JP2022014498A - Semiconductor manufacturing device and manufacturing method therefor - Google Patents

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Abstract

To provide a technique which can suppress the occurrence of a defective lead frame by adjusting the height position of a die pad, if the shape of the lead frame is miniaturized.SOLUTION: A semiconductor manufacturing device 100 includes: a conveyance rail 3 on the top face of which a lead frame 1, having a die pad 2 on which a semiconductor element is loaded, can slide; a conveyance claw 4 which holds the lead frame 1 and conveys the lead frame 1 along the conveyance rail 3; a detector unit which is provided either below or on the side of the conveyance rail 3 and detects the height position of the die pad 2; a pair of movable pins 6 each provided on the conveyance rail 3 in the vertical directions to enable pressing the bottom face of the die pad 2 from the vertical directions, through an opening 7 which can expose the top face of the die pad 2 and the bottom face of the die pad 2 formed on the conveyance rail 3. Based on the detection result of the detector unit, the pair of movable pins 6 presses the die pad 2 from the vertical directions to thereby adjust the height position of the die pad 2.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、ダイパッドの高さ位置を調整可能な半導体製造装置およびこれを用いた半導体装置の製造方法に関するものである。 The present disclosure relates to a semiconductor manufacturing apparatus capable of adjusting the height position of a die pad and a method for manufacturing a semiconductor apparatus using the same.

半導体装置では、ダイパッドの高さ位置がばらつくと封止樹脂にばらつきが生じ、絶縁特性および放熱性が低下するという問題がある。従来、絶縁特性および放熱性を担保するために、金型内に設けた可動ピンを可動させることでダイパッドの高さ位置の調整を行っている(例えば、特許文献1参照)。 In a semiconductor device, if the height position of the die pad varies, the sealing resin varies, and there is a problem that the insulation characteristics and the heat dissipation property deteriorate. Conventionally, in order to ensure insulation characteristics and heat dissipation, the height position of the die pad is adjusted by moving a movable pin provided in the mold (see, for example, Patent Document 1).

特開2015-225874号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-225874

近年は生産性を向上させるために、1つのリードフレーム内に製造される製品数が増加しており、リードフレームの形状がさらに微細化している。そのため、リードフレーム内に存在する全てのダイパッドの高さ位置を調整するための可動ピンを金型に設けることは困難である。 In recent years, in order to improve productivity, the number of products manufactured in one lead frame has increased, and the shape of the lead frame has become finer. Therefore, it is difficult to provide the mold with movable pins for adjusting the height positions of all the die pads existing in the lead frame.

したがって、ダイボンド前のリードフレームの搬送時にレーザー変位センサによりダイパッドの高さ位置を検出し、ダイパッドの高さ位置が規格値の範囲外と判定されたリードフレームを不良品として除去していた。 Therefore, the height position of the die pad is detected by the laser displacement sensor when the lead frame is conveyed before the die bond, and the lead frame whose height position of the die pad is determined to be out of the standard value is removed as a defective product.

そこで、本開示は、リードフレームの形状が微細化した場合でも、ダイパッドの高さ位置を調整することで、リードフレームの不良品の発生を抑制可能な技術を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present disclosure is to provide a technique capable of suppressing the occurrence of defective lead frames by adjusting the height position of the die pad even when the shape of the lead frame is miniaturized.

本開示に係る半導体製造装置は、半導体素子が搭載されるダイパッドを有するリードフレームが上面を滑走可能な搬送レールと、前記リードフレームを保持し、前記搬送レールに沿って前記リードフレームを搬送する搬送爪と、前記搬送レールの下方または側方に設けられ、前記ダイパッドの高さ位置を検出する検出部と、前記搬送レールの上下方向にそれぞれ設けられ、前記ダイパッドの上面と、前記搬送レールに形成された、前記ダイパッドの下面を露出可能な開口を介して前記ダイパッドの下面にそれぞれ上下方向から押し当て可能な一対の可動ピンとを備え、前記検出部の検出結果に基づいて、一対の前記可動ピンは、前記ダイパッドに上下方向から押し当てることで前記ダイパッドの高さ位置を調整するものである。 The semiconductor manufacturing apparatus according to the present disclosure holds a transport rail on which a lead frame having a die pad on which a semiconductor element is mounted can slide on an upper surface, and the lead frame, and transports the lead frame along the transport rail. A claw, a detection unit provided below or to the side of the transfer rail to detect the height position of the die pad, and a detection unit provided in the vertical direction of the transfer rail, respectively, formed on the upper surface of the die pad and the transfer rail. A pair of movable pins that can be pressed from above and below against the lower surface of the die pad via an opening that allows the lower surface of the die pad to be exposed are provided, and a pair of the movable pins are provided based on the detection result of the detection unit. Is to adjust the height position of the die pad by pressing it against the die pad from above and below.

本開示によれば、リードフレームの形状が微細化した場合でも、リードフレームの搬送時にダイパッドの高さ位置を調整することで、リードフレームの不良品の発生を抑制することができる。 According to the present disclosure, even when the shape of the lead frame is miniaturized, it is possible to suppress the occurrence of defective lead frames by adjusting the height position of the die pad when the lead frame is conveyed.

実施の形態1に係る半導体製造装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor manufacturing apparatus which concerns on Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係る半導体製造装置の正面図である。It is a front view of the semiconductor manufacturing apparatus which concerns on Embodiment 1. FIG. 搬送レールの平面図である。It is a top view of the transport rail. リードフレームにおけるダイパッドの周辺の側面図である。It is a side view around the die pad in a lead frame. 一対の可動ピンがダイパッドに押し当てられる直前の状態を示す側面図である。It is a side view which shows the state just before a pair of movable pins are pressed against a die pad. 一対の可動ピンがダイパッドに押し当てられた後の状態を示す側面図である。It is a side view which shows the state after a pair of movable pins are pressed against a die pad. 実施の形態1におけるダイパッドの高さ位置調整動作のフローチャートである。It is a flowchart of the height position adjustment operation of the die pad in Embodiment 1. 実施の形態2に係る半導体製造装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor manufacturing apparatus which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施の形態2に係る半導体製造装置の正面図である。It is a front view of the semiconductor manufacturing apparatus which concerns on Embodiment 2. FIG. 搬送レールの側方にカメラが配置された状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which the camera is arranged on the side of a transport rail. 実施の形態3に係る半導体製造装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor manufacturing apparatus which concerns on Embodiment 3. FIG. 実施の形態3に係る半導体製造装置の正面図である。It is a front view of the semiconductor manufacturing apparatus which concerns on Embodiment 3. FIG. 搬送レールの平面図である。It is a top view of the transport rail. 一対の可動ピンおよび一対のクランプピンがダイパッドに押し当てられる直前の状態を示す側面図である。It is a side view which shows the state just before a pair of movable pins and a pair of clamp pins are pressed against a die pad. 一対の可動ピンおよび一対のクランプピンがダイパッドに押し当てられた後の状態を示す側面図である。It is a side view which shows the state after a pair of movable pins and a pair of clamp pins are pressed against a die pad. 実施の形態3におけるダイパッドの高さ位置調整動作のフローチャートである。It is a flowchart of the height position adjustment operation of the die pad in Embodiment 3. FIG.

<実施の形態1>
実施の形態1について、図面を用いて以下に説明する。図1は、実施の形態1に係る半導体製造装置100の断面図であり、搬送レール3の幅方向一端側において長手方向に沿って切断した断面図である。図2は、半導体製造装置100の正面図である。図3は、搬送レール3の平面図である。
<Embodiment 1>
The first embodiment will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of the semiconductor manufacturing apparatus 100 according to the first embodiment, and is a cross-sectional view cut along the longitudinal direction on one end side in the width direction of the transport rail 3. FIG. 2 is a front view of the semiconductor manufacturing apparatus 100. FIG. 3 is a plan view of the transport rail 3.

図1と図2に示すように、半導体製造装置100は、トランスファーモールド装置の一部を構成する装置であり、搬送レール3、搬送爪4、検出部としてのレーザー変位センサ5、一対の可動ピン6、一対のモーター9、および一対のボールねじ10を備えている。 As shown in FIGS. 1 and 2, the semiconductor manufacturing apparatus 100 is an apparatus that constitutes a part of the transfer molding apparatus, and includes a transfer rail 3, a transfer claw 4, a laser displacement sensor 5 as a detection unit, and a pair of movable pins. 6. A pair of motors 9 and a pair of ball screws 10.

搬送レール3は正面視にて凹状に形成されている。搬送レール3は、互いに間隔をあけて対向するように配置された一対のレール部3a、および一対のレール部3aの下端部同士を接続する底面部3bを備えている。 The transport rail 3 is formed in a concave shape when viewed from the front. The transport rail 3 includes a pair of rail portions 3a arranged so as to face each other at a distance from each other, and a bottom surface portion 3b for connecting the lower end portions of the pair of rail portions 3a.

リードフレーム1は、一対のレール部3aの上面に沿って載置され、一対のレール部3aの上面を滑走可能である。具体的には、リードフレーム1の幅方向両端部は一対のレール部3aの上面に載置され、リードフレーム1の幅方向中央部は底面部3bに対向している。リードフレーム1は、幅方向両端部が一対のレール部3aの上面に接触した状態で滑走する。また、リードフレーム1の幅方向中央部には、複数の半導体素子がそれぞれ搭載される複数のダイパッド2がリードフレーム1の長手方向に沿って形成されている。 The lead frame 1 is placed along the upper surfaces of the pair of rail portions 3a and can slide on the upper surfaces of the pair of rail portions 3a. Specifically, both ends in the width direction of the lead frame 1 are placed on the upper surface of the pair of rail portions 3a, and the central portion in the width direction of the lead frame 1 faces the bottom surface portion 3b. The lead frame 1 slides in a state where both ends in the width direction are in contact with the upper surfaces of the pair of rail portions 3a. Further, in the central portion of the lead frame 1 in the width direction, a plurality of die pads 2 on which a plurality of semiconductor elements are mounted are formed along the longitudinal direction of the lead frame 1.

リードフレーム1は、例えば長手方向の長さが約232mm、幅方向の長さが約75mm、厚さが約0.4mmであり、内部回路を構成可能なように主成分が銅からなる板状に形成されている。また、リードフレーム1は多列型であり、複数のダイパッド2はリードフレーム1の長手方向に沿って間隔をあけて設けられ、約1.38mmの段差を設けて長手方向に延びる形状を有している。 The lead frame 1 has, for example, a length of about 232 mm in the longitudinal direction, a length of about 75 mm in the width direction, and a thickness of about 0.4 mm, and has a plate shape whose main component is copper so that an internal circuit can be configured. Is formed in. Further, the lead frame 1 is a multi-row type, and the plurality of die pads 2 are provided at intervals along the longitudinal direction of the lead frame 1 and have a shape extending in the longitudinal direction with a step of about 1.38 mm. ing.

また、図1と図3に示すように、底面部3bの途中部には、リードフレーム1の下面の一部、具体的には、ダイパッド2の下面を露出可能な開口7が形成されている。開口7は、リードフレーム1の幅方向に並ぶ2つのダイパッド2の下面を露出可能な大きさに形成されている。 Further, as shown in FIGS. 1 and 3, an opening 7 is formed in the middle of the bottom surface portion 3b so that a part of the lower surface of the lead frame 1, specifically, the lower surface of the die pad 2 can be exposed. .. The opening 7 is formed in such a size that the lower surfaces of the two die pads 2 arranged in the width direction of the lead frame 1 can be exposed.

図1に示すように、搬送爪4は、リードフレーム1の長手方向一端部を保持し、図示しない駆動機構に駆動されることで搬送レール3に沿ってリードフレーム1を搬送する。リードフレーム1は、トランスファーモールド装置のマガジン分配部で搬送レール3に載置され、搬送爪4により搬送レール3に沿ってトランスファーモールド装置のリードフレーム予熱エリアへ搬送される。実施の形態1では、リードフレーム1の搬送時に、レーザー変位センサ5と一対の可動ピン6を用いてダイパッド2の高さ位置の調整が行われる。 As shown in FIG. 1, the transport claw 4 holds one end in the longitudinal direction of the lead frame 1 and is driven by a drive mechanism (not shown) to transport the lead frame 1 along the transport rail 3. The lead frame 1 is placed on the transfer rail 3 at the magazine distribution section of the transfer mold device, and is transferred to the lead frame preheating area of the transfer mold device along the transfer rail 3 by the transfer claw 4. In the first embodiment, the height position of the die pad 2 is adjusted by using the laser displacement sensor 5 and the pair of movable pins 6 when the lead frame 1 is conveyed.

次に、レーザー変位センサ5と一対の可動ピン6について説明する。図1に示すように、レーザー変位センサ5は、搬送レール3の開口7の下方に設けられ、開口7を介して、リードフレーム1に設けられたダイパッド2の高さ位置を検出する。 Next, the laser displacement sensor 5 and the pair of movable pins 6 will be described. As shown in FIG. 1, the laser displacement sensor 5 is provided below the opening 7 of the transport rail 3 and detects the height position of the die pad 2 provided in the lead frame 1 through the opening 7.

図1と図2に示すように、一対の可動ピン6は、搬送レール3の開口7を介して対向するように搬送レール3の上下方向にそれぞれ設けられている。下方に設けられた可動ピン6の周辺に、レーザー変位センサ5が設けられている。ダイパッド2はリードフレーム1の幅方向に2つ設けられており、これに合わせて一対の可動ピン6も搬送レール3の幅方向に2セット設けられている。一対の可動ピン6は、φが1mm以上3mm以下程度で、材質はSUS等である。そのため、一対の可動ピン6はリードフレーム1よりも大きな剛性を有している。 As shown in FIGS. 1 and 2, the pair of movable pins 6 are provided in the vertical direction of the transport rail 3 so as to face each other through the opening 7 of the transport rail 3. A laser displacement sensor 5 is provided around the movable pin 6 provided below. Two die pads 2 are provided in the width direction of the lead frame 1, and two sets of a pair of movable pins 6 are also provided in the width direction of the transport rail 3 in accordance with the two die pads 2. The pair of movable pins 6 has a φ of 1 mm or more and 3 mm or less, and the material is SUS or the like. Therefore, the pair of movable pins 6 have a higher rigidity than the lead frame 1.

一対の可動ピン6は、それぞれ一対の板部10aを介して一対のボールねじ10に連結され、さらにそれぞれ一対のボールねじ10を介して一対のモーター9に連結されている。なお、各板部10aには、2つの可動ピン6が搬送レール3の幅方向に間隔をあけて設けられている。 The pair of movable pins 6 are connected to the pair of ball screws 10 via the pair of plate portions 10a, and are further connected to the pair of motors 9 via the pair of ball screws 10. Two movable pins 6 are provided on each plate portion 10a at intervals in the width direction of the transport rail 3.

さらに、半導体製造装置100は図示しないCPUを備えており、CPUは半導体製造装置100の各部を制御している。 Further, the semiconductor manufacturing apparatus 100 includes a CPU (not shown), and the CPU controls each part of the semiconductor manufacturing apparatus 100.

次に、図1~図7を用いて、半導体製造装置100によるダイパッド2の高さ位置調整動作について説明する。図4は、リードフレーム1におけるダイパッド2の周辺の側面図である。図5は、一対の可動ピン6がダイパッド2に押し当てられる直前の状態を示す側面図である。図6は、一対の可動ピン6がダイパッド2に押し当てられた後の状態を示す側面図である。図7は、実施の形態1におけるダイパッド2の高さ位置調整動作のフローチャートである。 Next, the height position adjusting operation of the die pad 2 by the semiconductor manufacturing apparatus 100 will be described with reference to FIGS. 1 to 7. FIG. 4 is a side view of the periphery of the die pad 2 in the lead frame 1. FIG. 5 is a side view showing a state immediately before the pair of movable pins 6 are pressed against the die pad 2. FIG. 6 is a side view showing a state after the pair of movable pins 6 are pressed against the die pad 2. FIG. 7 is a flowchart of the height position adjusting operation of the die pad 2 in the first embodiment.

最初に、リードフレーム1が搬送レール3に載置される。次に、図7に示すように、CPUは、搬送爪4を制御し搬送動作を開始させる(ステップS1)。CPUは、ダイパッド2が開口7に到達したかどうかを判定する(ステップS2)。具体的には、レーザー変位センサ5は、搬送動作が行われている間、リードフレーム1の下面にレーザー8を照射し、リードフレーム1の高さ位置を検出している。CPUは、検出されたリードフレーム1の高さ位置に基づいてダイパッド2が開口7に到達したかどうかを判定する。 First, the lead frame 1 is mounted on the transport rail 3. Next, as shown in FIG. 7, the CPU controls the transport claw 4 to start the transport operation (step S1). The CPU determines whether or not the die pad 2 has reached the opening 7 (step S2). Specifically, the laser displacement sensor 5 irradiates the lower surface of the lead frame 1 with the laser 8 while the transport operation is being performed, and detects the height position of the lead frame 1. The CPU determines whether or not the die pad 2 has reached the opening 7 based on the detected height position of the lead frame 1.

ダイパッド2が開口7に到達した場合(ステップS2においてYes)、CPUは、搬送爪4を制御し搬送動作を一時停止させて(ステップS3)、レーザー変位センサ5にダイパッド2の高さ位置を検出させる(ステップS4)。図4に示すように、レーザー変位センサ5は、ダイパッド2の下面にレーザー8を照射し、リードフレーム1における幅方向端部の高さ位置を基準としてダイパッド2の高さ位置を検出する。但し、ダイパッド2が開口7に到達していない場合は(ステップS2においてNo)、処理はステップS2に戻る。 When the die pad 2 reaches the opening 7 (Yes in step S2), the CPU controls the transport claw 4 to suspend the transport operation (step S3), and the laser displacement sensor 5 detects the height position of the die pad 2. (Step S4). As shown in FIG. 4, the laser displacement sensor 5 irradiates the lower surface of the die pad 2 with the laser 8 and detects the height position of the die pad 2 with reference to the height position of the end portion in the width direction of the lead frame 1. However, if the die pad 2 has not reached the opening 7 (No in step S2), the process returns to step S2.

次に、CPUは、検出結果が予め定められた規格値の範囲内に収まっているかどうかを判定する(ステップS5)。検出結果が予め定められた規格値の範囲内に収まっていない場合(ステップS5においてNo)、CPUは、一対のモーター9を作動させ、予め設定されたストローク量だけ一対の可動ピン6を動作させる。一対の可動ピン6は、図5に示す位置を経て図6に示す位置まで動作し、ダイパッド2に上下方向から押し当てることで、ダイパッド2の高さ位置を調整する(ステップS6)。 Next, the CPU determines whether or not the detection result is within the range of the predetermined standard value (step S5). When the detection result is not within the range of the predetermined standard value (No in step S5), the CPU operates the pair of motors 9 and operates the pair of movable pins 6 by the preset stroke amount. .. The pair of movable pins 6 operate from the position shown in FIG. 5 to the position shown in FIG. 6, and are pressed against the die pad 2 from above and below to adjust the height position of the die pad 2 (step S6).

なお、規格値の範囲内とは、設定値±0.2mmであり、リードフレーム1が良品と判定されるダイパッドの高さ位置である。 The range of the standard value is a set value of ± 0.2 mm, and is the height position of the die pad in which the lead frame 1 is judged to be a non-defective product.

他方、検出結果が予め定められた規格値の範囲内に収まっている場合(ステップS5においてYes)、処理はステップS9へ移行する。 On the other hand, when the detection result is within the range of the predetermined standard value (Yes in step S5), the process proceeds to step S9.

ダイパッド2の高さ位置が調整された後、CPUは、レーザー変位センサ5に調整後のダイパッド2の高さ位置を検出させる(ステップS7)。CPUは、検出結果が予め定められた規格値の範囲内に収まっているかどうかを判定する(ステップS8)。検出結果が予め定められた規格値の範囲内に収まっている場合(ステップS8においてYes)、CPUは、搬送中のリードフレーム1に存在する全てのダイパッド2の高さ位置を検出したかどうかを判定する(ステップS9)。 After the height position of the die pad 2 is adjusted, the CPU causes the laser displacement sensor 5 to detect the height position of the adjusted die pad 2 (step S7). The CPU determines whether or not the detection result is within the range of the predetermined standard value (step S8). If the detection result is within the range of the predetermined standard value (Yes in step S8), the CPU has detected whether or not the height positions of all the die pads 2 existing in the lead frame 1 being conveyed have been detected. Determination (step S9).

例えば、作業者が搬送中のリードフレーム1に存在する全てのダイパッド2の個数を予め設定しておき、設定された個数と検出したダイパッド2の個数とを比較してステップS9の処理が行われる。全てのダイパッド2の高さ位置を検出していない場合(ステップS9においてNo)、CPUは、搬送爪4を制御し搬送動作を再開させた後(ステップS10)、ステップS2へ移行する。 For example, the number of all die pads 2 existing in the lead frame 1 being conveyed by the operator is set in advance, and the set number is compared with the number of detected die pads 2 to perform the process of step S9. .. When the height positions of all the die pads 2 are not detected (No in step S9), the CPU controls the transport claw 4 to restart the transport operation (step S10), and then proceeds to step S2.

全てのダイパッド2の高さ位置を検出した場合(ステップS9においてYes)、CPUは、ダイパッドの高さ位置調整動作を終了する。そして、CPUは、搬送爪4を制御しリードフレーム1をリードフレーム予熱エリアへ搬送させる。 When the height positions of all the die pads 2 are detected (Yes in step S9), the CPU ends the height position adjustment operation of the die pads. Then, the CPU controls the transport claw 4 to transport the lead frame 1 to the lead frame preheating area.

他方、検出結果が予め定められた規格値の範囲内に収まっていない場合(ステップS8においてNo)、処理はステップS6へ戻り、再度ダイパッド2の高さ位置の調整が行われる。 On the other hand, if the detection result is not within the range of the predetermined standard value (No in step S8), the process returns to step S6, and the height position of the die pad 2 is adjusted again.

以上のように、実施の形態1に係る半導体製造装置100は、半導体素子が搭載されるダイパッド2を有するリードフレーム1が上面を滑走可能な搬送レール3と、リードフレーム1を保持し、搬送レール3に沿ってリードフレーム1を搬送する搬送爪4と、搬送レール3の下方に設けられ、ダイパッド2の高さ位置を検出する検出部と、搬送レール3の上下方向にそれぞれ設けられ、ダイパッド2の上面と、搬送レール3に形成された、ダイパッド2の下面を露出可能な開口7を介してダイパッド2の下面にそれぞれ上下方向から押し当て可能な一対の可動ピン6とを備え、検出部の検出結果に基づいて、一対の可動ピン6は、ダイパッド2に上下方向から押し当てることでダイパッド2の高さ位置を調整している。 As described above, in the semiconductor manufacturing apparatus 100 according to the first embodiment, the lead frame 1 having the die pad 2 on which the semiconductor element is mounted holds the transfer rail 3 on which the lead frame 1 can slide on the upper surface and the lead frame 1 and holds the transfer rail. A transport claw 4 for transporting the lead frame 1 along the transport rail 3, a detection unit provided below the transport rail 3 for detecting the height position of the die pad 2, and a die pad 2 provided in the vertical direction of the transport rail 3 respectively. A pair of movable pins 6 formed on the transport rail 3 and capable of pressing the lower surface of the die pad 2 against the lower surface of the die pad 2 from above and below via an exposed opening 7, respectively. Based on the detection result, the pair of movable pins 6 adjust the height position of the die pad 2 by pressing the pair of movable pins 6 against the die pad 2 from above and below.

したがって、リードフレーム1の形状が微細化した場合でも、リードフレーム1の搬送時にダイパッド2の高さ位置を調整することで、リードフレーム1の不良品の発生を抑制することができる。これにより、半導体装置の歩留り向上を図ることが可能となる。 Therefore, even when the shape of the lead frame 1 is miniaturized, it is possible to suppress the occurrence of defective products of the lead frame 1 by adjusting the height position of the die pad 2 when the lead frame 1 is conveyed. This makes it possible to improve the yield of the semiconductor device.

また、金型内でダイパッド2の高さ位置を調整する必要がないため、半導体装置の製造に際して可動ピンのない金型を採用することができる。 Further, since it is not necessary to adjust the height position of the die pad 2 in the mold, it is possible to adopt a mold having no movable pin when manufacturing a semiconductor device.

また、検出部は、搬送レール3の下方に設けられたレーザー変位センサ5であり、レーザー変位センサ5は、開口7を介してダイパッド2の高さ位置を検出している。レーザー変位センサ5は、リードフレーム1の下方からリードフレーム1の幅方向にレーザーを照射することができるため、多列型リードフレーム1が有するダイパッド2の高さ位置の調整に適している。 Further, the detection unit is a laser displacement sensor 5 provided below the transport rail 3, and the laser displacement sensor 5 detects the height position of the die pad 2 through the opening 7. Since the laser displacement sensor 5 can irradiate the laser from below the lead frame 1 in the width direction of the lead frame 1, it is suitable for adjusting the height position of the die pad 2 of the multi-row lead frame 1.

<実施の形態2>
次に、実施の形態2に係る半導体製造装置100Aについて説明する。図8は、実施の形態2に係る半導体製造装置100Aの断面図であり、搬送レール3の幅方向一端側において長手方向に沿って切断した断面図である。図9は、半導体製造装置100Aの正面図である。図10は、搬送レール3の側方にカメラ11が配置された状態を示す平面図である。なお、実施の形態2において、実施の形態1で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
<Embodiment 2>
Next, the semiconductor manufacturing apparatus 100A according to the second embodiment will be described. FIG. 8 is a cross-sectional view of the semiconductor manufacturing apparatus 100A according to the second embodiment, which is a cross-sectional view cut along the longitudinal direction on one end side in the width direction of the transport rail 3. FIG. 9 is a front view of the semiconductor manufacturing apparatus 100A. FIG. 10 is a plan view showing a state in which the camera 11 is arranged on the side of the transport rail 3. In the second embodiment, the same components as those described in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

図8と図9に示すように、実施の形態2では、実施の形態1の場合に対して、リードフレーム1の寸法が異なっており、これに対応して半導体製造装置100Aの構成も異なっている。 As shown in FIGS. 8 and 9, in the second embodiment, the dimensions of the lead frame 1 are different from those of the first embodiment, and the configurations of the semiconductor manufacturing apparatus 100A are also different correspondingly. There is.

リードフレーム1は、例えば長手方向の長さが約212mm、幅方向の長さが約62mm、厚さが約0.4mmであり、内部回路を構成可能なように主成分が銅からなる板状に形成されている。また、実施の形態1の場合とは異なり、リードフレーム1は一列型である。一列型リードフレーム1は実施の形態1の場合よりも大電流に適したリードフレームであり、複数のダイパッド2はリードフレーム1の長手方向に沿って間隔をあけて設けられ、約1.25mmの段差を設けてリードフレーム1の幅方向に延びる形状を有している。ダイパッド2はリードフレーム1の幅方向中央部に1つ設けられており、これに合わせて一対の可動ピン6も1セット設けられている。 The lead frame 1 has, for example, a length of about 212 mm in the longitudinal direction, a length of about 62 mm in the width direction, and a thickness of about 0.4 mm, and has a plate shape whose main component is copper so that an internal circuit can be configured. Is formed in. Further, unlike the case of the first embodiment, the lead frame 1 is a single row type. The single-row lead frame 1 is a lead frame suitable for a larger current than the case of the first embodiment, and a plurality of die pads 2 are provided at intervals along the longitudinal direction of the lead frame 1 and have a size of about 1.25 mm. It has a shape that extends in the width direction of the lead frame 1 with a step. One die pad 2 is provided at the center of the lead frame 1 in the width direction, and one set of a pair of movable pins 6 is also provided accordingly.

また、図9と図10に示すように、半導体製造装置100Aは、検出部として、レーザー変位センサ5に代えてカメラ11を備えている。カメラ11は、搬送レール3の側方に設けられている。 Further, as shown in FIGS. 9 and 10, the semiconductor manufacturing apparatus 100A includes a camera 11 as a detection unit instead of the laser displacement sensor 5. The camera 11 is provided on the side of the transport rail 3.

図8と図10に示すように、搬送レール3における底面部3bの途中部には、開口7に代えて開口12が形成されている。開口12は、底面部3bから一方のレール部3aにかけて形成されており、リードフレーム1の下面および側面の一部、すなわち、ダイパッド2の下面および先端部を露出可能である。開口12は、リードフレーム1の幅方向中央部に設けられた1つのダイパッド2の下面および先端部を露出可能な大きさに形成されている。 As shown in FIGS. 8 and 10, an opening 12 is formed in place of the opening 7 in the middle portion of the bottom surface portion 3b of the transport rail 3. The opening 12 is formed from the bottom surface portion 3b to one rail portion 3a, and can expose a part of the lower surface and the side surface of the lead frame 1, that is, the lower surface and the tip end portion of the die pad 2. The opening 12 is formed in such a size that the lower surface and the tip end portion of one die pad 2 provided at the central portion in the width direction of the lead frame 1 can be exposed.

次に、図7を用いて、半導体製造装置100Aによるダイパッド2の高さ位置調整動作について説明する。実施の形態2では、実施の形態1に対して、ステップS2、ステップS4、およびステップS7の処理が異なるが他の処理は同じであるため、異なる処理についてのみ説明する。 Next, the height position adjusting operation of the die pad 2 by the semiconductor manufacturing apparatus 100A will be described with reference to FIG. 7. In the second embodiment, the processes of step S2, step S4, and step S7 are different from those of the first embodiment, but the other processes are the same. Therefore, only different processes will be described.

図7に示すように、ステップS2では、CPUは、ダイパッド2が開口12に到達したかどうかを判定する。具体的には、カメラ11は、搬送動作が行われている間、開口12を介して撮影されるリードフレーム1の下面の形状に基づいてリードフレーム1の下面の高さ位置を検出する。CPUは、リードフレーム1の下面の高さ位置に基づいてダイパッド2が開口7に到達したかどうかを判定する。 As shown in FIG. 7, in step S2, the CPU determines whether or not the die pad 2 has reached the opening 12. Specifically, the camera 11 detects the height position of the lower surface of the lead frame 1 based on the shape of the lower surface of the lead frame 1 photographed through the opening 12 while the transport operation is being performed. The CPU determines whether or not the die pad 2 has reached the opening 7 based on the height position of the lower surface of the lead frame 1.

ステップS4およびS7では、CPUは、カメラ11にダイパッド2の高さ位置を検出させる。カメラ11は、開口12を介して撮影されるダイパッド2の下面の形状に基づいてダイパッド2の高さ位置を検出する。具体的には、カメラ11は、リードフレーム1における幅方向端部の高さ位置を基準としてダイパッド2の高さ位置を検出する。 In steps S4 and S7, the CPU causes the camera 11 to detect the height position of the die pad 2. The camera 11 detects the height position of the die pad 2 based on the shape of the lower surface of the die pad 2 photographed through the opening 12. Specifically, the camera 11 detects the height position of the die pad 2 with reference to the height position of the end portion in the width direction in the lead frame 1.

以上のように、実施の形態2に係る半導体製造装置100Aは、半導体素子が搭載されるダイパッド2を有するリードフレーム1が上面を滑走可能な搬送レール3と、リードフレーム1を保持し、搬送レール3に沿ってリードフレーム1を搬送する搬送爪4と、搬送レール3の側方に設けられ、ダイパッド2の高さ位置を検出する検出部と、搬送レール3の上下方向にそれぞれ設けられ、ダイパッド2の上面と、搬送レール3に形成された、ダイパッド2の下面を露出可能な開口12を介してダイパッド2の下面にそれぞれ上下方向から押し当て可能な一対の可動ピン6とを備え、検出部の検出結果に基づいて、一対の可動ピン6は、ダイパッド2に上下方向から押し当てることでダイパッド2の高さ位置を調整している。 As described above, in the semiconductor manufacturing apparatus 100A according to the second embodiment, the lead frame 1 having the die pad 2 on which the semiconductor element is mounted holds the transfer rail 3 on which the lead frame 1 can slide on the upper surface and the lead frame 1 and holds the transfer rail. A transport claw 4 for transporting the lead frame 1 along the transport rail 3, a detection unit provided on the side of the transport rail 3 for detecting the height position of the die pad 2, and a die pad provided in the vertical direction of the transport rail 3 respectively. A detection unit is provided with a pair of movable pins 6 formed on the transport rail 3 and capable of pressing the lower surface of the die pad 2 against the lower surface of the die pad 2 from above and below via an exposed opening 12. Based on the detection result of, the pair of movable pins 6 adjust the height position of the die pad 2 by pressing the pair of movable pins 6 against the die pad 2 from above and below.

したがって、リードフレーム1の形状が微細化した場合でも、リードフレーム1の搬送時にダイパッド2の高さ位置を調整することで、リードフレーム1の不良品の発生を抑制することができる。これにより、半導体装置の歩留り向上を図ることが可能となる。 Therefore, even when the shape of the lead frame 1 is miniaturized, it is possible to suppress the occurrence of defective products of the lead frame 1 by adjusting the height position of the die pad 2 when the lead frame 1 is conveyed. This makes it possible to improve the yield of the semiconductor device.

また、金型内でダイパッド2の高さ位置を調整する必要がないため、半導体装置の製造に際して可動ピンのない金型を採用することができる。 Further, since it is not necessary to adjust the height position of the die pad 2 in the mold, it is possible to adopt a mold having no movable pin when manufacturing a semiconductor device.

また、検出部は、搬送レール3の側方に設けられたカメラ11である。カメラ11は、リードフレーム1の側方からリードフレーム1の長手方向に沿って連続的にダイパッド2の高さ位置を検出することができるため、一列型リードフレーム1が有するダイパッド2の高さ位置の調整に適している。 Further, the detection unit is a camera 11 provided on the side of the transport rail 3. Since the camera 11 can continuously detect the height position of the die pad 2 from the side of the lead frame 1 along the longitudinal direction of the lead frame 1, the height position of the die pad 2 of the single-row lead frame 1 can be detected. Suitable for adjustment.

<実施の形態3>
次に、実施の形態3に係る半導体製造装置100Bについて説明する。図11は、実施の形態3に係る半導体製造装置100Bの断面図であり、搬送レール3の幅方向一端側において長手方向に沿って切断した断面図である。図12は、半導体製造装置100Bの正面図である。図13は、搬送レール3の平面図である。図14は、一対の可動ピン6および一対のクランプピン13がダイパッド2に押し当てられる直前の状態を示す側面図である。図15は、一対の可動ピン6および一対のクランプピン13がダイパッド2に押し当てられた後の状態を示す側面図である。図16は、ダイパッド2の高さ位置調整動作のフローチャートである。なお、実施の形態3において、実施の形態1,2で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
<Embodiment 3>
Next, the semiconductor manufacturing apparatus 100B according to the third embodiment will be described. FIG. 11 is a cross-sectional view of the semiconductor manufacturing apparatus 100B according to the third embodiment, which is a cross-sectional view cut along the longitudinal direction on one end side in the width direction of the transport rail 3. FIG. 12 is a front view of the semiconductor manufacturing apparatus 100B. FIG. 13 is a plan view of the transport rail 3. FIG. 14 is a side view showing a state immediately before the pair of movable pins 6 and the pair of clamp pins 13 are pressed against the die pad 2. FIG. 15 is a side view showing a state after the pair of movable pins 6 and the pair of clamp pins 13 are pressed against the die pad 2. FIG. 16 is a flowchart of the height position adjusting operation of the die pad 2. In the third embodiment, the same components as those described in the first and second embodiments are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

図11と図12に示すように、実施の形態3では、実施の形態1の場合に対して、リードフレーム1の寸法が異なっており、これに対応して半導体製造装置100Bの構成も異なっている。 As shown in FIGS. 11 and 12, in the third embodiment, the dimensions of the lead frame 1 are different from those of the first embodiment, and the configurations of the semiconductor manufacturing apparatus 100B are also different correspondingly. There is.

リードフレーム1は、例えば長手方向の長さが約232mm、幅方向の長さが約75mm、厚さが約0.7mmであり、内部回路を構成可能なように主成分が銅からなる板状に形成されている。このように、実施の形態1の場合よりもリードフレーム1の厚さが厚くなっている。また、リードフレーム1は多列型であり、複数のダイパッド2はリードフレーム1の長手方向に沿って間隔をあけて設けられ、約1.38mmの段差を設けて長手方向に延びる形状を有している。 The lead frame 1 has, for example, a length of about 232 mm in the longitudinal direction, a length of about 75 mm in the width direction, and a thickness of about 0.7 mm, and has a plate shape whose main component is copper so that an internal circuit can be configured. Is formed in. As described above, the thickness of the lead frame 1 is thicker than that in the case of the first embodiment. Further, the lead frame 1 is a multi-row type, and the plurality of die pads 2 are provided at intervals along the longitudinal direction of the lead frame 1 and have a shape extending in the longitudinal direction with a step of about 1.38 mm. ing.

さらに、図14と図15に示すように、リードフレーム1にはコイニング加工が施されている。 Further, as shown in FIGS. 14 and 15, the lead frame 1 is subjected to a coining process.

また、半導体製造装置100Bは、検出部としてレーザー変位センサ5を備え、さらに一対のクランプピン13を備えている。一対のクランプピン13は、一対の可動ピン6の周辺に設けられている。具体的には、一対のクランプピン13は、一対の可動ピン6の場合と同様に、それぞれ一対の板部10aを介して一対のボールねじ10に連結され、さらにそれぞれ一対のボールねじ10を介して一対のモーター9に連結されている。これにより、一対の可動ピン6と一対のクランプピン13は共に、一対のモーター9の作動により動作するようになっている。 Further, the semiconductor manufacturing apparatus 100B includes a laser displacement sensor 5 as a detection unit, and further includes a pair of clamp pins 13. The pair of clamp pins 13 are provided around the pair of movable pins 6. Specifically, the pair of clamp pins 13 are connected to the pair of ball screws 10 via the pair of plate portions 10a, respectively, and further via the pair of ball screws 10, respectively, as in the case of the pair of movable pins 6. Is connected to a pair of motors 9. As a result, both the pair of movable pins 6 and the pair of clamp pins 13 are operated by the operation of the pair of motors 9.

一対のクランプピン13は、一対の可動ピン6と同じタイミングで動作し、リードフレーム1の上面と、開口7を介してリードフレーム1の下面をそれぞれ上下方向から押し当てることで、一対の可動ピン6により押し当てられるダイパッド2の箇所の周辺でリードフレーム1をクランプ可能である。一対のクランプピン13の長さは、クランプされるリードフレーム1の箇所の高さ位置に合わせて設定されているため、一対の可動ピン6の長さとは異なっている。 The pair of clamp pins 13 operate at the same timing as the pair of movable pins 6, and by pressing the upper surface of the lead frame 1 and the lower surface of the lead frame 1 through the opening 7 from above and below, the pair of movable pins The lead frame 1 can be clamped around the portion of the die pad 2 pressed by 6. Since the length of the pair of clamp pins 13 is set according to the height position of the portion of the lead frame 1 to be clamped, the length of the pair of clamp pins 13 is different from the length of the pair of movable pins 6.

次に、図14~図16を用いて、半導体製造装置100Bによるダイパッド2の高さ位置調整動作について説明する。 Next, the height position adjusting operation of the die pad 2 by the semiconductor manufacturing apparatus 100B will be described with reference to FIGS. 14 to 16.

図16に示すように、実施の形態1の場合と同様に、ステップS1~ステップS5の処理が行われる。次に、CPUは、一対のモーター9を作動させ、予め設定されたストローク量だけ一対の可動ピン6および一対のクランプピン13を動作させる。一対の可動ピン6および一対のクランプピン13は、図14に示す位置を経て図15に示す位置まで動作する。 As shown in FIG. 16, the processes of steps S1 to S5 are performed as in the case of the first embodiment. Next, the CPU operates the pair of motors 9 to operate the pair of movable pins 6 and the pair of clamp pins 13 by a preset stroke amount. The pair of movable pins 6 and the pair of clamp pins 13 operate from the positions shown in FIG. 14 to the positions shown in FIG.

一対のクランプピン13は、リードフレーム1の上面と、開口7を介してリードフレーム1の下面をそれぞれ上下方向から押し当てることでリードフレーム1をクランプする。一対の可動ピン6は、ダイパッド2に上下方向から押し当てることで、リードフレーム1をクランプした状態でダイパッド2の高さ位置を調整する(ステップS16)。ダイパッド2の高さ位置が調整された後、実施の形態1の場合と同様に、ステップS7~ステップS10の処理が行われる。 The pair of clamp pins 13 clamp the lead frame 1 by pressing the upper surface of the lead frame 1 and the lower surface of the lead frame 1 through the opening 7 from the vertical direction. The pair of movable pins 6 are pressed against the die pad 2 from above and below to adjust the height position of the die pad 2 with the lead frame 1 clamped (step S16). After the height position of the die pad 2 is adjusted, the processes of steps S7 to S10 are performed as in the case of the first embodiment.

実施の形態3では、実施の形態1に対し、リードフレーム1の厚さが厚くスプリングバックが発生しやすい。そのため、リードフレーム1をクランプし、リードフレーム1の変形を抑制しつつダイパッド2の高さ位置を調整する。これにより、リードフレーム1のスプリングバック量を抑制し、ダイパッド2に所定の変形を与えることができる。 In the third embodiment, the thickness of the lead frame 1 is thicker than that of the first embodiment, and springback is likely to occur. Therefore, the lead frame 1 is clamped, and the height position of the die pad 2 is adjusted while suppressing the deformation of the lead frame 1. As a result, the amount of springback of the lead frame 1 can be suppressed, and a predetermined deformation can be given to the die pad 2.

さらに、図14と図15に示すように、コイニング加工が施されたリードフレーム1を採用することにより、リードフレーム1を曲げることが容易となり、リードフレーム1の厚さが厚いことで発生するリードフレーム1のスプリングバック量を低減できる。 Further, as shown in FIGS. 14 and 15, by adopting the lead frame 1 subjected to the coining process, it becomes easy to bend the lead frame 1, and the lead generated by the thick lead frame 1 is generated. The amount of springback of the frame 1 can be reduced.

なお、実施の形態3では、半導体製造装置100Bは、検出部としてレーザー変位センサ5を備えるものとして説明を行ったが、一列型リードフレーム1の場合には検出部としてカメラ11を備えていても良い。 In the third embodiment, the semiconductor manufacturing apparatus 100B has been described as having a laser displacement sensor 5 as a detection unit, but in the case of the single-row read frame 1, the camera 11 may be provided as a detection unit. good.

以上のように、実施の形態3に係る半導体製造装置100Bは、一対の可動ピン6の周辺に設けられ、リードフレーム1の上面と、開口7を介してリードフレーム1の下面をそれぞれ上下方向から押し当てることでリードフレーム1をクランプ可能な一対のクランプピン13をさらに備えている。 As described above, the semiconductor manufacturing apparatus 100B according to the third embodiment is provided around the pair of movable pins 6, and the upper surface of the lead frame 1 and the lower surface of the lead frame 1 via the opening 7 are viewed from above and below, respectively. Further, a pair of clamp pins 13 capable of clamping the lead frame 1 by pressing the lead frame 1 are further provided.

したがって、リードフレーム1の厚さが厚い場合、ダイパッド2の高さ位置を調整する際に発生するリードフレーム1のスプリングバック量を低減できるため、リードフレーム1全体の変形を抑制することが可能となる。さらにコイニング加工が施されたリードフレーム1を採用することにより、厚みのあるリードフレーム1でも曲げやすくなりダイパッド2の高さ位置の調整が容易となる。このように、半導体製造装置100Bはリードフレーム1の厚さが厚い大型品種に適している。 Therefore, when the thickness of the lead frame 1 is thick, the amount of springback of the lead frame 1 generated when adjusting the height position of the die pad 2 can be reduced, so that the deformation of the entire lead frame 1 can be suppressed. Become. Further, by adopting the lead frame 1 that has been subjected to the coining process, even a thick lead frame 1 can be easily bent and the height position of the die pad 2 can be easily adjusted. As described above, the semiconductor manufacturing apparatus 100B is suitable for a large variety having a thick lead frame 1.

なお、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。 It is possible to freely combine the embodiments and to modify or omit the embodiments as appropriate.

1 リードフレーム、2 ダイパッド、3 搬送レール、4 搬送爪、5 レーザー変位センサ、6 可動ピン、7 開口、11 カメラ、12 開口、13 クランプピン、100,100A,100B 半導体製造装置。 1 Lead frame, 2 Die pads, 3 Conveyance rails, 4 Conveyance claws, 5 Laser displacement sensors, 6 Movable pins, 7 openings, 11 cameras, 12 openings, 13 clamp pins, 100, 100A, 100B semiconductor manufacturing equipment.

Claims (5)

半導体素子が搭載されるダイパッドを有するリードフレームが上面を滑走可能な搬送レールと、
前記リードフレームを保持し、前記搬送レールに沿って前記リードフレームを搬送する搬送爪と、
前記搬送レールの下方または側方に設けられ、前記ダイパッドの高さ位置を検出する検出部と、
前記搬送レールの上下方向にそれぞれ設けられ、前記ダイパッドの上面と、前記搬送レールに形成された、前記ダイパッドの下面を露出可能な開口を介して前記ダイパッドの下面にそれぞれ上下方向から押し当て可能な一対の可動ピンと、を備え、
前記検出部の検出結果に基づいて、一対の前記可動ピンは、前記ダイパッドに上下方向から押し当てることで前記ダイパッドの高さ位置を調整する、半導体製造装置。
A transport rail on which a lead frame with a die pad on which a semiconductor element is mounted can slide on the upper surface,
A transport claw that holds the lead frame and transports the lead frame along the transport rail.
A detection unit provided below or to the side of the transport rail to detect the height position of the die pad.
The upper surface of the die pad and the lower surface of the die pad formed on the transfer rail can be pressed against the lower surface of the die pad from above and below through an open opening which is provided in each of the vertical directions of the transfer rail. With a pair of movable pins,
A semiconductor manufacturing apparatus that adjusts the height position of the die pad by pressing the pair of movable pins against the die pad from above and below based on the detection result of the detection unit.
前記検出部は、前記搬送レールの下方に設けられたレーザー変位センサであり、
前記レーザー変位センサは、前記開口を介して前記ダイパッドの高さ位置を検出する、請求項1に記載の半導体製造装置。
The detection unit is a laser displacement sensor provided below the transport rail.
The semiconductor manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the laser displacement sensor detects the height position of the die pad through the opening.
前記検出部は、前記搬送レールの側方に設けられたカメラである、請求項1に記載の半導体製造装置。 The semiconductor manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the detection unit is a camera provided on the side of the transport rail. 一対の前記可動ピンの周辺に設けられ、前記リードフレームの上面と、前記開口を介して前記リードフレームの下面をそれぞれ上下方向から押し当てることで前記リードフレームをクランプ可能な一対のクランプピンをさらに備えた、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の半導体製造装置。 Further, a pair of clamp pins provided around the pair of movable pins and capable of clamping the lead frame by pressing the upper surface of the lead frame and the lower surface of the lead frame through the openings from the vertical direction. The semiconductor manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 3, which is provided. 請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の半導体製造装置を用いた半導体装置の製造方法であって、
(a)前記リードフレームの搬送動作中に前記ダイパッドが前記開口に到達したとき、当該搬送動作を一時停止し、前記検出部により前記ダイパッドの高さ位置を検出する工程と、
(b)前記検出部の検出結果が予め定められた規格値の範囲内に収まっていない場合、一対の前記可動ピンをそれぞれ上下方向から前記ダイパッドの上面と、前記開口を介して前記ダイパッドの下面に押し当てることで前記ダイパッドの高さ位置を調整する工程と、
(c)再度、前記検出部により前記ダイパッドの高さ位置を検出する工程と、
(d)前記工程(c)における前記検出部の検出結果が予め定められた規格値の範囲内に収まっている場合、前記搬送動作を再開する工程と、
を備えた、半導体装置の製造方法。
A method for manufacturing a semiconductor device using the semiconductor manufacturing device according to any one of claims 1 to 4.
(A) When the die pad reaches the opening during the transfer operation of the lead frame, the transfer operation is temporarily stopped, and the detection unit detects the height position of the die pad.
(B) When the detection result of the detection unit is not within the range of the predetermined standard value, the pair of the movable pins are vertically connected to the upper surface of the die pad and the lower surface of the die pad via the opening. The process of adjusting the height position of the die pad by pressing it against
(C) Again, the step of detecting the height position of the die pad by the detection unit, and
(D) When the detection result of the detection unit in the step (c) is within the range of the predetermined standard value, the step of restarting the transport operation and the step of restarting the transport operation.
A method for manufacturing a semiconductor device.
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