formed. It can be known by measuring the outgassing property of the outgassing sealant film.
For example, two strip-shaped films obtained by cutting a low gas-releasing sealant film into a size of 50 mm × 10 mm are placed in a test tube and heated at 90 ° C. for 60 minutes, and the air in the test tube is collected for gas chromatography. By chromatography, the concentration of the organic gas component of each carbon number in the collected air can be measured, and the amount of the organic gas component released by the low outgassing sealant film during heating can be calculated.
Among the organic gas components, especially the amount of the C16 gas component (organic gas component having 16 carbon atoms) is vacuum insulation made by using a heat insulating holding packaging material having a sealant layer formed from a low outgassing sealant film. Highly correlated with thermal conductivity in the panel.

上記の方法で求められる、低ガス放出性シーラントフィルムを加熱した際に放出されるC16ガス成分の、低ガス放出性シーラントフィルム単位体積当たりの量は、10μg/cm3以上、1000μg/cm3以下であることが好ましい。 The amount of the C16 gas component released when the low outgassing sealant film is heated, which is obtained by the above method, per unit volume of the low outgassing sealant film is 10 μg / cm 3 or more and 1000 μg / cm 3 or less. Is preferable.

本発明の断熱性保持積層体のガス吸着性は、断熱性保持積層体を、例えば、10cm×10cmにカットしてガスサンプリングバックに入れ、さらに濃度が既知の吸着対象ガスを充填して、2日放置後のガス濃度変化を検知管によって測定することができる。 The gas adsorptivity of the heat-insulating holding laminate of the present invention is as follows. The change in gas concentration after being left for a day can be measured by a detector tube.

(吸着対象ガス)
本発明において吸着対象となるガス成分は、主に、本発明の断熱性保持積層体(特に低ガス放出性シーラント層)が元から含有しているガス成分や、ヒートシール等の加熱や、UVまたはEB等の照射によって断熱性保持積層体中の樹脂が分解することで発生した樹脂分解物からなるガス成分や、大気中に存在するガス成分である。
ここで、断熱性保持積層体が元から含有しているガス成分としては、断熱性保持積層体(特に低ガス放出性シーラント層)を構成する原材料が含有していたガス成分、および断熱性保持積層体を形成する際の熱履歴等によって発生したガス成分や、断熱性保持積層体をヒートシールする際に発生したガス成分等が挙げられる。
(Gas to be adsorbed)
The gas component to be adsorbed in the present invention is mainly the gas component originally contained in the heat insulating retaining laminate (particularly the low gas-releasing sealant layer) of the present invention, heating such as heat sealing, and UV. Alternatively, it is a gas component composed of a resin decomposition product generated by decomposing the resin in the heat insulating retaining laminate by irradiation with EB or the like, or a gas component existing in the atmosphere.
Here, as the gas components originally contained in the heat insulating holding laminate, the gas components contained in the raw materials constituting the heat insulating holding laminate (particularly the low outgassing sealant layer) and the heat insulating holding. Examples thereof include gas components generated by heat history when forming a laminate, gas components generated when heat-sealing a heat insulating retaining laminate, and the like.

具体的な吸着対象ガスとしては、低分子量の有機物、二酸化炭素、窒素、酸素、水(水蒸気)が挙げられる。
有機物は、断熱性保持積層体に由来するガス成分であり、ガス成分の化合物としては、炭素数が1~16のものが多く、種類としては炭化水素類が最も多く、他に、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類等が挙げられる。
Specific examples of the gas to be adsorbed include low molecular weight organic substances, carbon dioxide, nitrogen, oxygen, and water (water vapor).
The organic substance is a gas component derived from the heat insulating retaining laminate, and most of the compounds of the gas component have 1 to 16 carbon atoms, and the most common type is hydrocarbons, as well as alcohols and the like. Examples thereof include aldehydes, ketones and carboxylic acids.

炭化水素類の具体的な化合物としては、プロパン、プロペン、ブタン、イソブタン、2-メチルブタン、ブテン、イソブテン、2-メチルペンタン、3-エチルペンタン、2,2-ジメチルペンタン、3,3-ジメチルペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、2-メチルヘキサン、3-メチルヘキサン、2,5-ジメチルヘキサン、ヘプタン、2-メチルヘプタン、3-メチルヘプタン、3-エチルヘプタン、2,2,4,6,6-ペンタメチルヘプタン、3-エチル-3-メチルヘプタン、3-メチルヘプテン、オクタン、2-メチルオクタン、4-エチルオクタン、ノナン、3-メチルノナン、デカン、ドデカン等が挙げられる。 Specific compounds of hydrocarbons include propane, propene, butane, isobutane, 2-methylbutane, butene, isobutane, 2-methylpentane, 3-ethylpentane, 2,2-dimethylpentane, 3,3-dimethylpentane. , Hexane, cyclohexane, 2-methylhexane, 3-methylhexane, 2,5-dimethylhexane, heptane, 2-methylheptane, 3-methylheptane, 3-ethylheptane, 2,2,4,6,6-pentane Examples thereof include methylheptan, 3-ethyl-3-methylheptan, 3-methylheptane, octane, 2-methyloctane, 4-ethyloctane, nonane, 3-methylnonane, decane, and dodecane.

アルコール類の具体的な化合物としては、2-メチル-2-プロパノール、2-メチルプロパノール、エタノール、1-プロパノール等が挙げられる。 Specific examples of the alcohols include 2-methyl-2-propanol, 2-methylpropanol, ethanol, 1-propanol and the like.

アルデヒド類の具体的な化合物としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、2-メチルプロパナール、3-メチルブタナール等が挙げられる。 Specific examples of the aldehydes include formaldehyde, acetaldehyde, 2-methylpropanal, 3-methylbutanal and the like.

ケトン類の具体的な化合物としては、アセトン、MEK、MIBK、3,3-ジメチルー2-ブタノン等が挙げられる。 Specific examples of the ketones include acetone, MEK, MIBK, 3,3-dimethyl-2-butanone and the like.

カルボン酸類の具体的な化合物としては、酢酸、イソ吉草酸、2-メチルプロパン酸、2,2-ジメチルプロパン酸等が挙げられる。 Specific examples of the carboxylic acids include acetic acid, isovaleric acid, 2-methylpropionic acid, 2,2-dimethylpropionic acid and the like.

エステル類の具体例な化合物として、酢酸エチル、酢酸ブチル、等が挙げられる。 Specific examples of the esters include ethyl acetate, butyl acetate, and the like.

二酸化炭素、窒素、酸素、水蒸気は大気成分に由来し、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、アルコール類は低ガス放出性フィルムまたは断熱性保持積層体の熱履歴及び大気成分に由来し、エステル類は接着層に由来する。 Carbon dioxide, nitrogen, oxygen, and water vapor are derived from atmospheric components, and aldehydes, ketones, carboxylic acids, and alcohols are derived from the thermal history and atmospheric components of low outgassing films or heat insulating laminates, and esters. Is derived from the adhesive layer.

<ガスバリア基材層>
本発明におけるガスバリア基材層とは、ガスバリア性を有する基材層のことであり、ガスバリア性と基材としての性質とを有するガスバリア性樹脂フィルム等の1層で構成されていてもよく、ガスバリア層と基材層とを含む多層構成であってもよい。
また、ガスバリア基材層を構成する各層間または他層との間には、接着性を向上させるために、接着層を設けたり、各層の表面に、必要に応じて、予め、所望の表面処理層を設けたりすることができる。
<Gas barrier base material layer>
The gas barrier base material layer in the present invention is a base material layer having gas barrier properties, and may be composed of one layer such as a gas barrier resin film having gas barrier properties and properties as a base material, and may be a gas barrier. It may have a multi-layer structure including a layer and a base material layer.
Further, in order to improve the adhesiveness, an adhesive layer is provided between each layer constituting the gas barrier base material layer or between the other layers, and the surface of each layer is subjected to a desired surface treatment in advance, if necessary. Layers can be provided.

例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガスまたは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等を用いたる酸化処理等の前処理を任意に施して、コロナ処理層、オゾン処理層、プラズマ処理層、酸化処理層等を形成して設けることができる。 For example, pretreatment such as corona discharge treatment, ozone treatment, low temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, etc. is arbitrarily performed to corona treatment layer, ozone treatment, etc. A layer, a plasma treatment layer, an oxidation treatment layer and the like can be formed and provided.

或いは、各層の表面に、プライマーコート剤層、アンダーコート剤層、アンカーコート剤層、接着層、蒸着アンカーコート剤層等の各種コート剤層を任意に形成して、表面処理層とすることもできる。
上記の各種コート剤層には、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンもしくはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂またはその共重合体ないし変性樹脂、セルロース系樹脂等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を用いることができる。
ガスバリア基材層の厚さは、5μm以上、100μm以下が好ましく、7μm以上、75μm以下がより好ましい。上記範囲未満であると、剛性および/またはガスバリア性が不十分になる虞があり、上記範囲を超えると、剛性が強くなり過ぎて作業性が低下する虞がある。
Alternatively, various coating agent layers such as a primer coating agent layer, an undercoating agent layer, an anchor coating agent layer, an adhesive layer, and a vapor-deposited anchor coating agent layer may be arbitrarily formed on the surface of each layer to form a surface treatment layer. can.
The above-mentioned various coating agent layers include, for example, polyester-based resin, polyamide-based resin, polyurethane-based resin, epoxy-based resin, phenol-based resin, (meth) acrylic-based resin, polyvinyl acetate-based resin, and polyolefins such as polyethylene or polypropylene. A resin composition containing a based resin, a copolymer thereof, a modified resin, a cellulose-based resin, or the like as the main component of the vehicle can be used.
The thickness of the gas barrier base material layer is preferably 5 μm or more and 100 μm or less, and more preferably 7 μm or more and 75 μm or less. If it is less than the above range, the rigidity and / or the gas barrier property may be insufficient, and if it exceeds the above range, the rigidity may become too strong and the workability may be deteriorated.

[基材層]
基材層には、樹脂フィルムや紙材等を用いることができ、1層で構成されていてもよく、組成が同一または異なる2層以上を含む多層構成であってもよい。
[Base layer]
As the base material layer, a resin film, a paper material, or the like can be used, and it may be composed of one layer, or may be a multilayer structure including two or more layers having the same or different composition.

基材層の厚さは、素材にもよるが、樹脂フィルムの場合には、好ましくは15μm以上、60μm以下、より好ましくは7μm以上、45μm以下である。
基材層に用いられる樹脂フィルムには、熱可塑性樹脂をフィルム化したものを用いることができ、化学的または物理的強度に優れ、金属や金属酸化物の蒸着膜を形成する条件に耐え、それらの蒸着膜の特性を損なうことなく良好に保持し得ることができる熱可塑性樹脂であることが好ましい。
The thickness of the base material layer depends on the material, but in the case of a resin film, it is preferably 15 μm or more and 60 μm or less, more preferably 7 μm or more and 45 μm or less.
As the resin film used for the base material layer, a film made of a thermoplastic resin can be used, which has excellent chemical or physical strength and can withstand the conditions for forming a vapor-deposited film of a metal or a metal oxide. It is preferable that the thermoplastic resin can be held well without impairing the characteristics of the vapor-deposited film.

このような樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂またはポリプロピレン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル-スチレン共重合体(AS樹脂)、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体(ABS樹脂)、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタール系樹脂、セルロース系樹脂等の各種の樹脂が挙げられる。
本発明においては、樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂が好ましく、特に、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ナイロン、ポリプロピレン(PP)が好ましい。
Examples of such resins include polyolefin resins such as polyethylene resins or polypropylene resins, cyclic polyolefin resins, polystyrene resins, acrylonitrile-styrene copolymers (AS resins), and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers. (ABS resin), poly (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, polyethylene terephthalate, polyester resin such as polyethylene naphthalate, polyamide resin such as various nylons, polyurethane resin, acetal resin, cellulose resin, etc. Various resins can be mentioned.
In the present invention, as the resin, polyester-based resin, polyamide-based resin, and polyolefin-based resin are preferable, and polyethylene terephthalate (PET), nylon, and polypropylene (PP) are particularly preferable.

本発明において、基材層に用いられる熱可塑性樹脂は、各種製膜法でフィルム化することができる。
例えば、1種の樹脂を使用して、押し出し法、キャスト成形法、Tダイ法、切削法、インフレーション法等の製膜化法を用いて製膜する方法、2種以上の樹脂を使用して多層共押し出し製膜する方法、2種以上の樹脂を製膜する前に混合して上記製膜法で製膜する方法、等が挙げられる。さらに、テンター方式やチューブラー方式等を利用して1軸または2軸方向に延伸したフィルムとすることができる。
In the present invention, the thermoplastic resin used for the base material layer can be formed into a film by various film forming methods.
For example, a method of forming a film using one kind of resin and a film forming method such as an extrusion method, a cast molding method, a T-die method, a cutting method, and an inflation method, using two or more kinds of resins. Examples thereof include a method of forming a multi-layer co-extruded film, a method of mixing two or more kinds of resins before forming a film, and a method of forming a film by the above-mentioned film forming method. Further, a film stretched in a uniaxial or biaxial direction can be obtained by using a tenter method, a tubular method, or the like.

または、他の樹脂フィルム上に、1種または2種以上の樹脂を、塗布及び乾燥してコーティングしたり、Tダイ法等によって溶融した樹脂を積層したりすることもできる。
本発明においては、樹脂フィルムとしては、二軸延伸PETフィルム、二軸延伸ナイロンフィルム、二軸延伸PPフィルムまたはシートが好ましく用いられる。
Alternatively, one type or two or more types of resin may be applied, dried and coated on another resin film, or a resin melted by a T-die method or the like may be laminated.
In the present invention, as the resin film, a biaxially stretched PET film, a biaxially stretched nylon film, a biaxially stretched PP film or a sheet is preferably used.

なお、樹脂フィルムには、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量としては、極微量から数十%まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。
上記において、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、改質用樹脂等を使用することができる。
In addition, when the resin film is formed into a film, for example, the film's processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant property, slipperiness, releasability, flame retardancy, and resistance Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving and modifying mold properties, electrical properties, strength, etc., and the amount of addition thereof is from a very small amount to several tens of percent. It can be arbitrarily added depending on the above.
In the above, as general additives, for example, lubricants, cross-linking agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, fillers, reinforcing agents, antistatic agents, pigments, reforming resins and the like are used. be able to.

[ガスバリア層]
ガスバリア層は、本発明の断熱性保持積層体を用いて作製した真空断熱パネルにおいて、真空断熱パネルの外部から内部へと、大気中のガスが断熱性保持積層体を透過して来るのを抑制する層である。
ガスバリア層には、ガスバリア性樹脂フィルム、金属箔、金属または金属酸化物蒸着層付き樹脂フィルム、ガスバリア性樹脂塗膜からなる群から選ばれる1種または2種以上の組み合わせを用いることができる。
[Gas barrier layer]
The gas barrier layer suppresses the permeation of atmospheric gas through the heat insulating laminate from the outside to the inside of the vacuum heat insulating panel in the vacuum heat insulating panel produced by using the heat insulating laminated body of the present invention. It is a layer to do.
As the gas barrier layer, one or a combination of two or more selected from the group consisting of a gas barrier resin film, a metal foil, a resin film with a metal or metal oxide vapor deposition layer, and a gas barrier resin coating film can be used.

ガスバリア性樹脂フィルムとしては、例えば、PET、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレン・ビニルアルコール共重合体等の樹脂からなる樹脂フィルムが好ましい。 As the gas barrier resin film, for example, a resin film made of a resin such as PET, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyamide, polyimide, polyvinyl alcohol, or an ethylene / vinyl alcohol copolymer is preferable.

金属箔としては、厚さが3μm以上、15μm以下のアルミニウム箔が好ましい。 As the metal foil, an aluminum foil having a thickness of 3 μm or more and 15 μm or less is preferable.

金属または金属酸化物蒸着層付き樹脂フィルムとしては、アルミニウム蒸着膜、シリカ蒸着膜、酸化アルミニウム蒸着膜を、上記の基材樹脂フィルムの少なくともいずれか一方の面上に形成したものが好ましい。商業的にも入手可能な酸化アルミニウム蒸着膜付き樹脂フィルムとしては、例えば、PVD法によりアルミナを片面に蒸着したPETフィルムである、大日本印刷株式会社製のアルミナ蒸着IB-PET-PIR(厚さ12μm)、シリカ蒸着IB-ON-UB(厚さ15μm)が挙げられる。 As the resin film with a metal or metal oxide vapor-deposited layer, it is preferable that an aluminum vapor-deposited film, a silica vapor-deposited film, and an aluminum oxide vapor-deposited film are formed on at least one surface of the above-mentioned base material resin film. As a commercially available resin film with an aluminum oxide thin-film film, for example, an alumina-deposited IB-PET-PIR (thickness) manufactured by Dainippon Printing Co., Ltd., which is a PET film in which alumina is vapor-deposited on one side by the PVD method. 12 μm), silica-deposited IB-ON-UB (thickness 15 μm), and the like.

ガスバリア性樹脂塗膜としては、金属アルコキシドと水溶性高分子とから形成されたゾルゲル法加水分解重縮合物を含有する塗膜が好ましい。 As the gas barrier resin coating film, a coating film containing a sol-gel process hydrolyzed polycondensate formed from a metal alkoxide and a water-soluble polymer is preferable.

ガスバリア層用の金属箔、金属または金属酸化物蒸着層付き樹脂フィルムは、ドライラミネート接着剤を用いて、他の層と接着することができる。
あるいは、金属または金属酸化物蒸着層付き樹脂フィルムの樹脂フィルムに、基材層用の樹脂フィルムを用いることで、基材層への積層を省略することもできる。
The metal leaf for the gas barrier layer, the resin film with the metal or metal oxide thin-film deposition layer can be adhered to other layers by using a dry laminate adhesive.
Alternatively, by using the resin film for the base material layer as the resin film of the resin film with the metal or metal oxide vapor-deposited layer, the lamination to the base material layer can be omitted.

<低ガス放出性シーラント層>
低ガス放出性シーラント層は、ヒートシール性を有する低ガス放出性樹脂を含有する層であり、ヒートシール性を有し、ガス放出性が低い。
低ガス放出性シーラント層がガス吸着剤を更に含有した場合には、ガスを吸着することができる。
低ガス放出性シーラント層は、1層の単層構成であってよく、2層以上の多層構成であってもよい。
例えば、低ガス放出性樹脂とガス吸着剤とを含有するガス吸着層と、低ガス放出性樹脂を含有するヒートシール層とから構成されていてもよく、2つのヒートシール層がガス吸着層を挟んだ3層構成であってもよい。
<Low outgassing sealant layer>
The low gas-releasing sealant layer is a layer containing a low-gas-releasing resin having a heat-sealing property, has a heat-sealing property, and has a low outgassing property.
When the low gas-releasing sealant layer further contains a gas adsorbent, it can adsorb gas.
The low outgassing sealant layer may have a single-layer structure of one layer, or may have a multi-layer structure of two or more layers.
For example, it may be composed of a gas adsorption layer containing an outgassing resin and a gas adsorbent, and a heat seal layer containing an outgassing resin, and the two heat seal layers form a gas adsorption layer. It may have a three-layer structure sandwiched between them.

全低ガス放出性シーラント層中の低ガス放出性樹脂の含有量は、70質量%以上、99.9質量%以下が好ましく、80質量%以上、99.9質量%以下がより好ましい。上記範囲よりも少ないと、低ガス放出性の低ガス放出性が不十分になる虞があり、上記範囲よりも多くすることは、諸物性や作業性の面でバランスを採り難くなり易い反面、低ガス放出性はさほど向上しない。 The content of the low outgassing resin in the total low outgassing sealant layer is preferably 70% by mass or more and 99.9% by mass or less, and more preferably 80% by mass or more and 99.9% by mass or less. If it is less than the above range, the low outgassing property may be insufficient, and if it is more than the above range, it tends to be difficult to balance in terms of various physical properties and workability. Low outgassing does not improve much.

そして、ガス吸着剤の含有量は、ガス吸着剤を含有する層中に、0.1質量%以上、30質量%以下が好ましく、0.5質量%以上、25質量%以下がより好ましい。上記範囲よりも少ないと、ガス吸着効果が不十分になる虞があり、上記範囲よりも多いと、製膜性が悪化する虞がある。
ここで、ガス吸着剤を含有する層とは、低ガス放出性シーラント層が1層のみで構成されている場合には、低ガス放出性シーラント層全体を指し、低ガス放出性シーラント層がガス吸着層およびヒートシール層等を有する多層構成の場合には、例えば、ガス吸着層を指し、さらに、ガス吸着層がガス吸着非吸湿層と吸湿層とからなる場合には、例えば、ガス吸着非吸湿層を指す。
The content of the gas adsorbent is preferably 0.1% by mass or more and 30% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or more and 25% by mass or less in the layer containing the gas adsorbent. If it is less than the above range, the gas adsorption effect may be insufficient, and if it is more than the above range, the film forming property may be deteriorated.
Here, the layer containing the gas adsorbent refers to the entire low gas release sealant layer when the low gas release sealant layer is composed of only one layer, and the low gas release sealant layer is a gas. In the case of a multi-layer structure having an adsorption layer, a heat seal layer, etc., it refers to, for example, an outgassing layer, and when the gas adsorption layer is composed of an outgassing non-moisture absorbing layer and an outgassing layer, for example, gas adsorption non-existing. Refers to the moisture absorption layer.

低ガス放出性シーラント層がガス吸着層およびヒートシール層等を有する多層構成の場合には、ヒートシール性、及びラミネート性を高める為に、前記低ガス放出性シーラント層の少なくとも片側の最外層は、ヒートシール層であることが好ましい。
また、ガス吸着層に含有される低ガス放出性樹脂と、ヒートシール層に含有される低ガス放出性樹脂とは、同一でもよく、異なっていてもよい。
When the low gas-releasing sealant layer has a multi-layer structure having a gas adsorption layer, a heat-sealing layer, etc., in order to improve the heat-sealing property and the laminating property, at least one outermost layer of the low gas-releasing sealant layer is used. , It is preferable that it is a heat seal layer.
Further, the low gas outgassing resin contained in the gas adsorption layer and the low outgassing resin contained in the heat seal layer may be the same or different.

真空断熱パネル内部において、低ガス放出性シーラント層は、真空断熱パネル内部の空間に接し、ヒートシール部の接合界面に存在することから、低ガス放出性シーラント層の厚さを調節して、ガス吸着性や低ガス放出性を調節することができる。
低ガス放出性シーラント層の厚さは、良好なヒートシール性とガス吸着性と低ガス放出性とのバランスを有する為に、25μm以上、150μm以下が好ましく、30μm以上、100μm以下がより好ましい。上記範囲よりも薄いとヒートシール性および/またはガス吸着性が不十分になる虞があり、上記範囲よりも厚いと低ガス放出性が劣る虞がある。
Inside the vacuum insulation panel, the low outgassing sealant layer is in contact with the space inside the vacuum insulation panel and exists at the joint interface of the heat seal portion. Therefore, the thickness of the low outgassing sealant layer is adjusted to adjust the gas. Adsorption and low outgassing can be adjusted.
The thickness of the low gas-releasing sealant layer is preferably 25 μm or more and 150 μm or less, and more preferably 30 μm or more and 100 μm or less, in order to have a good balance between heat-sealing property, gas adsorption property and low gas-releasing property. If it is thinner than the above range, the heat sealability and / or the gas adsorption property may be insufficient, and if it is thicker than the above range, the low gas release property may be inferior.

そして、低ガス放出性シーラント層は、スリップ剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤、溶剤、その他の添加剤をさらに少量含むことができる。
本発明の低ガス放出性シーラント層は、高温環境下による樹脂劣化由来の放出性ガスの発生を抑制する為に、酸化防止剤を含有することが好ましい。逆に、高温時にガス放出量を上昇させてしまいそうな添加剤の使用は制限することが好ましい。
The low outgassing sealant layer can further contain a small amount of slip agent, antiblocking agent, antioxidant, solvent and other additives.
The low gas-releasing sealant layer of the present invention preferably contains an antioxidant in order to suppress the generation of outgassing gas derived from resin deterioration in a high temperature environment. On the contrary, it is preferable to limit the use of additives that are likely to increase outgassing at high temperatures.

[ガス吸着層]
ガス吸着層は、ガス吸着剤を含有する層であり、高いガス吸着性を有する層であり、低ガス放出性を維持する為にバインダー樹脂として低ガス放出性樹脂をさらに含有することが好ましい。しかしながら、ガス吸着性と低ガス放出性を大きく損なわない範囲で、他の樹脂や、酸化防止剤等の各種添加剤を含有することができる。
低ガス放出性シーラント層中にガス吸着層は、1層または組成が同一あるいは異なる2層以上が含まれていてもよい。
[Gas adsorption layer]
The gas adsorbent layer is a layer containing a gas adsorbent, has a high outgassing property, and preferably further contains an outgassing resin as a binder resin in order to maintain low outgassing property. However, other resins and various additives such as antioxidants can be contained within a range that does not significantly impair gas adsorption and outgassing.
The low gas-releasing sealant layer may contain one layer or two or more layers having the same or different composition as the gas adsorption layer.

ガス吸着層の厚さは、良好なガス吸着性を示す為に、5μm以上、80μm以下が好ましく、7μm以上、75μm以下がより好ましい。上記範囲よりも薄いとガス吸着性が不十分になる虞があり、上記範囲よりも厚くても、ガス吸着性はさほど向上せず、低ガス放出性シーラント層の剛性が強くなり過ぎて作業性が低下する虞がある。 The thickness of the gas adsorption layer is preferably 5 μm or more and 80 μm or less, and more preferably 7 μm or more and 75 μm or less in order to show good gas adsorption property. If it is thinner than the above range, the gas adsorption property may be insufficient, and even if it is thicker than the above range, the gas adsorption property is not improved so much, and the rigidity of the low gas release sealant layer becomes too strong for workability. May decrease.

[ヒートシール層]
ヒートシール層は低ガス放出性樹脂を含有する層であり、高いヒートシール性を有する層であり、高いヒートシール性を有する為に、ガス吸着剤や吸湿剤を含有しないことが好ましい。
そして、高いヒートシール性と低ガス放出性とを両立する為に、含有されるヒートシール性樹脂は、低ガス放出性樹脂であることが好ましい。
しかしながら、ヒートシール性と低ガス放出性を大きく損なわない範囲で、ガス吸着剤や、他の樹脂や、酸化防止剤等の各種添加剤を含有することができる。
低ガス放出性シーラント層中にヒートシール層は、1層または組成が同一あるいは異なる2層以上が含まれていてもよい。
[Heat seal layer]
The heat-sealing layer is a layer containing a low outgassing resin, has a high heat-sealing property, and preferably does not contain a gas adsorbent or a hygroscopic agent in order to have a high heat-sealing property.
The heat-sealing resin contained is preferably a low-gas-releasing resin in order to achieve both high heat-sealing property and low outgassing property.
However, various additives such as gas adsorbents, other resins, and antioxidants can be contained within a range that does not significantly impair the heat sealability and low gas release property.
The low gas-releasing sealant layer may contain one layer or two or more layers having the same or different composition.

ヒートシール層の厚さは、良好なヒートシール性を示す為に、3μm以上、30μm以下が好ましく、5μm以上、25μm以下がより好ましい。上記範囲よりも薄いとヒートシール性が不十分になる虞があり、上記範囲よりも厚くても、ヒートシール性はさほど向上せず、低ガス放出性シーラント層の剛性が弱くなり過ぎて作業性が低下する虞がある。 The thickness of the heat seal layer is preferably 3 μm or more and 30 μm or less, and more preferably 5 μm or more and 25 μm or less in order to show good heat sealability. If it is thinner than the above range, the heat sealability may be insufficient, and even if it is thicker than the above range, the heat sealability does not improve so much, and the rigidity of the low outgassing sealant layer becomes too weak for workability. May decrease.

[低ガス放出性樹脂]
低ガス放出性樹脂とは、ガスの放出量が少ない樹脂のことであり、ガス放出量は樹脂の形状や熱履歴等によって変化する。
ヒートシール性を有する低ガス放出性樹脂を真空断熱パネル内部空間に接する低ガス放出性シーラント層に含有させることによって、低ガス放出性シーラント層にヒートシール性を付与し、放出されるガス量を低減して、真空断熱パネル内部の気圧上昇を抑制することができる。
低ガス放出性樹脂のガス放出量は、低ガス放出性樹脂に含有される溶出性の全有機体炭素(TOC=Total Organic Carbon)濃度と相関が高い。TOCは、水中の酸化され得る有機物(有機炭素体)全量の濃度を炭素量の濃度で示したものであり、代表的な水質指標の一つとして用いられているものであって、JIS K0805(全有機体炭素(TOC)自動計測器)等で規格化されている。
[Low outgassing resin]
The low outgassing resin is a resin having a small amount of gas released, and the amount of gas released varies depending on the shape of the resin, the heat history, and the like.
By containing a low outgassing resin having heat sealability in the low outgassing sealant layer in contact with the internal space of the vacuum heat insulating panel, the low outgassing sealant layer is imparted with heat sealability and the amount of gas released is increased. It can be reduced to suppress the rise in pressure inside the vacuum insulation panel.
The outgassing amount of the low outgassing resin has a high correlation with the concentration of elution total organic carbon (TOC) contained in the low outgassing resin. TOC indicates the concentration of the total amount of organic substances (organic carbon bodies) that can be oxidized in water by the concentration of carbon content, and is used as one of the typical water quality indexes. It is standardized by all-organic carbon (TOC) automatic measuring instrument) and the like.

本発明における低ガス放出性樹脂からなるフィルムに含まれる溶出性の全有機体炭素(TOC)の濃度は、1.5ppm以上、250ppm以下が好ましく、5ppm以上、200ppm以下が好ましい。上記範囲よりも少ないものを準備することは困難であり、且つ実用上の効果に有意差を示し難い。上記範囲よりも多いと、低ガス放出性樹脂のガス放出性が不十分になるおそれがある。 The concentration of elution total organic carbon (TOC) contained in the film made of the low outgassing resin in the present invention is preferably 1.5 ppm or more and 250 ppm or less, and preferably 5 ppm or more and 200 ppm or less. It is difficult to prepare less than the above range, and it is difficult to show a significant difference in practical effect. If it is more than the above range, the outgassing property of the low outgassing resin may be insufficient.

ここで、単体原料としての低ガス放出性樹脂に関する溶出性のTOCの濃度を、原料ペレット等の状態ではなく、フィルム化された状態で測定する理由は、低ガス放出性樹脂は、低ガス放出性シーラント層形成等の為にフィルム化される際に、様々な熱履歴等を与えられてTOCの溶出量を増加させてしまうことがあるからである。 Here, the reason why the concentration of the elution TOC of the low outgassing resin as a single raw material is measured not in the state of raw material pellets or the like but in the filmed state is that the low outgassing resin releases low gas. This is because when the film is formed to form a sex sealant layer or the like, various thermal histories or the like may be given to increase the elution amount of TOC.

上記の低ガス放出性樹脂からなるフィルムに含まれる溶出性の全有機体炭素(TOC)の濃度は、例えば、本発明における低ガス放出性樹脂からなるフィルムで作製されたパウチ内に、充填水として蒸留水を充填して、有機炭素体を溶出させて、充填水のTOC濃度を測定し、充填前の充填水のTOC濃度をブランクとして差し引いてTOC濃度の増加分を算出し、さらに、低ガス放出性樹脂からなるフィルムに含有されていた溶出性のTOC濃度を算出する。 The concentration of the elution total organic carbon (TOC) contained in the film made of the low gas-releasing resin described above is, for example, the filling water in the pouch made of the film made of the low gas-releasing resin in the present invention. The TOC concentration of the filled water is measured by filling with distilled water and elution of the organic carbon body, and the TOC concentration of the filled water before filling is subtracted as a blank to calculate the increase in the TOC concentration. The elution TOC concentration contained in the film made of the gas-releasing resin is calculated.

充填水のTOC濃度の増加分は、0.01ppm以上、1.5ppm以下であることが好ましく、0.02ppm以上、1.45ppm以下であることがより好ましく、0.025ppm以上、1.4ppm以下であることが更に好ましい。上記範囲よりも少ないものを準備することは困難であり、且つ実用上の効果に有意差を示し難い。上記範囲よりも多いと、低ガス放出性樹脂の低ガス放出性が不十分になるおそれがある。コストと性能の両立の観点から、上記の範囲であることが好ましい。 The increase in the TOC concentration of the filled water is preferably 0.01 ppm or more and 1.5 ppm or less, more preferably 0.02 ppm or more and 1.45 ppm or less, and 0.025 ppm or more and 1.4 ppm or less. Is more preferable. It is difficult to prepare less than the above range, and it is difficult to show a significant difference in practical effect. If it is more than the above range, the low outgassing property of the low outgassing resin may be insufficient. From the viewpoint of achieving both cost and performance, the above range is preferable.

さらに具体的な条件としては、用途にもよるが、充填時の充填水の温度を40℃~80℃、保管時の温度を25℃~50℃、保管期間を数日~4週間とし、充填水のTOC濃度を全有機体炭素計やHS-GCで測定することが好ましい。 As more specific conditions, although it depends on the application, the temperature of the filling water at the time of filling is 40 ° C to 80 ° C, the temperature at the time of storage is 25 ° C to 50 ° C, and the storage period is several days to 4 weeks. It is preferable to measure the TOC concentration of water with a total organic carbon meter or HS-GC.

本発明においては、低ガス放出性樹脂からなる樹脂フィルムに含まれる溶出性のTOC濃度は、低ガス放出性樹脂からなる樹脂フィルムを用いて作製された内寸15cm×44cmのパウチに、充填水として65℃1000gの蒸留水(高速液体クロマトグラフィー用蒸留水、純正化学(株)社製)を充填及び封止して、35℃2週間保管後に、該充填水のTOC濃度をTOC-L全有機体炭素計((株)島津製作所社製)で測定することを標準方法として、低ガス放出性樹脂からなる樹脂フィルムに含まれる溶出性のTOC濃度を算出することが好ましい。 In the present invention, the elution TOC concentration contained in the resin film made of the low gas-releasing resin is the filling water in a pouch having an inner size of 15 cm × 44 cm made by using the resin film made of the low gas-releasing resin. After filling and sealing with 1000 g of distilled water at 65 ° C (distilled water for high-speed liquid chromatography, manufactured by Genuine Chemical Co., Ltd.) and storing at 35 ° C for 2 weeks, the TOC concentration of the filled water is adjusted to TOC-L. It is preferable to calculate the elution TOC concentration contained in the resin film made of a low gas-releasing resin by using an organic carbon meter (manufactured by Shimadzu Corporation) as a standard method.

例えば、サイズ15cm×44cm×50μm厚のパウチと、1000gの充填水を用いた場合には、下記の様に、充填水中のTOCの増加濃度から、低ガス放出性樹脂からなるフィルム中に含まれる溶出性のTOCの濃度Cが算出される。
充填水(蒸留水)重量:W1=1000[g]
低ガス放出性樹脂からなるフィルムの密度:S[g/cm3
パウチサイズ:15cm×44cm×50μm厚
パウチ重量:W2=15×44×50×10-4×2×S=6.6×S[g]
低ガス放出性樹脂からなるフィルム中に含まれる溶出性のTOC濃度:C[ppm]
充填水中のTOC濃度の増加分:X[ppm]
とすると、
低ガス放出性樹脂からなるフィルム中に含まれる溶出性のTOCの全重量=C×W2[g]
これがW1[g]の水に溶出するので、
X=C×W2/W1=C×6.6×S×10-3[ppm]
の関係になり、低ガス放出性樹脂からなるフィルム中に含まれる溶出性のTOC濃度Cは下記式から算出される。
C=X/(6.6×S×10-3)[ppm]
例えば、パウチを構成する低ガス放出性樹脂からなるフィルムの密度Sが0.92[g/cm3]、充填水のTOC濃度の増加分Xが0.01[ppm]の場合には、
C=0.01/(6.6×0.92×10-3)=1.64[ppm]
のように算出される。
For example, when a pouch having a size of 15 cm × 44 cm × 50 μm and 1000 g of filled water is used, it is contained in a film made of a low outgassing resin due to the increased concentration of TOC in the filled water as shown below. The elution TOC concentration C is calculated.
Filled water (distilled water) weight: W1 = 1000 [g]
Density of film made of low outgassing resin: S [g / cm 3 ]
Pouch size: 15 cm x 44 cm x 50 μm thickness Pouch weight: W2 = 15 x 44 x 50 x 10 -4 x 2 x S = 6.6 x S [g]
Elution TOC concentration contained in a film made of low outgassing resin: C [ppm]
Increase in TOC concentration in filled water: X [ppm]
Then
Total weight of elution TOC contained in the film made of low outgassing resin = C × W2 [g]
Since this elutes in W1 [g] water,
X = C × W2 / W1 = C × 6.6 × S × 10 -3 [ppm]
The elution TOC concentration C contained in the film made of a low outgassing resin is calculated from the following formula.
C = X / (6.6 x S x 10 -3 ) [ppm]
For example, when the density S of the film made of the low outgassing resin constituting the pouch is 0.92 [g / cm 3 ] and the increase X of the TOC concentration of the filled water is 0.01 [ppm],
C = 0.01 / (6.6 × 0.92 × 10 -3 ) = 1.64 [ppm]
It is calculated as.

低ガス放出性ポリエチレン系樹脂の密度は、0.915g/cm3以上、0.935g/cm3以下が好ましく、0.919g/cm3以上、0.933g/cm3以下がより好ましい。密度が上記範囲であるポリエチレン系樹脂は、有機物のガス放出量を低くし得る傾向にある。 The density of the low outgassing polyethylene resin is preferably 0.915 g / cm 3 or more and 0.935 g / cm 3 or less, and more preferably 0.919 g / cm 3 or more and 0.933 g / cm 3 or less. Polyethylene resins having a density in the above range tend to reduce the amount of organic gas released.

低ガス放出性ポリエチレン系樹脂のMFR(メルトフローレート)は、0.2g/10分以上、10g/10分以下が好ましく、0.5g/10分以上、7g/10分以下が好ましい。MFRが上記範囲であれば、他の樹脂やガス吸着剤と混合されても、良好なMFRを維持し、良好な製膜性や接着性を示すことができる。 The MFR (melt flow rate) of the low outgassing polyethylene resin is preferably 0.2 g / 10 minutes or more, 10 g / 10 minutes or less, and preferably 0.5 g / 10 minutes or more and 7 g / 10 minutes or less. As long as the MFR is within the above range, good MFR can be maintained and good film-forming property and adhesiveness can be exhibited even when mixed with other resins or gas adsorbents.

低ガス放出性樹脂としては、ヒートシール性に優れ、UVまたはEB照射や加熱に対して耐性があって分解され難い性質があることから、ポリエチレン系樹脂(低ガス放出性ポリエチレン系樹脂)が好ましい。
低ガス放出性ポリエチレン系樹脂は、元々含有している放出性のガス量が少なく、且つUVまたはEB照射や加熱に対して耐性があって分解され難いことによって、ガス放出量を少なくすることができる。
As the low outgassing resin, a polyethylene resin (low outgassing polyethylene resin) is preferable because it has excellent heat-sealing properties, is resistant to UV or EB irradiation and heating, and is not easily decomposed. ..
The low outgassing polyethylene resin originally contains a small amount of outgassing gas, is resistant to UV or EB irradiation and heating, and is difficult to be decomposed, so that the amount of outgassing can be reduced. can.

低ガス放出性ポリエチレン系樹脂のポリエチレン種の具体例としては、低密度ポリエチレン(LDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、高密度ポリエチレン(HDPE)、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン(LLDPE)、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-アクリル酸エチル共重合体、エチレン-アクリル酸共重合体、エチレン-メタクリル酸共重合体、エチレン-メチルメタクリル酸共重合体、エチレン-プロピレン共重合体等の低ガス放出化されたもの及びそれらの樹脂の混合物が挙げられるが、これらの樹脂に限定されない。 Specific examples of polyethylene types of low gas-releasing polyethylene-based resin include low-density polyethylene (LDPE), medium-density polyethylene (MDPE), high-density polyethylene (HDPE), and linear (linear) low-density polyethylene (LLDPE). , Ethethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-methylmethacrylic acid copolymer, ethylene-propylene copolymer, etc. Examples include, but are not limited to, low gas-released polyethylenes and mixtures of their resins.

上記の中でも、MDPE、LDPEおよびLLDPEからなる群から選ばれる1種または2種以上の組み合わせであることが好ましい。
また、LLDPEは、C4-LLDPE、C6-LLDPE、C8-LLDPEからなる群から選ばれる1種または2種以上の組み合わせであることが好ましく、C6-LLDPEがより好ましい。
Among the above, one or a combination of two or more selected from the group consisting of MDPE, LDPE and LLDPE is preferable.
Further, the LLDPE is preferably one or a combination of two or more selected from the group consisting of C4-LLDPE, C6-LLDPE and C8-LLDPE, and C6-LLDPE is more preferable.

ここで、C4-LLDPEは、エチレンと1-ブテンとの共重合体からなる直鎖状低密度ポリエチレンであり、C6-LLDPEは、エチレンと1-ヘキセンおよび/または4-メチル-1-ペンテンとの共重合体からなる直鎖状低密度ポリエチレンであり、C8-LLDPEは、エチレンと1-オクテンとの共重合体からなる直鎖状低密度ポリエチレンである。
それぞれの分子構造は、エチレン由来のLLDPEの主鎖に、それぞれ、1-ブテン、1-ヘキセンおよび/または4-メチル-1-ペンテン、1-オクテン由来の、炭素数がそれぞれ、4個、6個、8個の側鎖が存在する分子構造を有する。
Here, C4-LLDPE is a linear low-density polyethylene composed of a copolymer of ethylene and 1-butene, and C6-LLDPE is composed of ethylene and 1-hexene and / or 4-methyl-1-pentene. It is a linear low-density polyethylene made of a copolymer of ethylene, and C8-LLDPE is a linear low-density polyethylene made of a copolymer of ethylene and 1-octene.
Each molecular structure has 4 and 6 carbon atoms derived from 1-butene, 1-hexene and / or 4-methyl-1-pentene and 1-octene in the main chain of LLDPE derived from ethylene, respectively. It has a molecular structure in which 8 or 8 side chains are present.

樹脂に含有される放出性ガス量を低く抑える為には、例えば、樹脂を製造する際に、未反応原料残存量や低分子量生成物や副生成物の量を低減することや、重合触媒を除去することが有効である。具体的には、原料純度を向上したり、反応温度や圧力等の条件を精密に制御したり、蒸留や洗浄によって未反応原料や低分子量生成物や副生成物や重合触媒を除去したり、高温のままで空気中の酸素に触れることによる酸化を防止したりする方法が挙げられる。
他の方法としては、製造された樹脂をペレット化やフィルム化する際に、放出性ガス量を増加させてしまいそうな添加剤の使用を制限し、高温による酸化を防止することが挙げられる。具体的な添加剤としては、滑剤、酸化防止剤、ブロッキング防止剤、溶剤、その他が挙げられる。
In order to keep the amount of release gas contained in the resin low, for example, when producing the resin, it is necessary to reduce the residual amount of unreacted raw materials, the amount of low molecular weight products and by-products, and to use a polymerization catalyst. It is effective to remove it. Specifically, it improves the purity of raw materials, precisely controls conditions such as reaction temperature and pressure, and removes unreacted raw materials, low molecular weight products, by-products, and polymerization catalysts by distillation and washing. Examples thereof include a method of preventing oxidation due to contact with oxygen in the air at a high temperature.
Another method is to limit the use of additives that are likely to increase the amount of release gas when pelletizing or filming the produced resin, and to prevent oxidation due to high temperature. Specific examples include lubricants, antioxidants, antiblocking agents, solvents, and the like.

疎水性ゼオライトは、球状、棒状、楕円状等の任意の外形形状であってよく、粉体状、塊状、粒状等いかなる形態であってもよいが、樹脂中に分散させた際の、均一な分散性や混練特性、製膜性等の観点から、粉体状が好ましい。 The hydrophobic zeolite may have any outer shape such as spherical, rod-shaped, or elliptical, and may have any form such as powder, lump, or granular, but is uniform when dispersed in the resin. From the viewpoint of dispersibility, kneading characteristics, film forming property and the like, powdery form is preferable.

本発明において、疎水性ゼオライトの平均粒子径は、用途に応じて、任意の平均粒子径のものを適宜選択することができるが、平均粒子径0.01μm以上、30μm以下が好ましく、0.1μm以上、20μm以下がより好ましい。ここで、平均粒子径は、動的光散乱法により測定された値である。
平均粒子径が上記範囲よりも小さい場合には疎水性ゼオライトの凝集が生じ易く、分散性が低下する傾向にある。また、平均粒子径が上記範囲よりも大きい場合には、疎水性ゼオライトを含有する層の製膜性が劣る傾向になる為に、疎水性ゼオライトを多くは添加し難い傾向となり、更に表面積も減少する為、十分なガス吸着効果が得られない可能性が生じる。
In the present invention, the average particle size of the hydrophobic zeolite can be appropriately selected depending on the intended use, but the average particle size is preferably 0.01 μm or more and 30 μm or less, preferably 0.1 μm. As mentioned above, 20 μm or less is more preferable. Here, the average particle size is a value measured by a dynamic light scattering method.
When the average particle size is smaller than the above range, the hydrophobic zeolite tends to aggregate and the dispersibility tends to decrease. Further, when the average particle size is larger than the above range, the film-forming property of the layer containing the hydrophobic zeolite tends to be inferior, so that it tends to be difficult to add a large amount of the hydrophobic zeolite, and the surface area is further reduced. Therefore, there is a possibility that a sufficient gas adsorption effect cannot be obtained.

[ガス吸着剤]
本発明において、ガス吸着剤としては、疎水性ゼオライト、モレキュラーシーブ、MOF、活性炭からなる群から選ばれる1種または2種以上の組み合わせを含有することが好ましい。
[Gas adsorbent]
In the present invention, the gas adsorbent preferably contains one or a combination of two or more selected from the group consisting of hydrophobic zeolite, molecular sieve, MOF, and activated carbon.

(疎水性ゼオライト)
本発明において、ガス吸着剤として用いられる疎水性ゼオライトは、SiO2/Al23モル比が30/1~10000/1であることが好ましく、30/1~3000/1であることがより好ましい。該モル比が上記の範囲であれば、疎水性と細孔サイズのバランスに優れて、良好なガス吸着性を奏することができる。
疎水性ゼオライトは、230℃以上に晒された場合であっても、ガス成分の吸着効果が維持されることから、好ましく用いることができる。
(Hydrophobic zeolite)
In the present invention, the hydrophobic zeolite used as a gas adsorbent preferably has a SiO 2 / Al 2 O 3 molar ratio of 30/1 to 10000/1, and more preferably 30/1 to 3000/1. preferable. When the molar ratio is in the above range, the balance between hydrophobicity and pore size is excellent, and good gas adsorption can be achieved.
Hydrophobic zeolite can be preferably used because the adsorption effect of gas components is maintained even when exposed to 230 ° C. or higher.

疎水性ゼオライトは、疎水性である為に、極性の高い水分子等は吸着し難く、逆に極性の低い有機ガスとの親和性が高く、他の極性の低いガス成分、疎水性ガス、親油性ガス(溶剤系ガスも含む)とも親和性が高く、これらを吸着し易い。すなわち、官能基を有していないガス成分を吸着する機能に優れている。更に、ゼオライト表面にCa、Na、K等のアルカリ金属、アルカリ土類金属が存在する場合には、ゼオライト表面は塩基性を示し、酸性ガスを中和反応によって吸着し易い。 Since hydrophobic zeolite is hydrophobic, it is difficult to adsorb highly polar water molecules, etc., and conversely, it has a high affinity with low-polarity organic gas, and other low-polarity gas components, hydrophobic gas, lipophilicity. It has a high affinity with oil-based gases (including solvent-based gases) and easily adsorbs them. That is, it is excellent in the function of adsorbing a gas component having no functional group. Further, when an alkali metal such as Ca, Na, K or an alkaline earth metal is present on the zeolite surface, the zeolite surface is basic and easily adsorbs acid gas by a neutralization reaction.

(モレキュラーシーブ)
モレキュラーシーブは、親水性ゼオライトの1種であり、多孔質の空孔に、極性の高い分子を吸着する。特に水(水蒸気)分子を強く吸着する。
モレキュラーシーブは、原料のゼオライトの種類によって3A、4A、5A、13Xと表記され、数字は空孔のおおよその直径(オングストローム)を、大文字のアルファベットはゼオライトの種類を表し、AはLTA型ゼオライト、XはFAU型ゼオライトを表す。
3Aはアセトニトリルやエタノール、5Aは芳香族化合物等、13Xは長鎖三級アミンなどの大きな分子の吸着に適している。
(Molecular Sheave)
Molecular sieves are a type of hydrophilic zeolite that adsorb highly polar molecules in porous pores. In particular, it strongly adsorbs water (water vapor) molecules.
Molecular sieves are written as 3A, 4A, 5A, 13X depending on the type of zeolite as the raw material, the numbers indicate the approximate diameter of the pores (angstrom), the uppercase alphabet indicates the type of zeolite, and A is the LTA type zeolite. X represents FAU type zeolite.
3A is suitable for adsorption of acetonitrile and ethanol, 5A is suitable for adsorption of aromatic compounds and the like, and 13X is suitable for adsorption of large molecules such as long-chain tertiary amines.

(金属有機構造体(MOF))
金属有機構造体(MOF:Metal Organic Frameworks)には、金属イオンと有機配位子とからなる塩が好ましく用いられる。
金属有機構造体は、一般的な活性炭やゼオライトと比較して、より小さな細孔径と、より大きな比表面積を有する多孔質構造を有することができる。
金属有機構造体の具体例としては、フマル酸アルミニウム、フマル酸ジルコン、トリメシン酸銅、トリメシン酸アルミニウム、トリメシン酸ジルコン、トリメシン酸鉄、テレフタル酸アルミニウム、テレフタル酸ジルコン、2-メチルイミダゾール亜鉛、ギ酸マグネシウム、ベンゼン-1,3,5-トリ安息香酸亜鉛、2,6-ナフタレン-ジカルボン酸亜鉛、アミノベンゼン-1,4-ジカルボン酸アルミニウム、2,5-ジオキシドベンゼン-1,4-ジカルボキレートマグネシウム、4,4-ジオキシドビフェニル-3,3-ジカルボキシレートマグネシウム等が挙げられ、これらの群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせを用いることができる。
(Metal-Organic Framework (MOF))
As a metal-organic framework (MOF: Metal-Organic Frameworks), a salt composed of a metal ion and an organic ligand is preferably used.
The metal-organic framework can have a porous structure having a smaller pore diameter and a larger specific surface area as compared with general activated carbon or zeolite.
Specific examples of the metal organic structure include aluminum fumarate, zircon fumarate, copper trimethylate, aluminum trimethylate, zircone trimethylate, iron trimethylate, aluminum terephthalate, zirconate terephthalate, 2-methylimidazole zinc, magnesium formate. , Benzene-1,3,5-trizinc benzoate, 2,6-naphthalene-zinc dicarboxylate, aminobenzene-1,4-aluminum dicarboxylate, 2,5-dioxide benzene-1,4-dicarbochelate Examples thereof include magnesium, 4,4-dioxide biphenyl-3,3-dicarboxylate magnesium, and one or a combination of two or more selected from these groups can be used.

金属有機構造体の細孔径は、0.3nm以上、3.0nmが好ましく、0.3nm以上、2.0nm以下がより好ましい。細孔径は例えば、2-メチルイミダゾール亜鉛塩が1.1nm及び0.6nm、トリメシン酸銅が0.90nm又は0.3nm及び0.5nm、テレフタル酸アルミニウムが0.8nm及び0.5nm、フマル酸アルミニウムが1.1nm及び0.5nm、トリメシン酸アルミニウムが0.7nm及び0.6nm、トリメシン酸ジルコンが0.46nm、1.15nm、及び1.8nm、ギ酸マグネシウムが0.3nm及び0.4nm、トリメシン酸鉄が2.5nm及び2.9nmである。 The pore diameter of the metal-organic framework is preferably 0.3 nm or more and 3.0 nm, and more preferably 0.3 nm or more and 2.0 nm or less. The pore diameters are, for example, 1.1 nm and 0.6 nm for 2-methylimidazole zinc salt, 0.90 nm or 0.3 nm and 0.5 nm for copper trimesate, 0.8 nm and 0.5 nm for aluminum terephthalate, and fumaric acid. Aluminum is 1.1 nm and 0.5 nm, aluminum trimesate is 0.7 nm and 0.6 nm, trimesic acid dilcon is 0.46 nm, 1.15 nm and 1.8 nm, magnesium formate is 0.3 nm and 0.4 nm, Trimesate is 2.5 nm and 2.9 nm.

金属有機構造体の比表面積は、BET比表面積又はLangmuir比表面積で表すことができ、BET比表面積の場合は、400m2/g以上、4000m2/g以下が好ましく、900m2/g以上、2100m2/g以下がより好ましい。
Langmuir比表面積の場合は、500m2/g以上、5000m2/g以下が好ましく、1200m2/g以上、2400m2/g以下がより好ましい。
The specific surface area of the metal-organic framework can be expressed by the BET specific surface area or the Langmuir specific surface area, and in the case of the BET specific surface area, 400 m 2 / g or more and 4000 m 2 / g or less are preferable, and 900 m 2 / g or more and 2100 m. 2 / g or less is more preferable.
In the case of the Langmuir specific surface area, 500 m 2 / g or more and 5000 m 2 / g or less are preferable, and 1200 m 2 / g or more and 2400 m 2 / g or less are more preferable.

BET比表面積は例えば、2-メチルイミダゾール亜鉛が1350m2/g、トリメシ
ン酸銅が1500m2/g、テレフタル酸アルミニウムが950m2/g、フマル酸アルミニウムが1000m2/g、トリメシン酸アルミニウムが1100m2/g、トリメシン酸ジルコンが2060m2/g、ギ酸マグネシウムが400m2/g、ベンゼン-1,3,5-トリ安息香酸亜鉛が3600m2/gのものがある。
Langmuir比表面積は例えば、2-メチルイミダゾール亜鉛が1800m2/g、トリメシン酸銅が2000m2/g、テレフタル酸アルミニウムが1500m2/g、フマル酸アルミニウムが1200m2/g、トリメシン酸アルミニウムが1500m2/g、トリメシン酸ジルコンが2390m2/g、ギ酸マグネシウムが500m2/g、ベンゼン-1,3,5-トリ安息香酸亜鉛が5000m2/gのものがある。
The BET specific surface area is, for example, 1350 m 2 / g for zinc 2-methylimidazole, 1500 m 2 / g for copper trimesate, 950 m 2 / g for aluminum terephthalate, 1000 m 2 / g for aluminum fumarate, and 1100 m 2 for aluminum trimesate. There are those with / g, dilcon trimesic acid 2060 m 2 / g, magnesium formate 400 m 2 / g, and benzene-1,3,5-zinc tribenzoate 3600 m 2 / g.
The Langmuir specific surface area is, for example, 1800 m 2 / g for 2-methylimidazole zinc, 2000 m 2 / g for copper trimesate, 1500 m 2 / g for aluminum terephthalate, 1200 m 2 / g for aluminum fumarate, and 1500 m 2 for aluminum trimesate. / G, dilcon trimesic acid is 2390 m 2 / g, magnesium formate is 500 m 2 / g, and benzene-1,3,5-zinc tribenzoate is 5000 m 2 / g.

上記の金属有機構造体は、その細孔径に応じた分子サイズ、比表面積に応じた量のガスを吸収できる。例えば、2-メチルイミダゾール亜鉛塩は、低級炭化水素、二酸化炭素を、トリメシン酸銅は、低級炭化水素(特にメタン)と二酸化炭素を、テレフタル酸アルミニウムは、メタン、水蒸気、二酸化炭素を吸収する能力に優れ、フマル酸アルミニウムとトリメシン酸ジルコンは、水蒸気を吸収する能力に優れ、トリメシン酸アルミニウム、低級炭化水素(特にメタン)と水蒸気を吸収する能力に優れる。 The metal-organic framework can absorb a molecular size according to its pore diameter and an amount of gas according to its specific surface area. For example, 2-methylimidazole zinc salt has the ability to absorb lower hydrocarbons and carbon dioxide, copper trimesinate has the ability to absorb lower hydrocarbons (especially methane) and carbon dioxide, and aluminum terephthalate has the ability to absorb methane, steam and carbon dioxide. Aluminum fumarate and zircon trimesinate are excellent in the ability to absorb water vapor, and are excellent in the ability to absorb aluminum trimesate, lower hydrocarbons (particularly methane) and water vapor.

本発明においては、上記の金属有機構造体の中でも、2-メチルイミダゾール亜鉛塩、トリメシン酸銅、テレフタル酸アルミニウムからなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせを用いることが好ましい。 In the present invention, among the above-mentioned metal-organic frameworks, it is preferable to use one or a combination of two or more selected from the group consisting of 2-methylimidazole zinc salt, copper trimesate, and aluminum terephthalate.

(活性炭)
活性炭は、炭素を主な成分とし酸素、水素、カルシウムなども含有し、化学的又は物理的な処理が施された多孔質の物質である。多孔質であることで体積の割りに広い表面積を持つため、多くの物質を吸着する性質がある。
活性炭の表面は非極性であるため、極性分子に対しては吸着力が低く、活性炭が持つ細孔よりも小さな粒状の有機物を選択的に吸着しやすい。
(Activated carbon)
Activated carbon is a porous substance that contains carbon as a main component and also contains oxygen, hydrogen, calcium and the like, and has been chemically or physically treated. Since it is porous and has a large surface area for its volume, it has the property of adsorbing many substances.
Since the surface of activated carbon is non-polar, it has a low adsorption force for polar molecules, and it is easy to selectively adsorb granular organic substances smaller than the pores of activated carbon.

(ガス吸着剤のマスターバッチ化による分散性向上)
ガス吸着剤を低ガス放出性シーラント層の他の構成成分と直接に混合して溶融混練してもよいが、ガス吸着剤を高濃度で熱可塑性樹脂と混合した後に溶融混練(メルトブレンド)してマスターバッチを作製しておき、これを、目標含有率に応じた比率で低ガス放出性シーラント層の他の構成成分と混合して溶融混練する、いわゆるマスターバッチ方式によって、ガス吸着剤の低ガス放出性シーラント層中での分散性を高めることが好ましい。
マスターバッチ方式を採用することで、凝集が発生し易いガス吸着剤を用いた場合であっても、ガス吸着剤を低ガス放出性シーラント層中に、効率的且つ均質に分散させることができる。
(Improved dispersibility by masterbatch of gas adsorbent)
The gas adsorbent may be directly mixed with other components of the outgassing sealant layer and melt-kneaded, but the gas adsorbent is mixed with the thermoplastic resin at a high concentration and then melt-kneaded (melt blend). This is a so-called master batch method in which a master batch is prepared, mixed with other components of the low outgassing sealant layer at a ratio according to the target content, and melt-kneaded. It is preferable to enhance the dispersibility in the outgassing sealant layer.
By adopting the masterbatch method, the gas adsorbent can be efficiently and uniformly dispersed in the low gas-releasing sealant layer even when a gas adsorbent that easily causes aggregation is used.

マスターバッチ中の、ガス吸着剤/熱可塑性樹脂の質量比は、特に制限は無いが、3/97以上、50/50以下の割合が好ましく、5/95以上、40/60以下の割合がより好ましい。
ガス吸着剤と熱可塑性樹脂とを混練する方法としては、各種の混練方法を適用することができる。
マスターバッチに用いる熱可塑性樹脂は、低ガス放出性シーラント層全体のヒートシール性や製膜性やガス吸着性や低ガス放出性に大きな悪影響を与えない範囲内の種類および含有量で用いることができるが、低ガス放出性シーラント層に含有されているヒートシール性樹脂や低ガス放出性樹脂等の他樹脂との相溶性が高く、同等程度のヒートシール性を有する樹脂が好ましく、これらと同一であっても、異なっていてもよい。例えば、低ガス放出性樹脂であってもよい。
The mass ratio of the gas adsorbent / thermoplastic resin in the masterbatch is not particularly limited, but the ratio of 3/97 or more and 50/50 or less is preferable, and the ratio of 5/95 or more and 40/60 or less is more preferable. preferable.
As a method of kneading the gas adsorbent and the thermoplastic resin, various kneading methods can be applied.
The thermoplastic resin used for the master batch should be used in a type and content within a range that does not significantly adversely affect the heat sealability, film formation property, gas adsorption property, and low gas release property of the entire low gas release sealant layer. However, a resin having high compatibility with other resins such as a heat-sealing resin and a low-gassing resin contained in the low outgassing sealant layer and having the same degree of heat-sealing property is preferable, and the same as these. However, they may be different. For example, it may be a low outgassing resin.

マスターバッチに用いる熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、汎用のポリエチレン、ポリプロピレン、メチルペンテンポリマー、酸変性ポリオレフィン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、及びこれらの樹脂の混合物等が挙げられるが、これらの樹脂に限定されず、目的に応じた熱可塑性樹脂の種類を選ぶことができる。 Specific examples of the thermoplastic resin used in the master batch include general-purpose polyethylene, polypropylene, methylpentene polymer, polyolefin resins such as acid-modified polyolefin resins, and mixtures of these resins. The type of thermoplastic resin is not limited to the resin, and the type of thermoplastic resin can be selected according to the purpose.

マスターバッチに用いる熱可塑性樹脂のMFR(メルトフローレート)は、0.2g/10分以上、10g/10分以下が好ましい。この範囲のMFRであれば、ガス吸着剤との溶融混錬が容易であり、低ガス放出性シーラント層中にガス吸着剤を分散させ易く、低ガス放出性シーラント層の製膜性も維持され易い。 The MFR (melt flow rate) of the thermoplastic resin used in the masterbatch is preferably 0.2 g / 10 minutes or more and 10 g / 10 minutes or less. If the MFR is in this range, melt-kneading with the gas adsorbent is easy, the gas adsorbent is easily dispersed in the low gas-releasing sealant layer, and the film-forming property of the low gas-releasing sealant layer is maintained. easy.

[酸化防止剤]
断熱性保持積層体は、酸化防止剤をさらに、低ガス放出性シーラント層中に含有することが好ましい。
全低ガス放出性シーラント層中の酸化防止剤の含有量は、0.005質量%以上、0.5質量%以下が好ましく、0.01質量%以上、0.4質量%以下がより好ましい、上記範囲よりも少ないと、酸化防止剤を含有した効果が不十分になる虞があり、上記範囲よりも多くても、酸化防止剤を増加した効果はさほど変わらず、ヒートシール性が悪化する傾向になり易い。
酸化防止剤が含有されるのは、低ガス放出性シーラント層を構成するガス吸着層および/またはヒートシール層であってもよく、ガス吸着層に含有される酸化防止剤と、ヒートシール層に含有される酸化防止剤とは、同一でもよく、異なっていてもよい。
[Antioxidant]
The heat insulating retaining laminate preferably further contains an antioxidant in the low outgassing sealant layer.
The content of the antioxidant in the total low gas-releasing sealant layer is preferably 0.005% by mass or more and 0.5% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or more and 0.4% by mass or less. If it is less than the above range, the effect of containing the antioxidant may be insufficient, and if it is more than the above range, the effect of increasing the antioxidant does not change so much, and the heat sealability tends to deteriorate. It is easy to become.
The antioxidant may be contained in the gas adsorption layer and / or the heat seal layer constituting the low gas release sealant layer, and the antioxidant contained in the gas adsorption layer and the heat seal layer may contain the antioxidant. The contained antioxidant may be the same or different.

具体的な酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、フェノール系・リン系混合系等が挙げられ、これらからなる群から選ばれる1種または2種以上の組み合わせを含有することが好ましい。 Specific examples of the antioxidant include a phenol-based antioxidant, a phosphorus-based antioxidant, a phenol-based / phosphorus-based mixed system, and the like, and one or a combination of two or more selected from the group consisting of these is contained. It is preferable to do so.

<接着層>
本発明の断熱性保持積層体は、構成する各層の層間および各層内の層間に、接着層を設けて積層することが可能である。
また、接着層を形成する前に、接着性を向上する為に、接着対象層表面に予めアンカーコート層を形成しておいてもよい。
<Adhesive layer>
The heat insulating retaining laminate of the present invention can be laminated by providing an adhesive layer between the layers of each of the constituent layers and between the layers within each layer.
Further, before forming the adhesive layer, an anchor coat layer may be formed in advance on the surface of the layer to be adhered in order to improve the adhesiveness.

接着層を形成する接着剤(接着剤組成物)は、熱硬化型、紫外線硬化型、電子線硬化型等であってよく、水性型、溶液型、エマルジョン型、分散型等のいずれの形態でもよく、また、その性状は、フィルム/シート状、粉末状、固形状等のいずれの形態でもよく、更に、接着機構については、化学反応型、溶剤揮発型、熱溶融型、熱圧型等のいずれの形態でもよい。 The adhesive (adhesive composition) forming the adhesive layer may be a thermosetting type, an ultraviolet curable type, an electron beam curable type, or the like, and may be in any form such as an aqueous type, a solution type, an emulsion type, and a dispersed type. Well, the properties may be any of film / sheet, powder, solid, etc., and the adhesive mechanism may be any of chemical reaction type, solvent volatilization type, thermosetting type, thermosetting type, etc. It may be in the form of.

またこのような接着剤としては、ポリ酢酸ビニルや酢酸ビニル-エチレン共重合体等のポリ酢酸ビニル系接着剤、ポリアクリル酸とポリスチレン、ポリエステル、ポリ酢酸ビニル等との共重合体からなるポリアクリル酸系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸等のモノマーとの共重合体からなるエチレン共重合体系接着剤、セルロース系接着剤、ポリウレタン系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、ポリオレフィン系接着剤、尿素樹脂又はメラミン樹脂等からなるアミノ樹脂系接着剤、フェノール樹脂系接着剤、エポキシ系接着剤、反応型(メタ)アクリル系接着剤、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン-ブタジエンゴム等からなるエラストマー系接着剤、シリコーン系接着剤、アルカリ金属シリケート、低融点ガラス等からなる無機系接着剤等が挙げられる。
インフレーション法による共押出し及び製膜で積層体を形成する場合には、上記の中でも、ポリオレフィン系接着剤が好ましい。
Examples of such an adhesive include a polyvinyl acetate adhesive such as polyvinyl acetate and a vinyl acetate-ethylene copolymer, and a polyacrylic composed of a copolymer of polyacrylic acid and polystyrene, polyester, polyvinyl acetate and the like. Acid-based adhesives, cyanoacrylate-based adhesives, ethylene copolymer-based adhesives consisting of copolymers of ethylene and monomers such as vinyl acetate, ethyl acrylate, acrylic acid, and methacrylic acid, cellulose-based adhesives, and polyurethane-based adhesives. Agents, polyester adhesives, polyamide adhesives, polyimide adhesives, polyolefin adhesives, amino resin adhesives consisting of urea resin or melamine resin, phenol resin adhesives, epoxy adhesives, reactive type ( Meta) Examples thereof include an elastomer adhesive made of acrylic adhesive, chloroprene rubber, nitrile rubber, styrene-butadiene rubber, etc., a silicone adhesive, an alkali metal silicate, an inorganic adhesive made of low melting point glass, and the like.
Among the above, a polyolefin-based adhesive is preferable when forming a laminate by coextrusion and film formation by an inflation method.

本発明の一態様において、接着層は、EC(エクストルージョンコート)用接着剤、ドライラミネート用接着剤、ノンソルベントラミネート用接着剤等の何れからなる層であってよい。
EC用接着剤を用いる場合は、特に限定されないが、例えば、まず、接着剤を加熱溶融して、Tダイス等で必要な幅方向に拡大伸張させてカーテン状に押出し、接着対象層上へ流下させて、ゴムロールと冷却した金属ロールとで挟持することで、接着層の形成と接着対象層への接着と積層を同時に行う。
In one aspect of the present invention, the adhesive layer may be any of an EC (extrusion coat) adhesive, a dry laminating adhesive, a non-solvent laminating adhesive, and the like.
When an EC adhesive is used, it is not particularly limited, but for example, first, the adhesive is heated and melted, expanded and expanded in the required width direction with a T-die or the like, extruded into a curtain shape, and then flows onto the layer to be bonded. By sandwiching it between a rubber roll and a cooled metal roll, the adhesive layer is formed, and the adhesive layer is adhered to and laminated at the same time.

別態様において、接着層は、サンドラミネーションにより形成されてもよい。この場合、接着層は、加熱溶融させて押出機で適用可能な任意の樹脂を用いることができる。具体的には、上記のヒートシール性を有する熱可塑性樹脂として挙げた樹脂を好ましく用いることができる。 In another embodiment, the adhesive layer may be formed by sand lamination. In this case, the adhesive layer can be melted by heating and any resin applicable to the extruder can be used. Specifically, the resin listed as the above-mentioned thermoplastic resin having a heat-sealing property can be preferably used.

ドライラミネート用接着剤を用いる場合は、溶媒へ分散または溶解した接着剤を一方のフィルム上に塗布し乾燥させて、もう一方のフィルムを重ねて積層した後に、30~120℃で数時間~数日間エージングすることで、接着剤を硬化させて接着し、積層することができる。 When using an adhesive for dry laminating, an adhesive dispersed or dissolved in a solvent is applied onto one film, dried, and the other film is laminated and then laminated at 30 to 120 ° C. for several hours to several hours. By aging for days, the adhesive can be cured, adhered and laminated.

ノンソルベントラミネート用接着剤を用いる場合は、溶媒へ分散または溶解せずに接着剤自身を接着対象層上に塗布し乾燥させて、もう一方の層を形成するフィルムを重ねて積層した後に、30~120℃で数時間~数日間エージングすることで、接着剤を硬化させて積層する。 When using an adhesive for non-solvent laminating, the adhesive itself is applied onto the layer to be adhered without being dispersed or dissolved in a solvent, dried, and the films forming the other layer are laminated and then laminated. The adhesive is cured and laminated by aging at ~ 120 ° C. for several hours to several days.

ドライラミネート用接着剤またはノンソルベントラミネート用接着剤は、例えばロールコート、グラビアロールコート、キスコート等でコーティングして用いることができ、そのコーティング量は、0.1~10g/m2(乾燥状態)が望ましい。該コーティング量を上記範囲とすることで、良好な接着性が得られる。 The dry laminating adhesive or the non-solvent laminating adhesive can be used by coating with, for example, a roll coat, a gravure roll coat, a kiss coat, etc., and the coating amount thereof is 0.1 to 10 g / m 2 (dry state). Is desirable. By setting the coating amount in the above range, good adhesiveness can be obtained.

(アンカーコート層)
アンカーコート層は、任意のアンカーコート剤から形成することができる。
アンカーコート剤としては、例えば、有機チタン系、イソシアネート(ウレタン系)系、ポリエチレンイミン系、酸変性ポリエチレン系、ポリブタジエン系、ポリアクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ポリ酢酸ビニル系、セルロース系、その他等のアンカーコート剤を用いることができる。
(Anchor coat layer)
The anchor coat layer can be formed from any anchor coat agent.
Examples of the anchor coating agent include organic titanium, isocyanate (urethane), polyethyleneimine, acid-modified polyethylene, polybutadiene, polyacrylic, polyester, epoxy, polyvinyl acetate, cellulose, and others. Anchor coating agents such as, etc. can be used.

[断熱性保持積層体の作製方法]
下記に示す作製方法は1例であって、本発明を限定するものではない。
断熱性保持積層体を構成する各層の製膜、積層は、例えば、ウェットラミネーション法、ドライラミネーション法、無溶剤型ドライラミネーション法、押し出しラミネーション法、Tダイ共押し出し成形法、共押し出しラミネーション法、インフレーション法、その他等の任意の方法で行うことができる。
得られた断熱性保持積層体には、化学的機能、電気的機能、磁気的機能、力学的機能、摩擦/磨耗/潤滑機能、光学的機能、熱的機能、生体適合性等の表面機能等の付与を目的として、二次加工を施すことも可能である。
[Method of manufacturing a heat insulating laminate]
The production method shown below is an example and does not limit the present invention.
The film formation and lamination of each layer constituting the heat insulating retaining laminate are, for example, wet lamination method, dry lamination method, solventless dry lamination method, extrusion lamination method, T-die co-extrusion molding method, co-extrusion lamination method, inflation. It can be done by any method such as law or others.
The obtained heat insulating retaining laminate has a chemical function, an electrical function, a magnetic function, a mechanical function, a friction / wear / lubrication function, an optical function, a thermal function, a surface function such as biocompatibility, etc. It is also possible to perform secondary processing for the purpose of imparting.

二次加工の例としては、エンボス加工、塗装、接着、印刷、メタライジング(めっき等)、機械加工、表面処理(帯電防止処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、フォトクロミズム処理、物理蒸着、化学蒸着、コーティング、等)等が挙げられる。 Examples of secondary processing include embossing, painting, adhesion, printing, metallizing (plating, etc.), machining, surface treatment (antistatic treatment, corona discharge treatment, plasma treatment, photochromism treatment, physical vapor deposition, chemical vapor deposition, etc.) Coating, etc.) and the like.

以下に、一例として、ガスバリア基材層[基材層/接着層/基材層/接着層/ガスバリア層]/接着層/低ガス放出性シーラント層[ヒートシール層1/ガス吸着層/ヒートシール層2]という層構成を有する断熱性保持積層体(断熱性保持包装材料)を作製する場合について説明する。 Below, as an example, a gas barrier base material layer [base material layer / adhesive layer / base material layer / adhesive layer / gas barrier layer] / adhesive layer / low gas release sealant layer [heat seal layer 1 / gas adsorption layer / heat seal] A case of producing a heat insulating holding laminate (heat insulating holding packaging material) having a layer structure called layer 2] will be described.

(低ガス放出性フィルムの作製)
ガス吸着層用のガス吸着層樹脂組成物と、ヒートシール層用の低ガス放出性樹脂とをそれぞれ調製して準備し、インフレーション法により、下記層構成の低ガス放出性シーラントフィルムを得る。
層構成:ヒートシール層1/ガス吸着層/ヒートシール層2
(Preparation of low outgassing film)
A gas adsorption layer resin composition for a gas adsorption layer and a low gas release resin for a heat seal layer are prepared and prepared, respectively, and a low gas release sealant film having the following layer structure is obtained by an inflation method.
Layer structure: heat seal layer 1 / gas adsorption layer / heat seal layer 2

(断熱性保持積層体の作製)
次に、低ガス放出性シーラント層用の上記で得た低ガス放出性フィルムと、基材層用の基材フィルム1および基材フィルム2と、ガスバリア層用のアルミニウム箔とを、この順で接着層用のDL接着剤を介したドライラミネーション(塗布量:3.5g/m2、乾燥温度:70℃)によって張り合わせて、上記層構成の断熱性保持積層体を得る。
(Manufacturing of heat insulating retaining laminate)
Next, the low gas release film obtained above for the low gas release sealant layer, the base film 1 and the base film 2 for the base layer, and the aluminum foil for the gas barrier layer are attached in this order. By dry lamination (coating amount: 3.5 g / m 2 , drying temperature: 70 ° C.) via a DL adhesive for an adhesive layer, the layers are bonded together to obtain a heat insulating retaining laminate having the above layer structure.

(別態様の低ガス放出性シーラント層の製膜・積層方法)
低ガス放出性シーラント層は、押出しまたは共押出しで、ガスバリア基材層等の他の層上に、エクストルージョンコート法で積層してもよい。エクストルージョンコート法の場合でも、必要に応じて接着層を介して、積層してもよい。
(Another method of forming and laminating a low gas-releasing sealant layer)
The low gas-releasing sealant layer may be extruded or co-extruded and laminated on another layer such as a gas barrier substrate layer by an extrusion coating method. Even in the case of the extrusion coating method, the layers may be laminated via an adhesive layer, if necessary.

≪断熱性保持包装材料≫
本発明の断熱性保持包装材料は、本発明の断熱性保持積層体から作製された包装材料であり、断熱性保持積層体と同一物であってもよく、必要に応じて、種々の機能層や、印刷層等をさらに含むこともできる。
また、本発明の断熱性保持包装材料に、ラミネート加工(ドライラミネートや押し出しラミネート)、製袋加工、およびその他の後処理加工を施すこともできる。
本発明の断熱性保持包装材料の具体例としては、真空断熱パネル用の断熱性保持包装材料が挙げられる。
≪Insulation retention packaging material≫
The heat insulating holding packaging material of the present invention is a packaging material produced from the heat insulating holding laminate of the present invention, and may be the same as the heat insulating holding laminate, and various functional layers may be used as required. , A print layer and the like can be further included.
Further, the heat insulating retaining packaging material of the present invention may be subjected to laminating processing (dry laminating or extruded laminating), bag making processing, and other post-treatment processing.
Specific examples of the heat insulating holding packaging material of the present invention include a heat insulating holding packaging material for a vacuum heat insulating panel.

≪断熱性保持包装体≫
本発明の断熱性保持包装体は、本発明の断熱性保持包装材料を用いて作製された包装体であり、具体例としては、真空断熱パネルが挙げられる。
≪Insulation retention packaging body≫
The heat insulating holding packaging body of the present invention is a packaging body manufactured by using the heat insulating holding packaging material of the present invention, and specific examples thereof include a vacuum heat insulating panel.

≪真空断熱容器≫
本発明における真空断熱容器は、本発明の断熱性保持包装体(例えば、真空断熱パネル)を用いて作製した、断熱効果の高い断熱容器である。真空断熱容器としては、例えば、冷蔵庫、冷凍庫、低温コンテナ、クーラーボックス、保温庫、温室、保温ボックス等が挙げられる。
≪Vacuum insulation container≫
The vacuum heat insulating container in the present invention is a heat insulating container having a high heat insulating effect, which is produced by using the heat insulating holding package (for example, a vacuum heat insulating panel) of the present invention. Examples of the vacuum insulation container include a refrigerator, a freezer, a low temperature container, a cooler box, a heat insulation box, a greenhouse, a heat insulation box and the like.

実施例に用いた原料の詳細は下記の通りである。
[低ガス放出性樹脂]
・低ガス放出性樹脂1:(株)プライムポリマー社製、ウルトゼックス3520L。C6-LLDPE、密度0.931g/cm3、MFR2.1g/10分。抽出水のTOC濃度0.26ppm、樹脂フィルムに含有される溶出性のTOC濃度42.3ppm。
・低ガス放出性樹脂2:(株)プライムポリマー社製、ネオゼックス3510F。C4-LLDPE、密度0.933g/cm3、MFR1.6g/10分。抽出水のTOC濃度0.32ppm、樹脂フィルムに含有される溶出性のTOC濃度52.0ppm。
・低ガス放出性樹脂3:(株)プライムポリマー社製、ウルトゼックス2021L。C6-LLDPE、密度0.919g/cm3、MFR2.0g/10分。抽出水のTOC濃度0.56ppm、樹脂フィルムに含有される溶出性のTOC濃度92.3ppm。
・低ガス放出性樹脂4:日本ポリエチレン(株)社製、ノバテックLC522。LDPE。密度0.923g/cm3、MFR4g/10分。抽出水のTOC濃度0.32ppm、樹脂フィルムに含有される溶出性のTOC濃度52.5ppm。
The details of the raw materials used in the examples are as follows.
[Low outgassing resin]
-Low outgassing resin 1: Ultozex 3520L manufactured by Prime Polymer Co., Ltd. C6-LLDPE, density 0.931 g / cm 3 , MFR 2.1 g / 10 minutes. The TOC concentration of the extracted water is 0.26 ppm, and the elution TOC concentration contained in the resin film is 42.3 ppm.
-Low outgassing resin 2: Neozex 3510F manufactured by Prime Polymer Co., Ltd. C4-LLDPE, density 0.933 g / cm 3 , MFR 1.6 g / 10 minutes. The TOC concentration of the extracted water is 0.32 ppm, and the elution TOC concentration contained in the resin film is 52.0 ppm.
-Low outgassing resin 3: Ultozex 2021L manufactured by Prime Polymer Co., Ltd. C6-LLDPE, density 0.919 g / cm 3 , MFR 2.0 g / 10 minutes. The TOC concentration of the extracted water is 0.56 ppm, and the elution TOC concentration contained in the resin film is 92.3 ppm.
-Low outgassing resin 4: Novatec LC522 manufactured by Japan Polyethylene Corporation. LDPE. Density 0.923 g / cm 3 , MFR 4 g / 10 minutes. The TOC concentration of the extracted water is 0.32 ppm, and the elution TOC concentration contained in the resin film is 52.5 ppm.

[汎用ポリエチレン]
・汎用ポリエチレン1:(株)プライムポリマー社製エボリューSP4020。C6-LLDPE、密度0.937g/cm3、MFR1.7g/10分。抽出水のTOC濃度2.85ppm、樹脂フィルムに含有される溶出性のTOC濃度461ppm。
・汎用ポリエチレン2:(株)プライムポリマー社製、エボリューSP1520。C6-LLDPE、密度0.913g/cm3、MFR2.0g/10分。抽出水のTOC濃度3.05ppm、樹脂フィルムに含有される溶出性のTOC濃度506ppm。
[General-purpose polyethylene]
-General-purpose polyethylene 1: Evolu SP4020 manufactured by Prime Polymer Co., Ltd. C6-LLDPE, density 0.937 g / cm 3 , MFR 1.7 g / 10 minutes. The TOC concentration of the extracted water is 2.85 ppm, and the elution TOC concentration contained in the resin film is 461 ppm.
-General-purpose polyethylene 2: Evolu SP1520 manufactured by Prime Polymer Co., Ltd. C6-LLDPE, density 0.913 g / cm 3 , MFR 2.0 g / 10 minutes. The TOC concentration of the extracted water is 3.05 ppm, and the elution TOC concentration contained in the resin film is 506 ppm.

[ガス吸着剤]
・疎水性ゼオライト1:水澤化学工業(株)製疎水性ゼオライト、ミズカシーブスEX-122。SiO2/AL23モル比=32/1、平均粒子径=2.5~5.5μm。
・疎水性ゼオライト2:水澤化学工業(株)社製疎水性ゼオライト、シルトンMT400。SiO2/AL23モル比=400/1、平均粒子径=5~7μm。
・疎水性ゼオライト3:水澤化学工業(株)製疎水性ゼオライト、シルトンMT-2000。SiO2/AL23モル比=2000/1、平均粒子径=0.8μm。
[Gas adsorbent]
Hydrophobic Zeolite 1: Mizusawa Industrial Chemicals Co., Ltd. Hydrophobic Zeolite, Mizuka Sieves EX-122. SiO 2 / AL 2O 3 molar ratio = 32/1, average particle size = 2.5 to 5.5 μm.
-Hydrophobic zeolite 2: Hydrophobic zeolite manufactured by Mizusawa Industrial Chemicals Co., Ltd., Silton MT400. SiO 2 / AL 2O 3 molar ratio = 400/1, average particle size = 5-7 μm.
-Hydrophobic zeolite 3: Hydrophobic zeolite manufactured by Mizusawa Industrial Chemicals Co., Ltd., Silton MT-2000. SiO 2 / AL 2O 3 molar ratio = 2000/1, average particle size = 0.8 μm.

[基材層用フィルム]
・基材フィルム1:ユニチカ(株)社製、エンブレムON、厚さ25μm。
・基材フィルム2:東洋紡(株)社製、エスペット T4102、厚さ12μm。
・基材フィルム3:大日本印刷(株)社製IB-PET-PIR。バリアコート樹脂層付きアルミナ蒸着PETフィルム。厚さ12μm。
[Film for base material layer]
-Base film 1: Made by Unitika Ltd., emblem ON, thickness 25 μm.
-Base film 2: Made by Toyobo Co., Ltd., Espet T4102, 12 μm thick.
-Base film 3: IB-PET-PIR manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd. Alumina vapor-deposited PET film with barrier coat resin layer. 12 μm thick.

[バリア層用金属箔]
・アルミニウム箔1:東洋アルミニウム(株)社製。6μm厚。
[Metal leaf for barrier layer]
-Aluminum foil 1: Made by Toyo Aluminum Co., Ltd. 6 μm thick.

[接着剤]
・DL接着剤1:ロックペイント(株)社製、アドロックRU77T/H7。ポリエステル系接着剤。
[glue]
-DL Adhesive 1: Adlock RU77T / H7 manufactured by Rock Paint Co., Ltd. Polyester adhesive.

[酸化防止剤]
・酸化防止剤1:(株)プライムポリマー社製、EAG-5。フェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤とを合計5質量%含有。MFR4.5g/10分。
[Antioxidant]
-Antioxidant 1: EAG-5 manufactured by Prime Polymer Co., Ltd. Contains a total of 5% by mass of phenolic antioxidants and phosphorus-based antioxidants. MFR 4.5g / 10 minutes.

[マスターバッチの調製]
低ガス放出性シーラント層に使用するマスターバッチは下記のように調製した。
[Preparation of masterbatch]
The masterbatch used for the low outgassing sealant layer was prepared as follows.

(マスターバッチ1の調製)
低ガス放出性樹脂4と疎水性ゼオライト1とを下記の割合でメルトブレンドして、マスターバッチ1(MB1)を得た。
低ガス放出性樹脂4 60質量部
疎水性ゼオライト1 40質量部
(Preparation of masterbatch 1)
The low outgassing resin 4 and the hydrophobic zeolite 1 were melt-blended at the following ratios to obtain Masterbatch 1 (MB1).
Low gas-releasing resin 4 60 parts by mass Hydrophobic zeolite 1 40 parts by mass

[マスターバッチ2~4の調整]
表1の配合に従って、マスターバッチ1と同様に、各原料をメルトブレンドして、マスターバッチ2~4(MB2~4)得た。
[Adjustment of masterbatch 2-4]
According to the formulation shown in Table 1, each raw material was melt-blended in the same manner as in Masterbatch 1 to obtain Masterbatch 2-4 (MB2-4).

Figure 2022057322000002
Figure 2022057322000002

[ガス吸着層樹脂組成物の調製]
ガス吸着層に使用するガス吸着層樹脂組成物は下記のように調製した。
[Preparation of gas adsorption layer resin composition]
The gas adsorption layer resin composition used for the gas adsorption layer was prepared as follows.

(ガス吸着層樹脂組成物1の調製)
MB1と低ガス放出性樹脂1とを下記の割合でドライブレンドして、ガス吸着層樹脂組成物1を得た。
MB1 4.2質量部
低ガス放出性樹脂1 95.8質量部
(Preparation of Gas Adsorption Layer Resin Composition 1)
MB1 and the low gas-releasing resin 1 were dry-blended at the following ratios to obtain a gas adsorption layer resin composition 1.
MB1 4.2 parts by mass Low outgassing resin 1 95.8 parts by mass

(ガス吸着層樹脂組成物2~9の調製)
表2に示された配合に従って、ガス吸着層樹脂組成物1と同様に、各原料をドライブレンドして、ガス吸着層樹脂組成物2~9を得た。
(Preparation of Gas Adsorption Layer Resin Compositions 2-9)
According to the formulation shown in Table 2, each raw material was dry-blended in the same manner as in the gas adsorption layer resin composition 1 to obtain gas adsorption layer resin compositions 2 to 9.

Figure 2022057322000003
Figure 2022057322000003

[ヒートシール層樹脂組成物の調製]
下記原料をドライブレンドすることによって、ヒートシール層樹脂組成物1を得た。
低ガス放出性樹脂1 99.68質量部
酸化防止剤1 0.32質量部
[Preparation of heat seal layer resin composition]
The heat-sealed layer resin composition 1 was obtained by dry-blending the following raw materials.
Low gas-releasing resin 1 99.68 parts by mass Antioxidant 1 0.32 parts by mass

<実施例1>
[低ガス放出性シーラントフィルムの作製]
上記で得たガス吸着層樹脂組成物1と、吸湿層樹脂組成物1と、低ガス放出性樹脂1とを用いて、インフレーション法により、下記層構成の低ガス放出性シーラントフィルム1を得た。
得られた低ガス放出性シーラントフィルム1を用いて、製膜性を評価した。
低ガス放出性シーラントフィルム1の層構成:ヒートシール層1/ガス吸着層/ヒートシール層2=低ガス放出性樹脂1(10μm厚)/ガス吸着層樹脂組成物1(20μm厚)/低ガス放出性樹脂1(10μm厚)
<Example 1>
[Preparation of low outgassing sealant film]
Using the gas adsorption layer resin composition 1 obtained above, the moisture absorbing layer resin composition 1, and the low gas releasing resin 1 by an inflation method, a low gas releasing sealant film 1 having the following layer structure was obtained. ..
The obtained low gas-releasing sealant film 1 was used to evaluate the film-forming property.
Layer structure of low gas release sealant film 1: heat seal layer 1 / gas adsorption layer / heat seal layer 2 = low gas release resin 1 (10 μm thickness) / gas adsorption layer resin composition 1 (20 μm thickness) / low gas Outgassing resin 1 (10 μm thickness)

[断熱性保持包装材料の作製]
次に、上記で得た低ガス放出性シーラントフィルム1と基材フィルム1、基材フィルム2とアルミニウム箔1とを、DL接着剤1を介したドライラミネーション(塗布量:3.5g/m2、乾燥温度:70℃)によって張り合わせて、下記層構成の断熱性保持包装材料1を得た。
断熱性保持積層体1の構成:ガスバリア基材層(基材フィルム1/DL接着剤1/基材フィルム2/DL接着剤1/アルミニウム箔1)/DL接着剤1/低ガス放出性シーラントフィルム1
得られた断熱性保持包装材料1を用いて、ヒートシール性評価、断熱性評価を実施した。
評価結果を表3に示す。
[Preparation of heat-insulating retaining packaging material]
Next, the low gas-releasing sealant film 1 and the base film 1, the base film 2 and the aluminum foil 1 obtained above were dry-laminated via the DL adhesive 1 (coating amount: 3.5 g / m 2 ). , Drying temperature: 70 ° C.) to obtain a heat insulating retaining packaging material 1 having the following layer structure.
Structure of heat insulating retaining laminate 1: Gas barrier base material layer (base film 1 / DL adhesive 1 / base film 2 / DL adhesive 1 / aluminum foil 1) / DL adhesive 1 / low gas release sealant film 1
Using the obtained heat-insulating retaining packaging material 1, heat-sealing property evaluation and heat-insulating property evaluation were carried out.
The evaluation results are shown in Table 3.

<実施例2~12、比較例1~4>
表3~5に示された各原料を用いて、実施例1と同様に操作して、低ガス放出性シーラントフィルム、断熱性保持包装材料を作製して、同様に評価した。
<Examples 2 to 12, Comparative Examples 1 to 4>
Using each of the raw materials shown in Tables 3 to 5, a low outgassing sealant film and a heat insulating retaining packaging material were prepared by the same operation as in Example 1 and evaluated in the same manner.

<評価方法>
[製膜性]
低ガス放出性フィルムの外観を観察し、官能的に評価した。評価基準は以下の通りである。
○:皺やぶつが生じることなく製膜が可能。
×:皺やぶつが多数生じ、製膜が困難。
<Evaluation method>
[Film formation]
The appearance of the low outgassing film was observed and sensually evaluated. The evaluation criteria are as follows.
○: Film formation is possible without wrinkles or bumps.
×: Many wrinkles and bumps occur, making film formation difficult.

[ヒートシール性]
断熱性保持積層体を10cm×10cmに切り分け、低ガス放出性シーラント層面を重ね合せ、ヒートシールテスター(テスター産業社製:TP-701-A)を用いて、1cm×10cmの領域を下記条件でヒートシールして、端部はヒートシールされずに接着しておらず、二股に分かれている状態の引き剥がし強度の試験片を作製した。
この試験片を、15mm幅で短冊状に切り、二股に分かれている各端部を引張試験機に装着して下記条件で引き剥がし強度(N/15mm)を測定して、下記合否判定基準で合否判定した。
ヒートシール条件
温度:160℃
圧力:1kgf/cm2
時間:1秒
試験条件
試験速度:300mm/分
荷重レンジ:50N
合否判定基準
○:30N/15mm以上であり、合格。
×:30N/15mm未満であり、不合格。
[Heat sealability]
The heat-insulating retaining laminate is cut into 10 cm x 10 cm, the low gas-releasing sealant layer surfaces are overlapped, and a 1 cm x 10 cm area is covered by a heat seal tester (Tester Sangyo Co., Ltd .: TP-701-A) under the following conditions. After heat-sealing, the ends were not heat-sealed and not adhered, and a test piece having a peeling strength in a bifurcated state was prepared.
Cut this test piece into strips with a width of 15 mm, attach each bifurcated end to a tensile tester, measure the peel strength (N / 15 mm) under the following conditions, and use the following pass / fail criteria. A pass / fail judgment was made.
Heat seal condition Temperature: 160 ℃
Pressure: 1kgf / cm 2
Time: 1 second Test conditions Test speed: 300 mm / min Load range: 50 N
Pass / Fail Criteria ○: 30N / 15mm or more, pass.
×: Less than 30N / 15mm and failed.

[断熱維持性]
幅40cm×長さ50cmの長方形に切断された断熱性保持積層体を2枚準備し、2枚の断熱性保持積層体のそれぞれの低ガス放出性シーラント層を対向させて重ねて、三辺の外縁部の端部から2cm~3cmの範囲をヒートシールすることによって、一辺が開口している袋体を得た。
袋体の開口部から芯材として幅29cm×長さ30cm×厚さ3cmのグラスウール(目付量800g/m2のノーバインダーのグラスウール、製品名:ホワイトロールWR800、マグ・イゾベール社製)を入れた後に、袋体の開口部から空気を吸引した。
吸引は、真空包装機(MVR-1000型、設楽製作所製)を用いて行い、袋体の内部が減圧されて0.05Paになった状態で、残る一辺の外縁部の端部から5cm~6cmの範囲をヒートシールした。
ヒートシールは熱溶着機(インパルスシーラーFA-600-10W、富士インパルス社製)を用いた。
さらに、全外周の外縁部を折りたたんで、テープで固定して、芯材が断熱性保持積層体により包装された断熱維持性評価用の試験片である簡易真空断熱パネルを作製した。
熱伝導率の測定は、簡易真空断熱パネルの厚さ方向の熱伝導率を測定した。
先ず、作製直後に熱伝導率を測定し(LMD1)、次いで、100℃環境下で1000時間保管後に熱伝導率を測定した(LMD2)。そして、下記式によってΔ熱伝導率を算出して、下記合否判定基準により断熱維持性の合否を判定した。
Δ熱伝導率=LMD2-LMD1
合否判定基準
合 格:Δ熱伝導率が7.0mW/mK以下である。
不合格:Δ熱伝導率が7.0mW/mKよりも大きい。
[Insulation maintenance]
Two heat insulating retaining laminates cut into a rectangle having a width of 40 cm and a length of 50 cm are prepared, and the low outgassing sealant layers of the two heat insulating retaining laminates are stacked so as to face each other on three sides. By heat-sealing a range of 2 cm to 3 cm from the end of the outer edge portion, a bag body having one side open was obtained.
From the opening of the bag, glass wool with a width of 29 cm, a length of 30 cm, and a thickness of 3 cm (a non-binder glass wool with a grain size of 800 g / m 2 ; product name: White Roll WR800, manufactured by Mag-Isover) was inserted as a core material. Later, air was sucked through the opening of the bag body.
Suction is performed using a vacuum packaging machine (MVR-1000 type, manufactured by Shitara Seisakusho), and with the inside of the bag being decompressed to 0.05 Pa, 5 cm to 6 cm from the end of the outer edge of the remaining side. The range of was heat-sealed.
A heat welder (Impulse Sealer FA-600-10W, manufactured by Fuji Impulse Co., Ltd.) was used for the heat seal.
Further, the outer edge portion of the entire outer circumference was folded and fixed with tape to prepare a simple vacuum heat insulating panel which is a test piece for evaluating heat insulation maintainability in which the core material is wrapped with a heat insulating holding laminate.
The thermal conductivity was measured by measuring the thermal conductivity in the thickness direction of the simple vacuum insulation panel.
First, the thermal conductivity was measured immediately after production (LMD 1 ), and then the thermal conductivity was measured after storage at 100 ° C. for 1000 hours (LMD 2 ). Then, the Δ thermal conductivity was calculated by the following formula, and the pass / fail of the heat insulation maintainability was judged by the following pass / fail judgment criteria.
Δ Thermal conductivity = LMD 2 -LMD 1
Pass / Fail Judgment Criteria: Δ Thermal conductivity is 7.0 mW / mK or less.
Fail: Δ Thermal conductivity is greater than 7.0 mW / mK.

[溶出性のTOC濃度]
樹脂フィルムを用いて作製されたパウチに、充填水を充填及び封止して、35℃2週間保管後に、該充填水のTOC濃度を測定して、TOC濃度の増加濃度を求めた。
パウチのサイズ:内寸15cm×44cm×50μm厚。
充填水:純正化学(株)社製高速液体クロマトグラフィー用蒸留水。65℃1000g。
TOC濃度測定器:(株)島津製作所社製TOC-L全有機体炭素計。
次に、上記で得られた充填水中のTOCの増加濃度から、次式によって樹脂フィルム中に含まれる溶出性TOCの濃度を算出した。
C=X×W1/W2
=X×W1/(6.6×S)
C:樹脂フィルム中に含まれる溶出性TOCの濃度[ppm]
X:充填水中のTOCの増加濃度[ppm]
W1:充填水重量=1000[g]
W2:パウチ重量=15×44×50×10-4×2×S=6.6×S[g]
S:樹脂フィルムの密度[g/cm3
[Elutable TOC concentration]
The pouch made of the resin film was filled with filled water and sealed, and after storage at 35 ° C. for 2 weeks, the TOC concentration of the filled water was measured to determine the increased concentration of the TOC concentration.
Pouch size: Inner dimensions 15 cm x 44 cm x 50 μm thick.
Filled water: Distilled water for high performance liquid chromatography manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd. 65 ° C 1000g.
TOC concentration measuring instrument: TOC-L total organic carbon meter manufactured by Shimadzu Corporation.
Next, from the increased concentration of TOC in the packed water obtained above, the concentration of elution TOC contained in the resin film was calculated by the following formula.
C = X × W1 / W2
= X × W1 / (6.6 × S)
C: Concentration of elution TOC contained in the resin film [ppm]
X: Increased concentration of TOC in filled water [ppm]
W1: Filled water weight = 1000 [g]
W2: Pouch weight = 15 × 44 × 50 × 10 -4 × 2 × S = 6.6 × S [g]
S: Resin film density [g / cm 3 ]

Figure 2022057322000004
Figure 2022057322000004

Figure 2022057322000005
Figure 2022057322000005

Figure 2022057322000006
Figure 2022057322000006

<結果まとめ>
全実施例の断熱性保持包装材料は、良好な製膜性とヒートシール性を示し、真空断熱パネルは良好な断熱性維持特使絵を示した。
しかしながら、低ガス放出性樹脂の含有量が十分でない比較例1~3の包装材料で作製した真空断熱パネルは、劣った断熱性維持特性を示し、ガス吸着層におけるガス吸着剤含有量が多過ぎる比較例4の包装材料は、断熱性維持特性は優れるものの、劣った製膜性およびヒートシール性を示した。
<Summary of results>
The heat insulating retaining packaging materials of all the examples showed good film forming property and heat sealing property, and the vacuum heat insulating panel showed a good heat insulating property maintenance special envoy picture.
However, the vacuum heat insulating panels made of the packaging materials of Comparative Examples 1 to 3 in which the content of the low gas-releasing resin is not sufficient show inferior heat insulating property maintaining characteristics, and the gas adsorbent content in the gas adsorption layer is too high. The packaging material of Comparative Example 4 exhibited inferior film-forming property and heat-sealing property, although it was excellent in heat insulating property maintaining property.

1 断熱性保持積層体
2 断熱性保持包装材料
3 ガスバリア基材層
4 低ガス放出性シーラント層
4a ガス吸着層
4b ガス吸着剤
4c ヒートシール層
5 接着層
10 断熱性保持包装体(真空断熱パネル)
11 芯材
12 ヒートシール接合部
1 Insulation retention laminate 2 Insulation retention packaging material 3 Gas barrier base material layer 4 Low gas release sealant layer 4a Gas adsorption layer 4b Gas adsorbent 4c Heat seal layer 5 Adhesive layer 10 Insulation retention packaging (vacuum insulation panel)
11 Core material 12 Heat seal joint

Claims (15)

形状を維持する為の芯材と、該芯材を包装する断熱性保持包装材料とからなる真空断熱パネルであって、
真空断熱パネルの厚さ方向の熱伝導率は、1mW/mK以上、35mW/mK以下であり、
該真空断熱パネルの外周部は該断熱性保持包装材料が封止されており、
該断熱性保持包装材料は、シーラント層それ自体から発生するガス量が少なく、
該ガスは、炭化水素類、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、エステル類、アルコール類、二酸化炭素、水蒸気からなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせであり、
該断熱性保持包装材料は、ガスバリア基材層と、低ガス放出性シーラント層とを有し、
該低ガス放出性シーラント層は、ヒートシール性を有する低ガス放出性樹脂を含有し、
該低ガス放出性樹脂は、密度が0.915g/cm3以上、0.935g/cm3以下であることを特徴とする、真空断熱パネル。
A vacuum heat insulating panel composed of a core material for maintaining the shape and a heat insulating holding packaging material for packaging the core material.
The thermal conductivity in the thickness direction of the vacuum insulation panel is 1 mW / mK or more and 35 mW / mK or less.
The outer peripheral portion of the vacuum heat insulating panel is sealed with the heat insulating retaining packaging material.
The heat insulating retaining packaging material has a small amount of gas generated from the sealant layer itself.
The gas is one or a combination of two or more selected from the group consisting of hydrocarbons, aldehydes, ketones, carboxylic acids, esters, alcohols, carbon dioxide, and water vapor.
The heat insulating retaining packaging material has a gas barrier base material layer and an outgassing sealant layer.
The low outgassing sealant layer contains a low outgassing resin having a heat-sealing property.
The low outgassing resin is a vacuum heat insulating panel having a density of 0.915 g / cm 3 or more and 0.935 g / cm 3 or less.
前記低ガス放出性樹脂の含有量が、全低ガス放出性シーラント層中に、70質量%以上、99.9質量%以下であることを特徴とする、請求項1に記載の真空断熱パネル。 The vacuum insulation panel according to claim 1, wherein the content of the low outgassing resin is 70% by mass or more and 99.9% by mass or less in the total low outgassing sealant layer. 前記低ガス放出性樹脂は、ポリエチレン系樹脂であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の真空断熱パネル。 The vacuum heat insulating panel according to claim 1 or 2, wherein the low outgassing resin is a polyethylene-based resin. 前記低ガス放出性樹脂からなるフィルムに含まれる、溶出性の全有機体炭素(TOC)の濃度は、1.5ppm以上、250ppm以下であることを特徴とする、請求項1~3のいずれか1項に記載の真空断熱パネル。 Any of claims 1 to 3, wherein the concentration of the elution total organic carbon (TOC) contained in the film made of the low outgassing resin is 1.5 ppm or more and 250 ppm or less. The vacuum insulation panel according to item 1. 前記低ガス放出性樹脂が、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン及び線状低密度ポリエチレンからなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせであることを特徴とする、請求項1~4のいずれか1項に記載の真空断熱パネル。 Any of claims 1 to 4, wherein the low outgassing resin is one or a combination of two or more selected from the group consisting of medium-density polyethylene, low-density polyethylene, and linear low-density polyethylene. The vacuum insulation panel according to item 1. 前記低ガス放出性シーラント層中に、ガス吸着剤をさらに含有し、
前記低ガス放出性シーラント層は、それ自体から発生するガス及び前記低ガス放出性シーラント層が接する空間からのガスを吸着し、
該ガスは、炭化水素類、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、エステル類、アルコール類、二酸化炭素、水蒸気からなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせであることを特徴とする、
請求項1~5のいずれか1項に記載の真空断熱パネル。
The low gas-releasing sealant layer further contains a gas adsorbent to further contain the gas adsorbent.
The low outgassing sealant layer adsorbs the gas generated from itself and the gas from the space in contact with the low outgassing sealant layer.
The gas is characterized by being one or a combination of two or more selected from the group consisting of hydrocarbons, aldehydes, ketones, carboxylic acids, esters, alcohols, carbon dioxide and water vapor.
The vacuum insulation panel according to any one of claims 1 to 5.
前記ガス吸着剤が、疎水性ゼオライト、モレキュラーシーブ、金属有機構造体(MOF)、活性炭からなる群から選ばれる1種または2種以上の組み合わせを含むことを特徴とする、請求項6に記載の真空断熱パネル。 The sixth aspect of claim 6, wherein the gas adsorbent comprises one or a combination of two or more selected from the group consisting of hydrophobic zeolites, molecular sieves, metal-organic frameworks (MOFs), and activated carbon. Vacuum insulation panel. 前記低ガス放出性シーラント層が、ガス吸着層と、ヒートシール層とを有し、
該ガス吸着層は、前記低ガス放出性樹脂と、前記ガス吸着剤を含有する層であり、
該ヒートシール層は、前記低ガス放出性樹脂を含有し、ヒートシール性を有する層であり、
該低ガス放出性シーラント層の少なくとも片側の最外層は、ヒートシール層であり、
該ガス吸着層に含有される前記低ガス放出性樹脂と、該ヒートシール層に含有される前記低ガス放出性樹脂とは、同一または異なっていることを特徴とする、
請求項1~7のいずれか1項に記載の真空断熱パネル。
The low gas-releasing sealant layer has a gas adsorption layer and a heat seal layer.
The gas adsorbent layer is a layer containing the low gas-releasing resin and the gas adsorbent.
The heat-sealing layer is a layer containing the low gas-releasing resin and having a heat-sealing property.
The outermost layer on at least one side of the low outgassing sealant layer is a heat seal layer.
The low gas-releasing resin contained in the gas adsorption layer and the low gas-releasing resin contained in the heat-sealed layer are the same or different.
The vacuum insulation panel according to any one of claims 1 to 7.
前記低ガス放出性シーラント層は、酸化防止剤をさらに含有することを特徴とする、請求項1~8のいずれか1項に記載の真空断熱パネル。 The vacuum insulating panel according to any one of claims 1 to 8, wherein the low outgassing sealant layer further contains an antioxidant. 前記酸化防止剤の含有量が、全低ガス放出性シーラント層中に、0.005質量%以上、0.5質量%以下であることを特徴とする、請求項9に記載の真空断熱パネル。 The vacuum insulation panel according to claim 9, wherein the content of the antioxidant is 0.005% by mass or more and 0.5% by mass or less in the total low gas-releasing sealant layer. 前記酸化防止剤が、前記ガス吸着層及び/または前記ヒートシール層に含有されており、
前記ガス吸着層に含有される前記酸化防止剤と、前記ヒートシール層に含有される前記酸化防止剤とは、同一または異なっていることを特徴とする、
請求項9または10に記載の真空断熱パネル。
The antioxidant is contained in the gas adsorption layer and / or the heat seal layer.
The antioxidant contained in the gas adsorption layer and the antioxidant contained in the heat seal layer are the same or different from each other.
The vacuum insulation panel according to claim 9 or 10.
前記真空断熱パネルの、100℃環境下で1000時間保管後の、厚さ方向の熱伝導率の上昇は、0mW/mK以上、7.0mW/mK以下であることを特徴とする、請求項1~11のいずれか1項に記載の真空断熱パネル。 Claim 1 is characterized in that the increase in thermal conductivity in the thickness direction of the vacuum heat insulating panel after storage in an environment of 100 ° C. for 1000 hours is 0 mW / mK or more and 7.0 mW / mK or less. The vacuum insulation panel according to any one of 11 to 11. 前記低ガス放出性シーラント層が、低ガス放出性シーラントフィルムからなる層であることを特徴とする、請求項1~12のいずれか1項に記載の真空断熱パネル。 The vacuum heat insulating panel according to any one of claims 1 to 12, wherein the low outgassing sealant layer is a layer made of a low outgassing sealant film. 前記低ガス放出性シーラントフィルムは、空気中で90℃60分間加熱した際に放出される炭素数16の有機ガス成分量の、前記低ガス放出性シーラントフィルム単位体積当たりの量が、10μg/cm3以上、1000μg/cm3以下であることを特徴とする、請求項13に記載の真空断熱パネル。 In the low outgassing sealant film, the amount of the organic gas component having 16 carbon atoms released when heated in air at 90 ° C. for 60 minutes is 10 μg / cm per unit volume of the low outgassing sealant film. The vacuum insulation panel according to claim 13, wherein the amount is 3 or more and 1000 μg / cm 3 or less. 請求項1~14のいずれか1項に記載の真空断熱パネルを用いて作製した、真空断熱容器。 A vacuum insulation container manufactured by using the vacuum insulation panel according to any one of claims 1 to 14.
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