JP2022054206A - Grinding device - Google Patents

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JP2022054206A JP2020161262A JP2020161262A JP2022054206A JP 2022054206 A JP2022054206 A JP 2022054206A JP 2020161262 A JP2020161262 A JP 2020161262A JP 2020161262 A JP2020161262 A JP 2020161262A JP 2022054206 A JP2022054206 A JP 2022054206A
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宗久 児玉
Munehisa Kodama
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Abstract

To provide a technology that improves flow of grinding dust and a grinding liquid in a pan of a housing when an interior of the housing is partitioned into four rooms.SOLUTION: A grinding device includes: chucks; a table; a housing; a fixed partition wall; a tool drive part; and a nozzle. The fixed partition wall partitions an interior of the housing into four rooms around a rotation center line of the table. The tool drive part drives a grinding tool pressed to a substrate in the room. The nozzle supplies a grinding liquid to the substrate in the room. The housing includes a pan which is located below the chucks and receives the grinding liquid and the grinding dust which drop thereon. The pan has two inclined surfaces, which incline downward as a distance from a border line between the two adjacent rooms and the other two rooms increases, on its upper surface.SELECTED DRAWING: Figure 10

Description

本開示は、研削装置に関する。 The present disclosure relates to a grinding device.

特許文献1に記載の加工装置は、ターンテーブルと、一対の保持テーブルと、加工手段と、ウォーターケースと、を備える。ウォーターケースは、ターンテーブルを露出する開口を有し、ターンテーブルから流下する被加工物を加工した加工屑を含む加工廃液を受け止め、排水口から排水する。 The processing apparatus described in Patent Document 1 includes a turntable, a pair of holding tables, processing means, and a water case. The water case has an opening that exposes the turntable, receives the processing waste liquid containing the processed waste of the workpiece flowing down from the turntable, and drains it from the drain port.

特許文献2に記載の研削装置は、保持テーブルと、研削水を供給して研削を施す研削手段と、回転軸を中心に均等な角度で2つ以上の該保持テーブルが配設されるターンテーブルと、ターンテーブルの上面を覆うテーブルカバーとを備える。テーブルカバーの上面は、回転軸から外周方向に向けて下方に傾斜している。研削水は、ウォーターケースの排出口から排出される。研削屑は、ウォーターケースの排出口には、研削水に混入した研削屑をかき集める網がセットされている。研削屑は、適宜、網から取り除かれる。 The grinding apparatus described in Patent Document 2 is a turntable in which a holding table, a grinding means for supplying grinding water for grinding, and two or more holding tables are arranged at an equal angle around a rotation axis. And a table cover that covers the upper surface of the turntable. The upper surface of the table cover is inclined downward from the rotation axis toward the outer peripheral direction. Grinding water is discharged from the outlet of the water case. For the grinding debris, a net for collecting the grinding debris mixed in the grinding water is set at the discharge port of the water case. Grinding debris is removed from the net as appropriate.

特許文献3に記載の平面加工装置は、仕切板を有する。仕切板は、インデックステーブルに固定されると共に、インデックステーブルに設置された4台のチャックを仕切るように十字形状に形成されている。平面加工装置は、チャック及びインデックステーブルを収容するケーシングを有し、その内部で研削液を基板に供給しながら、基板を砥石で研削する。ケーシングの上面及び側面には、ブラシが取り付けられる。ブラシは、チャックが加工位置に位置した時に、仕切板の上面及び側面に接触する。 The flat surface processing apparatus described in Patent Document 3 has a partition plate. The partition plate is fixed to the index table and is formed in a cross shape so as to partition the four chucks installed on the index table. The flattening apparatus has a casing that houses a chuck and an index table, and grinds the substrate with a grindstone while supplying the grinding fluid to the substrate inside the casing. Brushes are attached to the top and sides of the casing. The brush contacts the top and sides of the divider when the chuck is in the machining position.

特開2017-222015号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-22215 特開2013-188813号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-188813 特開2010-124006号公報JP-A-2010-124006

本開示の一態様は、筐体の内部を4つの部屋に仕切る場合に、筐体のパンにおける研削屑及び研削液の流れを改善する、技術を提供する。 One aspect of the present disclosure provides a technique for improving the flow of grinding debris and grinding fluid in the pan of a housing when the interior of the housing is partitioned into four chambers.

本開示の一態様に係る研削装置は、複数のチャックと、テーブルと、筐体と、固定仕切壁と、工具駆動部と、ノズルと、を備える。前記チャックは、基板を保持する。前記テーブルは、複数の前記チャックを回転中心線の周りに保持し、前記回転中心線を中心に回転する。前記筐体は、複数の前記チャックを収容する。前記固定仕切壁は、前記筐体の内部を、前記テーブルの前記回転中心線の周りに4つの部屋に仕切る。前記工具駆動部は、前記部屋の内部で前記基板に押し当てた研削工具を駆動する。前記ノズルは、前記部屋の内部で前記基板に対して研削液を供給する。前記筐体は、複数の前記チャックの下方に位置し、落下する前記研削液及び研削屑を受けるパンを含む。前記パンは、その上面に、互いに隣り合う2つの前記部屋と残り2つの前記部屋との境界線から離れるほど下方に傾斜する2つの傾斜面を有する。 The grinding apparatus according to one aspect of the present disclosure includes a plurality of chucks, a table, a housing, a fixed partition wall, a tool drive unit, and a nozzle. The chuck holds the substrate. The table holds a plurality of the chucks around the rotation center line and rotates around the rotation center line. The housing accommodates a plurality of the chucks. The fixed partition wall partitions the inside of the housing into four rooms around the rotation center line of the table. The tool drive unit drives a grinding tool pressed against the substrate inside the room. The nozzle supplies the grinding fluid to the substrate inside the room. The housing is located below the plurality of chucks and includes a pan that receives the falling grinding fluid and grinding debris. The pan has two inclined surfaces on its upper surface, which are inclined downward so as to be separated from the boundary line between the two adjacent rooms and the remaining two rooms.

本開示の一態様によれば、筐体の内部を4つの部屋に仕切る場合に、筐体のパンにおける研削屑及び研削液の流れを改善できる。 According to one aspect of the present disclosure, when the inside of the housing is divided into four rooms, the flow of grinding debris and grinding fluid in the pan of the housing can be improved.

図1は、一実施形態に係る研削装置を、筐体の上面パネルを透過して示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing the grinding apparatus according to the embodiment through the upper surface panel of the housing. 図2は、工具駆動部の一例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a tool drive unit. 図3は、筐体の搬入出室の一例を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing an example of the loading / unloading chamber of the housing. 図4(A)は固定仕切壁の一例を示す図であり、図4(B)は図4(A)の矢印B方向から見た図であり、図4(C)は図4(A)の矢印C方向から側壁を透過して見た図であり、図4(D)は図4(C)のD-D線に沿った断面図である。4 (A) is a view showing an example of a fixed partition wall, FIG. 4 (B) is a view seen from the direction of arrow B of FIG. 4 (A), and FIG. 4 (C) is a view of FIG. 4 (A). It is a view seen through the side wall from the arrow C direction of FIG. 4, and FIG. 4D is a cross-sectional view taken along the line DD of FIG. 4C. 図5は、チャックカバー、テーブルカバー及びベースカバーの一例を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of a chuck cover, a table cover, and a base cover. 図6(A)は図5に示す内筒部の一例を示す上面図であり、図6(B)は図6(A)の内筒部の一部を取り外した状態の一例を示す上面図である。6 (A) is a top view showing an example of the inner cylinder portion shown in FIG. 5, and FIG. 6 (B) is a top view showing an example of a state in which a part of the inner cylinder portion of FIG. 6 (A) is removed. Is. 図7は、図5に示す内筒部の一部を取り外した状態の一例を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of a state in which a part of the inner cylinder portion shown in FIG. 5 is removed. 図8は、洗浄液の流れの一例を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing an example of the flow of the cleaning liquid. 図9(A)は排気ボックスの一例を示す断面図であって図9(B)のA-A線に沿った断面図であり、図9(B)は図9(A)の矢印B方向から見た側面パネルと固定仕切壁の一例を示す図である。9 (A) is a cross-sectional view showing an example of an exhaust box, which is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 9 (B), and FIG. 9 (B) is in the direction of arrow B of FIG. 9 (A). It is a figure which shows an example of a side panel and a fixed partition wall seen from the side. 図10(A)はX軸方向から見たパンの一例を示す断面図であり、図10(B)はY軸負方向から見たパンの一例を示す断面図であり、図10(C)はY軸正方向から見たパンの一例を示す断面図である。10 (A) is a cross-sectional view showing an example of bread seen from the X-axis direction, and FIG. 10 (B) is a cross-sectional view showing an example of bread seen from the negative direction of the Y-axis, FIG. 10 (C). Is a cross-sectional view showing an example of a pan seen from the positive direction of the Y axis. 図11は、図8に示す筐体と工具駆動部の一例を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing an example of the housing and the tool drive unit shown in FIG. 図12は、液面レベルセンサの配置の一例を示す平面図である。FIG. 12 is a plan view showing an example of the arrangement of the liquid level sensor. 図13は、図12のXIII-XIII線に沿った断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view taken along the line XIII-XIII of FIG. 図14(A)は研削装置の外装の一例を示す斜視図であり、図14(B)は回収部の一例を示す斜視図である。14 (A) is a perspective view showing an example of the exterior of the grinding device, and FIG. 14 (B) is a perspective view showing an example of the recovery unit. 図15(A)は研削屑の収容先の一例を示す断面図であり、図15(B)は切替後の収容先の一例を示す断面図である。FIG. 15 (A) is a cross-sectional view showing an example of a storage destination of grinding chips, and FIG. 15 (B) is a cross-sectional view showing an example of a storage destination after switching.

以下、本開示の実施形態について図面を参照して説明する。なお、各図面において同一の又は対応する構成には同一の符号を付し、説明を省略することがある。本明細書において、X軸方向、Y軸方向、Z軸方向は互いに垂直な方向である。X軸方向およびY軸方向は水平方向、Z軸方向は鉛直方向である。 Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings. In each drawing, the same or corresponding configurations may be designated by the same reference numerals and description thereof may be omitted. In the present specification, the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction are perpendicular to each other. The X-axis direction and the Y-axis direction are the horizontal direction, and the Z-axis direction is the vertical direction.

先ず、図1を参照して、研削装置1について説明する。研削装置1は、基板Wを研削する。基板Wは、シリコンウェハ若しくは化合物半導体ウェハ等の半導体基板、又はガラス基板を含む。基板Wは、半導体基板又はガラス基板の表面に形成されるデバイス層を更に含んでもよい。デバイス層は、電子回路を含む。また、基板Wは、複数の基板を接合した重合基板であってもよい。研削は、研磨を含む。研削装置1は、例えば、テーブル10と、4つのチャック20と、3つの工具駆動部30と、筐体40と、制御部16と、を備える。 First, the grinding apparatus 1 will be described with reference to FIG. The grinding device 1 grinds the substrate W. The substrate W includes a semiconductor substrate such as a silicon wafer or a compound semiconductor wafer, or a glass substrate. The substrate W may further include a device layer formed on the surface of the semiconductor substrate or the glass substrate. The device layer includes electronic circuits. Further, the substrate W may be a polymerized substrate in which a plurality of substrates are joined. Grinding involves polishing. The grinding device 1 includes, for example, a table 10, four chucks 20, three tool driving units 30, a housing 40, and a control unit 16.

制御部16は、例えばコンピュータであり、CPU(Central Processing Unit)17と、メモリ等の記憶媒体18とを備える。記憶媒体18には、研削装置1において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部16は、記憶媒体18に記憶されたプログラムをCPU17に実行させることにより、研削装置1の動作を制御する。 The control unit 16 is, for example, a computer, and includes a CPU (Central Processing Unit) 17 and a storage medium 18 such as a memory. The storage medium 18 stores programs that control various processes executed in the grinding apparatus 1. The control unit 16 controls the operation of the grinding apparatus 1 by causing the CPU 17 to execute the program stored in the storage medium 18.

テーブル10は、4つのチャック20を回転中心線R1の周りに保持し、回転中心線R1を中心に回転する。上方から見て、テーブル10の回転方向は、時計回り方向と、反時計回り方向とに切り替えられる。 The table 10 holds four chucks 20 around the rotation center line R1 and rotates around the rotation center line R1. When viewed from above, the rotation direction of the table 10 can be switched between a clockwise direction and a counterclockwise direction.

4つのチャック20は、テーブル10の回転中心線R1の周りに等間隔で配置される。各チャック20は、テーブル10と共に回転し、搬入出位置A0と、1次研削位置A1と、2次研削位置A2と、3次研削位置A3と、搬入出位置A0とにこの順番で移動する。 The four chucks 20 are arranged at equal intervals around the rotation center line R1 of the table 10. Each chuck 20 rotates together with the table 10 and moves to the loading / unloading position A0, the primary grinding position A1, the secondary grinding position A2, the tertiary grinding position A3, and the loading / unloading position A0 in this order.

搬入出位置A0は、チャック20に対する基板Wの搬入出が行われる位置であり、基板Wの搬入が行われる位置と、基板Wの搬出が行われる位置とを兼ねる。1次研削位置A1は、基板Wの1次研削が行われる位置である。2次研削位置A2は、基板Wの2次研削が行われる位置である。3次研削位置A3は、基板Wの3次研削が行われる位置である。なお、本実施形態では搬入位置と搬出位置とは同じ位置であるが、搬入位置と搬出位置とは異なる位置であってもよい。 The carry-in / out position A0 is a position where the board W is carried in / out with respect to the chuck 20, and serves as a position where the board W is carried in and out and a position where the board W is carried out. The primary grinding position A1 is a position where the primary grinding of the substrate W is performed. The secondary grinding position A2 is a position where the secondary grinding of the substrate W is performed. The tertiary grinding position A3 is a position where the tertiary grinding of the substrate W is performed. In this embodiment, the carry-in position and the carry-out position are the same, but the carry-in position and the carry-out position may be different.

4つのチャック20は、それぞれの回転中心線R2(図2参照)を中心に回転自在に、テーブル10に取り付けられる。チャック20毎に、チャック20を駆動するチャック駆動部19が設けられる。 The four chucks 20 are rotatably attached to the table 10 about their respective rotation center lines R2 (see FIG. 2). A chuck drive unit 19 for driving the chuck 20 is provided for each chuck 20.

チャック駆動部19は、例えば、チャック20を回転させるモータ19aを含む。モータ19aの回転駆動力は、タイミングベルト等を介してチャック20に伝達される。なお、タイミングベルトの代わりに、ギヤが用いられてもよい。 The chuck drive unit 19 includes, for example, a motor 19a for rotating the chuck 20. The rotational driving force of the motor 19a is transmitted to the chuck 20 via a timing belt or the like. A gear may be used instead of the timing belt.

1つの工具駆動部30は、1次研削用の研削工具Dを駆動する。工具駆動部30は、研削工具Dを回転させたり、昇降させたりする。別の工具駆動部30は、2次研削用の研削工具Dを駆動する。残りの工具駆動部30は、3次研削用の研削工具Dを駆動する。 One tool driving unit 30 drives the grinding tool D for primary grinding. The tool drive unit 30 rotates and raises and lowers the grinding tool D. Another tool drive unit 30 drives the grinding tool D for secondary grinding. The remaining tool drive unit 30 drives the grinding tool D for tertiary grinding.

次に、図2を参照して工具駆動部30について説明する。工具駆動部30は、研削工具Dが装着される可動部31を含む。研削工具Dは、基板Wに押し当てられ、基板Wを研削する。研削工具Dは、例えば円盤状の研削ホイールD1と、研削ホイールD1の下面にリング状に配列される複数の砥石D2と、を含む。 Next, the tool drive unit 30 will be described with reference to FIG. The tool drive unit 30 includes a movable unit 31 on which the grinding tool D is mounted. The grinding tool D is pressed against the substrate W and grinds the substrate W. The grinding tool D includes, for example, a disk-shaped grinding wheel D1 and a plurality of grindstones D2 arranged in a ring shape on the lower surface of the grinding wheel D1.

可動部31は、研削工具Dが装着されるフランジ32と、フランジ32が下端に設けられるスピンドル軸33と、スピンドル軸33を回転させるスピンドルモータ34と、を有する。フランジ32は水平に配置され、その下面に研削工具Dが装着される。スピンドル軸33は鉛直に配置される。スピンドルモータ34は、スピンドル軸33を回転し、フランジ32に装着された研削工具Dを回転させる。研削工具Dの回転中心線R3は、スピンドル軸33の回転中心線である。 The movable portion 31 has a flange 32 on which the grinding tool D is mounted, a spindle shaft 33 having the flange 32 at the lower end, and a spindle motor 34 for rotating the spindle shaft 33. The flange 32 is arranged horizontally, and the grinding tool D is mounted on the lower surface thereof. The spindle shaft 33 is arranged vertically. The spindle motor 34 rotates the spindle shaft 33 and rotates the grinding tool D mounted on the flange 32. The rotation center line R3 of the grinding tool D is the rotation center line of the spindle shaft 33.

工具駆動部30は、更に、可動部31を昇降させる昇降部35を有する。昇降部35は、例えば、鉛直なZ軸ガイド36と、Z軸ガイド36に沿って移動するZ軸スライダ37と、Z軸スライダ37を移動させるZ軸モータ38と、を有する。Z軸スライダ37には可動部31が固定され、Z軸スライダ37と共に可動部31及び研削工具Dが昇降する。昇降部35は、研削工具Dの位置を検出する位置検出器39を更に有する。位置検出器39は、例えばZ軸モータ38の回転を検出し、研削工具Dの位置を検出する。 The tool drive unit 30 further has an elevating unit 35 that elevates and elevates the movable unit 31. The elevating portion 35 has, for example, a vertical Z-axis guide 36, a Z-axis slider 37 that moves along the Z-axis guide 36, and a Z-axis motor 38 that moves the Z-axis slider 37. A movable portion 31 is fixed to the Z-axis slider 37, and the movable portion 31 and the grinding tool D move up and down together with the Z-axis slider 37. The elevating unit 35 further includes a position detector 39 for detecting the position of the grinding tool D. The position detector 39 detects, for example, the rotation of the Z-axis motor 38 and detects the position of the grinding tool D.

昇降部35は、研削工具Dを待機位置から下降させる。研削工具Dは、下降しながら回転し、回転する基板Wの上面と接触し、基板Wの上面全体を研削する。基板Wの厚みが設定値に達すると、昇降部35は研削工具Dの下降を停止する。その後、昇降部35は、研削工具Dを待機位置まで上昇させる。 The elevating part 35 lowers the grinding tool D from the standby position. The grinding tool D rotates while descending, comes into contact with the upper surface of the rotating substrate W, and grinds the entire upper surface of the substrate W. When the thickness of the substrate W reaches the set value, the elevating portion 35 stops the lowering of the grinding tool D. After that, the elevating part 35 raises the grinding tool D to the standby position.

研削装置1は、複数のチャック20を収容する筐体40を備える。筐体40は、研削屑及び研削液が外部に飛散するのを抑制する。研削屑は、基板Wの研削によって生じる粉又は破片である。粉は、基板Wから削り出される粉と、研削工具Dから脱離する砥粒とを含む。破片は、例えば基板Wの周縁にて生じる円弧状の薄片である。筐体40は、テーブル10をも収容してもよい。 The grinding device 1 includes a housing 40 that accommodates a plurality of chucks 20. The housing 40 suppresses the scattering of grinding debris and grinding fluid to the outside. The grinding debris is powder or debris generated by grinding the substrate W. The powder includes powder that is cut out from the substrate W and abrasive grains that are separated from the grinding tool D. The debris is, for example, an arcuate thin section generated at the peripheral edge of the substrate W. The housing 40 may also accommodate the table 10.

筐体40は、チャック20の上方に位置する上面パネル41と、チャック20の側方に位置する側面パネル42と、を有する。上面パネル41は水平であり、側面パネル42は鉛直である。上面パネル41は、側面パネル42の上に位置する。上面パネル41には、可動部31の挿入口41aが形成される。 The housing 40 has a top panel 41 located above the chuck 20 and a side panel 42 located on the side of the chuck 20. The top panel 41 is horizontal and the side panel 42 is vertical. The top panel 41 is located above the side panel 42. The upper panel 41 is formed with an insertion port 41a for the movable portion 31.

図1に破線で示すように、上面パネル41は、例えば1次研削位置A1、2次研削位置A2及び3次研削位置A3の上方を覆う。また、上面パネル41は、搬入出位置A0の上方を開放する。例えば、上面パネル41は、上方から見て、矩形の一角をL字状に切り欠いた形状を有する。 As shown by the broken line in FIG. 1, the upper surface panel 41 covers, for example, above the primary grinding position A1, the secondary grinding position A2, and the tertiary grinding position A3. Further, the upper surface panel 41 opens above the carry-in / out position A0. For example, the upper surface panel 41 has a shape in which one corner of a rectangle is cut out in an L shape when viewed from above.

図2に示すように、研削装置1は、チャック20で保持された基板Wに対して研削液を供給するノズル50を備える。研削液は、例えば、DIW(Deionized Water)等の純水である。研削液は、基板Wと研削工具Dの間に入り込み、研削抵抗を減らし、熱の発生を抑制する。 As shown in FIG. 2, the grinding device 1 includes a nozzle 50 that supplies a grinding liquid to the substrate W held by the chuck 20. The grinding fluid is, for example, pure water such as DIW (Deionized Water). The grinding fluid enters between the substrate W and the grinding tool D, reduces the grinding resistance, and suppresses the generation of heat.

図1に示すように、研削装置1は、筐体40の内部を、テーブル10の回転中心線R1の周りに複数の部屋に仕切る固定仕切壁45を備える。固定仕切壁45は、上面パネル41の下面に固定される。上方から見て、固定仕切壁45は、テーブル10の径方向(回転中心線R1に直交する方向)に延びている。 As shown in FIG. 1, the grinding apparatus 1 includes a fixed partition wall 45 that partitions the inside of the housing 40 into a plurality of rooms around the rotation center line R1 of the table 10. The fixed partition wall 45 is fixed to the lower surface of the upper surface panel 41. Seen from above, the fixed partition wall 45 extends in the radial direction of the table 10 (direction orthogonal to the rotation center line R1).

固定仕切壁45は、例えば、十字状に設けられ、筐体40の内部を、テーブル10の回転中心線R1の周りに4つの部屋B0~B3に仕切る。3つの部屋B1~B3は、基板Wの研削が行われる研削室である。B1は1次研削室であり、B2は2次研削室であり、B3は3次研削室である。残り1つの部屋B0は、基板Wの搬入出が行われる搬入出室である。基板Wの搬入出は、外部の搬送装置とチャック20とが基板Wを受け渡すことを含む。 The fixed partition wall 45 is provided, for example, in a cross shape, and partitions the inside of the housing 40 into four rooms B0 to B3 around the rotation center line R1 of the table 10. The three chambers B1 to B3 are grinding chambers in which the substrate W is ground. B1 is a primary grinding chamber, B2 is a secondary grinding chamber, and B3 is a tertiary grinding chamber. The remaining one room B0 is a loading / unloading room in which the substrate W is loaded / unloaded. The loading / unloading of the substrate W includes the transfer of the substrate W between the external transfer device and the chuck 20.

上方から見て、筐体40の内部は、反時計回り方向に、搬入出室B0と、1次研削室B1と、2次研削室B2と、3次研削室B3とにこの順番で仕切られている。なお、4つの部屋B0~B3の順番は逆でもよく、上方から見て、筐体40の内部は、時計回り方向に、搬入出室B0と、1次研削室B1と、2次研削室B2と、3次研削室B3とにこの順番で仕切られていてもよい。 When viewed from above, the inside of the housing 40 is partitioned counterclockwise into the loading / unloading chamber B0, the primary grinding chamber B1, the secondary grinding chamber B2, and the tertiary grinding chamber B3 in this order. ing. The order of the four chambers B0 to B3 may be reversed, and when viewed from above, the inside of the housing 40 is, in the clockwise direction, the loading / unloading chamber B0, the primary grinding chamber B1, and the secondary grinding chamber B2. And the tertiary grinding chamber B3 may be partitioned in this order.

図3に示すように、研削装置1は、テーブル10と共に回転する複数の回転仕切壁15を備える。複数の回転仕切壁15は、それぞれ、テーブル10の周方向に隣り合う複数のチャック20の間に位置し、テーブル10と共に回転し、固定仕切壁45の真下で停止し、固定仕切壁45の下端部と接触する。固定仕切壁45と回転仕切壁15は、互いに隣り合う部屋間での、研削屑及び研削液の移動を抑制する。なお、回転仕切壁45の上端部と、固定仕切壁45の下端部とは、接触しなくてもよい。 As shown in FIG. 3, the grinding apparatus 1 includes a plurality of rotary partition walls 15 that rotate together with the table 10. Each of the plurality of rotary partition walls 15 is located between a plurality of chucks 20 adjacent to each other in the circumferential direction of the table 10, rotates with the table 10, stops directly under the fixed partition wall 45, and is the lower end of the fixed partition wall 45. Contact the part. The fixed partition wall 45 and the rotary partition wall 15 suppress the movement of grinding debris and grinding fluid between adjacent rooms. The upper end of the rotary partition wall 45 and the lower end of the fixed partition wall 45 do not have to be in contact with each other.

例えば、固定仕切壁45と回転仕切壁15は、1次研削室B1及び3次研削室B3から搬入出室B0への研削屑等の侵入を抑制し、搬入出室B0を清浄に保つ。また、固定仕切壁45と回転仕切壁15は、粒径の大きい1次研削屑が1次研削室B1から2次研削室B2に侵入するのを抑制し、2次研削後の研削面の荒れを抑制する。更に、固定仕切壁45と回転仕切壁15は、粒径の大きい2次研削屑が2次研削室B2から3次研削室B3に侵入するのを抑制し、3次研削後の研削面の荒れを抑制する。 For example, the fixed partition wall 45 and the rotary partition wall 15 suppress the intrusion of grinding debris and the like from the primary grinding chamber B1 and the tertiary grinding chamber B3 into the loading / unloading chamber B0, and keep the loading / unloading chamber B0 clean. Further, the fixed partition wall 45 and the rotary partition wall 15 suppress the invasion of the primary grinding debris having a large particle size from the primary grinding chamber B1 into the secondary grinding chamber B2, and the roughness of the grinding surface after the secondary grinding is roughened. Suppress. Further, the fixed partition wall 45 and the rotary partition wall 15 suppress the invasion of the secondary grinding debris having a large particle size from the secondary grinding chamber B2 into the tertiary grinding chamber B3, and the roughness of the grinding surface after the tertiary grinding is roughened. Suppress.

図4に示すように、固定仕切壁45は、テーブル10の径方向(図4ではY軸方向)に延びる上壁100と、上壁100に沿って上壁100から吊り下げられる第1上シート111と、第1上シート111と間隔をおいて向かい合う第2上シート112と、を含む。第1上シート111、及び第2上シート112は、例えば樹脂シート又はゴムシートである。 As shown in FIG. 4, the fixed partition wall 45 includes an upper wall 100 extending in the radial direction of the table 10 (Y-axis direction in FIG. 4) and a first upper sheet suspended from the upper wall 100 along the upper wall 100. Includes 111 and a second upper sheet 112 that faces the first upper sheet 111 at intervals. The first upper sheet 111 and the second upper sheet 112 are, for example, a resin sheet or a rubber sheet.

第1上シート111と、第2上シート112とは、特許文献3に記載のブラシとは異なり、線ではなく面で、研削屑及び研削液の移動を阻害する。また、第1上シート111と、第2上シート112とは、研削屑及び研削液の移動を二重に阻害する。従って、従来よりも、隣り合う部屋間での研削屑及び研削液の移動を阻害できる。 Unlike the brush described in Patent Document 3, the first upper sheet 111 and the second upper sheet 112 inhibit the movement of grinding debris and grinding fluid by a surface instead of a line. Further, the first upper sheet 111 and the second upper sheet 112 doubly hinder the movement of the grinding debris and the grinding fluid. Therefore, it is possible to hinder the movement of grinding debris and grinding fluid between adjacent rooms as compared with the conventional case.

図4(B)に示すように、上壁100は、その下端に、テーブル10の径方向に延びる水平部101と、水平部101の幅方向一端から下方に突出する鉛直部102と、を有する。水平部101と鉛直部102とは、L字アングル103を形成する。固定仕切壁45は、鉛直部102に対して第1上シート111及び第2上シート112を固定する固定具を有する。その固定具は、特に限定されないが、例えばボルト120である。 As shown in FIG. 4B, the upper wall 100 has a horizontal portion 101 extending in the radial direction of the table 10 and a vertical portion 102 protruding downward from one end in the width direction of the horizontal portion 101 at the lower end thereof. .. The horizontal portion 101 and the vertical portion 102 form an L-shaped angle 103. The fixing partition wall 45 has a fixing tool for fixing the first upper sheet 111 and the second upper sheet 112 to the vertical portion 102. The fixture is not particularly limited, but is, for example, a bolt 120.

ボルト120は、テーブル10の径方向に間隔をおいて複数設けられる。ボルト120の軸部121は、第1上シート111の貫通穴と第2上シート112の貫通穴を通り、鉛直部102のボルト穴にねじ込まれる。ボルト120の頭部122は、押さえ板123等を介して第1上シート111及び第2上シート112を押さえる。 A plurality of bolts 120 are provided at intervals in the radial direction of the table 10. The shaft portion 121 of the bolt 120 passes through the through hole of the first upper sheet 111 and the through hole of the second upper sheet 112, and is screwed into the bolt hole of the vertical portion 102. The head 122 of the bolt 120 presses the first upper sheet 111 and the second upper sheet 112 via the pressing plate 123 and the like.

ボルト120を緩めたり締めたりすることで、第1上シート111又は第2上シート112を交換できる。第1上シート111の交換の前後で、第1上シート111の寸法又は形状を変更することも可能である。第2上シート112について同様である。 The first upper sheet 111 or the second upper sheet 112 can be replaced by loosening or tightening the bolt 120. It is also possible to change the dimensions or shape of the first upper sheet 111 before and after the replacement of the first upper sheet 111. The same applies to the second upper sheet 112.

上方から見て、第1上シート111、第2上シート112、及びボルト120の頭部122は、水平部101からはみ出さない。ボルト120の頭部122等と他の部材との干渉を抑制できる。 When viewed from above, the first upper sheet 111, the second upper sheet 112, and the head 122 of the bolt 120 do not protrude from the horizontal portion 101. Interference between the head 122 of the bolt 120 and other members can be suppressed.

第1上シート111と、第2上シート112とは、スペーサ114、115を挟んで配置され、スペーサ114、115よりも下方に突出する。スペーサ114、115には、ボルト120の軸部121が通る貫通穴が形成される。 The first upper sheet 111 and the second upper sheet 112 are arranged with the spacers 114 and 115 interposed therebetween, and project downward from the spacers 114 and 115. The spacers 114 and 115 are formed with through holes through which the shaft portion 121 of the bolt 120 passes.

固定仕切壁45は、第1上シート111と第2上シート112の間に配置される第3上シート113を更に含んでもよい。第3上シート113は、例えば樹脂シート又はゴムシートである。第1上シート111と、第2上シート112と、第3上シート113とは、研削屑及び研削液の移動を三重に阻害する。 The fixed partition wall 45 may further include a third upper sheet 113 arranged between the first upper sheet 111 and the second upper sheet 112. The third upper sheet 113 is, for example, a resin sheet or a rubber sheet. The first upper sheet 111, the second upper sheet 112, and the third upper sheet 113 triplely inhibit the movement of the grinding debris and the grinding fluid.

第3上シート113と第1上シート111とは、スペーサ114を挟んで配置され、スペーサ114よりも下方に突出する。また、第3上シート113と第2上シート112とは、スペーサ115を挟んで配置され、スペーサ115よりも下方に突出する。 The third upper sheet 113 and the first upper sheet 111 are arranged with the spacer 114 interposed therebetween, and project downward from the spacer 114. Further, the third upper sheet 113 and the second upper sheet 112 are arranged with the spacer 115 interposed therebetween, and project downward from the spacer 115.

図4(B)に二点鎖線で示すように、回転仕切壁15の上端部は、テーブル10の径方向から見て上に凸の曲面を有してもよい。第3上シート113は、回転仕切壁15の上端部に接触する。一方、第1上シート111及び第2上シート112は、回転仕切壁15の上端部に接触しない。 As shown by the alternate long and short dash line in FIG. 4B, the upper end portion of the rotary partition wall 15 may have a curved surface that is convex upward when viewed from the radial direction of the table 10. The third upper sheet 113 contacts the upper end portion of the rotary partition wall 15. On the other hand, the first upper sheet 111 and the second upper sheet 112 do not come into contact with the upper end portion of the rotary partition wall 15.

第3上シート113が回転仕切壁15の上端部に接触する。そこで、第3上シート113の厚みT3は、第1上シート111の厚みT1及び第2上シート112の厚みT2よりも厚くてもよい。第3上シート113の耐久性と、第1上シート111及び第2上シート112の可撓性とを両立できる。第1上シート111及び第2上シート112は、回転仕切壁15の上端部に接触し、その上端部に倣うように変形してもよい。 The third upper sheet 113 comes into contact with the upper end portion of the rotary partition wall 15. Therefore, the thickness T3 of the third upper sheet 113 may be thicker than the thickness T1 of the first upper sheet 111 and the thickness T2 of the second upper sheet 112. The durability of the third upper sheet 113 and the flexibility of the first upper sheet 111 and the second upper sheet 112 can be compatible with each other. The first upper sheet 111 and the second upper sheet 112 may come into contact with the upper end portion of the rotary partition wall 15 and may be deformed so as to imitate the upper end portion thereof.

なお、第1上シート111と第2上シート112の間には、第3上シート113以外の部材、例えばブラシが配置されてもよい。また、第1上シート111と第2上シート112の間に、第3上シート113もブラシも配置されなくてもよく、何も配置されていなくてもよい。ボルト120によって、種々のシール部材を付け替え可能であり、また、シール部材の数を変更可能である。第3上シート113が無い場合、第1上シート111及び第2上シート112のどちらか又は両方が回転仕切壁15の上端部に接触する。なお、第3上シート113が無い場合、第1上シート111及び第2上シート112の両方が回転仕切壁15の上端部に接触しなくてもよい。 A member other than the third upper sheet 113, for example, a brush may be arranged between the first upper sheet 111 and the second upper sheet 112. Further, neither the third upper sheet 113 nor the brush may be arranged between the first upper sheet 111 and the second upper sheet 112, and nothing may be arranged. Various sealing members can be replaced by bolts 120, and the number of sealing members can be changed. In the absence of the third upper sheet 113, either or both of the first upper sheet 111 and the second upper sheet 112 come into contact with the upper end portion of the rotary partition wall 15. When there is no third upper sheet 113, both the first upper sheet 111 and the second upper sheet 112 do not have to come into contact with the upper end portion of the rotary partition wall 15.

固定仕切壁45は、上壁100と側面パネル42の間に位置し上壁100よりも下方に突出する側壁130と、側壁130からテーブル10に向けて突出する第1横シート141と、第1横シート141と間隔をおいて向かい合う第2横シート142と、を含む。第1横シート141、及び第2横シート142は、例えば樹脂シート又はゴムシートである。 The fixed partition wall 45 has a side wall 130 that is located between the upper wall 100 and the side panel 42 and projects downward from the upper wall 100, a first horizontal sheet 141 that protrudes from the side wall 130 toward the table 10, and a first. A second horizontal sheet 142 facing the horizontal sheet 141 at a distance is included. The first horizontal sheet 141 and the second horizontal sheet 142 are, for example, a resin sheet or a rubber sheet.

図4(C)に示すように、第1横シート141は、例えば第1上シート111と同一平面上に配置される。第1横シート141の厚みは、第1上シート111の厚みT1と同一であってもよい。また、第2横シート142は、例えば第2上シート112と同一平面上に配置される。第2横シート142の厚みは、第2上シート112の厚みT2と同一であってもよい。 As shown in FIG. 4C, the first horizontal sheet 141 is arranged on the same plane as, for example, the first upper sheet 111. The thickness of the first horizontal sheet 141 may be the same as the thickness T1 of the first upper sheet 111. Further, the second horizontal sheet 142 is arranged on the same plane as the second upper sheet 112, for example. The thickness of the second horizontal sheet 142 may be the same as the thickness T2 of the second upper sheet 112.

第1横シート141と、第2横シート142とは、特許文献3に記載のブラシとは異なり、線ではなく面で、研削屑及び研削液の移動を阻害する。また、第1横シート141と、第2横シート142とは、研削屑及び研削液の移動を二重に阻害する。従って、従来よりも、隣り合う部屋間での研削屑及び研削液の移動を阻害できる。 Unlike the brush described in Patent Document 3, the first horizontal sheet 141 and the second horizontal sheet 142 inhibit the movement of grinding debris and grinding fluid by a surface instead of a line. Further, the first horizontal sheet 141 and the second horizontal sheet 142 doubly hinder the movement of the grinding debris and the grinding fluid. Therefore, it is possible to hinder the movement of grinding debris and grinding fluid between adjacent rooms as compared with the conventional case.

固定仕切壁45は、第1横シート141と第2横シート142の間に配置される第3横シート143を更に含んでもよい。第3横シート143は、例えば樹脂シート又はゴムシートである。 The fixed partition wall 45 may further include a third horizontal sheet 143 arranged between the first horizontal sheet 141 and the second horizontal sheet 142. The third horizontal sheet 143 is, for example, a resin sheet or a rubber sheet.

第3横シート143は、例えば第3上シート113と同一平面上に配置される。第3横シート143の厚みは、第3上シート113の厚みT3と同一であってもよい。第3横シート143の厚みは、第1横シート141の厚み及び第2横シート142の厚みよりも厚い。 The third horizontal sheet 143 is arranged, for example, on the same plane as the third upper sheet 113. The thickness of the third horizontal sheet 143 may be the same as the thickness T3 of the third upper sheet 113. The thickness of the third horizontal sheet 143 is thicker than the thickness of the first horizontal sheet 141 and the thickness of the second horizontal sheet 142.

図4(C)に示すように、第3横シート143は、第1横シート141及び第2横シート142よりも上方に突出し、第1上シート111と第2上シート112の間に入り込んでいる。その結果、第1上シート111と第1横シート141との間に切れ目が有ったとしても、その切れ目を第3横シート143で塞ぐことができ、その切れ目を介した研削屑及び研削液の移動を阻害できる。同様に、第2上シート112と第2横シート142との間に切れ目が有ったとしても、その切れ目を第3横シート143で塞ぐことができ、その切れ目を介した研削屑及び研削液の移動を阻害できる。 As shown in FIG. 4C, the third horizontal sheet 143 projects upward from the first horizontal sheet 141 and the second horizontal sheet 142, and enters between the first upper sheet 111 and the second upper sheet 112. There is. As a result, even if there is a cut between the first upper sheet 111 and the first horizontal sheet 141, the cut can be closed by the third horizontal sheet 143, and the grinding debris and the grinding fluid through the cut can be closed. Can inhibit the movement of. Similarly, even if there is a cut between the second upper sheet 112 and the second horizontal sheet 142, the cut can be closed by the third horizontal sheet 143, and the grinding debris and the grinding fluid through the cut can be closed. Can inhibit the movement of.

図4(D)に示すように、第1上シート111及び第2上シート112は、第3上シート113よりも側壁130に向けて突出している。その結果、第3上シート113と第3横シート143の間に切れ目が有ったとしても、その切れ目を第1上シート111と第2上シート112で挟んで隠すことができ、その切れ目を介した研削屑及び研削液の移動を阻害できる。 As shown in FIG. 4D, the first upper sheet 111 and the second upper sheet 112 project from the third upper sheet 113 toward the side wall 130. As a result, even if there is a cut between the third upper sheet 113 and the third horizontal sheet 143, the cut can be hidden by being sandwiched between the first upper sheet 111 and the second upper sheet 112, and the cut can be hidden. It is possible to hinder the movement of grinding debris and grinding fluid through it.

次に、図5を参照して、チャックカバー70等について説明する。図5に示すように、研削装置1は、チャック20と共に回転するチャックカバー70を備える。チャック20は、基板Wを保持する保持台21と、保持台21の下縁に設けられるフランジ23とを含む。保持台21は、多孔質体21aと、基台21bと、を有する。保持台21の上面に凹部が形成され、その凹部に円盤状の多孔質体21aが埋め込まれる。 Next, the chuck cover 70 and the like will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 5, the grinding device 1 includes a chuck cover 70 that rotates with the chuck 20. The chuck 20 includes a holding table 21 for holding the substrate W and a flange 23 provided on the lower edge of the holding table 21. The holding table 21 has a porous body 21a and a base 21b. A recess is formed on the upper surface of the holding table 21, and a disk-shaped porous body 21a is embedded in the recess.

多孔質体21aの内部の気体が吸引され、多孔質体21aの気圧が大気圧よりも低い負圧になると、基板Wが多孔質体21aに吸着される。一方、気体の吸引が停止され、多孔質体21aの気圧が大気圧に戻されると、基板Wの吸着が解除される。 When the gas inside the porous body 21a is sucked and the pressure of the porous body 21a becomes a negative pressure lower than the atmospheric pressure, the substrate W is adsorbed on the porous body 21a. On the other hand, when the suction of the gas is stopped and the pressure of the porous body 21a is returned to the atmospheric pressure, the adsorption of the substrate W is released.

チャック20は、回転台25の上に載置され、回転台25に対して固定具で固定される。その固定具は、特に限定されないが、例えばボルト24である。ボルト24は、チャック20のフランジ23の周方向に間隔をおいて複数設けられる。ボルト24の軸部は、フランジ23の貫通穴を通り、回転台25のボルト穴にねじ込まれる。ボルト24の頭部が、フランジ23を上方から押さえる。ボルト24を緩めたり締めたりすることで、チャック20を交換できる。 The chuck 20 is placed on the rotary table 25 and fixed to the rotary table 25 with a fixing tool. The fixture is not particularly limited, but is, for example, a bolt 24. A plurality of bolts 24 are provided at intervals in the circumferential direction of the flange 23 of the chuck 20. The shaft portion of the bolt 24 passes through the through hole of the flange 23 and is screwed into the bolt hole of the rotary table 25. The head of the bolt 24 presses the flange 23 from above. The chuck 20 can be replaced by loosening or tightening the bolt 24.

チャックカバー70は、環状の庇部71を含む。環状の庇部71は、その中央に、チャック20の保持台21が入る開口部71aを形成する。庇部71の上面は、チャック20の保持台21の上面と同じ高さか、保持台21の上面よりも下方に配置される。また、庇部71の上面は、後述するテーブルカバー60の傾斜部61よりも上方に配置される。 The chuck cover 70 includes an annular eaves portion 71. The annular eaves 71 forms an opening 71a in the center of which the holding base 21 of the chuck 20 is inserted. The upper surface of the eaves 71 is arranged at the same height as the upper surface of the holding table 21 of the chuck 20 or below the upper surface of the holding table 21. Further, the upper surface of the eaves portion 71 is arranged above the inclined portion 61 of the table cover 60, which will be described later.

庇部71の上面は、チャック20の回転中心線R2から遠ざかるほど下方に傾斜する。なお、庇部71の上面は、水平であってもよい。但し、庇部71の上面が傾斜していれば、重力によって斜め下に研削液を排出でき、研削液に混じる研削屑の堆積を抑制できる。庇部71の上面は、例えば円錐形状を有する。 The upper surface of the eaves 71 is inclined downward as the distance from the rotation center line R2 of the chuck 20 increases. The upper surface of the eaves 71 may be horizontal. However, if the upper surface of the eaves 71 is inclined, the grinding fluid can be discharged diagonally downward due to gravity, and the accumulation of grinding debris mixed with the grinding fluid can be suppressed. The upper surface of the eaves 71 has, for example, a conical shape.

庇部71は、チャック20のフランジ23よりも上方に配置され、固定具であるボルト24を上方から覆う。庇部71の中央に形成される開口部71aの直径は、保持台21の直径よりも大きく、且つフランジ23の直径よりも小さい。庇部71の真下にボルト24を隠すことができ、研削液がボルト24にぶつかるのを抑制でき、研削液の飛散を抑制できる。 The eaves 71 is arranged above the flange 23 of the chuck 20 and covers the bolt 24 which is a fixing tool from above. The diameter of the opening 71a formed in the center of the eaves 71 is larger than the diameter of the holding table 21 and smaller than the diameter of the flange 23. The bolt 24 can be hidden directly under the eaves 71, the grinding fluid can be suppressed from hitting the bolt 24, and the scattering of the grinding fluid can be suppressed.

本実施形態によれば、チャックカバー70は、チャック20と共に回転する。基板Wの研削時にチャック20を回転させると、庇部71が回転し、遠心力によって庇部71に付着した研削液を径方向外方に吹き飛ばすことができる。従って、研削液に混じる研削屑の堆積を抑制でき、研削屑がチャック20の周辺に堆積するのを抑制できる。その結果、チャック20又は研削工具Dの交換等のメンテナンスの際に作業者又は作業ロボットが汚れるのを抑制できる。また、堆積した研削屑が剥がれてチャック20又は基板Wに付着するのを抑制できる。 According to this embodiment, the chuck cover 70 rotates together with the chuck 20. When the chuck 20 is rotated during grinding of the substrate W, the eaves 71 rotates, and the grinding liquid adhering to the eaves 71 due to centrifugal force can be blown outward in the radial direction. Therefore, it is possible to suppress the accumulation of grinding debris mixed with the grinding fluid, and it is possible to suppress the accumulation of grinding debris around the chuck 20. As a result, it is possible to prevent the operator or the working robot from becoming dirty during maintenance such as replacement of the chuck 20 or the grinding tool D. Further, it is possible to prevent the accumulated grinding debris from peeling off and adhering to the chuck 20 or the substrate W.

チャックカバー70の庇部71と、チャック20のフランジ23との間には、スペーサ28が設けられる。スペーサ28は、フランジ23の周方向に間隔をおいて複数設けられる。複数のスペーサ28の上に、庇部71が載置される。なお、スペーサ28は庇部71と一体化されていてもよく、その場合、スペーサ28がフランジ23の上に載置され、後述するボルト29の軸部がフランジ23のボルト穴にねじ込まれる。 A spacer 28 is provided between the eaves 71 of the chuck cover 70 and the flange 23 of the chuck 20. A plurality of spacers 28 are provided at intervals in the circumferential direction of the flange 23. The eaves 71 is placed on the plurality of spacers 28. The spacer 28 may be integrated with the eaves 71. In that case, the spacer 28 is placed on the flange 23, and the shaft portion of the bolt 29, which will be described later, is screwed into the bolt hole of the flange 23.

スペーサ28は、庇部71とフランジ23の間に隙間を形成する。隙間が無い場合に比べて、庇部71の厚みを薄くでき、庇部71を軽量化できる。また、庇部71とフランジ23の間に、ボルト24の頭部を配置するスペースを確保できる。 The spacer 28 forms a gap between the eaves 71 and the flange 23. The thickness of the eaves 71 can be reduced and the weight of the eaves 71 can be reduced as compared with the case where there is no gap. Further, a space for arranging the head of the bolt 24 can be secured between the eaves portion 71 and the flange 23.

スペーサ28は、その上面にボルト穴を有する。そのボルト穴には、スペーサ28に対して庇部71を固定するボルト29の軸部がねじ込まれる。ボルト29の頭部は、庇部71を上方から押さえる。庇部71の上面には、チャック20の径方向に延びる溝71bが形成される。その溝71bがボルト29の頭部を収容し、ボルト29の頭部が溝71bの底面を上方から押さえる。 The spacer 28 has a bolt hole on its upper surface. The shaft portion of the bolt 29 that fixes the eaves portion 71 to the spacer 28 is screwed into the bolt hole. The head of the bolt 29 presses the eaves 71 from above. A groove 71b extending in the radial direction of the chuck 20 is formed on the upper surface of the eaves portion 71. The groove 71b accommodates the head of the bolt 29, and the head of the bolt 29 presses the bottom surface of the groove 71b from above.

庇部71の上面は傾斜しているのに対し、庇部71の下面は水平になっている。庇部71の下面が水平であれば、庇部71を複数のスペーサ28の上に安定的に載置できる。スペーサ28の数は、好ましくは3個以上である。 The upper surface of the eaves 71 is inclined, while the lower surface of the eaves 71 is horizontal. If the lower surface of the eaves 71 is horizontal, the eaves 71 can be stably placed on the plurality of spacers 28. The number of spacers 28 is preferably 3 or more.

チャックカバー70は、庇部71の周縁から下方に延びる外筒部77を含む。外筒部77は、図5では真下に延びるが、斜め下に延びてもよい。外筒部77は、後述するテーブルカバー60の内筒部67の上端よりも下方に延び、その内筒部67を囲む。内筒部67と外筒部77とによって、研削液の浸入を抑制するラビリンスを形成できる。 The chuck cover 70 includes an outer cylinder portion 77 extending downward from the peripheral edge of the eaves portion 71. The outer cylinder portion 77 extends straight down in FIG. 5, but may extend diagonally downward. The outer cylinder portion 77 extends downward from the upper end of the inner cylinder portion 67 of the table cover 60, which will be described later, and surrounds the inner cylinder portion 67. The inner cylinder portion 67 and the outer cylinder portion 77 can form a labyrinth that suppresses the infiltration of the grinding fluid.

庇部71と外筒部77の境界は、例えば面取り形状を有し、曲線形状を有する。折れ線形状の境界の場合、その境界を液滴が乗り越えるのを、液滴の表面張力が阻害する。その結果、リング状の液だまりが形成されやすい。庇部71と外筒部77の境界が曲線形状を有していれば、その境界を液滴が乗り越え易く、研削液が排出されやすい。従って、研削液に混じる研削屑がリング状に堆積するのを抑制できる。 The boundary between the eaves portion 71 and the outer cylinder portion 77 has, for example, a chamfered shape and a curved shape. In the case of a polygonal line-shaped boundary, the surface tension of the droplet hinders the droplet from crossing the boundary. As a result, a ring-shaped liquid pool is likely to be formed. If the boundary between the eaves portion 71 and the outer cylinder portion 77 has a curved shape, the droplets can easily get over the boundary and the grinding fluid can be easily discharged. Therefore, it is possible to prevent the grinding debris mixed with the grinding fluid from accumulating in a ring shape.

図5に示すように、研削装置1は、テーブル10と共に回転するテーブルカバー60を有する。テーブルカバー60は、テーブル10の回転中心線R1から遠ざかるほど下方に傾斜する傾斜部61を有する。 As shown in FIG. 5, the grinding device 1 has a table cover 60 that rotates with the table 10. The table cover 60 has an inclined portion 61 that inclines downward as the distance from the rotation center line R1 of the table 10 increases.

傾斜部61は、チャック20の保持台21の上面よりも下方に配置され、且つテーブル10の上方に配置される。傾斜部61は、水平な平板部とは異なり、重力によって斜め下に研削液を排出できる。それゆえ、研削液に混じる研削屑の堆積を抑制できる。 The inclined portion 61 is arranged below the upper surface of the holding table 21 of the chuck 20 and above the table 10. Unlike the horizontal flat plate portion, the inclined portion 61 can discharge the grinding fluid diagonally downward due to gravity. Therefore, it is possible to suppress the accumulation of grinding debris mixed with the grinding fluid.

傾斜部61は、例えばテーブル10の周方向に高さが一定である円錐形状を有する。傾斜部61が円錐形状を有する場合、図3に矢印で示すように研削液を放射状に排出でき、チャック20の周辺に研削屑が堆積するのを抑制できる。 The inclined portion 61 has, for example, a conical shape having a constant height in the circumferential direction of the table 10. When the inclined portion 61 has a conical shape, the grinding fluid can be discharged radially as shown by an arrow in FIG. 3, and the accumulation of grinding debris around the chuck 20 can be suppressed.

なお、傾斜部61は、角錐形状を有してもよい。但し、傾斜部61が角錐形状を有する場合、図3に二点鎖線で示す溝Gが形成される。溝Gの底部にチャック20が位置しており、チャック20の近傍に研削液が集まりやすく、研削液に混じる研削屑が堆積しやすい。 The inclined portion 61 may have a pyramid shape. However, when the inclined portion 61 has a pyramid shape, the groove G shown by the two-dot chain line in FIG. 3 is formed. The chuck 20 is located at the bottom of the groove G, and the grinding fluid tends to collect in the vicinity of the chuck 20, and the grinding debris mixed with the grinding fluid tends to accumulate.

図5に示すように、傾斜部61は、頂部と裾部の間に、回転台25の入る開口部61aを形成する。開口部61aは、回転台25毎に形成され、テーブル10の回転中心線R1の周りに間隔をおいて複数形成される。複数の開口部61aは、例えば等間隔で形成される。 As shown in FIG. 5, the inclined portion 61 forms an opening 61a in which the rotary table 25 is inserted between the top portion and the hem portion. A plurality of openings 61a are formed for each rotary table 25, and a plurality of openings 61a are formed around the rotation center line R1 of the table 10 at intervals. The plurality of openings 61a are formed at equal intervals, for example.

テーブルカバー60は、傾斜部61の開口部61aの開口縁から上方に立ち上がる内筒部67を含む。内筒部67は、図5では真上に立ち上がるが、斜め上に立ち上がってもよい。内筒部67の上縁は、周方向全体に亘って水平である。内筒部67は、研削液が開口部61aに浸入するのを防止する。 The table cover 60 includes an inner cylinder portion 67 that rises upward from the opening edge of the opening portion 61a of the inclined portion 61. The inner cylinder portion 67 stands up directly above in FIG. 5, but may stand up diagonally upward. The upper edge of the inner cylinder portion 67 is horizontal over the entire circumferential direction. The inner cylinder portion 67 prevents the grinding fluid from entering the opening 61a.

図6(A)に示すように、内筒部67は、第1円弧筒部67aと、第2円弧筒部67bと、連結部67cと、を含む。第1円弧筒部67aは、傾斜部61に対して固定される。第2円弧筒部67bは、第1円弧筒部67aに対して取り外し可能に連結される。連結部67cは、第1円弧筒部67aと第2円弧筒部67bを環状に連結する。 As shown in FIG. 6A, the inner cylinder portion 67 includes a first arc cylinder portion 67a, a second arc cylinder portion 67b, and a connecting portion 67c. The first arc cylinder portion 67a is fixed to the inclined portion 61. The second arc cylinder portion 67b is detachably connected to the first arc cylinder portion 67a. The connecting portion 67c connects the first arc cylinder portion 67a and the second arc cylinder portion 67b in an annular shape.

連結部67cは、例えば、連結板67c1と、ボルト67c2と、を含む。連結板67c1は、例えば第2円弧筒部67bの内周面に固定され、第1円弧筒部67aの内周面まで延びている。ボルト67c2の軸部は、第1円弧筒部67aの貫通穴を通り、連結板67c1のボルト穴にねじ込まれる。ボルト67c2の頭部が、第1円弧筒部67aを径方向外側から押さえる。 The connecting portion 67c includes, for example, a connecting plate 67c1 and a bolt 67c2. The connecting plate 67c1 is fixed to, for example, the inner peripheral surface of the second arcuate cylinder portion 67b and extends to the inner peripheral surface of the first arcuate cylinder portion 67a. The shaft portion of the bolt 67c2 passes through the through hole of the first arc cylinder portion 67a and is screwed into the bolt hole of the connecting plate 67c1. The head of the bolt 67c2 presses the first arc cylinder portion 67a from the outside in the radial direction.

なお、連結部67cの構造は、特に限定されない。例えば、連結板67c1は、第1円弧筒部67aの内周面に固定され、第2円弧筒部67bの内周面まで延びていてもよい。この場合、ボルト67c2の軸部は、第2円弧筒部67bの貫通穴を通り、連結板67c1のボルト穴にねじ込まれる。ボルト67c2の頭部が、第2円弧筒部67bを径方向外側から押さえる。 The structure of the connecting portion 67c is not particularly limited. For example, the connecting plate 67c1 may be fixed to the inner peripheral surface of the first arcuate cylinder portion 67a and extend to the inner peripheral surface of the second arcuate cylinder portion 67b. In this case, the shaft portion of the bolt 67c2 passes through the through hole of the second arcuate cylinder portion 67b and is screwed into the bolt hole of the connecting plate 67c1. The head of the bolt 67c2 presses the second arcuate cylinder portion 67b from the outside in the radial direction.

いずれにしろ、ボルト67c2を緩めたり締めたりすることで、第2円弧筒部67bを取り外したり取り付けたりできる。図6(B)から明らかなように、第2円弧筒部67bを取り外すことにより、チャック20の交換が容易になる。 In any case, the second arc cylinder portion 67b can be removed or attached by loosening or tightening the bolt 67c2. As is clear from FIG. 6B, by removing the second arcuate cylinder portion 67b, the chuck 20 can be easily replaced.

図5に示すように、第2円弧筒部67bは、第1円弧筒部67aよりも、テーブル10の径方向外方に配置される。そして、第2円弧筒部67bの下縁の少なくとも一部は、回転台25の上面よりも下方に配置される。 As shown in FIG. 5, the second arcuate cylinder portion 67b is arranged outside the radial direction of the table 10 with respect to the first arcuate cylinder portion 67a. Then, at least a part of the lower edge of the second arc cylinder portion 67b is arranged below the upper surface of the rotary table 25.

その結果、第2円弧筒部67bを取り外せば、図7に示すように、回転台25の上面に載せたチャック20を横に引き摺り出せる。チャック20と回転台25との密着力が強く、チャック20を上に引き剥がせない場合に有効である。 As a result, if the second arcuate cylinder portion 67b is removed, the chuck 20 mounted on the upper surface of the rotary table 25 can be pulled out sideways as shown in FIG. 7. This is effective when the adhesion between the chuck 20 and the rotary table 25 is strong and the chuck 20 cannot be peeled up.

図5に示すように、内筒部67は、第2円弧筒部67bを載せる第3円弧筒部67dを更に含んでもよい。第3円弧筒部67dは、傾斜部61に対して固定され、第1円弧筒部67aと一体化されてもよい。 As shown in FIG. 5, the inner cylinder portion 67 may further include a third arc cylinder portion 67d on which the second arc cylinder portion 67b is placed. The third arc cylinder portion 67d may be fixed to the inclined portion 61 and integrated with the first arc cylinder portion 67a.

内筒部67は、第2円弧筒部67bと第3円弧筒部67dを位置合わせする位置合わせ部67eを更に含んでもよい。位置合わせ部67eは、例えば、第2円弧筒部67bの内周面に固定され、第3円弧筒部67dの内側に差し込まれ、その内周面に接触することで、第2円弧筒部67bと第3円弧筒部67dを位置合わせする。 The inner cylinder portion 67 may further include an alignment portion 67e for aligning the second arc cylinder portion 67b and the third arc cylinder portion 67d. The alignment portion 67e is, for example, fixed to the inner peripheral surface of the second arc cylinder portion 67b, inserted into the inside of the third arc cylinder portion 67d, and comes into contact with the inner peripheral surface thereof, whereby the second arc cylinder portion 67b is formed. And the third arc cylinder portion 67d are aligned with each other.

テーブルカバー60は、傾斜部61の下縁から下方に延びる筒部63を有する。筒部63は、図5では真下に延びるが、斜め下に延びてもよい。筒部63は、研削液をテーブル10の外に落下させる。筒部63の外径は、テーブル10の直径よりも大きい。 The table cover 60 has a tubular portion 63 extending downward from the lower edge of the inclined portion 61. The tubular portion 63 extends straight down in FIG. 5, but may extend diagonally downward. The tubular portion 63 drops the grinding fluid out of the table 10. The outer diameter of the tubular portion 63 is larger than the diameter of the table 10.

傾斜部61と筒部63の境界は、例えば面取り形状を有し、曲線形状を有する。折れ線形状の境界の場合に比べて、その境界を液滴が乗り越え易く、研削液が排出されやすい。従って、研削液に混じる研削屑がリング状に堆積するのを抑制できる。 The boundary between the inclined portion 61 and the tubular portion 63 has, for example, a chamfered shape and a curved shape. Compared to the case of a polygonal line-shaped boundary, the droplets are more likely to get over the boundary and the grinding fluid is more likely to be discharged. Therefore, it is possible to prevent the grinding debris mixed with the grinding fluid from accumulating in a ring shape.

傾斜部61は、その頂部に、固定軸11が通る開口部61bを形成する。テーブルカバー60は、傾斜部61の開口部61bの開口縁から上方に立ち上がる中央筒部69を有する。中央筒部69は、図5では真上に立ち上がるが、斜め上に立ち上がってもよい。中央筒部69は、研削液が開口部61bに浸入するのを防止する。 The inclined portion 61 forms an opening 61b through which the fixed shaft 11 passes at the top thereof. The table cover 60 has a central tubular portion 69 that rises upward from the opening edge of the opening 61b of the inclined portion 61. The central cylinder portion 69 stands up directly above in FIG. 5, but may stand up diagonally upward. The central tubular portion 69 prevents the grinding fluid from entering the opening 61b.

テーブルカバー60は、テーブル10の周方向に複数の分割カバーに分割される。分割カバーの数と、チャック20の数とは、同数である。周方向に隣り合う分割カバーの間には、回転仕切壁15が配置される。 The table cover 60 is divided into a plurality of divided covers in the circumferential direction of the table 10. The number of divided covers and the number of chucks 20 are the same. A rotating partition wall 15 is arranged between the divided covers adjacent to each other in the circumferential direction.

複数の分割カバーは、個別に、テーブル10に対して取り外し可能に取り付けられる。メンテナンスの際に分割カバーを個別に取り外せばよく、テーブルカバー60の全体をまとめて取り外さずに済むので、作業性を向上できる。 The plurality of split covers are individually and detachably attached to the table 10. It is sufficient to remove the split covers individually at the time of maintenance, and it is not necessary to remove the entire table cover 60 at once, so that workability can be improved.

研削装置1は、ベースカバー90を備える。ベースカバー90は、水平な円盤部91を有する。円盤部91は、テーブルカバー60の下方であってテーブル10の上方に配置され、テーブル10と同心円状に配置される。円盤部91の直径は、テーブル10の直径よりも大きい。 The grinding device 1 includes a base cover 90. The base cover 90 has a horizontal disk portion 91. The disk portion 91 is arranged below the table cover 60 and above the table 10, and is arranged concentrically with the table 10. The diameter of the disk portion 91 is larger than the diameter of the table 10.

円盤部91は、テーブル10の回転中心線R1の周りに、チャック20の回転軸26が通る開口部91aを形成する。開口部91aは、テーブル10の回転中心線R1の周りに等間隔で複数形成される。 The disk portion 91 forms an opening 91a through which the rotation shaft 26 of the chuck 20 passes around the rotation center line R1 of the table 10. A plurality of openings 91a are formed around the rotation center line R1 of the table 10 at equal intervals.

ベースカバー90は、開口部91aの開口縁から上方に立ち上がる内筒部93を含む。内筒部93は、図5では真上に立ち上がるが、斜め上に立ち上がってもよい。内筒部93には、回転軸26が挿通される。 The base cover 90 includes an inner cylinder portion 93 that rises upward from the opening edge of the opening 91a. The inner cylinder portion 93 stands up directly above in FIG. 5, but may stand up diagonally upward. A rotating shaft 26 is inserted through the inner cylinder portion 93.

回転軸26は、回転台25の回転中心から鉛直下方に延びている。回転台25の周縁には、下方に延びる外筒部27が設けられる。外筒部27は、図5では真下に延びるが、斜め下に延びてもよい。 The rotary shaft 26 extends vertically downward from the center of rotation of the rotary table 25. An outer cylinder portion 27 extending downward is provided on the peripheral edge of the rotary table 25. The outer cylinder portion 27 extends straight down in FIG. 5, but may extend diagonally downward.

外筒部27は、ベースカバー90の内筒部93の上端よりも下方に延び、その内筒部93を囲む。内筒部93と外筒部27とによって、研削液の浸入を抑制するラビリンスを形成できる。 The outer cylinder portion 27 extends downward from the upper end of the inner cylinder portion 93 of the base cover 90 and surrounds the inner cylinder portion 93. The inner cylinder portion 93 and the outer cylinder portion 27 can form a labyrinth that suppresses the infiltration of the grinding fluid.

開口部91aは、上記の通り、テーブル10の回転中心線R1の周りに等間隔で複数配置される。テーブル10の周方向に隣り合う開口部91aの間に、回転仕切壁15が配置される。回転仕切壁15は、円盤部91の上に設けられる。 As described above, a plurality of openings 91a are arranged around the rotation center line R1 of the table 10 at equal intervals. A rotary partition wall 15 is arranged between the openings 91a adjacent to each other in the circumferential direction of the table 10. The rotary partition wall 15 is provided on the disk portion 91.

ベースカバー90は、円盤部91の周縁から下方に延びる筒部94を有する。筒部94は、図5では真下に延びるが、斜め下に延びてもよい。 The base cover 90 has a tubular portion 94 extending downward from the peripheral edge of the disk portion 91. The tubular portion 94 extends straight down in FIG. 5, but may extend diagonally downward.

円盤部91と筒部94の境界は、例えば面取り形状を有し、曲線形状を有する。折れ線形状の場合に比べて、その境界を液滴が乗り越え易く、研削液が排出されやすい。従って、研削液に混じる研削屑がリング状に堆積するのを抑制できる。 The boundary between the disk portion 91 and the tubular portion 94 has, for example, a chamfered shape and a curved shape. Compared with the case of the polygonal line shape, the droplets easily get over the boundary and the grinding fluid is easily discharged. Therefore, it is possible to prevent the grinding debris mixed with the grinding fluid from accumulating in a ring shape.

図5に示すように、研削装置1は、テーブルカバー60の傾斜部61の頂部とチャック20の間にて、傾斜部61に対して洗浄液を供給するノズル51を備える。ノズル51は、傾斜部61に対して上方から洗浄液を供給する。ノズル51は、中央筒部69に設けられてもよい。洗浄液は、例えば純水である。洗浄液は、傾斜部61に供給された後、重力によって斜め下に流れ落ちる。洗浄液によって、傾斜部61の広い範囲を洗浄でき、チャック20の周辺に研削屑が堆積するのを抑制できる。ノズル51は、洗浄液が傾斜部61の頂部に届く位置にて、傾斜部61に対して洗浄液を供給してもよい。傾斜部61の頂部から裾部まで全体を洗浄できる。 As shown in FIG. 5, the grinding device 1 includes a nozzle 51 that supplies a cleaning liquid to the inclined portion 61 between the top of the inclined portion 61 of the table cover 60 and the chuck 20. The nozzle 51 supplies the cleaning liquid to the inclined portion 61 from above. The nozzle 51 may be provided in the central cylinder portion 69. The cleaning liquid is, for example, pure water. After being supplied to the inclined portion 61, the cleaning liquid flows down diagonally due to gravity. The cleaning liquid can clean a wide range of the inclined portion 61 and suppress the accumulation of grinding debris around the chuck 20. The nozzle 51 may supply the cleaning liquid to the inclined portion 61 at a position where the cleaning liquid reaches the top of the inclined portion 61. The entire area from the top to the hem of the inclined portion 61 can be washed.

ノズル51は、例えば基板Wの研削時に、洗浄液を吐出し、傾斜部61に付着する研削液及び研削屑を洗い流す。ノズル51は、1次研削室B1だけではなく、2次研削室B2及び3次研削室B3にも設けられる。ノズル51は、搬入出室B0にも設けられてもよい。ノズル51は、基板Wの研削時以外の時に、洗浄液を吐出してもよい。 For example, when grinding the substrate W, the nozzle 51 discharges a cleaning liquid to wash away the grinding liquid and grinding debris adhering to the inclined portion 61. The nozzle 51 is provided not only in the primary grinding chamber B1 but also in the secondary grinding chamber B2 and the tertiary grinding chamber B3. The nozzle 51 may also be provided in the carry-in / out chamber B0. The nozzle 51 may discharge the cleaning liquid at a time other than when the substrate W is ground.

テーブルカバー60の傾斜部61は、その頂部に、固定軸11が通る開口部61bを形成する。開口部61bの開口縁から中央筒部69が立ち上がり、中央筒部69の径方向外方にノズル51が配置される。中央筒部69の内側に洗浄液が浸入するのを防止できる。 The inclined portion 61 of the table cover 60 forms an opening 61b through which the fixed shaft 11 passes at the top thereof. The central cylinder portion 69 rises from the opening edge of the opening portion 61b, and the nozzle 51 is arranged radially outward of the central cylinder portion 69. It is possible to prevent the cleaning liquid from entering the inside of the central cylinder portion 69.

研削装置1は、基板Wの厚みを測定する測定器95を備える。測定器95が、ノズル51を含む。測定器95の内部には、洗浄液の流路L1、L2が形成される。流路L2は、後述する第1アーム95c及び第2アーム95dの少なくともいずれかの基端部を通っている。洗浄液は、流路L2を通り、第1アーム95cを介して第1ハイトセンサ95aの熱を吸収し、ノズル51から吐出される。あるいは、洗浄液は、流路L2を通り、第2アーム95dを介して第2ハイトセンサ95bの熱を吸収し、ノズル51から吐出される。洗浄液によって第1ハイトセンサ95a及び第2ハイトセンサ95bの少なくともいずれかを冷却できる。なお、冷却用の流路L2は、ノズル用の流路L1とは別に形成されてもよい。 The grinding device 1 includes a measuring instrument 95 for measuring the thickness of the substrate W. The measuring instrument 95 includes a nozzle 51. The flow paths L1 and L2 of the cleaning liquid are formed inside the measuring instrument 95. The flow path L2 passes through at least one of the proximal ends of the first arm 95c and the second arm 95d, which will be described later. The cleaning liquid passes through the flow path L2, absorbs the heat of the first height sensor 95a via the first arm 95c, and is discharged from the nozzle 51. Alternatively, the cleaning liquid passes through the flow path L2, absorbs the heat of the second height sensor 95b via the second arm 95d, and is discharged from the nozzle 51. At least one of the first height sensor 95a and the second height sensor 95b can be cooled by the cleaning liquid. The cooling flow path L2 may be formed separately from the nozzle flow path L1.

測定器95は、例えば、基板Wの高さを測定する第1ハイトセンサ95aと、チャック20の高さを測定する第2ハイトセンサ95bとを含む。基板Wの高さと、チャック20の高さとの差分から、基板Wの厚みを測定できる。なお、測定器95は、図5では接触式であるが、非接触式であってもよい。 The measuring instrument 95 includes, for example, a first height sensor 95a for measuring the height of the substrate W and a second height sensor 95b for measuring the height of the chuck 20. The thickness of the substrate W can be measured from the difference between the height of the substrate W and the height of the chuck 20. Although the measuring instrument 95 is a contact type in FIG. 5, it may be a non-contact type.

測定器95は、第1ハイトセンサ95aを保持する第1アーム95cと、第2ハイトセンサ95bを保持する第2アーム95dと、第1アーム95cと第2アーム95dを保持するブラケット95eとを含む。ブラケット95eの下面に、ノズル51が設けられる。 The measuring instrument 95 includes a first arm 95c for holding the first height sensor 95a, a second arm 95d for holding the second height sensor 95b, and a bracket 95e for holding the first arm 95c and the second arm 95d. .. A nozzle 51 is provided on the lower surface of the bracket 95e.

測定器95のブラケット95eは、固定軸11の上面に取り付けられ、固定軸11の径方向外方に突き出している。ノズル51は、ブラケット95eの下面の、固定軸11の径方向外方に突き出した部分に設けられ、傾斜部61に対して洗浄液を供給する。 The bracket 95e of the measuring instrument 95 is attached to the upper surface of the fixed shaft 11 and protrudes outward in the radial direction of the fixed shaft 11. The nozzle 51 is provided on the lower surface of the bracket 95e, which protrudes outward in the radial direction of the fixed shaft 11, and supplies the cleaning liquid to the inclined portion 61.

図8に示すように、ノズル51の供給口51aは、テーブルカバー60の周方向(テーブルカバー60の回転方向)に間隔をおいて複数設けられる。1つの部屋(例えば1次研削室B1)に、複数の供給口51aが設けられてもよい。複数の供給口51aによって、テーブルカバー60の傾斜部61の周方向の広い範囲を同時に洗浄できる。また、ノズル51の供給口51aは、テーブルカバー60の周方向に沿う円弧状のスリットである。テーブルカバー60の傾斜部61の頂部に近い位置で洗浄液を供給できる。なお、ノズル51の供給口51aは、直線状のスリットであってもよいし、円形の穴であってもよい。 As shown in FIG. 8, a plurality of supply ports 51a of the nozzle 51 are provided at intervals in the circumferential direction of the table cover 60 (rotational direction of the table cover 60). A plurality of supply ports 51a may be provided in one chamber (for example, the primary grinding chamber B1). The plurality of supply ports 51a can simultaneously clean a wide range of the inclined portion 61 of the table cover 60 in the circumferential direction. Further, the supply port 51a of the nozzle 51 is an arcuate slit along the circumferential direction of the table cover 60. The cleaning liquid can be supplied at a position close to the top of the inclined portion 61 of the table cover 60. The supply port 51a of the nozzle 51 may be a linear slit or a circular hole.

ところで、傾斜部61の裾部では、その裾部を液滴が乗り越えるのを、液滴の表面張力が阻害する。その結果、リング状の液だまりが形成されやすく、リング状の汚れが固着しやすい。 By the way, at the hem of the inclined portion 61, the surface tension of the droplet hinders the droplet from getting over the hem. As a result, a ring-shaped liquid pool is likely to be formed, and a ring-shaped stain is likely to adhere.

そこで、研削装置1は、テーブルカバー60の傾斜部61の裾部に対して上方から洗浄液を供給するノズル52-1、52-2を備える。洗浄液は、例えば純水である。洗浄液は、研削屑で汚れた研削液を洗い流し、リング状の汚れが固着するのを抑制する。 Therefore, the grinding device 1 includes nozzles 52-1 and 52-2 that supply the cleaning liquid from above to the hem of the inclined portion 61 of the table cover 60. The cleaning liquid is, for example, pure water. The cleaning liquid washes away the grinding liquid contaminated with the grinding debris and suppresses the ring-shaped dirt from sticking.

ノズル52-1は、例えば1次研削室B1の搬入出室B0との境界付近に位置する。その境界付近とは、その境界である固定仕切壁45から50mm以内の範囲をいう。その範囲内に、ノズル52-1の吐出口の少なくとも一部があればよい。 The nozzle 52-1 is located, for example, near the boundary between the primary grinding chamber B1 and the loading / unloading chamber B0. The vicinity of the boundary means a range within 50 mm from the fixed partition wall 45 which is the boundary. It is sufficient that at least a part of the ejection port of the nozzle 52-1 is within the range.

一方、ノズル52-2は、3次研削室B3の搬入出室B0との境界付近に位置する。その境界付近とは、その境界である固定仕切壁45から50mm以内の範囲をいう。その範囲内に、ノズル52-2の吐出口の少なくとも一部があればよい。 On the other hand, the nozzle 52-2 is located near the boundary between the tertiary grinding chamber B3 and the loading / unloading chamber B0. The vicinity of the boundary means a range within 50 mm from the fixed partition wall 45 which is the boundary. It is sufficient that at least a part of the ejection port of the nozzle 52-2 is within the range.

制御部16は、上方から見て時計回り方向にテーブル10を回転する間、1次研削室B1に配置したノズル52-1からテーブルカバー60の傾斜部61の裾部に対して洗浄液を供給する。傾斜部61の裾部が1次研削室B1から搬入出室B0に移動する直前に、傾斜部61の裾部を洗浄でき、搬入出室B0に汚れが持ち込まれるのを防止できる。 The control unit 16 supplies the cleaning liquid from the nozzle 52-1 arranged in the primary grinding chamber B1 to the hem of the inclined portion 61 of the table cover 60 while rotating the table 10 in the clockwise direction when viewed from above. .. Immediately before the hem of the inclined portion 61 moves from the primary grinding chamber B1 to the loading / unloading chamber B0, the hem of the inclined portion 61 can be washed, and dirt can be prevented from being brought into the loading / unloading chamber B0.

一方、制御部16は、上方から見て反時計回り方向にテーブル10を回転する間、3次研削室B3に配置したノズル52-2からテーブルカバー60の傾斜部61の裾部に対して洗浄液を供給する。傾斜部61の裾部が3次研削室B3から搬入出室B0に移動する直前に、傾斜部61の裾部を洗浄でき、搬入出室B0に汚れが持ち込まれるのを防止できる。 On the other hand, the control unit 16 cleans the table 10 from the nozzle 52-2 arranged in the tertiary grinding chamber B3 to the hem of the inclined portion 61 of the table cover 60 while rotating the table 10 in the counterclockwise direction when viewed from above. Supply. Immediately before the hem of the inclined portion 61 moves from the tertiary grinding chamber B3 to the loading / unloading chamber B0, the hem of the inclined portion 61 can be washed, and dirt can be prevented from being brought into the loading / unloading chamber B0.

図8に示すように、研削装置1は、筐体40の外側に位置し、筐体40から気体を排出する排気ボックス43を備える。排気ボックス43は、配管44を介して不図示の吸引源に接続されている。吸引源は、例えば真空ポンプ又はエジェクタである。吸引源は、工場設備の一部であってもよい。配管44は、例えば排気ボックス43の天井43aに設置される。排気ボックス43は、吸引源の吸引力によって、筐体40の内部から気体を排出し、筐体40の内部を筐体40の外部よりも負圧にし、研削屑及び研削液の漏出を抑制する。 As shown in FIG. 8, the grinding device 1 is located outside the housing 40 and includes an exhaust box 43 for discharging gas from the housing 40. The exhaust box 43 is connected to a suction source (not shown) via a pipe 44. The suction source is, for example, a vacuum pump or an ejector. The suction source may be part of factory equipment. The pipe 44 is installed, for example, on the ceiling 43a of the exhaust box 43. The exhaust box 43 discharges gas from the inside of the housing 40 by the suction force of the suction source, makes the inside of the housing 40 a negative pressure than the outside of the housing 40, and suppresses the leakage of grinding debris and grinding fluid. ..

3つの排気ボックス43は、3つの研削室B1~B3から個別に気体を排出し、3つの研削室B1~B3を筐体40の外部よりも負圧にする。搬入出室B0の気圧は、研削室B1~B3の気圧よりも高い。その気圧差が、研削室B1~B3から搬入出室B0への、研削屑及び研削液の飛散を制限する。 The three exhaust boxes 43 individually discharge gas from the three grinding chambers B1 to B3, and make the three grinding chambers B1 to B3 have a negative pressure compared to the outside of the housing 40. The air pressure in the carry-in / out chamber B0 is higher than the air pressure in the grinding chambers B1 to B3. The pressure difference limits the scattering of grinding debris and grinding fluid from the grinding chambers B1 to B3 to the loading / unloading chamber B0.

なお、排気ボックス43の数と、研削室の数は、3つには限定されない。また、排気ボックス43の数と、配管44の数とは同数ではなくもよい。例えば、1つの配管44が、互いに隣り合う2つの排気ボックス43にまたがって接続されてもよい。 The number of exhaust boxes 43 and the number of grinding chambers are not limited to three. Further, the number of exhaust boxes 43 and the number of pipes 44 do not have to be the same. For example, one pipe 44 may be connected across two exhaust boxes 43 adjacent to each other.

ところで、排気ボックス43は、筐体40の内部から気体を排出する際に、筐体40の内部から研削液の液滴をも排出する。そして、研削液の液滴には、研削の際に生じた研削屑が混じっている。 By the way, when the gas is discharged from the inside of the housing 40, the exhaust box 43 also discharges the droplets of the grinding fluid from the inside of the housing 40. The droplets of the grinding fluid are mixed with grinding debris generated during grinding.

そこで、図9に示すように、筐体40の側面パネル42は、研削屑で汚れた研削液が気体と共に研削装置1の外部に排出されるのを抑制すべく、液受け部42aと、排気口42bと、戻し口42cとを、含む。 Therefore, as shown in FIG. 9, the side panel 42 of the housing 40 has a liquid receiving portion 42a and an exhaust gas in order to prevent the grinding liquid contaminated with the grinding dust from being discharged to the outside of the grinding device 1 together with the gas. The opening 42b and the return opening 42c are included.

液受け部42aは、チャック20に保持された基板Wと同じ高さに位置し、基板Wの上面から水平に飛散する研削液を受ける。液受け部42aは、大量の研削液が排気ボックス43に入り込むのを制限する。 The liquid receiving portion 42a is located at the same height as the substrate W held by the chuck 20, and receives the grinding liquid horizontally scattered from the upper surface of the substrate W. The liquid receiving portion 42a limits a large amount of grinding liquid from entering the exhaust box 43.

排気口42bは、液受け部42aよりも上方に位置し、例えば液受け部42aの真上に位置する。研削液は、液受け部42aに当たった後、重力によって下に落下するので、排気口42bにはほとんど入らない。 The exhaust port 42b is located above the liquid receiving portion 42a, for example, directly above the liquid receiving portion 42a. After hitting the liquid receiving portion 42a, the grinding fluid falls downward due to gravity, so that the grinding fluid hardly enters the exhaust port 42b.

排気口42bは、排気ボックス43の内部に連通する。排気ボックス43は、排気口42bを介して、筐体40の内部から気体を排出する。その気体には、研削液の液滴が混じっている。 The exhaust port 42b communicates with the inside of the exhaust box 43. The exhaust box 43 discharges gas from the inside of the housing 40 via the exhaust port 42b. The gas contains droplets of grinding fluid.

排気ボックス43は、その内部にて、気体から研削液の液滴を分離する。研削液の液滴は、気体よりも大きな密度を有し、重力等によって気体から分離する。分離した研削液は、落下する。 Inside the exhaust box 43, droplets of grinding fluid are separated from the gas. The droplets of the grinding fluid have a higher density than the gas and are separated from the gas by gravity or the like. The separated grinding fluid drops.

戻し口42cは、液受け部42aよりも下方に位置し、例えば液受け部42aの真下に位置する。戻し口42cは、排気ボックス43の内部にて気体から分離した研削液を、筐体40の内部に戻す。これにより、研削屑で汚れた研削液が気体と共に研削装置1の外部に排出されるのを抑制できる。 The return port 42c is located below the liquid receiving portion 42a, for example, directly below the liquid receiving portion 42a. The return port 42c returns the grinding fluid separated from the gas inside the exhaust box 43 to the inside of the housing 40. As a result, it is possible to prevent the grinding liquid contaminated with the grinding debris from being discharged to the outside of the grinding apparatus 1 together with the gas.

排気ボックス43は、排気ボックス43の内部にて気体から分離した研削液を、側面パネル42の戻し口42cに向けて斜め下に導く傾斜面43bを有する。傾斜面43bは、下方に向かうほど、側面パネル42に近づく。研削液は、傾斜面43bに沿って流れ落ちる。その流れによって、傾斜面43bに汚れが付着するのを抑制できる。 The exhaust box 43 has an inclined surface 43b that guides the grinding fluid separated from the gas inside the exhaust box 43 diagonally downward toward the return port 42c of the side panel 42. The inclined surface 43b approaches the side panel 42 as it goes downward. The grinding fluid flows down along the inclined surface 43b. The flow can prevent dirt from adhering to the inclined surface 43b.

排気ボックス43の傾斜面43bは、例えば、側面パネル42の排気口42bよりも高い位置から、側面パネル42の戻し口42cと同じ高さの位置まで、下方に向かうほど側面パネル42に近づく。研削液の液滴は、気体と共に側面パネル42の排気口42bを通過した後、排気ボックス43の傾斜面43bに付着し、傾斜面43bに沿って流れ落ちる。 The inclined surface 43b of the exhaust box 43 approaches the side panel 42 as it goes downward, for example, from a position higher than the exhaust port 42b of the side panel 42 to a position at the same height as the return port 42c of the side panel 42. After passing through the exhaust port 42b of the side panel 42 together with the gas, the droplets of the grinding fluid adhere to the inclined surface 43b of the exhaust box 43 and flow down along the inclined surface 43b.

研削装置1は、排気ボックス43の内部を介して筐体40の内部に洗浄液を供給するノズル53を備えてもよい。洗浄液は、例えばDIW等の純水である。洗浄液は、排気ボックス43の内部に供給された後、側面パネル42の戻し口42cを通り、筐体40の内部に供給される。洗浄液は、研削液とは異なり、研削屑等の汚れを含まないので、排気ボックス43の内部と、筐体40の内部を洗浄できる。 The grinding device 1 may include a nozzle 53 that supplies a cleaning liquid to the inside of the housing 40 via the inside of the exhaust box 43. The cleaning liquid is, for example, pure water such as DIW. After being supplied to the inside of the exhaust box 43, the cleaning liquid is supplied to the inside of the housing 40 through the return port 42c of the side panel 42. Unlike the grinding fluid, the cleaning fluid does not contain dirt such as grinding debris, so that the inside of the exhaust box 43 and the inside of the housing 40 can be cleaned.

ノズル53は、例えば、排気ボックス43の傾斜面43bに設けられる。洗浄液が、傾斜面43bに沿って流れ落ちる。その流れによって、傾斜面43bに汚れが付着するのを抑制できる。ノズル53は、傾斜面43bから上方に突出していてもよいし、突出していなくてもよい。 The nozzle 53 is provided, for example, on the inclined surface 43b of the exhaust box 43. The cleaning liquid flows down along the inclined surface 43b. The flow can prevent dirt from adhering to the inclined surface 43b. The nozzle 53 may or may not protrude upward from the inclined surface 43b.

ところで、図8に示すように、上方から見て、隣り合う部屋(例えばB1とB2、又はB0とB3)の境界では、円形状のテーブルカバー60等と側面パネル42の隙間が最も狭くなっている。その狭い隙間には、研削屑が詰まりやすい。 By the way, as shown in FIG. 8, at the boundary between adjacent rooms (for example, B1 and B2, or B0 and B3) when viewed from above, the gap between the circular table cover 60 and the like and the side panel 42 becomes the narrowest. There is. Grinding debris is likely to clog the narrow gap.

なお、テーブルカバー60が無い場合も、上方から見て、隣り合う部屋の境界では、テーブル10と側面パネル42の隙間が最も狭くなっている。その狭い隙間には、研削屑が詰まりやすい。 Even when the table cover 60 is not provided, the gap between the table 10 and the side panel 42 is the narrowest at the boundary between adjacent rooms when viewed from above. Grinding debris is likely to clog the narrow gap.

そこで、本実施形態では、側面パネル42の戻し口42cが、隣り合う部屋(例えばB1とB2、又はB0とB3)の境界付近に配置され、固定仕切壁45の付近に配置される。固定仕切壁45の付近とは、例えば、固定仕切壁45から50mm以内の範囲をいう。その範囲内に、戻し口42cの少なくとも一部があればよい。 Therefore, in the present embodiment, the return port 42c of the side panel 42 is arranged near the boundary between adjacent rooms (for example, B1 and B2, or B0 and B3), and is arranged near the fixed partition wall 45. The vicinity of the fixed partition wall 45 means, for example, a range within 50 mm from the fixed partition wall 45. It suffices if there is at least a part of the return port 42c within the range.

側面パネル42の戻し口42cは、隣り合う部屋(例えばB1とB2、又はB0とB3)の境界付近に配置されることで、テーブルカバー60等と側面パネル42の隙間に洗浄液を供給し、液の流れを形成する。その流れによって、研削屑が詰まるのを抑制する。 The return port 42c of the side panel 42 is arranged near the boundary between adjacent rooms (for example, B1 and B2, or B0 and B3) to supply the cleaning liquid to the gap between the table cover 60 and the like and the side panel 42, and the liquid is supplied. Form the flow of. The flow suppresses clogging of grinding debris.

図9(B)に示すように、側面パネル42の正面から見て、ノズル53の吐出口53aは、できるだけ隣り合う部屋の境界の近くに配置されてもよく、つまり、できるだけ固定仕切壁45の近くに配置されてもよい。 As shown in FIG. 9B, when viewed from the front of the side panel 42, the nozzle 53 discharge port 53a may be located as close to the boundaries of adjacent rooms as possible, i.e., as close as possible to the fixed partition wall 45. It may be placed nearby.

例えば、側面パネル42の正面から見て、固定仕切壁45とノズル53の吐出口53aの距離と、固定仕切壁45と戻し口42cとの距離が同程度であってもよい。戻し口42cの固定仕切壁45に最も近い端から、筐体40の内部に洗浄液を供給できる。 For example, when viewed from the front of the side panel 42, the distance between the fixed partition wall 45 and the discharge port 53a of the nozzle 53 and the distance between the fixed partition wall 45 and the return port 42c may be about the same. The cleaning liquid can be supplied to the inside of the housing 40 from the end of the return port 42c closest to the fixed partition wall 45.

なお、図示しないが、側面パネル42の液受け部42aには、筐体40の内部に洗浄液を供給するノズルが設けられてもよい。このノズルは、例えば液受け部42aの上部に設けられる。洗浄液は、ノズルから吐出された後、液受け部42aを伝って流れ落ち、液受け部42aに付着した研削屑を洗い落とす。 Although not shown, the liquid receiving portion 42a of the side panel 42 may be provided with a nozzle for supplying the cleaning liquid inside the housing 40. This nozzle is provided, for example, on the upper part of the liquid receiving portion 42a. After being discharged from the nozzle, the cleaning liquid flows down along the liquid receiving portion 42a to wash off the grinding debris adhering to the liquid receiving portion 42a.

図8及び図10に示すように、筐体40は、複数のチャック20の下方に位置し、落下する研削液及び研削屑を受けるパン46を含む。パン46は、洗浄液をも受ける。以下、研削液及び洗浄液を、まとめて液体とも呼ぶ。また、研削屑で汚れた液体を、汚液とも呼ぶ。パン46は、その上面に、2つの傾斜面210、220を有する。 As shown in FIGS. 8 and 10, the housing 40 is located below the plurality of chucks 20 and includes a pan 46 that receives the falling grinding fluid and grinding debris. The pan 46 also receives a cleaning solution. Hereinafter, the grinding liquid and the cleaning liquid are collectively referred to as liquids. Further, a liquid contaminated with grinding debris is also referred to as a sewage. The pan 46 has two inclined surfaces 210 and 220 on its upper surface.

図10(A)に示すように、2つの傾斜面210、220は、山形に組み合わされており、互いに隣り合う2つの部屋B0、B1と残り2つの部屋B2、B3との境界線BLから離れるほど下方に傾斜する。2つの傾斜面210、220は、境界線BLを挟んで両側に汚液を流れ落とす。 As shown in FIG. 10A, the two inclined surfaces 210 and 220 are combined in a chevron shape and are separated from the boundary line BL between the two adjacent rooms B0 and B1 and the remaining two rooms B2 and B3. It tilts downward. The two inclined surfaces 210 and 220 allow the sewage to flow down on both sides of the boundary line BL.

本実施形態によれば、2つの傾斜面210、220が山形に組み合わされる。従って、1つの傾斜面のみが設けられる場合に比べて、傾斜面の高低差が同じであれば、傾斜面の水平距離が短く、傾斜の勾配が急である。それゆえ、汚液が流れ落ちやすくなる。よって、パン46における研削屑及び研削液の流れを改善できる。 According to this embodiment, the two inclined surfaces 210 and 220 are combined in a chevron shape. Therefore, as compared with the case where only one inclined surface is provided, if the height difference of the inclined surface is the same, the horizontal distance of the inclined surface is short and the inclination of the inclined surface is steep. Therefore, the sewage tends to flow down. Therefore, the flow of grinding debris and grinding fluid in the pan 46 can be improved.

図10(A)に示すように、パン46は、2つの傾斜面210、220の下縁211、221に沿って2つの樋230、240を有している。汚液は、2つの傾斜面210、220に沿って流れ落ちた後、2つの樋230、240に入る。 As shown in FIG. 10 (A), the pan 46 has two gutters 230, 240 along the lower edges 211, 221 of the two inclined surfaces 210, 220. The sewage flows down along the two inclined surfaces 210 and 220 and then enters the two gutters 230 and 240.

図10(B)及び図10(C)に示すように、各樋230、240は、その溝底に、下縁211、221の一端から他端に向けて下方に傾斜するガイド面231、241を有する。ガイド面231、241によって、汚液を寄せ集めることができる。 As shown in FIGS. 10B and 10C, the gutters 230 and 240 have guide surfaces 231 and 241 that incline downward from one end to the other end of the lower edges 211 and 221 at the bottom of the groove. Has. The guide surfaces 231 and 241 allow the sewage to be collected.

図10(B)に示すように、樋230は、その溝底に、搬入出室B0から1次研削室B1に向けて下方に傾斜するガイド面231を有する。ガイド面231の傾斜によって、汚液に含まれる1次研削屑が1次研削室B1から搬入出室B0に侵入するのを抑制でき、搬入出室B0を清浄に維持できる。 As shown in FIG. 10B, the gutter 230 has a guide surface 231 at the bottom of the groove, which is inclined downward from the loading / unloading chamber B0 toward the primary grinding chamber B1. Due to the inclination of the guide surface 231, it is possible to prevent the primary grinding debris contained in the sewage from entering the loading / unloading chamber B0 from the primary grinding chamber B1, and the loading / unloading chamber B0 can be kept clean.

なお、図10(B)に示すように、樋230は、その溝底に、ガイド面231とは反対向きに傾斜するガイド面232を有してもよい。ガイド面232は、ガイド面231よりも短く、1次研削室B1の搬入出室B0とは反対側の端に配置される。 As shown in FIG. 10B, the gutter 230 may have a guide surface 232 at the bottom of the groove, which is inclined in the direction opposite to the guide surface 231. The guide surface 232 is shorter than the guide surface 231 and is arranged at the end of the primary grinding chamber B1 opposite to the loading / unloading chamber B0.

図10(C)に示すように、樋240は、その溝底に、3次研削室B3から2次研削室B2に向けて下方に傾斜するガイド面241を有する。ガイド面241の傾斜によって、粒径の大きい2次研削屑が2次研削室B2から3次研削室B3に侵入するのを抑制でき、3次研削後の研削面の荒れを抑制できる。 As shown in FIG. 10C, the gutter 240 has a guide surface 241 at the bottom of the groove, which is inclined downward from the tertiary grinding chamber B3 toward the secondary grinding chamber B2. Due to the inclination of the guide surface 241, it is possible to suppress the invasion of the secondary grinding debris having a large particle size from the secondary grinding chamber B2 into the tertiary grinding chamber B3, and it is possible to suppress the roughness of the grinding surface after the tertiary grinding.

なお、図10(C)に示すように、樋240は、その溝底に、ガイド面241とは反対向きに傾斜するガイド面242を有してもよい。ガイド面242は、ガイド面241よりも短く、2次研削室B2の3次研削室B3とは反対側の端に配置される。 As shown in FIG. 10C, the gutter 240 may have a guide surface 242 inclined in the direction opposite to the guide surface 241 at the bottom of the groove. The guide surface 242 is shorter than the guide surface 241 and is arranged at the end of the secondary grinding chamber B2 opposite to the tertiary grinding chamber B3.

各樋230、240は、その溝底の最も高さの低い部位に、汚液を排出する排出口233、243を含む。排出口233、243には、排出口233、243から下方に延びる配管250、260が接続される。 Each gutter 230, 240 includes a discharge port 233, 243 for discharging sewage at the lowest portion of the groove bottom. Pipes 250 and 260 extending downward from the discharge ports 233 and 243 are connected to the discharge ports 233 and 243.

汚液は、ガイド面231、241に沿って流れ落ち、排出口233、243から配管250、260に排出される。排出口233、243は、最も高さの低い部位に位置するので、寄せ集めた汚液を効率的に排出できる。 The sewage flows down along the guide surfaces 231 and 241 and is discharged from the discharge ports 233 and 243 to the pipes 250 and 260. Since the discharge ports 233 and 243 are located at the lowest height, the collected sewage can be efficiently discharged.

図11に示すように、工具駆動部30は、研削工具Dが取り付けられる可動部31と、可動部31を昇降させる昇降部35とを含む。昇降部35は、傾斜面210、220の下縁211、221ではなく、傾斜面210、220の山形の傾斜縁212、222と向かい合う。昇降部35が樋230、240に面しないので、樋230、240のメンテナンスが容易である。 As shown in FIG. 11, the tool drive unit 30 includes a movable portion 31 to which the grinding tool D is attached, and an elevating portion 35 for raising and lowering the movable portion 31. The elevating portion 35 faces the chevron inclined edges 212 and 222 of the inclined surfaces 210 and 220 instead of the lower edges 211 and 221 of the inclined surfaces 210 and 220. Since the elevating portion 35 does not face the gutters 230 and 240, maintenance of the gutters 230 and 240 is easy.

上記の通り、筐体40の内部には、研削液や洗浄液が供給される。これらの液体と共に、研削屑が、排出口233、243に流れ込む。その結果、排出口233、243が詰まることがある。 As described above, the grinding liquid and the cleaning liquid are supplied to the inside of the housing 40. Along with these liquids, grinding debris flows into the outlets 233 and 243. As a result, the outlets 233 and 243 may be clogged.

そこで、図12に示すように、研削装置1は、筐体40の内部に位置する第1液面レベルセンサ80-1、80-2を備える。第1液面レベルセンサ80-1、80-2は、筐体40の内部に溜まる液体の液面レベルを検出する。検出した液面レベルが予め設定された高さを超えると、排出口233、243が詰まったと、制御部16が判断する。 Therefore, as shown in FIG. 12, the grinding device 1 includes first liquid level sensors 80-1 and 80-2 located inside the housing 40. The first liquid level sensors 80-1 and 80-2 detect the liquid level of the liquid accumulated inside the housing 40. When the detected liquid level exceeds a preset height, the control unit 16 determines that the discharge ports 233 and 243 are clogged.

また、研削装置1は、チャック20と第1液面レベルセンサ80-1、80-2との間に位置するセンサカバー81-1、81-2を備える。センサカバー81-1、81-2は、チャック20に保持された基板Wから第1液面レベルセンサ80-1、80-2に向かう汚液を、その途中で遮る。従って、汚れが第1液面レベルセンサ80-1、80-2に付くのを抑制でき、第1液面レベルセンサ80-1、80-2の動作不良を抑制できる。また、第1液面レベルセンサ80-1、80-2に加わる衝撃を低減でき、第1液面レベルセンサ80-1、80-2の故障を抑制できる。 Further, the grinding device 1 includes sensor covers 81-1 and 81-2 located between the chuck 20 and the first liquid level sensors 80-1 and 80-2. The sensor covers 81-1 and 81-2 block the sewage from the substrate W held by the chuck 20 toward the first liquid level sensors 80-1 and 80-2 on the way. Therefore, it is possible to suppress the dirt from adhering to the first liquid level level sensors 80-1 and 80-2, and it is possible to suppress the malfunction of the first liquid level level sensors 80-1 and 80-2. Further, the impact applied to the first liquid level level sensors 80-1 and 80-2 can be reduced, and the failure of the first liquid level level sensors 80-1 and 80-2 can be suppressed.

筐体40は、チャック20の側方に位置する4つの側面パネル42-1、42-2、42-3、42-4を含む。これらの側面パネル42は、矩形に組み合わされ、4つの角CR0~CR4を形成する。CR0は搬入出室B0の角であり、CR1は1次研削室B1の角であり、CR2は2次研削室B2の角であり、CR3は3次研削室C3の角である。 The housing 40 includes four side panels 42-1, 42-2, 42-3, 42-4 located laterally to the chuck 20. These side panels 42 are combined in a rectangular shape to form four angles CR0-CR4. CR0 is the corner of the loading / unloading chamber B0, CR1 is the corner of the primary grinding chamber B1, CR2 is the corner of the secondary grinding chamber B2, and CR3 is the corner of the tertiary grinding chamber C3.

第1液面レベルセンサ80-1は角CR1に位置し、別の第1液面レベルセンサ80-2は別の角CR2に位置する。第1液面レベルセンサ80-1、80-2を角CR1、CR2に配置することで、他の部材との干渉を防止できる。 The first liquid level sensor 80-1 is located at the corner CR1 and another first liquid level sensor 80-2 is located at another corner CR2. By arranging the first liquid level sensors 80-1 and 80-2 at the corners CR1 and CR2, it is possible to prevent interference with other members.

上方から見て、センサカバー81-1は、角CR1を形成する2つの側面パネル42-1、42-2のそれぞれに対して傾斜する傾斜板81a-1を有する。そして、第1液面レベルセンサ80-1は、2つの側面パネル42-1、42-2と傾斜板81a-1で囲まれた空間に位置する。傾斜板81a-1によって角CR1を隠すことで、角CR1に汚れが溜まるのを防止できる。 Seen from above, the sensor cover 81-1 has an inclined plate 81a-1 inclined with respect to each of the two side panels 42-1 and 42-2 forming the angle CR1. The first liquid level sensor 80-1 is located in a space surrounded by two side panels 42-1 and 42-2 and an inclined plate 81a-1. By hiding the corner CR1 with the inclined plate 81a-1, it is possible to prevent dirt from accumulating on the corner CR1.

また、上方から見て、センサカバー81-2は、角CR2を形成する2つの側面パネル42-2、42-3のそれぞれに対して傾斜する傾斜板81a-2を有する。そして、第1液面レベルセンサ80-2は、2つの側面パネル42-2、42-3と傾斜板81a-2で囲まれた空間に位置する。傾斜板81a-2によって角CR2を隠すことで、角CR2に汚れが溜まるのを防止できる。 Further, when viewed from above, the sensor cover 81-2 has an inclined plate 81a-2 inclined with respect to each of the two side panels 42-2 and 42-3 forming the angle CR2. The first liquid level sensor 80-2 is located in a space surrounded by the two side panels 42-2 and 42-3 and the inclined plate 81a-2. By hiding the corner CR2 with the inclined plate 81a-2, it is possible to prevent dirt from accumulating on the corner CR2.

上方から見て、第1液面レベルセンサ80-1は樋230と重なっており、別の第1液面レベルセンサ80-2は別の樋240と重なっている。第1液面レベルセンサ80-1、80-2は、樋230、240の内部に入り込んでいてもよいし、樋230、240よりも上方に位置してもよい。いずれにしろ、液体の集まる樋230、240の位置で、液面レベルを検知できる。 Seen from above, the first liquid level sensor 80-1 overlaps the gutter 230, and another first liquid level sensor 80-2 overlaps the other gutter 240. The first liquid level sensors 80-1 and 80-2 may enter the inside of the gutters 230 and 240, or may be located above the gutters 230 and 240. In any case, the liquid level can be detected at the positions of the gutters 230 and 240 where the liquid collects.

上方から見て、第1液面レベルセンサ80-1、80-2は、排出口233、243の近傍に位置する。第1液面レベルセンサ80-1、80-2を排出口233、243の近傍に配置することで、排出口233、243の詰まりを確実に検知できる。 When viewed from above, the first liquid level sensors 80-1 and 80-2 are located in the vicinity of the discharge ports 233 and 243. By arranging the first liquid level sensors 80-1 and 80-2 in the vicinity of the discharge ports 233 and 243, clogging of the discharge ports 233 and 243 can be reliably detected.

研削装置1は、第1液面レベルセンサ80-1、80-2とは別に、筐体40の内部に溜まる液体の液面レベルを検出する第2液面レベルセンサ82-1、82-2を備える。第1液面レベルセンサ80-1と第2液面レベルセンサ82-1は、同一の角CR1に配置され、同一の液面レベルを検出する。また、第1液面レベルセンサ80-2と第2液面レベルセンサ82-2は、同一の角CR2に配置され、同一の液面レベルを検出する。同一の液面レベルを2つのセンサでダブルチェックできる。1つのセンサに動作不良又は故障が生じている場合であっても、残りのセンサで液面レベルを検出できる。なお、第2液面レベルセンサ82-1、82-2は、第1液面レベルセンサ80-1、80-2の検出範囲よりも高い位置の液面レベルを検出してもよい。 The grinding device 1 is separate from the first liquid level sensors 80-1 and 80-2, and the second liquid level level sensors 82-1 and 82-2 that detect the liquid level of the liquid accumulated inside the housing 40. To prepare for. The first liquid level sensor 80-1 and the second liquid level sensor 82-1 are arranged at the same angle CR1 and detect the same liquid level. Further, the first liquid level level sensor 80-2 and the second liquid level level sensor 82-2 are arranged at the same angle CR2 and detect the same liquid level. The same liquid level can be double-checked with two sensors. Even if one sensor malfunctions or fails, the remaining sensors can detect the liquid level. The second liquid level sensors 82-1 and 82-2 may detect the liquid level at a position higher than the detection range of the first liquid level sensors 80-1 and 80-2.

次に、図13を参照して、一組の第1液面レベルセンサ80-1と第2液面レベルセンサ82-1について説明する。なお、別の一組の第1液面レベルセンサ80-2と第2液面レベルセンサ82-2は、同様に構成されるので、説明を省略する。 Next, with reference to FIG. 13, a set of the first liquid level level sensor 80-1 and the second liquid level level sensor 82-1 will be described. Since another set of the first liquid level sensor 80-2 and the second liquid level level sensor 82-2 are configured in the same manner, the description thereof will be omitted.

研削装置1は、筐体40の外部に、筐体40の内部と連通する鉛直管83を備える。鉛直管83の下端から延びる水平管86が、例えば樋230の内部に挿入される。鉛直管83の上端から延びる水平管87は、例えば筐体40の上面パネル41よりも上方に配置される。 The grinding device 1 includes a vertical pipe 83 communicating with the inside of the housing 40 on the outside of the housing 40. A horizontal pipe 86 extending from the lower end of the vertical pipe 83 is inserted into, for example, the inside of the gutter 230. The horizontal pipe 87 extending from the upper end of the vertical pipe 83 is arranged above, for example, the upper surface panel 41 of the housing 40.

鉛直管83の内部には、外気が入り込む。従って、鉛直管83内の液体の液面レベルは、筐体40内の液体の液面レベルと同一になる。第2液面レベルセンサ82-1は、鉛直管83に取付けられ、鉛直管83内の液体の液面レベルを検出する。 Outside air enters the inside of the vertical pipe 83. Therefore, the liquid level of the liquid in the vertical pipe 83 is the same as the liquid level of the liquid in the housing 40. The second liquid level sensor 82-1 is attached to the vertical pipe 83 and detects the liquid level of the liquid in the vertical pipe 83.

第2液面レベルセンサ82-1は、第1液面レベルセンサ80-1とは異なり、筐体40の外部に配置される。従って、汚液が第2液面レベルセンサ82-1に飛散するのを防止でき、第2液面レベルセンサ82-1の動作不良、及び故障を防止できる。 Unlike the first liquid level sensor 80-1, the second liquid level sensor 82-1 is arranged outside the housing 40. Therefore, it is possible to prevent the sewage from scattering to the second liquid level sensor 82-1 and prevent the second liquid level sensor 82-1 from malfunctioning and malfunctioning.

第1液面レベルセンサ80-1は、液面レベルの変位を計測する変位計を含む。例えば、第1液面レベルセンサ80-1は、液面レベルの変動に従って昇降するフロート80aと、フロート80aのガイド80bと、フロート80aの変位を計測する変位計80cを有する。なお、変位計は、フロート式には限定されない。変位計は、液面レベルの高さを所定の範囲内で連続的に計測する。 The first liquid level sensor 80-1 includes a displacement meter that measures the displacement of the liquid level. For example, the first liquid level sensor 80-1 has a float 80a that moves up and down according to fluctuations in the liquid level, a guide 80b of the float 80a, and a displacement meter 80c that measures the displacement of the float 80a. The displacement meter is not limited to the float type. The displacement meter continuously measures the height of the liquid level within a predetermined range.

一方、第2液面レベルセンサ82-1は、液面レベルの設定値への到達を検出するスイッチを含む。スイッチは、例えば近接スイッチである。近接スイッチの方式は、特に限定されないが、例えば光学式である。光学式の近接スイッチは、透明な鉛直管83の透過光を検出し、その光量の変化から液面レベルの設定値への到達を検出する。なお、近接スイッチは、静電容量式等であってもよい。この場合、鉛直管83は、不透明であってもよい。第2液面レベルセンサ82-1として、第1液面レベルセンサ80-1とは別の方式のものを用いることで、2つのセンサに同時に動作不良又は故障が生じるのを回避できる。 On the other hand, the second liquid level level sensor 82-1 includes a switch for detecting the arrival of the liquid level level set value. The switch is, for example, a proximity switch. The method of the proximity switch is not particularly limited, but is, for example, an optical method. The optical proximity switch detects the transmitted light of the transparent vertical tube 83, and detects the arrival of the liquid level level at the set value from the change in the amount of light. The proximity switch may be a capacitance type or the like. In this case, the vertical pipe 83 may be opaque. By using a method different from that of the first liquid level sensor 80-1 as the second liquid level level sensor 82-1, it is possible to avoid malfunction or failure of the two sensors at the same time.

第2液面レベルセンサ82-1のスイッチは、液面レベルの設定値への到達を検出するスイッチを含む。その液面レベルの設定値は、山形に組み合わされる2つの傾斜面210、220の頂き201(図10(A)参照)の高さHよりも低くてもよい。傾斜面210、220に沿う流れが無くなって研削屑が沈着し始める前に、排出口233、243の詰まりを検知できる。 The switch of the second liquid level sensor 82-1 includes a switch for detecting the arrival of the liquid level level set value. The set value of the liquid level may be lower than the height H of the peak 201 (see FIG. 10A) of the two inclined surfaces 210 and 220 combined in the chevron shape. It is possible to detect the clogging of the discharge ports 233 and 243 before the flow along the inclined surfaces 210 and 220 disappears and the grinding debris begins to deposit.

図12に示すように、研削装置1は、センサカバー81-1、81-2とは別に、角CR3を覆うコーナーカバー84を有してもよい。コーナーカバー84は、角CR3を形成する2つの側面パネル42-3、42-4のそれぞれに対して傾斜する傾斜板84aを有する。傾斜板84aによって角CR3を隠すことで、角CR3に汚れが溜まるのを防止できる。コーナーカバー84は、搬入出室B0には設置されなくてもよい。 As shown in FIG. 12, the grinding apparatus 1 may have a corner cover 84 that covers the corner CR3, in addition to the sensor covers 81-1 and 81-2. The corner cover 84 has an inclined plate 84a that is inclined with respect to each of the two side panels 42-3 and 42-4 forming the angle CR3. By hiding the corner CR3 with the inclined plate 84a, it is possible to prevent dirt from accumulating on the corner CR3. The corner cover 84 does not have to be installed in the carry-in / out room B0.

また、研削装置1は、側面パネル42と固定仕切壁45との角を覆う第2コーナーカバー85を有してもよい。第2コーナーカバー85は、側面パネル42と固定仕切壁45のそれぞれに対して傾斜する第2傾斜板85aを有する。第2傾斜板85aによって角を隠すことで、角に汚れが溜まるのを防止できる。第2コーナーカバー85は、1次研削室B1と、2次研削室B2と、3次研削室B3とに設置される。第2コーナーカバー85は、搬入出室B0には設置されなくてもよい。 Further, the grinding device 1 may have a second corner cover 85 that covers the corner between the side panel 42 and the fixed partition wall 45. The second corner cover 85 has a second inclined plate 85a that is inclined with respect to each of the side panel 42 and the fixed partition wall 45. By hiding the corners with the second inclined plate 85a, it is possible to prevent dirt from accumulating on the corners. The second corner cover 85 is installed in the primary grinding chamber B1, the secondary grinding chamber B2, and the tertiary grinding chamber B3. The second corner cover 85 does not have to be installed in the carry-in / out room B0.

図14(A)に示すように、研削装置1は、研削装置1の外面を形成する外装300を備える。外装300は、その内部に、テーブル10と、チャック20と、チャック駆動部19と、工具駆動部30と、筐体40と、回収部320とを収容する。回収部320は、研削屑を回収する。研削屑は、例えば研削液等の液体と共に回収部320に流れ込む。回収部320は、研削屑から液体を分離し、液体を排出し、研削屑を残す。回収部320の詳細は、後述する。 As shown in FIG. 14A, the grinding device 1 includes an exterior 300 forming an outer surface of the grinding device 1. The exterior 300 houses a table 10, a chuck 20, a chuck drive unit 19, a tool drive unit 30, a housing 40, and a recovery unit 320 inside the exterior 300. The collection unit 320 collects the grinding debris. The grinding debris flows into the recovery unit 320 together with a liquid such as a grinding fluid. The collection unit 320 separates the liquid from the grinding debris, discharges the liquid, and leaves the grinding debris. Details of the collection unit 320 will be described later.

外装300には、第1開口301と、第2開口302とが別々に形成される。第1開口301は、作業者又は作業ロボットが研削装置1の外部からチャック20又は工具駆動部30にアクセスするのを許容する。一方、第2開口302は、作業者又は作業ロボットが研削装置1の外部から回収部320にアクセスするのを許容する。 The exterior 300 is formed with a first opening 301 and a second opening 302 separately. The first opening 301 allows the operator or the working robot to access the chuck 20 or the tool drive unit 30 from the outside of the grinding device 1. On the other hand, the second opening 302 allows the worker or the working robot to access the recovery unit 320 from the outside of the grinding device 1.

研削装置1は、第1開口301を開閉する第1扉311と、第1扉311とは別に第2開口302を開閉する第2扉312とを備える。作業者又は作業ロボットが、第1扉311を操作し、第1開口301を開閉する。同様に、作業者又は作業ロボットが、第2扉312を操作し、第2開口302を開閉する。 The grinding device 1 includes a first door 311 that opens and closes the first opening 301, and a second door 312 that opens and closes the second opening 302 separately from the first door 311. A worker or a working robot operates the first door 311 to open and close the first opening 301. Similarly, a worker or a working robot operates the second door 312 to open and close the second opening 302.

本実施形態によれば、研削装置1の外面に、第1開口301と、第2開口302とが別々に形成される。第2開口302は、第1開口301よりも、回収部320の近くに形成される。その結果、作業者又は作業ロボットは、回収部320に触れる際に、第1扉311を操作し、第1開口301を開く必要が無い。従って、作業者又は作業ロボットは、チャック20又は工具駆動部30に触れずに済む。それゆえ、チャック20及び研削工具Dを駆動したまま、基板Wの研削を中断することなく、研削装置1の外部に研削屑を取り出すことができる。つまり、基板Wの研削中に、研削装置1の外部に研削屑を取り出すことができる。 According to the present embodiment, the first opening 301 and the second opening 302 are separately formed on the outer surface of the grinding device 1. The second opening 302 is formed closer to the recovery unit 320 than the first opening 301. As a result, the worker or the working robot does not need to operate the first door 311 and open the first opening 301 when touching the collection unit 320. Therefore, the worker or the working robot does not have to touch the chuck 20 or the tool driving unit 30. Therefore, the grinding debris can be taken out to the outside of the grinding apparatus 1 without interrupting the grinding of the substrate W while driving the chuck 20 and the grinding tool D. That is, during the grinding of the substrate W, the grinding debris can be taken out to the outside of the grinding device 1.

第1開口301と、第2開口302は、例えば、研削装置1の同じ向きの側面に形成される。研削装置1の反対向きの側面にも、第1開口301と第2開口302が形成されてもよく、第1開口301と第2開口302の数は複数でもよい。また、回収部320の数も複数でもよい。回収部320は、図13等に示す筐体40よりも下方に位置し、筐体40の排出口233、243から落下する研削屑を回収する。 The first opening 301 and the second opening 302 are formed, for example, on the side surfaces of the grinding device 1 in the same direction. The first opening 301 and the second opening 302 may be formed on the opposite side surfaces of the grinding device 1, and the number of the first opening 301 and the second opening 302 may be plural. Further, the number of collection units 320 may be plural. The collection unit 320 is located below the housing 40 shown in FIG. 13 and the like, and collects the grinding debris that falls from the discharge ports 233 and 243 of the housing 40.

図14(A)に示すように、研削装置1は、第1扉311による第1開口301の開放を検出する扉センサ321を備える。扉センサ321は、特に限定されないが、例えば近接スイッチである。扉センサ321は、第1開口301の開放を検出すると、その開放を示す信号を制御部16(図1参照)に送信する。 As shown in FIG. 14A, the grinding device 1 includes a door sensor 321 that detects the opening of the first opening 301 by the first door 311. The door sensor 321 is not particularly limited, but is, for example, a proximity switch. When the door sensor 321 detects the opening of the first opening 301, the door sensor 321 transmits a signal indicating the opening to the control unit 16 (see FIG. 1).

制御部16は、チャック20及び研削工具Dの駆動中に、扉センサ321によって第1開口301の開放を検出すると、チャック20及び研削工具Dの駆動を停止する。同様に、制御部16は、テーブル10の駆動中に、扉センサ321によって第1開口301の開放を検出すると、テーブル10の駆動を停止する。駆動中の物体と、作業者又は作業ロボットとの接触を防止できる。 When the control unit 16 detects the opening of the first opening 301 by the door sensor 321 while driving the chuck 20 and the grinding tool D, the control unit 16 stops driving the chuck 20 and the grinding tool D. Similarly, when the control unit 16 detects the opening of the first opening 301 by the door sensor 321 while driving the table 10, the control unit 16 stops driving the table 10. It is possible to prevent contact between the driven object and the operator or the working robot.

一方、制御部16は、チャック20及び研削工具Dの駆動中に第2扉312が第2開口302を開放しても、チャック20及び研削工具Dの駆動を続行する。同様に、制御部16は、テーブル10の駆動中に第2扉312が第2開口302を開放しても、テーブル10の駆動を続行する。研削装置1の外部に研削屑を取り出すために、基板Wの研削を中断せずに済む。 On the other hand, the control unit 16 continues to drive the chuck 20 and the grinding tool D even if the second door 312 opens the second opening 302 while the chuck 20 and the grinding tool D are being driven. Similarly, the control unit 16 continues to drive the table 10 even if the second door 312 opens the second opening 302 while the table 10 is being driven. In order to take out the grinding debris to the outside of the grinding device 1, it is not necessary to interrupt the grinding of the substrate W.

上記の通り、第2扉312が第2開口302を開放しても、制御部16は物体の駆動を継続する。従って、第2開口302の開放を検出する扉センサは、無くてもよい。 As described above, even if the second door 312 opens the second opening 302, the control unit 16 continues to drive the object. Therefore, the door sensor that detects the opening of the second opening 302 may be omitted.

図14(B)に示すように、回収部330は、第2開口302からチャック20又は工具駆動部30へのアクセスを制限する壁341、342、343、344、345を含む。壁341、342、343、344、345は、箱340を形成する。箱340は、第2開口302に向けて開放されている。 As shown in FIG. 14 (B), the recovery unit 330 includes walls 341, 342, 343, 344, 345 that limit access to the chuck 20 or the tool drive unit 30 from the second opening 302. The walls 341, 342, 343, 344, 345 form the box 340. The box 340 is opened toward the second opening 302.

図15に示すように、箱340の天井である壁341には、研削屑の入口346が形成される。入口346は、配管250又は260を介して、筐体40の排出口233又は243と連通する。入口346は、両方の配管250、260を介して、両方の排出口233、243と連通してもよい。研削屑は、箱340の入口346を通り、箱340の内部に落下する。 As shown in FIG. 15, an inlet 346 for grinding debris is formed on the wall 341 which is the ceiling of the box 340. The inlet 346 communicates with the discharge port 233 or 243 of the housing 40 via the pipe 250 or 260. The inlet 346 may communicate with both outlets 233 and 243 via both pipes 250 and 260. Grinding debris passes through the inlet 346 of the box 340 and falls inside the box 340.

回収部330は、箱340の内部に、箱340の入口346から落下する研削屑をガイドする一対のガイド壁351、352を含んでもよい。 The collection unit 330 may include a pair of guide walls 351 and 352 that guide the grinding debris falling from the inlet 346 of the box 340 inside the box 340.

図15に示すように、回収部330は、研削屑を収容する複数の容器331、332を含む。複数の容器331、332は、別々に、箱340の内部から取り外し可能である。例えば、一の容器331で研削屑を回収しつつ、別の容器332を取り外し、その容器332を空にすることができる。但し、容器の数は、1つでもよい。 As shown in FIG. 15, the recovery unit 330 includes a plurality of containers 331 and 332 for accommodating grinding debris. The plurality of containers 331 and 332 can be separately removed from the inside of the box 340. For example, while collecting grinding debris in one container 331, another container 332 can be removed and the container 332 can be emptied. However, the number of containers may be one.

図14(B)に示すように、箱340は、容器331、332の取り出し口を開閉する扉347、348を有する。扉347、348は、第2扉312とは別の扉であるが、第2扉312を兼ねてもよい。作業者又は作業ロボットは、扉347、348を開き、容器331、332を箱340の外部に取り出す。その後、作業者又は作業ロボットは、空の容器331、332を箱340の内部に戻し、扉347、348を閉める。 As shown in FIG. 14B, the box 340 has doors 347 and 348 that open and close the outlets of the containers 331 and 332. The doors 347 and 348 are separate doors from the second door 312, but may also serve as the second door 312. The worker or the working robot opens the doors 347 and 348 and takes out the containers 331 and 332 to the outside of the box 340. After that, the worker or the working robot returns the empty containers 331 and 332 to the inside of the box 340 and closes the doors 347 and 348.

図15に示すように、回収部330は、研削屑の収容先を切り替える切替機構360を含む。切替機構360は、例えば、回転板361と、操作レバー362と、を有する。回転板361は、研削屑の落下する通路に位置し、傾斜する。操作レバー362は、回転板361を回転させ、回転板361の傾斜方向を切り替える。回転板361の傾斜方向を切り替えることで、研削屑の収容先を切り替えることができる。 As shown in FIG. 15, the collection unit 330 includes a switching mechanism 360 for switching the storage destination of the grinding debris. The switching mechanism 360 has, for example, a rotating plate 361 and an operating lever 362. The rotary plate 361 is located in the passage where the grinding chips fall and is inclined. The operation lever 362 rotates the rotary plate 361 and switches the tilting direction of the rotary plate 361. By switching the inclination direction of the rotary plate 361, the storage destination of the grinding debris can be switched.

回転板361の回転直径は、一対のガイド壁351、352の間隔をよりも小さい。一対のガイド壁351、352は、回転板361の回転を停止させるストッパの役割も有する。回転板361の回転軸363は、水平に配置され、一対のガイド壁351、352の水平方向中央の真下に配置される。 The rotation diameter of the rotating plate 361 is smaller than the distance between the pair of guide walls 351 and 352. The pair of guide walls 351 and 352 also serve as a stopper for stopping the rotation of the rotating plate 361. The rotation shaft 363 of the rotation plate 361 is arranged horizontally, and is arranged directly below the center of the pair of guide walls 351 and 352 in the horizontal direction.

図15(A)に示すように、回転板361は、右のガイド壁352に当たった状態で、左下に傾斜し、左の容器331に研削屑を落下させる。この場合、研削屑の収容先は、左の容器331である。 As shown in FIG. 15 (A), the rotating plate 361 is inclined to the lower left in a state of being in contact with the right guide wall 352, and the grinding debris is dropped into the container 331 on the left. In this case, the storage destination of the grinding waste is the container 331 on the left.

一方、図15(B)に示すように、回転板361は、左のガイド壁351に当たった状態で、右下に傾斜し、右の容器332に研削屑を落下させる。この場合、研削屑の収容先は、右の容器332である。 On the other hand, as shown in FIG. 15B, the rotating plate 361 is inclined to the lower right in a state of being in contact with the left guide wall 351 and drops grinding chips into the right container 332. In this case, the storage destination of the grinding waste is the container 332 on the right.

回収部330は、ロック機構370を含む。ロック機構370は、研削屑の収容先である容器331の取り外しを制限し、その他の容器332の取り外しを許容する。あるいは、ロック機構370は、研削屑の収容先である容器332の取り外しを制限し、その他の容器331の取り外しを許容する。研削屑の収容中に、収容先である容器を誤って取り外すのを防止でき、研削屑が箱340の内部に散乱するのを防止できる。 The recovery unit 330 includes a lock mechanism 370. The lock mechanism 370 restricts the removal of the container 331, which is the storage destination of the grinding debris, and allows the removal of the other containers 332. Alternatively, the lock mechanism 370 restricts the removal of the container 332, which is the storage destination of the grinding debris, and allows the removal of the other container 331. It is possible to prevent the container, which is the storage destination, from being accidentally removed during the storage of the grinding debris, and it is possible to prevent the grinding debris from being scattered inside the box 340.

ロック機構370として、例えば、切替機構360の操作レバー362が用いられる。操作レバー362は、例えば、回転板361の回転軸363から、容器の通る道まで直線状に延び、容器の取り出しを制限する。操作レバー362は、例えば、図14(B)に示すように扉347を押さえることで、容器331の取り出しを制限する。また、操作レバー362は、別の扉348を押さえることで、別の容器332の取り出しを制限する。操作レバー362は、扉347のみを押さえた状態と、別の扉348のみを押さえた状態とに切り替わる。操作レバー362がロック機構370であれば、収容先の切り替えと同時に、ロック先の切り替えを実施でき、ロック先の切り替え忘れを防止できる。 As the lock mechanism 370, for example, the operation lever 362 of the switching mechanism 360 is used. The operating lever 362 extends linearly from, for example, the rotating shaft 363 of the rotating plate 361 to the path through which the container passes, and restricts the removal of the container. The operating lever 362 limits the removal of the container 331 by, for example, pressing the door 347 as shown in FIG. 14 (B). Further, the operation lever 362 restricts the removal of another container 332 by pressing another door 348. The operation lever 362 switches between a state in which only the door 347 is pressed and a state in which only another door 348 is pressed. If the operation lever 362 is the lock mechanism 370, the lock destination can be switched at the same time as the accommodation destination is switched, and it is possible to prevent forgetting to switch the lock destination.

容器331、332は、研削屑を残し、研削屑から液体を分離すべく、網を含む。容器331、332は、全体が網のかごであるが、下壁のみが網のものであってもよい。そして、回収部330は、容器331、332を下方から支持し、液体を下方に落とす網状の載置部333を含む。載置部333の上には、隣り合う容器331、332の間を仕切る仕切板334があってもよい。液体は、容器331、332から滴り落ちた後、載置部333を通り、回収部330の外部に排出される。回収部330の内部に研削屑のみを残すことができ、容器331、332を箱340から取り出す頻度を低減できる。 Containers 331 and 332 contain a net to leave grinding debris and separate the liquid from the grinding debris. The containers 331 and 332 are entirely net cages, but only the lower wall may be net. The recovery unit 330 includes a net-like mounting unit 333 that supports the containers 331 and 332 from below and drops the liquid downward. On the mounting portion 333, there may be a partition plate 334 that partitions between adjacent containers 331 and 332. After dripping from the containers 331 and 332, the liquid passes through the mounting section 333 and is discharged to the outside of the collecting section 330. Only the grinding debris can be left inside the collection unit 330, and the frequency of taking out the containers 331 and 332 from the box 340 can be reduced.

以上、本開示に係る研削装置、及び研削方法について説明したが、本開示は上記実施形態などに限定されない。特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更、修正、置換、付加、削除、および組み合わせが可能である。それらについても当然に本開示の技術的範囲に属する。 Although the grinding device and the grinding method according to the present disclosure have been described above, the present disclosure is not limited to the above-described embodiment and the like. Various changes, modifications, replacements, additions, deletions, and combinations are possible within the scope of the claims. Of course, they also belong to the technical scope of the present disclosure.

例えば、工具駆動部30の数は、1つ以上であればよい。また、チャック20の数は、工具駆動部30の数よりも多ければよい。また、筐体40の内部は固定仕切壁45によって4つの部屋B0~B3に仕切られるが、その部屋の数は4つには限定されず2つ以上であればよい。 For example, the number of tool drive units 30 may be one or more. Further, the number of chucks 20 may be larger than the number of tool drive units 30. Further, the inside of the housing 40 is divided into four rooms B0 to B3 by the fixed partition wall 45, but the number of the rooms is not limited to four and may be two or more.

1 研削装置
10 テーブル
20 チャック
30 工具駆動部
40 筐体
45 固定仕切壁
46 パン
50 ノズル
201、202 傾斜面
W 基板
1 Grinding device 10 Table 20 Chuck 30 Tool drive unit 40 Housing 45 Fixed partition wall 46 Pan 50 Nozzle 201, 202 Inclined surface W Substrate

Claims (7)

基板を保持する複数のチャックと、
複数の前記チャックを回転中心線の周りに保持し、前記回転中心線を中心に回転するテーブルと、
複数の前記チャックを収容する筐体と、
前記筐体の内部を、前記テーブルの前記回転中心線の周りに4つの部屋に仕切る固定仕切壁と、
前記部屋の内部で前記基板に押し当てた研削工具を駆動する工具駆動部と、
前記部屋の内部で前記基板に対して研削液を供給するノズルと、を備え、
前記筐体は、複数の前記チャックの下方に位置し、落下する前記研削液及び研削屑を受けるパンを含み、
前記パンは、その上面に、互いに隣り合う2つの前記部屋と残り2つの前記部屋との境界線から離れるほど下方に傾斜する2つの傾斜面を有する、研削装置。
With multiple chucks holding the board,
A table that holds a plurality of the chucks around the rotation center line and rotates around the rotation center line,
A housing that accommodates the plurality of chucks,
A fixed partition wall that divides the inside of the housing into four rooms around the rotation center line of the table.
A tool drive unit that drives the grinding tool pressed against the substrate inside the room,
A nozzle for supplying a grinding fluid to the substrate inside the room is provided.
The housing is located below the plurality of chucks and contains a pan that receives the falling grinding fluid and grinding debris.
The pan is a grinding device having two inclined surfaces on the upper surface thereof, which are inclined downward so as to be separated from the boundary line between the two adjacent chambers and the remaining two chambers.
前記パンは、2つの前記傾斜面の下縁に沿って2つの樋を有し、
各前記樋は、その溝底に、前記下縁の一端から他端に向けて下方に傾斜するガイド面を有する、請求項1に記載の研削装置。
The pan has two gutters along the lower edges of the two slopes.
The grinding apparatus according to claim 1, wherein each gutter has a guide surface at the bottom of the groove, which is inclined downward from one end of the lower edge toward the other end.
各前記樋は、その溝底の最も高さの低い部位に、前記研削液及び前記研削屑を排出する排出口を含む、請求項2に記載の研削装置。 The grinding apparatus according to claim 2, wherein each of the gutters includes a discharge port for discharging the grinding fluid and the grinding debris at the lowest height portion of the groove bottom. 前記工具駆動部は、前記研削工具が装着される可動部と、前記可動部を昇降させる昇降部とを含み、
前記昇降部は、前記傾斜面の傾斜縁と向かい合い、前記傾斜面の前記下縁とは向かい合わない、請求項2又は3に記載の研削装置。
The tool driving unit includes a movable portion on which the grinding tool is mounted and an elevating portion for raising and lowering the movable portion.
The grinding apparatus according to claim 2 or 3, wherein the elevating portion faces the inclined edge of the inclined surface and does not face the lower edge of the inclined surface.
3つの前記部屋は、前記基板の研削が行われる研削室であり、
残り1つの前記部屋は、前記基板の搬入出が行われる搬入出室である、請求項1~4のいずれか1項に記載の研削装置。
The three chambers are grinding chambers in which the substrate is ground.
The grinding apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the remaining one room is a loading / unloading chamber in which the substrate is loaded / unloaded.
3つの前記部屋は、前記基板の研削が行われる研削室であり、
残り1つの前記部屋は、前記基板の搬入出が行われる搬入出室であり、
前記パンは、2つの前記傾斜面の下縁に沿って2つの樋を有し、
1つの前記樋は、その溝底に、前記搬入出室から前記研削室に向けて下方に傾斜するガイド面を有する、請求項1に記載の研削装置。
The three chambers are grinding chambers in which the substrate is ground.
The remaining one room is a loading / unloading room where the board is loaded / unloaded.
The pan has two gutters along the lower edges of the two slopes.
The grinding apparatus according to claim 1, wherein the one gutter has a guide surface at the bottom of the groove, which is inclined downward from the loading / unloading chamber toward the grinding chamber.
3つの前記部屋は、前記基板の1次研削が行われる1次研削室と、前記1次研削の後に前記基板の2次研削が行われる2次研削室と、前記2次研削の後に前記基板の3次研削が行われる3次研削室とであり、
残り1つの前記部屋は、前記基板の搬入出が行われる搬入出室であり、
前記パンは、2つの前記傾斜面の下縁に沿って2つの樋を有し、
1つの前記樋は、その溝底に、前記搬入出室から前記1次研削室に向けて下方に傾斜するガイド面を有し、
別の1つの前記樋は、その溝底に、前記3次研削室から前記2次研削室に向けて下方に傾斜するガイド面を有する、請求項1に記載の研削装置。
The three chambers are a primary grinding chamber in which the primary grinding of the substrate is performed, a secondary grinding chamber in which the secondary grinding of the substrate is performed after the primary grinding, and the substrate after the secondary grinding. It is a tertiary grinding room where the tertiary grinding is performed.
The remaining one room is a loading / unloading room where the board is loaded / unloaded.
The pan has two gutters along the lower edges of the two slopes.
One gutter has, at its bottom, a guide surface that inclines downward from the carry-in / out chamber toward the primary grinding chamber.
The grinding apparatus according to claim 1, wherein another one of the gutters has a guide surface at the bottom of the groove, which is inclined downward from the tertiary grinding chamber toward the secondary grinding chamber.
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