JP2022038678A - レーザー干渉計 - Google Patents
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Abstract
Description
第1レーザー光を射出する光源部と、
振動素子を備え、前記振動素子を用いて前記第1レーザー光を変調し、変調信号を含む第2レーザー光を生成する光変調器と、
前記第1レーザー光が対象物で反射して生成されたサンプル信号を含む第3レーザー光と、前記第2レーザー光と、の干渉光を受光し、受光信号を出力する受光素子と、
前記第3レーザー光が伝搬する光路の光路長を変化させる光路長可変部と、
を備えることを特徴とする。
第1レーザー光を射出する光源部と、
振動素子を備え、前記振動素子を用いて前記第1レーザー光を変調し、変調信号を含む第2レーザー光を生成する光変調器と、
前記第1レーザー光が対象物で反射して生成されたサンプル信号を含む第3レーザー光と、前記第2レーザー光と、の干渉光を受光し、受光信号を出力する受光素子と、
前記第2レーザー光が伝搬する光路の光路長を変化させる光路長可変部と、
を備えることを特徴とする。
図1は、実施形態に係るレーザー干渉計を示す機能ブロック図である。
図2は、図1に示すセンサーヘッド部51および光学系50を示す概略構成図である。
以下、レーザー干渉計1の各部について順次説明する。
光源部2は、可干渉性を有する線幅の細い出射光L1を射出するレーザー光源である。線幅を周波数差で表示した場合、線幅がMHz帯以下のレーザー光源が好ましく用いられる。具体的には、HeNeレーザーのようなガスレーザー、DFB-LD(Distributed feedback - laser diode)、FBG-LD(Fiber bragg Grating付き laser diode)、VCSEL(Vertical Cavity Surface Emitting Laser)のような半導体レーザー素子等が挙げられる。
偏光ビームスプリッター4は、入射光を透過光と反射光とに分割する光学素子である。また、偏光ビームスプリッター4は、P偏光を透過し、S偏光を反射させる機能を有し、入射光の偏光状態を直交成分に分けることができる。以下、直線偏光であって、P偏光とS偏光の比を例えば50:50にした出射光L1を、偏光ビームスプリッター4に入射させる場合を考える。
互いに直交するS偏光およびP偏光は、互いに独立しているので、単純に重ね合わせただけでは干渉が現れない。そこで、S偏光とP偏光を重ね合わせた光波を、S偏光およびP偏光の双方に対して45°傾けた検光子9に通す。検光子9を用いることにより、互いに共通した成分同士の光を透過させ、干渉を生じさせることができる。その結果、検光子9では、変調信号とサンプル信号とが干渉し、fm-fd[Hz]の周波数を持つ干渉光が生成される。
参照光L2および物体光L3は、偏光ビームスプリッター4および検光子9を介して受光素子10に入射する。これにより、参照光L2と物体光L3とが光ヘテロダイン干渉し、fm-fd[Hz]の周波数を持つ干渉光が受光素子10に入射する。この干渉光から後述する方法でサンプル信号を復調することにより、最終的に、被測定物14の動き、すなわち速度や振動を求めることができる。受光素子10としては、例えば、フォトダイオード等が挙げられる。
図3は、図2に示す光変調器12の第1構成例を示す斜視図である。
周波数シフター型の光変調器12は、光変調振動子120を有している。図3に示す光変調振動子120は、板形状の振動素子30と、振動素子30を支持する基板31と、を備えている。
回折格子34の形成方法は、特に限定されないが、一例として、機械刻線式(ルーリングエンジン)を用いた方法で型を作り、水晶AT振動子の振動素子30の表面に成膜した電極上に、ナノインプリント法で溝32を形成する方法が挙げられる。ここで、電極上としたのは、水晶AT振動子の場合は、原理上、電極上で高品質な厚みすべり振動を発生させることができるためである。なお、溝32を形成するのは、電極上に限定されず、非電極部の材料の表面上であってもよい。また、ナノインプリント法に代えて、露光およびエッチングによる加工方法、電子線描画リソグラフィー法、集束イオンビーム加工法(FIB)等を用いるようにしてもよい。
振動素子30は、水晶振動子に限定されず、例えば、Si振動子、弾性表面波(SAW)デバイス等であってもよい。
次に、図3に示す光変調器12を用いて光を変調する原理について説明する。
図10は、パッケージ構造を有する光変調器12を示す断面図である。
図2に示す光路長可変部13は、光路22上に配置され、物体光L3が伝搬する光路22の光路長を変化させる。図2に示す光路長可変部13は、可動光学素子132と、可動光学素子132を駆動する駆動部138と、を備えている。
制御部57は、光路長可変部13の動作および復調回路52の動作を制御する。
図1に示すように、発振回路54は、光学系50の光変調器12に入力される駆動信号S1を出力する。また、発振回路54は、復調回路52に入力される基準信号S2を出力する。
図12に示すように、振動素子30のLCR等価回路は、直列容量C1、直列インダクタンスL1、等価直列抵抗R1、および並列容量C0で構成されている。
上記式(b)によれば、負荷容量CLを適宜変更することにより、端子Yから出力される信号の発振周波数foscを微調整し得ることがわかる。
復調回路52は、受光素子10から出力された受光信号から、被測定物14に由来するサンプル信号を復調する復調処理を行う。サンプル信号とは、例えば、位相信号または周波数信号である。位相信号からは、被測定物14の変位情報を取得することができる。また、周波数信号からは、被測定物14の速度情報を取得することができる。このように異なる情報を取得することができれば、変位計や速度計としての機能を持たせられるため、レーザー干渉計1の高機能化を図ることができる。
図1に示す前処理部53は、第1バンドパスフィルター534と、第2バンドパスフィルター535と、第1遅延調整器536と、第2遅延調整器537と、乗算器538と、第3バンドパスフィルター539と、第1記録部540と、第2記録部541と、第1AGC542と、第2AGC543と、第3AGC544と、第4AGC545と、和算器546と、を備えている。なお、AGCは、Auto Gain Controlである。
次に、前処理部53における前処理の基本原理について説明する。なお、ここでいう基本原理とは、第1記録部540、第2記録部541、第1AGC542および第2AGC543が寄与しない前処理の原理のことをいい、特開平2-38889号公報に記載されている原理のことをいう。ここで、Em、Ed、φを、
上記式(4)の第1項、第2項は、直流成分を表しており、第3項は、交流成分を表している。この交流成分をIPD.ACとすると、IPD.ACは次式のようになる。
そこで、前述した前処理部53では、この理論に基づいて、以下のフローで受光信号に前処理を行っている。
復調部55は、前処理部53から出力された信号から被測定物14に由来するサンプル信号を復調する復調処理を行う。復調処理としては、特に限定されないが、公知の直交検波法が挙げられる。直交検波法は、入力信号に対し、互いに直交する信号を外部から混合する操作を行うことにより、復調処理を施す方法である。
復調処理では、まず、前処理部53から出力された信号を、2つに分割する。分割後の一方の信号に対し、第1乗算器551において、発振回路54から出力した基準信号S2である周波数信号cos(ωmt)を乗算する。分割後の他方の信号に対しては、第2乗算器552において、発振回路54から出力した基準信号S2の位相を移相器553で-90°シフトさせた周波数信号-sin(ωmt)を乗算する。周波数信号cos(ωmt)と周波数信号-sin(ωmt)は、互いに位相が90°ずれた信号である。
ここで、前述した前処理部53における前処理の基本原理では、第3AGC544および第4AGC545において第1信号の振幅と第2信号の振幅とが互いに揃えられる。つまり、式(11)に含まれる係数-2J1(B)と、式(14)に含まれる係数J2(B)と、を揃えることが必要になる。これらの係数に含まれるJ1(B)、J2(B)は、前述したベッセル係数であるが、このうちのBは、前述したように、変調信号の周波数に対する振幅の比である。一方、式(11)および式(14)に含まれるAは、前述したように、サンプル信号の周波数に対する振幅の比である。Bは、光学系50の設定によって決定され、既知の一定値をとる値である。このような理由から、第3AGC544および第4AGC545では、振幅の調整が可能になる。
ここでは、本実施形態に係るレーザー干渉計1において、式(20)が成り立たない場合でも、上記の復調可能条件を成立させる原理について説明する。
レーザー干渉計1の動作モードには、前述したように、最大振幅記録モードと、計測モードと、がある。以下、これらを順に説明する。
レーザー干渉計1の制御部57は、最大振幅記録モードを選択すると、光路長可変部13を動作させるように制御する。そして、光路長可変部13を動作させた状態、つまり、可動光学素子132を振動させた状態で、被測定物14および光変調器12に対して出射光L1を出射する。そうすると、物体光L3が伝搬する光路22の光路長が変化し、受光信号から得られる第1信号および第2信号の振幅も変化する。
制御部57は、計測モードを選択すると、光路長可変部13の動作を停止させる。この状態では、光路位相差φは一定である。そして、この状態で、被測定物14および光変調器12に対して出射光L1を出射する。また、制御部57は、第1記録部540の動作を制御し、受光信号から得られる第1信号の最大振幅IMmax1を検出させ、記録させる。さらに、制御部57は、第2記録部541の動作を制御し、受光信号から得られる第2信号の最大振幅IMmax2を検出させ、記録させる。計測モードにおける第1信号の最大振幅IMmax1および第2信号の最大振幅IMmax2は、以下のように表される。
次に、変形例に係るレーザー干渉計について説明する。
以上のような変形例においても、前記実施形態と同様の効果が得られる。
Claims (8)
- 第1レーザー光を射出する光源部と、
振動素子を備え、前記振動素子を用いて前記第1レーザー光を変調し、変調信号を含む第2レーザー光を生成する光変調器と、
前記第1レーザー光が対象物で反射して生成されたサンプル信号を含む第3レーザー光と、前記第2レーザー光と、の干渉光を受光し、受光信号を出力する受光素子と、
前記第3レーザー光が伝搬する光路の光路長を変化させる光路長可変部と、
を備えることを特徴とするレーザー干渉計。 - 前記第1レーザー光が伝搬する光路を分岐する光路分岐素子を備え、
前記光路長可変部は、前記光路分岐素子と前記対象物との間の光路上に配置されている請求項1に記載のレーザー干渉計。 - 第1レーザー光を射出する光源部と、
振動素子を備え、前記振動素子を用いて前記第1レーザー光を変調し、変調信号を含む第2レーザー光を生成する光変調器と、
前記第1レーザー光が対象物で反射して生成されたサンプル信号を含む第3レーザー光と、前記第2レーザー光と、の干渉光を受光し、受光信号を出力する受光素子と、
前記第2レーザー光が伝搬する光路の光路長を変化させる光路長可変部と、
を備えることを特徴とするレーザー干渉計。 - 前記第1レーザー光が伝搬する光路を分岐する光路分岐素子を備え、
前記光路長可変部は、前記光路分岐素子と前記光変調器との間の光路上に配置されている請求項3に記載のレーザー干渉計。 - 前記光路長可変部は、前記光路長を、前記第1レーザー光の波長に対応する光学的距離以上変化させる請求項1ないし4のいずれか1項に記載のレーザー干渉計。
- 前記光路長可変部は、移動することにより前記光路長を変化させる可動光学素子と、前記可動光学素子を駆動する駆動部と、を備える請求項1ないし5のいずれか1項に記載のレーザー干渉計。
- 前記光路長可変部は、温度変化により屈折率が変化する屈折率可変媒質と、前記屈折率可変媒質の温度を変化させる温度制御部と、を備える請求項1ないし5のいずれか1項に記載のレーザー干渉計。
- 前記受光信号を通す第1信号経路および第2信号経路を含み、前記第1信号経路を通過した前記受光信号および前記第2信号経路を通過した前記受光信号から前記サンプル信号を復調する復調回路を備え、
前記復調回路は、
前記光路長可変部により前記光路長を変化させたとき、前記第1信号経路を通過する前記受光信号の最大振幅を検出し、第1記録最大振幅として記録する第1記録部と、
前記光路長可変部により前記光路長を変化させたとき、前記第2信号経路を通過する前記受光信号の最大振幅を検出し、第2記録最大振幅として記録する第2記録部と、
前記第1記録最大振幅に基づいて、前記第1信号経路を通過する前記受光信号の最大振幅を調整する第1振幅調整部と、
前記第2記録最大振幅に基づいて、前記第2信号経路を通過する前記受光信号の最大振幅を調整する第2振幅調整部と、
を有する請求項1ないし7のいずれか1項に記載のレーザー干渉計。
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