JP2022054639A - Top plate for cookers - Google Patents
Top plate for cookers Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022054639A JP2022054639A JP2020161781A JP2020161781A JP2022054639A JP 2022054639 A JP2022054639 A JP 2022054639A JP 2020161781 A JP2020161781 A JP 2020161781A JP 2020161781 A JP2020161781 A JP 2020161781A JP 2022054639 A JP2022054639 A JP 2022054639A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- top plate
- inorganic
- inorganic layer
- cooking
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 57
- 238000010411 cooking Methods 0.000 claims abstract description 35
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 24
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 24
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 63
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 62
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 46
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 28
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 21
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 21
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 11
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 6
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 5
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 5
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 3
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 3
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 3
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018575 Al—Ti Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910020639 Co-Al Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002515 CoAl Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910020675 Co—Al Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017813 Cu—Cr Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017827 Cu—Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002551 Fe-Mn Inorganic materials 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004337 Ti-Ni Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910011209 Ti—Ni Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- KHYBPSFKEHXSLX-UHFFFAOYSA-N iminotitanium Chemical compound [Ti]=N KHYBPSFKEHXSLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000012791 sliding layer Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020711 Co—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006501 ZrSiO Inorganic materials 0.000 description 1
- DLHONNLASJQAHX-UHFFFAOYSA-N aluminum;potassium;oxygen(2-);silicon(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] DLHONNLASJQAHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 229910052652 orthoclase Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Induction Heating Cooking Devices (AREA)
Abstract
Description
本発明は、調理器用トッププレートに関する発明である。 The present invention relates to a top plate for a cooker.
調理器用トッププレートには、低い熱膨張係数を有する結晶化ガラスなどからなるガラス板が用いられている。ガラス板として無色のガラス板を用いる場合には、一般に、調理器内部の構造を隠蔽するため、調理器具が載せられる調理面とは反対側に位置する裏面には、装飾層として、特許文献1のように、無機顔料とガラス粉末からなる多孔質の無機層、及びシリコーン系樹脂などからなる保護層が設けられている。 As the top plate for a cooker, a glass plate made of crystallized glass or the like having a low coefficient of thermal expansion is used. When a colorless glass plate is used as the glass plate, generally, in order to conceal the internal structure of the cooker, the back surface located on the opposite side to the cooking surface on which the cooking utensil is placed is used as a decorative layer in Patent Document 1. As described above, a porous inorganic layer made of an inorganic pigment and glass powder, and a protective layer made of a silicone-based resin or the like are provided.
無機層に使用するガラス粉末は焼成温度が高く、冷却後にガラス板の無機層が形成された面には強い引っ張り応力が発生する。そのため、調理器用トッププレートの強度が低くなる。 The glass powder used for the inorganic layer has a high firing temperature, and a strong tensile stress is generated on the surface of the glass plate on which the inorganic layer is formed after cooling. Therefore, the strength of the top plate for the cooker is low.
そこで、ガラス板の強度を低下させる無機層を使用せず、保護層のみを設けることが考えられるが、保護層のみでは装飾層の耐傷性が低く、調理器の組み立て時の接触などによって調理器用トッププレートに傷が付く場合がある。 Therefore, it is conceivable to provide only a protective layer without using an inorganic layer that lowers the strength of the glass plate. The top plate may be scratched.
これらの問題に対応するため、特許文献2では、黒鉛等からなる耐熱摺動層を設けることにより、傷を抑制している。
In order to deal with these problems, in
耐熱摺動層を設けることにより傷が発生しにくくなるものの、強い引掻きによる傷を抑制するまでには至っていなかった。 Although scratches are less likely to occur by providing the heat-resistant sliding layer, scratches due to strong scratching have not been suppressed.
以上の実情に鑑み、本発明の課題は、強度が高く、裏面に傷が付き難い調理器用トッププレートを提供することにある。 In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a top plate for a cooker, which has high strength and is not easily scratched on the back surface.
本発明の調理器用トッププレートは、調理器具が接する調理面と、前記調理面と対向する裏面とを有するガラス板と、前記ガラス板の裏面に接して設けられた無機層を有する調理器用トッププレートであって、前記無機層は、化学式R2O・nSiO2(Rはアルカリ金属元素、nは正の任意の数)で表されるアルカリケイ酸塩を含むことを特徴とする。 The cooking utensil top plate of the present invention is a cooking utensil top plate having a cooking surface in contact with a cooking utensil, a glass plate having a back surface facing the cooking surface, and an inorganic layer provided in contact with the back surface of the glass plate. The inorganic layer is characterized by containing an alkali silicate represented by the chemical formula R2O · nSiO 2 ( R is an alkali metal element and n is an arbitrary positive number).
アルカリケイ酸塩は融点が低いため、冷却後にガラス板に引っ張り応力が発生しにくく、調理器用トッププレートの強度を高めることが可能である。 Since alkaline silicate has a low melting point, tensile stress is less likely to occur on the glass plate after cooling, and it is possible to increase the strength of the top plate for cooking utensils.
本発明の調理器用トッププレートは、RがLi、Na及びKから選択される少なくとも一種であることが好ましい。 In the top plate for a cooker of the present invention, it is preferable that R is at least one selected from Li, Na and K.
本発明の調理器用トッププレートは、アルカリケイ酸塩が、Liを0.1質量%以上含むことが好ましい。 The top plate for a cooker of the present invention preferably contains 0.1% by mass or more of Li as an alkaline silicate.
本発明の調理器用トッププレートは、アルカリケイ酸塩の質量比SiO2/R2Oが0.1~5であることが好ましい。 The top plate for a cooker of the present invention preferably has an alkali silicate mass ratio of SiO 2 / R 2 O of 0.1 to 5.
本発明の調理器用トッププレートは、無機層が、無機フィラーを1~50質量%含むことが好ましい。 In the top plate for a cooker of the present invention, the inorganic layer preferably contains 1 to 50% by mass of an inorganic filler.
本発明の調理器用トッププレートは、無機層の厚みが、1~50μmであることが好ましい。 The top plate for a cooker of the present invention preferably has an inorganic layer having a thickness of 1 to 50 μm.
本発明の調理器用トッププレートは、無機層の鉛筆硬度が3H以上であることが好ましい。 In the top plate for a cooker of the present invention, the pencil hardness of the inorganic layer is preferably 3H or more.
本発明の調理器用トッププレートは、調理器具が接する調理面と、前記調理面と対向する裏面とを有するガラス板と、前記ガラス板の調理面に接して設けられた無機層を有する調理器用トッププレートであって、前記無機層は、化学式R2O・nSiO2(Rはアルカリ金属元素、nは正の任意の数)で表されるアルカリケイ酸塩を含むことを特徴とする。 The cooking top plate of the present invention has a cooking surface having a cooking surface in contact with a cooking utensil, a glass plate having a back surface facing the cooking surface, and an inorganic layer provided in contact with the cooking surface of the glass plate. The plate is characterized in that the inorganic layer contains an alkali silicate represented by the chemical formula R2O · nSiO 2 ( R is an alkali metal element, n is an arbitrary positive number).
本発明によれば、強度が高く、裏面に傷が付き難い調理器用トッププレートを提供することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to provide a top plate for a cooker having high strength and scratches on the back surface.
以下、本発明を実施するための形態について説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、以下の実施の形態に対し適宜変更、改良等が加えられたものも本発明の範囲に入ることが理解されるべきである。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described, but the present invention is not limited to the following embodiments and is based on ordinary knowledge of those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. It should be understood that those of the following embodiments to which modifications, improvements, etc. have been made as appropriate fall within the scope of the present invention.
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る調理器用トッププレートを示す模式的正面断面図である。図1に示すように、調理器用トッププレート1(以下、「調理器用トッププレート1」を、単に「トッププレート1」とする)は、ガラス板2を備える。ガラス板2は、一方側の主面である調理面2aと、他方側の主面である裏面2bとを有する。調理面2aは、鍋やフライパンなどの調理器具が載せられる側の面である。裏面2bは、調理器の内部側において加熱装置と対向する面である。従って、調理面2a及び裏面2bは、表裏の関係にある。
(First Embodiment)
FIG. 1 is a schematic front sectional view showing a top plate for a cooker according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the cooker top plate 1 (hereinafter, “cooker top plate 1” is simply referred to as “top plate 1”) includes a
ガラス板2は、波長380~780nmにおける少なくとも一部の光を透過する。ガラス板2は、有色透明であってもよいが、トッププレート1の美観性をより一層高める観点から、無色透明であることが好ましい。なお、本明細書において、無色透明であるとは、波長380~780nmにおける可視波長域の平均透過率が70%以上であることをいう。
The
トッププレート1では、加熱及び冷却が繰り返しなされる。そのため、ガラス板2は、高い耐熱性及び低い熱膨張係数を有するものであることが好ましい。具体的には、ガラス板2の軟化温度は、700℃以上であることが好ましく、750℃以上であることがより好ましい。また、ガラス板2の30℃~750℃における平均線熱膨張係数は、-10×10-7/℃~+60×10-7/℃の範囲内であることが好ましく、-10×10-7/℃~+50×10-7/℃の範囲内であることがより好ましく、-10×10-7/℃~+40×10-7/℃の範囲内であることがさらにより好ましい。従って、ガラス板2は、ガラス転移温度が高く、低膨張なガラスや、低膨張の結晶化ガラスからなるものであることが好ましい。低膨張の結晶化ガラスの具体例としては、例えば、日本電気硝子社製の「N-0」が挙げられる。なお、ガラス板2としては、結晶化ガラス以外にも例えば、ホウケイ酸ガラスなどを用いてもよい。
In the top plate 1, heating and cooling are repeated. Therefore, it is preferable that the
ガラス板2の裏面2b上には、無機層3が設けられている。無機層3は、ガラス板2の裏面2b上に直接接して設けられている。また、本実施形態では、無機層3の表面が外気に曝されている。従って、ガラス板2の裏面2b上には、無機層3のみが積層されており、他の層が積層されていない。もっとも、無機層3上又はガラス板2と無機層3の間には他の層が積層されていてもよいが、生産性をより一層向上させる観点や、応力を小さくする観点からは、本実施形態のように無機層3のみが積層されていることが好ましい。
An
なお、ガラス板2の調理面2a上に無機層3を設けていても構わない。このようにすれば、より強度が高くなり、調理面2aに傷が付き難くなる。
The
無機層3は、化学式R2O・nSiO2(Rはアルカリ金属元素、nは正の任意の数)で表されるアルカリケイ酸塩を含む。アルカリケイ酸塩は硬化温度が低いため、冷却後にガラス板に引っ張り応力が発生しにくく、トッププレート1の強度を高めることが可能である。
The
アルカリケイ酸塩は、RがLi、Na及びKから選択される少なくとも一種であることが好ましい。 The alkaline silicate is preferably at least one in which R is selected from Li, Na and K.
なお、アルカリケイ酸塩としては、ケイ酸リチウム、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリウム等が挙げられる。これらのアルカリケイ酸塩は、1種を単独で用いてもよく、複数種を併用してもよい。 Examples of the alkaline silicate include lithium silicate, sodium silicate, potassium silicate and the like. These alkaline silicates may be used alone or in combination of two or more.
アルカリケイ酸塩は、Liを0.1質量%以上含むことが好ましく、0.5質量%以上含むことがより好ましく、特に1質量%以上含むことがさらにより好ましい。Liが少なすぎると、耐水性が低くなり、空気中の水分で劣化する傾向がある。尚、アルカリケイ酸塩層が表面に露出しない場合、Liを含まなくても構わない。 The alkaline silicate preferably contains 0.1% by mass or more of Li, more preferably 0.5% by mass or more, and particularly preferably 1% by mass or more. If the amount of Li is too small, the water resistance becomes low and it tends to be deteriorated by the moisture in the air. If the alkali silicate layer is not exposed on the surface, it may not contain Li.
アルカリケイ酸塩の質量比SiO2/R2Oが0.1~5であることが好ましく、0.2~4.9であることがより好ましく、特に0.3~4.8であることがさらにより好ましい。質量比SiO2/R2Oが小さすぎると、無機層3の硬度が低くなり、傷が発生し易くなる。一方、質量比SiO2/R2Oが大きすぎると、融点が高くなり、冷却後にガラス板2に引っ張り応力が発生し易く、トッププレート1の強度が低下する傾向がある。
The mass ratio of the alkali silicate SiO 2 / R 2O is preferably 0.1 to 5, more preferably 0.2 to 4.9, and particularly preferably 0.3 to 4.8. Is even more preferable. If the mass ratio SiO 2 / R 2 O is too small, the hardness of the
アルカリケイ酸塩の屈折率ndは、1.46以上、1.47以上、1.48以上、特に1.49以上であることが好ましい。屈折率ndが小さすぎると、ガラス板2との屈折率さにより、光が散乱し意匠性が低下し易くなる。
The refractive index nd of the alkaline silicate is preferably 1.46 or more, 1.47 or more, 1.48 or more, and particularly preferably 1.49 or more. If the refractive index nd is too small, light is scattered due to the refractive index with the
無機層3は、さらに無機フィラーと、体質顔料を含んでいることが好ましい。
The
無機フィラーの形状は特に限定されないが、取り扱いの観点からは粒状、板状、鱗片状であることが好ましい。 The shape of the inorganic filler is not particularly limited, but from the viewpoint of handling, it is preferably granular, plate-shaped, or scaly.
無機フィラーの平均粒子径は、1~40μmであることが、無機層3中における分散性の観点からみて好ましい。ここで、平均粒子径は、レーザー回折散乱法により測定される体積分布から導かれるメディアン径である。なお、無機フィラーの平均粒子径は、10μm以上がより好ましく、20μm以上が更に好ましい。また、無機フィラーの平均粒子径は、35μm以下であることがより好ましく、30μm以下であることが更に好ましい。
The average particle size of the inorganic filler is preferably 1 to 40 μm from the viewpoint of dispersibility in the
無機フィラーのモース硬度は、5以上であることが好ましく、8以上がより好ましい。なお、モース硬度が高すぎても傷付き抑制効果が上がらず、コストが高くなるため、モース硬度は9以下であることが好ましい。モース硬度5以上のフレーク状の無機フィラーとしては、例えば、アルミナ、マグネシア、ガラス、正長石、石英、ダイヤモンド等が挙げられる。ここで、「モース硬度」は1~10までの10段階に分けたモース硬度である。 The Mohs hardness of the inorganic filler is preferably 5 or more, more preferably 8 or more. If the Mohs hardness is too high, the scratch suppressing effect does not increase and the cost increases. Therefore, the Mohs hardness is preferably 9 or less. Examples of the flake-shaped inorganic filler having a Mohs hardness of 5 or more include alumina, magnesia, glass, orthoclase, quartz, and diamond. Here, the "Mohs hardness" is the Mohs hardness divided into 10 stages from 1 to 10.
無機層3に含まれる体質顔料は、上記のような、モース硬度5以上の無機フィラーとは異なる無機顔料粉末である。体質顔料としては、特に限定されないが、例えば、タルク、マイカなどを用いることができる。これらの体質顔料は、1種を単独で用いてもよく、複数種を併用してもよい。体質顔料は、傷付きを抑制する効果は、無機フィラーと比較して低いものの、トッププレート1の耐熱性や耐衝撃性をより一層高めることができる。
The extender pigment contained in the
体質顔料の平均粒子径は、1~50μmであることが、無機層3中における分散性の観点からみて好ましい。ここで、平均粒子径は、レーザー回折散乱法により測定される体積分布から導かれるメディアン径である。なお、体質顔料の平均粒子径は、10μm以上がより好ましく、15μm以上が更に好ましい。また、体質顔料の平均粒子径は、45μm以下であることがより好ましく、40μm以下であることが更に好ましい。
The average particle size of the extender pigment is preferably 1 to 50 μm from the viewpoint of dispersibility in the
なお、塗布時の粘度調整として鎖状形態のナノ粒子を添加することができる。具体的には、シリカやアルミナ等を20%以下添加することができる。これらは、乾燥時の収縮を抑制できるが添加量が多くなると密着性が低下し、剥がれ等の原因となりやすい。 Chain-shaped nanoparticles can be added to adjust the viscosity at the time of coating. Specifically, 20% or less of silica, alumina and the like can be added. These can suppress shrinkage during drying, but if the amount added is large, the adhesiveness is lowered and it is easy to cause peeling or the like.
無機層3は、トッププレート1の着色のために無機着色顔料を含むことが好ましい。無機層3に含まれる無機着色顔料は、有色の無機物である限りにおいて特に限定されない。無機着色顔料としては、例えば、TiO2粉末、ZrO2粉末若しくはZrSiO4粉末などの白色の顔料粉末、Coを含む青色の無機顔料粉末、Coを含む緑色の無機顔料粉末、Tiを含む黄色の無機顔料粉末、Co-Si系の赤色の無機顔料粉末、Feを含む茶色の無機顔料粉末、又はCuを含む黒色の無機顔料粉末などが挙げられる。
The
Coを含む青色の無機顔料粉末の具体例としては、例えば、Co-Al系又はCo-Al-Ti系の無機顔料粉末が挙げられる。Co-Al系の無機顔料粉末の具体例としては、CoAl2O4粉末などが挙げられる。Co-Al-Ti系の無機顔料粉末の具体例としては、CoAl2O4-TiO2-Li2O粉末などが挙げられる。 Specific examples of the blue inorganic pigment powder containing Co include Co-Al-based or Co-Al-Ti-based inorganic pigment powder. Specific examples of the Co-Al-based inorganic pigment powder include CoAl 2 O 4 powder. Specific examples of the Co-Al-Ti-based inorganic pigment powder include CoAl 2 O 4 -TiO 2 -Li 2 O powder.
Coを含む緑色の無機顔料粉末の具体例としては、例えば、Co-Al-Cr系又はCo-Ni-Ti-Zn系の無機顔料粉末が挙げられる。Co-Al-Cr系の無機顔料粉末の具体例としては、Co(Al,Cr)2O4粉末などが挙げられる。Co-Ni-Ti-Zn系の無機顔料粉末の具体例としては、(Co,Ni,Zn)2TiO4粉末などが挙げられる。 Specific examples of the green inorganic pigment powder containing Co include Co—Al—Cr-based or Co—Ni—Ti—Zn-based inorganic pigment powder. Specific examples of the Co—Al—Cr-based inorganic pigment powder include Co ( Al, Cr) 2O4 powder. Specific examples of the Co—Ni—Ti—Zn-based inorganic pigment powder include (Co, Ni, Zn) 2 TiO 4 powder and the like.
Tiを含む黄色の無機顔料粉末の具体例としては、例えば、Ti-Sb-Cr系又はTi-Ni系の無機顔料粉末が挙げられる。Ti-Sb-Cr系の無機顔料粉末の具体例としては、Ti(Sb,Cr)O2などが挙げられる。Ti-Ni系の無機顔料粉末の具体例としては、Ti(Sb,Ni)O2などが挙げられる。 Specific examples of the yellow inorganic pigment powder containing Ti include Ti—Sb—Cr-based or Ti—Ni-based inorganic pigment powder. Specific examples of the Ti—Sb—Cr-based inorganic pigment powder include Ti (Sb, Cr) O 2 . Specific examples of the Ti—Ni-based inorganic pigment powder include Ti (Sb, Ni) O 2 .
Feを含む茶色の無機顔料粉末の具体例としては、例えば、Fe-Zn系の無機顔料粉末が挙げられる。Fe-Zn系の無機顔料粉末の具体例としては、(Zn,Fe)Fe2O4粉末などが挙げられる。 Specific examples of the brown inorganic pigment powder containing Fe include Fe—Zn-based inorganic pigment powder. Specific examples of the Fe—Zn-based inorganic pigment powder include (Zn, Fe) Fe 2 O 4 powder.
Cuを含む黒色の無機顔料粉末の具体例としては、例えば、Cu-Cr系の無機顔料粉末やCu-Fe系の無機顔料粉末が挙げられる。Cu-Cr系の無機顔料粉末の具体例としては、Cu(Cr,Mn)2O4粉末や、Cu-Cr-Mn粉末などが挙げられる。また、Cu-Fe系の無機顔料粉末の具体例としては、Cu-Fe-Mn粉末などが挙げられる。 Specific examples of the black inorganic pigment powder containing Cu include Cu—Cr-based inorganic pigment powder and Cu—Fe-based inorganic pigment powder. Specific examples of the Cu—Cr-based inorganic pigment powder include Cu (Cr, Mn) 2 O4 powder and Cu—Cr—Mn powder. Specific examples of the Cu—Fe-based inorganic pigment powder include Cu—Fe—Mn powder.
これらの無機着色顔料は、1種を単独で用いてもよく、複数種を併用してもよい。 These inorganic coloring pigments may be used alone or in combination of two or more.
なお、無機フィラーと無機着色顔料とは個別に無機層3中に分散していても良いが、意匠性を鑑みると、無機着色顔料の一部は、無機フィラーの表面に付着していてもよい。例えば、高速気流中衝撃法により、無機フィラーの表面に無機着色顔料を付着させることができる。このような無機フィラーを用いることにより、宝石のような光沢を有するトッププレート1を得ることができる。
The inorganic filler and the inorganic coloring pigment may be individually dispersed in the
無機着色顔料の平均粒子径としては、0.1~20μmであることが、無機層3中における分散性の観点からみて好ましい。ここで、平均粒子径は、レーザー回折散乱法により測定される体積分布から導かれるメディアン径である。なお、無機着色顔料の平均粒子径は、0.5μm以上がより好ましく、1μm以上が更に好ましい。また、無機着色顔料の平均粒子径は、15μm以下であることがより好ましく、10μm以下であることが更に好ましい。なお、無機着色顔料の形状については特に限定は無いが、球状であることが耐衝撃性および分散性の点からみて好ましい。
The average particle size of the inorganic coloring pigment is preferably 0.1 to 20 μm from the viewpoint of dispersibility in the
無機層3中における無機フィラーの含有量は、1~50質量%の範囲内であることが、傷付きを抑制する観点及び意匠性の観点からみて好ましい。なお、無機フィラーの含有量は、10質量%以上がより好ましく、15質量%以上が更に好ましい。また、無機フィラーの含有量は、35質量%以下であることがより好ましく、25質量%以下であることが更に好ましい。
The content of the inorganic filler in the
無機層3中における体質顔料の含有量は、5~40質量%の範囲内であることが、分散性の観点からみて好ましい。なお、体質顔料の含有量は、10質量%以上がより好ましく、15質量%以上が更に好ましい。また、体質顔料の含有量は、35質量%以下であることがより好ましく、30質量%以下であることが更に好ましい。
The content of the extender pigment in the
また、無機層3中における無機着色顔料の含有量は、10~55質量%の範囲内であることが、意匠性の観点からみて好ましい。なお、無機着色顔料の含有量は、15質量%以上がより好ましく、20質量%以上が更に好ましい。また、無機着色顔料の含有量は、40質量%以下であることがより好ましく、30質量%以下であることが更に好ましい。
Further, the content of the inorganic coloring pigment in the
無機層3の厚みは、無機層3の光透過率などに応じて適宜設定することができる。無機層3の厚みは、例えば、1~50μmの範囲内とすることができる。なお、無機層3の厚みは、10~15μmの範囲内であることがより好ましい。
The thickness of the
無機層3は、鉛筆硬度3H以上であることが好ましい。ここで、鉛筆硬度とは、JIS K5600-5-4(1999年)の鉛筆硬度試験に従って測定された硬度である。鉛筆硬度が3H以上であれば、裏面に傷が付き難いトッププレート1を得ることができる。
The
(トッププレート1の製造方法)
トッププレート1は、例えば、以下の方法により製造することができる。
(Manufacturing method of top plate 1)
The top plate 1 can be manufactured, for example, by the following method.
まず、アルカリケイ酸塩水溶液と、無機フィラー粉末と、無機着色顔料粉末と、体質顔料粉末とを含むペーストを用意する。次に、用意したペーストをガラス板2の裏面2b上に直接塗布し、乾燥させる。それによって、無機層3を有するトッププレート1を製造することができる。
First, a paste containing an alkaline silicate aqueous solution, an inorganic filler powder, an inorganic coloring pigment powder, and an extender pigment powder is prepared. Next, the prepared paste is directly applied onto the
ペーストの塗布スピード及び粘度は、無機層3に含まれるアルカリケイ酸塩粉末、無機フィラー粉末、無機着色顔料粉末及び体質顔料粉末の含有量に応じて適宜設定することができる。例えば、無機層3における無機フィラー粉末、無機着色顔料粉末及び体質顔料粉末の含有量が多い場合は、ペーストの粘度を低くし、シリコーン樹脂の塗布スピードを遅くすることが好ましい。ペーストの粘度を低くする方法としては、耐熱樹脂の種類を変更したり、ペーストに溶媒を加える方法が挙げられる。
The application speed and viscosity of the paste can be appropriately set according to the contents of the alkaline silicate powder, the inorganic filler powder, the inorganic coloring pigment powder and the extender pigment powder contained in the
塗布したペーストの乾燥温度としては、例えば、50~200℃程度とすることができる。乾燥時間としては、例えば、5分~1時間程度とすることができる。 The drying temperature of the applied paste can be, for example, about 50 to 200 ° C. The drying time can be, for example, about 5 minutes to 1 hour.
このように、本実施形態の製造方法では、アルカリケイ酸塩の融点が低いため、アルカリケイ酸塩粉末と、無機フィラー粉末と、着色顔料粉末と、体質顔料粉末とを含むペーストをガラス板2の裏面2b上に直接塗布し、乾燥させることによりトッププレート1が製造されるので、ガラス板2の裏面2bにガラスフリットを焼き付ける工程が存在しない。そのため、ガラス板2の裏側に引張応力が発生し難く、ガラス板2の調理面2aに荷重や衝撃が加わった際に、トッププレート1が破損し難い。
As described above, in the production method of the present embodiment, since the melting point of the alkaline silicate is low, the paste containing the alkaline silicate powder, the inorganic filler powder, the coloring pigment powder, and the extender pigment powder is formed on the
なお、B2O3-ZnO系等の低融点ガラス粉末をガラス板2の裏面2b上に多孔質になるように焼き付け、焼き付けた後にアルカリケイ酸塩粉末を含むペーストで孔部を埋めて乾燥させてもよい。このようにすれば、外気に曝されている無機層3の表面はアルカリケイ酸塩を含む層になるため、強度が高く、裏面に傷が付き難いトッププレート1を得ることが出来る。
A low melting point glass powder such as B2O3 - ZnO is baked on the back surface 2b of the
上記のように作製されたトッププレート1は破壊強度が70MPa以上と高くなり易い。なお、破壊強度は80MPa以上がより好ましく、90MPa以上が更に好ましい。 The top plate 1 manufactured as described above tends to have a high breaking strength of 70 MPa or more. The breaking strength is more preferably 80 MPa or more, further preferably 90 MPa or more.
なお、無機層3の上にシリコーングリース等を用いて温度センサー等を取り付けても構わない。但し、トッププレート1を加熱した際に、無機層が多孔質であるとシリコーングリースが無機層3の内部に侵入し、シリコーングリースのしみが調理面2a側から視認される虞があるため、無機層3は緻密であることが好ましい。
A temperature sensor or the like may be mounted on the
(第2の実施形態)
図2は、本発明の第2の実施形態に係る調理器用トッププレートを示す模式的断面図である。図2に示すように、トッププレート1では、無機層3の上にさらに保護層4が設けられている。保護層4は、耐熱性樹脂と、無機フィラー、体質顔料、無機着色顔料とを含んでいることが好ましい。保護層4を設けることにより、調理器内部の構造をより効果的に隠蔽することができる。
(Second embodiment)
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a top plate for a cooker according to a second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, in the top plate 1, a protective layer 4 is further provided on the
耐熱性樹脂として、例えばシリコーン樹脂が挙げられる。シリコーン樹脂は、例えば、シリコン原子に直接結合した官能基が、メチル基及びフェニル基のうち少なくとも一方であるシリコーン樹脂であることが好ましい。 Examples of the heat-resistant resin include silicone resins. The silicone resin is preferably, for example, a silicone resin in which the functional group directly bonded to the silicon atom is at least one of a methyl group and a phenyl group.
保護層4中におけるシリコーン樹脂の含有量は、20~50質量%の範囲内であることが、耐熱性や耐衝撃性の観点からみて好ましい。なお、シリコーン樹脂の含有量は、25質量%以上がより好ましく、30質量%以上が更に好ましい。また、シリコーン樹脂の含有量は、45質量%以下がより好ましく、40質量%以下が更に好ましい。 The content of the silicone resin in the protective layer 4 is preferably in the range of 20 to 50% by mass from the viewpoint of heat resistance and impact resistance. The content of the silicone resin is more preferably 25% by mass or more, further preferably 30% by mass or more. The content of the silicone resin is more preferably 45% by mass or less, further preferably 40% by mass or less.
無機層3、無機フィラー、体質顔料、無機着色顔料については第1の実施形態で記載した通りである。
The
保護層4の形成方法は、無機層3の形成方法と同様である。
The method for forming the protective layer 4 is the same as the method for forming the
以下、本発明について、実施例に基づいてさらに詳細を説明する。但し、以下の実施例は、単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. However, the following examples are merely examples. The present invention is not limited to the following examples.
(実施例1)
まず、ケイ酸ソーダとケイ酸リチウムを1:1に混合したアルカリケイ酸塩65質量%と、Cu-Fe-Mn系の黒色顔料(平均粒子径:1μm)15質量%と、タルクの体質顔料(平均粒子径:20μm)10質量%と、アルミナフィラー粉末(モース硬度: 9、平均粒子径:25μm)10質量%となるように混合した後ペースト化した。次に、このペーストを透明結晶化ガラス板(日本電気硝子社製、商品名「N-0」、30~750℃における平均線熱膨張係数:0.5×10-7/℃、厚み4mm)の裏面全体に、厚みが20μmとなるように、スクリーン印刷した。その後、100℃で10分間乾燥させ、さらに200℃で15分間乾燥することにより無機層を形成し、調理器用トッププレート(トッププレート)を作製した。なお、ケイ酸ソーダとケイ酸リチウムを1:1に混合した水溶液を板ガラスに塗布、乾燥し、100μmの膜厚を得た後、屈折率nd(d線の屈折率)をアッベ屈折率計(アタゴ製)にて測定した結果、1.495であった。
(Example 1)
First, 65% by mass of alkaline silicate, which is a 1: 1 mixture of sodium silicate and lithium silicate, 15% by mass of Cu-Fe-Mn-based black pigment (average particle size: 1 μm), and talc extender pigment. (Average particle size: 20 μm) 10% by mass and alumina filler powder (Morse hardness: 9, average particle size: 25 μm) 10% by mass were mixed and then made into a paste. Next, this paste is applied to a transparent crystallized glass plate (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., trade name "N-0", average linear thermal expansion coefficient at 30 to 750 ° C.: 0.5 × 10-7 / ° C., thickness 4 mm). The entire back surface of the glass was screen-printed so that the thickness was 20 μm. Then, it was dried at 100 ° C. for 10 minutes and further dried at 200 ° C. for 15 minutes to form an inorganic layer, and a top plate (top plate) for a cooker was prepared. An aqueous solution of sodium silicate and lithium silicate mixed 1: 1 was applied to a plate glass and dried to obtain a film thickness of 100 μm, and then the refractive index nd (refractive index of the d-line) was measured by an Abbe refractive index meter (d-line refractive index). As a result of measurement by Atago), it was 1.495.
(実施例2)
まず、B2O3-ZnO系ガラス粉末65質量%に上記黒色顔料15質量%、上記タルク体質顔料10質量%、上記アルミナフィラー粉末10質量%となるように混合した後ペースト化した。次に、このペーストを上記ガラス板の裏面全体に、厚みが20μmとなるようにスクリーン印刷した後、多孔質になるように780℃で焼成した。この後、ケイ酸ソーダと水を1:1に混合した水溶液をスプレーにて孔部を埋めるように塗布を行った。その後、100℃で10分間乾燥させ、さらに200℃で15分間乾燥することにより無機層を形成し、調理器用トッププレート(トッププレート)を作製した。なお、ケイ酸ソーダ水溶液を板ガラスに塗布、乾燥し、100μmの膜厚を得た後、屈折率nd(d線の屈折率)をアッベ屈折率計(アタゴ製)にて測定した結果、1.49であった。
(Example 2)
First, the B 2 O 3 -ZnO-based glass powder was mixed with 65% by mass of the black pigment, 10% by mass of the talc extender pigment, and 10% by mass of the alumina filler powder, and then made into a paste. Next, this paste was screen-printed on the entire back surface of the glass plate so as to have a thickness of 20 μm, and then fired at 780 ° C. so as to be porous. After that, an aqueous solution prepared by mixing sodium silicate and water in a ratio of 1: 1 was applied by spraying so as to fill the pores. Then, it was dried at 100 ° C. for 10 minutes and further dried at 200 ° C. for 15 minutes to form an inorganic layer, and a top plate (top plate) for a cooker was prepared. An aqueous solution of sodium silicate was applied to a plate glass and dried to obtain a film thickness of 100 μm, and then the refractive index nd (refractive index of the d-line) was measured with an Abbe refractive index meter (manufactured by Atago). It was 49.
(実施例3)
シリコーン樹脂67質量%(樹脂固形分)と、上記黒色顔料12質量%と、上記タルクの体質顔料12質量%と、上記アルミナフィラー粉末9質量%となるように混合した後ペースト化した。次に、このペーストを実施例1と同様の方法で形成した無機層上に、厚みが20μmとなるように、スクリーン印刷した。その後、100℃で10分間乾燥させ、さらに200℃で15分間乾燥することにより保護層を形成し、調理器用トッププレート(トッププレート)を作製した。
(Example 3)
The silicone resin 67% by mass (resin solid content), the black pigment 12% by mass, the talc extender pigment 12% by mass, and the alumina filler powder 9% by mass were mixed and then made into a paste. Next, this paste was screen-printed on an inorganic layer formed by the same method as in Example 1 so as to have a thickness of 20 μm. Then, it was dried at 100 ° C. for 10 minutes, and further dried at 200 ° C. for 15 minutes to form a protective layer, and a top plate (top plate) for a cooker was prepared.
(比較例1)
B2O3-ZnO系ガラス粉末65質量%に上記黒色顔料15質量%、上記タルク体質顔料10質量%、上記アルミナフィラー粉末10質量%となるように混合した後ペースト化した。次に、このペーストを上記ガラス板の裏面全体に、厚みが20μmとなるようにスクリーン印刷した後、緻密になるように900℃で焼成し、無機層が形成された調理器用トッププレート(トッププレート)を作製した。
(Comparative Example 1)
The B 2 O 3 -ZnO-based glass powder was mixed with 65% by mass of the black pigment, 10% by mass of the talc extender pigment, and 10% by mass of the alumina filler powder, and then made into a paste. Next, this paste was screen-printed on the entire back surface of the glass plate so as to have a thickness of 20 μm, and then fired at 900 ° C. to make it dense, and a top plate for a cooker (top plate) on which an inorganic layer was formed was formed. ) Was produced.
作製した実施例1~3の破壊強度、しみ、鉛筆硬度を評価した。結果を表1に示す。表1から明らかなように、実施例1~3は、破壊強度が120MPa以上、鉛筆硬度4H以上と高かった。一方、比較例1は破壊強度が60MPaと低かった。 The fracture strength, stains, and pencil hardness of the prepared Examples 1 to 3 were evaluated. The results are shown in Table 1. As is clear from Table 1, in Examples 1 to 3, the breaking strength was as high as 120 MPa or more and the pencil hardness was as high as 4 H or more. On the other hand, Comparative Example 1 had a low fracture strength of 60 MPa.
破壊強度は、曲げ強度試験機で上リング(直径12.5mm)、下リング(直径30mm)の治具を使用し、測定した。 The breaking strength was measured using a bending strength tester using jigs for the upper ring (diameter 12.5 mm) and the lower ring (diameter 30 mm).
しみは、トッププレートの無機層又は保護層上に黒色シリコーンを塗布し、250℃で1000時間放置した。シリコーン、シリコーン樹脂に含まれる有機物、水分等が無機層にしみ込んでいない場合を「〇」、保護層にしみ込んでいた場合を「△」、無機層にしみ込んでいた場合を「×」とした。 For stains, black silicone was applied on the inorganic layer or protective layer of the top plate, and the stain was left at 250 ° C. for 1000 hours. The case where the organic matter, moisture, etc. contained in the silicone or the silicone resin did not soak into the inorganic layer was evaluated as "○", the case where it soaked into the protective layer was evaluated as "Δ", and the case where it soaked into the inorganic layer was evaluated as "x".
鉛筆硬度は、トッププレートの上記層が形成された側において、鉛筆硬度試験(JIS K5600-5-4(1999年))によって測定した。 The pencil hardness was measured by a pencil hardness test (JIS K5600-5-4 (1999)) on the side of the top plate on which the above layer was formed.
1 調理器用トッププレート
2 ガラス板
2a 調理面
2b 裏面
3 無機層
4 保護層
1 Top plate for
Claims (9)
前記調理面と対向する裏面とを有するガラス板と、
前記ガラス板の裏面に接して設けられた無機層を有する調理器用トッププレートであって、
前記無機層は、化学式R2O・nSiO2(Rはアルカリ金属元素、nは正の任意の数)で表されるアルカリケイ酸塩を含むことを特徴とする調理器用トッププレート。 The cooking surface that the cooking utensils come in contact with,
A glass plate having a back surface facing the cooking surface and
A top plate for a cooker having an inorganic layer provided in contact with the back surface of the glass plate.
The cooking top plate is characterized in that the inorganic layer contains an alkali silicate represented by the chemical formula R 2 O · nSiO 2 (R is an alkali metal element and n is an arbitrary positive number).
前記調理面と対向する裏面とを有するガラス板と、
前記ガラス板の調理面に接して設けられた無機層を有する調理器用トッププレートであって、
前記無機層は、化学式R2O・nSiO2(Rはアルカリ金属元素、nは正の任意の数)で表されるアルカリケイ酸塩を含むことを特徴とする調理器用トッププレート。
The cooking surface that the cooking utensils come in contact with,
A glass plate having a back surface facing the cooking surface and
A top plate for a cooker having an inorganic layer provided in contact with the cooking surface of the glass plate.
The cooking top plate is characterized in that the inorganic layer contains an alkali silicate represented by the chemical formula R 2 O · nSiO 2 (R is an alkali metal element and n is an arbitrary positive number).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020161781A JP2022054639A (en) | 2020-09-28 | 2020-09-28 | Top plate for cookers |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020161781A JP2022054639A (en) | 2020-09-28 | 2020-09-28 | Top plate for cookers |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022054639A true JP2022054639A (en) | 2022-04-07 |
Family
ID=80997882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020161781A Pending JP2022054639A (en) | 2020-09-28 | 2020-09-28 | Top plate for cookers |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2022054639A (en) |
-
2020
- 2020-09-28 JP JP2020161781A patent/JP2022054639A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6050321B2 (en) | Electromagnetic cooker | |
JP6212162B2 (en) | Induction cooking utensil and method of manufacturing glass plate used in induction cooking utensil | |
EP2914555B1 (en) | Glass plate for induction cooking device | |
JP5869495B2 (en) | Enamel composition for glass-ceramics | |
JP2009518797A5 (en) | ||
KR20130111978A (en) | Cooking device | |
JP6635610B2 (en) | Painting material, ceramic products, manufacturing method of ceramic products | |
JP5621121B2 (en) | Top plate for electromagnetic heating cooker | |
JP2017501102A (en) | Induction cooking plate and manufacturing method | |
EP3511631B1 (en) | Cooking device top plate and manufacturing method for same | |
JP6934628B2 (en) | Top plate for cooker | |
WO2020122069A1 (en) | Top plate for cooking device | |
JP2022054639A (en) | Top plate for cookers | |
WO2016136576A1 (en) | Top plate for cooking device | |
JP2022071884A (en) | Top plate for cookers | |
TW202139773A (en) | Cooking device top plate | |
JP2021096025A (en) | Method for producing top plate for cookers | |
JP2021063634A (en) | Top plate for cookers and cooker | |
JP2018150227A (en) | Glass frit, enamel composition, and method for producing enameled glass ceramic article, and use thereof | |
WO2023032927A1 (en) | Top plate for heat cooker | |
JP2007195632A (en) | Inner pot for rice cooker | |
WO2023120207A1 (en) | Cooker top plate | |
WO2020130064A1 (en) | Top plate for cooker | |
JP2023093289A (en) | top plate for cooker | |
JP2020097505A (en) | Heat-resistant glass |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230804 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240214 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240311 |